CN102981203A - 光学层积体、偏振片和图像显示装置 - Google Patents

光学层积体、偏振片和图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供光学层积体、偏振片和图像显示装置。本发明的光学层积体为在聚酯基材上形成底涂层、在上述底涂层上形成硬涂层的光学层积体，其特征在于：上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之差(nx-ny)为0.07～0.20，所述慢轴方向为折射率大的方向，所述快轴方向为与所述慢轴方向正交的方向；上述底涂层的折射率(np)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<np<nx的关系；上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<nh<nx的关系。

Description

光学层积体、偏振片和图像显示装置
【技术领域】
本发明涉及光学层积体、偏振片和图像显示装置。 
【背景技术】
在液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(OELD或IELD)、场发射显示屏(FED)、触摸屏、电子纸等图像显示装置中，在图像显示面板的显示画面侧配置有偏振光器，进一步设置在最表面具有防反射性、硬涂性等功能的光学层积体。 
以往，作为这样的光学层积体的透光性基材，使用了由以三乙酰纤维素为代表的纤维素酯形成的膜。这是基于下述优点：即，由于纤维素酯的延迟值低，因而对图像显示装置的显示品质的影响少、以及具有适度的透水性，从而在使用光学层积体制造偏振片时，可使残留在偏振光器中的水分透过光学层积体而进行干燥；等等。并且，纤维素酯膜比较廉价，从这一点考虑，纤维素酯膜也是有贡献的。 
但是，纤维素酯膜的耐湿热性差，若在高温多湿的环境下使用硬涂膜作为偏振片保护膜，则存在着偏振光功能或色调等偏振片功能降低这样的缺点。 
从这样的纤维素酯膜的问题方面考虑，希望使用市场上容易获得的、或可利用简易方法进行制造的通用性膜作为光学层积体的基材，例如，作为纤维素酯代替膜，尝试了利用聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯膜(例如，参见专利文献1)。 
【现有技术文献】 
【专利文献】 
专利文献1：日本特开2004-205773号公报 
【发明内容】
【发明所要解决的课题】 
但是，根据本发明人的研究，可判断出在将使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等 聚酯膜作为纤维素酯膜代替膜的光学层积体配置在偏振元件上的情况下存在着下述问题：特别是在从斜向观察显示画面时，在液晶显示装置上会产生颜色有差异的斑(下文中也称为“彩虹斑(ニジムラ)”)，液晶显示装置的显示品质受到损害。 
针对使用这样的聚酯膜的情况下的问题进一步进行了研究，结果发现，与使用具备由现有的聚酯膜形成的透光性基材的光学层积体的情况比较，通过使用具有某种程度的高延迟值的聚酯膜作为光学层积体的透光性基材，可改善彩虹斑问题。 
但是，可知在使用这样的具有某种程度的高延迟值的聚酯膜作为透光性基材的情况下，为了确保与硬涂层的密合性，必须有底涂层，但在这样构成的光学层积体中，干涉条纹的产生会成为问题，图像显示装置的显示品质明显受到损伤。 
鉴于上述现状，本发明的目的在于提供一种光学层积体、以及使用了该光学层积体的偏振片和图像显示装置，在所述光学层积体中，聚酯基材与硬涂层的密合性优异、并可高度地抑制液晶显示装置的显示图像产生彩虹斑和干涉条纹。 
【用于解决课题的手段】 
第1本发明为一种光学层积体，其为在聚酯基材上形成有底涂层、在上述底涂层上形成有硬涂层的光学层积体，该光学层积体的特征在于，上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之差(nx-ny)为0.07～0.20，上述慢轴方向为折射率大的方向，上述快轴方向为与上述慢轴方向正交的方向；上述底涂层的折射率(np)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<np<nx的关系；上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<nh<nx的关系。 
另外，第2本发明也为一种光学层积体，其为在聚酯基材上形成有底涂层、在上述底涂层上形成有硬涂层的光学层积体，该光学层积体的特征在于，上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之差(nx-ny)为0.07～0.20，上述慢轴方向为折射率大的方向，上述快轴方向为与上述慢轴方向正交的方向；上述底涂层的厚度为3nm～30nm；上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<nh<nx关系。 
在第2本发明的光学层积体中，上述聚酯基材的快轴方向的折射率(ny)与底涂层的折射率(np)优选具有ny>np的关系；上述聚酯基材的快轴方向的折射率(ny)与底涂层的折射率(np)之差(ny-np)优选为0.05以下；上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx) 与上述硬涂层的折射率(nh)之差(nx-nh)、以及上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材的快轴方向的折射率(ny)之差(nh-ny)均优选为0.025以上。 
并且，上述第1光学层积体和第2本发明的光学层积体中，优选在上述聚酯基材的两面形成上述底涂层和硬涂层。 
另外，本发明还涉及偏振片，其为通过具备偏振元件而成的偏振片，该偏振片的特征在于，在上述偏振元件的表面具备第1本发明的光学层积体或第2本发明的光学层积体。 
并且，本发明还涉及图像显示装置，其特征在于，该图像显示装置具备第1本发明的光学层积体或第2本发明的光学层积体、或具备本发明的偏振片。 
此外，本发明还涉及一种触摸屏，其为采用了第1本发明的光学层积体或第2本发明的光学层积体的触摸屏，该触摸屏的特征在于，在上述光学层积体硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设置有不可见电极；在上述聚酯基材的两面形成有底涂层和硬涂层的情况下，还涉及一种触摸屏，其特征在于，在上述光学层积体的至少一个硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设有不可见电极。 
以下详细说明本发明。 
另外，在本发明中，只要没有特别记载，单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体也被记为“树脂”。 
另外，本发明中所记载的底涂层、硬涂层的折射率和膜厚全部为制成固化膜的情况下的折射率和膜厚。 
本发明人针对上述现有问题进行了深入研究，结果发现，在使用了聚酯基材且在该聚酯基材与硬涂层之间设有底涂层的光学层积体中，通过使聚酯基材具有特定的延迟值，可抑制显示图像中产生彩虹斑；进一步地，基于以下见解，发现还可抑制干涉条纹的发生，从而完成了第1本发明的光学层积体和第2本发明的光学层积体。 
即，本发明人发现，在聚酯基材、底涂层和硬涂层层积而成的光学层积体中，存在如下干涉条纹：因聚酯基材和底涂层的界面处的反射光与底涂层和硬涂层的界面处的反射光的干涉而产生的干涉条纹；因底涂层和硬涂层的界面处的反射光与硬涂层表面处的反射光的干涉而产生的干涉条纹；以及，因聚酯基材和底涂层的界面处的反射光与硬涂层表面处的反射光的干涉而产生的干涉条纹。 
另外，干涉条纹还会在聚酯基材、底涂层和硬涂层具有折射率差的情况下产生， 并且其理由尚不明确，但认为在底涂层具有厚度不均的情况下，也会对干涉条纹的产生带来影响。 
由此，本发明人发现，通过极高程度地控制底涂层和硬涂层的折射率，可以使该底涂层、聚酯基材和硬涂层不存在事实上的折射率差异，可充分抑制上述干涉条纹的发生，从而完成了第1本发明的光学层积体。 
另外，底涂层通常是通过涂布含有预定材料的底涂层用组合物而形成的，使该底涂层用组合物的涂布量完全均匀在技术上是很难的。因此，底涂层用组合物的涂布量不可避免地存在某种程度的偏差，无法完全消除所形成底涂层的厚度不均。因此，本发明人进一步进行了深入研究，结果发现，通过使所形成底涂层的厚度极薄，可使其厚度不均也为极小，不会产生被认为是由于底涂层的厚度不均所引起的可被人眼所识别的干涉条纹；进一步地，通过极高程度地控制硬涂层的折射率、使聚酯基材与硬涂层不存在事实上的折射率差，从而使得上述干涉条纹不会成为问题，从而完成了第2本发明的光学层积体。 
需要说明的是，在以下的说明中，对于第1本发明的光学层积体与第2本发明的光学层积体共通的部分，将两者统一作为本发明的光学层积体进行说明。
图1为示意性示出本发明的光学层积体的一例的截面图。 
如图1所示，本发明的光学层积体10中，在聚酯基材11上形成有底涂层12、在底涂层12上形成有硬涂层13。 
在这种构成的本发明的光学层积体中，上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟。若延迟小于8000nm，则在使用了本发明光学层积体的液晶显示装置的显示图像中会产生彩虹斑。另一方面，作为上述聚酯基材的延迟的上限没有特别限定，优选为3万nm左右。若超过3万nm，则并未观察到更加优异的显示图像彩虹斑改善效果的提高，并且膜厚变得相当厚，因而不优选。 
从彩虹斑防止性能和薄膜化的方面出发，上述聚酯基材的延迟优选为1万nm～2万nm。 
需要说明的是，上述延迟是利用聚酯基材面内折射率最大的方向(慢轴方向)的折射率(nx)、与慢轴方向正交的方向(快轴方向)的折射率(ny)、以及聚酯基材的厚度(d)、通过下式而表示出的值。 
延迟(Re)=(nx-ny)×d 
并且，上述延迟可利用例如王子计测机器制KOBRA-WR来进行测定(测定角0°、测定波长548.2nm)。 
另外，也可以通过下述方法求出延迟：使用二片偏振片，求出聚酯基材的取向轴向(主轴方向)，利用阿贝(Abbe)折射率计(Atago社制造NAR-4T)求出相对于取向轴向正交的二个轴的折射率(nx、ny)。此处，将表示出较大折射率的轴定义为慢轴。聚酯基材厚度d(nm)使用电测微计(Anritsu社制造)进行测定，将单位换算为nm。从而利用折射率差(nx-ny)与膜的厚度d(nm)的积来计算出延迟。 
另外，对于折射率，使用分光光度计(岛津制作所社制造的UV-3100PC)，对波长380nm～780nm的平均反射率(R)进行测定，由所得到的平均反射率(R)，使用下式来求得折射率(n)的值。 
对于底涂层和硬涂层的平均反射率(R)，在未经易粘接处理的50μm PET上涂布各原料组合物，制成1μm～3μm厚度的固化膜，为防止背面反射，在PET的未涂布面(背面)粘贴宽度大于测定位点面积的黑色聚氯乙烯绝缘带(ビニールテープ，例如Yamato聚氯乙烯绝缘带NO200-38-21，宽38mm)，之后测定各涂膜的平均反射率。对于聚酯基材的折射率，在与测定面相反的面同样地贴上黑色聚氯乙烯绝缘带，之后进行测定。 
R(%)=(1-n)2/(1+n)2
另外，作为制成光学层积体之后对底涂层或硬涂层的折射率进行测定的方法，可以利用切割器等削取各层的固化膜，制作粉末状态的样品，采用基于JISK7142(2008)B法(粉体或粒状的透明材料用)的贝克法(为如下方法：使用折射率已知的Cargille(カーギル)试剂，将上述粉末状态的样品载置于载玻片等，在该样品上滴加试剂，利用试剂来浸渍样品。通过显微镜观察对其状态进行观察，由于样品与试剂的折射率的差异而在样品轮郭处产生辉线，将通过目视无法观察到贝克线的试剂的折射率作为样品的折射率)。 
