DE3543286C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3543286C2 DE3543286C2 DE3543286A DE3543286A DE3543286C2 DE 3543286 C2 DE3543286 C2 DE 3543286C2 DE 3543286 A DE3543286 A DE 3543286A DE 3543286 A DE3543286 A DE 3543286A DE 3543286 C2 DE3543286 C2 DE 3543286C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- objects
- solution
- plates
- along
- bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 26
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 23
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 3
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims 4
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SDVHRXOTTYYKRY-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;dioxido-oxo-phosphonato-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)P([O-])([O-])=O SDVHRXOTTYYKRY-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 2
- MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N boron sodium Chemical compound [B].[Na] MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N copper monosulfide Chemical compound [Cu]=S BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 claims 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- SSCSSDNTQJGTJT-UHFFFAOYSA-N (3,6-dihydroxy-1-methyl-2,3-dihydroindol-5-yl)iminourea Chemical compound CN1CC(O)C2=CC(N=NC(N)=O)=C(O)C=C12 SSCSSDNTQJGTJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)oxane-4-carboxylic acid Chemical compound C=1C=C(F)C=CC=1C1(C(=O)O)CCOCC1 CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001792 White test Methods 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002262 irrigation Effects 0.000 description 1
- 238000003973 irrigation Methods 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N molecular hydrogen;sodium Chemical compound [Na].[H][H] XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001540 sodium lactate Substances 0.000 description 1
- 229940005581 sodium lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000011088 sodium lactate Nutrition 0.000 description 1
- GTGXZTMFBLKHFF-UHFFFAOYSA-M sodium;dihydrogen phosphate;hypochlorous acid Chemical compound [Na+].ClO.OP(O)([O-])=O GTGXZTMFBLKHFF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/51—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/88—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
- C23C18/1628—Specific elements or parts of the apparatus
- C23C18/163—Supporting devices for articles to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
- C23C18/1632—Features specific for the apparatus, e.g. layout of cells and of its equipment, multiple cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1653—Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
Description
Bei der Herstellung gedruckter Schaltungen für die Elektro
nikindustrie wurde es üblich, mehrschichtige Platten, zwei
seitige Platten oder dergleichen mit Durchgangslöchern darin
zur Befestigung verschiedener elektronischer Komponenten
vorzusehen. Eine solche Befestigung erfolgt allgemein mit
Mitteln, die eine gute elektrische Leitfähigkeit gewährlei
sten. Im Verlauf hiervon wurde es erwünscht, elektrische
Leitfähigkeit von einer Oberfläche durch die Durchgangslö
cher der Platte hindurch zu einer gegenüberliegenden Ober
fläche der Platte zu bekommen. Hierzu ist es erforderlich, die
Durchgangslöcher mit einem Metallüberzug, vorzugsweise Kup
fer, zu beschichten. infolge der konstruktiven Natur der
meisten Platten für gedruckte Schaltungen, d. h.. da sie ein
Laminat sind, das eine Sandwichstruktur üblicherweise mit einem
mittleren Kern aus kunstharzimprägnierten Glasfasersträngen
mit äußeren Oberflächen
schichten einer Kupferverkleidung aufweist,
wobei eine oder mehrere solcher Schichten vorhanden sein können,
war es erforder
lich, Wege zu finden, die Kupferverkleidungsschichten auf
den Oberflächen der Platten für gedruckte Schaltungen mit
einander zu verbinden. Dies erfolgt vorzugsweise durch
metallisches Beschichten der Durchgangslöcher. Es ist bekannt, die Durch
gangslöcher so chemisch zu präparieren, daß sie darauf auf
zubringendes Kupfer leichter annehmen.
Da industrielle Verfahren den Bedarf für schnellere Produkt
tion gedruckter Schaltungen wecken, wurden Verfahren für
die kontinuierliche oder im wesentlichen kontinuierliche
Produktion gedruckter Schaltungen entwickelt. Beispielsweise
in der US-Patentschrift 40 15 706 ist ein Verfahren zur Be
handlung der Platten für gedruckte Schaltungen, während die
se horizontal von einer Station zur anderen befördert wer
den, in horizontaler Ausrichtung beschrieben, und eine sol
che Anordnung ist für die meisten Reinigungs-, Spül-, Ätz-,
Trockenverfahren und andere Verfahren zufriedenstellend.
Das Verkupfern von Platten für gedruckte Schaltungen und
insbesondere das stromlose Metallisieren in dieser Weise,
bei der die Platten horizontal durch
verschiedene Stationen wandern, erforderte wegen der wesentlich
längeren Behandlungsdauer dieses Schrittes eine wesentlich
längere Behandlungsstrecke als die anderen oben
erwähnten Behandlungen, was eine sehr große Apparatur erfor
derte, die ihrerseits großen gewerblich genutzten Raum ein
nahm, wenn das stromlose Metallisieren als Teil eines konti
nuierlichen oder im wesentlichen kontinuierlichen Verfahrens
durchgeführt werden sollte.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, ein Verfahren und eine
Vorrichtung für die Durchführung des Verfahrens vorzuschlagen,
das den beschriebenen Nachteil beseitigt und die Durchführung
des Behandlungsschrittes der stromlosen Metallisierung von ge
druckten Schaltungen innerhalb einer horizontalen Behandlungs
linie mit wenig Raumbedarf ermöglicht.
Erfindungsgemäß wird diese durch eine Verfahren zur Metallisie
rung von Oberflächen flacher Gegenstände entsprechend dem kenn
zeichnenden Teil des Anspruchs 1 gelöst, wobei weitere Ausge
staltungen der Erfindung in den Unteransprüchen 2 bis 11 be
schrieben sind.
die Ansprüche 12 bis 20 beschreiben eine Vorrichtung zur Durch
führung des Verfahrens mit Ausgestaltungsdetails.
Die vorliegende Erfindung ist auf ein stromloses Metallisie
ren gerichtet, das die Gesamtlänge der Produktionslinie für
Platten für gedruckte Schaltungen wesentlich reduziert, wel
ches aber die kontinuierliche oder im wesentlichen kontinu
ierliche Durchführung des Verfahrens als Teil einer einzel
nen Produktion ermöglicht. Gemäß der vorliegenden Erfindung,
die breiter als für die Herstellung von Platten für gedruckte
Schaltungen ist und die Metallisierung von Kunststoffen,
Keramik und anderen Oberflächen für elektrische Leitfähig
keit, elektrische Abschirmung und viele andere Funktionen
einschließt, werden die verschiedenen Verfahrensstufen
durchgeführt, während die Platten (oder andere Gegenstände,
die allgemein im wesentlichen ebene Bahnen oder Bögen aus
einem Material begrenzter Flexibilität umfassen sollen) in
horizontaler Ausrichtung befördert werden, doch werden die
Platten dann während des wesentlich mehr Zeit verbrauchenden
Metallisierens in vertikale Ausrichtung bewegt, wobei sie
wiederum im wesentlichen kontinuierlich befördert werden,
jedoch mit einer verminderten Fördergeschwindigkeit, und
danach werden die Platten wieder in eine horizon
tale Ausrichtung umorientiert, wobei sie wiederum kontinu
ierlich oder im wesentlichen kontinuierlich durch anschlie
ßende Spül-, Antibeschlag-, Trocknungs- oder andere Verfah
ren befördert werden. So bleibt das Gesamtverfahren im we
sentlichen kontinuierlich, doch indem man die Platten wäh
rend des Metallisierens vertikal ausgerichtet
hält, wobei sie physikalisch viel enger beieinander sind
als während der anderen Verfahren, können sie mit einer ver
minderten Geschwindigkeit wandern, während die Gesamtverfah
rensgeschwindigkeit des Gesamtsystems vom Anfang bis zum
Ende im wesentlichen die gleiche bleibt.
Die Platten können anschließend eine weitere darauf aufge
brachte Metallisierung bekommen, vorzugsweise in einer Gal
vanisierung mit geeigneter Präparierung und Nachbehandlung,
die auch in Verbindung damit stattfinden kann.
Außer Platten für gedruckte Schaltungen können die behandel
ten Gegenstände auch andere Formen haben, wie beim Metalli
sieren von Keramikgegenständen, beim Metallisieren oder Ab
schirmen von Kunststoff- oder ähnlichen Teilen elektroni
scher Einrichtungen, elektrischer Rechnereinrichtungen oder
bei anderen Anwendungen zum Abschirmen von Kunststoffen oder
dergleichen sowie beim Metallisieren anderer Gegenstände
unterschiedlicher Arten. Auch braucht der dünne Metallüber
zug, der stromlos aufgebracht wird, nicht auf Kupfer be
schränkt zu sein, sondern kann Nickel, Kobalt, Gold, Silber
oder irgendeine Legierung sein, und ein nachfolgendes Metal
lisieren kann darin bestehen, daß ein dickerer Überzug die
ser und/oder anderer Metalle, vorzugsweise elektrolytisch,
aufgebracht wird.
Die Erfindung gestattet einen geringeren Anfall von Aus
schuß, da Gegenstände gleichmäßiger gehandhabt werden, ein
geringeres Auftreten von Oxidation, da sie im wesentlichen
kontinuierlich ohne Unterbrechung von Behandlung zu Behand
lung gehen und die Zeit, die eine Oxidation gestatten würde,
verkürzt wird, sowie verminderte Arbeitskosten infolge der
im wesentlichen kontinuierlichen Natur des Verfahrens.
Demnach ist es das Hauptziel der Erfindung, ein neues Ver
fahren zur stromlosen Metallisierung von Gegenständen zu
bekommen.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, eine neue Vorrich
tung zur stromlosen Metallisierung von Gegenständen zu er
halten.
