WO2005113638A1 - ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 - Google Patents

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Description

ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体
技術分野
[0001] 本発明は、特定の構造を導入したポリカーボネート榭脂およびこのポリカーボネート 榭脂を感光層に用いた電子写真感光体に関し、さらに詳しくは、化学的に安定で、 かつ低表面エネルギー化を達成し得るポリカーボネート榭脂、およびこのポリカーボ ネート榭脂を用いた、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好で、種々の電子 写真分野に好適に利用できる電子写真感光体に関する。
背景技術
[0002] ポリカーボネート榭脂は、光学フィルム、光ディスク、レンズなどの光学材料や電気 機器などのハウジングなど、様々な分野で素材として用いられているが、用途分野の 拡大に伴ってさらに性能の優れたポリカーボネート榭脂の開発が望まれている。 一方、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体としては、最近、感光層と して少なくとも露光により電荷を発生する電荷発生層（CGL)と電荷を輸送する電荷 輸送層 (CTL)の二層を有する積層型の有機電子写真感光体 (OPC)や、感光層が 、電荷発生物質および電荷輸送物質をバインダー榭脂に分散させた単一層からなる 、あるいは電荷発生物質のみをバインダー榭脂に分散させた単一層からなる単層型 の有機電子写真感光体が提案され、使用されている。さらに、電子写真感光体の耐 久性向上や高画質ィ匕のために、感光層にポリテトラフルォロエチレン微粒子を分散さ せたり、あるいは感光層の最上層にオーバーコート層を設けた OPCも実用化されて いる (例えば、非特許文献 1参照)。
この有機電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応じて、所定の感 度や電気特性、光学特性を備えていることが要求される。この電子写真感光体は、そ の感光層の表面に、コロナ帯電あるいはロールやブラシを用いた接触帯電、トナー 現像、紙への転写、クリーニング処理などの操作が繰り返し行われるため、これら操 作を行う度に電気的、機械的外力が加えられる。したがって、長期間に亘つて電子写 真の画質を維持するためには、電子写真感光体の表面に設けた感光層に、これら外 力に対する耐久性が要求される。具体的には、摩擦による表面の摩耗や傷の発生、 コロナ帯電や接触帯電、転写でのオゾンなどの活性ガスや放電による表面の劣化に 対する耐久性が要求される。
このような要求に応えるため、有機電子写真感光体のバインダー榭脂としては、感 光層に用いる電荷輸送物質との相溶性が良ぐ光学特性も良好なポリカーボネート 榭脂が使用されてきた。すなわち、このポリカーボネート榭脂として 2, 2—ビス (4—ヒ ドロキシフエ-ル）プロパン〔ビスフエノール A〕や 1 , 1—ビス（4—ヒドロキシフエ-ル） シクロへキサン〔ビスフエノール Z〕などを原料とするものが使用されてきた。し力しなが ら、このビスフエノール Aやビスフエノール Zを原料とするポリカーボネート榭脂をもつ てしても上記要求を満足させるには不十分である。
上記問題を解決する手法として、シロキサンを共重合したポリカーボネート榭脂を 含有する電子写真感光体が検討されている（例えば、特許文献 1、 2および 3参照)。 しかしながら、これらに開示された共重合体は、化学的に不安定な Si— O— C結合を 介して結合しているために、分子鎖切断による機械特性の劣化や、分子末端にシラ ノール基が残存することによる帯電特性の劣化が問題になるものであった。これを解 決するため、化学的に安定な Si— C結合で接合された共重合ポリカーボネート榭脂 が提案されている (例えば、特許文献 4および 5参照)。し力 ながら、これらポリカー ボネート榭脂を用いた感光体は、低い表面エネルギーを有することから、タリーニン グ特性が向上するものの、耐摩耗性の改善効果は十分とは言えな力つた。
[0003] 非特許文献 1：「第 53回日本画像学会技術講習会予稿集」 91頁
特許文献 1：特開昭 61— 132954号公報
特許文献 2：特開平 2— 240655号公報
特許文献 3：特許第 2989251号公報
特許文献 4：特開平 5 - 72753号公報
特許文献 5：特開平 10— 232503号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] 本発明は、上記状況下でなされたもので、バインダー榭脂としてビスフエノール Aや ビスフエノール zを原料とするポリカーボネート榭脂を用いた電子写真感光体に認め られる上記の問題点を解決し得るポリカーボネート榭脂、およびこのポリカーボネート 榭脂を用いた、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好な電子写真感光体を 提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0005] 本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定のシロキサン構造を導入したポリカー ボネート榭脂が上記目的に適合することを見出した。本発明は力かる知見に基づい て完成したものである。
すなわち、本発明の要旨は下記のとおりである。
[1] 下記一般式 (1)
[0006] [化 1]
Figure imgf000005_0001
(式中、 Rは炭素数 1〜3のアルキル基を示す。 nlは 2〜4の整数であり、 n2は 1 0の整数である。 )
[0007] で表される繰り返し単位を有することを特徴とするポリカーボネート榭脂。
[2] ポリカーボネート榭脂が、さらに下記一般式 (2)
[0008] [化 2]
Figure imgf000005_0002
(式中、 Arは二価の芳香族基を示す。 )
[0009] で表される繰り返し単位を含む上記 [1]に記載のポリカーボネート榭脂, [3] 一般式 (2)における Arが、下記一般式 (3)で表される基の少なくとも一種を含 む上記 [2]に記載のポリカーボネート榭脂。
[0010] [化 3]
人 入 リ
Figure imgf000006_0001
R 1 R 2
[0011] [式中、 R1および R2は、それぞれ独立に、トリフルォロメチル基，ハロゲン原子、炭素 数 1〜10のアルキル基、炭素数 6〜12のァリール基、炭素数 3〜12のシクロアルキ ル基、炭素数 1〜6のアルコキシ基および炭素数 6〜12のァリールォキシ基力も選ば れる基を示す。 Xは、単結合、 O—、— S—、— SO—、 - SO 一、 -CO- ,— CR3
2
R4- (ただし、 R3および R4は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルォロメチル基、置 換または無置換の炭素数 1〜10のアルキル基、および置換または無置換の炭素数 6 〜12のァリール基力も選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数 5〜： L 1の シクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数 2〜 12の a , ω アルキレン基、 置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基、置換または無置換の炭素数 6〜 12 のァリーレン基、下記一般式
[0012] [化 4]
Figure imgf000006_0002
(式中、 R5〜R7は、 R1および R2と同様の基を示す。 )
で表される天然テルペン類力 誘導される二価の基、ならびに下記一般式 [0014] [化 5]
Figure imgf000007_0001
(式中、 R8〜RUは、 R1および R2と同様の基を示す。 )
[0015] で表される炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基力も選ばれる基を 示す。 ]
[4] 一般式 (3)における Xがー CR3R4—、単結合、置換または無置換の炭素数 5〜 11シクロアルキリデン基および置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基力 選 ばれる基である上記 [3]に記載のポリカーボネート榭脂。
[5] 一般式（3)における Xがー CR3R4—であり、かつポリカーボネート榭脂全体に占 める一般式（1)で表される繰り返し単位の割合が 0. 01〜3. 9質量％である上記 [3] に記載のポリカーボネート榭脂。
[6] 一般式 (3)で表される基が、（a) Xが単結合である基と、 Xが単結合以外である 基の組み合わせ、（b)Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基 である基と、 Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基以外であ る基の組み合わせ、（c)Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基である基 と、 Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基以外である基の組み合わせ、 (d)Xが炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基である基と、 Xが炭素 数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（e)X がー SO である基と、 が SO 以外である基の組み合わせ、（f ) Xがー O であ る基と、 Xがー O 以外である基の組み合わせまたは (g)Xがー CO である基と、 X がー CO 以外である基の組み合わせである上記 [3]に記載のポリカーボネート榭 脂。
[7] 導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体において、該感光層が、上 記一般式（1)で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート榭脂を含むことを特 徴とする電子写真感光体。 [8] 感光層に含まれるポリカーボネート榭脂が、さらに上記一般式（2)で表される繰 り返し単位を含む上記 [7]に記載の電子写真感光体。
[9] 一般式 (2)における Arが、上記一般式 (3)で表される基の少なくとも一種を含 む上記 [8]に記載の電子写真感光体。
[10] 一般式 (3)における Xが— CR3R4—、単結合、置換または無置換の炭素数 5 〜： L 1シクロアルキリデン基および置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基から 選ばれる基である上記 [9]に記載の電子写真感光体。
[11] 一般式（3)における Xが— CR3R4—であり、かつポリカーボネート榭脂全体に 占める一般式（1)で表される繰り返し単位の割合が 0. 01〜3. 9質量％である上記 [ 9]に記載の電子写真感光体。
[12] 一般式（3)で表される基が、（a) Xが単結合である基と、 Xが単結合以外であ る基の組み合わせ、（b)Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン 基である基と、 Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基以外で ある基の組み合わせ、（c)Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基である 基と、 Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基以外である基の組み合わ せ、（d)Xが炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基である基と、 が 炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、 (e)Xがー SO である基と、 Xがー SO 以外である基の組み合わせ、（f)Xがー O である基と、 Xがー O 以外である基の組み合わせまたは (g) が CO である 基と、 Xが CO 以外である基の組み合わせである上記 [9]記載の電子写真感光 体。
発明の効果
[0016] 本発明によれば、化学的に安定で、かつ低表面エネルギー化を達成し得るポリ力 ーボネート榭脂を電子写真感光体の感光層のバインダー榭脂として用いているので 、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好な電子写真感光体を提供することが できる。
発明を実施するための最良の形態
[0017] 本発明のポリカーボネート榭脂は、下記一般式（1) [0018] [化 6]
Figure imgf000009_0001
(1)
(式中、 Rは炭素数 1〜3のアルキル基を示す。 nlは 2〜4の整数、好ましくは 3であり 、 η2ίま 1〜200、好ましく ίま 3〜150、より好ましく ίま 10〜： LOOの整数である。 )
[0019] で表される繰り返し単位 [以下、（a)繰り返し単位ともいう。]を有するものである。また 、本発明の電子感光体は、導電性基体上に感光層を設けた構成を有するものであり 、この感光層に、上記ポリカーボネート榭脂を含むものである。上記一般式（1)にお いて、 Rで示される炭素数 1〜3のアルキル基は、メチル基、ェチル基、 n—プロピル 基およびイソプロピル基であり、本発明のお!/、てはメチル基が好ま ヽ。
本発明において、ポリカーボネート榭脂は、上記一般式（1)で表される繰り返し単 位に加えて、さらに下記一般式（2)
[0020] [化 7]
Figure imgf000009_0002
(式中、 Arは二価の芳香族基を示す。 )
[0021] で表される繰り返し単位 [以下、（b)繰り返し単位ともいう。 ]を有するものであってもよ い。上記一般式（2)における Arとしては、下記一般式（3) [0022] [化 8]
(3)
Figure imgf000010_0001
[0023] で表される基の少なくとも一種を含む基が挙げられる。上記一般式（3)において、 R1 および R2は、それぞれ独立に、トリフルォロメチル基，ハロゲン原子、炭素数 1〜10、 好ましくは炭素数 1〜6のアルキル基、炭素数 6〜12、好ましくは炭素数 6〜10のァリ ール基、炭素数 3〜12、好ましくは炭素数 5〜9のシクロアルキル基、炭素数 1〜6の アルコキシ基および炭素数 6〜 12、好ましくは炭素数 6〜 10のァリールォキシ基から 選ばれる基を示す。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げら れる。炭素数 1〜10のアルキル基としては、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、ィ ソプロピル基、 n ブチル基、イソブチル基、 sec ブチル基、 tert ブチル基、各種 ペンチル基、各種へキシル基、各種へプチル基、各種ォクチル基、 2—メトキシェチ ル基などが挙げられる。炭素数 6〜 12のァリール基としては、フエ-ル基、トリル基、 キシリル基などが挙げられる。炭素数 3〜 12のシクロアルキル基としては、シクロプロ ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基などが挙げられる。炭 素数 1〜6のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、 n—プロポキシ基、イソプ 口ポキシ基、 n—ブトキシ基、イソブトキシ基、 sec ブトキシ基、 tert ブトキシ基、各 種ペントキシ基などが挙げられる。炭素数 6〜 12のァリールォキシ基としては、フエノ キシ基、 2, 6 ジメチルフエノキシ基、ナフチルォキシ基などが挙げられる。
上記一般式（3)において、 Xは、単結合、 O—、— S—、— SO—、—SO—、 -
2
CO—、 -CR3R4- (ただし、 R3および R4は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルォ ロメチル基、置換または無置換の炭素数 1〜： L0のアルキル基、および置換または無 置換の炭素数 6〜 12、好ましくは炭素数 6〜 10のァリール基から選ばれる基を示す 。；)、置換または無置換の炭素数 5〜11、好ましくは炭素数 5〜9のシクロアルキリデ ン基、置換または無置換の炭素数 2〜 12、好ましくは炭素数 2〜6の (X , ω アルキ レン基、置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基、置換または無置換の炭素 12、好ましくは炭素数 6〜 10のァリーレン基、下記一般式
[0024] [化 9]
Figure imgf000011_0001
(式中、 R5〜R7は、 R1および R2と同様の基を示す。 )
[0025] で表される天然テルペン類から誘導される二価の基、ならびに下記一般式
[0026] [化 10]
Figure imgf000011_0002
(式中、 R8〜RUは、 R1および R2と同様の基を示す。 )
[0027] で表される炭素数 8〜16、好ましくは炭素数 12〜16のアルキリデンァリーレンアルキ リデン基から選ばれる基を示す。
上記 Xのうちの CR3R4 における R3および R4の置換または無置換の炭素数 1〜 1
0のアルキル基、置換または無置換の炭素数 6〜12ァリール基としては、上記一般 式（3)における R1および R2と同様のものが挙げられる。
Xのうちの置換または無置換の炭素数 5〜 11のシクロアルキリデン基としては、シク 口ペンチリデン基、シクロへキシリデン基、シクロへプチリデン基などが挙げられる。置 換または無置換の炭素数 2〜 12の a , ω—アルキレン基としては、 a , ω—エチレン 基、 α , ω—プロピレン基、 a , ω—ブチレン基などが挙げられる。置換または無置換 の炭素数 6〜12のァリーレン基としては、フエ-レン基、アルキル置換フエ-レン基、 ナフチレン基、アルキル置換ナフチレン基などが挙げられる。
[0028] 上記一般式（2)で表される繰り返し単位の組み合わせとしては、上記一般式（3)で 表される基力 （a) Xが単結合である基と、 Xが単結合以外である基の組み合わせ、（ b)Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L Iのシクロアルキリデン基である基と、 Xが置 換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基以外である基の組み合わせ 、（c)Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基である基と、 Xが置換または 無置換の 9, 9 フルォレニリデン基以外である基の組み合わせ、（d)Xが炭素数 8〜 16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基である基と、 Xが炭素数 8〜16のアルキリ デンァリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（e) Xがー SO である基 と、 Xがー SO 以外である基の組み合わせ、（£) がー0—でぁる基と、 Xがー O— 以外である基の組み合わせまたは (g) が CO である基と、 が CO 以外で ある基の組み合わせであるものが挙げられる。
[0029] 上記繰り返し単位を有するポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度 0. 5g/dl溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? /C]が 0. 1〜5. OdlZgであることが
sp
好ましぐより好ましくは 0. 2〜3. OdlZg、特に好ましくは 0. 3〜2. 5dlZgである。 還元粘度 [ r? ZC]
sp が 0. ldlZg未満であると、電子写真感光体の耐刷性が不十分 となるおそれがある。また、還元粘度 [ r? ZC]
sp が 5. OdlZgを超えると、感光体製造 時に、塗工粘度が高くなりすぎることにより、電子写真感光体の生産性が低下するお それがあり、好ましくない。
(a)繰り返し単位と (b)繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート榭脂にお！、て 、（a)繰り返し単位と (b)繰り返し単位の含有割合については特に制限はないが、ノ インダー榭脂としての物性、およびクリーニング性、滑り性、耐摩耗性のバランスなど の面から、 (&) 7[ (&) + 0)) ] (質量比）は、好ましくは0. 0001-0. 30、より好ましく は 0. 001〜0. 10、さらに好ましくは 0. 005〜0. 039である。
なお、本発明の電子写真感光体のバインダー榭脂に用いられるポリカーボネート榭 脂は、本発明の目的に支障のない範囲で、（a)繰り返し単位、（b)繰り返し単位以外 の他の繰り返し単位を有していてもよい。また、本発明の電子写真感光体は、感光層 に、本発明に係るポリカーボネート榭脂の他に他のポリマーや添加剤が適宜配合さ れていてもよい。
[0030] 本発明の電子写真感光体に使用する、（a)繰り返し単位を有するポリカーボネート 榭脂、あるいは（a)繰り返し単位と (b)繰り返し単位を有するポリカーボネート榭脂の 製造方法としては特に制限はなぐ適当なモノマーを使用して公知の方法に準じて 各種の方法によって製造することができる。 (a)繰り返し単位を含有するポリカーボネ ート榭脂は、例えば下記一般式 (4)
[化 11]
Figure imgf000013_0001
(式中、 R、 nlおよび n2は上記と同じである。 )
[0032] で表されるビスフエノールイ匕合物（以下 [A]成分ともいう。 )と、炭酸エステル形成性 化合物とを反応させることによって製造することができる。（a)繰り返し単位と (b)繰り 返し単位を有するポリカーボネート榭脂は、例えば、上記 [A]成分と下記一般式（5)
[0033] [化 12]
HO— Ar—— OH (5)
(式中、 Arは上記と同じである。 )
[0034] で表されるビスフ ノールイ匕合物（以下 [B]成分ともいう。 )との混合物と、炭酸エステ ル形成性ィ匕合物とを反応させることによって製造することができる。この際、末端停止 剤を用いることにより、分子量を調節することができる。
上記 [A]成分のビスフエノールイ匕合物の具体例としては、 4 [4ーヒドロキシー 3— メトキシフエ-ル]ェチル（ポリジメチルシロキシ）ジメチルシリルェチル] 2—メトキシ フエノール、 4— [4—ヒドロキシ一 3—メトキシフエ-ル]プロピル（ポリジメチルシロキシ )ジメチルシリルプロピル]— 2—メトキシフエノール、 4— [4 ヒドロキシ一 3—メトキシ フエ-ル]ブチル（ポリジメチルシロキシ）ジメチルシリルブチル] 2—メトキシフエノー ノレを挙げることができる。
[0035] 上記 [B]成分のビスフエノール化合物の具体例としては、ビス（4ーヒドロキシフエ- ル）メタン、 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ェタン、 1, 2 ビス（4 ヒドロキシフエ -ル）ェタン、 2, 2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3—メチノレ一 4 ヒドロキシフエ-ル）ブタン、 2, 2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ブタン、 2, 2 ビ ス（4 ヒドロキシフエ-ル）オクタン、 4, 4 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ヘプタン、 1 , 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 1, 1—ジフエ-ルメタン、 1, 1—ビス（4 ヒドロ キシフエ-ル） 1 フエ-ルェタン、 1, 1 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル） 1 フエ -ノレメタン、ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）エーテル、ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）スノレ フイド、ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）スルホン、 1, 1 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）シ クロペンタン、 1, 1—ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロペンタン、 1, 1 —ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン、 2, 2 ビス（3—メチル 4 ヒドロキ シフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3 フエ-ノレ一 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 2 - (3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル） 2— (4 ヒドロキシフエ-ル）一 1—フエ- ルェタン、ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）スルフイド、ビス（3—メチル 4— ヒドロキシフエ-ル）スルホン、ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）メタン、 1, 1 —ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン、 4, 4—ビフエノール、 3, 3 ' ジメチルー 4, 4'ービフエノール、 3, 3，ージフエ二ルー 4, 4'ービフエノール、 3 , 3，ージクロロー 4, 4，ービフエノール、 3, 3，ージフルオロー 4, 4，ービフエノール、 3, 3 ' , 5, 5 ,—テトラメチノレー 4, 4 ,—ビフエノーノレ、 2, 7 ナフタレンジ才ーノレ、 2, 6 ナフタレンジオール、 1, 4 ナフタレンジオール、 1, 5 ナフタレンジオール、 2 , 2 ビス（2—メチル—4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 1, 1—ビス（2 ブチル—4 —ヒドロキシ一 5—メチルフエ-ル）ブタン、 1, 1—ビス（2— tert—ブチル 4 ヒドロ キシ一 3—メチルフエ-ル）ェタン、 1, 1—ビス（2— tert—ブチル 4 ヒドロキシ一 5 —メチルフエ-ル）プロパン、 1, 1—ビス（2— tert—ブチル 4 ヒドロキシ一 5—メ チルフエ-ル）ブタン、 1, 1—ビス（2— tert ブチル—4 ヒドロキシ— 5—メチルフ ェ -ル）イソブタン、 1, 1—ビス（2— tert—ブチル 4 ヒドロキシ一 5—メチルフエ- ル）ヘプタン、 1, 1—ビス（2— tert—ブチル—4 ヒドロキシ— 5—メチルフエ-ル）— 1—フエ-ルメタン、 1, 1—ビス（2— tert—ァミル一 4 ヒドロキシ一 5—メチルフエ- ル）ブタン、ビス（3—クロ口一 4—ヒドロキシフエ-ル）メタン、ビス（3, 5—ジブ口モー 4 —ヒドロキシフエ-ル）メタン、 2, 2 ビス（3 クロ口一 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパ ン、 2, 2 ビス（3 フルオロー 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3 ブ 口モー 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3, 5 ジフノレオロー 4 ヒドロキ シフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3, 5 ジクロロ一 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン 、 2, 2 ビス（3, 5 ジブ口モー 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3 ブ 口モー 4 ヒドロキシ一 5 クロ口フエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（3, 5 ジクロロ一 4 —ヒドロキシフエ-ル）ブタン、 2, 2 ビス（3, 5 ジブ口モー 4 ヒドロキシフエ-ル） ブタン、 1—フエ-ノレ一 1, 1—ビス（3 フノレオロー 4 ヒドロキシフエ-ル）ェタン、ビ ス（3—フルオロー 4ーヒドロキシフエ-ル）エーテル、 3, 3，ージフルオロー 4, 4，ージ ヒドロキシビフエ-ル、 1, 1—ビス（3 シクロへキシノレ一 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロ へキサン、 2, 2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）へキサフノレオ口プロパン、 2, 2 ビス（ 3—フエ-ルー 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 1, 1—ビス（3 フエ-ノレ一 4 ヒド ロキシフエ-ル）シクロへキサン、ビス（3—フエニル 4—ヒドロキシフエ-ル）スルホン 、 4, 4，一（3, 3, 5 トリメチノレシクロへキシリデン）ジフエノーノレ、 4, 4，一 [1, 4 フ ェ-レンビス（1—メチルェチリデン）]ビスフエノール、 4, 4，一 [1, 3 フエ-レンビス (1ーメチルェチリデン）]ビスフエノール、 9, 9 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）フルォ レン、 9, 9—ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）フルオレン、末端フエノールポ リジメチルシロキサンおよび α トリメチルシロキシ— ω—ビス { 3— (2—ヒドロキシフ ェ -ル）プロピルジメチルシロキシ }ーメチルシロキシ 2—ジメチルシリルェチルーポ リジメチルシロキサンなどが挙げられる。これらのビスフエノールイ匕合物は一種を単独 で用いても、二種以上を混合して用いてもよい。
これらのビスフエノール化合物の中で、 1, 1 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）ェタン、 2, 2 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）ブタン、 2, 2-ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）プロ パン、 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 1, 1—ジフエ-ルメタン、 1, 1—ビス（4 —ヒドロキシフエ-ル）一 1—フエ-ノレェタン、ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）スノレホン、 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン、 2, 2 ビス（3—メチル 4 ヒド ロキシフエ-ル）プロパン、 1, 1—ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへ キサン、 1, 1—ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエニル）シクロペンタン、 4, 4'—ビ フエノール、 2, 2 ビス（3 フエ-ル一 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 4, 4， - (3 , 3, 5 トリメチルシクロへキシリデン）ジフエノール、 4, 4，一 [1, 4 フエ-レンビス（ 1ーメチルェチリデン）]ビスフエノール、 9, 9 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）フルォレ ン、 9, 9—ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）フルオレンが好ましい。
さらに好ましくは、 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ェタン、 2, 2 ビス（4 ヒドロ キシフエ-ル）ブタン、 2, 2 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 1, 1 ビス（4 - ヒドロキシフエ-ル） 1—フエ-ルェタン、 1, 1 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）シクロ へキサン、 2, 2 ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 1, 1—ビス（3 —メチルー 4 ヒドロキシフエニル）シクロへキサン、 1, 1—ビス（3—メチル 4 ヒド ロキシフエ-ル）シクロペンタン、 4, 4'—ビフエノール、 2, 2 ビス（3—フエ-ルー 4 —ヒドロキシフエ-ル）プロパン、 4, 4'— (3, 3, 5—トリメチルシクロへキシリデン）ジ フエノール、 9, 9—ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）フルオレンである。 また、炭酸エステル形成性化合物（以下、カーボネート前駆体ともいう。）として、ホ スゲン、ホスゲンダイマー、ホスゲントリマー等のジハロゲン化カルボ-ルまたはクロ口 ホーメート等のハロホーメート類が挙げられる。
さらに、末端停止剤としては例えば、 p—tert ブチルフエノール、 p—フエ-ルフエ ノーノレ、 p クミノレフエノーノレ， 2, 3, 3—テ卜ラフノレ才ロプロノ ノーノレ、 2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5—ォクタフルォロペンタノール、 2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7 ドデカ フノレオ口ヘプタノ一ノレなどのハイドロフノレオロアノレコーノレやパーフノレォロォクチノレフエ ノールなどが挙げられる。
例えば、カーボネート前駆体として、ホスゲン等のジハロゲン化カルボ-ルまたはク ロロホーメート等のハロホーメート類を用いる場合、この反応は、適当な溶媒中で、酸 受容体 (例えば、アルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩等の塩基性アルカリ 金属化合物、あるいはピリジン等の有機塩基等)の存在下で行うことができる。
アルカリ金属水酸ィ匕物およびアルカリ金属炭酸塩としては、各種のものが使用可能 であるが、経済的な面から、通常、水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸ナトリウム 、炭酸カリウム等が好適に利用される。これらは、通常は水溶液として好適に使用さ れる。 [0038] 上記カーボネート前駆体の使用割合は、反応の化学量論比（当量)を考慮して適 宜調整すればよい。また、ホスゲン等のガス状のカーボネート前駆体を使用する場合 、これを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。
上記酸受容体の使用割合も、同様に反応の化学量論比（当量)を考慮して適宜定 めればよい。具体的には、使用するビスフ ノールイ匕合物の合計モル数 (通常、 1モ ルは当量に相当）に対して 2当量もしくはこれより若干過剰量の酸受容体を用いること が好ましい。
上記溶媒としては、公知のポリカーボネート製造の際に使用されるものなど各種の 溶媒の一種を単独である!、は二種以上の混合溶媒として使用すればよ!、。代表的な 例としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロ口ベン ゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが好適に使用することができる。 また、重縮合反応を促進するために、トリェチルァミンのような第三級ァミンまたは第 四級アンモ-ゥム塩などの触媒を、さらにはフロログリシン、ピロガロール、 4, 6—ジメ チル一 2, 4, 6 トリス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 2 ヘプテン、 1, 3, 5 トリス（4— ヒドロキシフエ-ル）ベンゼン、 1, 1, 1—トリス（4 ヒドロキシフエ-ル）ェタン、トリス（ 4 ヒドロキシフエ-ル）フエ-ノレメタン、 2, 2 ビス [4, 4 ビス（4 ヒドロキシフエ- ル）シクロへキシル]プロパン、 2, 4 ビス [2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 2 プ 口ピル]フエノール、 2, 6 ビス（2 ヒドロキシ一 5—メチルベンジル） 4—メチルフ ェノール、 2- (4 ヒドロキシフエ-ル） 2— (2, 4 ジヒドロキシフエ-ル）プロパン 、テトラキス（4—ヒドロキシフエ-ル)メタン、テトラキス [4— (4—ヒドロキシフエ-ルイソ プロピル）フエノキシ]メタン、 2, 4 ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シァヌル酸な どの分岐剤を添加して反応を行うことができる。
また、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト等の酸ィ匕防止剤を少量添 カロしてちょい。
[0039] 反応は、通常 0〜150°C程度、好ましくは 5〜40°Cの範囲の温度で行われる。反応 圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系 の自圧程度で好適に行うことができる。反応時間は、通常 0. 5分間〜 10時間程度で あり、好ましくは 1分間〜 2時間である。反応方式としては、連続法、半連続法、回分 法等のいずれであってもよい。なお、得られるポリカーボネート榭脂の還元粘度 [ η
sp
Zc]を、上記範囲にするには、例えば、上記反応条件、上記末端停止剤 (分子量調 節剤）の使用量などを適切に選択すればよい。また、場合により、得られたポリカーボ ネート榭脂に適宜物理的処理 (混合、分画など)および Zまたは化学的処理 (ポリマ 一反応、架橋処理、部分分解処理など)を施すことにより、所定の還元粘度 [ η /C
sp
]のポリカーボネート榭脂として得ることもできる。
得られた反応生成物 (粗生成物）は公知の分離'精製法などの各種の後処理を施 して、所望の純度 (精製度)のポリカーボネート榭脂として回収することができる。
[0040] 本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体で あって、その感光層が上記ポリカーボネート榭脂を含有する表面層を有するものであ る。本発明の電子写真感光体は、このような感光層が導電性基体上に形成されたも のである限り、その構造に特に制限はなぐ単層型や積層型など公知の種々の形式 の電子写真感光体はもとより、いかなる構造であってもよい。通常は、感光層が、少な くとも一層の電荷発生層と、表面層を形成する少なくとも一層の電荷輸送層を有する 積層型電子写真感光体が好ましぐ少なくとも一層の電荷輸送層中に、上記ポリカー ボネート榭脂がバインダー榭脂としておよび Zまたは上記表面層として用いられて 、 ることが好ましい。
本発明の電子写真感光体において、上記ポリカーボネート榭脂をバインダー榭脂 として用いる場合、このポリカーボネート榭脂を一種のみまたは二種以上を組み合わ せて用いてもよいし、また、所望に応じて本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他 のポリカーボネート榭脂などの榭脂成分と併用してもよい。
[0041] 本発明の電子写真感光体に用いられる導電性基板としては、公知のものなど各種 のものを使用することができ、具体的には、アルミニウムやニッケル、クロム、パラジゥ ム、チタン、モリブデン、インジウム、金、白金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス鋼、酸 化鉛、酸化錫、酸化インジウム、 ITO (インジウムチンオキサイド:錫ドープ酸化インジ ゥム)もしくはグラフアイトからなる板やドラム、シート、ならびに蒸着、スパッタリング、 塗布などによりコーティングするなどして導電処理したガラス、布、紙もしくはプラスチ ックのフィルム、シートおよびシームレスシーベルト、ならびに電極酸化等により金属 酸化処理した金属ドラムなどを使用することができる。
積層型電子写真感光体の電荷発生層は、少なくとも電荷発生物質を含むものであ り、この電荷発生層はその下地となる基体上に、真空蒸着法や化学蒸着法、スパッタ リング法などによって、電荷発生物質の層を形成するか、またはその下地となる層上 に電荷発生物質をバインダー榭脂を用いて結着してなる層を形成せしめることによつ て得ることができる。ノインダー榭脂を用いる電荷発生層の形成方法としては公知の 方法等各種の方法を使用することができるが、通常、例えば、電荷発生物質をバイン ダー榭脂と共に適当な溶媒に分散または溶解した塗工液を、所定の下地となる層上 に塗布し、乾燥せしめる方法などが好適に用いられる。このようにして得られる電荷 発生層の厚さは、通常、 0. 01〜2. 0 m、好ましくは 0. 1〜0. 8 μ mである。電荷 発生層の厚さが 0. 01 μ m未満であると均一な厚さに層を形成することが困難となる おそれがある。また、 2. 0 mを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。 上記電荷発生層における電荷発生材料としては、公知の各種のものを使用するこ とができる。具体的な化合物としては、非晶質セレンや、三方晶セレン等のセレン単 体、セレン テルル等のセレン合金、 As Se等のセレン化合物もしくはセレン含有組
2 3
成物、酸化亜鉛、 CdS— Se等の周期律表第 12族および第 16族元素からなる無機 材料、酸ィ匕チタン等の酸ィ匕物系半導体、アモルファスシリコン等のシリコン系材料、 τ型無金属フタロシアニン、 X型無金属フタロシアニン等の無金属フタロシアニン顔 料、 α型銅フタロシアニン、 j8型銅フタロシアニン、 Ύ型銅フタロシアニン、 ε型銅フ タロシアニン、 X型銅フタロシアニン、 Α型チタ-ルフタロシアニン、 B型チタ-ルフタ ロシア-ン、 C型チタ-ルフタロシア-ン、 D型チタ-ルフタロシア-ン、 E型チタ-ル フタロシアニン、 F型チタニルフタロシアニン、 G型チタニルフタロシアニン、 H型チタ -ルフタロシア-ン、 K型チタ-ルフタロシア-ン、 L型チタ-ルフタロシア-ン、 M型 チタニルフタロシアニン、 N型チタ-ルフタロシアニン、 Y型チタ-ルフタロシアニン、 ォキソチタ-ルフタロシアニン、 X線回折図におけるブラッグ角 2 0力 3±0. 2度 に強い回折ピークを示すチタ-ルフタロシアニン等の金属フタロシアニン顔料、シァ ニン染料、アントラセン顔料、ビスァゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナタリド ン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリウム染料、スクェアリウム顔料、アントアント ロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、ァゾ顔料、チォインジゴ顔料、キノリン顔料、レー キ顔料、ォキサジン顔料、ジォキサジン顔料、トリフエニルメタン顔料、ァズレニウム染 料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料、チアピリリウム染料、ポリ ビュルカルバゾール、ビスべンゾイミダゾール顔料などが挙げられる。これら化合物は
、一種を単独であるいは二種以上のものを混合して、電荷発生物質として用いること ができる。
これら電荷発生物質の中でも、好適なものとしては、特開平 11— 172003号公報 に具体的に記載のものが挙げられる。
[0043] 上記電荷発生層におけるバインダー榭脂としては、特に制限はなぐ公知の各種の ものを使用できる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビュル、塩ィ匕 ビュル 酢酸ビュル共重合体、ポリビュルァセタール、アルキッド榭脂、アクリル榭脂 、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリアミド、ブチラール榭脂、ポリエステル、 塩ィ匕ビユリデン一塩ィ匕ビニル共重合体、メタタリル榭脂、スチレン ブタジエン共重 合体、塩ィ匕ビユリデンーアクリロニトリル共重合体、塩ィ匕ビュル 酢酸ビュル 無水 マレイン酸共重合体、シリコーン榭脂、シリコーン アルキッド榭脂、フエノールーホ ルムアルデヒド榭脂、スチレン一アルキッド榭脂、メラミン榭脂、ポリエーテル榭脂、ベ ンゾグアナミン榭脂、エポキシアタリレート榭脂、ウレタンアタリレート榭脂、ポリ N— ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスノレホン、 カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ェチルセルロース、ニトロセルロース、力 ルボキシメチルセルロース、塩化ビ-リデン系ポリマーラテックス、アクリロニトリルーブ タジェン共重合体、ビニルトルエン スチレン共重合体、大豆油変性アルキッド榭脂 、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポイソプレン、ポリチォカーボネート、ポリ ァリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテル、ポリビュルアタリレート、ポリエステ ルアタリレートなどが挙げられる。上記電荷発生層におけるバインダー榭脂として、本 発明のポリカーボネート榭脂を使用することもできる。
[0044] 電荷輸送層は、下地となる層（例えば電荷発生層）上に、上記の本発明に係るポリ カーボネート榭脂と電荷輸送物質を含む層を形成することによって得ることができる。 この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法等の各種の方式を使用すること ができるが、通常、電荷輸送物質と本発明に係るポリカーボネート榭脂、または本発 明の目的を阻害しない範囲で、他のバインダー榭脂とともに適当な溶媒に分散もしく は溶解した塗工液を、所定の下地となる基板上に塗布し、乾燥する方式などが使用 される。本発明における電荷輸送層形成に用いられる電荷輸送物質とポリカーボネ ート榭脂との配合割合は、好ましくは質量比で20 : 80〜80 : 20、さらに好ましくは 30 : 70〜70 : 30である。
この電荷輸送層において、上記ポリカーボネート榭脂は、一種を単独で用いること もできるし、また、二種以上を混合して用いることもできる。また、本発明の目的達成 を阻害しな!、範囲で上記電荷発生層に用いられるバインダー榭脂として挙げたよう な榭脂を、上記ポリカーボネート榭脂と併用することもできる。
このようにして形成される電荷輸送層の厚さは、通常 5〜： LOO /z m程度、好ましくは 10-30 μ mである。この厚さが 5 μ m未満であると初期電位が低くなるおそれがあり 、 100 mを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。
上記本発明に係るポリカーボネート榭脂と共に使用できる電荷輸送物質としては、 公知の各種の化合物を使用することができる。このような化合物としては、カルバゾー ル化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、ォキサゾール化合物、ピラゾー ル化合物、ォキサジァゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、ァ 二リン化合物、ヒドラゾンィ匕合物、芳香族ァミン化合物、脂肪族ァミン化合物、スチル ベン化合物、フルォレノンィ匕合物、ブタジエンィ匕合物、キノン化合物、キノジメタンィ匕 合物、チアゾール化合物、トリァゾール化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化 合物、ビスイミダゾリジン化合物、ォキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベ ンズイミダゾール化合物、キナゾリンィ匕合物、ベンゾフランィ匕合物、アタリジン化合物、 フエナジン化合物、ポリ—N—ビュルカルバゾール、ポリビュルピレン、ポリビュルァ ントラセン、ポリビニルアタリジン、ポリ 9 ビニルフエ二ルアントラセン、ピレンーホ ルムアルデヒド榭脂、ェチルカルバゾール榭脂、あるいはこれらの構造を主鎖や側鎖 に有する重合体などが好適に用いられる。これら化合物は、一種を単独で使用しても よいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
これら電荷輸送物質の中でも、特開平 11— 172003公報において具体的に例示さ れて 、る化合物が特に好適に用いられる。
[0046] 本発明の電子写真感光体においては、上記導電性基体と感光層との間に、通常 使用されるような下引き層を設けることができる。この下引き層としては、酸化チタンや 酸化アルミニウム、ジルコユア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン酸、チタンブラック、シ リカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化インジウム、酸ィ匕珪素などの微粒 子、ポリアミド榭脂、フエノール榭脂、カゼイン、メラミン榭脂、ベンゾグアナミン榭脂、 ポリウレタン榭脂、エポキシ榭脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビュルアルコー ル、ポリビニルブチラール榭脂等の成分を使用することができる。また、この下引き層 に用いる榭脂として、上記ノインダー榭脂を用いてもよいし、本発明に係るポリカー ボネート榭脂を用いてもょ ヽ。これら微粒子や榭脂は単独または種々混合して用いる ことができる。これらの混合物として用いる場合には、無機質微粒子と榭脂を併用す ると、平滑性の良い皮膜が形成されることから好適である。
この下引き層の厚さは、通常、 0. 01〜： LO μ m程度、好ましくは 0. 01〜1 μ mであ る。この厚さが 0. 01 /z m未満であると、下引き層を均一に形成することが困難となる おそれがある。また 10 mを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。
[0047] また、上記導電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公知のブロッキ ング層を設けることができる。このブロッキング層としては、上記のバインダー榭脂と同 様のものを用いることができる。このブロッキング層の厚さは、通常、 0. 01〜20 /ζ πι 程度、好ましくは 0. 01〜： LO μ mである。この厚さが 0. 01 μ m以上であると、ブロッキ ング層を均一に形成することが容易であり、また 20 m以下であると電子写真特性 の低下を招くおそれがない。
さらに、本発明の電子写真感光体には、感光層の上に、保護層を積層してもよい。 この保護層には、上記のバインダー榭脂と同種の榭脂を用いることができる。また、 本発明に係るポリカーボネート榭脂を用いることもできる。この保護層の厚さは、通常 0. 01〜20 m程度、好ましくは 0. 01〜10 mである。そして、この保護層には、 上記電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、金属やその酸化物、窒化物、塩、合金 、カーボンブラック、有機導電性ィ匕合物などの導電性材料を含有していてもよい。
[0048] さらに、この電子写真感光体の性能向上のために、上記電荷発生層および電荷輸 送層には、結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤、分光感 度増感剤 (増感染料)を添加してもよい。また、繰り返し使用に対しての残留電位の 増加、帯電電位の低下、感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸化防止 剤、界面活性剤、カール防止剤、レべリング剤などの添加剤を添加することができる 上記結合剤としては、シリコーン榭脂、ポリアミド榭脂、ポリウレタン榭脂、ポリエステ ル榭脂、エポキシ榭脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート榭脂、ポリスチレン榭脂、ポ リメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリイソプレン榭脂 、メラミン榭脂、ベンゾグアナミン榭脂、ポリクロ口プレン榭脂、ポリアクリロニトリル榭脂 、ェチルセルロース榭脂、ニトロセルロース榭脂、尿素樹脂、フエノール榭脂、フエノ キシ榭脂、ポリビュルプチラール榭脂、ホルマール榭脂、酢酸ビュル榭脂、酢酸ビ- ル Z塩ィ匕ビュル共重合榭脂、ポリエステルカーボネート榭脂などが挙げられる。また 、熱および Zまたは光硬化性榭脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通 常の状態で皮膜を形成し得る榭脂であれば特に制限はない。
この結合剤は本発明に係るポリカーボネート榭脂に対して、 1〜200質量％の配合 割合で添加することが好ましぐ 5〜： LOO質量％がより好ましい。この結合剤の配合割 合が 1質量％未満であると感光層の皮膜が不均一となるおそれがあり、 200質量％を 超えると感度が低下するおそれがある。
上記可塑剤の具体例としては、ビフエ-ル、塩化ビフエニル、 o—ターフェ-ル、ノヽ ロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ ォクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、トリフエ-ルホスフェート、ジイソ ブチノレアジペート、ジメチノレセバケート、ジブチノレセバケート、ラウリノレ酸ブチノレ、メチ ルフタリールェチルダリコレート、ジメチルダリコールフタレート、メチルナフタレン、ベ ンゾフエノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、フルォロ炭化水素などが挙げられる。 上記硬化触媒の具体例としては、メタンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、 ジノ-ルナフタレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤としては、モダフロー 、ァクロナール 4Fなどが挙げられ、ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチル フタレートが挙げられる。 これら可塑剤や硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤は、上記電荷輸送物 質に対して、 5質量％以下で用いることが好まし 、。
また、分光感度増感剤としては、増感染料を用いる場合には、例えばメチルバイオ レット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルーなどのトリフエ-ルメタン 系染料、エリス口シン、ローダミン B、ローダミン 3R、アタリジンオレンジ、フラベオシン などのアタリジン染料、メチレンブルー、メチレングリーンなどのチアジン染料、カプリ ブルー、メルドラブル一などのォキサジン染料、シァニン染料、メロシアニン染料、ス チリル染料、ピリリウム塩染料、チォピリリウム塩染料などが適している。
感光層には、感度の向上、残留電位の減少、反復使用時の疲労低減などの目的 で、電子受容物質を添加することができる。その具体例としては、無水コハク酸、無水 マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロ口無水フタル酸、テト ラブロモ無水フタル酸、 3— -トロ無水フタル酸、 4 -トロ無水フタル酸、無水ピロメ リット酸、無水メリット酸、テトラシァノエチレン、テトラシァノキノジメタン、 o ジニトロべ ンゼン、 m—ジニトロベンゼン、 1, 3, 5 トリニトロベンゼン、 p 二トロべンゾニトリル 、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、 2, 3— ジクロロべンゾキノン、ジクロロジシァノパラべンゾキノン、ナフトキノン、ジフエノキノン 、トロポキノン、アントラキノン、 1 クロ口アントラキノン、ジニトロアントラキノン、 4一二 トロべンゾフエノン、 4, 4，ージニトロべンゾフエノン、 4一二トロベンザノレマロンジ二トリ ル、 α—シァノー β - (ρ シァノフエ-ル）アクリル酸ェチル、 9—アントラセ-ルメチ ルマロンジ-トリル、 1—シァノー（ρ -トロフエ-ル） - 2- (ρ クロ口フエ-ル）ェチ レン、 2, 7 ジニトロフノレ才レノン、 2, 4, 7 トリニトロフノレ才レノン、 2, 4, 5, 7—テト ラニトロフルォレノン、 9—フルォレユリデン一（ジシァノメチレンマロノ-トリル）、ポリ- トロ一 9—フルォレユリデン一（ジシァノメチレンマロノジ-トリル）、ピクリン酸、 ο -ト 口安息香酸、 Ρ 二トロ安息香酸、 3, 5—ジニトロ安息香酸、ペンタフルォロ安息香酸 、 5一-トロサリチル酸、 3, 5—ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸などの電子親 和力の大きい化合物が好ましい。これらの化合物は、電荷発生層、電荷輸送層のい ずれかに加えてもよぐその配合割合は電荷発生物質または電荷輸送物質に対して 、通常 0. 01〜200質量％程度、好ましくは 0. 1〜50質量％である。 [0051] また、表面性改良のため、四フッ化工チレン榭脂、三フッ化塩ィ匕エチレン榭脂、四 フッ化工チレン六フッ化プロピレン榭脂、フッ化ビニル榭脂、フッ化ビニリデン榭脂、 二フッ化二塩ィ匕エチレン榭脂およびそれらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを 用いてもよい。これらの表面改質剤の配合割合は、上記バインダー榭脂に対して、通 常 0. 1〜60質量％程度、好ましくは 2〜40質量％である。この配合割合が 0. 1質量 %未満であると、表面耐久性、表面エネルギー低下などの表面改質が不充分となる おそれがあり、 60質量％を超えると、電子写真特性の低下を招くおそれがある。 上記酸ィ匕防止剤としては、ヒンダードフエノール系酸ィ匕防止剤、芳香族アミン系酸 化防止剤、ヒンダードアミン系酸ィ匕防止剤、スルフイド系酸化防止剤、有機りん系酸 化防止剤などが好ましい。これら酸ィ匕防止剤の配合割合は、上記電荷輸送物質に対 して、通常 0. 01〜10質量％程度、好ましくは、 0. 1〜5質量％である。
ヒンダードフエノール系の酸ィ匕防止剤、芳香族ァミン系酸化防止剤、ヒンダードアミ ン系酸化防止剤、スルフイド系酸化防止剤、有機りん系酸化防止剤の具体的な例と しては、特開平 11— 172003号公報に記載されているものがある。
[0052] これら酸化防止剤は、一種を単独で用いてもよぐ二種以上を混合して用いてもよ い。そして、これらは上記感光層の他、表面保護層や下引き層、ブロッキング層に添 カロしてちょい。
上記電荷発生層、電荷輸送層の形成に使用する溶媒としては、例えば、ベンゼン、 トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ァ-ソール等の芳香族系溶媒、アセトン、メチル ェチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノー ル等のアルコール類、酢酸ェチル、ェチルセルソルブ等のエステル類、四塩化炭素 、クロ口ホルム、ジクロロメタン、テトラクロロェタン等のハロゲン系炭化水素、テトラヒド 口フラン、ジォキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等 を挙げることができる。これらの溶媒は、一種を単独で使用しても、二種以上を混合 溶媒として用いてもよい。
上記電荷輸送層を形成する方法としては、上記電荷輸送物質、添加剤、バインダ ー榭脂として用いるポリカーボネート榭脂を溶媒に分散または溶解させてなる塗工液 を調製し、これを所定の下地となる例えば上記電荷発生層の上に塗工し、上記ポリ力 ーボネート榭脂がバインダー榭脂として電荷輸送物質と共存する形態の電荷輸送層 を形成する。
[0053] 上記塗工液を調製する方法としては、上記の調合原料をボールミル、超音波、ペイ ントシエ一力一、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライターなどを用いて、分散 あるいは溶解させることができる。このようにして得られた塗工液を塗工する方法につ いては、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、 アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工法、バーコ一ター塗工法、ロールコー ター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法 、ナイフコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナ一塗工法、ビード塗工法、ブレ ード塗工法、カーテン塗工法などが採用できる。
また、単層型電子写真感光体の感光層は、上記のポリカーボネート榭脂、電荷発 生物質、添加剤、所望により電荷輸送物質や他のバインダー榭脂などを用いて形成 される。この場合の塗工液の調製やその塗工法、添加剤の処方などに関しては、積 層型電子写真感光体の感光層の形成の場合と同様である。さらに、この単層型電子 写真感光体においても、上記と同様に下引き層、ブロッキング層、表面保護層を設け てもよい。これら層を形成する場合にも、本発明に係るポリカーボネート榭脂を用いる ことが好ましい。
[0054] 単層型電子写真感光体における感光層の厚さは、通常 5〜： LOO /z m程度、好ましく は 8〜50 μ mである。この厚さが 5 μ m未満であると初期電位が低くなるおそれがあり 、 100 mを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。
この単層型電子写真感光体の製造に用いられる電荷発生物質:ポリカーボネート 榭脂 (バインダー）の比率は、質量比で、通常1 : 99〜30 : 70程度、好ましくは 3 : 97 〜15 : 85である。また、電荷輸送物質を添加する場合は、電荷輸送物質:ポリカーボ ネート榭脂の比率は、質量比で、通常5 : 95〜80 : 20程度、好ましくは、 10 : 90-60 :40である。
[0055] このようにして得られる本発明の電子写真感光体は、優れた耐摩耗性を有し、長期 間に亘つて優れた耐刷性および電子写真特性を維持する感光体であり、複写機 (モ ノクロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、 LED 、液晶シャッター）、ファクシミリ、製版機などの各種の電子写真分野に好適に用いら れる。
また、本発明の電子写真感光体を使用するにあたっては、帯電には、コロナ放電（ コロトロン、スコロトロン)、接触帯電 (帯電ロール、帯電ブラシ)、注入帯電などが用い られる。また、露光には、ハロゲンランプや蛍光ランプ、レーザー（半導体、 He-Ne) 、 LED,感光体内部露光方式のいずれを採用してもよい。現像には、カスケード現 像、二成分磁気ブラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像などの 乾式現像方式や液体トナーなどを用いた湿式現像方式が用いられる。転写には、コ ロナ転写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法や、圧力転写法、粘着転写法 が用いられる。定着には、熱ローラ定着、ラジアントフラッシュ定着、オープン定着、 圧力定着などが用いられる。さらに、クリーニング'除電にはブラシクリーナー、磁気ブ ラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリーナー等が用いられる。
実施例
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する力 本発明はこれらの例によつ てなんら限定されるものではな 、。
[実施例 1]
2, 2—ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）プロパン（ビスフエノール A；ビス A) 74質量部を 6質量％濃度の水酸ィ匕ナトリウム水溶液 585質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質 量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分 離し、重合度が 2〜4であり、分子末端カ^ロ口ホーメート基である 2, 2—ビス (4—ヒド ロキシフエ-ル）プロパンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス Aオリゴマーと記載 する。）の塩化メチレン溶液を得た。
上記ビス Aオリゴマーの塩化メチレン溶液 200mlに下記式 [0057] [化 13]
Figure imgf000028_0001
[0058] で表されるビスフエノール化合物 [一般式 (4)において、 R力メチル基、 nl = 3、 n2 = 39の化合物；シロキサンモノマー（ 1) ] 0. 9gと塩化メチレンをカ卩えて全量を 450mlと した後、 4, 4，ービフエノール 12. 5gと、 12. 2質量0 /0濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 1 50mlを混合し、分子量調節剤である p— tert—ブチルフエノール 0. 7gを加えた。次 いで、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒として 7質量％濃度のトリェチルァミン 水溶液を 2ml加え、 28°Cにおいて攪拌下で 1. 5時間反応を行った。反応終了後、 反応生成物を塩化メチレン 1Lで希釈し、次いで水 1. 5Lで 2回、 0. 01規定塩酸 1L で 1回、水 1Lで 2回の順で洗浄し、有機層をメタノール中に投入し、析出したポリマー をろ過し、乾燥させて、共重合ポリカーボネート榭脂 (PC— 1)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 85dlZgであった。
sp
還元粘度の測定は、離合社製、自動粘度測定装置 VMR— 042を用い、自動粘度 用ゥッべローデ改良型粘度計 (RM型)で測定した。得られた共重合ポリカーボネート (PC— 1)の構造および共重合組成は1 H— NMR ^ベクトルにより決定した。
ビス A由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4， —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 85 : 0. 1 : 15であった。また、シロキ サンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 98質量％であった。
[0059] さらに、下記に示す方法で電子写真感光体を作製し、その性能を評価した。
導電性基体としてアルミニウム金属を蒸着したポリエチレンテレフタレート榭脂フィ ルムを用い、その表面に、電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して積層型感光層を 形成した電子写真感光体を製造した。
電荷発生物質としてォキソチタニウムフタロシアニン 0. 5質量部を用い、バインダー 榭脂としてプチラール榭脂 0. 5質量部を用いた。これらを溶媒の塩化メチレン 19質 量部に加え、ボールミルにて分散し、この分散液をバーコ一ターにより、上記導電性 基体フィルム表面に塗工し、乾燥させること〖こより、膜厚約 0. 5 mの電荷発生層を 形成した。
次に、電荷輸送物質として、下記化合物（CTM— 1)
[0060] [化 14]
Figure imgf000029_0001
[0061] 0. 5gと上記共重合ポリカーボネート榭脂 0. 5gを 10ミリリットルのテトラヒドロフランに 溶解し、塗工液を調製した。この塗工液をアプリケーターにより、上記電荷発生層の 上に塗布し、乾燥させ、膜厚約 20 mの電荷輸送層を形成した。
次いで、電子写真特性は静電気帯電試験装置 EPA— 8100 (川口電機製作所社 製)を用いて測定した。—6kVのコロナ放電を行い、初期表面電位 (VO) ,光照射（1 OLux) 5秒後の残留電位 (VR) ,半減露光量 (E1Z2)を測定した。さらに、この電荷 輸送層の耐摩耗性をスガ摩耗試験機 NUS—ISO - 3型 (スガ試験機社製)を用いて 評価した。試験条件は 4. 9Nの荷重をかけた摩耗紙 (粒径 3 mのアルミナ粒子を含 有)を感光層表面と接触させて 2, 000回往復運動を行い、質量減少量を測定した。 さらに、耐摩耗性を評価したのと同様の試料を用いて動摩擦係数を測定した。測定 には、表面性試験機 (ヘイドン社製)を用い、荷重は 4. 9N、摩擦体としては、ステン レス鋼製の球を用いた。これらの測定結果を第 1表に示す。
[0062] [実施例 2]
1 , 1—ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ビスフエノール Z；ビス Z) 87質 量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩ィ匕 メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機 層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基である 1, 1 ビス（ 4ーヒドロキシフエ-ル）シクロへキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス Zオリゴ マーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス Zオリゴマーを用いた以 外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂 (PC— 2)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 94dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート (PC— 2)の構造および共重合組成は1 H— NMR^ ベクトルにより決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4， —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 80 : 0. 1 : 20であった。また、シロキ サンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 88質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 3]
2, 2 ビス（3 メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン（ビスフエノール C；ビス C) 83質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と 、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲ ンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置し て有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基である 2, 2 ビス（3—メチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロパンポリカーボネートオリゴマー（以 下、ビス Cオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス Cオリゴマーを用い、 4, 4 ，一ビフエノール 12. 5gの代わりに 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 1—フエ- ルェタン 19. 4gを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 3 )を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ r? ZC]が 0. 80dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 3)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス C由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 1, 1 -ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル） 1 フエ-ルェタン由来の繰り返し単位のモル比は 、 80 : 0. 1 : 20であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量 は 0. 80質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 4]
1, 1—ビス（3 シクロへキシル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ビスフエノ ール CHZ;ビス CHZ) 140質量部を 9. 4質量％濃度の水酸化カリウム水溶液 607質 量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下 、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで 、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロロホ 一メート基である 1, 1—ビス（3 シクロへキシル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキ サンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス CHZオリゴマーと記載する。）の塩化メチ レン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス CHZオリゴマーを用い、 4, 4，一ビフエノール 12. 5gの代わりにビスフエノール CHZ 28. 9gを用いたた以外 は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 4)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 82dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 4)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス CHZ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位のモ ル比は、 100 : 0. 1であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含 有量は 0. 60質量％であった。 得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0065] [実施例 5]
2, 2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ァダマンタン（2, 2 ァダマンタンビスフエノー ル;ビス 22Ad) 104質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に 溶解した溶液と、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶 液中にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反 応液を静置して有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート 基である 2, 2 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）ァダマンタンポリカーボネートオリゴマー (以下、ビス 22Adオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス 22Adオリゴマーを用い、 4, 4，一ビフエノール 12. 5gの代わりに 9, 9 ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ- ル)フルオレン 25. 3gを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（P C 5)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 97dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 5)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス 22Ad由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 9 , 9—ビス（3—メチル 4—ヒドロキシフエ-ル）フルオレン由来の繰り返し単位のモ ル比は、 85 : 0. 1： 15であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の 含有量は 0. 64質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0066] [実施例 6]
1, 1—ビス（3—メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ビスフエノール CZ ；ビス CZ) 96質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解し た溶液と、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中 にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液 を静置して有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基で ある 1 , 1 ビス（3 メチル 4 ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサンポリカーボネート オリゴマー（以下、ビス CZオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス CZオリゴマーを用いた以 外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 6)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 86dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 6)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス CZ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4 ，—ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 78 : 0. 1 : 22であった。また、シロ キサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 82質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0067] [実施例 7]
特開平 9— 68817号公報に記載の合成例 1の方法で合成した下記式
[0068] [化 15]
Figure imgf000033_0001
[0069] で表される二種のテルペンビスフエノールの混合物（テルペンビスフエノール；ビス TP P) 105質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶 液と塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホス ゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置 して有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基であるテ ルペンビスフエノールポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス TPPオリゴマーと記載 する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス TPPオリゴマーを用い、 4 , 4，ービフエノール 12. 5gの代わりに、上記と同様のテルペンビスフエノール 21. 7g を用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂 (PC— 7)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 90dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 7)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス TPP由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位のモル 比は、 100 : 0. 1であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有 量は 0. 80質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 8]
1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）一 3, 3, 5 トリメチルシクロへキサン（トリメチル シクロへキシルビスフヱノール；ビス I) 101質量部を 9. 4質量％濃度の水酸化カリウム 水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌し ながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き 込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分 子末端がクロ口ホーメート基である 1, 1 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）ー 3, 3, 5 ト リメチルシクロへキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス Iオリゴマーと記載する 。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス Iオリゴマーを用い、 4, 4， —ビフエノール 12. 5gの代わりにビスフエノール A15. 3gを用いた以外は同様の方 法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 8)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ r? ZC]が 0. 94dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 8)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
ビス I由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、ビス A 由来の繰り返し単位のモル比は、 85 : 0. 1 : 15であった。また、シロキサンモノマー（ 1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 74質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0071] [実施例 9]
4, 4，ー[1, 4 フエ-レンビス（1ーメチルェチリデン）]ビスフエノール（BisPP) 11 2質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、 塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲン ガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して 有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基である 4, 4'
[1, 4 フエ-レンビス（1ーメチルェチリデン）]ビスフエノールポリカーボネートオリ ゴマー（以下、 BisPPオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに BisPPオリゴマーを用いた以 外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 9)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 79dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 9)の構造は 1H— NMRスペクトルによ り決定した。
BisPP由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4， —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 80 : 0. 1 : 20であった。また、シロキ サンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 72質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0072] [実施例 10] ビス（3, 5 ジブロモ— 4 ヒドロキシフエ-ル)スルホン (TBS) 177質量部を 9. 4 質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 33 4質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量 部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し 、重合度が 2〜4であり、分子末端力クロ口ホーメート基であるビス（3, 5 ジブ口モー 4ーヒドロキシフエ-ル)スルホンポリカーボネートオリゴマー（以下、 TBSオリゴマーと 記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに TBSオリゴマーを用い、 4, 4 ，一ビフエノール 12. 5gの代わりに 1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ジフエ-ルメタ ン 23. 6gを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 10)を得 た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 88dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 10)の構造および共重合組成は1 H— N MRスペクトルにより決定した。
TBS由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 1, 1 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ジフエ-ルメタン由来の繰り返し単位のモル比は、 85： 0 . 1 : 15であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 4 2質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 11]
実施例 2で用いたものと同様の 1, 1 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ ビス Z) 54質量部、 9, 9 ビス（3—メチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）フルオレン（FLC ) 47質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と 、塩化メチレン 334質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲ ンガスを 4. 2質量部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置し て有機層を分離し、重合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基である 1, 1 —ビス（4—ヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン、 9, 9—ビス（3—メチル 4—ヒドロキ シフエ-ル）フルオレンポリカーボネートオリゴマー（以下、 Z— FLCオリゴマーと記載 する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに Z— FLCオリゴマーを用い、 4 , 4'ービフエノール 12. 5gの代わりに FLC25. 3gを用いた以外は同様の方法で共 重合ポリカーボネート榭脂（PC— 11)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 81dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 11)の構造は1 H— NMRスペクトルによ り決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 FLC 由来の繰り返し単位のモル比は、 50 : 0. 1 : 50であった。また、シロキサンモノマー（ 1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 66質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 12]
実施例 2で用いたものと同様の 1, 1 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ ビス Z) 54質量部、 4, 4，ージヒドロキシジフエ-ルエーテル（DHE) 25質量部を 9. 4 質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 33 4質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量 部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し 、重合度が 2〜4であり、分子末端力クロ口ホーメート基である 1, 1 ビス (4ーヒドロキ シフエ-ル）シクロへキサン、 4, 4'ージヒドロキシジフエ-ルエーテルポリカーボネー トオリゴマー（以下、 z— DHEオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。 次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに Z— DHEオリゴマーを用いた 以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 12)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 93dlZgであった。 得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 12)の構造は1 H— NMRスペクトルによ り決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、 DHE由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1) 由来の繰り返し単位と、 4, 4，ービフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 50 : 3 5 : 0. 1 : 15であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0 . 81質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[実施例 13]
実施例 2で用いたものと同様の 1, 1 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）シクロへキサン（ ビス Z) 54質量部、 4, 4，ージヒドロキシベンゾフエノン（DHK) 27質量部を 9. 4質量 %濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 334質 量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量部 Z 分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重 合度が 2〜4であり、分子末端がクロ口ホーメート基である 1, 1 ビス (4ーヒドロキシフ ェニル）シクロへキサン、 4, 4，ージヒドロキシベンゾフエノンポリカーボネートオリゴマ 一（以下、 Z— DHKオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに Z— DHKオリゴマーを用い、 4, 4，ービフエノール 12. 5gの代わりに DHK14. 3gを用いた以外は同様の方法で 共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 13)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 88dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 13)の構造は1 H— NMRスペクトルによ り決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 DHK 由来の繰り返し単位のモル比は、 50 : 0. 1 : 50であった。また、シロキサンモノマー（ 1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 89質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0076] [実施例 14]
1, 1 ビス（4 -ヒドロキシフエ-ル）ェタン（ビスフエノール E；ビス E) 69質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 3 34質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量 部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し 、重合度が 2〜4であり、分子末端力クロ口ホーメート基である 1, 1 ビス (4ーヒドロキ シフエニル）ェタンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス Eオリゴマーと記載する。 ) の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス Eオリゴマーを用いた以 外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 14)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 94dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 14)の構造は1 H— NMRスペクトルによ り決定した。
ビス E由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4， —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 85 : 0. 1 : 15であった。また、シロキ サンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 1. 07質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0077] [実施例 15]
1, 1—ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）ブタン（ビスフエノール B ;ビス B) 79質量部を 9. 4質量％濃度の水酸ィ匕カリウム水溶液 607質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン 3 34質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを 4. 2質量 部 Z分の割合で 15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し 、重合度が 2〜4であり、分子末端力クロ口ホーメート基である 2, 2 ビス (4ーヒドロキ シフエ二ル）ブタンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス Bオリゴマーと記載する。 ) の塩化メチレン溶液を得た。 次に、実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりにビス Bオリゴマーを用いた以 外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 15)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7?
sp ZC]が 0. 86dlZgであった。 得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 15)の構造は1 H— NMRスペクトルによ り決定した。
ビス B由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 4, 4， —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 80 : 0. 1 : 20であった。また、シロキ サンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 97質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0078] [実施例 16]
実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに、実施例 2で用いたものと同様のビ ス Zオリゴマーを用い、 4, 4，一ビフエノール 12. 5gの代わりビスフエノール Z18. Og を用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 16)を得た。 このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7?
sp ZC]が 0. 88dlZgであった。 得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 16)の構造および共重合組成は1 H—N MRスペクトルにより決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位のモル比 は、 100 : 0. 1であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量 は 0. 96質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0079] [実施例 17]
実施例 1において、ビス Aオリゴマーの代わりに、実施例 2で用いたものと同様のビ ス Zオリゴマーを用い、 4, 4，一ビフエノール 12. 5gの代わりに 3, 3，一ジメチルー 4, 4'ージヒドロキシビフエ-ル 14. 3gを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボ ネート榭脂 (PC— 17)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? ZC]が 0. 82dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— 17)の構造および共重合組成は1 H—N MRスペクトルにより決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位と、 3, 3， ジメチルー 4, 4'ージヒドロキシビフエ-ル由来の繰り返し単位のモル比は、 85 : 0 . 1 : 15であった。また、シロキサンモノマー（1)由来の繰り返し単位の含有量は 0. 8 4質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0080] [比較例 1]
実施例 1にお 、て、シロキサンモノマー（1)を下記式
[0081] [化 16]
Figure imgf000041_0001
[0082] で表されるシロキサンモノマー（2)に変更した以外は同様の方法で共重合ポリカーボ ネート榭脂 (PC— A)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? Zc]が 0. 84dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— A)の構造は1 H— NMR ^ベクトルにより 決定した。
ビス A由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（2)由来の繰り返し単位と、 4, 4' —ビフエノール由来の繰り返し単位のモル比は、 85 : 0. 1 : 15であった。 得られたポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。その結果を 第 1表に示す。
[0083] [比較例 2]
実施例 16において、シロキサンモノマー（1)をシロキサンモノマー（2)に変更した 以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート榭脂（PC— B)を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート榭脂は、塩化メチレンを溶媒とする 濃度 0. 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? Zc]が 0. 88dlZgであった。
sp
得られた共重合ポリカーボネート榭脂（PC— B)の構造は1 H— NMR ^ベクトルにより 決定した。
ビス Z由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（2)由来の繰り返し単位のモル比 は、 100 : 0. 1であった。
得られた共重合ポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。そ の結果を第 1表に示す。
[0084] [比較例 3]
実施例 16にお 、て、シロキサンモノマー（1)を使用しな力つた以外は同様の方法 でビスフエノール Zのポリカーボネート榭脂（PC— C)を得た。
このようにして得られたポリカーボネート榭脂は、の塩化メチレンを溶媒とする濃度 0 . 5gZdlの溶液の 20°Cにおける還元粘度 [ 7? Zc]が 0. 89dlZgであった。得られ
sp
たポリカーボネート榭脂（PC— C)の構造は1 H— NMR ^ベクトルにより確認した。 得られたポリカーボネート榭脂を用い、実施例 1と同様の評価を行った。その結果を 第 1表に示す。
[0085] [表 1] 第 1表
Figure imgf000043_0001
(注）
表面電位：— 740〜― 770Vの範囲であった場合を〇、それ以外を Xとした。
残留電位： 0〜一 5 Vを〇、それ以外を Xとした。
感度： 0. 85Lux' sec以下の値を〇、それ以外を Xとした。
産業上の利用可能性
本発明のポリカーボネート樹脂は、電子写真感光体の感光層を形成する樹脂とし て好適である。このポリカーボネート榭脂を用いた本発明の電子写真感光体は、タリ 一ユング性、滑り性および耐摩耗性が良好な感光体であり、複写機 (モノクロ、マルチ カラー、フルカラー；アナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、 LED、液晶シャツタ 一）、ファクシミリ、製版機などの各種の電子写真分野に好適に用いられる。

Claims

請求の範囲
下記一般式 (1)
Figure imgf000044_0001
(式中、 Rは炭素数 1〜3のアルキル基を示す。 nlは 2〜4の整数であり、 n2は 1 0の整数である。 )
で表される繰り返し単位を有することを特徴とするポリカーボネート榭脂。
[2] ポリカーボネート榭脂が、さらに下記一般式（2)
[化 2]
Figure imgf000044_0002
(式中、 Arは二価の芳香族基を示す。）
で表される繰り返し単位を含む請求項 1に記載のポリカーボネート榭脂。
一般式（2)における Arが、下記一般式（3)で表される基の少なくとも一種を含む 求項 2に記載のポリカーボネート樹脂。
[化 3]
Figure imgf000044_0003
[式中、 R1および は、それぞれ独立に、トリフルォロメチル基，ハロゲン原子、炭素 数:!〜 10のアルキル基、炭素数 6〜12のァリール基、炭素数 3〜12のシクロアルキ ル基、炭素数 1〜6のアルコキシ基および炭素数 6〜12のァリールォキシ基力も選ば れる基を示す。 Xは、単結合、 O—、— S—、— SO—、 - SO 一、 -CO- ,— CR3
2
R4- (ただし、 R3および R4は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルォロメチル基、置 換または無置換の炭素数 1〜10のアルキル基、および置換または無置換の炭素数 6 〜12のァリール基力も選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数 5〜： L 1の シクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数 2〜 12の a , ω アルキレン基、 置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基、置換または無置換の炭素数 6〜 12 のァリーレン基、下記一般式
[化 4]
Figure imgf000045_0001
(式中、 R8〜RUは、 R1および R2と同様の基を示す。 )
で表される炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基力も選ばれる基を 示す。 ]
[4] 一般式 (3)における Xがー CR3R4—、単結合、置換または無置換の炭素数 5〜 11 シクロアルキリデン基および置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基力 選ば れる基である請求項 3に記載のポリカーボネート榭脂。
[5] 一般式（3)における Xがー CR3R4—であり、かつポリカーボネート榭脂全体に占め る一般式（1)で表される繰り返し単位の割合が 0. 01〜3. 9質量％である請求項 3に 記載のポリカーボネート榭脂。
[6] 一般式（3)で表される基が、（a) Xが単結合である基と、 Xが単結合以外である基の 組み合わせ、（b)Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基であ る基と、 Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基以外である基 の組み合わせ、（c)Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基である基と、 Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基以外である基の組み合わせ、（d )Xが炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基である基と、 Xが炭素数 8 〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（e)Xが SO である基と、 が SO 以外である基の組み合わせ、（f ) Xがー O である 基と、 Xがー O 以外である基の組み合わせまたは (g)Xがー CO である基と、 が CO 以外である基の組み合わせである請求項 3に記載のポリカーボネート榭脂。
[7] 導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体において、該感光層が、下記一 般式 (1)
[化 6]
Figure imgf000046_0001
(式中、 Rは炭素数 1〜3のアルキル基を示す。 nlは 2〜4の整数であり、 n2は 1〜20 0の整数である。 )
で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート榭脂を含むことを特徴とする電子 写真感光体。
感光層に含まれるポリカーボネート榭脂が、さらに下記一般式（2)
[化 7]
Figure imgf000047_0001
(式中、 Arは二価の芳香族基を示す。 )
で表される繰り返し単位を含 οむ請求項 7に記載の電子写真感光体。
一般式 (2)における Arが、下記 COM一般式 (3)で表される基の少なくとも一種を含む 求項 8に記載の電子写真感光体。
[化 8]
Figure imgf000047_0002
[式中、 R1および R2は、それぞれ独立に、トリフルォロメチル基，ハロゲン原子、炭素 数 1〜10のアルキル基、炭素数 6〜12のァリール基、炭素数 3〜12のシクロアルキ ル基、炭素数 1〜6のアルコキシ基および炭素数 6〜12のァリールォキシ基力も選ば れる基を示す。 Xは、単結合、 O—、— S—、— SO—、 - SO 2一、 -CO- ,— CR3
R4- (ただし、 R3および R4は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルォロメチル基、置 換または無置換の炭素数 1〜10のアルキル基、および置換または無置換の炭素数 6 〜12のァリール基力も選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数 5〜： L 1の シクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数 2〜 12の a , ω アルキレン基、 置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基、置換または無置換の炭素数 6〜 12 のァリーレン基、下記一般式
[化 9]
Figure imgf000047_0003
(式中、 R5〜R7は、 R1および R2と同様の基を示す。 )
で表される天然テルペン類力 誘導される二価の基、ならびに下記一般式
[化 10]
Figure imgf000048_0001
(式中、 R8〜RUは、 R1および R2と同様の基を示す。 )
で表される炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基力も選ばれる基を 示す。 ]
[10] 一般式 (3)における Xがー CR3R4—、単結合、置換または無置換の炭素数 5〜 11 シクロアルキリデン基および置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基力 選ば れる基である請求項 9に記載の電子写真感光体。
[11] 一般式（3)における Xがー CR3R4—であり、かつポリカーボネート榭脂全体に占め る一般式（1)で表される繰り返し単位の割合が 0. 01〜3. 9質量％である請求項 9に 記載の電子写真感光体。
[12] 一般式（3)で表される基が、（a) Xが単結合である基と、 Xが単結合以外である基の 組み合わせ、（b)Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基であ る基と、 Xが置換または無置換の炭素数 5〜： L 1のシクロアルキリデン基以外である基 の組み合わせ、（c)Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基である基と、 Xが置換または無置換の 9, 9 フルォレニリデン基以外である基の組み合わせ、（d )Xが炭素数 8〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基である基と、 Xが炭素数 8 〜16のアルキリデンァリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（e)Xが SO である基と、 が SO 以外である基の組み合わせ、（f ) Xがー O である 基と、 Xがー O 以外である基の組み合わせまたは (g)Xがー CO である基と、 が CO 以外である基の組み合わせである請求項 9に記載の電子写真感光体。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008042498A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-10 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom
WO2008136521A1 (ja) 2007-05-08 2008-11-13 Idemitsu Kosan Co., Ltd. ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体
US7524919B2 (en) 2006-09-29 2009-04-28 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom
EP2075275A1 (en) * 2006-10-18 2009-07-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
US7709581B2 (en) 2006-09-29 2010-05-04 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions and articles formed therefrom
JP2011026574A (ja) * 2009-06-26 2011-02-10 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、及び電子写真感光体
JP2011026575A (ja) * 2009-06-26 2011-02-10 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、及び電子写真感光体
JP2021193172A (ja) * 2020-05-13 2021-12-23 エスエイチピーピー グローバル テクノロジーズ べスローテン フェンノートシャップ ポリカーボネートコポリマーおよび関連のフィルム押出組成物、押出フィルム、ならびにコンデンサ
US11866571B2 (en) 2020-05-13 2024-01-09 Shpp Global Technologies B.V. Polycarbonate copolymer and associated film extrusion composition, extruded film, and capacitor

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7718754B2 (en) * 2007-07-30 2010-05-18 Kao Corporation Promoter for polycondensation reaction
US8247619B2 (en) * 2008-12-11 2012-08-21 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. BPA and polycarbonate made from renewable materials
CN102834781B (zh) * 2010-03-01 2014-12-31 富士电机株式会社 电子照相感光体及其制造方法
KR101289201B1 (ko) * 2010-03-29 2013-07-29 주식회사 삼양사 에스테르 결합을 갖는 히드록시 말단 실록산, 폴리실록산-폴리카보네이트 공중합체 및 그 제조 방법
US8697321B2 (en) 2010-05-31 2014-04-15 Mitsubishi Chemical Corporation Electrophotographic photoreceptor, image-forming apparatus, and electrophotographic cartridge
KR101332434B1 (ko) * 2010-08-26 2013-11-22 제일모직주식회사 비스하이드록시아릴실록산 및 그의 제조 방법
JP4948670B2 (ja) * 2010-10-14 2012-06-06 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置および電子写真感光体の製造方法
JP5534030B2 (ja) * 2010-12-09 2014-06-25 富士電機株式会社 電子写真用感光体およびその製造方法
WO2012115088A1 (ja) * 2011-02-24 2012-08-30 出光興産株式会社 ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、電子写真感光体、およびポリカーボネート共重合体の製造方法
JP5718783B2 (ja) * 2011-10-07 2015-05-13 富士フイルム株式会社 電子写真感光体およびこれを用いた複写機、その感光層形成用ドープ
EP2862887B1 (en) 2012-06-19 2016-12-14 Idemitsu Kosan Co., Ltd Polycarbonate copolymer, coating liquid using same, and electrophotographic photoreceptor
WO2014144438A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Blends containing photoactive additive
CN103965236B (zh) * 2014-03-28 2015-08-26 宁波浙铁大风化工有限公司 一种聚碳酸酯扩链剂及其制备方法
KR101779188B1 (ko) 2014-09-05 2017-09-15 주식회사 엘지화학 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 조성물
KR101685665B1 (ko) 2014-12-04 2016-12-12 주식회사 엘지화학 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 조성물
KR20160067714A (ko) 2014-12-04 2016-06-14 주식회사 엘지화학 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 물품
WO2017119657A1 (ko) * 2016-01-07 2017-07-13 주식회사 엘지화학 신규한 폴리오르가노실록산, 및 이를 사용하여 제조되는 코폴리카보네이트
KR101831886B1 (ko) 2016-01-07 2018-04-04 주식회사 엘지화학 신규한 폴리오르가노실록산, 및 이를 사용하여 제조되는 코폴리카보네이트
KR101924199B1 (ko) * 2016-02-01 2018-11-30 주식회사 엘지화학 신규한 폴리오르가노실록산 및 이를 사용하여 제조되는 코폴리카보네이트
US10449344B2 (en) 2016-04-28 2019-10-22 Sabic Global Technologies B.V. Microneedles made from polycarbonate-polycarbonate/polysiloxane copolymer compositions
EP3490774A1 (en) 2016-07-28 2019-06-05 SABIC Global Technologies B.V. Polycarbonate blends for high release performance
WO2018020482A1 (en) 2016-07-28 2018-02-01 Sabic Global Technologies B.V. Polycarbonate blends for high release performance
CN109563337A (zh) 2016-08-23 2019-04-02 沙特基础工业全球技术有限公司 包含具有高流动性、高冲击性和良好脱模性能的聚碳酸酯-聚碳酸酯/聚硅氧烷组合物的消费者设备的外壳
EP3504271B1 (en) 2016-08-23 2023-05-10 SHPP Global Technologies B.V. Polycarbonate-polycarbonate/polysiloxane compositions having high flow, high impact, and good release properties
CN109642072A (zh) 2016-08-23 2019-04-16 沙特基础工业全球技术有限公司 包括具有高流动性、高冲击性和良好脱模性质的聚碳酸酯-聚碳酸酯/聚硅氧烷组合物的汽车制品
CN106947072A (zh) * 2017-04-20 2017-07-14 宁波浙铁大风化工有限公司 一种聚碳酸酯的制备工艺
SG11202104285QA (en) * 2018-11-15 2021-05-28 Univ Kobe Nat Univ Corp Method for producing polycarbonate

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07299A (ja) * 1993-06-17 1995-01-06 Hasegawa Kagaku Kogyo Kk まな板
JPH0959366A (ja) * 1995-08-21 1997-03-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 電子写真感光体バインダー用コポリカーボネート重合体 およびその製造方法
JP2001325990A (ja) * 2000-05-15 2001-11-22 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 高分子固体電解質
JP2002030140A (ja) * 2000-02-22 2002-01-31 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリカーボネート樹脂及びその製造方法
JP2002131941A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Canon Inc 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP2002322263A (ja) * 2001-04-24 2002-11-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc フラットパネルディスプレー用フィルム

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4217438A (en) * 1978-12-15 1980-08-12 General Electric Company Polycarbonate transesterification process
JPH01136466A (ja) * 1987-11-24 1989-05-29 Oki Electric Ind Co Ltd 画像入力方式
US5283142A (en) 1991-02-21 1994-02-01 Canon Kabushiki Kaisha Image-holding member, and electrophotographic apparatus, apparatus unit, and facsimile machine employing the same
EP0522753A3 (en) † 1991-07-01 1993-08-11 General Electric Company Flame retardant aromatic polycarbonates and aromatic polycarbonate blends
EP0570908B1 (en) * 1992-05-19 1997-02-12 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member, and electrophotographic apparatus and device unit employing the same
JP3179219B2 (ja) 1992-10-22 2001-06-25 出光興産株式会社 ポリカーボネートとその製法及びこれを用いた電子写真感光体
US5932677A (en) * 1993-05-27 1999-08-03 General Electric Company Terpolymer having aromatic polyester, polysiloxane and polycarbonate segments
EP0633292B1 (en) * 1993-07-09 1998-12-30 General Electric Company Compositions of siloxane polyestercarbonate block terpolymers and high heat polycarbonates
US5530083A (en) † 1994-07-21 1996-06-25 General Electric Company Silicone-polycarbonate block copolymers and polycarbonate blends having reduced haze, and method for making
JPH0980791A (ja) * 1995-09-12 1997-03-28 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JPH0980790A (ja) * 1995-09-12 1997-03-28 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JPH09114270A (ja) * 1995-10-24 1997-05-02 Canon Inc 転写材担持部材及びそれを用いた画像形成装置
EP0866083B1 (en) * 1995-12-04 2003-05-28 Idemitsu Kosan Company Limited Polycarbonate resin, crosslinked polycarbonate resin and electrophotographic photoreceptor
JP3683992B2 (ja) * 1996-06-24 2005-08-17 キヤノン株式会社 プロセスカ−トリッジ及び電子写真装置
JP3670459B2 (ja) * 1997-04-25 2005-07-13 ローム株式会社 密着型イメージセンサおよび画像読取装置
JP3228177B2 (ja) * 1997-05-06 2001-11-12 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体および電子写真装置
JPH11311870A (ja) * 1998-04-28 1999-11-09 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 電子写真感光体
JP3684068B2 (ja) 1998-05-01 2005-08-17 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP4439737B2 (ja) * 1998-09-28 2010-03-24 出光興産株式会社 ポリカーボネート共重合体の製造法
JP2000235277A (ja) * 1999-02-15 2000-08-29 Canon Inc 乾式トナー及び画像形成方法
JP4166363B2 (ja) * 1999-03-29 2008-10-15 出光興産株式会社 窓ガラス
US7605221B2 (en) 1999-05-18 2009-10-20 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Weatherable, thermostable polymers having improved flow composition
US6306507B1 (en) * 1999-05-18 2001-10-23 General Electric Company Thermally stable polymers, method of preparation, and articles made therefrom
US6861482B2 (en) * 1999-05-18 2005-03-01 General Electric Company Weatherable, thermostable polymers having improved flow composition
US20030027928A1 (en) * 1999-06-23 2003-02-06 Masaya Okamoto Polycarbonate resin composition
JP4275278B2 (ja) * 1999-07-06 2009-06-10 出光興産株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物
JP4275279B2 (ja) † 1999-07-06 2009-06-10 出光興産株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物
JP2001100441A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Konica Corp 電子写真感光体と、該感光体を用いた電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
DE60027252T2 (de) * 1999-11-02 2007-01-04 Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. Polycarbonatharz
US6252013B1 (en) * 2000-01-18 2001-06-26 General Electric Company Method for making siloxane copolycarbonates
JP4525881B2 (ja) 2000-03-29 2010-08-18 三菱瓦斯化学株式会社 ポリカーボネート樹脂および光学部材
US6492481B1 (en) * 2000-07-10 2002-12-10 General Electric Company Substantially single phase silicone copolycarbonates, methods, and optical articles made therefrom
WO2002036687A1 (fr) † 2000-11-01 2002-05-10 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Compositions de resine en polycarbonate
US6566458B2 (en) 2000-12-14 2003-05-20 General Electric Company Polysulfone/polysiloxane polycarbonate block copolymers
US6660787B2 (en) * 2001-07-18 2003-12-09 General Electric Company Transparent, fire-resistant polycarbonate compositions
US6630525B2 (en) * 2001-10-09 2003-10-07 General Electric Company Polycarbonate-siloxane copolymers
US6833422B2 (en) * 2002-08-16 2004-12-21 General Electric Company Method of preparing transparent silicone-containing copolycarbonates
JP2004109606A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP4620657B2 (ja) † 2003-02-21 2011-01-26 サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ 透明耐熱性ポリカーボネート−ポリシロキサン共重合体、そのポリカーボネートとの透明ブレンド及び製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07299A (ja) * 1993-06-17 1995-01-06 Hasegawa Kagaku Kogyo Kk まな板
JPH0959366A (ja) * 1995-08-21 1997-03-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 電子写真感光体バインダー用コポリカーボネート重合体 およびその製造方法
JP2002030140A (ja) * 2000-02-22 2002-01-31 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリカーボネート樹脂及びその製造方法
JP2001325990A (ja) * 2000-05-15 2001-11-22 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 高分子固体電解質
JP2002131941A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Canon Inc 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP2002322263A (ja) * 2001-04-24 2002-11-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc フラットパネルディスプレー用フィルム

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1757634A4 *

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7524919B2 (en) 2006-09-29 2009-04-28 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom
US7709581B2 (en) 2006-09-29 2010-05-04 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions and articles formed therefrom
WO2008042498A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-10 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom
US7893185B2 (en) 2006-10-18 2011-02-22 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
EP2570447A1 (en) * 2006-10-18 2013-03-20 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
EP2075275A1 (en) * 2006-10-18 2009-07-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
EP2570445A1 (en) * 2006-10-18 2013-03-20 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
EP2075275A4 (en) * 2006-10-18 2010-10-20 Idemitsu Kosan Co POLYCARBONATE COPOLYMER, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, MOLDED BODY, OPTICAL MATERIAL, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE BODY
EP2570446A1 (en) * 2006-10-18 2013-03-20 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
US7888455B2 (en) 2006-10-18 2011-02-15 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate copolymer, method for producing the same, molded body, optical material, and electrophotographic photosensitive body
US8207288B2 (en) 2007-05-08 2012-06-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate polymer, coating liquid, and electrophotographic photosensitive body
EP2147946A4 (en) * 2007-05-08 2011-11-30 Idemitsu Kosan Co POLYCARBONATE POLYMER, COATING LIQUID, AND ELECTRO-PHOTOGRAPHIC LIGHT-SENSITIVE BODY
EP2147946A1 (en) * 2007-05-08 2010-01-27 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycarbonate polymer, coating liquid, and electrophotographic photosensitive body
WO2008136521A1 (ja) 2007-05-08 2008-11-13 Idemitsu Kosan Co., Ltd. ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体
TWI421276B (zh) * 2007-05-08 2014-01-01 Idemitsu Kosan Co Polycarbonate polymers, coating liquids and electrophotographic photoreceptors
JP2011026575A (ja) * 2009-06-26 2011-02-10 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、及び電子写真感光体
JP2011026574A (ja) * 2009-06-26 2011-02-10 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、及び電子写真感光体
JP2021193172A (ja) * 2020-05-13 2021-12-23 エスエイチピーピー グローバル テクノロジーズ べスローテン フェンノートシャップ ポリカーボネートコポリマーおよび関連のフィルム押出組成物、押出フィルム、ならびにコンデンサ
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