DE69920458T2 - Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums - Google Patents

Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums Download PDF

Info

Publication number
DE69920458T2
DE69920458T2 DE1999620458 DE69920458T DE69920458T2 DE 69920458 T2 DE69920458 T2 DE 69920458T2 DE 1999620458 DE1999620458 DE 1999620458 DE 69920458 T DE69920458 T DE 69920458T DE 69920458 T2 DE69920458 T2 DE 69920458T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
percent
copper
reflective layer
silver
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE1999620458
Other languages
English (en)
Other versions
DE69920458D1 (de
Inventor
Han H NEE
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Target Technology LLC
Original Assignee
Target Technology LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22288442&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE69920458(T2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Target Technology LLC filed Critical Target Technology LLC
Publication of DE69920458D1 publication Critical patent/DE69920458D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69920458T2 publication Critical patent/DE69920458T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/258Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/258Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
    • G11B7/259Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers based on silver
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/913Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/21Circular sheet or circular blank
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Description

  • Diese Erfindung betrifft reflektierende Schichten oder halbreflektierende Schichten, die in optischen Speichermedien verwendet werden, welche aus Legierungen auf Silberbasis gefertigt sind.
  • I. Hintergrund der Erfindung
  • Der Aufbau einer herkömmlichen, voraufgezeichneten optischen Scheibe weist im Allgemeinen vier Schichten auf. Eine erste Schicht ist gewöhnlich aus optisch klarem Polycarbonatharz gefertigt. Diese Schicht wird mittels wohlbekannter Techniken hergestellt, die mit dem Spritz- oder Druckformen des Harzes zu einer Scheibe beginnen. Die Oberfläche der Scheibe wird mit äußerst kleinen und präzise angeordneten Pits und Lands geformt oder geprägt. Diese Pits und Lands haben eine vorbestimmte Größe und sind, wie unten erläutert, letztendlich die Vehikel zur Speicherung von Informationen auf der Scheibe.
  • Nach dem Prägen wird eine optisch reflektierende Schicht über die Informationspits und -lands gelegt. Die reflektierende Schicht ist üblicherweise aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung gebildet und typischerweise zwischen etwa 40 bis etwa 100 Nanometer (nm) dick. Die reflektierende Schicht wird gewöhnlich mittels einer von vielen wohlbekannten Dampfabscheidungstechniken aufgebracht, wie etwa Sputtern oder thermische Verdampfung. Kirk-Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology, dritte Edition, Band 10, Seiten 247–283 bietet eine detaillierte Erläuterung dieser und anderer Abscheidungstechniken wie beispielsweise Glimmentladung, Ionenplattierung sowie chemische Dampfabscheidung, und diese Spezifikation bezieht diese Offenbarung hiermit durch Verweis ein.
  • Als nächstes wird ein lösungsmittelbasiertes oder ein UV- (Ultraviolett) härtendes Harz über der reflektierenden Schicht aufgebracht, auf das üblicherweise ein Etikett folgt. Die dritte Schicht schützt die reflektierende Schicht vor der Handhabung und der Umgebung. Das Etikett gibt die bestimmte Information an, die auf der Scheibe gespeichert ist, und kann gelegentlich eine künstlerische Darstellung umfassen.
  • Die zwischen dem Polycarbonatharz und der reflektierenden Schicht liegenden Informationspits nehmen üblicherweise die Form einer kontinuierlichen Spirale an. Die Spirale beginnt typischerweise an einem Innenradius und endet an einem Außenradius. Der Abstand zwischen zwei Spiralen wird „Spurabstand" genannt und beträgt üblicherweise 1,6 Mikrometer. Die Länge eines Pits oder Lands in Richtung der Spur beträgt zwischen etwa 0,9 und etwa 3,3 Mikrometer. All diese Details sind bei Audio-Compaktdisks gemeinhin bekannt und sind in einer Reihe von Spezifikationen niedergelegt, die zunächst von Philips NV aus Holland und Sony aus Japan als Standards für die Industrie vorgeschlagen wurden.
  • Die Scheibe wird gelesen, indem ein Laserstrahl durch das optisch klare Polycarbonat auf die reflektierende Schicht gerichtet wird, und zwar mit hinreichend kleiner Auflösung, um auf die Informationspits zu fokussieren. Die Pits haben eine Tiefe von etwa ¼ der Wellenlänge des Laserlichts, wobei das Licht allgemein eine Wellenlänge im Bereich von 780 bis 820 Nanometer hat. Es entsteht dann destruktive (dunkle) oder konstruktive (helle) Interferenz des Laserlichts, wenn sich der Laser entlang der Spiralspur bewegt und längs seines Wegs auf einen abwechselnden Strom von Pits und Lands fokussiert.
  • Dieser Ein- und Aus-Wechsel der Lichtintensität von Dunkel auf Hell oder von Hell auf Dunkel bildet die Basis eines digitalen Datenstroms von Einsen und Nullen. Wenn in einem festen Zeitintervall kein Wechsel der Lichtintensität auftritt, ist das digitale Signal „0", und wenn die Lichtintensität entweder von Dunkel nach Hell wechselt oder von Hell nach Dunkel, ist das digitale Signal „1". Der kontinuierliche Strom von Einsen und Nullen, der resultiert, wird dann elektronisch dekodiert und in einem Format präsentiert, das einen Nutzen für den Anwender hat, etwa als Musik- oder Computerprogrammdaten.
  • Als Resultat ist es wichtig, eine stark reflektierende Beschichtung auf der Scheibe zu haben, um das Laserlicht von der Scheibe auf einen Detektor zu reflektieren, damit das Vorhandensein des Intensitätswechsels gelesen werden kann. Im Allgemeinen ist die reflektierende Schicht gewöhnlich aus Aluminium, Kupfer, Silber oder Gold, die alle ein hohes optisches Reflektionsvermögen von mehr als 80 Prozent aufweisen. Aluminium und Aluminiumlegierungen werden gewöhnlich verwendet, weil sie vergleichsweise günstiger sind, eine hinreichende Korrosionsbeständigkeit haben und leicht auf die Polycarbonatscheibe aufgebracht werden können.
  • Gelegentlich und üblicherweise aus kosmetischen Gründen wird eine gold- oder kupferbasierte Legierung verwendet, um dem Verbraucher eine „Gold"-gefärbte Scheibe anzubieten. Wenngleich Gold naturgemäß eine reiche Farbe bietet und sämtliche funktionalen Anforderungen an eine hochreflektierende Schicht erfüllt, ist es vergleichsweise viel teurer als Aluminium. Häufig wird daher eine kupferbasierte Legierung, die Zink oder Zinn enthält, manchmal verwendet, um die goldgefärbte Schicht zu erzeugen. Unglücklicherweise ist dieser Ersatz jedoch nicht voll zufriedenstellend, weil die Korrosionsbeständigkeit der Kupferlegierung im Allgemeinen als schlechter als die von Aluminium angesehen wird, was zu einer Scheibe führt, die eine geringere Lebensdauer als eine mit einer reflektierenden Aluminiumschicht hat.
  • Der Leser kann zusätzliche Details der Herstellung und Funktionsweise eines optisch lesbaren Speichersystems in den US-Patenten mit den Nummern 4,998,239 auf Strandjord et al. und 4,709,363 auf Dirks et al. finden, deren Offenbarungen hierdurch Verweis einbezogen werden.
  • Ein weiterer Scheibentyp ist die Compaktdiskfamilie, die als aufzeichnungsfähige Compaktdisk oder „CD-R" populär wurde. Diese Scheibe ist der vorher beschriebenen CD ähnlich, hat jedoch einige Änderungen. Die aufzeichnungsfähige Compaktdisk beginnt mit einer durchgehenden Spiralnut statt mit einer fortlaufenden Spirale von Pits und weist eine organische Farbstoffschicht zwischen den Polycarbonatsubstrat und der reflektierenden Schicht auf. Diese Scheibe wird durch periodisches Fokussieren eines Laserstrahls auf die Nuten beschrieben, während der Laser längs der Spiralspur wandert. Der Laser hitzt den Farbstoff auf eine hohe Temperatur auf, was durch periodisches Verformen und Zersetzen des Farbstoffs Pits in der Nut entstehen lässt, die mit einem Eingangsdatenstrom von Einsen und Nullen übereinstimmen.
  • Zusätzliche Einzelheiten im Hinblick auf die Funktionsweise und den Aufbau dieser aufzeichnungsfähigen Scheiben kann der Leser in den US-Patenten mit den Nummern 5,325,351 auf Uchiyama et al. und 5,391,462, 5,415,914 sowie 5,419,939 auf Arioka et al. und auch 5,620,767 auf Harigaya et al. finden, deren Offenbarungen hiermit durch Verweis in diese Beschreibung aufgenommen werden.
  • Die Schlüsselkomponente einer CD-R-Scheibe ist der organische Farbstoff, der aus Lösungsmittel und einer oder mehreren organischen Verbindungen der Cyanin-Phthalocyanin- oder Azo-Familie gebildet ist. Die Scheibe wird normalerweise hergestellt, indem der Farbstoff in einem Schleuderverfahren auf die Scheibe aufgebracht wird und die reflektierende Schicht durch Sputtern über dem Farbstoff aufgebracht wird, nachdem der Farbstoff hinreichend trocken ist. Weil aber der Farbstoff Halogenionen oder ander Chemikalien enthalten kann, die die reflektierende Schicht korrodieren können, können viele gewöhnlich verwendete Materialien für die reflektierende Schicht, wie etwa Aluminium, nicht geeignet sein, um der CD-R-Scheibe eine vernünftige Lebensdauer zu verleihen. Deshalb muss häufig Gold verwendet werden, um eine aufzeichnungsfähige CD herzustellen. Wenngleich Gold frei lich alle funktionalen Anforderungen an CD-R-Scheiben erfüllt, ist es eine sehr teure Lösung.
  • Noch ein weiterer populär gewordener Scheibentyp aus der Familie optimaler Scheiben ist eine im Voraus aufgezeichnete optische Scheibe, die digitale Videodisk oder „DVD" genannt wird. Diese Scheibe besitzt zwei Hälften. Jede Hälfte wird aus Polycarbonatharz gefertigt, das mit Pit-Informationen spritz- oder druckgeformt wird, und dann durch Sputtern mit einer reflektierenden Schicht überzogen, wie zuvor beschrieben. Diese beiden Hälften werden dann mittels eines UV-härtenden Harzes oder eines Heißschmelzklebers verbunden oder miteinander verklebt, um die Gesamtscheibe zu bilden. Die Scheibe kann dann von beiden Seiten abgespielt werden, im Unterschied zu der Compaktdisk oder CD, bei der Informationen üblicherweise nur von einer Seite erhalten werden. Die Größe einer DVD ist etwa die gleiche wie die einer CD, die Informationsdichte ist jedoch beträchtlich höher. Der Spurabstand beträgt etwa 0,7 Mikrometer und die Länge der Pits und Lands ist annähernd 0,3 bis 1,4 Mikrometer.
  • Eine Abwandlung der DVD-Familie von Scheiben ist die DVD-Doppellagenscheibe. Diese Scheibe weist ebenfalls zwei Informationsebenen auf; allerdings werden beide von einer Seite her abgespielt. Bei dieser Ausgestaltung ist die hochreflektierende Schicht üblicherweise die gleiche wie die zuvor erläuterte. Die zweite Schicht ist jedoch nur eine halbreflektierende mit einem Reflektionsvermögen im Bereich von ungefähr 18 bis 30 Prozent. Zusätzlich zur Reflektion von Licht muss diese zweite Schicht auch einen beträchtlichen Anteil von Licht durchlassen, sodass der Laserstrahl die darunterliegende hochreflektierende Schicht erreichen kann und dann durch die halbreflektierende Schicht hindurch zu dem Signaldetektor zurückgeworfen werden kann.
  • Gegenwärtig ist die mögliche Wahl für die halbreflektierende Schicht entweder Gold oder Silizium in einem Dickenbereich von 5 bis 70 Nanometer, wie im US-Patent 5,171,392 auf Iida et al. diskutiert, dessen Offenbarung hiermit durch Verweis einbezogen wird. Wenn es hinreichend dünn ist, ist Gold sowohl reflektierend als auch durchlässig für Licht, weist eine herausragende Korrosionsbeständigkeit auf und kann auch relativ leicht zu einem Überzug gleichmäßiger Dicke gesputtert werden. Wiederum jedoch ist es vergleichsweise auch teurer als andere Metalle. Silizium ist eine vernünftige Alternative zu Gold, weil es aber ein Halbleiter ist, sind sein Sputterertrag und seine Sputterrate erheblich niedriger als die von Gold bei Anwendung der gleichen Leistung. Silizium hat darüber hinaus die Neigung, beim Sputtern mit Sauerstoff und Stickstoff zu reagieren, was zu einer ganzen zusätzlichen Menge von Problemen führt. Beispielsweise erfordert die Anwendung von Silizium üblicherweise eine kompliziertere Sputtervorrichtung als eine, die normalerweise zur Aufbringung anderer reflektierender Metalle benötigt wird. Als Folge bietet weder Gold noch Silizium eine ideale halbreflektierende Schicht zur Verwendung bei diesem Scheibentyp.
  • Zusätzliche Details der Herstellung und des Aufbaus von DVD-Scheiben kann der Leser im US-Patent Nr. 5,640,382 auf Florczak et al. finden, dessen Offenbarung hiermit durch Verweis einbezogen wird.
  • Was daher benötigt wird, sind einige neue Legierungen, die die Vorteile von Gold haben, wenn sie als hochreflektierende Schicht oder als halbreflektierende Schicht in einem optischen Speichermedium verwendet werden, aber nicht so teuer wie Gold sind. Diese Erfindung wendet sich diesem Bedarf zu.
  • JP-A-3156753 offenbart eine metallische Reflektionsschicht, die auf einer Ag-Legierung mit 0,5 Atomprozent Gold oder mehr basiert. Die reflektierende Schicht wird in einem optischen Aufzeichnungsmedium verwendet.
  • II. Abriss der Erfindung
  • Um den zuvor angesprochenen Bedarf zu decken, sieht die vorliegende Erfindung ein optisches Speichermedium nach Anspruch 1 vor. Das optische Speichermedium umfasst ein erstes Substrat mit einem ersten Datenpitmuster in wenigstens einer Hauptfläche. Ferner umfasst das optische Speichermedium eine dem ersten Datenpitmuster benachbarte erste reflektierende Schicht. Die erste reflektierende Schicht umfasst eine Metalllegierung mit Silber, Gold und Kupfer. Die Beziehung zwischen den Mengen von Silber, Gold und Kupfer ist durch AgxAuyCuz festgelegt, wobei 0,9 < x < 0,999 ist, 0,001 < y < 0,10 ist und 0,0001 < z < 0,10 ist.
  • Eine Metalllegierung wie vorstehend spezifiziert kann für reflektierende Dünnfilmschichten verwendet werden, die ein hohes Reflektionsvermögen besitzen und ähnliche Streueigenschaften wie Gold aufweisen und korrosionsbeständig und dennoch preiswert sind. Wird eine reflektierende Schicht, die aus einer wie vorstehend spezifizierten Metalllegierung gefertigt ist, dünn genug gemacht, kann sie halbreflektierend und durchlässig für Laserlicht zur Anwendung einer DVD-Doppelschicht sein. Die vorliegende Erfindung stellt eine preiswertere Alternative zu der reflektierenden Goldschicht in einer aufzeichnungsfähigen Compaktdisk bereit und genügt dennoch anderen funktionalen Anforderungen der Scheibe, wie etwa hohem Reflektionsvermögen und Korrosionsbeständigkeit. Darüber hinaus ist die vorliegende Erfindung geeignet für die halbreflektierende Version der im Voraus aufgezeichneten Minidisk (MD) und anderer gegenwärtiger oder zukünftiger Generationen von optischen Scheiben, bei denen Reflektionsvermögen, Korrosionsbeständigkeit und leichte Anwendbarkeit sämtlich wichtige Anforderungen für ein preiswertes und hochleistungsfähiges Produkt sind.
  • III. Kurzbeschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist ein optisches Speichersystem nach einer Ausführungsform.
  • 2 ist ein optisches Speichersystem nach einer weiteren Ausführungsform, wobei ein organischer Farbstoff als Aufzeichnungsschicht verwendet wird.
  • 3 ist ein optisches Speichersystem gemäß einer weiteren Ausführungsform mit zwei Lagen von Informationspits, wobei beide Lagen von einer Seite abspielbar sind.
  • IV. Beschreibung verschiedener Ausführungsformen
  • In der folgenden Beschreibung und den Beispielen wird eine bestimmte Wortwahl verwendet, um die Erfindung publik zu machen und ihre Prinzipien Dritten mitzuteilen. Es sind keinerlei Beschränkungen der Breite der Patentrechte allein auf Grundlage der Verwendung dieser bestimmten Wortwahl beabsichtigt. Eingeschlossen sind auch jegliche Abwandlungen und Modifikationen der Beschreibungen, die einem Durchschnittsfachmann in dieser Technologie normalerweise einfallen sollten.
  • So, wie er in dieser Beschreibung verwendet wird, bezieht sich der Begriff „Atomprozent" oder „a/o-Prozent" auf die Menge eines bestimmten Metalls oder die Menge einer Gruppe von bestimmten Metallen, die in einer bestimmten Legierung vorhanden ist, basierend auf der vorhandenen Anzahl der Atome dieses Metalls oder der vorhandenen Anzahl der Atome dieser Gruppe, was auch immer der Fall sein mag. Eine Legierung beispielsweise, die 15 Atomprozent Metall „A" und 85 Atomprozent Metall „B" ist, könnte auch durch eine Formel für diese bestimmte Legierung angegeben werden: A0,15B0,85.
  • Die Erfindung umfasst mehrschichtige Metall/Substrat-Zusammensetzungen, die als optisches Datenspeichermedium verwendet werden. Eine Ausführungsform dieser Erfindung ist in 1 als optisches Datenspeichersystem 10 gezeigt. Ein optisches Datenspeichermedium 12 umfasst ein transparentes Substrat 14 sowie eine hochreflektierende Dünnfilmschicht 20 auf einem ersten Datenpitmuster 19. Ein optischer Laser 30 sendet einen optischen Strahl in Richtung auf das Medium 12 aus, wie in 1 gezeigt. Licht von dem optischen Strahl, das von der Dünnfilmschicht 20 reflektiert wird, wird von einem Detektor 32 erfasst, der Modulationen der Lichtintensität erfasst, die auf dem Vorhandensein oder Fehlen eines Pits oder Lands an einer bestimmten Stelle der Dünnfilmschichten beruhen. Die Scheibe ist einzigartig darin, dass eine der untenstehend vorgestellten Legierungen auf die Informationspits und -lands aufgebracht ist und als der hochreflektierende Dünnfilm 20 verwendet wird. Bei einer Alternative (nicht gezeigt) kann die Scheibe abgewandelt werden, indem zwei optische Speichermedien 12 aneinander angebracht werden, wobei jedes transparente Substrat 14 nach außen weist.
  • Eine weitere Ausführungsform der Erfindung ist in 2 als optisches Datenspeichersystem 110 gezeigt. Ein optisches Speichermedium 112 umfasst ein transparentes Substrat 114 sowie eine hochreflektierende Dünnfilmschicht 120 über einer Farbstoffschicht 122, welche über ein erstes Muster 119 gelegt ist. Ein optischer Laser 130 sendet einen optischen Strahl in Richtung zu dem Medium 112 aus, wie in 2 gezeigt. Wie zuvor erörtert, werden Daten in die Scheibe eingebracht, indem Teile der Farbstoffschicht mit einem Laser deformiert werden. Anschließend wird die Scheibe mit Licht von dem optischen Strahl abgespielt, welches von der Dünnfilmschicht 120 reflektiert und von einem Detektor 132 erfasst wird. Der Detektor 132 erfasst Modulationen der Lichtintensität, die auf dem Vorhandensein oder Fehlen einer Verformung in der Farbstoffschicht beruhen. Die Schicht ist einzigartig darin, dass eine der nachstehend vorgestellten Legierungen über der Farbstoffschicht 122 aufgebracht ist und als der hochreflektierende Dünnfilm 120 verwendet wird. Bei einer Alternative (nicht gezeigt) kann die Scheibe dadurch abgewandelt werden, dass zwei optische Speichermedien 112 aneinander angebracht werden, wobei jedes transparente Substrat 114 nach außen weist.
