WO2007037344A1 - フレームデータ作成装置、方法及び描画装置 - Google Patents

フレームデータ作成装置、方法及び描画装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2007037344A1
WO2007037344A1 PCT/JP2006/319372 JP2006319372W WO2007037344A1 WO 2007037344 A1 WO2007037344 A1 WO 2007037344A1 JP 2006319372 W JP2006319372 W JP 2006319372W WO 2007037344 A1 WO2007037344 A1 WO 2007037344A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
data
unit
frame data
frame
image
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/319372
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Mitsuru Mushano
Original Assignee
Fujifilm Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corporation filed Critical Fujifilm Corporation
Priority to US11/992,391 priority Critical patent/US8035852B2/en
Publication of WO2007037344A1 publication Critical patent/WO2007037344A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus

Definitions

  • the present invention moves a drawing unit including a plurality of drawing point forming elements that form a drawing point group composed of a plurality of drawing points on a drawing surface relative to the drawing surface in a predetermined scanning direction.
  • the drawing unit unit frame data is sequentially supplied to the drawing unit according to the movement in the scanning direction, and the drawing point group is formed on the drawing surface in time series by the drawing unit.
  • the present invention relates to a frame data creation device incorporated in a drawing device that forms an image (two-dimensional pattern) on a surface, a frame data creation method applied to the drawing device, and a drawing device.
  • a spatial light modulation element such as a digital micromirror device (hereinafter referred to as “DMD”) is used, and a light beam is generated by the spatial light modulation element in accordance with image data.
  • DMD digital micromirror device
  • Various exposure apparatuses that perform exposure with modulation have been proposed!
  • a DMD is a memory array (SRAM array) on a semiconductor substrate such as silicon, in which a number of micromirrors are two-dimensionally arranged. Then, by controlling the electrostatic force due to the electric charge accumulated in the memory array, the micromirror can be tilted to change the angle of the reflecting surface, and this change in the angle of the reflecting surface brings it to a desired position on the drawing surface.
  • An image can be formed by forming drawing points.
  • the DMD is moved relative to the exposure surface in a predetermined scanning direction, and the DMD is moved according to the movement in the scanning direction. Desired by inputting frame data, which is also used as the data of multiple drawing point forming elements corresponding to the micromirror group, to the memory array and sequentially forming the drawing point group corresponding to the micromirror group of DMD in time series on the exposure surface
  • An exposure apparatus has been proposed that forms the image on the exposure surface (Patent Document 1).
  • Patent Document 1 In order to increase the resolution of an image formed on an exposure surface, an exposure apparatus has also been proposed that performs exposure as described above by inclining the DMD by a predetermined angle with respect to the scanning direction.
  • Frames 1 to 15 shown at the bottom of Figs. 16A to 18E schematically show frame data input to the DMD when the DMD is in the position shown in each figure. is there.
  • image data consisting of pixel data corresponding to each pixel shown in FIGS. 16A to 18E is stored in a memory such as a DRAM, and as shown in FIGS. 16A to 18E, For each position of the DMD, each frame data having a drawing point data force was created by sequentially reading out pixel data corresponding to each of the DMD micromirrors 1 to 8 from the memory.
  • the pixel data corresponding to the white square and hatched square pixels shown in FIGS. 16A to 18E is the off-data “0” of each micromirror constituting the DMD, and the pixel data corresponding to the black square pixels. Is on-data “1”. Further, the range of the hatched square portion indicates the substantial range of the image drawn on the drawing surface, and the pixel data is “0”, which is the same as the white square.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-56100
  • the pixel data corresponding to each micromirror is sequentially read out from circle 1 to circle 8 to create frame data.
  • the scanning in each figure of FIGS. 16A to 18E A continuous address is assigned in the direction orthogonal to the direction, and the address
  • the address where the data corresponding to each micromirror is stored controls the memory. It is arranged discretely in the memory address space as seen from the control means, and it takes a very long time to read data while accessing each address of such an arrangement in terms of memory control. It takes an enormous amount of time to acquire frame data.
  • the memory stores image data composed of pixel data in such a manner that the memory address direction and the scanning direction coincide with each other.
  • FIG. 20A to FIG. 20D and FIG. 21A to FIG. 21D the drawing point formation locus data by each micromirror set in advance is referred to, and FIG. 20A to FIG. 20D and FIG.
  • the data for each micromirror including micromirror unit data
  • FIG. 21D the data for each micromirror (including micromirror unit data) including the offset information of the position information is read in the order shown in FIG. 20A to FIG. 21D.
  • FIG. 21A to FIG. 21D the data for each micromirror (including micromirror unit data) including the offset information of the position information is read in the order shown in FIG. 20A to FIG. 21D.
  • the direction in which the addresses of the frame data memory are continuous and the arrangement direction in which the same frame data (in other words, data of micromirrors belonging to the same DMD) are stored match.
  • the image data is stored in the frame data memory as frame data that is data for each DMD.
  • the frame data is sequentially read from the stored frame data memory as shown in FIG. 22B in the direction in which the addresses are continuous, and the data (drawing point data) are respectively displayed on the round 1 to round 8 micromirrors constituting the DMD. ) And the DMD is moved relative to the scanning direction of the exposure surface, so that an image (2D pattern) representing “2” corresponding to the image data shown in FIG. Can be formed.
  • micromirror unit data group data that is temporarily stored and held in the memory is illustrated. Shown in 22A.
  • each micromirror unit data can be read at high speed because the memory addresses are in a continuous direction.
  • each drawing point data of the micromirror unit data read in this way that is, each drawing point data of the micromirror unit data constituting the micromirror unit data group data shown in FIG. 22A is shown in FIG. 22B.
  • transposition processing takes time if it is attempted to execute this transposition processing by software because the addresses are not continuous.
  • the DMD When a long time is required for the transposition process, the DMD is moved relative to the exposure surface in a predetermined scanning direction as described above, and the DM D is moved in accordance with the movement in the scanning direction.
  • the frame data having a plurality of micromirror unit data power corresponding to the micromirror group is input to the memory array, and the drawing point group corresponding to the micromirror group of DMD is sequentially formed on the exposure surface in time series in order.
  • the moving speed in the scanning direction is limited.
  • the plurality of micromirror unit data in other words, the frame data of the micromirror unit data group data.
  • the transposition process for changing the location of the drawing point data is performed by hardware.
  • hardware is more expensive than software.
  • the present invention has been made in consideration of such a problem, and the drawing point forming element unit data force such as micromirror unit data and the like. It is an object of the present invention to provide a frame data creation device, method, and drawing device that can be performed.
  • an object of the present invention is to provide a frame data creation device, method, and drawing device that can perform decompression processing together and, as a result, transpose and decompression processing at high speed and easily.
  • the frame data creation device provides a drawing unit having a plurality of drawing point forming elements for forming a drawing point group having a plurality of drawing points on the drawing screen.
  • the image data is moved relatively in a predetermined scanning direction, and the drawing unit unit frame data is sequentially supplied to the drawing unit in accordance with the movement in the scanning direction, and the drawing point group is set by the drawing unit.
  • a frame data creation device incorporated in a drawing device that forms an image on the drawing surface by forming the drawing surface in time series, wherein the image data corresponding to the image to be formed on the drawing surface
  • a drawing point forming element unit data creation unit for creating drawing point forming element unit data to be sequentially supplied to each of a plurality of drawing point forming elements and intermediate data obtained by extracting data change points of the drawing point forming element unit data were created.
  • a frame data creation unit that creates the frame data by inverting the data for each data change point in the intermediate data. And wherein the Rukoto.
  • a drawing unit including a plurality of drawing point forming elements for forming a drawing point group consisting of a plurality of drawing points on the drawing surface is defined with respect to the drawing surface.
  • the image data is moved relative to the scanning direction, and the drawing unit unit frame data is sequentially supplied to the drawing unit according to the movement in the scanning direction, and the drawing point group is applied to the drawing surface by the drawing unit.
  • a frame data generation method applied to a drawing apparatus that forms an image on the drawing surface by forming the image on the drawing surface, the plurality of drawing points from image data corresponding to the image to be formed on the drawing surface A drawing point forming element unit data creating step for creating drawing point forming element unit data to be sequentially supplied to each of the forming elements;
  • the plurality of drawing point forming elements from the image data corresponding to the image to be formed on the drawing surface by the drawing unit including the plurality of drawing point forming elements.
  • the drawing point forming element unit data to be sequentially supplied to each of the data is created, the data change point of the created drawing point forming element unit data is extracted to create intermediate data, and the data in the created intermediate data is created.
  • the drawing point forming element unit data force is applied to the frame data of the drawing unit unit. Since the transposition process is performed! /, The transposition process can be performed quickly and easily.
  • the storage capacity of the storage means for storing the drawing point forming element unit data can be reduced.
  • transposition and decompression processing can be performed at high speed.
  • the compressed data for example, run-length compressed data, accumulated data thereof, and the like can be used. It is preferably reversible compressed data.
  • drawing device incorporating the frame data creation device and the drawing device to which the frame data creation method is applied also solve the above-described problems, and thus are included in the present invention.
  • the drawing unit includes a DMD, an inkjet recording head, and the like.
  • the present invention can be applied not only to a spatial light modulation element such as a DMD as a drawing unit, but also to a drawing apparatus including an ink jet recording head, so that a drawing composed of a plurality of drawing points is generally used.
  • a drawing unit including a plurality of drawing point forming elements for forming a point cloud on the drawing surface is moved relative to the drawing surface in a predetermined scanning direction, and the drawing unit is moved according to the movement in the scanning direction.
  • Frame data in units of drawing units is sequentially supplied to the drawing unit, and the drawing unit is formed in time series on the drawing surface by the drawing unit to form an image (two-dimensional pattern) on the drawing surface.
  • the present invention can be applied to a frame data creation device incorporated in a drawing device, a frame data creation method applied to the drawing device, and the drawing device.
  • the drawing point forming element unit data force The transposition processing for creating the drawing unit unit frame data can be performed at high speed and easily.
  • the drawing point forming element unit data force that is the compressed data is combined with the decompression process when transposing the frame data in the drawing unit unit. As a result, transposition and thawing processes can be performed quickly and easily.
  • FIG. 1 is a block diagram of an exposure recording system of this embodiment.
  • FIG. 2 is a block diagram of an exposure recording apparatus of this embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic block diagram of an exposure head in the exposure recording apparatus of this embodiment.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of a DMD constituting the exposure head of this embodiment.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram showing the relationship between the exposure head in the exposure recording apparatus of this embodiment and the substrate positioned on the exposure stage.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating the relationship between the exposure head and the exposure area on the substrate in the exposure recording apparatus of this embodiment.
  • FIG. 7 is a process flowchart of a micromirror unit data creation unit and a frame data creation unit constituting the exposure recording system of this embodiment.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing a positional relationship between three DMDs and image data.
  • FIG. 9 is a configuration diagram of compressed data of the image data shown in FIG.
  • FIG. 10 is a schematic diagram for explaining drawing point formation trajectory data.
  • FIG. 11 is a configuration diagram of micromirror unit data group data.
  • FIG. 12 is a processing flowchart of a frame data creation unit constituting the exposure recording system of this embodiment.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram of zero clear initialization of a predetermined area of frame data.
  • FIG. 14 is a configuration diagram of intermediate data in which a data change point of each micromirror unit data is extracted and a flag is set.
  • FIG. 15A is a configuration diagram of intermediate data
  • FIG. 15B is a configuration diagram of frame data.
  • FIG. 16A to FIG. 16E are explanatory diagrams of a conventional method for creating frame data.
  • FIG. 17A to FIG. 17E are explanatory diagrams of a conventional method for creating frame data.
  • FIG. 18A to FIG. 18E are explanatory diagrams of a conventional method for creating frame data.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram of a memory in which image data composed of pixel data is stored in such a manner that the memory address direction and the scanning direction coincide with each other.
  • FIG. 20A to FIG. 20D are explanatory diagrams of a new method for creating frame data.
  • FIG. 21A to FIG. 21D are explanatory diagrams of a new method for creating frame data.
  • FIG. 22A is an explanatory diagram of micromirror unit data group data that is data temporarily stored and held in a memory.
  • FIG. 22B is an explanatory diagram of frame data stored in the memory.
  • FIG. 1 shows a configuration of an exposure recording system 4 to which an embodiment of the present invention is applied.
  • the exposure recording system 4 creates a CAD data (CAD Sano) 6 that generates image data and outputs it as vector data, and converts vector data transmitted from the CAD equipment 6 into bitmap data that is raster image data.
  • the bitmap data is then run-length encoded, and the raster image processor (RIP) 8 outputs the run-length data (compressed data) as image data.
  • the image data sent from the RIP 8 is converted into frame data.
  • the exposure recording device 10 that records and records (forms) an image on the drawing surface of the substrate (recording medium), and the system management server 11 that performs management control of the CAD device 6, the RIP 8, and the exposure recording device 10 And basically consists of
  • the exposure recording apparatus 10 is an apparatus that performs exposure processing of a laminated printed wiring board or the like based on bitmap data, and is configured as shown in FIG.
  • the exposure recording apparatus 10 includes a surface plate 14 that is supported by a plurality of legs 12 and is extremely small in deformation. On the surface plate 14, an exposure stage is provided via two guide rails 16. G-18 is installed so that it can reciprocate in the arrow Y direction. A rectangular substrate F coated with a photosensitive material is sucked and held on the exposure stage 18. The photosensitive material coated surface of substrate F is drawn It becomes a screen.
  • a gate-shaped column 20 is installed at the center of the surface plate 14 so as to straddle the guide rail 16.
  • CCD cameras 22a and 22b that detect the front and rear ends of the substrate F are fixed to one side of the column 20, and an image is exposed and recorded on the substrate F on the other side of the column 20.
  • a scanner 26 in which a plurality of exposure heads 24a to 24j are positioned and held is fixed.
  • the exposure heads 24a to 24j are arranged in a staggered pattern (substantially in a matrix) in two rows in a direction orthogonal to the direction of movement of the substrate F (arrow Y direction).
  • FIG. 3 shows the configuration of each exposure head 24a to 24j.
  • laser beams L output from a plurality of semiconductor lasers constituting the light source unit 28 are combined and introduced into the exposure heads 24 a to 24 j via the optical fiber 30.
  • a rod lens 32, a reflecting mirror 34, and a digital micromirror device (DMD) 36 as a drawing unit (drawing point forming element group) are arranged in this order at the exit end of the optical fiber 30 into which the laser beam L is introduced.
  • DMD digital micromirror device
  • the DMD 36 can swing a large number of micromirrors 40 (drawing point forming elements) arranged in a lattice pattern on the SRAM array (memory array) 38.
  • a material having high reflectivity such as aluminum is deposited on the surface of each micromirror 40.
  • the DMD 36 incorporated in each of the exposure heads 24a to 24j is inclined at a predetermined angle with respect to the moving direction (arrow Y direction) of the substrate F that realizes a high resolution.
  • the DMD 36 is inclined at a predetermined angle with respect to the moving direction (arrow Y direction) of the substrate F that realizes a high resolution.
  • Set to state That is, by inclining the DMD 36 with respect to the moving direction of the substrate F, the direction perpendicular to the arrow Y direction of the micromirror 40 constituting the DMD 36 (arrow X direction)
  • the resolution of the image recorded in the arrow X direction can be increased.
  • the resolution in the arrow Y direction can be adjusted by the moving speed of the substrate F.
  • the exposure areas 58a to 58j which are the ranges exposed at a time by the exposure heads 24a to 24j, are overlapped in the direction of the arrow X as shown in FIG. 6 so that there is no joint between the exposure heads 24a to 24j. Set to do.
  • the control circuit of the exposure recording apparatus 10 uses the image data supplied from the RIP 8 based on the front and rear ends of the substrate F acquired using the CCD cameras 22a and 22b.
  • the drawing point formation locus data by each micromirror 40 is referred to in advance, and the micromirror unit data (drawing point formation element unit data) is referred to.
  • An image data processing unit 70 for conversion, and an exposure unit 72 for generating frame data from micromirror unit data supplied from the image data processing unit 70 and driving the DMD 36 to expose and record an image on the substrate F are provided.
  • the image data processing unit 70 is configured by, for example, a personal computer having a CPU 74 that functions as a micromirror unit data creation unit (drawing point formation element data creation unit) 75 or the like.
  • the CPU 74 has an interface (IZF) 76 for receiving image data transmitted from the RIP 8 and an interface for receiving alignment information data such as the front and rear ends of the substrate F acquired using the CCD cameras 22a and 22b ( IZF) 78, the received image data, the acquired alignment information data, and the drawing point formation trajectory data by each micromirror 40 received from the system management server 11 via the interface V, not shown, on the node disk
  • a hard disk (HD) 82 that is stored via a drive (HDD) 80, a memory 84 that is a main storage device, and an interface that transmits micromirror unit data created by the micromirror unit data creation unit 75 to the exposure unit 72 ( IZF) 86 and power bus 88 are connected.
  • HD hard disk
  • HDD drive
  • memory 84
  • the micromirror unit data creation unit 75 creates the micromirror unit data to be sequentially supplied to each of the plurality of micromirrors 40 from the image data corresponding to the image to be formed on the drawing surface of the substrate F. To do.
  • the exposure unit 72 includes a buffer 90 that is a memory for storing and storing the micromirror unit data transmitted from the IZF 86 of the image data processing unit 70, and a pre-stored in the buffer 90.
  • the frame data creation unit 92 that converts the micromirror unit data into frame data according to the arrangement of the plurality of micromirrors 40 constituting the DMD 36, the buffer 94 that is a memory for temporarily storing the frame data, and the buffer 94
  • a DMD controller 42 that controls the micromirrors 40 constituting the DMD 36 based on the frame data stored in the memory F and exposes and records images on the substrate F.
  • the frame data creation unit 92 creates intermediate data (also referred to as edge frame data) obtained by extracting data change points of the micromirror unit data stored in the buffer 90, and then stores the intermediate data in the intermediate data.
  • the frame data is created by inverting the data at each data change point.
  • the exposure recording system 4 is basically configured as described above. Next, its operation and effect will be described based on the flowchart shown in FIG. .
  • step S 1 image data corresponding to an image to be exposed and recorded on the substrate F is created using the CAD device 6.
  • the image data created by the CAD device 6 is transmitted to the RIP8 in the vector data format.
  • step S2 the RIP 8 converts the vector data into image data 102 in the raster image data format shown in FIG.
  • the RIP 8 performs a run-length encoding process on the image data 102, and converts it into the image data 104 in the compressed run-length data format shown in FIG. 9 (step S3).
  • the image data 104 is continuous in the pixel force line direction of “0” constituting the image data 102 for each line in the lines 1 to 8 of the image.
  • the number and the number of “1” pixels constituting the image data 104 can be expressed using the number of consecutive pixels in the line direction.
  • line 1 has 16 consecutive “0” pixels in the line direction.
  • Line 2 also has two consecutive “0” s, four “1” s, four “0s”, four “1s”, and two “0s” in the line direction. Therefore, the run-length image data 104 is “2, 4, 4, 4, 2”. Run length
  • the image data “2, 4, 4, 4, 2” of the formation is represented as “2, 6, 10, 14, 16” if it is represented as cumulative data that is compressed data.
  • run-length data format image data 104 created by RIP8 is stored in HD82 from RIP8 through IZF76, bus 88, and HD D80 of image data processing unit 70 constituting exposure recording apparatus 10. Is done.
  • the micromirror unit data creation unit 75 of the image data processing unit 70 includes the image data 104 corresponding to the image to be formed on the drawing surface of the substrate F, and the drawing point formation trajectory data by each micromirror 40.
  • the micromirror unit data to be sequentially supplied to each of the plurality of micromirrors 40 is created.
  • the image data 104 can create micromirror unit data even if it is not force-compressed data, which is run-length format compressed data.
  • FIG. 10 shows that the three DMDs 1 to 3 are assumed to be three DMDs 1 to 3 rather than the 10 DMDs 36 corresponding to the exposure powers 24a to 24j of the DMD 36.
  • Scanning trajectory of the light beam emitted from each micromirror 40 to the substrate F assuming that ⁇ 3 is composed of six micromirrors 40 numbered 1 to 6 depending on the position.
  • the drawing point formation trajectory data 110 is schematically shown.
  • the micromirror 40 of No. 1 and the micromirror 40 of No. 4 constituting the DMD 1 have a drawing point formation locus on the same line 1 in the scanning direction (see also FIG. 8). It turns out that the data becomes 110, and the micromirror 40 of No. 2 and the micromirror 40 of No. 5 constituting DMD1 become the drawing point formation locus data 1 10 on the same line 2 (see also FIG. 8). I understand.
  • the drawing point formation trajectory data 110 includes an initial position force of each micromirror 40 (each beam), an offset value (offset information) obtained by dividing the distance to the image tip by the resolution, and each microphone mirror 40 ( And the offset value obtained by dividing the distance from the rear end position of each image) to the end position by the resolution.
  • drawing point formation trajectory data 110 shown in FIG. 10 is parallel to the line direction of the image, but in reality, the substrate F or the like may be deformed. In this case, for example, the drawing point formation trajectory is based on image information obtained from the CCD cameras 22a and 22b.
  • the trace data 110 can be modified and used.
  • FIG. 11 shows group data (micromirrors) of the micromirror unit data 106 created based on the drawing point formation trajectory data 110 shown in FIG. 10 and the image data 104 (compressed data) or the image data 102.
  • Unit data group data) 108 is shown.
  • the initial position force has an offset value of “5” to the top of the image (“0” because the drawing point data is not exposed), and line 2 of the image data 102 Since the first 2 drawing point data are off-data, there are 2 “0” values, a total of 7 “0” values, then 4 “1” values, “0” value power, “1” A total of 6 “0” values are consecutive, with a value value of 2 and “0” values of 2 and an offset value of “4” from the rear end position of the image to the end position.
  • micromirror unit data 106 of the micromirror 40 of number 2 of DMD1 is “7 (“ 0 ”value”), 4 (“1” value), 4 (“0” value), 4 (“1” value) , 6 ("0" value) ".
  • micromirror unit data group data 108 (see FIG. 11) created in this way and made up of micromirror unit data 106 is transferred from the memory 84 of the image data processing unit 70 through the IZF 86 to the buffer 90 of the exposure unit 72. Sent to and stored.
  • step S5 the frame data creation unit 92 created intermediate data obtained by extracting the data change points of each micromirror unit data 106 constituting the micromirror unit data group data 108 stored in the buffer 90. Thereafter, the frame data is generated by inverting the data for each data change point in the intermediate data.
  • FIG. 12 shows a flow chart for creating the frame data executed by the frame data creation unit 92. This frame data creation processing is performed using exclusive OR (XOR) processing.
  • XOR exclusive OR
  • step S51 the frame data memory area of the buffer 94 was initialized by clearing it to zero (zero was written to each memory cell holding 1 bit). ) Create zero data 112.
  • the memory capacity of the memory area of the zero data 112 of the buffer 94 can be understood by referring to the micromirror unit data group data 108 of Fig. 11, and the exposure heads 24a to 24j (here, 3 The description is limited to DMD1 to DMD3 that are accommodated in a single exposure head.)
  • the relative movement direction of () (the movement direction of the substrate F) is 25 drawing points in the arrow Y direction, the arrow Y direction If a total of 450 (25 X 18) drawing points for 18 drawing points corresponding to the number of micromirrors 40 in the direction of the arrow X, which is a direction orthogonal to the direction, is found to be 450 bits.
  • the intermediate data 114 can also be considered as edge data (edge extraction data).
  • frame data 116 shown in FIG. 15B is created.
  • the procedure for creating frame data from the intermediate data 114 for the micromirror 40 of mirror number 2 of DMD1 described above is described.
  • the first seven memory cells up to frame data number 7 (drawing points) ) Is a “0” value, and the data changes from “0” value to “1” value at frame data number 8, so the data up to the previous data change point of frame data number 12 is changed to “ Invert from “0” value to "1” value.
  • the frame data number 12 becomes the data change point of the intermediate data 114, the data before the next data change point, frame data number 16, is changed from “1” value to “0” value. Invert. The same applies hereinafter.
  • the frame data of each unit of DMD1 to 3 supplied to the three DMD1 to 3 corresponding to the three drawing units at a certain time is defined as Fn, and at the time immediately before a certain time
  • Fn can be obtained by the following equation (1).
  • the frame data 116 shown in FIG. 15B can be created at high speed.
  • This transposition process using XOR depends on the CPU performance of the frame data creation unit 92. However, it is usually easy to multiply the 32-bit data by XOR and can be executed at high speed by software. .
  • step S5 When the frame data 116 is created in the buffer 94 by the XOR process in this way, the image forming process of step S5 is executed.
  • step S5 the exposure recording apparatus 10 moves the exposure stage 18 from the scanner 26 side to the CCD camera 22a, 22b side, and the DMD controller 42 transfers the frame data 116 stored in the buffer 94 to the DMD 1 to 3 to expose and record a desired image on the substrate F.
  • the laser beam L output from the light source unit 28 is introduced into the exposure heads 24 a to 24 j via the optical fiber 30.
  • the introduced laser beam L enters the DMD 36 from the rod lens 32 via the reflection mirror 34.
  • the DMD controller 42 reads the frame data from the buffer 94 and controls each micromirror 40 constituting the DMD 36 according to the “1” value and the “0” value of the frame data.
  • the laser beam L selectively reflected in a desired direction by the micromirrors 40 constituting the DMD 36 is expanded by the first imaging optical lenses 44 and 46, and then the micro aperture array 54 and the microlens array 48. And adjusted to a predetermined diameter via the micro-aperture array 56, and then adjusted to a predetermined magnification by the second imaging optical lenses 50 and 52 and guided to the substrate F.
  • the exposure stage 18 moves along the surface plate 14, and a desired FD is formed on the substrate F by the DMD 36 constituting a plurality of exposure heads 24a to 24j arranged in a direction orthogonal to the moving direction of the exposure stage 18.
  • An image is formed by exposure recording.
  • a plurality of micromirrors 40 that are a plurality of drawing point forming elements that form a drawing point group including a plurality of drawing points on the drawing surface of the substrate F are provided.
  • the DMD 36 provided is moved relative to the drawing surface in the direction of the arrow Y, which is a predetermined scanning direction, and the frame data in units of DMD 36 (each) is sequentially supplied to the DMD 36 according to the movement in the scanning direction.
  • the micromirror unit data 106 to be sequentially supplied to each of the plurality of micromirrors 40 is created from the image data 102 (or image data 104) corresponding to the image to be formed on the drawing surface.
  • the DMD 36 including the micromirror 40 that is a plurality of drawing point forming elements for forming a drawing point group having a plurality of drawing points on the drawing screen of the substrate F is provided on the drawing surface.
  • the frame data is sequentially moved to the DMD 36 in accordance with the movement in the scanning direction and the DMD 36 unit (every frame) is sequentially supplied to the DMD 36 according to the movement in the scanning direction.
  • a frame data generation method applied to an exposure recording apparatus 10 as a drawing apparatus that forms an image on the drawing surface by forming the drawing point group in time series on the drawing surface Micromirror unit data creation step for creating micromirror unit data 106 that also supplies image data 102 (or image data 104) force corresponding to the image to be formed to each of the plurality of micromirrors 40 sequentially.
  • image recording dot forming elements unit data creation step S4
  • intermediate data 11 Frame data creation step S5 for inverting the data at each data change point in 4 to create frame data 116.
  • each of the plurality of micromirrors 40 from the image data 102 (or image data 104) corresponding to the image to be formed on the drawing surface by the DMD 36 including the plurality of micromirrors 40 is provided.
  • the micromirror unit data 106 that is sequentially supplied to the data is created, the data change points of the created micromirror unit data 106 are extracted to create the intermediate data 114, and the data for each data change point in the created intermediate data 114 Since the transposition processing from the micromirror unit data 106 to the frame data 116 of the DMD 36 unit is performed by inverting this, the transposition processing can be performed quickly and easily.
  • micromirror unit data 106 is compressed data, the storage capacity of the memory 84 for storing the data can be reduced.
  • the data change point of the compressed data is extracted to create the intermediate data 114, and the data is inverted at each data change point in the created intermediate data 114, so that the frame of the DMD 36 unit from the micro mirror unit data 106 is obtained.
  • Data 116 can be transposed and decompressed at high speed.
  • the compressed data for example, run-length compressed data, accumulated data thereof, and the like can be used. It is preferably reversible compressed data.
  • the DMD 36 frame data supplied to the DMD 36 at a certain time is defined as Fn.
  • a transposition process using XOR (exclusive OR) can be suitably performed by software.
  • the exposure recording apparatus 10 described above is, for example, a dry “film” resist (DFR: Dry Film Resist) exposure in a manufacturing process of a multilayer printed wiring board (PWB), a liquid crystal display device ( Color filter formation in LCD manufacturing process DFR exposure in TFT manufacturing process, DFR exposure in plasma display panel (PDP) manufacturing process can be used suitably.
  • the drawing unit is not limited to a spatial light modulation element such as DMD36, and an inkjet recording head is provided.
  • the present invention can also be applied to the obtained drawing apparatus.

Abstract

 マイクロミラー単位データ等の描画点形成要素単位データから描画ユニット単位のフレームデータへの転置処理を高速かつ簡易に行う。複数のマイクロミラー（４０）を備えるＤＭＤ（３６）により描画面に形成しようとする画像に対応する画像データ１０２（又は画像データ１０４）から複数のマイクロミラー（４０）のそれぞれに順次供給するマイクロミラー単位データ（１０６）を作成し、作成したマイクロミラー単位データ（１０６）のデータ変化点を抽出して中間データ（１１４）を作成し、作成した中間データ（１１４）中のデータ変化点毎にデータを反転させることでマイクロミラー単位データ（１０６）からＤＭＤ（３６）単位のフレームデータ（１１６）への転置処理を行う。

Description

フレームデータ作成装置、方法及び描画装置
技術分野
[0001] この発明は、複数の描画点からなる描画点群を描画面上に形成する複数の描画点 形成要素を備える描画ユニットを前記描画面に対して所定の走査方向に相対的に 移動させるとともに、前記走査方向への移動に応じて前記描画ユニット単位のフレー ムデータを前記描画ユニットに順次供給し、前記描画ユニットにより前記描画点群を 前記描画面に時系列的に形成することで前記描画面に画像 (2次元パターン)を形 成する描画装置に組み込まれるフレームデータ作成装置、前記描画装置に適用さ れるフレームデータ作成方法、及び描画装置に関する。
背景技術
[0002] 従来から、画像データが表す所望の画像を描画面上に形成する描画装置が種々 知られている。
[0003] このような描画装置として、たとえば、デジタル.マイクロミラ一.デバイス（以下、 DM Dという)等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて前記空間光変調素子 により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されて!、る。
[0004] DMDは、シリコン等の半導体基板上のメモリアレイ（SRAMアレイ）に、微小なマイ クロミラーが 2次元状に多数配置されて構成されたものである。そして、メモリアレイに 蓄積される電荷による静電気力を制御することによってマイクロミラーを傾斜させて反 射面の角度を変化させることができ、この反射面の角度変化により描画面上の所望 の位置に描画点を形成して画像を形成することができるものである。
[0005] そして、上記のような DMDを用いた露光装置としては、たとえば、 DMDを露光面 に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に 応じて DMDのメモリアレイにマイクロミラー群に対応した複数の描画点形成要素デ 一タカもなるフレームデータを入力し、 DMDのマイクロミラー群に対応した描画点群 を露光面に時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装 置が提案されて 、る (特許文献 1)。 [0006] また、露光面上に形成される画像の解像度を上げるため、 DMDを走査方向に対し て所定の角度だけ傾けて上記のような露光を行う露光装置も提案されている。
[0007] このような露光装置を用いて露光を行う際には、 DMDの走査方向への相対的な移 動に応じてフレームデータを DMDに入力する必要があるので、露光の前に予め露 光面に対する DMDの位置に対応した複数のフレームデータを作成しておく必要が ある。
[0008] ここで、たとえば、図 16A〜図 16E、図 17A〜図 17E、図 18A〜図 18Eに示すよう な数字の「2」を露光面上に形成する場合における従来のフレームデータの作成方法 について説明する。なお、図 16A〜図 18Eに示す白抜き数字の丸 1〜丸 8は、 1個 の DMDを構成する 8個のマイクロミラーを模式的に示したものである。
[0009] そして、図 16A〜図 18Eの下部に示すフレーム 1〜フレーム 15は、それぞれの図 において示される位置に DMDがある時に、 DMDに入力されるフレームデータを模 式的に示したものである。
[0010] 従来は、たとえば、先ず、図 16A〜図 18Eに示す各画素に対応する画素データか らなる画像データを DRAM等のメモリにー且記憶し、図 16A〜図 18Eに示すように 、 DMDの各位置について、 DMDの各マイクロミラー丸 1〜丸 8に対応する画素デー タを上記メモリから順次読み出すことにより描画点データ力もなる各フレームデータを 作成していた。
[0011] なお、図 16A〜図 18Eに示す白四角と斜線四角の画素に対応する画素データは DMDを構成する各マイクロミラーのオフデータ「0」であり、黒四角の画素に対応する 画素データはオンデータ「1」である。また、斜線四角部分の範囲は、描画面上に描 画される画像の実質的な範囲を示すものであり、画素データとしては白四角と同じ「0 」である。
[0012] 特許文献 1 :特開 2004— 56100号公報
発明の開示
[0013] し力しながら、上記のように各マイクロミラーに対応する画素データを丸 1〜丸 8まで 順次読み出してフレームデータを作成したのでは、たとえば、図 16A〜図 18Eの各 図における走査方向に直交する方向に、連続するアドレスが割り当てられ、そのアド レスが連続する方向に順次各マイクロミラーのデータが読み出されるようにメモリの読 み出しが制御されるような場合には、各マイクロミラーに対応するデータが格納された アドレスは、メモリを制御する制御手段からみたメモリのアドレス空間において離散的 に配置されており、このような配置のアドレスに 1つ 1つアクセスしながらデータを読み 出すのはメモリの制御上、非常に時間がかかり、全てのフレームデータを取得するの に膨大な時間がかかってしまう。
[0014] この問題を解決するために、この出願人は、以下に説明する技術を考案している（ 特願 2005— 045111号明細書)。
[0015] すなわち、メモリには、図 19に示すように、画素データからなる画像データを、メモリ のアドレスが連続する方向と走査方向とを一致させて格納する。
[0016] 次いで、図 19に示したようにメモリに格納された画像データに対して、予め設定さ れている各マイクロミラーによる描画点形成軌跡データを参照し、図 20A〜図 20D及 び図 21 A〜図 21Dに示すように、図 20A〜図 21Dの示す順に、位置情報のオフセ ット情報を含む各マイクロミラー毎のデータ (マイクロミラー単位データと 、う。）を読み 出し、図 22Bに示すように、フレームデータメモリに格納する。
[0017] このとき、図 22Bに示すように、フレームデータメモリのアドレスが連続する方向と、 同じフレームデータ（換言すれば同じ DMDに属するマイクロミラーのデータ）が格納 される配列方向とがー致するように画像データを、 DMD毎のデータであるフレーム データとしてフレームデータメモリに格納する。
[0018] そして、図 22Bのように格納したフレームデータメモリからアドレスが連続する方向 にフレームデータを順次読み出し、 DMDを構成する丸 1〜丸 8のマイクロミラーにそ れぞれデータ (描画点データ）を供給し、かつ DMDを露光面の走査方向に対して相 対的に移動させることで、図 19に示した画像データに対応する「2」を表す画像（2次 元パターン)を露光面に形成することができる。
[0019] ここで、理解の容易化のために、上記したマイクロミラー単位データの群力もなるデ ータ、通常、メモリに一時的に格納保持されるデータであるマイクロミラー単位データ 群データを図 22Aに示す。
[0020] ところで、図 20A〜図 21Dを参照して説明したように、メモリに格納された画像デー タカ 各マイクロミラー単位データを読み出すことはメモリのアドレスが連続する方向 となっているので、高速に行うことができる。しかし、そのようにして読み出したマイクロ ミラー単位データの各描画点データ、すなわち図 22Aに示したマイクロミラー単位デ ータ群データを構成するマイクロミラー単位データの各描画点データを、図 22Bに示 すように、置き場所を変えてフレームデータメモリに格納する処理 (転置処理という。） は、アドレスが連続していないので、この転置処理をソフトウェアにより実行しようとす ると時間がかかる。
[0021] 転置処理のための時間が長くかかると、上記のように、 DMDを露光面に対して所 定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じて DM Dのメモリアレイにマイクロミラー群に対応した複数のマイクロミラー単位データ力もな るフレームデータを入力し、 DMDのマイクロミラー群に対応した描画点群を露光面 に時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置では、 走査方向への移動速度に制限を与える。
[0022] 高速描画が要求される場合、特に量産時等には、この制限を解消するため、前記 複数のマイクロミラー単位データ、換言すれば、前記マイクロミラー単位データ群デ ータのフレームデータへの描画点データの場所を置き変える転置処理は、ハードウ エアにより行う。ただ、ハードウェアは、ソフトウェアに比較して、高価となる。
[0023] この発明は、このような課題を考慮してなされたものであり、マイクロミラー単位デー タ等の描画点形成要素単位データ力 描画ユニット単位のフレームデータへの転置 処理を高速かつ簡易に行うことを可能とするフレームデータ作成装置、方法及び描 画装置を提供することを目的とする。
[0024] また、この発明は、描画点形成要素単位データが圧縮データである場合に、その 圧縮データである描画点形成要素単位データ力 描画ユニット単位のフレームデー タへの転置処理を行う際に、解凍処理を併せて行い、結果、転置 ·解凍処理を高速 かつ簡易に行うことを可能とするフレームデータ作成装置、方法及び描画装置を提 供することを目的とする。
[0025] この発明に係るフレームデータ作成装置は、複数の描画点力 なる描画点群を描 画面上に形成する複数の描画点形成要素を備える描画ユニットを前記描画面に対 して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、前記走査方向への移動に応じ て前記描画ユニット単位のフレームデータを前記描画ユニットに順次供給し、前記描 画ユニットにより前記描画点群を前記描画面に時系列的に形成することで前記描画 面に画像を形成する描画装置に組み込まれるフレームデータ作成装置であって、前 記描画面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データから前記複数の描画点 形成要素のそれぞれに順次供給する描画点形成要素単位データを作成する描画 点形成要素単位データ作成部と、前記描画点形成要素単位データのデータ変化点 を抽出した中間データを作成した後、前記中間データ中の前記データ変化点毎に データを反転させて前記フレームデータを作成するフレームデータ作成部と、を備え ることを特徴とする。
[0026] また、この発明に係るフレームデータ作成方法は、複数の描画点からなる描画点群 を描画面上に形成する複数の描画点形成要素を備える描画ユニットを前記描画面 に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、前記走査方向への移動に 応じて前記描画ユニット単位のフレームデータを前記描画ユニットに順次供給し、前 記描画ユニットにより前記描画点群を前記描画面に時系列的に形成することで前記 描画面に画像を形成する描画装置に適用されるフレームデータ作成方法であって、 前記描画面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データから前記複数の描画 点形成要素のそれぞれに順次供給する描画点形成要素単位データを作成する描 画点形成要素単位データ作成ステップと、前記描画点形成要素単位データのデー タ変化点を抽出した中間データを作成した後、前記中間データ中の前記データ変化 点毎にデータを反転させて前記フレームデータを作成するフレームデータ作成ステ ップと、を備えることを特徴とする。
[0027] この発明によれば、前記複数の描画点形成要素を備える前記描画ユ ットにより前 記描画面に形成しょうとする前記画像に対応する前記画像データから前記複数の描 画点形成要素のそれぞれに順次供給する描画点形成要素単位データを作成し、作 成した前記描画点形成要素単位データのデータ変化点を抽出して中間データを作 成し、作成した前記中間データ中の前記データ変化点毎にデータを反転させること で前記描画点形成要素単位データ力 前記描画ユニット単位のフレームデータへの 転置処理を行うようにして!/、るので、転置処理を高速かつ簡易に行うことができる。
[0028] なお、描画点形成要素単位データを圧縮データとすることで、描画点形成要素単 位データを格納する記憶手段の記憶容量を少なくすることができる。また、圧縮デー タのデータ変化点を抽出して中間データを作成し、作成した中間データ中のデータ 変化点毎にデータを反転させることで、転置'解凍処理を高速に行うことができる。
[0029] 圧縮データとしては、例えばランレングス圧縮データ、その累積データ等とすること ができる。可逆圧縮データであることが好ましい。
[0030] また、前記中間データ中の前記データ変化点毎にデータを反転させて前記フレー ムデータを作成する際、ある時点に前記描画ユニットに供給される前記描画ユニット 単位のフレームデータを Fnとし、前記ある時点の 1つ前の時点に前記描画ユニットに 供給される前記描画ユニット単位のフレームデータを Fn—lとするとき、 Fnを、 Fn Fn— 1 XOR Fn 但し、 n= 2, 3,…として求めることができる。 XOR (排他的論理 和）を使用する転置処理は、ソフトウェアで好適に行うことができる。
[0031] また、前記フレームデータ作成装置を組み込んだ前記描画装置及び前記フレーム データ作成方法が適用された前記描画装置も、前記課題を解決するので、この発明 に含まれる。
[0032] 描画ユニットとして、 DMD、インクジェット記録ヘッド等が含まれる。
[0033] すなわち、この発明は、描画ユニットとして DMD等の空間光変調素子に限らず、ィ ンクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも適用できることから、一般的に、複数の 描画点からなる描画点群を描画面上に形成する複数の描画点形成要素を備える描 画ユニットを前記描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、前 記走査方向への移動に応じて前記描画ユニット単位のフレームデータを前記描画ュ ニットに順次供給し、前記描画ユニットにより前記描画点群を前記描画面に時系列 的に形成することで前記描画面に画像 (2次元パターン)を形成する描画装置に組み 込まれるフレームデータ作成装置、前記描画装置に適用されるフレームデータ作成 方法、及び前記描画装置に適用することができる。
[0034] この発明によれば、描画点形成要素単位データ力 描画ユニット単位のフレームデ ータを作成するための転置処理を高速かつ簡易に行うことができる。 [0035] 描画点形成要素単位データが圧縮データである場合に、その圧縮データである描 画点形成要素単位データ力 描画ユニット単位のフレームデータへの転置処理を行 う際に、解凍処理を併せて行い、結果、転置 ·解凍処理を高速かつ簡易に行うことが できる。
図面の簡単な説明
[0036] [図 1]この実施形態の露光記録システムのブロック図である。
[図 2]この実施形態の露光記録装置の構成図である。
[図 3]この実施形態の露光記録装置における露光ヘッドの概略構成図である。
[図 4]この実施形態の露光ヘッドを構成する DMDの説明図である。
[図 5]この実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、露光ステージに位置決め された基板との関係説明図である。
[図 6]この実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、基板上の露光エリアとの 関係説明図である。
[図 7]この実施形態の露光記録システムを構成するマイクロミラー単位データ作成部 及びフレームデータ作成部の処理フローチャートである。
[図 8]3個の DMDと画像データとの位置関係を示す模式図である。
[図 9]図 8に示す画像データの圧縮データの構成図である。
[図 10]描画点形成軌跡データを説明する模式図である。
[図 11]マイクロミラー単位データ群データの構成図である。
[図 12]この実施形態の露光記録システムを構成するフレームデータ作成部の処理フ ローチャートである。
[図 13]フレームデータの所定領域のゼロクリア初期化の説明図である。
[図 14]各マイクロミラー単位データのデータ変化点を抽出してフラグを立てた中間デ ータの構成図である。
[図 15]図 15Aは、中間データの構成図であり、図 15Bはフレームデータの構成図で ある。
[図 16]図 16A〜図 16Eは、従来のフレームデータの作成方法の説明図である。
[図 17]図 17A〜図 17Eは、従来のフレームデータの作成方法の説明図である。 [図 18]図 18A〜図 18Eは、従来のフレームデータの作成方法の説明図である。
[図 19]画素データからなる画像データを、メモリのアドレスが連続する方向と走査方 向とを一致させて格納したメモリの説明図である。
[図 20]図 20A〜図 20Dは、フレームデータの新規な作成方法の説明図である。
[図 21]図 21A〜図 21Dは、フレームデータの新規な作成方法の説明図である。
[図 22]図 22Aは、メモリに一時的に格納保持されるデータであるマイクロミラー単位 データ群データの説明図である。図 22Bは、メモリに格納されたフレームデータの説 明図である。
発明を実施するための最良の形態
[0037] 以下、図面を参照してこの発明に係る描画装置、この描画装置に組み込まれるフレ ームデータ作成装置、前記描画装置に適用されるフレームデータ作成方法について
、これらの一実施形態が適用された露光記録システムを例として説明する。
[0038] 図 1は、この発明の一実施形態が適用された露光記録システム 4の構成を示してい る。
[0039] この露光記録システム 4は、画像データを作成しベクトルデータとして出力する CA D装置（CADサーノ） 6と、 CAD装置 6から送信されたベクトルデータをラスタィメー ジデータであるビットマップデータに変換した後、このビットマップデータをランレング ス符号化処理し、ランレングスデータ (圧縮データ）を画像データとして出力するラス タイメージプロセッサ（RIP) 8と、 RIP8から送信された画像データをフレームデータに 変換し、このフレームデータに基づき、基板 (記録媒体)の描画面に画像を露光記録 (形成)する露光記録装置 10と、 CAD装置 6、 RIP8及び露光記録装置 10の管理制 御を行うシステム管理サーバ 11とから基本的に構成される。
[0040] ここで、露光記録装置 10は、ビットマップデータに基づ 、て積層プリント配線基板 等の露光処理を行う装置であり、図 2に示すように構成される。
[0041] すなわち、露光記録装置 10は、複数の脚部 12によって支持された変形の極めて 小さい定盤 14を備え、この定盤 14上には、 2本のガイドレール 16を介して露光ステ ージ 18が矢印 Y方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ 18には、感光材 料が塗布された長方形状の基板 Fが吸着保持される。基板 Fの感光材料塗布面が描 画面になる。
[0042] 定盤 14の中央部には、ガイドレール 16を跨ぐようにして門型のコラム 20が設置され る。このコラム 20の一方の側部には、基板 Fの先端及び後端を検知する CCDカメラ 2 2a、 22bが固定され、コラム 20の他方の側部には、基板 Fに対して画像を露光記録 する複数の露光ヘッド 24a〜24jが位置決め保持されたスキャナ 26が固定される。
[0043] 露光ヘッド 24a〜24jは、基板 Fの移動方向（矢印 Y方向）と直交する方向に 2列で 千鳥状 (略マトリクス状）に配列される。
[0044] 図 3は、各露光ヘッド 24a〜24jの構成を示す。露光ヘッド 24a〜24jには、例えば 、光源ユニット 28を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビーム Lが合 波され光ファイバ 30を介して導入される。レーザビーム Lが導入された光ファイバ 30 の出射端には、ロッドレンズ 32、反射ミラー 34及び描画ユニット (描画点形成要素群 )としてのデジタル ·マイクロミラ一 ·デバイス (DMD) 36が順に配列される。
[0045] ここで、 DMD36は、図 4に示すように、 SRAMアレイ（メモリアレイ） 38の上に格子 状に配列された多数のマイクロミラー 40 (描画点形成要素）を揺動可能な状態で配 置したものであり、各マイクロミラー 40の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材 料が蒸着されている。 SRAMアレイ 38に DMDコントローラ 42からフレームデータに 従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラー 40が所定 方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビーム Lのオンオフ状態が実現される。
[0046] オンオフ状態が制御された DMD36によって反射されたレーザビーム Lの射出方 向には、拡大光学系である第 1結像光学レンズ 44、 46、 DMD36の各マイクロミラー 40に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー 48、ズーム光学系である 第 2結像光学レンズ 50、 52が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー 48の前後 には、迷光を除去するとともに、レーザビーム Lを所定の径に調整するためのマイクロ アパーチャアレー 54、 56が配置される。
[0047] 各露光ヘッド 24a〜24jに組み込まれる DMD36は、図 5及び図 6に示すように、高 い解像度を実現すベぐ基板 Fの移動方向（矢印 Y方向）に対して所定角度傾斜した 状態に設定される。すなわち、 DMD36を基板 Fの移動方向に対して傾斜させること により、 DMD36を構成するマイクロミラー 40の矢印 Y方向と直交する方向（矢印 X方 向）に対する間隔を狭くし、これによつて、矢印 X方向に記録される画像の解像度を 高くすることができる。矢印 Y方向の解像度は、基板 Fの移動速度によって調整する ことができる。なお、各露光ヘッド 24a〜24jにより一度に露光される範囲である露光 エリア 58a〜58jは、露光ヘッド 24a〜24j間の継ぎ目が生じることのないよう、図 6に 示すように矢印 X方向に重畳するように設定される。
[0048] 露光記録装置 10の制御回路は、図 1に示すように、 CCDカメラ 22a、 22bを用いて 取得した基板 Fの先端及び後端に基づき、 RIP8から供給された画像データを、各マ イク口ミラー 40の基板 Fの描画面に対して、予め設定されて!、る各マイクロミラー 40に よる描画点形成軌跡データを参照し、マイクロミラー単位データ (描画点形成要素単 位データ）に変換する画像データ処理部 70と、画像データ処理部 70から供給された マイクロミラー単位データからフレームデータを作成し、 DMD36を駆動して基板 Fに 画像を露光記録する露光部 72とを備える。
[0049] 画像データ処理部 70は、マイクロミラー単位データ作成部 (描画点形成要素デー タ作成部） 75等として機能する CPU74を有する、例えばパーソナルコンピュータによ り構成される。 CPU74には、 RIP8から送信された画像データを受信するインタフエ ース (IZF) 76と、 CCDカメラ 22a、 22bを用いて取得した基板 Fの先端及び後端等 のァライメント情報データを受信するインタフェース (IZF) 78と、受信した前記画像 データと取得した前記ァライメント情報データとシステム管理サーバ 11から図示しな V、インタフェースを介して受信した各マイクロミラー 40による描画点形成軌跡データと をノヽードディスクドライブ (HDD) 80を介して記憶するハードディスク（HD) 82と、主 記憶装置であるメモリ 84と、マイクロミラー単位データ作成部 75により作成されたマイ クロミラー単位データを露光部 72に送信するインタフェース（IZF) 86と、力バス 88を 介して接続される。
[0050] マイクロミラー単位データ作成部 75は、基板 Fの描画面に形成しょうとする画像に 対応する前記画像データから前記複数のマイクロミラー 40のそれぞれに順次供給す る前記マイクロミラー単位データを作成する。
[0051] 露光部 72は、画像データ処理部 70の IZF86から送信された前記マイクロミラー単 位データをー且記憶する等のメモリであるバッファ 90と、ノ ッファ 90に記憶された前 記マイクロミラー単位データを、 DMD36を構成する複数のマイクロミラー 40の配列 に従ったフレームデータに変換するフレームデータ作成部 92と、フレームデータを一 時記憶するメモリであるバッファ 94と、ノ ッファ 94に記憶されたフレームデータに基づ き、 DMD36を構成するマイクロミラー 40を制御し、基板 Fに画像を露光記録する D MDコントローラ 42とを備える。
[0052] フレームデータ作成部 92は、バッファ 90に記憶された前記マイクロミラー単位デー タのデータ変化点を抽出した中間データ（エッジフレームデータともいう。 )を作成し た後、前記中間データ中の前記データ変化点ごとにデータを反転させて前記フレー ムデータを作成する。
[0053] この実施形態に係る露光記録システム 4は、基本的には以上のように構成されるも のであり、次に、その動作及び作用効果について、図 7に示すフローチャートに基づ いて説明する。
[0054] 先ず、ステップ S1において、 CAD装置 6を用いて、基板 Fに露光記録する画像に 対応する画像データを作成する。
[0055] CAD装置 6で作成された画像データは、ベクトルデータ形式で RIP8に送信される
[0056] ステップ S2において、 RIP8は、ベクトルデータを図 8に示すラスタイメージデータ形 式の画像データ 102に変換する。
[0057] 次いで、 RIP8は、画像データ 102をランレングス符号化処理し、図 9に示す圧縮さ れたランレングスデータ形式の画像データ 104に変換する（ステップ S3)。
[0058] ここで、画像データ 104は、図 9に示すように、例えば、画像のライン 1〜8中、各ラ インについて、画像データ 102を構成する「0」の画素力 ライン方向に連続する数と 、画像データ 104を構成する「1」の画素が、ライン方向に連続する数とを用いて表す ことができる。例えば、ライン 1及びライン 2について説明すれば、図 8の画像データ 1 02中、ライン 1は「0」の画素がライン方向に 16個連続しているので、ランレングスデ ータ形式の画像データ 104は、「16」になる。また、ライン 2は、ライン方向に、「0」が 2 個連続、「1」が 4個連続、「0」が 4個連続、「1」が 4個連続、「0」が 2個連続しているの で、ランレングス形式の画像データ 104は、「2, 4, 4, 4, 2」になる。なお、ランレング ス形成の画像データ「2, 4, 4, 4, 2」は、同様に圧縮データである累積データとして 表せば、「2, 6, 10, 14, 16」となる。
[0059] このようにして、 RIP8で作成されたランレングスデータ形式の画像データ 104は、 R IP8から露光記録装置 10を構成する画像データ処理部 70の IZF76、バス 88、 HD D80を通じて HD82に記憶される。
[0060] 次いで、画像データ処理部 70のマイクロミラー単位データ作成部 75は、基板 Fの 描画面に形成しょうとする画像に対応する画像データ 104と、各マイクロミラー 40に よる描画点形成軌跡データとから複数のマイクロミラー 40のそれぞれに順次供給す るマイクロミラー単位データを作成する。実際上、画像データ 104は、ランレングス形 式の圧縮データである力 圧縮データでなくともマイクロミラー単位データを作成する ことができる。
[0061] 図 10は、理解の容易化のために、 DMD36の数力 露光ヘッド 24a〜24jに対応 する 10個の DMD36ではなぐ 3個の DMD1〜3であると仮定し、この 3個の DMD1 〜3がそれぞれ、位置に応じて番号 1〜6が付けられた 6個のマイクロミラー 40から構 成されるものと仮定した場合の各マイクロミラー 40から基板 Fに照射される光ビーム の走査軌跡である描画点形成軌跡データ 110を模式的に示して 、る。
[0062] このように仮定した場合、例えば DMD1を構成する番号 1のマイクロミラー 40と番 号 4のマイクロミラー 40とは、走査方向上同一ライン 1 (図 8も参照）上の描画点形成 軌跡データ 110となることが分かり、 DMD1を構成する番号 2のマイクロミラー 40と番 号 5のマイクロミラー 40とは、同一ライン 2 (図 8も参照）上の描画点形成軌跡データ 1 10となることが分かる。
[0063] また、描画点形成軌跡データ 110には、各マイクロミラー 40 (各ビーム）の初期位置 力も画像先端までの距離を解像度で割ったオフセット値 (オフセット情報）と、各マイク 口ミラー 40 (各ビーム)の画像後端位置カゝら終止位置までの距離を解像度で割った オフセット値とが含まれる。
[0064] なお、図 10に示す描画点形成軌跡データ 110は、画像のライン方向に平行したも のとなつているが、実際には、基板 F等にも変形が発生している場合があり、その場 合には、例えば CCDカメラ 22a、 22bから得られる画像情報に基づき描画点形成軌 跡データ 110を修正して利用することができる。
[0065] 図 11は、図 10に示した描画点形成軌跡データ 110と、画像データ 104 (圧縮デー タ）あるいは画像データ 102とに基づいて作成されたマイクロミラー単位データ 106の 群データ（マイクロミラー単位データ群データ） 108を示している。例えば、 DMD1の 番号 2のマイクロミラー 40では、初期位置力も画像先端までのオフセット値が「5」（描 画点データとしては、露光しないので、「0」値）、画像データ 102のライン 2の最初の 2 描画点データはオフデータであるので、「0」値が 2個で計 7個が「0」値、次いで、「1」 値が 4個、「0」値力 個、「1」値力 個、「0」値が 2個と画像後端位置から終止位置ま でのオフセット値が「4」で計 6個の「0」値が連続する。したがって、 DMD1の番号 2の マイクロミラー 40のマイクロミラー単位データ 106は、「7 (「0」値）， 4 (「1」値）， 4 (「0」 値）， 4 (「1」値）, 6 (「0」値)」となる。
[0066] このようにして作成された、マイクロミラー単位データ 106からなるマイクロミラー単 位データ群データ 108 (図 11参照）は、画像データ処理部 70のメモリ 84から IZF86 を通じて露光部 72のバッファ 90に送信され記憶される。
[0067] 次いで、ステップ S5において、フレームデータ作成部 92は、バッファ 90に記憶され たマイクロミラー単位データ群データ 108を構成する各マイクロミラー単位データ 106 のデータ変化点を抽出した中間データを作成した後、前記中間データ中の前記デ ータ変化点ごとにデータを反転させて前記フレームデータを作成する。
[0068] 図 12は、フレームデータ作成部 92により実行される前記フレームデータの作成フロ 一チャートを示している。このフレームデータの作成処理は、排他的論理和 (XOR) 処理を利用して行われる。
[0069] このとき、先ず、ステップ S51において、図 13に示すように、バッファ 94のフレーム データのメモリ領域をゼロクリアすることで初期化した（1ビットが保持される各メモリセ ルにゼロを書き込んだ）ゼロデータ 112を作成する。
[0070] ここで、バッファ 94のゼロデータ 112のメモリ領域のメモリ容量は、図 11のマイクロミ ラー単位データ群データ 108を参照すれば理解されるように、露光ヘッド 24a〜24j ( ここでは、 3個の露光ヘッドに収容される DMD1〜DMD3に限定して説明している。 )の相対移動方向（基板 Fの移動方向）である矢印 Y方向に 25描画点分、矢印 Y方 向と直交する方向である矢印 X方向に、マイクロミラー 40の数に対応する 18描画点 分の合計 450 (25 X 18)描画点分を考慮すれば、 450ビット分であることが分かる。
[0071] 次いで、バッファ 90に格納されている図 11に示すマイクロミラー単位データ群デー タ 108を参照して、各マイクロミラー単位データ 106のデータ変化点を抽出し、図 14 に示すように、その変化点に対応するゼロデータ 112のフレームデータのメモリ領域 の該当メモリセルの列にフラグ =「1」を立てた中間データ 114を作成する。
[0072] 一例として、 DMD1のミラー番号 2のマイクロミラー 40についてのデータ変化点に ついての抽出及び中間データ 114の作成について説明すれば、マイクロミラー単位 データ 106は、「7, 4, 4, 4, 6」であるので、 5個のオフセット描画点を含むフレーム データ番号 1〜7までの最初の 7個のメモリセル（描画点）は「0」値、フレームデータ 番号 7からフレームデータ番号 8になると、ランレングスデータが「7」から「4」に変化す るので、フレームデータ番号 8のメモリセル（描画点）をフラグ =「1」値とする。次に、フ レームデータ番号 11 (11 = 7+4)力 フレームデータ番号 12になると、ランレングス データが「4」から「4」に変化するので、そのフレームデータ番号 12のメモリセル（描 画点）をフラグ =「1」値とする。以下、同様である。なお、この中間データ 114は、エツ ジデータ (エッジ抽出データ）と考えることもできる。
[0073] 次いで、ステップ S53では、図 14に示す中間データ 114中、各マイクロミラー 40の ミラー番号に対応する矢印 Y方向の中間データ 114中のフラグ =「 1」を立てたデー タ変化点毎にデータを反転することで、図 15Bに示すフレームデータ 116を作成す る。一例として、上述した DMD1のミラー番号 2のマイクロミラー 40についての中間デ ータ 114からフレームデータを作成する手順を説明すれば、フレームデータ番号 7ま での最初の 7個のメモリセル (描画点）は「0」値で、フレームデータ番号 8でデータが 、「0」値から「1」値に変化するので、次のデータ変化点であるフレームデータ番号 12 の 1つ前までのデータを「0」値から「1」値に反転する。次に、フレームデータ番号 12 が中間データ 114のデータ変化点となるので、次のデータ変化点であるフレームデ ータ番号 16の 1つ前までのデータを「1」値から「0」値に反転する。以下、同様である
[0074] 実際上、このフレームデータ作成処理は、フレームデータの上下のデータ同士で排 他的論理和 (XOR)を掛ける。そして、このとき、 XORを掛けた結果は元のデータに 上書きし、次は、その更新されたデータを使って XORを掛ける。これをフレーム番号 nを n= 2, 3· ··, 25まで行えば、図 15Bに示すフレームデータ 116が作成される。
[0075] 数式で示せば、ある時点で 3個の描画ユニットに対応する 3個の DMD1〜3に供給 される DMD1〜3各単位のフレームデータを Fnとし、ある時点の 1つ前の時点に前 記描画ュ-ットに供給される DMD 1〜 3各単位のフレームデータを Fn— 1とするとき 、 Fnを、次の（1)式で求めることができる。
[0076] Fn^Fn- 1 XOR Fn 但し、 n= 2, 3, (1)
[0077] すなわち、図 15A (図 14を再掲）に示す中間データ 114から上記（1)式による XO R処理を行うことにより、図 15Bに示すフレームデータ 116を高速に作成することがで きる。この XORを使用する転置処理は、フレームデータ作成部 92の CPUの性能'仕 様によるが、通常、 32ビットのデータずつ、 XORを掛けることは容易でありソフトゥェ ァにより高速に実行することができる。
[0078] このようにして XOR処理によりフレームデータ 116をバッファ 94に作成したとき、ス テツプ S5の画像形成処理が実行される。
[0079] ステップ S5において、露光記録装置 10は、露光ステージ 18をスキャナ 26側から C CDカメラ 22a、 22b側に移動させ、 DMDコントローラ 42は、バッファ 94に記憶された フレームデータ 116を DMD 1〜 3に供給し、基板 Fに所望の画像を露光記録する。
[0080] 以下、図 2、図 3の構成にもどって説明すれば、光源ユニット 28から出力されたレー ザビーム Lは、光ファイバ 30を介して各露光ヘッド 24a〜24jに導入される。導入され たレーザビーム Lは、ロッドレンズ 32から反射ミラー 34を介して DMD36に入射する。
[0081] DMDコントローラ 42は、バッファ 94からフレームデータを読み出し、このフレーム データの「 1」値及び「0」値に従!、DMD36を構成する各マイクロミラー 40をオンオフ 制御する。 DMD36を構成する各マイクロミラー 40により所望の方向に選択的に反 射されたレーザビーム Lは、第 1結像光学レンズ 44、 46によって拡大された後、マイ クロアパーチャアレー 54、マイクロレンズアレー 48及びマイクロアパーチャアレー 56 を介して所定の径に調整され、次いで、第 2結像光学レンズ 50、 52により所定の倍 率に調整されて基板 Fに導かれる。 [0082] 露光ステージ 18は、定盤 14に沿って移動し、基板 Fには、露光ステージ 18の移動 方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド 24a〜24jを構成する DMD36 により所望の画像が露光記録されて形成される。
[0083] 以上説明したように、上述した実施形態によれば、複数の描画点からなる描画点群 を基板 Fの描画面上に形成する複数の描画点形成要素であるマイクロミラー 40を複 数備える DMD36を前記描画面に対して所定の走査方向である矢印 Y方向に相対 的に移動させるとともに、前記走査方向への移動に応じて前記 DMD36単位（毎）の フレームデータを DMD36に順次供給し、 DMD36により前記描画点群を前記描画 面に時系列的に形成することで前記描画面に画像を形成する描画装置としての露 光記録装置 10に組み込まれるフレームデータ作成装置 (露光部 72)であって、前記 描画面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データ 102 (又は画像データ 10 4)から複数のマイクロミラー 40のそれぞれに順次供給するマイクロミラー単位データ 106を作成するマイクロミラー単位データ作成部 (描画点形成要素単位データ作成 部）としての画像データ処理部 70と、マイクロミラー単位データ 106のデータ変化点 を抽出した中間データ 114を作成した後、中間データ 114中のデータ変化点毎にデ ータを反転させてフレームデータ 116を作成するフレームデータ作成部 92とを備える
[0084] また、上述した実施形態によれば、複数の描画点力 なる描画点群を基板 Fの描 画面上に形成する複数の描画点形成要素であるマイクロミラー 40を備える DMD36 を前記描画面に対して所定の走査方向である矢印 Y方向に相対的に移動させるとと もに、前記走査方向への移動に応じて DMD36単位（毎）のフレームデータを DMD 36に順次供給し、 DMD36により前記描画点群を前記描画面に時系列的に形成す ることで前記描画面に画像を形成する描画装置としての露光記録装置 10に適用さ れるフレームデータ作成方法であって、前記描画面に形成しょうとする前記画像に対 応する画像データ 102 (又は画像データ 104)力も複数のマイクロミラー 40のそれぞ れに順次供給するマイクロミラー単位データ 106を作成するマイクロミラー単位デー タ作成ステップ (描画点形成要素単位データ作成ステップ) S4と、マイクロミラー単位 データ 106のデータ変化点を抽出した中間データ 114を作成した後、中間データ 11 4中のデータ変化点毎にデータを反転させてフレームデータ 116を作成するフレー ムデータ作成ステップ S5とを備える。
[0085] この実施形態によれば、複数のマイクロミラー 40を備える DMD36により前記描画 面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データ 102 (又は画像データ 104)か ら複数のマイクロミラー 40のそれぞれに順次供給するマイクロミラー単位データ 106 を作成し、作成したマイクロミラー単位データ 106のデータ変化点を抽出して中間デ ータ 114を作成し、作成した中間データ 114中のデータ変化点毎にデータを反転さ せることでマイクロミラー単位データ 106から DMD36単位のフレームデータ 116へ の転置処理を行うようにして 、るので、転置処理を高速かつ簡易に行うことができる。
[0086] なお、マイクロミラー単位データ 106を圧縮データとしているので、これを格納するメ モリ 84の記憶容量を少なくすることができる。また、圧縮データのデータ変化点を抽 出して中間データ 114を作成し、作成した中間データ 114中のデータ変化点毎にデ ータを反転させることで、マイクロミラー単位データ 106から DMD36単位のフレーム データ 116への転置 ·解凍処理を高速に行うことができる。
[0087] 圧縮データとしては、例えばランレングス圧縮データ、その累積データ等とすること ができる。可逆圧縮データであることが好ましい。
[0088] また、中間データ 114中のデータ変化点毎にデータを反転させてフレームデータ 1 16を作成する際、ある時点に DMD36に供給される DMD36単位のフレームデータ を Fnとし、前記ある時点の 1つ前の時点に DMD36に供給される DMD36単位のフ レームデータを Fn— 1とするとき、 Fnを、 Fn Fn— 1 XOR Fn 但し、 n= 2, 3, …として求めることができる。 XOR (排他的論理和）を使用する転置処理は、ソフトゥ エアで好適に行うことができる。
[0089] なお、上述した露光記録装置 10は、例えば、多層プリント配線基板 (PWB： Printe d Wiring Board)の製造工程におけるドライ 'フィルム'レジスト（DFR: Dry Film Resist)の露光、液晶表示装置 (LCD)の製造工程におけるカラーフィルタの形成 TFTの製造工程における DFRの露光、プラズマ.ディスプレイ 'パネル（PDP)の製 造工程における DFRの露光等の用途に好適に用いることができる。また、描画ュ- ットとしては、 DMD36等の空間光変調素子に限らず、インクジェット記録ヘッドを備 えた描画装置にも適用することができる。

Claims

請求の範囲
[1] 複数の描画点からなる描画点群を描画面上に形成する複数の描画点形成要素 (4 0)を備える描画ユニット（36)を前記描画面に対して所定の走査方向に相対的に移 動させるとともに、前記走査方向への移動に応じて前記描画ユニット単位のフレーム データを前記描画ユニットに順次供給し、前記描画ユニットにより前記描画点群を前 記描画面に時系列的に形成することで前記描画面に画像を形成する描画装置に組 み込まれるフレームデータ作成装置であって、
前記描画面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データ（102)から前記複 数の描画点形成要素のそれぞれに順次供給する描画点形成要素単位データ（106 )を作成する描画点形成要素単位データ作成部（75)と、
前記描画点形成要素単位データのデータ変化点を抽出した中間データ（114)を 作成した後、前記中間データ中の前記データ変化点毎にデータを反転させて前記フ レームデータ（116)を作成するフレームデータ作成部（92)と、
を備えることを特徴とするフレームデータ作成装置。
[2] 請求項 1記載のフレームデータ作成装置において、
前記描画点形成要素単位データは、圧縮データとする
ことを特徴とするフレームデータ作成装置。
[3] 請求項 1記載のフレームデータ作成装置において、
前記フレームデータ作成部が、前記中間データ中の前記データ変化点毎にデータ を反転させて前記フレームデータを作成する際、ある時点に前記描画ユニットに供給 される前記描画ユニット単位のフレームデータを Fnとし、前記ある時点の 1つ前の時 点に前記描画ユニットに供給される前記描画ユニット単位のフレームデータを Fn— 1 とするとき、 Fnを、
Fn^Fn- 1 XOR Fn 但し、 n= 2, 3,…
として求める
ことを特徴とするフレームデータ作成装置。
[4] 請求項 1に記載のフレームデータ作成装置を組み込んだ前記描画装置。
[5] 複数の描画点からなる描画点群を描画面上に形成する複数の描画点形成要素 (4 0)を備える描画ユニット（36)を前記描画面に対して所定の走査方向に相対的に移 動させるとともに、前記走査方向への移動に応じて前記描画ユニット単位のフレーム データを前記描画ユニットに順次供給し、前記描画ユニットにより前記描画点群を前 記描画面に時系列的に形成することで前記描画面に画像を形成する描画装置に適 用されるフレームデータ作成方法であって、
前記描画面に形成しょうとする前記画像に対応する画像データ（102)から前記複 数の描画点形成要素のそれぞれに順次供給する描画点形成要素単位データ（106 )を作成する描画点形成要素単位データ作成ステップ (S4)と、
前記描画点形成要素単位データのデータ変化点を抽出した中間データ（114)を 作成した後、前記中間データ中の前記データ変化点毎にデータを反転させて前記フ レームデータ（116)を作成するフレームデータ作成ステップ（S5)と、
を備えることを特徴とするフレームデータ作成方法。
[6] 請求項 5記載のフレームデータ作成方法にぉ 、て、
前記描画点形成要素単位データは、圧縮データとする
ことを特徴とするフレームデータ作成方法。
[7] 請求項 5記載のフレームデータ作成方法にぉ 、て、
前記フレームデータ作成ステップで、前記中間データ中の前記データ変化点毎に データを反転させて前記フレームデータを作成する際、ある時点に前記描画ユニット に供給される前記描画ユニット単位のフレームデータを Fnとし、前記ある時点の 1つ 前の時点に前記描画ユニットに供給される前記描画ユニット単位のフレームデータを Fn— 1とするとき、 Fnを、
Fn^Fn- 1 XOR Fn 但し、 n= 2, 3,…
として求める
ことを特徴とするフレームデータ作成方法。
[8] 請求項 5記載のフレームデータ作成方法が適用された前記描画装置。
PCT/JP2006/319372 2005-09-29 2006-09-28 フレームデータ作成装置、方法及び描画装置 WO2007037344A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/992,391 US8035852B2 (en) 2005-09-29 2006-09-28 Frame data producing apparatus, method and plotting apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005284716A JP2007094116A (ja) 2005-09-29 2005-09-29 フレームデータ作成装置、方法及び描画装置
JP2005-284716 2005-09-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007037344A1 true WO2007037344A1 (ja) 2007-04-05

Family

ID=37899767

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/319372 WO2007037344A1 (ja) 2005-09-29 2006-09-28 フレームデータ作成装置、方法及び描画装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8035852B2 (ja)
JP (1) JP2007094116A (ja)
WO (1) WO2007037344A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778819A (zh) * 2012-07-31 2012-11-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4937705B2 (ja) * 2006-11-14 2012-05-23 株式会社オーク製作所 多重露光装置
KR101693047B1 (ko) * 2010-10-27 2017-01-18 엘지디스플레이 주식회사 마스크리스 노광 장치 및 노광 방법
WO2013079316A2 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 Asml Netherlands B.V. Apparatus and method for converting a vector-based representation of a desired device pattern for a lithography apparatus, apparatus and method for providing data to a programmable patterning device, a lithography apparatus and a device manufacturing method
EP2806451B1 (en) * 2012-01-18 2023-01-25 Nikon Corporation Drive method for spatial light modulator, method for generating pattern for exposure, and exposure method and device
KR101900883B1 (ko) * 2015-08-14 2018-09-21 주식회사 에스디에이 디지털 마이크로미러 디바이스 제어기 및 그의 노광 이미지 출력 처리 방법
DE112018000013T5 (de) * 2017-08-16 2019-04-25 Sda Co., Ltd Verfahren zum steuern einer ausgabe eines belichtungsbildes für ein digitale-mikrospiegelvorrichtung-steuerelement zur hochgeschwindigkeitsbelichtung einer feinen zeilenbreite
US10571809B1 (en) * 2019-02-19 2020-02-25 Applied Materials, Inc. Half tone scheme for maskless lithography
US10495979B1 (en) * 2019-02-19 2019-12-03 Applied Materials, Inc. Half tone scheme for maskless lithography

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003337425A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2005022250A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法及び画像記録装置
JP2005022249A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法及び画像記録装置
JP2006264319A (ja) * 2005-02-22 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 画像データ格納方法および制御装置並びにプログラム、フレームデータ作成方法および装置並びにプログラム、データ取得方法および装置、描画方法および装置
JP2006309200A (ja) * 2005-03-31 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006323378A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Fujifilm Holdings Corp 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006323330A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Fujifilm Holdings Corp 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6359695B1 (en) * 1992-02-26 2002-03-19 Canon Kabushiki Kaisha Repeated image forming apparatus with neighboring image boundary gradiation correction
US6493867B1 (en) 2000-08-08 2002-12-10 Ball Semiconductor, Inc. Digital photolithography system for making smooth diagonal components
US6606739B2 (en) 2000-11-14 2003-08-12 Ball Semiconductor, Inc. Scaling method for a digital photolithography system

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003337425A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2005022250A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法及び画像記録装置
JP2005022249A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法及び画像記録装置
JP2006264319A (ja) * 2005-02-22 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 画像データ格納方法および制御装置並びにプログラム、フレームデータ作成方法および装置並びにプログラム、データ取得方法および装置、描画方法および装置
JP2006309200A (ja) * 2005-03-31 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006323378A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Fujifilm Holdings Corp 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006323330A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Fujifilm Holdings Corp 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778819A (zh) * 2012-07-31 2012-11-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8035852B2 (en) 2011-10-11
JP2007094116A (ja) 2007-04-12
US20090161173A1 (en) 2009-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007037344A1 (ja) フレームデータ作成装置、方法及び描画装置
JP5069868B2 (ja) 描画用処理回路及びそれを用いた描画装置並びに描画方法
JP2002166615A (ja) 画像記録装置
JP2007101687A (ja) 描画装置、描画方法、データ構造及び記録媒体、並びに、データ処理装置及び処理方法
JP4919378B2 (ja) 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP3819985B2 (ja) レーザ描画装置
JP4937705B2 (ja) 多重露光装置
WO2007037236A1 (ja) フレームデータ作成装置、方法及び描画装置
JP2008065094A (ja) 描画用処理回路及び描画方法
JP2007101617A (ja) 描画装置及び描画方法
JP7422263B1 (ja) 露光装置および露光方法
JP4448075B2 (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP4179478B2 (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006337576A (ja) 描画処理装置及び方法
JP7455265B1 (ja) 露光装置および露光方法
WO2006129581A1 (ja) 描画処理装置及び方法
JP2007079383A (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006331151A (ja) 画像処理方法及び装置
JP2006287534A (ja) 画像処理方法および装置
JPH03297669A (ja) 画像記録装置
JPH0342252A (ja) 液晶シャッターマトリクスパネルを用いたプリンティング装置
JPH06268824A (ja) 画像処理方法及び画像処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11992391

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 06798420

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1