在聚酯基材的情况下，优选不使用贝克法，而通过在底涂层或硬涂层的处理面粘贴上述黑色聚氯乙烯绝缘带来测定平均反射率进行求得。 
另外，在本发明中，上述nx-ny(下文中，也记为Δn)为0.07～0.20。上述Δn若小于0.07，则得不到充分抑制彩虹斑的效果，并且为了得到上述延迟值所需要的膜厚增厚。另一方面，上述Δn若超过0.20，则作为聚酯基材易于发生开裂、破损等，作为 工业材料的实用性显著降低。 
上述Δn的优选下限为0.08、优选上限为0.15。另外，若上述Δn超过0.15，则在耐湿热性试验中聚酯基材的耐久性会变差。出于耐湿热性试验中的耐久性优异的原因，上述Δn更优选的上限为0.12。 
另外，作为上述(nx)，优选为1.67～1.78，更优选的下限为1.69，更优选的上限为1.73。并且，作为上述(ny)，优选为1.55～1.65，更优选的下限为1.57，更优选的上限为1.62。 
通过使上述nx和ny处于上述范围、且满足上述Δn的关系，可以得到适宜的彩虹斑抑制效果。 
作为构成上述聚酯基材的材料，只要使上述延迟充足就没有特别限定，为由芳香族二元酸或其酯形成性衍生物与二醇或其酯形成性衍生物合成的线状饱和聚酯。作为该聚酯的具体例，可以示例出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚(对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯)、聚(2,6-萘二甲酸乙二醇酯)。 
并且，聚酯基材中所用的聚酯可以为上述这些聚酯的共聚物，也可以为以上述聚酯为主体(例如80摩尔%以上的成分)、与比例少的(例如20摩尔%以下)的其它种类树脂混合而成的物质。出于力学物性、光学物性等的平衡良好的原因，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚(2,6-萘二甲酸乙二醇酯)作为聚酯。特别是优选含有聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。这是由于聚对苯二甲酸乙二醇酯的通用性高、容易获得。在本发明中，即使为PET这样的通用性极高的膜，也可得到能够制作出显示品质高的液晶显示装置的光学层积体。进一步地，PET在透明性、热或机械特性方面优异，可通过拉伸加工进行延迟的控制，其固有双折射大，即使膜厚较薄，也比较容易得到较大的延迟。 
作为获得上述聚酯基材的方法，只要为使上述延迟充分的方法就没有特别限定，例如可以举出下述方法：使作为材料的上述PET等聚酯熔融，使用拉幅机等，在玻璃化转变温度以上的温度，对挤出成型为片状的未拉伸聚酯进行横向拉伸，之后施以热处理。 
作为上述横向拉伸温度，优选为80℃～130℃、更优选为90℃～120℃。并且，横向拉伸倍率优选为2.5～6.0倍、更优选为3.0～5.5倍。上述横向拉伸倍数若超过6.0倍，则所得到的聚酯基材的透明性容易降低；若横向拉伸倍数小于2.5倍，则拉 伸张力也会变小，因而所得到的聚酯基材的双折射减小，有时无法使延迟为8000nm以上。 
另外，在本发明中，也可以在使用双轴拉伸试验装置，在上述条件下进行上述未拉伸聚酯的横向拉伸之后，进行相对于该横向拉伸的移动方向(流れ方向)的拉伸(以下也称为纵向拉伸)。这种情况下，上述纵向拉伸优选拉伸倍数为2倍以下。若上述纵向拉伸的拉伸倍数超过2倍，则无法使Δn的值处于上述优选范围。 
另外，作为上述热处理时的处理温度，优选为100℃～250℃、更优选为180℃～245℃。 
作为将利用上述方法制作的聚酯基材的延迟控制在8000nm以上的方法，可以举出对拉伸倍数、拉伸温度、所制作的聚酯基材的膜厚进行适宜设定的方法。具体地说，例如，拉伸倍数越高、拉伸温度越低、并且膜厚越厚，则越易得到高延迟；拉伸倍数越低、拉伸温度越高、并且膜厚越薄，则越易得到低延迟。 
作为上述聚酯基材的厚度，优选在40μm～500μm的范围内。若小于40μm，则无法使上述聚酯基材的延迟为8000nm以上，并且力学特性的各向异性显著、易于发生开裂、破损等，作为工业材料的实用性显著降低。另一方面，若超过500μm，则聚酯基材非常刚直，高分子膜特有的柔软性降低，作为工业材料的实用性同样会降低，因而不优选。上述聚酯基材的厚度更优选的下限为50μm、更优选的上限为400μm、更进一步优选的上限为300μm。 
并且，上述聚酯基材在可见光区域的透过率优选为80%以上、更优选为84%以上。需要说明的是，上述透过率可按照JIS K7361-1(塑料-透明材料的全光透过率的试验方法)进行测定。 
另外，在本发明中，在不脱离本发明宗旨的范围内，也可以对上述聚酯基材进行皂化处理、辉光放电处理、电晕放电处理、紫外线(UV)处理以及火焰处理等表面处理。 
本发明的光学层积体在聚酯基材上具有底涂层。 
上述底涂层是以提高聚酯基材与硬涂层的密合性为第一目的而设置的层。 
第1本发明的光学层积体中，上述底涂层的折射率(np)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<np<nx的关系。通过具有这样的折射率关系，可使该底涂层与聚酯基材的折射率差降低，可以抑制第1本发明的光学层积体中的干涉条纹的产生。 
如上所述，上述底涂层的折射率(np)处于上述聚酯基材快轴方向折射率(ny)的最小折射率(1.55)到上述聚酯基材慢轴方向折射率(nx)的最大折射率(1.78)之间，在防止干涉条纹发生方面，特别优选的折射率范围为1.57～1.65。 
进一步地，在第1本发明的光学层积体中，如后所述，通过使硬涂层的折射率(nh)相对于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有特定的关系，从而进一步使底涂层折射率对于干涉条纹防止性能的影响减少。 
具体地说，上述硬涂层的折射率(nh)处于上述聚酯基材快轴方向的折射率(ny)的最小折射率(1.55)到上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)的最大折射率(1.78)之间，在防止干涉条纹发生方面，特别优选的折射率范围为1.57～1.65、更优选的下限为1.62。 
第1本发明的光学层积体中，作为上述底涂层的材料，只要满足上述折射率的条件就没有特别限定，例如可适当选择现有公知的材料进行使用，可以举出例如热固性或热塑性聚酯树脂、氨基甲酸酯树脂、丙烯酸类树脂以及它们的改性物等。并且，为了调整底涂层的折射率，可以添加高折射率微粒、螯合化合物等。 
作为上述聚酯树脂，例如可以使用由下述的多元酸成分与二醇成分得到的聚酯。 
作为上述多元酸(多価塩基)成分，可以示例出例如对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、2,6-萘二羧酸、1,4-环己烷二羧酸、己二酸、癸二酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、二聚酸、5-(钠代磺基)间苯二甲酸。 
并且，作为上述二醇成分，可以示例出例如乙二醇、1,4-丁二醇、二甘醇、一缩二丙二醇、1,6-己二醇、1,4-环己烷二甲醇、二甲苯二醇、二羟甲基丙烷等；以及聚(氧化乙烯)二醇、聚氧四甲撑二醇。 
另外，作为上述丙烯酸类树脂，可以举出例如通过对以下示例出的单体进行共聚而得到的树脂。 
作为上述单体，例如为：丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯(作为烷基，为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基己基、环己基等)；丙烯酸-2-羟乙酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸-2-羟丙酯、甲基丙烯酸-2-羟丙酯等含羟基单体；丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油基酯、烯丙基缩水甘油基醚等含有环氧基的单体；丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、丁烯酸、苯乙烯磺酸及其盐(钠盐、钾盐、铵盐、叔胺盐等)等具有羧基或其盐的单体；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-烷基丙烯酰胺、N-烷基甲基丙烯酰胺、N,N-二烷基丙烯酰胺、甲基丙 烯酸N,N-烷基酯(作为烷基，为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基己基、环己基等)、N-烷氧基丙烯酰胺、N-烷氧基甲基丙烯酰胺、N,N-二烷氧基丙烯酰胺、N,N-烷氧基甲基丙烯酰胺(作为烷氧基，为甲氧基、乙氧基、丁氧基、异丁氧基等)、丙烯酰吗啉、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟甲基甲基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺等具有酰胺基的单体；马来酸酐、衣康酸酐等酸酐单体；2-乙烯基-2-噁唑啉、2-乙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-5-甲基-2-噁唑啉等含噁唑啉基单体；甲氧基二甘醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、乙烯基异氰酸酯、烯丙基异氰酸酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基三烷氧基硅烷、烷基马来酸单酯、烷基富马酸单酯、烷基衣康酸单酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、偏二氯乙烯、乙烯、丙烯、氯化乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯。 
另外，作为上述氨基甲酸酯树脂，例如可以举出由多元醇、多异氰酸酯、扩链剂、交联剂等构成的树脂。 
作为上述多元醇，可以举出例如：聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇之类的聚醚；包括聚己二酸乙二醇酯、聚乙烯-己二酸丁二醇酯、聚己内酯等的通过二醇与二羧酸的脱水反应制造的聚酯；具有碳酸酯键的聚碳酸酯；丙烯酸系多元醇；蓖麻油等。 
另外，作为上述多异氰酸酯，可以举出例如甲苯二异氰酸酯、苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、六甲撑二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、4,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等。 
另外，作为上述扩链剂或者交联剂，可以举出例如乙二醇、丙二醇、二甘醇、三羟甲基丙烷、肼、乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二环己基甲烷、水等。 
作为上述高折射率微粒，例如可适当使用折射率为1.60～2.80的金属氧化物微粒等。 
作为上述金属氧化物微粒，具体地说，可以举出例如：二氧化钛(TiO2、折射率：2.71)、氧化锆(ZrO2、折射率：2.10)、氧化铈(CeO2、折射率：2.20)、氧化锡(SnO2、折射率：2.00)、锑锡氧化物(ATO、折射率：1.75～1.95)、铟锡氧化物(ITO、折射率：1.95～2.00)、磷锡化合物(PTO、折射率：1.75～1.85)、氧化锑(Sb2O5、折射率：2.04)、铝锌氧化物(AZO、折射率：1.90～2.00)、镓锌氧化物(GZO、折射率：1.90～2.00)、 五氧化铌(Nb2O5、折射率：2.33)、氧化钽(Ta2O5：折射率2.16)和锑酸锌(ZnSb2O6、折射率：1.90～2.00)等。 
上述高折射率微粒优选平均一次粒径为5nm～100nm。平均一次粒径若大于100nm，则在上述底涂层发生光学散射，透明性会变差；若小于5nm，则微粒彼此的凝集增多、二次粒径增大，会发生光学散射，上述底涂层的透明性会变差。 
这些高折射率微粒的折射率例如可以如下计算得出：将折射率已知的热塑性树脂与进行了质量测定的金属氧化物混合后，成型为适当厚度的透明颗粒，对该颗粒进行折射率测定，通过与上述折射率已知的树脂的配合比来计算出高折射率微粒的折射率。上述折射率测定例如可通过基于JIS K7142(2008)A法的贝克法、利用阿贝折射计来求得，例如可以使用Atago社制造的DR-M4。需要说明的是，测定折射率的波长为589nm。 
另外，对于上述平均一次粒径，可通过基于TEM、STEM等透过型电子显微镜观察的图像解析以20个颗粒的粒径的平均值的形式来求得。 
作为上述高折射率微粒的含量没有特别限定，例如，可以利用添加至底涂层的树脂成分的固化物与预先测定的折射率值的加重平均来适宜调整与其它成分的关系，以使所形成的硬涂层的折射率满足上述关系。 
另外，作为上述螯合化合物，可以举出例如水溶性的钛螯合化合物、水溶性的钛酰化(チタンアシレート)化合物和水溶性的锆化合物等。 
作为上述水溶性的钛螯合化合物，可以举出例如：二异丙氧基双(乙酰丙酮)合钛、异丙氧基(2-乙基-1,3-己二醇)合钛、二异丙氧基双(三乙醇胺)合钛、二正丁氧基双(三乙醇胺)合钛、羟基双(乳酸根)合钛、羟基双(乳酸根)合钛的铵盐；过氧柠檬酸钛的铵盐等。 
另外，作为水溶性的钛酰化化合物，可以举出例如，双(草酸单铵)氧钛(オキソチタンビス(モノアンモニウムオキサレート))。 
另外，作为水溶性的锆化合物，可以举出例如四乙酰丙酮锆、乙酸锆等。 
第1本发明的光学层积体中，作为上述底涂层的厚度，可以根据所要求的性能进行适宜调节，没有特别限定，例如可以为10nm～1000nm。上述底涂层的最大厚度为500nm以下时，第1本发明的光学层积体的铅笔硬度(基于JIS K5600-5-4)可以得到提高，因而优选；特别是若为300nm以下，则例如在厚度为800nm的硬度为H，则此 时为2H等，铅笔硬度得到明显地提高，因而更为优选。 
如上所述，第1本发明的光学层积体中，由于上述底涂层的折射率(np)相对于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有特定关系，因而可在比较宽范围内进行上述底涂层厚度的设定。这是由于，在第1本发明的光学层积体中，通过使上述底涂层的折射率(np)相对于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有特定关系，可使底涂层厚度对干涉条纹防止性能的影响减少。因而，即使在第1本发明的光学层积体中底涂层的厚度比后述第2本发明的光学层积体中的底涂层厚的情况下，干涉条纹防止性能也是良好的。 
需要说明的是，上述底涂层的厚度例如为如下的值：通过利用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)对上述底涂层的截面进行观察来对任意10点进行测定，上述底涂层的厚度为所得到的平均值(nm)。在厚度非常薄的情况下，通过以照片形式记录高倍数观察的情况，进一步进行放大，由此来进行测定。层界面线是作为交界线可明确区分的程度的非常细的线，但在放大的情况下，其变成为粗线。这种情况下，将对粗线宽度进行2等分的中心部分作为交界线进行测定。 
并且，第2本发明的光学层积体中，上述底涂层的厚度为3nm～30nm。若小于3nm，则上述聚酯基材与硬涂层的密合性不充分；若大于30nm，则第2本发明光学层积体的干涉条纹防止性能不充分。第2本发明的光学层积体中，底涂层厚度的优选下限为10nm、优选上限为20nm。 
第2本发明的光学层积体中，底涂层的厚度为与上述第1本发明的光学层积体中底涂层的厚度同样地进行测定而得到的值。 
需要说明的是，第2本发明的光学层积体中，上述底涂层的折射率没有特别限定。这是由于，第2本发明的光学层积体中，上述底涂层的厚度极薄、且如后所述硬涂层的折射率(nh)相对于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有特定关系，从而使底涂层折射率对干涉条纹防止性能的影响减少。 
第2本发明这样的光学层积体中，作为构成底涂层的材料没有特别限定，可以使用以往作为光学层积体的底涂层使用的材料。 
其中，在由现有光学层积体用底涂层材料中进行考虑的情况下，若选择满足密合性及硬度的材料，则上述底涂层的折射率为1.47～1.80的范围；与不控制底涂层厚度的情况比较，第2本发明的光学层积体中，底涂层材料的选择范围非常大，是优选的。 
需要说明的是，如后所述，上述硬涂层的折射率(nh)在上述聚酯基材快轴方向折射率(ny)的最小折射率(1.55)到上述聚酯基材慢轴方向折射率(nx)的最大折射率(1.78)之间，在干涉条纹防止方面，特别优选的折射率范围为1.57～1.65、更优选的下限为1.62。 
另外，现有光学层积体用底涂层材料不含有上述高折射率微粒的情况下，底涂层的折射率(np)通常低于聚酯基材快轴方向的折射率(ny)。含有上述高折射率微粒的底涂层并非为在制造成本方面不利的情况，而是因为需要考虑该高折射率微粒与其它树脂材料的组合，因而在材料选择上受到制约。 
因此，第2本发明的光学层积体中，上述底涂层的折射率(np)优选为更小值，具体地说，优选上述聚酯基材快轴方向的折射率(ny)与上述底涂层折射率(np)具有ny>np的关系。具有这样的折射率关系时，对于现有光学层积体中的底涂层来说，该底涂层的厚度为超过30nm的较厚的厚度，因而存在着会发生干涉条纹的问题。但是，在第2本发明的光学层积体中，由于上述底涂层的厚度极薄，为3nm～30nm，因而即使在具有上述ny>np的关系的情况下，也不会有发生干涉条纹的问题。 
另外，在第2本发明的光学层积体中，具有上述ny>np的关系的情况下，上述底涂层的折射率(np)优选为尽可能接近于上述聚酯基材快轴方向的折射率(ny)的值，具体地说，优选聚酯基材快轴方向的折射率(ny)与底涂层的折射率(np)之差(ny-np)为0.05以下。若大于0.05，则防止干涉条纹的效果可能会变差。 
进一步地，由于第2本发明的光学层积体的干涉条纹防止性能会变得优异，因而上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)与硬涂层的折射率(nh)之差(nx-nh)、以及上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材快轴方向的折射率(ny)之差(nh-ny)均优选为0.025以上。 
本发明的光学层积体中，上述底涂层可以使用底涂层用组合物来形成，该底涂层用组合物是将上述材料以及必要时的光聚合引发剂和其它成分混合分散在溶剂中而制备的。 
上述混合分散可以使用涂料摇摆器、珠磨机、捏合机等公知的装置来进行。 
作为上述溶剂，优选使用水，优选以水溶液、水分散液或乳化液等水性涂液的形态来使用。并且，也可以稍含有有机溶剂。 
作为上述有机溶剂，可以举出例如：醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁 醇、仲丁醇、叔丁醇、苯甲醇、PGME、乙二醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、庚酮、二异丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烃(例如己烷、环己烷)、卤代烃(例如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烃(例如苯、甲苯、二甲苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮)、醚(例如二乙醚、二氧六环、四氢呋喃)、醚醇(例如1-甲氧基-2-丙醇)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丙酯)等。 
作为上述其它成分没有特别限定，可以举出例如流平剂、有机或无机微粒、光聚合引发剂、热聚合引发剂、交联剂、固化剂、聚合促进剂、粘度调整剂、抗静电剂、抗氧化剂、防污剂、滑动剂、折射率调整剂、分散剂等。 
上述底涂层用组合物中，优选总固体成分为3%～20%。若小于3%，则有残留溶剂残留，可能会产生白化。若大于20%，则底涂层用组合物的粘度增高、涂布性降低，从而表面会出现不均或条纹，可能得不到所期望的膜厚。上述固体成分更优选为4%～10%。 
上述底涂层用组合物向上述聚酯基材的涂布可以在任意阶段实施，但优选在聚酯基材的制造过程中实施，更优选涂布至取向结晶化完成之前的聚酯基材。 
此处，结晶取向完成之前的聚酯基材包括：未拉伸膜；未拉伸膜在纵向或横向的任意一方进行取向的单轴取向膜；进一步地在纵向和横向的二个方向进行低倍数拉伸取向的膜(最终在纵向或横向进行再拉伸来完成取向结晶化之前的双向拉伸膜)等。其中，优选对未拉伸膜或在单方向进行取向的单向拉伸膜涂布上述底涂层用组合物的水性涂液，在该状态下施以纵向拉伸和/或横向拉伸以及热固定。 
将上述底涂层用组合物涂布至聚酯基材时，优选对聚酯基材表面施以电晕表面处理、火焰处理、等离子体处理等物理处理作为用于提高涂布性的预处理，或者优选将底涂层用组合物和与其化学惰性表面活性剂一起进行合用。 
作为上述底涂层用组合物的涂布方法，能够适用公知的任意涂布法。例如，可以单独或组合使用辊涂法、凹版印刷法、辊刷法、喷涂法、气刀涂布法、浸渍法、幕涂法等。需要说明的是，涂膜可以根据需要仅在聚酯基材的单面形成，也可以在两面形成。即，如图2所示，本发明的光学层积体20可以在聚酯基材21的两面形成底涂层22，在该底涂层22的与聚酯基材21侧呈相反侧的各个面上可以形成硬涂层23。另外，图2为示意性示出本发明光学层积体的另一示例的截面图。 
进一步地，本发明的光学层积体可以在上述聚酯基材的一个面上形成上述第1光学层积体中的底涂层、在另一个面上形成上述第2光学层积体中的底涂层，这种情况下，在上述第1光学层积体底涂层的与聚酯基材侧相反一侧的面上形成后述第1光学层积体中的硬涂层、在上述第2光学层积体底涂层的与聚酯基材侧相反一侧的面上形成后述第2光学层积体中的硬涂层。 
本发明的光学层积体在上述底涂层上形成有硬涂层。 
上述硬涂层为保证本发明光学层积体表面的硬涂性的层，例如优选为使用硬涂层用组合物形成的层，该硬涂层用组合物含有作为借助紫外线而固化的树脂的电离射线固化型树脂与光聚合引发剂。 
在本发明的光学层积体中，作为上述电离射线固化型树脂，可以举出例如具有丙烯酸酯系官能团的化合物等具有1个或2以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，可以举出例如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，可以举出例如多羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等以及利用环氧乙烷(EО)等对它们进行了改性的多官能化合物；或者上述多官能化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应生成物(例如多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯)等。需要说明的是，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”指的是甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯。 
除上述化合物之外，也可以使用具有不饱和双键的分子量较低(数均分子量为300～8万、优选为400～5000)的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等作为上述电离射线固化型树脂。需要说明的是，这种情况下的树脂包括单体以外的二聚物、低聚物、聚合物的全部。 
作为本发明中优选的化合物，可以举出具有3个以上不饱和键的化合物。在使用这样的化合物时，可提高所形成的硬涂层的交联密度、可使涂膜硬度良好。 
具体地说，在本发明中，优选适当组合使用季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯多官能丙烯酸酯低聚物(3～15官能)、氨基甲酸酯多官能丙烯酸酯低聚 物(3～15官能)等。 
上述电离射线固化型树脂也可以与溶剂干燥型树脂(热塑性树脂等，仅通过使在涂布时为调整固体成分而添加的溶剂干燥就能够形成覆膜的树脂)合用来进行使用。通过合用溶剂干燥型树脂，可有效防止涂布面的覆膜缺陷。作为能够与上述电离射线固化型树脂合用而进行使用的溶剂干燥型树脂没有特别限定，通常可使用热塑性树脂。 
作为上述热塑性树脂没有特别限定，可以举出例如苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素的树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、有机硅系树脂和橡胶或弹性体等。上述热塑性树脂优选为非结晶性、且可溶于有机溶剂(特别是可溶解多种聚合物或固化性化合物的通用溶剂)中。从成膜性、透明性、耐候性的方面出发，特别优选苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、脂环式烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。 
另外，上述硬涂层形成用组合物也可以含有热固性树脂。 
作为上述热固性树脂没有特别限定，可以举出例如酚树脂、脲树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-脲醛共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。 
作为上述光聚合引发剂没有特别限定，可以使用公知的物质，例如，作为上述光聚合引发剂，其具体例可以举出苯乙酮类、二苯甲酮类、米氏苯甲酰苯甲酸酯(ミヒラーベンゾイルベンゾエート)、α-阿米罗基酯(α-amyloxim ester，α-アミロキシムエステル)、噻吨酮类、苯丙酮类、苯偶酰类、苯偶姻类、酰基氧化膦类。并且，优选混合使用光敏剂，作为其具体例，可以举出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。 
作为上述光聚合引发剂，在上述电离射线固化型树脂为具有自由基聚合性不饱和基团的树脂系的情况下，优选单独或混合使用苯乙酮类、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲醚等。另外，在上述电离射线固化型树脂为具有阳离子聚合性官能团的树脂系的情况下，作为上述光聚合引发剂，优选单独或以混合物的形式使用芳香族重氮盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、茂金属化合物、苯偶姻磺酸酯等。 
作为本发明中使用的引发剂，在树脂为具有自由基聚合性不饱和基团的电离射线固化型树脂的情况下，出于与电离射线固化型树脂的相容性、以及黄变也较少的理由， 优选1-羟基环己基苯基酮。 
相对于上述电离射线固化型树脂100质量份，上述硬涂层用组合物中的上述光聚合引发剂的含量优选为1质量份～10质量份。这是由于，若小于1质量份，则无法使第1本发明的光学层积体中的硬涂层的硬度处于上述的范围；若大于10质量份，则电离射线无法达到所涂设的膜的深部，未能促进内部固化，目标硬涂层表面的铅笔硬度可能达不到3H以上。 
上述光聚合引发剂含量的更优选下限为2质量份，更优选上限为8质量份。通过使上述光聚合引发剂的含量处于该范围，在膜厚方向不会产生硬度分布，容易呈均匀的硬度。 
上述硬涂层形成用组合物也可以含有溶剂。 
作为上述溶剂，可以根据所用树脂成分的种类和溶解性进行选择来使用，可示例出例如酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等)、醚类(二氧六环、四氢呋喃、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇类(乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、乙酸溶纤剂类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可以为它们的混合溶剂。 
在本发明中，出于与树脂的相容性、涂布性优异的原因，特别优选含有作为酮系溶剂的甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮的任意一种、或它们的混合物。 
作为上述硬涂层用组合物中的原料含有比例(固体成分)没有特别限定，通常优选为5质量%～70质量%、特别优选为25质量%～60质量%。 
在上述硬涂层用组合物中，为了提高硬涂层的硬度、抑制固化收缩、防止粘连、控制折射率、赋予防眩性、改变颗粒或硬涂层表面的性质等，也可以添加现有公知的有机/无机微粒、分散剂、表面活性剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、粘接赋予剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂等。 
另外，上述硬涂层用组合物可以混合光敏剂进行使用，作为其具体例，可以举出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦(ポリ-n-ブチルホソフィン)等。 
作为上述硬涂层用组合物的制备方法，只要可将各成分均匀混合就没有特别限 定，例如可使用涂料摇摆器、珠磨机、捏合机、混合器等公知的装置来进行。 
另外，作为将上述硬涂层用组合物涂布在上述底涂层上的方法没有特别限定，可以举出例如旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、苯胺印刷法、丝网印刷法、液滴(ピード)涂布法等公知的方法。 
本发明的光学层积体中，上述硬涂层的折射率(nh)与上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny<nh<nx的关系。本发明的光学层积体中，硬涂层相对于聚酯基材的折射率具有上述关系；同时第1本发明的光学层积体中，底涂层具有如上所述的特定折射率(np)；第2本发明的光学层积体中，如上所述，底涂层极薄；因而均可适宜地防止干涉条纹的发生。 
需要说明的是，上述硬涂层的折射率(nh)和底涂层的折射率(np)均存在于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之间的第1本发明的光学层积体中，上述硬涂层的折射率(nh)与底涂层的折射率(np)之差小，这意味着这些层之间事实上不存在折射率差。通过使上述硬涂层的折射率(nh)与底涂层事实上不存在折射率(np)之差，该硬涂层与底涂层的界面处的反射受到抑制，其结果，可适当地防止干涉条纹的发生。需要说明的是，上述硬涂层的折射率(nh)与底涂层事实上不存在折射率(np)之差指的是上述硬涂层的折射率(nh)与底涂层的折射率(np)之差的绝对值(｜nh-np｜)为0.05以下的情况。 
另外，本发明第2方面的光学层积体中，上述硬涂层的折射率(nh)相对于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)满足上述关系，但为更接近于上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)的情况下，该硬涂层具有更高的折射率，因而，在将第2本发明的光学层积体用于后述的触摸屏的情况下，由于与在最外表面形成的ITO等电极的折射率接近，因而有利于该电极图案的不可视化。 
另外，上述硬涂层的折射率(nh)为上述聚酯基材慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)的中间的值、或者为更接近于上述聚酯基材快轴方向的折射率(ny)的值的情况下，第2本发明的光学层积体的干涉条纹防止性能极为优异。 
本发明光学层积体中的这种硬涂层优选使用上述硬涂层用组合物中含有高折射率微粒的高折射率硬涂层用组合物来形成。通过含有上述高折射率微粒，可使上述硬涂层的折射率相对于上述聚酯基材的折射率具有上述关系。 
作为上述高折射率微粒，例如可适当使用折射率为1.50～2.80的金属氧化物微粒 等。作为上述金属氧化物微粒，具体地说，可以举出例如：二氧化钛(TiO2、折射率：2.71)、氧化锆(ZrO2、折射率：2.10)、氧化铈(CeO2、折射率：2.20)、氧化锡(SnO2、折射率：2.00)、锑锡氧化物(ATO、折射率：1.75～1.95)、铟锡氧化物(ITO、折射率：1.95～2.00)、磷锡化合物(PTO、折射率：1.75～1.85)、氧化锑(Sb2O5、折射率：2.04)、铝锌氧化物(AZO、折射率：1.90～2.00)、镓锌氧化物(GZO、折射率：1.90～2.00)和锑酸锌(ZnSb2O6、折射率：1.90～2.00)等。其中，氧化锡(SnO2)、锑锡氧化物(ATO)、铟锡氧化物(ITO)、磷锡化合物(PTO)、氧化锑(Sb2O5)、铝锌氧化物(AZO)、镓锌氧化物(GZO)和锑酸锌(ZnSb2O6)为导电性金属氧化物，并具有可通过控制微粒的扩散状态、形成导电通路来赋予抗静电性的优点。 
作为上述高折射率微粒的含量没有特别限定，例如，可以利用添加至硬涂层用组合物中的树脂成分的固化物与预先测定了折射率值的加重平均来适宜调整与其它成分的关系，以使所形成的硬涂层的折射率满足上述关系。 
作为将上述硬涂层用组合物涂布在上述底涂层上的方法没有特别限定，可以举出例如旋涂法、凹版印刷法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、苯胺印刷法、丝网印刷法、液滴涂布机法等公知的方法。 
对于在上述底涂层上涂布上述硬涂层用组合物而形成的涂膜，优选根据需要进行加热和/或干燥、通过活性能量射线照射等进行固化。 
作为上述活性能量射线照射，可以举出利用紫外线或电子射线进行的照射。作为上述紫外线源的具体例，可以举出例如超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、黑光荧光灯、金属卤化物灯等光源。并且，作为紫外线的波长，可以使用190nm～380nm的波段。作为电子射线源的具体例，可以举出考克罗夫特-瓦尔顿(Cockcroft-Walton)型、范德格里夫特(バンデグラフト)型、共振变压器型、绝缘芯变压器型、或者直线型、地那米(Dynamitron)型、高频型等各种电子射线加速器。 
需要说明的是，上述硬涂层的优选膜厚(固化时)为0.5μm～100μm、更优选为0.8μm～20μm，出于卷曲防止性能、裂纹防止性能特别优异的原因，最优选为2μm～10μm的范围。上述硬涂层的膜厚为利用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)对截面进行观察、测定任意10点而得到的平均值(μm)。对于硬涂层的膜厚，作为其它方法，还可以使用厚度测定装置Mitutoyo社制造的Digimatic Indicator IDF-130对任意10点进行测定，求出平均值。 
通过使上述硬涂层用组合物中含有抗静电剂，可以对上述硬涂层赋予抗静电性能。
作为上述抗静电剂，可以使用现有公知的物质，例如可以使用季铵盐等阳离子性抗静电剂、锡掺杂氧化铟(ITO)等微粒、导电性聚合物等。 
使用上述抗静电剂的情况下，相对于全部固体成分的总质量，其含量优选为1质量%～30质量%。 
另外，本发明的光学层积体优选在上述硬涂层上进一步具有低折射率层。 
作为上述低折射率层，优选由下述物质中的任意一种构成：1)含有二氧化硅(シリカ)或氟化镁的树脂；2)作为低折射率树脂的氟系树脂；3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系树脂；4)二氧化硅或氟化镁薄膜；等等。关于氟系树脂以外的树脂，可以使用与上述粘合剂树脂同样的树脂。 
另外，上述二氧化硅优选为中空二氧化硅微粒，这样的中空二氧化硅微粒例如可利用日本特开2005-099778号公报的实施例中所记载的制造方法来进行制作。 
这些低折射率层的折射率为1.47以下、特别优选为1.42以下。 
另外，对于低折射率层的厚度并无限定，通常在10nm～1μm左右的范围内进行适宜设定即可。 
作为上述氟系树脂，可以使用在分子中至少含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作为聚合性化合物没有特别限定，例如优选具有借助电离射线而固化的官能团、可发生热固化的极性基团等固化反应性基团。并且也可以为同时具有这些反应性基团的化合物。相对于该聚合性化合物，所谓聚合物为完全不具有上述反应性基团等的物质。 
作为上述具有借助电离射线而固化的官能团的聚合性化合物，可以广泛使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体地说，可以示例出氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的物质，还有2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯这样的在分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；在分子中具有至少具有3个氟原子的碳原子数为1～14的氟代烷基、 氟代环烷基或氟代亚烷基，并具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。 
作为上述可发生热固化的极性基团，优选例如为羟基、羧基、氨基、环氧基等氢键形成性基团。它们不仅与涂膜的密合性优异，与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。作为具有热固化性极性基团的聚合性化合物，可以举出例如：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃系乙烯基醚共聚物；环氧、聚氨酯、纤维素、苯酚、聚酰亚胺等各树脂的氟改性物等。 
作为上述同时具有借助电离射线而固化的官能团与可发生热固化的极性基团的聚合性化合物，可以示例出：丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和完全氟代烷基酯、亚烷基酯、芳基酯类；完全或部分氟化的乙烯基醚类；完全或部分氟化的乙烯基酯类；完全或部分氟化的乙烯基酮类等。 
并且，作为氟系树脂，例如可举出下述物质。 
含有至少一种的具有上述电离射线固化性基团的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的单体或单体混合物的聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的至少一种与(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已基酯之类的在分子中不含有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之类的含氟单体的均聚物或共聚物等。也可以使用通过使这些共聚物中含有有机硅成分而得到的含有机硅的偏二氟乙烯共聚物。作为这种情况下的有机硅成分，可示例出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅酮、苯基甲基硅酮、烷基·芳烷基改性硅酮、氟硅酮、聚醚改性硅酮、脂肪酸酯改性硅酮、甲基氢硅氧烷、含硅烷醇基的硅酮、含烷氧基的硅酮、含苯酚基的硅酮、甲基丙烯酸改性硅酮、丙烯酸改性硅酮、氨基改性硅酮、羧酸改性硅酮、甲醇改性硅酮、环氧改性硅酮、巯基改性硅酮、氟改性硅酮、聚醚改性硅酮等。其中优选具有二甲基硅氧烷结构。 
进一步地，含有以下化合物的非聚合物或聚合物也可作为氟类树脂使用。即，可以使用：在分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物与在分子中具有至少1个氨基、羟基、羧基之类的可与异氰酸酯基反应的官能团的化合物发生反应而得到的化合 物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性多元醇之类的含氟多元醇与具有异氰酸酯基的化合物发生反应而得到的化合物等。 
此外，也可以将上述记载的各粘合剂树脂与上述具有氟原子的聚合性化合物或聚合物一同进行混合来使用。进一步地，可以适宜使用用于使反应性基团等固化的固化剂；用于提高涂布性或赋予防污性的各种添加剂；溶剂。 
上述低折射率层的形成中，优选使添加低折射率剂和树脂等而成的低折射率层用组合物的粘度处于可获得优选涂布性的0.5mPa·s～5mPa·s(25℃)、优选为0.7mPa·s～3mPa·s(25℃)的范围。其可实现可见光线的优异抗反射层，且可均匀地形成没有涂布不均的薄膜，并且可形成密合性特别优异的低折射率层。 
树脂的固化手段可以与后述硬涂层中的固化手段相同。为了进行固化处理而采用加热手段的情况下，优选向氟系树脂组合物中添加热聚合引发剂，该热聚合引发剂通过加热、例如产生自由基来引发聚合性化合物的聚合。 
作为本发明的光学层积体的制造方法，例如，利用上述方法在聚酯基材上形成底涂层，在底涂层上形成硬涂层用涂膜，根据需要进行干燥，之后使上述硬涂层用涂膜固化，形成硬涂层。并且可根据需要利用公知的方法在上述硬涂层上形成上述低折射率层，从而来制造本发明的光学层积体。 
另外，作为上述硬涂层用涂膜的干燥方法没有特别限定，通常可在30℃～120℃下进行3秒～120秒干燥。 
作为使上述硬涂层用涂膜的固化方法，可以根据构成成分适当选择公知的方法。例如，若所含有的粘合剂树脂成分为紫外线固化型，即可通过对涂膜照射紫外线来进行固化。 
在上述照射紫外线的情况下，紫外线照射量优选为80mJ/cm2以上、更优选为100mJ/cm2以上、进一步优选为130mJ/cm2以上。 
对于本发明的光学层积体，其硬度在基于JIS K5600-5-4(1999)的铅笔硬度试验(负荷4.9N)中优选为HB以上、更优选为H以上。 
另外，本发明光学层积体的全光线透过率优选为80%以上。若小于80%，则在装配于图像显示装置中的情况下，可能会损害色彩再现性和可见性，并且有可能得不到所期望的对比度。上述全光线透过率更优选为90%以上。 
上述全光线透过率可使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，制品编号；HM-150)、 通过基于JIS K-7361的方法进行测定。 
并且，本发明光学层积体的雾度优选为1%以下。若大于1%，则得不到所期望的光学特性，在将本发明的光学层积体设置于图像显示表面时的可见性会降低。 
上述雾度可使用雾度计(村上色彩技术研究所制造，制品编号；HM-150)、通过基于JIS K-7136的方法进行测定。 
另外，下述的偏振片也是本发明之一：该偏振片为具备偏振元件的偏振片，其特征在于，在上述偏振元件的表面具备贴合聚酯基材等而成的本发明的光学层积体。 
作为上述偏振元件没有特别限定，例如可以使用经碘等染色并进行了拉伸的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏振元件和本发明的硬涂膜的层积处理中，优选对透光性基材进行皂化处理。通过皂化处理，使粘接性变好。 
使用了本发明这样的光学层积体的本发明的偏振片中，上述光学层积体优选按照上述聚酯基材的慢轴与后述的偏振元件(配置在液晶盒的可见侧的偏振元件)吸收轴所成的角度为0°±30°或90°±30°的方式进行配设。通过使上述聚酯基材的慢轴与偏振片的吸收轴所成的角度处于上述范围内，可以极高程度地抑制使用本发明偏振片的液晶显示装置的显示图像中产生彩虹斑。该理由尚不明确，但据推测是基于以下理由。 
即，在没有外部光线或荧光灯的光的环境下(以下也将这样的环境称为“暗处”)，不论本发明光学层积体的聚酯基材的慢轴与偏振片的吸收轴所成的角度为任何角度，均可抑制彩虹斑的发生。但是，在存在外部光线或荧光灯的光的环境下(以下也将这样的环境称为“明处”)，由于外部光线或荧光灯的光并非仅为具有连续宽光谱的光，因而若聚酯基材的慢轴与偏振元件的吸收轴所成的角度并未处于上述范围，则会产生彩虹斑、显示品质会降低。 
进一步推测，由于液晶显示装置中的透过滤色器的背光源的光也并非仅具有连续宽光谱，因而若聚酯基材的慢轴与偏振元件的吸收轴所成的角度并未处于上述范围，则会产生彩虹斑、显示品质会降低。 
本发明还涉及具备上述光学层积体或上述偏振片的图像显示装置。上述图像显示装置可以举出LCD、PDP、FED、ELD(有机EL、无机EL)、CRT、触摸屏、电子纸、平板电脑(タブレットPC)等。 
上述LCD具备透过性显示体以及从背面对上述透过性显示体进行照射的光源装 置。本发明的图像显示装置为LCD的情况下，在该透过性显示体的表面形成有本发明的光学层积体或本发明的偏振片。 
本发明为具有上述光学层积体的液晶显示装置的情况下，光源装置的光源由光学层积体的下侧(基材侧)进行照射。另外，在STN型的液晶显示装置中，可以在液晶显示元件与偏振片之间插入相位差板。该液晶显示装置的各层间可以根据需要设有接合剂层。 
上述PDP具备表面玻璃基板和背面玻璃基板，该背面玻璃基板是与该表面玻璃基板对置、并在之间封入放电气体来进行配置的。本发明的图像显示装置为PDP的情况下，在上表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上具备上述光学层积体。 
其它图像显示装置可以为ELD装置或CRT等图像显示装置，ELD装置是在玻璃基板上蒸镀施加电压时会发光的硫化锌、二胺类物质等发光体并控制施加至基板的电压来进行显示的装置；CRT是将电信号转换为光，产生人眼可见的图像的装置。这种情况下，在上述各显示装置的表面或其前面板的表面上具备上述光学层积体。 
在所有情况下，本发明的光学层积体均可用于电视机、计算机等的显示屏显示。特别是可以合适地用于液晶面板、PDP、ELD、触摸屏、电子纸等高精细图像用显示屏的表面。 
其中，本发明的光学层积体可合适地用于触摸屏中。这种使用了本发明的光学层积体的触摸屏也是本发明之一。 
即，本发明的触摸屏为使用了本发明的光学层积体的触摸屏，其特征在于，在上述光学层积体硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设置有不可见电极。 
此处，对于触摸屏来说，根据位置检测的方法来分类，通常已知有光学方式、超声波方式、静电容量方式、电阻膜方式等。 
上述电阻膜方式的触摸屏呈下述结构：透明导电性膜与带有透明导电体层的玻璃隔着间隔物而对向配置，电流在透明导电性膜中流通，对带有透明导电体层的玻璃中的电压进行计测。另外，静电容量方式的触摸屏以在基材上具有透明导电层的结构为基本构成，其特征在于，没有可动部分；由于具有高耐久性、高透过率，因而适用于液晶表示显示屏、移动电话和车载用显示屏等中。 
上述触摸屏中，有时对透明导电体层进行图案化。但是，若对上述透明导电体层 进行图案化，则在图案部与非图案化部中，由于构成透明导电体层的材料通常为高折射率，因而图案部与非图案部的折射率差等的差异呈明确化，从而会从显示画面中见到图案部分，不仅会损伤作为显示屏的外观，还会损伤显示画面的可见性。 
特别是在静电容量方式的触摸屏中，由于透明导电体层用于入射表面侧，因而其影响较强，即使是在对透明导电体层进行图案化的情况下，也优选为按照其图案不会从显示画面中观察到的方式进行了不可视化的不可见电极。 
需要说明的是，上述不可见电极为层积有光学功能层的状态的电极，该光学功能层的层积使得透明导电体层的电极图案无法从显示画面侧中辨认出，作为其构成，可以举出依序层积高折射率层、低折射率层和透明导电体层的构成。对于这种构成的不可见电极，可通过在后述范围对上述高折射率层和低折射率层的折射率与膜厚进行组合来进行不可视化，并按照上述透明导电体层在上述硬涂层显示画面侧表面处于最外表面的方式来进行层积。 
本发明的触摸屏设置有上述不可见电极，特别优选为静电容量方式的触摸屏。 
并且，本发明的光学层积体为在聚酯基材的两面形成有底涂层和硬涂层而成的构成的情况下，本发明的触摸屏中，对于上述不可见电极，在该光学层积体的至少一个硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设有不可见电极。这种构成的触摸屏也是本发明之一。 
图3为示意性示出本发明触摸屏的一例的截面图。 
图3所示的本发明的触摸屏30中，本发明的光学层积体在聚酯基材31的两面形成有底涂层32、在该底涂层32的与各自聚酯基材31侧相反侧的面上形成有硬涂层33。并且，本发明这样的光学层积体中，隔着粘合层300进行2层层积(下文中，也将显示画面侧的光学层积体称为上层光学层积体、将另一侧的光学层积体称为下层光学层积体)。进一步地，上层光学层积体和下层光学层积体分别在显示画面侧的硬涂层33的面上层积有不可见电极34。该不可见电极34从硬涂层33侧依序层积有高折射率层35、低折射率层36和透明导电体层37。 
本发明这样的触摸屏30隔着粘合层300而层积有下层光学层积体的不可见电极34以及与上层光学层积体的显示画面侧相反一侧的硬涂层33。 
另外，层积在与上层光学层积体硬涂层33的底涂层32侧相反侧的不可见电极34隔着粘合层38设置有盖玻片39，该盖玻片39构成最外表面。 
另外，图4为示意性示出本发明触摸屏的另一例的截面图。 
如图4所示，本发明的触摸屏40在聚酯基材41的两面形成底涂层42，在底涂层42的与各自聚酯基材41侧相反侧的面上形成硬涂层43，进一步在该硬膜43的与底涂层42侧相反一侧的面上形成不可见电极44。该不可见电极44自硬涂层43侧依序层积高折射率层45、低折射率层46和透明导电体层47。并且，在显示画面侧的不可见电极44上隔着粘合层48设有盖玻片49，该盖玻片49构成最外表面。 
需要说明的是，作为图3和图4中的粘合层300、38和48以及盖玻片39、49没有特别限定，可以使用与公知的触摸屏中使用的粘合层和盖玻片相同的粘合层和盖玻片。并且，上述盖玻片也可以为塑料膜。 
另外，图3和图4所示的本发明的触摸屏中，均使用了在聚酯基材的两面形成了底涂层和硬涂层的本发明的光学层积体，但在本发明的光学层积体为在聚酯基材的两面形成了底涂层和硬涂层的层积体的情况下，本发明的触摸屏并不限于图3和图4所示的构成。 
上述构成的不可见电极例如可通过基于气相法(化学气相法：CVD；物理气相法：PVD)的涂布或基于液相法的涂布进行层积来形成。 
上述不可见电极中，优选上述高折射率层的折射率为1.67～1.85、膜厚为20nm～80nm，且上述低折射率层的折射率为1.40～1.50、膜厚为20nm～80nm。在这些范围内对上述高折射率层和低折射率层的折射率和膜厚进行适宜组合，使用可对上述透明电极层进行不可视化的组合即可。另外，所谓高折射率指的是高于作为高折射率层之下的层的硬涂层的折射率，所谓低折射率指的是低于作为低折射率层之下的层的高折射率层的折射率。 
通过基于气相法的涂布来层积形成上述不可见电极的情况下，作为上述高折射率层，可以使用折射率为1.67～2.50的层。 
另一方面，通过基于液相法的涂布来层积形成上述不可见电极的情况下，对于上述高折射率层和低折射率层的材料没有特别限定，可以通过选择适当的涂布方法对于将平均1次粒径为10nm～100nm的高折射率超微粒或低折射率超微粒与有机溶剂或分散剂等添加剂一起均匀分散在粘合剂基质中而成的组合物进行涂布、并干燥、固化(热固化、UV固化、EB固化)而得到。 
此外，也可以不使用上述高折射率超微粒而使用粘合剂树脂自身为高折射率树脂 或低折射率树脂的化合物来作为组合物。 
作为上述粘合剂基质，只要为可充分保持膜强度的化合物就没有特别限定，例如为具有可因热以及UV、EB而发生反应的反应性基团的化合物。作为这样的化合物，例如优选在分子中至少具有3个以上乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等可聚合的不饱和键的丙烯酸系化合物；或通过溶胶凝胶反应而发生固化的材料。作为上述通过溶胶凝胶反应而发生固化的材料，可以举出例如R’x Si(OR)4-x(R：烷基；R’：在末端具有乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等可聚合不饱和键的官能团；x为0<x<4的取代数)所表示的化合物及其水解物等。 
并且，作为上述粘合剂，优选为与上述硬涂层的材料相同的化合物，例如特别优选作为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物的PETA、PETTA、DPPA、DPHA、TMPTA等。 
作为上述高折射率超微粒，优选为折射率高且为无色或几乎未着色的金属氧化物超微粒，可以使用在硬涂层的高折射率化中所使用的材料。其中，可适当使用TiO2(折射率：2.71)、ZrO2(折射率：2.10)、Nb2O5(折射率：2.33)、Ta2O5(折射率：2.16)，由于可使透明导电体层图案不可视化、且涂膜的透明性、耐久性等良好，特别优选ZrO2颗粒、ATO颗粒。 
上述低折射率层的材料可与将本发明的光学层积体制成反射防止膜的情况下进行层积的低折射率层同样。 
作为上述透明导电体层的构成材料没有特别限定，例如使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨组成的组中的至少一种金属的金属氧化物。根据需要，该金属氧化物可进一步含有上述组中所示出的金属原子。例如优选使用含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有锑的氧化锡(ATO)等。 
对于上述透明导电体层的厚度并无特别限制，为将其制成表面电阻为1×103Ω/□以下的具有良好导电性的连续覆膜，需要有某种程度的膜厚，但若膜厚过厚，则会招致透明性的降低等，因而上述厚度的优选下限为15nm、优选上限为45nm，更优选的下限为20nm、更优选的上限为30nm。若厚度小于15nm，则表面电阻增高、且难以制成连续覆膜。并且，若大于45nm，则会招致透明性的降低等。 
作为上述透明导电体层的形成方法没有特别限定，可以采用现有公知的方法。具体地说，可以示例出例如真空蒸镀法、溅射法、离子镀法。另外，也可对应于所需要 的膜厚而采取适当的方法。 
需要说明的是，在上述低折射率层上形成上述透明导电体层后，可根据需要在100℃～150℃的范围内施以退火处理来进行结晶化。 
本发明中，上述透明导电体层优选进行蚀刻而使之图案化。在上述透明导电体层进行结晶化时，有时难以进行蚀刻，因而优选在对该透明导电体层进行图案化之后来进行上述透明导电体层的退火化处理。进一步地，在对上述高折射率层和低折射率层进行蚀刻的情况下，优选在该高折射率层和低折射率层的蚀刻之后进行透明导电体层的退火化处理。 
【发明的效果】 
本发明的光学层积体由上述构成而形成，因而聚酯基材与硬涂层的密合性优异、并可高程度地抑制液晶显示装置的显示图像中发生彩虹斑和干涉条纹。因此，本发明的光学层积体可适当地用于阴极线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、电子纸、平板电脑等的显示屏中，特别是可适当地用于高精细化显示屏中。 
【附图说明】
图1是示意性示出本发明光学层积体的一例的截面图。 
图2是示意性示出本发明光学层积体的另一例的截面图。 
图3是示意性示出本发明触摸屏的一例的截面图。 
图4是示意性示出本发明触摸屏的另一例的截面图。 
【具体实施方式】
通过下述的实施例对本发明的内容进行说明，但并不解释为将本发明的内容限定于这些实施方式中。另外，只要没有特别限定，“份”和“%”为质量基准。 
另外，对于底涂层和硬涂层的折射率，使用分光光度计(岛津制作所社制造的UV-3100PC)测定波长380nm～780nm的平均反射率(R)，使用下式，由所得到的平均反射率(R)求出折射率(n)的值。对于底涂层和硬涂层的平均反射率，在未经易粘接处理的50μm PET上涂布各原料组合物，制成1μm～3μm厚度的固化膜，为防止背面反射，在PET的未涂布面(背面)粘贴宽度大于测定位点面积的黑色聚氯乙烯绝缘带(例 如，Yamato聚氯乙烯绝缘带NO200-38-2138mm宽)，之后测定涂膜的平均反射率。 
R(%)=(1-n)2/(1+n)2
对于聚酯基材的折射率，使用二片偏振片，求出聚酯基材的取向轴向(主轴的方向)，利用阿贝折射率计(Atago社制造NAR-4T)来求出相对于取向轴向正交的二个轴的折射率(nx、ny)。 
在实施例中，是利用该方法来测定折射率的，但在光学层积体的情况下，也可利用上述的贝克法进行测定。 
另外，硬涂层干燥固化后的膜厚测定也可以通过截面观察进行测定，此处，可简单地使用厚度测定装置Mitutoyo社制造的Digimatic Indicator IDF-130对任意的10个点进行测定，求出平均值。 
另外，底涂层的膜厚是利用TEM照片对光学层积体的截面进行观察来求得的。 
另外，实施例和比较例中使用的材料如下。 
粘合剂成分(1)：日本化药社制造的多官能丙烯酸酯、商品名KAYARAD-PET-30(PETA(季戊四醇三丙烯酸酯：3官能) 
粘合剂成分(2)：东亚合成社制造的多官能低聚物、商品名Aronix M-9050(聚酯丙烯酸酯、3官能以上、数均分子量400～5000) 
粘合剂成分(3)：共荣社化学工业社制造的商品名LINC-3A(氟单体) 
高折射率微粒分散液(1)：CIKNano Tek社制造的TiO2微粒的水分散液、商品名二氧化钛浆料(固体成分20%分散液) 
高折射率微粒分散液(2)：住友大阪水泥社制造的ZrO2微粒的MEK分散液、商品名MZ-230X(固体成分30%分散液) 
低折射率微粒：中空二氧化硅微粒的MIBK分散液(平均一次粒径50nm、固体成分20%、空隙率40%) 
光聚合引发剂(1)：BASF社制造的商品名Irgacure 184 
光聚合引发剂(2)：BASF社制造的商品名Irgacure 127 
防污剂：信越化学工业社制造的X-22-164E(反应性有机硅系防污剂) 
溶剂(1)：甲基乙基酮(简称：MEK) 
溶剂(2)：甲苯 
溶剂(3)：环己酮(简称：Anon) 
溶剂(4)：甲基异丁基酮(简称：MIBK) 
(底涂层用组合物、硬涂层用组合物和低折射率层用组合物的制备) 
通过配合如下所示的组成成分，由此来分别制备底涂层用组合物、硬涂层用组合物和低折射率层用组合物。 
(底涂层用组合物1) 
聚酯树脂的水分散体        20.7质量份 
高折射率微粒分散液(1)     9.1质量份 
水                        70.2质量份 
(底涂层用组合物2) 
聚酯树脂的水分散体        28.0质量份 
水                        72.0质量份 
(硬涂层用组合物1) 
Figure BDA00002454997600291
(硬涂层用组合物2) 
Figure BDA00002454997600292
(硬涂层用组合物3) 
Figure BDA00002454997600293
(低折射率层用组合物) 
Figure BDA00002454997600301
(不可视化用高折射率层用组合物) 
Figure BDA00002454997600302
(不可视化用低折射率层用组合物) 
Figure BDA00002454997600303
(实施例1) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具(フィルム形成ダイ)，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数4.5倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物1。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.5倍进行拉伸，得到延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.65、膜厚为100nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物1，在70℃下进行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来，使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。 
另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例2) 
使用硬涂层用组合物3来代替硬涂层用组合物1，除此之外，与实施例1同样地制造光学层积体。另外，硬涂层的折射率为1.61。 
(实施例3) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数5.2倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物2。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.2倍进行拉伸，得到延迟=9000nm、膜厚=60μm、nx=1.73、ny=1.58、Δn=0.15的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.57、膜厚为20nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物1，在70℃下进行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。 
另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例4) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数3.5倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物1。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.5倍进行拉伸，得到延迟=8750nm、膜厚=125μm、nx=1.685、ny=1.615、Δn=0.07的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.65、膜厚为300nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物1，在70℃下进 行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。 
另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例5) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数5.2倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物1。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.2倍进行拉伸，得到延迟=9000nm、膜厚=60μm、nx=1.73、ny=1.58、Δn=0.15的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.65、膜厚为300nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物1，在70℃下进行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。 
另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例6) 
使用底涂层用组合物2来代替底涂层用组合物1，除此之外，与实施例1同样地制造光学层积体。 
另外，聚酯基材的延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10，底涂层的折射率为1.57、膜厚为20nm。并且硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例7) 
使用硬涂层用组合物3来代替硬涂层用组合物1、使底涂层的膜厚为10nm，除此之外，与实施例6同样地制造光学层积体。另外，硬涂层的折射率为1.61。 
(实施例8) 
利用与实施例6相同的条件来形成聚酯基材、底涂层和硬涂层，接下来，在该硬涂层上使用刮条涂布机来涂布低折射率层用组合物，形成涂膜。与硬涂层同样地对该涂膜进行干燥、紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为100nm的低折射率层，制造具有低折射率层的光学层积体。 
(实施例9) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数3.5倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物2。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.5倍进行拉伸，得到延迟=8750nm、膜厚=125μm、nx=1.685、ny=1.615、Δn=0.07的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.57、膜厚为20nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物1，在70℃下进行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。 
另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例10) 
使用底涂层用组合物2来代替底涂层用组合物1，除此之外，与实施例1同样地制造光学层积体。 
另外，聚酯基材的延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10，底涂层的折射率为1.57、膜厚为3nm。并且硬涂层的折射率为1.65。 
(实施例11) 
使用底涂层用组合物2来代替底涂层用组合物1，除此之外，与实施例1同样地制造光学层积体。 
另外，聚酯基材的延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10，底涂层的折射率为1.57、膜厚为30nm。并且硬涂层的折射率为1.65。 
(比较例1) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数4.5倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物2。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.5倍进行拉伸，得到延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.57、膜厚为100nm。 
其后，利用与实施例1相同的条件形成硬涂层，制造光学层积体。另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(比较例2) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在120℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于120℃以拉伸倍数4.5倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底层涂料组合物2。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.5倍进行拉伸，得到延迟=10000nm、膜厚=100μm、nx=1.70、ny=1.60、Δn=0.10的聚酯基材。另外，底涂层的折射率为1.57、膜厚为20nm。 
其后，在所形成的底涂层上利用刮条涂布机涂布硬涂层用组合物2，在70℃下进行1分钟干燥，除去溶剂，形成涂膜。 
接下来使用紫外线照射装置〔Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2对该涂膜进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为6.0μm的硬涂层，制造光学层积体。另外，硬涂层的折射率为1.52。 
(比较例3) 
作为聚酯基材，使用东洋纺社制造的PET膜“A4100”(延迟=6200nm、膜厚=188μm、Δn=0.033)，除此以外，利用与实施例1相同的涂布条件来形成底涂层和硬涂层，制造光学层积体。另外，硬涂层的折射率为1.65。 
(比较例4) 
在290℃使熔融聚对苯二甲酸乙二醇酯熔融，通过成膜模具，挤出成片状，密合在经水冷冷却的旋转急冷鼓上进行冷却，制作未拉伸膜。 
利用双向拉伸试验装置(东洋精机社制造)在150℃对该未拉伸膜进行1分钟预热后，于150℃以拉伸倍数8.0倍进行拉伸，之后在其两面利用辊涂机均匀涂布底涂层用组合物1。 
接下来，使该涂布膜连续并在95℃进行干燥，在与其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍数1.0倍进行拉伸，得到延迟=12500nm、膜厚=50μm、nx=1.80、ny=1.55、Δn=0.025的聚酯基材。 
但是，采用上述条件制备的基材发生膜的开裂、破损，缺乏实用性，无法进行硬膜组合物的涂布，未能进行评价。 
(比较例5) 
除了使底涂层的膜厚为40nm以外，采用与实施例7相同的条件制造光学层积体。 
(比较例6) 
除了使底涂层的膜厚为1nm以外，采用与实施例7相同的条件制造光学层积体。 
对于实施例和比较例中得到的光学层积体，进行以下评价。结果列于表1。 
(彩虹斑评价) 
将实施例、比较例中制作的光学层积体配置在液晶监视器(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社制造))观察者侧的偏振元件上，制作液晶显示装置。需要说明的是，将光学层积体按照聚酯基材的慢轴与液晶监视器观察者侧的偏振元件的吸收轴所成的角度为0°的方式进行配置。 
并且，在暗处和明处(液晶监视器周边照度400lux)，从正面和斜向方向(约50度)，通过目视和隔着偏振光太阳镜进行显示图像的观察，按照以下基准对彩虹斑的有无进行评价。隔着偏振光太阳镜的观察相比于目视为非常严格的评价法。观察由10人进行，将数目最多的评价作为观察结果。 
◎：隔着偏振光太阳镜未观察到彩虹斑。 
○：隔着偏振光太阳镜观察到了彩虹斑，但较淡；通过目视未观察到彩虹斑，为实际使用上没有问题的水平。 
△：隔着偏振光太阳镜观察到了彩虹斑，通过目视也观察到了非常淡的彩虹斑。 
×：隔着偏振光太阳镜观察到了强烈的彩虹斑，目视也观察到了彩虹斑。 
(干涉条纹的评价) 
使用Funatec社制造的干涉条纹检査灯(Na灯)，通过目视检查干涉条纹的有无，按照下述基准进行评价。对于样品，利用黑油墨涂满涂布面的相反侧，利用干涉条纹检査灯照射涂布面，通过反射观察进行评价。 
◎：未发现干涉条纹的发生。 
○：观察到了干涉条纹，但极淡，为实际使用上没有问题的水平。 
△：观察到了较淡的干涉条纹。 
×：清楚地观察到了干涉条纹。 
(密合性的评价) 
进行如下所示棋盘格密合性试验的密合率测定。 
(棋盘格密合性试验) 
在光学层积体的涂布面侧使其以1mm见方具有合计100目的棋盘格，使用Nichiban社制造的工业用24mm Cellotape(注册商标)进行5次连续剥离试验，求得按下述基准计算出的未剥离而残留的方格(マス目)的比例。 
密合率(%)=｛未剥离的方格数/合计方格数(100)｝×100 
○：密合率为90%以上。 
×：密合率小于90%。 
(反射率的测定) 
反射率的测定使用日本分光社制造的商品名V7100型紫外可见分光光度计和日本分光社制造的商品名VAR-7010绝对反射率测定装置，使入射角为5°、偏振光器为N偏振光、测定波长范围为380nm～780nm，在与加工面相反侧(逆側)的聚酯基材侧贴合用于防止背面反射的黑色聚氯乙烯绝缘带(例如，Yamato聚氯乙烯绝缘带NO200-38-2138mm宽)，将其设于装置进行测定。另外，将在测定波长范围求得的测定结果的平均值作为反射率，对设置有低折射率层的光学层积体进行测定。 
【表1】 
    彩虹斑   干涉条纹   密合性   反射率(%)
  实施例1   ◎   ◎   ○   -
  实施例2   ◎   ◎   ○   -
  实施例3   ◎   ◎   ○   -
  实施例4   ○   ◎   ○   -
  实施例5   ◎   ◎   ○   -
  实施例6   ◎   ◎   ○   -
  实施例7   ◎   ○   ○   -
  实施例8   ◎   ◎   ○   0.7
  实施例9   ○   ◎   ○   -
  实施例10   ◎   ◎   ○   -
  实施例11   ◎   ○   ○   -
  比较例1   ◎   ×   ○   -
  比较例2   ◎   ×   ○   -
  比较例3   ×   ◎   ○   -
  比较例4   -   -   -   -
  比较例5   ◎   ×   ○   -
  比较例6   ◎   ◎   ×   -
由表1可知，实施例1～11的光学层积体在彩虹斑评价方面优异，干涉条纹也得到了适当的抑制，并且密合性也优异。另外，在实施例7中，由于硬涂层的折射率(nh)与聚酯基材快轴方向的折射率(ny)之差(nh-ny)较小，为0.01，因而干涉条纹的评价稍差。另外，在实施例8中，层积了作为对折射率进行控制的层的低折射率层，反射防止特性也优异。并且，实施例4和9中，聚酯基材的延迟为8750nm，与其它实施例比较，该值较小，因而彩虹斑评价稍差。另外，与实施例10的底涂层厚度(3nm)相比，实施例11中的底涂层厚度(30nm)较厚，该底涂层的厚度对干涉条纹的防止带来影响，使其稍差。另外，比较例1、2的光学层积体中，尽管彩虹斑的评价良好，但有干涉条纹发生；比较例3的光学层积体中，尽管干涉条纹得到抑制，但观察到强烈的彩虹斑。对于比较例4的聚酯基材，基材本身发生开裂、破损，缺乏实用性。比较例5中，底涂层的膜厚在本发明的范围之外，观察到了干涉条纹。比较例6中，底涂层的膜厚较薄、密合性欠缺。
(参考例1) 
除了使照射至硬涂层用组合物的涂膜的紫外线照射量为50mJ/cm2以外，与实施例1同样地制造层积了折射率为1.65的硬涂层的光学层积体。 
接下来，使用刮条涂布机在该硬涂层上涂布不可视化用高折射率层用组合物，在 60℃下对该涂膜进行1分钟干燥除去溶剂后，使用Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)以照射量50mJ/cm2进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为45nm、折射率为1.70的高折射率层。 
然后，使用刮条涂布机在该高折射率层上涂布不可视化用低折射率层用组合物，在60℃下对该涂膜进行1分钟干燥除去溶剂后，使用Fusion UV Systems Japan社制造：H VALVE(商品名)以照射量100mJ/cm2进行紫外线照射，形成干燥固化后的膜厚为45nm、折射率为1.46的低折射率层。 
随后，在含有氩气97%与氧气3%的0.4Pa的气氛中，使用氧化铟97重量%、氧化锡3重量%的烧结体材料，通过反应性溅射法在该低折射率层上形成厚度为30nm的ITO膜(折射率1.95)，从而得到透明导电体层，形成不可见电极。 
(ITO膜的利用蚀刻进行的图案化) 
在所得到的透明导电体层上涂布图案化为条纹状的光致抗蚀剂，干燥固化后，于25℃在5%的盐酸(氯化氢水溶液)中浸渍1分钟，进行ITO膜的蚀刻。其后除去光致抗蚀剂。 
(透明导电体层的基于退火处理的结晶化) 
进行上述ITO膜的图案化后，在140℃对上述光学层积体进行90分钟的加热处理，进行ITO膜的结晶化。 
通过该处理得到良好的耐化学药品性等物性。 
由此得到具有经图案化的不可见电极的光学层积体。 
(参考例2) 
与实施例1同样地制造层积有硬涂层的光学层积体。 
接下来，与参考例1同样地在该硬涂层上仅层积形成由ITO膜构成的透明导电体层。接下来，进行ITO膜的利用蚀刻的图案化与透明导电体层的结晶化处理，得到具有透明导电体层的光学层积体。 
(电极的不可见性评价) 
对于参考例中得到的光学层积体，按以下方法目视评价透明导电体层是否为不可视化。 
需要说明的是，由于透明导电体层的图案具有如下两种情况，因而对两状态进行双重检查(ダブルチェック)，所述情况为：在荧光灯下的明室中，在显示屏电源关闭的状态下，在背景为黑画面的状态下可通过反射光见到图案的情况；以及在显示屏电源开启的状态下，在白画面状态下可通过透过光见到图案的情况。 
(评价方法) 
(1)反射光评价：在荧光灯(Panasonic社制造32W FHF32EX-n·NU)下的房间中，按照透明导电体层侧朝上的方式将其置于黑板上(距离荧光灯为1.5m的位置)，从距离光学层积体为30cm的位置对反射光进行目视观察，对图案部与非图案部是否为不可视化进行评价。 
(2)透过光评价：在荧光灯下的房间中，在距离荧光灯(Panasonic社制造32WFHF32EX-n·NU)为1.5m的位置，按照透过光学层积体对荧光灯进行观察的方式来配置该光学层积体，目视观察光学层积体的透过光，对图案部与非图案部是否为不可视化进行评价。评价基准如下。 
○：在(1)、(2)两方的评价中未目视观察到图案部与非图案部，为不可视化。 
×：(1)、(2)的任意一方或两方的评价中可清楚分辨出图案部和非图案部。 
其结果，在参考例1的光学层积体中，不可见电极发挥功能，评价为○；在参考例2中，并非是不可见电极的构成，因而清楚地见到了透明导电体层的图案，评价为×。 
【工业实用性】 
本发明的光学层积体可适当地用于阴极线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、触摸屏、电子纸、平板电脑等的显示屏中，特别是可适当地用于高精细化显示屏中。 
【符号的说明】 
10、20光学层积体 
11、21、31、41聚酯基材 
12、22、32、42底涂层 
13、23、33、43硬涂层 
30、40触摸屏 
34、44不可见电极 
35、45高折射率层 
36、46低折射率层 
37、47透明导电体层 
38、48、300粘合层 
39、49盖玻片。 

Claims (10)

1.一种光学层积体，其为在聚酯基材上形成底涂层、在所述底涂层上形成硬涂层的光学层积体，该光学层积体的特征在于：
所述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率nx与快轴方向的折射率ny之差nx-ny为0.07～0.20，所述慢轴方向为折射率大的方向，所述快轴方向为与所述慢轴方向正交的方向；
所述底涂层的折射率np与所述聚酯基材的慢轴方向的折射率nx和快轴方向的折射率ny具有ny<np<nx的关系；
所述硬涂层的折射率nh与所述聚酯基材的慢轴方向的折射率nx和快轴方向的折射率ny具有ny<nh<nx的关系。
2.一种光学层积体，其为在聚酯基材上形成底涂层、在所述底涂层上形成硬涂层的光学层积体，该光学层积体的特征在于：
所述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率nx与快轴方向的折射率ny之差nx-ny为0.07～0.20，所述慢轴方向为折射率大的方向，所述快轴方向为与所述慢轴方向正交的方向；
所述底涂层的厚度为3nm～30nm；
所述硬涂层的折射率nh与所述聚酯基材的慢轴方向的折射率nx和快轴方向的折射率ny具有ny<nh<nx关系。
3.如权利要求2所述的光学层积体，其中，聚酯基材的快轴方向的折射率ny与底涂层的折射率np具有ny>np的关系。
4.如权利要求3所述的光学层积体，其中，聚酯基材的快轴方向的折射率ny与底涂层的折射率np之差ny-np为0.05以下。
5.如权利要求2、3或4所述的光学层积体，其中，聚酯基材的慢轴方向的折射率nx与硬涂层的折射率nh之差nx-nh以及所述硬涂层的折射率nh与所述聚酯基材的快轴方向的折射率ny之差nh-ny均为0.025以上。
6.如权利要求1、2、3、4或5所述的光学层积体，其中，在聚酯基材的两面形成有底涂层和硬涂层。
7.一种偏振片，其为通过具备偏振元件而成的偏振片，该偏振片的特征在于，在所述偏振元件的表面具备权利要求1、2、3、4、5或6所述的光学层积体。
8.一种图像显示装置，其特征在于，该图像显示装置具备权利要求1、2、3、4、5或6所述的光学层积体、或具备权利要求7所述的偏振片。
9.一种触摸屏，其为采用了权利要求1、2、3、4或5所述的光学层积体的触摸屏，该触摸屏的特征在于，在所述光学层积体的硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设置有不可见电极。
10.一种触摸屏，其为采用了权利要求6所述的光学层积体的触摸屏，该触摸屏的特征在于，在所述光学层积体的至少一个硬涂层的与底涂层侧相反一侧的表面上设置有不可见电极。
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