DE3938788A1 - Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform - Google Patents
Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckformInfo
- Publication number
- DE3938788A1 DE3938788A1 DE3938788A DE3938788A DE3938788A1 DE 3938788 A1 DE3938788 A1 DE 3938788A1 DE 3938788 A DE3938788 A DE 3938788A DE 3938788 A DE3938788 A DE 3938788A DE 3938788 A1 DE3938788 A1 DE 3938788A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- methyl
- pbw
- mixture
- solvent
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfind
lichen, lithographischen Druckform, bei dem auf einem
Träger ein in einer Lösemittelmischung gelöstes, nega
tiv arbeitendes, lichtempfindliches Gemisch, das eine
negativ arbeitende lichtempfindliche Verbindung, ein in
Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischer Lösung aber
lösliches polymeres Bindemittel enthält, aufgetragen
und die erhaltene Schicht anschließend getrocknet wird.
Bei der Herstellung von lithographischen Druckformen
werden die lichtempfindlichen Gemische, die in Form
eines Bandes gefördert werden, kontinuierlich auf
einen Träger aufgebracht. Der beschichtete Träger wird
dann getrocknet, damit ein dünner Film mit gleichmäßi
ger Dicke entsteht. Das Lösemittel bzw. Lösemittelge
misch sollte daher nach der Beschichtung gleichmäßig
antrocknen und eine gute Oberflächenbeschaffenheit
(Oberflächenkosmetik) zeigen, d. h. das Auftreten von
"fisheyes", Ausfällungen und "Wolken" unterbinden.
Darüber hinaus muß sich das Lösemittel bzw. Lösemit
telgemisch verdampfen lassen, ohne einen großen Rück
stand zu bilden.
Die Anforderungen an ein geeignetes Lösemittel bzw. Lö
semittelgemisch beschränken sich nicht nur auf den un
mittelbaren Zeitraum, der das Trocknen des Gemisches
betrifft, sondern auch auf die Eigenschaften der Lösung
vor dem Aufbringen auf den Träger. Hierbei ist in erster
Linie zu nennen, daß sämtliche Schichtbestandteile in
optimaler Weise in der notwendigen Konzentration lösbar
sind. Darüber hinaus muß das Lösemittel bzw. Lösemittel
gemisch eine Lösungsstabilität über einen gewissen Zeit
raum - bevorzugt über einige Tage - garantieren, ohne
daß es zu Zersetzungen, Ausfällungen und Kondensations
reaktionen kommt. Außerdem werden eine preiswerte Ver
fügbarkeit und eine möglichst geringe Toxizität verlangt.
In der DE-A 20 34 655 wird ein Lösemittelgemisch für ein
negativ arbeitendes lichtempfindliches Kopiermaterial
vorgeschlagen, das entsprechend der dort beschriebenen
Beispiele aus Ethylenglykolmonomethylether, Tetrahydro
furan und Butylacetat besteht, mithin alles Lösemittel
mit Siedepunkten unter 140°C. Es zeigte sich jedoch,
daß negativ arbeitende lichtempfindliche Gemische, die
solche Lösemittelgemische enthalten, weniger haltbar
sind, d. h., daß sich schon nach Stunden Ausfällungen
und Zersetzungen zeigen. Zudem kann man feststellen,
daß die Beschichtungs- und Trocknungseigenschaften nur
bedingt vorteilhaft sind.
In der DE-A 36 27 585 wird ein Verfahren zur Herstellung
vorsensibilisierter Flachdruckformen auf der Basis von
negativ arbeitenden lichtempfindlichen Gemischen vorge
stellt, bei dem das lichtempfindliche Diazoniumharz und
das hochmolekulare, in wäßrigem Alkali lösliche Binde
mittel in einer Vielzahl verschiedener Lösemittel mit
unterschiedlichen Siedepunkten gelöst werden können.
Mischungen dieser Lösemittel werden auch beschrieben.
Insbesondere werden Mischungen von Lösemitteln in den
EP-A 01 84 804 und 01 02 819 (1-Methoxyethanol-2 mit
Tetrahydrofuran) und EP-A 00 31 481 (Butylacetat, 1-
Methoxyethanol-2 und Tetrahydrofuran) beschrieben.
Die DE-A 38 07 406 (= GB-A 22 04 707) offenbart ein
Lösemittelgemisch für negativ arbeitende lichtempfind
liche lithographische Platten, das 1-Methoxy-2-propanol,
Methyllactat und Methylethylketon umfaßt. Zu diesen
niedrigsiedenden Lösemitteln können bis zu 2% eines
höhersiedenden Lösemittels zugesetzt werden. Mit den
beschriebenen Lösemittelgemischen konnten allerdings
keine homogenen Lösungen erhalten werden. Ein Teil der
Feststoffe bleibt ungelöst zurück.
Insgesamt gesehen kann man nach dem Stand der Technik
nur sehr verdünnte Lösungen der Schichtbestandteile
herstellen, so daß sehr viel Lösemittel zur Auflösung
sämtlicher Schichtbestandteile benötigt werden. Ebenso
zeigen einmal mit einem Lösemittelgemisch hergestellt
Schichten während des Trocknungsprozesses Schichtaus
fällungen, Schichtstörungen und wolkiges Aussehen.
Damit verbunden ist eine geringe Haltbarkeit der licht
empfindlichen Lösungen. Häufig kommt es auch zum Aus
kristallisieren von Schichtbestandteilen schon bei
geringfügiger Temperaturabsenkung.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein
Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden,
lichtempfindlichen, lithographischen Druckform bereit
zustellen, die die genannten Nachteile nicht aufweist.
Gelöst wird diese Aufgabe durch ein Verfahren der eingangs
beschriebenen Gattung, dadurch gekennzeichnet, daß als
Lösemittel eine Mischung aus mehr als 2 Gew.-% minde
stens eines Monoethers des Diethylenglykols mit einem
oder mehreren organischen Lösemittel(n) mit einem Siede
punkt unterhalb 200°C verwendet wird.
Die Lösemittelgemische der vorliegenden Erfindung besit
zen nicht die Nachteile der Gemische des Standes der
Technik. Sie führen im Gegenteil zu stabilen lichtemp
findlichen Lösungen in den erwünschten höheren Konzen
trationen, ermöglichen einen gleichmäßigen Antrock
nungsprozeß ohne vorzeitige Ausfällung von Schichtbe
standteilen mit einer bisher unerreicht gleichmäßigen
Oberfläche und ermöglichen die Herstellung von Flach
druckformen mit gleichmäßigem Eigenschaftsbild bezüglich
der Lichtempfindlichkeit, Entwickelbarkeit und Tonfrei
heit im Druckprozeß.
Insbesondere bevorzugt sind Monoalkylether des Diethy
lenglykols, vorzugsweise die Mono(C1-C4)alkylether. Hier
unter sind zu nennen: Diethylenglykolmonomethylether,
Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykolmonopro
pylether sowie entsprechende Monobutylether. Die genann
ten Monoalkylether zeigen einen Siedepunkt oberhalb von
200°C.
Als weitere Lösemittelbestandteile des erfindungsgemäß
verwendeten Gemisches werden niedrigsiedende organische
Lösemittel mit einem Siedepunkt unterhalb 200°C ver
wendet. Insbesondere haben die niedrigsiedenden Löse
mittel einen Siedepunkt von 50 bis 150°C, vorzugsweise
von 50 bis 100°C. Diese können ein oder mehrere Löse
mittel sein aus der Gruppe der Lösemittel Aceton,
Butanon-2, Methanol, Ethanol, n-Propanol, iso-Propanol,
n-Butanol, 1-Methoxyethanol-2, 1-Methoxypropanol-2,
2-Methoxypropanol-1, Amylalkohol, Tetrahydrofuran,
1,4-Dioxan, Wasser, Toluol, Diethylether, Diisopropyl
ether, Dibutylether, 2-Methylfuran, Cyclohexanon,
Methylisobutylketon, Methylpropylketon, Methylisopro
pylketon, Methylbutylketon, Ethylformiat, Propylfor
miat, Butylformiat, Methylacetat, Ethylacetat, Propyl
acetat, Butylacetat, Methylpropionat, Ethylenglykoldi
methylether, Ethylenglykoldiethylether, Dimethylsulf
oxid, Dimethylformamid, y-Butyrolacton, Diacetonalkohol.
Von den hochsiedenden Monoalkylethern sind besonders
bevorzugt die Mono(C1-C4)alkylether des Diethylengly
kols.
Von den niedrigsiedenden Lösemitteln, insbesondere sol
chen mit einem Siedepunkt unterhalb 200°C, sollen
Tetrahydrofuran, Butanon-2 und Ethanol erwähnt werden.
Insbesondere bevorzugt sind Mischungen eines Lösemittels
vom Typ eines Monoethers des Diethylenglykols mit einem
oder zwei Lösemittel(n) eines niedrigen Siedepunkts un
terhalb von 200°C. Der höhersiedende Monoether des Di
ethylenglykols liegt in einer Konzentration von mehr als
2 Gew.-%, insbesondere mehr als 10 Gew.-%, aber bevor
zugt weniger als 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtge
wicht des Lösemittelgemisches, vor. Insbesondere liegt
das Mischungsverhältnis vom hochsiedenden Monoether des
Diethylenglykols zum niedrigsiedenden Lösemittel bei 1 : 1
bis 0,2 : 1, vorzugsweise bei 1 : 1 bis 0,4 : 1 (Gewichtsver
hältnisse).
Die Schichtzusammensetzung geeigneter lichtempfindlicher
Gemische ist seit langem bekannt. Stellvertretend sollen
hier nur die DE-A 20 34 654 (= GB-A 13 58 923) und
20 34 655 (= GB-A 13 58 922) genannt werden.
Im erfindungsgemäßen Verfahren werden als lichtempfind
liche Verbindungen Diazoniumsalz-Polykondensationspro
dukte, d. h. Kondensationsprodukte kondensationsfähiger
aromatischer Diazoniumsalze, z. B. von Diphenylamin-4-
diazoniumsalzen, mit Aldehyden, bevorzugt Formaldehyd,
verwendet. Mit besonderem Vorteil werden Mischkondensa
tionsprodukte verwendet, die außer den Diazoniumsalzein
heiten noch andere, nicht lichtempfindliche Einheiten
enthalten, die von kondensationsfähigen Verbindungen,
insbesondere aromatischen Aminen, Phenolen, Phenolethern,
aromatischen Thioethern, aromatischen Kohlenwasserstof
fen, aromatischen Heterocyclen und organischen Säure
amiden, abgeleitet sind. Diese Kondensationsprodukte
sind in der DE-A 20 24 244 beschrieben. Allgemein sind
alle Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukte geeignet,
die in der DE-A 27 39 774 beschrieben sind.
Die Diazoniumsalzeinheiten A-N2X leiten sich bevorzugt
von Verbindungen der Formel (R8-R9-)pR10-N2X ab, wobei
X das Anion der Diazoniumverbindung,
p eine ganze Zahl von 1 bis 3,
R8 einen aromatischen Rest mit mindestens einer zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbindung befähigten Position,
R10 eine Phenylengruppe,
R9 eine Einfachbindung oder eine der Gruppen:
- (CH2)q-NR11 -,
- O-(CH2)r-NR11 -,
- S-(CH2)r-NR11 -,
- S-CH2CO-NR11 -,
- O-R12-O -,
- O -
- S - oder
- CO-NR11 -
bedeuten, worin
q eine Zahl von 0 bis 5,
r eine Zahl von 2 bis 5,
R11 Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 C-Ato men, eine Aralkylgruppe mit 7 bis 12 C-Atomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 C-Atomen, und
R12 eine Arylengruppe mit 6 bis 12 C-Atomen ist.
p eine ganze Zahl von 1 bis 3,
R8 einen aromatischen Rest mit mindestens einer zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbindung befähigten Position,
R10 eine Phenylengruppe,
R9 eine Einfachbindung oder eine der Gruppen:
- (CH2)q-NR11 -,
- O-(CH2)r-NR11 -,
- S-(CH2)r-NR11 -,
- S-CH2CO-NR11 -,
- O-R12-O -,
- O -
- S - oder
- CO-NR11 -
bedeuten, worin
q eine Zahl von 0 bis 5,
r eine Zahl von 2 bis 5,
R11 Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 C-Ato men, eine Aralkylgruppe mit 7 bis 12 C-Atomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 C-Atomen, und
R12 eine Arylengruppe mit 6 bis 12 C-Atomen ist.
Die mit dem Entwickler entwickelbaren Gemische enthal
ten im allgemeinen 5 bis 90, bevorzugt 10 bis 70 Gew.-%
Diazoniumverbindung.
Zur Stabilisierung des erfindungsgemäßen lichtempfindli
chen Gemisches ist es vorteilhaft, diesem eine Verbin
dung mit Säurecharakter zuzusetzen. In Betracht kommen
Mineralsäuren und starke organische Säuren, von denen
Phosphorsäure, Schwefelsäure, Perchlorsäure, Borsäure
oder p-Toluolsulfonsäure bevorzugt werden. Eine beson
ders gut geeignete Säure ist die Phosphorsäure.
Den Gemischen können ferner Weichmacher, Haftvermittler,
Farbstoffe, Pigmente und Farbbildner zugesetzt werden.
Art und Menge dieser Zusätze richten sich nach dem für
das lichtempfindliche Gemisch vorgesehenen Anwendungs
gebiet. Dabei ist grundsätzlich zu beachten, daß die
beigefügten Stoffe keinen übergroßen Anteil des für die
Vernetzung notwendigen aktinischen Lichts absorbieren
und dadurch die praktische Lichtempfindlichkeit herab
setzen.
Die erfindungsgemäß verwendeten, lichtempfindlichen
Gemische können ferner Farbstoffe und/oder Pigmente
enthalten, die sowohl als Kontrastmittel als auch
schichtverfestigend wirken können. In Frage kommende
Farbstoffe sind beispielsweise in den US-A 32 18 167
und 38 84 693 angegeben. Besonders geeignet sind z. B.
Viktoriareinblau FGA, Renolblau B2G-H (C.I. 74 160),
Kristallviolett oder Rhodamin 6 GDN (C.I. 45 160). Zur
Erhöhung des Bildkontrastes nach dem Belichten können
Metanilgelb (C.I. 13 065), Methylorange (C.I. 13 025) oder
Phenylazodiphenylamin verwendet werden.
Ebenso können polymerisierbare Verbindungen, die minde
stens eine photooxidierbare und ggf. mindestens eine
Urethangruppe im Molekül enthalten, verwendet werden.
Derartige Monomere sind in den DE-A 37 10 279,
37 10 281 und 37 10 282 beschrieben.
Ebenso sind die in den älteren deutschen Patentanmel
dungen P 38 25 836.6 und P 38 32 032.0 beschriebenen
Verbindungen mit photooxididierbaren Gruppen anwendbar.
Als Photoinitiatoren können eine Vielzahl von Substanzen
Verwendung finden. Beispiele sind solche, die sich vom
Grundkörper der Benzphenone, Acetonphenone, Benzoine,
Benzile, Benzilmonoketale, des Fluorenons, Thioxanthons,
der Mehrkernchinone, Acridine und Chinazoline ableiten;
ferner Trichlormethyl-s-triazine, 2-Halogenmethyl-5-
vinyl-1,3,4-oxadiazolderivate, mit Trichlormethylgruppen
substituierte Halogenoxazole oder Trihalogenmethylgrup
pen enthaltende Carbonylmethylenheterocyclen, wie sie in
der DE-A 33 33 450 angegeben sind.
Bevorzugt werden als Photoinitiatoren photoreduzierbare
Farbstoffe, insbesondere in Kombination mit durch Be
lichtung spaltbaren Trihalogenmethlverbindungen und ge
gebenenfalls mit als Photoinitiatoren wirksamen Acridin-,
Phenazin- oder Chinoxalinverbindungen, wie sie in den
DE-A 37 10 281 und 37 10 282 beschrieben sind.
Die Gesamtmenge an Polymerisationsinitiatoren liegt im
allgemeinen bei 0,05 bis 20, vorzugsweise bei 0,1 bis
10 Gew.-%.
Die photopolymerisierbaren Schichten können je noch
geplanter Anwendung und je nach den gewünschten Eigen
schaften verschiedenartige Stoffe als Zusätze enthal
ten. Beispiele sind: Inhibitoren zur Verhinderung
der thermischen Polymerisation der Monomeren, Wasser
stoffdonatoren, Farbstoffe, gefärbte und ungefärbte
Pigmente, Farbbildner, Indikatoren, Weichmacher und
Kettenüberträger. Diese Bestandteile sind zweckmäßig so
auszuwählen, daß sie in dem für den Initierungsvorgang
wichtigen aktinischen Strahlungsbereich möglichst wenig
absorbieren.
Ebenso geeignet sind negativ arbeitende, lichtempfind
liche Schichten, die sowohl ein Diazoniumsalz-Polykonden
sationsprodukt als auch eine photopolymerisierbare Ver
bindung enthalten.
Beispiele für verwendbare Bindemittel sind chlorierte
Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Poly(meth)acryl
säurealkylester, bei denen die Alkylgruppe z. B. Methyl,
Ethyl-, n-Butyl, i-Butyl, n-Hexyl oder 2-Ethylhexyl ist,
Copolymete der genannten (Meth)acrylsäurealkylester mit
mindestens einem Monomeren, wie Acrylnitril, Vinyl
chlorid, Vinylidenchlorid, Styrol oder Butadien; Poly
vinylchlorid, Vinylchlorid/Acrylnitril-Copolymere,
Polyvinylidenchlorid, Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Co
polymere, Polyvinylacetat, Polyvinylalkohol, Polyacryl
nitril, Acrylnitril/Styrol-Copolymere, Acrylnitril/Buta
dien/Styrol-Copolymere, Polystyrol, Polymethylstyrol,
Polyamide (z. B. Nylon-6), Polyurethane, Methylcellu
lose, Ethylcellulose, Acetylcellulose, Polyvinylformal
und Polyvinylbutyral.
Besonders geeignet sind Bindemittel, die in Wasser un
löslich, in organischen Lösemitteln löslich und in
wäßrig-alkalischen Lösungen löslich oder zumindest
quellbar sind.
Besonders erwähnt werden sollen Carboxylgruppen enthal
tende Bindemittel, z. B. Copolymerisate aus (Meth)acryl
säure und/oder deren ungesättigten Homologen, wie Cro
tonsäure, Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids oder
seiner Halbester, Umsetzungsprodukte hydroxylgruppenhal
tiger Polymerer mit Dicarbonsäureanhydriden sowie deren
Mischungen.
Weiterhin sind geeignet Umsetzungsprodukte aus Polyme
ren, die H-acide Gruppen tragen, welche ganz oder teil
weise mit aktivierten Isocyanaten umgesetzt wurden, wie
beispielsweise Umsetzungsprodukte aus hydroxylgruppen
haltigen Polymeren mit aliphatischen oder aromatischen
Sulfonylisocyanaten oder Phosphinsäureisocyanaten.
Darüber hinaus sind geeignet: Hydroxylgruppen enthal
tende Polymere, wie beispielsweise Copolymere von Hy
droxyalkyl(meth)acrylaten, Copolymere des Allylalkohols,
Copolymere des Vinylalkohols, Polyurethane oder Poly
ester, sowie Epoxyharze, sofern sie eine ausreichende
Anzahl von freien OH-Gruppen tragen, oder derart modifi
ziert sind, daß sie in wäßrig-alkalischen Lösungen lös
lich sind, oder solche Polymere, die aromatisch gebunde
ne Hydroxylgruppen tragen, wie beispielsweise Kondensa
tionsprodukte von kondensationsfähigen Carbonylverbin
dungen, insbesondere Formaldehyd, Acetaldehyd oder Ace
ton, mit Phenolen oder Copolymerisate der Hydroxysty
role. Schließlich lassen sich auch Copolymerisate des
(Meth)acrylsäureamids mit Alkyl(meth)acrylaten verwen
den.
Die vorstehend beschriebenen Polymeren sind insbesondere
dann geeignet, wenn sie ein Molekulargewicht zwischen
500 und 200 000 oder darüber, bevorzugt 1000 bis
100 000 aufweisen und entweder Säurezahlen zwischen 10
und 250, bevorzugt von 20 bis 200, oder Hydroxylzahlen
zwischen 50 und 750, bevorzugt von 100 bis 500, aufwei
sen.
Als bevorzugte alkalilösliche Bindemittel seien nach
stehend erwähnt:
Copolymerisate der (Meth)acrylsäure mit Alkyl)meth)
acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen,
Copolymerisate der Crotonsäure mit Alkyl(meth)acrylaten,
(Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen, Copolymerisate
der Vinylessigsäure mit Alkyl(meth)acrylaten, Copolime
risate des Maleinsäureanhydrids mit ggf. substituierten
Styrolen, ungesättigten Kohlenwasserstoffen, ungesättig
ten Ethern oder Estern, Veresterungsprodukte der Copoly
merisate des Maleinsäuteanhydrids, Veresterungsprodukte
von Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Anhydri
den von Di- oder Polycarbonsäuren, Copolymerisate der
Hydroxyl(meth)acrylate mit Alkyl(meth)acrylaten,
(Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen, Copolymerisate
des Allylalkohols mit ggf. substituierten Styrolen, Co
polymerisate des Vinylalkohols mit Alkyl(meth)acrylaten
oder andere Polymerisationsfähigen ungesättigten Ver
bindungen, Polyurethane, sofern sie eine ausreichende
Anzahl freier OH-Gruppen aufweisen, Epoxyharze, Poly
ester, teilverseifte Vinylacetat-Copolymere, Polyvinyl
acetate mit freien OH-Gruppen, Copolymerisate der Hydro
xystyrole mit Alkyl(meth)acrylaten oder dergleichen,
Phenol-Formaldehyd-Harze, z. B. Novolake.
Die Menge des Bindemittels in der lichtempfindlichen
Schicht beträgt im allgemeinen 20 bis 90, vorzugsweise
40 bis 80 Gew.-%.
Als Träger, auf denen das erfindungsgemäß verwendete,
lichtempfindliche Gemisch aufgebracht wird, kommen sol
che in Frage, die eine hohe Formbeständigkeit aufweisen.
Üblicherweise zählen hierunter Träger für Druckplatten.
Geeignet sind Papier, Aluminium oder seine Legierungen,
einschließlich derjenigen, die mit einem Kunststoffilm,
z. B. auf Polyethylentherephthalat oder Celluloseacetat
laminiert sind, Metallplatten wie Stahl-, Zink- und
Kupferplatten sowie Kunststoffilme. Besonders bevorzugt
sind Aluminiumträger.
Von den Aluminiumträgern sind solche bevorzugt, deren
Oberflächen aufgerauht wurden. Verschiedene, dem Fach
mann bekannte Körnungsverfahren stehen zur Verfügung,
insbesondere mechanische, chemische und elektrolytische
sowie kombinierte Verfahren. Anschließend kann eine ano
dische Oxidation der Oberfläche unter Verwendung von
Säuren wie Schwefel-, Phosphor- oder Salpetersäure etc.
unter Gleichstrom oder Wechselstrom durchgeführt werden.
Insbesondere werden die in dieser Weise vorbehandelten
Aluminiumoberflächen mit Polyvinylphosphonsäure nachbe
handelt (DE-C 11 34 093, GB-A 12 30 447). Aber auch
andere Nachbehandlungsmethoden sind möglich, wie z. B.
mit einem Silikat, Kaliumfluorzirkonat, Phosphormolyb
dat, einer Polyacrylsäure, Phosphorsäure oder Phytin
säure. Besonders bevorzugt ist die Nachbehandlung mit
einer 0,3%igen wäßrigen Lösung von Polyvinylphosphon
säure.
Das erfindungsgemäß verwendete negativ arbeitende,
lichtempfindliche Gemisch wird in einer Menge von 0,3
bis 5,0 g/m2, insbesondere 0,5 bis 3,5 g/m2, bezogen
auf die gesamten Bestandteile des lichtempfindlichen Ge
misches, auf den Träger aufgetragen. Das lichtempfind
liche Gemisch wird durch bekannte Verfahren - wie Waben-,
Stab-, Sprüh-, Streich-, Deck- oder Schleuderbeschich
tung - aufgebracht. Eine Vortrocknung bei einer niedri
gen Temperatur ist möglich.
Nach dem Trocknen wird das erfindungsgemäß verwendete
lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial mit aktinischem
Licht belichtet. Als aktinische Strahlung soll im Rah
men dieser Beschreibung jede Strahlung verstanden wer
den, deren Energie wenigstens der des sichtbaren Lichts
entspricht. Geeignet wird vor allem sichtbares Licht
und langwellige UV-Strahlung, aber auch kurzwellige UV-
Strahlung sowie Laser-, Elektronen- und Röntgenstrahlung.
Die Lichtempfindlichkeit reicht von etwa 200 nm bis 800
nm und umspannt damit einen sehr breiten Bereich.
Durch die breite spektrale Empfindlichkeit des erfin
dungsgemäß verwendeten Aufzeichnungsmaterials können
alle dem Fachmann geläufigen Lichtquellen verwendet wer
den, z. B. Röhren-, Xenonimpuls-, metallhalogeniddotier
te Quecksilberdamp-Hochdruck- und Kohlenbogenlampen.
Darüber hinaus ist bei den erfindungsgemäßen lichtemp
findlichen Gemischen das Belichten in üblichen Projek
tions- und Vergrößerungsgeräten unter dem Licht der Me
tallfadenlampen und Kontaktbelichtung mit gewöhnlichen
Glühbirnen möglicht. Die Belichtung kann auch mit kohä
rentem Licht eines Lasers erfolgen. Geeignet für die
Zwecke vorliegender Erfindung sind leistungsgerechte
Laser, beispielsweise Argon-Ionen-, Krypton-Ionen-,
Farbstoff-, Helium-Cadmium- und Helium-Neon-Laser, die
insbesondere zwischen 150 und 650 nm emittieren. Der
Laserstrahl kann mittels einer vorgegebenen programmier
ten Strich- und/oder Raster-Bewegung gesteuert werden.
Als Anwendungsmöglichkeiten für das erfindungsgemäße Ma
terial seien genannt: Aufzeichnungsschichten für die
photomechanische Herstellung von Druckformen für den
Hochdruck, Flachdruck, Tiefdruck und den Siebdruck sowie
von Reliefkopien, z. B. zur Herstellung von Texten
in Blindenschrift, von Einzelkopien, Gerbbildern, Pig
mentbildern usw. Weiter sind die Gemische zur photo
mechanischen Herstellung von Ätzreservagen, z. B. für
die Herstellung von Namensschildern, von kopierten
Schaltungen und für das Formteilätzen anwendbar. Beson
dere Bedeutung haben die erfindungsgemäßen Gemische als
Aufzeichnungsschichten für die Herstellung von Flach
druckplatten und für die Photoresisttechnik.
Zur besseren Verwendung der Schicht kann eine Nacherwär
mung nach dem Belichten erfolgen. Zur Entwicklung wird
mit einer geeigneten Entwicklerlösung, z. B. mit orga
nischen Lösemitteln, bevorzugt aber mit einer schwach
alkalischen, wäßrigen Lösung, behandelt. Der pH-Wert des
Entwicklers liegt bei 8 bis 12. Die Entwicklerlösung
kann einen kleinen Anteil, vorzugsweise weniger als 2
Gew.-%, an mit Wasser mischbaren organischen Lösemitteln
enthalten.
Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele für die Ent
wicklung angegeben. Darin stehen Gewichtsteile (Gt) und
Volumenteile (Vt) im Verhältnis von g zu cm3. Prozent-
und Mengenverhältnisse sind, wenn nichts anderes ange
geben ist, in Gewichtseinheiten zu verstehen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung:
50 Gt eines Polyvinylbutyrals mit einem Molekulargewicht
von etwa 70 000 bis 80 000, das 71% Vinylbutyral-, 2%
Vinylacetat- und 27% Vinylalkoholeinheiten enthält, und
4 Gt Maleinsäureanhydrid werden unter Erwärmung in 725 Gt
Methylethylketon gelöst. Zur klaren Lösung wird 1 Gt
Triethylamin hinzugefügt und die Lösung fünf Stunden zum
Rückfluß erhitzt. Nach dem Abkühlen wird die Lösung fil
triert und in 10 000 Gt destilliertes Wasser eingetropft,
wobei man ein weißes, faseriges Produkt erhält, welches
abgesaugt und bis zu Gewichtskonstanz im Vakuum bei
40°C getrocknet wird.
Die Ausbeute beträgt 52 Gt des Polymeren (Analyse: C
61,9%; H 9,3%) mit der Säurezahl 30.
Eine Beschichtungslösung aus
62 Gt des oben beschriebenen Polymeren,
21 Gt eines Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts, hergestellt aus 1 mol 3-Methoxy-diphenylamin- 4-diazoniumsulfat und 1 mol 4,4′-Bis-methoxy diphenylether in 85%iger Phosphorsäure und isoliert als Mesitylensufonat,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA (C.I. Basic Blue 81) und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
1600 Gt Diethylenglykolmonomethylether und
1750 Gt Tetrahydrofuran
wird auf eine Aluminiumfolie, die durch Bürsten mit einer wäßrigen Schleifmittelsuspension aufgerauht und danach mit einer 0,1%igen wäßrigen Lösung von Polyvinyl phosphonsäure vorbehandelt worden ist, aufgebracht und anschließend getrocknet.
62 Gt des oben beschriebenen Polymeren,
21 Gt eines Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts, hergestellt aus 1 mol 3-Methoxy-diphenylamin- 4-diazoniumsulfat und 1 mol 4,4′-Bis-methoxy diphenylether in 85%iger Phosphorsäure und isoliert als Mesitylensufonat,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA (C.I. Basic Blue 81) und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
1600 Gt Diethylenglykolmonomethylether und
1750 Gt Tetrahydrofuran
wird auf eine Aluminiumfolie, die durch Bürsten mit einer wäßrigen Schleifmittelsuspension aufgerauht und danach mit einer 0,1%igen wäßrigen Lösung von Polyvinyl phosphonsäure vorbehandelt worden ist, aufgebracht und anschließend getrocknet.
Die so erhaltene Kopierschicht, die ein Schichtgewicht
von 0,95 g/m2 aufweist, wird unter einer Negativvorlage
30 s mit einer Metallhalogenidlampe von 5 kW Leistung
belichtet.
Die belichtete Schicht wird mit einer Entwicklerlösung
folgender Zusammensetzung
5 Gt Natriumoctylsulfat,
1,5 Gt Natriummetasilikat × 5 Wasser,
1 Gt Trinatriumphosphat × 12 Wasser,
0,5 Gt Dinatriumhydrogenphosphat × 12 Wasser,
92 Gt Wasser
mit einem Plüschtampon behandelt, wobei die nichtbelich teten Schichtbereiche sauber entfernt werden, und an schließend mit Wasser abgespült und getrocknet.
5 Gt Natriumoctylsulfat,
1,5 Gt Natriummetasilikat × 5 Wasser,
1 Gt Trinatriumphosphat × 12 Wasser,
0,5 Gt Dinatriumhydrogenphosphat × 12 Wasser,
92 Gt Wasser
mit einem Plüschtampon behandelt, wobei die nichtbelich teten Schichtbereiche sauber entfernt werden, und an schließend mit Wasser abgespült und getrocknet.
In der Kopie ist die Stufe 4 eines Silberfilm-Halbton
stufenkeils mit einem Dichteumfang von 0,15 bis 1,50,
wobei die Dichteinkremente 0,15 betragen, noch voll ge
deckt.
Die so erhaltene Offsetdruckplatte liefert an einer Bogen
offsetmaschine viele Tausend tonfreie, saubere Drucke.
24 Gt eines Copolymerisats aus Styrol und Allylalkohol,
das 54% Allylalkoholeinheiten und eine OH-Zahl von 192
aufweist, wird in 350 Gt Methylethylenketon gelöst. Zu der
klaren Lösung wird 1 Gt Maleinsäureanhydrid gegeben.
Nachdem auch dieses in Lösung gegangen ist, werden 0,5
Gt Triethylamin hinzugefügt, und das Gemisch wird auf
Rückflußtemperatur erwärmt. Nach fünf Stunden Abkühlung
wird die weitgehend klare Lösung filtriert und in 5000
Gt destilliertes Wasser eingetropft. Das erhaltene pul
verige, weiße Produkt wird abgesaugt und, wie in Bei
spiel 1 beschrieben, getrocknet.
Die Ausbeute beträgt 25 Gt des Polymeren mit der Säure
zahl 16.
Eine Beschichtungslösung aus
86,5 Gt des oben beschriebenen Bindemittels,
29 Gt des in Beispiel 1 beschriebenen Dazonium salz-Polykondensats,
3,5 Gt Phosphorsäure (85%),
4,3 Gt Viktoriareinblau FGA und
2000 Gt Diethylenglykolmonomethylether,
2000 Gt 2-Ethanol und
500 Gt Butanon-2
wird auf eine in Salpetersäure elektrochemisch aufge rauhte und anschließend anodisierte Aluminiumfolie, die mit Polyvinylphosphonsäure nachbehandelt worden ist, aufgebracht. Das Trockengewicht beträgt 1,02 g/m2.
86,5 Gt des oben beschriebenen Bindemittels,
29 Gt des in Beispiel 1 beschriebenen Dazonium salz-Polykondensats,
3,5 Gt Phosphorsäure (85%),
4,3 Gt Viktoriareinblau FGA und
2000 Gt Diethylenglykolmonomethylether,
2000 Gt 2-Ethanol und
500 Gt Butanon-2
wird auf eine in Salpetersäure elektrochemisch aufge rauhte und anschließend anodisierte Aluminiumfolie, die mit Polyvinylphosphonsäure nachbehandelt worden ist, aufgebracht. Das Trockengewicht beträgt 1,02 g/m2.
Die Belichtung und Verarbeitung erfolgt wie inBeispiel
1 angegeben. Nach dem Einfärben erhält man eine gut
farbannehmende Druckform, deren Nichtbildbereiche keine
fette Farbe annehmen.
Nach dem Einspannen der Druckform in eine Bogenoffset
maschine erhält man viele Tausend guter Drucke.
Eine durch Drahtbürstung mechanisch oberflächlich auf
gerauhte Aluminiumfolie wird mit einer Lösung von 20 g
2,4-Bis-(2′-chlorphenyl)-5-(4′′-diethylaminophenyl)-ox
azol und 30 g eines Mischpolymerisats aus Styrol und
Maleinsäureanhydrid in 200 ml Diethylenglykolmonomethyl
ether und 250 ml Butanon-2 beschichtet, der 20 ml einer
methanolischen Sensibilisatorlösung, enthaltend 1 g
Astrazongelb 7 GLL (C.I. Basic Yellow 21) und 0,1 g
Rhodamin FB (C.I. 45 170) zugesetzt wurde. Nach dem
Verdunsten der Lösemittel erhält man eine etwa 5 m
dicke Photoleiterschicht, die im Dunkeln mit Hilfe
einer Corona auf etwa 450 V negativ aufgeladen wird.
Die aufgeladene Photoleiterschicht wird in einer Repro
kamera belichtet, wobei - unter Verwendung von 8 Auto
phot-Lampen zu je 500 W - die Belichtungszeit 15 s be
trägt.
Als Vorlage dient eine im Zeitungsdruck übliche Klebe
montage mit blauen Orientierungslinien und eingeklebten
vergilbten Textausschnitten. Nach der Betonerung des
durch die Belichtung entstandenen latenten Ladungsbil
des mit einem handelsüblichen Toner erhält man ein sau
beres, grundfreies, randscharfes Bild der Vorlage, das
durch Wärmeeinwirkung fixiert wird. Zur Umwandlung in
eine Druckform bringt man die Aluminiumfolie mit der
betonerten Photoleiterschicht in eine Küvette, die eine
Lösung von 35 g Natriummetasilikat-9-Hydrat in 140 ml
Glycerin mit einem Wassergehalt von 20%, 550 ml Ethy
lenglykol und 140 ml Ethanol enthält. Nach 1 min spült
man die an den nicht betonerten Stellen angelöste Pho
toleiterschicht unter leichtem Reiben mit einem Wasser
strahl ab. die Platte die druckfertig. Die Druckauflage
liegt aufgrund des verwendeten Trägermaterials bei
80 000. Im Falle eines erst späteren Druckvorgangs muß
die Platte mit einer handelsüblichen Konservierungs-
oder Gummierungslösung konserviert werden.
Eine Lösung aus
4,0 Gt eines Mischpolimerisats aus Methylmeth acrylat/Methacrylsäure (82 : 18) mit der Säurezahl 110,
4,0 Gt Trimethylolethantriacrylat,
0,07 Gt 4-Dimethylamino-4′-methyldibenzalaceton,
0,1 Gt 9-Phenylacridin,
0,1 Gt 2,4-Bistrichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)- s-triazin,
0,04 Gt eines Azofarbstoffs aus 1,4-Dinitro- 6-chlorbenzoldiazoniumsalz und 2- Methoxy-5-acetylamino-cyanoethyl-N- hydroxyethylanilin,
24 Gt Diethylenglykolmonomethylether,
24 Gt 2-Ethanol und
7,3 Gt Butanon-2
wird auf elektrolytisch aufgerauhtes und durch Anodi sierung gehärtetes 0,3 mm starkes Aluminium durch Auf schleudern so aufgetragen und getrocknet, daß ein Schichtgewicht von 2,5 g/m2 erhalten wird.
4,0 Gt eines Mischpolimerisats aus Methylmeth acrylat/Methacrylsäure (82 : 18) mit der Säurezahl 110,
4,0 Gt Trimethylolethantriacrylat,
0,07 Gt 4-Dimethylamino-4′-methyldibenzalaceton,
0,1 Gt 9-Phenylacridin,
0,1 Gt 2,4-Bistrichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)- s-triazin,
0,04 Gt eines Azofarbstoffs aus 1,4-Dinitro- 6-chlorbenzoldiazoniumsalz und 2- Methoxy-5-acetylamino-cyanoethyl-N- hydroxyethylanilin,
24 Gt Diethylenglykolmonomethylether,
24 Gt 2-Ethanol und
7,3 Gt Butanon-2
wird auf elektrolytisch aufgerauhtes und durch Anodi sierung gehärtetes 0,3 mm starkes Aluminium durch Auf schleudern so aufgetragen und getrocknet, daß ein Schichtgewicht von 2,5 g/m2 erhalten wird.
Nach dem Trocknen wird die photopolymerisierbare Schicht
mit einer Lösung von 5 Gew.-Teilen Polyvinylalkohol mit
dem K-Wert 8 und 12% unverseiften Acetylgruppen in
95 Gt entsalztem Wasser überschichtet und getrocknet, so
daß die Deckschicht von 2,5 g/m2 entsteht. Anschließend
wird wie in Beispiel 1 belichtet. Nach dem Einfärben er
hält man eine gut farbannehmende Druckform, deren Nicht
bildbereich keine fette Farbe annehmen. Nach dem Ein
spannen der Druckform in eine Bogenoffsetmaschine erhält
man viele Tausend guter Drucke.
Aus den folgenden Bestandteilen wird eine lichtempfind
liche Schicht hergestellt:
0,45 Gt eines Copolymeren aus 82% Methylmethacry lat und 18% Methacrylsäure (Säurezahl 117),
1,05 Gt eines Polymeren, hergestellt durch Rück flußerhitzung unter Verwendung eines Poly vinylbutyrals mit einem Molekulargewicht von etwa 70- bis 80 000, das 71% Vinylbu tyral, 2% Vinylacetat und 27% Vinylalko holeinheiten, Maleinsäureanhydrid, Methyl ethylketon und Trimethylamin enthält,
0,45 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsproduk tes gemäß Beispiel 1,
0,04 Gt 85%ige Phosphorsäure,
0,09 Gt Viktoriareinblau FGA (C.I. Basic Blue 81),
1,5 Gt Pentaerythrittetraacrylat/-triacrylat (techn. Gemisch),
0,007 Gt Phenylazodiphenylamin,
0,12 Gt 2-(4-Styryl-phenyl)-4,6-bis-trichlormethyl- s-triazin in
24 Gt Diethylenglykolmonoethylether und
24 Gt Tetrahydrofuran und
48 Gt Butanon-2.
Das Schichtgewicht nach dem Trocknen beträgt 1,8 g/m2.
0,45 Gt eines Copolymeren aus 82% Methylmethacry lat und 18% Methacrylsäure (Säurezahl 117),
1,05 Gt eines Polymeren, hergestellt durch Rück flußerhitzung unter Verwendung eines Poly vinylbutyrals mit einem Molekulargewicht von etwa 70- bis 80 000, das 71% Vinylbu tyral, 2% Vinylacetat und 27% Vinylalko holeinheiten, Maleinsäureanhydrid, Methyl ethylketon und Trimethylamin enthält,
0,45 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsproduk tes gemäß Beispiel 1,
0,04 Gt 85%ige Phosphorsäure,
0,09 Gt Viktoriareinblau FGA (C.I. Basic Blue 81),
1,5 Gt Pentaerythrittetraacrylat/-triacrylat (techn. Gemisch),
0,007 Gt Phenylazodiphenylamin,
0,12 Gt 2-(4-Styryl-phenyl)-4,6-bis-trichlormethyl- s-triazin in
24 Gt Diethylenglykolmonoethylether und
24 Gt Tetrahydrofuran und
48 Gt Butanon-2.
Das Schichtgewicht nach dem Trocknen beträgt 1,8 g/m2.
Die Platte wird dann mit einer 15%igen wäßrigen Lösung
von Polyvinylalkohol (12% Restacetylgruppen, K-Wert 4)
beschichtet. Nach dem Trocknen wird eine Deckschicht
mit einem Gewicht von 1 g/m2 erhalten.
Die Weiterverarbeitung erfolgt gemäß Beispiel 1. Von der
entwickelten Platte lassen sich in einer Offsetdruckma
schine mehrere Tausend einwandfreie Drucke anfertigen.
Analog zu Beispiel 1 wird eine Beschichtungslösung her
gestellt aus
62 Gt des Polymeren aus Beispiel 1,
21 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts aus Beispiel 1,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
905 Gt 1-Methoxypropanol-2,
1100 Gt Methyllactat,
1300 Gt Methylethylketon und
45 Gt Diethylenglykolmonomethylether.
62 Gt des Polymeren aus Beispiel 1,
21 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts aus Beispiel 1,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
905 Gt 1-Methoxypropanol-2,
1100 Gt Methyllactat,
1300 Gt Methylethylketon und
45 Gt Diethylenglykolmonomethylether.
Anders als im Beispiel 1 konnte aus dem vorliegenden
Gemisch auch bei längerem Rühren keine homogene Lösung
erhalten werden. Ein Teil der Feststoffe bleibt unge
löst zurück.
Das hier angewandte und in der DE-A 38 07 406 beschrie
bene Lösemittelgemisch mit einem Gehalt an höhersieden
dem Diethylenglykolmonomethylether von unter 2 Gew.-%
(1,3 Gew.-%), bezogen auf die Komponenten des Lösemit
telgemisches, zeigt daher gegenüber dem erfindungsgemäß
verwendeten erhebliche Nachteile. Es ist völlig überra
schend, daß eine Vergrößerung des Anteils an höhersie
dendem Lösemittel diese Nachteile überwinden konnte.
Analog zu Beispiel 1 wird eine Beschichtungslösung her
gestellt aus
62 Gt des Polymeren aus Beispiel 1,
21 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts aus Beispiel 1,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
2010 Gt Ethylenglykolmonomethylether,
1005 Gt Tetrahydrofuran und
335 Gt Butylacetat.
62 Gt des Polymeren aus Beispiel 1,
21 Gt des Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukts aus Beispiel 1,
2,5 Gt Phosphorsäure (85%),
3 Gt Viktoriareinblau FGA und
0,7 Gt Phenylazodiphenylamin in
2010 Gt Ethylenglykolmonomethylether,
1005 Gt Tetrahydrofuran und
335 Gt Butylacetat.
Das hier verwendete Lösemittelgemisch ist aus der DE-A
20 34 655 bekannt. Vergleicht man die Beschichtungslö
sungen aus Beispiel 1 mit dem hier eingesetzten, so
stellt man folgendes fest:
Die Haltbarkeit der Lösung aus Vergleichsbeispiel 2 ist
wesentlich kürzer als die des Beispiels 1. Die Lösung
aus dem Vergleichsbeispiel kann nur wenige Stunden ver
wendet werden, weil Ausfällungen und Zersetzungen der
Bestandteile die Lösung unbrauchbar machen. Die Lösung
aus Beispiel 1 bleibt jedoch unter gleichen Bedingungen
mehrere Tage verwendbar.
Außerdem können mit Hilfe des erfindungsgemäß verwen
deten Lösemittelgemisches mehr Feststoffe, bezogen auf
das Lösemittelvolumen, gelöst werden. Beim Vergleich
der Beschichtungs- und Trocknungseigenschaften der
Lösemittelgemische stellt man fest, daß mit dem erfin
dungsgemäß verwendeten Gemisch wesentlich gleichmäßige
re Beschichtungen zu erhalten sind. Dadurch gelingt es,
beim Druck von feinen Rasterpartien eine erheblich bes
sere Gleichmäßigkeit und bessere Druckqualität zu er
reichen.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden
lichtempfindlichen, lithographischen Druckform bei
dem auf einem Träger ein in einer Lösemittelmi
schung gelöstes, negativ arbeitendes, lichtempfind
liches Gemisch, das eine negativ arbeitende licht
empfindliche Verbindung, ein in Wasser unlösliches,
in wäßrig-alkalischer Lösung lösliches polymeres
Bindemittel enthält, aufgetragen und die erhaltene
Schicht anschließend getrocknet wird, dadurch ge
kennzeichnet, daß als Lösemittelmischung ein Gemisch
aus mehr als 2 Gew.-% mindestens eines Monoethers
des Diethylenglykols mit einem oder mehreren orga
nischen Lösemittel(n) mit einem Siedepunkt unter
halb 200°C verwendet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß es sich um Mono(C1-C4)alkylether des Diethylen
glykols handelt.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß der Siedepunkt der Mono
alkylether bei über 200°C liegt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Siedepunkt der niedrigsie
denden organischen Lösemittel bei 50 bis 150°C
liegt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der höhersiedende Monoalkylether
des Diethylenglykols in einer Konzentration von mehr
als 10 Gew.-%, bezogen auf die Komponenten des Lösemit
telgemisches, vorliegt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von Mono
alkylther des Diethylenglykols zu den anderen in
dem Gemisch enthaltenen organischen Lösemitteln
1 : 1 bis 0,2 : 1, insbesondere 1 : 1 bis 0,4 : 1 beträgt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das niedrigsiedende Lösemittel
ausgewählt ist aus der Gruppe der Lösemittel: Ace
ton, Butanon-2, Methanol, Ethanol, n-Propanol, iso-
Propanol, n-Butanol, 1-Methoxyethanol-2, 1-Methoxy
propanol-2, 2-Methoxypropanol-1, Amylalkohol, Tetra
hydrofuran, 1,4-Dioxan, Wasser, Toluol, Diethyl
ether, Diisopropylether, Dibutylether, 2-Methyl
furan, Cyclohexanon, Methylisobutylketon, Methyl
propylketon, Methylisopropylketon, Methylbutylketon,
Ethylformiat, Propylformiat, Butylformiat, Methyl
acetat, Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat,
Methylpropionat, Ethylenglykoldimethylether, Ethy
lenglykoldiethylether, Dimethylsulfoxid, Dimethyl
formamid, -Butyrolacton, Diacetonalkohol.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß die Trockenschichtmenge des ne
gativ arbeitenden lichtempfindlichen Gemisches bei
0,7 bis 5 g/m2, insbesondere bei 0,5 bis 3,5 g/m2,
liegt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das Trocknen der Schicht bei
50 bis 120°C erfolgt.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß nach dem Trocknen der Schicht
bildmäßig mit aktinischer Strahlung belichtet und
anschließend mit einem wäßrig-alkalischen Entwick
ler entwickelt wird.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3938788A DE3938788A1 (de) | 1989-11-23 | 1989-11-23 | Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform |
DE59010547T DE59010547D1 (de) | 1989-11-23 | 1990-11-14 | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform |
EP90121785A EP0429955B1 (de) | 1989-11-23 | 1990-11-14 | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform |
CA002030387A CA2030387A1 (en) | 1989-11-23 | 1990-11-20 | Process for producing a negative-working photosensitive printing form |
BR909005911A BR9005911A (pt) | 1989-11-23 | 1990-11-22 | Processo para a obtencao de um molde de impressao litografico;sensivel a luz,de funcionamento negativo |
ZA909375A ZA909375B (en) | 1989-11-23 | 1990-11-22 | Process for producing a negative-working photosensitive printing form |
JP2320519A JP2895214B2 (ja) | 1989-11-23 | 1990-11-22 | 陰画処理感光性印刷版の製作方法 |
US07/994,445 US5328797A (en) | 1989-11-23 | 1992-12-23 | Process for producing a negative-working lithographic printing form utilizing solvent mixture of mono-(C1 -C4) alkyl ether of diethylene glycol and a solvent having boiling point between 50° and 150° C. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3938788A DE3938788A1 (de) | 1989-11-23 | 1989-11-23 | Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3938788A1 true DE3938788A1 (de) | 1991-05-29 |
Family
ID=6394031
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3938788A Withdrawn DE3938788A1 (de) | 1989-11-23 | 1989-11-23 | Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform |
DE59010547T Expired - Fee Related DE59010547D1 (de) | 1989-11-23 | 1990-11-14 | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59010547T Expired - Fee Related DE59010547D1 (de) | 1989-11-23 | 1990-11-14 | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5328797A (de) |
EP (1) | EP0429955B1 (de) |
JP (1) | JP2895214B2 (de) |
BR (1) | BR9005911A (de) |
CA (1) | CA2030387A1 (de) |
DE (2) | DE3938788A1 (de) |
ZA (1) | ZA909375B (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19602307A1 (de) * | 1996-01-23 | 1997-07-24 | Roland Man Druckmasch | Druckmaschine |
JP3978255B2 (ja) * | 1997-06-24 | 2007-09-19 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | リソグラフィー用洗浄剤 |
US5900345A (en) * | 1997-10-06 | 1999-05-04 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Surfactant in precoat for lithographic plates |
US6200945B1 (en) * | 1999-05-20 | 2001-03-13 | Mcdonnell Douglas Corporation | Environmentally safe solvent composition |
EP1400349B1 (de) * | 2002-09-17 | 2007-04-18 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Wärmeempfindliche Flachdruckplatte und Bebilderungsverfahren |
EP1603749A2 (de) * | 2003-03-14 | 2005-12-14 | Creo Inc. | Verbesserung der entwicklung von strahlungsempfindlichen elementen |
JP5593790B2 (ja) * | 2009-04-27 | 2014-09-24 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7109179A (de) * | 1970-07-13 | 1972-01-17 | ||
DE2034654C2 (de) * | 1970-07-13 | 1982-08-26 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Negativ arbeitende Kopierlösung und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten |
DE2949826A1 (de) * | 1979-12-12 | 1981-06-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Material fuer elektrophotographische reproduktion |
DE3404366A1 (de) * | 1984-02-08 | 1985-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3445276A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform |
JPS6238471A (ja) * | 1985-08-14 | 1987-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPH083630B2 (ja) * | 1986-01-23 | 1996-01-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPS63186248A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-01 | Konica Corp | 公害性、塗布性等が改良される感光性平版印刷版の製造方法 |
JPH07117746B2 (ja) * | 1987-04-16 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
DE3924812A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Loesemittelgemisch und beschichtungsloesung fuer die herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher aufzeichnungsmaterialien |
JPH03170931A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-07-24 | Konica Corp | 感光性塗布液 |
-
1989
- 1989-11-23 DE DE3938788A patent/DE3938788A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-11-14 EP EP90121785A patent/EP0429955B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-14 DE DE59010547T patent/DE59010547D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-20 CA CA002030387A patent/CA2030387A1/en not_active Abandoned
- 1990-11-22 BR BR909005911A patent/BR9005911A/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-11-22 JP JP2320519A patent/JP2895214B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-22 ZA ZA909375A patent/ZA909375B/xx unknown
-
1992
- 1992-12-23 US US07/994,445 patent/US5328797A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2030387A1 (en) | 1991-05-24 |
EP0429955B1 (de) | 1996-10-23 |
ZA909375B (en) | 1991-08-28 |
EP0429955A2 (de) | 1991-06-05 |
US5328797A (en) | 1994-07-12 |
EP0429955A3 (en) | 1991-12-18 |
BR9005911A (pt) | 1991-09-24 |
DE59010547D1 (de) | 1996-11-28 |
JP2895214B2 (ja) | 1999-05-24 |
JPH03179450A (ja) | 1991-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0432451B1 (de) | Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
DE2039861C3 (de) | Photopolymensierbare Kopier masse | |
EP0274075B1 (de) | Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE3633456C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch mit einem Diazoharz | |
DE2027467C3 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
EP0028749B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial | |
EP0432450B1 (de) | Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten mit Deckschicht sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
DE2924294C2 (de) | Lichtempfindliche lithographische Druckplatte | |
DE2053683A1 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
EP0272550B1 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen Zwischenschicht | |
DE3007212A1 (de) | Lichtempfindliche masse | |
DE2024243B2 (de) | Verfahren zur Herstellung Diazoniumgruppen enthaltender, lichtempfindlicher Kondensationsprodukte und diese Kondensationsprodukte enthaltendes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
EP0071881B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen aus einem lichtempfindlichen Material auf Basis von Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukten | |
EP0042105A1 (de) | Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2729173A1 (de) | Lichtempfindliche diazomasse | |
DE2725730A1 (de) | Photomaterial | |
EP0003804A1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält | |
DE3528309A1 (de) | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
DE3938788A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform | |
EP0406600A1 (de) | Lichthärtbares Gemisch und daraus hergestelltes lichthärtbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE2044233A1 (de) | Photopolymerisierbare Verbindungen | |
DE3118884A1 (de) | Verfahren zur herstellung von reliefkopien | |
DE2203732A1 (de) | Lichtempfindliche mischpolymerisate und diese enthaltende kopiermassen | |
DE2558813A1 (de) | Lichtempfindliche kopiermasse mit synergistischem initiatorsystem | |
EP0021429A2 (de) | Photopolymerisierbares Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |