DE102005023351A1 - Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von Oberflächen - Google Patents

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Abstract

Vorrichtung zum Vermessen von Oberflächen und Verfahren, vorzugsweise zur Anwendung der Vorrichtung, wobei die Vorrichtung eine Lichtquelle zum Erzeugen eines Mehrfarbenlichtstrahls (2) aufweist, wobei der Lichtstrahl (2) durch eine Abbildungsoptik (1) unter Ausnutzung der chromatischen Aberration von Optiken auf mehrere unterschiedlich weit von der Abbildungsoptik beabstandeten Punkte fokussierbar ist, wobei der fokussierte Lichtstrahl (9) auf einen Punkt der Oberfläche (3) lenkbar ist und wobei eine Sensorvorrichtung zum Detektieren des reflektierten Lichtstrahls (10) vorgesehen ist, ist im Hinblick auf einen möglichst großen Abstand zwischen Messkopf und -objekt derart ausgestaltet, dass die Abbildungsoptik (1) eine Optik (4) zum gezielten Herbeiführen einer chromatischen Aberration und eine weitere Optik (6) zum Formen des aus der Abbildungsoptik (1) austretenden, fokussierten Lichtstrahls (9) aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Vermessen von Oberflächen und ein Verfahren zum Betreiben der Vorrichtung, wobei die Vorrichtung eine Lichtquelle zum Erzeugen eines Mehrfarbenlichtstrahls aufweist, wobei der Lichtstrahl durch eine Abbildungsoptik unter Ausnutzung der chromatischen Aberration von Optiken auf mehrere unterschiedlich weit von der Abbildungsoptik beabstandete Punkte fokussierbar ist, wobei der fokussierte Lichtstrahl auf die Oberfläche lenkbar ist und wobei eine Sensorvorrichtung zum Detektieren des reflektierten Lichtstrahls vorgesehen ist.
  • In vielen Bereichen der Technik ist es wichtig, genauere Kenntnisse über die Beschaffenheit von Oberflächen zu besitzen. Grate oder eine Welligkeit der Oberfläche, die bei der Herstellung von Objekten entstehen können, sind bei manchen Anwendungen nur in sehr engen Grenzen vertretbar. Insbesondere bei hoch präziser Mechanik mit beweglichen Teilen kann eine nicht hinreichende Oberflächenqualität zu Fehlfunktionen oder zu einer raschen Zerstörung führen. Neben dem Gewinnen von Informationen über die Qualität der Oberfläche wird in manchen Bereichen ein genaues Vermessen von Strukturen in einer Oberfläche benötigt. So ist es bei manchen Anwendungen beispielsweise von Interesse, die Tiefe und die Position von Fräsungen oder Bohrungen in einem Werkstück zu kennen.
  • Aus der Praxis sind verschiedene Verfahren zum Vermessen von Oberflächen bekannt. Bei einem möglichen Verfahren werden zwei oder mehrere Kameras eingesetzt, mit denen über eine Triangulation Informationen über die dreidimensionale Beschaffenheit der Oberfläche berechnet werden. Allerdings lassen sich mit derartigen Messsystemen nur sehr beschränkte Messgenauigkeiten erzielen.
  • Bei einem anderen aus der Praxis bekannten Verfahren wird ein monochromatischer Lichtstrahl auf eine zu untersuchende Oberfläche gelenkt, wobei der Lichtstrahl immer auf die Oberfläche fokussiert gehalten wird. Ändert sich in Folge von Unebenheiten der Oberfläche der Abstand zwischen der Optik und dem beleuchteten Bildpunkt und ist somit der Lichtstrahl nicht mehr auf die Oberfläche fokussiert, so regelt eine automatische Fokussierungsschaltung die Optik derart nach, dass der Lichtstrahl wieder auf die Oberfläche fokussiert ist. Über das Maß der Nachregelung der Optik kann auf die Abstandsänderung geschlossen werden. Auf diese Weise lässt sich die Oberfläche relativ präzise vermessen, allerdings wird durch das notwendige Nachregeln der Optik die Messgeschwindigkeit stark eingeschränkt. Eine Vermessung der Oberfläche in einem laufenden Produktionsprozess ist damit nicht realisierbar.
  • Zur Vermeidung dieser Nachregelung ist ein Verfahren bekannt, mit dem durch den Einsatz von Mehrfarbenlicht und unter Ausnutzung der chromatischen Aberration Oberflächen vermessen werden können. Dabei wird ausgenutzt, dass der Brennpunkt von Abbildungsoptiken von der Wellenlänge des Lichtes abhängt. Fällt ein derart auf mehrere Brennpunkte fokussierter Lichtstrahl auf eine Oberfläche, so wird der spektrale Anteil des Lichtstrahls am besten reflektiert, der möglichst genau auf die Oberfläche fokussiert ist. Dadurch kann durch eine spektrale Analyse des reflektierten Lichtstrahls auf die Entfernung der Optik von dem beleuchteten Punkt geschlossen werden. Hierbei lassen sich zwar relativ große Messgeschwindigkeiten erzielen, allerdings unterliegt der Abstand zwischen Optik und Messobjekt einer sehr starken Einschränkung. Beim Einsatz von Linsen mit einer sehr kurzen Brennweite ergibt sich zwar eine relativ große Aberration und somit eine relativ große Messgenauigkeit, allerdings reduziert sich der Messabstand erheblich. Werden Linsen mit einer größeren Brennweite eingesetzt, können zwar größere Messabstände bewältigt werden, allerdings sinkt die Messgenauigkeit der Anordnung erheblich.
    •
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der Eingangs genannten Art derart auszugestalten und weiterzubilden, dass eine hochauflösende, möglichst schnelle und einfache Vermessung von Oberflächen bei gleichzeitig möglichst großem Abstand zwischen der Optik und dem Messobjekt und einfachster Konstruktion der Messvorrichtung realisiert werden kann. Des Weiteren soll ein entsprechendes Verfahren angegeben werden.
  • Erfindungsgemäß wird die voranstehende Aufgabe durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gelöst. Danach ist die in Rede stehende Vorrichtung derart ausgestaltet, dass die Abbildungsoptik eine Optik zum gezielten Herbeiführen einer chromatischen Aberration und eine weitere Optik zum Beeinflussen des Strahlengangs des aus der Abbildungsoptik austretenden Lichtstrahls aufweist.
  • In verfahrenstechnischer Hinsicht wird die voranstehende Aufgabe durch die Merkmale des Patentanspruchs 18 gelöst. Danach ist das in Rede stehende Verfahren dadurch gekennzeichnet, dass in der Abbildungsoptik eine Optik zum gezielten Herbeiführen einer chromatischen Aberration und eine weitere Optik zum Beeinflussen des Strahlengangs des aus der Abbildungsoptik austretenden, fokussierten Lichtstrahls eingesetzt werden.
  • In erfindungsgemäßer Weise ist zunächst erkannt worden, dass zum Erreichen einer möglichst großen Auflösung und eines möglichst großen Messabstands nicht notwendigerweise eine gekoppelte Lösung beider Probleme durchgeführt werden muss, das heißt, dass eine Erhöhung der Auflösung, also eine Steigerung der chromatischen Aberration auch ohne Reduzierung des Messabstands möglich ist und umgekehrt. Erfindungsgemäß ist ferner erkannt worden, dass die beiden Problemstellungen dadurch entkoppelt werden können, dass die Abbildungsoptik aus zwei unabhängig voneinander optimierbaren Optiken aufgebaut ist. Erfindungsgemäß besteht die Abbildungsoptik deshalb aus einer Optik zum gezielten Herbeiführen der chromatischen Aberration und aus einer weiteren Optik zum Beeinflussen des Strahlengangs des aus der Abbildungsoptik austretenden Lichtstrahls. Dadurch lässt sich besonders einfach und unabhängig voneinander mittels der ersten Optik eine maximale Aberration herbeiführen, während durch die zweite Optik die Fokussierung des Lichtstrahls beeinflussbar ist. Im Ergebnis lässt sich somit ein Lichtstrahl erzeugen, der eine große chromatische Aberration aufweist und gleichzeitig auf ein relativ weit von der Abbildungsoptik entfernt liegenden Punkt fokussiert ist.
  • In einer besonders bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist der ersten Optik eine Vorrichtung zum Beeinflussen der chromatischen Aberration dieser Optik zugeordnet. Dazu sind alle aus der Praxis bekannten Verfahren anwendbar.
  • Zum Erreichen einer besonders großen chromatischen Aberration lässt sich vorteilhafterweise die erste Optik durch eine GRIN (gradient index)-Linse realisieren. GRIN-Linsen besitzen einen relativ beliebigen geometrischen Aufbau und zeichnen sich durch einen Verlauf des Brechungsindexes senkrecht zu der Ausbreitungsrichtung des Lichtstrahls aus. Meist sind GRIN-Linsen zylinderförmig aufgebaut, wobei die Lichtstrahlen an den Grund- und Deckflächen des Zylinders ein- bzw. austreten. Vorzugsweise wird bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung eine 1.0 Pitch-GRIN-Linse eingesetzt. Das bedeutet, dass ein monochromatischer Lichtstrahl im Innern der Linse eine Periode einer Sinusschwingung beschreibt. Dazu müssen der Verlauf des Brechungsindex und die Länge der Linse auf einander abgestimmt sein. Bei einem Mehrfarbenlichtstrahl wird zur Dimensionierung der Linse ein bestimmter spektraler Anteil des Lichtstrahls, meist die mittlere Wellenlänge des Spektrums des Lichtstrahls, verwendet.
  • GRIN-Linsen besitzen die Eigenschaft, dass die Aberration mit zunehmender Länge größer wird. Dieser Effekt könnte dahingehend genutzt werden, dass zur Erzeugung einer starken Aberration eine größere als eine 1.0 Pitch-GRIN-Linse eingesetzt wird. Auf der anderen Seite lässt sich dieser Effekt auch dahingehend nutzen, dass eine Vorrichtung zum Beeinflussen der chromatischen Aberration durch eine Stellvorrichtung realisiert wird, die die Länge der Linse beinflusst. Diese Stellvorrichtung könnte zum einen eine feste Länge aufweisen, zum anderen könnte sie mit variabler Länge ausgestaltet sein.
  • Vorteilhafterweise lässt sich die zweite Optik durch ein Linsensystem, vorzugsweise eine Teleskopoptik, mit mindestens einer Linse aufbauen, wobei vorzugsweise eine oder mehrere asphärische Linsen zum Einsatz kommen. Dabei ist es denkbar, dass beim Einsatz von mehreren Linsen mindestens zwei Linsen die gleiche Brennweite aufweisen oder aber alle Linsen unterschiedliche Brennweiten besitzen. Mittels der zweiten Optik kann eine 1:1 Abbildung realisiert sein, aber auch vergrößernde oder verkleinernde Abbildungen wären denkbar. In Abhängigkeit von der Art der Abbildung liegen die Messbereiche bzw. die Grundabstände näher an der Optik oder sind weiter von dieser entfernt.
  • Hinsichtlich eines besonders variablen Einsatzes der erfindungsgemäßen Vorrichtung könnte durch Austauschbarkeit einer der Linsen der Optik eine Veränderung des Messbereichs erreicht werden.
  • Bei Bedarf könnte zwischen zwei Linsen der Optik eine Vorrichtung zum Umlenken des Lichtstrahls eingesetzt werden. Dadurch lässt sich die Vorrichtung in vorteilhafter Weise an besondere geometrische Gegebenheiten anpassen. Dazu könnte beispielsweise eine Glasfaser oder ein Prisma zum Einsatz kommen.
  • In vorteilhafter Weise wird der aus der Abbildungsoptik austretende Lichtstrahl durch eine Umlenkvorrichtung auf die Oberfläche gelenkt. Dazu können Prismen, Spiegel, planparallele Platten oder andere aus der Praxis bekannte richtungsändernde Vorrichtungen vorgesehen sein. Zum Steuern des Lichtstrahl an eine bestimmte Stelle der Oberfläche und zum Erreichen einer möglichst umfassenden Abdeckung der zu vermessenden Fläche könnte die Umlenkvorrichtung oder zumindest Teile davon in eine zwei- oder dreidimensionale Bewegung versetzbar ausgestaltet sein. Dabei können Dreh- oder Kippbewegungen um verschiedene Achsen, lineare Bewegungen mit verschiedenen Bewegungsrichtungen oder Kombinationen daraus zum Einsatz kommen.
  • Hinsichtlich einer möglichst guten Reproduzierbarkeit einer Messung könnten die Bewegungen der Umlenkvorrichtung durch elektrische Stellelemente vorgenommen werden. Diese Stellelemente könnten durch eine elektronische Vorrichtung, vorzugsweise einen Mikrocontroller oder einen anderen Digitalrechner, gesteuert werden.
  • Der an der Oberfläche reflektierte Lichtstrahl ließe sich schließlich einer Sensorvorrichtung zum Detektieren dieses Lichtstrahls zuführen und durch eine weitere elektronische Schaltung, vorzugsweise einen Mikrocontroller oder einen anderen Digitalrechner, aus dem Spektrum des reflektierten Lichtstrahls eine Entfernung zwischen dem Messobjekt und der Optik berechnen. Die dazu notwendigen Referenzdaten, also die Zuordnungen zwischen Wellenlängen und Abständen, könnte vor Inbetriebnahme der Vorrichtung durch Kalibrierungsmessungen bestimmt werden.
  • In besonders vorteilhafter Weise lässt sich durch den erfindungsgemäßen Einsatz einer GRIN-Linse in Verbindung mit einer weiteren Optik eine Abbildungsoptik aufbauen, die relativ frei parametrierbar und sehr stark miniaturisierbar ist. Dadurch können Messköpfe mit sehr kleinen Durchmessern erreichen.
  • Durch eine Anordnung von mehreren erfindungsgemäßen, vorzugsweise sehr stark miniaturisierten Abbildungsoptiken oder durch Einsatz eines Strahlteilers lässt sich auf einfache Weise ein Flächensensor aufbauen. Dadurch lassen sich mehrere Messungen gleichzeitig durchführen. Je nach Anforderungen und Gestaltung des Flächensensors können die Messpunkte auf verschiedenen Kurven, beispielsweise einem Geradenstück, einem Kreisausschnitt oder einem Ausschnitt einer Hyperbel, liegen. Ebenso wäre der Aufbau eines zweidimensionalen, beispielsweise rechteckigen Arrays denkbar.
  • Durch die Fokussierung des Lichtstrahls auf eine Reihe von Punkten unter Ausnutzung der chromatischen Aberration und durch die Vergrößerung des Messabstands und -bereichs können in vorteilhafter Weise auch Objekte vermessen werden, die mit einer Schicht aus einem transparenten Material überzogen sind. Dabei wird ein spektraler Anteil des Lichtstrahls bereits an der Grenzfläche zu der Beschichtung reflektiert, während ein weiterer Anteil an der Oberfläche selbst reflektiert wird. Dadurch können mit der Sensorvorrichtung zwei spektrale Anteile detektiert, die sich jeweils zwei Abständen zuordnen lassen. Aus diesen Abständen kann gleichzeitig die Beschaffenheit der Oberfläche ermittelt werden und mittels einer Subtraktion der beiden Werte die Dicke der Beschichtung bestimmt werden.
    •
  • Es gibt nun verschiedene Möglichkeiten, die Lehre der vorliegenden Erfindung in vorteilhafter Weise auszugestalten und weiterzubilden. Dazu ist einerseits auf die dem Patentanspruch 1 nachgeordneten Patentansprüche und andererseits auf die nachfolgende Erläuterung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung anhand der Zeichnung zu verweisen. In Verbindung mit der Erläuterung des bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung anhand der Zeichnung werden auch im Allgemeinen bevorzugte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Lehre erläutert. In der Zeichnung zeigen
  • 1 in einer schematischen Darstellung den prinzipiellen Verlauf von Lichtstrahlen unterschiedlicher Wellenlängen durch eine erfindungsgemäße Abbildungsoptik und
  • 2 in einer schematischen Darstellung eine Ausgestaltung der Umlenkvorrichtung durch eine planparallele Platte.
  • In 1 ist der Strahlengang eines Mehrfarbenlichtstrahls 2 durch die erfindungsgemäße Abbildungsoptik 1 dargestellt. Dabei zeigt der obere Teil der Figur die Ausbreitung eines kurzwelligen Anteils des Lichtstrahls 2, während im unteren Teil der Figur der Strahlengang eines langwelligen Anteils abgebildet ist. Im mittleren Teil ist der spektrale Anteil des Lichtstrahls 2 dargestellt, der exakt auf die Oberfläche 3 fokussiert ist und dessen Wellenlänge somit einen Wert annimmt, der zwischen den Werten der im oberen und unteren Teil der Figur dargestellten Anteile liegt. Der abgestrahlte und reflektierte Lichtstrahl nimmt dabei denselben Weg, lediglich in umgekehrter Richtung.
  • Der erste Teil der Abbildungsoptik 1 besteht aus einer GRIN-Linse 4, der eine Stellvorrichtung 5 – ein sogenannter Spacer – zur Beeinflussung der Länge der Linse 4 vorgeschaltet ist. Der die GRIN-Linse 4 verlassende Lichtstrahl trifft auf den zweiten Teil 6 der Abbildungsoptik 1, die aus zwei asphärischen Linsen 7 und 8 mit gleicher Brennweite besteht.
  • Der fokussierte Lichtstrahl 9 verlässt die Abbildungsoptik 1, fällt auf die Oberfläche 3 und wird an dieser reflektiert. Der reflektierte Lichtstrahl 10 – in der Fig. gestrichelt eingezeichnet – durchquert die Abbildungsoptik in gleicher Weise wie der einfallende Lichtstrahl 2 und wird an geeigneter Stelle beispielsweise unter Verwendung einer optischen Weiche ausgekoppelt und einer Sensorvorrichtung zugeführt.
  • In 1 ist deutlich zu erkennen, dass der an der Oberfläche 3 reflektierte Lichtstrahl 10 nur dann gut reflektiert wird, wenn er auf die Oberfläche 3 fokussiert ist. Dies ist nur in einem beschränkten Bereich des Spektrums möglich. Kurzwelligere bzw. langwelligere spektrale Anteile werden nur diffus reflektiert, wie dem oberen und unteren Teil der Figur entnommen werden kann, und werden zusätzlich an den Grenzflächen des ersten Teils der Abbildungsoptik gestreut. Dadurch werden durch die Sensorvorrichtung im Wesentlichen die spektralen Anteile detektiert, die auf die Oberfläche fokussiert sind.
  • 2 zeigt eine Ausgestaltung der Umlenkvorrichtung durch eine planparallele Platte 11, die den Einsatz der erfindungsgemäßen Vorrichtung als Oberflächenscanner ermöglicht. Auf die schräggestellte planparallele Platte 11 fällt ein Lichtstrahl 2, der an den Grenzflächen 12 und 13 in Folge des gegenüber der Umgebung erhöhten Brechungsindexes n gebrochen wird. Dadurch ergibt sich für den Lichtstrahl eine Parallelverschiebung v, die von der Dicke d und dem Berechungsindex n der planparallelen Platte 11 und dem Einfallswinkel ϵ des einfallenden Lichtstrahls 2 abhängt. Die Verschiebung v kann mit:
    Figure 00080001
    mit dem Brechungsgesetz und geometrischen Überlegungen berechnet werden.
  • Wird die planparallele Platte 11 um die Achse 15 rotiert, so beschreibt der parallel verschobene Lichtstrahl 14 einen Kreis 16 auf der Oberfläche 3. Wird zusätzlich der Winkel ϵ, d. h. der Neigungswinkel der planparallelen Platte beeinflusst, so verändert sich der Radius des Kreises 16. Die Oberfläche 3 kann damit kreisförmig abgetastet werden.

Claims (18)

  1. Vorrichtung zum Vermessen von Oberflächen, wobei die Vorrichtung eine Lichtquelle zum Erzeugen eines Mehrfarbenlichtstrahls (2) aufweist, wobei der Lichtstrahl (2) durch eine Abbildungsoptik (1) unter Ausnutzung der chromatischen Aberration von Optiken auf mehrere unterschiedlich weit von der Abbildungsoptik (1) beabstandete Punkte fokussierbar ist, wobei der fokussierte Lichtstrahl (9) auf die Oberfläche (3) lenkbar ist und wobei eine Sensorvorrichtung zum Detektieren des reflektierten Lichtstrahls (10) vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Abbildungsoptik (1) eine Optik (4) zum gezielten Herbeiführen einer chromatischen Aberration und eine weitere Optik (6) zum Beeinflussen des Strahlengangs des aus der Abbildungsoptik (1) austretenden, fokussierten Lichtstrahls (9) aufweist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Optik (4) eine Vorrichtung zum Beeinflussen der chromatischen Aberration zugeordnet ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Optik (4) eine GRIN (gradient index)-Linse (4), vorzugsweise eine 1.0 Pitch-GRIN-Linse, umfasst.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der GRIN-Linse (4) eine Stellvorrichtung (5) zum Beeinflussen der Länge der Linse (4) zugeordnet ist.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Stellvorrichtung (5) eine feste Länge besitzt.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Stellvorrichtung (5) in ihrer Länge beeinflussbar ist.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Optik (6) aus mindestens einer Linse (7, 8) aufgebaut ist.
  8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Optik (6) eine oder mehrere asphärische Linsen (7, 8) aufweist.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass bei einer Optik (6) mit zwei oder mehr Linsen mindestens zwei Linsen gleiche Brennweite aufweisen.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass bei einer Optik (6) mit zwei oder mehr Linsen alle unterschiedliche Brennweiten besitzen.
  11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Linse der Optik (6) austauschbar ausgestaltet ist.
  12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Optik (6) eine 1:1-Abbildung realisiert.
  13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den Linsen der Optik (6) eine Glasfaser angeordnet ist.
  14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den Linsen der Optik (6) ein Prisma angeordnet ist.
  15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass zur Lenkung des fokussierten Lichtstrahls (9) eine Umlenkvorrichtung vorgesehen ist.
  16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Umlenkvorrichtung ein Prisma, ein Spiegel, eine planparallele Platte (11) oder andere richtungsändernde Vorrichtungen aufweist.
  17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Umlenkvorrichtung (11) vorzugsweise über elektrische Stellelemente steuerbar ist.
  18. Verfahren zum Vermessen von Oberflächen vorzugsweise unter Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, wobei der Lichtstrahl (2) durch eine Abbildungsoptik (1) unter Ausnutzung der chromatischen Aberration von Optiken auf mehrere unterschiedlich weit von der Abbildungsoptik beabstandeten Punkte fokussiert wird, wobei der fokussierte Lichtstrahl (9) auf einen Punkt der Oberfläche (3) gelenkt wird und wobei eine Sensorvorrichtung zum Detektieren des reflektierten Lichtstrahls (10) vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass in der Abbildungsoptik (1) eine Optik (4) zum gezielten Herbeiführen einer chromatischen Aberration und eine weitere Optik (6) zum Beeinflussen des Strahlengangs des aus der Abbildungsoptik (1) austretenden, fokussierten Lichtstrahls (9) eingesetzt werden.
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DE502006006338T DE502006006338D1 (de) 2005-05-17 2006-05-10 Ächen
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EP06722852A EP1882153B1 (de) 2005-05-17 2006-05-10 Vorrichtung und verfahren zum vermessen von oberflächen
PCT/DE2006/000800 WO2006122519A1 (de) 2005-05-17 2006-05-10 Vorrichtung und verfahren zum vermessen von oberflächen
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010016462A1 (de) 2010-04-15 2011-10-20 Technische Universität München Schichtmessverfahren und Messvorrichtung
DE102012108424A1 (de) 2012-09-10 2014-03-13 Institut für Mess- und Regelungstechnik der Leibniz Universität Hannover Optisches System mit einer GRIN-Optik und Vorrichtung mit zumindest zwei optischen Systemen
US9383190B1 (en) 2014-12-10 2016-07-05 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Measuring apparatus and method for determining dimensional characteristics of a measurement object
DE102021112120A1 (de) 2021-05-10 2022-11-10 Carl Mahr Holding Gmbh Faseroptische Punktsonde und Distanzmesssystem mit einer faseroptischen Punktsonde

Families Citing this family (80)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11026768B2 (en) 1998-10-08 2021-06-08 Align Technology, Inc. Dental appliance reinforcement
US9492245B2 (en) 2004-02-27 2016-11-15 Align Technology, Inc. Method and system for providing dynamic orthodontic assessment and treatment profiles
US7626705B2 (en) * 2007-03-30 2009-12-01 Mitutoyo Corporation Chromatic sensor lens configuration
WO2008141640A1 (de) 2007-05-21 2008-11-27 Micro-Epsilon Messtechnik Gmbh & Co. Kg Verfahren zur kompensation von temperaturbedingten messfehlern in einem konfokal chromatisch messenden abstandssensor
US7878805B2 (en) 2007-05-25 2011-02-01 Align Technology, Inc. Tabbed dental appliance
WO2009032094A1 (en) * 2007-08-31 2009-03-12 Abb Ltd. Web thickness measurement device
US8738394B2 (en) 2007-11-08 2014-05-27 Eric E. Kuo Clinical data file
US8108189B2 (en) 2008-03-25 2012-01-31 Align Technologies, Inc. Reconstruction of non-visible part of tooth
US8092215B2 (en) 2008-05-23 2012-01-10 Align Technology, Inc. Smile designer
US9492243B2 (en) 2008-05-23 2016-11-15 Align Technology, Inc. Dental implant positioning
US8172569B2 (en) 2008-06-12 2012-05-08 Align Technology, Inc. Dental appliance
US8152518B2 (en) 2008-10-08 2012-04-10 Align Technology, Inc. Dental positioning appliance having metallic portion
US8292617B2 (en) 2009-03-19 2012-10-23 Align Technology, Inc. Dental wire attachment
US8765031B2 (en) 2009-08-13 2014-07-01 Align Technology, Inc. Method of forming a dental appliance
FI124299B (fi) * 2009-10-08 2014-06-13 Focalspec Oy Mittalaite ja menetelmä kohteen ja kohteen pinnan ominaisuuksien mittaamiseksi
US8134691B2 (en) * 2010-03-18 2012-03-13 Mitutoyo Corporation Lens configuration for a thermally compensated chromatic confocal point sensor
US9241774B2 (en) 2010-04-30 2016-01-26 Align Technology, Inc. Patterned dental positioning appliance
US9211166B2 (en) 2010-04-30 2015-12-15 Align Technology, Inc. Individualized orthodontic treatment index
US8212997B1 (en) * 2011-02-23 2012-07-03 Mitutoyo Corporation Chromatic confocal point sensor optical pen with extended measuring range
JP5790178B2 (ja) 2011-03-14 2015-10-07 オムロン株式会社 共焦点計測装置
US9403238B2 (en) 2011-09-21 2016-08-02 Align Technology, Inc. Laser cutting
DE102011056002A1 (de) * 2011-12-02 2013-06-06 Grintech Gmbh Optisch korrigierende Mikrosonde zur Weißlicht-Interferometrie
US9375300B2 (en) 2012-02-02 2016-06-28 Align Technology, Inc. Identifying forces on a tooth
US9220580B2 (en) 2012-03-01 2015-12-29 Align Technology, Inc. Determining a dental treatment difficulty
US9414897B2 (en) 2012-05-22 2016-08-16 Align Technology, Inc. Adjustment of tooth position in a virtual dental model
DE102013113265B4 (de) * 2013-11-29 2019-03-07 Grintech Gmbh Vorrichtung zur berührungslosen optischen Abstandsmessung
US9439568B2 (en) 2014-07-03 2016-09-13 Align Technology, Inc. Apparatus and method for measuring surface topography optically
US9261358B2 (en) 2014-07-03 2016-02-16 Align Technology, Inc. Chromatic confocal system
US9261356B2 (en) 2014-07-03 2016-02-16 Align Technology, Inc. Confocal surface topography measurement with fixed focal positions
US10772506B2 (en) 2014-07-07 2020-09-15 Align Technology, Inc. Apparatus for dental confocal imaging
US9693839B2 (en) 2014-07-17 2017-07-04 Align Technology, Inc. Probe head and apparatus for intraoral confocal imaging using polarization-retarding coatings
US9675430B2 (en) 2014-08-15 2017-06-13 Align Technology, Inc. Confocal imaging apparatus with curved focal surface
US9660418B2 (en) 2014-08-27 2017-05-23 Align Technology, Inc. VCSEL based low coherence emitter for confocal 3D scanner
US10449016B2 (en) 2014-09-19 2019-10-22 Align Technology, Inc. Arch adjustment appliance
US9610141B2 (en) 2014-09-19 2017-04-04 Align Technology, Inc. Arch expanding appliance
US9744001B2 (en) 2014-11-13 2017-08-29 Align Technology, Inc. Dental appliance with cavity for an unerupted or erupting tooth
US10504386B2 (en) 2015-01-27 2019-12-10 Align Technology, Inc. Training method and system for oral-cavity-imaging-and-modeling equipment
US10248883B2 (en) 2015-08-20 2019-04-02 Align Technology, Inc. Photograph-based assessment of dental treatments and procedures
FI127908B (en) * 2015-09-22 2019-05-15 Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy Method and apparatus for measuring surface height
US11554000B2 (en) 2015-11-12 2023-01-17 Align Technology, Inc. Dental attachment formation structure
US11931222B2 (en) 2015-11-12 2024-03-19 Align Technology, Inc. Dental attachment formation structures
US11103330B2 (en) 2015-12-09 2021-08-31 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
US11596502B2 (en) 2015-12-09 2023-03-07 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
US10383705B2 (en) 2016-06-17 2019-08-20 Align Technology, Inc. Orthodontic appliance performance monitor
WO2017218947A1 (en) 2016-06-17 2017-12-21 Align Technology, Inc. Intraoral appliances with sensing
DE102016211748A1 (de) 2016-06-29 2018-01-04 Carl Zeiss Ag Chromatisch-konfokale Messanordnung
KR101793831B1 (ko) 2016-07-04 2017-11-06 한남대학교 산학협력단 레이저 간섭계와 목표 측정물 사이에서 광신호를 송수신하는 콜리메이팅 광학계, 그 광학계를 이용한 송수신 방법 및 그 광학계를 이용한 변위량 측정시스템
DE102016113149A1 (de) * 2016-07-15 2018-01-18 Triple-In Holding Ag Aufnahme von Entfernungsprofilen
US10507087B2 (en) 2016-07-27 2019-12-17 Align Technology, Inc. Methods and apparatuses for forming a three-dimensional volumetric model of a subject's teeth
KR102546050B1 (ko) 2016-07-27 2023-06-22 얼라인 테크널러지, 인크. 치아 진단 기능이 있는 구강 내 스캐너
US10317344B2 (en) * 2016-09-07 2019-06-11 Kla-Tencor Corporation Speed enhancement of chromatic confocal metrology
CN109922754B (zh) 2016-11-04 2021-10-01 阿莱恩技术有限公司 用于牙齿图像的方法和装置
US11376101B2 (en) 2016-12-02 2022-07-05 Align Technology, Inc. Force control, stop mechanism, regulating structure of removable arch adjustment appliance
WO2018102702A1 (en) 2016-12-02 2018-06-07 Align Technology, Inc. Dental appliance features for speech enhancement
AU2017366755B2 (en) 2016-12-02 2022-07-28 Align Technology, Inc. Methods and apparatuses for customizing rapid palatal expanders using digital models
EP3824843A1 (de) 2016-12-02 2021-05-26 Align Technology, Inc. Palatale expander und verfahren zur erweiterung des gaumens
US10548700B2 (en) 2016-12-16 2020-02-04 Align Technology, Inc. Dental appliance etch template
US10456043B2 (en) 2017-01-12 2019-10-29 Align Technology, Inc. Compact confocal dental scanning apparatus
US10779718B2 (en) 2017-02-13 2020-09-22 Align Technology, Inc. Cheek retractor and mobile device holder
JP6819370B2 (ja) * 2017-03-09 2021-01-27 オムロン株式会社 共焦点計測装置
US10613515B2 (en) 2017-03-31 2020-04-07 Align Technology, Inc. Orthodontic appliances including at least partially un-erupted teeth and method of forming them
US11045283B2 (en) 2017-06-09 2021-06-29 Align Technology, Inc. Palatal expander with skeletal anchorage devices
US10639134B2 (en) 2017-06-26 2020-05-05 Align Technology, Inc. Biosensor performance indicator for intraoral appliances
US10885521B2 (en) 2017-07-17 2021-01-05 Align Technology, Inc. Method and apparatuses for interactive ordering of dental aligners
WO2019018784A1 (en) 2017-07-21 2019-01-24 Align Technology, Inc. ANCHOR OF CONTOUR PALATIN
US11633268B2 (en) 2017-07-27 2023-04-25 Align Technology, Inc. Tooth shading, transparency and glazing
EP3658067B1 (de) 2017-07-27 2023-10-25 Align Technology, Inc. System und verfahren zur verarbeitung eines orthodontischen ausrichters mittels optischer kohärenztomographie
US11116605B2 (en) 2017-08-15 2021-09-14 Align Technology, Inc. Buccal corridor assessment and computation
WO2019036677A1 (en) 2017-08-17 2019-02-21 Align Technology, Inc. SURVEILLANCE OF CONFORMITY OF DENTAL DEVICE
US10813720B2 (en) 2017-10-05 2020-10-27 Align Technology, Inc. Interproximal reduction templates
CN111565668B (zh) 2017-10-27 2022-06-07 阿莱恩技术有限公司 替代咬合调整结构
EP3703608B1 (de) 2017-10-31 2023-08-30 Align Technology, Inc. Ermittlung eines zahnärztlichen gerätes mit selektiver okklusaler belastung und kontrollierter interkuspidation
CN111315315B (zh) 2017-11-01 2022-08-23 阿莱恩技术有限公司 自动治疗规划
WO2019100022A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Align Technology, Inc. Orthodontic retainers
EP3716885B1 (de) 2017-11-30 2023-08-30 Align Technology, Inc. Sensoren umfassende orthodontische intraorale geräte
WO2019118876A1 (en) 2017-12-15 2019-06-20 Align Technology, Inc. Closed loop adaptive orthodontic treatment methods and apparatuses
US10980613B2 (en) 2017-12-29 2021-04-20 Align Technology, Inc. Augmented reality enhancements for dental practitioners
CA3086553A1 (en) 2018-01-26 2019-08-01 Align Technology, Inc. Diagnostic intraoral scanning and tracking
US11937991B2 (en) 2018-03-27 2024-03-26 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
KR20200141498A (ko) 2018-04-11 2020-12-18 얼라인 테크널러지, 인크. 해제 가능한 구개 확장기

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0475042A (ja) * 1990-07-17 1992-03-10 Minolta Camera Co Ltd フアインダー光学系
JPH04265814A (ja) * 1991-02-20 1992-09-22 Nissin Electric Co Ltd 変位測定装置
JPH0526635A (ja) * 1991-07-25 1993-02-02 Sumitomo Cement Co Ltd 断面観察用共焦点レ−ザ走査型顕微鏡
US5785651A (en) * 1995-06-07 1998-07-28 Keravision, Inc. Distance measuring confocal microscope
US5680492A (en) * 1995-08-01 1997-10-21 Cogent Light Technologies, Inc. Singular fiber to bundle illumination with optical coupler
JPH109827A (ja) * 1996-06-24 1998-01-16 Omron Corp 高さ判別装置および方法
JPH10132510A (ja) * 1996-10-30 1998-05-22 Topcon Corp 位置検出装置
DE19713362A1 (de) * 1997-03-29 1998-10-01 Zeiss Carl Jena Gmbh Konfokale mikroskopische Anordnung
US6208465B1 (en) * 1997-04-25 2001-03-27 Galore Scantec Ltd. Method and apparatus for imaging an object by diffractive autofocus
JPH11173821A (ja) * 1997-12-10 1999-07-02 Yasunaga Corp 光学式検査装置
JP4304713B2 (ja) * 2000-07-10 2009-07-29 日立化成工業株式会社 光導波路デバイスの製造方法
SE524828C2 (sv) * 2002-06-06 2004-10-12 Alfa Exx Ab Resonator
DE10242374A1 (de) * 2002-09-12 2004-04-01 Siemens Ag Konfokaler Abstandssensor
JP2004227623A (ja) * 2003-01-20 2004-08-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 複数波長光利用の光学的情報再生に適応した光ピックアップ及びそれに用いる光ピックアップレンズ
EP1618419A1 (de) * 2003-04-25 2006-01-25 Corning Incorporated Mehrfach-bandbreiten-collimator
WO2005121700A1 (de) * 2004-06-08 2005-12-22 Micro-Epsilon Messtechnik Gmbh & Co. Kg Vorrichtung und verfahren zum prüfen von oberflächen im inneren von löchern
DE102004034693B4 (de) * 2004-07-17 2006-05-18 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen optischen Messung der Dicke von heißen Glaskörpern mittels der chromatischen Aberration
US7477401B2 (en) * 2004-11-24 2009-01-13 Tamar Technology, Inc. Trench measurement system employing a chromatic confocal height sensor and a microscope

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010016462A1 (de) 2010-04-15 2011-10-20 Technische Universität München Schichtmessverfahren und Messvorrichtung
DE102010016462B4 (de) * 2010-04-15 2015-07-16 Technische Universität München Schichtmessverfahren und Messvorrichtung
DE102012108424A1 (de) 2012-09-10 2014-03-13 Institut für Mess- und Regelungstechnik der Leibniz Universität Hannover Optisches System mit einer GRIN-Optik und Vorrichtung mit zumindest zwei optischen Systemen
US9383190B1 (en) 2014-12-10 2016-07-05 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Measuring apparatus and method for determining dimensional characteristics of a measurement object
DE102021112120A1 (de) 2021-05-10 2022-11-10 Carl Mahr Holding Gmbh Faseroptische Punktsonde und Distanzmesssystem mit einer faseroptischen Punktsonde

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008541101A (ja) 2008-11-20
WO2006122519A1 (de) 2006-11-23
US7561273B2 (en) 2009-07-14
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