WO2001017971A1 - Process for the preparation of 2,3-dihydroazepine derivatives - Google Patents

Process for the preparation of 2,3-dihydroazepine derivatives Download PDF

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WO2001017971A1
WO2001017971A1 PCT/JP2000/006011 JP0006011W WO0117971A1 WO 2001017971 A1 WO2001017971 A1 WO 2001017971A1 JP 0006011 W JP0006011 W JP 0006011W WO 0117971 A1 WO0117971 A1 WO 0117971A1
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WO
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group
optionally substituted
ring
hydrogen atom
salt
Prior art date
Application number
PCT/JP2000/006011
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Tomomi Ikemoto
Tatsuya Ito
Shoutarou Miura
Kiminori Tomimatsu
Original Assignee
Takeda Chemical Industries, Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D223/00Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D223/14Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D223/16Benzazepines; Hydrogenated benzazepines

Definitions

  • the present invention relates to a 2,3-dihydroazepine derivative which is an intermediate useful for producing an anilide derivative having a CCR5 antagonistic activity, and a method for producing the same.
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, or a substituted
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 may combine to form a ring
  • R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group
  • R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or Represents a substituted sulfonyl group, and ring A represents a benzene ring which may have a substituent.] Or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester. , Expression
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof.
  • R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, and an optionally substituted A hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 6 and R 7 may combine to form a ring; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group], a compound represented by the formula:
  • Y represents a leaving group
  • R 1 represents an electron withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group.
  • An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof.
  • R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group
  • R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group.
  • ring A represents a benzene ring which may have a substituent; and a compound represented by the formula:
  • Y represents a leaving group
  • R 1 represents an electron withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group.
  • An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or and R 4 May be combined with each other to form a ring], or a salt thereof, and then subjected to a ring closing reaction in the presence of a carbonic acid diester,
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R s and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring
  • R ie represents an optionally substituted hydrocarbon group
  • R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, Or a substituted sulfonyl group which may be substituted] or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester.
  • each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 1 () may represent a hydrocarbon group which may be substituted
  • R 9 may represent a hydrocarbon group which may be substituted, an acyl group which may be substituted or Ring A represents a benzene ring which may have a substituent
  • the salt of is subjected to a ring-closure reaction in the presence of a carbonic acid diester
  • each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
  • R 6 and R are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon represents a group or an optionally substituted heterocyclic group, R 6 and R 7 may form a ring, R 'Q is indicates optionally substituted hydrocarbon group, R 9 Represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof,
  • R 4 [Wherein, Y represents a leaving group, R 1 represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group.
  • An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
  • each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
  • R 1 * 1 represents an optionally substituted hydrocarbon group
  • R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group.
  • ring A represents a benzene ring which may have a substituent], or a salt thereof,
  • Y represents a leaving group
  • R ′ represents an electron withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 Or R 2 and R 4 may combine to form a ring], or a salt thereof, and then subjecting the compound to a ring closure reaction in the presence of a carbonic diester.
  • each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, or a substituted
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring
  • R s represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group
  • ring C may have a substituent A benzene ring] or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction.
  • R 1 represents an electron-withdrawing group
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group
  • R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted
  • ring A and ring C each represent a benzene ring which may have a substituent.
  • R la represents an esterified carboxyl group, an amidated carboxyl group, or a cyano group
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6, and R 7 are a hydrogen atom, a halogen atom, respectively.
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring
  • R 8 is a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon
  • the ring C represents a benzene ring which may have a substituent, or a salt thereof is subjected to an acid hydrolysis reaction.
  • R ′ a represents an esterified carboxyl group, an amidated carboxyl group or a cyano group
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom
  • An optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring
  • R s represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group
  • ring A and ring C each represent A benzene ring which may have a substituent] or a salt thereof is subjected to an acid hydrolysis reaction.
  • R 4 (Wherein each symbol is as defined above) or a method for producing a salt thereof;
  • R s represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted
  • R 5 , R s and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, a hydroxyl group which may be substituted, a thiol group which may be substituted, and which may be substituted
  • R 4 and R 5 , R 2 and R 4, or R 6 and R 7 may be combined to form a ring] or a salt thereof to an acylation reaction.
  • R 1 ′ represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and other symbols have the same meanings as described above] or a method for producing a salt thereof;
  • R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, A hydroxyl group which may be substituted, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted
  • R 2 and R 3 , R 4 and or R 2 and R 4 may combine to form a ring, and ring A represents an optionally substituted benzene ring] or a salt thereof is subjected to an acylation reaction.
  • R 11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and other symbols have the same meanings as described above] or a method for producing a salt thereof;
  • R ′ 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted hydroxyl group, a substituted or unsubstituted thiol group
  • R ga represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group
  • R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group.
  • X represents an octylogen atom] and a salt thereof and a compound represented by the formula
  • ring B represents a benzene ring which may have a substituent
  • M represents _MgX ′, -B (0H) 2 , one B (0R 1S ) 2 or —SnR 18
  • X ′ represents A halogen atom
  • R 18 represents a lower alkyl group; or a salt thereof.
  • R 2, R ⁇ R 4 , R 5, R B and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, hydroxy group which may be substituted, substituted A thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group;
  • R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group;
  • R 2 and R 3 R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring.
  • the ring in which R 6 and R 7 are bonded to each other is not an unsubstituted benzene ring. Or a salt thereof;
  • ring A a represents a benzene ring having a substituent
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, A hydroxyl group, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted
  • R 8 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring] or a salt thereof;
  • Ring A a is a formula
  • ring B represents a benzene ring which may have a substituent (s)].
  • the term “electron withdrawing group” includes, for example, (i) a carboxyl group which may be esterified or amidated, (ii) a formula — (CO) R 19 (wherein R 19 Represents hydrogen or a hydrocarbon group which may be substituted), (iii) nitrile group, (iv) nitro group, (V) Formula (S ⁇ m ) R 20 (wherein m indicates 1 or 2 And R 2Q represents an optionally substituted hydrocarbon group.) (Vi) a group represented by the formula: PR 21 R 22 (wherein R 21 and R 22 each represent an optionally substituted hydrocarbon group) (Vii) a group represented by the following formula: (vii) Formula (PO) (OR 13 ) (OR 14 ) (wherein, R 13 and R 14 each represent hydrogen or an optionally substituted hydrocarbon group.
  • Examples of the “amidated carboxyl group” include a group represented by the formula — (CO) NR 16 R 17 (wherein R 16 and R 17 Each represents hydrogen or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 16 and R 17 are bonded to each other and have a 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) cyclic amino (eg, tetrahydro Pyrrole, piperazine, piperidine, morpholine, thiomorpholine, pyrrole, imidazole, etc.).
  • a 5- to 7-membered preferably 5- to 6-membered
  • cyclic amino eg, tetrahydro Pyrrole, piperazine, piperidine, morpholine, thiomorpholine, pyrrole, imidazole, etc.
  • These divalent groups may have a substituent. Examples of such a substituent include a hydroxyl group, a halogen, a (: trialkyl, _ 4 alkoxy and the like.
  • phenyl, C 6, such as naphthyl - such as 14 Ariru preferably.
  • the aryl group may have 1 to 3 substituents similar to the substituents that the “optionally substituted hydrocarbon group” described below may have.
  • alkenyl group in the optionally substituted alkenyl group of the above (ix) includes, for example, alkenyl having 2 to 10 carbon atoms such as vinyl, allyl, crotyl, 2-pentenyl, 3-hexenyl and the like. etc., preferably such as a lower (C 2 _ 6) alkenyl Le, more preferably and vinyl.
  • the alkenyl group may have one to three substituents similar to the substituents that the “optionally substituted hydrocarbon group” described below may have.
  • hydrocarbon group in the “optionally substituted hydrocarbon group” used in the present specification, for example,
  • alkyl for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, etc .; And preferably lower (C ⁇ e) alkyl and the like);
  • cycloalkyl e.g., cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl Le, cyclohexyl, etc.
  • C 3 _ 7 cycloalkyl such as heptyl is like et be cyclohexylene
  • alkenyl e.g., vinyl, Ariru (allyl), crotyl, 2-pentenyl, alkenyl carbon number 2-10, such as cyclohexenyl 3, preferably lower (C 2 - 6), such as alkenyl and the like);
  • cycloalkenyl for example, cycloalkenyl having 3 to 7 carbon atoms such as 2-cyclopentenyl, 2-cyclohexenyl, 2-cyclopentenylmethyl, 2-cyclohexenylmethyl and the like;
  • alkynyl for example, alkynyl having 2 to 10 carbon atoms such as ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1_butynyl, 2-pentynyl, 3-hexynyl, Preferably lower (C 2 _ 6 ) alkynyl and the like;
  • Ariru (. E.g., phenyl, C 6 _ 14 Ariru of naphthyl, preferably C 6 - Ariru, more preferably like phenyl);
  • Ararukiru e.g., phenylene Lou - 4 alkyl (e.g., benzyl, and the like Fuene chill etc.)); and the like.
  • alkyl rather preferred, such as methyl, Echiru ⁇ _ 4 Alkyl is more preferred, and methyl is particularly preferred.
  • the hydrocarbon group may have a substituent.
  • substituents include halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), nitro, cyano, hydroxyl, and optionally substituted thiol.
  • Group eg, thiol, alkylthio, etc.
  • amino group which may be substituted eg, amino, 4 monoalkylamino, 4 dialkylamino, tetrahydropyrrol, piperazine, piperidine, morpholine , thiomorpholine, pyrosulfate Ichiru, etc.
  • 5-6 membered cyclic Amino such as imidazole
  • esterified or amidated carboxyl group which may be (for example, carboxyl, alkoxycarbonyl, force Rubamoiru, mono C i_ 4 alkyl force Rubamoyl, di-Ci- 4 alkyl radical, etc.), halogen atom or C ⁇ 4 alkoxy C ⁇ 4 alkyl (eg, trifluoromethyl, methyl, ethyl, etc.), halogen atom or C 4 alkoxy which may be substituted with — 4 alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, trifluoromethoxy) and triflate Ruo Roe butoxy), formyl, C 2 - 4 Arukanoiru (eg, Asechiru, propionyl and the like), alkylsulfonyl (e.g., methanesulfonyl, etc. ethanesulfonyl) CI_ 4 alky
  • alkylene more preferably lower (C 2 ) alkylene
  • a ring may be formed with adjacent carbon atoms.
  • These divalent groups may have a substituent, and examples of the substituent, for example a hydroxyl group, a halogen, an alkyl, and a C i _ 4 alkoxy.
  • the “halogen atom” represented by X, X ′, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 includes, for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.
  • the ⁇ optionally substituted amino group '' represented by R 2 , RR 4 , R 5 , R 6 and R 7 may be substituted with the aforementioned ⁇ optionally substituted hydrocarbon group ''
  • the number of substituents may be any of 0 to 2, and when there are two substituents, the two substituents may be the same or different. Is also good.
  • the two substituents are bonded to each other to form a 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) cyclic amino group (eg, tetrahydropyrrol, piperazine, piperidine, morpholine) together with an adjacent nitrogen atom. Thiomorpholine, pyrrole, imidazole, etc.).
  • the ⁇ optionally substituted hydroxyl group '' represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is the aforementioned ⁇ optionally substituted hydrocarbon group '' And a hydroxyl group which may be substituted.
  • the ⁇ optionally substituted thiol group '' represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 includes the aforementioned ⁇ optionally substituted hydrocarbon '' And a thiol group which may be substituted with a “group”.
  • the “heterocycle” in the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom 5- to 7-membered aromatic containing at least 1 (preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2) of 1 to 3 (preferably 1 to 2) heteroatoms selected from atoms and the like Examples include a heterocyclic ring, a saturated or unsaturated non-aromatic heterocyclic ring (aliphatic heterocyclic ring), and the like.
  • the “aromatic heterocycle” is a 5- to 6-membered aromatic monocyclic heterocycle (for example, furan, thiophene, pyrrole, oxazolyl, isoxazolyl, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole 1,2,3_oxaziazol, 1,2,4-oxaziazol, 1,3,4-oxaziazol, furazane, 1,2,3-thiadiazole, 1,2,4-thiadiazole, 1,3,4 —Thiadiazole, 1, 2,3_triazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, triazine, etc.), and the “non-aromatic complex ring”.
  • aromatic monocyclic heterocycle for example, furan, thiophene, pyrrole, oxazolyl, isoxazolyl, thiazole, is
  • 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) saturated or unsaturated (preferably saturated) non-saturated compounds such as pyrrolidine, tetrahydrofuran, thiolane, piberidine, tetrahydropyran, morpholine, thiomorpholine, piperazine, and pyran.
  • the heterocyclic ring a 5- to 6-membered aromatic ring is preferable, and furan, thiophene, pyrrole, pyridine (preferably a 6-membered ring) and the like are preferable.
  • Examples of the substituent that the heterocyclic ring may have include the same substituents as the substituent that the aforementioned “optionally substituted hydrocarbon group” may have, and the like.
  • the number may be one to three.
  • R 1 is preferably a carboxyl group or a cyano group which may be esterified or amidated, more preferably a carboxyl group or a cyano group which has been esterified or amidated, and particularly preferably esterified.
  • Preferred are carboxyl groups.
  • R 8 is preferably a hydrogen atom
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom
  • R 6 and R 7 is preferably bonded to each other to form an optionally substituted benzene ring.
  • R 9 or R 9a, P- toluenesulfonyl group, C, _ 6 alkyl groups, such as formyl group are preferable, p - toluenesulfonyl group, more preferably such _ 6 Al kill group, is especially P- toluenesulfonyl group preferable.
  • R " is preferably a hydrogen atom.
  • the above-mentioned “optionally substituted hydrocarbon group” may have the optional substituent A substituent similar to the group; which may be bonded via a spacer (for example, a divalent group having 1 to 4 atoms constituting a straight-chain portion);
  • An aryl group which may be optionally bonded preferably, an aryl group which may be directly substituted or the above-mentioned "aryl group which may be substituted", among which an electron donating group is preferable.
  • Examples of the number of substituents include 1 to 4.
  • the ⁇ optionally substituted benzene ring '' represented by ring A includes the ⁇ optionally substituted benzene ring '' represented by ring B directly or via the aforementioned spacer.
  • a benzene ring (preferably a direct bond) is preferable.
  • the substitution position of ring B is represented by the formula
  • the “optionally substituted benzene ring” represented by ring B includes a halogen atom or C 4 alkyl optionally substituted with C 4 alkoxy (eg, trifluoromethyl, methyl Or a benzene ring which may have a substituent such as ethyl.
  • the substitution position is preferably the para position.
  • the ⁇ optionally substituted benzene ring '' represented by ring C is preferably the same as the ⁇ optionally substituted benzene ring '' represented by ring B.
  • a benzene ring having an alkyl group at the para-position is preferable, and a p-tolyl group is particularly preferable.
  • ring R 6 and R 7 are formed in combination, for example, C 5 - 7 Shikuroaruke emissions (eg, -1-cyclopentene, 2-cyclopentene, 3-cyclopentene, 2-cyclohexene, 3-cyclohexylene cyclohexene, etc.), C 5 _ 6 cycloalkadiene (e.g., 2, 4 - Shikuropen evening Zhen, 2, 4-cycloheteroalkyl Kisajen, 2, 5-cycloheteroalkyl Kisaji E down, etc.) for 5-7 membered, such as (preferably 5- to 6-membered) unsaturated alicyclic hydrocarbon; 6-membered aromatic hydrocarbon such as benzene; 1 to 3 (preferably 1 to 3) heteroatoms selected from oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • C 5 - 7 Shikuroaruke emissions eg, -1-cyclopentene, 2-cyclopentene, 3-cyclopentene, 2-cyclohexen
  • the “aromatic heterocyclic ring” is a 5- to 6-membered aromatic monocyclic heterocyclic ring (for example, furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isooxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, 1,2 , 3-oxoxadiazole, 1,2,3-thiadiazole, 1,2,3-triazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, etc.), and the "non-aromatic heterocyclic ring” Examples thereof include 5- to 6-membered non-aromatic heterocycles in which some of the double bonds of the aromatic monocyclic heterocycle described above are saturated.
  • the ring formed by the bonding of R 6 and R 7 is preferably a 5- to 6-membered aromatic ring, more preferably benzene, furan, thiophene, pyrrole, pyridine (preferably a 6-membered ring) and the like. Is preferred.
  • the ring formed by the bonding of R 6 and R 7 may have a substituent.
  • substituents include the “benzene ring” in the “optionally substituted benzene ring” described above.
  • the same substituents as the substituents which may be substituted are mentioned, and 1 to 3 identical or different substituents may be substituted at any substitutable position.
  • Examples of the leaving group used in the present specification include a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), a formula _ ⁇ (SO m ) R, wherein m represents 1 or 2. And R represents an optionally substituted hydrocarbon group (preferably an optionally halogenated C 4 alkyl, more preferably trifluoromethyl). Among them, a halogen atom is preferable, and a bromine atom is particularly preferable. Also, the expression
  • R' represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R' represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group
  • the “lower alkyl” represented by R 18 includes lower (dialkyl) and the like.
  • the compound having the substituent when it is a basic compound according to the type of the substituent exemplified above, it can be converted to a salt using an acid according to a conventional method.
  • an acid may be any acid as long as it does not hinder the reaction.
  • inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid, and sulfamic acid
  • formic acid Acetic acid, trifluoroacetic acid, tartaric acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, organic acids such as P-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, etc., and acidic amino acids such as aspartic acid and glutamic acid.
  • organic acids such as P-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, etc.
  • acidic amino acids such as aspartic acid and glutamic acid.
  • the compound having the substituent when it is an acidic compound according to the type of the substituent exemplified above, it can be converted to a salt using a base according to a conventional method.
  • the salt with a base may be a salt with any base as long as it does not hinder the reaction, for example, a salt with an inorganic base, a salt with an organic base, a basic amino acid And the like.
  • Suitable examples of the salt with an inorganic base include, for example, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt; alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt; and aluminum salt, ammonium salt and the like. .
  • Preferred examples of the salt with an organic base include, for example, trimethylamine, triethylamine, pyridine, picoline, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dicyclohexylamine, N, N′-dibenzylethylenediamine. Salts with amines and the like can be mentioned.
  • Preferable examples of the salt with a basic amino acid include salts with arginine, lysine, orditin and the like. When the obtained compound is a salt, it may be converted to a free acid according to a conventional method.
  • the reaction described in the above (1) is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof, is subjected to a ring closure reaction in the presence of a diester carbonate,
  • the reaction described in the above (1) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), metal hydrocarbon (e.g., n- butyl lithium, compounds CI_ 4 alkyl and alkali metal has a chemical bond directly attached, such as such), Arcola Ichito compound (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t- BuOK, etc.
  • Alcohols such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal, alkali metal hydroxides (eg, NaOH, K0H, etc.), and basic carbonates (eg, sodium salts, potassium salts, etc.) Metal salts or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.), basic bicarbonates (eg, alkali salts such as sodium salts, potassium salts, etc.) Bicarbonates with metal salts, etc.), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.
  • alkali metal alkali metal hydroxides
  • basic carbonates eg, sodium salts, potassium salts, etc.
  • metal hydride compounds eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.
  • alcoholates eg, NaOMe NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • alcoholates for example, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • the amount of the base used in the reaction described in the above (1) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
  • reaction solvent examples include a solvent containing a carbonic acid diester. It may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used. Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid esters (eg, formic acid alkyl ester), oxalic acid diesters (eg, such as oxalic acid di C i _ 4 Al kill ester), protic solvents (e.g., methanol, ethanol, propan
  • polar solvents eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.
  • the carbonic acid diester include compounds represented by Z — 0 (CO) ⁇ — ⁇ ′, wherein ⁇ and Z ′ each represent a hydrocarbon group which may be substituted. What is liquid at the reaction temperature for carrying out this reaction is desirable.
  • ⁇ and Z ′ are preferably the same, and as the diester carbonate, dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and getyl carbonate are preferably used.
  • the reaction temperature is usually about -20 to 200 ° C, preferably about 10 to 100 ° C, and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • the reaction described in the above (6) is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • the reaction described in the above (6) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), Metal hydrocarbons (eg, n-butyllithium, etc., compounds having a chemical bond in which C i_ 4 alkyl is directly bonded to an alkali metal), alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK) , Such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal, etc., alkali metal hydroxides (eg, NaOH, K0H, etc.), basic carbonates (eg, sodium salts, potassium salts, etc.) Alkaline metal salts such as lithium metal salts, calcium salts, magnesium salts, etc.), basic hydrogen carbonates (eg, alkalis such as sodium salts, potassium salts, etc.) Genus salts
  • metal hydride compounds eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.
  • alcoholates eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • alcoholates eg, , NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • the amount of the base used in the reaction described in the above (6) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
  • reaction solvent examples include a solvent containing a carbonic acid diester.
  • the carbonic acid diester may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used.
  • Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid Ester (eg, formic acid (: ⁇ 4 alkyl ester, etc.), oxalic acid diester (eg, dimethyl oxalate), protic solvent (eg, methanol, ethanol, propan
  • Z— ⁇ (CO) O—Z ′ (wherein, Z and Z ′ Represents a hydrocarbon group which may be substituted, respectively]
  • carbonate-dimethyl-and di C i _ 4 alkyl esters such as carbonate Jechiru are preferably used
  • the reaction temperature is usually about -. 20 to 200 ° C, preferably about 10 To 100 ° C.
  • the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • reaction described in the above (7) is carried out, for example, under the following reaction conditions.
  • the two steps of N-alkylation reaction and dehydration condensation can be performed continuously in one pot, and the intermediate may or may not be isolated. It is preferable to carry out.
  • This reaction is performed under different reaction conditions depending on the difference of Y.
  • Y is a halogen atom, a group (preferably a halogen atom) or the like (preferably a halogen atom) represented by the formula: O (SO m ) R wherein each symbol is as defined above
  • the N-alkylation reaction is preferably performed in the presence of a base.
  • a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride and potassium hydride, etc.); hydrogen (eg, n- butyl lithium etc.
  • alcoholates e.g., NaOMe NaOE t t-BuONa, C such Bok BuOK 4 Alcohols such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal
  • hydroxides of an alkali metal eg, NaOH K0H
  • basic carbonates e.g, sodium salt, potassium salt, etc.
  • Carbonate with alkaline earth metal salts such as lithium metal or calcium salt, magnesium salt, etc.
  • basic hydrogencarbonate eg, hydrogencarbonate with alkali metal salt such as sodium salt, potassium salt, etc.
  • Organic bases eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidin, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octan
  • Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), diester carbonate (eg, , Dimethyl carbonate, dimethyl carbonate, etc.
  • halogenated solvents eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.
  • aliphatic hydrocarbons eg, n-hexane, etc.
  • aromatic hydrocarbons eg, benzene, toluene, etc.
  • Ethers
  • dialkyl carbonate 4 alkyl esters, etc. formic acid esters (eg, alkyl formic acid esters, etc.), oxalic acid diesters (eg, oxalic acid dialkyl 4- alkyl esters, etc.), protic solvents ( For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2 Alcohols such as methoxyethanol).
  • the reaction may be carried out using an appropriate mixed solvent, but among them, a mixed solvent of a diester carbonate and a polar solvent (preferably, DMF or the like) is preferably used.
  • a mixed solvent of a diester carbonate and a polar solvent preferably, DMF or the like
  • the reaction temperature is usually about -20 to 200 ° C (: preferably about 10 to 100 ° C), and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • the reductive N-alkylation reaction (reductive amination reaction) is preferably performed in the presence of a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc. It is desirable to change the reaction conditions depending on the reagent.
  • a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc. It is desirable to change the reaction conditions depending on the reagent.
  • an inert solvent for example, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, getylether, dioxane, acetonitrile, dimethylformamide (DMF), or a mixture thereof is used. It can be performed in a solvent. Use this reagent in an amount of about 1 to 2 mol equivalent to 1 mol of raw material.
  • the reaction is usually carried out at a temperature in the range of about 0 ° C to about 80 ° C for about 1 hour to about 40 hours. This reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas (eg, nitrogen, argon, etc.).
  • reaction described in the above (8) is performed, for example, in the following steps.
  • the reaction described in the above (9) is carried out, for example, under the following reaction conditions.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
  • the reaction described in the above (9) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), Metal hydrocarbons (eg, ⁇ -butyllithium, etc., compounds having a chemical bond in which C i _ 4 alkyl is directly bonded to alcohol metal), alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • alkali metal hydroxides eg, NaOH, K0H, etc.
  • basic carbonates eg, sodium salt, potassium
  • Salts such as alkali metal or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.
  • basic bicarbonates eg, sodium salts, potassium salts, etc.
  • Bicarbonate with rukari metal salt organic base (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4 3.
  • metal hydride compounds eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.
  • alcoholates eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • alcoholates for example, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • the amount of the base used in the reaction described in the above (9) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
  • reaction solvent examples include a solvent containing a carbonic acid diester. It may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used. Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid Esters (eg, alkyl formate), oxalic acid diesters (eg, alkyl oxalate), protic solvents (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butano
  • Anionic solvents eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.
  • Examples of the carbonic acid diester include compounds represented by Z—O (CO) Z ′, wherein Z and Z ′ each represent a hydrocarbon group which may be substituted. What is liquid at the reaction temperature for carrying out this reaction is desirable. Z and Z ′ are preferably the same, and as the diester carbonate, dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and getyl carbonate are preferably used.
  • the reaction temperature is usually about ⁇ 20 to 200 ° C., preferably about 10 to 100 ° C., and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • reaction described in the above (13) is performed, for example, in the following steps.
  • reaction described in (14) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester to obtain a compound represented by the formula
  • the two steps of the N-alkylation reaction and the dehydration condensation can be carried out continuously in one pot, and the intermediate may or may not be isolated. It is preferred to do so.
  • This reaction is performed under different reaction conditions depending on the difference of Y.
  • N-alkyl group is obtained under the following conditions: After the conversion, the ring is closed under the reaction conditions described in the above (1).
  • the N-alkylation reaction is preferably performed in the presence of a base.
  • a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride and potassium hydride, etc.); hydrogen (eg, n- butyl lithium etc.
  • alcoholates e.g., NaOMe, NAOE and t-BuONa, t-BuOK, etc.
  • a hydroxide of the alkali metal eg, NaOH, K0H, etc.
  • a basic carbonate eg, sodium salt, Alkali metal salts such as potassium salts or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.
  • basic bicarbonates eg, alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts, etc.) Bicarbonate, etc.
  • organic bases eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidin, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.
  • — 7-indene, etc. among which basic carbonates (eg, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt or alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt) Salts, preferably potassium carbonate) or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] _7-ndecene and alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK) And the like are preferably used.
  • the amount of the base used in the reaction described in the above (14) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
  • Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), diester carbonate (eg, , Dimethyl carbonate, dicarbonate such as getyl carbonate, etc., 1 to 4 alkyl esters, etc., formate esters (eg, alkyl formate esters), diester oxalates (eg, dialkyl oxalate, etc.), protic solvents (eg, Methanol, ethanol, propanol, isopropano
  • the reaction temperature is usually about -20 to 200 ° (:, preferably about 10 to 100), and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • the reductive N-alkylation reaction is preferably performed in the presence of a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc. It is desirable to change the reaction conditions depending on the reagent.
  • a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc.
  • an inert solvent such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, getyl ether, dioxane, acetonitrile, dimethylformamide (DMF), or a mixture thereof is used. It can be performed in a solvent.
  • this reagent in an amount of about 1 to 2 mol equivalent to 1 mol of raw material.
  • the reaction is usually carried out at a temperature in the range of about 0 ° C to about 80 ° C for about 1 hour to about 40 hours.
  • This reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas (eg, nitrogen, argon, etc.).
  • reaction described in (16) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction
  • This reaction is preferably performed in the presence of an acid.
  • an acid examples include inorganic acids (eg, hydrochloric acid, perchloric acid, sulfuric acid, etc.), organic acids (eg, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.).
  • inorganic acids eg, hydrochloric acid, perchloric acid, sulfuric acid, etc.
  • organic acids eg, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.
  • perchloric acid, sulfuric acid and the like are preferably used.
  • the amount of the acid used in the reaction described in the above (16) is about 0.1 to 200 equivalents, preferably 5 to 50 equivalents.
  • Reaction solvents include aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0 ), Etc.), organic acids (eg, acetic acid, etc.), water, etc., and an appropriate mixed solvent may be used for the reaction.
  • solvents such as n-hexane, benzene, toluene, acetic acid, etc.
  • a mixed solvent of water and water is preferably used.
  • the reaction temperature is usually about 0-200 ° C, preferably about 30-150 ° C, and the reaction time is usually about 0.1-100 hours, preferably about 0.5-50 hours.
  • reaction described in the above (20) is performed, for example, in the following steps.
  • reaction described in (21) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • reaction described in (26) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof, for an acylation reaction.
  • This acylation reaction is carried out according to a usual acid-amide forming reaction.
  • the acid-amide formation reaction may be performed according to any known method such as a peptide synthesis reaction.
  • a peptide synthesis reaction For example, M. Bodansky and MA Ondetti, Peptide Synthesis (P-marked tide Synthesis), Interscience, New York, 1966 ; The Proteins, by FM Finn and K. Hoftnann, Volume 2, edited by H. Nenrath, R.
  • solvent examples include anhydrous or water-containing N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), pyridine, chloroform, dichloromethane, tetrahydrofuran (THF), dioxane, acetonitrile, or an appropriate mixture thereof.
  • DMF N, N-dimethylformamide
  • DMSO dimethyl sulfoxide
  • pyridine chloroform
  • dichloromethane tetrahydrofuran
  • dioxane acetonitrile
  • the acylating agent is usually used in an amount of about 1 to 2 mol per 1 mol of the starting compound.
  • the reaction temperature is generally about -20 ° C to about 80, preferably about -10 ° C to about 40 ° C.
  • the reaction time is about 0.1 to about 100 hours, preferably about 0.5 to about 40 hours.
  • the reaction described in the above (30) is performed, for example, in the following steps.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof, for an acylation reaction.
  • each symbol is as defined above, or a salt thereof.
  • the reaction described in the above (30) is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (26).
  • reaction described in (31) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
  • a catalyst examples include a catalyst containing a transition metal such as nickel and palladium, and more specifically, tetrakistriphenylphenylphosphine palladium, palladium acetate / Triphenyl phosphine
  • dppp nickel catalysts
  • dppp 1,3-bis (diphenylphosphino) propane]
  • the amount of the catalyst used in this reaction is about 0.01 to 100 mol, preferably 0.05 to 20 mol%.
  • This reaction is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include basic carbonates (eg, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt or alkaline earth salts such as calcium salt and magnesium salt). Carbonates with similar metal salts), basic hydrogen carbonates (eg, hydrogen carbonate with alkali metal salts such as sodium and potassium salts), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, Pyridine, ⁇ , ⁇ -dimethylaminopyridine, picoline, ⁇ -methylpyrrolidine, ⁇ -methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-1-ene, 1,4-diazabicyclo [2. 2.
  • Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, ⁇ -hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMS0), etc.), protic solvents (eg, For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, and 2-methoxyethanol), water, and the like are used.
  • halogenated solvents eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.
  • aliphatic hydrocarbons eg, ⁇
  • the reaction may be carried out using an appropriate mixed solvent.
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene and protonic solvents such as methanol and ethanol A mixed solvent medium and is preferably used.
  • the reaction temperature is usually about ⁇ 20 to 200 ° C., preferably about 0 to 100 t :, and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
  • the benzene compound is used in an amount of about 0.1 to 100 equivalents, and preferably about 1 to 5 equivalents, based on the 2,3-dihydrobenzazepine compound.
  • R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, or a substituted An optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group;
  • R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group;
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring.
  • the ring in which R 5 and R 7 are bonded to each other is not an unsubstituted benzene ring. Or a salt thereof; and a compound of the formula
  • ring represents a benzene ring having a substituent
  • R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, and a hydroxyl group which may be substituted.
  • R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted;
  • R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof is a novel compound, and is prepared by a method known per se. Condensation with an aniline derivative to synthesize the anilide derivative described in WO973210, WO99 / 3248, Japanese Patent Application No. 111-175035, etc.
  • R 23 and R 24 each represent an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group] or a compound thereof or a salt thereof.
  • the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 23 and R 24 includes, for example, “substituted substituted” represented by R 2 , R ⁇ R 4 , R 5 , R 6 and R 7 And the like. "
  • R 23 is preferably a chain hydrocarbon group which may be substituted (eg, alkyl or alkenyl which may be substituted respectively), and a lower alkyl group which may be substituted. Further preferred is a methyl group.
  • R 24 optionally substituted alicyclic hydrocarbon group (e.g., each optionally substituted cycloalkyl, such as cycloalkenyl; preferably, optionally substituted lower C 3 _ 8 cycloalkyl Alkyl group; more preferably cyclohexyl) or an optionally substituted alicyclic heterocyclic group (preferably an optionally substituted saturated alicyclic heterocyclic group (preferably a 6-membered ring group) More preferably, optionally substituted tetrahydropyranyl, optionally substituted tetrahydrothiopyranyl or optionally substituted piperidyl; particularly preferably, tetrahydropyranil).
  • alicyclic hydrocarbon group e.g., each optionally substituted cycloalkyl, such as cycloalkenyl; preferably, optionally substituted lower C 3 _ 8 cycloalkyl Alkyl group; more preferably cyclohexyl
  • Methyl 5-bromoanthranilate (200 g) was dissolved in pyridine (600 ml), and p-toluenesulfonyl chloride (174 g) was added at room temperature. After stirring for 3 hours, water (600 ml) and ethyl acetate (3 L) were added to the reaction solution, and the mixture was separated. The organic layer was washed with 2N hydrochloric acid (200 ml ⁇ 3), 10% aqueous sodium chloride (500 ml ⁇ 3), and water (250 ml). IPE (IL) was added to the residue obtained by concentration, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
  • IL IPE
  • methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate 0.5 g was dissolved in toluene (5 ml), and diisobutylaluminum hydride (DIBALH) (4 ml) was added dropwise at room temperature. After stirring at room temperature for 0.5 hour, the mixture was ice-cooled and 5% sulfuric acid (10 ml) was added. Water (5 ml), toluene (5 ml) and ethyl acetate (10 ml) were added, and the mixture was separated.
  • DIBALH diisobutylaluminum hydride
  • VITRIDE registered trademark
  • methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate (5. Og) was dissolved in toluene (50 ml) and cooled to -10.
  • VITRIDE registered trademark
  • the previously prepared VITRIDE (registered trademark) solution was gradually added dropwise, followed by stirring at the same temperature for 2 hours.
  • sulfuric acid / water 1/4 (500 ml) was added.
  • the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (100 ml ⁇ 2), and the organic layer was washed with water (400 ml ⁇ 4). The organic layer was concentrated, and the residue was purified by a silica gel column (toluene).

Abstract

A process for preparing 2,3-dihydroazepine derivatives of general formula (II) or salts thereof inexpensively and simply, characterized by subjecting compounds of general formula (I) or salts thereof to ring-closing reaction in the presence of a carbonic diester, wherein R1 is an electron-withdrawing group; R?2, R3, R4, R5, R6 and R7¿ are each hydrogen, halogeno, optionally substituted amino, optionally substituted hydroxyl, an optionally substituted thiol group, optionally substituted hydrocarbyl, or an optionally substituted heterocyclic group, alternatively R?2 and R3, R4 and R5, R2 and R4, or R6 and R7¿ may be united to form a ring; R8 is hydrogen or optionally substituted hydrocarbyl; and R9 is optionally substituted hydrocarbyl, optionally substituted acyl, or substituted sulfonyl.

Description

明細  Statement
2 , 3—ジヒドロアゼピン誘導体の製造法 技術分野 Method for producing 2,3-dihydroazepine derivatives
本発明は、 CCR5拮抗作用を有するァニリ ド誘導体等を製造するために有用な中 間体である 2, 3-ジヒドロアゼピン誘導体およびその製造法に関する。 背景技術  The present invention relates to a 2,3-dihydroazepine derivative which is an intermediate useful for producing an anilide derivative having a CCR5 antagonistic activity, and a method for producing the same. Background art
従来、 2, 3-ジヒドロベンゾァゼピン誘導体はアントラニル酸のジエステル誘導 体を D i eckmannタイプの環化反応により閉環させ、 還元、 脱水反応を行うことに より合成する方法が報告されていた (特顧平 1 1一 1 7 0 3 4 5号、 U S特許 4952573) 。 しかしながら、 この方法は、 大量合成には適さない試薬を使用してお り、 かつ工程数が長く、 操作が複雑であった。  Conventionally, there has been reported a method of synthesizing a 2,3-dihydrobenzazepine derivative by subjecting a diester derivative of anthranilic acid to ring closure by a Dieckmann-type cyclization reaction, followed by reduction and dehydration reactions ( Japanese Patent Application No. 111-17045, US Patent 4952573). However, this method uses reagents that are not suitable for mass synthesis, has a long number of steps, and requires complicated operations.
以上のような現状から、 2, 3-ジヒドロアゼピン誘導体の安価かつ簡便で、 大量 合成により適した製造法が望まれる。 発明の開示  Under the circumstances described above, there is a demand for a method for producing 2,3-dihydroazepine derivatives that is inexpensive, simple, and more suitable for large-scale synthesis. Disclosure of the invention
本発明者らは種々検討した結果、 2位に置換されたアミノ基を有するベンズァ ルデヒド類ゃ安息香酸エステル類を中間体として用い、 炭酸ジエステルの存在下 で閉環反応を行うことにより、 2, 3-ジヒドロベンゾァゼピン誘導体を安価かつ簡 便に製造する方法を見い出した。 これらの知見に基づき、 さらに研究した結果、 本発明を完成するに至った。  As a result of various studies, the inventors of the present invention have found that a ring closure reaction is carried out in the presence of a carbonic acid diester by using a benzaldehyde having an amino group substituted at the 2-position ゃ a benzoic acid ester as an intermediate. -A method for producing dihydrobenzozepine derivatives inexpensively and easily has been found. As a result of further research based on these findings, the present invention has been completed.
すなわち、 本発明は、  That is, the present invention
( 1 ) 式 ( 1 set
Figure imgf000004_0001
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[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と は結合 して環を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基 を示し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基 または置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩を炭酸ジエステ ルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, or a substituted An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 may combine to form a ring, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, A substituted or unsubstituted sacyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof in the presence of a diester carbonate.
Figure imgf000004_0002
Figure imgf000004_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法; Wherein each symbol is as defined above, or a method for producing a salt thereof;
(2) R1がエステル化されたカルボキシル基である前記 (1) 記載の製造法;(2) The production method according to the above (1), wherein R 1 is an esterified carboxyl group;
(3) R8が水素原子である前記 (1) 記載の製造法; (3) The production method according to the above (1), wherein R 8 is a hydrogen atom;
(4) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (1) 記載の製造法; (4) The production method according to the above (1), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
(5) R9が P-トルエンスルホニル基またはアルキル基である前記 (1) 記載の製 造法; ( 6 ) 式 (5) The production method according to (1), wherein R 9 is a P-toluenesulfonyl group or an alkyl group; Equation (6)
Figure imgf000005_0001
Figure imgf000005_0001
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4及び R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン 原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換され ていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されてい てもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5又は R2と R4は結合して環を形成しても よく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換さ れていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二 ル基を示し、環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合 物又はその塩を炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or Represents a substituted sulfonyl group, and ring A represents a benzene ring which may have a substituent.] Or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester. , Expression
Figure imgf000005_0002
Figure imgf000005_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof.
( 7 ) 式 Equation (7)
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
[式中、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよい アミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置 換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R6 と R7は結合して環を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい 炭化水素基を示し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよ いァシル基または置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩と、式 [Wherein, R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, and an optionally substituted A hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 6 and R 7 may combine to form a ring; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group], a compound represented by the formula:
Figure imgf000006_0002
Figure imgf000006_0002
[式中、 Yは脱離基を示し、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, Y represents a leaving group, R 1 represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group. An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000007_0001
Figure imgf000007_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof.
( 8 ) 式  Equation (8)
Figure imgf000007_0002
Figure imgf000007_0002
[式中、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換さ れていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二 ル基を示し、環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合 物またはその塩と、 式 [Wherein, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group. And ring A represents a benzene ring which may have a substituent; and a compound represented by the formula:
Figure imgf000007_0003
Figure imgf000007_0003
[式中、 Yは脱離基を示し、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, Y represents a leaving group, R 1 represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group. An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or and R 4 May be combined with each other to form a ring], or a salt thereof, and then subjected to a ring closing reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法; Wherein each symbol is as defined above, or a method for producing a salt thereof;
( 9 ) 式 Equation (9)
Figure imgf000008_0002
Figure imgf000008_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 Rsおよび R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合 して環を形成してもよく、 Rieは置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置 換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スル ホニル基を示す]で表される化合物またはその塩を炭酸ジエステルの存在下で閉 環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R s and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, R ie represents an optionally substituted hydrocarbon group, R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, Or a substituted sulfonyl group which may be substituted] or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester.
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物 (本化合物はェノール型または ケト型の何れの構造を有していてもよい) またはその塩の製造法;  Wherein each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
( 1 0) R1がエステル化されたカルボキシル基である前記 (9) 記載の製造法;(10) The production method according to the above (9), wherein R 1 is an esterified carboxyl group;
( 1 1) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (9) 記載の製造法; (11) The process according to the above (9), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
(1 2) R9が P-トルエンスルホニル基またはアルキル基である前記 (9) 記載の 製造法; (12) The production method according to the above (9), wherein R 9 is a P-toluenesulfonyl group or an alkyl group;
(1 3) 式  (13)
Figure imgf000009_0002
Figure imgf000009_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよく、 Rl()は置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換されていても よい炭化水素基、置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二ル基を示し、 環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはそ の塩を炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 1 () may represent a hydrocarbon group which may be substituted, and R 9 may represent a hydrocarbon group which may be substituted, an acyl group which may be substituted or Ring A represents a benzene ring which may have a substituent]. Wherein the salt of is subjected to a ring-closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000010_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物 (本化合物はェノール型または ケト型の何れの構造を有していてもよい) またはその塩の製造法;  Wherein each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
( 1 4 ) 式  (14)
Figure imgf000010_0002
Figure imgf000010_0002
[式中、 R6および はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよい アミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置 換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R6 と R7は結合して環を形成してもよく、 R'Qは置換されていてもよい炭化水素基を示 し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基また は置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩と、 式 [Wherein, R 6 and R are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon represents a group or an optionally substituted heterocyclic group, R 6 and R 7 may form a ring, R 'Q is indicates optionally substituted hydrocarbon group, R 9 Represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof,
5 R4 [式中、 Yは脱離基を示し、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 5 R 4 [Wherein, Y represents a leaving group, R 1 represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted amino group. An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物 (本化合物はェノール型または ケト型の何れの構造を有していてもよい) またはその塩の製造法;  Wherein each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
( 1 5 ) 式  (15)
Figure imgf000011_0002
Figure imgf000011_0002
ぼ中、 R1*1は置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換されていてもよ い炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二ル基を示し、 環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはそ の塩と、 式
Figure imgf000012_0001
In the formula, R 1 * 1 represents an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group. And ring A represents a benzene ring which may have a substituent], or a salt thereof,
Figure imgf000012_0001
ぼ中、 Yは脱離基を示し、 R'は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 In the formula, Y represents a leaving group, R ′ represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, Represents an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 Or R 2 and R 4 may combine to form a ring], or a salt thereof, and then subjecting the compound to a ring closure reaction in the presence of a carbonic diester.
Figure imgf000012_0002
Figure imgf000012_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物 (本化合物はェノール型または ケト型の何れの構造を有していてもよい) またはその塩の製造法;  Wherein each symbol is as defined above (this compound may have any of an enol-type or keto-type structure) or a method for producing a salt thereof;
( 1 6 ) 式 Equation (16)
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0001
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合 して環を形成してもよく、 Rsは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基 を示し、環 Cは置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物または その塩を脱保護反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, or a substituted An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, R s represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and ring C may have a substituent A benzene ring] or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction.
Figure imgf000013_0002
Figure imgf000013_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法;Wherein each symbol is as defined above, or a method for producing a salt thereof;
( 1 7 ) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (1 6 ) 記載の製造法;(17) The production method according to the above (16), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
( 1 8 ) R8が水素原子である前記 (1 6 ) 記載の製造法; ( 1 9 ) 環 Cが p-トリル基である前記 (1 6 ) 記載の製造法; ( 2 0 ) 式 (18) The production method according to (16), wherein R 8 is a hydrogen atom; (19) The production method according to the above (16), wherein ring C is a p-tolyl group;
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000014_0001
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Aお よび環 Cはそれぞれ置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物 またはその塩を脱保護反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R and R 5, or R 2 and R 4 are a bond R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and ring A and ring C each represent a benzene ring which may have a substituent.] Wherein the compound represented by the formula or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction.
Figure imgf000014_0002
Figure imgf000014_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法; ( 2 1 ) 式 Wherein each symbol is as defined above, or a method for producing a salt thereof; Equation (2 1)
Figure imgf000015_0001
Figure imgf000015_0001
[式中、 Rl aはエステル化されたカルボキシル基、 アミド化されたカルボキシル基 またはシァノ基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環 を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Cは置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはその塩 を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R la represents an esterified carboxyl group, an amidated carboxyl group, or a cyano group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6, and R 7 are a hydrogen atom, a halogen atom, respectively. Represents an atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group, or an optionally substituted heterocyclic group. R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, and R 8 is a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon Wherein the ring C represents a benzene ring which may have a substituent, or a salt thereof is subjected to an acid hydrolysis reaction.
Figure imgf000015_0002
Figure imgf000015_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法 (2 2) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (2 1) 記載の製造法;Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof. (2 2) The production method according to the above (21), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
(2 3) R8が水素原子である前記 (2 1) 記載の製造法; (23) The production method according to the above (21), wherein R 8 is a hydrogen atom;
(24) 環 Cが P-トリル基である前記 (2 1) 記載の製造法;  (24) The production method according to the above (21), wherein ring C is a P-tolyl group;
(2 5) 式  Equation (2 5)
Figure imgf000016_0001
Figure imgf000016_0001
[式中、 R'aはエステル化されたカルボキシル基、 アミド化されたカルボキシル基 またはシァノ基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていて もよぃチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよ い複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成してもよく、 Rsは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Aおよび環 Cは それぞれ置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはその 塩を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、 式 [In the formula, R ′ a represents an esterified carboxyl group, an amidated carboxyl group or a cyano group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom, An optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring, R s represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and ring A and ring C each represent A benzene ring which may have a substituent] or a salt thereof is subjected to an acid hydrolysis reaction.
R 4 [式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法; (2 6) 式 R 4 (Wherein each symbol is as defined above) or a method for producing a salt thereof;
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000017_0001
中、 Rsは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2、 R3、 R4In the formula, R s represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 2 , R 3 , R 4 ,
R5、 Rsおよび R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミ ノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換さ れていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3R 5 , R s and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, a hydroxyl group which may be substituted, a thiol group which may be substituted, and which may be substituted Represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group which may be substituted, R 2 and R 3 ,
R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環を形成してもよい]で表される化合物 またはその塩をァシル化反応に付すことを特徴とする、 式 R 4 and R 5 , R 2 and R 4, or R 6 and R 7 may be combined to form a ring] or a salt thereof to an acylation reaction.
Figure imgf000017_0002
Figure imgf000017_0002
ぼ中、 R1'は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 その他の 記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩の製造法; In the formula, R 1 ′ represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and other symbols have the same meanings as described above] or a method for producing a salt thereof;
(2 7) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (2 6) 記載の製造法;(27) The production method according to the above (26), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
(2 8) R8が水素原子である前記 (2 6) 記載の製造法; (28) The production method according to the above (26), wherein R 8 is a hydrogen atom;
(2 9) R11が水素原子である前記 (2 6) 記載の製造法; ( 3 0 ) 式 (2 9) wherein R 11 is a hydrogen atom (2 6) The process according; (30)
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[式中、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2、 R3、 R4 および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されてい てもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と または R2と R4は結合して環を形成してもよく、環 Aは置換基を有していてもよ いベンゼン環を示す]で表される化合物またはその塩をァシル化反応に付すこと を特徴とする、 式 [Wherein, R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, A hydroxyl group which may be substituted, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted; R 2 and R 3 , R 4 and or R 2 and R 4 may combine to form a ring, and ring A represents an optionally substituted benzene ring] or a salt thereof is subjected to an acylation reaction. Feature, expression
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[式中、 R1 1は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 その他の 記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩の製造法; [Wherein, R 11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and other symbols have the same meanings as described above] or a method for producing a salt thereof;
( 3 1 ) 式 Equation (3 1)
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[式中、 R'2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていて もよぃァミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール 基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示 し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成してもよく、 Rgaは水素原 子、 置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置 換スルホニル基を示し、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を 示し、 Xは八ロゲン原子を示す]で表される化合物またはその塩と式 [Wherein, R ′ 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted hydroxyl group, a substituted or unsubstituted thiol group Represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are bonded to form a ring R ga represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group, and R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group. And X represents an octylogen atom] and a salt thereof and a compound represented by the formula
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[式中、環 Bは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、 Mは _MgX'、 -B (0H) 2, 一 B (0R1S) 2または— SnR18を示し、 X'はハロゲン原子を示し、 R18は低級アルキル基 を示す]で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする、 式 [Wherein, ring B represents a benzene ring which may have a substituent, M represents _MgX ′, -B (0H) 2 , one B (0R 1S ) 2 or —SnR 18 , and X ′ represents A halogen atom; R 18 represents a lower alkyl group; or a salt thereof.
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[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法; (32) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (3 1) 記載の製造法; (33) R8が水素原子である前記 (3 1) 記載の製造法;
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(Wherein each symbol is as defined above) or a method for producing a salt thereof; (32) The method according to the above (31), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms. (33) The production method according to the above (31), wherein R 8 is a hydrogen atom;
(34) R9aが P-トルエンスルホニル基またはアルキル基である前記(3 1)記載 の製造法; (34) The production method according to the above (31), wherein R 9a is a P-toluenesulfonyl group or an alkyl group;
(35) R9aがホルミル基である前記 (3 1) 記載の製造法; (35) The production method according to the above (31), wherein R 9a is a formyl group;
(36) 式  Equation (36)
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[式中、 R2、 R\ R4、 R5、 RBおよび R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換さ れていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよい チオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素 環基を示し、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環を形成してもよい。 但し、 R6と R7 とが結合して結合する環は無置換のベンゼン環でない。]で表される化合物または その塩; Wherein, R 2, R \ R 4 , R 5, R B and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, hydroxy group which may be substituted, substituted A thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 2 and R 3 R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring. However, the ring in which R 6 and R 7 are bonded to each other is not an unsubstituted benzene ring. Or a salt thereof;
(37) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (36) 記載の化合物; (38) Rsが水素原子である前記 (36) 記載の化合物; (37) The compound according to (36), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms; (38) the compound according to (36), wherein R s is hydrogen atom;
(39) 式 Equation (39)
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[式中、 環 Aaは置換基を有するベンゼン環を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ 水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ い水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基 または置換されていてもよい複素環基を示し、 R8は水素原子または置換されてい てもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよい]で表される化合物またはその塩; [Wherein, ring A a represents a benzene ring having a substituent, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, A hydroxyl group, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted, wherein R 8 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring] or a salt thereof;
(40) R2、 R3、 R4および R5が水素原子である前記 (39) 記載の化合物;(40) The compound according to the above (39), wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms;
(41) R8が水素原子である前記 (39) 記載の化合物; (41) The compound according to the above (39), wherein R 8 is a hydrogen atom;
(42) 環 Aaが式 (42) Ring A a is a formula
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[式中、 環 Bは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表されるベンゼン 環である前記 (39) 記載の化合物;などに関する。 本明細書中で用いられる 「電子吸引基」 としては、 例えば、 (i)エステル化また はアミド化されていてもよいカルボキシル基、 (ii)式— (CO) R19 (式中、 R 19は水素または置換されていてもよい炭化水素基を示す) で表される基、 (iii) 二トリル基、 (iv)ニトロ基、 (V)式一 (S〇m) R20 (式中、 mは 1または 2を示 し、 R2Qは置換されていてもよい炭化水素基を示す) で表される基、 (vi)式一 P R21R22 (式中、 R21および R22はそれぞれ置換されていてもよい炭化水素基 を示す) で表される基、 (vii)式一 (PO) (OR13) (OR14) (式中、 R13 および R 14はそれぞれ水素または置換されていてもよい炭化水素基を示す) で表 される基、 (viii)置換されていてもよいァリール基、 (ix)置換されていてもよい アルケニル基、 (X)ハロゲン原子 (例えば、 フッ素, 塩素、 臭素、 ヨウ素など) 、 (xi)ニトロソ基など、 好ましくはエステル化またはアミド化されていてもよい力 ルポキシル基、 式— (CO) R19で表される基、 二トリル基、 ニトロ基、 式一 (S Om) R2Gで表される基、 式— PR21R22で表される基、 式一 (P〇) (OR13) (OR14)で表される基、さらに好ましくはエステル化されたカルボキシル基(例、 メトキシカルボニル、 エトキシカルボニル、 t一ブトキシカルボニルなどの 4アルキルでエステル化されたカルボキシル基) などが挙げられる。 [Wherein ring B represents a benzene ring which may have a substituent (s)]. As used herein, the term “electron withdrawing group” includes, for example, (i) a carboxyl group which may be esterified or amidated, (ii) a formula — (CO) R 19 (wherein R 19 Represents hydrogen or a hydrocarbon group which may be substituted), (iii) nitrile group, (iv) nitro group, (V) Formula (S〇 m ) R 20 (wherein m indicates 1 or 2 And R 2Q represents an optionally substituted hydrocarbon group.) (Vi) a group represented by the formula: PR 21 R 22 (wherein R 21 and R 22 each represent an optionally substituted hydrocarbon group) (Vii) a group represented by the following formula: (vii) Formula (PO) (OR 13 ) (OR 14 ) (wherein, R 13 and R 14 each represent hydrogen or an optionally substituted hydrocarbon group. (Viii) an aryl group which may be substituted, (ix) an alkenyl group which may be substituted, (X) a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), (xi) Nitroso group or the like, preferably esterified or amidated force Rupoxyl group, group represented by the formula — (CO) R 19 , nitrile group, nitro group, formula (SO m ) R groups represented by 2G, the formula - PR 21 group represented by R 22, wherein one (P_〇) (OR 13) a group represented by (OR 14), more preferably Carboxyl groups esterified (e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, esterified carboxyl group 4 alkyl such t one-butoxycarbonyl), and the like.
前記(0の「エステル化またはアミド化されていてもよいカルボキシル基」 にお ける 「エステル化された力ルポキシル基」 としては、 式一 (CO) OR15 (式中、 R 15は水素または置換されていてもよい炭化水素基を示す) で表される基などが 挙げられ、 「アミド化されたカルボキシル基」 としては、 式— (CO) NR16R 17 (式中、 R 16および R 17はそれぞれ水素または置換されていてもよい炭化水素 基を示し、 R 16および R17は互いに結合して隣接する窒素原子とともに 5〜 7員 (好ましくは 5〜 6員) の環状アミノ (例、 テトラヒドロピロール、 ピぺラジン、 ピぺリジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピロール、 イミダゾールなど) を形 成していてもよい) で表される基などが挙げられる。 As the “esterified carbonyl group” in the “carboxyl group which may be esterified or amidated” of the above (0), the formula (CO) OR 15 (where R 15 is hydrogen or substituted A hydrocarbon group which may be represented by the following formula). Examples of the “amidated carboxyl group” include a group represented by the formula — (CO) NR 16 R 17 (wherein R 16 and R 17 Each represents hydrogen or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 16 and R 17 are bonded to each other and have a 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) cyclic amino (eg, tetrahydro Pyrrole, piperazine, piperidine, morpholine, thiomorpholine, pyrrole, imidazole, etc.).
また、 前記 (vi)あるいは (vii)の式中、 R21および R22あるいは R13および R 14は互いに結合して、 例えば、 低級 (C2_6) アルキレン (例、 ジメチレン、 ト リメチレン、 テトラメチレンなど) 、 低級 (C26) アルケニレン (例、 一 CH2 — CH=CH -、 — CH2 - CH2— CH=CH―、 一 CH2 - CH=CH - CH2 一など) 、 低級 (C46) アルカジエ二レン (例、 — CH二 CH— CH = CH— など) など、 好ましくは低級 (C^) アルキレン、 さらに好ましくは低級 (C2 _4) アルキレンを形成していてもよく、 これらの 2価の基は置換基を有していて もよく、 かかる置換基としては、 例えば水酸基、 ハロゲン、 (:ト アルキル、 _ 4アルコキシなどが挙げられる。 Furthermore, the expression in (vi) or (vii), R 21 and R 22 or R 13 and R 14 are bonded to each other, for example, lower (C 2 _ 6) alkylene (e.g., dimethylene, preparative Rimechiren, tetra Methylene, etc.), lower (C 26 ) alkenylene (eg, one CH 2 — CH = CH—, — CH 2 —CH 2 — CH = CH—, one CH 2 —CH = CH—CH 2 one), lower (C 4 - 6) Arukajie two alkylene (e.g., - CH two CH- CH = CH-, etc.), etc., preferably lower (C ^) alkylene, more preferably form a lower (C 2 _ 4) alkylene These divalent groups may have a substituent. Examples of such a substituent include a hydroxyl group, a halogen, a (: trialkyl, _ 4 alkoxy and the like.
前記 (viii)の置換されていてもよいァリール基における 「ァリール基」 として は、 例えば、 フエニル、 ナフチルなどの C614ァリールなど、 好ましくは 。ァリールなど、 さらに好ましくはフエニルなどが挙げられる。 該ァリール基は、 後述の 「置換されていてもよい炭化水素基」 が有していてもよい置換基と同様な 置換基を 1〜 3個有していてもよい。 As the "Ariru group" in the optionally substituted Ariru group (viii), for example, phenyl, C 6, such as naphthyl - such as 14 Ariru, preferably. Aryl, and more preferably phenyl. The aryl group may have 1 to 3 substituents similar to the substituents that the “optionally substituted hydrocarbon group” described below may have.
前記(ix)の置換されていてもよいアルケニル基における 「アルケニル基」 とし ては、 例えば、 ビニル、 ァリル(allyl)、 クロチル、 2—ペンテニル、 3—へキセ ニルなど炭素数 2〜10のアルケニルなど、 好ましくは低級 (C2_6) アルケニ ルなど、 さらに好ましくはビニルなどが挙げられる。 該ァルケニル基は、 後述の 「置換されていてもよい炭化水素基」 が有していてもよい置換基と同様な置換基 を 1〜3個有していてもよい。 The “alkenyl group” in the optionally substituted alkenyl group of the above (ix) includes, for example, alkenyl having 2 to 10 carbon atoms such as vinyl, allyl, crotyl, 2-pentenyl, 3-hexenyl and the like. etc., preferably such as a lower (C 2 _ 6) alkenyl Le, more preferably and vinyl. The alkenyl group may have one to three substituents similar to the substituents that the “optionally substituted hydrocarbon group” described below may have.
本明細書中で用いられる 「置換されていてもよい炭化水素基」 における 「炭化 水素基」 としては、 例えば、  As the “hydrocarbon group” in the “optionally substituted hydrocarbon group” used in the present specification, for example,
(1) アルキル (例えば、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、 イソブチル、 s e c—ブチル、 t e r t—ブチル、 ペンチル、 イソペンチル、 ネ ォペンチル、 へキシル、 ヘプチル、 ォクチル、 ノニル、 デシルなどの い 。アル キル、 好ましくは低級 (C^e) アルキルなどが挙げられる) ;  (1) alkyl (for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, etc .; And preferably lower (C ^ e) alkyl and the like);
(2) シクロアルキル (例えば、 シクロプロピル、 シクロブチル、 シクロペンチ ル、 シクロへキシル、 シクロへプチルなどの C3_ 7シクロアルキルなどが挙げら れる) ; (2) cycloalkyl (e.g., cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl Le, cyclohexyl, etc. C 3 _ 7 cycloalkyl such as heptyl is like et be cyclohexylene);
(3) アルケニル (例えば、 ビニル、 ァリル(allyl)、 クロチル、 2—ペンテニル、 3—へキセニルなどの炭素数 2〜 10のアルケニル、 好ましくは低級 (C26) アルケニルなどが挙げられる) ; (3) alkenyl (e.g., vinyl, Ariru (allyl), crotyl, 2-pentenyl, alkenyl carbon number 2-10, such as cyclohexenyl 3, preferably lower (C 2 - 6), such as alkenyl and the like);
(4) シクロアルケニル (例えば、 2—シクロペンテニル、 2—シクロへキセニ ル、 2—シクロペンテニルメチル、 2—シクロへキセニルメチルなど炭素数 3〜 7のシクロアルケニルなどが挙げられる) ;  (4) cycloalkenyl (for example, cycloalkenyl having 3 to 7 carbon atoms such as 2-cyclopentenyl, 2-cyclohexenyl, 2-cyclopentenylmethyl, 2-cyclohexenylmethyl and the like);
(5) アルキニル (例えば、 ェチニル、 1一プロピニル、 2—プロピニル、 1 _ ブチニル、 2—ペンチニル、 3—へキシニルなどの炭素数 2〜10のアルキニル、 好ましくは低級 (C2_6) アルキニルなどが挙げられる) ; (5) alkynyl (for example, alkynyl having 2 to 10 carbon atoms such as ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1_butynyl, 2-pentynyl, 3-hexynyl, Preferably lower (C 2 _ 6 ) alkynyl and the like;
(6) ァリール (例えば、 フエニル、 ナフチルなどの C6_14ァリール、 好ましく は C6— 。ァリール、 さらに好ましくはフエニルなどが挙げられる) ; (6) Ariru (. E.g., phenyl, C 6 _ 14 Ariru of naphthyl, preferably C 6 - Ariru, more preferably like phenyl);
(7) ァラルキル (例えば、 フエ二ルー — 4アルキル (例、 ベンジル、 フエネ チルなど) などが挙げられる) ;などが挙げられ、 なかでも、 アルキルが好まし く、 メチル、 ェチルなどの ^_4アルキルがさらに好ましく、 とりわけ、 メチル が好ましく用いられる。 (7) Ararukiru (e.g., phenylene Lou - 4 alkyl (e.g., benzyl, and the like Fuene chill etc.)); and the like. Among these, alkyl rather preferred, such as methyl, Echiru ^ _ 4 Alkyl is more preferred, and methyl is particularly preferred.
該炭化水素基は置換基を有していてもよく、 かかる置換基としては、 例えば、 ハロゲン (例、 フッ素, 塩素、 臭素、 ヨウ素など) 、 ニトロ、 シァノ、 水酸基、 置換されていてもよいチオール基 (例、 チオール、 アルキルチオなど) 、 置換されていてもよいアミノ基 (例、 ァミノ、 モノじ 4アルキルァミノ、 ジじ丄 _4アルキルァミノ、 テトラヒドロピロ一ル、 ピぺラジン、 ピぺリジン、 モルホリ ン、 チオモルホリン、 ピロ一ル、イミダゾールなどの 5〜 6員の環状ァミノなど)、 エステル化またはアミド化されていてもよいカルボキシル基(例、カルボキシル、 アルコキシカルボニル、 力ルバモイル、モノ C i_4アルキル力ルバモイル、 ジ Ci— 4アルキル力ルバモイルなど)、ハロゲン原子または Cぃ4アルコキシで置 換されていてもよい Cぃ4アルキル (例、 トリフルォロメチル、 メチル、 ェチル など)、ハロゲン原子または — 4アルコキシで置換されていてもよい C 4アル コキシ (例、 メトキシ、 エトキシ、 トリフルォロメトキシ、 トリフルォロェトキ シなど) 、 ホルミル、 C24アルカノィル (例、 ァセチル、 プロピオニルなど) 、 アルキルスルホニル (例、 メタンスルホニル、 エタンスルホニルなど) 、 Ci_4アルキルスルフィエル (例、 メタンスルフィニル、 ェ夕ンスルフィニルな ど) などが挙げられ、 置換基の数としては、 1〜 3個が好ましい。 The hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), nitro, cyano, hydroxyl, and optionally substituted thiol. Group (eg, thiol, alkylthio, etc.), amino group which may be substituted (eg, amino, 4 monoalkylamino, 4 dialkylamino, tetrahydropyrrol, piperazine, piperidine, morpholine , thiomorpholine, pyrosulfate Ichiru, etc. 5-6 membered cyclic Amino, such as imidazole), esterified or amidated carboxyl group which may be (for example, carboxyl, alkoxycarbonyl, force Rubamoiru, mono C i_ 4 alkyl force Rubamoyl, di-Ci- 4 alkyl radical, etc.), halogen atom or C ぃ4 alkoxy C ぃ4 alkyl (eg, trifluoromethyl, methyl, ethyl, etc.), halogen atom or C 4 alkoxy which may be substituted with — 4 alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, trifluoromethoxy) and triflate Ruo Roe butoxy), formyl, C 2 - 4 Arukanoiru (eg, Asechiru, propionyl and the like), alkylsulfonyl (e.g., methanesulfonyl, etc. ethanesulfonyl) CI_ 4 alkylsulfide el (eg, methanesulfinyl, E And the like. The number of substituents is preferably 1 to 3.
上記式中、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4はそれぞれ互いに結合して、 例えば、 低級 (C2_6) アルキレン (例、 ジメチレン、 卜リメチレン、 テトラメチレンな ど) 、 低級 (C26) アルケニレン (例、 — CH2— CH=CH―、 — CH2— C H2-CH=CH- — CH2— CH=CH— CH2—など) 、 低級 (C46) アル カジエ二レン(例、 一 CH=CH— CH=CH—など) など、 好ましくは低級(CIn the above formula, R 2 and R 3, R 4 and R 5 or R 2 and R 4 are bonded to each other, for example, lower (C 2 _ 6) alkylene (e.g., dimethylene, Bok Rimechiren, etc. tetramethylene ), Lower (C 26 ) alkenylene (eg, — CH 2 — CH = CH—, — CH 2 — CH 2 —CH = CH— — CH 2 — CH = CH—CH 2 —, etc.), lower (C 46 ) Al cadienylene (eg, CH = CH— CH = CH— etc.), preferably lower (C
!_6) アルキレン、 さらに好ましくは低級 (C2 ) アルキレンを形成することに より、 隣接する炭素原子と共に環を形成してもよい。 また、 これらの 2価の基は 置換基を有していてもよく、 かかる置換基としては、 例えば水酸基、 ハロゲン、 アルキル、 C i _ 4アルコキシなどが挙げられる。 ! _ 6 ) to form alkylene, more preferably lower (C 2 ) alkylene Thus, a ring may be formed with adjacent carbon atoms. These divalent groups may have a substituent, and examples of the substituent, for example a hydroxyl group, a halogen, an alkyl, and a C i _ 4 alkoxy.
上記式中、 X、 X'、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7で示される 「ハロゲン原子」 と しては、 例えば、 フッ素, 塩素、 臭素、 ヨウ素などが挙げられる。 In the above formula, the “halogen atom” represented by X, X ′, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 includes, for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. Can be
上記式中、 R2、 R R4、 R5、 R6および R7で示される 「置換されていてもよいアミ ノ基」 としては、 前記した 「置換されていてもよい炭化水素基」 で置換されてい てもよぃァミノ基などが挙げられ、 置換基の数としては、 0〜 2個の何れでもよ く、 置換基が 2個存在する場合、 2個の置換基が同一でも異なっていてもよい。 また、 2個の置換基は互いに結合して隣接する窒素原子とともに 5〜 7員 (好ま しくは 5〜6員) の環状アミノ (例、 テトラヒドロピロ一ル、 ピぺラジン、 ピぺ リジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピロ一ル、 イミダゾールなど) を形成し ていてもよい。 In the above formula, the `` optionally substituted amino group '' represented by R 2 , RR 4 , R 5 , R 6 and R 7 may be substituted with the aforementioned `` optionally substituted hydrocarbon group '' And the number of substituents may be any of 0 to 2, and when there are two substituents, the two substituents may be the same or different. Is also good. Further, the two substituents are bonded to each other to form a 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) cyclic amino group (eg, tetrahydropyrrol, piperazine, piperidine, morpholine) together with an adjacent nitrogen atom. Thiomorpholine, pyrrole, imidazole, etc.).
上記式中、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7で示される 「置換されていてもよい水酸 基」 としては、 前記した 「置換されていてもよい炭化水素基」 で置換されていて もよい水酸基などが挙げられる。 In the above formula, the `` optionally substituted hydroxyl group '' represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is the aforementioned `` optionally substituted hydrocarbon group '' And a hydroxyl group which may be substituted.
上記式中、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7で示される 「置換されていてもよいチォ ール基」 としては、 前記した 「置換されていてもよい炭化水素基」 で置換されて いてもよいチオール基などが挙げられる。 In the above formula, the `` optionally substituted thiol group '' represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 includes the aforementioned `` optionally substituted hydrocarbon '' And a thiol group which may be substituted with a “group”.
上記式中、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7で示される 「置換されていてもよい複素 環基」 における 「複素環」 としては、 酸素原子、 硫黄原子、 窒素原子等から選ば れたヘテロ原子 1ないし 3種 (好ましくは 1ないし 2種) を少なくとも 1個 (好 ましくは 1ないし 4個、 さらに好ましくは 1ないし 2個) 含む 5〜 7員の芳香族 複素環、 飽和または不飽和の非芳香族複素環(脂肪族複素環)などが挙げられる。 ここで 「芳香族複素環」 としては、 5〜 6員の芳香族単環式複素環 (例えばフ ラン、 チォフェン、 ピロール、 ォキサゾ一ル、 イソォキサゾ一ル、 チアゾール、 イソチアゾール、 イミダゾ一ル、 ピラゾール、 1, 2 , 3 _ォキサジァゾール、 1 , 2 , 4—ォキサジァゾ一ル、 1 , 3 , 4—ォキサジァゾール、 フラザン、 1, 2, 3 - チアジアゾール、 1 , 2 , 4—チアジアゾール、 1 , 3 , 4—チアジアゾール、 1 , 2 , 3 _卜リアゾ一ル、 1 , 2, 4一卜リアゾール、 テトラゾ一ル、 ピリジン、 ピリ ダジン、 ピリミジン、 ピラジン、 卜リアジン等) などが挙げられ、 「非芳香族複 素環」 としては、 例えばピロリジン、 テトラヒドロフラン、 チオラン、 ピベリジ ン、 テトラヒドロピラン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺラジン、 ピラン等 の 5〜7員 (好ましくは 5〜 6員) の飽和あるいは不飽和 (好ましくは飽和) の 非芳香族複素環 (脂肪族複素環) など、 あるいは前記した芳香族単環式複素環の 一部又は全部の二重結合が飽和した 5〜 6員の非芳香族複素環などが挙げられ、 該複素環としては、 5〜6員の芳香環が好ましく、 さらにフラン、 チォフェン、 ピロール、 ピリジン (好ましくは、 6員環) などが好ましい。 In the above formula, the “heterocycle” in the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom 5- to 7-membered aromatic containing at least 1 (preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2) of 1 to 3 (preferably 1 to 2) heteroatoms selected from atoms and the like Examples include a heterocyclic ring, a saturated or unsaturated non-aromatic heterocyclic ring (aliphatic heterocyclic ring), and the like. Here, the “aromatic heterocycle” is a 5- to 6-membered aromatic monocyclic heterocycle (for example, furan, thiophene, pyrrole, oxazolyl, isoxazolyl, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole 1,2,3_oxaziazol, 1,2,4-oxaziazol, 1,3,4-oxaziazol, furazane, 1,2,3-thiadiazole, 1,2,4-thiadiazole, 1,3,4 —Thiadiazole, 1, 2,3_triazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, triazine, etc.), and the “non-aromatic complex ring”. For example, 5- to 7-membered (preferably 5- to 6-membered) saturated or unsaturated (preferably saturated) non-saturated compounds such as pyrrolidine, tetrahydrofuran, thiolane, piberidine, tetrahydropyran, morpholine, thiomorpholine, piperazine, and pyran. An aromatic heterocyclic ring (aliphatic heterocyclic ring) or the like, or a 5- to 6-membered non-aromatic heterocyclic ring in which part or all of the above-mentioned aromatic monocyclic heterocyclic ring is saturated with a double bond. As the heterocyclic ring, a 5- to 6-membered aromatic ring is preferable, and furan, thiophene, pyrrole, pyridine (preferably a 6-membered ring) and the like are preferable.
該複素環が有していてもよい置換基としては、 前述の 「置換されていてもよい 炭化水素基」 が有していてもよい置換基と同様な置換基などが挙げられ、 置換基 の数としては、 1ないし 3個が挙げられる。  Examples of the substituent that the heterocyclic ring may have include the same substituents as the substituent that the aforementioned “optionally substituted hydrocarbon group” may have, and the like. The number may be one to three.
上記式中、 R1としては、 エステル化またはアミド化されていてもよいカルボキ シル基、 シァノ基などが好ましく、 エステル化またはアミド化されたカルボキシ ル基、 シァノ基などがさらに好ましく、 とりわけエステル化されたカルボキシル 基が好ましい。 R8としては、 水素原子が好ましく、 R2、 R3、 R4および R5としては、 水素原子または置換されていてもよい炭化水素基が好ましく、 水素原子がより好 ましく、 R6および R7としては、 互いに結合して置換されていてもよいベンゼン環 を形成していることが好ましい。 R9または R9aとしては、 P-トルエンスルホニル基、 C,_6アルキル基、 ホルミル基などが好ましく、 p -トルエンスルホニル基、 _6アル キル基などがさらに好ましく、 とりわけ P-トルエンスルホニル基が好ましい。 R" としては、 水素原子が好ましい。 In the above formula, R 1 is preferably a carboxyl group or a cyano group which may be esterified or amidated, more preferably a carboxyl group or a cyano group which has been esterified or amidated, and particularly preferably esterified. Preferred are carboxyl groups. R 8 is preferably a hydrogen atom, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom, R 6 and R 7 is preferably bonded to each other to form an optionally substituted benzene ring. The R 9 or R 9a, P- toluenesulfonyl group, C, _ 6 alkyl groups, such as formyl group are preferable, p - toluenesulfonyl group, more preferably such _ 6 Al kill group, is especially P- toluenesulfonyl group preferable. R "is preferably a hydrogen atom.
本明細書中で用いられる 「置換されていてもよいベンゼン環」 が有していても よい置換基としては、 前述の 「置換されていてもよい炭化水素基」 が有していて もよい置換基と同様な置換基;スぺーサー (例えば、 直鎖部分を構成する原子数 が 1ないし 4個である 2価の基など) を介して結合していてもよい、 前述の 「置 換されていてもよいァリール基」 (好ましくは、 直接結合する、 前述の 「置換さ れていてもよいァリール基」 ) などが挙げられるが、 なかでも、 電子供与基であ ることが好ましい。 置換基の数としては、 1ないし 4個が挙げられる。 ここで、 「スぺ一サ一」 としては、 例えば、 ― (CH2) a— [&は1〜4の整 数 (好ましくは 1〜2の整数) を示す] 、 ― (CH2) b_X"— [bは 0~3の整 数 (好ましくは 0〜1の整数) を示し、 X"は置換されていてもよいイミノ基(例、 低級(C^)低級アルキル、低級(C3_7) シクロアルキル、 ホルミル、低級(C 2_7) 低級アルカノィル、 低級((:ぃ 低級アルコキシ—カルボニルなどで置換 されていてもよいイミノ基など) 、 カルボ二ル基、 酸素原子または酸化されてい てもよい硫黄原子 (例、 — S(〇)n— (nは 0〜2の整数を示す) など) を示す] 、 — CH = CH―、 一 C三 C一、 -CO-NH-, — S〇2— NH—など (好まし くは— (CH2) b— X"—、 さらに好ましくは一 CH2— O—) が挙げられる。 こ れらの基が 「置換されていてもよいベンゼン環」 と結合するのは、 左右何れの結 合手であってもよいが、 右側の結合手を介して 「置換されていてもよいベンゼン 環」 と結合するのが好ましい。 As the substituent which the “optionally substituted benzene ring” used in the present specification may have, the above-mentioned “optionally substituted hydrocarbon group” may have the optional substituent A substituent similar to the group; which may be bonded via a spacer (for example, a divalent group having 1 to 4 atoms constituting a straight-chain portion); An aryl group which may be optionally bonded (preferably, an aryl group which may be directly substituted or the above-mentioned "aryl group which may be substituted"), among which an electron donating group is preferable. Examples of the number of substituents include 1 to 4. Here, “spacer” is, for example, — (CH 2 ) a — [& represents an integer of 1 to 4 (preferably an integer of 1 to 2 )], — (CH 2 ) b _X "— [b represents an integer of 0 to 3 (preferably an integer of 0 to 1), and X" represents an optionally substituted imino group (eg, lower (C ^) lower alkyl, lower (C 3 _ 7 ) cycloalkyl, formyl, lower (C 2 _ 7 ) lower alkanol, lower (such as: imino group optionally substituted by lower alkoxy-carbonyl, etc.), carboxyl group, oxygen atom or oxidized Represents an optional sulfur atom (eg, —S (〇) n — (n is an integer from 0 to 2) etc.), — CH = CH—, one C3 C1, and —CO-NH— , — S〇 2 — NH— and the like (preferably — (CH 2 ) b — X "—, more preferably one CH 2 —O—). Good benzene ring As attached, it may be a right or left binding hand but, preferably via the right bond to bind to "benzene ring which may be substituted".
上記式中、 環 Aで示される 「置換されていてもよいベンゼン環」 としては、 環 Bで示される 「置換されていてもよいベンゼン環」 が直接または前述のスぺーサ 一を介して結合 (好ましくは、 直接結合) したベンゼン環が好ましく、 環 Bの置 換位置としては、 式  In the above formula, the `` optionally substituted benzene ring '' represented by ring A includes the `` optionally substituted benzene ring '' represented by ring B directly or via the aforementioned spacer. A benzene ring (preferably a direct bond) is preferable. The substitution position of ring B is represented by the formula
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で示される置換位置が好ましい。 Is preferred.
上記式中、 環 Bで示される 「置換されていてもよいベンゼン環」 としては、 ハ ロゲン原子または C卜4アルコキシで置換されていてもよい C卜4アルキル(例、 トリフルォロメチル、 メチル、 ェチルなど) 等の置換基を有していてもよいベン ゼン環が好ましく、 置換基が 1個の場合、 置換位置としては、 パラ位が好ましい。 上記式中、 環 Cで示される 「置換されていてもよいベンゼン環」 としては、 環 Bで示される 「置換されていてもよいベンゼン環」 と同様なものが好ましく、 な かでも、 パラ位に アルキル基を有するベンゼン環が好ましく、 とりわけ、 p -トリル基が好ましい。 In the above formula, the “optionally substituted benzene ring” represented by ring B includes a halogen atom or C 4 alkyl optionally substituted with C 4 alkoxy (eg, trifluoromethyl, methyl Or a benzene ring which may have a substituent such as ethyl. When the number of the substituent is one, the substitution position is preferably the para position. In the above formula, the `` optionally substituted benzene ring '' represented by ring C is preferably the same as the `` optionally substituted benzene ring '' represented by ring B. Of these, a benzene ring having an alkyl group at the para-position is preferable, and a p-tolyl group is particularly preferable.
また、 R 6と R 7が結合して形成する環としては、 例えば、 C 57シクロアルケ ン (例、 1ーシクロペンテン、 2—シクロペンテン、 3—シクロペンテン、 2— シクロへキセン、 3—シクロへキセン等) 、 C 5 _ 6シクロアルカジエン (例、 2 , 4 —シクロペン夕ジェン、 2 , 4—シクロへキサジェン、 2 , 5—シクロへキサジ ェン等) などの 5〜 7員 (好ましくは 5〜 6員) の不飽和の脂環式炭化水素;ベ ンゼンなどの 6員の芳香族炭化水素;酸素原子、 硫黄原子、 窒素原子等から選ば れたヘテロ原子 1ないし 3種 (好ましくは 1ないし 2種) を少なくとも 1個 (好 ましくは 1ないし 4個、 さらに好ましくは 1ないし 2個) 含む 5〜 7員の芳香族 複素環、 不飽和の非芳香族複素環 (脂肪族複素環) 等;などが挙げられる。 As the ring R 6 and R 7 are formed in combination, for example, C 5 - 7 Shikuroaruke emissions (eg, -1-cyclopentene, 2-cyclopentene, 3-cyclopentene, 2-cyclohexene, 3-cyclohexylene cyclohexene, etc.), C 5 _ 6 cycloalkadiene (e.g., 2, 4 - Shikuropen evening Zhen, 2, 4-cycloheteroalkyl Kisajen, 2, 5-cycloheteroalkyl Kisaji E down, etc.) for 5-7 membered, such as (preferably 5- to 6-membered) unsaturated alicyclic hydrocarbon; 6-membered aromatic hydrocarbon such as benzene; 1 to 3 (preferably 1 to 3) heteroatoms selected from oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like. Or 2 or more) of at least one (preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2), a 5- to 7-membered aromatic heterocyclic ring, unsaturated non-aromatic heterocyclic ring (aliphatic heterocyclic ring) And the like.
ここで 「芳香族複素環」 としては、 5〜 6員の芳香族単環式複素環 (例えばフ ラン、 チォフェン、 ピロール、 ォキサゾール、 イソォキサゾール、 チアゾール、 イソチアゾール、 イミダゾ一ル、 ピラゾール、 1, 2 , 3—ォキサジァゾ一ル、 1, 2 , 3—チアジアゾール、 1, 2, 3 —トリァゾール、 ピリジン、 ピリダジン、 ピリ ミジン、 ピラジン等) などが挙げられ、 「非芳香族複素環」 としては、 例えば前 記した芳香族単環式複素環の一部の二重結合が飽和した 5〜 6員の非芳香族複素 環などが挙げられる。  Here, the “aromatic heterocyclic ring” is a 5- to 6-membered aromatic monocyclic heterocyclic ring (for example, furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isooxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, 1,2 , 3-oxoxadiazole, 1,2,3-thiadiazole, 1,2,3-triazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, etc.), and the "non-aromatic heterocyclic ring" Examples thereof include 5- to 6-membered non-aromatic heterocycles in which some of the double bonds of the aromatic monocyclic heterocycle described above are saturated.
R 6と R 7が結合して形成する環としては、 5〜 6員の芳香環が好ましく、 さら にベンゼン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピリジン (好ましくは、 6員環) などが好ましく、 とりわけベンゼンが好ましい。 The ring formed by the bonding of R 6 and R 7 is preferably a 5- to 6-membered aromatic ring, more preferably benzene, furan, thiophene, pyrrole, pyridine (preferably a 6-membered ring) and the like. Is preferred.
R 6と R 7が結合して形成する環は置換基を有していてもよく、 かかる置換基と しては、 前記した 「置換されていてもよいベンゼン環」 における 「ベンゼン環」 が有していてもよい置換基と同様な置換基が挙げられ、 1〜 3個同一または異な つた置換基が、 置換可能ないずれの位置に置換していてもよい。 The ring formed by the bonding of R 6 and R 7 may have a substituent. Examples of the substituent include the “benzene ring” in the “optionally substituted benzene ring” described above. The same substituents as the substituents which may be substituted are mentioned, and 1 to 3 identical or different substituents may be substituted at any substitutable position.
本明細書中で用いられる脱離基の例としては、 ハロゲン原子 (例、 フッ素、 塩 素、 臭素、 ヨウ素等) 、 式 _〇 (S Om) R [式中、 mは 1又は 2を示し、 Rは 置換されていてもよい炭化水素基 (好ましくはハロゲン化されていてもよい C 4アルキル、 更に好ましくはトリフルォロメチル) を示す] で表される基などが 挙げられ、 なかでも、 ハロゲン原子が好ましく、 とりわけ、 臭素原子が好ましい。 また、 式 Examples of the leaving group used in the present specification include a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), a formula _〇 (SO m ) R, wherein m represents 1 or 2. And R represents an optionally substituted hydrocarbon group (preferably an optionally halogenated C 4 alkyl, more preferably trifluoromethyl). Among them, a halogen atom is preferable, and a bromine atom is particularly preferable. Also, the expression
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[式中、 各記号は前記と同意義] で表される化合物が還元的 N-アルキル化反応に 付される場合は、 Yと R 5が隣接する炭素原子と共にカルボ二ル基を形成し、 式 [Wherein the symbols are as defined above], when the compound represented by the formula (1) is subjected to a reductive N-alkylation reaction, Y and R 5 together with adjacent carbon atoms form a carbonyl group; formula
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[式中、 各記号は前記と同意義を示す] で表される構造を有していてもよい。 こ のように、 Yとしての脱離基には、 R 5とともに形成するォキソ基も含まれるが、 この場合、 還元的 N-アルキル化反応後に得られる化合物においては、 R 5は水素 原子を示し、 還元的 N-アルキル化反応後には、 式 [Wherein each symbol has the same meaning as described above]. As this, the leaving group as Y, but are also Okiso group formed together with R 5, in this case, the compound obtained after reductive N- alkylation reaction, R 5 represents a hydrogen atom , After the reductive N-alkylation reaction,
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ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
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[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩などが得られる。 上記式中、 R9または R9aで示される置換されていてもよいァシル基としては、式[Wherein each symbol is as defined above], or a salt thereof. In the above formula, the optionally substituted sacyl group represented by R 9 or R 9a
― ( C O) R ' (式中、 R 'は水素原子、 置換されていてもよい炭化水素基また は置換されていてもよい複素環基を示す) で表される基などが挙げられ、 R ' で 示される 「置換されていてもよい複素環基」 としては、 R2、 R3、 K R5、 R6および で示される 「置換されていてもよい複素環基」 と同様なものなどが挙げられる。 上記式中、 R9または R9aで示される 「置換スルホニル基」 としては、 式一 (S〇-(CO) R '(wherein, R' represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group), and the like. As the “optionally substituted heterocyclic group” represented by ′, those similar to the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 2 , R 3 , KR 5 , R 6 and No. In the above formula, the “substituted sulfonyl group” represented by R 9 or R 9a is represented by the formula (S (
2 ) R " (式中、 R " は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていて もよい複素環基を示す) で表される基などが挙げられ、 R " で示される 「置換さ れていてもよい複素環基」 としては、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7で示される 「置 換されていてもよい複素環基」 と同様なものなどが挙げられる。 2 ) a group represented by R "(wherein, R" represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group), and the "substituted" represented by R " Examples of the `` optionally substituted heterocyclic group '' include the same as the `` optionally substituted heterocyclic group '' represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 Is mentioned.
上記式中、 R18で示される 「低級アルキル」 としては、 低級 (じい アルキル などが挙げられる。 In the above formula, the “lower alkyl” represented by R 18 includes lower (dialkyl) and the like.
また、 上記の如く例示した置換基の種類に応じ、 当該置換基を有する化合物が 塩基性化合物となる場合は、常法に従い酸を使用して塩に変換することができる。 かかる酸としては、 反応に支障を来たさないものであれば、 何れの酸であっても よく、 例えば塩酸、 臭化水素酸、 リン酸、 硫酸、 硝酸、 スルファミン酸等の無機 酸、 ギ酸、 酢酸、 トリフルォロ酢酸、 酒石酸、 クェン酸、 フマール酸、 マレイン 酸、 コハク酸、 リンゴ酸、 P—トルエンスルホン酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼ ンスルホン酸等の有機酸、 ァスパラギン酸、 グルタミン酸等の酸性アミノ酸など が挙げられる。 また、 得られる化合物が塩である場合は常法に従って遊離塩基へ 変換してもよい。 Further, when the compound having the substituent is a basic compound according to the type of the substituent exemplified above, it can be converted to a salt using an acid according to a conventional method. Such an acid may be any acid as long as it does not hinder the reaction. For example, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid, and sulfamic acid, and formic acid Acetic acid, trifluoroacetic acid, tartaric acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, organic acids such as P-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, etc., and acidic amino acids such as aspartic acid and glutamic acid. Is mentioned. When the obtained compound is a salt, it is converted to a free base according to a conventional method. It may be converted.
一方、 上記の如く例示した置換基の種類に応じ、 当該置換基を有する化合物が 酸性化合物となる場合は、常法に従い塩基を使用して塩に変換することができる。 かかる塩基との塩としては、 反応に支障を来たさないものであれば、 何れの塩基 との塩であってもよく、 例えば無機塩基との塩、 有機塩基との塩、 塩基性ァミノ 酸との塩などが挙げられる。 無機塩基との塩の好適な例としては、 例えばナトリ ゥム塩、 カリウム塩などのアルカリ金属塩;カルシウム塩、 マグネシウム塩など のアルカリ土類金属塩;ならびにアルミニウム塩、 アンモニゥム塩などが挙げら れる。 有機塩基との塩の好適な例としては、 例えばトリメチルァミン、 トリェチ ルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 エタノールァミン、 ジエタノールァミン、 トリ エタノールァミン、 ジシクロへキシルァミン、 N, Ν ' -ジベンジルエチレンジアミ ンなどとの塩が挙げられる。 塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、 例えば アルギニン、 リジン、 オル二チンなどとの塩が挙げられる。 また、 得られる化合 物が塩である場合は常法に従って遊離酸へ変換してもよい。  On the other hand, when the compound having the substituent is an acidic compound according to the type of the substituent exemplified above, it can be converted to a salt using a base according to a conventional method. The salt with a base may be a salt with any base as long as it does not hinder the reaction, for example, a salt with an inorganic base, a salt with an organic base, a basic amino acid And the like. Suitable examples of the salt with an inorganic base include, for example, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt; alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt; and aluminum salt, ammonium salt and the like. . Preferred examples of the salt with an organic base include, for example, trimethylamine, triethylamine, pyridine, picoline, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dicyclohexylamine, N, N′-dibenzylethylenediamine. Salts with amines and the like can be mentioned. Preferable examples of the salt with a basic amino acid include salts with arginine, lysine, orditin and the like. When the obtained compound is a salt, it may be converted to a free acid according to a conventional method.
上記 (1 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in the above (1) is performed, for example, under the following reaction conditions.
( 1 ) 式  ( 1 set
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[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を、 炭酸ジエステ ルの存在下で閉環反応に付し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, is subjected to a ring closure reaction in the presence of a diester carbonate,
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[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
上記 (1) 記載の反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基とし ては、 例えば金属水素化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 などの アルカリ金属の水素化物など) 、 金属炭化水素 (例、 n-ブチルリチウム、 などの Ci_4アルキルとアルカリ金属が直接結合している化学結合をもつ化合物など) 、 アルコラ一ト類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t- BuONa、 t-BuOK, などの アルコール の水酸基の水素がアルカリ金属で置換した化合物など) 、 アルカリ金属の水酸化 物 (例、 NaOH、 K0H、 など) 、 塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩など のアルカリ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシウム塩などのアルカリ土類金属 塩との炭酸塩など) 、 塩基性炭酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などの アルカリ金属塩との炭酸水素塩など) 、 有機塩基 (例、 トリメチルァミン、 トリ ェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 N—メチル ピロリジン、 N—メチルモルホリン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン— 5—ェン、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2] オクタン、 1, 8 _ジァザビシク 口 [5. 4. 0] — 7—ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも金属水素 化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 など) 、 アルコラ一ト類 (例、 NaOMe NaOEt、 t- BuONa、 t-BuOK、 など) などが好ましく用いられ、 とりわけアル コラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t-BuONa, t- BuOK、 など) が好ましく用いられる。 上記 (1) 記載の反応において用いられる塩基の量は、 約 0.1〜100当量、 好ま しくは 1〜5当量である。 The reaction described in the above (1) is preferably performed in the presence of a base. Examples of the base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), metal hydrocarbon (e.g., n- butyl lithium, compounds CI_ 4 alkyl and alkali metal has a chemical bond directly attached, such as such), Arcola Ichito compound (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t- BuOK, etc. Alcohols such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal, alkali metal hydroxides (eg, NaOH, K0H, etc.), and basic carbonates (eg, sodium salts, potassium salts, etc.) Metal salts or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.), basic bicarbonates (eg, alkali salts such as sodium salts, potassium salts, etc.) Bicarbonates with metal salts, etc.), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4. 3.0) non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8_diazabic mouth [5.4.0] — 7-decene, etc.) Among them, metal hydride compounds (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), alcoholates (eg, NaOMe NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used, and particularly, alcoholates ( For example, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used. The amount of the base used in the reaction described in the above (1) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
反応溶媒としては、 炭酸ジエステルを含む溶媒が挙げられ、 炭酸ジエステルを 単独で用いてもよいが、 適宜の混合溶媒を用いてもよい。 混合に用いる溶媒とし ては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 クロ口ホルム、 な ど) 、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水素 (例、 ベンゼ ン、 トルエン、 など) 、 エーテル類 (例、 テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチル エーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 ギ酸エステル (例、 ギ酸 アルキルエステルなど) 、 シユウ酸ジエステル (例、 シユウ酸ジ C i _ 4アル キルエステルなど) 、 プロトン性溶媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノ ール、 イソプロパノール、 n—ブ夕ノール、 2—メ卜キシェ夕ノールなどのアル コール類など) などが用いられるが、 なかでも、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) などが好ましく用いられる。 炭酸ジエステルとしては、 Z _ 0 ( C O ) 〇—Ζ ' [式中、 Ζおよび Z ' はそれ ぞれ置換されていてもよい炭化水素基を示す]で表される化合物などが挙げられ るが、 本反応を実施する反応温度において液体であるものが望ましい。 又、 Ζお よび Z ' は同一であることが好ましく、 炭酸ジエステルとしては、 炭酸ジメチル、 炭酸ジェチル、などの炭酸ジ アルキルエステルなどが好ましく用いられる。 反応温度は通常約- 20〜200°C、 好ましくは約 10〜100°Cであり、 反応時間は通 常約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。 Examples of the reaction solvent include a solvent containing a carbonic acid diester. It may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used. Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid esters (eg, formic acid alkyl ester), oxalic acid diesters (eg, such as oxalic acid di C i _ 4 Al kill ester), protic solvents (e.g., methanol, ethanol, propanol Lumpur, isopropanol, n- blanking evening Nord , 2-methoxy alcohol, etc.) are used. And polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.) are preferably used. Examples of the carbonic acid diester include compounds represented by Z — 0 (CO) 〇—〇 ′, wherein Ζ and Z ′ each represent a hydrocarbon group which may be substituted. What is liquid at the reaction temperature for carrying out this reaction is desirable. In addition, Ζ and Z ′ are preferably the same, and as the diester carbonate, dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and getyl carbonate are preferably used. The reaction temperature is usually about -20 to 200 ° C, preferably about 10 to 100 ° C, and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
上記 (6 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in the above (6) is performed, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000033_0001
Figure imgf000033_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を、 炭酸ジエステ ルの存在下で閉環反応に付し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, To a ring closure reaction in the presence of
Figure imgf000034_0001
Figure imgf000034_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
上記 (6) 記載の反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基とし ては、 例えば金属水素化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 などの アルカリ金属の水素化物など) 、 金属炭化水素 (例、 n-プチルリチウム、 などの C i_4アルキルとアルカリ金属が直接結合している化学結合をもつ化合物など)、 アルコラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t-BuONa, t-BuOK, などの アルコール の水酸基の水素がアルカリ金属で置換した化合物など) 、 アルカリ金属の水酸化 物 (例、 NaOH、 K0H、 など) 、 塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩など のアル力リ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシゥム塩などのアル力リ土類金属 塩との炭酸塩など) 、 塩基性炭酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などの アルカリ金属塩との炭酸水素塩など) 、 有機塩基 (例、 トリメチルァミン、 トリ ェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 N—メチル ピロリジン、 N—メチルモルホリン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン、 1, 4—ジァザビシクロ [ 2. 2. 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシク 口 [ 5. 4. 0] — 7—ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも金属水素 化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 など) 、 アルコラート類 (例、 NaOMe, NaOEt、 t-BuONa, t- BuOK、 など) などが好ましく用いられ、 とりわけアル コラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t-BuONa, t- BuOK、 など) が好ましく用いられる。 上記 (6) 記載の反応において用いられる塩基の量は、 約 0. 1〜100当量、 好ま しくは 1〜5当量である。 反応溶媒としては、 炭酸ジエステルを含む溶媒が挙げられ、 炭酸ジエステルを 単独で用いてもよいが、 適宜の混合溶媒を用いてもよい。 混合に用いる溶媒とし ては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 クロ口ホルム、 な ど) 、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水素 (例、 ベンゼ ン、 トルエン、 など) 、 エーテル類 (例、 テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチル エーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 ギ酸エステル (例、 ギ酸 (:ぃ 4アルキルエステルなど) 、 シユウ酸ジエステル (例、 シユウ酸ジ アル キルエステルなど) 、 プロトン性溶媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノ —ル、 イソプロパノール、 n—ブ夕ノール、 2—メトキシエタノールなどのアル コール類など) などが用いられるが、 なかでも、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) などが好ましく用いられる。 炭酸ジエステルとしては、 Z—〇 ( C O ) O - Z ' [式中、 Zおよび Z ' はそれ ぞれ置換されていてもよい炭化水素基を示す]で表される化合物などが挙げられ るが、 本反応を実施する反応温度において液体であるものが望ましい。 また、 Z および Z ' は同一であることが好ましく、 炭酸ジエステルとしては、 炭酸ジメチ ル、炭酸ジェチル等の炭酸ジ C i _ 4アルキルエステルなどが好ましく用いられる。 反応温度は通常約- 20〜200°C、 好ましくは約 10〜100°Cであり、 反応時間は通 常約 0. 1〜1 00時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。 The reaction described in the above (6) is preferably carried out in the presence of a base. Examples of such a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), Metal hydrocarbons (eg, n-butyllithium, etc., compounds having a chemical bond in which C i_ 4 alkyl is directly bonded to an alkali metal), alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK) , Such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal, etc., alkali metal hydroxides (eg, NaOH, K0H, etc.), basic carbonates (eg, sodium salts, potassium salts, etc.) Alkaline metal salts such as lithium metal salts, calcium salts, magnesium salts, etc.), basic hydrogen carbonates (eg, alkalis such as sodium salts, potassium salts, etc.) Genus salts, bicarbonates, etc.), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4. 3. 0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo mouth [5.4.0] — 7-decene, etc.) Among them, metal hydride compounds (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.) and alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used, and especially alcoholates (eg, , NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used. The amount of the base used in the reaction described in the above (6) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents. Examples of the reaction solvent include a solvent containing a carbonic acid diester. The carbonic acid diester may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used. Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid Ester (eg, formic acid (: ぃ4 alkyl ester, etc.), oxalic acid diester (eg, dimethyl oxalate), protic solvent (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol) And alcohols such as 2-methoxyethanol). , Polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), etc. As the carbonic acid diester, Z—〇 (CO) O—Z ′ [wherein, Z and Z ′ Represents a hydrocarbon group which may be substituted, respectively], and is preferably a liquid at the reaction temperature at which the present reaction is carried out. is preferably the same as the carbonic acid diester, carbonate-dimethyl-and di C i _ 4 alkyl esters such as carbonate Jechiru are preferably used the reaction temperature is usually about -. 20 to 200 ° C, preferably about 10 To 100 ° C., and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
上記 (7 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in the above (7) is carried out, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000035_0001
Figure imgf000035_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩と、 式
Figure imgf000036_0001
Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, and
Figure imgf000036_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付し、 式  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof, followed by a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000036_0002
Figure imgf000036_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
本反応は、 N-アルキル化反応と脱水縮合の 2工程をワンポッ卜で連続して行う ことができ、 中間体は単離しても、 単離しなくてもよいが、 単離しないでワンポ ットで行うのが好ましい。 また、 本反応は、 Yの違いによって異なる反応条件で 行われる。  In this reaction, the two steps of N-alkylation reaction and dehydration condensation can be performed continuously in one pot, and the intermediate may or may not be isolated. It is preferable to carry out. This reaction is performed under different reaction conditions depending on the difference of Y.
Yがハロゲン原子、 式一 O ( S Om) R [式中、 各記号は前記と同意義] で表さ れる基など (好ましくはハロゲン原子) である場合には、 以下の条件により N -ァ ルキル化した後、 上記 (1 ) 記載の反応条件で閉環することにより行われる。 該 N-アルキル化反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基として は、 例えば金属水素化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウムなどのアル カリ金属の水素化物など) 、 金属炭化水素 (例、 n-ブチルリチウムなどの (:卜4 アルキルとアルカリ金属が直接結合している化学結合をもつ化合物など) 、 アル コラート類 (例、 NaOMe NaOE t t-BuONa, 卜 BuOKなどの C 4アルコールの水酸 基の水素がアルカリ金属で置換した化合物など) 、 アルカリ金属の水酸化物 (例、 NaOH K0Hなど) 、 塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアル力 リ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシゥム塩などのアル力リ土類金属塩との炭 酸塩など) 、 塩基性炭酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアルカリ 金属塩との炭酸水素塩など) 、 有機塩基 (例、 トリメチルァミン、 トリェチルァ ミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 N—メチルピロリジ ン、 N—メチルモルホリン、 1 , 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5—ェン、 1 , 4—ジァザビシクロ [ 2 . 2 . 2 ] オクタン、 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ] 一 7—ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩等のアルカリ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシゥ ム塩等のアルカリ土類金属塩との炭酸塩等、 好ましくは炭酸カリウム) あるいは 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ] — 7—ゥンデセン等とアルコラート類(例、 NaOMe NaOE t、 t-BuONa, t- BuOK等) との混合物などが好ましく用いられる。 上記 (7 ) 記載の反応において用いられる塩基の量は、 約 0. 1〜100当量、 好ま しくは!〜 5当量である。 When Y is a halogen atom, a group (preferably a halogen atom) or the like (preferably a halogen atom) represented by the formula: O (SO m ) R wherein each symbol is as defined above, After the alkylation, the ring closure is carried out under the reaction conditions described in the above (1). The N-alkylation reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of such a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride and potassium hydride, etc.); hydrogen (eg, n- butyl lithium etc. (: such as a compound having a chemical bond Bok 4 alkyl and alkali metal are directly bonded), alcoholates (e.g., NaOMe NaOE t t-BuONa, C such Bok BuOK 4 Alcohols such as compounds in which the hydrogen of the hydroxyl group of an alcohol is replaced with an alkali metal), hydroxides of an alkali metal (eg, NaOH K0H), basic carbonates (eg, sodium salt, potassium salt, etc.) Carbonate with alkaline earth metal salts such as lithium metal or calcium salt, magnesium salt, etc., basic hydrogencarbonate (eg, hydrogencarbonate with alkali metal salt such as sodium salt, potassium salt, etc.) ), Organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidin, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -17-decene, etc., among others, basic carbonates (eg, Alkali metal salts such as sodium salt, potassium salt or calcium salt, carbonate with alkaline earth metal salt such as magnesium salt, etc., preferably potassium carbonate) or 1,8-dia Bicyclo [5 4.0.] - 7-Undesen like and alcoholates (e.g., NaOMe NaOE t, t-BuONa, t- BuOK, etc.) and a mixture of preferably used. The amount of the base used in the reaction described in the above (7) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably! ~ 5 equivalents.
反応溶媒としては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 ク ロロホルム、 など) 、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水 素(例、ベンゼン、 トルエン、など)、エーテル類(例、テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチルエーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチ ルホルムアミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 炭酸ジエステ ル(例、 炭酸ジメチル、 炭酸ジェチルなどの炭酸ジじ卜4アルキルエステルなど) 、 ギ酸エステル (例、 ギ酸 アルキルエステルなど) 、 シユウ酸ジエステル (例、 シユウ酸ジ〇卜4アルキルエステルなど) 、 プロトン性溶媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 イソプロパノール、 n—ブ夕ノール、 2—メトキシ エタノールなどのアルコール類など) などが用いられ、 反応は適宜の混合溶媒を 用いてもよいが、 なかでも、 炭酸ジエステルと極性溶媒 (好ましくは、 DMFなど) との混合溶媒などが好ましく用いられる。 Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), diester carbonate (eg, , Dimethyl carbonate, dimethyl carbonate, etc. dialkyl carbonate 4 alkyl esters, etc.), formic acid esters (eg, alkyl formic acid esters, etc.), oxalic acid diesters (eg, oxalic acid dialkyl 4- alkyl esters, etc.), protic solvents ( For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2 Alcohols such as methoxyethanol). The reaction may be carried out using an appropriate mixed solvent, but among them, a mixed solvent of a diester carbonate and a polar solvent (preferably, DMF or the like) is preferably used. Can be
反応温度は通常約- 20〜200° (:、 好ましくは約 10〜100°Cであり、 反応時間は通 常約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。  The reaction temperature is usually about -20 to 200 ° C (: preferably about 10 to 100 ° C), and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
Yが R 5および隣接する炭素原子と共にカルボ二ル基を形成する場合には、以下 の条件により還元的 N-アルキル化を行った後、 上記 (1 ) 記載の反応条件で閉環 することにより行われる。 (還元的 N-アルキル化後の生成物において、 R 5は水 素原子を示す。 ) When Y forms a carbonyl group together with R 5 and adjacent carbon atoms, after performing reductive N-alkylation under the following conditions, the ring is closed under the reaction conditions described in (1) above. It is done by doing. (In the product after reductive N-alkylation, R 5 represents a hydrogen atom.)
該還元的 N-アルキル化反応 (還元的ァミノ化反応) は、 トリァセトキシ水素化 ホウ素ナトリウム、 シアン化水素化ホウ素ナトリウム、 水素化ホウ素ナトリウム 等の還元的ァミノ化試薬の存在下に行うのが好ましく、 使用する試薬により反応 条件を変えることが望ましい。  The reductive N-alkylation reaction (reductive amination reaction) is preferably performed in the presence of a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc. It is desirable to change the reaction conditions depending on the reagent.
例えばトリァセトキシ水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、 不活性溶媒、 例 えばジクロロメタン, クロ口ホルム, 1 , 2—ジクロロェタン, テトラヒドロフラ ン, ジェチルェ一テル, ジォキサン, ァセトニトリル, ジメチルホルムアミド (D M F ) 等、 あるいはこれらの混合溶媒の中で行うことができる。 本試薬は、 原料 物質 1モルに対して約 1から 2モル等量用いる。 反応は通常約 0 °Cから約 8 0 °C の温度範囲で約 1時間ないし約 4 0時間行われる。 また、 本反応は好ましくは、 不活性ガス (例えば窒素、 アルゴン等) 雰囲気下で行われる。  For example, when sodium triacetoxyborohydride is used, an inert solvent, for example, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, getylether, dioxane, acetonitrile, dimethylformamide (DMF), or a mixture thereof is used. It can be performed in a solvent. Use this reagent in an amount of about 1 to 2 mol equivalent to 1 mol of raw material. The reaction is usually carried out at a temperature in the range of about 0 ° C to about 80 ° C for about 1 hour to about 40 hours. This reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas (eg, nitrogen, argon, etc.).
上記 (8 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  The reaction described in the above (8) is performed, for example, in the following steps.
Expression
Figure imgf000038_0001
Figure imgf000038_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩と、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, and
Figure imgf000038_0002
Figure imgf000038_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 W [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof, W
37  37
炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付し、 式 Following a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester, the formula
Figure imgf000039_0001
Figure imgf000039_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (8 ) 記載の反応は、 例えば上記 (7 ) 記載の反応と同様な反応条件で行 われる。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. The reaction described in the above (8) is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (7).
上記 (9 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in the above (9) is carried out, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000039_0002
Figure imgf000039_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を炭酸ジエステル の存在下で閉環反応に付し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof is subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000040_0001
Figure imgf000040_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
上記 (9) 記載の反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基とし ては、 例えば金属水素化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 などの アルカリ金属の水素化物など) 、 金属炭化水素 (例、 η-ブチルリチウム、 などの C i _4アルキルとアル力リ金属が直接結合している化学結合をもつ化合物など)、 アルコラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t-BuONa、 t- BuOK、 などの — 4アルコール の水酸基の水素がアルカリ金属で置換した化合物など) 、 アルカリ金属の水酸化 物 (例、 NaOH、 K0H、 など) 、 塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩など のアルカリ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシウム塩などのアルカリ土類金属 塩との炭酸塩など) 、 塩基性炭酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などの アルカリ金属塩との炭酸水素塩など) 、 有機塩基 (例、 トリメチルァミン、 トリ ェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 N—メチル ピロリジン、 N—メチルモルホリン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシク 口 [5. 4. 0] — 7 _ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも金属水素 化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 など) 、 アルコラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t-BuONa, t- BuOK、 など) などが好ましく用いられ、 とりわけアル コラート類 (例、 NaOMe、 NaOEt、 t- BuONa、 t-BuOK, など) が好ましく用いられる。 上記 (9) 記載の反応において用いられる塩基の量は、 約 0. 1〜100当量、 好ま しくは 1〜5当量である。 The reaction described in the above (9) is preferably performed in the presence of a base. Examples of such a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride, potassium hydride, etc.), Metal hydrocarbons (eg, η-butyllithium, etc., compounds having a chemical bond in which C i _ 4 alkyl is directly bonded to alcohol metal), alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc. — compounds in which the hydroxyl group hydrogen of 4 alcohols is replaced with an alkali metal, etc., alkali metal hydroxides (eg, NaOH, K0H, etc.), basic carbonates (eg, sodium salt, potassium) Salts such as alkali metal or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.), basic bicarbonates (eg, sodium salts, potassium salts, etc.) Bicarbonate with rukari metal salt), organic base (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4 3. 0] non-1-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabic mouth [5. 4.0] — 7_decene Among them, metal hydride compounds (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used, and especially alcoholates ( For example, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK, etc.) are preferably used. The amount of the base used in the reaction described in the above (9) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
反応溶媒としては、 炭酸ジエステルを含む溶媒が挙げられ、 炭酸ジエステルを 単独で用いてもよいが、 適宜の混合溶媒を用いてもよい。 混合に用いる溶媒とし ては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 クロ口ホルム、 な ど) 、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水素 (例、 ベンゼ ン、 トルエン、 など) 、 エーテル類 (例、 テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチル エーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 ギ酸エステル (例、 ギ酸 アルキルエステルなど) 、 シユウ酸ジエステル (例、 シユウ酸ジ アル キルエステルなど) 、 プロトン性溶媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノ ール、 イソプロパノール、 n—ブ夕ノール、 2—メ卜キシェ夕ノールなどのアル コール類など) などが用いられるが、 なかでも、 極性溶媒 (例、 ジメチルホルム アミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) などが好ましく用いられる。 炭酸ジエステルとしては、 Z— O ( C O ) 〇一 Z ' [式中、 Zおよび Z ' はそれ ぞれ置換されていてもよい炭化水素基を示す]で表される化合物などが挙げられ るが、 本反応を実施する反応温度において液体であるものが望ましい。 又、 Zお よび Z ' は同一であることが好ましく、 炭酸ジエステルとしては、 炭酸ジメチル、 炭酸ジェチル、 などの炭酸ジ アルキルエステルなどが好ましく用いられる。 反応温度は通常約- 20〜200°C、 好ましくは約 10〜100°Cであり、 反応時間は通 常約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。 Examples of the reaction solvent include a solvent containing a carbonic acid diester. It may be used alone, or an appropriate mixed solvent may be used. Solvents used for mixing include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene , Toluene, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), formic acid Esters (eg, alkyl formate), oxalic acid diesters (eg, alkyl oxalate), protic solvents (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2-medium) Alcohols such as turkisena), etc. are used. Anionic solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.) are preferably used. Examples of the carbonic acid diester include compounds represented by Z—O (CO) Z ′, wherein Z and Z ′ each represent a hydrocarbon group which may be substituted. What is liquid at the reaction temperature for carrying out this reaction is desirable. Z and Z ′ are preferably the same, and as the diester carbonate, dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and getyl carbonate are preferably used. The reaction temperature is usually about −20 to 200 ° C., preferably about 10 to 100 ° C., and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
上記 (1 3 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  The reaction described in the above (13) is performed, for example, in the following steps.
Expression
Figure imgf000041_0001
Figure imgf000041_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を、 炭酸ジエステ ルの存在下で閉環反応に付し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, To a ring closure reaction in the presence of
Figure imgf000042_0001
Figure imgf000042_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (1 3 ) 記載の反応は、 例えば上記 (9 ) 記載の反応と同様な反応条件で 行われる。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. The reaction described in (13) above is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in (9) above.
上記 (1 4 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in (14) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000042_0002
Figure imgf000042_0002
ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩と、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Figure imgf000042_0003
Figure imgf000042_0003
ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester to obtain a compound represented by the formula
Figure imgf000043_0001
Figure imgf000043_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
本反応は、 N-アルキル化反応と脱水縮合の 2工程をワンポットで連続して行う ことができ、 中間体は単離しても、 単離しなくてもよいが、 単離しないでワンポ ットで行うのが好ましい。 また、 本反応は、 Yの違いによって異なる反応条件で 行われる。  In this reaction, the two steps of the N-alkylation reaction and the dehydration condensation can be carried out continuously in one pot, and the intermediate may or may not be isolated. It is preferred to do so. This reaction is performed under different reaction conditions depending on the difference of Y.
Yがハロゲン原子、 式 _0 (SOm) R [式中、 各記号は前記と同意義] で表さ れる基など (好ましくはハロゲン原子) である場合には、 以下の条件により N -ァ ルキル化した後、 上記 (1) 記載の反応条件で閉環することにより行われる。 該 N-アルキル化反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基として は、 例えば金属水素化合物 (例、 水素化ナトリウム、 水素化カリウムなどのアル カリ金属の水素化物など) 、 金属炭化水素 (例、 n-ブチルリチウムなどの(:卜4 アルキルとアルカリ金属が直接結合している化学結合をもつ化合物など) 、 アル コラート類 (例、 NaOMe、 NaOEし t-BuONa, t-BuOKなどの Cぃ4アルコールの水酸 基の水素がアル力リ金属で置換した化合物など) 、 アル力リ金属の水酸化物(例、 NaOH, K0Hなど) 、 塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアル力 リ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩との炭 酸塩など) 、 塩基性炭酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアルカリ 金属塩との炭酸水素塩など) 、 有機塩基 (例、 トリメチルァミン、 トリェチルァ ミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 ピコリン、 N—メチルピロリジ ン、 N—メチルモルホリン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0 ] — 7—ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも塩基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩等のアルカリ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシゥ ム塩等のアルカリ土類金属塩との炭酸塩など、 好ましくは炭酸カリウム) あるい は 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ] _ 7—ゥンデセンなどとアルコラ一ト類 (例、 NaOMe, NaOE t , t -BuONa, t-BuOKなど) との混合物などが好ましく用いられる。 上記 (1 4 ) 記載の反応において用いられる塩基の量は、 約 0. 1〜100当量、 好 ましくは 1〜5当量である。 When Y is a halogen atom, a group represented by the formula _0 (SO m ) R, wherein each symbol is as defined above (preferably a halogen atom), an N-alkyl group is obtained under the following conditions: After the conversion, the ring is closed under the reaction conditions described in the above (1). The N-alkylation reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of such a base include metal hydrides (eg, hydrides of alkali metals such as sodium hydride and potassium hydride, etc.); hydrogen (eg, n- butyl lithium etc. (: such as a compound having a chemical bond Bok 4 alkyl and alkali metal are directly bonded), alcoholates (e.g., NaOMe, NAOE and t-BuONa, t-BuOK, etc. A compound in which the hydrogen of the hydroxyl group of the C ぃ4 alcohol has been replaced with an alkali metal), a hydroxide of the alkali metal (eg, NaOH, K0H, etc.), a basic carbonate (eg, sodium salt, Alkali metal salts such as potassium salts or calcium salts, carbonates with alkaline earth metal salts such as magnesium salts, etc.), basic bicarbonates (eg, alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts, etc.) Bicarbonate, etc.), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, N-methylpyrrolidin, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] ] Non-1-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] Octane, 1,8-diazabicyclo [5. 4. 0] — 7-indene, etc.), among which basic carbonates (eg, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt or alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt) Salts, preferably potassium carbonate) or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] _7-ndecene and alcoholates (eg, NaOMe, NaOEt, t-BuONa, t-BuOK) And the like are preferably used. The amount of the base used in the reaction described in the above (14) is about 0.1 to 100 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
反応溶媒としては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 ク ロロホルム、 など) 、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水 素(例、 ベンゼン、 トルエン、など)、エーテル類(例、テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチルエーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチ ルホルムアミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 炭酸ジエステ ル(例、 炭酸ジメチル、 炭酸ジェチルなどの炭酸ジ。14アルキルエステルなど) 、 ギ酸エステル (例、 ギ酸 アルキルエステルなど) 、 シユウ酸ジエステル (例、 シユウ酸ジ アルキルエステルなど) 、 プロトン性溶媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 イソプロパノール、 n—ブタノール、 2—メトキシ エタノールなどのアルコール類など) などが用いられ、 反応は適宜の混合溶媒を 用いてもよいが、 なかでも、 炭酸ジエステルと極性溶媒 (好ましくは、 DMFなど) との混合溶媒などが好ましく用いられる。 Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0), etc.), diester carbonate (eg, , Dimethyl carbonate, dicarbonate such as getyl carbonate, etc., 1 to 4 alkyl esters, etc., formate esters (eg, alkyl formate esters), diester oxalates (eg, dialkyl oxalate, etc.), protic solvents (eg, Methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2 Alcohols such as methoxyethanol), and the like, and an appropriate mixed solvent may be used for the reaction. Among them, a mixed solvent of a diester carbonate and a polar solvent (preferably, DMF or the like) is preferably used. .
反応温度は通常約- 20〜200° (:、 好ましくは約 10〜100 であり、 反応時間は通 常約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。  The reaction temperature is usually about -20 to 200 ° (:, preferably about 10 to 100), and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
Yが R 5および隣接する炭素原子と共にカルボ二ル基を形成する場合には、以下 の条件により還元的 N-アルキル化を行った後、 上記 (1 ) 記載の反応条件で閉環 することにより行われる。 (還元的 N-アルキル化後の生成物において、 R 5は水 素原子を示す。 ) After Y is in the case of forming the carbonylation Le group together with R 5 and the adjacent carbon atoms, subjected to reductive N- alkylation the following conditions, row by ring closure reaction conditions of the above (1), wherein Will be (In the product after reductive N-alkylation, R 5 represents a hydrogen atom.)
該還元的 N-アルキル化反応 (還元的ァミノ化反応) は、 トリァセトキシ水素化 ホウ素ナトリウム、 シアン化水素化ホウ素ナトリウム、 水素化ホウ素ナトリウム 等の還元的ァミノ化試薬の存在下に行うのが好ましく、 使用する試薬により反応 条件を変えることが望ましい。 例えばトリァセトキシ水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、 不活性溶媒、 例 えばジクロロメタン, クロ口ホルム, 1, 2—ジクロロェタン, テトラヒドロフラ ン, ジェチルエーテル, ジォキサン, ァセトニトリル, ジメチルホルムアミド (D M F ) 等、 あるいはこれらの混合溶媒の中で行うことができる。 本試薬は、 原料 物質 1モルに対して約 1から 2モル等量用いる。 反応は通常約 0 °Cから約 8 0 °C の温度範囲で約 1時間ないし約 4 0時間行われる。 また、 本反応は好ましくは、 不活性ガス (例えば窒素、 アルゴン等) 雰囲気下で行われる。 The reductive N-alkylation reaction (reductive amination reaction) is preferably performed in the presence of a reductive amination reagent such as sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, sodium borohydride, etc. It is desirable to change the reaction conditions depending on the reagent. For example, when sodium triacetoxyborohydride is used, an inert solvent such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, getyl ether, dioxane, acetonitrile, dimethylformamide (DMF), or a mixture thereof is used. It can be performed in a solvent. Use this reagent in an amount of about 1 to 2 mol equivalent to 1 mol of raw material. The reaction is usually carried out at a temperature in the range of about 0 ° C to about 80 ° C for about 1 hour to about 40 hours. This reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas (eg, nitrogen, argon, etc.).
上記 (1 5 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  The reaction described in the above (15) is performed, for example, in the following steps.
Expression
Figure imgf000045_0001
Figure imgf000045_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩と、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, and
Figure imgf000045_0002
Figure imgf000045_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付し、 式 [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof, followed by a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000046_0001
Figure imgf000046_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (15) 記載の反応は、 例えば上記 (14) 記載の反応と同様な反応条件 で行われる。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. The reaction described in the above (15) is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (14).
上記 (16) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in (16) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000046_0002
Figure imgf000046_0002
ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を脱保護反応に付 し、 式 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction;
Figure imgf000047_0001
Figure imgf000047_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof.
本反応は、 酸の存在下に行うのが好ましく、 かかる酸としては、 例えば無機酸 (例、 塩酸、 過塩素酸、 硫酸等) 、 有機酸 (例、 メタンスルホン酸、 トリフルォ 口酢酸等) 等が挙げられるが、 なかでも過塩素酸、 硫酸等が好ましく用いられる。 上記 (1 6 ) 記載の反応において用いられる酸の量は、 約 0. 1〜200当量、 好ま しくは 5〜50当量である。  This reaction is preferably performed in the presence of an acid. Examples of such an acid include inorganic acids (eg, hydrochloric acid, perchloric acid, sulfuric acid, etc.), organic acids (eg, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.). Among them, perchloric acid, sulfuric acid and the like are preferably used. The amount of the acid used in the reaction described in the above (16) is about 0.1 to 200 equivalents, preferably 5 to 50 equivalents.
反応溶媒としては、 脂肪族炭化水素 (例、 n-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水 素(例、ベンゼン、 トルエン、など)、極性溶媒(例、 ジメチルホルムアミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 有機酸 (例、 酢酸など) 、 水などが用い られ、 反応は適宜の混合溶媒を用いてもよいが、 なかでも、 n-へキサン、 ベンゼ ン、 トルエン、 酢酸等の溶媒と水との混合溶媒などが好ましく用いられる。  Reaction solvents include aliphatic hydrocarbons (eg, n-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMS0 ), Etc.), organic acids (eg, acetic acid, etc.), water, etc., and an appropriate mixed solvent may be used for the reaction. Among them, solvents such as n-hexane, benzene, toluene, acetic acid, etc. A mixed solvent of water and water is preferably used.
反応温度は通常約 0〜200°C、 好ましくは約 30〜150°Cであり、 反応時間は通常 約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。  The reaction temperature is usually about 0-200 ° C, preferably about 30-150 ° C, and the reaction time is usually about 0.1-100 hours, preferably about 0.5-50 hours.
上記 (2 0 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  The reaction described in the above (20) is performed, for example, in the following steps.
formula
Figure imgf000048_0001
Figure imgf000048_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を脱保護反応に付 し、 式  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction;
Figure imgf000048_0002
Figure imgf000048_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (20) 記載の反応は、 例えば上記 (16) 記載の反応と同様な反応条件 で行われる。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. The reaction described in the above (20) is carried out, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (16).
上記 (21) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in (21) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
formula
Figure imgf000049_0001
Figure imgf000049_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を酸加水分解反応 に付し、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, is subjected to an acid hydrolysis reaction,
Figure imgf000049_0002
Figure imgf000049_0002
ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (21) 記載の反応は、 例えば上記 (16) 記載の反応と同様な反応条件 で行うことができ、 置換基 R1 aを酸加水分解することにより、 カルボキシル基に 変換する反応と窒素原子上の置換スルホ二ル基を酸加水分解することにより、 脱 保護する反応とを同時に進行させることができる。 In which each symbol is as defined above] or a salt thereof. Above (21) reactions described, for example, the aforementioned (16) can be carried out under the same reaction conditions and reactions described, by acid hydrolysis substituents R 1 a, react with the nitrogen atoms to be converted to a carboxyl group By acid hydrolysis of the above substituted sulfonyl group, the reaction for deprotection can proceed simultaneously.
上記 (25) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  The reaction described in the above (25) is performed, for example, in the following steps.
formula
Figure imgf000050_0001
Figure imgf000050_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を酸加水分解反応 に付し、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, is subjected to an acid hydrolysis reaction,
Figure imgf000050_0002
Figure imgf000050_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 上記 (25) 記載の反応は、 例えば上記 (2 1) 記載の反応と同様な反応条件 で行われる。  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. The reaction described in the above (25) is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (21).
上記 (26) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in (26) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
formula
Figure imgf000051_0001
Figure imgf000051_0001
[式中、 各記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩をァシル化 反応に付し、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, for an acylation reaction.
Figure imgf000051_0002
Figure imgf000051_0002
[式中、各記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩を製造する。 本ァシル化反応は通常の酸一アミド形成反応に従って行われる。 該酸ーアミド形 成反応は、 ペプチド合成反応などの任意の公知の方法に従えばよく、 例えば M. Bodanskyおよび M. A. Ondetti著、 ぺフチド ·シンセシス (P印 tide Synthesis) 、 インターサイエンス、 ニューヨーク、 1966年; F.M.Finn及び K. Hoftnann著 ザ ·プロティンズ (The Proteins) 、 第 2巻、 H .Nenrath, R.し Hill編集、 ァカデ ミック プレス インク. 、 ニューヨーク、 1976年;泉屋信夫他著 "ぺプチ ド合成の基礎と実験" 、 丸善 (株) 、 1985年などに記載された方法、 例えば、 アジド法、 クロライド法、 酸無水物法、 混酸無水物法、 DCC法、 活性エステル 法、 ウッドワード試薬 Kを用いる方法、 カルボニルジイミダゾール法、 酸化還元 法、 DCCZHONB法などの他、 WS C法, シアノリン酸ジェチル (DEPC) を用いる方法等があげられる。 本反応は溶媒中で行うことができる。 溶媒として は、 例えば無水または含水の N,N—ジメチルホルムアミド (DMF) 、 ジメチル スルホキシド (DM SO) 、 ピリジン、 クロ口ホルム、 ジクロロメタン、 テトラ ヒドロフラン (THF) 、 ジォキサン、 ァセトニトリルあるいはこれらの適宜の 混合物があげられる。 [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. This acylation reaction is carried out according to a usual acid-amide forming reaction. The acid-amide formation reaction may be performed according to any known method such as a peptide synthesis reaction. For example, M. Bodansky and MA Ondetti, Peptide Synthesis (P-marked tide Synthesis), Interscience, New York, 1966 ; The Proteins, by FM Finn and K. Hoftnann, Volume 2, edited by H. Nenrath, R. Shi Hill, Academic Press Inc., New York, 1976; Nobuo Izumiya, et al., "Peptide Synthesis" Fundamentals and experiments ", Maruzen Co., Ltd., 1985, etc., for example, azide method, chloride method, acid anhydride method, mixed acid anhydride method, DCC method, active ester method, Woodward reagent K. Method, carbonyldiimidazole method, redox method, DCCZHONB method, etc., WSC method, getyl cyanophosphate (DEPC) And the like. This reaction can be performed in a solvent. Examples of the solvent include anhydrous or water-containing N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), pyridine, chloroform, dichloromethane, tetrahydrofuran (THF), dioxane, acetonitrile, or an appropriate mixture thereof. can give.
本反応は、原料化合物 1モルに対してァシル化剤を通常約 1から 2モル用いる。 反応温度は、 通常約— 20°C〜約 80 、 好ましくは約— 10°C〜約 40°Cであ る。 反応時間は約 0. 1〜約 100時間、 好ましくは約 0. 5〜約 40時間である。 上記 (30) 記載の反応は、 例えば以下に示す工程で行われる。  In this reaction, the acylating agent is usually used in an amount of about 1 to 2 mol per 1 mol of the starting compound. The reaction temperature is generally about -20 ° C to about 80, preferably about -10 ° C to about 40 ° C. The reaction time is about 0.1 to about 100 hours, preferably about 0.5 to about 40 hours. The reaction described in the above (30) is performed, for example, in the following steps.
Expression
Figure imgf000052_0001
Figure imgf000052_0001
[式中、 各記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩をァシル化 反応に付し、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof, for an acylation reaction.
Figure imgf000052_0002
Figure imgf000052_0002
[式中、各記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩を製造する < 上記 (3 0 ) 記載の反応は、 例えば上記 (2 6 ) 記載の反応と同様な反応条件 で行われる。 Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof. The reaction described in the above (30) is performed, for example, under the same reaction conditions as the reaction described in the above (26).
上記 (3 1 ) 記載の反応は、 例えば以下に示す反応条件で行われる。  The reaction described in (31) above is performed, for example, under the following reaction conditions.
Expression
Figure imgf000053_0001
Figure imgf000053_0001
ぼ中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩と式 Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof and a compound represented by the formula
Figure imgf000053_0002
Figure imgf000053_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩とを反応させ、 式  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof,
Figure imgf000053_0003
Figure imgf000053_0003
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造する。 本反応は触媒の存在下に行ってもよく、 かかる触媒としては、 ニッケル、 パラ ジゥムなどの遷移金属を含む触媒などが挙げられ、 より具体的には、 テトラキス 卜リフエニルホスフィンパラジウム、酢酸パラジウム/トリフエニルホスフィンな どのパラジウム触媒、 NiCl2(dppp) [dppp= 1 , 3—ビス (ジフエニルホスフイノ) プロパン〕 、 Ni(PPh3)4 〔Ph=フエニル〕 などのニッケル触媒などが挙げられるが、 好ましくはテトラキストリフエニルホスフィンパラジウム、酢酸パラジウム/トリ フエニルホスフィンなどが用いられる。 [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof. This reaction may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of such a catalyst include a catalyst containing a transition metal such as nickel and palladium, and more specifically, tetrakistriphenylphenylphosphine palladium, palladium acetate / Triphenyl phosphine Examples of the palladium catalyst include nickel catalysts such as NiCl 2 (dppp) [dppp = 1,3-bis (diphenylphosphino) propane] and Ni (PPh 3 ) 4 [Ph = phenyl]. Triphenylphosphine palladium, palladium acetate / triphenylphosphine and the like are used.
本反応において用いられる触媒の量は、 約 0.01〜100mo 、 好ましくは 0.05〜 20mol%である。  The amount of the catalyst used in this reaction is about 0.01 to 100 mol, preferably 0.05 to 20 mol%.
本反応は、 塩基の存在下に行うのが好ましく、 かかる塩基としては、 例えば塩 基性炭酸塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアルカリ金属塩またはカルシ ゥム塩、 マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩との炭酸塩など) 、 塩基性炭 酸水素塩 (例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアルカリ金属塩との炭酸水素塩 など) 、 有機塩基 (例、 卜リメチルァミン、 トリェチルァミン、 ジイソプロピル ェチルァミン、 ピリジン、 Ν,Ν-ジメチルァミノピリジン、 ピコリン、 Ν—メチル ピロリジン、 Ν—メチルモルホリン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシク 口 [5. 4. 0] — 7—ゥンデセンなど) などが挙げられるが、 なかでも塩基性炭 酸塩(例、 ナトリウム塩、 カリウム塩などのアルカリ金属塩またはカルシウム塩、 マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩との炭酸塩など、 好ましくは炭酸カリ ゥム)などが好ましく用いられる。本反応において用いられる塩基の量は、約 0.1 〜100当量、 好ましくは)〜 20当量である。  This reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of such a base include basic carbonates (eg, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt or alkaline earth salts such as calcium salt and magnesium salt). Carbonates with similar metal salts), basic hydrogen carbonates (eg, hydrogen carbonate with alkali metal salts such as sodium and potassium salts), organic bases (eg, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, Pyridine, Ν, Ν-dimethylaminopyridine, picoline, Ν-methylpyrrolidine, Ν-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-1-ene, 1,4-diazabicyclo [2. 2. 2] octane, 1,8-diazavicic mouth [5.4.0] — 7-indene, etc., among others, but basic carbonates (eg, sodium Salts, alkali metal salts or calcium salts such as potassium salts, and carbonates of the alkaline earth metal salts such as magnesium salts, preferably such as potassium carbonate © beam) is preferably used. The amount of the base used in this reaction is about 0.1-100 equivalents, preferably) -20 equivalents.
反応溶媒としては、 ハロゲン系溶媒 (例、 塩化メチレン、 ジクロロェタン、 ク ロロホルム、 など) 、 脂肪族炭化水素 (例、 η-へキサン、 など) 、 芳香族炭化水 素(例、ベンゼン、 トルエン、など)、エーテル類(例、テトラヒドロフラン (THF)、 ジェチルエーテル、 イソプロピルエーテル (IPE) など) 、 極性溶媒 (例、 ジメチ ルホルムアミド (DMF)、 ジメチルスルホキシド (DMS0)、 など) 、 プロトン性溶 媒 (例、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 イソプロパノール、 n—ブ夕 ノール、 2—メトキシエタノールなどのアルコール類など) 、 水などが用いられ、 反応は適宜の混合溶媒を用いてもよいが、 なかでも、 ベンゼン、 トルエンのよう な芳香族炭化水素とメ夕ノール、 ェ夕ノ一ルのようなプロ卜ン性溶媒との混合溶 媒などが好ましく用いられる。 反応温度は通常約- 20〜200°C、 好ましくは約 0〜100t:であり、 反応時間は通常 約 0. 1〜100時間、 好ましくは約 0. 5〜50時間である。 Reaction solvents include halogenated solvents (eg, methylene chloride, dichloroethane, chloroform, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, η-hexane, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.) ), Ethers (eg, tetrahydrofuran (THF), getyl ether, isopropyl ether (IPE), etc.), polar solvents (eg, dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMS0), etc.), protic solvents (eg, For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, and 2-methoxyethanol), water, and the like are used. The reaction may be carried out using an appropriate mixed solvent. Aromatic hydrocarbons such as toluene and protonic solvents such as methanol and ethanol A mixed solvent medium and is preferably used. The reaction temperature is usually about −20 to 200 ° C., preferably about 0 to 100 t :, and the reaction time is usually about 0.1 to 100 hours, preferably about 0.5 to 50 hours.
また、 通常、 2, 3-ジヒドロベンゾァゼピン化合物に対して、 ベンゼン化合物は、 約 0. 1〜100当量、 好ましくは約 1〜5当量用いられる。  Usually, the benzene compound is used in an amount of about 0.1 to 100 equivalents, and preferably about 1 to 5 equivalents, based on the 2,3-dihydrobenzazepine compound.
上記 (1 ) 記載の反応で得られる式  Formula obtained by the reaction described in (1) above
Figure imgf000055_0001
Figure imgf000055_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の中でも、 式  [Wherein each symbol is as defined above] or a salt thereof,
Figure imgf000055_0002
Figure imgf000055_0002
[式中、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換さ れていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよい チオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素 環基を示し、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環を形成してもよい。 但し、 R5と R7 とが結合して結合する環は無置換のベンゼン環でない。]で表される化合物または その塩;および式 [Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, or a substituted An optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring. However, the ring in which R 5 and R 7 are bonded to each other is not an unsubstituted benzene ring. Or a salt thereof; and a compound of the formula
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Figure imgf000056_0001
ぼ中、 環 は置換基を有するベンゼン環を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ 水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ い水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基 または置換されていてもよい複素環基を示し、 R8は水素原子または置換されてい てもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよい]で表される化合物またはその塩は、新規化合物であり、 自体公知の方法 に従って、 ァニリン誘導体と縮合させて、 WO 9 9 7 3 2 1 0 0、 WO 9 9 / 3 2 4 6 8、 特願平 1 1一 1 7 0 3 4 5号などに記載のァニリド誘導体を合成する ための中間体として有用である。 In the formula, ring represents a benzene ring having a substituent, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, and a hydroxyl group which may be substituted. Represents a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted; R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted; R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 may be combined to form a ring] or a salt thereof is a novel compound, and is prepared by a method known per se. Condensation with an aniline derivative to synthesize the anilide derivative described in WO973210, WO99 / 3248, Japanese Patent Application No. 111-175035, etc. Useful as an intermediate for
また、 上記 (3 1 ) 記載の反応で得られる式  In addition, the formula obtained by the reaction described in (31) above
Figure imgf000056_0002
Figure imgf000056_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物、 その塩またはその反応性誘導 体は、 式  [Wherein each symbol is as defined above], a salt thereof or a reactive derivative thereof is represented by the formula
Figure imgf000056_0003
[式中、 R 23および R 24はそれぞれ置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示す] で表される化合物またはその塩との縮合反応
Figure imgf000056_0003
[Wherein, R 23 and R 24 each represent an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group] or a compound thereof or a salt thereof.
