DE4035266A1 - Verfahren und anordnung zur thermowellenanalyse - Google Patents

Verfahren und anordnung zur thermowellenanalyse

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Anordnungen zur Thermowellenanalyse nach dem Typ eines Einstrahlverfahrens. Sie findet Anwendung zur Messung geometrischer, thermi­ scher, elektronischer und elastomechanischer Materialpara­ meter von Oberflächenschichten durch Auswertung der photo­ thermischen Response-Signale aus den Oberflächenschichten. Das berührungslose und zerstörungsfreie anwendbare Verfahren gemäß der Erfindung hat ihr Hauptanwendungsgebiet in der Beschichtungstechnologie als Prüfverfahren zur Qualitäts­ kontrolle.
Zur berührungslosen und zerstörungsfreien Erfassung von Parametern dünner Schichten sind Methoden der photother­ mischen Spektroskopie bekannt. Die physikalischen Prinzi­ pien und grundsätzlichen Lösungen sind z. B. in "Photoacoustic and Thermal Wave Phenomena in Semiconductors", Ed. A. Mandelis, North-Holland, New York 1987, zusammengestellt und beschrieben.
Ein bekanntes Verfahren nach A. Rosencwaig besteht darin, daß ein periodisch intensitätsmodulierter Pumplaser eine Thermowelle in der Schicht anregt, die ihrerseits den Brechungsindex lokal moduliert, so daß mit einem zweiten sogenannten Testlaserstrahl die modulierte optische Refle­ xion (MOR) vermessen werden kann (US 45 79 463). Die Si­ gnalverarbeitung erfolgt dabei vorzugsweise mittels Lock-in- Technik, um Phase un Amplitude der MOR zu erfassen. Dieses Verfahren erfordert den Einsatz von 2 Lasern unterschied­ licher Wellenlänge sowie zur Gewährleistung eines quantita­ tiv auswertbaren Reflexionssignale die konzentrische Anord­ nung von Pump- und Teststrahl bei senkrechtem Einfall auf die Schicht. Der Teststrahlradius sollte dabei höchstens die Hälfte des Pumpstrahlradius betragen.
Die in den Patentschriften US 46 34 290, US 46 36 088, EP 01 62 681, EP 02 91 276 vorgeschlagenen Lösungen haben neben der hohen optischen Präzision der definierten Fokuslage einen optischen Mehraufwand (Teleskope) zur Anpassung der erzeugten Taillen der Laserstrahlbündel und einen Justier­ aufwand zum konzentrischen Plazieren der Taillen auf der Schichtoberfläche. Außerdem stellt das Eigenrauschen des Testlasers einen begrenzenden Faktor des Auflösungsvermö­ gens dar, so daß bei üblichen Forderungen von δ R/R<10-6 hoch rauschstabilisierte Laser verwendet werden müssen. Das wirkt zusätzlich kostenerhöhend: Bei Einsatz des Zwei­ strahlverfahrens als in-sitz-Meßverfahren mit großem Objek­ tiv-Objekt-Abstand z. B. in Beschichtungskammern sind die optische Justage und die Stabilität kaum noch beherrschbar. Zur Messung der MOR sind auch Einstrahlverfahren bekannt (L. Chen et al. in: Appl. Phys. Lett 50 (1987) 1349; A. Lörincz, L. Andor in: Photoacoustic and Photothermal Pheno­ mena, P. Hes, J. Pelzl Hrsg. Springer Verlag Heidelberg, 1988, Seite 486). Diese sind dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierte Pumplaserstrahlung detektiert wird. Zur Trennung der MOR von der reflektierten modulierten Pumpin­ tensität nutzt man die Tatsache, daß bei der Modulation durch die Thermowelle Oberwellen der Modulationsfrequenz entstehen. Damit ist eine Lock-in-Detektion der 2. harmo­ nischen Oberwelle möglich. Der Nachteil dieses Verfahrens liegt darin, daß auch der Modulator des Pumplasers Oberwel­ len erzeugt, welche das Meßsignal verfälschen. Das von A. Lörincz (Appl. Phys. B47 (1988) 40) vorgeschlagene Verfah­ ren der exakten Rechteckmodulation des Pumplasers bedeutet für höhere Modulationsfrequenzen im MHz-Bereich einen extrem hohen Aufwand zur Modulation (Anstiegszeiten im ps­ Bereich). In der zizierten Arbeit wird gleichzeitig der Gedanke geäußert, durch ein Phasenkontrastverfahren aus der von der Thermowelle erzeugten 1. Beugungsordnung des re­ flektierten Laserstrahls die darin enthaltene MOR-Informa­ tion von der modulierten Pumpintensität zu trennen. Wegen der endlichen Breite der Beugungszone ist die Reduktion des MOR-Pumpoberwellen-Verhältnisses auf 10-7 kaum möglich. Das gleiche trifft für die Rauschkompensation zu.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde , den technischen Aufwand zur Durchführung der optischen Thermowellenanalyse zu reduzieren und die Empfindlichkeitsgrenze zu senken. Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem Verfahren zur Thermowellenanalyse gemäß den Merkmalen in Anspruch 1 gelöst.
Die Grundidee der Erfindung basiert darauf, daß die Objekt­ anregung und die Detektierung der durch das Objekt modu­ lierten Transmission oder Reflexion mit einem einzigen auf das Objekt gerichteten optischen Strahl erfolgt, dessen Intensität mit zwei Frequenzen moduliert ist. Diese Modu­ lation läßt sich erzeugen durch eine modulierte Licht­ quelle, der beide Modulationsfrequenzen aufgeprägt werden, durch die Aufteilung eines Strahles in zwei Teilstrahlen, ihre getrennte Modulation und nachfolgende Zusammenführung zu einem Strahl oder durch die Verwendung zweier getrennter, einzeln modulierter Lichtquellen und einer Vereinigung der so geschaffenen Teilstrahlen. Für den Fall der Herstellung des Strahles aus zwei von einer Lichtquelle aufgespaltenen Teilstrahlen muß jedoch die Möglichkeit der Interferenz der Teilstrahlen miteinander ausgeschlossen werden, um eine unerwünschte Erzeugung von Mischprodukten beider Frequenzen zu unterdrücken.
Die durch die erfindungsgemäße additive Zweifrequenzmodula­ tion, die für das Objekt effektiv als Anregung mit dem arithmetischen Mittel der beiden Frequenzen wirkt, ausge­ löste Thermowellen-Reaktion findet sich in das Objekt wieder verlassenden Strahlanteil in Form von Mischproduk­ ten der beiden Frequenzen, die im Anregungsstrahl auf Grund der Additivität der Modulation nicht enthalten sind und deshalb über eine frequenzselektive Einrichtung nachge­ wiesen werden können.
Zweckmäßigerweise verwendet man zur Detektierung der von Objekt modulierten Transmission oder Reflexion die Diffe­ renzfrequenz der beiden den Strahl modulierten Frequenzen, da sie leicht in niederfrequenten Bereiche gelegt werden kann, was sich vorteilhaft auf den meßelektronischen Auf­ wand auswirkt. Für die ebenfalls mögliche Auswertung der Summenfrequenz aus den beiden Modulationsfrequenzen ist außer der Bewertung der Intensitätsamplitude auch eine Analyse der Phasenablage erforderlich.
Außerdem ist es vorteilhaft, die Detektion der modulierten Transmission bzw. Reflexion durch eine Differenzbildung aus Meßsignalen der Intensistät des das Objekt wieder verlassen­ den Strahlanteils und der Intensität eines aus dem einfal­ lenden Strahl ausgekoppelten Teilstrahls vorzunehmen.
Die zur Differenzbildung verwendeten Intensitäten werden beim Meßprozeß zweckmäßig durch ein Element steuerbarer Transmission so abgeglichen, daß der zeitliche Mittelwert der Differenz der Meßsignale identisch Null ist. Dieses Meßprinzip hat den Vorteil, daß derjenige Anteil des Inten­ sitätsrauschens der Lichtquelle unterdrückt wird, der das Schrotrauschen des Photonenstromes der Detektoren über­ steigt und von dem bei einer alleinigen Intensitätsmessung des vom Objekt beeinflußten Strahlanteils insbesondere jene Beiträge störend wirken, die aus den Bereichen der detek­ tierten Mischfrequenzen sowie der um die Mischfrequenz verschobenen Modulationsfrequenzen herrühren. Damit wird die Grenzempfindlichkeit nicht mehr von den spezifischen Rauscheigenschaften der Lichtquelle, sondern nur noch von der Intensität der Lichtquelle und den Rauscheigenschaften des Detektionssystems bestimmt. Somit sind auch vergleichs­ weise stark rauschende Lichtquellen, z. B. Laser geringer Stabilität, für das Meßverfahren einsetzbar.
Der Einsatzbereich des erfindungsgemäßen Verfahrens läßt sich auch auf solche Thermowellen-Reaktionen des Objektes erweitern, die im wesentlichen keine Modulation des Trans­ missions- bzw. Reflexionsvermögens bewirken, sondern zur Lage- und Formmodulationen des Strahles führen. Das geschieht, indem an geeigneter Stelle im Verlauf des vom Objekt beeinflußten Strahles Blenden eingefügt werden, die den Strahl lage- und/oder formabhängig beschneiden. Darüber hinaus können Blenden in diesem Strahlverlauf in einer konjugierten Objektebene zur Meßfeldbegrenzung Anwendung finden.
Die Umsetzung des Verfahrens gemäß der Erfindung in Anord­ nungen, die die versprochenen vorteilhaften Wirkungen voll zum Tragen bringen, kann im wesentlichen nach der Art und Weise der technischen Realisierung der additiven Zweifre­ quenzmodulation unterschieden werden.
Diese erfolgt erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 14, 21 oder 26. Dabei ist die Erzeu­ gung eines einzigen auf das Objekt gerichteten Lichtstrahls generell danach unterteilt, ob das Licht einer Quelle oder zweier voneinander unabhängiger Quellen (Anspruch 22) verwendet wird. Der erste Falll läßt sich dann noch danach unterscheiden, ob die Zweifrequenzmodulation innerhalb der Lichtquelle erfolgt (Anspruch 14) oder eine Strahlteilung und separate Modulation der Teilstrahlen realisiert wird (Anspruch 21).
Die Anordnung gemäß Anspruch 14 läßt sich vorteilhaft dadurch realisieren, daß als Lichtquelle eine Laserdiode eingesetzt wird, der beide Modulationsfrequenzen zugeführt werden. In Abhängigkeit davon, ob das Objekt in Transmis­ sion oder in Reflexion analysiert werden soll, wird ent­ weder dem Objekt ein dem Objektiv gleichzeitiges optisches System und der Meßdetektor nachgeordnet oder ein strahlaus­ koppelndes Element für den reflektierten Strahlanteil nach dem doppelt genutzten Objektiv im Strahlengang angeordnet. Als vorteilhaft zur Unterdrückung des Laserrauschens er­ weist sich, daß im elektronischen Auswertetrakt vor der frequenzselektiven Einrichtung ein Differenzverstärker angeordnet ist, der an seinem invertierenden Eingang mit einem Refrenzdetektor, dessen Eingangssignal aus dem unbeeinflußten Strahl der Laserquelle mittels eines halb­ durchlässigen Spiegels ausgekoppelt ist, beschaltet ist. Weiterhin läßt sich die Laserquelle zweckmäßig aus einem unmodulierten Laser und einem modulierenden optischen Element zusammensetzen, dem die zwei Modulationsfrequenzen zugeführt werden. Das modulierende optische Element ist dabei vorteilhaft ein akustooptischer Modulator.
Die erfindungsgemäße Anordnung gemäß Anspruch 21 läßt sich vorteilhaft gestalten, indem beide Teilstrahlen eingangs gleichsinnig linear polarisiert sind, in den Teilstrahlen­ gängen jeweils eine unter dem Brewsterwinkel positionierte Glasplatte so angeordnet ist, daß der jeweils reflektierte Strahlanteil der Glasplatten entlang einer gemeinsamen Achse verläuft, wobei auf dieser Achse zwischen den Glas­ platten ein und im Richtungssinn der reflek­ tierten Strahlanteile ein Referenzdetektor außerhalb des Glasplattenabstands angeordnet sind, und ein λ-2-Plätt­ chen in einem der Teilstrahlengänge zwischen Glasplatte und Strahlteilerwürfel vorhanden ist.
Dieser Aufbau läßt sich in zwei Varianten vorteilhaft erweitern. Zum einen wird der Meßdetektor auf der besagten gemeinsamen Achse der Glasplatten dem Referenzdetektor gegenüberliegend angeordnet und der Strahlteilerwürfel in Form einer Polarisationsweiche ausgelegt. Zum anderen kann man eine vollständige Entkopplung von einfallendem und am Objekt reflektiertem Strahl erreichen, indem der einfal­ lende Laserstrahl zum Objektiv achsparallel orientiert ist, so daß auch der reflektierte Strahl zentralsymmetrisch achsparallel bezüglich der Objektivachse verläuft, und sich im Strahlengang des reflektierten Strahls der Meßdedektor befindet. Für beide Varianten ist es vortrilhaft, unmittel­ bar vor dem Referenzdetektor ein Element mit steuerbarer Transmission zum Abgleich des zeitlichen Mittelwertes aus Meß- und Referenzdetektorsignal auf Null anzuordnen.
Die dritte erfindungsgemäße Anordnung gemäß Anspruch 26 wird dadurch vorteilhaft ergänzt, daß zwischen Strahltei­ lerwürfel und Objektiv ein halbdurchlässiger Spiegel an­ geordnet ist, der (analog zur ersten erfindungsgemäßen Anordnung) einen Strahlanteil des einfallenden Laser­ strahls auf einen Referenzdetektor auskoppelt, wobei Meßdetektor- und Referenzdetektorsignal den Eingängen eines der frequenzselektiven Einrichtung vorgeschalteten Diffe­ renzverstärkers zugeführt werden. Des weiteren ist es von Vorteil, wenn die Strahlen der zwei Laserquellen senkrecht zueinander polarisiert sind, der Strahlteilerwürfel gleich­ zeitig eine Polarisationsweiche ist und vor dem Meß- und dem Referenzdetektor jeweils ein Polarisationsfilter mit der gleichen Orientierung steht, um Teile des Laserstrahls für die Registrierung auszusondern, die eine Ermittlung der Phasenablage zwischen anregendem Modulationssignal und dem Response-Signal gestatten.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und den unterschied­ lichen erfindungsgemäßen Anordnungen ist es möglich, den technischen Aufwand zur Thermowellenanalyse erheblich zu reduzieren und mit Hilfe geringfügiger Ergänzungen (Referenzzweig) die Empfindlichkeitsgrenze entscheidend zu senken.
Die Erfindung soll nachstehend anhand von Ausführungsbei­ spielen näher erläutert werden. Die Zeichnung zeigt
Fig. 1 den erfindungsgemäßen Grundaufbau einer Anordnung zur Thermowellenanalyse in der Transmissionsvariante
Fig. 2 eine erfindungsgemäße Anordnung mit aufgespaltenem Laserstrahl in der Reflexionsvariante mit spezieller Detektor-Balance-Einrichtung
Fig. 3 eine spezielle Ausführungsform der Anordnung mit aufgespaltetem Laserstrahl zur vollständigen Ent­ kopplung des reflektierten Strahlanteils
Fig. 4 eine Transmissionsanordnung mit zwei separaten Laserquellen und Polarisationsentkopplung von Meß- und Referenzzweig
In Fig. 1 ist das erfindungsgemäße Verfahren in einer Grundvariante dargestellt. Dabei wird ein einziger op­ tischer Strahl über ein Objektiv 14 auf das zu untersuchen­ de Objekt 15 fokussiert, wobei der optische Strahl vor allem aus Gründen der erforderlichen Leistung im folgenden ein Laserstrahl sein soll. Der Laserstrahl weist erfin­ dungsgemäß ein Intensitätsmodulationsspektrum mit zwei diskreten Frequenzen f₁ und f₂ auf. Als Quelle wird dazu zweckmäßig eine Laserdiode 1 eingesetzt, der beide Fre­ quenzen f₁ und f₂ zugeführt werden. Das Objekt 15 erfährt dadurch eine effektive Anregung mit dem arithmetischen Mittel der Frequenzen f₁ und f₂ und zeigt eine Thermo­ wellenreaktion, die im das Objekt verlassenden Strahlanteil Mischprodukte der Frequenzen f₁ und f₂ enthält, die auf Grund der Additivität der Anregung im einfallenden Laser­ strahl nicht enthalten sind. Die Thermowellenreaktion des Objekts 15 wird gemäß Fig. 1 in Transmission über ein dem Objektiv 14 gleichwertiges optisches System 17 auf einen Meßdetektor 10 übertragen, dessen Signal - bei Voraussetzung einer extrem rauscharmen Laserquelle 1 - zur Erzeugung der Amplitude der Mischfrequenz mittels einer frequenzselek­ tiven Einrichtung zur Auswertung ausreicht, ohne daß die Elemente halbdurchlässiger Spiegel 2, Referenzdetektor 11 und Differenzverstärker 16 unbedingt erforderlich sind. Mit diesem in Fig. 1 angegebenen Referenzzweig, der einen Anteil aus dem auf das Objekt 15 gerichteten Laserstrahl auskoppelt, kann jedoch wirkungsvoll das Laserrauschen unterdrückt werden, wenn die eingehenden Meß- und Referenz­ signale auf den zeitlichen Differenz-Mittelwert Null abge­ glichen werden. Das zur Auswertung in der frequenzselekti­ ven Einrichtung gelangende Differenzverstärkersignal kann also außerdem zum in Fig. 1 nicht dargestellten Abgleich der Intensitäten von Meß- und Referenzsignal verwendet werden.
In Fig. 2 ist die Strahlführung für eine Reflexionsarbeits­ weise bei Verwendung eines cw-Lasers als Laserquelle 1 und zweier akustooptischer Modulatoren 4 und 5 in zwei durch Strahlaufspaltung entstandenen Teilstrahlen zur Intensi­ tätsmodulation dargestellt.
Der senkrecht zur Zeichenebene polarisierte Laserstrahl wird durch den Einsatz eines halbdurchlässigen Spiegels 2 und eines Umlenkspiegels 3 in zwei intensitätsgleiche Anteile aufgespalten, und die so entstandenen Teilstrahlen durchlaufen die Modulatoren 4 und 5. Nach ihrer Modulation treffen die Teilstrahlen auf jeweils eine Glasplatte 6 bzw. 7. Die Glasplatten 6 und 7 sind jeweils unter dem Brewster­ winkel orientiert und so angeordnet, daß die reflektierten Strahlanteile der Glasplatten 6 und 7 entlang einer gemein­ samen Achse verlaufen, auf der zwischen den Glasplatten 6 und 7 ein λ/2-Plättchen 8 angeordnet ist, so daß der re­ flektierte Strahlanteil der Glasplatte 6 nach Polarisations­ drehung um 90° die Glasplatte 7 passiert und mit dem von Glasplatte 7 reflektierten Strahlanteil auf den eben­ falls auf der besagten gemeinsamen Achse befindlichen Referenzdetektor 11 fällt. Der durch die Glasplatte 6 hindurchtretende Strahlanteil wird durch einen weiteren Spiegel 3 umgelenkt, passiert ein λ/2-Plättchen 9 und wird zusammen mit dem durch die Glasplatte 7 hindurchgetretenen Strahlanteil des zweiten Teilstrahls über einen als Polari­ sationsweiche ausgelegten Strahlteilerwürfel 13 als ein Strahl mittels des Objektivs 14 auf das Objektiv 15 fokus­ siert. Der vom Objekt 15 reflektierte Strahl wird entspre­ chend den beiden enthaltenen Polarisationsrichtungen im Strahlenteilerwürfel 13 erneut aufgespalten. Die so erzeugten Strahlanteile durchlaufen entgegengesetzt die zuvor von den zwei Teilstrahlen durchlaufenen Wege bis zu der jeweiligen Glasplatte 6 bzw. 7. Der an Glasplatte 7 reflektierte Anteil passiert das λ2-Plättchen 8 und die Glasplatte 6 und wird zusammen mit dem an Glasplatte 6 reflektierten Anteil entlang der o. g. gemeinsamen Achse der Glasplatten 6 und 7 auf den Meßdetektor 10 geführt. Meß- und Referenz­ signal werden wiederum in einem Differenzverstärker 16 voneinander subtrahiert. Über den Differenzverstärker 16 wird auch das Regelsignal für den bereits angedeuteten Intensitätsabgleich zwischen Meß- und Referenzdetektor 10 und 11 gewonnen, mit dem das Element mit steuerbarer Trans­ mission 12 die Intensität auf optischem Wege auf den zeit­ lichen Mittelwert Null einstellt. Bei der Variante gemäß Fig. 2 ist es jedoch nicht möglich, die Rückwirkung der am Objekt 15 reflektierten Strahlanteile auf die Laserquelle 1 auszuschließen.
Fig. 3 modifiziert deshalb diese Variante, indem nach der identischen Herstellung der zwei Teilstrahlen und deren Vereinigung im Strahlteilerwürfel 13 das Objektiv 14 mit seiner Objektivachse aus der Anregungsstrahlrichtung her­ ausgerückt wird, so daß Anregungs- und Reaktionsstrahl des Objekts 15 zentralsymmetrisch bezüglich der Objektivachse verlaufen und der am Objekt 15 reflektierte Reaktionsstrahl über einen Spiegel 3 in den Meßdetektor 10 eintritt. Alle übrigen Elemente und deren Funktionen bleiben, wie für Fig. 2 beschrieben, erhalten.
Für die Fig. 2 und Fig. 3, in denen zwei Teilstrahlen durch Aufspaltung des Lichtes einer Laserquelle 1 erzeugt werden, ist noch darauf hinzuweisen, daß die Interferenzfähigkeit der Teilstrahlen unterbunden werden muß, um nicht durch Interferenzen Mischprodukte der Modulationsfrequenzen f₁ und f₂ zu erzeugen, die das Meßergebnis verfälschen. Dazu gibt es im wesentlichen vier Möglichkeiten, die wahlweise in den Teilstrahlgängen zur Anwendung kommen. In Fig. 2 sind zwei der Möglichkeiten angedeutet. Das sind zum einen die Erzeugung einer hinreichend großen Weglängendifferenz in den Teilstrahlengängen und zum anderen die Ausnutzung von verschiedenen Beugungsordnungen der akustooptischen Modulatoren 4 und 5. Bei lezterer Variante müssen sich die in den Teilstrahlen verwendeten Beugungsordnungen um mindestens den Wert Eins unterscheiden. Weiterhin läßt sich die Interferenzfähigkeit der Teilstrahlen durch die Verwen­ dung unterschiedlicher Trägerfrequenzen der akustooptischen Modulatoren 4 und 5 eliminieren, wodurch sich die Wellen­ längen der Teilstrahlen geringfügig verändern lassen. Die vierte und letzte Möglichkeit ist in den Fig. 2 und Fig. 3 enthalten und betrifft die Polarisationsrichtung der Teil­ strahlen senkrecht zueinander, wobei hier die senkrecht aufeinander stehenden Polarisationsrichtungen eine Doppel­ funktion zur Referenz- und Meßwertauskopplung aufweisen. In Fig. 4, die die Transmissionsarbeitsweise mit zwei separaten Laserquellen 1 aufzeigt, sind zusätzliche polari­ sationsoptische Elemente eingesetzt, um Teile des Laser­ strahles für die Registrierung auszusondern, die die Pha­ senablage des Responsesignals bezüglich des Modulationssi­ gnals des Anregungsstrahles ermitteln lassen. Nach seiner Modulation, die in diesem Beispiel nach Fig. 4 durch die Modulation zweier senkrecht zueinander polarisierter Halb­ leiterlaser realisiert werden soll, gelangt der mittels eines als Polarisationsweiche fungierende Strahlteilerwür­ fels 13 zusammengefügte Strahl über das fokussierende Objektiv 14 zum Objekt 15. Aus diesem einfallenden Strahl wird mittels des halbdurchlässigen Spiegels 2 und eines Polarisationsfilters 19 ein Teil genau eines der beiden Teilstrahlen über das Element mit steuerbarer Transmission 12 auf den Referenzdetektor 11 zur Gewinnung des Referenz­ signals geführt. Der durch das Objekt 15 transmittierte Teil des Laserstrahles gelangt über das dem Objektiv 14 gleichwertige optische System 17 und ein weiteres Polari­ sationsfilter 18, das genauso wie das Polarisationsfilter 19 orientiert ist, auf den Meßdetektor 10. Die weitere Verarbeitung erfolgt wie in den vorigen drei Beispielen beschrieben und läßt eine Phasenanalyse in Ergänzung zur Amplitudenanalyse zu.
Liste der Bezugszeichen
 1 Laserquelle
 2 halbdurchlässiger Spiegel
 3 Spiegel
 4, 5 akustooptische Modulatoren
 6, 7 Glasplatten
 8, 9 λ/2-Plättchen
10 Meßdetektor
11 Referenzdetektor
12 Element mit steuerbarer Transmission
13 Strahlteilerwürfel
14 Objektiv
15 Objekt
16 Differenzverstärker
17 gleichwertiges optisches System
18, 19 Polarisationsfilter
f₁, f₂ Frequenzen

Claims (28)

1. Verfahren zur Thermowellenanalyse, bei dem auf ein zu untersuchendes Objekt ein Laserstrahl gerichtet wird, und dessen durch die Objektreaktion auf die Energiedeponie­ rung des Objekts modulierte Intensität über ein zur Fokussierung verwendetes Objektiv mit einem Meßdetektor nachgewiesen wird, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - die Intensität des Laserstrahls vor dessen Auftreffen auf dem Objekt (15) derart moduliert wird, daß ihr Modu­ lationsspektrum zwei diskrete Frequenzen (f₁; f₂) enthält und
  • - die optische Response des Objektes als Amplitude einer durch die besagte Objektreaktion erzeugten Mischfrequenz aus beiden Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) am Ausgang des Meßdetektors (10) mittels einer frequenzselektiven Ein­ richtung gemessen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserstrahl durch eine Laserdiode (1) generiert wird, der beide Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) zugeführt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserstrahl im Strahlengang zwischen Laserquelle (1) und Objektiv (14) einen optischen Modulator passiert, dem beide Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) zugeführt werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserstrahl aus zwei nicht miteinander inter­ ferenzfähigen Teilstrahlen zusammengefügt wird, von denen jeder mit einer der beiden Frequenzen (f₁; f₂) intensi­ tätsmoduliert ist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Teilstrahlen von zwei voneinander unabhängi­ gen Laserquellen (1) erzeugt werden.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Teilstrahlen je einen akustooptischen Modu­ lator (4; 5) durchlaufen.
7. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Teilstrahlen senkrecht zueinander polari­ siert werden.
8. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Teilstrahlen von ein und derselben Laser­ quelle (1) mittels Strahlteilung erzeugt werden, wobei Vorkehrungen zur Beseitigung der Interferenzfähigkeit der Teilstrahlen vor der Zusammenfügung getroffen werden müssen.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Differenzfrequenz der beiden Modulations­ frequenzen (f₁; f₂) registriert und deren Amplitude analy­ siert wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Summenfrequenz der beiden Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) registriert und neben der Amplitude zusätzlich auf Phasenablage untersucht wird.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Anteil des auf das Objekt (15) gerichteten Lichts zur Erzeugung eines Referenzwertes auf einen Referenzde­ tektor (11) ausgekoppelt das Differenzsignal beider Detektoren (10, 11) ausgewertet wird.
12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserstrahl aus zwei nichtinterferenzfähigen, mit jeweils einer der beiden Frequenzen (f₁; f₂) intensitätsmo­ dulierten Teilstrahlen zusammengefügt wird und daß die Teilstrahlen vor ihrer Zusammenfügung senkrecht zueinan­ der polarisiert und vor dem Meß- und dem Referenzdetektor (10, 11) analysiert werden, so daß genau einer der beiden Teilstrahlen von jeweils einem der Detektoren (10, 11) registriert wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Signal des jeweils zur Messung gelangenden Teil­ strahls mittels des phasenempfindlichen Gleichrichters auf Amplitude und Phasenablage analysiert wird.
14. Anordnung zur Thermowellenanalyse, bei der ein Laser­ strahl über ein Objektiv auf ein zu untersuchendes Objekt fokussiert ist, in dessen Strahlverlauf nach der Wechsel­ wirkung mit dem Objekt optisch Elemente sowie ein Meßdetektor zur Erfassung der durch die Objektreak­ tion auf die Energiedeponierung des Objekts modulierten Intensität des Laserstrahls angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - die Laserquelle (1) in ihrem Modulationsspektrum zwei diskrete Frequenzen (f₁; f₂) aufweist und
  • - dem Meßdetektor (10) eine frequenzselektive Einrichtung nachgeordnet ist, die ausschließlich auf die durch die besagte Objektreaktion erzeugte Mischfrequenz aus beiden Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) eingestellt ist, so daß die Amplitude dieser Mischfrequenz ermittelbar ist.
15. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Laserquelle (1) eine Laserdiode (1) ist, der beide Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) zugeführt werden.
16. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beurteilung des vom Objektiv (15) durchgelassenen Laserstrahls ein dem Objektiv (14) gleichwertiges op­ tisches System (17) und der Meßdetektor (10) dem Objekt (15) auf derselben optischen Achse nachgeordnet sind.
17. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beurteilung des vom Objekt reflektierten Laser­ strahles ein strahlauskoppelndes Element dem Objektiv (14) im Strahlengang des reflektierten Laserstrahls nachgeordnet ist.
18. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der frequenzselektiven Einrichtung ein Differenzver­ stärker (16) vorgeordnet ist, der an seinem invertieren­ den Eingang mit einem Referenzdetektor (11), dessen Eingangssignal aus dem unbeeinflußten Laserstrahl der Laserquelle (1) mittels eines halbdurchlässigen Spiegels (2) ausgekoppelt ist, in Verbindung steht.
19. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Laserquelle (1) aus einem unmodulierten Laser und einem modulierten optischen Element zusammengesetzt ist, dem die zwei Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) zugeführt sind.
20. Anordnung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß das modulierende optische Element ein akustooptischer Modulator ist.
21. Anordnung zur Thermowellenanzeige, bei der ein Laser­ strahl über ein Objektiv auf ein zu untersuchendes Objekt fokussiert ist, in dessen Strahlverlauf nach der Wechsel­ wirkung mit dem Objekt optisch abbildende Elemente sowie ein Meßdetektor zur Erfassung der durch die Objektreak­ tion auf die Energiedeponierung des Objekts modulierten Intensität des Laserstrahles angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - der Laserquelle (1) ein halbdurchlässiger Spiegel (2) nachgeordnet ist, der zwei gleichwertige Teilstrahlen erzeugt,
  • - Mittel zur Eliminierung der Interferenzfähigkeit beider Teilstrahlen vorhanden sind,
  • - in jedem Teilstrahl ein optisches Element zur Intensi­ tätsmodulation angeordnet ist, wobei beide modulierenden optischen Elemente eine unterschiedliche Modulations­ frequenz (f₁ bzw. f₂) aufweisen.
  • - Mittel zur Entkopplung von einfallendem und vom Objekt (15) beeinflußten Laserstrahl in beiden Teilstrahlen vorhanden sind,
  • - ein Strahlteilerwürfel (13) zur Zusammenfügung der beiden Teilstrahlen vor dem Objektiv (14) angeordnet ist und
  • - dem Meßdetektor (10) eine frequenzselektive Einrichtung zur Ermittlung der Amplitude der vom Objekt (15) erzeugten Mischfrequenz aus den Modulationsfrequenzen (f₁; f₂) nachgeordnet ist.
22. Anordnung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - beide Teilstrahlen nach der Aufspaltung gleichsinnig polarisiert sind,
  • - in den Teilstrahlengängen jeweils eine unter dem Brewsterwinkel positionierte Glasplatte (6 bzw. 7) so angeordnet ist, daß der jeweils reflektierte Strahlanteil der Glasplatten (6; 7) entlang einer gemeinsamen Achse verläuft, wobei auf dieser Achse zwischen den Glasplatten (6; 7) ein λ/2-Plättchen und im Richtungssinn der reflektierten Strahlanteile ein Referenzdetektor (11) außerhalb des Glasplattenabstandes angeordnet sind und
  • - ein λ/2-Plättchen (9) in einem der Teilstrahlengänge zwischen Glasplatte (6 oder 7) und Strahlteilerwürfel (13) vorhanden ist.
23. Anordnung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - der Meßdetektor (10) auf der besagten gemeinsamen Achse der Glasplatten (6; 7) dem Referenzdetektor (1) bezüglich des Glasplattenzwischenraumes gegenüberliegend angeordnet ist und
  • - der Strahlteilerwürfel (13) für einen vom Objekt (15) in sich reflektierten Strahlanteil eine Polarisationsweiche darstellt.
24. Anordnung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß zur vollständigen Entkopplung des einfallenden und des am Objekt (15) reflektierten Strahls
  • - der einfallende Laserstrahl als achsparalleler Strahl zum Objektiv (14) orientiert ist, so daß der am Objekt (15) reflektierte Strahl bezüglich der Objektivachse zentralsymmetrisch verläuft, und
  • - im Strahlengang des achsparallel austretenden reflektierten Strahls der Meßdetektor (10) angeordnet ist.
25. Anordnung nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, daß unmittelbar vor dem Referenzdetektor (11) ein Element mit steuerbarer Transmission (12) angeordnet ist zum Abgleich des zeitlichen Mittelwertes der Differenz aus Meß- und Referenzdetektorsignal auf Null.
26. Anordnung zur Thermowellenanalyse, bei der ein Laserstrahl über ein Objektiv auf ein zu untersuchendes Objekt fokussiert ist, in dessen Strahlverlauf nach der Wechselwirkung mit dem Objekt optisch abbildende Elemente sowie ein Meßdetektor zur Erfassung der durch die Objektreaktion auf die Energiedeponierung des Objekts modulierten Intensität des Laserstrahles angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - der Laserstrahl aus den Strahlen zweier separater Laserquellen (1), die unterschiedlich mit je einer Frequenz (f₁; f₂) intensitätsmoduliert sind, zusammengefügt ist,
  • - ein Strahlteilerwürfel (13) zur Vereinigung der Strahlen der zwei Laserquellen (1) vor dem Objektiv (14) angeordnet ist und
  • - dem Meßdetektor (10) eine frequenzselektive Einrichtung zur Ermittlung der Amplitude der vom Objekt (15) aus den Modulationsfrequenzen erzeugten Mischfrequenz (f₁; f₂) nachgeordnet ist.
27. Anordnung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Strahlteilerwürfel (13) und Objektiv (14) ein halbdurchlässiger Spiegel (2) angeordnet ist, dessen reflektierter Strahlanteil auf einen Referenzdetektor (1) trifft, wobei der Referenzdetektor (11) und der Meßdetektor (10) mit den Eingängen eines vor der frequenzselektiven Einrichtung eingefügten Differenzverstärkers (16) verbunden sind.
28. Anordnung nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß
  • - die Strahlen der zwei Laserquellen (1) senkrecht zueinander polarisiert sind,
  • - der Strahlteilerwürfel (13) zugleich eine Polarisationsweiche darstellt und
  • - vor dem Meß- und Referenzdetektor (10; 11) jeweils ein Polarisationsfilter mit der gleichen Orientierung angeordnet ist.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4223337A1 (de) * 1992-07-16 1994-01-20 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur photothermischen Spektroskopie
EP0735378A2 (de) * 1995-03-31 1996-10-02 JENOPTIK Aktiengesellschaft Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von optisch angeregten Halbleitermaterialien
DE19749984A1 (de) * 1997-11-12 1999-06-02 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtungen zum photothermischen Untersuchen eines Prüfkörpers
DE19837889C1 (de) * 1998-08-20 2000-12-21 Siemens Ag Thermowellen-Meßverfahren

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5474381A (en) * 1993-11-30 1995-12-12 Texas Instruments Incorporated Method for real-time semiconductor wafer temperature measurement based on a surface roughness characteristic of the wafer
US5861632A (en) * 1997-08-05 1999-01-19 Advanced Micro Devices, Inc. Method for monitoring the performance of an ion implanter using reusable wafers
DE19747784A1 (de) * 1997-10-29 1999-05-06 Rothe Lutz Dr Ing Habil Objekterkennung mittels Thermosignaturanalyse
WO2000020841A1 (en) 1998-10-05 2000-04-13 Kla-Tencor Corporation Interferometric system for measurement disturbance of a sample
US6268916B1 (en) 1999-05-11 2001-07-31 Kla-Tencor Corporation System for non-destructive measurement of samples
US6535285B1 (en) 2000-02-08 2003-03-18 Therma-Wave, Inc. Combination thermal wave and optical spectroscopy measurement system
US6989899B2 (en) * 2002-03-18 2006-01-24 Therma-Wave, Inc. Ion implant monitoring through measurement of modulated optical response
US7106446B2 (en) * 2002-06-21 2006-09-12 Therma-Wave, Inc. Modulated reflectance measurement system with multiple wavelengths
JP4662411B2 (ja) * 2003-03-14 2011-03-30 日立ビアメカニクス株式会社 レーザ加工装置
US7212288B2 (en) * 2003-08-14 2007-05-01 Therma-Wave, Inc. Position modulated optical reflectance measurement system for semiconductor metrology
US7280215B2 (en) * 2003-09-24 2007-10-09 Therma-Wave, Inc. Photothermal system with spectroscopic pump and probe
US7755752B1 (en) 2008-04-07 2010-07-13 Kla-Tencor Corporation Combined modulated optical reflectance and photoreflectance system
CN103926274B (zh) * 2014-04-22 2017-01-25 哈尔滨工业大学 一种cfrp层板缺陷的红外热波雷达成像无损检测方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0162681A2 (de) * 1984-05-21 1985-11-27 Therma-Wave Inc. Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung der Oberflächenbedingungen einer Probe
US4579463A (en) * 1984-05-21 1986-04-01 Therma-Wave Partners Detecting thermal waves to evaluate thermal parameters
US4634290A (en) * 1984-05-21 1987-01-06 Therma-Wave, Inc. Method and apparatus for detecting thermal waves
EP0291276A2 (de) * 1987-05-15 1988-11-17 Therma-Wave Inc. Ortung und Prüfung von in Betracht kommenden Flächen auf einem Werkstück

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4044257A (en) * 1975-02-20 1977-08-23 Diax Corporation Retention time chromatograph employing an IR absorption spectrographic detector
FR2593917B1 (fr) * 1986-02-06 1988-06-03 Univ Reims Champagne Ardenne Procede et dispositif d'analyse et de mesure des parametres physiques d'un materiau en couches par radiometrie thermique
US5022765A (en) * 1987-10-23 1991-06-11 International Business Machines Corporation Nulling optical bridge for contactless measurement of changes in reflectivity and/or transmissivity

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0162681A2 (de) * 1984-05-21 1985-11-27 Therma-Wave Inc. Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung der Oberflächenbedingungen einer Probe
US4579463A (en) * 1984-05-21 1986-04-01 Therma-Wave Partners Detecting thermal waves to evaluate thermal parameters
US4634290A (en) * 1984-05-21 1987-01-06 Therma-Wave, Inc. Method and apparatus for detecting thermal waves
US4636088A (en) * 1984-05-21 1987-01-13 Therma-Wave, Inc. Method and apparatus for evaluating surface conditions of a sample
EP0291276A2 (de) * 1987-05-15 1988-11-17 Therma-Wave Inc. Ortung und Prüfung von in Betracht kommenden Flächen auf einem Werkstück

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LÖRINCZ, A., et al., in: Photoacoustic and Photo- thermal Phenomena, P. Hes., J. Pelzl Hrsg. Springer-Verlag, Heidelberg 1988, S. 486 *
US-Z: CHEN, L. et al.: New technique of photodis- placement imaging using one laser for both exitation and detection, in: Applied Physics Letters 50, 1987, S. 1349-1351 *
US-Z: LÖRINCZ, A.: Single-beam thermal-wave microscopes based on Fourier Imaging of Phase In- formation, in: Applied Physics B47, 1988, S.35-40 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4223337A1 (de) * 1992-07-16 1994-01-20 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur photothermischen Spektroskopie
EP0735378A2 (de) * 1995-03-31 1996-10-02 JENOPTIK Aktiengesellschaft Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von optisch angeregten Halbleitermaterialien
DE19511869A1 (de) * 1995-03-31 1996-10-10 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von Halbleitermaterialien mit optischer Anregung
EP0735378A3 (de) * 1995-03-31 1997-12-17 JENOPTIK Aktiengesellschaft Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von optisch angeregten Halbleitermaterialien
US6081127A (en) * 1995-03-31 2000-06-27 Leica Microsystems Wetzlar Gmbh Method and arrangement for the response analysis of semiconductor materials with optical excitation
DE19511869B4 (de) * 1995-03-31 2004-02-26 Geiler, Hans-Dieter, Dr. Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von Halbleitermaterialien mit optischer Anregung
DE19749984A1 (de) * 1997-11-12 1999-06-02 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtungen zum photothermischen Untersuchen eines Prüfkörpers
DE19749984C2 (de) * 1997-11-12 2000-05-25 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtungen zum photothermischen Untersuchen eines Prüfkörpers
DE19837889C1 (de) * 1998-08-20 2000-12-21 Siemens Ag Thermowellen-Meßverfahren
US6812468B1 (en) 1998-08-20 2004-11-02 Siemens Aktiengesellschaft Thermal-wave measuring method

Also Published As

Publication number Publication date
US5206710A (en) 1993-04-27
EP0484282A3 (en) 1992-07-08
ATE136646T1 (de) 1996-04-15
DE4035266C2 (de) 1995-11-16
EP0484282B1 (de) 1996-04-10
EP0484282A2 (de) 1992-05-06

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