DE4129693A1

DE4129693A1 - Strip material for producing tickets or labels - has transverse layers to enable it to be positioned by electronic devices using metallic inserts

Info

Publication number: DE4129693A1
Application number: DE19914129693
Authority: DE
Inventors: Heiner Dipl Ing Kudrus
Original assignee: Individual
Current assignee: Meto International GmbH
Priority date: 1991-09-08
Filing date: 1991-09-08
Publication date: 1993-03-11

Abstract

The continuous strip of material (4) which can be cut transversely to form labels or tickets is covered with a pattern formed by transverse layers (6) in which metallic segments are formed. The transverse layers are spaced at a distance (a) from each other and have a width equal to (b). The distances are chosen so that the distance (a) is an integral multiple of the distance (b). The strip is fed through a ticket or label printing machine. USE/ADVANTAGE - Strip material for prodn. of tickets or labels.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Schichtträger mit einer Basis, darübergelegenen getakteten Nusterschicht- Streifen und Deckschicht-Streifen. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtträgers und eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.The present invention relates to a layer support a base, overlying clocked sample layer Stripes and top layer stripes. The invention relates also a method for producing the invention Layer support and a device for carrying out the inventive method.

Derartige Schichtträger sind grundsätzlich bereits aus der DE-33 45 031-A1, der DE-37 24 267-A1, der DE-30 26 482-A1, der US-37 90 945 und der US-43 42 904 bekannt. Bei der Herstellung der vorbekannten Schichtträger entsteht jedoch Abfall, der nicht weiterverwendet wird. Einer weiteren Kostenminimierung sind daher Grenzen gesetzt.Such layers are basically already from the DE-33 45 031-A1, DE-37 24 267-A1, DE-30 26 482-A1, the US-37 90 945 and US-43 42 904 known. In the preparation of however, the previously known substrate produces waste which is no longer used. Another cost minimization there are limits.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, einen Schichtträger sowie ein Verfahren und eine Vorrichtung zu seiner Herstellung anzugeben, der im wesentlichen ohne Ab fall herstellbar ist und sich gut zur elektronischen Erfas sung eignet.The object of the present invention is therefore a Layer supports as well as a method and a device specify its manufacture, which is essentially without Ab case can be produced and is good for electronic recording solution.

Erfindungsgemäß wird ein Schichtträger gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 angegeben, der dadurch gekennzeichnet ist, daß die Deckschicht-Streifen ungetaktet sind, die Muster schicht-Streifen in einem Taktabstand (a) angeordnet sind, und der Taktabstand (a) ein ganzzahliges Vielfaches der Breite eines Musterschicht-Streifens ist. Dieser erfin dungsgemäße Schichtträger läßt sich i.w. ohne Abfall her stellen und der Schichtträger wird eingesetzt, wenn die Ba sis fortlaufend ist und keine getrennten Basisabschnitte vorgesehen sind.According to the invention, a layer support according to the preamble of Claim 1 indicated, which is characterized in that the top layer strips are not clocked, the patterns layer strips are arranged at a pitch (a), and the pitch (a) is an integer multiple of the Width of a pattern layer strip. This invented layer supports according to the invention can i.w. without waste place and the layer support is used when the Ba sis is continuous and not separate base sections are provided.

Alternativ ist ein Schichtträger mit nur einem Muster schicht- und Deckschicht-Streifen vorgesehen, dessen Deck schicht-Streifen ungetaktet ist, wobei die Breite der Basis ein ganzzahliges Vielfaches der Breite des Musterschicht- Streifens ist, und ein ungetakteter Nebenschicht-Streifen vorgesehen ist, der zwischen Basis und Musterschicht-Strei fen bzw. zwischen Musterschicht-Streifen und Deckschicht- Streifen angeordnet ist. Ein derartiger Schichtträger ist im wesentlichen ohne Abfall herstellbar und eignet sich beson ders gut zur elektronischen Erfassung. Die Nebenschicht wird unmittelbar unterhalb bzw. oberhalb der Musterschicht an geordnet.Alternatively, there is a layer support with only one pattern Layer and top layer strips provided, the deck layer stripe is not clocked, the width of the base an integer multiple of the width of the pattern layer Strip, and an unclocked sublayer strip is provided between the base and pattern layer streak fen or between pattern layer strips and cover layer Strip is arranged. Such a substrate is in can be produced essentially without waste and is particularly suitable good for electronic recording. The sublayer will immediately below or above the pattern layer orderly.

Alternativ ist ein Schichtträger mit einer Basis vorgesehen, mindestens einem darübergelegenen getakteten Musterschicht- Streifen und mindestens einem Deckschicht-Streifen, wobei der Deckschicht-Streifen ungetaktet ist, die Breite des Deckschichtstreifens ein ganzzahliges Vielfaches der Breite des Musterschicht-Streifens ist, und ein ungetakteter Ne benschicht-Streifen vorgesehen ist, der zwischen Basis und Musterschicht-Streifen bzw. zwischen Musterschicht-Streifen und Deckschicht-Streifen angeordnet ist. Mit dieser Ausfüh rungsform ist ein Schichtträger angegeben, dessen Deck schicht die Etikette begrenzt.Alternatively, a layer carrier with a base is provided, at least one clocked sample layer Strips and at least one top layer strip, where the top layer strip is not clocked, the width of the Top layer strip an integral multiple of the width of the pattern layer stripe, and an unclocked Ne Layered strip is provided between the base and Pattern layer strips or between pattern layer strips and top layer strip is arranged. With this execution a layer support is specified, whose deck layer the etiquette limited.

Alternativ ist ferner ein Schichtträger mit einer Basis vorgesehen, mindestens einem darübergelegenen getakteten Musterschicht-Streifen, mindestens einem Deckschicht-Strei fen und einer Oberschicht, der dadurch gekennzeichnet ist, daß der Deckschicht-Streifen ungetaktet ist, daß die Breite der Oberschicht ein ganzzahliges Vielfaches der Breite des Musterschicht-Streifens ist, und daß ein ungetakteter Ne benschicht-Streifen vorgesehen ist, der zwischen Basis und Musterschicht-Streifen bzw. zwischen Musterschicht-Streifen und Deckschicht-Streifen angeordnet ist. Dieser Schichtträ ger hat eine Oberschicht, welche die Etikette begrenzt.Alternatively, there is also a layer support with a base provided at least one clocked above Sample layer strips, at least one cover layer strip fen and an upper class, which is characterized by that the top layer strip is not clocked, that the width the upper class is an integer multiple of the width of the Pattern layer stripe, and that an unclocked Ne Layered strip is provided between the base and Pattern layer strips or between pattern layer strips and top layer strip is arranged. This shift ger has an upper layer that limits the etiquette.

Bevorzugt umfaßt ein Musterschicht-Streifen mindestens zwei Taktzonen, und ein ungetakteter Nebenschicht-Streifen ist vorgesehen, der zwischen Basis und Musterschicht-Streifen bzw. zwischen Musterschicht-Streifen und Deckschicht-Strei fen angeordnet ist. Der aus voneinander getrennten Taktzonen zusammengesetzte Musterschicht-Streifen bedarf mindestens zweier Taktzonen, um eine elektronische Erfassung sicherzu stellen.A pattern layer strip preferably comprises at least two Clock zones, and is an unclocked sublayer strip provided the strip between base and pattern layer or between pattern layer strips and cover layer strips fen is arranged. The one from separate clock zones composite pattern layer strips at least two clock zones to ensure electronic recording put.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Basis entfernbar ist. Die Schichten haften dann an einer Deckschicht und liegen ab ziehbar auf einem fortlaufenden Basismaterial vor.It is further preferred that the base is removable. The Layers then adhere to a top layer and lie down pullable on a continuous base material.

Es ist bevorzugt, daß ein Nebenschicht-Streifen maximal die Breite eines Musterschicht-Streifens aufweist, und unterhalb dessen angeordnet ist. Diese Ausführung ist materialsparend.It is preferred that a sub-layer strip be at most Has width of a pattern layer strip, and below whose is arranged. This version saves material.

Es ist ferner bevorzugt, daß ein Nebenschicht-Streifen und ein zugeordneter Musterschicht-Streifen gegeneinander ver setzt sind. Diese Ausgestaltung ermöglicht eine besondere elektronische Erfassung der Schichtträger-Schichten. It is also preferred that a backing strip and an assigned pattern layer strip against each other ver sets are. This configuration enables a special one electronic recording of the layer carrier layers.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Länge der Taktzonen der Musterschicht-Streifen größer ist als die Lücke zwischen den Taktzonen. Diese Ausgestaltung hat sich im Hinblick auf eine verbesserte elektronische Erfassung von Schichtträgern mit derartigen Musterschicht-Streifen in Warenhaus-Sicherungs systemen bewährt, wobei derartige Schichtträger problemlos durch das erfindungsgemäße Verfahren hergestellt werden können.It is further preferred that the length of the clock zones of the Pattern layer stripe is larger than the gap between the Cycle zones. This configuration has with regard to improved electronic recording of layer carriers with such pattern layer strips in department store security systems proven, with such substrates without problems can be produced by the method according to the invention can.

Es ist bevorzugt, daß die Deckschicht-Streifen in mindestens einer Längsrichtung über die Taktzonen der Musterschicht- Streifen überstehen. Diese Ausgestaltung ermöglicht die ab fallfreie Herstellung des Schichtträgers, da die durch Stanzung gebildeten Taktabschnitte von den durch die über stehende Deckschicht-Streifen zusammenhängenden Freiab schnitte getrennt werden können.It is preferred that the topsheet strips in at least a longitudinal direction over the clock zones of the pattern layer Survive stripes. This configuration enables the case-free production of the layer support, because of the Stamping formed sections of the bar by the over standing top layer strips of contiguous release cuts can be separated.

Es ist ferner bevorzugt, daß zwischen Deckschicht-Streifen und Musterschicht eine ungetaktete Klebeschicht angeordnet ist. Diese Klebeschicht sorgt für den Zusammenhalt von Mu sterschicht-Streifen und Deckschicht-Streifen und gewähr leistet ferner, daß unterhalb der Musterschicht aufgebrachte weitere Schichten durch die Freifelder der Musterschicht- Streifen hindurch an der Deckschicht-Streifen haften.It is further preferred that between top layer strips and an unclocked adhesive layer are arranged in the pattern layer is. This adhesive layer ensures the cohesion of Mu streak and top layer stripes and guarantee also performs that applied below the pattern layer additional layers through the free fields of the sample layer Adhere strips to the top layer strips.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Klebeschicht maximal die Breite eines Musterschicht-Streifens aufweist. Für den Halt der Musterschicht-Streifen an der Klebeschicht ist auch eine Deckschicht-Streifen ausreichend, die nur einen Bruchteil der Breite der Musterschicht-Streifen aufweist. Andererseits ist ein über die Breite der Musterschicht-Streifen überste hender Klebeschichtauftrag unnötig. It is further preferred that the adhesive layer at most Has width of a pattern layer strip. For the hold the pattern layer strip on the adhesive layer is also one Cover layer strips sufficient that only a fraction the width of the pattern layer strips. On the other hand is one over the width of the pattern layer stripe application of adhesive layer unnecessary.

Es ist ferner bevorzugt, daß ein Deckschicht-Streifen im wesentlichen die Breite der Basis aufweist. Diese Ausge staltung empfiehlt sich dann, wenn unterhalb der Muster schicht-Streifen aufgebrachte Schichten an den Deckschicht- Streifen haften sollen, die wesentlich breiter als die Mu sterschicht-Streifen sind.It is further preferred that a top layer strip in the essentially has the width of the base. This Ausge staltung is recommended if below the pattern layer strips applied to the top layer Should stick strips that are much wider than the Mu are streak stripes.

Es ist alternativ bevorzugt, daß ein Deckschicht-Streifen die Breite eines Musterschicht-Streifens aufweist. Diese Ausgestaltung genügt für unterhalb der Musterschicht-Strei fen aufgebrachte Schichten, die im wesentlichen die Breite der Musterschicht-Streifen haben.It is alternatively preferred that a top layer strip has the width of a pattern layer strip. These Design is sufficient for below the pattern layer streak fen applied layers that are essentially the width of the pattern layer stripes.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Basis bzw. die Deckschicht oder Oberschicht einen mindestens einseitigen, bevorzugt beidseitigen Lochrand aufweist. Ein derartiger Lochrand ist geeignet, eine präzise Positionierung der Basis bezüglich einer Oberschicht sicherzustellen, welche die auf der Basis gestanzten Taktabschnitte selektiv ablöst.It is further preferred that the base or the cover layer or top layer at least one-sided, preferred has hole edge on both sides. Such a hole edge is suitable for precise positioning of the base to ensure an upper class which is based on the selectively removes stamped clock segments.

Es ist ferner bevorzugt, daß zwischen Basis und Neben schicht-Streifen mindestens eine weitere Klebeschicht an geordnet ist. Eine solche Klebeschicht sorgt für eine geei gnete Verbindung von Nebenschicht und unterliegender Basis.It is further preferred that between base and side layer strips on at least one more adhesive layer is ordered. Such an adhesive layer ensures proper smooth connection of the secondary layer and the underlying base.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Schichtträgers mit metallenen Taktabschnitten weist die folgenden Verfahrensschritte auf:The inventive method for producing a Layer carrier with metal clock sections shows the following process steps:

a) Promoting a support that has a base, over it laying metal strips and a top layer, wherein the metal strips parallel to each other at the same height are arranged and between adjacent metal strips Distance exists,
b) punching the substrate with an essentially rectangular stamping pattern at a certain pitch, each cycle section defined by the stamping pattern cross across the conveying direction over at least two metal stripes stretches,
c) separating the bar sections from unstamped free cut the substrate between two successive ing clock segments and provision of layers with the stamped bar sections,
d) Repeat steps b) and c) as long as the lead free sections of the substrate wider than that Width (b) of a bar section.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, einen Schichtträger mit nebeneinander angeordneten fortlaufenden Metallstreifen derart quer zur Längsrichtung der Metall streifen zu bestanzen, daß aus dem Metallstreifen in einem ersten Schritt im Taktabstand beabstandete Taktabschnitte ausgestanzt und abgenommen werden, und in darauffolgenden Verfahrensschritten weitere Taktabschnitte ebenfalls im Taktabstand ausgestanzt werden, die an durch Abtrennen der vorangegangenen Taktabschnitte entstandene Freifelder an grenzen. Auf diese Weise wird nach und nach die gesamte zwischen den zuerst herausgestanzten Taktabschnitten ver bliebene Metallstreifenfläche herausgestanzt bis das gesamte Streifenmaterial verbraucht ist. Die in jedem Verfahrens schritt gewonnenen Taktabschnitte haben jeweils denselben Taktabstand und können in gleicher Art und Weise weiterve rarbeitet werden. Die Metallstreifen haben im wesentlichen denselben Abstand voneinander.With the inventive method it is possible to Layer supports with consecutive continuous layers Metal strips so transverse to the longitudinal direction of the metal to strip that from the metal strip in one first step spaced clock segments punched and removed, and in subsequent ones Further steps in the process also in Pitch are punched out by cutting off the previous fields in free fields limit. In this way, gradually the whole between the first punched out bar segments remaining metal strip surface punched out until the entire Strip material is used up. The one in each procedure measure sections won step have the same Pitch and can continue in the same way be worked on. The metal strips essentially have the same distance from each other.

Es ist bevorzugt, daß die neu ausgestanzten Taktabschnitte im wesentlichen lückenlos an durch Abtrennen der vorange gangenen Abschnitte entstandene Freifelder angrenzen. Damit werden systematisch alle möglichen Taktabschnitte gewonnen.It is preferred that the newly punched clock sections essentially without gaps by separating the previous one Adjacent free areas created in previous sections. In order to all possible time segments are systematically obtained.

Es ist bevorzugt, daß der durch eine Schrittweite des För dervorschubs definierte Taktabstand ein ganzzahliges Viel faches der Breite eines Taktabschnitts ist. Mit dieser Aus gestaltung werden die Breite des Taktabstands und die Breite eines Taktabschnitts so zueinander gewählt, daß der gesamte Taktabstand ohne Abfall in gestanzte Taktabschnitte aufge teilt werden kann. Damit kann das erfindungsgemäße Verfahren ohne jeden Musterschicht-Streifenabfall bzw. Deckschicht- Streifenabfall durchgeführt werden.It is preferred that the by a step size of the För the feed pitch defines an integer much times the width of a bar section. With this out design the width of the pitch and the width of a clock segment chosen so that the entire Pitch spaced without drop into punched bar sections can be shared. The method according to the invention can thus without any pattern layer strip waste or top layer Strip waste can be carried out.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Querabmessung der Basis mindestens so groß ist wie die Querabmessung der Deck schicht. Dieses Merkmal stellt sicher, daß die Deckschicht an keiner Stelle über die Basis übersteht und somit jeder Bereich des Schichtträgers von einer unterliegenden Basis abgedeckt ist.It is also preferred that the transverse dimension of the base is at least as large as the transverse dimension of the deck layer. This feature ensures that the top layer nowhere beyond the base and therefore everyone Area of the substrate from an underlying base is covered.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht-Streifen über die Musterschicht-Streifen in Längsrichtung überstehen. Diese Ausgestaltung stellt sicher, daß nach dem Bestanzen des Ausgangs-Schichtträgers die Freiabschnitte zwischen den gestanzten Taktabschnitten noch miteinander verbunden sind und in einem einzigen Arbeitsschritt fortlaufend abgezogen werden können. Die Freiabschnitte sind somit durch die überstehenden Ränder der Deckschicht miteinander verbunden.It is also preferred that the topsheet strips over protrude the pattern layer strips in the longitudinal direction. This configuration ensures that after stamping the blank sections between the punched clock sections are still connected and deducted continuously in a single step can be. The free sections are thus through protruding edges of the cover layer connected together.

Es ist ferner bevorzugt, daß bei dem Trennschritt die Tak tabschnitte auf der Basis verbleiben und die zusammenhän genden Freiabschnitte des Schichtträgers abgezogen sowie mit einer neuen Basis unterlegt werden. Diese Ausgestaltung ge währleistet ein Verbleiben der empfindlichen Taktabschnitte auf der ursprünglichen Basis, während die größeren Freiab schnitte abgezogen und mit der neuen Basis unterlegt werden.It is further preferred that the Tak Sections remain on the base and the related deducted free sections of the substrate and with be laid on a new basis. This configuration ge ensures that the sensitive clock segments remain on the original basis, while the larger freed cuts are removed and underlaid with the new base.

Es ist alternativ bevorzugt, daß die einzelnen Schichtträger durch Zerteilen der Basis in der Mitte zwischen zwei Takt abschnitten gewonnen werden. Da die einzelnen Schichtträger üblicherweise voneinander getrennt sind und bei der späteren Verwendung voneinander getrennt aufgetragen werden, kann die fortlaufende beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Basis zerteilt werden. Dies geschieht vorzugsweise in der Mitte zwischen zwei Taktabschnitten, damit der Taktabschnitt zentriert auf der Basis liegt.It is alternatively preferred that the individual supports by dividing the base in half between two bars sections are won. Because the individual layer supports are usually separated from each other and in the later Can be applied separately from each other ongoing used in the inventive method Base to be divided. This is preferably done in the Middle between two bars, so the bar centered on the base.

Ein alternatives Verfahren zur Herstellung eines Schicht trägers mit metallenen Taktabschnitten weist die folgenden Schritte auf:An alternative method of making a layer Carrier with metal clock sections shows the following Steps on:

a) Promoting a substrate that has a base and above has lying metal strips, the metal strip fen are arranged parallel to each other at the same height and essentially between adjacent metal strips there is the same distance,
b) punching the entire layer support with an in substantial rectangular continuous stamping pattern, the cycle sections formed by punching together of borders and at least across the direction of conveyance extend two metal strips,
c) separating stamped clock sections of the layer carrier gers at a certain pitch (a),
d) repeating step c) as long as after the first the remaining free sections between two consecutive bars are wider than the width (b) of a bar section.

Dieses alternative Herstellungsverfahren ist so ausgestal tet, daß zunächst der gesamte Ausgangs-Schichtträger fort laufend so bestanzt wird, daß die gebildeten Stanzabschnitte lückenlos aneinander grenzen. Somit bildet die durch einen Schnitt gebildete Kante gleichzeitig die Querkanten zweier benachbarter Taktabschnitte. Nachfolgend werden diese durch Stanzung freigelegten Taktabschnitte selektiv in einem be stimmten Taktabstand herausgelöst bzw. abgetrennt. Der ver bleibende Schichtträger mit seinen zwischen den herausgelö sten Taktabschnitten verbleibenden Freiabschnitten wird demselben Abtrennschritt solange unterworfen bis nicht mehr genügend Material für einen neuen Taktabschnitt zur Verfü gung steht. Wie in dem eingangs genannten erfindungsgemäßen Verfahren ist eine Vermeidung von Abfall dann möglich, wenn erfindungsgemäß der Taktabstand (a) ein ganzzahliges viel faches der Breite (b) der Taktabschnitte ist.This alternative manufacturing process is so designed tet that the entire starting layer carrier continues is continuously punched so that the punched sections formed border on each other without gaps. So it is formed by one Cut edge formed simultaneously the transverse edges of two neighboring clock segments. These are followed by Stamping exposed bar sections selectively in a be correct pitch separated or separated. The ver permanent support with its removed between the most of the bar sections remaining free sections subjected to the same separation step until no longer enough material for a new bar section is available. As in the aforementioned invention Procedure, waste can be avoided if According to the invention, the pitch (a) is a whole number times the width (b) of the clock segments.

Es ist ferner bevorzugt, daß das Abtrennen der Taktab schnitte durch Kontaktieren des Schichtträgers mit einer Deckschicht geschieht, die im Taktabstand beabstandete Kle beschichtabschnitte aufweist, welche maximal die Breite der Taktabschnitte haben. Dieser Verfahrensschritt sorgt für die selektive Ablösung der ausgestanzten Taktabschnitte von dem Schichtträger, wobei die auf die zur Ablösung dienende Deckschicht aufgebrachten Klebeschichtabschnitte dieselbe Abmessung haben wie die Taktabschnitte, so daß beim dek kungsgleichen Zusammenfahren der Deckschicht und des Schichtträgers die Klebeschichtabschnitte auf den gestanzten Taktabschnitten liegen und die Taktabschnitte durch Haft kontakt ablösen.It is further preferred that the clock separation cuts by contacting the layer support with a Cover layer happens, the spaced apart Kle has coating sections which maximally the width of the Have bars. This process step ensures that selective separation of the punched out clock segments from the Layer support, the one used for detachment Top layer applied adhesive layer sections the same Have dimensions like the clock sections, so that the dec the covering layer and the Layer carrier the adhesive layer sections on the punched Bar sections lie and the bar sections by imprisonment replace contact.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht derart mit dem bestanzten Schichtmaterial kontaktiert wird, daß die Klebe schichtabschnitte deckungsgleich mit den entsprechenden Taktabschnitten des Schichtträgers zusammengefahren werden. Dieser Verfahrensschritt sorgt für die selektive paßgenaue Anlage von Klebeschichtabschnitt und entsprechendem Taktab schnitt des Schichtträgers.It is further preferred that the cover layer be so with the Stamped layer material is contacted that the adhesive layer sections are congruent with the corresponding Cycle sections of the layer carrier are moved together. This process step ensures the selective fit Creation of the adhesive layer section and the corresponding cycle cut the layer support.

Es ist ferner bevorzugt, daß der geförderte Schichtträger eine Deckschicht aufweist. Eine derartige Deckschicht bei spielsweise in Form einer Folie sorgt für eine problemlose Bestanzung des Schichtträger-Ausgangsmaterials, da die emp findliche Musterschicht durch die überliegende Deckschicht geschützt ist.It is further preferred that the supported substrate has a cover layer. Such a top layer for example in the form of a film ensures problem-free Punching of the base material as the emp sensitive pattern layer through the overlying top layer is protected.

Es ist bevorzugt, daß der Schichtträger mit getakteten Mu sterschicht-Streifen und Deckschicht-Streifen zusammenge fahren wird mit einer auf einer Basis befindlichen fortlau fenden metallenen Nebenschicht mit Streifen, wobei der Schichtträger in einer Richtung und die Nebenschicht-Strei fen in einer dazu senkrechten Richtung gefördert werden, und die Nebenschicht-Streifen unterhalb der Musterschicht- Streifen positioniert werden. Dadurch werden die Neben schicht-Streifen aufgebracht.It is preferred that the layer support with clocked Mu The stratified stripes and the top stripes are joined together will drive with a fortlau located on a base metal layer with stripes, the Layer support in one direction and the sublayer streak be conveyed in a direction perpendicular thereto, and the sub-layer strips below the pattern layer Strips are positioned. This will make the minor Layer strips applied.

Ferner ist bevorzugt, daß unmittelbar nach dem Zusammenfah ren von Schichtträger und Nebenschicht-Streifen der Verfah rensschritt nach Anspruch 26 ausgeführt wird. Dies ermög licht eine zeitsparende Portionierung des Schichtträgers.It is further preferred that immediately after the merger layers and backing strips of the process is performed according to claim 26. This enables light time-saving portioning of the layer support.

Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung.Further advantages, features and possible applications of the present invention result from the following Description of exemplary embodiments in connection with the Drawing.

Fig. 1 zeigt eine Aufsicht auf eine Ausführungsform des er findungsgemäßen Schichtträgers. Fig. 1 shows a plan view of an embodiment of the inventive layer support.

Fig. 2a bis 2i zeigen den erfindungsgemäßen Schichtträger in verschiedenen Verfahrensschritten. FIGS. 2a to 2i show the substrate according to the invention in different process steps.

Fig. 3 zeigt eine weitere Ausführungsform des erfindungsge mäßen Schichtträgers. Fig. 3 shows a further embodiment of the support according to the invention.

Fig. 4 zeigt das Aufbringen der erfindungsgemäßen Neben schicht-Streifen auf die Taktabschnitte des Schichtträgers. Fig. 4 shows the application of the secondary layer strips according to the invention on the clock sections of the substrate.

Fig. 5 zeigt perspektivisch den Aufbau des mit Neben schicht-Streifen versehenen Schichtträgers. Fig. 5 shows in perspective the structure of the layer support provided with secondary layer strips.

Fig. 6 zeigt perspektivisch den Aufbau des mit Neben schicht-Streifen versehenen Schichtträgers gemäß Fig. 3. Fig. 6 shows in perspective the structure of the layer carrier provided with secondary layer strips according to FIG. 3rd

Fig. 7 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung der in den vorange gangenen Figuren gezeigten Schichtträger. Fig. 7 shows an apparatus for carrying out the inventive method for producing the substrate shown in the previous figures.

Fig. 8a bis 8d zeigen ein erfindungsgemäß bestanztes Aus gangsmaterial sowie die damit durchgeführten Verfahrens schritte für eine weitere Ausführungsform der Erfindung mit fortlaufend bestanztem Schichtträger. Figs. 8a to 8d show an inventively bestanztes from starting material and thus carried out process steps for a further embodiment of the invention, with continuously bestanztem substrate.

Fig. 9 zeigt das Aufbringen der erfindungsgemäßen Neben schicht-Streifen auf den erfindungsgemäßen Schichtträger in Aufsicht. Fig. 9 shows the application of the secondary layer strips according to the invention on the layer support according to the invention in supervision.

Fig. 10 zeigt perspektivisch den Aufbau eines Schichtträgers gemäß Fig. 8 und 9. Fig. 10 shows in perspective the construction of a support according to Fig. 8 and 9.

Fig. 11 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung des Schichtträgers nach Fig. 10. Fig. 11 shows an apparatus for carrying out the OF INVENTION to the invention process for the preparation of the support according to Fig. 10.

Fig. 12 zeigt im Detail die Ablösung der einzelnen Taktab schnitte im Taktabschnitt nach Fig. 11. Fig. 12 shows in detail the detachment of the individual sections in the cycle section of FIG. 11.

Der in Fig. 1 in Aufsicht gezeigte erfindungsgemäße Schichtträger weist eine fortlaufende Basis 4 aus Silikon papier auf, auf der voneinander getrennte Etiketten an geordnet sind. Die Basis 4 trägt darübergelegene Muster schicht-Streifen 6 aus voneinander gleichmäßig beabstandeten Taktzonen 12, 12′ und 12′′ aus Metall. Oberhalb der Muster schicht-Streifen 6 sind durchgehende Deckschicht-Streifen 8 in derselben Breite wie die Musterschicht-Streifen 6 an geordnet. Die Deckschicht-Streifen 8 bestehen jeweils aus einer transparenten Kunststoffolie. Jeder Deckschicht- Streifen 8 überdeckt im vorliegenden Fall drei Taktzonen 12, 12′ und 12′′ und steht über die drei Taktzonen mit einem bestimmten Abstand auf der linken und auf der rechten Seite über. Eine transparent dargestellte Oberschicht 32 hat einen geschwungenen wellenförmigen Randverlauf.The layer carrier according to the invention shown in Fig. 1 in supervision has a continuous base 4 made of silicone paper on which separate labels are arranged on. The base 4 carries overlying pattern layer strips 6 from equally spaced clock zones 12 , 12 'and 12 ''made of metal. Above the pattern layer strips 6 are continuous cover layer strip 8 ranked in the same width as the pattern layer 6 on strip. The cover layer strips 8 each consist of a transparent plastic film. Each cover layer strip 8 covers in the present case three clock zones 12 , 12 'and 12 ''and is over the three clock zones with a certain distance on the left and on the right side. A transparent top layer 32 has a curved, wavy edge profile.

Ein Musterschicht-Streifen 6 und Deckschicht-Streifen 8 ei ner Etikette bilden einen Taktabschnitt, wobei benachbarte Taktabschnitte 6, 8 zweier Etiketten einen Taktabstand a haben, der immer gleich ist. Der Taktabstand a ist gemessen von der unteren Kante eines Taktabschnitts 6, 8 bis zur un teren Kante des darüberliegenden bzw. darunterliegenden Taktabschnitts 6, 8. Der Taktabstand a ist gegeben durch eine Schrittweite des Fördervorschubs bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtträgers bzw. durch das Stanz werkzeug, das in einem Stanzvorgang mehrere Etiketten stanzt.A pattern layer strip 6 and cover layer strip 8 of a label form a cycle section, with adjacent cycle sections 6 , 8 of two labels having a cycle distance a which is always the same. The cycle distance a is measured from the lower edge of a cycle section 6 , 8 to the lower edge of the overlying or underlying cycle section 6 , 8 . The cycle distance a is given by a step size of the conveying feed during the production of the layer support according to the invention or by the punching tool, which punches several labels in one punching process.

Ferner ist eine Breite b der Musterschicht-Streifen 6 bzw. Deckschicht-Streifen 8 definiert, die durch die Breite der Kanten des im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Stanzmessers definiert ist. Der Taktabstand a ist ein ganz zahliges Vielfaches der Breite b, so daß, wie später erläu tert wird, der erfindungsgemäße Schichtträger ohne Muster schicht-Streifen- und Deckschicht-Streifen-Abfall herstell bar ist - abgesehen von kleinen Randbereichsabfällen.Furthermore, a width b of the pattern layer strips 6 or cover layer strips 8 is defined, which is defined by the width of the edges of the punching knife used in the method according to the invention. The cycle distance a is an integer multiple of the width b, so that, as will be explained later, the layer support according to the invention can be produced without pattern layer-strip and cover layer-strip waste - apart from small edge area waste.

Die Fig. 2a bis 2i zeigen den erfindungsgemäßen Schichtträ ger in verschiedenen Verfahrensschritten. FIGS. 2a to 2i show the Schichtträ ger according to the invention in different process steps.

In Fig. 2a ist ein Schichtträger-Ausgangsmaterial gezeigt, das aus einer unterliegenden Basis 4 besteht, auf der in Längsrichtung drei voneinander beabstandete Metallstreifen 14, 14′, 14′′ angeordnet sind. Die drei Metallstreifen ver laufen in Längsrichtung parallel zueinander und zwischen benachbarten Metallstreifen 14, 14′ bzw. 14′ und 14′′ be steht derselbe Abstand. Obwohl die Breite jedes Metall streifens als auch der Abstand zwischen den Metallstreifen sind frei wählbar. Über dem Metallstreifen ist eine Deck schicht 16 aus Kunststoffolie angeordnet, welche die Me tallstreifen überdeckt und zu beiden Seiten der äußeren Me tallstreifen mit einem Rand übersteht. In Fig. 2a sind rechteckige Stanzmuster gezeigt, die durch Stanzmesser mit Stanzkanten in das Ausgangsmaterial für die Schichtträger eingestanzt werden. Das Stanzmuster ist so ausgelegt, daß es in Förderrichtung des Materials eine kleine Länge und in Querrichtung des Materials eine große Breite aufweist. Die Stanzmesser durchstanzen die Deckschicht 16 und die darun tergelegenen Metallstreifen 14, 14′ und 14′′, während die untenliegende Basis 4 nicht beschädigt wird. Jeder durch ein Stanzmuster definierte Taktabschnitt auf der Basis 4 besteht aus einer Musterschicht-Streifen 6 in Form von voneinander beabstandeten Taktzonen 12, 12′ und 12′′ sowie darübergele genen Deckschicht-Streifen 8, welche die Taktzonen der Mu sterschicht-Streifen überdecken. Die Breite der Taktzonen 12, 12′, 12′′ entspricht der Breite der eingesetzten Me tallstreifen 14, 14′, 14′′. Die Breite jedes Taktabschnitts 6, 8 entspricht der Abmessung der Stanzkanten der Stanzmes ser in Förderrichtung des Ausgangsmaterials und wird als Breite b bezeichnet. Der Abstand benachbarter Taktabschnitte 6, 8 wird als Taktabstand a bezeichnet. Der Taktabstand ist gegeben durch den Vorschub des Ausgangsmaterials in Förder richtung, d. h. die Schrittweite des Materials zwischen zwei Stanzvorgängen und ist der Abstand zwischen der unteren Kante bzw. oberen Kante eines Taktabschnitts von der unteren Kante bzw. oberen Kante des darüber- bzw. daruntergelegenen benachbarten Taktabschnitts.In Fig. 2a, a layer base material is shown, which consists of an underlying base 4 , on which in the longitudinal direction three spaced metal strips 14 , 14 ', 14 ''are arranged. The three metal strips run in the longitudinal direction parallel to each other and between adjacent metal strips 14 , 14 'or 14 ' and 14 '' be the same distance. Although the width of each metal strip and the distance between the metal strips are freely selectable. Over the metal strip, a cover layer 16 made of plastic film is arranged, which covers the metal strips and protrudes with an edge on both sides of the outer metal strips. In Fig. 2a rectangular punched patterns are shown, which are punched by punching knife with cutting edges in the starting material for the substrate. The punching pattern is designed so that it has a small length in the conveying direction of the material and a large width in the transverse direction of the material. The punching knife punch through the cover layer 16 and the underlying metal strips 14 , 14 'and 14 '', while the underlying base 4 is not damaged. Each clock section defined by a stamping pattern on the base 4 consists of a pattern layer strip 6 in the form of spaced-apart clock zones 12 , 12 'and 12 ''and overlying gene cover layer strips 8 , which cover the clock zones of the master layer strips. The width of the clock zones 12 , 12 ', 12 ''corresponds to the width of the tall strips 14 , 14 ', 14 '' used. The width of each clock section 6 , 8 corresponds to the dimension of the punched edges of the punching water in the conveying direction of the starting material and is referred to as width b. The spacing between adjacent clock sections 6 , 8 is referred to as pitch a. The cycle distance is given by the feed of the starting material in the conveying direction, ie the step size of the material between two punching processes and is the distance between the lower edge or upper edge of a cycle section from the lower edge or upper edge of the adjacent one above or below Bar section.

Die Taktabschnitte 6, 8 verbleiben auf der ursprünglichen Basis 4, während die zwischen den Taktabschnitten definier ten Freiabschnitte 18 abgelöst werden. Da die Deckschicht 16 eine größere Breite hat als jeder Taktabschnitt 6, 8, ver bleibt ein Rand der Deckschicht 16, durch den die verblei benden Freiabschnitte 18 verbunden sind. Die Freiabschnitte 18 können daher in einem einzigen Arbeitsgang abgezogen und aufgewickelt werden, so daß der in Fig. 2b gezeigte Schichtträger verbleibt.The clock segments 6 , 8 remain on the original base 4 , while the free segments 18 defined between the clock segments are replaced. Since the cover layer 16 has a greater width than each clock section 6 , 8 , there remains an edge of the cover layer 16 through which the remaining free sections 18 are connected. The free sections 18 can therefore be pulled off and wound up in a single operation, so that the layer support shown in FIG. 2b remains.

Nachfolgend werden die abgezogenen Freiabschnitte 18 mit einer neuen Basis 4′ unterlegt und erneut gefördert und ei nem Stanzvorgang unterzogen. Die dabei eingeschnittenen Stanzmuster grenzen unmittelbar an die durch Ablösen ent standenen Freifelder 10 des neuen Ausgangsmaterials, so daß die neuen Taktabschnitte 6, 8 eine gemeinsame Kante mit den Freifeldern 10 bilden. Nach Einstanzen der neuen Taktab schnitte, die ebenfalls den Taktabstand a und die Breite b haben, werden die nun verbleibenden Freiabschnitte 18′ ab gelöst, während die ausgestanzten Taktabschnitte 6, 8 auf der neuen Basis 4′ verbleiben, wie in Fig. 2c und 2d ge zeigt. Die verbleibenden Freiabschnitte 18′ werden auf eine neue Basis 4′′ aufgebracht und einer weiteren Stanzung un terzogen, bei dem die bereits bestehende Freifeldfläche 10′ wiederum um die Taktabschnitt-Breite b vergrößert wird, wie in Fig. 2e und 2f gezeigt. Die verbleibenden Freiabschnitte 18′′ werden auf eine neue Basis 4′′′ aufgebracht und einer weiteren Stanzung unterzogen, wie in Fig. 2g und 2h gezeigt. Dabei verbreitert sich die Freifeldlänge 10′′ wiederum um die Breite b. Die verbleibenden Freiabschnitte 18′′′ haben jetzt lediglich die Breite b der Taktabschnitte und können nur noch einer einzigen weiteren Stanzung unterzogen werden, die in Fig. 2i gezeigt ist. Dazu werden sie auf eine neue Basis 4′′′′ aufgebracht und erneut dem Stanzvorgang unter zogen. Dieser Stanzvorgang kann jedoch entfallen, da der Randbereich zwischen zwei Taktabschnitten unerheblich ist bzw. nicht stört.Subsequently, the removed free sections 18 are underlaid with a new base 4 'and conveyed again and subjected to a punching process. The punched pattern cut into this directly adjoins the free fields 10 of the new starting material that have arisen from detachment, so that the new clock sections 6 , 8 form a common edge with the free fields 10 . After punching the new Taktab sections, which also have the pitch a and the width b, the remaining free sections 18 'are loosened, while the punched out sections 6 , 8 remain on the new base 4 ', as in Fig. 2c and 2d ge shows. The remaining free sections 18 'are applied to a new base 4 ''and subjected to a further punching, in which the already existing free field area 10 ' is in turn enlarged by the clock section width b, as shown in FIGS. 2e and 2f. The remaining free sections 18 '' are applied to a new base 4 '''and subjected to a further punching, as shown in Fig. 2g and 2h. The free field length 10 '' widens again by the width b. The remaining free sections 18 '''now have only the width b of the clock sections and can only be subjected to a single further punching, which is shown in Fig. 2i. For this purpose, they are applied to a new base 4 '''' and again subjected to the punching process. This punching process can be omitted, however, since the edge area between two clock sections is irrelevant or does not interfere.

Die Fig. 3 zeigt eine weitere Ausführungsform des erfin dungsgemäßen Schichtträgers. Dieser Schichtträger hat schräggestanzte Musterschicht-Streifen- und Deckschicht- Streifenabschnitte, die einen Taktabstand c aufweisen. Jeder durch Stanzung gebildete Taktabschnitt weist einen Muster schicht-Streifen 6′ auf, der aus voneinander getrennten Zo nen besteht, und einen darüberliegenden Deckschicht-Streifen 8′, der den Musterschicht-Streifen 6′ abdeckt. Der Vorteil liegt darin, daß eine unter die Musterschicht gefahrene Ne benschicht eine größere Länge hat als die Breite der Eti kette. Dies begünstigt die elektronische Erfassung. FIG. 3 shows a further embodiment of the OF INVENTION to the invention the support. This layer support has obliquely stamped pattern layer strips and cover layer strip sections which have a pitch c. Each clock section formed by stamping has a pattern layer strip 6 ', which consists of separate Zo NEN, and an overlying cover layer strip 8 ', which covers the pattern layer strip 6 '. The advantage is that a sub-layer driven under the pattern layer has a greater length than the width of the label. This favors electronic recording.

Fig. 4 zeigt das Aufbringen einer erfindungsgemäßen Neben schicht-Streifen auf die Schichtträger mit gestanzten Takt abschnitten gemäß den Fig. 1, 2b, 2d, 2f, 2h und 2i. Diese Schichtträger weisen eine unterliegende Basis 4, 4′, 4′′,4′′′,4′′′′ auf, die zunächst entfernt werden muß. An stelle dessen wird von oben eine mit einer Klebeschicht 24 beschichtete Oberschicht 32 aufgebracht, so daß an der klebstoffbeschichteten Oberschicht 32 die Deckschicht- Streifen 8 mit darunterliegender Klebeschicht 20 und Mu sterschicht-Streifen 6 haften. Diese Schichtträger werden in der durch den nach unten zeigenden Pfeil angedeuteten Rich tung gefördert. In Querrichtung dazu, und zwar in der durch den nach links zeigenden Pfeil angedeuteten Richtung wird eine auf einem Träger 2 befindliche streifenförmige metal lene Nebenschicht-Streifen 28 herangeführt, deren Metall streifen ebenfalls den Taktabstand a haben. Die Nebenschicht 28 haftet durch eine Klebeschicht an dem Träger 2. Der nach unten geförderte Schichtträger und die nach links geförderte Nebenschicht-Streifen werden so positioniert, daß in einem Taktschritt die nach unten freiliegenden Musterschicht- Streifen 6 deckungsgleich mit den quer herangeförderten Ne benschicht-Streifen 2S sind. In einem Pressvorgang werden die Schichten aneinander gedrückt, so daß die untenliegenden Nebenschicht-Streifen 28 an den durch die Freifelder der Musterschicht-Streifen 6 freiliegenden Bereichen der Klebe schicht haften und dergestalt mit dem Schichtträger verbun den sind. Die Nebenschicht-Streifen werden quer zur Förder richtung abgeschnitten und der Schichtträger d. h. die Ober schicht in der durch das wellenförmige Stanzmuster ange zeigten Form portioniert bzw. abgetrennt. Durch den Stanz vorgang werden demnach Etiketten mit einem Aufbau gebildet, bei dem eine klebstoffbeschichtete Oberschicht obenliegt und sich nach unten ebenfalls klebstoffbeschichtete Deck schicht-Streifen 8 anschließen, an denen die Musterschicht- Streifen und (mittelbar durch die Lücken der Musterschicht- Streifen) auch die klebstoffbeschichteten Nebenschicht- Streifen 28 haften. Die Oberschicht wird in den Randberei chen durchstanzt, wobei die Nebenschicht durchtrennt wird. Nach dem Stanzvorgang lösen sich die endlose Oberschicht und die an ihr haftende Musterschicht, Deckschicht und Neben schicht von der fortlaufenden Basis 2 ab. Das gewonnene Schichtmaterial wird in Pfeilrichtung senkrecht zur Basis 2 gefördert und nachfolgend mit einer neuen Basis zusammenge fahren. Die Randbereiche und die Zwischenbereiche (wellen förmig) werden entfernt. Die Oberschicht wird somit nur in Längsrichtung getrennt, wodurch die Nebenschicht auf die richtige Länge begrenzt wird. Die Oberschicht bleibt somit endlos. Die Musterschicht wird danach in Querrichtung ge trennt, um die Etikette in ihrer endgültigen Größe festzu legen. Fig. 4 shows the application of a secondary layer strips according to the invention on the layer carrier with stamped clock sections according to FIGS. 1, 2b, 2d, 2f, 2h and 2i. These supports have an underlying base 4 , 4 ', 4 '', 4 ''', 4 '''', which must first be removed. In lieu thereof, is applied a surface coated with an adhesive layer 24 top layer 32 from above, so that the topcoat adhered to the adhesive coated topsheet 32 strips 8 with an underlying adhesive layer 20 and Mu sterschicht strip. 6 These substrates are promoted in the direction indicated by the downward pointing direction. In the transverse direction, specifically in the direction indicated by the arrow pointing to the left, a strip-shaped metal layer layer 28 located on a support 2 is brought up, the metal strips of which also have the pitch a. The secondary layer 28 adheres to the carrier 2 by means of an adhesive layer. The downwardly promoted layer support and the left-handed sub-layer strips are positioned so that in one cycle step the exposed pattern layer strips 6 are congruent with the transversely advanced ne-layer strips 2 S. In a pressing process, the layers are pressed against one another, so that the underlying secondary layer strips 28 adhere to the areas of the adhesive which are exposed through the free fields of the pattern layer strips 6 and are thus connected to the layer support. The secondary layer strips are cut off transversely to the conveying direction and the layer support, ie the upper layer, is portioned or separated in the shape indicated by the wave-shaped punching pattern. The punching process accordingly forms labels with a structure in which an adhesive-coated top layer lies on top and is also followed by adhesive-coated cover layer strips 8 , to which the pattern layer strips and (indirectly through the gaps in the pattern layer strips) also the adhesive-coated secondary layer strips 28 adhere. The upper layer is punched through in the peripheral areas, the secondary layer being severed. After the punching process, the endless top layer and the pattern layer, cover layer and secondary layer adhering to it detach from the continuous base 2 . The layer material obtained is conveyed in the direction of the arrow perpendicular to the base 2 and then move together with a new base. The edge areas and the intermediate areas (wave-shaped) are removed. The upper layer is thus only separated in the longitudinal direction, which limits the secondary layer to the correct length. The upper class thus remains endless. The pattern layer is then separated in the transverse direction to determine the final size of the label.

Dieser etikettenartige Schichtträger hat den in Fig. 5 per spektivisch gezeigten Aufbau, wobei die Klebeschicht 25 für den Haftkontakt zwischen Nebenschicht-Streifen 28 und Träger 2 sorgt, während die Klebeschicht 24 den Haftkontakt zwi schen der Oberschicht 32 und dem Träger 2 herstellt. Die Klebeschicht 20 wiederum sorgt für einen Haftkontakt der Musterschicht-Streifen 6 und der Nebenschicht-Streifen 28 an den Deckschicht-Streifen 8.This label-like layer support has the structure shown in FIG. 5 by means of a spotting scope, the adhesive layer 25 ensuring the adhesive contact between the secondary layer strips 28 and the carrier 2 , while the adhesive layer 24 produces the adhesive contact between the top layer 32 and the carrier 2 . The adhesive layer 20 in turn ensures that the pattern layer strips 6 and the secondary layer strips 28 are in adhesive contact with the cover layer strips 8 .

In Fig. 6 ist der weiterverarbeitete Schichtträger gemäß Fig. 3 gezeigt, wobei die schräg zur Förderrichtung verlau fenden Musterschicht-Streifen bzw. Deckschicht-Streifen mit Nebenschicht-Streifen 28 unterlegt sind, unter denen eine Deckschicht 8 sich befindet, die auf der fortlaufenden Basis 2 liegt.In FIG. 6, the further-processed substrate is shown in FIG. 3, wherein the inclined duri fenden to the conveying direction pattern layer strip or cover layer strip are lined with side-layer strip 28 in which a cover layer 8 is located, on the continuous basis 2 lies.

Fig. 7 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung des in den vorange gangenen Figuren gezeigten Schichtträgers. Auf einem Wickel 36 sind die voneinander gleichmäßig beabstandeten Metall streifen 14, 14′, 14′′ aufgewickelt und werden von dort ab gespult. Oberhalb des Wickels 36 befindet sich ein Wickel 38 für die von oben auf die Metallstreifen aufgebrachte Deck schicht 8. Unterhalb des Wickels 36 befindet sich ein Winkel 40 für eine mit Klebeschicht versehene Basis 4. Die von dem Wickel 38, 36 und 40 stammenden Schichten werden in dieser Reihenfolge zusammengefahren und einer Stanze 42 zugeführt, die den zugeführten Schichtträger mit einem rechteckigen Stanzmuster im Taktabstand a beaufschlagt. Unmittelbar hin ter der Stanze 42 wird der bestanzte Schichtträger so ge trennt, daß die bestanzten Taktabschnitte der Musterschicht 6 und Deckschicht 8 auf der Basis 4 verbleiben und auf einer Rolle 44 aufgewickelt werden. Die Rolle 44 wird später wei terverarbeitet. Die verbleibenden unbestanzten Freiab schnitte von Musterschicht und Deckschicht werden dadurch isoliert, daß die bestanzten Taktabschnitte abgezogen wer den, so daß die Freiabschnitte weiterlaufen. Diese Freiab schnitte von Deckschicht und Musterschicht werden mit einer neuen Basis 4′ unterlegt, die von einem Wickel 46 stammt. Die verbleibenden mit Basis 4′ versehenen Freiabschnitte 18 werden sodann einer weiteren Stanzung in einer Stanze 42′ unterzogen, die wiederum im Taktabstand a beabstandete rechteckige Stanzmuster einstanzt. Hinter der Stanze 42′ wird ebenso wie hinter der Stanze 42 das Material getrennt, und zwar in einen Schichtträger, der aus Taktabschnitten im Abstand a besteht, die auf der Basis 4′ bleiben und durch die Randbereiche verbundene Freiabschnitte, die anschließend mit einer neuen Basis 4′′ unterlegt werden, die von einem Wickel 50 stammt. Das abgezogene Schichtmaterial mit Basis 4′ wird auf einer Rolle 48 aufgewickelt. Das Schichtmaterial mit Freifeldern wird sooft einer weiteren, zuvor beschrie benen Stanzung unterzogen bis ein Material, wie beispiels weise in Fig. 2i übrigbleibt. Fig. 7 shows an apparatus for performing the inventive method for producing the layer support shown in the previous figures. On a roll 36 , the metal strips 14 , 14 ', 14 ''are equally spaced from each other and are wound from there. Above the winding 36 there is a winding 38 for the cover layer 8 applied to the metal strips from above. Below the winding 36 there is an angle 40 for a base 4 provided with an adhesive layer. The layers originating from the winding 38 , 36 and 40 are moved together in this order and fed to a punch 42 , which applies a rectangular punching pattern to the supplied layer support at a pitch a. Immediately behind the punch 42 , the die-cut substrate is separated so that the die-cut clock portions of the pattern layer 6 and cover layer 8 remain on the base 4 and are wound on a roll 44 . The role 44 will be further processed later. The remaining unstamped Freiab sections of the pattern layer and cover layer are isolated in that the punched clock sections are subtracted who the, so that the free sections continue. This Freiab sections of the top layer and pattern layer are underlaid with a new base 4 ', which comes from a winding 46 . The remaining with base 4 'provided free sections 18 are then subjected to a further punching in a punch 42 ', which in turn stamps a rectangular punching pattern spaced apart at a pitch. Behind the punch 42 'as well as behind the punch 42, the material is separated, namely in a layer support, which consists of clock sections at a distance apart, which remain on the base 4 ' and free sections connected by the edge areas, which are then connected to a new base 4 '' are underlaid, which comes from a winding 50 . The stripped layer material with base 4 'is wound on a roll 48 . The layer material with free fields is subjected to a further, previously described punching until a material such as is left in FIG. 2i, for example.

Fig. Sa zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung mit einem Ausgangsmaterial für einen alternativen Schichtträger. Das Ausgangsmaterial besteht ebenfalls aus den herangeführ ten auf gleicher Höhe befindlichen zueinander parallelen Metallstreifen 14, 14′, 14′′, die sich auf einem klebstoff beschichteten Träger bzw. Basis 2 befinden. Die Klebeschicht 20 verbindet Metallstreifen 14, 14′, 14′′ mit dem Trägerma terial 2. Dieses Ausgangsmaterial wird quer zur Laufrichtung bzw. Förderrichtung mit einem rechteckigen Stanzmuster beaufschlagt, das im vorliegenden Fall - da eine Deckschicht fehlt - aus zwei zueinander parallelen Schneidkanten beste hen kann. Die Stanze unterteilt das gesamte Schichtmaterial in Taktabschnitte, die fortlaufend aneinander grenzen. Somit liegen die Taktabschnitte 6 der Metallstreifen 14, 14′, 14′′ lückenlos aneinander. Die einzelnen Schichtträger werden nun durch selektives Ablösen der bestanzten Taktabschnitte im Taktabstand a gewonnen. Fig. 8c zeigt den Schichtträger mit im Taktabstand abgelösten Taktabschnitten. Wie in Fig. 8d gezeigt, weisen die abgelösten Taktabschnitte jeweils einen getakteten Musterschicht-Streifen 6 und daruntergelegenen Klebeschicht-Streifen 26 auf, der ungetaktet ist. Nachei nander werden die in den aufeinanderfolgenden Verfahrens schritten jeweils im Taktabstand a befindliche Taktab schnitte abgelöst bis alle Taktabschnitte abgelöst sind. Dabei ist naturgemäß bevorzugt, daß der Taktabstand a ein ganzzahliges vielfaches der Breite jedes Taktabschnittes ist. Fig. Sa shows a further embodiment of the invention with a starting material for an alternative layer support. The starting material also consists of the approaching th at the same height mutually parallel metal strips 14 , 14 ', 14 '', which are located on an adhesive-coated carrier or base 2 . The adhesive layer 20 connects metal strips 14, 14 ', 14' 'with the Trägerma TERIAL. 2 This starting material is loaded transversely to the running direction or conveying direction with a rectangular punching pattern which, in the present case, since there is no cover layer, can consist of two mutually parallel cutting edges. The punch divides the entire layer material into cycle sections that continuously adjoin each other. Thus, the clock sections 6 of the metal strips 14 , 14 ', 14 ''are seamlessly together. The individual layer carriers are now obtained by selectively detaching the stamped clock segments at the clock spacing a. FIG. 8c shows the layer carrier with cycle sections detached in the cycle interval. As shown in FIG. 8d, the detached clock sections each have a clocked pattern layer strip 6 and adhesive layer strip 26 underneath, which is not clocked. One after the other, the steps in the successive method steps in the cycle spacing a are removed sections until all the sections of the cycle are replaced. It is naturally preferred that the pitch a is an integer multiple of the width of each clock segment.

Die einzelnen Taktabschnitte werden durch eine mit taktar tiger Klebstoffschicht 26 versehene Oberschicht 32 abgelöst, wie in Fig. 8b. gezeigt.The individual clock sections are replaced by a top layer 32 provided with a tactile adhesive layer 26 , as in FIG. 8b. shown.

Der gewonnene in Fig. 8d gezeigte Schichtträger wird an schließend, wie in Fig. 9 gezeigt, mit unterliegenden Ne benschicht-Streifen 28 versehen, die auf einem fortlaufenden Basismaterial 2 vorliegen. Die Schichtträger mit Muster schicht 6 werden in der durch den nach unten zeigenden Pfeil angedeuteten Richtung taktartig gefördert, während die Ne benschicht 28 mit der Basis 2 in der durch den nach links zeigenden Pfeil angedeuteten Richtung taktartig gefördert werden. Die Nebenschicht-Streifen werden deckungsgleich un ter die Musterschicht-Streifen 6 positioniert und mit diesen zur Anlage gebracht, so daß die Nebenschicht-Streifen an den durch die Freifelder der Musterschicht-Streifen gebildeten Bereichen an der darüberliegenden Klebeschicht 26 haftet. Die Klebeschicht 26 ist über eine Breite von drei Muster schicht-Streifenzonen 6 ungetaktet und liegt daher an den Freifeldern der Musterschicht-Streifenzonen 6 frei. Nachdem die Nebenschicht-Streifen 28 und die darüberliegenden Takt abschnitte des Schichtträgers zur Anlage gebracht wurden und aneinander haften, wird das in nach unten zeigender Richtung weiter geförderte Schichtmaterial d. h. die Deckschicht 8 in der durch den wellenförmigen Rand gezeigten Weise längs und quer abgeschnitten und dadurch portioniert. Nach diesem Schnittvorgang liegt auf der darunterliegenden Basis 2 ein Schichtträger vor, der den in Fig. 10 gezeigten Aufbau hat, wobei das Basismaterial 2 ganzflächig mit einer Klebstoff schicht 28 versehen ist, die nach dem Zusammenfahren ganz flächig die zu jedem etikettenartigen Schichtträger gehö renden Schichten nach unten abschließt. Somit haftet, wie in Fig. 10 gezeigt ist, die unterliegende Basis an der Klebe schicht 24, während der oberhalb der Klebeschicht 24 gele gene Nebenschicht-Streifen und Musterschicht-Streifen eben falls an der Klebeschicht 24 haften und über dem Muster schicht-Streifen 6 die Klebeschicht 26 und darübergelegene Deckschicht 8 den Schichtträger nach oben abschließen.The recovered in Fig. 8d substrate shown is shown at closing, as shown in Fig. 9, provided with underlying Ne benschicht strips 28, which are present on a continuous base material 2. The layer support with pattern layer 6 are conveyed in a clockwise manner in the direction indicated by the downward-pointing arrow, while the secondary layer 28 is conveyed in a clockwise manner with the base 2 in the direction indicated by the arrow pointing to the left. The auxiliary layer strips are positioned congruently under the pattern layer strips 6 and brought into contact with them so that the auxiliary layer strips adhere to the overlying adhesive layer 26 at the areas formed by the free fields of the pattern layer strips. The adhesive layer 26 is non-clocked over a width of three pattern layer stripe zones 6 and is therefore exposed to the free fields of the pattern layer stripe zones 6 . After the secondary layer strips 28 and the overlying clock sections of the layer support have been brought into contact and adhere to one another, the layer material which is further conveyed in the downward direction, ie the cover layer 8, is cut longitudinally and transversely in the manner shown by the wavy edge and thereby portioned . After this cutting process, there is a layer support on the underlying base 2 , which has the structure shown in FIG. 10, the base material 2 being provided over its entire area with an adhesive layer 28 which, after moving together, covers the entire area of the layers belonging to each label-like layer support locks down. Thus, adheres as shown in FIG. 10 is shown, the underlying base to the adhesive layer 24 while the above adhesive layer 24 gels gene sublayer strips and pattern layer strip just any, adhering to the adhesive layer 24 and the pattern layer strip 6 the adhesive layer 26 and the overlying cover layer 8 finish the layer support at the top.

In Fig. 11 ist eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung des alternativen erfindungsgemäßen Schichtträgers gezeigt. Die drei zueinan der parallelen Metallstreifen werden von einem Wickel 50 abgespult und einer Klebstoffbeschichtung in einer Station 52 unterzogen. Anschließend wird von einem Wickel 54 eine Basis, bevorzugt aus Papier, unter die Metallstreifen ge fahren und der Ausgangsträger der in Fig. 8 gezeigten fort laufenden Stanzung unterzogen. Anschließend wird von einem Wickel 58 von oben die mit taktartiger Klebeschicht 26 ver sehene Oberschicht 32 abgespult, und mit dem aus der Stanze 56 stammenden Schichtträger zusammengefahren, wobei die ge taktete Klebeschicht selektiv im Abstand a beabstandete Taktabschnitte des Ausgangsträgers ablöst. Die mit abgelö sten Taktabschnitten versehene klebstoffbeschichtete Deck schicht 8 wird anschliessend auf einer Rolle 60 aufgewik kelt, während die auf der Basis verbleibenden Freiabschnitte weiterlaufen und mit einer von einem Wickel 62 stammenden weiteren klebstoffbeschichteten Oberschicht zusammengefahren werden, so daß ein weiteres Mal im Abstand a beabstandete Taktabschnitte abgelöst und zusammen mit der Oberschicht auf einer Rolle 64 aufgewickelt werden. Nachfolgend wird glei chermaßen eine weitere klebstoffbeschichtete Oberschicht von einem Wickel 66 abgespult und mit den verbleibenden Freiab schnitten zusammengeführt, so daß ein weiteres Mal im Ab stand a beabstandete Taktabschnitte abgelöst und auf einer Rolle 68 aufgewickelt werden. Dasselbe geschieht nachfolgend mit einer weiteren von einem Wickel 70 abgespulten Deck schicht, die mit Taktabschnitten versehen auf einer Rolle 72 aufgewickelt wird und einer weiteren von Wickel 74 abge spulten Oberschicht, die mit Taktabschnitten versehen auf einer Rolle 76 aufgespult wird. Die von allen Taktabschnit ten befreite Basis 4 des Ausgangsmaterials wird schließlich mit der Klebeschicht auf einer Spule 78 aufgerollt.In Fig. 11, an apparatus for carrying out the OF INVENTION to the invention process for producing the alternative film carrier according to the invention is shown. The three mutually parallel metal strips are unwound from a winding 50 and subjected to an adhesive coating in a station 52 . Subsequently, a base, preferably made of paper, is moved under the metal strips by a winding 54 and the exit carrier is subjected to the continuous punching shown in FIG. 8. Subsequently, the top layer 32 provided with a clock-like adhesive layer 26 is unwound from a coil 58 from above, and moved together with the layer support originating from the punch 56 , the clocked adhesive layer selectively replacing spaced-apart clock sections of the starting support. The adhesive-coated cover layer 8 provided with the most loosened clock sections is then knocked up on a roll 60 , while the free sections remaining on the base continue to run and are moved together with a further adhesive-coated top layer originating from a winding 62 , so that spaced apart once more at a distance Clock sections are detached and wound up on a roll 64 together with the top layer. Subsequently, a further adhesive-coated top layer is reeled out from a winding 66 and merged with the remaining free sections, so that once again a spaced-apart clock sections were removed and wound up on a roll 68 . The same happens subsequently with a further cover layer unwound from a winding 70 , which is wound up with winding sections provided on a roll 72 and a further top layer unwound from winding 74 , which is wound up with winding sections on a roll 76 . The base 4 of the starting material, which is freed of all clock sections, is finally rolled up on a spool 78 with the adhesive layer.

Fig. 12 zeigt ein Detail des Ablösens der erfindungsgemäßen Taktabschnitte von Fig. 11. Dabei wird die Deckschicht 8, die mit Klebstoffabschnitten 26 im Taktabstand a versehen ist, mit dem Ausgangsträger 2 derart fortlaufend zusammen gefahren, daß die Klebstoffabschnitte 26 entsprechende Takt abschnitte 6 des Ausgangsträgers 2 ablösen. Die Schichten werden durch eine Rolle 80 zusammengefahren, die an ihren beiden Rändern auf ihrem gesamten Umfang Zentrierzapfen 82 aufweist, die in entsprechende Löcher des beidseitigen Lochrandes 22 des Ausgangsträgers 2 eingreifen. Da auch die Oberschicht 32 mit einem derartigen Lochrand versehen ist, ist eine exakte Positionierung sichergestellt. Fig. 12 shows a detail of the detachment of the clock sections according to the invention from Fig. 11. Here, the cover layer 8 , which is provided with adhesive sections 26 at intervals a, moved together with the output carrier 2 such that the adhesive sections 26 corresponding clock sections 6 of the Detach output carrier 2 . The layers are brought together by a roller 80 which has centering pins 82 on its entire circumference at its two edges, which engage in corresponding holes in the hole edge 22 of the exit carrier 2 on both sides. Since the top layer 32 is also provided with such a hole edge, an exact positioning is ensured.

Claims

1. layer support with a continuous base ( 4 ), an overlying pattern layer with spaced-apart clocked pattern layer strips ( 6 ) and a cover layer with spaced-apart cover layer strips ( 8 ), characterized in that the cover layer strips ( 8 ) un are clocked that the pattern layer strips ( 6 ) are arranged at a pitch (a) and that the pitch (a) is an integral multiple of the width of a pattern layer strip ( 6 ).

2. Layer support with a base ( 4 ), an overlying clocked pattern layer strip ( 6 ) and a cover layer strip ( 8 ), characterized in that the cover layer strip ( 8 ) is not clocked that the width of the base ( 4 ) is an integer multiple of the width of the pattern layer strip ( 6 ), and that an unclocked secondary layer strip ( 28 ) is provided which is between the base ( 4 ) and pattern layer strip ( 6 ) or between pattern layer Strip ( 6 ) and top layer strip ( 8 ) is arranged.

3. layer support with a base ( 4 ), at least one overlying clocked pattern layer strip ( 6 ) and at least one cover layer strip ( 8 ), characterized in that the cover layer strip ( 8 ) is unclocked that the width of the Cover layer strip ( 8 ) is an integer multiple of the width of the pattern layer strip ( 6 ), and that an unclocked secondary layer strip ( 28 ) is provided, which is between the base ( 4 ) and pattern layer strip ( 6 ) or between pattern layer Strip ( 6 ) and cover layer strip ( 8 ) is arranged.

4. support having a base (4), at least one over there located clocked pattern layer strips (6), min least one outer layer strip layer (8) and a top, characterized in that the topcoat Stripes fen is unclocked (8) in that the width of the topsheet, and an integer multiple of the width of the pattern layer stripes fens (6) that a unclocked side-layer strip is provided (28), the layer strips between the base (4) and patterns (6) or is arranged between the pattern layer strips ( 6 ) and the cover layer strips ( 8 ).

5. Layer support according to claim 1, characterized in that a pattern layer strip ( 6 ) comprises at least two clock zones ( 12 , 12 '), and that an auxiliary layer with auxiliary layer strips ( 28 ) is provided, which between the base ( 4 ) and pattern layer or between pattern layer and cover layer is arranged.

6. Layer support according to one of claims 1 to 4, characterized in that the base ( 4 ) is removable.

7. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that a fog layer strip ( 28 ) has a maximum of the width of a pattern layer strip ( 6 ), and is arranged below it.

8. layer support according to one of the preceding claims, characterized in that a sub-layer strip and an assigned pattern layer strip against each other ver sets are.

9. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that the length of the clock zones ( 12 , 12 ', 12 '') of the pattern layer strips ( 6 ) is greater than the gap between the individual clock zones ( 12 , 12 ', 12th ′ ′).

10. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that the cover layer strips ( 8 ) in at least one longitudinal direction over the clock zones ( 12 , 12 ') of the pattern layer strips ( 6 ).

11. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that an unclocked adhesive layer ( 20 ) is arranged between cover layer strips and pattern layer strips.

12. Layer support according to claim 11, characterized in that the adhesive layer ( 20 ) has a maximum of the width of a pattern layer strip.

13. Layer support according to one of claims 1 to 12, characterized in that a cover layer strip ( 8 ) has the width of the base ( 4 ) in wesent union.

14. Layer support according to one of claims 1 to 12, characterized in that a cover layer strip ( 8 ) has the width of a pattern layer strip ( 6 ).

15. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that the base has at least one side, preferably double-sided hole edge ( 22 ).

16. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that at least one further adhesive layer ( 24 ) is arranged between the base and secondary layer strips.

17. Layer support according to one of the preceding claims, characterized in that above the top layer Upper layer is arranged.

18. Layer support according to claim 17, characterized in that that the width of the upper layer is an integral multiple is the width of the pattern layer.

19. Layer support according to claim 15 or 16, characterized records that the top layer or the top layer one hole edge at least on one side, preferably on both sides having.

20. Process for the production of a layer support with metallic tall sections, with

a) conveying a layer support, which has a base ( 4 ), overlying metal strips ( 14 , 14 ', 14 '') and a cover layer ( 16 ), the metal strips ( 14 , 14 ', 14 ''') at the same height are arranged parallel to one another and there is essentially the same distance between adjacent metal strips,
b) punching the substrate ( 4 ; 14 , 14 ', 14 ''; 16 ) with a substantially rectangular punching pattern at a certain pitch (a), each clock section defined by the punch pattern ( 6 , 8 ) extending transversely to the conveyor direction over at least two metal strips ( 14 , 14 ′) he stretches,
c) separating the clock sections ( 6 , 8 ) from unstamped free sections ( 18 , 18 ', 18 '') of the layer carrier between two successive clock sections and providing layer carriers with the punched clock sections ( 6 , 8 ),
d) repeating steps b) and c) as long as the remaining free sections ( 18 , 18 ', 18 '') of the support wider than the width (b) of a clock section ( 6 , 8 ).

21. The method according to claim 20, characterized in that the newly punched-bar sections (6, 8) substantially without gaps in sections by separating the preceding Taktab (6, 8) resulting free fields (10, 10,, 10 ,,) adjoin.

22. The method according to claim 20, characterized in that the newly punched out sections of the clock by separating gained free fields essentially by an integer Multiple times the width (b).

23. The method according to claim 18, characterized in that in a punching process, several cycle sections at intervals (a) are punched out, and that the feed between two Punching steps is a multiple of the pitch (a).

24. The method according to claim 20, characterized in that the cycle distance (a) defined by a step size of the conveying feed is an integer multiple of the width (b) of a cycle section ( 6 , 8 ).

25. The method according to claim 20, characterized in that the transverse dimension of the base ( 4 ) is at least as large as the transverse dimension of the cover layer strips ( 16 ).

26. The method according to any one of claims 20 to 25, characterized characterized in that the top layer strips over the Mu Extend the layer of the silver layer in the longitudinal direction.

27. The method according to any one of claims 20 to 26, characterized in that in the separating step, the clock sections ( 6 , 8 ) remain on the base ( 4 ) and the related free sections ( 18 , 18 ', 18 '') of the layer carrier moved and underlaid with a new base ( 4 ′).

28. The method according to any one of claims 20 to 27, characterized in that the individual layer supports by Zer the base ( 4 ) cut in the middle between two Taktab sections ( 6 , 8 ) are obtained.

29. A process for the production of a layer support with metallic tall sections, with
a) conveying a layer support, which has a base ( 4 ) and metal strips ( 14 , 14 ', 14 '') above, the metal strips ( 14 , 14 ', 14 '') being arranged parallel to one another at the same height and between adjacent there is a gap between the metal strips,
b) stamping of the entire layer carrier with a substantially rectangular, continuous stamping pattern, the cycle sections ( 6 , 8 ) formed by stamping bordering on one another without gaps and extending across at least two metal strips transversely to the conveying direction,
c) separating stamped clock segments of the layer carrier at a specific clock spacing (a),

d) repeating step c) as long as the free sections ( 18 ) remaining after the previous separation between two successive clock sections are wider than the width (b) of one clock section.

30. The method according to claim 29, characterized in that the separation of the clock sections takes place by contacting the layer support with a cover layer ( 8 ) which has spaced-apart adhesive layer sections ( 26 ) which have the width of the clock sections.

31. The method according to claim 30, characterized in that the cover layer ( 8 ) is contacted with the stamped layer material such that the adhesive layer sections ( 26 ) are congruent with the corresponding clock sections ( 6 , 8 ) moved together.

32. The method according to any one of claims 29 to 31, characterized characterized in that the supported substrate according to An saying 27 has a cover layer.

33. The method according to any one of claims 20 to claims, characterized in that the layer support with clocked pattern layer strips ( 6 ) and cover layer strips ( 8 ) is moved together with a continuous metal secondary layer with strips located on a base ( 30 ) ( 28 ), the layer support being conveyed in one direction and the auxiliary layer strips ( 28 ) being conveyed in a direction perpendicular thereto, and the auxiliary layer strips are positioned below the pattern layer strips.

34. The method according to claim 33, characterized in that immediately after the layer carrier and Secondary layer strips the method step according to claim 26 is performed.

35. Apparatus for carrying out the method according to the invention according to claim 20, with a first punching device ( 42 ) for punching a layer support with a punch pattern at a pitch (a) to form spaced-apart intervals (a); a first Ablösevorrich device ( 44 ) for detaching unstamped free sections ( 18 ) of the layer support between two adjacent clock sections ( 6,8 ); a second punching device ( 42 ') for inseminating the free fields provided with a new base ( 4 ') with the punching pattern at intervals (a); and a second detaching device ( 48 ) for detaching unstamped cuts ( 18 ') of the layer support .

36. Apparatus according to claim 35, characterized in that at least one further punching device ( 42 '') and detaching device are arranged alternately behind the second Ablösevor direction.

37. Device for performing the method according to the invention according to claim 29, with a punching device ( 56 ) for continuously punching a layer carrier with a punching pattern, the clock segments ( 6 ) formed adjoining one another; and at least one detachment device ( 58 , 60 ; 62 , 64 ; 66 , 68 ; 70 , 72 ; 74 , 76 ) for the selective detachment of clock segments at a specific pitch (a).

38. Apparatus according to claim 37, characterized in that the selective detachment takes place by contacting the stamped layer support with a cover layer ( 8 ) which has spaced-apart adhesive layer strips ( 26 ) which are essentially the width of the clock sections ( 6 ) have.

39. Apparatus according to claim 35 or 37, characterized records that at least three detaching devices are provided are.