  • Eine weitere Ausführungsform der Erfindung ist in 3 als optisches Datenspeichersystem 210 gezeigt. Ein optisches Speichermedium 212 umfasst ein transparentes Substrat 214, eine teilreflektierende Dünnfilmschicht 216 auf einem ersten Datenpitmuster 215, eine transparente Abstandsschicht 218 sowie eine hochreflektierende Dünnfilmschicht 220 auf einem zweiten Datenpitmuster 219. Ein optischer La ser 230 sendet einen optischen Strahl in Richtung zu dem Medium 212 aus, wie in 3 gezeigt. Licht von dem optischen Strahl, oder von der Dünnfilmschicht 216 oder 220 reflektiert wird, wird von einem Detektor 232 erfasst, welcher Modulationen der Lichtintensität erfasst, die auf dem Vorhandensein oder Fehlen eines Pits an einer bestimmten Stelle der Dünnfilmschichten beruhen. Die Scheibe ist darin einzigartig, dass eine der nachstehend vorgestellten Legierungen auf den Informationspits und -lands aufgebracht ist und als der hochreflektierende Dünnfilm 220 oder die semireflektierende Schicht 216 verwendet wird.
  • So, wie er hier verwendet wird, bezieht sich der Begriff „Reflektionsvermögen" auf den Bruchteil der auf das transparente Substrat 14, 114 oder 214 einfallenden optischen Energie, der – wenn auf eine Stelle in einem flachen Bereich der Schicht 20, 120, 216 oder 220 fokussiert – prinzipiell mittels eines Fotodetektors in einer optischen Lesevorrichtung erfasst werden könnte. Angenommen wird, dass die Lesevorrichtung einen Laser, einen geeignet ausgestalteten optischen Weg sowie einen Fotodetektor umfasst.
  • Silberbasierte Legierungen können hinreichendes Reflektionsvermögen und Korrosionsbeständigkeit bieten, um in einem optischen Speichermedium als reflektierende oder halbreflektierende Schicht ohne die inhärenten Kosten einer goldbasierten Legierung verwendet zu werden. Bei einer Ausführungsform wird Silber mit einer vergleichsweise geringen Menge Gold legiert. Bei dieser Ausführungsform reicht der Zusammenhang zwischen den Mengen an Gold und Silber von etwa 0,1 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 10 a/o-Prozent Gold und von etwa 90 a/o-Prozent bis etwa 99,9 a/o-Prozent Silber. Für jedes Metall bevorzugt hat die Legierung jedoch etwa 5 a/o-Prozent bis etwa 9,5 a/o-Prozent Gold und etwa 91,5 a/o-Prozent bis etwa 95 a/o-Prozent Silber.
  • Bei einer weiteren Ausführungsform ist das Silber mit einer vergleichsweise kleinen Menge Palladium legiert. Bei dieser Ausführungsform reicht der Zusammenhang zwischen den Mengen Palladium und Silber von etwa 0,1 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 15 a/o-Prozent Palladium und von etwa 85 a/o-Prozent bis etwa 99,9 a/o-Prozent Silber. Für jedes Metall bevorzugt hat die Legierung jedoch etwa 4 a/o-Prozent bis etwa 11 a/o-Prozent Palladium und etwa 89 a/o-Prozent bis etwa 96 a/o-Prozent Silber.
  • Bei noch einer weiteren Ausführungsform ist das Silber mit einer vergleichsweise kleinen Menge sowohl von Gold als auch Palladium legiert. Bei dieser Ausführungs form reicht der Zusammenhang zwischen den Mengen an Gold, Palladium und Silber von etwa 0,1 a/o-Prozent bis etwa 10 a/o-Prozent Gold, von etwa 0,1 a/o-Prozent bis etwa 15 a/o-Prozent Palladium und von etwa 75 a/o-Prozent bis etwa 99,8 a/o-Prozent Silber. Für jedes Metall bevorzugt hat die Legierung jedoch etwa 5 a/o-Prozent bis etwa 9,5 a/o-Prozent Gold, etwa 5 a/o-Prozent bis etwa 10 a/o-Prozent Palladium und etwa 80,5 a/o-Prozent bis etwa 90 a/o-Prozent Silber.
  • Das Reflektionsvermögen der vorstehend beschriebenen binären oder ternären Legierungssysteme kann durch Ändern der Konzentration jedes Elements justiert werden. Weil dieses ternäre Legierungssystem isomorph ist, gibt es keine metallurgischen Schwierigkeiten beim Mischen der Metalle in jeglicher Kombination von Konzentrationen, um alle Lösungsprodukte in einer einphasigen festen Lösung zu halten. Eine einphasige Legierung beseitigt nicht nur die Möglichkeit, dass während des SputterVorgangs Partikel einer zweiten Phase ausgestoßen werden, sondern minimiert auch potenzielle bevorzugte Korrosionsstellen in dem auf die optische Scheibe aufgebrachten Dünnfilm.
  • Die zuvor beschriebenen binären oder ternären Legierungssysteme können ferner dadurch modifiziert werden, dass ein weiteres Element wie Kupfer, das ein Eigenreflektionsvermögen von mehr als 90 Prozent besitzt, oder Rhodium hinzugegeben wird, das ein Eigenreflektionsvermögen von etwa 80 Prozent besitzt. Kupfer ist isomorph mit Gold und Palladium, seine Löslichkeit in Silber ist jedoch etwas begrenzt. Rhodium ist isomorph mit Palladium, hat freilich eine sehr beschränkte Löslichkeit in Silber und Gold. Wenn daher eine einphasige feste Lösungsmikrostruktur im Sputtertarget erwünscht ist, ist die Zugabe von Kupfer oder Rhodium zu den obigen silberbasierten binären oder ternären Legierungssystemen auf die Grenzen von deren jeweiliger Löslichkeit beschränkt, was etwa 5 a/o-Prozent oder weniger ist. Diese Grenze von 5 a/o-Prozent kann jedoch überschritten werden, wenn eine schnelle Kühlrate sowohl für die Herstellung des Sputtertargets als auch die Aufbringung des Targets als reflektierender Film angewendet wird. Insgesamt kann so die bevorzugte Konzentration von Kupfer oder Rhodium als Zusatz zu den oben beschriebenen silberbasierten binären oder ternären Legierungssystemen 5 a/o-Prozent übersteigen und beträgt etwa 0,01 a/o-Prozent bis etwa 10,0 a/o-Prozent.
  • Bei einer weiteren Ausführungsform sind die silberbasierten binären und ternären Legierungssysteme zudem mit Ruthenium, Osmium, Iridium, Platin, Beryllium oder Mischungen dieser Edelmetalle legiert. Wenn eines oder eine Mischung dieser Edelmetalle einen Teil des Silbers in der Legierung ersetzt, erhöht sich die Korrosionsbe ständigkeit des resultierenden Dünnfilms; freilich sinkt auch das Reflektionsvermögen. Im Vergleich zur Menge an Silber, die in den obigen binären oder ternären Legierungssystemen vorhanden ist, reicht die Menge des Edelmetalls, das vorzugsweise zugegeben werden kann, von etwa 0,01 a/o-Prozent bis etwa 5,0 a/o-Prozent des Silbergehalts.
  • Auch eine kupferbasierte Legierung kann hinreichendes Reflektionsvermögen und Korrosionsbeständigkeit bieten, um als reflektierende Schicht oder halbreflektierende Schicht in einem optischen Speichermedium ohne die inhärenten Kosten einer goldbasierten Legierung verwendet zu werden.
  • Bei einer Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise kleinen Menge Silber legiert. Bei dieser Ausführungsform reicht der Zusammenhang zwischen den Mengen von Silber und Kupfer von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 5 a/o-Prozent Silber und von etwa 95 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer.
  • Beim Herstellungsprozess des Sputtertargets ist eine schnelle Kühlrate notwendig, um die flüssige Schmelze zu Festkörpern abzuschrecken und zu verhindern, dass das Silber in der Kupfermatrix ausfällt. In dieser Hinsicht ist es dann bevorzugt, dass die Silberkonzentration in Bezug auf das Kupfer bei etwa 1,0 a/o-Prozent bis etwa 4,0 a/o-Prozent gehalten wird. Dies umfasst alle handelsüblichen Legierungen sauerstofffreien silberhaltigen Kupfers mit der Bezeichnung C10400, C10500, C10600 und C10700 im vereinigten Nummernsystem mit einem minimalen Silbergehalt von 0,027, 0,034, 0,054 und 0,085 Gewichtsprozent, alle handelsüblichen silberhaltigen Zähkupfer mit der UNS-Nr. C113000, C11400, C11500 und C11600 sowie alle handelsüblichen Legierungen feuerraffinierten silberhaltigen Zähkupfers mit der UNS-Nr. 12700, C12800, C12900 und C13000.
  • Bei der zweiten Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise kleinen Menge Cadmium legiert, das ein Oxidbildner und Sauerstoffaufnehmer ist und die Oxidationsbeständigkeit des Kupfers verbessert, während es geringen Einfluss auf das Reflektionsvermögen hat. Bei dieser Ausführungsform reicht der Zusammenhang zwischen der Menge von Cadmium und Kupfer von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 15 a/o-Prozent Cadmium und von etwa 85 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer.
  • Die Grenzen der Löslichkeit von Cadmium in Kupfer bei 500°C und 300°C liegen bei etwa 1,40 bzw. 0,50 a/o-Prozent. Bei der eutektischen Temperatur von Kupfer und Cadmium liegt die maximale Löslichkeit von Cadmium in Kupfer zudem bei ungefähr 2,14 a/o-Prozent. Aus den gleichen Gründen wie bei den Kupfer-Silber-Legierungen ist es somit wiederum wünschenswert, das Cadmium in einer festen Kupferlösung zur Verwendung als Sputtertarget zu halten. Als Resultat ist es eine weitere Ausführungsform, dass Cadmium vorzugsweise im Bereich von 0,1 a/o-Prozent bis 5,0 a/o-Prozent dem Kupfer zugesetzt wird. Dieser Bereich umfasst die handelsüblichen Legierungen des sogenannten glühbeständigen elektrolytischen Kupfers UNS C11100 mit etwa 0,01 Gewichtsprozent Cadmium und etwa 0,04 Gewichtsprozent Sauerstoff. Außerdem umfasst es die handelsüblichen Legierungen von Cadmium und Kupfer mit den UNS-Nr. C14300 und C14310 mit Cadmiumkonzentrationen im Bereich von 0,05 Gewichtsprozent bis 0,15 Gewichtsprozent bei C14300 und 0,10 bis 0,31 Gewichtsprozent Cadmium bei C14310. Diese umfassen des Weiteren die handelsüblichen Cadmium- und Kupferlegierungen C16200 mit 0,7 Gewichtsprozent bis 1,20 Gewichtsprozent Cadmium.
  • Bei einer dritten Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise geringen Menge Gold legiert. Gold ist ein Edelmetall und erhöht die Korrosionsbeständigkeit des Kupfers. Gold ist isomorph mit Kupfer und kann dem Kupfer in einem beliebigen Anteil zugegeben werden und dennoch die Kupfer-Gold-Legierung einphasig halten. Der Goldzusatz zu Kupfer als Legierungselement ist somit theoretisch unbegrenzt und in der Praxis lediglich durch die letztendlichen Kosten der Legierung beschränkt. Der Zusammenhang zwischen der Menge von Gold und Kupfer reicht bei dieser Ausführungsform von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) zu bis etwa 30 a/o-Prozent Gold und von etwa 70 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer. Bevorzugt für jedes Metall hat diese Legierung jedoch etwa 0,1 a/o-Prozent bis etwa 5,0 a/o-Prozent Gold und 95 a/o-Prozent bis etwa 99,9 a/o-Prozent Kupfer.
  • Bei einer vierten Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise kleinen Menge Magnesium legiert. Bei dieser Ausführungsform reicht der Zusammenhang zwischen der Menge von Magnesium und Kupfer von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 10 a/o-Prozent Magnesium und von etwa 90 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer. Bevorzugt für jedes Metall hat diese Legierung jedoch etwa 0,10 a/o-Prozent bis etwa 5,0 a/o-Prozent Magnesium und etwa 95 a/o-Prozent bis etwa 99,1 a/o-Prozent Kupfer. Ähnlich wie Cadmium ist auch Magnesium ein starker Oxidbildner und Sauerstoffaufnehmbar und ist daher in der Lage, mit Restsauerstoff im Kupfer zu reagieren, um Magnesiumoxid zu bilden.
  • Bei einer fünften Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise geringen Menge Aluminium legiert. Aluminium verbessert die Korrosionsbeständigkeit von Kupfer und verzögert die Rate der Oxidbildung. Der Zusammenhang zwischen der Menge von Aluminium und Kupfer reicht bei dieser Ausführungsform von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 20 a/o-Prozent Aluminium und von etwa 80 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer. Bevorzugt für jedes Metall hat diese Legierung aber etwa 0,1 a/o-Prozent bis etwa 10 a/o-Prozent Aluminium und 90 a/o-Prozent bis 99,1 a/o-Prozent Kupfer. Dieser Bereicht umfasst die handelsüblichen Legierungen C60800 und C61000, die gemeinhin als fünfprozentige und achtprozentige Aluminiumbronze mit einer Aluminiumkonzentration von etwa 5 Gewichtsprozent und 8 Gewichtsprozent bekannt sind.
  • Bei einer sechsten Ausführungsform ist das Kupfer mit einer vergleichsweise geringen Menge Nickel legiert, das die Korrosionsbeständigkeit des Kupfers verbessert. Der Zusammenhang zwischen den Mengen an Nickel und Kupfer reicht bei dieser Ausführungsform von etwa 0,01 a/o-Prozent (Atomprozent) bis etwa 13 a/o-Prozent Nickel und von etwa 87 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent Kupfer. Dies umfasst die handelsübliche Legierung C70600, die gemeinhin als 90–10 Cupronickel bekannt ist.
  • Zusätzlich zu all den vorstehend beschriebenen binären Legierungen kann Kupfer auch mit zwei oder mehr der vorstehenden Metalle legiert werden. Beispielsweise kann auch Nickel in Kombination mit der zuvor beschriebenen Kupfer-Aluminium-Legierung enthalten sein, wie etwa die handelsübliche Legierung C61500, bei nominalen Grenzen der Zusammensetzung für Aluminium von ungefähr 7,7 Gewichtsprozent bis ungefähr 8,3 Gewichtsprozent und Nickel von ungefähr 1,8 Gewichtsprozent bis ungefähr 2,2 Gewichtsprozent.
  • Zur Vereinfachung für den Leser sind das Folgende einige Kombinationen von Metallen, die vorzugsweise mit Kupfer legiert werden können, wobei die Metalle mit ihren Symbolen in der periodischen Tabelle angegeben sind:
    Ag + Cd oder Ag + Mg oder Cd + Mg; oder Ag + Cd + Mg oder Ag + Cd + Ni oder Ag + Cd + Al oder Ag + Mg + Ni oder Ag + Mg + Al oder Ag + Ni + Al oder Cd + Mg + Ni oder Cd + Mg + Al oder Cd + Ni + Al oder Mg + Ni + Al; oder Ag + Cd + Mg + Ni oder Ag + Cd + Mg + Al oder Ag + Cd + Ni + Al oder Ag + Mg + Ni + Al; oder Ag + Mg + Ni + Al.
  • Im Allgemeinen können Silber, Cadmium, Gold, Magnesium, Aluminium, Beryllium und/oder Nickel mit Kupfer als Kombination von zwei, drei, vier oder fünf Metallen von etwa 0,01 a/o-Prozent bis etwa 15 a/o (Atomprozent) bezogen auf die vorhandene Kupfermenge legiert werden. Mit anderen Worten kann die Gesamtmenge dieser Metalle von 0,01 a/o-Prozent bis etwa 15 a/o reichen und Kupfer kann von etwa 85 a/o-Prozent bis etwa 99,99 a/o-Prozent reichen. Vorzugsweise reichen diese Metalle aber von etwa 0,1 a/o-Prozent bis etwa 6 a/o-Prozent und Kupfer reicht von etwa 94 a/o-Prozent bis etwa 99,9 a/o-Prozent.
  • Ein Beispiel eines Kupferlegierungssystems, das die meisten der vorstehend erwähnten Elementzugaben bei wesentlich verbesserter Korrosionsbeständigkeit gegenüber reinem Kupfer und hohem Reflektionsvermögen und vernünftig niedrigen Kosten umfasst, hat die folgende Zusammensetzung in Atomprozent: Silber 0,2 Prozent, Cadmium 0,3 Prozent, Magnesium 1,0 Prozent, Aluminium 1,2 Prozent und Nickel 0,8 Prozent, wobei alle anderen Verunreinigungen weniger als 0,1 Prozent betragen und der Rest Kupfer ist. Diese Legierung besitzt ein Reflektionsvermögen von ungefähr 72 Prozent bis 82 Prozent abhängig von dem Herstellungsverfahren der Legierung und den Umständen ihrer Anwendung auf der optischen Scheibe oder anderen Dünnfilmvorrichtungen.
  • Nachdem die vorstehenden Zusammensetzungen für die Ausgangsmaterialien vorgestellt wurden, ist es wichtig zu verstehen, dass sowohl der Herstellungsprozess für das Sputtertarget als auch der Prozess zur Aufbringung des Targets in einem Dünnfilm wichtige Rollen bei der Bestimmung der endgültigen Eigenschaften des Films spielen.
  • Hierzu wird nun ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung des Sputtertargets beschrieben. Im Allgemeinen wird das Vakuumschmelzen und -gießen der Legierungen oder das Schmelzen und Gießen unter einer Schutzatmosphäre bevorzugt, um die Einbringung anderer unerwünschter Verunreinigungen zu minimieren.
  • Der gegossene Rohling sollte anschließend einen Kaltbearbeitungsvorgang durchlaufen, um die Segregation und die ungleichmäßige Gieß-Mikrostruktur aufzubrechen. Eine bevorzugte Methode ist das Kaltschmieden oder eine kalte uniaxiale Kompression mit einer Größenverringerung von mehr als 50 Prozent, gefolgt von einer Vergütung, um das verformte Material zu einer feinen gleichachsigen Kornstruktur mit einer bevorzugten Textur mit <1, 1, 0>-Orientierung zu rekristallisieren. Diese Textur fordert das gerichtete Sputtern in einer Sputtervorrichtung, sodass für eine effi zientere Nutzung des Target-Materials mehr der Atome des Sputter-Targets auf den Scheibensubstraten abgeschieden werden.
  • Alternativ kann ein kalter multidirektionaler Walzvorgang mit einer mehr als 50-prozentigen Größenverringerung eingesetzt werden, gefolgt von einer Vergütung, um eine zufällig orientierte Mikrostruktur im Target zu fördern, und schließlich einer mechanischen Bearbeitung in die endgültige Form und Größe, die für eine gegebene Sputtervorrichtung geeignet sind. Dieses Target mit zufälliger Kristallorientierung führt zu einem zufälligerem Ausstoß von Atomen vom Target beim Sputtern und einer gleichmäßigeren Verteilung der Dicke im Scheibensubstrat.
  • Abhängig von den optischen und anderen Systemanforderungen verschiedener Scheiben kann entweder ein Kaltschmiede- oder ein kalter multidirektionaler Walzvorgang im Prozess der Targetherstellung angewendet werden, um die optischen und anderen Leistungsanforderungen an den Dünnfilm für eine gegebene Anwendung zu optimieren.
  • Die Legierungen können auf die zuvor beschriebenen, wohlbekannten Arten aufgebracht werden. Diese sind Sputtern, thermisches Verdampfen oder physikalisches Aufdampfen und möglicherweise elektrolytische oder stromlose Plattierungsverfahren. Abhängig von der Aufbringungsmethode kann das Reflektionsvermögen des Legierungsdünnfilms variieren. Eine Aufbringungsmethode, die der Dünnfilmschicht auf der Scheibe Verunreinigungen beifügt oder deren Oberflächenmorphologie verändert, könnte das Reflektionsvermögen der Schicht vermutlich herabsetzen. In einer Näherung erster Ordnung bestimmt sich das Reflektionsvermögen der Dünnfilmschicht auf der optischen Scheibe jedoch primär durch das Ausgangsmaterial des Sputtertargets, das Verdampfungsquellmaterial oder die Reinheit und Zusammensetzung der elektrolytischen und stromlosen Plattierungschemikalien.
  • Es ist zu verstehen, dass die reflektierende Schicht dieser Erfindung für zukünftige Generationen optischer Scheiben verwendet werden kann, die einen Leselaser kürzerer Wellenlänge benutzen, beispielsweise wenn die Wellenlänge des Leselasers kürzer als 650 Nanometer ist.
  • Außerdem ist zu verstehen, dass bei Verringerung der Dicke des reflektierenden Films auf ungefähr 50 bis 20 Nanometer aus den Legierungen dieser Erfindung eine semireflektierende Filmschicht gebildet werden kann, die ausreichende Lichtdurchlässigkeit zur Verwendung in DVD-Doppelschichtanwendungen hat.
  • V. Beispiele
  • BEISPIEL 1
  • Eine Legierungszusammensetzung von Silber mit ungefähr 8 bis 10 Atomprozent Palladium besitzt ein Reflektionsvermögen von ungefähr 89 bis 91 Prozent bei einer Wellenlänge von 800 Nanometern und ein Reflektionsvermögen von ungefähr 83 bis 85 Prozent bei einer Wellenlänge von 650 Nanometern sowie ein Reflektionsvermögen von ungefähr 78 bis 80 Prozent bei einer Wellenlänge von 500 Nanometern bei einer Filmdicke von etwa 50 bis 100 Nanometern.
  • BEISPIEL 2
  • Eine silberreiche Legierung mit 9,0 bis 9,5 a/o-Prozent Gold besitzt ein Reflektionsvermögen von ungefähr 94 bis 95 Prozent bei einer Wellenlänge von 650 Nanometern. Wenn ein Reflektionsvermögen erwünscht ist, das besser als Gold ist, kann die Goldkonzentration im Silber kontinuierlich zur reinen Silberseite des binären Phasendiagramms hin verringert werden, ohne Herstellungsschwierigkeiten für das Quellmaterial zum Sputtern oder zur thermischen Verdampfung zu begegnen.
  • Wenn die Dicke des Dünnfilms in den Bereich von 10 bis 20 Nanometern verringert wird, verringert sich das Reflektionsvermögen auf den für eine semireflektierende DVD-9-Schicht anwendbaren Bereich von 18 bis 30 Prozent. Die Zugabe einer geringen Konzentration eines Oxidbildners wie etwa Cadmium kann die Korrosionsbeständigkeit der Legierung weiter verbessern. Da Silber die Neigung hat, geringe Sauerstoffmengen im festen Zustand zu lösen, was dazu neigt, das Reflektionsvermögen der Legierung zu senken. Das zugegebene Cadmium reagiert mit dem Sauerstoff unter Bildung von Cadmiumoxid und setzt den Grad des Einflusses des Sauerstoffs auf das Reflektionsvermögen herab. Der wünschenswerte Bereich von Cadmium liegt im ungefähren Bereich von 0,01 Prozent bis 5,0 Atomprozent, wobei der bevorzugte Bereich etwa 0,1 bis 1,0 a/o-Prozent beträgt.
  • BEISPIEL 3
  • Eine silberbasierte Legierung mit etwa 5 a/o-Prozent Gold und etwa 5 a/o-Prozent Palladium besitzt ein Reflektionsvermögen von ungefähr 76 bis 80 Prozent bei einer Wellenlänge von etwa 650 Nanometern.
  • BEISPIEL 4
  • Ein Sputtertarget aus einer silberbasierten Legierung mit der Zusammensetzung von etwa 8,9 a/o-Prozent Gold, 3,8 a/o-Prozent Palladium und dem Rest Silber wurde zur Herstellung von CD-R-Scheiben mit der folgenden Prozedur verwendet: Ein flüssiger phothalozyaninbasierter Aufzeichnungsfarbstoff wurde in einem Schleuderverfahren auf ein transparentes Polycarbonatsubstrat von 1,2 mm Dicke und einem Durchmesser von 12 cm mit mittels eines Stempels spritzgeformten Vorrillen aufgetragen und getrocknet. Anschließend wurde ein hochreflektierender Dünnfilm aus einer silberbasierten Legierung in einer Dicke von ungefähr 60 Nanometern mit Hilfe eines Sputtertargets der zuvor erwähnten Zusammensetzung in einer Magnetron-Sputtermaschine auf den Aufzeichnungsfarbstoff aufgebracht. Danach wurde ein flüssiges organisches Harz in einem Schleuderverfahren auf den Dünnfilm aus silberbasierter Legierung aufgetragen und mittels ultravioletten Lichts gehärtet. Das Reflektionsvermögen der CD-R-Scheibe bei einer Wellenlänge von 780 Nanometern wurde gemessen und als sehr ähnlich zu Scheiben gefunden, die reines Gold als hochreflektierende Schicht bei ähnlicher Dicke verwenden. Die elektronischen Signale und die Blockfehlerrate der Scheibe wurden gemessen und als akzeptabel und in der CD-R-Spezifikation liegend gefunden. Indem die Scheiben 21 durchgehende Tage lang 80°C und einer relativen Feuchte von 85 Prozent ausgesetzt wurden, wurde ein beschleunigter Alterungstest durchgeführt. Nach dem Alterungstest wurden die elektronischen Signale und die Blockfehlerrate der Scheiben nochmals gemessen, und es wurde keine signifikante Verschlechterung bedingt durch den Alterungstest beobachtet.
  • BEISPIEL 5
  • Ein anderes Sputtertarget aus einer silberbasierten Legierung mit der Zusammensetzung von etwa 8,7 a/o-Prozent Gold, 8,5 a/o-Prozent Palladium und dem Rest Silber wurde verwendet, um die semireflektierende Schicht der DVD-9-Doppelschichtscheibe mit der folgenden Prozedur herzustellen: Auf eine transparente Polycarbonat-Halbscheibe einer Dicke von ungefähr 0,6 mm und einem Durchmesser von 12 cm mit mittels eines geeigneten Stempels spritzgeformten Informationspits wurde ein Schicht „Null" genannter semireflektierender Dünnfilm aus einer silberbasierten Legierung in einer Dicke von ungefähr 10 Nanometern mit Hilfe des Sputtertargets der vorstehend erläuterten Zusammensetzung in einer Magnetron-Sputtermaschine aufgebracht. Auf eine weitere transparente Polycarbonat- Halbscheibe einer Dicke von ungefähr 0,6 mm mit mittels eines weiteren geeigneten Stempels spritzgeformten Informationspits wurde ein Schicht „Eins" genannter hochreflektierender Dünnfilm aus einer aluminiumbasierten Legierung in einer Dicke von ungefähr 60 Nanometern mit Hilfe eines Sputtertargets aus einer geeigneten Aluminiumlegierung in einer weiteren Sputtermaschine aufgebracht. Diese beiden Halbscheiben wurden dann getrennt mit flüssigen organischen Harzen in einem Schleuderverfahren beschichtet, mit einander zugewandter Schicht „Null" und Schicht „Eins" miteinander verbunden und mit ultraviolettem Licht gehärtet. Der Abstand zwischen der Schicht „Null" und der Schicht „Eins" wurde bei ungefähr 55 +/– 5 Mikrometern in der Scheibe gehalten. Das Reflektionsvermögen der beiden Informationsschichten wurde von derselben Seite der Scheibe gemessen und als etwa gleich bei 19 Prozent für Laserlicht der Wellenlänge 650 Nanometer gefunden. Elektronische Signale wie Jitter und PI-Fehler wurden gemessen und als ebenfalls innerhalb der veröffentlichten DVD-Spezifikation liegend gefunden. Daraufhin wurde an diesen Scheiben ein beschleunigter Alterungstest bei 80°C und 85 Prozent relativer Luftfeuchte für 10 Tage vorgenommen. Danach wurden das Reflektionsvermögen und die elektronischen Signale erneut gemessen, und es wurden im Vergleich zu den gleichen Messungen vor dem Alterungstest keine signifikanten Änderungen beobachtet.
  • BEISPIEL 6
  • Zur Herstellung der semireflektierenden Schicht der DVD-9-Doppelschichtscheibe wurde ein Sputtertarget aus einer silberbasierten Legierung mit der Zusammensetzung in a/o von ungefähr 2,4 Prozent Gold, 1,3 Prozent Palladium, 0,2 Prozent Platin, 0,7 Prozent Kupfer und dem Rest Silber verwendet. Die zur Herstellung der Scheiben angewendete Prozedur ist die gleiche wie im obigen Beispiel 5. Das Reflektionsvermögen der beiden Informationsschichten in der fertigen Scheibe wurde von derselben Seite der Scheibe gemessen und als etwa gleich bei 25,5 Prozent für Laserlicht der Wellenlänge 650 Nanometer gefunden. Elektronische Signale wie Jitter und PI-Fehler wurden ebenfalls gemessen und als innerhalb der veröffentlichten DVD-Spezifikation liegend gefunden. Anschließend wurde ein beschleunigter Alterungstest an diesen Scheiben bei 80°C und 85 Prozent relativer Luftfeuchte für 96 Stunden vorgenommen. Danach wurden das Reflektionsvermögen und die elektronischen Signale erneut gemessen, und es wurden im Vergleich zu den gleichen Messungen vor dem Alterungstest keine signifikanten Änderungen beobachtet.
  • BEISPIEL 7
  • Ein Sputtertarget aus einer kupferbasierten Legierung mit der Zusammensetzung in a/o von ungefähr 0,8 Prozent Beryllium, 0,1 Prozent Silber, 0,6 Prozent Magnesium, 1,4 Prozent Zink und dem Rest Kupfer wurde verwendet, um die hochreflektierende Schicht der Superaudio-Compaktdisk (SACD), einem weiteren Typ einer voraufgezeichneten optischen Doppelschichtscheibe, mit der folgenden Prozedur herzustellen: Auf eine transparente Polycarbonat-Halbscheibe einer Dicke von etwa 0,6 mm und einem Durchmesser von 12 cm mit mittels eines geeigneten Stempels spritzgeformten Informationspits vom CD-Typ wurde eine hochreflektierende Schicht aus einem ungefähr 85 Nanometer dicken Dünnfilm aus einer kupferbasierten Legierung mit Hilfe des Sputtertargets der vorstehend erwähnten Zusammensetzung in einer Magnetron-Sputtermaschine aufgebracht. Auf eine weitere transparente Polycarbonathalbscheibe einer Dicke von etwa 0,6 mm und einem Durchmesser von 12 cm mit mittels eines weiteren geeigneten Stempels spritzgeformten Informationspits vom Typ Superaudio wurde ein semitransparenter und semireflektierender Dünnfilm mittels reaktiven Magnetron-Sputterns aufgebracht. Die beiden Halbscheiben wurden dann mittels UV-härtenden Harzes zusammengefügt, sodass der Abstand der herkömmlichen CD-Schicht und der hochdichten SACD-Schicht ungefähr 0,6 mm betrug. Danach wurde ein weiteres geeignetes organisches Harz in einem Schleuderverfahren auf den Dünnfilm aus der Kupferlegierung aufgetragen und mit ultraviolettem Licht gehärtet. In der fertigen Scheibe spielt ein 650 nm Laserstrahl die hochdichte SACD-Schicht durch etwa 0,6 mm dickes klares Substrat hindurch ab und ein 780 nm Laserstrahl spielt die herkömmliche CD-Schicht durch etwa 1,2 mm klares Substrat hindurch ab. Das Reflektionsvermögen der CD-Schicht mit dem Dünnfilm aus der Kupferlegierung wurde zu ungefähr 79 Prozent gemessen. Andere elektronische Signale wie Jitter und C1-Fehler wurden ebenfalls gemessen und als akzeptabel gefunden. Daraufhin wurde 7 Tage lang ein beschleunigter Alterungstest an diesen Scheiben bei 80°C und 85% RF durchgeführt. Das Reflektionsvermögen und die elektronischen Signale wurden danach erneut gemessen, und es wurden im Vergleich zu den gleichen Messungen vor dem Alterungstest keine signifikanten Änderungen beobachtet.

Claims (7)

  1. Optisches Speichermedium, umfassend: – ein erstes Substrat (14; 114; 214; 218) mit einem ersten Datenpitmuster (19; 119; 215; 219) in mindestens einer Hauptfläche; und – eine dem ersten Datenpitmuster (19; 119; 215; 219) benachbarte erste reflektierende Schicht (20; 120; 216; 220), wobei die erste reflektierende Schicht (20; 120; 216; 220) eine Metalllegierung umfasst, wobei die Metalllegierung Silber, Gold und Kupfer umfasst, wobei die Beziehung zwischen den Mengen von Silber, Gold und Kupfer durch AgxAuyCuz festgelegt ist, wobei 0,9 < x < 0,999 ist, 0,001 < y < 0,10 ist und 0,0001 < z < 0,10 ist.
  2. Medium nach Anspruch 1, wobei die erste reflektierende Schicht (216) semireflektierend ist.
  3. Medium nach Anspruch 2, wobei die erste reflektierende Schicht (216) 5 bis 20 Nanometer dick ist.
  4. Medium nach Anspruch 1, wobei die erste reflektierende Schicht (20; 120; 220) hochreflektierend ist.
  5. Medium nach einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner umfassend: – ein zweites Substrat (218) mit einem zweiten Datenpitmuster (219) in wenigstens einer Hauptfläche; und – eine dem zweiten Datenpitmuster des zweiten Substrats (218; 214) benachbarte zweite reflektierende Schicht (220; 216), wobei die zweite reflektierende Schicht (20; 120; 216; 220) eine Metalllegierung umfasst, wobei die Metalllegierung Silber, Gold und Kupfer umfasst, wobei die Beziehung zwischen den Mengen von Silber, Gold und Kupfer durch AgxAuyCuz festgelegt ist, wobei 0,9 < x < 0,999 ist, 0,001 < y < 0,10 ist und 0,0001 < z < 0,10 ist.
  6. Medium nach Anspruch 5, wobei die erste reflektierende Schicht oder die zweite reflektierende Schicht semireflektierend ist und die andere der ersten reflektierenden Schicht und der zweiten reflektierenden Schicht hochreflektierend ist.
  7. Medium nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei für die Metalllegierung der ersten reflektierenden Schicht oder/und der zweiten reflektierenden Schicht 0,05 ≤ y ≤ 0,095 und 0,0001 < z < 0,05 gilt.
DE1999620458 1998-06-22 1999-06-14 Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums Expired - Lifetime DE69920458T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US102163 1998-06-22
US09/102,163 US6007889A (en) 1998-06-22 1998-06-22 Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
PCT/US1999/013390 WO1999067084A1 (en) 1998-06-22 1999-06-14 Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69920458D1 DE69920458D1 (de) 2004-10-28
DE69920458T2 true DE69920458T2 (de) 2005-01-20

Family

ID=22288442

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2004006876 Pending DE04006876T1 (de) 1998-06-22 1999-06-14 Metalllegierungen für reflektierende und semireflektierende Schichten eines optischen Aufzeichnungsmediums
DE1999620458 Expired - Lifetime DE69920458T2 (de) 1998-06-22 1999-06-14 Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2004006876 Pending DE04006876T1 (de) 1998-06-22 1999-06-14 Metalllegierungen für reflektierende und semireflektierende Schichten eines optischen Aufzeichnungsmediums

Country Status (11)

Country Link
US (2) US6007889A (de)
EP (3) EP1094934B1 (de)
JP (1) JP2002518596A (de)
CN (1) CN1106930C (de)
AT (1) ATE277406T1 (de)
AU (1) AU742907C (de)
BR (1) BR9909880A (de)
CA (1) CA2335578C (de)
DE (2) DE04006876T1 (de)
TW (1) TW432369B (de)
WO (1) WO1999067084A1 (de)

Families Citing this family (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08339574A (ja) * 1995-04-11 1996-12-24 Sony Corp 多層光ディスク
USRE40136E1 (en) * 1995-04-11 2008-03-04 Sony Corporation Multilayer optical disk
US6165578A (en) * 1997-07-23 2000-12-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for producing the same
JPH11162013A (ja) * 1997-12-01 1999-06-18 Kao Corp 光ディスク
JP3492172B2 (ja) * 1997-12-02 2004-02-03 花王株式会社 光ディスク
US6790503B2 (en) * 1998-06-22 2004-09-14 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7384677B2 (en) 1998-06-22 2008-06-10 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium
US6764735B2 (en) 1998-06-22 2004-07-20 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6905750B2 (en) * 1998-06-22 2005-06-14 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6852384B2 (en) * 1998-06-22 2005-02-08 Han H. Nee Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7045187B2 (en) * 1998-06-22 2006-05-16 Nee Han H Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6544616B2 (en) * 2000-07-21 2003-04-08 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7314657B2 (en) * 2000-07-21 2008-01-01 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6451402B1 (en) 1998-06-22 2002-09-17 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6351446B1 (en) 1998-10-02 2002-02-26 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Optical data storage disk
WO2000021079A2 (de) * 1998-10-02 2000-04-13 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Optische datenspeicherscheibe
US6600725B1 (en) * 1998-12-16 2003-07-29 At&T Corp. Apparatus and method for providing multimedia conferencing services with selective information services
US6177168B1 (en) * 1999-03-26 2001-01-23 Warner Music Group, Inc. DVD disc with four information layers, and method for making same
JP4260972B2 (ja) * 1999-03-30 2009-04-30 ソニー株式会社 光学記録媒体
US6292457B1 (en) * 1999-03-31 2001-09-18 Eastman Kodak Company Recordable optical media with a silver-gold reflective layer
US6972076B1 (en) * 1999-10-29 2005-12-06 Sony Corporation Thin film formation use sputtering target material, thin film formed using same, and optical recording medium
US6242068B1 (en) * 1999-12-28 2001-06-05 Eastman Kodak Company Recordable optical media with a silver-palladium reflective layer
US6677104B2 (en) * 2000-02-10 2004-01-13 Tdk Corporation Optical information medium
JP3908900B2 (ja) * 2000-03-31 2007-04-25 ソニー株式会社 光学記録媒体
JP2001344808A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Sony Corp 光学記録媒体
US7316837B2 (en) * 2000-07-21 2008-01-08 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7374805B2 (en) * 2000-07-21 2008-05-20 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7314659B2 (en) * 2000-07-21 2008-01-01 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium
JP2002074740A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Hayashibara Biochem Lab Inc 光記録媒体
US6944115B2 (en) * 2000-09-29 2005-09-13 General Electric Company Colored data storage media
JP4638015B2 (ja) * 2000-10-31 2011-02-23 株式会社フルヤ金属 薄膜形成用スパッタリングターゲット材、それを用いて形成されて成る薄膜及び光学記録媒体
WO2002041004A2 (en) * 2000-11-16 2002-05-23 Burstein Technologies, Inc. Optical biodiscs with reflective layers
US7027382B2 (en) 2001-06-26 2006-04-11 Ricoh Company, Ltd. Optical recording medium having relation between reflection layer and pit lengths
US6475588B1 (en) * 2001-08-07 2002-11-05 General Electric Company Colored digital versatile disks
JP2003203341A (ja) * 2001-11-02 2003-07-18 Victor Co Of Japan Ltd 光ディスク、光ディスク記録再生装置及び光ディスク記録再生方法
US6475589B1 (en) * 2001-12-17 2002-11-05 General Electric Company Colored optical discs and methods for making the same
US7022384B2 (en) * 2002-01-25 2006-04-04 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Reflective film, reflection type liquid crystal display, and sputtering target for forming the reflective film
CN1290106C (zh) * 2002-03-07 2006-12-13 株式会社理光 光记录媒体及其制造方法
US6775839B1 (en) 2002-03-15 2004-08-10 O'brien Patrick J. Optical storage device with print layer surface feature
CN1650360A (zh) * 2002-05-03 2005-08-03 皇家飞利浦电子股份有限公司 多叠层光学数据存储介质和这种介质的使用
TWI258514B (en) * 2002-06-24 2006-07-21 Kobelco Res Inst Inc Silver alloy sputtering target and process for producing the same
US7050387B2 (en) * 2002-06-28 2006-05-23 Victor Company Of Japan, Ltd. Optical storage medium
ATE327553T1 (de) * 2002-06-28 2006-06-15 Williams Advanced Materials In Korrosionsbeständige silbermetalllegierungen für optisches aufzeichnen und beschreibbare optische aufzeichnungsmedien welche diese legierung enthalten
WO2004006228A2 (en) * 2002-07-08 2004-01-15 Academy Corporation Reflective or semi-reflective metal alloy coatings
US7572517B2 (en) * 2002-07-08 2009-08-11 Target Technology Company, Llc Reflective or semi-reflective metal alloy coatings
US7514037B2 (en) * 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
CN100454141C (zh) * 2002-08-27 2009-01-21 奥博杜卡特股份公司 用于将图案转印到物体的设备
CN1729523A (zh) * 2002-12-19 2006-02-01 皇家飞利浦电子股份有限公司 双堆栈光学数据存储介质及其使用
EP1464714A1 (de) * 2003-02-13 2004-10-06 W.C. Heraeus GmbH & Co. KG Legierungen sowie Reflektorschicht, und deren Verwendung
JP2006520983A (ja) * 2003-03-18 2006-09-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光記録担体の平坦化ヒートシンクまたは反射層
JP2006523913A (ja) * 2003-04-18 2006-10-19 ターゲット・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー 光蓄積媒体の反射層または半反射層のための合金
JP2005004944A (ja) * 2003-05-16 2005-01-06 Ricoh Co Ltd 光記録媒体及びその記録再生方法と装置
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
US7241506B2 (en) * 2003-06-10 2007-07-10 Cardinal Cg Company Corrosion-resistant low-emissivity coatings
US20050050571A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-03 Wisnudel Marc Brian Limited-play recordable data storage media and associated methods of manufacture
WO2005035237A1 (en) * 2003-10-09 2005-04-21 Target Technology Company, Llc Multi-layer optical information storage medium and method of making the same
US20050221050A1 (en) * 2004-03-19 2005-10-06 Michiaki Shinotsuka Two-layered optical recording medium, method for manufacturing the same, and, method and apparatus for optical recording and reproducing using the same
TWI325134B (en) * 2004-04-21 2010-05-21 Kobe Steel Ltd Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
DE602005003508T2 (de) * 2004-06-29 2008-10-23 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho, Kobe Halbreflektierender Film und refkektierender Film für ein optisches Informationsaufzeichnungsmedium, optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Sputtering-Target
JP3907666B2 (ja) * 2004-07-15 2007-04-18 株式会社神戸製鋼所 レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体
US20060093511A1 (en) * 2004-11-03 2006-05-04 Jhewn-Kuang Chen Reflective alloy film
JP2006240289A (ja) * 2005-02-07 2006-09-14 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用記録膜および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット
JP2006294195A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kobe Steel Ltd 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
US20070224385A1 (en) * 2005-07-08 2007-09-27 Oc Oerlikon Balzers Ag Wavelength selective dielectric filter and its application to optical disks
US20070007357A1 (en) * 2005-07-08 2007-01-11 Oc Oerlikon Balzers Ag Wavelength-selective metal dielectric filter and its application to optical discs
US20070014963A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Nee Han H Metal alloys for the reflective layer of an optical storage medium
JP2007035104A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP4377861B2 (ja) * 2005-07-22 2009-12-02 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP4527624B2 (ja) * 2005-07-22 2010-08-18 株式会社神戸製鋼所 Ag合金反射膜を有する光情報媒体
US8449965B2 (en) * 2005-09-05 2013-05-28 Ricoh Company, Ltd. Multilayer optical recording medium and optical recording method
JP4377877B2 (ja) 2005-12-21 2009-12-02 ソニー株式会社 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007335061A (ja) * 2006-05-16 2007-12-27 Sony Corp 光情報記録媒体とそのBCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
US20070269670A1 (en) * 2006-05-17 2007-11-22 Ronald Wilmer Multilayered structures and their use as optical storage media
US8092889B2 (en) * 2006-08-28 2012-01-10 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media
JP2008117470A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Sony Corp 光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法、BCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
US7613869B2 (en) * 2006-11-27 2009-11-03 Brigham Young University Long-term digital data storage
JP4540687B2 (ja) * 2007-04-13 2010-09-08 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ 読み出し専用の光情報記録媒体
JP4694543B2 (ja) * 2007-08-29 2011-06-08 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法
US8445091B2 (en) * 2007-08-22 2013-05-21 Thomson Licensing Dual metal optical discs
JP4833942B2 (ja) * 2007-08-29 2011-12-07 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット
JP2009076129A (ja) 2007-09-19 2009-04-09 Kobe Steel Ltd 読み出し専用の光情報記録媒体
JP5046890B2 (ja) * 2007-11-29 2012-10-10 株式会社コベルコ科研 Ag系スパッタリングターゲット
US8130438B2 (en) * 2008-07-03 2012-03-06 Ajjer Llc Metal coatings, conductive nanoparticles and applications of the same
JP5331420B2 (ja) 2008-09-11 2013-10-30 株式会社神戸製鋼所 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の半透過反射膜形成用スパッタリングターゲット
JP2010225572A (ja) * 2008-11-10 2010-10-07 Kobe Steel Ltd 有機elディスプレイ用の反射アノード電極および配線膜
JP4735734B2 (ja) * 2009-04-02 2011-07-27 Tdk株式会社 光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、ならびに、光メディア、およびその製造方法
CN102369571A (zh) 2009-04-14 2012-03-07 株式会社神户制钢所 光信息记录媒体、形成光信息记录媒体的反射膜用的溅射靶
SE536911C2 (sv) * 2011-02-09 2014-10-28 Impact Coatings Ab Material för att åstadkomma ett elektriskt ledande kontaktskikt, ett kontaktelement med sådant skikt, metod för att åstadkomma kontaktelementet, samt användning av materialet
JP7186657B2 (ja) * 2019-04-02 2022-12-09 鹿島建設株式会社 鋼管矢板基礎の構築方法

Family Cites Families (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7803069A (nl) * 1978-03-22 1979-09-25 Philips Nv Meerlaags informatieschijf.
FR2474223A1 (fr) * 1980-01-23 1981-07-24 Thomson Csf Procede d'inscription thermo-optique d'information et support d'information destine a la mise en oeuvre de ce procede
NL8102283A (nl) * 1981-05-11 1982-12-01 Philips Nv Optisch uitleesbare informatieschijf met een reflectielaag gevormd uit een metaallegering.
JPS6119747A (ja) * 1984-07-04 1986-01-28 Hitachi Ltd 分光反射率可変合金及び記録材料
JPS6169935A (ja) * 1984-09-14 1986-04-10 Hitachi Ltd 分光反射率可変合金及び記録材料
DE3728106A1 (de) * 1987-08-22 1989-03-02 Philips & Du Pont Optical Optisch auslesbarer, plattenfoermiger informationstraeger
US4998239A (en) * 1987-10-07 1991-03-05 The Dow Chemical Company Optical information recording medium containing a metal alloy as a reflective material
US5155723A (en) * 1988-07-30 1992-10-13 Yuden Co., Ltd. Taiyo Optical information recording method and medium
US5090009A (en) * 1988-07-30 1992-02-18 Taiyo Yuden Co., Ltd. Optical information recording medium
US5171392A (en) * 1988-11-08 1992-12-15 Pioneer Electronic Corporation Method of producing an optical information record carrier
CA2017284C (en) * 1989-07-04 1995-10-03 Kazutomi Suzuki Optical recording medium
JP2541677B2 (ja) * 1989-08-09 1996-10-09 帝人株式会社 光記録媒体
JPH03286432A (ja) * 1990-03-31 1991-12-17 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報記録媒体
JPH0512710A (ja) * 1991-07-03 1993-01-22 Hitachi Maxell Ltd 光情報記録媒体
US5325351A (en) * 1990-10-22 1994-06-28 Tdk Corporation Optical recording medium having a reflective layer made of Cu-Ag or Cu-Au alloy
JPH05195011A (ja) * 1991-08-17 1993-08-03 Werkzeugbau Alvier Ag 螺旋形状の輪郭を有する工作物をプレス成形するモジュラー装置
JP3023226B2 (ja) * 1991-10-25 2000-03-21 日本碍子株式会社 撹拌機の撹拌性能測定方法
JPH05132129A (ja) * 1991-11-11 1993-05-28 Murata Mach Ltd ピツキング装置
JP3114755B2 (ja) * 1991-12-27 2000-12-04 旭硝子株式会社 板状部材の支持構造及び支持部材
JP2989065B2 (ja) * 1992-02-04 1999-12-13 株式会社ミツバ 回転体の不釣り合い修正装置
JPH05215547A (ja) * 1992-02-06 1993-08-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> ステレオ画像間対応点決定方法
JPH05233110A (ja) * 1992-02-17 1993-09-10 Nec Corp 活線挿抜方式
JP2849500B2 (ja) * 1992-03-04 1999-01-20 シャープ株式会社 半導体レーザの製造方法
JP3174818B2 (ja) * 1992-03-05 2001-06-11 規夫 真崎 溶解速度の向上した結晶の製造方法
JPH05249821A (ja) * 1992-03-10 1993-09-28 Ricoh Co Ltd 2成分系現像システム
JP3140200B2 (ja) 1992-03-10 2001-03-05 株式会社日立製作所 内燃機関の制御装置
JPH05277809A (ja) * 1992-03-27 1993-10-26 Kawatetsu Techno Res Corp 管ねじ切り用チップ及びその製造装置
JPH0665594A (ja) * 1992-06-17 1994-03-08 Lion Corp 低濃度でも洗浄性能を有する洗浄剤組成物
JP3199486B2 (ja) * 1992-06-30 2001-08-20 ティーディーケイ株式会社 光記録ディスク
JP3292890B2 (ja) * 1992-08-10 2002-06-17 株式会社リコー 光反射放熱用材料を用いた相変化形光記録媒体
JP2657597B2 (ja) * 1992-08-28 1997-09-24 ティーディーケイ株式会社 光記録ディスク
JPH06111259A (ja) * 1992-09-24 1994-04-22 Sony Corp ビデオヘッド及びその取り付け法
US5419939A (en) * 1992-09-24 1995-05-30 Tdk Corporation Optical recording disk
JP2841258B2 (ja) * 1992-10-11 1998-12-24 株式会社堀場製作所 蛍光x線定性分析方法
JPH06143042A (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 Ricoh Co Ltd 電極素材及び放電加工用電極の取付装置
JP2881082B2 (ja) * 1992-11-04 1999-04-12 石川島芝浦機械株式会社 ロータリ耕耘装置の耕深調節連動リアカバー
EP0598283B1 (de) * 1992-11-16 1997-10-29 Bayer Ag Kontinuierliches Verfahren zur Umsatzsteuerung von Polyurethan-Prepolymeren durch teilweise Vermischung des Prepolymeren mit den Monomeren
JP2531333B2 (ja) * 1993-02-05 1996-09-04 東洋製罐株式会社 包装容器入りホウレンソウおよびその製造方法
JPH06253971A (ja) * 1993-03-08 1994-09-13 Tsutomu Yoneyama 栗採取具
JPH0776177A (ja) * 1993-06-18 1995-03-20 Nippon Kayaku Co Ltd 感熱転写用シート
JPH0714221A (ja) * 1993-06-25 1995-01-17 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 光記録媒体の製造方法
JPH0736958A (ja) * 1993-06-29 1995-02-07 Toshiba Corp 情報処理装置
JPH0738628A (ja) * 1993-07-16 1995-02-07 Fujitsu Ltd スケジュール機能付き電話機
JPH07105575A (ja) * 1993-10-07 1995-04-21 Mitsubishi Chem Corp 光記録媒体
JPH07116045A (ja) * 1993-10-26 1995-05-09 Suzuki Shimesu 自動車用ホーンボタン
JP2643807B2 (ja) 1993-11-17 1997-08-20 株式会社大和電機製作所 車輪駆動発電装置
JPH07223758A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Canon Inc 紙幅検知装置及びシート給送装置及び画像形成装置
JPH0814667A (ja) * 1994-06-24 1996-01-19 Hatano Seisakusho:Kk 浴槽用給湯循環接続具及び給湯通路分割具
JP3410221B2 (ja) * 1994-07-05 2003-05-26 株式会社エムアールディー パチンコ機の玉受皿
JP3698744B2 (ja) * 1994-07-25 2005-09-21 光洋精工株式会社 車軸用キャップ
JP2846247B2 (ja) * 1994-08-08 1999-01-13 株式会社神戸製鋼所 ジルコニウム合金を含む放射性金属廃棄物の減容処理方法および装置
JPH08115029A (ja) * 1994-10-17 1996-05-07 Fuji Xerox Co Ltd クリーニング装置
JPH08149725A (ja) * 1994-11-15 1996-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転電機の固定子
US5726969A (en) * 1994-12-28 1998-03-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical recording medium having dual information surfaces
JPH08339574A (ja) * 1995-04-11 1996-12-24 Sony Corp 多層光ディスク
JPH08297858A (ja) * 1995-04-27 1996-11-12 Pioneer Video Corp 光ディスク及びその製造方法
JP3008819B2 (ja) * 1995-05-31 2000-02-14 日本ビクター株式会社 光ディスク
JPH097226A (ja) * 1995-06-20 1997-01-10 Hitachi Maxell Ltd 光情報記録媒体
US5640382A (en) * 1995-12-19 1997-06-17 Imation Corp. Dual layer optical medium having partially reflecting metal alloy layer
JPH10158147A (ja) * 1996-11-29 1998-06-16 Kenji Nakamura 皮膚保護用の被膜組成物とそれを用いた製品
WO2000021079A2 (de) 1998-10-02 2000-04-13 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Optische datenspeicherscheibe
US6292457B1 (en) * 1999-03-31 2001-09-18 Eastman Kodak Company Recordable optical media with a silver-gold reflective layer

Also Published As

Publication number Publication date
AU742907C (en) 2005-01-06
DE69920458D1 (de) 2004-10-28
JP2002518596A (ja) 2002-06-25
CN1106930C (zh) 2003-04-30
US6280811B1 (en) 2001-08-28
DE04006876T1 (de) 2004-11-11
WO1999067084A1 (en) 1999-12-29
CA2335578C (en) 2006-04-11
EP1441335A2 (de) 2004-07-28
EP1094934A1 (de) 2001-05-02
EP1742211A3 (de) 2007-01-24
CN1302253A (zh) 2001-07-04
TW432369B (en) 2001-05-01
AU4682499A (en) 2000-01-10
BR9909880A (pt) 2000-12-26
US6007889A (en) 1999-12-28
CA2335578A1 (en) 1999-12-29
ATE277406T1 (de) 2004-10-15
EP1094934A4 (de) 2001-12-05
EP1742211A2 (de) 2007-01-10
EP1094934B1 (de) 2004-09-22
EP1441335A3 (de) 2005-01-05
AU742907B2 (en) 2002-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69920458T2 (de) Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums
DE60125846T2 (de) Metalllegierungen für die reflektierende oder semireflektierende Schicht eines optischen Speichermediums
DE10152889B4 (de) Reflektierende Schicht oder semi-transparente reflektierende Schicht für die Verwendung in optischen Informationsaufzeichnungsmedien, optische Informationsaufzeichnungsmedien und Sputter-Target für die Verwendung in den optischen Informationsaufzeichnungsmedien
DE602005003508T2 (de) Halbreflektierender Film und refkektierender Film für ein optisches Informationsaufzeichnungsmedium, optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Sputtering-Target
DE60037045T2 (de) Optisches Aufzeichnungsmedium und Herstellungsverfahren dafür
DE602004006938T2 (de) Sputtertarget aus einer Aluminiumlegierung, und reflektierender Film.
DE69837168T2 (de) Optisches Informationsaufzeichnungsmedium
DE60021968T2 (de) Optischer Informationsträger und Leseverfahren
DE60114327T2 (de) Optisches Informationsaufzeichungsmedium, Herstellungsverfahren, Verfahren zur Aufzeichnung und Wiedergabe, und Aufzeichnungs- und Wiedergabegerät
WO2005056848A1 (ja) 反射膜用の銀合金
DE19916051C2 (de) Aufzeichnungsmedium
DE60311804T2 (de) Datenaufzeichnungsmedium und herstellungsverfahren hierfür
EP1760708B1 (de) Aufzeichnungsschicht und Sputtertargets für optische Informationsaufzeichnungsmedien sowie optische Informationsaufzeichnungsmedien
DE60103795T2 (de) Optisches Aufzeichnungsmedium mit einer orientierten Silberreflexionsschicht
DE602005004686T2 (de) Optisches Datenspeichermedium
DE60300474T2 (de) Optische Platte vom Nur-Lesen-Typ mit hoher Dichte
EP0328368B1 (de) Datenaufzeichnungsmedium
DE602005002662T2 (de) Optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69832335T2 (de) Medium für optische Datenaufzeichnung
DE3803013A1 (de) Verfahren zur herstellung eines flaechenfoermigen, mehrschichtigen, magneto-optischen aufzeichnungsmaterials
EP0229650B1 (de) Optisches Aufzeichnungsmedium, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung als Read Only Memory-Informationsträger
DE602004005007T2 (de) Optisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu seiner herstellung
DE60301465T2 (de) Lösungsmittelzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums unter Verwendung dieser Zusammensetzung, und optisches Aufzeichnungsmedium
EP0446784A2 (de) Magnetooptische Datenplatte
EP0293741B1 (de) Flächenförmiges, mehrschichtiges, laseroptisches Aufzeichnungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition