WO2014001569A1 - Molecule sensor that can be integrated into a mobile terminal - Google Patents

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WO2014001569A1
WO2014001569A1 PCT/EP2013/063835 EP2013063835W WO2014001569A1 WO 2014001569 A1 WO2014001569 A1 WO 2014001569A1 EP 2013063835 W EP2013063835 W EP 2013063835W WO 2014001569 A1 WO2014001569 A1 WO 2014001569A1
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island
nano
drain
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nanometers
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PCT/EP2013/063835
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French (fr)
Inventor
Abdelkader Souifi
Vincent Aimez
Dominique Drouin
Jean-Pierre Cloarec
Original Assignee
Institut National Des Sciences Appliquees De Lyon
Universite Claude Bernard Lyon 1
Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs)
Ecole Centrale De Lyon
Universite De Sherbrooke
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Abstract

The present invention concerns a device for detecting target molecules comprising a source (21) and a drain (22) extending on a substrate (10), and an island (23) between the source (21) and the drain (22), the island (23) forming a tunnel junction between the source (21) and the drain (22), characterised in that the device further comprises a nano-object (40) extending at right angles to the island (23), the nano-object (40) being functionalised to sense at least one target molecule.

Description

CAPTEUR DE MOLECULE INTEGRABLE DANS UN TERMINAL MOBILE  INTEGRABLE MOLECULE SENSOR IN A MOBILE TERMINAL
DOMAINE DE L'INVENTION FIELD OF THE INVENTION
La présente invention concerne le domaine technique général des circuits de commutation à semi-conducteur, tels que des transistors à un électron (SET) basés par exemple sur le mécanisme de blocage de Coulomb.  The present invention relates to the general technical field of semiconductor switching circuits, such as one-electron transistors (SETs) based for example on the Coulomb blocking mechanism.
L'invention trouve notamment mais non limitativement application dans la réalisation de composants de type capteur de gaz, comme des capteurs chimiques ou biologique intégrables sur les nouvelles générations de téléphones mobiles.  The invention finds particular but not limited to application in the production of gas sensor type components, such as chemical or biological sensors integrable on the new generations of mobile phones.
ARRIERE PLAN DE L'INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION
L'évolution des technologies de l'information et des communications (TIC) a permis le développement de nouvelles générations de téléphones mobiles fonctionnant sur des réseaux radiofréquence conventionnels, 3G ou WiFi par exemple. Ces objets du quotidien permettent, au-delà des communications téléphoniques, d'accéder à différents services via Internet.  The evolution of information and communication technologies (ICT) has enabled the development of new generations of mobile phones operating on conventional radio frequency networks, 3G or WiFi, for example. These everyday objects make it possible, beyond telephone communications, to access various services via the Internet.
Grâce à l'intégration de capteurs GPS, de capteurs de mouvement, de capteurs de son ou encore de capteurs d'images, ces téléphones permettent également de nouvelle fonctionnalité pour la navigation, l'audio, la vidéo et bien d'autres applications.  Thanks to the integration of GPS sensors, motion sensors, sound sensors and image sensors, these phones also allow new functionality for navigation, audio, video and many other applications.
Ces évolutions sont notamment liées à l'augmentation des capacités mémoire de ces téléphones qui permet le stockage de logiciels dédiés à ces applications.  These developments are notably related to the increase of memory capacity of these phones which allows the storage of software dedicated to these applications.
Toutefois, on note que certains de ces capteurs consomment beaucoup d'énergie au détriment de l'autonomie des téléphones.  However, we note that some of these sensors consume a lot of energy at the expense of the autonomy of phones.
Par ailleurs à l'heure actuelle, il n'existe pas de téléphone comprenant un capteur permettant d'enregistrer un goût ou une odeur.  Moreover, at present, there is no telephone comprising a sensor for recording a taste or smell.
Un but de la présente invention est de proposer un capteur basse- consommation permettant de capter un goût ou une odeur avec une grande sensibilité (de l'ordre de quelque ppm), notamment pour son utilisation dans un terminal mobile tel qu'un téléphone portable.  An object of the present invention is to provide a low-consumption sensor for capturing a taste or smell with a high sensitivity (of the order of some ppm), especially for use in a mobile terminal such as a mobile phone .
Un autre but de la présente invention est de proposer un procédé permettant l'obtention d'un tel capteur. Plus généralement, un but de la présente invention concerne la fourniture d'un composant de commutation à semi-conducteur basse consommation et de son procédé de fabrication associé. BREVE DESCRIPTION DE L'INVENTION Another object of the present invention is to provide a method for obtaining such a sensor. More generally, an object of the present invention is to provide a low power semiconductor switching component and its associated manufacturing method. BRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION
A cet effet, l'invention propose un dispositif de détection de molécule cible comprenant une source et un drain s'étendant sur un substrat, et un ilot entre la source et le drain, l'ilot formant une double jonction tunnel entre la source et le drain, remarquable en ce que le dispositif comprend en outre un nano-objet s'étendant au droit de l'ilot, le nano-objet étant fonctionnalisé pour capter au moins une molécule ciblée.  For this purpose, the invention proposes a target molecule detection device comprising a source and a drain extending on a substrate, and an island between the source and the drain, the island forming a double tunnel junction between the source and the the drain, remarkable in that the device further comprises a nano-object extending to the right of the island, the nano-object being functionalized to capture at least one targeted molecule.
Il sera entendu dans la suite que lorsqu'une couche A est mentionnée comme étant « sur » une couche B, celle-ci peut être directement sur la couche B, ou peut être située au-dessus de la couche B et séparée de ladite couche B par une ou plusieurs couches intermédiaires.  It will be understood in the following that when a layer A is mentioned as being "on" a layer B, it may be directly on the layer B, or may be located above the layer B and separated from said layer B by one or more intermediate layers.
Il sera également entendu que lorsqu'une couche A est mentionnée comme étant « sur » une couche B, celle-ci peut couvrir toute la surface de la couche B, ou une portion de ladite couche B.  It will also be understood that when a layer A is referred to as being "on" a layer B, it may cover the entire surface of the layer B, or a portion of said layer B.
La réalisation d'un dispositif tel que décrit ci-dessus permet l'obtention d'un capteur de goût ou d'odeur autonome, compact et facilement intégrable dans un téléphone.  The realization of a device as described above allows to obtain an autonomous sensor of taste or smell, compact and easily integrated into a phone.
Des aspects préférés mais non limitatifs du dispositif selon l'invention sont les suivants :  Preferred but non-limiting aspects of the device according to the invention are the following:
- le nano-objet peut être un nano-fil, de préférence de diamètre compris entre 50 et 100 nanomètres,  the nano-object may be a nano-wire, preferably having a diameter of between 50 and 100 nanometers,
- le nano-objet peut s'étendre verticalement ou horizontalement au droit de l'ilot, the nano-object can extend vertically or horizontally to the right of the island,
- les dimensions de l'îlot peuvent être les suivantes: - The dimensions of the island can be as follows:
o la longueur de l'ilot peut être comprise entre 30 et 70 nanomètre, de préférence égale à 50 nanomètres,  the length of the island can be between 30 and 70 nanometers, preferably equal to 50 nanometers,
o la largeur de l'ilot peut être comprise entre 10 et 30 nanomètres, de préférence égale à 20 nanomètres, o l'épaisseur de l'ilot peut être comprise entre 1 et 10 nanomètres, de préférence égale à 5 nanomètres ; the width of the island can be between 10 and 30 nanometers, preferably equal to 20 nanometers, the thickness of the island may be between 1 and 10 nanometers, preferably equal to 5 nanometers;
- la distance séparant l'ilot et la source et l'ilot et le drain peut être comprise entre 1 et 10 nanomètres.  - The distance between the island and the source and the island and the drain may be between 1 and 10 nanometers.
L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un dispositif de détection de molécule cible, remarquable en ce qu'il comprend les étapes suivantes :  The invention also relates to a method for manufacturing a target molecule detection device, characterized in that it comprises the following steps:
- la formation sur un substrat tel que du silicium, d'une source, d'un drain et d'un ilot entre la source et le drain, pour former un transistor mono-électron,  forming on a substrate such as silicon, a source, a drain and an island between the source and the drain, to form a single-electron transistor,
- la formation d'un nano-objet tel qu'un nano-fil au droit de l'ilot,  the formation of a nano-object such as a nanowire at the right of the island,
- la fonctionnalisation du nano-objet pour permettre la capture d'au moins une molécule ciblée.  the functionalization of the nano-object to allow the capture of at least one targeted molecule.
Des aspects préférés mais non limitatifs du dispositif selon l'invention sont les suivants :  Preferred but non-limiting aspects of the device according to the invention are the following:
- l'étape de formation de la source, du drain et de l'ilot peut comprendre le dépôt d'une couche isolante électriquement sur le substrat et la formation de la source, du drain et de l'ilot dans la couche isolante électriquement ;  the step of forming the source, the drain and the island may comprise the deposition of an electrically insulating layer on the substrate and the formation of the source, the drain and the island in the electrically insulating layer;
- le procédé peut comprendre en outre, préalablement à l'étape de formation du nano-objet, une étape de dépôt d'une couche isolante sur la source, le drain et l'ilot ;  the method may further comprise, prior to the step of forming the nano-object, a step of depositing an insulating layer on the source, the drain and the island;
- l'étape de formation du nano-objet peut comprendre :  the step of forming the nano-object may comprise:
o l'introduction du transistor mono-électron dans une chambre de croissance,  o the introduction of the mono-electron transistor into a growth chamber,
o le dépôt d'un plot de catalyseur liquide au droit de l'ilot, et  depositing a liquid catalyst pad at the right of the island, and
o la croissance du nano-objet entre le plot de catalyseur et l'ilot par introduction d'un mélange gazeux à base de silicium dans la chambre de croissance ;  o the growth of the nano-object between the catalyst pad and the island by introducing a gaseous mixture based on silicon in the growth chamber;
- le procédé peut comprendre en outre, préalablement au dépôt du plot de catalyseur liquide, les étapes suivantes :  the process may further comprise, prior to depositing the liquid catalyst pad, the following steps:
o le dépôt d'un masque sur la source, le drain et l'ilot,  o the deposition of a mask on the source, the drain and the island,
o l'insolation du masque au-dessus de l'ilot par lithographie électronique pour créer un motif de croissance du nano-objet. L'invention concerne également un terminal mobile comprenant des moyens de communication et des moyens de traitement, remarquable en ce qu'il comprend au moins un dispositif tel que décrit ci-dessus. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS o the insolation of the mask above the island by electronic lithography to create a growth pattern of the nano-object. The invention also relates to a mobile terminal comprising communication means and processing means, remarkable in that it comprises at least one device as described above. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
D'autres avantages et caractéristiques ressortiront mieux de la description qui va suivre de plusieurs variantes d'exécution, données à titre d'exemples non limitatifs, à partir des dessins annexés sur lesquels :  Other advantages and features will become more apparent from the following description of several alternative embodiments, given by way of non-limiting examples, from the attached drawings in which:
- la figure 1 illustre schématiquement un mode de réalisation du composant selon l'invention,  FIG. 1 diagrammatically illustrates an embodiment of the component according to the invention,
- la figure 2 illustre schématiquement un réseau de composants selon l'invention, FIG. 2 schematically illustrates a network of components according to the invention,
- la figure 3 est une représentation schématique partielle du composant selon l'invention ; FIG. 3 is a partial schematic representation of the component according to the invention;
- la figure 4 illustre un exemple de procédé de fabrication du composant selon l'invention,  FIG. 4 illustrates an exemplary method of manufacturing the component according to the invention,
- la figure 5 illustre une courbe de courant électrique source/drain en fonction d'une tension électrique source/ilot,  FIG. 5 illustrates a source / drain electric current curve as a function of a source / island electrical voltage,
- la figure 6 illustre un autre exemple de procédé de fabrication du composant selon l'invention.  FIG. 6 illustrates another example of a method of manufacturing the component according to the invention.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
On va maintenant décrire différents modes de réalisation du composant selon l'invention et de son procédé de fabrication associé en référence aux figures. Dans ces différentes figures, les éléments équivalents du circuit et du procédé portent les mêmes références numériques.  Various embodiments of the component according to the invention and its associated manufacturing method will now be described with reference to the figures. In these different figures, the equivalent elements of the circuit and of the method bear the same numerical references.
Bien que l'idée d'associer un « nez électronique » aux téléphones mobiles soit déjà assez répandue, les solutions techniques permettant l'intégration d'une telle fonctionnalité se heurtent aux problèmes de consommation d'énergie.  Although the idea of associating an "electronic nose" with mobile phones is already quite widespread, the technical solutions allowing the integration of such a feature face the problems of energy consumption.
La plupart des capteurs de gaz actuels utilisent des mesures de variation de résistance ou des mesures optiques. Un inconvénient de ces capteurs est qu'ils sont actifs à des températures élevées, ce qui nécessite de fournir une énergie importante. La présente invention propose quant à elle de fournir un capteur chimique ou biologique basse consommation basé sur les nanotechnologies. Avantageusement, ce type de capteur peut fonctionner à température ambiante, et peut être intégré directement sur des puces électroniques CMOS silicium qui permettent le traitement des données. Most current gas sensors use resistance variation measurements or optical measurements. A disadvantage of these sensors is that they are active at high temperatures, which requires providing a significant amount of energy. The present invention proposes to provide a low-consumption chemical or biological sensor based on nanotechnologies. Advantageously, this type of sensor can operate at ambient temperature, and can be integrated directly on silicon CMOS electronic chips that enable data processing.
L'invention repose sur l'utilisation d'un nouveau type de capteurs permettant un comptage individuel des molécules visées. Ces capteurs utilisent une technologie associant :  The invention is based on the use of a new type of sensor allowing an individual count of the targeted molecules. These sensors use a technology combining:
- des bio-antennes nanométrique - telles que des nano-fils - pour la fonction de réception des molécules visées, et  nanoscale bio-antennas, such as nano-wires, for the reception function of the targeted molecules, and
- des transistors mono-électron (ou « SET », acronyme de l'expression anglo- saxonne « single électron transistor ») pour la transduction.  - Mono-electron transistors (or "SET", acronym for the expression "single electron transistor") for transduction.
En référence à la figure 1 , on a illustré une variante de réalisation du composant électronique selon l'invention.  Referring to Figure 1, there is illustrated an alternative embodiment of the electronic component according to the invention.
Le composant comprend un substrat 10 tel qu'un substrat de silicium. Le composant comprend également une première couche 20 isolante électriquement sur le substrat. Cette première couche isolante est par exemple une couche d'oxyde de silicium SiO2 ou d'oxyde de titane ΤΊΟ2.  The component comprises a substrate 10 such as a silicon substrate. The component also comprises a first layer 20 electrically insulating on the substrate. This first insulating layer is for example a layer of silicon oxide SiO 2 or titanium oxide ΤΊΟ 2.
Sur la première couche 20 isolante électriquement, le composant comprend une source 21 , un drain 22, et un ilot 23 entre la source 21 et le drain 22. Une première jonction tunnel est formée entre la source 21 et l 'i lot 23 et une deuxième jonction tunnel est formée entre l 'i lot 23 et le drain 22.  On the first electrically insulating layer, the component comprises a source 21, a drain 22, and an island 23 between the source 21 and the drain 22. A first tunnel junction is formed between the source 21 and the batch 23 and a second tunnel junction is formed between the i lot 23 and the drain 22.
De préférence, les surfaces de jonction tunnel entre la source 21 et l'ilot 23 d'une part et entre l'ilot 23 et le drain 22 d'autre part sont les plus petites possibles. Ceci permet de minimiser la capacité des jonctions tunnels et ainsi d'augmenter la température de fonctionnement du composant.  Preferably, the tunnel junction surfaces between the source 21 and the island 23 on the one hand and between the island 23 and the drain 22 on the other hand are the smallest possible. This makes it possible to minimize the capacity of the tunnel junctions and thus to increase the operating temperature of the component.
Plus précisément, la largeur « I » et l'épaisseur « e » :  More precisely, the width "I" and the thickness "e":
- de la face 21 1 de la source 21 en regard de l'ilot 23,  the face 21 1 of the source 21 opposite the block 23,
- de la face 231 de l'ilot 23 en regard de la source 21 ,  the face 231 of the island 23 opposite the source 21,
- de la face 232 de l'ilot 23 en regard du drain 22, et  the face 232 of the island 23 facing the drain 22, and
- de la face 221 du drain 22 en regard de l'ilot 23, sont choisies de sorte à minimiser l'aire de ces faces (cf. figure 3). the face 221 of the drain 22 opposite the block 23, are chosen so as to minimize the area of these faces (see Figure 3).
Pour ce faire, l'épaisseur « e » de chacune de ces faces peut être choisie inférieure à 10 nanomètres, préférentiellement inférieure à 5 nanomètres, et encore plus préférentiellement inférieure ou égale à 3 nanomètre. De même, la largeur « I » de ces faces peut être choisie inférieure à 100 nanomètres, préférentiellement inférieure à 50 nanomètres, et encore plus préférentiellement inférieure ou égale à 30 nanomètres.  To do this, the thickness "e" of each of these faces may be chosen less than 10 nanometers, preferably less than 5 nanometers, and even more preferably less than or equal to 3 nanometers. Similarly, the width "I" of these faces may be chosen less than 100 nanometers, preferably less than 50 nanometers, and even more preferably less than or equal to 30 nanometers.
Pour un transistor à un électron (SET) réalisé en Titane, les dimensions suivantes permettent d'obtenir un capteur fonctionnant à température ambiante et présentant une capacité totale de 0,52 aF :  For an electron transistor (SET) made of titanium, the following dimensions make it possible to obtain a sensor operating at ambient temperature and having a total capacity of 0.52 aF:
o Epaisseur du Ti : 2 nm  Thickness of Ti: 2 nm
o Largeur des lignes de Ti : 20 nm  o Width of Ti lines: 20 nm
o Distance source/îlot et îlot/source : 8 nm avec du TiOx  o Source / island and island / source distance: 8 nm with TiOx
o Longueur de l'îlot : 50 nm  o Island length: 50 nm
o Distance îlot/nano-objet : 20 nm avec Si02  Island / nano-object distance: 20 nm with Si02
o Surface nano-objet/îlot : 50 nm x 20 nm  o Nano-object / island surface: 50 nm x 20 nm
Ces dimensions permettent d'obtenir une capacité source/îlot et drain/îlot de 0,17 aF ainsi qu'une capacité îlot/nano-objet de 0,17 aF.  These dimensions make it possible to obtain a source source / island and drain / island of 0.17 aF as well as an island / nano-object capacity of 0.17 aF.
Avec une capacité totale de 0,52 aF, l'énergie de charge vaut 309 meV, ce qui est largement suffisant pour un fonctionnement à T° ambiante.  With a total capacity of 0.52 aF, the charge energy is 309 meV, which is more than enough for room temperature operation.
En effet, l'énergie de charge (q/CTotal) de l'îlot est préférentiellement prévue supérieure à l'énergie thermique kT (en pratique, on peut choisir par exemple Ec > 10 kT, soit Ec > 260 meV) pour permettre un fonctionnement du capteur à température ambiante T. L'homme du métier appréciera que la capacité totale de l'îlot « CTotal » correspond à la somme des capacités îlot/source, îlot/drain et îlot/grille (le nano-objet fonctionnalisé servant de grille dans le cas du capteur représenté à la figure 1.  Indeed, the charge energy (q / CTotal) of the island is preferably higher than the thermal energy kT (in practice, it is possible for example to choose Ec> 10 kT, ie Ec> 260 meV) to allow a operation of the sensor at room temperature T. Those skilled in the art will appreciate that the total capacity of the "CTotal" island corresponds to the sum of the island / source, island / drain and island / gate capacitors (the functionalised nano-object serving as the grid in the case of the sensor shown in Figure 1.
Dans le mode de réalisation illustré à la figure 1 , la distance « d » entre la source 21 et l 'i lot 23 est égale à la distance « d' » entre I* i lot 23 et le drain 22. Cette distance « d » est comprise entre 2 et 10 nm, notamment en fonction du diélectrique choisi. Par exemple, la distance « d » peut être comprise entre 2 et 3 nm lorsque le matériau constituant le diélectrique est du Si02. La distance « d » peut être comprise entre 6 et 10 nm lorsque le matériau constituant le diélectrique est du TiOx. L'ilot 23 est par exemple en titane. Les dimensions de l 'i lot 23 peuvent être variables. A titre d'exemple non limitatif, la longueur « L » et la largeur « I » de l'ilot 23 peuvent être comprises entre 10 et 100 nanomètres. Toutefois, la longueur « L » et la largeur « I » de l'ilot 23 sont de préférence supérieures à 10 nanomètres pour faciliter le positionnement d'un nano-fil 40 au droit de l'ilot 23. Dans le mode de réalisation illustré à la figure 1 , l'ilot 23 a une longueur de 50 nanomètres, une largeur de 20 nanomètres et une épaisseur de 5 nanomètres. In the embodiment illustrated in Figure 1, the distance "d" between the source 21 and the lot 23 i is equal to the distance "d '' between I * i Lot 23 and the drain 22. This distance" d Is between 2 and 10 nm, in particular depending on the dielectric chosen. For example, the distance "d" may be between 2 and 3 nm when the material constituting the dielectric is SiO 2. The distance "d" can be between 6 and 10 nm when the material constituting the dielectric is TiOx. The island 23 is for example titanium. The dimensions of batch 23 can be variable. By way of non-limiting example, the length "L" and the width "I" of the island 23 may be between 10 and 100 nanometers. However, the length "L" and the width "I" of the island 23 are preferably greater than 10 nanometers to facilitate the positioning of a nano-wire 40 to the right of the island 23. In the illustrated embodiment in Figure 1, the island 23 has a length of 50 nanometers, a width of 20 nanometers and a thickness of 5 nanometers.
Le composant comprend également une deuxième couche 30 isolante électriquement sur l'ilot 23. Cette couche permet un couplage capacitif entre l'ilôt 23 et le nano-objet 40.  The component also comprises a second layer 30 electrically insulating on the island 23. This layer allows a capacitive coupling between the island 23 and the nano-object 40.
Enfin, le composant comprend un nano-objet 40 sur la deuxième couche isolante 30. Ce nano-objet 40 forme une antenne pour la détection de molécules. Le nano-objet est par exemple un nano-fil métallique ou un nano-fil de silicium de diamètre compris entre 50 et 100 nanomètres.  Finally, the component comprises a nano-object 40 on the second insulating layer 30. This nano-object 40 forms an antenna for the detection of molecules. The nano-object is for example a metal nano-wire or a nano-silicon wire with a diameter of between 50 and 100 nanometers.
On entend, dans le cadre de la présente invention, par « nano-objet », un corps dont au moins une des dimensions (longueur, diamètre, épaisseur) est de l'ordre du nanomètre, c'est-à-dire inférieure à 500 nanomètres et préférentiellement inférieure à 100 nanomètres.  In the context of the present invention, the term "nano-object" is intended to mean a body of which at least one of the dimensions (length, diameter, thickness) is of the order of one nanometer, that is to say less than 500 nanometers and preferably less than 100 nanometers.
Avantageusement, le nano-fil 40 s'étend horizontalement ou verticalement au droit de l'ilot 23. En d'autres termes, le nano-fil 40 s'étend sur la deuxième couche isolante 30 au-dessus de l'ilot 23, l'axe longitudinal A-A' du nano-fil 40 passant par l'ilot 23.  Advantageously, the nano-wire 40 extends horizontally or vertically to the right of the island 23. In other words, the nano-wire 40 extends over the second insulating layer 30 above the island 23, the longitudinal axis AA 'of the nano-wire 40 passing through the island 23.
Le fait que le nano-fil 40 s'étende verticalement au droit de l'ilot 23 présente de nombreux avantages. Notamment, cette configuration verticale permet de faciliter la détection de certaines molécules par rapport à une configuration horizontale.  The fact that the nano-wire 40 extends vertically to the right of the island 23 has many advantages. In particular, this vertical configuration makes it easier to detect certain molecules with respect to a horizontal configuration.
Le nano-fil 40 est fonctionnalisé en utilisant un procédé de fonctionnalisation connu de l'homme du métier. Cette fonctionnalisation permet d'augmenter la compatibilité chimique et/ou biologique du nano-fil 40 avec une molécule ciblée. Cette fonctionnalisation induit la création de clés 41 aptes à capturer la molécule ciblée 42. La création de clés 41 sur le nano-fil 40 permet l'obtention d'une antenne apte à reconnaître de façon ciblée un type de molécule particulier. Le principe de fonctionnement du composant illustré à la figure 1 est le suivant. Une molécule 42 est captée par une clé 41 du nano-fil 40. Cette capture d'une molécule 42 par le nano-fil 40 donne lieu à un échange de charges électriques (arrivées ou départ d'électrons) entre la molécule 42 et le nano-fil 40 formant antenne. La variation du potentiel du nano-objet consécutive de l'échange de charge induit une variation de charge de l'îlot du transistor à un électron. Le transistor à un électron - composé notamment de la source 21 , du drain 22 et de l 'i lot 23 - permet alors le comptage des molécules d'intérêt par comptage de charges électriques individuelles. Nano-wire 40 is functionalized using a functionalization method known to those skilled in the art. This functionalization makes it possible to increase the chemical and / or biological compatibility of the nano-thread 40 with a targeted molecule. This functionalization induces the creation of keys 41 capable of capturing the target molecule 42. The creation of keys 41 on the nano-wire 40 makes it possible to obtain an antenna capable of specifically recognizing a particular type of molecule. The operating principle of the component illustrated in Figure 1 is as follows. A molecule 42 is captured by a key 41 of the nano-wire 40. This capture of a molecule 42 by the nano-wire 40 gives rise to an exchange of electric charges (arrivals or departure of electrons) between the molecule 42 and the nano-wire 40 forming an antenna. The variation of the potential of the nano-object resulting from the charge exchange induces a charge variation of the island of the transistor with an electron. The one-electron transistor - composed in particular of the source 21, the drain 22 and the batch 23 - then allows the counting of the molecules of interest by counting individual electric charges.
En pratique, les mesures de la tension électrique VDs entre la source et le drain d'une part et du courant électrique IDS entre la source et le drain d'autre part permettent de déterminer le nombre d'électrons échangés et donc le nombre de molécules captées. En effet, VDs et lDs varient en fonction du nombre de charges dans l'ilot, comme illustré à la figure 5. In practice, the measurements of the electrical voltage V D s between the source and the drain on the one hand and the electrical current ID S between the source and the drain on the other hand make it possible to determine the number of electrons exchanged and therefore the number of molecules captured. Indeed, V D s and l D s vary according to the number of loads in the island, as shown in Figure 5.
Par exemple si l'on suppose que :  For example if we assume that:
- lorsque l'on ajoute un électron, la courbe du courant lDs en fonction de la tension- when adding an electron, the curve of the current l D s as a function of the voltage
Vis se décale d'une différence AV de 50 millivolts, et que Screw is shifted by an AV difference of 50 millivolts, and that
- chaque clé échange un électron avec une molécule captée,  each key exchanges an electron with a captured molecule,
Alors un décalage AVde 150 millivolts implique que 3 molécules ont été captées.  Then an offset of 150 millivolts implies that 3 molecules were captured.
Cette sensibilité dépend de la capacité de couplage entre l'îlot et le nano-objet. En référence à la figure 2, on a illustré une matrice 50 comprenant une pluralité de composants 60 tels que le composant illustré à la figure 1. Chaque composant 60 peut être fonctionnalisé pour reconnaître :  This sensitivity depends on the coupling capacity between the island and the nano-object. With reference to FIG. 2, there is illustrated a matrix 50 comprising a plurality of components 60 such as the component illustrated in FIG. 1. Each component 60 can be functionalized to recognize:
- soit un même type de molécule,  - the same type of molecule,
- soit un type différent de molécules.  - a different type of molecules.
L'utilisation d'un réseau de composants 60 formant capteurs avec différentes fonctionnalisations permet de disposer d'une puce de capteurs chimiques (ou d'une bio-puce électronique) permettant le dosage de plusieurs espèces chimiques et/ou biologiques de façon séquentielle ou simultanée.  The use of a network of components 60 forming sensors with different functionalizations makes it possible to have a chip of chemical sensors (or a bio-chip) allowing the determination of several chemical and / or biological species sequentially or simultaneously.
En variante, la mise en réseau d'une pluralité de capteurs fonctionnalisés à la détection d'une même molécule permet d'augmenter la sensibilité à une même espèce de la matrice ainsi obtenue. Le composant selon l'invention présente de nombreux avantages, notamment par rapport à un biocapteur composé d'un transistor MOS et d'un nano-fil s'étendant horizontalement entre la source et le drain dudit transistor MOS. In a variant, the networking of a plurality of functionalized sensors to the detection of the same molecule makes it possible to increase the sensitivity to the same species of the matrix thus obtained. The component according to the invention has many advantages, especially with respect to a biosensor composed of a MOS transistor and a nano-wire extending horizontally between the source and the drain of said MOS transistor.
En particulier, l'usage d'un transistor mono-électron permet d'obtenir un capteur électronique de plus grande sensibilité. L'emploi d'un transistor mono-électron permet également de limiter la consommation d'énergie du composant selon l'invention. Enfin, la présence d'un nano-fil s'étendant verticalement au droit de I* i lot permet de faciliter la fabrication du composant selon l'invention, notamment en évitant les difficultés liées à la connexion d'un nano-fil entre une source et un drain (qui nécessite la réalisation de bons contacts ohmiques entre le nano-fil, la source et le drain). In particular, the use of a single-electron transistor makes it possible to obtain an electronic sensor of greater sensitivity. The use of a mono-electron transistor also limits the power consumption of the component according to the invention. Finally, the presence of a nano-wire extending vertically I * i lot right facilitates component fabrication according to the invention, in particular by avoiding the difficulties associated with connecting a nanowire between a source and a drain (which requires the realization of good ohmic contacts between the nano-wire, the source and the drain).
On va maintenant décrire un exemple de procédé de fabrication du circuit illustré à la figure 1.  An example of a method of manufacturing the circuit illustrated in FIG. 1 will now be described.
Dans une étape du procédé, on crée un transistor mono-électron (ou « SET» acronyme de l'expression anglo-saxonne « single électron transistor ») par toute technique connue de l'homme du métier telle que le procédé décrit dans le document WO01/1 1689.  In one step of the method, a single-electron transistor (or "SET") is created by any technique known to those skilled in the art such as the method described in the document. WO01 / 1689.
Une première couche 20 isolante électriquement est formée sur un substrat 10 de silicium (étape 100). Cette première couche isolante 20 peut être formée par oxydation du substrat 10 de silicium pour obtenir une première couche isolante 20 d'oxyde de silicium (SiO2).  A first electrically insulating layer 20 is formed on a silicon substrate 10 (step 100). This first insulating layer 20 may be formed by oxidation of the silicon substrate 10 to obtain a first insulating layer 20 of silicon oxide (SiO2).
Une source 21 , un drain 22, et un ilot 23 sont formés (étape 200) dans la première couche isolante 20, l 'i lot 23 étant disposé entre la source 21 et le drain 22.  A source 21, a drain 22, and a block 23 are formed (step 200) in the first insulating layer 20, the batch 23 being disposed between the source 21 and the drain 22.
Une fois le transistor mono-électron fabriqué, on dépose une deuxième couche 30 isolante électriquement sur l'ilot 23 (étape 300). De préférence, la deuxième couche isolante 30 a une épaisseur comprise entre 5 et 10 nm.  Once the mono-electron transistor has been manufactured, a second electrically insulating layer 30 is deposited on the island 23 (step 300). Preferably, the second insulating layer 30 has a thickness of between 5 and 10 nm.
On forme ensuite un nano-fil 40 au droit de l'ilot 23 du transistor mono-électron. Next, a nano-wire 40 is formed in line with the island 23 of the mono-electron transistor.
On dépose un masque sur la deuxième couche isolante 30. Ce masque est insolé au-dessus de l'ilot 23 en utilisant une technique de lithographie électronique (également connue sous le nom de « lithographie à faisceau d'électron ») pour créer un motif de croissance du nano-fil. L'utilisation d'une technique de lithographie électronique permet de faciliter l'alignement du nano-fil sur l'ilot. On réalise ensuite une croissance VLS (sigle de l'expression « Vapeur-Liquide- Solide ») pour former le nano-fil 40. Elle se fait au moyen d'un catalyseur liquide à travers lequel les atomes de la phase vapeur sont absorbés et diffusent vers le la deuxième couche isolante. La nucléation se produit à l'interface entre le catalyseur liquide et la deuxième couche isolante. A mask is deposited on the second insulating layer 30. This mask is insulated above the island 23 using an electronic lithography technique (also known as "electron beam lithography") to create a pattern nano-wire growth. The use of an electronic lithography technique makes it easier to align the nano-wire on the island. Then VLS (acronym for the expression "Vapor-Liquid-Solid") is formed to form nano-wire 40. It is made by means of a liquid catalyst through which the atoms of the vapor phase are absorbed and diffuse towards the second insulating layer. Nucleation occurs at the interface between the liquid catalyst and the second insulating layer.
Un plot de catalyseur liquide 70 est déposé sur la deuxième couche isolante 30 au droit de l'ilot 23 (étape 400). Plus précisément, le plot de catalyseur liquide 70 est déposé sur le motif obtenu par lithographie électronique. Le catalyseur liquide 70 peut être de l'or, du platine, du cobalt ou tout autre catalyseur liquide connu de l'homme du métier. L'utilisation d'or ou de cobalt en tant que catalyseur liquide présente l'avantage de limiter la température de fabrication du nano-fil (environ 500°C) et donc de limiter les risques de dégradation du transistor mono-électron.  A liquid catalyst pad 70 is deposited on the second insulating layer 30 to the right of the island 23 (step 400). More specifically, the liquid catalyst pad 70 is deposited on the pattern obtained by electronic lithography. The liquid catalyst 70 may be gold, platinum, cobalt or any other liquid catalyst known to those skilled in the art. The use of gold or cobalt as a liquid catalyst has the advantage of limiting the manufacturing temperature of the nanowire (approximately 500 ° C.) and thus of limiting the risks of degradation of the mono-electron transistor.
Une fois le plot de catalyseur liquide 70 déposé, un mélange gazeux - par exemple de SiH4 - est appliqué. Le plot de catalyseur liquide 70 se sature et on observe une cristallisation de Silicium sous le plot de catalyseur liquide 70, c'est-à-dire entre le catalyseur liquide et la deuxième couche isolante électriquement (étape 500).  Once the liquid catalyst block 70 has been deposited, a gaseous mixture - for example of SiH4 - is applied. The liquid catalyst pad 70 becomes saturated and a crystallization of silicon is observed under the liquid catalyst pad 70, that is to say between the liquid catalyst and the second electrically insulating layer (step 500).
Ceci induit la création d'un nano-fil 40 de silicium, de diamètre nanométrique (i.e. compris entre 1 et 900 nm) et de longueur sans contrainte définie en fonction de l'application visée.  This induces the creation of a nano-wire 40 of silicon, of nanometric diameter (i.e between 1 and 900 nm) and of length without stress defined according to the intended application.
Une fois le nano-fil 40 créé, le plot de catalyseur liquide 70 peut être retiré du sommet du nano-fil 40.  Once the nano-wire 40 has been created, the liquid catalyst pad 70 can be removed from the top of the nano-wire 40.
Le nano-fil 40 est ensuite fonctionnalisé pour permettre la capture de molécules ciblées (étape 600). Cette fonctionnalisation peut être mise en œuvre en utilisant toute technique de fonctionnalisation connue de l'homme du métier.  Nano-wire 40 is then functionalized to allow the capture of targeted molecules (step 600). This functionalization can be implemented using any functionalization technique known to those skilled in the art.
En référence à la figure 6, on a illustré un autre exemple de procédé pour l'obtention du circuit illustré à la figure 1 .  With reference to FIG. 6, another example of a method for obtaining the circuit illustrated in FIG. 1 is illustrated.
Le procédé comprend une première étape de réalisation d'une couche d'oxyde de silicium sur un substrat de silicium. On réalise ensuite une tranche 810 dans la couche d'oxyde de silicium, la tranche ayant par exemple une largeur de 20nm, une longueur de 250nm, et une profondeur de 20nm (étape 81 ). Dans une autre étape, on réalise un dépôt (étape 82) d'une couche de titane 820 sur une portion de la surface du substrat. Cette couche de titane s'étend transversalement à la tranche (par exemple perpendiculairement à la tranche), au niveau du centre de celle-ci. Cette couche de titane a par exemple une largeur de 50nm, une profondeur de 50 nm et une longueur de 60nm. Le dépôt de la couche de titane est par exemple réalisé par une technique de lithographie à faisceau d'électrons. The method comprises a first step of producing a silicon oxide layer on a silicon substrate. A slice 810 is then produced in the silicon oxide layer, the slice having for example a width of 20 nm, a length of 250 nm, and a depth of 20 nm (step 81). In another step, a deposit (step 82) of a titanium layer 820 is made on a portion of the surface of the substrate. This titanium layer extends transversely to the wafer (for example perpendicular to the wafer), at the center thereof. This titanium layer has for example a width of 50 nm, a depth of 50 nm and a length of 60 nm. The deposition of the titanium layer is for example carried out by an electron beam lithography technique.
On réalise ensuite une oxydation (étape 83) de la couche de titane pour obtenir une surcouche d'oxyde de titane TiOx 830 d'épaisseur 8 nm.  An oxidation (step 83) of the titanium layer is then carried out to obtain an overlayer of titanium oxide TiOx 830 with a thickness of 8 nm.
Dans une autre étape du procédé, on dépose (étape 84) une couche de titane 840 - par exemple d'épaisseur 20 nm - sur toute la surface du substrat.  In another step of the method, a layer of titanium 840 - for example of thickness 20 nm - is deposited (step 84) over the entire surface of the substrate.
On effectue ensuite un polissage - tel qu'un polissage mécano chimique (ou « CMP », sigle de l'expression anglo-saxonne « Chemical-Mechanical Planarization ») - de l'ensemble de la surface du substrat de sorte à obtenir une couche de titane d'épaisseur 2 à 3 nm recouvrant la tranche située dans la couche d'oxyde de silicium (étape 85).  Polishing is then carried out - such as chemical mechanical polishing (or "CMP") - of the entire surface of the substrate so as to obtain a layer titanium 2 to 3 nm thick covering the wafer in the silicon oxide layer (step 85).
Dans une autre étape du procédé, on dépose (étape 86) une couche d'oxyde de silicium sur toute la surface du substrat de sorte à recouvrir la tranche contenant la couche de titane.  In another step of the method, a silicon oxide layer is deposited (step 86) over the entire surface of the substrate so as to cover the wafer containing the titanium layer.
On réalise enfin un nano-fil 870, 880 vertical (étape 88) ou horizontal (étape 87) sur la couche d'oxyde de silicium.  Finally, a nano-wire 870, 880 vertical (step 88) or horizontal (step 87) is produced on the silicon oxide layer.
L'utilisation de transistor mono-électron dans le composant selon l'invention permet de lever un verrou très important dans le domaine des capteurs d'odeur ou de goût électronique, à savoir la consommation d'énergie. En effet, les transistors monoélectron sont suffisamment rapides pour les fonctions de capteur de charges et pour les circuits d'interfaçage entre les capteurs chimique et/ou biologique et les circuits CMOS de traitement et de transmission de données.  The use of single-electron transistor in the component according to the invention makes it possible to lift a very important lock in the field of odor sensors or electronic taste, namely the energy consumption. In fact, the monoelectron transistors are fast enough for the charge sensor functions and for the interfacing circuits between the chemical and / or biological sensors and the CMOS data processing and transmission circuits.
L'intégration du composant illustré à la figure 1 sur une puce électronique permet de remplacer les capteurs externes utilisés dans les détecteurs de gaz existants par des capteurs internes, qui peuvent être disposés sur des supports télescopiques le cas échéant. Notamment, le composant selon l'invention peut être utilisé comme capteur de gaz pour la sécurité des personnes : The integration of the component illustrated in FIG. 1 on an electronic chip makes it possible to replace the external sensors used in the existing gas detectors by internal sensors, which can be arranged on telescopic supports if necessary. In particular, the component according to the invention can be used as a gas sensor for the safety of people:
- contrôle de la qualité de l'air à l'intérieur d'une structure (domicile, véhicule, etc.),  - control of the quality of the air inside a structure (home, vehicle, etc.),
- contrôle de la qualité de l'air en extérieur  - outdoor air quality control
- détection de gaz toxiques ou explosifs.  - detection of toxic or explosive gases.
- mesure d'un taux d'hygrométrie, etc.  - measurement of a hygrometry rate, etc.
Le composant selon l'invention peut également être utilisé comme capteur biologique, en tant qu'éthylotest par exemple, ou encore pour le contrôle de la composition d'un liquide tel que de l'eau.  The component according to the invention can also be used as a biological sensor, for example as an ethyltest, or for controlling the composition of a liquid such as water.
Avantageusement, le composant décrit précédemment peut être intégré sur une puce de terminal mobile - tel qu'un téléphone portable - qui comprend des moyens de traitement approprié des informations captées par le composant illustré à la figure 1.  Advantageously, the previously described component can be integrated on a mobile terminal chip - such as a mobile phone - which comprises means for appropriate processing of the information captured by the component illustrated in FIG.
Dans ce cas, une fonction « contrôle de la qualité de l'air à l'intérieur d'une structure » peut par exemple être activée sur un téléphone pour détecter une augmentation anormale d'une quantité de monoxyde de carbone. Le téléphone peut alors simplement activer une sonnerie pour informer les personnes sur place de cette anomalie, ou bien prévenir des secours par l'envoi d'un appel ou d'un message texte. De même pour une fonction « contrôle de la qualité de l'air extérieur », l'information captée par le composant selon l'invention peut être transmise sur un réseau. La gestion des données envoyées par un ensemble d'utilisateur peut alors permettre de réaliser une cartographie de la qualité de l'air sur un territoire donné.  In this case, an "air quality control inside a structure" function can for example be activated on a telephone to detect an abnormal increase in a quantity of carbon monoxide. The phone can simply activate a ringtone to inform people on the spot of this anomaly, or to prevent help by sending a call or a text message. Similarly, for an "outside air quality control" function, the information picked up by the component according to the invention can be transmitted over a network. The management of the data sent by a set of users can then make it possible to map the air quality in a given territory.
Egalement dans le cas d'une intégration du composant décrit précédemment dans un téléphone portable, on peut envisager une mise hors-tension du téléphone lors de la détection d'un gaz explosif afin d'éviter tout risque d'explosion lié au courant électrique alimentant le téléphone.  Also in the case of an integration of the component described above in a mobile phone, it is possible to consider de-energizing the phone when detecting an explosive gas to avoid any risk of explosion related to the electric current supplying the phone.
Le lecteur aura compris que de nombreuses modifications peuvent être apportées au composant et au procédé de fabrication décrit ci-dessus sans sortir matériellement des nouveaux enseignements présentés ici. Il est donc bien évident que les exemples qui viennent d'être donnés ne sont que des illustrations en aucun cas limitatives.  The reader will have understood that many modifications can be made to the component and manufacturing process described above without physically going out of the new teachings presented here. It is therefore obvious that the examples which have just been given are only illustrations that are in no way limitative.

Claims

REVENDICATIONS
1 Dispositif de détection de molécule cible comprenant une source (21 ) et un drain (22) s'étendant sur un substrat (10), et un ilot (23) entre la source (21 ) et le drain (22), l'ilot (23) formant une double jonction tunnel entre la source (21 ) et le drainA target molecule detection device comprising a source (21) and a drain (22) extending on a substrate (10), and an island (23) between the source (21) and the drain (22), block (23) forming a double tunnel junction between the source (21) and the drain
(22), caractérisé en ce que le dispositif comprend en outre un nano-objet (40) s'étendant au droit de l'ilot (23), le nano-objet (40) étant fonctionnalisé pour capter au moins une molécule ciblée. 2 Dispositif selon la revendication 1 , dans lequel le nano-objet (40) est un nano-fil, de préférence de diamètre compris entre 50 et 100 nanomètres. (22), characterized in that the device further comprises a nano-object (40) extending to the right of the island (23), the nano-object (40) being functionalized to capture at least one targeted molecule. 2 Device according to claim 1, wherein the nano-object (40) is a nano-wire, preferably of diameter between 50 and 100 nanometers.
3 Dispositif selon la revendication 1 ou la revendication 2, dans lequel le nano-objet (40) s'étend verticalement ou horizontalement au droit de l'ilot (23). 3 Device according to claim 1 or claim 2, wherein the nano-object (40) extends vertically or horizontally to the right of the island (23).
4 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel : Device according to any one of claims 1 to 3, wherein:
- la longueur (L) de l'ilot (23) est comprise entre 30 et 70 nanomètre, de préférence égale à 50 nanomètres,  the length (L) of the island (23) is between 30 and 70 nanometers, preferably equal to 50 nanometers,
- la largeur (I) de l'ilot (23) est comprise entre 10 et 30 nanomètres, de préférence égale à 20 nanomètres  the width (I) of the island (23) is between 10 and 30 nanometers, preferably equal to 20 nanometers
- l'épaisseur (e) de l'ilot est comprise entre 1 et 10 nanomètres, de préférence égale à 5 nanomètres.  - The thickness (e) of the island is between 1 and 10 nanometers, preferably equal to 5 nanometers.
5 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel la distance (d) séparant l'ilot et la source et l'ilot et le drain est comprise entre 1 et 10 nanomètres. 5 Apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the distance (d) between the island and the source and the island and the drain is between 1 and 10 nanometers.
6 Procédé de fabrication d'un dispositif de détection de molécule cible, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : - la formation (200) sur un substrat (10) tel que du silicium, d'une source, d'un drain et d'un ilot entre la source et le drain, pour former un transistor monoélectron, Process for manufacturing a target molecule detection device, characterized in that it comprises the following steps: the formation (200) on a substrate (10) such as silicon, a source, a drain and an island between the source and the drain, to form a monoelectron transistor,
- la formation (500) d'un nano-objet tel qu'un nano-fil au droit de l 'i lot,  the formation (500) of a nano-object such as a nano-thread at the right of the batch,
- la fonctionnalisation (600) du nano-objet pour permettre la capture d'au moins une molécule ciblée. Procédé de fabrication selon la revendication 6, dans lequel l'étape de formation de la source, du drain et de l'ilot comprend le dépôt (100) d'une couche isolante électriquement sur le substrat et la formation de la source, du drain et de l'ilot dans la couche isolante électriquement. Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 6 ou 7, lequel comprend en outre, préalablement à l'étape de formation du nano-objet, une étape de dépôt (300) d'une couche isolante sur la source, le drain et l'ilot. Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, dans lequel l'étape de formation du nano-objet comprend :  functionalization (600) of the nano-object to allow the capture of at least one targeted molecule. The manufacturing method according to claim 6, wherein the step of forming the source, the drain and the island comprises depositing (100) an electrically insulating layer on the substrate and forming the source, drain and the island in the electrically insulating layer. Manufacturing method according to any one of claims 6 or 7, which further comprises, prior to the step of forming the nano-object, a step of depositing (300) an insulating layer on the source, the drain and the small island. The method of any of claims 6 to 8, wherein the step of forming the nano-object comprises:
- l'introduction du transistor mono-électron dans une chambre de croissance, the introduction of the mono-electron transistor into a growth chamber,
- le dépôt d'un plot de catalyseur liquide au droit de l'ilot, et depositing a liquid catalyst pad at the right of the island, and
- la croissance du nano-objet entre le plot de catalyseur et l'ilot par introduction d'un mélange gazeux à base de silicium dans la chambre de croissance. Procédé selon la revendication 9, lequel comprend en outre, préalablement au dépôt du plot de catalyseur liquide, les étapes suivantes :  the growth of the nano-object between the catalyst pad and the island by introducing a gaseous mixture based on silicon into the growth chamber. The method of claim 9, which further comprises, prior to the deposition of the liquid catalyst pad, the following steps:
- le dépôt d'un masque sur la source, le drain et l'ilot,  - the deposit of a mask on the source, the drain and the island,
- l'insolation du masque au-dessus de l'ilot par lithographie électronique pour créer un motif de croissance du nano-objet. Terminal mobile comprenant des moyens de communication et des moyens de traitement, caractérisé en ce qu'il comprend au moins un dispositif selon l'une des revendications 1 à 5. - the insolation of the mask above the island by electronic lithography to create a growth pattern of the nano-object. Mobile terminal comprising communication means and processing means, characterized in that it comprises at least one device according to one of claims 1 to 5.
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TAKASHI KUDO ET AL: "Biomolecule detection based on Si single-electron transistors for highly sensitive integrated sensors on a single chip", APPLIED PHYSICS LETTERS, vol. 100, no. 2, 12 January 2012 (2012-01-12), pages 023704 - 023704-3, XP055045250, ISSN: 0003-6951, DOI: 10.1063/1.3676664 *

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