Noch ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein neues Ver
fahren zur stromlosen Verkupferung oder anderen Metallisie
rung von Platten für gedruckte Schaltungen oder anderen Ge
genständen zu bekommen, und zwar entweder getrennt von oder
kombiniert mit einer anschließenden Metallisierung entweder
vom stromlosen Typ oder vom Galvanisierungstyp.
Noch ein anderes Ziel ist es, eine neue Vorrichtung zur
stromlosen Verkupferung oder anderen Metallisierung von
Platten für gedruckte Schaltungen oder anderen Gegenständen
entweder getrennt von oder kombiniert mit einer nachfolgen
den Metallisierung entweder vom stromlosen Typ oder vom Gal
vanisiertyp zu bekommen.
Andere Ziele der Erfindung sind etwa die Aufbringung eines
metallischen leitfähigen Überzuges auf im wesentlichen
nichtmetallischen Oberflächen und dergleichen.
Andere Ziele und Vorteile der Erfindung werden für den Fach
mann beim Lesen der folgenden kurzen Beschreibung der Zeich
nungsfiguren, der detaillierten Beschreibung der bevorzugten
Ausführungsform sowie der beigefügten Ansprüche leicht ver
ständlich.
In der Zeichnung bedeuten
Fig. 1 eine schematische seitliche Ansicht verschiedener
Stationen in dem Verarbeitungssystem, wobei eine An
zahl jener Stationen weggebrochen gezeigt ist, um
mehrere unterschiedliche Verfahrensstationen zu simu
lieren, gemäß der Erfindung, wobei der Strom der zu
behandelnden Gegenstände (Platten für gedruckte
Schaltungen) durch das Verfahren von links nach
rechts geht,
Fig. 2 einen vergrößerten Teilquerschnitt durch eine Platte
für gedruckte Schaltungen gemäß einer Herstellungs
stufe dieser Erfindung, besonders der chemischen Re
duktionsstufe,
Fig. 3 eine ähnliche Darstelluung wie Fig. 2, worin jedoch
die Aufbringung von Kupfer auf ein Durchgangsloch
der Platte für gedruckte Schaltungen nach der Metal
lisierungsstufe erläutert ist, und
Fig. 4 ein schematisches Fließbild einer Anzahl von Verfah
rensstufen oder -stationen, die gemäß der Erfindung
realisiert werden können.
Bei der Erläuterung der Zeichnung im einzelnen wird zunächst
auf Fig. 1 Bezug genommen, in der eine bevorzugte Ausfüh
rungsform der Erfindung, die die stromlose Metallisierung
einschließt, mit mehreren Stationen erläutert ist.
Betrachtet man die Darstellung gemäß Fig. 1 von links nach
rechts, so sieht man, daß es dort eine allgemein mit dem
Bezugszeichen 10 versehene Eingangsstation in schematischer
Erläuterung als vertikaler Längsschnitt gibt, wobei die Ein
gangsstation 10 so ausgebildet ist, daß sie unmetallisierte
Gegenstände (Platten für gedruckte Schaltungen PCB in der
bevorzugten Ausführungsform) auf einer Eingangsfläche von
ihr aufnimmt, damit diese Gegenstände von links nach rechts
durch die Anlage gemäß Fig. 1 wandern, wie erläutert ist.
Die Eingangsstation kann nach den Richtlinien des Eingangs
moduls konstruiert sein, der in der US-Patentschrift 40 15 706
beschrieben ist, auf dessen gesamten Inhalt hier Bezug
genommen wird, damit die Gegenstände entlang einem vorbe
stimmten Weg wandern, der rotierende Räder 11 oder ähnliche
drehbare Teile aufweist. Die Platten für gedruckte Schaltun
gen werden dann an eine oder mehrere Vorbereitungsstationen
oder -moduln abgegeben, die gemeinsam mit dem Bezugszeichen
12 versehen sind, wie durch die gebrochenen schematischen
Linien 13 angezeigt ist. Die Stationen 12 können Entschmut
zungsstationen aufweisen, um Chemikalien auf die Platten
für gedruckte Schaltungen aufzubringen, um Fett oder andere
Verschmutzungen darauf zu entfernen und/oder die Oberflächen
zu behandeln, damit eine Verschmutzung darauf verhindert
wird.
Außerdem können die Stationen 12 eine oder mehrere Spülsta
tionen und eine oder mehrere Ätzstationen aufweisen. Es ist
auch verständlich, daß die Walzen 11 in der ganzen Vorrich
tung gemäß Fig. 1 alle vorzugsweise von einem gemeinsamen
Antrieb angetrieben werden, wie dies in der US-Patentschrift
40 15 706 beschrieben ist, um die Platten für gedruckte
Schaltungen PCB von links nach rechts durch die Apparatur
zu befördern.
Die Stationen 12 besitzen allgemein Behälter 14 mit Einlaß-
und Auslaßöffnungen 15 und 16, vorzugsweise von schlitzarti
ger Natur, die gegebenenfalls mit (nicht gezeigten) flexib
len Klappen darüber versehen sein können, um den Durchgang
unerwünschter Fließmittelmengen in solche und aus solchen
Öffnungen zu verhindern, und im übrigen sind die Stationen
12 so ausgebildet, daß sie Flüssigkeiten 17 darin mit ir
gendeinem vorbestimmten Flüssigkeitsspiegel 18 enthalten.
Nimmt man noch einmal Bezug auf die erläuterten Stationen
12, so sieht man, daß eine Pumpe 20 (allgemein elektrisch
betrieben) vorgesehen ist, um eine erwünschte Reinigungs-,
Spül-, Ätz- oder andere Lösung durch geeignete Aufbringungs
einrichtungen entweder vom Überspülungsstabtyp 21 oder vom
Sprühstabtyp 22 zu pumpen. Wenn die Aufbringungseinrichtun
gen vom Überspülungstyp sind, dann sind sie allgemein mit
länglichen Kanälen 23 versehen, die in Querrichtung voll
ständig durch die Apparatur verlaufen, um einen Vorhang oder
einen Schleier von aufgebrachter Flüssigkeit zu bilden. Wenn
die Aufbringungseinrichtungen vom Besprühungstyp 22 sind,
können sie beispielsweise in der Weise der Sprühstäbe der
US-Patentschrift 39 05 827 konstruiert sein, auf deren Of
fenbarung hier Bezug genommen wird, oder sie können in ir
gendeiner anderen Weise konstruiert sein, erstrecken sich
aber wiederum allgemein in einer Querrichtung über die ganze
Apparatur und sind mit Auslaßöffungen versehen, um Flüssig
keit, die ihnen von der Pumpe 20 über die Zuführleitungen
25 zugeführt wurde, zu versprühen. Es ist auch festzustel
len, daß mehrere Niederhaltewalzen 26 benutzt werden können,
um die Platten für gedruckte Schaltungen PCB auf der oberen
Fläche der Fördereinrichtungen oder anderen rotierenden Tei
len 11 zu halten, während sie einer Besprühung oder anderen
Abgabe einer Behandlungsflüssigkeit von den Sprühdüsen 20
oder Überspülungsstäben 21 beim Durchgang der Platten für
gedruckte Schaltungen PCB in Längsrichtung durch die Vor
richtung gemäß Fig. 1 unterzogen werden.
Nachdem die Platten für gedruckte Schaltungen PCB in Kam
mern, wie jenen mit dem Bezugszeichen 14, durch Vorberei
tungstechniken behandelt wurden, werden sie dann vorzugswei
se in eine oder mehrere Aktivierungskammern 30, die eben
falls vorzugsweise für einen gemeinsamen Antrieb mit den
anderen erwähnten Moduln oder Stationen verbunden sind,
überführt, wobei eine chemische Aktivierungslösung
auf den Platten für gedruckte Schaltungen PCB aufgebracht
wird, bevor eine chemische Reduktionslösung in einer
oder mehreren nachfolgenden Stationen, Apparaturen oder Mo
duln 31 darauf angewandt wird.
Bei der Station 30 wird die chemische Aktivierungslösung
aufgebracht, während die Platte für gedruckte Schaltungen
sich entlang ihrem vorbestimmten Weg bewegt, und zwar allge
mein mit Hilfe einer Pumpe 31, die diese Lösung von einem
Sumpf 32 im Boden einer Kammer 33 über Zulieferleitungen
34 zu geeigneten Sprüheinrichtungen 35 oder dergleichen
überführt. Es ist verständlich, daß anstelle von Sprühein
richtungen 35 auch gegebenenfalls Überspülungsstäbe benutzt
werden können.
Vorzugsweise kann die an der Station 30 aufgebrachte Akti
vierungslösung eine alkalische Palladiumlösung sein, die
in einem Ionenpalladiumverfahren arbeitet.
Die Lösung kann einen pH-Wert im Bereich von 7 bis 12 und
eine Betriebstemperatur von 20°C bis 50°C haben und aus
folgenden Bestandteilen bestehen:
Palladiumchlorid: | |
10-400 mg/l Palladium | |
Natriumhydroxid: | 3-20 g/l |
Borsäure: | 5-25 g/l |
Komplexbildner: | 5-100 g/l |
Unter besonderer Bezugnahme auf Fig. 2 wird eine Platte 40
für gedruckte Schaltungen mit einer Innenschicht 41, die
allgemein aus einer mit Kunstharz imprägnierten Glasfaser
konstruktion besteht, mit Kupferaußenschichten 42, 43 darauf
(und gegebenenfalls einer oder mehreren nichtgezeigten Kup
ferinnenschichten) und einem nicht außen liegenden Abschnitt
44, der ein Durchgangsloch von einer Oberfläche 42 zu der
anderen Oberfläche 43 durch die Platte für gedruckte Schal
tungen 40 hindurch bildet, erläutert. In dieser Darstellung
ist die Aktivierungsschicht 45 im Verfahren gezeigt, wobei
die Platte für gedruckte Schaltungen und vorzugsweise ihre
Durchgangsöffnungen 44, die nicht mit einem Kupferüberzug
versehen sind, zur Annahme einer reduzierenden Schicht darauf
vorbereitet werden.
Unter Bezugnahme auf die Station 31 ist ersichtlich, daß
eine reduzierende Lösung von einem Sumpf 51 am Boden eines
Behälters 50 (wiederum schematisch so erläutert, daß er ent
weder einen oder mehrere Behälter umfaßt, je nach der Anzahl
und Typen von Verfahren, die an diesem Punkt angewendet wer
den sollen) geliefert wird, wobei die reduzierende Lösung
von einer Pumpe 52 in dem Sumpf 51 an Sprühdüsen 53 oder
gegebenenfalls Überspülungsstäbe 54 über Anlieferleitungen
55 überführt wird.
Die Anordnung der Schicht aus der chemisch reduzierenden Lösung oder Reduktionsmittellö
sung, die auf den Platten für gedruckte Schaltungen aufge
bracht wird, wenn diese in Längsrichtung durch die Stationen
31 gehen, entspricht sinngemäß der, wie sie schematisch in Fig. 2
für die Aktivierungslösung erläutert ist.
Die reduzierende Lösung reduziert vorzugsweise das komplex
gebundene Palladium zu metallischem Palladium, um während
der anschließenden Metallisierung das rasche Überziehen mit
Kupfer zu fördern.
Die Lösung kann fol
gendermaßen zusammengesetzt sein und einen pH-Wert im Be
reich von 8 bis 12 und eine Arbeitstemperatur von 20°C bis
60°C haben:
Natriumborhydrid:|0,1-5 g/l | |
Natriumhypophosphat: | 10-80 g/l |
Es ist verständlich, daß der Betrieb des Verfahrens über
die verschiedenen oben beschriebenen Stationen erfolgt, wäh
rend Platten für gedruckte Schaltungen im wesentlichen kon
tinuierlich durch die Vorrichtung geführt werden, und daß
die Vorrichtung an verschiedenen Stellen Inspektionsmoduln
oder -einrichtungen haben kann, die in der Förderlinie zwi
schen den verschiedenen Stationen angeordnet sind, und An
triebsmoduln oder -einrichtungen sowie einen Auslaßmodul
bzw. eine Auslaßeinrichtung 60 haben kann, an den oder an die
die Platten für gedruckte Schaltungen überführt werden, wenn
sie die Auslaßöffnung 61 der letzten Bearbeitungsstation
vor ihrer Überführung in einen Metallisierungsmodul bzw.
eine Metallisierungsstation 62 verlassen.
Unmittelbar vor oder bei Beginn der Abgabe der Platten für
gedruckte Schaltungen in Reihe an die Metallisierungsstation
62 werden sie aus ihrer ebenen horizontalen Aus
richtung in eine vertikale parallele Ausrichtung,
bei der Oberfläche zu Oberfläche blickt, mit irgendeiner
geeigneten Einrichtung, die die vorzugsweise schnelle Über
führung bewirkt, überführt. Bezüglich der Station 62 ist
eine solche Einrichtung erläutert. Sie überführt die Platten
für gedruckte Schaltungen von drehbaren Elementen 59 der
Ausgangsstation 60 zu einer Lage zwischen dem Walzenspalt
zwischen einem Paar einander gegenüberliegender rotierender
Walzen 63 und 64, die vorzugsweise von dem gleichen gemein
samen (nicht gezeigten) Antrieb, der die drehbaren Elemente
11 und 59 in den verschiedenen oben erwähnten Stationen an
treibt, angetrieben werden. Die Walzen 63 und 64 sind derart ange
ordnet, daß, wenn die Platte für gedruckte Schaltungen in
ihrem Walzenspalt 65 aufgenommen wird, die am weitesten
links liegenden Enden 66 der Platten für gedruckte Schaltun
gen aufwärts gekippt werden, wobei sie durch den Walzenspalt
65 in Abwärtsrichtung gehen, wie gestrichelt an dem am wei
testen links liegenden Ende der Station 62 erläutert ist.
Während sie so überführt werden, treffen die Platten
auf eine gekrümmte Oberfläche 67 eines
Umlenkteils 68, um sie reihenweise in Schlit
ze 70 eines antreibbaren Endlosförderbandes 82 oder derglei
chen zu führen. Das Umlenkteil 68 wird von einem Stoßstab
71 getragen, der seinerseits von einem Zylinder 72 für eine
Aufwärts- oder Abwärtsbewegung angetrieben wird, wie durch
den Doppelpfeil 73 gezeigt ist, um das Umlenk- oder Mitneh
merteil 68 schnell in seine Stellung und aus seiner Stellung
zu bewegen, um nicht die Bewegung einer gerade in vertikale
Position gebrachten, in dem Schlitz 70 abgelagerten
Platte für gedruckte Schaltungen nach rechts zu stören. Die
Platte ist in dem Schlitz durch Reibberührung mit den Seiten des
Schlitzes zu schalten.
Die Aktivierung des Zylinders 72 kann von der Walze 64 mit
Hilfe eines geeigneten vorhandenen Detektors, der über eine
Signalleitung 75, über einen Zeitgeber oder eine andere ge
eignete Steuereinrichtung 76 arbeitet, gesteuert werden,
um die geeignete zeitliche Abstimmung des Betriebs des Zy
linders 72 derart zu steuern, daß das Umlenk- oder Mitneh
merteil 68 zu der geeigneten Zeit in seine Stellung und aus
seiner Stellung gebracht wird. Diese Steuerung des Betriebs
des Zylinders 72 kann elektrisch, pneumatisch, hydraulisch
oder anderweitig erfolgen, und die Zeitgabe kann gegebenen
falls so erfolgen, daß über die Steuerleitung 77 eine Koor
dination mit der zeitlichen Abstimmung des Antriebs eines
Motors 78 wiederum gegebenenfalls über eine geeignete Zeit
gebereinrichtung 80 erfolgt, die ihrerseits die Drehung ei
ner Antriebswalze 81 im Uhrzeigersinn an dem am weitesten
links gelegenen Ende des Förderbandes 82 steuern kann.
Nachdem eine Platte für gedruckte Schaltungen in vertikaler
Stellung in den am weitesten links befindlichen Schlitz 70 ge
steckt wurde, wird das Mitnehmerteil 68 aufwärts aus seiner
Störstellung zwischen benachbarten Schlitzen 70 bewegt. Danach
wird die Platte für gedruckte Schaltungen, die gerade in dem
Förderbandschlitz 70 des Förderbandes 82 abgesetzt wurde, um
den Betrag eines Abstands der Schlitze 70 nach rechts in der
Richtung des Pfeiles 83 im Metallisierungsbad 84 bewegt. Dieser
Vorgang wiederholt sich laufend. Somit werden die Platten für
gedruckte Schaltungen durch das Metallisierungsbad 84 mit einer
Fördergeschwindigkeit bewegt, die kleiner ist als die Förderge
schwindigkeit der Platten für gedruckte Schaltungen beispiels
weise durch die Stationen 12, 30 und 31.
Es ist festzustellen, daß die Länge des Förderbandes 82 in
Längsrichtung vorausbestimmt wird, um die erwünschte Ver
weilzeit der Platten für gedruckte Schaltungen in dem Bad
84 der Station 62 gemäß der erwünschten Metallisierungsdicke,
die in der Kammer 85 der Station 62 erhalten werden
soll, zu bekommen.
Es ist festzustellen, daß der Motor 78 den Mechanismus an
treiben kann, der die horizontale Bewegung der vertikal an
geordneten Platten durch die Station 62 entweder kontinuier
lich oder im wesentlichen kontinuierlich ergibt. Wenn die
Bewegung kontinuierlich ist, wäre es erforderlich, das obere
Abziehen des Mitnehmerteils 68 sehr genau zu koordinieren
und den genauen Zeitablauf der geeigneten Positionierung
der Querschlitze 70 in dem Band 82 einzustellen, um die da
rin abzusetzenden Platten für gedruckte Schaltungen aufzu
nehmen. Eine im wesentlichen kontinuierliche horizontale
Bewegung vertikal ausgerichteter Platten in dem Bad kann
jedoch durch eine kontinuierliche Stopp- und Gehbewegung er
reicht werden, bei der das Band 82 jeweils momentan anhält,
wenn ein Querschlitz 70 hiervon eine äußere Totpunktstellung
auf der Walze 81 erreicht, wobei das Mitnehmerteil 68 sich
in der in Fig. 1 erläuterten Stellung befindet, um die Plat
te für gedruckte Schaltungen genau in den Schlitz 70 zu be
wegen.
Sobald sich die Platte für gedruckte Schaltungen an ihrer
Stelle in dem Schlitz 70 befindet, wird im wesentlichen au
genblicklich danach der Zylinder 72 das Mitnehmerteil 68
abziehen, und sobald das Mitnehmerteil 68 in genügendem Ab
stand von einer dann vertikal angeordneten Platte für ge
druckte Schaltungen ist, kann der Motor 78 wieder eine Bewe
gung des oberen Trums des Bandes 82 in einer Längsrichtung
von links nach rechts beginnen, wie in Fig. 1 dargestellt
ist. Darin ist eine Bewegung über die Länge "D", den Abstand
zwischen einander benachbarten Schlitzen 70 angezeigt, an
welchem Punkt der Motor 78 anhält und dabei die Bewegung
des Bandes und aller von ihm getragenen, vertikal angeordne
ten Platten für gedruckte Schaltungen stoppt, so daß das
Mitnehmerteil 68 durch den Zylinder 72 abwärts getrieben
werden kann, um wiederum eine Mitnehmerstellung zur Erleich
terung des Eintrittes einer nächstnachfolgenden Platte für
gedruckte Schaltungen in einen nächstnachfolgenden Schlitz
70 zu erleichtern. So ist ein solcher Betrieb zwar technisch
eine Stopp- und Gehbewegung ähnlich einer Uhrenmechanismus
bewegung, aber im wesentlichen kontinuierlich. Es ist auch
zu verstehen, daß die genaue Einrichtung zur Bewirkung einer
Bewegung vertikal angeordneter Platten für gedruckte Schal
tungen durch ein Bad 84 stark variieren kann, wenn dies für
die speziell erläuterte Bandanordnung erwünscht ist, und
irgendeinen geeigneten kontinuierlichen oder im wesentlichen
kontinuierlichen Antriebsmechanismus aufweisen kann. Auch
ist verständlich, daß die oben diskutierte spezielle Apara
tur, wie die Walzen 63, 64 und das Mitnehmerteil 68 und ver
bundene Teile, bloß eine mögliche Anordnung zur Ausrichtung
der Platten für gedruckte Schaltungen aus der horizontalen
in die vertikale Stellung ist.
Wenn die Platten für gedruckte Schaltungen zu dem rechten
Ende des Behälters 85 befördert werden, können sie aus einer
vertikalen Ausrichtung in eine horizontale Ausrichtung durch
irgendeinen geeigneten Umorientierungsmechanismus überführt
werden. In Fig. 1 ist ein solcher Mechanismus so darge
stellt, daß er ein Paar einander gegenüberliegender Walzen
90, 91 aufweist, die angetrieben sind und einen Walzenspalt
92 zwischen sich bilden, um eine angelieferte Platte für
gedruckte Schaltungen dazwischen aufzunehmen, wobei die Wal
ze 91 im Uhrzeigersinn angetrieben ist, wie in Fig. 1 erläu
tert ist, und die Walze 90 im Gegenuhrzeigersinn angetrie
ben ist, um eine Platte für gedruckte Schaltungen PCB aus
ihrem Spalt auf dem oberen Trum des Bandes 82 dahinein zu he
ben, wie in der gestrichelten Darstellung bei 93 erläutert
ist, um wieder in Anlage an eine Mitnehmer- oder Umlenkflä
che 94 zu gelangen. Die Mitnehmerfläche 94 kann eine statio
näre sein, um die Platte für gedruckte Schaltungen auf dreh
bare Elemente 95 am Auslaßende der Kammer 85 durch eine Aus
laßöffnung 96 darin zu führen.
Es ist festzustellen, daß die Walze 90 in der erläuterten
Anordnung von einem geeigneten Stoß/Ziehstab 97 getragen
ist, der seinerseits von einem geeigneten Zylinder 98 ange
trieben wird, um sich in der Richtung des Doppelpfeiles 100
aufwärts und abwärts in die Stelluung und aus der Stellung
in genau der gleichen Weise wie die Aufwärts- und Abwärtsbe
wegung des Mitnehmerteils 68 zu bewegen, um eine Überführung
vertikal ausgerichteter Platten danach bis gerade vor das
Eintreten in den Walzenspalt 92 zu gestatten. Es ist auch
ersichtlich, daß geeignete Zeitgebereinrichtungen 101 ver
wendet werden können, die mit dem Zylinder 98 verbunden sind
und die mit der Antriebswalze 91 über geeignete Steuerver
bindungsleitungen 102, 103 verbunden sind, um den Antrieb
der Walzen 90, 91 mit der Aufwärts- und Abwärtsbewegung des
Stabes 97 zu koordinieren.
Es ist vorzugsweise auch erwünscht, eine Einrichtung zur Erhit
zung des Bades 84 in der Kammer 85 entweder durch einen
elektrischen Erhitzer oder einen Dampferhitzer oder derglei
chen 104 vorzusehen, um das Bad 84 auf der erwünschten Tem
peratur zu halten.
Das Bad 84 kann aus einer Lösung für die stromlose Verkupferung
bestehen mit der Kupfer in der erwünschten Dicke stromlos auf
Platten für gedruckte Schaltungen während ihrer Verweilzeit in
dem Bad niedergeschlagen werden kann.
Wenn das Bad eine Kupferlösung ist, kann sie folgendermaßen
zusammengesetzt sein, um einen pH-Wert im Bereich von 10
bis 13,5 zu haben, und die Betriebstemperatur kann im Be
reich von 20°C bis 70°C liegen:
Kupfer-II-chlorid:|1-15 g/l | |
Ethylendiamintetraessigsäure: | 5-25 g/l |
Natriumhydroxid: | 5-15 g/l |
Formaldehyd: | 3-10 g/l |
Ablagerungsgeschwindigkeit: | 2-10 µm/h |
Es ist zu verstehen, daß mit dem Bad 84 auch andere Metalle an
stelle von Kupfer niedergeschlagen werden können. Es können
z. B. Bäder für die stromlose Abscheidung von Nickel, Kobalt,
Silber, Gold oder von Legierungen sein. Beispielsweise kann das
Bad 84 ein Nickelbad sein mit einem pH-Wert im Bereich von 4
bis 10 und einer Betriebstemperatur von 20°C bis 95°C, das
folgende Zusammensetzung und Eigenschaften aufweist:
Nickelsulfat:|5-50 g/l | |
Natriumhydrogenphosphit: | 10-50 g/l |
Ammoniak: | 1-50 g/l |
Natriumhydroxid: | 1-10 g/l |
Komplexbildner (Tartrate oder beispielsweise Natriumlactat oder Natriumacetat) | 20-80 g/l |
Stabilisator | 0,01-5 g/l |
Ablagerungsgeschwindigkeit | 5-25 µm/h |
In Fig. 3 ist eine Platte 105 für gedruckte Schaltungen der
art dargestellt, daß sie einen glasfaserverstärkten Kunst
harzkern 106 mit Kupferoberflächen 107 und 108 mit einem
Kupferüberzug 109, der sich durch ein Durchgangsloch 110
zwischen einander gegenüberliegenden Oberflächen 127, 128
streckt, aufweist, wobei der Kupferüberzug von der Station
62 auch auf den Kupferoberflächen 107 und 108 aufgebracht
wird. Die Länge des Durchgangsloches durch die Platte 105
ist gewöhnlich ein Vielfaches ihres Durchmessers, nicht wie
in der nicht maßstabsgetreuen Darstellung von Fig. 3.
Nach dem Verlassen der Station 62 werden die Platten für
gedruckte Schaltungen, die sich nun wieder in horizontaler
Ausrichtung befinden, zu geeigneten Verarbeitungsstationen
überführt, um zu spülen, ein Mittel gegen Trübwerden
aufzubringen, anschließend nochmals zu spülen usw., worauf
allgemein eine Trocknung folgt. In der Erläuterung der Fig. 1
zeigt die Station 110 schematisch eine Anordnung für ein
solches Spülen, Aufbringen eines Mittels gegen Trübwerden
und anschließendes nochmaliges Spülen in einer Kammer 111
mit einem geeigneten Einlaß 96 und Auslaß 112, die mit ange
triebenen drehbaren Elementen 113 versehen ist (vorzugsweise
mit dem gleichen Antrieb angetrieben, der die drehbaren Ele
mente 11, 59 usw. für mehrere Stationen vor der Metallisie
rungsstation 62 antreibt). In dem Sumpf 114 in der Kammer
111 fördert eine Pumpe 115 eine geeignete Spülflüssigkeit,
Flüssigkeit gegen Trübwerden oder dergleichen über geeignete
Förderleitungen 116 zu einer geeigneten Sprühapparatur 117
(die gegebenenfalls durch Überspülungsstäbe ersetzt sein
kann), um Platten für gedruckte Schaltungen während ihres
Durchgangs durch die Station oder Stationen 110 in geeigne
ter Weise naßzubehandeln. Dann werden die Platten für ge
druckte Schaltungen vorzugsweise durch die Kammer 119 einer
Trockenstation 120 befördert, wobei Luftpumpen oder Gebläse
121 oder dergleichen, die damit verbundene Heizelemente 122
haben, erhitzte Luft über geeignete Leitungen 123 durch ge
eignete Hauben 124 zu Platten für gedruckte Schaltungen PCB
befördern, welche letztere dazwischen getragen werden, um
sie bei 125 zu einer Austragsstation 126 zu bringen.
Unter besonderer Bezugnahme nun auf Fig. 4 wird eine Gesamt
bearbeitungsanordnung für gemäß der vorliegenden Erfindung
zu behandelnde Gegenstände beschrieben. Es ist verständlich,
daß die Darstellung von Stufen oder Stationen in Fig. 4
nicht beabsichtigt, eine vollständige Darstellung derselben
in Verbindung mit irgendeinem speziellen zu bearbeitenden
Gegenstand zu sein, noch zeigt die Darstellung von Fig. 4
notwendigerweise die wenigstmöglichen Stufen oder Stationen,
sondern erläutert nur einige repräsentative Stufen oder Sta
tionen. Beginnt man mit der Fließrichtung, die durch den
Pfeil 130 angezeigt ist, sieht man, daß eine erste repräsen
tative Stufe für die zu behandelnden Gegenstände ein Reini
gen ist, worauf ein Spülen und dann ein Trocknen, Entschmut
zen, Inspizieren und Spülen, Rückätzen, Spülen, Trocknen,
Reinigen, Spülen, Reinigen, Spülen, Ätzreinigen dann Ätzen
(im Falle einer Platte für gedruckte Schaltungen, wie ein
Kunststoff- oder Keramikteil) folgt und anschließend nach
einander gespült, vorgetaucht, aktiviert, gespült, redu
ziert, reduziert und inspiziert wird. Im Falle einer Reihe
von Operationen, die in Moduln oder Bauteilen durchgeführt
werden, kann es an irgendeinem Punkt in der Linie üblich
sein, ein Antriebsmodul mit der Funktion eines Antriebs al
ler der miteinander verbundenen Moduln (oder Stationen) von
einer gemeinsamen Quelle aus vorzusehen. Nach der letzten
Inspektionsstufe können die Gegenstände zu der oben be
schriebenen stromlosen Metallisierung überführt werden. Da
nach kann ein Inspizieren, Spülen, Aufbringen eines Mittels
gegen Trübwerden, Spülen, Trocknen, Bürsten und Inspizieren
folgen. Die Gegenstände können dann (oder gegebenenfalls
an irgendeinem Punkt nach dem stromlosen Metallisieren) ge
gebenenfalls einem galvanischen Metallisierverfahren unterzo
gen werden (die Gegenstände entweder horizontal wie bei 131a
oder vertikal wie bei 131b) oder gegebenenfalls einem Bild
erzeugungsverfahren 132 unterzogen werden. Nach dem Galvani
sieren würden die Gegenstände gewöhnlich geeigneten Nachbe
handlungen unterzogen, wie einem Inspizieren, Spülen, Auf
bringen eines Mittels gegen Trübwerden, Spülen, und sie wür
den in der Richtung des Pfeiles 133 einer Photolackaufbrin
gung, Entwicklung, Inspektion, einem Ätzen, Spülen, Trocknen
und Inspizieren unterworfen und dann zum Austragen befördert
werden, wie an der Stelle des Pfeiles 134 in Fig. 4 gezeigt
ist.
Wenn die Gegenstände einem Bilderzeugungsverfahren unterzo
gen werden, wie bei 132, können sie entlang dem Weg 135 ei
nem Siebdruckverfahren oder entlang dem Weg 136 einer Photo
lackbeschichtung und Entwicklung unterzogen werden, um dann
zu einer Metallisierungsfolge 137 nach Vorlage (vertikal
oder horizontal) geliefert zu werden, wo ein Inspizieren,
Reinigen, Spülen, Ätzen, Verkupfern, Spülen, Ätzen, Zinn-
Blei-Metallisieren oder Verzinnen, Spülen, Trocknen und In
spizieren erfolgt. Danach können die Gegenstände einem Weg
lösen von Trockenfilm oder einem Siebdrucken mit Druckfarbe
unterzogen werden, worauf ein Spülen, Inspizieren, Ätzen,
Spülen und Inspizieren folgt, um bei 138 ausgetragen zu wer
den.
Es ist zu verstehen, daß, wie oben gesagt, die zu behandeln
den Gegenstände Kunststoffe, Keramikmaterialien oder
andere allgemein nichtmetallische Gegenstände umfassen kön
nen, nicht nur Platten für gedruckte Schaltungen, sondern
auch andere metallisierte Gegenstände einschließlich Ab
schirmungen und dergleichen. Wenn die vorlie
gende Erfindung verwendet wird, um Metall auf Keramik aufzu
bringen, kann sie angewendet werden, um einen elektronischen
Stromkreis beispielsweise für die Verwendung unter Bedingun
gen hoher Temperaturanwendung zu konstruieren. Wenn das Ver
fahren und die Anwendung in der vorliegenden Erfindung für
das Abschirmen von Gegenständen benutzt werden, kann dies
zum Zweck einer Verminderung elektromagnetischer Interferenz
von elektrischen oder elektronischen Anlagen erfolgen, indem
man Kunststoffoberflächen von Gegenständen, wie Vorder-,
Hinter- und Seitenplatten, mit Metallüberzügen versieht.
Auch das Beschichten irgendwelcher anderen Gegen
stände, die abgeschirmt werden sollen, wie Kunststofffgegen
stände, mit Kunststoff imprägnierte Glasfasergegenstände
und dergleichen, kann mit Metall überzogen erfolgen. Solche Über
züge können eine Kombination von stromlos aufgebrachten
Überzügen sein, die in der oben beschriebenen Weise getrennt
oder zusammen mit galvanischen Überzügen aufgebracht sind.
Wenn gemäß der vorliegenden Erfindung Galvanisieren verwen
det wird, kann dies entweder in kontinuierlicher Weise oder
in diskontinuierlicher Weise (wie in einem Ansatzverfahren)
geschehen, obwohl es bevorzugt ist, das Galvanisieren auf
kontinuierliche Weise durchzuführen. In Übereinstimmung mit
dem Obigen wird Bezug genommen auf die Offenbarung der US-
Patentschriften 44 02 799 und 44 02 800 für den Fall, daß
die Platten vertikal angeordnet sind, oder der US-Patent
schrift 43 85 967, in der die Platten galvanisiert werden,
während sie horizontal angeordnet sind. Auf die Beschreibun
gen jedes dieser Patente wird hier Bezug genommen. Es ist
auch offensichtlich, daß andere geeignete Apparaturen für
die Durchführung der vorliegenden Erfindung beim Galvanisie
ren mit horizontaler oder vertikaler Anordnung der Platten
verwendet werden können.
Die Elektrolyten, die beim Galvanisieren nach der vorliegen
den Erfindung verwendet werden, können Bäder von Kupfer,
Zinn, Blei, Kobalt, Eisen, Silber, Gold, Palladium oder ver
schiedenen Legierungen sein. Wenn der Elektrolyt Kupfer ist,
kann das Bad folgende Zusammensetzung und eine Betriebstem
peratur im Bereich von 20°C bis 50°C haben:
Kupfersulfat:|25-250 g/l | |
Schwefelsäure: | 50-400 g/l |
Natriumchlorid: | 40-100 mg/l |
Aufheller: | 1-10 g/l |
Oberflächenaktives Mittel: | 0,1-10 g/l |
Stromdichte: | 0,5-10 A/dm² |
Wenn das Elektrolytbad, das zum Galvanisieren nach der Er
findung verwendet wird, beispielsweise Nickel enthalten
soll, kann das Bad folgendermaßen zusammengesetzt sein und
eine Betriebstemperatur im Bereich von 20°C bis 70°C ha
ben:
Nickelsulfat:|100-300 g/l | |
Nickelchlorid: | 50-200 g/l |
Borsäure: | 10-50 g/l |
Aufheller: | 0,5-10 g/l |
Oberflächenaktives Mittel: | 0,1-10 g/l |
Stromdichte: | 0,5-10 A/dm² |
Es ist somit ersichtlich, daß die vorliegende Erfindung in
fast jeder Umgebung benutzt werden kann, in welcher ein me
tallischer leitfähiger Überzug auf einem anderen Gegenstand
erwünscht ist.
Es ist ersichtlich, daß bei der Durchführung vieler der Her
stellungsfunktionen und vieler der anderen Funktionen an
schließend an das Metallisieren viele Mechanismen und Appa
raturen aus der bestehenden Technologie herangezogen werden
können. Beispielsweise können verschiedene Sprüh-, Pump-
und Sumpfoperationen aus der US-Patentschrift 39 05 827 be
nutzt werden. Verschiedene Ätz- und Filterfunktionen können
aus der US-PS 37 76 800 benutzt werden, und verschiedene
Ätzmittelentfernungstechniken, wie jene der US-PS 38 01 387,
können verwendet werden. Auch können verschiedene Trockenme
thoden, wie jene der US-PS 40 17 982, angewendet werden.
Außerdem können die verschiedenen Bearbeitungsstationen nach
der Erfindung in Moduln vorliegen, die in gleicher Weise
und mit gemeinsamem Antrieb wie gemäß den Prinzipien der
US-Patentschrifen 40 15 706 und 40 46 248 miteinander ver
bunden sind.
Claims (20)
1. Verfahren zur Metallisierung von Oberflächen
flacher Gegenstände, dadurch gekennzeichnet, daß
- a) die Gegenstände mit wenigstens einigen fla chen Außenflächen Bereiche nichtmetal lischer Oberflächenbeschaffenheit aufweisen,
- b) die Gegenstände kontinuierlich und in Reihe entlang einem vorbestimmten Weg befördert werden,
- c) die nichtmetallischen Oberflächenbereiche der Gegenstände für stromlo ses Metallisieren vorbereitet werden, während sie kontinuier lich entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, indem man wenigstens eine chemische Lösung und wenig stens eine Spülung anwendet,
- d) bei der Beförderung der Gegenstände diese in flacher horizontaler Ausrichtung entlang einem horizontalen Weg mit einer ersten Fördergeschwin digkeit entlang deren vorbestimmten Weg vor der Einführung der Gegenstände in ein Bad für stromlo se Metallisierung bewegt werden,
- e) die Gegenstände aus ihrer flachen Horizon talausrichtung ineine vertikale Ausrich tung überführt werden, während sie entlang ihrem vorbestimm ten Weg befördert werden, und
- f) die Gegenstände im wesentlichen kontinuierlich, in Reihe, Oberfläche gegen Oberfläche blickend, in ihrer vertikalen Ausrichtung entlang einem horizontalen Weg durch ein Bad für eine stromlose Me tallisierung mit einer zweiten Fördergeschwindigkeit bewegt werden, die wesentlich geringer als die erste Fördergeschwin digkeit ist und man so einen dünnen Metallüberzug auf ihnen aufbringt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man nach ihrer Beförderung durch das Bad die Gegenstände
aus ihrer vertikalen Ausrichtung in eine
flache horizontale Ausrichtung überführt.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Gegenstände Platten für gedruckte
Schaltungen mit wenigstens einigen Durchgangslöchern mit
nichtmetallischen Oberflächenbereichen sind.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Bad für die stromlose Metallisierung eine Lösung
von Metallverbindungen aus der Gruppe Kupfer, Nickel,
Kobalt, Silber, Gold und Legierungen dieser Metalle ist.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Gegenstände nach ihrer Überführung zurück in die
horizontale Ausrichtung spült und die Gegen
stände, während sie entlang ihrem horizontalen
Weg in flacher horizontaler Ausrichtung wandern
und während sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit
einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie
die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen, trocknet.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß man auf dem dünnen metallischen Über
zug, der in dem Bad für die stromlose Metallisierung aufgebracht wurde, durch
Galvanisieren einen weiteren Metallüberzug aufbringt,
indem man die Gegenstände durch eine galvanische Lösung
führt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
man als galvanische Lösung eine Lösung von Metallverbin
dungen aus der Gruppe Kupfer, Zinn, Blei, Nickel, Kobalt,
Eisen, Silber, Gold, Palladium sowie Legierungen dieser
Metalle verwendet.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
man in der Galvanisierstufe die Gegenstände in Reihe und
im wesentlichen kontinuierlich durch ein Galvanisierbad
befördert.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Stufe der Vorbereitung der Gegen
stände die Anwendung einer chemischen Reduktionsmittel
lösung auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächen
bereichen des Gegenstandes zur Förderung der Metallisie
rung derselben einschließt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorbereitung der Gegenstände die Aufbringung einer
chemischen Aktiviermittellösung auf wenigstens den
nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Gegenstände
vor der Aufbringung der Reduziermittellösung darauf ein
schließt.
11. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe der Vorbereitung der Platten die Anwendung
einer chemischen Aktiviermittellösung, die Palladium
chlorid, Natriumhydroxid, Borsäure und einen Komplex
bildner enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen
Oberflächenbereichen der Platten einschließt, worauf
die Stufe einer Anwendung einer chemischen Reduktions
mittellösung, die Natriumborhydrid und Natriumhypophos
phat enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen Ober
flächenbereichen der Platten folgt, um eine Verkupferung
derselben zu fördern, daß die stromlose Metallbadlösung eine
Lösung von Kupfer-II-chlorid, Ethylendiamintetraessig
säure, Natriumhydroxid, Formaldehyd und eines Stabilisa
tors ist, einschließlich der Stufe einer Überführung
der Platten aus einer vertikalen Ausrichtung
in eine flache horizontale Ausrichtung nach
ihrer Wanderung durch das Bad für die stromlose Metallisierung, gefolgt von
den Stufen eines Spülens der Platten nach ihrer Überfüh
rung zurück in eine horizontale Ausrichtung
sowie anschließenden Trocknens der Platten, wenn sie
entlang ihrem horizontalen Weg in
flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während
sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer För
dergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste
Fördergeschwindigkeit ist, bewegen, und einschließlich
der Galvanisierstufe einer Aufbringung eines Metallüber
zuges auf dem dünnen Metallüberzug, der in dem Bad für die stromlo
se Metallisierung aufgebracht wurde, indem die Platten in Reihe
und im wesentlichen kontinuierlich durch ein Galvani
sierbad geführt werden, das Kupfersulfat, Schwefelsäure
und Natriumchlorid enthält.
12. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach An
spruch 1 bis 11, gekennzeichnet durch
- a) Einrichtungen zur Aufnahme der Gegenstände mit wenig stens einigen flachen Außenflächen mit Be reichen nichtmetallischer Oberflächenbe schaffenheit,
- b) Einrichtungen zur kontinuierlichen und reihenweisen Beförderung der Gegenstände entlang einem vorbestimm ten Weg,
- c) Einrichtungen zur Vorbereitung der Gegenstände für stromlose Metallisierung von nichtmetallischen Oberflächenbereichen während sie kontinuierlich entlang ihrem vorbestimm ten Weg befördert werden, durch Aufbringung wenig stens einer chemischen Lösung und wenigstens einer Spülung,
- d) Einrichtungen zur Bewegung der Gegenstände in flacher horizontaler Ausrichtung entlang einem horizontalen Weg mit einer ersten Förderge schwindigkeit während des Teils der Wan derung der Gegenstände entlang ihrem vorbestimmten Weg, bevor die Gegenstände in ein Bad für die stromlose Metallisierung eingeführt werden,
- e) Einrichtungen zur Überführung der Gegenstände aus ihrer flachen horizontalen Ausrichtung in eine vertikale Ausrichtung, während sie entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, und
- f) Einrichtungen zur im wesentlichen kontinuierlichen Bewegung der Gegenstände in Reihe, Oberfläche gegen Oberfläche blickend, in ihrer vertikalen Ausrichtung entlang einem horizontalen Weg durch ein Bad für eine stromlose Metallisierung mit einer zweiten Fördergeschwindigkeit, die wesentlich geringer als die erste Fördergeschwindigkeit ist, um dabei einen dünnen Metallüberzug aufzubringen.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch Ein
richtungen zur Überführung der Gegenstände aus einer
vertikalen Ausrichtung in eine allgemein fla
che horizontale Ausrichtung nach ihrem Durchgang durch
das Bad.
14. Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, gekennzeichnet
durch Einrichtungen wenigstens für ein Spülen und Trock
nen der Gegenstände, während sie entlang ihrem vorbe
stimmten Weg wandern, nach ihrer Bewegung durch das Bad,
wobei sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer
Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die
erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen.
15. Vorrichtung nach Anspruch 13, gekennzeichnet durch Ein
richtungen zum Spülen der Gegenstände, nachdem sie in
ihre horizontale Ausrichtung zurückgeführt
wurden, und zum Trocknen der Gegenstände, während sie
entlang einem horizontalen Weg in
flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während
sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer För
dergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste
Fördergeschwindigkeit ist, bewegen.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 15, gekenn
zeichnet durch Einrichtungen zum Galvanisieren der Ge
genstände durch Aufbringung eines Metallüberzuges auf
dem dünnen Metallüberzug, der in dem Bad für die stromlose Metallisierung auf
gebracht wurde, durch Förderung der Gegenstände durch
eine Galvanisierlösung.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Galvanisiereinrichtungen Einrichtungen zum rei
henweisen, im wesentlichen kontinuierlichen Befördern
der Gegenstände durch ein Galvanisierbad einschließen.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zur Vorbereitung
der Gegenstände Einrichtungen zur Aufbringung einer che
mischen Reduktionsmittellösung auf wenigstens den nicht
metallischen Oberflächenbereichen der Gegenstände zur
Förderung von deren Metallisierung einschließen.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtungen zur Vorbereitung der Gegenstände
Einrichtungen zur Aufbringung einer chemischen Aktivier
mittellösung auf wenigstens den nichtmetallischen Ober
flächenbereichen der Gegenstände vor der Aufbringung
der Reduktionsmittellösung darauf einschließen.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 19 für Plat
ten für gedruckte Schaltungen mit wenigstens einigen
Durchgangslöchern mit nichtmetallischen Bereichen, da
durch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zur Vorbe
reitung der Platten Einrichtungen zur Aufbringung einer
chemischen Aktiviermittellösung, die Palladiumchlorid,
Natriumhydroxid, Borsäure und einen Komplexbildner ent
hält, auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächen
bereichen der Platten und Einrichtungen zur Aufbringung
einer chemischen Reduktionsmittellösung, die Natriumbor
hydrid und Natriumhypophosphat enthält, auf wenigstens
den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Platten
zur Föderung der Verkupferung derselben einschließen,
die Einrichtungen zur Aufbringung einer stromlosen Me
tallbadlösung Einrichtungen zur Aufbringung einer Lösung
von Kupfer-II-chlorid, Ethylendiamintetraessigsäure,
Natriumhydroxid, Formaldehyd und eines Stabilisators
aufweisen, Einrichtungen zur Überführung der Platten
aus einer vertikalen Ausrichtung in eine
flache horizontale Ausrichtung nach ihrem Durch
gang durch das Bad für die stromlose Metallisierung vorgesehen sind, Einrich
tungen zum Spülen der Platten nach ihrer Überführung
zurück in die horizontale Ausrichtung und zum
anschließenden Trocknen der Platten, während sie entlang
ihrem horizontalen Weg in flacher
horizontaler Ausrichtung wandern und während sie sich
im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwin
digkeit, die wenigstens so groß wie die erste Förderge
schwindigkeit ist, bewegen, vorgesehen sind und Galvani
siereinrichtungen zur Aufbringung eines Metallüberzuges
auf dem dünnen Metallüberzug, der in dem Bad für die stromlose Metallisierung
aufgebracht wurde, vorgesehen sind, mit denen die Plat
ten in Reihe und im wesentlichen kontinuierlich durch
ein Galvanisierbad befördert werden, welches Kupfersul
fat, Schwefelsäure und Natriumchlorid enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/726,049 US4576685A (en) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | Process and apparatus for plating onto articles |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3543286A1 DE3543286A1 (de) | 1986-10-23 |
DE3543286C2 true DE3543286C2 (de) | 1993-08-19 |
Family
ID=24917013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853543286 Granted DE3543286A1 (de) | 1985-04-23 | 1985-12-07 | Verfahren zur metallisierung von oberflaechen flacher gegenstaende |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4576685A (de) |
JP (1) | JPS61246372A (de) |
CN (1) | CN1015996B (de) |
AT (1) | AT395022B (de) |
BE (1) | BE903914A (de) |
BG (1) | BG60260B1 (de) |
CH (1) | CH668270A5 (de) |
DE (1) | DE3543286A1 (de) |
FR (1) | FR2580671B1 (de) |
GB (1) | GB2174107B (de) |
IT (1) | IT1215167B (de) |
LU (1) | LU86221A1 (de) |
NL (1) | NL8503147A (de) |
SE (1) | SE463625B (de) |
SU (1) | SU1660595A3 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19736805A1 (de) * | 1997-08-23 | 1999-02-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur naßchemischen Behandlung von Teilen |
DE19830212A1 (de) * | 1998-07-07 | 2000-01-20 | Angew Solarenergie Ase Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Gegenständen, insbesondere scheibenförmigen Gegenständen wie Blechen, Glasplatten, Leiterplatten, Keramiksubstraten |
Families Citing this family (75)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3631055C1 (de) * | 1986-09-12 | 1987-05-21 | Deutsche Automobilgesellsch | Verfahren zum kontinuierlichen Traenken von Vliesstoff- oder Nadelfilzbahnen mit einer Aktivierungsloesung |
DE3632378A1 (de) * | 1986-09-24 | 1988-03-31 | Schering Ag | Verfahren zum fuehren von plattenfoermigen gegenstaenden, sowie dazugehoerige vorrichtung |
US4775449A (en) * | 1986-12-29 | 1988-10-04 | General Electric Company | Treatment of a polyimide surface to improve the adhesion of metal deposited thereon |
DE3703542A1 (de) * | 1987-02-06 | 1988-08-18 | Schering Ag | Verfahren und anordnung zur beschickung von traggestellen in anlagen zum chemischen behandeln in baedern, insbesondere zum galvanisieren von plattenfoermigen gegenstaenden |
US4990224A (en) * | 1988-12-21 | 1991-02-05 | International Business Machines Corporation | Copper plating bath and process for difficult to plate metals |
US4954226A (en) * | 1988-12-21 | 1990-09-04 | International Business Machines Corporation | Additive plating bath and process |
JPH02232391A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-09-14 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | アデイテイブ鍍金浴および方法 |
US5091218A (en) * | 1989-03-06 | 1992-02-25 | Motorola, Inc. | Method for producing a metallized pattern on a substrate |
US4999079A (en) * | 1989-06-02 | 1991-03-12 | Chemcut Corporation | Process and apparatus for treating articles and preventing their wrap around a roller |
US5002616A (en) * | 1989-08-28 | 1991-03-26 | Chemcut Corporation | Process and apparatus for fliud treatment of articles |
US5077176A (en) * | 1990-07-30 | 1991-12-31 | At&T Bell Laboratories | Pre-plate cleaning process |
US5166037A (en) * | 1991-02-14 | 1992-11-24 | International Business Machines Corporation | Method of additive circuitization of circuit boards with high adhesion, voidless copper leads |
US5685970A (en) * | 1992-07-01 | 1997-11-11 | Gould Electronics Inc. | Method and apparatus for sequentially metalized polymeric films and products made thereby |
US5441618A (en) * | 1992-11-10 | 1995-08-15 | Casio Computer Co., Ltd. | Anodizing apparatus and an anodizing method |
JPH06260309A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-16 | Murata Mfg Co Ltd | チップ状電子部品の製造方法 |
US5336370A (en) * | 1993-12-09 | 1994-08-09 | Chipalkatti Makarand H | Pre-treatment for plating technique |
WO1995016059A1 (fr) * | 1993-12-10 | 1995-06-15 | Taisho Kogyo Kabushiki Kaisha | Dispositif de traitement par immersion continue du type transfert horizontal |
US5720813A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-24 | Eamon P. McDonald | Thin sheet handling system |
US5904773A (en) | 1995-08-11 | 1999-05-18 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus |
US5614264A (en) | 1995-08-11 | 1997-03-25 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus and method |
US5658441A (en) * | 1995-12-18 | 1997-08-19 | Cfc, Inc. | Conveyorized spray plating machine |
TW593731B (en) * | 1998-03-20 | 2004-06-21 | Semitool Inc | Apparatus for applying a metal structure to a workpiece |
US6565729B2 (en) * | 1998-03-20 | 2003-05-20 | Semitool, Inc. | Method for electrochemically depositing metal on a semiconductor workpiece |
KR100654413B1 (ko) * | 1998-04-30 | 2006-12-05 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판의 도금방법 |
EP0971051A1 (de) | 1998-07-09 | 2000-01-12 | Giacomo Borra | Vorrichtung für die elektrophoretische Nachfarbung oder Nachlackierung von dünnen Metallgegenstanden |
US6773560B2 (en) | 1998-07-10 | 2004-08-10 | Semitool, Inc. | Dry contact assemblies and plating machines with dry contact assemblies for plating microelectronic workpieces |
US6497801B1 (en) * | 1998-07-10 | 2002-12-24 | Semitool Inc | Electroplating apparatus with segmented anode array |
WO2000003072A1 (en) | 1998-07-10 | 2000-01-20 | Semitool, Inc. | Method and apparatus for copper plating using electroless plating and electroplating |
US7048841B2 (en) | 1998-12-07 | 2006-05-23 | Semitool, Inc. | Contact assemblies, methods for making contact assemblies, and plating machines with contact assemblies for plating microelectronic workpieces |
US6303010B1 (en) | 1999-07-12 | 2001-10-16 | Semitool, Inc. | Methods and apparatus for processing the surface of a microelectronic workpiece |
US6110345A (en) * | 1998-11-24 | 2000-08-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for plating workpieces |
US6309520B1 (en) * | 1998-12-07 | 2001-10-30 | Semitool, Inc. | Methods and apparatus for processing the surface of a microelectronic workpiece |
US6645356B1 (en) * | 1998-12-07 | 2003-11-11 | Semitool, Inc. | Methods and apparatus for processing the surface of a microelectronic workpiece |
WO2000040779A1 (en) | 1998-12-31 | 2000-07-13 | Semitool, Inc. | Method, chemistry, and apparatus for high deposition rate solder electroplating on a microelectronic workpiece |
KR100695660B1 (ko) * | 1999-04-13 | 2007-03-19 | 세미툴 인코포레이티드 | 개선된 처리 유체 유동을 갖는 처리 챔버를 구비하는가공편 프로세서 |
US7189318B2 (en) * | 1999-04-13 | 2007-03-13 | Semitool, Inc. | Tuning electrodes used in a reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
US6916412B2 (en) | 1999-04-13 | 2005-07-12 | Semitool, Inc. | Adaptable electrochemical processing chamber |
US7160421B2 (en) * | 1999-04-13 | 2007-01-09 | Semitool, Inc. | Turning electrodes used in a reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
US7351315B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-04-01 | Semitool, Inc. | Chambers, systems, and methods for electrochemically processing microfeature workpieces |
US7351314B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-04-01 | Semitool, Inc. | Chambers, systems, and methods for electrochemically processing microfeature workpieces |
US20030038035A1 (en) * | 2001-05-30 | 2003-02-27 | Wilson Gregory J. | Methods and systems for controlling current in electrochemical processing of microelectronic workpieces |
US6368475B1 (en) * | 2000-03-21 | 2002-04-09 | Semitool, Inc. | Apparatus for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
US7264698B2 (en) * | 1999-04-13 | 2007-09-04 | Semitool, Inc. | Apparatus and methods for electrochemical processing of microelectronic workpieces |
US7020537B2 (en) * | 1999-04-13 | 2006-03-28 | Semitool, Inc. | Tuning electrodes used in a reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
US7438788B2 (en) * | 1999-04-13 | 2008-10-21 | Semitool, Inc. | Apparatus and methods for electrochemical processing of microelectronic workpieces |
US7585398B2 (en) * | 1999-04-13 | 2009-09-08 | Semitool, Inc. | Chambers, systems, and methods for electrochemically processing microfeature workpieces |
US7645366B2 (en) * | 1999-07-12 | 2010-01-12 | Semitool, Inc. | Microelectronic workpiece holders and contact assemblies for use therewith |
US6673216B2 (en) * | 1999-08-31 | 2004-01-06 | Semitool, Inc. | Apparatus for providing electrical and fluid communication to a rotating microelectronic workpiece during electrochemical processing |
KR100659544B1 (ko) * | 1999-11-12 | 2006-12-19 | 에바라 유지라이토 코포레이션 리미티드 | 비아 필링 방법 |
US20050183959A1 (en) * | 2000-04-13 | 2005-08-25 | Wilson Gregory J. | Tuning electrodes used in a reactor for electrochemically processing a microelectric workpiece |
AU2001259504A1 (en) * | 2000-05-24 | 2001-12-03 | Semitool, Inc. | Tuning electrodes used in a reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
WO2002023613A2 (en) * | 2000-09-15 | 2002-03-21 | Rodel Holdings, Inc. | Metal cmp process with reduced dishing |
WO2002029137A2 (en) * | 2000-10-03 | 2002-04-11 | Applied Materials,Inc. | Method and associated apparatus for tilting a substrate upon entry for metal deposition |
US20030010449A1 (en) * | 2001-07-16 | 2003-01-16 | Gramarossa Daniel J. | Automatic wafer processing and plating system |
US20030089613A1 (en) * | 2001-11-15 | 2003-05-15 | Ching Chang Yu | Method of selectively electroplating by screen-plating technology |
US7118658B2 (en) * | 2002-05-21 | 2006-10-10 | Semitool, Inc. | Electroplating reactor |
US8465469B2 (en) * | 2002-09-12 | 2013-06-18 | Medtronic Vascular, Inc. | Reinforced catheter and methods of making |
US20050048210A1 (en) * | 2003-01-14 | 2005-03-03 | Sam Siau | Method for plating and plating solution therefor |
US20040146461A1 (en) * | 2003-01-29 | 2004-07-29 | Vincenzo Giuliano | Oral contrast media composition for computerized axial tomographic examinations and method |
US20050123681A1 (en) * | 2003-12-08 | 2005-06-09 | Jar-Wha Lee | Method and apparatus for the treatment of individual filaments of a multifilament yarn |
US20050199587A1 (en) * | 2004-03-12 | 2005-09-15 | Jon Bengston | Non-chrome plating on plastic |
US7581551B2 (en) * | 2004-09-01 | 2009-09-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Cleaning apparatus |
DE102006054846C5 (de) * | 2006-11-20 | 2012-05-03 | Permatecs Gmbh | Produktionsanlage zur Herstellung von Solarzellen im Inline-Verfahren, sowie Verfahren zur Integration eines Batch-Prozesses in eine mehrspurige Inline-Produktionsanlage für Solarzellen |
KR100856873B1 (ko) * | 2007-01-05 | 2008-09-04 | 연세대학교 산학협력단 | 무전해도금용 촉매활성 방법 |
US20090238979A1 (en) * | 2008-03-21 | 2009-09-24 | William Decesare | Method of Applying Catalytic Solution for Use in Electroless Deposition |
FR2934609B1 (fr) * | 2008-07-30 | 2011-07-22 | Jet Metal Technologies | Procede non eletrolytique de metallisation en ligne de substrats par projection avec traitement de surface prealable et dispositif pour la mise en oeuvre du procede. |
CN102453915B (zh) * | 2010-10-27 | 2014-03-12 | 富葵精密组件(深圳)有限公司 | 蚀刻装置及使用该蚀刻装置蚀刻基板的方法 |
CN102508583B (zh) * | 2011-09-30 | 2014-05-21 | 南京熊猫电子股份有限公司 | 电容式触摸屏金属引线的制备方法 |
CN102673053B (zh) * | 2012-06-05 | 2016-05-11 | 深圳市五株科技股份有限公司 | 覆铜板、印刷电路板及其制造方法 |
CN103786386B (zh) * | 2014-02-28 | 2016-08-17 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种abs塑料表面涂层及其制备方法 |
CN104164689A (zh) * | 2014-07-30 | 2014-11-26 | 东莞市五株电子科技有限公司 | 一种水平前处理垂直连续式电镀设备 |
CN104862760A (zh) * | 2015-06-11 | 2015-08-26 | 重庆德凯覆铜板有限公司 | 铝板表面阳极氧化生产线 |
CN105018980A (zh) * | 2015-07-23 | 2015-11-04 | 珠海元盛电子科技股份有限公司 | 一种印制电路板孔金属化离子液体镀金的电镀液及电镀方法 |
CN107087867B (zh) * | 2017-06-29 | 2018-12-14 | 绍兴上虞文丰礼品有限公司 | 一种便捷珠宝镀金装置 |
CN114222433B (zh) * | 2022-01-25 | 2022-08-09 | 东莞塘厦裕华电路板有限公司 | 一种印刷电路板湿化学处理设备 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2942719A (en) * | 1956-02-06 | 1960-06-28 | American Can Co | Apparatus for treating articles |
US3801387A (en) * | 1971-10-18 | 1974-04-02 | Chemcut Corp | Etchant remover apparatus and method |
US3905827A (en) * | 1971-10-18 | 1975-09-16 | Chemcut Corp | Etchant rinse method |
US4015706A (en) * | 1971-11-15 | 1977-04-05 | Chemcut Corporation | Connecting modules for an etching system |
US3776800A (en) * | 1971-12-06 | 1973-12-04 | Chemut Corp | Etching apparatus |
US3801478A (en) * | 1972-01-27 | 1974-04-02 | Cottbus Textilkombinat | Process of metallizing polymeric materials |
US4046248A (en) * | 1974-01-15 | 1977-09-06 | Chemcut Corporation | Connecting and alignment means for modular chemical treatment system |
US3954570A (en) * | 1974-11-11 | 1976-05-04 | Amp Incorporated | Sensitized polyimides and circuit elements thereof |
US4017982A (en) * | 1975-07-28 | 1977-04-19 | Chemcut Corporation | Drying apparatus |
US4402800A (en) * | 1981-10-02 | 1983-09-06 | Ash James J | Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like |
US4402799A (en) * | 1981-10-02 | 1983-09-06 | Chemcut Corporation | Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like |
US4385967A (en) * | 1981-10-07 | 1983-05-31 | Chemcut Corporation | Electroplating apparatus and method |
US4617204A (en) * | 1983-01-04 | 1986-10-14 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Chemical synthesis of thin films and supported crystals by oxidation of zintl anions |
US4454003A (en) * | 1983-01-06 | 1984-06-12 | Systems Engineering & Manufacturing Corp. | Printed circuit board component conveyor apparatus and process |
US4511597A (en) * | 1983-10-12 | 1985-04-16 | Kollmorgen Technologies Corporation | Method for depositing a metal on a surface |
JPS60218477A (ja) * | 1984-04-11 | 1985-11-01 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 無電解付着のための触媒化処理法 |
DE3423457A1 (de) * | 1984-06-26 | 1986-01-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von leiterplatten |
-
1985
- 1985-04-23 US US06/726,049 patent/US4576685A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-11-15 NL NL8503147A patent/NL8503147A/nl not_active Application Discontinuation
- 1985-11-22 IT IT8567980A patent/IT1215167B/it active
- 1985-11-29 JP JP60267569A patent/JPS61246372A/ja active Granted
- 1985-11-29 CN CN85108685.3A patent/CN1015996B/zh not_active Expired
- 1985-12-07 DE DE19853543286 patent/DE3543286A1/de active Granted
- 1985-12-11 SE SE8505859A patent/SE463625B/sv not_active IP Right Cessation
- 1985-12-16 BG BG072728A patent/BG60260B1/bg unknown
- 1985-12-16 AT AT0361585A patent/AT395022B/de not_active IP Right Cessation
- 1985-12-18 SU SU853990693A patent/SU1660595A3/ru active
- 1985-12-20 LU LU86221A patent/LU86221A1/fr unknown
- 1985-12-20 GB GB8531409A patent/GB2174107B/en not_active Expired
- 1985-12-20 FR FR8518956A patent/FR2580671B1/fr not_active Expired
- 1985-12-20 CH CH5467/85A patent/CH668270A5/de not_active IP Right Cessation
- 1985-12-20 BE BE0/216039A patent/BE903914A/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19736805A1 (de) * | 1997-08-23 | 1999-02-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur naßchemischen Behandlung von Teilen |
DE19830212A1 (de) * | 1998-07-07 | 2000-01-20 | Angew Solarenergie Ase Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Gegenständen, insbesondere scheibenförmigen Gegenständen wie Blechen, Glasplatten, Leiterplatten, Keramiksubstraten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LU86221A1 (fr) | 1986-04-14 |
SU1660595A3 (ru) | 1991-06-30 |
ATA361585A (de) | 1992-01-15 |
IT1215167B (it) | 1990-01-31 |
CN85108685A (zh) | 1986-10-22 |
BG60260B2 (en) | 1994-03-24 |
FR2580671B1 (fr) | 1989-07-28 |
NL8503147A (nl) | 1986-11-17 |
CH668270A5 (de) | 1988-12-15 |
DE3543286A1 (de) | 1986-10-23 |
JPS61246372A (ja) | 1986-11-01 |
BG60260B1 (bg) | 1994-03-24 |
US4576685A (en) | 1986-03-18 |
SE463625B (sv) | 1990-12-17 |
IT8567980A0 (it) | 1985-11-22 |
GB8531409D0 (en) | 1986-02-05 |
BE903914A (fr) | 1986-04-16 |
GB2174107B (en) | 1989-04-19 |
FR2580671A1 (fr) | 1986-10-24 |
SE8505859D0 (sv) | 1985-12-11 |
GB2174107A (en) | 1986-10-29 |
AT395022B (de) | 1992-08-25 |
SE8505859L (sv) | 1986-10-24 |
CN1015996B (zh) | 1992-03-25 |
JPH0571665B2 (de) | 1993-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3543286C2 (de) | ||
DE3645319C2 (de) | Anordnung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von plattenförmigen Gegenständen | |
EP0390967A2 (de) | Wässriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und rissfreien Kupferüberzügen und Verwendung dieses Bades | |
DE3236545A1 (de) | Verfahren zum elektroplattieren und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE4324330C2 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von insbesondere flachem Behandlungsgut, sowie Anordnung, insbesondere zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE2320199B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen gedruckter Leiterplatten | |
WO2007118875A2 (de) | Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung | |
EP0561184B1 (de) | Einrichtung zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere Galvanisiereinrichtungen für Leiterplatten | |
DE10241619A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von zumindest oberflächlich elektrisch leitfähigem Behandlungsgut | |
WO1995031590A1 (de) | Vorrichtung zur behandlung von leiterplatten | |
WO2003038158A2 (de) | Galvanisiereinrichtung und galvanisiersystem zum beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten strukturen | |
EP0792391A1 (de) | Vorrichtung zur elektrolytischen behandlung von plattenförmigen werkstücken, insbesondere von leiterplatten | |
EP0013359A1 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen einer Lötmittelschicht auf eine Leiterplatte | |
DE3423033C2 (de) | Maschine zum Vergolden der Lamellenkontakte gedruckter Schaltungen | |
DE10234705B4 (de) | Galvanisiereinrichtung und Galvanisiersystem zum Beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten Strukturen | |
DE3935831A1 (de) | Anlage zur herstellung von durchkontaktierten leiterplatten und multilayern | |
EP0362512B1 (de) | Galvanisiereinrichtung für plattenförmige Werkstücke, insbesondere Leiterplatten | |
DE19633796B4 (de) | Vorrichtung zum Galvanisieren von elektronischen Leiterplatten | |
DE19633797B4 (de) | Vorrichtung zum Galvanisieren von elektronischen Leiterplatten oder dergleichen | |
DE102004029894B3 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen Strukturen auf Oberflächen von flachem Behandlungsgut | |
EP0652982B1 (de) | Verfahren zum elektrolytischen behandeln von insbesondere flachem behandlungsgut, sowie anordnung, insbesondere zur durchführung dieses verfahrens | |
AT396311B (de) | Vorrichtung zur kontinuierlichen oberflaechenbehandlung und durchkontaktierung von leiterplatten | |
EP1187515A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Gegenständen, besonders Leiterplatten | |
EP0379648A2 (de) | Vorrichtung zum Galvanisieren oder chemischen Behandeln von metallischen Teilen | |
DE10011865C1 (de) | Einrichtung zur Beschichtung von Gegenständen, insbesondere Galvanisierung von Kleinteilen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: C25D 5/02 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH, 10553 BERLIN, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |