DE60124239T2 - Elektrodenvorrichtung für einen Plasmareaktor - Google Patents

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Description

  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft im Allgemeinen Vorrichtungen und Verfahren zur Gasionisierung und insbesondere Reaktoren und Verfahren für ein kapazitiv gekoppeltes Gasplasma.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Reaktoren für ein kapazitiv gekoppeltes Plasma sind gewöhnlich aus einem Paar paralleler Plattenelektroden aufgebaut, die einander zugewandt, parallel beabstandet und in einer Unterdruckkammer angeordnet sind. Ein äußeres elektrisches Feld, das ein Gleichspannungsfeld oder ein Wechselspannungsfeld ist, wird an die gegenüberliegenden Elektroden angelegt. Bei geringem Druck und bei einem geeigneten Abstand zwischen den Elektroden kann ein stabiles Plasma erzeugt und aufrechterhalten werden, indem das zwischen den Elektroden strömende Gas zuerst ionisiert wird und dann eine Glimmentladung erzeugt wird. Mehrere Paare paralleler Platten mit abwechselnder Polarität können beabstandet angeordnet und/oder aufgestapelt sein, um mehrere Bereiche zu bilden, in denen eine Plasmaentladung auftreten kann. Derartige Reaktoren für ein kapazitiv gekoppeltes Plasma sind in einer Vielzahl von Industrien für Anwendungen wie etwa das Ätzen von Substraten, das Reinigen von Substraten, die Ablagerung einer Substratschicht, die Gasbehandlung, als Ionenstrahlquelle sowie für verschiedene chemische Reaktionen in großem Umfang verwendet worden.
  • Wie der Ausdruck "kapazitiv gekoppeltes Plasma" impliziert, bilden die Elektroden einen Kondensator, der typischerweise vom Parallelplattentyp ist. Der grundlegendste Typ besteht einfach aus zwei ebenen Platten mit entgegengesetzter elektrischer Polarität und wird häufig als eine "Planardiode" bezeichnet. Die Elektroden können in einer Vielzahl von geometrischen Konfigurationen angeordnet sein, die Konfigurationen mit gekrümmten Oberflächen enthalten, wie etwa konzentrische, parallel angeordnete Zylinder oder konzentrische Kugeln mit parallel verlaufenden Tangenten. Die Oberflächen der Elektroden mit abwechselnder Polarität sind typischerweise in der gesamten Struktur gleichmäßig beabstandet, um die parallele Plattenbeziehung aufrechtzuerhalten. Die geometrische Regelmäßig keit und Symmetrie zwischen den Oberflächen der Elektroden in derartigen Strukturen sollten für die Herstellung eines gleichförmigen elektrischen Feldes und somit eines gleichförmigeren Plasmas vorteilhaft sein. Konkave oder konvexe Paare von Elektroden aus ebenen Platten sind außerdem verwendet worden, um die Intensität der Plasmakonzentration in bestimmten Bereichen für spezielle Anwendungen zu fokussieren oder zu defokussieren, wie etwa Fixpunktsputtern, Fixpunktätzen oder um eine fokussierte Ionenquelle zu schaffen. Mehrere Konstruktionen aus kapazitiv gekoppelten parallelen Plattenelektroden mit unterschiedlichen geometrischen Konfigurationen des Standes der Technik werden in dem US-Patent Nr. 4.735.633 mit dem Titel "Method and System for Vapor Extraction From Gases" gelehrt, das an den Erfinder der vorliegenden Erfindung erteilt wurde und auf den Anmelden der vorliegenden Erfindung übertragen ist. Die Elektrodenkonfigurationen, die in dem Patent' 633 gelehrt werden, schaffen ein großes Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Volumen für kompakte Plasmareaktoren. Reaktoren, die Elektrodenkonfigurationen verwenden, die in dem '633er Patent gelehrt werden, sind in der Industrie erfolgreich verwendet worden, um eine Reaktionseffizienz von mehr als 99% zu schaffen.
  • Neben dem Elektrodenabstand ist der Betriebsdruck ein weiterer kritischer Parameter für die Erzeugung und Aufrechterhaltung eines Plasmas in Reaktoren für ein kapazitiv gekoppeltes Plasma. Ein stabiles Glimmentladungsplasma kann bei niedrigeren Drücken wirkungsvoller und leichter aufrechterhalten werden. Das ist der Fall, da die Herstellung und Aufrechterhaltung des Plasmas von der Ionisierung von Gasmolekülen in dem Reaktorvolumen abhängt, um genügend Sekundärelektroden zu erzeugen, die an dem kaskadenförmigen Kollisionsionisierungsprozess teilnehmen, um den Verlust von Elektronen (und Ionen) an den Elektrodenoberflächen zu kompensieren und auszugleichen. Die mittlere freie Weglänge, d. h. die durchschnittliche Strecke, die ein Primärelektron in dem Reaktorvolumen zurücklegt, bevor es mit einem Molekül kollidiert, um Sekundärelektronen zu erzeugen, hängt vom Betriebsdruck ab. Im Allgemeinen gilt, je höher der Druck, desto kleiner ist der Wert der mittleren freien Weglänge. Der Wert der mittleren freien Weglänge stellt eine Einschränkung der Strecke dar, über die die Primärelektronen in dem elektrischen Potential zwischen den Elektroden beschleunigt werden können, um die Ionisierungsenergie zu erreichen, die erforderlich ist, um den Ionisierungsprozess zu ermöglichen. Deswegen gilt, je kleiner der Wert der mittleren freien Weglänge ist, desto kleiner ist die Ionisierungsenergie, die ein Elektron bei einem vorgegebenen Betriebspotential erreichen wird, bevor es mit einem Gasmolekül kollidiert, und desto geringer ist die Wahrscheinlichkeit, dass eine Sekundärionisierung erfolgt.
  • Bei einem vorgegebenen Betriebsdruck bestimmt der Elektrodenabstand die Anzahl der Ionisierungskollisionen, an denen ein Elektron beteiligt ist, in der mittleren freien Weglänge, bevor es die Elektrodenoberfläche erreicht und darin verschwindet. Bei einem sehr kleinen Elektrodenabstand kann keine Glimmentladung erzeugt und aufrechterhalten werden. Dieser Raum ist als Dunkelraum bekannt. Nachdem ein Plasma in dem Reaktorvolumen gezündet wurde, wird es selbst zu einer leitenden Schicht, die einer Elektrode gleichbedeutend ist. Zwischen dem Plasma und den Elektroden gibt es immer einen Raumspalt, in dem keine Glimmladungsionisierung erfolgt. In diesem Spalt werden lediglich Ionen und Elektronen ohne weitere Glimmionisierungsentladung beschleunigt und dieser Raum ist als "Dunkelraumblende" bekannt. Die Dicke der Dunkelraumblende ist ebenfalls druckabhängig.
  • Der Punkt, an dem die Gasmoleküle durchbrechen und ein stabiles Glimmentladungsplasma erzeugt und aufrechterhalten werden kann, hängt somit von der Beziehung zwischen dem Potential des angelegten externen elektrischen Felds, der Durchbruchspannung, dem Elektrodenabstand und dem Betriebsdruck ab. Paschen hat experimentell festgestellt, dass die Durchbruchspannung (V) sich mit dem Produkt aus Druck P (in der Einheit Torr) und dem Elektrodenabstand d (in der Einheit cm) verändert. Die von Paschen gekennzeichneten Beziehungen sind als das Gesetz der Glimmentladung bekannt und sind in den "Paschen-Kurven", die in 1 gezeigt sind, wiedergegeben. 1 zeigt Paschen-Kurven 10 für mehrere unterschiedliche Gase. Die Elektrodenkonstruktion für einen Plasmareaktor mit kapazitiv gekoppelten Parallelplatten muss die physikalischen Forderungen erfüllen, die durch die Paschen-Kurven gezeigt sind.
  • Die Paschen-Kurven 10 von 1 zeigen, dass es eine minimale Durchbruchspannung (V) für jedes Gas für das Produkt von Pd bei etwa 1 Torr·cm, d. h. bei etwa 0,15 gibt. Das bedeutet praktisch, wenn der Abstand zwischen parallelen Plattenelektroden auf etwa 1 cm festgelegt ist, wird die niedrigste externe Spannung, die an die Elektroden angelegt werden muss, um eine Ionisierung und einen Durchbruch eines mit Unterdruck beaufschlagten Gases auszulösen, bei einem Druck von etwa 1 Torr erreicht. Wie aus den Paschen-Kurven 10 ersichtlich ist, steigt bei einem vorgegebenen Elektrodenabstand d dann, wenn der Druck P größer wird, die minimale externe Spannung, die erforderlich ist, um den Durchbruchparameter von 1 Torr·cm zu erfüllen, langsam an. Wenn der Druck jedoch verringert wird, steigt die minimal erforderliche Spannung stark an (linear zu Pd). Somit kann z. B. bei einer Spannungsversorgung, die eine maximale Spannung 1000 V liefern kann, ein Reaktor mit einem festen Elektrodenabstand von etwa 1 cm bei Drücken bis zu etwa 300 Torr für Neongas z. B. für Neonlicht-Anwendungen betrieben werden. Die gleiche 1000 V-Spannungsversorgung ist jedoch nicht in der Lage, ein Plasma in Neongas bei Drücken unter etwa 0,1 Torr zu erzeugen und aufrechtzuerhalten, es sein denn der Elektrodenabstand wird mehrfach vergrößert, so dass die Durchbruchspannung 15 der Paschen-Kurve 10 bei einem Pd-Wert unterhalb der maximalen Grenze der Spannungsversorgung von 1000 V auftritt.
