WO2009150779A1

WO2009150779A1 - 楕円偏光板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置

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Publication number: WO2009150779A1
Application number: PCT/JP2009/001797
Authority: WO
Inventors: 高橋裕司; 上坂哲也; 池田哲
Original assignee: 新日本石油株式会社
Priority date: 2008-06-13
Filing date: 2009-04-20
Publication date: 2009-12-17
Also published as: US20110063547A1; EP2290414A4; JP2009300760A; EP2290414A1; CN102171591B; US8134659B2; KR20110033183A; CN102171591A

Abstract

　視野角特性に優れた楕円偏光板として、少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層および第３の光学異方性層がこの順に積層された楕円偏光板であって、第１の光学異方性層が［１］～［３］を満たし、第２の光学異方性層が［４］、［５］を満たし、第３の光学異方性層が［６］～［８］を満たす楕円偏光板が提供される。　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５（ここで、Ｒｅは各光学異方性層の面内のリターデーション値、Ｒｔｈは各光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。）

Description

楕円偏光板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置

　本発明は、視野角特性に優れた楕円偏光板及び液晶表示装置に関し、特に電圧無印加時に液晶分子が基板に対して垂直に配向する垂直配向型液晶表示装置に関する。

　液晶表示装置における表示モードの１つとして、初期状態において液晶セル内の液晶分子が基板表面に対して垂直に配列する垂直配向モードがある。電圧無印加時には、液晶分子が基板表面に対して垂直に配列し、液晶セルの両側に直線偏光子を直交配置すると黒表示が得られる。
　液晶セル内の光学特性は面内方向で等方的であり、理想的な視野角補償が容易に可能である。液晶セルの厚さ方向に正の一軸光学異方性を補償するため、厚さ方向に負の一軸光学異方性を有する光学素子を液晶セルの片面又は両面と直線偏光子との間に挿入すると、非常に良好な黒表示視角特性が得られる。
　電圧印加時においては、液晶分子が基板表面に垂直な方向から基板表面に平行な方向に向って配向を変化させる。この際、液晶配列の均一化が困難である。通常の配向処理である基板表面のラビング処理を用いると、表示品位が著しく低下する。
　電圧印加時における液晶配列を均一化するため、基板上の電極形状を工夫し、液晶層内に斜め電界が発生するようにし、均一配向を得る等の提案がある。この方法によれば、均一な液晶配列は得られるが、ミクロ的には不均一な配向領域が生じ、電圧印加時にこの領域が暗領域となる。従って、液晶表示装置の透過率が低下する。

　特許文献１によれば、ランダム配向した状態を含む液晶層を有する液晶素子の両側に配置する直線偏光子を円偏光板に置き換えた構成が提案されている。直線偏光子の代わりに、直線偏光子と１／４波長板とを組み合わせた円偏光板に置き換えることにより、電圧印加時の暗領域を解消し、高透過率な液晶表示装置を実現できる。しかしながら、円偏光板を用いた垂直配向型液晶表示装置では、直線偏光子を用いた垂直配向型液晶表示装置と比較し視野角特性が狭いという課題があった。特許文献２によれば、円偏光板を用いた垂直配向型液晶表示装置の視野角補償として、負の一軸の光学異方性を有する光学異方素子や二軸光学異方性材料が提案されている。しかし負の一軸の光学異方性を有する光学異方素子により液晶セルの厚さ方向に正の一軸光学異方性を補償できるが、１／４波長板の視野角特性を補償できないため、十分な視野角特性を得ることはできない。また、二軸光学異方性材料の製造を行う場合、得られる位相差板の面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとし、かつｎｘ＞ｎｙとしたとき、Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）で定義されるＮｚは－１．０＜Ｎｚ＜１．０であり、厚み方向の延伸には限界があり、厚み方向の位相差を広範囲に制御することができない。また前記製造方法では、熱収縮フィルムにより、長尺フィルムを熱収縮させて厚み方向に延伸させているため、得られる位相差板は、長尺フィルムよりも厚みが増加する。前記製造方法で得られる位相差板の厚みは５０～１００μｍ程度であり、液晶表示装置等に要求される薄型化に対しても十分ではなかった。

　特許文献３及び４によれば、円偏光板を用いた垂直配向型液晶表示装置の視野角補償として、液晶セルの補償として負の一軸の光学異方性を有する光学異方素子、１／４波長板の視野角補償として厚さ方向の屈折率が大きい補償層、及び偏光子補償フィルムの３種類を組み合わせた構成が提案されている。しかしながら、これら３種類のフィルムを垂直配向型液晶表示装置の両側に使用することで計６枚のフィルムを使用し、更には円偏光板機能を付与するためにλ／４板を両側に使用するため、合計で８枚のフィルムを使用することになり、大幅に視野角改善されるものの価格、厚さの両面において現実的とは言えない。

特開２００２－４０４２８号公報特開２００３－２０７７８２号公報特開２００２－５５３４２号公報特開２００６－８５２０３号公報

　本発明の目的は、低価格化が可能であり、かつ視野角特性の優れた垂直配向型液晶表示装置用楕円偏光板及び垂直配向型液晶表示装置を提供することである。

　本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す楕円偏光板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置により、前記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は以下のとおりである。

〔１〕　少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層および第３の光学異方性層がこの順に積層された楕円偏光板であって、
前記第１の光学異方性層が、以下の［１］～［３］を満たし、
　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００
　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０
　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１及びＲｔｈ１は、それぞれＲｅ１＝（ｎｘ１－ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２－ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。また、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１，ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ１＞ｎｙ１＞ｎｚ１である。）
前記第２の光学異方性層が、以下の［４］、［５］を満たし、
　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０
　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２－ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２－ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。また、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２，ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２である。）
前記第３の光学異方性層が、以下の［６］～［８］を満たすことを特徴とする楕円偏光板。
　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０
　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００
　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５
（ここで、Ｒｅ３は第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ３は第３の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ３及びＲｔｈ３は、それぞれＲｅ３＝（ｎｘ３－ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、Ｒｔｈ３＝｛（ｎｘ３＋ｎｙ３）／２－ｎｚ３｝×ｄ３［ｎｍ］である。また、ｄ３は第３の光学異方性層の厚さ、ｎｘ３，ｎｙ３は波長５５０ｎｍの光に対する第３の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ３は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ３＞ｎｙ３≧ｎｚ３である。）

〔２〕　前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする前記〔１〕に記載の楕円偏光板。

〔３〕　前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする前記〔２〕に記載の楕円偏光板。

〔４〕　前記第１及び第３の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする前記〔１〕に記載の楕円偏光板。

〔５〕　前記第３の光学異方性層が、更に以下の［１２］を満たすことを特徴とする前記〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の楕円偏光板。
　　［１２］０．７≦Ｒｅ３（４５０）／Ｒｅ３（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ３（４５０）、Ｒｅ３（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）

〔６〕　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、８０°≦ｒ≦１００°を満たすように積層されていることを特徴とする前記〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の楕円偏光板。

〔７〕　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第３の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｐとしたときに、４０°≦ｐ≦５０°を満たすことを特徴とする前記〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の楕円偏光板。

〔８〕　前記第１の光学異方性層が前記第１の偏光子の保護層を兼ねることを特徴とする前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の楕円偏光板。

〔９〕　少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、第３の光学異方性層、電極を備えた１対の基板間に電圧無印加時に基板表面に対して垂直配向する液晶分子を含む垂直配向型液晶セル、第４の光学異方性層、第２の偏光子がこの順に配置された垂直配向型液晶表示装置であって、
前記第１の光学異方性層が、以下の［１］～［３］を満たし、
　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００
　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０
　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１及びＲｔｈ１は、それぞれＲｅ１＝（ｎｘ１－ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２－ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。また、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１，ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ１＞ｎｙ１＞ｎｚ１である。）
前記第２の光学異方性層が、以下の［４］、［５］を満たし、
　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０
　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２－ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２－ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。また、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２，ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２である。）
前記第３の光学異方性層が、以下の［６］～［８］を満たし、
　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０
　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００
　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５
（ここで、Ｒｅ３は第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ３は第３の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ３及びＲｔｈ３は、それぞれＲｅ３＝（ｎｘ３－ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、Ｒｔｈ３＝｛（ｎｘ３＋ｎｙ３）／２－ｎｚ３｝×ｄ３［ｎｍ］である。また、ｄ３は第３の光学異方性層の厚さ、ｎｘ３，ｎｙ３は波長５５０ｎｍの光に対する第３の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ３は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ３＞ｎｙ３≧ｎｚ３である。）
前記第４の光学異方性層が、以下の［９］～［１１］を満たすことを特徴とする垂直配向型液晶表示装置。
　　［９］１００≦Ｒｅ４≦１８０
　　［１０］５０≦Ｒｔｈ４≦６００
　　［１１］０．５≦Ｒｔｈ４／Ｒｅ４≦３．５
（ここで、Ｒｅ４は第４の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ４は第４の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ４及びＲｔｈ４は、それぞれＲｅ４＝（ｎｘ４－ｎｙ４）×ｄ４［ｎｍ］、Ｒｔｈ４＝｛（ｎｘ４＋ｎｙ４）／２－ｎｚ４｝×ｄ４［ｎｍ］である。また、ｄ４は第４の光学異方性層の厚さ、ｎｘ４，ｎｙ４は波長５５０ｎｍの光に対する第４の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ４は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ４＞ｎｙ４≧ｎｚ４である。）

〔１０〕　垂直配向型液晶セルと第４の光学異方性層の間に、更に以下の［１３］、［１４］を満たす第５の光学異方性層を有することを特徴とする前記〔９〕に記載の垂直配向型液晶表示装置。
　　［１３］０≦Ｒｅ５≦２０
　　［１４］１００≦Ｒｔｈ５≦４００
（ここで、Ｒｅ５は第５の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ５は第５の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ５及びＲｔｈ５は、それぞれＲｅ５＝（ｎｘ５－ｎｙ５）×ｄ５［ｎｍ］、Ｒｔｈ５＝｛（ｎｘ５＋ｎｙ５）／２－ｎｚ５｝×ｄ５［ｎｍ］である。また、ｄ５は第５の光学異方性層の厚さ、ｎｘ５，ｎｙ５は波長５５０ｎｍの光に対する第５の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ５は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ５≧ｎｙ５＞ｎｚ５である。）

〔１１〕　前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする前記〔９〕または〔１０〕に記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１２〕　前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする前記〔１１〕に記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１３〕　前記第１、第３及び第４の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする前記〔９〕～〔１２〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１４〕　前記第３の光学異方性層が、更に以下の［１２］を満たすことを特徴とする前記〔９〕～〔１３〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　　［１２］０．７≦Ｒｅ３（４５０）／Ｒｅ３（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ３（４５０）、Ｒｅ３（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）

〔１５〕　前記第４の光学異方性層が、更に以下の［１５］を満たすことを特徴とする前記〔９〕～〔１４〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　　［１５］０．７≦Ｒｅ４（４５０）／Ｒｅ４（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ４（４５０）、Ｒｅ４（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第４の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）

〔１６〕　前記第５の光学異方性層が、液晶性化合物、トリアセチルセルロース、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドから選ばれる少なくとも１種の素材から形成された層であることを特徴とする前記〔９〕～〔１５〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１７〕　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、８０°≦ｒ≦１００°を満たすように積層されていることを特徴とする前記〔９〕～〔１６〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１８〕　前記第３の光学異方性層の遅相軸と前記第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度が８０°～１００°となるように積層されていることを特徴とする前記〔９〕～〔１７〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔１９〕　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第３の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｐ、前記第２の偏光子の吸収軸と前記第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｑとしたときに、４０°≦ｐ≦５０°、４０°≦ｑ≦５０°を満たすことを特徴とする前記〔９〕～〔１８〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔２０〕　前記第１の光学異方性層が前記第１の偏光子の保護層を兼ねることを特徴とする前記〔９〕～〔１９〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

〔２１〕　前記垂直配向型液晶セルの一方の基板が反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを有する基板であることを特徴とする前記〔９〕～〔２０〕のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。

　本発明の垂直配向型液晶表示装置は、表示が明るく、全方位において高コントラストな表示が可能である。

本発明の楕円偏光板の断面模式図である。実施例２で用いた垂直配向型液晶表示装置の断面模式図である。実施例２で用いた垂直配向型液晶表示装置の各構成部材の角度関係を示した平面図である。実施例２における垂直配向型液晶表示装置を全方位から見た時のコントラスト比を示す図である。実施例３で用いた垂直配向型液晶表示装置の断面模式図である。実施例３で用いた垂直配向型液晶表示装置の各構成部材の角度関係を示した平面図である。実施例３における垂直配向型液晶表示装置を全方位から見た時のコントラスト比を示す図である。実施例４で用いた半透過型の垂直配向型液晶表示装置の断面模式図である。実施例４で用いた半透過反射型の垂直配向型液晶表示装置の各構成部材の角度関係を示した平面図である。実施例４における半透過反射型の垂直配向型液晶表示装置を全方位から見た時のコントラスト比を示す図である。比較例１で用いた垂直配向型液晶表示装置の断面模式図である。比較例１で用いた垂直配向型液晶表示装置の各構成部材の角度関係を示した平面図である。比較例１における垂直配向型液晶表示装置を全方位から見た時のコントラスト比を示す図である。

　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明の楕円偏光板は、図１に示すような少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、第３の光学異方性層がこの順に積層された楕円偏光板である。
　また、本発明の垂直配向型液晶表示装置は、以下のような２通りから構成され、必要に応じて光拡散層、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材が更に追加されるが、これらに本発明においてホメオトロピック配向液晶フィルムからなる第２の光学異方性層を使用する点を除いては特に制限は無い。視野角依存性の少ない光学特性を得ると言う点では、（１）～（２）いずれの構成を用いても構わない。
（１）第１の偏光子／第１の光学異方性層／第２の光学異方性層／第３の光学異方性層／垂直配向型液晶セル／第４の光学異方性層／第２の偏光子／バックライト
（２）第１の偏光子／第１の光学異方性層／第２の光学異方性層／第３の光学異方性層／垂直配向型液晶セル／第５の光学異方性層／第４の光学異方性層／第２の偏光子／バックライト
　上記構成により、特許文献３及び４で提案されていたフィルム８枚構成をフィルム４ないし５枚まで削減することで広視野角特性を維持しつつコストダウンを図ることができる。
　また、本発明では第１の光学異方性層として負の二軸性光学異方性層を用いることにより第１の偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸が直交しているにも関わらず、従来行われていたようなシートでの貼り合わせでは無く、ロールトゥロールでの一体製造を可能にすることができる。その結果、高効率かつ薄型の楕円偏光板の製造が可能となる。

　以下本発明に用いられる構成部材について順に説明する。
　まず、本発明に使用する垂直配向型液晶セルについて説明する。
　液晶セルとしては、特に制限はないが、透過型、反射型、半透過型の各種液晶セルを挙げることができる。液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ－ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、ＴＦＴ(Thin　Film　Transistor)電極、ＴＦＤ(Thin　Film　Diode)電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。

　液晶セルを構成する透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有している透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、ＩＴＯ等の公知のものが使用できる。電極は通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。

　液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、負の誘電率異方性を有する材料であれば特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。負の誘電率異方性を示す液晶材料を用いた垂直配向液晶層にカイラル剤を添加し電圧印加時に液晶分子を旋回させれば、電圧印加時の液晶分子の旋回を安定したものとすることができる。更に上下基板のラビング方向を同一方向以外に施す場合、配向処理の軌跡が同一方向でなくなるため筋目が目立ちにくくなる。また、液晶層が９０度ツイストしていれば、電圧印加時のディスクリネーション防止のため基板に対し数度傾斜して配向させた場合に液晶分子の傾斜方向にリターデーションが発生するが、基板付近の液晶分子の傾斜した方向が上下の基板付近で互いに９０度の角度をなしているため、発生するリターデーションを打ち消すことができ、漏れ光が少ない黒表示が得られる。

　また、前記垂直配向型液晶セルの一方の基板を反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを有する基板とすることにより半透過反射型の垂直配向型液晶セルとすることができる。
　半透過反射型の垂直配向型液晶セルに使用する半透過反射性電極に含まれる反射機能を有する領域（以下、反射層ということがある。）としては、特に制限されず、アルミニウム、銀、金、クロム、白金等の金属やそれらを含む合金、酸化マグネシウム等の酸化物、誘電体の多層膜、選択反射を示す液晶又はこれらの組み合わせ等を例示することができる。これら反射層は平面であっても良く、また曲面であっても良い。さらに反射層は、凹凸形状など表面形状に加工を施して拡散反射性を持たせたもの、液晶セルの観察者側と反対側の該電極基板上の電極を兼備させたもの、またそれらを組み合わせたものであっても良い。

　本発明の垂直配向型液晶表示装置は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを本発明の液晶表示装置に付設することにより、色純度の高いマルチカラー又はフルカラー表示を行うことができるカラー液晶表示装置を作製することができる。

　次に、本発明に使用する光学異方性層について順に説明する。
　まず、第１、第３、第４の光学異方性層について説明する。
　前記光学異方性層としては、例えば、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂等の環状ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを一軸あるいは二軸延伸処理する手法や特開平５－１５７９１１号公報に示されるような熱収縮フィルムにより長尺フィルムの幅方向を熱収縮させて厚み方向に位相差を大きくする手法により製造した複屈折フィルム、液晶ポリマーなどの液晶材料からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。

　面内方向にｘ方向、ｙ方向を取り、厚さ方向をｚ方向とする場合、正の一軸性光学異方性層は、屈折率としてｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を有する。また、正の二軸性光学異方性層は、屈折率としてｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を有する。負の一軸性光学異方性層は、屈折率としてｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの関係を有する。負の二軸性光学異方性層は、屈折率としてｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を有する。

　第１の光学異方性層は、第１の光学異方性層の厚さをｄ１、第１の光学異方性層面内の主屈折率をｎｘ１およびｎｙ１、厚さ方向の主屈折率をｎｚ１、かつ、ｎｘ１＞ｎｙ１＞ｎｚ１とし、波長５５０ｎｍの光における面内のリターデーション値（Ｒｅ１＝（ｎｘ１－ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］）、厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１+ｎｙ１）／２－ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］）とした場合に、以下の［１］～［３］式を満たす。
　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００
　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０
　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５

　第１の光学異方性層は、偏光子の視野角補償として寄与しており、５５０ｎｍの光に対して、第１の光学異方性層面内のリターデーション値（Ｒｅ１）は、５０ｎｍ～５００ｎｍ、好ましくは８０ｎｍ～４８０ｎｍ、さらに好ましくは１００ｎｍ～４５０ｎｍの範囲である。Ｒｅ１値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
　第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ１）は、３０ｎｍ～７５０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ～５００ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ～２００ｎｍの範囲である。上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
　また、第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ１）と面内のリターデーション値（Ｒｅ１）の比は、通常０．６～１．５、好ましくは０．６～１．４、さらに好ましくは０．６～１．３の範囲である。Ｒｔｈ／Ｒｅ値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。

　また前記第１の偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、ｒは通常８０°～１００°、好ましくは８５～９５°、更に好ましくは略９０°（直交）の範囲である。第１の偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の長尺ロールを略直交（交わる角度が９０°±１０°以内、好ましくは±５°以内のことをいう。）となるようにロールトゥロールに貼り合わせて一体化することで、高効率かつ薄型の楕円偏光板を製造できるが、略直交に一体化するためには、第１の光学異方性層の遅相軸は、ロール長尺方向に対し、直交な方向に配置する必要がある。そのためには、第１の光学異方性層を横一軸延伸あるいは二軸延伸により製造したほうがよい。一般に、横一軸延伸または二軸延伸で製造した場合、位相差フィルムの屈折率の関係は，ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚからなる負二軸性になることが知られていることから、楕円偏光板の高効率製造においても、Ｒｔｈ／Ｒｅ値は、上記記載の０．６～１．５の範囲であることが好ましい。上記以外の範囲においては、正面コントラストの低下による画質の低下の恐れがある。

　第３及び第４の光学異方性層は、面内で１／４波長の位相差を示すことが好ましく、第３及び第４の光学異方性層の厚さをｄ３、ｄ４、第３及び第４の光学異方性層面内の主屈折率をｎｘ３、ｎｘ４およびｎｙ３、ｎｙ４、厚さ方向の主屈折率をｎｚ３、ｎｚ４、かつ、ｎｘ３＞ｎｙ３≧ｎｚ３、ｎｘ４＞ｎｙ４≧ｎｚ４とし、波長５５０ｎｍの光における面内のリターデーション値（Ｒｅ３＝（ｎｘ３－ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、Ｒｅ４＝（ｎｘ４－ｎｙ４）×ｄ４［ｎｍ］）とした場合に、第３の光学異方性層は以下の［６］～［８］を満たし、また第４の光学異方性層は[９]～[１１]を満たす。
　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０
　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００
　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５
　　［９］１００≦Ｒｅ４≦１８０
　　［１０］５０≦Ｒｔｈ４≦６００
　　［１１］０．５≦Ｒｔｈ４／Ｒｅ４≦３．５

　第３及び第４の光学異方性層は、１／４波長の位相差を示すという点で、５５０ｎｍの光に対して、第３及び第４の光学異方性層面内のリターデーション値（Ｒｅ３、Ｒｅ４）は、１００ｎｍ～１８０ｎｍ、好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍ、さらに好ましくは１３０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲である。上記範囲を外れた場合には、偏光子と組み合わせたときの円偏光性が十分得られなくなり、正面から見た場合の表示特性が低下する恐れがある。
　第３及び第４の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ３、Ｒｔｈ４）は、第３及び第４の光学異方性層が、正面から見た場合は１／４波長板であり、同時に垂直配向型液晶セルの厚さ方向の位相差を補償することによる視野角補償の効果を発揮するよう条件設定する必要がある。従って、垂直配向型液晶セルの厚さ方向の位相差値にもよるが、５０ｎｍ～６００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ～４００ｎｍ、さらに好ましくは１４０ｎｍ～３００ｎｍの範囲である。上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
　また、第３及び第４の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ３、Ｒｔｈ４）と面内のリターデーション値（Ｒｅ３、Ｒｅ４）の比は、通常０．５～３．５、好ましくは１．０～３．０、さらに好ましくは１．５～２．５の範囲である。Ｒｔｈ／Ｒｅ値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。

　第３の光学異方性層の遅相軸と第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度は、通常８０～１００度、好ましくは８５～９５度、更に好ましくは略９０度（直交）の範囲である。上記範囲を外れた場合、正面から見た場合のコントラストが低下する恐れがある。
　また、第３及び第４の光学異方性層の波長４５０ｎｍ、波長５９０ｎｍの光における面内のリターデーション値をそれぞれ、Ｒｅ３（４５０）、Ｒｅ３（５９０）、Ｒｅ４（４５０）、Ｒｅ４（５９０）とした場合、以下の［１２］、［１５］式を満たす。
　　［１２］０．７≦Ｒｅ３（４５０）／Ｒｅ３（５９０）≦１．０５
　　［１５］０．７≦Ｒｅ４（４５０）／Ｒｅ４（５９０）≦１．０５

　半透過反射型の垂直配向型液晶表示装置の反射時のコントラスト特性を向上させるという点においては、１／４波長板の位相差値の波長に対する依存性は、波長が大きいほど位相差値が大きくなるかあるいは一定に近いことが好ましく、第３及び第４の光学異方性層の４５０ｎｍの光及び５９０ｎｍの光に対する位相差値の比は、通常０．７～１．０５、好ましくは０．７５～１．０の範囲である。上記範囲を外れた場合には、反射時の黒表示が青っぽい色味になるといった表示特性の低下の恐れがある。

　円偏光板は、１／４波長板により直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変えたりする機能を有し、垂直配向型液晶セルの両側に直線偏光子を有し、直線偏光子と垂直配向型液晶セルとの間に面内で１／４波長の位相差を有する第３及び第４の光学異方性層を有することにより、電圧無印加時には液晶層の観測方向の位相差が０のため上下の偏光子を直交にすることにより暗表示が可能となり、電圧印加時には観測方向の位相差が生じ明表示が可能となる。直線偏光子に１／４波長板を組み合わせた円偏光板を形成させるという点で、前記第１の偏光子の吸収軸と前記第３の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｐとしたとき、ｐは通常４０°～５０°、好ましくは４２～４８°、更に好ましくは略４５°の範囲である。
　また同様に、前記第２の偏光子の吸収軸と前記第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｑとしたときに、ｑは通常４０°～５０°、好ましくは４２～４８°、更に好ましくは略４５°の範囲である。上記以外の範囲においては、正面コントラストの低下による画質の低下の恐れがある。

　次に、第２の光学異方性層について説明する。
　本発明の第２の光学異方性層は、正の一軸性を示す液晶材料を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなる。
　本発明において、液晶材料のホメオトロピック配向を固定化した液晶フィルムを得るに当たっては、液晶材料と配向基板の選択が極めて重要である。
　本発明に用いられる液晶材料は、少なくともポリ（メタ）アクリレートやポリシロキサンなどの側鎖型の液晶性ポリマーを主たる構成成分として含むものである。
　また本発明において用いられる側鎖型液晶ポリマーは末端に重合可能なオキセタニル基を有するものである。より具体的には、式（１）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル部位を単独重合、もしくは他の（メタ）アクリル化合物と共重合させて得られる側鎖型液晶性高分子物質を好ましい例として挙げることができる。

　上記式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｒ_２は水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、または－ＣＯ－Ｏ－のいずれかを表し、Ｍは式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎおよびｍはそれぞれ個別に０～１０の整数を示す。
　　　－Ｐ_１－Ｌ_３－Ｐ_２－Ｌ_４－Ｐ_３－　　　（２）
　　　－Ｐ_１－Ｌ_３－Ｐ_３－　　　　　　　　（３）
　　　－Ｐ_３－　　　　　　　　　　　　　 (４）

　式（２）～（４）中、Ｐ_１およびＰ_２はそれぞれ個別に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ_３は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－または－ＣＯ－Ｏ－を表す。

　これらオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の合成法は特に制限されるものではなく、通常の有機化学合成法で用いられる方法を適用することによって合成することができる。例えば、ウィリアムソンのエーテル合成や、縮合剤を用いたエステル合成などの手段でオキセタニル基を持つ部位と（メタ）アクリル基を持つ部位を結合することで、オキセタニル基と（メタ）アクリル基の２つの反応性官能基を持つオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物を合成することができる。

　式（１）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル基を単独重合、もしくは他の（メタ）アクリル化合物と共重合することにより下記式（７）で表されるユニットを含む側鎖型液晶性高分子物質が得られる。重合条件は特に限定されるものではなく、通常のラジカル重合やアニオン重合の条件を採用することができる。

　ラジカル重合の例としては、（メタ）アクリル化合物をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの溶媒に溶かし、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）や過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）などを開始剤として、６０～１２０℃で数時間反応させる方法が挙げられる。また、液晶相を安定に出現させるために、臭化銅（Ｉ）／２，２’－ビピリジル系や２，２，６，６－テトラメチルピペリジノオキシ・フリーラジカル（ＴＥＭＰＯ）系などを開始剤としたリビングラジカル重合を行い、分子量分布を制御する方法も有効である。これらのラジカル重合は脱酸素条件で行うことが好ましい。

　アニオン重合の例としては、（メタ）アクリル化合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの溶媒に溶かし、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、グリニャール試薬などの強塩基を開始剤として、反応させる方法が挙げられる。また、開始剤や反応温度を最適化することでリビングアニオン重合とし、分子量分布を制御することもできる。これらのアニオン重合は、厳密に脱水かつ脱酸素条件で行う必要がある。

　また、このとき共重合する（メタ）アクリル化合物は特に限定されるものではなく、合成される高分子物質が液晶性を示せば何でもよいが、合成される高分子物質の液晶性を高めるため、メソゲン基を有する（メタ）アクリル化合物が好ましい。例えば下記式で示されるような（メタ）アクリル化合物を好ましい化合物として例示することができる。

　ここで、Ｒは、水素、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、またはシアノ基を表す。

　側鎖型液晶性高分子物質は、式（７）で表されるユニットを５～１００モル％含むものが好ましく、１０～１００モル％含むものが特に好ましい。また、側鎖型液晶性高分子物質は、重量平均分子量が２，０００～１００，０００であるものが好ましく、５，０００～５０，０００のものが特に好ましい。

　本発明で用いる液晶材料においては、前記側鎖型液晶性高分子物質の他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含有することができる。含有することができる化合物としては、オキセタニル基、エポキシ基、ビニルエーテル基などのカチオン重合性官能基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子物質、液晶性を示す各種の低分子液晶性化合物や高分子液晶性化合物などが挙げられる。前記の側鎖型液晶性高分子物質を組成物として用いる場合、組成物全体に占める前記の側鎖型液晶性高分子物質の割合は、１０質量％以上、好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上である。側鎖型液晶性高分子物質の含有量が１０質量％未満では組成物中に占める重合性基濃度が低くなり、重合後の機械的強度が不十分となるため好ましくない。

　また前記液晶材料は配向処理された後、オキセタニル基をカチオン重合させて架橋することにより、当該液晶状態を固定化する。このため、液晶材料中に、光や熱などの外部刺激でカチオンを発生する光カチオン発生剤および／または熱カチオン発生剤を含有させておくことが好ましい。また必要によっては各種の増感剤を併用してもよい。

　光カチオン発生剤とは、適当な波長の光を照射することによりカチオンを発生できる化合物を意味し、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系などを例示することが出来る。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレートなどが好ましく用いられる。具体的な化合物としては、Ａｒ_３Ｓ^＋ＳｂＦ_６ ^－、Ａｒ_３Ｐ^＋ＢＦ_４ ^－、Ａｒ_２Ｉ^＋ＰＦ_６ ^－（ただし、Ａｒはフェニル基または置換フェニル基を示す。）などが挙げられる。また、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジアゾメタン類、β－ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホナートなども用いることができる。

　熱カチオン発生剤とは、適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる化合物であり、例えば、ベンジルスルホニウム塩類、ベンジルアンモニウム塩類、ベンジルピリジニウム塩類、ベンジルホスホニウム塩類、ヒドラジニウム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、アミンイミド類、五塩化アンチモン－塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩－ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素－三級アミン付加物などを挙げることができる。

　これらのカチオン発生剤の液晶材料中への添加量は、用いる側鎖型液晶性高分子物質を構成するメソゲン部分やスペーサ部分の構造や、オキセタニル基当量、液晶の配向条件などにより異なるため一概には言えないが、側鎖型液晶性高分子物質に対し、通常１００質量ｐｐｍ～２０質量％、好ましくは１０００質量ｐｐｍ～１０質量％、より好ましくは０．２質量％～７質量％、最も好ましくは０．５質量％～５質量％の範囲である。１００質量ｐｐｍよりも少ない場合には、発生するカチオンの量が十分でなく重合が進行しないおそれがあり、また２０質量％よりも多い場合には、液晶フィルム中に残存するカチオン発生剤の分解残存物等が多くなり耐光性などが悪化するおそれがあるため好ましくない。

　次に配向基板について説明する。
　配向基板としては、まず平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子からなる材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。またポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するシクロポリオレフィン、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げられる。これらのなかでも、光学フィルムとして用いられるトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ノルボルネンポリオレフィン等のプラスチックフィルムが使用される。有機高分子材料のフィルムとしては、特にゼオノア（商品名，日本ゼオン（株）製）、ゼオネックス（商品名，日本ゼオン（株）製）、アートン（商品名，ＪＳＲ（株）製）などのノルボルネン構造を有するポリマー物質からなるプラスチックフィルムが光学的にも優れた特性を有するので好ましい。また金属フィルムとしては、例えばアルミニウムなどから形成される当該フィルムが挙げられる。

　前述の液晶材料を用い、安定してホメオトロピック配向を得るためには、これらの基板を構成する材料が長鎖（通常炭素数４以上、好ましくは８以上）のアルキル基を有しているか、基板表面に長鎖アルキル基を有する化合物の層を有することがより好ましい。中でも長鎖アルキル基を有するポリビニルアルコールからなる層を形成することが、形成方法も容易であり好ましい。なお、これら有機高分子材料は単独で基板として用いても良いし、他の基板の上に薄膜として形成させていても良い。液晶の分野においては、基板に対して布等でこするラビング処理を行うことが一般的であるが、本発明のホメオトロピック配向液晶フィルムは、面内の異方性が基本的に生じない配向構造であるため、必ずしもラビング処理を必要としない。しかしながら、液晶材料を塗布したときのはじき抑制の観点からは弱いラビング処理を施すことがより好ましい。ラビング条件を規定する重要な設定値としては周速比がある。これはラビング布をロールに巻きつけて回転させつつ基板を擦る場合の、布の移動速度と基板の移動速度の比を表す。本発明においては弱いラビング処理とは、通常周速比が５０以下、より好ましくは２５以下、特に好ましくは１０以下である。周速比が５０より大きい場合、ラビングの効果が強すぎて液晶材料が完全に垂直に配向しきれず、垂直方向より面内方向に倒れた配向となる恐れがある。

　次に、ホメオトロピック配向液晶フィルムの製造方法について説明する。
　液晶フィルム製造の方法としてはこれらに限定されるものではないが、前述の液晶材料を前述の配向基板上に展開し、当該液晶材料を配向させた後、光照射および／または加熱処理することにより当該配向状態を固定化することにより製造することができる。
　液晶材料を配向基板上に展開して液晶材料層を形成する方法としては、液晶材料を溶融状態で直接配向基板上に塗布する方法や、液晶材料の溶液を配向基板上に塗布後、塗膜を乾燥して溶媒を留去させる方法が挙げられる。

　溶液の調製に用いる溶媒に関しては、本発明の液晶材料を溶解でき適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ－２－プロパノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。

　液晶材料を直接塗布する方法でも、溶液を塗布する方法でも、塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法などが挙げられる。
　液晶材料の溶液を塗布する方法では、塗布後に溶媒を除去するための乾燥工程を入れることが好ましい。この乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけなどの方法が挙げられる。

　液晶フィルムの膜厚は、液晶表示装置の方式や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、通常０．２μｍ～１０μｍ、好ましくは０．３μｍ～５μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ～２μｍである。膜厚が０．２μｍより薄い場合、十分な視野角改良あるいは輝度向上効果を得ることができない恐れがある。また１０μｍを越えると、液晶表示装置が不必要に色付く等の恐れがある。

　続いて、配向基板上に形成された液晶材料層を、熱処理などの方法で液晶配向を形成し、光照射および／または加熱処理で硬化を行い固定化する。最初の熱処理では、使用した液晶材料の液晶相発現温度範囲に加熱することで、該液晶材料が本来有する自己配向能により液晶を配向させる。熱処理の条件としては、用いる液晶材料の液晶相挙動温度（転移温度）により最適条件や限界値が異なるため一概には言えないが、通常１０～２５０℃、好ましくは３０℃～１６０℃の範囲であり、該液晶材料のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度、さらに好ましくはＴｇより１０℃以上高い温度で熱処理するのが好ましい。あまり低温では、液晶配向が充分に進行しないおそれがあり、また高温では液晶材料中のカチオン重合性反応基や配向基板に悪影響を与えるおそれがある。また、熱処理時間については、通常３秒～３０分、好ましくは１０秒～１０分の範囲である。３秒より短い熱処理時間では、液晶配向が充分に完成しないおそれがあり、また３０分を超える熱処理時間では、生産性が悪くなるため、どちらの場合も好ましくない。
　該液晶材料層を熱処理などの方法で液晶配向を形成したのち、液晶配向状態を保ったまま液晶材料を組成物中のオキセタニル基の重合反応により硬化させる。硬化工程は、完成した液晶配向を硬化（架橋）反応により液晶配向状態を固定化し、より強固な膜に変性することを目的にしている。

　本発明の液晶材料は重合性のオキセタニル基を持つため、その反応基の重合（架橋）には、カチオン重合開始剤（カチオン発生剤）を用いるのが好ましいことは前述のとおりである。また、重合開始剤としては、熱カチオン発生剤より光カチオン発生剤の使用が好ましい。
　光カチオン発生剤を用いた場合、光カチオン発生剤の添加後、液晶配向のための熱処理までの工程を暗条件（光カチオン発生剤が解離しない程度の光遮断条件）で行えば、液晶材料は配向段階までは硬化することなく、充分な流動性をもって液晶配向することができる。この後、適当な波長の光を発する光源からの光を照射することによりカチオンを発生させ、液晶材料層を硬化させる。

　光照射の方法としては、用いる光カチオン発生剤の吸収波長領域にスペクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなどの光源からの光を照射し、光カチオン発生剤を開裂させる。１平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常１～２０００ｍＪ、好ましくは１０～１０００ｍＪの範囲である。ただし、光カチオン発生剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶材料自身に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の光カチオン発生剤を混合して用いるなどの方法を採ることもできる。
　光照射時の温度は、該液晶材料が液晶配向をとる温度範囲である必要がある。また、硬化の効果を充分にあげるためには、該液晶材料のＴｇ以上の温度で光照射を行うのが好ましい。

　以上のような工程により製造した液晶材料層は、充分強固な膜となっている。具体的には、硬化反応によりメソゲンが３次元的に結合され、硬化前と比べて耐熱性（液晶配向保持の上限温度）が向上するのみでなく、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐クラック性などの機械的強度に関しても大幅に向上する。
　なお、配向基板として、光学的に等方でない、あるいは得られる液晶フィルムが最終的に目的とする使用波長領域において不透明である、もしくは配向基板の膜厚が厚すぎて実際の使用に支障を生じるなどの問題がある場合、配向基板上で形成された形態から、位相差機能を有する延伸フィルムに転写した形態も使用しうる。転写方法としては公知の方法を採用することができる。例えば、特開平４－５７０１７号公報や特開平５－３３３３１３号公報に記載されているように液晶フィルム層を粘着剤もしくは接着剤を介して、配向基板とは異なる基板を積層した後に、必要により粘着剤もしくは接着剤を使って表面の硬化処理を施し、該積層体から配向基板を剥離することで液晶フィルムのみを転写する方法等を挙げることができる。
　転写に使用する粘着剤もしくは接着剤は、光学グレードのものであれば特に制限はなく、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系など一般に用いられているものを用いることができる。

　以上のようにして得られるホメオトロピック配向液晶層は、当該液晶層の光学位相差を垂直入射から傾けた角度で測定することによって定量化することができる。ホメオトロピック配向液晶層の場合、この位相差値は垂直入射について対称的である。光学位相差の測定には数種の方法を利用することができ、例えば自動複屈折測定装置（王子計測機器（株）製）および偏光顕微鏡を利用することができる。このホメオトロピック配向液晶層はクロスニコル偏光子間で黒色に見える。このようにしてホメオトロピック配向性を評価した。

　本発明に使用されるホメオトロピック配向液晶フィルムは、液晶フィルムの厚さをｄ２、液晶フィルム面内の主屈折率をｎｘ２およびｎｙ２、厚さ方向の主屈折率をｎｚ２、かつ、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２とした場合に、面内のリターデーション値（Ｒｅ２＝（ｎｘ２－ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］）および厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２－ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］）が、以下の［４］および［５］を満たすことを特徴とする。
　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０
　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０

　ホメオトロピック配向液晶フィルムの光学パラメータであるＲｅ２値、Ｒｔｈ２値は、液晶表示装置の方式や種々の光学パラメータに依存することから一概には言えないが、５５０ｎｍの単色光に対して、ホメオトロピック配向液晶フィルム面内のリターデーション値（Ｒｅ２）は、０ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは０ｎｍ～１０ｎｍ、さらに好ましくは０ｎｍ～５ｎｍの範囲であり、かつ、厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ２）は、－５００～－３０ｎｍ、好ましくは－４００～－５０ｎｍ、さらに好ましくは－４００～－１００ｎｍに制御されたものである。

　前記Ｒｅ２値及びＲｔｈ２値を上記範囲にすることにより、液晶表示装置の視野角改良フィルムとしては、液晶表示の色調補正を行いながら視野角を広げることが可能となる。Ｒｅ値が２０ｎｍより大きい場合、大きい正面位相差値の影響で、液晶表示素子の正面特性を悪化させる恐れがある。また、Ｒｔｈ値が－３０ｎｍより大きいあるいは－５００ｎｍより小さい場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。

　次に、第５の光学異方性層について説明する。
　前記第５の光学異方性層としては、特に限定されないが、非液晶材料としては、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、例えば、トリアセチルセルロース、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のような環状ポリオレフィン類、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性であることから、ポリイミドが特に好ましい。また液晶性化合物からなる材料としては、コレステリック液晶ポリマーなどの液晶材料からなるコレステリック配向フィルム、液晶材料のコレステリック配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。

　第５の光学異方性層は、垂直配向型液晶セルの垂直配向液晶層を視野角補償するという点で、第５の光学異方性層の厚さをｄ５、第５の光学異方性層面内の主屈折率をｎｘ５、およびｎｙ５、厚さ方向の主屈折率をｎｚ５、かつ、ｎｘ５≧ｎｙ５＞ｎｚ５とし、波長５５０ｎｍの光における面内のリターデーション値（Ｒｅ５＝（ｎｘ５－ｎｙ５）×ｄ５［ｎｍ］、Ｒｔｈ５＝{（ｎｘ５＋ｎｙ５）／２－ｎｚ５}×ｄ５［ｎｍ］）とした場合に、以下の［１３］、［１４］式を満たす。
　　［１３］０≦Ｒｅ５≦２０
　　［１４］１００≦Ｒｔｈ５≦４００

　第５の光学異方性層は、垂直配向型液晶セルの光学膜厚、垂直配向型液晶セルに使用される液晶材料の複屈折値Δｎにもよるため一概には言えないが、第５の光学異方性層面内のリターデーション値（Ｒｅ５）は、通常０ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは０ｎｍ～１０ｎｍ、さらに好ましくは０ｎｍ～５ｎｍの範囲である。Ｒｅ５値が上記範囲を外れた場合には、正面から見た場合のコントラスト低下といった恐れがある。また、第５の厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ５）は、垂直配向型液晶セルの厚さ方向の位相差値は、通常１００ｎｍ～４００ｎｍ、好ましくは１８０ｎｍ～３６０ｎｍ、さらに好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍの範囲である。上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。

　本発明に使用される偏光子としては、通常、偏光子の片側または両側に保護フィルムを有するものが使用される。片側のみに保護フィルムを有する構造の場合、前記第１の光学異方性層は保護フィルムの機能を兼ねている。本発明の楕円偏光板は、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とが直交になるように積層されており、幅方向に延伸した負の二軸性光学異方性層を用いることでロールトゥロールでの一体製造が可能となる。

　偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光子の厚さも特に制限されないが、５～８０μｍ程度が一般的である。

　ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３～７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

　前記偏光子の片側または両側に設けられている保護フィルムには、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。前記保護フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、あるいは前記ポリマーのブレンド物などが保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。その他、アクリル系やウレタン系、アクリルウレタン系やエポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型樹脂などをフィルム化したものなどが挙げられる。保護フィルムの厚さは、一般には５００μｍ以下であり、１～３００μｍが好ましい。特に５～２００μｍとするのが好ましい。

　保護フィルムとしては、光学的に等方な基板が好ましく、例えばフジタック（富士フイルム社製品）やコニカタック（コニカミノルタオプト社製品）などのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、アートンフィルム（ＪＳＲ社製品）やゼオノアフィルム、ゼオネックスフィルム（日本ゼオン社製品）などのシクロオレフィン系ポリマー、ＴＰＸフィルム（三井化学社製品）、アクリプレンフィルム（三菱レーヨン社製品）が挙げられるが、楕円偏光板とした場合の平面性、耐熱性や耐湿性などからトリアセチルセルロース、シクロオレフィン系ポリマーが好ましい。
　なお、偏光子の両側に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる保護フィルムを用いてもよい。前記偏光子と保護フィルムとは通常、水系粘着剤等を介して密着している。水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。

　前記保護フィルムとしては、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものを用いることができる。
　ハードコート処理は偏光子表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光子表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。

　またアンチグレア処理は偏光子の表面で外光が反射して偏光子透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５～５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２～５０重量部程度であり、５～２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光子透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
　なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。

　前記第１、第２、第３、第４、第５の光学異方性層及び偏光子は、それぞれ粘着剤層を介して互いに貼り合わせることにより作製することができる。粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

　粘着剤層の形成は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、例えば、トルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた１０～４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で前記液晶層上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着剤層を形成してそれを前記液晶層上移着する方式などが挙げられる。また、粘着剤層には、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などであってもよい。
　なお、各光学異方性層を粘着剤層を介して、相互に貼り合わせる際には、フィルム表面を表面処理して粘着剤層との密着性を向上することができる。表面処理の手段は、特に制限されないが、前記の各光学異方性層の透明性を維持できるコロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理などの表面処理法を好適に採用できる。これら表面処理法のなかでもコロナ放電処理が良好である。

　以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。
（１）^１Ｈ－ＮＭＲの測定
　化合物を重水素化クロロホルムに溶解し、４００ＭＨｚの^１Ｈ－ＮＭＲ（Ｖａｒｉａｎｔ社製ＩＮＯＶＡ－４００）で測定した。
（２）ＧＰＣの測定
　化合物をテトラヒドロフランに溶解し、東ソー社製８０２０ＧＰＣシステムで、ＴＳＫ－ＧＥＬ　ＳｕｐｅｒＨ１０００、ＳｕｐｅｒＨ２０００、ＳｕｐｅｒＨ３０００、ＳｕｐｅｒＨ４０００を直列につなぎ、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて測定した。分子量の較正にはポリスチレンスタンダードを用いた。
（３）顕微鏡観察
　オリンパス光学社製ＢＨ２偏光顕微鏡で液晶の配向状態を観察した。
（４）膜厚測定法
　ＳＬＯＡＮ製ＳＵＲＦＡＣＥ　ＴＥＸＴＵＲＥ　ＡＮＡＬＹＳＩＳ　ＳＹＳＴＥＭ　Ｄｅｋｔａｋ　３０３０ＳＴを用いた。また、干渉波測定（日本分光（株）製　紫外・可視・近赤外分光光度計Ｖ－５７０）と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。
（５）液晶フィルムのパラメータ測定
　王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いた。

［参考例１］
（偏光子の作製）
　ポリビニルアルコールフィルムを温水中に浸漬して膨張させたあと、ヨウ素／ヨウ化カリウム水溶液中にて染色し、次いでホウ酸水溶液中で一軸延伸処理して偏光子を得た。これの偏光子は、分光光度計にて単体透過率、平行透過率および直交透過率を調べたところ透過率４３．５％、偏光度９９．９％であった。

［参考例２］
　下記式（８）で示される液晶性ポリマーを合成した。分子量はポリスチレン換算で、Ｍｎ＝８０００、Ｍｗ＝１５０００であった。なお、式（８）はブロック重合体の構造で表記しているがモノマーの構成比を表すものである。

　式（８）のポリマー１．０ｇを、９ｍｌのシクロヘキサノンに溶かし、暗所でトリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート５０％プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）０．１ｇを加えた後、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して液晶材料の溶液を調製した。
　配向基板は以下のようにして調製した。厚さ３８μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（帝人（株）製）を１５ｃｍ角に切り出し、アルキル変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：（株）クラレ製、ＭＰ－２０３）の５質量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの質量比１：１の混合溶媒）をスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱した。次いで、レーヨンのラビング布でラビングした。得られたＰＶＡ層の膜厚は１．２μｍであった。ラビング時の周速比（ラビング布の移動速度／基板フィルムの移動速度）は４とした。
　このようにして得られた配向基板に、前述の液晶材料溶液をスピンコート法により塗布した。次いで６０℃のホットプレートで１０分乾燥し、１５０℃のオーブンで２分間熱処理し、液晶材料を配向させた。次いで、６０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を照射して、液晶材料を硬化させた。

　基板として用いたポリエチレンナフタレートフィルムは大きな複屈折を持ち光学用フィルムとして好ましくないため、得られた配向基板上の液晶性フィルムを、紫外線硬化型接着剤を介して、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムに転写した。すなわち、ポリエチレンナフタレートフィルム上の硬化した液晶材料層の上に、接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、ＴＡＣフィルムでラミネートして、ＴＡＣフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、ポリエチレンナフタレートフィルムおよびＰＶＡ層を剥離した。

　得られた光学フィルム（液晶層／接着剤層／ＴＡＣフィルム）を偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、コノスコープ観察から正の一軸性屈折率構造を有するホメオトロピック配向であることがわかった。ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定したＴＡＣフィルムと液晶層をあわせた面内方向のリターデーションは０．５ｎｍ、厚さ方向のリターデーションは－１９５ｎｍであった。なお、ＴＡＣフィルム単体は負の一軸性で面内のリターデーションが０．５ｎｍ、厚さ方向のリターデーションは＋３５ｎｍであったことから、液晶層単独でのリターデーションは、Ｒｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが－２３０ｎｍと見積もられた。実施例１以降では他基材と貼り合わせる際は、基板のＴＡＣフィルムは除去しホメオトロピック配向液晶層のみを取り出して使用した。また、ホメオトロピック配向液晶層の厚みは１．３μｍであった。
　なお、上記のホメオトロピック配向液晶層が第２の光学異方性層に該当する。

［実施例１］
　楕円偏光板の構造について図１を用いて説明する。
　参考例１で得た偏光子の片面にポリビニルアルコール系接着剤を介して、厚み４０μｍ、正面位相差：６ｎｍ、厚み方向の位相差：６０ｎｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム２を接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面にポリビニルアルコール系接着剤を介して、ロール長尺方向に吸収軸を有する偏光子の吸収軸と横一軸延伸により作製したロール幅方向に遅相軸を有する第１の光学異方性層３（日本ゼオン（株）製ゼオノア）をロールトゥロール貼合することにより、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層３の遅相軸が直交になるように接着し、その上に参考例２で作製した第２の光学異方性層４をアクリル系粘着剤を介して貼り合せを行い、さらに第３の光学異方性層５（日本ゼオン（株）製ゼオノア）をアクリル系粘着剤を介して貼り合わせを行い、楕円偏光板を得た。得られた楕円偏光板の厚さは２３１μｍであった。ここで、第１の光学異方性層３のＲｅ１は１００ｎｍ、Ｒｔｈ１は９０ｎｍの位相差を示し、第３の光学異方性層５のＲｅ３は１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈ３は２１０ｎｍの位相差を示す。

［実施例２］
　本実施例２に用いた垂直配向型液晶表示装置について図２、図３を用いて説明する。
　基板７にＩＴＯ層からなる透過率の高い材料で透明電極８が形成され、基板９に対向電極１０が形成され、透明電極８と対向電極１０の間に負の誘電率異方性を示す液晶材料からなる液晶層１１が挟持されている。
　透明電極８及び対向電極１０の液晶層１１と接する表面にはそれぞれ垂直配向性の配向膜（図示せず）が形成されており、配向膜の塗布後、少なくとも一方の配向膜にラビング等の配向処理を行っている。
　液晶層１１の液晶分子は垂直配向性の配向膜に対するラビング等の配向処理により、基板面の垂直方向に対して１゜のチルト角を持つ。
　液晶層１１には負の誘電率異方性を示す液晶材料が用いられているため、透明電極８と対向電極１０の間に電圧を印加すると、液晶分子が基板面と平行方向に向かって傾く。
　液晶層１１の液晶材料として、Ｎｅ（異常光に対する屈折率）＝１．５６１、Ｎｏ（正常光に対する屈折率）＝１．４７８、ΔＮ（Ｎｅ－Ｎｏ）＝０．０８３の屈折率異方性を有する液晶材料を用い、セルギャップは４．７μｍとした。

　垂直配向型液晶セル１２の表示面側（図の上側）に実施例１で作製した楕円偏光板を配置した。垂直配向型液晶セル１２の背面側（図の下側）に直線偏光板１３（厚み約１０５μｍ；住友化学（株）製ＳＱＷ－０６２）を配置し、下側直線偏光板１３と液晶セル１２の間に第４の光学異方性層１４（日本ゼオン（株）製ゼオノア）を配置した。直線偏光板（住友化学（株）製ＳＱＷ－０６２）の支持基板に使用されるトリアセチルセルロースのＲｔｈは３５ｎｍであった。
　図３に矢印で示す、偏光子１および直線偏光板１３の吸収軸の方位はそれぞれ面内９０度、０度とした。第１の光学異方性層３は、面内に光軸を有し、負の二軸光学異方性を有する光学素子で形成されている。図３に矢印で示す、第１の光学異方性層３の遅相軸の方位は０度とし、面内Ｒｅ１で１００ｎｍ、Ｒｔｈ１で９０ｎｍの位相差を示す。
　第３、第４の光学異方性層５，１４は、面内に光軸を有し、負の二軸光学異方性を有する光学素子で形成されている。図３で矢印に示す、第３及び第４の光学異方性層５，１４の遅相軸の方位はそれぞれ４５度、１３５度とし、Ｒｅ３およびＲｅ４が１３７．５ｎｍの位相差を、Ｒｔｈ３およびＲｔｈ４は２１０ｎｍの位相差を示す。
　ホメオトロピック配向液晶フィルムからなる第２の光学異方性層４はＲｅ２が０ｎｍ、Ｒｔｈ２が－２３０ｎｍの位相差を示す。
　図４は、黒表示０Ｖ、白表示５Ｖの透過率の比（白表示）／（黒表示）をコントラスト比として、全方位からのコントラスト比を示している。コントラストの等高線は内側から順に５００、２００、１００、５０とした。また、同心円は中心から１０度間隔の角度を示す。したがって最外円は中心から８０度を示す（以下の図も同様）。

［実施例３］
　本実施例３に用いた垂直配向型液晶表示装置について図５、図６を用いて説明する。
　実施例２の垂直配向型液晶セル１２と第４の光学異方性層１４の間に第５の光学異方性層１５（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）を配置し、第３の光学異方性層５と第４の光学異方性層１４の位相差をＲｅ３およびＲｅ４を１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈ３およびＲｔｈ４を１４５ｎｍとした以外は、実施例２と同様にして垂直配向型液晶表示装置を作製した。第５の光学異方性層１５のＲｅ５値は０、Ｒｔｈ５値は１２０ｎｍである。
　図７は、黒表示０Ｖ、白表示５Ｖの透過率の比（白表示）／（黒表示）をコントラスト比として、全方位からのコントラスト比を示している。

［実施例４］
　以下に示す半透過反射型の垂直配向型液晶表示装置を作製した以外は、実施例２と同様にして半透過反射型垂直配向型液晶表示装置を作製した。
　半透過反射型垂直配向型液晶表示装置について図８、図９を用いて説明する。
　基板７にＡｌ層からなる反射率の高い材料で形成された反射電極１６とＩＴＯ層からなる透過率の高い材料で透明電極８とが設けられ、基板９に対向電極１０が設けられ、反射電極１６及び透明電極８と対向電極１０の間に負の誘電率異方性を示す液晶材料からなる液晶層１１が挟持されている。
　反射電極１６、透明電極８及び対向電極１０の液晶層１１と接する表面にはそれぞれ垂直配向性の配向膜（図示せず）が形成されており、配向膜の塗布後、少なくとも一方の配向膜にラビング等の配向処理を行っている。
　液晶層１１の液晶分子は垂直配向性の配向膜に対するラビング等の配向処理により、基板面の垂直方向に対して１゜のチルト角を持つ。
　液晶層１１には負の誘電率異方性を示す液晶材料が用いられているため、反射電極１６、透明電極８と対向電極１０の間に電圧を印加すると、液晶分子が基板面と平行方向に向かって傾く。
　液晶層１１の液晶材料は、実施例２と同様の材料を用い、セルギャップは、反射部分を２．４μｍ、透過部分を４．７μｍとした。
　第３及び第４の光学異方性層５，１４の遅相軸方位をそれぞれ４５度、１３５度とし、Ｒｅ３およびＲｅ４が１３７．５ｎｍであり、Ｒｔｈ３およびＲｔｈ４が２１０ｎｍであることは実施例２と同様である。
　図１０は、黒表示０Ｖ、白表示５Ｖの透過率の比（白表示）／（黒表示）をコントラスト比として、全方位からのコントラスト比を示している。

［比較例１］
　本比較例１に用いた垂直配向型液晶表示装置について図１１、図１２を用いて説明する。実施例２で用いた垂直配向型液晶セル１２の表示面側（図の上側）に直線偏光板２０（厚み約１０５μｍ；住友化学（株）製ＳＱＷ－０６２）を配置し、上側直線偏光板２０と液晶セル１２の間に縦一軸延伸により作製した正の一軸性光学異方性層１８（日本ゼオン（株）製ゼオノア）、参考例２で作製したホメオトロピック配向液晶フィルムからなる第２の光学異方性層４、第３の光学異方性層５（日本ゼオン（株）製ゼオノア）を配置した。垂直配向型液晶セル１２の背面側（図の下側）に直線偏光板１３（厚み約１０５μｍ；住友化学（株）製ＳＱＷ－０６２）を配置し、下側直線偏光板１３と液晶セル１２の間に第４の光学異方性層１４（日本ゼオン（株）製ゼオノア）を配置した。直線偏光板（住友化学（株）製ＳＱＷ－０６２）の支持基板に使用されるトリアセチルセルロースのＲｔｈ＝３５ｎｍであった。垂直配向型液晶セル１２の表示面側に配置された楕円偏光板の厚さは２８６μｍであった。
　図１２に矢印で示す、偏光子１および直線偏光板１３の吸収軸の方位はそれぞれ面内９０度、０度とした。正の一軸性光学異方性層１８は、面内に光軸を有し、正の一軸性を有する光学素子で形成されている。図１２に矢印で示す、正の一軸性光学異方性層１８の遅相軸の方位は０度とし、面内Ｒｅで１２０ｎｍ、Ｒｔｈで６０ｎｍの位相差を示す。
　第３、第４の光学異方性層５，１４は、面内に光軸を有し、負の二軸光学異方性を有する光学素子で形成されている。図１２で矢印に示す、第３及び第４の光学異方性層５，１４の遅相軸の方位はそれぞれ４５度、１３５度とし、Ｒｅ３およびＲｅ４が１３７．５ｎｍの位相差を、Ｒｔｈ３およびＲｔｈ４は２１０ｎｍの位相差を示す。
　ホメオトロピック配向液晶フィルムからなる第２の光学異方性層４はＲｅ２が０ｎｍ、Ｒｔｈ２が－２３０ｎｍの位相差を示す。
　図１３は、黒表示０Ｖ、白表示５Ｖの透過率の比（白表示）／（黒表示）をコントラスト比として、全方位からのコントラスト比を示している。
　全方位の等コントラスト曲線を図４、図７と図１３で比較してみると、ほぼ同程度の視野角特性を持つことが分かる。
　但し、実施例１で作製した楕円偏光板（厚さ２３１μｍ）に対し、図１１の垂直配向型液晶セル１２の上側に配置された積層体全体の厚さは２８６μｍと厚くなってしまった。これは、縦一軸延伸により作製した正の一軸光学異方性層１８では、偏光板の吸収軸と正の一軸光学異方性層１８の遅相軸を直交関係になるようにロールトゥロールで貼り合わせることが出来ないため、偏光子と正の一軸光学異方性層の間に偏光子を保護する透明保護層１９を設けた分厚くなってしまったためである。

　本発明により、低価格で、かつ視野角特性の優れた楕円偏光板及びそれを用いた垂直配向型液晶表示装置が提供される。

１：偏光子、２：透明保護層、３：第１の光学異方性層、４：第２の光学異方性層、５：第３の光学異方性層、６：楕円偏光板、７：基板、８：透明電極、９：基板、１０：対向電極、１１：液晶層（垂直配向）、１２：垂直配向型液晶セル、１３：直線偏光板、１４：第４の光学異方性層、１５：第５の光学異方性層、１６：反射電極、１７：半透過型垂直配向型液晶セル、１８：正の一軸性光学異方性層、１９：透明保護層、２０：直線偏光板

Claims

　少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層および第３の光学異方性層がこの順に積層された楕円偏光板であって、
前記第１の光学異方性層が、以下の［１］～［３］を満たし、
　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００
　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０
　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１及びＲｔｈ１は、それぞれＲｅ１＝（ｎｘ１－ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２－ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。また、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１，ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ１＞ｎｙ１＞ｎｚ１である。）
前記第２の光学異方性層が、以下の［４］、［５］を満たし、
　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０
　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２－ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２－ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。また、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２，ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２である。）
前記第３の光学異方性層が、以下の［６］～［８］を満たすことを特徴とする楕円偏光板。
　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０
　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００
　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５
（ここで、Ｒｅ３は第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ３は第３の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ３及びＲｔｈ３は、それぞれＲｅ３＝（ｎｘ３－ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、Ｒｔｈ３＝｛（ｎｘ３＋ｎｙ３）／２－ｎｚ３｝×ｄ３［ｎｍ］である。また、ｄ３は第３の光学異方性層の厚さ、ｎｘ３，ｎｙ３は波長５５０ｎｍの光に対する第３の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ３は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ３＞ｎｙ３≧ｎｚ３である。）
　前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする請求項１に記載の楕円偏光板。
　前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする請求項２に記載の楕円偏光板。
　前記第１及び第３の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする請求項１に記載の楕円偏光板。
　前記第３の光学異方性層が、更に以下の［１２］を満たすことを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の楕円偏光板。
　［１２］０．７≦Ｒｅ３（４５０）／Ｒｅ３（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ３（４５０）、Ｒｅ３（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）
　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、８０°≦ｒ≦１００°を満たすように積層されていることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の楕円偏光板。
　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第３の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｐとしたときに、４０°≦ｐ≦５０°を満たすことを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の楕円偏光板。
　前記第１の光学異方性層が前記第１の偏光子の保護層を兼ねることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の楕円偏光板。
　少なくとも第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、第３の光学異方性層、電極を備えた１対の基板間に電圧無印加時に基板表面に対して垂直配向する液晶分子を含む垂直配向型液晶セル、第４の光学異方性層、第２の偏光子がこの順に配置された垂直配向型液晶表示装置であって、
前記第１の光学異方性層が、以下の［１］～［３］を満たし、
　　［１］５０≦Ｒｅ１≦５００
　　［２］３０≦Ｒｔｈ１≦７５０
　　［３］０．６≦Ｒｔｈ１／Ｒｅ１≦１．５
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１及びＲｔｈ１は、それぞれＲｅ１＝（ｎｘ１－ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２－ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。また、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１，ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ１＞ｎｙ１＞ｎｚ１である。）
前記第２の光学異方性層が、以下の［４］、［５］を満たし、
　　［４］０≦Ｒｅ２≦２０
　　［５］－５００≦Ｒｔｈ２≦－３０
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２－ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２－ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。また、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２，ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２である。）
前記第３の光学異方性層が、以下の［６］～［８］を満たし、
　　［６］１００≦Ｒｅ３≦１８０
　　［７］５０≦Ｒｔｈ３≦６００
　　［８］０．５≦Ｒｔｈ３／Ｒｅ３≦３．５
（ここで、Ｒｅ３は第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ３は第３の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ３及びＲｔｈ３は、それぞれＲｅ３＝（ｎｘ３－ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、Ｒｔｈ３＝｛（ｎｘ３＋ｎｙ３）／２－ｎｚ３｝×ｄ３［ｎｍ］である。また、ｄ３は第３の光学異方性層の厚さ、ｎｘ３，ｎｙ３は波長５５０ｎｍの光に対する第３の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ３は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ３＞ｎｙ３≧ｎｚ３である。）
前記第４の光学異方性層が、以下の［９］～［１１］を満たすことを特徴とする垂直配向型液晶表示装置。
　　［９］１００≦Ｒｅ４≦１８０
　　［１０］５０≦Ｒｔｈ４≦６００
　　［１１］０．５≦Ｒｔｈ４／Ｒｅ４≦３．５
（ここで、Ｒｅ４は第４の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ４は第４の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ４及びＲｔｈ４は、それぞれＲｅ４＝（ｎｘ４－ｎｙ４）×ｄ４［ｎｍ］、Ｒｔｈ４＝｛（ｎｘ４＋ｎｙ４）／２－ｎｚ４｝×ｄ４［ｎｍ］である。また、ｄ４は第４の光学異方性層の厚さ、ｎｘ４，ｎｙ４は波長５５０ｎｍの光に対する第４の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ４は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ４＞ｎｙ４≧ｎｚ４である。）
　垂直配向型液晶セルと第４の光学異方性層の間に、更に以下の［１３］、［１４］を満たす第５の光学異方性層を有することを特徴とする請求項９に記載の垂直配向型液晶表示装置。
　　［１３］０≦Ｒｅ５≦２０
　　［１４］１００≦Ｒｔｈ５≦４００
（ここで、Ｒｅ５は第５の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ５は第５の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ５及びＲｔｈ５は、それぞれＲｅ５＝（ｎｘ５－ｎｙ５）×ｄ５［ｎｍ］、Ｒｔｈ５＝｛（ｎｘ５＋ｎｙ５）／２－ｎｚ５｝×ｄ５［ｎｍ］である。また、ｄ５は第５の光学異方性層の厚さ、ｎｘ５，ｎｙ５は波長５５０ｎｍの光に対する第５の光学異方性層面内の主屈折率、ｎｚ５は波長５５０ｎｍの光に対する厚さ方向の主屈折率であり、ｎｘ５≧ｎｙ５＞ｎｚ５である。）
　前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする請求項９または１０に記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする請求項１１に記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第１、第３及び第４の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする請求項９～１２のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第３の光学異方性層が、更に以下の［１２］を満たすことを特徴とする請求項９～１３のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　［１２］０．７≦Ｒｅ３（４５０）／Ｒｅ３（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ３（４５０）、Ｒｅ３（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第３の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）
　前記第４の光学異方性層が、更に以下の［１５］を満たすことを特徴とする請求項９～１４のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　［１５］０．７≦Ｒｅ４（４５０）／Ｒｅ４（５９０）≦１．０５
（ここで、Ｒｅ４（４５０）、Ｒｅ４（５９０）は、波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍの光における第４の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。）
　前記第５の光学異方性層が、液晶性化合物、トリアセチルセルロース、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドから選ばれる少なくとも１種の素材から形成された層であることを特徴とする請求項９～１５のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、８０°≦ｒ≦１００°を満たすように積層されていることを特徴とする請求項９～１６のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第３の光学異方性層の遅相軸と前記第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度が８０°～１００°となるように積層されていることを特徴とする請求項９～１７のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第１の偏光子の吸収軸と前記第３の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｐ、前記第２の偏光子の吸収軸と前記第４の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｑとしたときに、４０°≦ｐ≦５０°、４０°≦ｑ≦５０°を満たすことを特徴とする請求項９～１８のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記第１の光学異方性層が前記第１の偏光子の保護層を兼ねることを特徴とする請求項９～１９のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。
　前記垂直配向型液晶セルの一方の基板が反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを有する基板であることを特徴とする請求項９～２０のいずれかに記載の垂直配向型液晶表示装置。