(W099Z32 100、 WO 99/32468などに記載の公知の縮合反応な ど) に付すことによって、 式 (Such as a known condensation reaction described in W099Z32100, WO99 / 32468, etc.) to obtain the formula
Figure imgf000057_0001
Figure imgf000057_0001
[各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩を製造することができる。 上記式中、 R23および R24で示される 「置換されていてもよい複素環基」 としては、 例えば、 R2、 R\ R4、 R5、 R6および R7で示される 「置換されていてもよ い複素環基」 と同様なものなどが挙げられる。 The compound represented by [each symbol is as defined above] or a salt thereof can be produced. In the above formula, the “optionally substituted heterocyclic group” represented by R 23 and R 24 includes, for example, “substituted substituted” represented by R 2 , R \ R 4 , R 5 , R 6 and R 7 And the like. "
上記式中、 R23としては、 置換されていてもよい鎖状炭化水素基 (例、 それぞ れ置換されていてもよいアルキル、 アルケニルなど) が好ましく、 置換されてい てもよい低級 アルキル基がさらに好ましく、 とりわけメチル基が好ましい。 In the above formula, R 23 is preferably a chain hydrocarbon group which may be substituted (eg, alkyl or alkenyl which may be substituted respectively), and a lower alkyl group which may be substituted. Further preferred is a methyl group.
R24としては、 置換されていてもよい脂環式炭化水素基 (例、 それぞれ置換さ れていてもよいシクロアルキル、 シクロアルケニルなど;好ましくは、 置換され ていてもよい低級 C3_8シクロアルキル基;さらに好ましくはシクロへキシル) または置換されていてもよい脂環式複素環基 (好ましくは、 置換されていてもよ い飽和の脂環式複素環基 (好ましくは 6員環基) ;さらに好ましくは、 置換され ていてもよいテトラヒドロピラニル、 置換されていてもよいテトラヒドロチォピ ラニルまたは置換されていてもよいピペリジル; とりわけ好ましくは、 テトラヒ ドロビラニル) が好ましい。 発明を実施するための最良の形態 The R 24, optionally substituted alicyclic hydrocarbon group (e.g., each optionally substituted cycloalkyl, such as cycloalkenyl; preferably, optionally substituted lower C 3 _ 8 cycloalkyl Alkyl group; more preferably cyclohexyl) or an optionally substituted alicyclic heterocyclic group (preferably an optionally substituted saturated alicyclic heterocyclic group (preferably a 6-membered ring group) More preferably, optionally substituted tetrahydropyranyl, optionally substituted tetrahydrothiopyranyl or optionally substituted piperidyl; particularly preferably, tetrahydropyranil). BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下の参考例、 実施例を示し、 本願発明をさらに詳しく説明する。 し力 ^し、 こ れらは、 単なる例であって、 本発明を何ら限定するものではない。 実施例  The present invention is described in more detail with reference to the following Reference Examples and Examples. However, these are only examples and do not limit the present invention in any way. Example
参考例 1 Reference example 1
2-ヒドロキシメチル- N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 2-hydroxymethyl-N-tosylaniline
2 -ヒドロキシメチルァ二リン(5. Og)を THF (25ml)に溶解した後、 ピリジン (6. 57ml)を加えた。 -10°C以下で P-トルエンスルホニルクロリド(7. 74g)の  After 2-hydroxymethylaniline (5. Og) was dissolved in THF (25 ml), pyridine (6.57 ml) was added. At -10 ° C or lower, P-toluenesulfonyl chloride (7.74g)
THF (25ml)溶液を滴下し、 室温まで昇温した後、 2時間攪拌した。 水(25ml)を加え、 酢酸ェチル(25ml)で抽出した。 有機層を 2N塩酸(20ml)、 飽和食塩水(20ml X 2)で 洗浄した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、 濃縮した。 残さに A THF (25 ml) solution was added dropwise, and the mixture was heated to room temperature and stirred for 2 hours. Water (25 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate (25 ml). The organic layer was washed with 2N hydrochloric acid (20 ml) and saturated saline (20 ml × 2). The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated. To the rest
IPE (50ml)を加え室温で 0. 5時間攪拌した後、結晶をろ取し IPE (20ml)で洗浄した c 減圧乾燥して 2-ヒドロキシメチル- N-トシルァニリン(10. 7g,収率 95. 0 ^を得た。 'H-NMR(CDC13, (5 , 300MHz); 1. 61 (1H, brs) , 2. 38 (3H, s) , 4. 40 (2H, s) , 7. 00- 7. 09 (2H, m) , 7. 20-7. 28 (4H, m) , 7. 43 (1H, d, J-8. 0Hz) , 7. 65 (2H, d, J=8. 3Hz) 参考例 2 IPE (50 ml) was added after stirring for 0.5 hours at room temperature, and washed c vacuum dried was filtrated crystals IPE (20 ml) 2-hydroxymethyl - N- Toshiruanirin (10. 7 g, yield 95. . 0 ^ to give the 'H-NMR (CDC1 3, (5, 300MHz); 1. 61 (1H, brs), 2. 38 (3H, s), 4. 40 (2H, s), 7. 00 -7.09 (2H, m), 7.20-7.28 (4H, m), 7.43 (1H, d, J-8.0Hz), 7.65 (2H, d, J = 8. (3Hz) Reference example 2
2 -ホルミル- N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 2-formyl-N-tosylaniline
2 -ヒドロキシメチル -N -卜シルァ二リン(2. 0g)をアセトン(30ml)に溶解した後、 二酸化マンガン(3. 6g)を加え室温で 15時間攪拌した。不溶物を濾去し、 アセトン (10ml)で洗浄し濃縮した。 残さに IPE (l Oml)を加え室温で 0. 5時間攪拌した後、 結晶をろ取し IPE (5ml)で洗浄した。 減圧乾燥して 2-ホルミル- N -トシルァニリン (1. 6g,収率 80· 1%)を得た。  After dissolving 2-hydroxymethyl-N-tosylaniline (2.0 g) in acetone (30 ml), manganese dioxide (3.6 g) was added and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. The insoluble material was removed by filtration, washed with acetone (10 ml) and concentrated. After IPE (10 ml) was added to the residue and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hour, the crystals were collected by filtration and washed with IPE (5 ml). Drying under reduced pressure gave 2-formyl-N-tosylaniline (1.6 g, yield: 80 · 1%).
'H-NMR(CDC13, (5 , 300MHz); 2. 36 (3H, s) , 7. 12-7. 26 (3H, m) , 7. 47-7. 52 (1H, m) , 7. 58 (1H, d, J=6. 0Hz) , 7. 67 (1H, d, J=9. 0Hz) , 7. 77 (2H, d, J=6. 0Hz) , 9. 82 (1H, s) , 10. 76 (1H, brs) 'H-NMR (CDC1 3, (5, 300MHz);.. 2. 36 (3H, s), 7. 12-7 26 (3H, m), 7. 47-7 52 (1H, m), 7 58 (1H, d, J = 6.0 Hz), 7.67 (1H, d, J = 9.0 Hz), 7.77 (2H, d, J = 6.0 Hz), 9.82 (1H, s), 10.76 (1H, brs)
参考例 3 Reference example 3
4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline
2 -ホルミル - N-トシルァニリン (1. 0g)と酢酸ナトリウム (0. 33g)を 90%酢酸水溶 液に懸濁させ、 臭素(0.22ml)を加え室温で 2時間攪拌した。 臭素(0.02ml)を 1時 間毎に 1回追加した。 0.5Nチォ硫酸ナトリゥム水(10ml)を加え、 室温で 0.5時間 攪拌した後、 結晶をろ取し、 水(10ml)で洗浄した。 減圧乾燥して 4-ブロモ -2-ホ ルミル- N-トシルァニリン(1. g,収率 93.0 )を得た。 2-Formyl-N-tosylaniline (1.0 g) and sodium acetate (0.33 g) in 90% aqueous acetic acid The mixture was suspended in the solution, and bromine (0.22 ml) was added, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Bromine (0.02 ml) was added once every hour. 0.5N aqueous sodium thiosulfate (10 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hour. The crystals were collected by filtration and washed with water (10 ml). Drying under reduced pressure gave 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline (1. g, yield 93.0).
'H-NMR(CDC13, δ , 300MHz); 2.38(3H, s); 7.26 (2H, d, J=9.0Hz), 7.57-7.71 (3H, m), 7.76 (2H, d, J-9.0Hz), 9.76(1H, s), 10.65 (1H, s) 'H-NMR (CDC1 3, δ, 300MHz); 2.38 (3H, s); 7.26 (2H, d, J = 9.0Hz), 7.57-7.71 (3H, m), 7.76 (2H, d, J-9.0 Hz), 9.76 (1H, s), 10.65 (1H, s)
実施例 1 Example 1
7-ブロモ -1-トシル- 2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸ェチルの合成 4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリン(1.0g)と 4 -ブロモ酪酸ェチル(0.61g) を DMF (3ml)に溶解した後、 炭酸カリウム(0.58g)を加え、 70でで 6時間攪拌した。 室温まで放冷し、 炭酸ジェチル(20πι1)及び 2( ^ナトリウムエトキシドエ夕ノール 溶液(1.44g)を加え、 室温で 3時間攪拌した。 2N塩酸(6ml)を加え、 酢酸ェチル (10ml)で抽出した。 有機層を飽和食塩水(5ml X 3)、 10%塩化ナトリウム水(5ml)で 洗浄し、 濃縮した。 残さにメタノール(10ml)を加え溶解した後、 氷冷下で 1時間 攪拌した。 結晶をろ取し、 IPE(5ml)で洗浄した。 減圧乾燥して 7-ブロモ -1-トシ ル -2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸ェチル(0.69g,収率 54.0%)を 得た。  Synthesis of 7-bromo-1-tosyl-2,3-dihydro-1-benzazepine-4-ethyl carboxylate 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline (1.0 g) and ethyl 4-bromobutyrate (0.61 g) Was dissolved in DMF (3 ml), potassium carbonate (0.58 g) was added, and the mixture was stirred at 70 for 6 hours. After cooling to room temperature, getyl carbonate (20πι1) and 2 (^ sodium ethoxide ethanol solution (1.44g) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The organic layer was washed with saturated saline solution (5 ml × 3), 10% aqueous sodium chloride solution (5 ml), concentrated, dissolved in methanol (10 ml), and stirred under ice-cooling for 1 hour. The crystals were collected by filtration, washed with IPE (5 ml), dried under reduced pressure, and ethyl 7-bromo-1-tosyl-2,3-dihydro-1-benzoazepine-4-carboxylate (0.69 g, yield 54.0%) ) Was obtained.
'H-NMR(CDC13, δ, 300MHz); 1.29 (3Η, t, J=7. OHz), 2.35 (3H, s), 'H-NMR (CDC1 3, δ, 300MHz); 1.29 (. 3Η, t, J = 7 OHz), 2.35 (3H, s),
2.86 (2H, t, J=5.7Hz), 3.86 (2H, t, J=5.7Hz), 4.18(2H, q, J=7. OHz), 2.86 (2H, t, J = 5.7Hz), 3.86 (2H, t, J = 5.7Hz), 4.18 (2H, q, J = 7.OHz),
7.13(2H, d, J=8. OHz), 7.18(1H, s), 7.41 (2H, d, J=8. OHz), 7.44-7.53 (3H, m) 実施例 2 7.13 (2H, d, J = 8.OHz), 7.18 (1H, s), 7.41 (2H, d, J = 8.OHz), 7.44-7.53 (3H, m)
7-ブロモ -2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸の合成  Synthesis of 7-bromo-2,3-dihydro-1-benzazepine-4-carboxylic acid
7-プロモ-卜トシル- 2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸ェチル  7-Promototosyl-2,3-dihydro-1-benzazepine-4-ethyl carboxylate
(l. Og)を酢酸(4ml)に懸濁させ、 室温で濃硫酸(2ml)を徐々に加えた。 9(TCで 2時 間加熱した後、 水 (0.2ml)を加え 6時間攪拌した。 濃縮した後、 残さを氷冷し 10% 水酸化ナトリウム水(32ml)、水(20ml)を加えた。不溶物を濾去し、水(5ml)で洗浄 した。 ろ液に 2N塩酸(3.2ml)を加え、 晶出した結晶をろ取し、水(5ml)で洗浄した。 減圧乾燥して 7-ブロモ -2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸(0.5g,収 率 85.6¾)を得た。 'H-NMR (DMSO-d6, δ , 300MHz); 2. 69 (2H, t, J =4. 3Hz) , 3. 20 (2H, t, J=4. 3Hz) ,(l. Og) was suspended in acetic acid (4 ml), and concentrated sulfuric acid (2 ml) was gradually added at room temperature. 9 (After heating with TC for 2 hours, water (0.2 ml) was added and the mixture was stirred for 6 hours. After concentration, the residue was ice-cooled and 10% aqueous sodium hydroxide (32 ml) and water (20 ml) were added. The insoluble material was removed by filtration and washed with water (5 ml) .2N hydrochloric acid (3.2 ml) was added to the filtrate, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water (5 ml) and dried under reduced pressure. Bromo-2,3-dihydro-1-benzoazepine-4-carboxylic acid (0.5 g, yield 85.6¾) was obtained. 'H-NMR (DMSO-d 6 , δ, 300 MHz); 2.69 (2H, t, J = 4.3 Hz), 3.20 (2H, t, J = 4.3 Hz),
6. 67 (1H, d, J-8. 7Hz) , 6. 92 (1H, brs) , 7. 16 (1H, dd, J=8. 7, 2. 0Hz) , 6.67 (1H, d, J-8.7Hz), 6.92 (1H, brs), 7.16 (1H, dd, J = 8.7, 2.0Hz),
7. 40 (1H, d, J=2. 0Hz) , 7. 45 (1H, s)  7.40 (1H, d, J = 2.0Hz), 7.45 (1H, s)
実施例 3 Example 3
7-ブロモ -1 -ホルミル- 2, 3-ジヒドロ- 1 -ベンゾァゼピン- 4-カルボン酸の合成 無水酢酸(1. 76ml )にぎ酸(0. 8ml)を加え、 60°Cに加熱し同温度で 1時間攪拌した。 放冷後、 THF (10ml)を加えた後、 氷冷下で 7-ブロモ -2, 3-ジヒドロ-卜ベンゾァゼ ピン- 4-カルボン酸(1. 0g)の THF (l Oml)溶液を滴下し、 室温で 2時間攪拌した。 濃 縮した後、 得られた残さに水(10ml)、 IN水酸化ナトリウム水(6. 0ml)を加え、 室 温で 0. 5時間攪拌した。 2N塩酸(3. 0ml)を加え、 晶出した結晶をろ取し、 水(5ml) で洗浄した。 減圧乾燥して 7-ブロモ -1 -ホルミル- 2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピ ン -4-カルボン酸(1. 0g,収率 94. 2%)を得た。 Synthesis of 7-bromo-1-formyl-2,3-dihydro-1-benzazepine-4-carboxylic acid Add formic acid (0.8 ml) to acetic anhydride (1.76 ml), heat to 60 ° C, and heat to the same temperature For 1 hour. After cooling, THF (10 ml) was added, and then a solution of 7-bromo-2,3-dihydro-to-benzobenzopine-4-carboxylic acid (1.0 g) in THF (10 ml) was added dropwise under ice cooling. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentration, water (10 ml) and IN aqueous sodium hydroxide solution (6.0 ml) were added to the obtained residue, and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hour. 2N Hydrochloric acid (3.0 ml) was added, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with water (5 ml). Drying under reduced pressure gave 7-bromo-1-formyl-2,3-dihydro-1-benzoazepine-4-carboxylic acid (1.0 g, yield 94.2%).
'H-NMR (DMSO-d6, δ , 30匪 ζ); 2. 73 (2Η, t, J=5. 2Hz) , 3. 67 (2H, t, J=5. 2Hz) , 7. 33 (1H, d, J-8. 4Hz) , 7. 57 (1H, s), 7. 61 (1H, d, J=8. 4Hz), 7. 91 (1H, s) , 8. 48 (1H, s) 'H-NMR (DMSO-d 6 , δ, 30 bands); 2.73 (2Η, t, J = 5.2 Hz), 3.67 (2H, t, J = 5.2 Hz), 7.33 (1H, d, J-8.4Hz), 7.57 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 8.4Hz), 7.91 (1H, s), 8.48 (1H , s)
実施例 4 Example 4
卜ホルミル- 7- (4-ェトキシフエ二ル) -2, 3-ジヒドロ- 1-ベンゾァゼピン- 4-カルボ ン酸の合成 Synthesis of Triformyl-7- (4-ethoxyphenyl) -2,3-dihydro-1-benzazepine-4-carboxylic acid
アルゴン雰囲気下、 7-ブロモ -卜ホルミル -2, 3-ジヒドロ-卜ベンゾァゼピン- 4- カルボン酸(0. 5g)と 4-エトキシフエニルほう酸(0. 3g)をトルエン(5. 8ml)、 エタ ノール(2. 1ml)に懸濁させ、室温でトリフエニルホスフィン(17. 7mg)と酢酸パラジ ゥム(3. 8mg)及び炭酸カリウム(0. 7g)水溶液(2. 1ml)を加えた。 65でに加熱し同温 度で 3時間攪拌した。 放冷後、 水(10ml)、 THF (15ml)、 2N塩酸(4ml)を加え、 酢酸 ェチル(15ml)を加え分液した。 水層に酢酸ェチル(15ml)を加え抽出し、 有機層を あわせ、 飽和食塩水(5ml X 2)で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 濃縮した。 得られた残さにイソプロピルアルコール (IPA) (6ml)を加え室温で 1 時間攪拌後、 氷冷下で 1時間攪拌した。 結晶をろ取し、 冷 IPE (3ml)で洗浄した。 減圧乾燥して卜ホルミル- 7- (4-ェトキシフエニル) -2, 3-ジヒドロ-卜ベンゾァゼ ピン- 4-カルボン酸(0. 54g,収率 94. 7%)を得た。 'H-NMR(DMSO-d6l δ , 300MHz); 1.35 (3H, t, J=6.9Hz), 2.75 (2H, m), 3.72 (2H, m), 4.08(2H, t, J=6.9Hz), 7.02 (2H, d, J=8.6Hz), 7.40 (1H, d, J=8.2Hz), 7.6-7.7 (3H, m) , 7.74 (1H, s), 7.9 (1H, s), 8.53 (1H, s) Under an argon atmosphere, 7-bromo-formyl-2,3-dihydro-to-benzobazepine-4-carboxylic acid (0.5 g) and 4-ethoxyphenylboronic acid (0.3 g) were dissolved in toluene (5.8 ml) and ethanol. The suspension was suspended in ethanol (2.1 ml), and triphenylphosphine (17.7 mg), palladium acetate (3.8 mg) and an aqueous solution of potassium carbonate (0.7 g) (2.1 ml) were added at room temperature. The mixture was heated to 65 and stirred at the same temperature for 3 hours. After allowing to cool, water (10 ml), THF (15 ml) and 2N hydrochloric acid (4 ml) were added, and ethyl acetate (15 ml) was added to carry out liquid separation. Ethyl acetate (15 ml) was added to the aqueous layer for extraction, and the organic layers were combined and washed with saturated saline (5 ml × 2). After drying over anhydrous magnesium sulfate, the mixture was concentrated. Isopropyl alcohol (IPA) (6 ml) was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then stirred under ice cooling for 1 hour. The crystals were collected by filtration and washed with cold IPE (3 ml). The residue was dried under reduced pressure to give 0.5-formyl-7- (4-ethoxyphenyl) -2,3-dihydro-tribenzoazepine-4-carboxylic acid (0.54 g, yield 94.7%). 'H-NMR (DMSO-d 6l δ, 300 MHz); 1.35 (3H, t, J = 6.9 Hz), 2.75 (2H, m), 3.72 (2H, m), 4.08 (2H, t, J = 6.9 Hz ), 7.02 (2H, d, J = 8.6Hz), 7.40 (1H, d, J = 8.2Hz), 7.6-7.7 (3H, m), 7.74 (1H, s), 7.9 (1H, s), 8.53 (1H, s)
参考例 4 Reference example 4
5-ブロモ -N-トシルアントラニル酸メチルの合成 Synthesis of methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate
5-ブロモアントラニル酸メチル(200g)をピリジン(600ml)に溶解させ、 室温で p -トルエンスルホニルクロリ ド(174g)を加えた。 3時間攪拌後、 反応液に水 (600ml)、 酢酸ェチル(3L)を加え分液した。 有機層を 2N塩酸(200ml X 3)、 10%塩化 ナトリウム水(500mlX3)、 水(250ml)で洗浄した。 濃縮し得られた残さに IPE(IL) を加え、 室温で 3時間攪拌した。 結晶をろ取し、 冷 IPE(500ml)で洗浄した。 減圧 乾燥して 5-ブロモ - N-トシルアントラニル酸メチル(291g,収率 87.1¾)を得た。 'H-NMR(CDC13, a, 300MHz); 2.37 (3H, s), 3.88 (3H, s), 7.23 (2H, d, J=8.2Hz),Methyl 5-bromoanthranilate (200 g) was dissolved in pyridine (600 ml), and p-toluenesulfonyl chloride (174 g) was added at room temperature. After stirring for 3 hours, water (600 ml) and ethyl acetate (3 L) were added to the reaction solution, and the mixture was separated. The organic layer was washed with 2N hydrochloric acid (200 ml × 3), 10% aqueous sodium chloride (500 ml × 3), and water (250 ml). IPE (IL) was added to the residue obtained by concentration, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The crystals were collected by filtration and washed with cold IPE (500 ml). Drying under reduced pressure gave methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate (291 g, yield 87.1%). 'H-NMR (CDC1 3, a, 300MHz); 2.37 (3H, s), 3.88 (3H, s), 7.23 (2H, d, J = 8.2Hz),
7.53 (1H, dd, J=8.9, 2.3Hz), 7.61 (1H, d, J=8.9Hz), 7.72 (2H, d, J-8.2Hz), 7.53 (1H, dd, J = 8.9, 2.3Hz), 7.61 (1H, d, J = 8.9Hz), 7.72 (2H, d, J-8.2Hz),
8.03 (1H, d, J=2.3Hz), 10.50(1H, s)  8.03 (1H, d, J = 2.3Hz), 10.50 (1H, s)
参考例 5 Reference example 5
4 -ブロモ -2-ヒドロキシメチル -N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 4-bromo-2-hydroxymethyl-N-tosylaniline
アルゴン雰囲気下、 5-ブロモ -N-トシルアントラニル酸メチル(0.5g)をトルエン (5ml)に溶解し、 室温で水素化ジイソブチルアルミニウム (DIBALH) (4ml)を滴下 した。 室温で 0.5時間攪拌した後、 氷冷し 5%硫酸(10ml)を加えた。 水(5ml)、 卜 ルェン(5ml)、 酢酸ェチル(10ml)を加えた後、 分液した。 有機層を濃縮し、 得られ た結晶をシリカゲル力ラム(n-へキサン /酢酸ェチル = 3/1 )で精製し 4-ブロモ -2- ヒドロキシメチル- N-トシルァニリン(0.44g,収率 91.0 を得た。  Under an argon atmosphere, methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate (0.5 g) was dissolved in toluene (5 ml), and diisobutylaluminum hydride (DIBALH) (4 ml) was added dropwise at room temperature. After stirring at room temperature for 0.5 hour, the mixture was ice-cooled and 5% sulfuric acid (10 ml) was added. Water (5 ml), toluene (5 ml) and ethyl acetate (10 ml) were added, and the mixture was separated. The organic layer was concentrated, and the obtained crystals were purified by silica gel column (n-hexane / ethyl acetate = 3/1) to give 4-bromo-2-hydroxymethyl-N-tosylaniline (0.44 g, yield 91.0). Obtained.
'H-NMR(CDC13, δ, 300MHz); 2.39 (3Η, s), 2.47 (1H, s), 4.24 (2H, s), 'H-NMR (CDC1 3, δ, 300MHz); 2.39 (3Η, s), 2.47 (1H, s), 4.24 (2H, s),
7.22 (2E d, J=8.3Hz), 7.25 (1H, s), 7.25-7.31 (2H, m), 7.62 (2H, d, J-8.3Hz) 参考例 6 7.22 (2E d, J = 8.3Hz), 7.25 (1H, s), 7.25-7.31 (2H, m), 7.62 (2H, d, J-8.3Hz) Reference example 6
4 -ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline
4-ブロモ -2-ヒドロキシメチル- N-トシルァニリン(1.0g)をアセトン(5ml)に懸 濁し、 二酸化マンガン(2.84g)を加え、 室温で 15時間攪拌した。 不溶物を濾去し た後、 アセトン(10ml)で洗浄した。 濃縮し得られた残さをシリカゲルカラム(n- へキサン)で精製し 4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリン(0. 55g,収率 55. 2%) を得た。 4-Bromo-2-hydroxymethyl-N-tosylaniline (1.0 g) was suspended in acetone (5 ml), manganese dioxide (2.84 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. After filtering off the insoluble matter, it was washed with acetone (10 ml). The residue obtained after concentration is concentrated on a silica gel column (n- Hexane) to give 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline (0.55 g, 55.2% yield).
参考例 7 Reference Example 7
4一ブロモ _2—ホルミル— N—トシルァニリンの合成 アルゴン雰囲気下、 VITRIDE [登録商標] (37. 5g)をトルエン(35ml)に溶解させ 氷冷した。 モルホリン(12. 5ml)のトルエン(25ml)溶液を滴下した。 4. Synthesis of 4 -bromo- 2 -formyl- N -tosylaniline Under an argon atmosphere, VITRIDE (registered trademark) (37.5 g) was dissolved in toluene (35 ml) and cooled with ice. A solution of morpholine (12.5 ml) in toluene (25 ml) was added dropwise.
アルゴン雰囲気下、 5-ブロモ -N-トシルアントラニル酸メチル(5. Og)をトルエン (50ml)溶解し、 -10 に冷却した。 先に調製した VITRIDE [登録商標] 溶液を徐々 に滴下し、 そのままの温度で 2時間攪拌した。 水(50ml)を徐々に滴下した後、 硫 酸/水 = l/4 (500ml)を加えた。 分液後、 水層を酢酸ェチル(100ml X 2)で抽出し、 有 機層を水(400ml X 4)で洗浄した。有機層を濃縮し残さをシリカゲルカラム(トルェ ン)精製した。 得られた結晶にトルエン(6ml)を加え加熱溶解した後放冷し、 0. 5 時間攪拌した。 lPE (6ml)を加え室温で 0. 5時間、 氷冷下で 1時間攪拌した。 結晶 をろ取し、 IPE (5ml )で洗浄した。 減圧乾燥して 4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァ 二リン(2. 29g,収率 50. 0%)を得た。  Under an argon atmosphere, methyl 5-bromo-N-tosylanthranilate (5. Og) was dissolved in toluene (50 ml) and cooled to -10. The previously prepared VITRIDE (registered trademark) solution was gradually added dropwise, followed by stirring at the same temperature for 2 hours. After water (50 ml) was gradually added dropwise, sulfuric acid / water = 1/4 (500 ml) was added. After liquid separation, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (100 ml × 2), and the organic layer was washed with water (400 ml × 4). The organic layer was concentrated, and the residue was purified by a silica gel column (toluene). Toluene (6 ml) was added to the obtained crystals, dissolved by heating, allowed to cool, and stirred for 0.5 hours. lPE (6 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hour and under ice cooling for 1 hour. The crystals were collected by filtration and washed with IPE (5 ml). Drying under reduced pressure gave 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline (2.29 g, yield: 50.0%).
参考例 8 Reference Example 8
4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリンの合成  Synthesis of 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline
5 -ブロモ -2-フルォロベンズアルデヒド(1. 0g)、 P-トルエンスルホンアミド (1. 7g)、炭酸カリウム(1. 4g)の DMS0 (5ml)懸濁液を 1 10_120°Cで 1時間攪拌した。 次いで、 2N塩酸(7. 5ml)加え同温度で 1時間攪拌した。 室温に冷却し、 3時間攪拌 した。 析出した結晶を濾取し、 水(10ml)で洗浄した。 結晶を減圧乾燥(40°C、 2時 間)して、 白色結晶の 4-ブロモ -2-ホルミル- N-トシルァニリンを 1. 5g (収率 86 %) 得た。  A suspension of 5-bromo-2-fluorobenzaldehyde (1.0 g), P-toluenesulfonamide (1.7 g), and potassium carbonate (1.4 g) in DMS0 (5 ml) was heated at 110-120 ° C for 1 hour. Stirred. Then, 2N hydrochloric acid (7.5 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Cooled to room temperature and stirred for 3 hours. The precipitated crystals were collected by filtration and washed with water (10 ml). The crystals were dried under reduced pressure (40 ° C, 2 hours) to obtain 1.5 g (86% yield) of white crystals of 4-bromo-2-formyl-N-tosylaniline.
'H-NMR (CDC 13, δ , 300MHz); 2. 38 (3Η, s) , 7. 26 (2H, d, J=9. 0Hz) , 7. 57-7. 71 (3H, m) , 7. 76 (2H, d, J=9. 0Hz) , 9. 76 (1H, s) , 10. 65 (1H, s) . 'H-NMR (CDC 1 3 , δ, 300MHz);. 2. 38 (3Η, s), 7. 26 (. 2H, d, J = 9 0Hz), 7. 57-7 71 (3H, m) , 7.76 (2H, d, J = 9.0 Hz), 9.76 (1H, s), 10.65 (1H, s).
産業上の利用可能性 Industrial applicability
本願発明により、 短工程で、 安全に、 しかも大量合成に適した方法で 2, 3—ジ ヒドロアゼピン誘導体を製造することが可能である。  According to the present invention, it is possible to produce a 2,3-dihydroazepine derivative in a short step, safely, and by a method suitable for mass synthesis.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1 . 式 1 set
Figure imgf000063_0001
Figure imgf000063_0001
[式中、 R'は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合 して環を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基 を示し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基 または置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩を炭酸ジエステ ルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R ′ represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon A group, a substituted or unsubstituted sacyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof in the presence of a diester carbonate.
Figure imgf000063_0002
Figure imgf000063_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。 [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
2 . R1がエステル化されたカルボキシル基である請求項 1記載の製造法。 2. The method according to claim 1, wherein R 1 is an esterified carboxyl group.
3 . R8が水素原子である請求項 1記載の製造法。 3. The process of Claim 1 which is wherein R 8 is a hydrogen atom.
4 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 1記載の製造法。 4. The process according to claim 1, wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms.
5 . R9が P-トルエンスルホニル基またはアルキル基である請求項 1記載の製造法。5. The production method according to claim 1, wherein R 9 is a P-toluenesulfonyl group or an alkyl group.
6 . 式 6 Expression
Figure imgf000064_0001
Figure imgf000064_0001
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置 換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スル ホニル基を示し、環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される 化合物またはその塩を炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とす る、 J [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 8 may represent a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 may represent an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted acyl group. A ring or a substituted sulfonyl group, and ring A represents a benzene ring which may have a substituent] or a salt thereof in the presence of a carbonic acid diester. R, J
Figure imgf000064_0002
Figure imgf000064_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。 [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
7 . 式 7 Expression
Figure imgf000065_0001
Figure imgf000065_0001
[式中、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよい アミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置 換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R6 と R7は結合して環を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい 炭化水素基を示し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよ いァシル基または置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩と、式 [Wherein, R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, and an optionally substituted A hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 6 and R 7 may combine to form a ring; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group], a compound represented by the formula:
Figure imgf000065_0002
Figure imgf000065_0002
[式中、 Yは脱離基を示し、 R'は電子吸引基を示し、 R2、 R\ R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, Y represents a leaving group, R ′ represents an electron withdrawing group, and R 2 , R \ R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, Represents an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000066_0001
Figure imgf000066_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
8 . 式  8. Expression
Figure imgf000066_0002
Figure imgf000066_0002
[式中、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換さ れていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二 ル基を示し、環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合 物またはその塩と、 式 [Wherein, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group. And ring A represents a benzene ring which may have a substituent; and a compound represented by the formula:
Figure imgf000066_0003
Figure imgf000066_0003
[式中、 Yは脱離基を示し、 R'は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, Y represents a leaving group, R ′ represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom, and an optionally substituted amino group, respectively. An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 May be combined with each other to form a ring], or a salt thereof, and then subjected to a ring closing reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000067_0001
Figure imgf000067_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
9 . 式 9 Expression
Figure imgf000067_0002
Figure imgf000067_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または Rsと R7は結合 して環を形成してもよく、 R1()は置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置 換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スル ホニル基を示す]で表される化合物またはその塩を炭酸ジエステルの存在下で閉 環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, or a substituted An optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 And R 4 or R s and R 7 may combine to form a ring, R 1 () represents an optionally substituted hydrocarbon group, and R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon Or a substituted or unsubstituted sacyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof in the presence of a carbonic diester.
Figure imgf000068_0001
Figure imgf000068_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
1 0 . Rtがエステル化されたカルボキシル基である請求項 9記載の製造法。  10. The method according to claim 9, wherein 10.Rt is an esterified carboxyl group.
1 1 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 9記載の製造法。 11. The production method according to claim 9, wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms.
1 2 . R9が p-トルエンスルホニル基またはアルキル基である請求項 9記載の製造 法。 12. The method according to claim 9, wherein R 9 is a p-toluenesulfonyl group or an alkyl group.
1 3 . 式  1 3.
Figure imgf000068_0002
Figure imgf000068_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 および R5はそれぞれ水素原子、 八ロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R ま結合して環を形成し てもよく、 Rl()は置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換されていても よい炭化水素基、置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二ル基を示し、 環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはそ の塩を炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , and R 5 each represent a hydrogen atom, an octalogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, and is bonded to R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R may form a ring Te, R l () represents a hydrocarbon group which may be substituted, R 9 is optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted Ashiru group or a substituted sulfonyl Wherein the ring A represents a benzene ring which may have a substituent, or a salt thereof is subjected to a ring closing reaction in the presence of a carbonic acid diester.
Figure imgf000069_0001
Figure imgf000069_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
1 4 . 式  1 4.
Figure imgf000069_0002
Figure imgf000069_0002
[式中、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよい アミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置 換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R6 と R7は結合して環を形成してもよく、 R1 ()は置換されていてもよい炭化水素基を示 し、 R9は置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基また は置換スルホ二ル基を示す]で表される化合物またはその塩と、 式 [Wherein, R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, and an optionally substituted A hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 6 and R 7 may combine to form a ring, and R 1 () represents an optionally substituted hydrocarbon group; R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group] or a salt thereof;
Figure imgf000069_0003
Figure imgf000069_0003
ぼ中、 Yは脱離基を示し、 R'は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式 In the formula, Y represents a leaving group, R ′ represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, Even if it is replaced A good hydroxyl group, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted; R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 may combine with each other to form a ring], or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000070_0001
Figure imgf000070_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
1 5 . 式  1 5 Expression
Figure imgf000070_0002
Figure imgf000070_0002
[式中、 RI Gは置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R9は置換されていてもよ い炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置換スルホ二ル基を示し、 環 Aは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはそ の塩と、 式 [Wherein, R IG represents an optionally substituted hydrocarbon group, R 9 represents an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group, Wherein ring A represents a benzene ring which may have a substituent, or a salt thereof;
Figure imgf000070_0003
中、 Yは脱離基を示し、 I は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞ れ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていても よい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素 基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4 は結合して環を形成してもよい]で表される化合物またはその塩を反応させた後、 炭酸ジエステルの存在下で閉環反応に付すことを特徴とする、 式
Figure imgf000070_0003
In the formula, Y represents a leaving group, I represents an electron withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, Represents an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring] or a salt thereof, and then subjected to a ring closure reaction in the presence of a carbonic acid diester,
Figure imgf000071_0001
Figure imgf000071_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
1 6 . 式  1 6 Expression
Figure imgf000071_0002
Figure imgf000071_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換 されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合 して環を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基 を示し、環 Cは置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物または その塩を脱保護反応に付すことを特徴とする、 式 [In the formula, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, Good hydroxyl groups, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and ring C represents an optionally substituted benzene ring] Wherein the compound represented by the formula or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction.
Figure imgf000072_0001
Figure imgf000072_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
1 7 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 1 6記載の製造法。 1 7. R 2, R 3 , R 4 and R 5 are process according to claim 1 6, wherein a hydrogen atom.
1 8 . R8が水素原子である請求項 1 6記載の製造法。 1 8. R 8 is A process according to claim 1 6, wherein a hydrogen atom.
1 9 . 環 Cが P-トリル基である請求項 1 6記載の製造法。  19. The process according to claim 16, wherein ring C is a P-tolyl group.
2 0 . 式 2 0. Expression
Figure imgf000072_0002
[式中、 R1は電子吸引基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成し てもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Aお よび環 Cはそれぞれ置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物 またはその塩を脱保護反応に付すことを特徴とする、 式
Figure imgf000072_0002
[Wherein, R 1 represents an electron-withdrawing group, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 are R 8 may represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and ring A and ring C each represent a benzene ring which may have a substituent.] Wherein the compound represented by the formula or a salt thereof is subjected to a deprotection reaction.
Figure imgf000073_0001
Figure imgf000073_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
2 1 . 式  2 1.
Figure imgf000073_0002
Figure imgf000073_0002
[式中、 Rlaはエステル化されたカルボキシル基、 アミド化されたカルボキシル基 またはシァノ基を示し、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲ ン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換さ れていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されて いてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環 を形成してもよく、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Cは置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはその塩 を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、 式 [Wherein, R la is an esterified carboxyl group, an amidated carboxyl group Or a cyano group, wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, Represents an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring, R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, and ring C represents an optionally substituted benzene ring] Wherein the compound represented by the formula or a salt thereof is subjected to an acid hydrolysis reaction.
Figure imgf000074_0001
Figure imgf000074_0001
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。  [Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
2 2 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 2 1記載の製造法。 2 2. R 2, R 3 , R 4 and R 5 are process according to claim 2 1, wherein a hydrogen atom.
2 3 . R8が水素原子である請求項 2 1記載の製造法。 2 3. R 8 is A process according to claim 2 1, wherein a hydrogen atom.
2 4 . 環 Cが P-トリル基である請求項 2 1記載の製造法。 24. The production method according to claim 21, wherein ring C is a P-tolyl group.
2 5 . 式 2 5 Expression
Figure imgf000075_0001
Figure imgf000075_0001
[式中、 R'aはエステル化された力ルポキシル基、 アミド化されたカルボキシル基 またはシァノ基を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていて もよぃチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよ い複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成してもよく、Wherein, R 'a represents esterified force Rupokishiru group, amidated carboxyl group or Shiano group, R 2, R 3, R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, optionally substituted an amino group which may be a hydroxyl group which may be substituted, substituted optionally Moyoi thiol group, a optionally substituted hydrocarbon group or optionally substituted have good heterocyclic group, and R 2 R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 4 may combine to form a ring,
R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 環 Aおよび環 Cは それぞれ置換基を有してもよいベンゼン環を示す]で表される化合物またはその 塩を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、 式 R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and Ring A and Ring C each represent a benzene ring which may have a substituent.] Formula, characterized in that it is subjected to a reaction
Figure imgf000075_0002
Figure imgf000075_0002
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法  Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof.
2 6 . 式 2 6.
Figure imgf000076_0001
Figure imgf000076_0001
ぼ中、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2、 R3、 R4In the formula, R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 2 , R 3 , R 4 ,
R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミ ノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換さ れていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, a hydroxyl group which may be substituted, a thiol group which may be substituted, and which may be substituted Represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group which may be substituted, R 2 and R 3 ,
R4と R5、 R2と R4または R5と R7は結合して環を形成してもよい]で表される化合物 またはその塩をァシル化反応に付すことを特徴とする、 式 R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 5 and R 7 may combine to form a ring] or a salt thereof, for the acylation reaction.
Figure imgf000076_0002
Figure imgf000076_0002
[式中、 R1 1は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 その他の 記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩の製造法。 [Wherein, R 11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and other symbols have the same meanings as described above] or a salt thereof.
2 7 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 2 6記載の製造法。 2 7. R 2, R 3 , R 4 and R 5 are process according to claim 2 6, wherein a hydrogen atom.
2 8 . R8が水素原子である請求項 2 6記載の製造法。 2 8. R 8 is A process according to claim 2 6, wherein a hydrogen atom.
2 9 . R1 1が水素原子である請求項 2 6記載の製造法。 2 9. R 1 1 is process according to claim 2 6, wherein a hydrogen atom.
3 0 . 式 3 0. Expression
Figure imgf000077_0001
Figure imgf000077_0001
[式中、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2、 R3、 R4 および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されてい てもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成してもよく、環 Aは置換基を有していてもよ いベンゼン環を示す]で表される化合物またはその塩をァシル化反応に付すこと を特徴とする、 式 [Wherein, R 8 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, Represents an optionally substituted hydroxyl group, an optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 Or R 2 and R 4 may combine to form a ring, and ring A represents a benzene ring which may have a substituent.] Or a salt thereof is subjected to an acylation reaction Wherein the expression
Figure imgf000077_0002
Figure imgf000077_0002
[式中、 R'1は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 その他の 記号は前記と同意義を示す]で表される化合物またはその塩の製造法。 [Wherein, R ′ 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted, and other symbols have the same meanings as described above] or a salt thereof.
3 1 . 式 3 1.
Figure imgf000078_0001
Figure imgf000078_0001
[式中、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていて もよぃァミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよいチオール 基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示 し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R4は結合して環を形成してもよく、 R9aは水素原 子、 置換されていてもよい炭化水素基、 置換されていてもよいァシル基または置 換スルホニル基を示し、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を 示し、 Xはハロゲン原子を示す]で表される化合物またはその塩と式 Wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted hydroxyl group, a substituted or unsubstituted hydroxyl group, a substituted or unsubstituted thiol group, Represents an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 2 and R 3 , R 4 and R 5, or R 2 and R 4 may be bonded to form a ring; R 9a represents a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted acyl group or a substituted sulfonyl group, and R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group. X represents a halogen atom] and a salt thereof, and a compound represented by the formula
Figure imgf000078_0002
[式中、環 Bは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、 Mは— MgX'、 -B (0H) 2. — B (0Rl8) 2または一 SnR18を示し、 X'はハロゲン原子を示し、 R'8は低級アルキル基 を示す]で表される化合物またはその塩とを反応させることを特徴とする、 式
Figure imgf000078_0002
[Wherein ring B represents a benzene ring which may have a substituent, M is - MgX ', -B (0H) 2 -. B (0R l8) shows a 2 or a SnR 18, X' Represents a halogen atom, and R ' 8 represents a lower alkyl group], or a salt thereof.
Figure imgf000078_0003
[式中、 各記号は前記と同意義]で表される化合物またはその塩の製造法。
Figure imgf000078_0003
[Wherein the symbols are as defined above] or a method for producing a salt thereof.
3 2 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 3 1記載の製造法。 3 2. R 2, R 3 , R 4 and R 5 are process according to claim 3 1, wherein a hydrogen atom.
3 3 . R8が水素原子である請求項 3 1記載の製造法。 3 3. R 8 is A process according to claim 3 1, wherein a hydrogen atom.
3 4 . R9aが P-トルエンスルホニル基またはアルキル基である請求項 3 1記載の製 造法。 34. The method according to claim 31, wherein R9a is a P-toluenesulfonyl group or an alkyl group.
3 5 . R9aがホルミル基である請求項 3 1記載の製造法。 35. The production method according to claim 31, wherein R 9a is a formyl group.
3 6 . 式 3 6 Expression
Figure imgf000079_0001
Figure imgf000079_0001
[式中、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6および R7はそれぞれ水素原子、 ハロゲン原子、 置換さ れていてもよいアミノ基、 置換されていてもよい水酸基、 置換されていてもよい チオール基、 置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素 環基を示し、 R8は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5、 R2と R4または R6と R7は結合して環を形成してもよい。 但し、 R6と R7 とが結合して結合する環は無置換のベンゼン環でない。]で表される化合物または その塩。 [Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydroxyl group, or a substituted An optionally substituted thiol group, an optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group; R 8 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group; R 2 and R 3 , R 4 and R 5 , R 2 and R 4 or R 6 and R 7 may combine to form a ring. However, the ring in which R 6 and R 7 are bonded to each other is not an unsubstituted benzene ring. Or a salt thereof.
3 7 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 3 6記載の化合物。 3 7. R 2, R 3 , compound of claim 3 6, wherein R 4 and R 5 are hydrogen atoms.
3 8 . R8が水素原子である請求項 3 6記載の化合物。 3 8. 3. 6 compound according R 8 is a hydrogen atom.
3 9 . 式 3 9 Expression
Figure imgf000080_0001
Figure imgf000080_0001
[式中、 環 Aaは置換基を有するベンゼン環を示し、 R2、 R3、 R4および R5はそれぞれ 水素原子、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ い水酸基、 置換されていてもよいチオール基、 置換されていてもよい炭化水素基 または置換されていてもよい複素環基を示し、 R8は水素原子または置換されてい てもよい炭化水素基を示し、 R2と R3、 R4と R5または R2と R ま結合して環を形成し てもよい]で表される化合物またはその塩。 [Wherein, ring A a represents a benzene ring having a substituent, and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group which may be substituted, A good hydroxyl group, a thiol group which may be substituted, a hydrocarbon group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted, and R 8 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted And R 2 and R 3 , R 4 and R 5 or R 2 and R 2 may be combined to form a ring] or a salt thereof.
4 0 . R2、 R3、 R4および R5が水素原子である請求項 3 9記載の化合物。 4 0. R 2, R 3 , A compound according to claim 3 9 wherein R 4 and R 5 are hydrogen atoms.
4 1 . R8が水素原子である請求項 3 9記載の化合物。 4 1. 3. 9 A compound according R 8 is a hydrogen atom.
4 2 . 環 Aaが式 4 2. Ring A a is a formula
Figure imgf000080_0002
Figure imgf000080_0002
[式中、 環 Bは置換基を有していてもよいベンゼン環を示す]で表されるベンゼン 環である請求項 3 9記載の化合物。  30. The compound according to claim 39, wherein the ring is a benzene ring represented by the formula: wherein ring B represents a benzene ring which may have a substituent.
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