  • In einer praktischen Anwendung bestimmen somit die Beziehungen, die in den Paschen-Kurven 10 gezeigt sind, den minimalen Elektrodenabstand und somit die minimale Größe für einen Reaktor bei einem vorgegebenen Wert der Spannungsversorgung und Bereich des Betriebsdrucks. In den meisten Anwendungen ist es erwünscht, eine Niederspannungsversorgung, entweder mit Wechselspannung oder Gleichspannung statt einer Hochspannungsversorgung, wegen der grundsätzlich geringeren Kosten von Niederspannungsversorgungen zu verwenden. Es ist außerdem erwünscht, einen kleineren Abstand zwischen Elektroden zu verwenden, so dass der Reaktor kleiner und kompakter wird. Wenn jedoch ein Betrieb bei Drücken unter etwa 0,5 Torr erfolgt, die in bestimmten Anwendungen erforderlich sein können, wie etwa bei vielen Halbleiterverarbeitungsanwendungen, muss der Elektrodenabstand auf einige Zentimeter oder mehr vergrößert werden, wodurch die Reaktorgröße ansteigt, oder es müssen alternativ beträchtlich teurere Hochspannungsversorgungen verwendet werden. Obwohl zusätzliche Magnetfeldquellen verwendet könnten, um das Plasma bei Betriebsanwendungen mit sehr niedrigem Druck zu begrenzen, ist diese Lösung bei hohen Kosten kompliziert und stört des Weiteren die kapazitive Kopplung der angelegten und der abgeleiteten Plasmaenergie und führt weitere Nebenwirkungen ein.
  • Das oben erwähnte Patent '633 lehrt, die Effizienz eines Reaktors mit vorgegebener Größe maximal zu machen, indem der Flächenbereich der Elektroden in dem Reaktorvolumen auf eine spezielle Art maximal zu machen, um die Reaktionseffizienz zu vergrößern. Obwohl der Reaktor, der in dem Patent '633 gelehrt ist, hauptsächlich für eine Verwendung bei Anwendungen der Halbleiterherstellung vorgesehen war, um schädliche Abgase zu zerlegen und zu entsorgen, schafft die in dem Patent beschriebene Plasmabearbeitung außerdem ein sehr wirksames Mittel, um Materialien zu verarbeiten, wie etwa durch Sputtern, Ätzen, Ablagern, Oberflächenbehandlung usw. Sie schafft außerdem ein wirkungsvolles Reaktionsmittel von gasförmigen Chemikalien, um erwünschte Nebenprodukte zu erzeugen, z. B. durch chemische Synthese, Polymerbildung, chemische Dissoziation usw. Vorteile dieses Typs der Plasmabearbeitung gegenüber anderen chemischen Verfahren enthalten einen wesentlich verringerten Energieverbrauch und eine wesentlich verbesserte Reaktionseffizienz bei verhältnismäßig niedrigen Temperaturen. Ein Plasmareaktor des im Patent '633 gelehrten Typs, der kommerziell verwendet wurde, trägt die Handelsmarke DryScrub® und wird durch den Anmelder der vorliegenden Erfindung vertrieben. Wie in dem Patent '633 gelehrt ist, nutzt der Reaktor DryScrub® den Vorteil eines großen Verhältnisses zwischen Elektrodenflächenbereich und Plasmavolumen und einen langen Gasströmungsweg, um die chemische Reaktion an den Elektrodenflächen maximal zu machen. Dies macht die Reaktionsrate und die Reaktionseffizienz maximal im Vergleich zur Gasphasenreaktion im eigentlichen Gasstrom.
  • Wie in dem Patent '633 gelehrt ist, beträgt für ein Paar paralleler Plattenelektroden der Flächenbereich jeder Oberfläche von jeder Elektrode A und der Gesamtflächenbereich der zugewandten Flächen des Elektrodenpaars beträgt 2A. Das zwischen den Flächen eingeschlossene Volumen beträgt 2Ad für einen festen Abstand d zwischen den Elektroden. Für einen Niederdruckbetrieb muss der Elektrodenabstand d aus den oben beschriebenen Gründen vergrößert werden. Das Plasmavolumen vergrößert sich ebenfalls mit einem Anstieg des Elektrodenabstands d und deswegen verringert sich das Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Volumen umgekehrt proportional zu dem ansteigenden Abstand d. Deswegen hat eine Verringerung des Betriebsdrucks einen Verlust von einigen oder allen Flächenreaktionsvorteilen zur Folge, es sei denn, der Flächenbereich der Elektroden kann in irgendeiner Weise vergrößert werden. Eine Möglichkeit zur Vergrößerung des Flächenbereichs der Elektroden besteht natürlich darin, die Abmessungen des Reaktors und somit der Elektroden zu vergrößern. Aus verschiedenen Gründen, die die Kosten sowie Anwendungs- oder Konstruktionseinschränkungen enthalten, kann dies nicht erwünscht oder sogar unmöglich sein. Es muss deswegen eine Möglichkeit gefunden werden, den Flächenbereich der Elektroden in dem Reaktorvolumen zu vergrößern, ohne die Abmessung des Reaktors unter anderem für Niederdruckanwendungen zu vergrößern.
  • Beispiele der verwandten Technik enthalten das Patent US-A-5.330.578, das eine Plasmabehandlungsvorrichtung offenbart; das Patent US-A-4.735.633, das ein Verfahren und ein System zum Entfernen von in einer Dampfphase befindlichen Abfallstoffen aus ausströmenden Gasströmen offenbart; das Patent US-A-5.543.688, das eine Plasmaerzeugungsvorrichtung mit verschachtelten Elektroden und ein entsprechendes Verfahren offenbart; und das Patent US-A-5.820.947, das ein Plasmabearbeitungsverfahren und eine Dampfphasenvorrichtung offenbart, wobei eine Oberfläche einer der Elektroden der Vorrichtung eine ungleichmäßige Form besitzt.
  • Die vorliegende Erfindung widmet sich diesem Problem, indem sie ein neues und einmaliges Elektrodendesign schafft. Eine Hauptaufgabe des neuen Elektrodendesigns besteht darin, den Oberflächenbereich der Elektroden im Wesentlichen zu vergrößern, ohne das Volumen des Reaktors wesentlich zu vergrößern. Das neue Elektrodendesign schafft sehr wirkungsvolle Elektrodenflächenreaktionen über einen wesentlich vergrößerten Bereich von Betriebsparametern in Parallelplatten-Reaktoren für ein kapazitiv gekoppeltes Plasma sowie Verfahren des Typs, der im Patent '633 gelehrt ist, ohne eine wesentliche Vergrößerung des Reaktors. Daher vergrößert das neue Elektrodendesign außerdem den Anwendungsbereich für derartige Reaktoren und Verfahren.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die herkömmliche Denkweise, die in dem Patent '633 dargestellt ist, bestand darin, Paare von parallelen Plattenelektroden zu bilden, wobei sich gegenüberliegende Flächen seitlich erstrecken und keinerlei Vorsprünge in das offene Volumen zwischen den gegenüberliegenden oder benachbarten Flächen der Elektroden vorhanden sind. Es war unerwünscht, dass sich irgendwelche Flächenabschnitte in den Raum zwischen den Elektroden erstrecken oder vorstehen, da dies den Abstand zwischen den Elektroden an diesem Punkt oder diesen Punkten verringern würde. Es bestand eine bedeutende Gefahr, dass dies einen Kurzschlussweg erzeugen würde, der eine Bogenentladung zwischen den Elektroden bewirken würde. Es war deswegen erwünscht, die Elektroden in der Weise zu entwerfen, dass ihre gegenüberliegenden Flächen möglichst eben und möglichst sanft gekrümmt sein sollten, um dieses erkannte Problem zu vermeiden. Darüber hinaus bestand aus den Gründen, die oben in Bezug auf die Paschen-Kurven erläutert wurden, die Gefahr, dass eine Verringerung des Abstands zwischen Elektroden die Erzeugung, die Aufrechterhaltung und die Qualität des Glimmentladungsplasmas nachteilig beeinflussen könnte. Dies war der herkömmliche Wissenstand bei Entwurf und Konstruktion von Elektroden.
  • Gemäß der Erfindung werden eine Vorrichtung und ein Verfahren geschaffen, die in den unabhängigen Ansprüchen definiert sind. Bevorzugte Merkmale der Vorrichtung und des Verfahrens sind in ihren entsprechenden abhängigen Ansprüchen definiert.
  • Zumindest die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stehen in Bezug auf Entwurf und Konstruktion der Elektrode im Widerspruch zum herkömmlichen Kenntnisstand. In der Erfindung ist vorzugsweise ein Paar Elektroden mit abwechselnder Polarität mit mehreren "L-förmigen" und "7-förmigen" Rippenvorsprüngen konfiguriert, um eine so genannte "L7"-Elektrodenstruktur zu bilden. Die Vorsprünge erstrecken sich vorzugsweise in den offenen Raum zwischen den benachbarten gegenüberliegenden Elektroden und sind verschachtelt angeordnet. Die Elektroden mit ihren verschachtelten Vorsprüngen bilden nahezu rechtwinklige "L7"-förmige Kanäle mit einem oder mehreren Zwischenräumen oder Spalten z. B. an einer oder mehreren diagonalen Ecken. Eine großflächigere Ausführungsform verwendet einen Entwurf des Gittertyps, bei dem mehrere Paare von Elektroden mit entgegengesetzter Polarität, die jeweils Vorsprünge aufweisen, in der Weise zusammengefügt sind, dass die Vorsprünge in dem Raum zwischen den Elektroden verschachtelt sind. Die "L7"-Form mit den verschachtelten Vorsprüngen hält den Elektrodenabstand d zwischen den parallelen gegenüberliegenden Flächen der Elektrodenpaaren aufrecht, vergrößert jedoch den Elektrodenflächenbereich in einem vorgegebenen Volumen um das Vierfache oder darüber hinaus. Zahlreiche Vorsprung/Rippengeometrien sind möglich, einschließlich kontinuierlich gekrümmte Oberflächen oder "W"-förmige Oberflächen, die einen noch größeren Flächenbereich pro Volumeneinheit schaffen können.
  • Eine Plasmareaktor/Generator-Vorrichtung und ein Verfahren, das den "L7-Elektrodenentwurf gemäß der Erfindung ausführt, enthalten vorzugsweise einen Reaktorkörper mit einem offenen Innenvolumen. Der Reaktorkörper enthält einen Gaseinlass und ein Gasauslass. Die Elektrodenvorrichtung ist vorzugsweise als eine einteilige Baueinheit konfiguriert, die in das Innenvolumen des Reaktors als eine Einheit eingesetzt und aus diesem entfernt werden kann. Die Elektrodenbaueinheit ist typischerweise von dem Reaktorkörper elektrisch isoliert. In einem offenen System ist die Elektrodenbaueinheit vorzugsweise im Innenraum des Reaktorkörpers eingeschlossen und definiert vorzugsweise mehrere unterteilte Gasströmungswege zwischen dem Gaseinlass und dem Gasauslass. In einem statischen oder geschlossenen System unterteilt oder partitioniert die Elektrodenbaueinheit das Gasvolumen in mehrere Zellen, was gemäß einem gewünschten Muster erfolgen kann. Eine Spannungsquelle, die mit der Elektrodenbaueinheit elektrisch verbunden ist, erzeugt vorzugsweise ein Spannungspotential zwischen Paaren von benachbarten Elektroden mit entgegengesetzter Polarität, das ausreichend ist, um ein Plasma in einem ausgewählten Gas, das in dem Reaktor verarbeitet werden soll, zu zünden und aufrecht zu erhalten. In einer Ausführungsform der Erfindung wird eine Gasströmung in dem Gaseinlass mit einem ausgewählten Druck, einer ausgewählten Strömungsrate und einer ausgewählten Temperatur eingeleitet und durchläuft die unterteilten Strömungswege angrenzend an die Oberflächen der Elektroden zu dem Gasauslass. Ein Plasma mit mehreren unterschiedlichen Bereichen, die vorzugsweise wenigstens teilweise in Verbindung stehen, wird erzeugt und hat eine sehr effiziente und vollständige chemische Reaktion des Gases an den Oberflächen der Elektroden zur Folge, wobei der Reaktor dadurch einen ausgewählten Prozess an dem Gas ausführt oder das Gas verwendet. In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist das Plasma ein geschlossenes System, das ein Gas enthält. Das Plasma wird in dem Gas gebildet, um beispielsweise Lumineszenz zu erzeugen. In dieser Ausführungsform ist die Erfindung ein Plasmagenerator.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG
  • 1 ist eine graphische Darstellung, die Paschen-Kurven für mehrere typische Gase veranschaulicht;
  • 2 ist eine graphische Darstellung eines Abschnitts eines Paars herkömmlicher kapazitiv gekoppelter Parallelplattenelektroden des Typs, der in herkömmlichen Plasmareaktoren mit kapazitiv gekoppelten parallelen Platten verwendet wird;
  • 3 ist eine graphische Darstellung eines Abschnitts eines Paars kapazitiv gekoppelter Parallelplattenelektroden, die eine bevorzugte "L7"-Konfiguration gemäß der vorliegenden Erfindung ausführen;
  • 4 ist eine Stirnansicht des Paars von "L7"-Elektroden, die in 3 gezeigt sind;
  • 5 ist eine seitlich geschnittene graphische Darstellung eines gestapelten Gitters von "L7"-Elektrodenpaaren mit verschachtelten Rippen, die eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst;
  • 6 ist eine Draufsicht eines Abschnitts einer gegenwärtig bevorzugten Ausführungsform einer ersten Elektrode, die ein "L7"-Elektrodenpaar mit der zweiten Elektrode von 7 bildet, zur Verwendung in einem gestapelten Gitter von "L7"-Elektrodenpaaren, wie in 5 graphisch dargestellt ist;
  • 7 ist eine Draufsicht eines Abschnitts einer gegenwärtig bevorzugten Ausführungsform einer zweiten Elektrode, die ein "L7"-Elektrodenpaar mit der ersten Elektrode von 6 bildet, zur Verwendung in einem gestapelten Gitter von "L7"-Elektrodenpaaren, wie in 5 gezeigt ist;
  • 8 ist eine geschnittene Draufsicht, die ein bevorzugtes "L7"-Elektrodenpaar zeigt, das die übereinander liegenden Elektroden von 6 und 7 umfasst;
  • 9 ist eine Seitenansicht einer bevorzugten Elektrodenbaueinheit, die ein gestapeltes Gitter von "L7"-Elektrodenpaaren umfasst, wie in den 68 gezeigt ist;
  • 10 ist eine weitere Seitenansicht aus einer anderen Höhe der bevorzugten Elektrodenbaueinheit von 9; und
  • 11 ist eine Seitenansicht einer bevorzugten Ausführungsform eines Gasplasmareaktors mit kapazitiv gekoppelten parallelen Platten, der die vorliegende Erfindung ausführt.
  • BESCHREIBUNG DER SPEZIELLEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Eine Beschreibung der gegenwärtig bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung erfolgt nun unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung.
  • 2 zeigt eine graphische Darstellung eines herkömmlichen Elektrodenpaars 20 mit kapazitiv gekoppelten parallelen ebenen Platten des Typs, der gegenwärtig in nahezu allen herkömmlichen Konstruktionsformen von Plasmareaktoren verwendet wird. Das Elektrodenpaar 20 umfasst eine erste Plattenelektrode 22 und eine zweite Plattenelektrode 24. Die erste und die zweite Plattenelektrode 22 und 24 weisen jeweils eine erste und eine zweite Oberfläche auf, wobei jede Oberfläche einen Bereich A besitzt. Die einander zugewandten Oberflächen der ersten und der zweiten Elektrode 22 und 24 sind um einen festen Abstand d voneinander getrennt oder beabstandet. Die Plattenelektroden umfassen die Platten eines Kondensators des Typs mit parallelen Platten, wobei jede Elektrode mit dem entgegengesetzten Anschluss einer Spannungsversorgung 26 elektrisch gekoppelt ist, die entweder vom Wechselspannungstyp oder vom Gleichspannungstyp ist. Die Elektroden 22 und 24 sind somit zu einem bestimmten Zeitpunkt von dem Typ mit entgegengesetzter Polarität, so dass ein Spannungspotential (V) zwischen ihnen vorhanden ist, um ein Glimmentladungsplasma in einen Gas, das in dem Raum zwischen den Elektroden strömt, zu zünden und aufrechtzuerhalten. Eine einfache Berechnung zeigt, dass der Gesamtelektrodenflächenbereich angrenzend an den offenen Raum zwischen den Elektroden 2A beträgt und das Gesamtvolumen des Raums zwischen den beiden Elektroden Ad beträgt. Das Verhältnis zwischen Elektrodenflächenbereich und Volumen beträgt somit 2/d cm–1 und für einen gemeinsamen Elektrodenabstand von etwa 1 cm beträgt das Verhältnis von Flächenbereich und Volumeneinheit etwa 2.
  • Das Oberflächenreaktionsprinzip, das im Patent '633 nach dem Stand der Technik gelehrt wird, beruht auf der Erkenntnis, dass bei einem Betrieb in einer Niederdruckumgebung eine stabile Glimmentladung einfach aufrechterhalten werden kann. Indem der Elektrodenflächenbereich pro Einheit des Plasmavolumens in dem Reaktor maximal gemacht wird, können Elektrodenflächenreaktionen maximal gemacht werden. Ein großer Oberflächenbereich schafft eine große Reaktionsstelle für die Gase, um an der Oberfläche zu reagieren. Absorbierte und adsorbierte Gasmoleküle können leicht eine Stelle auf der Oberfläche finden und eine vollständige Besetzungsüberdeckung stellt sicher, dass dann, wenn ein Ion oder Elektron die Oberfläche trifft, eine hohe Wahrscheinlichkeit besteht, dass eine chemische Reaktion erzeugt wird. Die Zündung und Aufrechterhaltung der Glimmladung hängt vom Betriebsdruck und dem Elektrodenabstand ab, wie durch die Paschen-Kurven von 1 dargestellt ist. Die allgemeine Faustregel besteht darin, dass für eine Parallelplattenelektrode, bei der das Produkt aus dem Abstand Anode-Katode d (cm) und dem Betriebsdruck P (Torr) d. h. Pd Torr·cm bei einem Wert von etwa 1 Torr·cm liegt, die minimale Durchbruch- oder Plasmazündspannung für die meisten Gase bei einem Elektrodenpotential von etwa 250–350 Volt liegt.
  • Für Betriebsdrücke zwischen etwa 500 und 1000 mTorr beträgt z. B. der optimale Abstand zwischen den Parallelplattenelektroden etwa 1 cm. Wenn der Betriebsdruck über diesen Bereich angehoben wird, könnte der Abstand d geringfügig verkleinert werden, um den optimalen Bereich der Durchbruch- oder Plasmazündspannung aufrechtzuerhalten. Wenn der Druck jedoch unter diesen Bereich verringert wird, müsste der Abstand d drastisch vergrößert werden, um die optimale Durchbruchspannung aufrechtzuerhalten. Mit anderen Worten, bei Änderungen an dem erforderlichen Betriebsdruck muss der Abstand d geändert werden, um das Betriebsprodukt Pd möglichst nahe an dem Wert 1 aufrechtzuerhalten, wenn es erwünscht ist, die Durchbruch- oder Zündspannung möglichst nahe an dem minimalen Wert zu halten. Andernfalls muss bei einem Niederdruckbetrieb die Spannungsversorgung in der Lage sein, sehr hohe Spannungen bereitzustellen, die deutlich über 1000 V liegen.
  • Deswegen ist die Vergrößerung des Elektrodenabstands d ein typischer Lösungsansatz, der jahrelang in der Industrie verwendet wurde. Das Verfahren zum reaktiven Ionenätzen (RIE), das zum Plasmaätzen von Substraten verwendet wird, wie etwa Halbleiter, verwendet z. B. eine kapazitiv gekoppelte Elektrode und einen Betriebsdruck im Bereich von 10 bis 100 mTorr. In kommerziellen Reaktoren liegt der Elektrodenabstand d in der Größenordnung von 5–15 cm. Dies hat eine verhältnismäßig niedrige Durchbruchspannung sowie die Minimierung einer selbstinduzierten Vorspannung zur Folge, die einen unerwünschten Strahlungsschaden an dem Substrat zur Folge haben kann, das durch eine Bombardierung durch energiereiche Elektronen und Ionen geätzt wird. Die Verwendung des größeren Elektrodenabstands d bewältigt die Schwierigkeiten beim Auslösen einer Gasionisierung und der Zündung und Aufrechterhaltung eines Plasmas, wie durch die Paschen-Beziehungen angegeben ist. Der größere Elektrodenabstand hat jedoch die unerwünschten Effekte der Vergrößerung des Plasmavolumens zur Folge, wodurch ein größerer Reaktorraum und ein größerer Elektrodenflächenbereich erforderlich sind, wodurch die Kosten bedeutend ansteigen. Um eine Elektrode zu konstruieren, die den gleichen Flächenbereich besitzt und bei einem niedrigen Druck betrieben wird, müssen der Elektrodenabstand und somit das Volumen um das Mehrfache vergrößert werden. Wenn jedoch der Reaktor mit Elektroden entworfen wird, die einen größeren Flächenbereich aufweisen, kann er aus der praktischen Verwendung in Hochdruckbereichen ausgenommen werden, da das Produkt Pd auf dem ansteigenden Ende der Hochdruckseite der Paschen-Kurve liegt.
  • Nahezu alle funktionsfähigen Parallelplatten-Plasmareaktoren sind heutzutage auf der Grundlage der genannten Prinzipien entworfen. Wenn z. B. der Elektrodenabstand d etwa 1 cm beträgt, ist es verhältnismäßig einfach, ein Glimmladungsplasma bei einem Druck von etwa 1 Torr für nahezu alle verwendbaren Gase zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Wenn der Abstand d 2 cm betragen würde, würde der optimale Betriebsdruck bei 0,5 Torr liegen. Die Paschen-Beziehungen legen außerdem nahe, dass für einen festen Elektrodenabstand d die Fähigkeit, ein Plasma zu erzeugen und aufrechtzuerhalten, allmählich immer schwieriger wird, wenn der Betriebsdruck ansteigt, und die minimale Durchbruchspannung bei ansteigendem Druck langsam größer wird. Wenn dagegen der Betriebsdruck sinkt, steigt die minimale Durchbruchspannung, um das Plasma auszulösen, rasch an und es ist viel schwieriger, ein Plasma zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Die Vergrößerung der minimalen Durchbruchspannung, wenn der Betriebsdruck größer wird, wird physikalisch durch die Tatsache erklärt, dass bei höheren Betriebsdrücken die mittleren freien Weglängen der Gasmoleküle, Atome und ionisierten Ionen sowie der Elektronen in dem Raum zwischen den Elektroden kürzer sind. Deswegen können Mehrfachkollisionen zwischen angeregten Molekülen, Atomen, Ionen und Elektronen auftreten, bevor die angeregten Teilchen die Elektroden erreichen. Bei jeder Kollision verliert ein angeregtes Teilchen Energie und geht von einem höheren Energiezustand zu einem niedrigeren Energiezustand über. Mit der Zeit stehen immer weniger Teilchen, die einen ausreichend hohen Energiezustand haben, um eine Sekundärionisierung auszulösen, zur Verfügung und die sekundäre Erzeugung von Ionen und Elektronen erfolgt lokal und ist schwieriger. Dieser Zustand erfordert dann eine höhere externe Betriebsspannung, um den Ionisierungs-Durchbruchprozess zu erzeugen und zu unterstützen, um das Plasma aufrechtzuerhalten.
  • Bei niedrigeren Betriebsdrücken verringern längere mittlere freie Weglängen die Anzahl von Kollisionen der angeregten Teilchen in dem Raum zwischen den Elektroden. In diesem Fall haben Primärelektronen, die zwischen den Elektroden durch die von der extern angelegten Spannung (Wechselspannung oder Gleich spannung) beschleunigt werden, eine größere Chance der Kollision mit einer Elektrode, bevor sie mit einem Gasmolekül kollidieren, um ein neutrales Teilchen zu ionisieren und weitere Sekundärelektronen zu erzeugen. Ein rascherer Verlust von Primärelektronen kombiniert mit der Erzeugung von weniger Sekundärelektronen erfordert eine höhere Spannung von der externen Quelle, um ein stärkeres elektrisches Feld und Elektronen mit höherer Energie zu erzeugen, um die Auslösung des Ionisierungsprozesses sicherzustellen und das Plasma aufrechtzuerhalten. Eine höhere Feldspannung beschleunigt jedoch die Elektronen schneller und verkürzt die Zeit, bevor sie an den Elektroden verloren gehen, wodurch die Wahrscheinlichkeit von Kollisionen für die Sekundärelektronenerzeugung geringer wird. Wenn der Betriebsdruck verringert wird, steigt demzufolge die minimale Durchbruchspannung, die erforderlich ist, um das Plasma auszulösen und aufrechtzuerhalten, rasch an.
  • In vielen der gegenwärtigen Anwendungen von Plasmareaktoren z. B. Anwendungen der Halbleiterherstellung, muss der Plasmareaktor in Druckbereichen unter 100 mTorr betrieben werden. Für einen Betrieb bei derartigen niedrigen Drücken muss der Elektrodenabstand in diesen Reaktoren vergrößert werden, so dass das Plasma bei einer angemessenen Spannung erzeugt und aufrechterhalten werden kann, die unter einem Wert von etwa 1000 V liegt. Selbst dann sind Hochspannungs-Plasmageneratoren viel kostenintensiver als Niederspannungsgeneratoren. Um ferner die gleiche Leistung abzuleiten, P = IV, bedeutet ein Betrieb bei einer hohen Spannung, dass ein kleinerer Strom in dem Plasma abgeleitet wird. Da die beteiligten chemischen Reaktionen einen Elektronenaustausch benötigen, impliziert ein kleinerer Strom eine kleinere chemische Reaktionsrate. Um die Effizienz des Plasmareaktors zu verbessern, wäre es deswegen stärker zu bevorzugen, ein Plasma bei einer geringen Spannung und einem großen Strom zu verwenden.
  • Es ist gleichzeitig erwünscht, die erfolgreichen Merkmale von Reaktorentwürfen nach dem Stand der Technik zu bewahren, die in dem Patent '633 gelehrt werden, wie etwa der Aufbau mit parallelen Platten, ein optimaler Elektrodenabstand, ein großes Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Volumen, lange Strömungswege und eine kompakte Basisfläche.
  • Die 3 und 4 liefern eine graphische Darstellung der grundlegenden "L7"-Parallelplatten-Elektrodenkonfiguration, die eine grundlegende bevorzugte Ausfüh rungsform der vorliegenden Erfindung umfasst. Wie oben beschrieben wurde, überwindet die "L7"-Elektrodenanordnung die oben beschriebenen Nachteile, die im Stand der Technik vorhanden sind, während die erfolgreichen Merkmale von Entwürfen nach dem Stand der Technik, die in dem Patent '633 gelehrt werden, bewahrt bleiben.
  • Die "L7"-Elektrodenanordnung umfasst eine erste Parallelplattenelektrode 32 und eine zweite Parallelplattenelektrode 34, die in einer herkömmlichen gegenüberliegenden Beziehung angeordnet sind. Die Elektroden 32 und 34 sind jeweils mit entgegengesetzten Anschlüssen einer Spannungsversorgung 36 elektrisch verbunden, die vom Wechselspannungstyp oder vom Gleichspannungstyp sein kann, der für eine Verwendung in Plasmareaktoren mit kapazitiv gekoppelten Parallelplatten geeignet ist. Deswegen besitzen die Elektroden 32 und 34 eine entgegengesetzte Polarität. Jede Elektrode besitzt eine erste Oberfläche 33a, 35a und eine zweite Oberfläche 33b, 35b. In der bevorzugten Ausführungsform sind die erste und die zweite Oberfläche einteilig ausgebildet und im rechten Winkel gebildet, obwohl Variationen sowohl beim Aufbau als auch bei der Winkelbeziehung möglich sind. Die Oberflächen 33a und 35a sind um einen festen Abstand d voneinander beabstandet und ihre gegenüberliegenden Flächen verlaufen parallel zueinander. In ähnlicher Weise sind die Oberflächen 33b und 35b um einen festen Abstand d voneinander beabstandet und ihre gegenüberliegenden Flächen verlaufen parallel. Die Oberflächen 33b und 35b stehen in den offenen Raum zwischen den parallelen Oberflächen 33a und 35a vor oder erstrecken sich in diesen, so dass das distale Ende der Oberfläche 33b sich der Oberfläche 35a nähert und das distale Ende der Oberfläche 35b sich der Oberfläche 33a nähert. Somit kann die beschriebene "L7"-Anordnung des Elektrodenpaars einen angenähert rechteckigförmigen langen Kanal bilden oder einen Kanal in einzelne Zellen unterteilen. Die Kanäle oder Zellen sind vorzugsweise nicht vollständig geschlossen. Kleine Spalten sind an einer oder mehreren diagonal gegenüberliegenden Ecken vorgesehen, so dass die Elektroden um einen Abstand d' zwischen dem distalen Ende der Oberfläche 33b und der Oberfläche 35a sowie dem distalen Ende der Oberfläche 35b und der Oberfläche 33a beabstandet sind. Jede der Oberflächen 33a, 33b, 35a und 35b besitzt einen Flächenbereich von angenähert A.
  • Auf diese Weise wird das Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Plasmavolumen durch die bevorzugte "L7"-Elektrodenanordnung stark vergrößert, während der gleiche Elektrodenabstand d eingehalten wird. Der Gesamtflächen bereich, der durch die vier Oberflächen an dem rechteckförmigen Kanal oder der Zelle dargestellt wird, beträgt z. B. 4A. Das Gesamtvolumen bleibt Ad wie in der herkömmlichen Parallelplatten-Elektrodenanordnung von 2. Deswegen beträgt das Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Volumen der "L7"-Elektrodenpaaranordnung angenähert 4/d cm–1 oder das Zweifache des Verhältnisses von herkömmlichen Parallelplatten-Elektrodenpaaranordnungen.
  • Die "L7"-Elektrodenpaaranordnung widerspricht der herkömmlichen Denkweise in Bezug auf den Entwurf von Parallelplatten-Elektrodenpaaren. Die herkömmliche Denkweise ist gegen die Anordnung von Vorsprüngen oder Erstreckungen, wie etwa die Oberflächen 33b und 35a, in den Raum zwischen den parallelen Oberflächen 33a und 35a sowie entschieden gegen die Anordnung in enger Nähe zu diesen Oberflächen. Die herkömmliche Denkweise bestand darin, dass bei den hohen Spannungspotentialen, die in vielen Reaktoranwendungen verwendet werden, eine Bogenentladung zwischen den benachbarten Elektroden auftritt. Durch eine erneute Prüfuntersuchung der Bedeutung der Paschen-Kurven von 1 mit einem tieferen Verständnis hat der Erfinder des "L7"-Elektrodenentwurfs jedoch festgestellt, dass in den Niederdruckbereichen, bei denen die "L7"-Elektrode wahrscheinlich Anwendung findet, der Raumspalt d' zwischen den Elektroden 32 und 34 mit entgegengesetzter Polarität an den Ecken ausreichend klein gemacht werden kann, so dass das Produkt Pd' lediglich ermöglicht, dass in dem Spalt kann bei einem Wert der Durchbruchspannung, der höher ist als die von der Spannungsversorgung bereitgestellte Spannung, ein Plasma erzeugt und aufrechterhalten werden. Deswegen ist unter diesen Bedingungen in den Spalten kein Plasma vorhanden. Außerdem werden Befürchtungen von Bogenentladungen und Kurzschlüssen unter diesen Betriebsbedingungen vermieden, da der Spaltraum d' einen Abstand darstellt, der für Elektronen zu kurz ist, um ausreichend zu beschleunigen, um eine Ionisierung zu bewirken. Eine Bogenentladung oder ein Kurzschluss kann nur auftreten, wenn eine ununterbrochene Ionisierung einen leitenden Weg (wie einen Lichtbogenweg) zwischen den Elektroden erzeugt. Diese Bedingungen können unter dem Niederdruck-Betriebsregime, in dem eine Verwendung der "L7"-Elektrode hauptsächlich vorgesehen ist, physikalisch nicht vorhanden sein. Der Raumspalt d' < 0,5 cm mit einem Elektrodenabstand d = 2 cm könnte z. B. einen Betrieb der Elektrode bei einem Druck unter 0,1 Torr bei einer Versorgungsspannung unter 1000 V ermöglichen. Wenn der Betriebsdruck auf einen verhältnismäßig hohen Druck wie etwa 2 Torr erhöht wird, kann ein geeignetes Plasma trotzdem erzeugt und aufrechterhalten werden und wird wahr scheinlich die Spaltbereiche einschließen, solange jedoch der Spaltabschnitt d' ausreichend klein gehalten wird, wird über die Spalte keine Bogenentladung oder kein Kurzschluss auftreten.
  • Ein weiterer Grund, warum der Erfinder festgestellt hat, dass Bogenentladung und Kurzschluss über kurze Spaltenabstände d' keine Gefahr darstellen, besteht darin, dass die kritische Forderung für Bogenentladung das Vorhandensein eines Punkts der Ladungskonzentration ist, so dass ein Leitungsweg für einen großen Strom zwischen dem Punkt der Entladung und der entgegengesetzten Elektrode erzeugt wird. Bei dem "L7"-Elektrodenpaarentwurf bilden die Elektroden einen Leitungsweg in der Weise, dass eine verteilte Entladung längs der gesamten Leitung (statt eines Punktes) zwischen ihnen vorhanden ist. Dadurch wird keine ausreichende Spannung an irgendeinem Punkt an den Elektroden bei den erwarteten Betriebsbedingungen aufgebaut, um eine Feldemission auszulösen, wobei die Elektronen ein ausreichend hohes Spannungspotential über dem Durchbruchspannungspotential haben, um den gesamten Leitungsweg zwischen den Elektroden zu ionisieren. Mit anderen Worten, da das Plasma, das zwischen den Elektroden in der "L7"-Form erzeugt wird, längs den gesamten gegenüberliegenden Oberflächen der Elektroden gut verteilt ist, wird an allen Punkten, einschließlich der Punkte, die den Ecken am nächsten sind, an denen sich die Elektroden in größter gegenseitiger Nähe befinden, ein unzureichendes Potential dafür erzeugt, dass ein vollständiger Leitungsweg zwischen den Elektroden ionisiert werden kann und eine Bogenentladung auftritt. Deswegen stellen Bogenentladung und Kurzschluss trotz gegenteiliger Auffassung der herkömmlichen Denkweise keine Gefahr dar.
  • Ein weiteres vorteilhaftes Merkmal der "L7"-Elektrodenanordnung besteht darin, dass sie tatsächlich einen veränderlichen Abstand zwischen den bevorzugten senkrechten Oberflächen der Elektrodenpaare schafft. Der Bereich des wirkungsvollen Abstands erstreckt sich von dem Spaltraumabstand d' zu dem Abstand d zwischen gegenüberliegenden parallelen Oberflächen der Elektroden, d. h. die Oberflächen 33a und 35a oder 33b und 35b. Tatsächlich gibt es einen noch größeren trennenden Abstand zwischen den Elektroden längs der Diagonalen von der Ecke mit dem geschlossenen Ende zu der Ecke mit dem geschlossenen Ende der anderen Elektrode, d. h. von dem Punkt, an dem die Oberfläche 33a auf die Oberfläche 33b trifft, zu dem Punkt, an dem die Oberfläche 35a auf die Oberfläche 35b trifft. Dadurch schafft der neue Entwurf wirklich einen veränderlichen Abstand zwischen den Elektroden, um einen optimalen Betrieb bei verschiedenen Drücken zu gewährleisten. Der Elektrodenentwurf schafft dadurch eine einfache und wirkungsvolle Auslösung und Aufrechterhaltung eines Plasmas über einen großen Bereich von Betriebsbedingungen. Wie im Folgenden genauer erkannt werden kann, kann dieses Entwurfsmerkmal erweitert werden. Zum Beispiel kann mit einem Elektrodenentwurf in Hornform, der ein offenes Ende mit einem kleineren Querschnitt aufweist als das geschlossene Ende, ein veränderlicher Abstandsbereich erreicht werden, wodurch für das Plasma ein optimaler Abstand unter den Betriebsbedingungen ausgewählt werden kann, um das Plasma in einfacher Weise auszulösen.
  • Der veränderliche Elektrodenabstand, der bei dem "L7"-Entwurf und seinen Erweiterungen vorhanden ist, ist ein wesentliches Merkmal. Nachdem ein Plasma gezündet wurde, wird es zu einer leitenden Schicht, die selbst als eine Elektrode wirkt, wobei in dieser viele leitende Elektronen vorhanden sind. Dadurch ist das Plasma selbst eine zusätzliche Elektronenquelle, um den Verlust von Elektronen an die Elektroden auszugleichen. Deswegen ist ein leicht gezündetes Plasma ein leicht aufrechterhaltendes Plasma, was bedeutet, dass der "L7"-Elektrodenentwurf ermöglicht, Plasma über einen weiten Bereich von Betriebsbedingungen leicht und effizient auszulösen und aufrechtzuerhalten.
  • 5 stellt graphisch die Erweiterung des grundlegenden "L7"-Elektrodenpaarentwurfs zu einer Konfiguration einer Elektrodenbaugruppe aus gestapelten Elektrodenpaaren dar. 5 zeigt vier Elektroden 52, 54, 56 und 58, die in einer vertikalen Konfiguration gestapelt sind. Jede Elektrode besitzt zwei gegenüberliegende Oberflächen, d. h. die Elektrode 52 besitzt gegenüberliegende Oberflächen 52a und 52b, die Elektrode 54 besitzt gegenüberliegende Oberflächen 54a und 54b, die Elektrode 56 besitzt gegenüberliegende Oberflächen 56a und 56b und die Elektrode 58 besitzt gegenüberliegende Oberflächen 58a und 58b. Die Elektroden sind so gestapelt, dass alle ihre Oberflächen zueinander parallel verlaufen, d. h. die Oberflächen 52a, 52b, 54a, 54b, 56a, 56b, 58a und 58b verlaufen alle parallel zueinander. Die Elektroden 52 und 56 sind gemeinsam mit einem Anschluss einer geeigneten Wechselspannungs- oder Gleichspannungsversorgung 60 verbunden und die Elektroden 54 und 58 sind mit dem entgegengesetzten Anschluss der Spannungsversorgung 60 verbunden. Folglich wechselt die Polarität benachbarter Elektroden in der gestapelten Baugruppe und jedes benachbarte Paar von gestapelten Elektroden bildet ein Paar mit entgegengesetzter Polarität. Somit bilden die Elektroden 52 und 54 ein Paar mit entgegengesetzter Polarität, die Elektroden 54 und 56 bilden ein weiteres Paar und die Elektroden 56 und 58 bilden noch ein weiteres Paar. Es ist anzumerken, dass beide gegenüberliegenden Seiten, z. B. 54a und 54b der Elektroden, z. B. der Elektrode 54 verwendet werden, wodurch sich der Elektrodenoberflächenbereich für chemische Reaktionen, die in den Reaktor auftreten, stark vergrößert. In Übereinstimmung mit der grundlegenden Philosophie des "L7"-Entwurfs besitzt jede Elektrode mehrere "Rippen" oder Vorsprünge 64, die sich im rechten Winkel von ihren gegenüberliegenden Oberflächen in den Raum zwischen benachbarten Elektroden erstrecken. Somit erstrecken sich die Rippen 64, die sich von der Oberfläche 52b der Elektrode 52 erstrecken, und die Rippen 64, die sich von der gegenüberliegenden Oberfläche 54a der benachbarten Elektrode 54 erstrecken, jeweils in den offenen Raum zwischen den benachbarten Elektroden in die Nähe der benachbarten Elektrode. Es ist in der gezeigten Weise aus verschiedenen Gründen bevorzugt, dass die Rippen an benachbarten Elektroden eines Elektrodenpaars in einer abwechselnden oder verschachtelten Anordnung angeordnet sind. Zum einen hilft dies, das Plasma zwischen den benachbarten Elektroden jedes Elektrodenpaars zu verteilen, was wiederum sicherzustellen hilft, dass kein Punkt von Ionisierungsquellen eine Bogenentladung oder einen Kurzschluss zwischen den Elektroden zur Folge hat. Wie später erläutert wird, hilft dies außerdem, das Plasma aufzufächern, was ein qualitativ besseres Plasma und deswegen eine verbesserte Reaktionseffizienz zur Folge hat. Es sichert des Weiteren einen langen und kreisförmigen Strömungsweg für das Gas, das in dem Reaktor behandelt wird, wodurch ebenfalls die Reaktionseffizienz verbessert wird.
  • Diese Erweiterung des grundlegenden "L7"-Elektrodenentwurfs bewahrt die Verbesserung in dem Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Plasmavolumen in Bezug auf frühere Parallelplatten-Elektrodenkonfigurationen und vervielfacht dieses Verhältnis durch das Stapeln von Elektrodenpaaren in dem Reaktorvolumen. Es wird angenommen, dass der Abstand zwischen benachbarten Rippen 64 der gleichen Elektrode, z. B. der Elektrode 52d ist und der Abstand zwischen gegenüberliegenden Oberflächen benachbarter Elektroden in jedem Paar, z. B. der Oberfläche 52b der Elektrode 52 und der Oberfläche 54a der Elektrode 54 ebenfalls d ist. Es wird außerdem angenommen, dass der Oberflächenbereich zwischen den benachbarten Rippen an jeder Elektrode A ist und dass der Oberflächenbereich jeder Rippe ebenfalls angenähert A ist. Dann beträgt in jeder "Zelle", die durch benachbarte Rippen einer Elektrode, z. B. der Elektrode 52 und die gegenüberliegenden parallelen Oberflächen der benachbarten Elektroden jedes Paars, z. B. die Oberflächen 52b und 54a begrenzt ist, der Gesamtelektrodenbereich 4A. Wie bei herkömmlichen Parallelplatten-Elektrodenentwürfen wird der Elektrodenabstand d aufrechterhalten und deswegen beträgt das Verhältnis zwischen Elektrodenoberflächenbereich zum Plasmavolumen für das Plasma in jeder Zelle oder in jedem Kanal angenähert 4/d cm–1.
  • Die Philosophie des "L7"-Entwurfs kann ferner erweitert werden, um ein noch größeres Verhältnis zwischen Oberflächenbereich und Volumen zu schaffen, indem die angenähert rechteckförmigen "L7"-Kanäle weiter in kubische Zellen unterteilt werden, die einen Abstand von angenähert d aufweisen, indem zusätzliche Rippenelemente als Trennelemente hinzugefügt werden. Dies hat zur Folge, dass das Plasma in jeder angenähert kubischen Unterteilung ein Verhältnis zwischen Oberfläche und Volumen von angenähert 6/d cm–1 aufweist.
  • Obwohl die gestapelte "L7"-Elektrodenbaueinheit von 5 im Querschnitt gezeigt ist, wird ein Fachmann verstehen, dass die Elektroden 5258 verschiedene Formen aufweisen können. Wie im Folgenden beschrieben wird, kann z. B. jede der Elektroden rund sein. Obwohl in ähnlicher Weise die Rippen 64 im Querschnitt gezeigt sind, ist klar, dass die Rippen verschiedene Formen aufweisen können, die geradlinige Oberflächen, gekrümmte Oberflächen "U"-förmige, "V"-förmige, "W'-förmige und trichterförmige Oberflächen enthalten. Des Weiteren müssen die Elektroden keine ununterbrochenen Oberflächen aufweisen, sondern können eine oder mehrere Öffnungen enthalten, um eine Gasströmung zu erleichtern. Die Rippen 64 müssen in ähnlicher Weise keine ununterbrochenen Oberflächen aufweisen, sondern können für den Zweck der Gasströmung und der Plasmaverbindung Öffnungen besitzen.
  • Ferner können die Abmessungen und geometrischen Formen der Zellen verändert werden, um das Plasma zu modulieren. Zum Beispiel kann die Plasmaintensität zwischen den Zellen gemäß einem gewünschten Muster moduliert werden. Es können Bereiche zum Fokussieren und Defokussieren des Plasmas erzeugt werden. Außerdem können Plasmagitter und Pixel erzeugt werden. Derartige Modulationseffekte können periodisch oder nach anderen gewünschten Mustern erfolgen.
  • Ähnlich wie bei dem grundlegenden "L7"-Entwurf erstrecken sich die Rippen 64 benachbarter Elektroden, z. B. der Elektrode 52 und 54 in die Nähe zu den gegenüberliegenden Oberflächen des Elektrodenpaars, z. B. die Oberflächen 52b und 54a, bleiben jedoch um einen Spaltabstand d' getrennt. Aus den gleichen Gründen, die oben in Bezug auf den grundlegenden "L7"-Elektrodenentwurf erläutert wurden, stellen Bogenentladung und Kurzschluss zwischen den Elektroden kein Problem dar, wenn der Spaltabstand d' ausreichend klein gehalten wird.
  • In den 6 bis 8 sind Beispiele bevorzugter Formen von Rippenelementen, Elektroden und Elektrodenbaueinheiten gezeigt. 6 ist eine Draufsicht eines Abschnitts einer Elektrode eines Elektrodenpaars mit entgegengesetzter Polarität, z. B. der Elektrode 52 von 5. Die Oberfläche der Elektrode 52, die in 6 gezeigt ist, ist z. B. die Oberfläche 52b. Die Elektrode 52 besitzt vorzugsweise eine runde Form, wie in 8 gezeigt ist. Die Rippen 64 sind geradlinige Oberflächen, die sich von der Oberfläche 52b im Wesentlichen senkrecht nach außen erstrecken. 7 ist eine Draufsicht einer weiteren bevorzugten Rippenform, und zwar einer "Trichter"-Form mit offenem Ende. Die trichterförmige Rippe, die in 7 gezeigt ist, erstreckt sich in 5 z. B. von der Oberfläche 54a der Elektrode 54 nach außen. Wie in 8 gezeigt ist, sind mehrere derartige trichterförmige Rippen 64 z. B. an der Oberfläche 54a der Elektrode 54 angeordnet, so dass die geradlinigen Rippen 64, die sich von der Oberfläche 52b der Elektrode 52 erstrecken, mit den Seiten der Trichterrippen 64 in Umfangsrichtung um die gesamte Oberfläche der benachbarten Elektroden 52 und 54 verschachtelt oder zwischen diese eingefügt sind.
  • 8 zeigt somit durch eine aufgeschnittene Draufsicht, wie die geradlinigen Rippen 64 und die trichterförmigen Rippen 64 gegenseitig eingesetzt oder verschachtelt sind, wenn runde Elektroden, z. B. die Elektroden 52 und 54 zueinander benachbart gestapelt sind. Wie außerdem in 8 gezeigt ist, besitzt die bevorzugte Form von zumindest einer der Elektroden jedes Paars, d. h. in diesem Beispiel die Elektrode 52, eine mittige Öffnung 80, damit der Gasstrom hindurch fließt. In 8 ist ferner gezeigt, dass der Durchmesser der anderen Elektrode 54 geringfügig kleiner ist als der Durchmesser der Elektrode 52, um eine Gasströmung über den Rand der Elektrode und in das nächste gestapelte Elektrodenpaar zu ermöglichen.
  • Zusätzlich zu der Verbesserung des Verhältnisses zwischen dem Elektrodenflächenbereich und dem Plasmavolumen durch das Einfügen eines zusätzliches Rippenflächenbereichs in den Raum zwischen den Elektroden vergrößern die Rippen außerdem die Strömungsweglänge des Gasstroms bedeutend, indem der ebene breite Weg zwischen den Elektroden in mehrere schmalere Wege umgewandelt wird. Wie oben erwähnt wurde, kann der Weg bei Bedarf noch weiter in angenähert kubusförmige Zellen unterteilt werden, indem zusätzliche Rippenelemente in die "L7"-förmigen Kanäle eingesetzt werden. Die Aufteilung des breiteren Wegs vergrößert den Elektrodenflächenbereich, auf den der Gasstrom trifft, wesentlich, wenn er durch den Reaktor strömt, ohne das Volumen oder die Größe des Reaktors zu vergrößern.
  • Dies kann in den 9 und 10 erkannt werden, die zwei Seitenansichten einer gestapelten "L7"-Elektrodenbaueinheit des Typs, der teilweise in den 5 bis 8 dargestellt ist, aus unterschiedlichen Höhen sind. In den 9 und 10. ist gezeigt, dass die gestapelte Elektrodenbaueinheit eine Reihe von abwechselnd gestapelten Elektroden 92 und 94 umfasst. Wie in 5 gezeigt ist, sind die Elektroden 92 gemeinsam mit einem Anschluss einer geeigneten Spannungsversorgung (nicht gezeigt) verbunden und die Elektroden 94 sind mit dem entgegengesetzten Anschluss verbunden, so dass benachbarte gestapelte Elektroden 92 und 94 eine entgegengesetzte Polarität besitzen. Jede Elektrode 92 ist scheibenförmigen mit einer mittigen Öffnung 96, um zu ermöglichen, dass ein Gas von Schicht zu Schicht des Stapels strömt. Jede Elektrode 94 ist ebenfalls scheibenförmig, jedoch ohne mittige Öffnung. Der Durchmesser der Elektroden 94 ist vorzugsweise geringfügig kleiner als der Durchmesser der Elektroden 92, um zu ermöglichen, dass ein Gas über die äußeren Ränder der Elektroden 94 von Schicht zu Schicht des Stapels strömt. Die Elektroden 92 sind offensichtlich von den Elektroden 94 über isolierende Abstandshalter oder dergleichen elektrisch isoliert. Die Elektroden 92 sind mit Rippen 64 gebildet, die sich von jeder Oberfläche jeder Elektrode 92 senkrecht nach außen erstrecken in die Nähe zu benachbarten Elektroden 94 auf jeder Seite jeder Elektrode 92, diese jedoch nicht berühren. Gleichfalls besitzt jede Elektrode 94 "trichter"-förmige Rippen 64, die sich von jeder Oberfläche jeder Elektrode 94 in die Nähe der Oberflächen der benachbarten Elektroden 92 auf jeder Seite jeder Elektrode 94 senkrecht nach außen erstrecken, diese jedoch nicht berühren. Ferner sind die geradlinigen und trichterförmigen Rippen 64 vorzugsweise abgestuft, so dass sie in dem Raum zwischen benachbarten Elektroden 92 und 94 verschachtelt sind oder in diesen eingesetzt sind. Bei dieser Konfiguration muss der Gasstrom, der in die mittige Öffnung 96 der ersten Elektrode 92 eintritt, einer Vielzahl kleiner Wege, die mäanderförmig zwischen den verschachtelten Rippen in dem Raum zwischen der ersten Elektrode 92 und der zweiten Elektrode 94 verlaufen, folgen, bevor er über die äußeren Kanten der ersten Elektrode 94 zur nächsten Schicht des Stapels strömt. Dort strömt das Gas in mehreren mäanderförmigen Wegen zwischen den verschachtelten Rippen in dem Raum zwischen benachbarten zweiten Elektroden 92 und 94 zu der mittigen Öffnung in der zweiten Elektrode 92 und von dort zur nächsten Schicht des Stapels, wobei der gleiche mäanderförmige Weg durch jede Schicht des Stapels wiederholt wird, bis die letzte Schicht durchquert wird.
  • Die Elektroden 92 und 94 können aus mehreren geeigneten elektrisch leitenden Materialien hergestellt sein, die einen Fachmann bekannt sind und in der Vergangenheit herkömmlich bei Plasmareaktoren verwendet wurden. Die Elektroden 92 und 94, die in den 9 und 10 dargestellt sind, sind vorzugsweise für eine kostengünstige Konstruktion aus Edelstahl hergestellt. Ein isolierendes Material, das einen leitenden Kern sandwichartig umgibt, kann außerdem verwendet werden, wenn die Spannungsversorgung eine Versorgung des Hochfrequenztyps ist.
  • Ein weiterer Vorteil der bevorzugten Konfiguration der gestapelten "L7"-Elektrodenbaueinheit der Erfindung besteht darin, dass die Unterteilung des Raums zwischen den Elektroden die Qualität des Plasmas und somit die Reaktionseffizienz des Reaktors verbessert. Der konzeptionelle Durchbruch besteht darin, dass ein herkömmliches Parallelplatten-Elektrodenpaar als zwei lange parallele Leitungen betrachtet werden kann. Das Plasma ist typischerweise als eine "Schicht" in dem mittigen Bereich des Raums zwischen den Elektroden gebildet und besitzt wesentliche "Totzonen" in der Nähe der Elektroden. Die Unterteilung des Raums zwischen den Elektroden mit Rippenelementen unterbricht die Parallelplatten-Totzonen. Für diesen Zweck könnten die Rippenelemente, die den Raum zwischen den Elektroden unterteilen zwei gegenüberliegende Platten sein, die das gleiche Potential wie die Anoden- oder Katodenelektrode besitzt, wobei zwei L-förmige und zwei 7-förmige Platten als einander zugewandte "L7"-Platten einander gegenüberliegen. Diese Anordnung der "L7"-förmigen Platten ermöglicht, dass das Plasma in der Mitte des Kanals im Wesentlichen den gesamten Raum zu allen Oberflächen der Elektroden "sieht", sogar obwohl das Zentrum des Kanals die Stelle ist, an der das Plasma erzeugt und aufrechterhalten wird. Das ist der Fall, weil die Ionen und Elektronen, die in der Mitte des Kanals erzeugt werden, zu allen umgebenden Seitenwänden ausstrahlen, die durch die Elektroden und unterteilenden Rippenelemente jeder "Zelle" oder Unterteilung gebildet sind, um chemische Reaktionen zu bewirken. Die Reaktionseffizienz ist dadurch stark verbessert.
  • Außerdem wird in ausgedehnten Reaktoren mit Parallelplattenelektroden das Plasma als eine laterale Schicht zwischen den gegenüberliegenden Oberflächen der Elektroden erzeugt und aufrechterhalten. Dies ermöglicht eine wesentliche laterale chemische Wechselwirkung in dem Plasma in dem Raum zwischen und parallel zu den Elektroden. Da diese chemische Wechselwirkung in der Gasphase auftritt, besteht die Wahrscheinlichkeit der Bildung von Molekülklumpen und koagulierten Partikeln, die als "Plasmastaub" bezeichnet werden, der in dem Gasstrom mitgerissen werden kann und den Reaktor mit dem Strom verlässt. Dies kann ernsthafte Probleme bewirken, z. B. bei stromabwärtigen Pumpen, insbesondere wenn der "Plasmastaub" vom Wesen her ätzend oder korrosiv ist. Durch die Unterteilung der Plasma-"Schicht" in einzelne Zellen oder Segmente verbessert die vorliegende Erfindung die Steuerung der lateralen chemischen Wechselwirkung stark, die die Bildung des Plasmastaubs zur Folge hat. Der "L7"-Entwurf ermöglicht tatsächlich eine verhältnismäßig einfache Manipulation der Länge des Strömungswegs und der Anzahl von Unterteilungen durch die Entwickler, um eine verbesserte Steuerung über die gewünschte Oberflächenreaktion gegenüber der Gasphasen-Reaktionsbalance zu schaffen.
  • Es ist trotzdem gelegentlich erwünscht, dass eine bestimmte Verbindung des Plasmas in benachbarten Zellen oder Segmenten vorhanden ist. Infolge von Herstellungstoleranzen oder aus anderen Gründen können z. B. Abweichungen in den Abmessungen von benachbarten Unterteilungen und anderer Faktoren auftreten, die zur Folge haben, dass in einer Zelle oder Unterteilung ein schwächeres Plasma gebildet wird als in benachbarten Zellen oder Unterteilungen. Durch die Ermöglichung einer bestimmten Verbindung zwischen dem Plasma in benachbarten Zellen oder Unterteilungen wird ein Ausgleicheffekt erreicht, wobei die stärkeren Plasmen in benachbarten Zellen oder Unterteilungen ein schwächeres Plasma in einer benachbarten Zelle oder Unterteilung verstärken können. Eine derartige Verbindung kann teilweise oder insgesamt über die Verwendung der Eckspalte, wie in 4 gezeigt ist, oder die Spalte zwischen den Rippen 64 und benachbarten Oberflächen der Elektroden 52 bis 58, die in 5 gezeigt sind, realisiert werden. Wenn eine zusätzliche Verbindung erwünscht ist, können einige oder alle Rippen mit Verbindungslöchern in ihren Oberflächen vorgesehen sein. Die Abmessungen der Löcher hängen natürlich von der Anwendung, den Abmes sungen der Rippen und der Elektroden selbst und den gewünschten Betriebsparametern ab.
  • Ein weiterer Vorteil der bevorzugten "L7"-Elektrodenkonfiguration der vorliegenden Erfindung liegt in Betrachtungen der Materialfestigkeit. Die Bildung und Aufrechterhaltung eines Plasmas erzeugt eine wesentliche Wärmemenge. Je größer der Oberflächenbereich der Elektroden und je höher die Betriebsspannung sind, desto mehr Wärme wird erzeugt. Deswegen unterliegen die Elektroden beträchtlichen Wärmeverformungsbelastungen. Herkömmliche Parallelplattenelektroden, die verhältnismäßig große ununterbrochene Platten enthalten, tendieren dazu, große Wärmebelastungen zu akkumulieren und sind für strukturelle Verformungen anfällig. Derartige Verformungen ändern den Elektrodenabstand und dadurch die Kapazität, die elektrischen Eigenschaften und die Plasmaeigenschaften. In einigen schweren Fällen kann die strukturelle Verformung einen Kurzschluss zur Folge haben. Derartige Betrachtungen müssen berücksichtigt werden, wenn die Materialien für die Elektroden usw. ausgewählt werden. Die "L7"-Elektrodenstruktur und insbesondere die Struktur der Baueinheit mit gestapelten "L7"-Elektroden umfassen dagegen zahlreiche kleinere Oberflächen und angewinkelte Verbindungsflächen, die eine verbesserte strukturelle Unterstützung und Stabilität im Vergleich zu großen ebenen Platten schaffen. Da das Plasma außerdem in kleinere Komponenten unterteilt ist, ist die gesamte kumulative Wärmebelastung an der Struktur verringert. Die verbesserte Eigenfestigkeit ermöglicht, dass die Elektroden mit dünnerem Metallblech hergestellt werden können als das früher in herkömmlichen Reaktoren mit Parallelplatten, die für ähnliche Betriebsparameter und Bedingungen entwickelt wurden, möglich war. Dies hat wiederum einen größeren Raum in dem Innenvolumen des Reaktors zur Folge, um einen größeren Oberflächenbereich für ein vorgegebenes kompaktes Volumen einzuschließen und eine noch bessere Leistung zu erreichen.
  • 10 ist eine Seitenansicht eines Plasmareaktors mit kapazitiv gekoppelten Parallelplattenelektroden, bei dem die bevorzugte "L7"-Elektrodenkonfiguration der vorliegenden Erfindung ausgeführt ist. Der Reaktor 110 besitzt ein Gehäuse, das ein Innenvolumen (nicht gezeigt) umschließt, in dem die Elektrodenbaueinheit, die in den 9 und 10 gezeigt ist, als eine Einheit angebracht ist. Das Reaktorgehäuse kann unter Verwendung herkömmlicher Mittel geöffnet und geschlossen werden. Bei Bedarf kann das Gehäuse mit Kühlflächen für eine Luftkühlung versehen sein. Ein herkömmlicher Gaseinlass 115 ist vorgesehen, um den zu bearbeitenden Gasstrom zu empfangen. Ein Gasauslass 120 ist außerdem für den verarbeiteten Gasstrom vorgesehen, um den Reaktor zu verlassen. Externe Elektroden (nicht gezeigt) zum Verbinden der Anschlüsse einer geeigneten Spannungsversorgung mit den Elektroden, die sich in dem Reaktor befinden, wie z. B. in 5 gezeigt ist, sind außerdem vorgesehen.
  • Die 10 und 11 veranschaulichen einen Gasplasmareaktor, der gemäß der vorliegenden Erfindung konstruiert wurde. Gemäß Konstruktion besitzt der Reaktor eine Kammer, die ein im Wesentlichen zylindrisches Innenvolumen definiert. Der Reaktor besitzt eine äußere Höhe von etwa 420 mm und einem Durchmesser von etwa 290 mm. Der Innenraum besitzt eine Höhe von etwa 305 mm und einen Durchmesser von 254 mm. Die Kammer ist aus Aluminium konstruiert und definiert eine Innenvolumen von etwa 15436 cm3. Wie in 10 gezeigt ist, umfasst eine Elektrodenbaueinheit, die aus Edelstahl 316L hergestellt ist, sechs scheibenförmige Anoden-Katoden-Paare. Der Abstand zwischen benachbarten Anoden und Katoden beträgt angenähert ein Zoll nahe dem Gaseinlass des Reaktors und verringert sich geringfügig näher zum Gasauslass des Reaktors hin, um die Gasverarbeitungseffizienz zu unterstützen, wenn das Gas durch die Elektrodenbaueinheit zwischen dem Einlass und dem Auslass strömt. Die Elektrodenbaueinheit besitzt eine äußere Abmessung, die geringfügig kleiner als 254 mm ist und eine Höhe von etwa 300 mm besitzt. Die Anodenscheiben sind mit mittigen Löchern versehen und die Katodenscheiben haben einen Außendurchmesser, der geringfügig kleiner ist als die Anodenscheiben, um einen mäanderförmigen Gasströmungsweg zwischen benachbarten Anoden-Katoden-Paaren zu schaffen. 16 trichterförmige Rippenelemente sind um den Umfang jeder Oberfläche jeder Katode gleichförmig beabstandet und 16 plattenförmige Rippenelemente sind um den Umfang jeder Oberfläche jeder Anode gleichförmig beabstandet, wobei die plattenförmigen Rippen zwischen alle trichterförmigen Rippen und zwischen alle Schenkel der trichterförmigen Rippen verschachtelt sind (siehe 8). Die trichterförmigen Rippen und die plattenförmigen Rippen sind so beabstandet und dimensioniert, dass sie Segmente oder Unterteilungen des Strömungswegs zwischen benachbarten Anoden und Katoden mit einem Volumen von etwa einem Kubikzoll definieren. Der Gesamtelektrodenbereich in dem Innenvolumen des Reaktors beträgt somit angenähert 27700 cm2 und das Verhältnis zwischen Elektrodenoberflächenbereich und Volumen beträgt angenähert 1,8.
  • Tests zum Auslösen und Aufrechterhalten eines Plasmas in Luft sind unter Verwendung des oben genannten Reaktors über einen Bereich von Betriebsdrücken und Spannungen durchgeführt worden. Diese Tests sind unter Verwendung einer Spannungsversorgung Advanced Energy Industries Model 2500E durchgeführt worden, die auf einen Betrieb bei 100 kHz modifiziert wurde. Gemäß Modifizierung wurde die Spannungsversorgung bei einer Leistung von etwa 1500 W belastet. Gemäß Test hat der Reaktor erfolgreich ein Plasma in Luft bei Drücken bis zu 500 Torr bei angenähert 1000 V mit einer Lastimpedanz von angenähert 100 Ω und bei Drücken bis zu etwa 18 mTorr bei angenähert 1400 V mit einer Lastimpedanz von etwa 1000 Ω ausgelöst und aufrechterhalten.
  • Die vorhergehenden Beschreibungen der gegenwärtig bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sollen dem Wesen nach eher beispielhaft als einschränkend sein. Verschiedene Änderungen und Modifikationen an den bevorzugten Ausführungsformen werden einem Fachmann erscheinen und können ausgeführt werden, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen. Zum Beispiel können verschiedene offenbarte Abmessungen geändert werden und verschiedene offenbarte Materialien können durch andere Materialien ersetzt werden. Für die Elektroden, die Reaktorkammer, die Rippenelemente und dergleichen können andere geometrische Formen ausgewählt werden, z. B. "U"-, "V"-, "W"-Formen oder sogar zylindrische, sphärische oder konische Formen. Dadurch eliminiert die vorliegende Erfindung tatsächlich frühere Einschränkungen und Beschränkungen an Elektrodengeometrien und Entwürfen. Betriebsparameter können außerdem geändert werden. Der Umfang der Erfindung soll nicht durch die spezifischen Einzelheiten der bevorzugten Ausführungsformen, sondern durch die beigefügten Ansprüche definiert und begrenzt sein.

Claims (19)

  1. Elektrodenvorrichtung für die Verwendung in einem Gasplasma-Reaktor, wobei die Elektrodenvorrichtung umfasst: mehrere beabstandete, abwechselnde Anoden (52, 56) und Katoden (54, 58), die mehrere Anoden- und Katodenoberflächen (52b, 54a, 56b, 58a), die einander zugewandt und so angeordnet sind, dass sie für ein Gas einen mäanderförmigen Strömungsweg definieren, besitzen; wobei die Anoden (52, 56) elektrisch zusammengeschaltet sind und die Katoden (54, 58) elektrisch zusammengeschaltet sind; gekennzeichnet durch: mehrere elektrisch leitende Rippenelemente (64), die sich von einer jeden der zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) in die Nähe einer zugewandten der Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) erstreckt und in den Raum zwischen den einander zugewandten Flächen eingefügt ist, wodurch der mäanderförmige Strömungsweg im Wesentlichen unterteilt wird.
  2. Elektrodenvorrichtung nach Anspruch 1, bei der die mehreren zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) einen kombinierten Elektrodenflächenbereich schaffen, der die Gasreaktion auf der Bahn des Strömungswegs erleichtert, und bei der die mehreren Rippenelemente (64) so angeordnet sind, dass sie mehrere einander zugewandte, beabstandete Flächen besitzen, wodurch der Elektrodenflächenbereich erhöht wird.
  3. Elektrodenvorrichtung nach Anspruch 2, bei der die mehreren Rippenelemente (64), die mit den Anoden (52, 56) und Katoden (54, 58) verbunden sind, verzahnt sind.
  4. Elektrodenvorrichtung nach Anspruch 3, bei der die mehreren Rippenelemente (64), die mit der Anode (52, 56) und/oder der Katode (54, 58) verbunden sind, angenähert wie ein "U", "V" oder "W" geformt sind.
  5. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der: die Anodenflächen (52b, 56b) einen ersten Flächenbereich umfassen; die Katodenflächen (54a, 58a) einen zweiten Flächenbereich umfassen; die elektrisch leitenden Rippenelemente (64), die mit den Anodenflächen (52b, 56b) verbunden sind, einen dritten Flächenbereich umfassen; und die elektrisch leitenden Rippenelemente (64), die mit den Katodenflächen (54a, 58a) verbunden sind, eine vierte Fläche umfassen; und bei der der dritte und der vierte Flächenbereich einander zugewandt und voneinander beabstandet sind, so dass die Rippenelemente (64) das Verhältnis des Elektrodenflächenbereichs zu dem Volumen des Raums zwischen den Anoden (52, 56) und Katoden (54, 58) wesentlich erhöhen.
  6. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die einander zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) der Anoden (52, 56) und der Katoden (54, 58) im Wesentlichen scheibenförmig sind.
  7. Elektrodenvorrichtung nach Anspruch 6, bei der die mehreren Rippenelemente (64) in Umfangsrichtung um die einander zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) der Anoden (52, 56) bzw. der Katoden (54, 58) verteilt sind.
  8. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die mehreren Rippenelemente (64), die mit den einander zugewandten Flächen der Anoden (52, 56) verbunden sind, mit den mehreren Rippenelementen (64), die mit den einander zugewandten Flächen der Katoden (54, 58) verbunden sind, verzahnt sind.
  9. Elektrodenvorrichtung nach Anspruch 8, bei der: jedes der mehreren Rippenelemente (64), die mit den Anoden (52, 56) verbunden sind, eine mehrseitige geometrische Form mit einem offenen Innenraum zwischen den Seiten besitzt; und jedes der mehreren Rippenelemente (64), die mit den Katoden (54, 58) verbunden sind, in den offenen Innenraum eingefügt ist.
  10. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der wenigstens einige der mehreren einander zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) der Anoden (52, 56) und der Katoden (54, 58) eine Öffnung besitzen, um die Gasströmung zwischen benachbarten Flächen zu erleichtern.
  11. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der wenigstens einige der mehreren einander zugewandten Flächen (52b, 54a, 56b, 58a) der Anoden (52, 56) und der Katoden (54, 58) einen Durchmesser besitzen, der kleiner als der Durchmesser einer benachbarten Fläche ist, um die Gasströmung zwischen benachbarten Flächen zu erleichtern.
  12. Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der jede der mehreren einander zugewandten Anoden- und Katodenflächen (52b, 54a, 56b, 58a) eine kontinuierlich gekrümmte Fläche ist.
  13. Gasplasma-Reaktor, der umfasst: eine Reaktorkammer, die ein Innenvolumen definiert und einen Gaseinlass sowie einen Gasauslass besitzt; und die Elektrodenvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, die in dem Innenvolumen in Verbindung mit dem Gaseinlass und dem Gasauslass positioniert und in eine Gasströmung zwischen dem Gaseinlass und dem Gasauslass eingefügt ist.
  14. Verfahren zum Konstruieren eines Plasmareaktors, das umfasst: Vorsehen eines Gehäuses, das ein Innenvolumen definiert; Vorsehen mehrerer beabstandeter, abwechselnder Anoden (52, 56) und Katoden (54, 58) in dem Gehäuse, wobei die Anoden und die Katoden mehrere Anoden- und Katodenflächen (52b, 54a, 56b, 58), die einander zugewandt und voneinander beabstandet sind, um dazwischen ein Volumen für ein Gas zu definieren; Vorsehen einer gemeinsamen elektrischen Verbindung für die Anoden (52, 56) und einer gemeinsamen elektrischen Verbindung für die Katoden (54, 58); gekennzeichnet durch: Vorsehen mehrerer elektrisch leitender Rippenelemente (64), die sich von einer jeden der zugewandten Flächen in die Nähe einer zugewandten der Flächen erstrecken und in den Raum zwischen den einander zugewandten Flächen eingefügt sind, wodurch das Volumen in mehrere Zellen im Wesentlichen unterteilt wird; und Anordnen und Dimensionieren der Zellen, um die Eigenschaften eines Plasmas in dem Volumen zu manipulieren.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, bei dem das Anordnen und Dimensionieren der Zellen das Anordnen der Zellen in einem ausgewählten Muster umfasst, um die Form eines Plasmas in dem Volumen zu manipulieren.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 14–15, bei dem das Anordnen und Dimensionieren der Zellen das Dimensionieren der Zellen, um den Fokus eines Plasmas in dem Volumen zu manipulieren, umfasst.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14–16, bei dem das Anordnen und Dimensionieren der Zellen das Dimensionieren der Zellen, um die Intensität eines Plasmas in dem Volumen zu manipulieren, umfasst.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14–17, bei dem das Anordnen und Dimensionieren der Zellen das Anordnen und Dimensionieren der Zellen, um die Manipulation eines Plasmas in dem Volumen für die Erzeugung eines ausgewählten geometrischen Musters zu erleichtern, umfasst.
  19. Verfahren zum Erzeugen eines Plasmas in einem Plasma-Reaktor, der gemäß dem Verfahren nach Anspruch 18 konstruiert ist, das umfasst: Einleiten eines Gases in das Innenvolumen, das durch das Gehäuse definiert ist; Bereitstellen von elektrischer Energie für die Anode (52) und für die Katode (54) und Erzeugen eines Plasmas in dem Volumen zwischen den einander zugewandten Flächen (52b, 54a) der Anode und der Katode.
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