WO2009041646A1 - 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子 - Google Patents
光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2009041646A1 WO2009041646A1 PCT/JP2008/067538 JP2008067538W WO2009041646A1 WO 2009041646 A1 WO2009041646 A1 WO 2009041646A1 JP 2008067538 W JP2008067538 W JP 2008067538W WO 2009041646 A1 WO2009041646 A1 WO 2009041646A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- monomer
- photocurable composition
- photocurable
- mass
- parts
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract 8
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 abstract 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F292/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/887—Nanoimprint lithography, i.e. nanostamp
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
Abstract
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020107006639A KR101457254B1 (ko) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | 광경화성 조성물, 미세 패턴 형성체의 제조 방법 및 광학 소자 |
CN200880108313.1A CN101809046A (zh) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | 光固化性组合物、精细图案形成体的制造方法和光学元件 |
EP08833490A EP2194075B1 (en) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | Photocurable composition, method for producing fine patterned body, and optical device |
JP2009534438A JP5413195B2 (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | 微細パターン形成体、微細パターン形成体の製造方法、光学素子および光硬化性組成物 |
US12/659,934 US8133428B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-03-25 | Photocurable composition, process for producing fine patterned product and optical element |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255416 | 2007-09-28 | ||
JP2007-255416 | 2007-09-28 | ||
JP2007-306402 | 2007-11-27 | ||
JP2007306402 | 2007-11-27 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US12/659,934 Continuation US8133428B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-03-25 | Photocurable composition, process for producing fine patterned product and optical element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2009041646A1 true WO2009041646A1 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=40511526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2008/067538 WO2009041646A1 (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8133428B2 (ja) |
EP (1) | EP2194075B1 (ja) |
JP (1) | JP5413195B2 (ja) |
KR (1) | KR101457254B1 (ja) |
CN (1) | CN101809046A (ja) |
TW (1) | TWI425009B (ja) |
WO (1) | WO2009041646A1 (ja) |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009287017A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-12-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物及び物品 |
WO2010064534A1 (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | 昭和電工株式会社 | 造形方法 |
JP2010248352A (ja) * | 2009-04-14 | 2010-11-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 接着剤用(メタ)アクリル系樹脂組成物 |
WO2011002042A1 (ja) | 2009-07-01 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法およびワイヤグリッド型偏光子の製造方法 |
JP2011061001A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Toshiba Corp | パターン形成方法 |
JP2011221334A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法 |
WO2012053543A1 (ja) * | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 株式会社トクヤマ | 光硬化性ナノインプリント用組成物、該組成物を用いたパターンの形成方法及び該組成物の硬化体を有するナノインプリント用レプリカ金型 |
CN102512849A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-06-27 | 郑州大学 | 毛细管填充柱的制备方法 |
WO2012098942A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | テルモ株式会社 | 微細構造ゲルの製造方法 |
JP2012523582A (ja) * | 2009-04-10 | 2012-10-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | ワイヤグリッド偏光子、これを含む液晶表示装置、3次元立体映像ディスプレイ装置およびワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
