DE3716607A1 - Lichtempfindliche zusammensetzung - Google Patents
Lichtempfindliche zusammensetzungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich eine negativ
arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung und insbesondere
auf eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die
mit einer wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung entwickelt
werden kann und vorzugsweise für die Herstellung
lichtempfindlicher vorsensibilisierter Platten verwendet
werden kann, aus denen Lithographiedruckplatten mit
hoher Druckhaltbarkeit hergestellt werden sollen.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich ebenfalls auf
eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die eine hervorrgende
Photovernetzungseigenschaft aufweist und mit
einer wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung entwickelt
werden kann und vorzugsweise für die Herstellung vorsensibilisierter
Platten verwendet werden kann, aus denen
Lithographiedruckplatten mit hoher Druckhaltbarkeit hergestellt
werden sollen.
Die meisten lichtempfindlichen Substanzen, die bei als
negativ arbeitenden vorsensibilisierten Druckmaterialien
verwendet werden, sind Diazoniumverbindungen. Davon am
häufigsten verwendet werden Diazoharze wie ein Formaldehydkondensat
von p-Diazodiphenylamin.
Die Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht der
vorsensibilisierten Platten, die Diazoharze verwenden,
können in die Zusammensetzungen von Diazoharzen allein,
und zwar die Zusammensetzungen ohne Bindemittel, wie sie
in US-PS 27 14 066 beschrieben sind, und die Zusammensetzungen
eingeteilt werden, in denen ein Bindemittel
und das Diazoharz vermischt werden, wie es in der japanischen
Patentanmeldung (OPI) 30 604/1975 beschrieben ist.
Die meisten der neuesten vorsensibilisierten Platten
unter Verwendung von Diazoniumverbindungen sind aus den
Diazoniumverbindungen und Polymeren als Bindemittel zusammengesetzt,
um die hohe Druckhaltbarkeit zu erzielen.
Wie in der japanischen ungeprüften und veröffentlichten
Patentanmeldung (nachfolgend als OPI (der Öffentlichkeit
zugänglich)) Nr. 30 604/1975 beschrieben ist, ist für
eine solche lichtempfindliche Schicht ein sogenannter
alkalischer Entwicklungstyp, in dem unbelichtete Bereiche
mit einer wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung
entfernt (entwickelt) werden und der sogenannte
Lösungsmittelentwicklungstyp bekannt, indem unbelichtete
Bereiche mit einer Entwicklungslösung eines organischen
Lösungsmittels entfernt werden. Der alkalische
Entwicklungstyp erzielt aufgrund der Sicherheit und Gesundheit
für die Arbeiter Aufmerksamkeit. Die bekannten
Bindemittel, die für einen solchen alkalischen Entwicklungstyp
der lichtempfindlichen Schicht vorteilhaft
sind, umfassen Polymere, die durch Copolymerisation von
2-Hydroxyethyl(meth)acrylat und einem Monomer, das eine
Carboxygruppe enthält, wie Methacrylsäure, erhalten
werden, wie es in der obengenannten Veröffentlichung OPI
30 604/1975 beschrieben ist, und Polymere, in denen die
Carboxylgruppe durch Reaktion der Hydroxylgruppe des
Polyvinylakohols mit einem cyclischen Anhydrid wie
Phthalsäureanhydrid eingebracht wird. Die erhaltenen
Polymere haben jedoch aufgrund ihrer Struktur eine geringe
Abriebbeständigkeit. Lithographiedruckplatten, die
aus vorsensibilisierten Platten erhalten wurden, die
einen solchen Binder in der lichtempfindlichen Schicht
enthalten, zeigen immer eine geringe Druckhaltbarkeit.
Unterdessen bilden Polyvinylacetate feste Filme und
zeigen eine gute Abriebbeständigkeit, haben jedoch den
Nachteil, daß sie nur vorsensibilisierten Platten vom
Entwicklungstyp mit organischem Lösungsmitteln liefern
können.
Darüber hinaus sind Polyurethanharze als Polymere bekannt,
die eine hervorragende Abriebbeständigkeit aufweisen.
OPI 36 961/1974 bzw. OPI 94 346/1981 beschreiben
Zusammensetzungen, in denen eine Diazoniumverbindung und
ein im wesentlichen lineares Polyurethansalz verbunden
werden und Zusammensetzungen, in denen ein Diazoniumsalz-
Kondensat und ein verzweigtes Polyurethanharz zusammengesetzt
werden. Diese Polyurethanharze enthalten
jedoch keine alkalilösliche Gruppe und zeigen folglich
eine unzureichende Löslichkeit in einer wäßrigen alkalischen
Entwicklungslösung. Es war sehr schwierig, eine
vorsensibilisierte Platte zu entwickeln, in der die
lichtempfindliche Schicht aus einer lichtempfindlichen
Zusammensetzung zusammengesetzt ist, die die obengenannten
Polyurethanharze als Bindemittel enthält, ohne
den verbleibenden Film in unbelichteten Bereichen zu belassen.
Darüber hinaus hatten die Polyurethanharze den
Nachteil, daß sie kein Bild ausreichender Festigkeit
bildeten, da sie keine Stellen für die Verursachung der
Photoreaktion mit der kombinierten Diazoniumverbindung
während der Belichtung aufweisen, die wirksam vernetzt
werden sollen.
Auf der anderen Seite gibt es viele Versuche, um eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung für die lichtempfindliche
bildformende Schicht einer negativ arbeitenden
vorsensibilisierten Druckplatte zu verwenden.
Es sind eine Grundzusammensetzung, die aus einem
Polymer als Bindemittel, einem Monomer und einem Photopolymerisations-
Initiator zusammengesetzt ist, wie es in
der japanischen Patentveröffentlichung 32 714/1971 beschrieben
ist, eine Zusammensetzung, in der die Härtungswirksamkeit
verbessert wird, indem in das Polymer
als Bindemittel eine ungesättigte Doppelbindung eingebracht
wird, wie es in der japanischen Patentveröffentlichung
34 041/1974 beschrieben ist, und Zusammensetzungen
bekannt, in denen neue Photopolymerisations-
Initiatoren verwendet werden, wie es in den japanischen
Patentveröffentlichungen 38 403/1973 und 27 605/1978 und
GB-PS 13 88 492 beschrieben ist, und einige davon wurden
in der Praxis verwendet. Alle diese lichtempfindlichen
Zusammensetzungen haben jedoch die Nachteile, daß ihre
Empfindlichkeit in roßem Umfang von der Oberflächentemperatur
der vorsensibilisierten Platte zum Zeitpunkt
der Bildbelichtung abhängt und daß die Polymerisation
zum Zeitpunkt der Bildbeleuchtung durch Sauerstoff gehemmt
wird.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die obengenannten
Nachteile zu überwinden und eine neue lichtempfindliche
Zusammensetzung zu schaffen, die eine
hervorragende Entwicklungseigenschaft gegenüber einer
wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung aufweist und die
eine Lithographiedruckplatte mit hoher Druckhaltbarkeit
liefert.
Es wurde gefunden, daß diese Aufgabe durch eine neue erfindungsgemäße
lichtempfindliche Zusammensetzung gelöst
werden kann, die ein Polyurethansalz enthält, das eine
ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung und eine
Carboxylgruppe aufweist.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird eine lichtempfindliche Zusammensetzung
geschaffen, die das wie oben beschriebene Polyurethanharz
enthält, die jedoch weiterhin eine Hydroxyl- und/oder
Nitrilgruppe und eine Diazoniumverbindung aufweist.
"Ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung" bedeutet
und umfaßt hier sowohl Ethylen- und Acetylen-Bindungen,
wobei die Ethylenbindung bevorzugt ist.
Entsprechend der vorliegenden Erfindung kann das obengenannte
Polyurethanharz allein als lichtempfindlliche
Zusammensetzung verwendet werden. Das Polyurethansalz
wird jedoch vorzugsweise in folgenden Kombinationssystemen
verwendet:
- (1) ein Kombinationssystem des erfindungsgemäßen Polyurethanharzes mit einem Polymerisations-Initiator und/oder einem Sensibilisator,
- (2) ein Kombinationssystem des erfindungsgemäßen Polyurethanharzes mit einer Diazoniumverbindung,
- (3) ein Kombinationssystem des erfindungsgemäßen Polyurethanharzes mit einem Monomer, das zumindest eine polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Gruppe aufweist und einem Photopolymerisations-Initiator und/oder einem Sensibilisator,
- (4) ein Kombinationssystem des erfindungsgemäßen Polyurethanharzes mit einem Photopolymerisations- Initiator und/oder einem Sensibilisator und einer Diazoniumverbindung und
- (5) ein Kombinationssystem des erfindungsgemäße Polyurethanharzes mit einem Monomer, das zumindest eine polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Gruppe aufweist, und einem Photopolymerisations-Initiator und/oder einem Sensibilisator und einer Diazoniumverbindung.
Das in der vorliegenden Erfindung vorzugsweise verwendete
Polyurethanharz umfaßt Polyurethanharze, deren
Grundgerüst ein Reaktionsprodukt einer Diisocyanatverbindung,
die durch die folgende allgemeine Formel (I)
dargestellt wird, mit einem Diolverbindung mit einer
Carboxylgruppe, die durch die allgemeinen Formeln (II)
oder (III) dargestellt wird, umfaßt
OCN-R1-NCO (I)
worin R1 eine zweiwertige aliphatische oder aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe darstellt, die Substituenten
aufweisen kann (z. B. sind Alkyl-, Alkenyl-, Aralkyl-,
Aryl-, Alkoxy- und Halogengruppen bevorzugt). Falls erforderlich
kann R1 andere funktionelle Gruppen enthalten,
die mit der Isocyanatgruppe nicht reagieren, wie
Ester-, Urethan-, Amid- und Ureidogruppen und eine ungesättigte
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung.
R2 stellt ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine
Alkenylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine
Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe dar, die alle Substituenten
aufweisen können (z. B. sind Alkyl-, Aryl-,
Alkoxy-, Ester-, Urethan-, Amid-, Ureido- und Halogengruppen
bevorzugt), wobei ein Wasserstoffatom, eine
Alkylgruppe oder eine Alkenylgruppe von 1 bis 8 Kohlenstoffatomen
und eine Arylgruppe von 6 bis 15 Kohlenstoffatomen
bevorzugt sind. R3, R4 und R5 können gleich
oder verschieden sein und stellen eine Einfachbindung
oder eine zweiwertige aliphatische oder aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe dar, die Substituenten aufweisen
kann (z. B. sind Alkyl-, Alkenyl-, Aralkyl-, Aryl-,
Alkoxy- und Halogengruppen bevorzugt), wobei eine Alkylengruppe
von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen und eine Arylengruppe
von 6 bis 15 Kohlenstoffatomen bevorzugt sind.
Die Alkylengruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen ist besonders
bevorzugt. Falls erforderlich können R3, R4 und
R5 andere funktionelle Gruppen enthalten, die mit der
Isocyanatgruppe nicht reagieren, wie Ester-, Urethan-,
Amid-, Ureidogruppen und eine ungesättigte Kohlenstoff-
Kohlenstoff-Bindung. Darüber hinaus können zwei oder
drei der R2, R3, R4 und R5 einen Ring bilden.
Ar bedeutet eine dreiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe,
die Substituenten aufweisen kann, wobei
eine aromatische Gruppe von 6 bis 15 Kohlenstoffatomen
bevorzugt ist.
Die durch die allgemeine Formel (I) dargestellte Diisocyanatverbindung
umfaßt aromatische Diisocyanatverbindungen,
wie 2,4-Tolylendiisocyanat, ein Dimer von 2,4-
Tolylendiisocyanat, 2,6-Tolylendiisocyanat, p-Xylylen-
diisocyanat, m-Xylylendiisocyanat, 4,4′-Diphenylmethandiisocyanat,
1,5-Naphthaylendiisocyanat und 3,3′-Di-
methylbiphenyl-4,4′-diisocyanat, aliphatische Diisocyanalverbindungen,
wie Hexamethylendiisocyanat, Tri
methylhexamethylendiisocyanat, Lysindiisocyanat und ein
dimeres Säurediisocyanat, alicyclische Diisocyanatverbindungen
wie Isophorondiisocyanat, 4,4′-Methylenbis-
(cyclohexylisocyanat), Methylcyclohexan-2,4-(oder 2,6)-
diisocyanat und 1,3-(Isocyanatmethyl)cyclohexan, und
Diisocyanatverbindungen als Reaktionsprodukte aus Diolen
und Diisocyanaten wie ein Adukt von 1 Mol 1,3-Butylen-
glykol und 2 Mol Tolylendiisocyanat.
Die Diolverbindung mit einer Carboxylgruppe, die durch
die allgemeine Formel (II) oder (III) dargestellt wird,
umfaßt 3,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,2-Bis(hydroxymethyl)
propionsäure, 2,2-Bis(2-hydroxyethyl)propionsäure, 2,2-
Bis(3-hydroxypropyl)propionsäure, Bis(hydroxymethyl)
essigsäure, Bis(4-hydroxyphenyl)essigsäure, 4,4-Bis-
(4-hydroxyphenyl)pentansäure und Tartarsäure.
Die ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung, die in
dem erfindungsgemäßen Polyurethanharz enthalten ist,
kann eingeführt werden, indem ein Teil der Carboxylgruppen
der Verbindung der allgemeinen Formel (II) oder
(III) mit einer Halogenverbindung oder Epoxyverbindung,
die eine ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung
aufweisen, in Gegenwart einer Base reagiert. Bevorzugte
Beispiele der obengenannten Halogenverbindung und Epoxyverbindung
umfassen Allylbromid, 2-Butenylbromid, 1-
Phenyl-1-propenyl-3-bromid, 2-Bromethylcinnamat, Brommethylstyrol,
Propargylbromid, Brom-2-butyn, die korrespondierenen,
ein Halogenatom enthaltenden Verbindungen
der obengenannten ein Bromatom enthaltenden Verbindungen,
wie ein Chloratom enthaltende Verbindungen, und
Epoxyverbindungen, wie Allylglycidylether, 2-Butenyl-
glycidylether, 1-Phenylpropenylglycidylether, Glycidylacrylat,
Glycidylmethacrylat, Glycidylcinnamat und Propargylglycidylether.
Darüber hinaus kann die ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-
Bindung in das Polyurethanharz eingeführt werden,
indem eine Diolverbindung, die eine ungesättigte Kohlenstoff-
Kohlenstoff-Bindung aufweist, zusammen mit der
Diolverbindung der allgemeinen Formel (II) oder (III)
verwendet wird. Als bevorzugte Diolverbindung können
verwendet werden: 2-Butendiol, 4,4′-Dihydroxystilben,
Dihydroxyethylfumarat, Dihydroxyethylmaleat, Dihydroxy
ethyl-p-phenylendiacrylat, 4,4′-Dihydroxychalkon, 1,4-
Dihydroxy-2-buten und 1,6-Dihydroxy-2,4-hexadiyn.
Die Hydroxyl- und/oder Nitrilgruppe, die wahlweise in
dem erfindungsgemäßen Polyurethanharz enthalten sein
kann, kann ebenfalls eingeführt werden, indem ein Teil
der Carboxylgruppen der Verbindung der allgemeinen
Formel (II) oder (III) mit einer Halogenverbindung, die
eine Hydroxyl- und/oder Nitrilgruppe aufweist, in Gegenwart
einer Base reagiert. Beispiele der obengenannten
Halogenverbindung umfassen Ethylenbromhydrin, 3-Brompropanol,
4-Brombutanol, 1-Brom-2-propanol, 4-Hydroxy-
2,3,5-tribromtoluol, Cyanoethylbromid, 3-Cyanopropylbromid,
4-Cyanobutylbromid, 4-Cyanobenzylbromid und ein
Chloratom enthaltende Verbindungen, die den obengenannten
ein Bromatom enthaltenden Verbindungen entsprechen.
Darüber hinaus kann im Falle einer Nitrilgruppe diese in
das Polyurethanharz eingeführt werden, indem eine Diolverbindung,
die eine Nitrilgruppe enthält, zusammen mit
der Diolverbindung der allgemeinen Formel (II) oder
(III) verwendet wird.
Das erfindungsgemäße Polyurethanharz kann aus zwei oder
mehreren der Diisocyanatverbindungen der allgemeinen
Formel (I) und zwei oder mehreren der Diolverbindungen
mit einer Carboxylgruppe der allgemeinen Formel (II)
oder (III) hergestellt werden.
Es ist möglich, eine Diolverbindung, die keine Carboxylgruppe
hat, und andere Substituenten aufweisen kann, die
mit Isocyanat nicht reagieren, gemeinsam in einer solchen
Menge zu verwenden, daß die alkalische Entwicklungseigenschaft
nicht verschlechtert wird.
Beispiele solcher Diolverbindungen umfassen Ethylenglykol,
Diethylenglykol, Triethylenglykol, Tetraethylenglykol,
Propylenglykol, Dipropylenglykol, Polyethylenglykol,
Polypropylenglykol, Neopentylglykol, 1,3-Butylenglykol,
1,6-Hexandiol, 2-Buten-1,4-diol, 2,2,4-Trimethyl-1,2-pentandiol,
1,4-Bis-β-hydroxyethocycyclohexan,
Cyclohexandimethanol, Tricyclodecandimethanol,
hydriertes Bisphenol A, hydriertes Bisphenol F, ein
Ethylenoxid-Addukt von Bisphenol A, ein Propylenoxid-
Addukt von Bisphenol A, ein Ethylenoxid-Addukt von
Bisphenol F, ein Propylenoxid-Addukt von Bisphenol F,
ein Ethylenoxid-Addukt von hydriertem Bisphenol A, ein
Propylenoxid-Addukt von hydriertem Bisphenol A, Hydro
chinondihydroxyethylether, p-Xylylenglykol, Dihydroxyethylsulfon,
Bis(2-hydroxyethyl)-2,4-tolylendicarbamat,
2,4-Tolylen-bis(2-hydroxyethylcarbamid), Bis(2-hydroxy-
ethyl)-m-xylylendicarbamat und Bis(2-hydroxyethyl)-
isophthalat.
Das erfindungsgemäße Polyurethanharz wird synthetisiert,
indem die obengenannte Diisocyanatverbindung und die
Diolverbindung in einem aprotischen Lösungsmittel unter
Zugabe eines bekannten Katalysators erwärmt werden, der
eine Aktivität aufweist, die für die Reaktivität jedes
Falles geeignet ist. Das Molverhältnis des Diisocyanats
zum Diol beträgt vorzugsweise 0,8 : 1 bis 1,2 : 1. Wenn die
Isocyanatgruppe am Ende des Polymers verbleibt, wird die
Synthese durch Behandlung mit Alkoholen, Aminen oder
ähnlichen abgeschlossen, ohne daß die verbleibende Isocyanatgruppe
beibehalten wird.
Das Gewichtsmittel des Molekulargewichtes des erfindungsgemäßen
Polyurethanharzes beträgt vorzugsweise 1000
oder mehr, insbesondere liegt es im Bereich von 5000 bis
100 000.
Diese polymeren Verbindungen können allein oder in Kombination
verwendet werden. Der Gehalt dieser polymeren
Verbindungen in der lichtempfindlichen Zusammensetzung
beträgt etwa 30 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise etwa 50 bis
90 Gew.-%.
In die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
können ebenfalls andere Harze in einer Menge von
höchstens 50 Gew.-%, bezogen auf das obengenannte Polymer
eingemischt werden. Beispiele solcher gemischter
Harze umfassen ein Polyamidharz, ein Epoxyharz, ein
Polyacetalharz, ein Acrylharz, ein Methacrylharz, ein
Harz von Polystylen-Typ und ein phenolisches Novolackharz.
Das Monomer mit zumindest einer polymierisierbaren ethylenisch
ungesättigten Gruppe, das der erfindungsgemäßen
lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben werden
kann, ist ein Monomer, das einen Siedepunkt von 100°C
oder höher bei Normaldruck aufweist, zumindest eine,
vorzugsweise zumindest zwei durch Addition polymerisierbare
ethylenisch ungesättigte Gruppen im Molekül aufweist
und ein Molekulargewicht von 10 000 oder weniger
hat, oder Oligomere. Beispiele solcher Monomere und Oligomere
umfassen einwertiges Acrylat und Methacrylat wie
Polyethylenglykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykolmono(meth)acrylat
und Phenoxyethyl(meth)acrylat, jene,
die durch Zugabe von Ethylenoxid oder Propylenoxid zu
einem mehrwertigen Alkohol wie Glycerin oder Trimethylolethan,
und der anschließend (Meth)acrylierung erhalten
wurden, wie Polyethylenglykoldi(meth)acrylat,
Polypropylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat,
Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat,
Pentaerythritoltetra(meth)acrylat,
Dipentaerythritolhexa(meth)acrylat, Hexandioldi(meth)acrylat
und Tri(acryloxyethyl)isocyanat,
Urethanacrylate, wie sie in den japanischen Patentveröffentlichungen
41 708/1973 und 6 034/1975 und OPI
37 193/1976 beschrieben sind, ein mehrwerties Acrylat
und Methacrylat, wie Polyesteracrylate, ein Epoxyacrylat,
das durch Reaktion eines Epoxyharzes mit
(Meth)acrylsäure erhalten wurde, wie es in OPI
64 183/1973, den japanischen Patentveröffentlichungen
43 191/1974 und 30 490/1977 beschrieben ist. Die photohärtenden
Monomere und Oligomere, die in Nippon
Secchaku Kyokai Si (Japan Adhesion Association
Bulletin) Band 20, Nr. 7, S. 300-308 beschrieben sind,
können ebenfalls verwendet werden.
Das Zusammensetzungsverhältnis dieser Monomere oder Oligomere
zum erfindungsgemäßen Polyurethanharz beträgt
bezogen auf das Gewicht vorzugsweise 5 : 95 bis 70 : 30 und
insbesondere 10 : 90 bis 50 : 50.
Beispiele des Photopolymerisations-Initiators, der der
erfindungsgemäßen Zusammensetzung zugegeben werden kann,
umfassen vicinale bzw. benachbarte Polyketaldonylverbindungen
wie sie in US-PS 23 67 660 beschrieben sind, α-
Carbonalverbindungen, wie sie in US-PS 23 67 661 und
23 67 670 beschrieben sind, Acyloinether, wie sie in
US-PS 24 48 828 beschrieben sind, aromatische Acyloinverbindungen,
die im α-Kohlenwasserstoff substituiert
sind, wie es in US-PS 27 22 572 beschrieben ist,
mehrfach verzweigte Chinonverbindungen, wie sie in den
US-PSen 30 46 127 und 29 51 758 beschrieben sind, eine
Kombination eines Triarylimidazoldimers/p-Aminophenylketons,
ketons, wie es in US-PS 35 49 367 beschrieben ist, Verbindungen
vom Benzothiazol-Typs, wie sie in US-PS
38 70 524 beschrieben sind, Akridin- und Phenazin-
Verbindungen, wie sie in US-PS 37 51 259 beschrieben
sind und Oxadiazolverbindungen, wie sie in US-PS
42 12 970 beschrieben sind.
Trihalogenmethyl-S-Triazinverbindungen oder Trihalogenmethyloxadiazolverbindungen,
die durch die folgende allgemeine
Formel (IV) oder (V) dargestellt werden, sind
bevorzuggt:
worin R7 eine substituierte und unsubstituierte Aryl-
oder Alkenylgruppe darstellt und R6 R7 -CX3 oder eine
substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe darstellt,
X ist ein Chlor- oder Bromatom.
Die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (IV)
dargestellt werden, umfassen die Verbindungen, die von
Wakabayashi et al., Bull Chem. Soc. Japan, Vol., 42,
S. 2924 (1969) beschrieben sind, und die Verbindungen,
die GB-PS 13 88 492 und DE-PS 27 18 259 und 33 37 024
beschrieben sind, z. B.: 2-Phenyl-4,6-bis(trichlormethyl)
S-triazin, 2-(p-Chlorphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)
S-triazin, 2-(p-Tolyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-
S-triazin, 2-(p-Methoxyphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-
S-triazin, 2-(2′,4′-Dichlorphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)
-S-triazin, 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-S-triazin,
2-Methyl-4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-n-Nonyl-
4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-(α,α,β-Trichlor-
ethyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin, S-Styryl-4,6-
bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-(p-Methylstyryl)-4,6-
bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-(p-Methoxystyryl)-4,6-
bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-(4-Methoxynaphth-1-yl)-
4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-(4-Ethoxynaphth-
1-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin, 2-[4-(2-Ethoxy
ethyl)naphth-1-yl]-4,6-bis(trichlormethyl)-S-triazin,
2-(4,7-Dimethoxynaphth-1-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-S-
triazin, 2-(4-Stylylphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-S-
triazin, 2-(Acenaptht-5-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-S-
triazin.
Die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (V)
dargestellt werden, umfassen die Verbindungen, die in
OPI Nr. 74 728/1979, 77 742/1980 und 1 48 784/1984 beschrieben
sind, z. B.
2-Styryl-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Chlorstyryl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Methylstyryl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Methoxystyryl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Butoxystyryl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Styrylstyryl)5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-Phenyl-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol, 2-(3,4-
Dimethoxyphenyl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol, 2-(4-
Styrylphenyl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol,
2-(1-Naphthyl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol und
2-(4-Methoxyphenyl)-5-trichlormethyl-1,3,4-oxadiazol.
Die Sensibilisatoren, die der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen
Zusammensetzung zugegeben werden können,
umfassen aromatische Thiazolverbindungen, wie sie in
der japanischen Patentveröffentlichung 28 328/1984 beschrieben
sind, Merocyaninfarbstoffe, wie sie in OPI
1 51 024/1979 beschrieben sind, ein aromatisches Thiopyryliumsalz
und ein aromatisches Pyryliumsalz und
Lichtabsorptionsmittel, wie 9-Phenylacrydin,
5-Nitroacenaphthen und Ketokumarin, Systeme
einer Kombination mit Wasserstoffdonatoren wie N-
Phenylglycin, 2-Mercaptobenzothiazol und Ethyl-N,N′-
dimethylaminobenzoat können darüber hinaus verwendet
werden.
Der Photopolymerisations-Initiator und/oder Sensibilisator
in der vorliegenden Erfindung wird gewöhnlich im
Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge
der photopolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten
Verbindung und des erfindungsgemäßen Polyurethanharzes
verwendet, und vorzugsweise im Bereich von 0,5
bis 10 Gew.-%.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendete Diazoniumverbindung
umfaßt die Diazoniumverbindungen, die US-
PS 38 67 147 beschrieben sind, die Diazoniumverbindungen,
die in US-PS 26 32 703 beschrieben sind. Diazonharze,
z. B. Kondensate eines aromatischen Diazoniumsalzes
und z. B. einer carbonylhaltigen Verbindung, wie
Formaldehyd sind besonders vorteilhaft. Bevorzugte
Diazoharze umfassen Hexafluorphosphorat und Tetrafluorborat
eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin und
Formaldehyd oder Acetaldehyd. Ein Sulfonat eines
Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd (z. B.
p-Toluolssulfonat, Dodecylbenzolsulfonat und 2-
Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonat), ein Phosphinat
(z. B. Benzolphosphinat), Salze von Hydroxygruppen
enthaltenden Verbindungen (z. B. 2,4-Dihydroxy
benzophenonsalz) und ein organisches Carboxylat
sind darüber hinaus ebenfalls bevorzugt.
Ein Mesitylensulfonat eines Kondensats von 3-Methoxy-
4-diazo-diphenylamin und 4,4′-Bis-methoxymethyldi-
phenylether ist ebenfalls geeignet, wie es in OPI
27 141/1983 beschrieben ist.
Der Gehalt dieser Diazoniumverbindungen in der lichtempfindlichen
Zusammensetzung beträgt 1 bis 50 Gew.-%,
vorzugsweise 3 bis 20 Gew.-%. Falls erforderlich können
zwei oder mehr Diazoniumverbindungen zusammen verwendet
werden.
Während der Herstellung oder Lagerung der lichtempfindlichen
Zusammensetzung ist es erwünscht, eine geringe
Menge eine Wärmepolymerisations-Inhibitors den obengenannten
grundsätzlichen Verbindungen der vorliegenden
Erfindung zuzugeben, um eine unnötige Wärmepolymerisation
der polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten
Verbindung zu verhindern. Beispiele der bevorzugten
Wärmepolymerisations-Inhibitoren umfassen Hydrochinon,
p-Methoxyphenol, Di-tert-butyl-p-cresol, Pyrogallol,
tert-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl-
6-tert-butylphenol), 2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-tert-
butylphenol), 2-Mercaptobenzimidazol und N-Nitro
phenylhydroxyamin-Zersalz.
Falls erforderlich, kann die Leistung der erfindungsgemäßen
lichtempfindlichen Zusammensetzung verbessert
werden, indem Farbstoffe, Pigmente, Stabilisatoren,
Füllstoffe, oberflächenaktive Substanzen, Weichmacher
usw. zugegeben werden. Beispiele der bevorzugten Farbstoffe
umfassen Farbindex (CI) 26105 (Öl Rot RR), CI
21260 (ÖL-Scharlachrot Nr. 308), CI 74350 (ÖL-Blau), CI-
52015 (Methylen-Blau), CI 42555 (Kristallviolett) und
CI 42595 (reines Victoria-Blau).
Beispiele der Stabilisatoren umfassen Phosphorsäure,
phosphorige Säure, Oxalsäure, p-Toluolsulfonsäure,
Dipicolinsäure, Maleinsäure, Tartarsäure, 2-Methoxy-4-
hydroxy-5-benzoyl-benzolsulfonsäure, Butylnaphthalin-
sulfonsäure und p-Hydroxybenzolsulfonsäure.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
wird gewöhnlich in einem Lösungsmittel gelöst und danach
auf ein geeignetes Substrat aufgebracht, getrocknet und
verwendet. Die aufgebrachte Menge dieser Zusammensetzung
beträgt etwa 0,1 bis 5 g/m2, vorzugsweise 0,3 bis
3 g/m2, nach dem Trocknen.
Beispiele des verwendeten Lösungsmittels umfassen
Methanol, Ethanol, Isopropanol, n-Butanol, t-Butanol,
2-Methoxyethanol, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Ethoxyethanol,
2-Methoxyethylacetat, Ethylenglykol, Tetrahydrofuran,
Dioxan, Dimethylsulfoxid, N,N-Dimethylformamid, Aceton,
Methylethylketon und Mischungen davon.
Beispiele des Substrats, auf das die erfindungsgemäße
lichtempfindliche Zusammensetzung aufgebracht wird, umfassen:
Papier, Papier, das mit Plastikmaterialien (z. B.
Polyethylen, Polypropylen und Polystyrol) laminiert
ist, Metallplatten, wie Aluminium, einschließlich
Aluminiumlegierungen, Zink und Kupfer, Folien von
Plastikmaterialien, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat,
Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat,
Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat,
Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat
und Polyvinylacetal, Papier oder eine Plastikfolie
mit den obengenannten Materialien laminiert oder
diese aufgedampft. Wegen der beträchtlichen Abmessungs-
bzw. Dimensionsstabilität und der geringen Kosten ist
von diesen die Aluminiumplatte besonders bevorzugt.
Zusammengesetzte Tafeln einer Polyethylenterephthalatfolie,
auf die eine Aluminiumplatte verbunden ist, sind
darüber hinaus ebenfalls bevorzugt, wie sie in der
japanischen Patentveröffentlichung 18 327/1973 beschrieben sind.
Im Falle eines Substrats, das eine metallische Oberfläche,
wie eine Aluminiumoberfläche aufweist, ist es
bevorzugt, daß vorher eine Oberflächenbehandlung durchgeführt
wird, wie eine Körnung, das Tauchen in eine
wäßrige Lösung von Natriumsilikat, Kaliumfluorzirkonat
oder eine anodische Oxidation. Eine Aluminiumplatte, die
in eine wäßrige Natriumsilikatlösung getaucht wurde, wie
es in US-PS 27 14 066 beschrieben ist, eine Aluminiumplatte,
die der anodischen Oxidation unterzogen wurde,
und danach in wäßriges Alkalisiliat getaucht wurde, wie
es in der japanischen Patentveröffentlichtung 5 125/1972
beschrieben ist, und ein Aluminiumsubstrat, das mit
einer Kombination eines mechanischen Aufrauhens und
eines elektrolytischen Aufrauhens behandelt wurde,
werden darüber hinaus ebenfalls vorteilhaft verwendet.
Die obengenannte anodische Oxidation wird durchgeführt,
indem in einer Elektrolytlösung, ausgewählt aus 1 oder
mehreren wäßrigen oder nicht-wäßrigen Lösungen ein
Stromfluß ermöglicht wird, z. B. eine anorganische Säure
wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure
oder eine organische Säure, wie Oxalsäure und
Sulfaminsäure und Salze davon, wobei die Aluminiumplatte
die Anode darstellt.
Ein Substrat, das nach der Körnung und der anodischen
Oxidation einer Abdichtbehandlung unterzogen wurde, ist
darüber hinaus ebenfalls bevorzugt. Die Abdichtbehandlung
wird durchgeführt, indem das Substrat in eine
wäßrige Natriumsilikatlösung und eine heiße wäßrige
Lösung, die heißes Wasser und ein organisches oder ein
anorganisches Salz einschließt, getaucht wird, und in
Wasserdampf gebadet wird.
Eine Galvanisierung von Silikat, wie sie in US-PS
36 58 662 beschrieben ist, ist ebenfalls wirksam.
Darüber hinaus ist es ebenfalls vorteilhaft, das
elektrogekörnte Substrat durch die obengenannte
anodische Oxidation und die Natriumsilikatbehandlung zu
behandeln, wie es in der japanischen Patentveröffentlichung
27 481/1971 und OPI Nr. 58 602/1977 und 30 503/1977
beschrieben ist.
Darüber hinaus ist ein Substrat, das der Bürstenkörnung,
der Elektrokörnung, der anodischen Oxidation und darüber
hinaus einer Behandlung mit Natriumsilikat unterzogen
wurde, ebenfalls vorteilhaft. Nach diesen Behandlungen
ist es ebenfalls bevorzugt, einen Unteranstrich mit
wasserlöslichen Harzen vorzunehmen, wie Polyvinylphosphonsäure,
Polymere und Copolymere mit einer Sulfonsäuregruppe
in der Seitenkette und Polyacrylsäure. Diese
wasseranziehenden Behandlungen werden nicht nur durchgeführt,
um die Oberfläche des Substrats hydrophil zu
machen, sondern ebenfalls, um unerwünschte Reaktionen
der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die darauf vorgesehen
ist, zu verhindern und darüber hinaus, um das
Haftvermögen der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen.
Auf der Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung,
die auf dem Substrat vorgesehen ist, kann ebenfalls eine
Schutzschicht vorgesehen sein, die aus einem Polymer mit
hervorragender Sauerstoffsperrwirkung besteht, wie Polyvinylalkohol
und saure Cellulose, um die polymerisationshemmende
Wirkung von Sauerstoff in der Luft zu verhindern.
Überzugsverfahren einer solchen Schutzschicht
sind detailliert z. B. in US-PS 34 58 311 und der japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 49 729/1980 beschrieben.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung,
die auf dem Substrat aufgebracht wurde, wird durch ein
transparentes Filmoriginal mit einem Linienbild oder
punktierten Bild belichtet und mit einer wäßrigen Entwicklungslösung
entwickelt, um ein negatives Reliefbild
des Originalbildes zu erhalten.
Beispiele der für die Belichtung zu verwendenden Lichtquelle
umfassen eine Kohlenstoffbogenlampe, eine Quecksilberlampe,
eine Xenonlampe, eine Wolframlampe und eine
Metallhalogenidlampe. Beispiele der bevorzugten Entwicklungslösungen
umfassen eine wäßrige Alkalilösung,
die eine geringe Menge eines organischen Lösungsmittels
wie Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol und 2-Butoxyethanol
enthält, wie es z. B. in US-PS 34 75 171 und 36 15 480
beschrieben ist.
Für die obengenannte lichtempfindliche Zusammensetzung
sind die Entwicklungslösungen ebenfalls hervorragend, die
in OPI 26 601/1975 und den japanischen Patentveröffentlichungen
Nr. 39 464/1971 und 42 860/1981 beschrieben
sind.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
zeigt eine hervorragende Löslichkeit in der organischen
Überzugslösung, wenn sie auf das Substrat aufgebracht
wird und hat eine hervorragende Entwicklungseigenschaft,
wenn unbelichtete Bereiche nach dem Aufziehen, Trocknen
und Belichten durch ein Bild mit einer alkalischen Entwicklungslösung
entwickelt werden. Das resultierende
Reliefbild zeigt hervorragende Abriebbeständigkeit,
Druckfarben-Aufnahmevermögen und Haftvermögen an dem
Substrat und ergibt viele Stücke hervorragender Drucksätze,
wenn es als Druckplatte verwendet wird.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung, in der das Polyurethanharz
darüber hinaus eine Hydroxy- und/oder
Nitril-Gruppe und eine Diazoniumverbindung aufweist,
werden in Kombination verwendet, was darüber hinaus eine
wirksame Photovernetzung bewirkt.
In einem 500 ml 3-Hals-Kolben mit rundem Boden, ausgestattet
mit einem Kühler und einem Rührer, wurden 125 g
(0,50 Mol) 4,4′-Diphenylmethandiisocyanat und 67 g
(0,50 Mol) 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionsäure gegeben
und in 290 g Dioxan gelöst. 1 g N,N-Diethylanilin wurde
als Katalysator zugegeben, und es wurde unter Rühren und
Rückfluß 6 h erwärmt. Danach wurde die Reaktionslösung
unter Rühren in eine Lösung von 4 l Wasser und 40 g
Essigsäure gegossen, um ein weißes Polymer auszufällen.
Dieses Polymer wurde filtriert mit Wasser gewaschen und
im Vakuum getrocknet. 185 g des Polymers wurden
erhalten.
Das Gewichtsmittel (Polystyrol-Standard) des Molekulargewichts
des Polymers betrug 28 000, bestimmt durch Geldurchdringungschromatographie
(GPC). Der Gehalt der
Carboxylgruppe betrug 2,47 Milliäquivalent/g, bestimmt
durch Titration.
Danach wurden 40 g dieses Polymers in einen 300 ml-
Dreihalskolben mit rundem Boden gegeben, der mit einem
Kühler und einem Rührer ausgestattet war, und in 200 ml
DMF (Dimethylformamid) gelöst, zu dem eine Lösung von
6,3 g (0,062 Mol) Triethylamin zugegeben wurde, und nach
dem Erwärmen auf 80°C wurden unter Rühren während
10 min 7,5 g (0,062 Mol) Allylbromid zugegeben. Das
Rühren wurde weitere 2 h lang fortgesetzt.
Nach dem Abschluß der Reaktion wurde die Reaktionslösung
unter Rühren in eine Lösung von 4 l Wasser und
200 g Essigsäure gegossen, um ein weißes Polymer auszufällen.
Dieses Polymer wurde filtriert, mit Wasser gewaschen
und im Vakuum getrocknet. 41 g des Polymers
wurden erhalten. Eine NMR-Messung (kernmagnetische
Resonanzmessung) bestätigte, daß die Allylgruppe in die
Carboxylgruppe eingeführt wurde. Der Gehalt der verbleibenden
Carboxylgruppe betrug 1,19 Milliäquivalent/g
bestimmt durch Titration (erfindungsgemäßes Polyurethan
(a)).
Polyurethanharze mit einer Carboxylgruppe wurden zuerst
wie in Synthesebeispiel 1 unter Verwendung der in
Tabelle 1 gezeigten Diisocyanat- und Diolverbindungen
synthetisiert. Danach wurden die erfindungsgemäßen Polyurethanharze
synthetisiert, indem ein Teil der Carboxylgruppen
der obengenannten Polyurethanharze mit den in
Tabelle 1 gezeigten Verbindungen reagierten. Die NMR-
Messung bestätigte, daß die obengenannten Verbindungen
in die Carboxylgruppe eingeführt wurden. Das Molekulargewicht
wurde durch GPC bestimmt. Der Gehalt der verbleibenden
Carboxylgruppe wurde durch Titration bestimmt
und ist in Tabelle 1 gezeigt.
Das Molekulargewicht betrug 15 000 bis 55 000 im Gewichtsmittel
(Polystyrol-Standard).
Eine Aluminiumplatte von 0,24 mm Dicke wurde unter
Verwendung einer Nylonbürste und einer wäßrigen Dispersion
von 400 mesh (0,037 mm) Bimsstein gekörnt und
danach ausreichend mit Wasser gewaschen. Sie wurde
geätzt, indem sie in eine 10%ige wäßrige Natriumhydroxydlösung
bei 70°C 60 s lang getaucht wurde, mit
fließendem Wasser gewaschen wurde, zur Neutralisation
mit 20%iger Salpetersäure gewaschen wurde und einem
elektrochemischen Aufrauhungsverfahren unterzogen wurde,
wie es in OPI 67 507/1978 beschrieben ist, wobei sinusförmiger
Wechselstrom einer Anodenspannung von 12,7 V
und einer Kathodenspannung von 9,1 V verwendet wurde,
die Elektrolytlösung eine 1%ige Salpetersäurelösung
war und die Anodenelektrizitätsmenge 160 C/dm2
betrug. Danach wurde diese in eine 30%ige wäßrige Schwefelsäurelösung
getaucht, bei 55°C 2 min lang gesäubert und
danach in einer 7%igen wäßrigen Schwefelsäurelösung
der anodischen Oxidation unterzogen, um eine Menge des
Aluminiumoxidüberzugs von 2,0 g/m2 zu erzielen. Diese
wurde danach in eine 3%ige wäßrige Natriumsilikatlösung
bei 70°C 1 min lang getaucht, mit Wasser gewaschen und
getrocknet. Die folgenden lichtempfindlichen Lösungen (I)
bis (VI) wurden unter Verwendung eines Schleuderapparates
auf die oben erhaltene Aluminiumplatte aufgebracht
und bei 80°C 2 min lang getrocknet, um nach dem Trocknen
eine lichtempfindliche Schicht von 2,0 g/m2 zu erhalten.
Die in den lichtempfindlichen Lösungen (I) bis (VI) verwendeten
erfindungsgemäßen Polyurethanharze sind in
Tabelle 2 gezeigt.
Erfindungsgemäßes Polyurethanharz 5,0 g
Trimethylolpropantriacrylat 2,0 g
2-(4-Styrylphenyl)-4,6-bis-
(trichlor-
methyl)-S-triazin 0,2 g Dodecylbenzolsulfonat eines Kondensats
von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd 0,4 g öllöslicher Farbstoff
(reines Victoria-Blau BOH) 0,1 g Maleinsäure 0,05 g 2-Methoxyethanol100 g
methyl)-S-triazin 0,2 g Dodecylbenzolsulfonat eines Kondensats
von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd 0,4 g öllöslicher Farbstoff
(reines Victoria-Blau BOH) 0,1 g Maleinsäure 0,05 g 2-Methoxyethanol100 g
Zum Vergleich wurde danach anstelle des erfindungsgemäßen
Polyurethanharzes, das in den obengenannten lichtempfindlichen
Lösungen verwendet wurde, das folgende
Polyurethanharz in der lichtempfindlichen Lösung (VII)
verwendet. Die lichtempfindliche Lösung (VII) wurde in
der gleichen Weise aufgebracht und getrocknet. Das
Trockengewicht der aufgebrachten Zusammensetzung betrug
2,0 g/m2.
Dies war ein Polyurethanharz ohne ungesättigte Kohlenstoff-
Kohlenstoff-Bindung, das durch Reaktion eines
Teils der Carboxylgruppen des Polyurethanharzes, das aus
den in Tabelle 1 (k) gezeigten Diisocyanat- und Diolverbindungen
hergestellt wurde, allein mit Ethylenbromhy<drin
hydrin erhalten wurde. Sein Gewichtsmittel des Molekulargewichts
(Polystyrol-Standard) betrug 45 000, und
der Gehalt der verbleibenden Carboxylgruppe betrug
1,20 Milliäquivalent/g.
Unter Verwendung der lichtempfindlichen Lösungen (I) bis
(VII) wurden vorsensibilisierte Platten (I) bis (VII)
erhalten, und jede davon wurde 1 min lang unter Verwendung
von PS-Licht von Fuji Photo Film Co., Ltd. in
einem Abstand von 1 m bildweise belichtet. Danach wurde
jede bei Raumtemperatur 1 min lang in die folgende Entwicklungslösung
getaucht und leicht mit Verbandwatte gerieben,
um die lichtempfindliche Schicht in unbelichteten
Bereichen zu entfernen. Folglich wurden Lithographieplatten
(I) bis (VII) mit hellblauem Bild erhalten.
Natriumsulfit 5 g Benzylalkohol 30 g Natriumcarbonat 5 g Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 12 g Wasser1000 g
Natriumsulfit 5 g Benzylalkohol 30 g Natriumcarbonat 5 g Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 12 g Wasser1000 g
Jede Druckplatte wurde zum Drucken auf holzfreiem Papier
unter Verwendung der Druckmaschine Heidelberg KOR und
einer handelsüblich verfügbaren Druckfarbe zum Drucken
verwendet. Die Höchstzahl der gedruckten Papierstücke
wurde für jede der Lithographiedruckplatten (I) bis
(VII) geprüft. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
Wie aus Tabelle 2 ersichtlich ist, erzielten die
Lithographiedruckplatten (I) bis (VII) mit den erfindungsgemäßen
Polyurethanharzen größere Höchstzahlen
der bedruckten Papierstücke und sind folglich verglichen
mit der Vergleichsdruckplatte (VII) im Hinblick auf
die Druckhaltbarkeit hervorragend.
Claims (17)
1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet,
daß sie ein Polyurethanharz mit einer ungesättigten
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung und einer
Carboxylgruppe umfaßt.
2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das Polyurethanharz
darüber hinaus eine Hydroxyl- und/oder Nitrilgruppe
aufweist, und die Zusammensetzung weiterhin eine
Diazoniumverbindung umfaßt.
3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Polyurethanharz
ein Grundgerüst eines Reaktionsproduktes einer
Diisocyanatverbindung, die durch die folgende allgemeine
Formel (I) dargestellt wird, mit einer Diolverbindung
mit einer Carboxylgruppe aufweist, die
durch die allgemeine Formel (II) oder (III) dargestellt
wird:
OCN-R1-NCO,6(I)
worin R1 eine zweiwertige aliphatische oder
aromatische Kohlenwasserstoffgruppe darstellt, die
Substituenten aufweisen kann, R2 ein Wasserstoffatom,
eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine
Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe
oder eine Aryloxygruppe darstellt, die alle Substituenten
aufweisen können, R3, R4 und R5 gleich oder
verschieden sein können und eine Einfachbindung oder
eine zweiwertige aliphatische oder aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe darstellen, die Substituenten
aufweisen kann oder zwei oder drei der R2, R3,
R4 und R5 einen Ring bilden können und Ar eine dreiwertige
aromatische Kohlenwasserstoffgruppe darstellt,
die Substituenten aufweisen kann.
4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Diisocyanatverbindung aus der Gruppe ausgewählt ist,
die aus 2,4-Tolylendiisocyanat, einem Dimer von 2,4-
Tolylendiisocyanat, 2,6-Tolylendiisocyanat, p-Xylylendiisocyanat,
m-Xylylendiisocyanat, 4,4′-Diphenyl-
methandiisocyanat, 1,5-Naphthylendiisocyanat, 3,3′-
Dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanat, Hexamethylen-
diisocyanat, Trimethylhexamethylendiisocyanat,
Lysindiisocyanat, einem dimeren Säurediisocyanat,
Isophorondiisocyanat, 4,4′-Methylenbis(cyclohexylisocyanat),
Methylcyclohexan-2,4(oder 2,6)diisocyanat
und 1,3-(Isocyanatomethyl)cyclohexan und einem
Addukt von 1 Mol 1,3-Butylenglykol und 2 Mol Toluoldiisocyanat
besteht.
5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Diolverbindung aus der Gruppe ausgewählt ist,
die aus 3,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,2-Bis(hydroxy-
methyl)propionsäure, 2,2-Bis(2-hydroxyethyl)-propionsäure,
2,2-Bis(3-hydroxypropyl)propionsäure, Bis-
(hydroxymethyl)essigsäure, Bis(4-hydroxyphenyl)-
essigsäure, 4,4-Bis(4-hydroxyphenyl)pentansäure und
Tartarsäure besteht.
6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der vorstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung eingeführt
wird, indem ein Teil der Carboxylgruppen der
Verbindung der allgemeinen Formel (II) oder (III) mit
einer Halogenverbindung oder einer Epoxyverbindung
mit einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoff-
Bindung in Gegenwart einer Base reagiert.
7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Halogenverbindung oder die Epoxyverbindung aus
der Gruppe ausgewählt sind, die aus Allylbromid,
2-Butenylbromid, 1-Phenyl-1-propenyl-3-bromid, 2-
Bromethylcinnamat, Brommethylstyrol, Propargyl-
bromid, Brom-2-butin, den korrespondierenden ein
Chloratom enthaltenden Verbindungen dieser ein Bromatom
enthaltenden Verbindungen, Allylglycidylether,
2-Butenylglycidylether, 1-Phenylpropenylglycidylether,
Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, Glycidylcinnamat
und Propargylglycidylether besteht.
8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die ungesättigte Kohlenstoff-
Kohlenstoff-Bindung in das Polyurethanharz
eingebracht wird, indem eine Diolverbindung mit
einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung
zusammen mit der Diolverbindung der allgemeinen
Formel (II) oder (III) verwendet wird.
9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Diolverbindungen mit
einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung
aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus 2-Buten
diol, 4,4′-Dihydroxystylben, Dihydroxyethylfumarat,
Dihydroxyethylmaleat, Dihydroxyethyl-p-phenylen
diacrylat, 4,4′-Dihydroxychalkon, 1,4-Dihydroxy-2-
butyn und 1,6-Dihydroxy-2,4-hexadiyn besteht.
10. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Hydroxyl- und/oder
Nitrilgruppe eingeführt werden, indem ein Teil der
Carboxylgruppe in der Verbindung der allgemeinen
Formel (II) oder (III) in Gegenwart einer Base mit
einer Halogenverbindung mit einer Hydroxy- und/oder
einer Nitrilgruppe reagiert:
worin R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine
Alkenylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe,
eine Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe darstellt,
die alle Substituenten aufweisen können, R3, R4 und
R5 gleich oder verschieden sein können und eine Einfachbindung
oder eine zweiwertige aliphatische oder
aromatische Kohlenwasserstoffgruppe darstellen, die
Substituenten aufweisen können, oder zwei oder drei
von R2, R3, R4 und R5 einen Ring bilden können, und
Ar eine dreiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe
darstellt, die Substituenten aufweisen kann.
11. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halogenverbindung
aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ethylenbrom-
hydrin, 3-Brompropanol, 4-Brombutanol, 1-Brom-2-
propanol, 4-Hydroxy-α-3,5-tribromtoluol, Cyanoethylbromid,
3-Cyanopropylbromid, 4-Cyanobutylbromid,
4-Cyanobenzylbromid und ein Chloratom enthaltenden
Verbindungen besteht, die den ein Bromatom
enthaltenden Verbindungen entsprechen.
12. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Molverhältnis der Diisocyanatverbindung zur
Diolverbindung 0,8 : 1 bis 1,2 : 1 beträgt.
13. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Gewichtsmittel des Molekulargewichts des Polyurethanharzes
1000 bis 100 000 beträgt.
14. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Polyurethanharz in einer Menge von 30 bis 95 Gew.-%,
bezogen auf das Gewicht der Zusammensetzung,
enthalten ist.
15. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Diazoniumverbindung aus der Gruppe ausgewählt
ist, die aus Hexafluorphosphoratsalz, Tetrafluorboratsalz,
Sulafonatsalzen, Phosphinatsalzen und Carboxylatsalzen
eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin
und Formaldehyd, Mesitylensulfonaten eines Kondensats
von 3-Methoxy-4-diazo-diphenylamin und 4,4′-
Bis-methoxymethyldiphenylether besteht.
16. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Diazoniumverbindung in einer Menge von 1 bis
50 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Zusammensetzung,
enthalten ist.
17. Vorsensibilisierte Platte, dadurch gekennzeichnet,
daß sie einen Träger umfaßt, auf dem eine lichtempfindliche
Schicht vorgesehen ist, die eine lichtempfindliche
Zusammensetzung nach einem der vorstehenden
Ansprüche enthält.
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---|---|---|---|
JP11434286 | 1986-05-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3716607A1 true DE3716607A1 (de) | 1987-11-26 |
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Family
ID=14635367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3716607A Expired - Lifetime DE3716607C2 (de) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Lichtempfindliches Gemisch und vorsensibilisierte Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht, enthaltend das lichtempfindliche Gemisch |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4877711A (de) |
JP (1) | JPS63113450A (de) |
DE (1) | DE3716607C2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0353873A1 (de) * | 1988-07-11 | 1990-02-07 | Konica Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1308595C (en) * | 1985-11-22 | 1992-10-13 | Toshiaki Aoai | Photosensitive composition |
JPH0727208B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH0769605B2 (ja) * | 1988-02-25 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH087438B2 (ja) * | 1988-03-11 | 1996-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH087439B2 (ja) * | 1988-05-20 | 1996-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JP2860652B2 (ja) * | 1988-05-26 | 1999-02-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
JP2594461B2 (ja) * | 1988-07-13 | 1997-03-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の保存方法 |
US5273862A (en) * | 1988-07-29 | 1993-12-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C. |
JP2577637B2 (ja) * | 1988-08-08 | 1997-02-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3841025A1 (de) * | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JP2584671B2 (ja) * | 1989-04-26 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JP2584672B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3924811A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JP2930369B2 (ja) * | 1990-05-21 | 1999-08-03 | 富士写真フイルム 株式会社 | 感光性組成物 |
US5290663A (en) * | 1991-03-01 | 1994-03-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates |
JPH05165206A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
DE19518118C2 (de) * | 1995-05-17 | 1998-06-18 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
DE19524851C2 (de) * | 1995-07-07 | 1998-05-07 | Sun Chemical Corp | Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten |
DE19525050C2 (de) * | 1995-07-10 | 1999-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
DE19644515A1 (de) * | 1996-10-25 | 1998-06-25 | Sun Chemical Corp | Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
JP3810510B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版 |
TW513614B (en) * | 1997-12-18 | 2002-12-11 | Nippon Synthetic Chem Ind | Photosensitive resin composition |
US5952154A (en) * | 1998-05-29 | 1999-09-14 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved flexibility |
DE19847616C2 (de) * | 1998-10-15 | 2001-05-10 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen |
JP2000137325A (ja) | 1998-11-04 | 2000-05-16 | Kansai Paint Co Ltd | 有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP3974718B2 (ja) * | 1998-11-09 | 2007-09-12 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP3948505B2 (ja) * | 1999-10-27 | 2007-07-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
US6555283B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and waterless printing plate |
US6270938B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-08-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions |
US6451505B1 (en) | 2000-08-04 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and method of preparation thereof |
US6777155B2 (en) * | 2000-10-03 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
JP2003270775A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法 |
WO2004079452A1 (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-16 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
ATE421545T1 (de) * | 2003-08-07 | 2009-02-15 | Huntsman Adv Mat Switzerland | Photovernetzbare polyurethane |
WO2005029186A1 (en) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | IBF Indústria Brasileira de Filmes Ltda. | Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements |
JP4457034B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2010-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US7507525B2 (en) | 2005-05-10 | 2009-03-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
US7935776B2 (en) * | 2007-03-21 | 2011-05-03 | Agi Corporation | Radiation curable and developable polyurethane and radiation curable and developable photo resist composition containing the same |
US20110105633A1 (en) * | 2009-10-26 | 2011-05-05 | Promethean Surgical Devices Llc | Functionalized stilbene-polyalkylene oxide prepolymers |
TWI608297B (zh) * | 2016-10-28 | 2017-12-11 | 長春人造樹脂廠股份有限公司 | 感光性樹脂組成物及含其之乾膜光阻 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2948554A1 (de) * | 1979-12-03 | 1981-06-04 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch |
DE3107585A1 (de) * | 1980-02-28 | 1982-01-07 | Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka | Photoempfindliche urethanharzmassen und deren verwendung |
DE3639757A1 (de) * | 1985-11-22 | 1987-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photoempfindliche zusammensetzung |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2770612A (en) * | 1952-01-23 | 1956-11-13 | Goodrich Co B F | Elastomeric dhsocyanate-modified polyesters |
US2871218A (en) * | 1955-12-01 | 1959-01-27 | Goodrich Co B F | Simulated vulcanizates of polyurethane elastomers |
NL134142C (de) * | 1965-11-02 | |||
US3551154A (en) * | 1966-12-28 | 1970-12-29 | Ferrania Spa | Light sensitive article comprising a quinone diazide and polymeric binder |
US3660097A (en) * | 1969-11-28 | 1972-05-02 | Polychrome Corp | Diazo-polyurethane light-sensitive compositions |
NL7109179A (de) * | 1970-07-13 | 1972-01-17 | ||
BE789196A (fr) * | 1971-09-25 | 1973-03-22 | Kalle Ag | Matiere a copier photosensible |
US4289838A (en) * | 1972-12-14 | 1981-09-15 | Polychrome Corporation | Diazo-unsaturated monomer light sensitive compositions |
US4123276A (en) * | 1974-02-28 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
DE2557408C2 (de) * | 1975-12-19 | 1983-08-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung eines in organischen Lösungsmitteln löslichen, vernetzbaren Acryloyl- und/oder Methacryloylgruppen und Carboxylgruppen enthaltenden Urethanharzes und seine Verwendung |
JPS533216A (en) * | 1976-06-28 | 1978-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Diazo photosensitive composition |
LU75749A1 (de) * | 1976-09-08 | 1978-04-27 | ||
US4171974A (en) * | 1978-02-15 | 1979-10-23 | Polychrome Corporation | Aqueous alkali developable negative working lithographic printing plates |
NL8001085A (nl) * | 1979-02-27 | 1980-08-29 | Minnesota Mining & Mfg | Fotogevoelige materialen en voorwerpen. |
DE3036077A1 (de) * | 1980-09-25 | 1982-05-06 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichthaertbares gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS5953836A (ja) * | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS6120939A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
JPH07120038B2 (ja) * | 1985-11-22 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPS62123453A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1987
- 1987-05-12 US US07/048,949 patent/US4877711A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-18 DE DE3716607A patent/DE3716607C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-19 JP JP62121666A patent/JPS63113450A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2948554A1 (de) * | 1979-12-03 | 1981-06-04 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch |
DE3107585A1 (de) * | 1980-02-28 | 1982-01-07 | Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka | Photoempfindliche urethanharzmassen und deren verwendung |
DE3639757A1 (de) * | 1985-11-22 | 1987-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photoempfindliche zusammensetzung |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0353873A1 (de) * | 1988-07-11 | 1990-02-07 | Konica Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
US5009981A (en) * | 1988-07-11 | 1991-04-23 | Konica Corporation | Photosensitive composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63113450A (ja) | 1988-05-18 |
US4877711A (en) | 1989-10-31 |
DE3716607C2 (de) | 1995-06-22 |
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DE3738669C2 (de) | ||
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