WO2013129096A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | リンテック株式会社 | エネルギー線硬化型親水性粘着剤組成物、粘着シートおよび親水性構造体 |
JP2015111691A (ja) * | 2010-01-29 | 2015-06-18 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法並びにインプリント用モールド基材 |
JP2015210497A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 微細パターンの形成方法、成型体、ワイヤグリッド偏光子、及び転写装置 |
WO2016043244A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 綜研化学株式会社 | 微細パターン付き繊維体 |
JP2016115779A (ja) * | 2014-12-13 | 2016-06-23 | 株式会社ダイセル | ナノインプリント用光硬化性組成物 |
WO2017170744A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 光学素子、周期構造体、光学素子の製造方法及び周期構造体の製造方法 |
JP2017531207A (ja) * | 2014-09-25 | 2017-10-19 | コーロン インダストリーズ インク | ナノパターンを含む光学シート及びその製造方法 |
WO2017195598A1 (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | 横浜ゴム株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化皮膜、及び、積層体 |
CN110536798A (zh) * | 2017-04-18 | 2019-12-03 | 韩国铸造、安全印刷与Id卡操作公司 | 光子晶体膜及其制造方法、包含该光子晶体膜的防伪产品 |
JP2020132773A (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硬化性複合材料及びそれを用いたインプリント方法 |
US10927199B2 (en) | 2015-12-09 | 2021-02-23 | AGC Inc. | Curable composition and cured product |
WO2022259748A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | キヤノン株式会社 | 硬化性組成物、膜形成方法及び物品の製造方法 |
WO2023106374A1 (ja) * | 2021-12-09 | 2023-06-15 | 日本電気硝子株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG171832A1 (en) * | 2008-12-05 | 2011-07-28 | Asahi Glass Co Ltd | Photocurable composition and method for manufacturing a molded body having a fine surface pattern |
US9290039B2 (en) | 2009-09-14 | 2016-03-22 | Compal Electronics, Inc. | Production method of workpiece and workpiece with three-dimensional pattern |
US9242505B2 (en) | 2009-09-14 | 2016-01-26 | Compal Electronics, Inc. | Production method of workpiece and workpiece with three-dimensional pattern |
KR101500897B1 (ko) * | 2011-01-12 | 2015-03-12 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 미세 요철 구조체 및 미세 요철 구조체의 제조 방법 |
JP2014112118A (ja) * | 2011-03-25 | 2014-06-19 | Nippon Paper Chemicals Co Ltd | 反射防止フィルム |
US20120242814A1 (en) | 2011-03-25 | 2012-09-27 | Kenneth Kubala | Miniature Wafer-Level Camera Modules |
KR101771138B1 (ko) * | 2011-05-13 | 2017-08-25 | 삼성전자주식회사 | 와이어 그리드 편광자, 상기 와이어 그리드 편광자의 제조 방법 및 상기 와이어 그리드 편광자를 포함하는 디스플레이 패널 |
CN102162869A (zh) * | 2011-05-17 | 2011-08-24 | 河南三阳光电有限公司 | 一种柱镜光栅的制备工艺 |
JP5744641B2 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-07-08 | 三菱レイヨン株式会社 | ナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材 |
TWI471693B (zh) * | 2011-11-10 | 2015-02-01 | Canon Kk | 光可固化組成物,及使用彼之圖案化方法 |
KR101856231B1 (ko) | 2011-12-19 | 2018-05-10 | 엘지이노텍 주식회사 | 나노패턴을 구비한 투명기판 및 그 제조방법 |
KR20130116978A (ko) | 2012-04-17 | 2013-10-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 편광자 제조방법 및 표시 기판의 제조방법 |
JP2014032394A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-20 | Nitto Denko Corp | マイクロミラーアレイおよびその製法並びにそれに用いる光学素子 |
KR101250494B1 (ko) * | 2012-12-18 | 2013-04-05 | 강태원 | 도광판용 성형장치와 이를 이용한 도광판 및 성형장치와 도광판의 제조방법 |
KR20140123780A (ko) * | 2013-04-15 | 2014-10-23 | 동우 화인켐 주식회사 | 광경화 코팅 필름, 편광판 및 표시장치 |
CN105934406A (zh) * | 2013-10-01 | 2016-09-07 | 科思创德国股份有限公司 | 用于透明导电薄膜的可uv图案化硬涂层 |
CN106461962B (zh) | 2014-02-06 | 2020-10-27 | 视觉缓解公司 | 线栅偏振器及制造方法 |
WO2016048091A1 (ko) * | 2014-09-25 | 2016-03-31 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 나노패턴을 포함하는 광학시트 및 그 제조방법 |
US20170315281A1 (en) * | 2014-10-15 | 2017-11-02 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Polarizing plate, method for manufacturing same, and medium |
CN104459863A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-03-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 线栅偏光片及其制备方法、显示面板和显示装置 |
JP2018537713A (ja) * | 2015-11-23 | 2018-12-20 | コーニング インコーポレイテッド | ワイヤグリッド偏光子およびその製造方法 |
CN107632449A (zh) * | 2017-10-10 | 2018-01-26 | 青岛海信电器股份有限公司 | 一种量子点液晶显示面板及其制作方法 |
US20210132276A1 (en) * | 2017-10-20 | 2021-05-06 | Indiana University Research And Technology Corporation | Polymer infrared polarizer |
JP6976637B2 (ja) * | 2017-11-03 | 2021-12-08 | エルジー・ケム・リミテッド | プラスチック基板の製造方法 |
US11079528B2 (en) * | 2018-04-12 | 2021-08-03 | Moxtek, Inc. | Polarizer nanoimprint lithography |
CN108873140B (zh) * | 2018-07-25 | 2020-12-29 | Tcl华星光电技术有限公司 | 金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片 |
CN109085730B (zh) * | 2018-08-18 | 2020-12-11 | 南阳理工学院 | 一种新闻摄像反光板 |
CN109304539A (zh) * | 2018-11-02 | 2019-02-05 | 英诺激光科技股份有限公司 | 一种具有任意曲面、用于相差校正的光学器件的间接制作方法 |
CN109917500A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-06-21 | 北京科易达知识产权服务有限公司 | 有机热红外薄膜透镜的结构、设计及其制备方法 |
KR102456679B1 (ko) * | 2019-08-14 | 2022-10-19 | 주식회사 엘지화학 | 회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법 |
JP7345954B2 (ja) * | 2019-08-14 | 2023-09-19 | エルジー・ケム・リミテッド | 回折導光板および回折導光板の製造方法 |
PH12020050238A1 (en) * | 2019-08-27 | 2021-06-14 | Moxtek Inc | Wire grid polarizer with slanted support-ribs |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61181809A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JPH072913A (ja) * | 1993-04-20 | 1995-01-06 | Sekisui Finechem Co Ltd | 着色重合体微粒子及びその製造方法並びに液晶表示素子用スペーサー及び液晶表示素子 |
JP2002012796A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-15 | Toagosei Co Ltd | 被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク |
WO2006005980A1 (en) | 2004-06-16 | 2006-01-19 | Ranbaxy Laboratories Limited | Xanthine derivatives useful as muscarinic receptor antagonists |
WO2006035646A1 (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | シリカ含有シリコーン樹脂組成物及びその成形体 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4455205A (en) * | 1981-06-01 | 1984-06-19 | General Electric Company | UV Curable polysiloxane from colloidal silica, methacryloyl silane, diacrylate, resorcinol monobenzoate and photoinitiator |
US4855333A (en) * | 1982-06-28 | 1989-08-08 | International Business Machines Corp. | Multiple wire photosensitive adhesive for wire embedment |
JPS60230102A (ja) | 1984-04-28 | 1985-11-15 | Japan Spectroscopic Co | 両方向蒸着の赤外域ワイヤ−格子偏光子とその作製方法 |
JP3724132B2 (ja) * | 1997-08-21 | 2005-12-07 | 日本油脂株式会社 | 無機化合物微粒子含有含フッ素単量体組成物及び減反射フィルム |
JP2001330728A (ja) | 2000-05-22 | 2001-11-30 | Jasco Corp | ワイヤーグリット型偏光子及びその製造方法 |
US6534235B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-03-18 | Kansai Research Institute, Inc. | Photosensitive resin composition and process for forming pattern |
JP2002328222A (ja) | 2001-04-26 | 2002-11-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 偏光素子及びその製造方法 |
US7420005B2 (en) * | 2001-06-28 | 2008-09-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photocurable resin composition, finely embossed pattern-forming sheet, finely embossed transfer sheet, optical article, stamper and method of forming finely embossed pattern |
US6932934B2 (en) * | 2002-07-11 | 2005-08-23 | Molecular Imprints, Inc. | Formation of discontinuous films during an imprint lithography process |
US7077992B2 (en) * | 2002-07-11 | 2006-07-18 | Molecular Imprints, Inc. | Step and repeat imprint lithography processes |
JP2004240297A (ja) | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Sanyo Electric Co Ltd | 偏光分離光学素子 |
JP4386413B2 (ja) | 2003-08-25 | 2009-12-16 | 株式会社エンプラス | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法 |
US7074463B2 (en) * | 2003-09-12 | 2006-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Durable optical element |
US20050250052A1 (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-10 | Nguyen Khe C | Maskless lithography using UV absorbing nano particle |
JP2006003447A (ja) | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Sony Corp | 偏光分離素子及びその製造方法 |
JP2006152074A (ja) | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化型樹脂組成物、およびこれを用いてなる回折型集光フィルム |
KR20070084250A (ko) * | 2004-11-30 | 2007-08-24 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 몰드 및 전사 미세 패턴을 갖는 기재의 제조 방법 |
CN101080656B (zh) | 2004-12-16 | 2011-04-20 | 东丽株式会社 | 偏振光片、其制造方法和使用该偏振光片的液晶显示装置 |
US20070260008A1 (en) | 2005-09-21 | 2007-11-08 | Takashi Saito | Silica-Containing Silicone Resin Composition and Its Molded Product |
EP2023169A4 (en) | 2006-04-07 | 2011-03-16 | Asahi Glass Co Ltd | WIRE GRID POLARIZER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
JP5117002B2 (ja) * | 2006-07-10 | 2013-01-09 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP2008084984A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp | 光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
TWI431338B (zh) | 2007-01-12 | 2014-03-21 | Toray Industries | 偏光板及使用它之液晶顯示裝置 |
JP2008202022A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-09-04 | Fujifilm Corp | 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP5387406B2 (ja) * | 2007-06-20 | 2014-01-15 | 旭硝子株式会社 | 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 |
JP5037243B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2012-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 界面結合剤、該界面結合剤を含有するレジスト組成物、及び該界面結合剤からなる層を有する磁気記録媒体形成用積層体、並びに該界面結合剤を用いた磁気記録媒体の製造方法、及び該製造方法により製造された磁気記録媒体 |
US7654715B1 (en) * | 2007-08-09 | 2010-02-02 | Kla-Tencor Technologies Corporation | System and method for illuminating a specimen with uniform angular and spatial distribution |
JP5101343B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2012-12-19 | 株式会社ダイセル | 微細構造物の製造方法 |
WO2009145061A1 (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | 旭硝子株式会社 | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 |
-
2008
- 2008-09-26 CN CN200880108313.1A patent/CN101809046A/zh active Pending
- 2008-09-26 WO PCT/JP2008/067538 patent/WO2009041646A1/ja active Application Filing
- 2008-09-26 JP JP2009534438A patent/JP5413195B2/ja active Active
- 2008-09-26 EP EP08833490A patent/EP2194075B1/en not_active Not-in-force
- 2008-09-26 KR KR1020107006639A patent/KR101457254B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-09-30 TW TW097137544A patent/TWI425009B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-03-25 US US12/659,934 patent/US8133428B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61181809A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JPH072913A (ja) * | 1993-04-20 | 1995-01-06 | Sekisui Finechem Co Ltd | 着色重合体微粒子及びその製造方法並びに液晶表示素子用スペーサー及び液晶表示素子 |
JP2002012796A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-15 | Toagosei Co Ltd | 被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク |
WO2006005980A1 (en) | 2004-06-16 | 2006-01-19 | Ranbaxy Laboratories Limited | Xanthine derivatives useful as muscarinic receptor antagonists |
WO2006035646A1 (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | シリカ含有シリコーン樹脂組成物及びその成形体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
See also references of EP2194075A4 |
Cited By (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009287017A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-12-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物及び物品 |
WO2010064534A1 (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | 昭和電工株式会社 | 造形方法 |
US8840830B2 (en) | 2008-12-01 | 2014-09-23 | Aji Co., Ltd. | Method of molding |
JP5551084B2 (ja) * | 2008-12-01 | 2014-07-16 | Aji株式会社 | 造形方法 |
US9599762B2 (en) | 2009-04-10 | 2017-03-21 | Lg Innotek Co., Ltd. | Wire grid polarizer, liquid crystal device including the wire grid polarizer, 3-D stereoscopic image display device including the wire grid polarizer, and method of manufacturing the wire grid polarizer |
JP2012523582A (ja) * | 2009-04-10 | 2012-10-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | ワイヤグリッド偏光子、これを含む液晶表示装置、3次元立体映像ディスプレイ装置およびワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
JP2010248352A (ja) * | 2009-04-14 | 2010-11-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 接着剤用(メタ)アクリル系樹脂組成物 |
WO2011002042A1 (ja) | 2009-07-01 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法およびワイヤグリッド型偏光子の製造方法 |
US8753803B2 (en) | 2009-09-10 | 2014-06-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern forming method |
JP2011061001A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Toshiba Corp | パターン形成方法 |
JP2015111691A (ja) * | 2010-01-29 | 2015-06-18 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法並びにインプリント用モールド基材 |
JP2011221334A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法 |
WO2012053543A1 (ja) * | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 株式会社トクヤマ | 光硬化性ナノインプリント用組成物、該組成物を用いたパターンの形成方法及び該組成物の硬化体を有するナノインプリント用レプリカ金型 |
US9228035B2 (en) | 2010-10-20 | 2016-01-05 | Tokuyama Corporation | Photo-curable nanoimprint composition, method for formatting pattern using the composition, and nanoimprint replica mold comprising cured product of the composition |
JPWO2012098942A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2014-06-09 | テルモ株式会社 | 微細構造ゲルの製造方法 |
WO2012098942A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | テルモ株式会社 | 微細構造ゲルの製造方法 |
CN102512849B (zh) * | 2011-12-31 | 2014-04-09 | 郑州大学 | 毛细管填充柱的制备方法 |
CN102512849A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-06-27 | 郑州大学 | 毛细管填充柱的制备方法 |
WO2013129096A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | リンテック株式会社 | エネルギー線硬化型親水性粘着剤組成物、粘着シートおよび親水性構造体 |
JPWO2013129096A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2015-07-30 | リンテック株式会社 | エネルギー線硬化型親水性粘着剤組成物、粘着シートおよび親水性構造体 |
JP2015210497A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 微細パターンの形成方法、成型体、ワイヤグリッド偏光子、及び転写装置 |
WO2016043244A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 綜研化学株式会社 | 微細パターン付き繊維体 |
US10132962B2 (en) | 2014-09-25 | 2018-11-20 | Kolon Industries, Inc. | Optical sheet comprising nanopattern and method for manufacturing same |
JP2017531207A (ja) * | 2014-09-25 | 2017-10-19 | コーロン インダストリーズ インク | ナノパターンを含む光学シート及びその製造方法 |
JP2016115779A (ja) * | 2014-12-13 | 2016-06-23 | 株式会社ダイセル | ナノインプリント用光硬化性組成物 |
US10927199B2 (en) | 2015-12-09 | 2021-02-23 | AGC Inc. | Curable composition and cured product |
WO2017170744A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 光学素子、周期構造体、光学素子の製造方法及び周期構造体の製造方法 |
WO2017195598A1 (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | 横浜ゴム株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化皮膜、及び、積層体 |
CN110536798A (zh) * | 2017-04-18 | 2019-12-03 | 韩国铸造、安全印刷与Id卡操作公司 | 光子晶体膜及其制造方法、包含该光子晶体膜的防伪产品 |
JP2020522583A (ja) * | 2017-04-18 | 2020-07-30 | コリア ミンティング, セキュリティ プリンティング アンド アイディー カード オペレーティング コーポレーションKorea Minting, Security Printing & Id Card Operating Corp. | フォトニック結晶フィルム、その製造方法およびこれを含む偽造防止物品 |
EP3613594A4 (en) * | 2017-04-18 | 2021-04-14 | Korea Minting, Security Printing & ID Card Operating Corp. | PHOTONIC CRYSTAL FILM, ITS MANUFACTURING PROCESS, AND ANTI-COUNTERFEIT ARTICLE CONTAINING IT |
JP7007400B2 (ja) | 2017-04-18 | 2022-01-24 | コリア ミンティング,セキュリティ プリンティング アンド アイディー カード オペレーティング コーポレーション | フォトニック結晶フィルム、その製造方法およびこれを含む偽造防止物品 |
JP2020132773A (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硬化性複合材料及びそれを用いたインプリント方法 |
JP7284590B2 (ja) | 2019-02-21 | 2023-05-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硬化性複合材料及びそれを用いたインプリント方法 |
WO2022259748A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | キヤノン株式会社 | 硬化性組成物、膜形成方法及び物品の製造方法 |
WO2023106374A1 (ja) * | 2021-12-09 | 2023-06-15 | 日本電気硝子株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2194075A4 (en) | 2010-12-08 |
KR101457254B1 (ko) | 2014-10-31 |
JPWO2009041646A1 (ja) | 2011-01-27 |
CN101809046A (zh) | 2010-08-18 |
EP2194075A1 (en) | 2010-06-09 |
TWI425009B (zh) | 2014-02-01 |
KR20100081976A (ko) | 2010-07-15 |
US20100259821A1 (en) | 2010-10-14 |
JP5413195B2 (ja) | 2014-02-12 |
TW200934795A (en) | 2009-08-16 |
EP2194075B1 (en) | 2013-01-09 |
US8133428B2 (en) | 2012-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2009041646A1 (ja) | 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子 | |
SG162673A1 (en) | Process and method for modifying polymer film surface interaction | |
EP2375286A3 (en) | Treated substratum with hydrophilic region and water-repellent region and process for producing the same | |
WO2001095030A3 (en) | Resin composition and three-dimensional object | |
WO2010013816A1 (ja) | ネガ型感光性組成物、それを用いた光学素子用隔壁および該隔壁を有する光学素子 | |
US20050093194A1 (en) | Solid free-form fabrication of three-dimensional objects | |
WO2008061885A3 (en) | Microcapsules, their use and processes for their manufacture | |
WO2005045522A3 (en) | Photocurable compositions for articles having stable tensile properties | |
WO2009078336A1 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
EP2065414A4 (en) | POLYMERIC POLYMERIC FOR THE OPTICAL USE POLYMERIZATION CATALYST, POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE CATALYST, POLYTHIOURETHANE RESIN RESERVED FROM THE COMPOSITION, AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF THE RESIN | |
EP2159236A4 (en) | LIGHT-CURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING A FORMOBJECT WITH A FINISHED SURFACE STRUCTURE | |
WO2007111898A3 (en) | Liquid treatment composition | |
FR2880349B1 (fr) | Nanoparticules de polyvinylaromatique fonctionnalise | |
WO2008087980A1 (ja) | 親水性モノマー含有重合性組成物及び歯科用材料 | |
ATE462768T1 (de) | Tintenzusammensetzung | |
WO2008101806A3 (en) | High refractive index monomers, compositions and uses thereof | |
EP1873169A4 (en) | MAGNESIUM COMPOUND, SOLID CATALYST COMPONENT, ETHYLENE POLYMERIZATION CATALYST AND PRODUCTION METHOD FOR AN ETHYLENE POLYMER | |
WO2008099903A3 (en) | Fine pattern transfer material | |
WO2007027500A3 (en) | Surface-modified medical devices and methods of making | |
WO2009020184A1 (ja) | 車両 | |
EP1801145A4 (en) | PROCESS FOR PRODUCING CURED PRODUCT OF PHOTOSENSITIVE RESIN | |
PL2241448T3 (pl) | Pierwotna typograficzna forma drukowa do grawerowania laserowego i otrzymana w ten sposób typograficzna forma drukowa | |
WO2005109515A3 (en) | System and method for making nanoparticles with controlled emission properties | |
WO2004069916A3 (en) | Photo-imageable nanocomposites | |
ATE440307T1 (de) | Polymerisierbarer, negativer, planographischer druckplattenvorläufer, stapel von polymerisierbaren, negativen, planographischen druckplattenvorläufern und verfahren zur herstellung eines polymerisierbaren, negativen, planographischen druckplattenvorläufers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 200880108313.1 Country of ref document: CN |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 08833490 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2009534438 Country of ref document: JP |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2008833490 Country of ref document: EP |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20107006639 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |