DE3543286A1 - Verfahren zur metallisierung von oberflaechen flacher gegenstaende - Google Patents
Verfahren zur metallisierung von oberflaechen flacher gegenstaendeInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 20
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 9
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- SDVHRXOTTYYKRY-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;dioxido-oxo-phosphonato-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)P([O-])([O-])=O SDVHRXOTTYYKRY-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)oxane-4-carboxylic acid Chemical compound C=1C=C(F)C=CC=1C1(C(=O)O)CCOCC1 CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- ZRRLFMPOAYZELW-UHFFFAOYSA-N disodium;hydrogen phosphite Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])[O-] ZRRLFMPOAYZELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001540 sodium lactate Substances 0.000 description 1
- 229940005581 sodium lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000011088 sodium lactate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
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- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Description
Verfahren zur Metallisierung von
Oberflächen flacher Gegenstände
Oberflächen flacher Gegenstände
Bei der Herstellung gedruckter Schaltungen für die Elektronikindustrie
wurde es üblich, mehrschichtige Platten, zweiseitige Platten oder dergleichen mit Durchgangslöchern darin
zur Befestigung verschiedener elektronischer Komponenten vorzusehen. Eine solche Befestigung erfolgt allgemein mit
Mitteln, die eine gute elektrische Leitfähigkeit gewährleisten.
Im Verlauf hiervon wurde es erwünscht, elektrische Leitfähigkeit von einer Oberfläche durch die Durchgangslöcher
der Platte hindurch zu einer gegenüberliegenden Oberfläche der Platte zu bekommen. Hierzu ist es erwünscht, die
Durchgangslöcher mit einem Metallüberzug, vorzugsweise Kupfer, zu beschichten. Infolge der konstruktiven Natur der
meisten Platten für gedruckte Schaltungen, d. h. da sie ein Laminat sind, das eine Sandwichstruktur allgemein mit einem
mittleren Kern aus kunstharzimprägnxerten Glasfasersträngen in einer oder mehreren Schichten mit äußeren Oberflächenschichten
einer Kupferverkleidung aufweist, war es erforderlich, Wege zu finden, die Kupferverkleidungsschichten auf
den Oberflächen der Platten für gedruckte Schaltungen miteinander zu verbinden, und dies erfolgt vorzugsweise durch
Beschichten der Durchgangslöcher. Es ist bekannt, die Durchgangslöcher
so chemisch zu präparieren, daß sie darauf aufgebrachtes Kupfer leichter annehmen.
Da industrielle Verfahren den Bedarf für schnellere Produkttion gedruckter Schaltungen wecken, wurden Verfahren für
die kontinuierliche oder im wesentlichen kontinuierliche Produktion gedruckter Schaltungen entwickelt. Beispielsweise
in der US-Patentschrift 4 015 706 ist ein Verfahren zur Behandlung
der Platten für gedruckte Schaltungen, während diese horizontal von einer Station zur anderen befördert werden,
in horizontaler Ausrichtung beschrieben, und eine solche Anordnung ist für die meisten Reinigungs-, Spül-, Ätz-,
Trockenverfahren und andere Verfahren zufriedenstellend.
Das Verkupfern von Platten für gedruckte Schaltungen und insbesondere das stromlose Metallisieren in Fällen, in denen
Schaltungsplatten sonst behandelt werden, während sie durch verschiedene Stationen wandern, erforderte bisher ein wesentlich
längeres Behandlungsverfahren als die anderen oben erwähnten Behandlungen, was eine sehr große Apparatur erforderte,
die ihrerseits großen gewerblich genutzten Raum einnahm, wenn das stromlose Metallisieren als Teil eines kontinuierlichen
oder im wesentlichen kontinuierlichen Verfahrens durchgeführt werden soll.
Die vorliegende Erfindung ist auf ein stromloses Metallisieren gerichtet, das die Gesamtlänge der Produktionslinie für
Platten für gedruckte Schaltungen wesentlich reduziert, welches aber die kontinuierliche oder im wesentlichen kontinuierliche
Durchführung des Verfahrens als Teil einer einzelnen Produktion ermöglicht. Gemäß der vorliegenden Erfindung,
die breiter als die Herstellung von Platten für gedruckte Schaltungen ist und die Metallisierung von Kunststoffen,
Keramik und anderen Oberflächen für elektrische Leitfähigkeit, elektrische Abschirmung und viele andere Funktionen
einschließt, werden die verschiedenen Verfahrensstufen durchgeführt, während die Platten (oder anderen Gegenstände,
die allgemein im wesentlichen ebene Bahnen oder Bögen aus einem Material begrenzter Flexibilität umfassen sollen) in
horizontaler Ausrichtung befördert werden, doch werden die Platten dann während des wesentlich mehr Zeit verbrauchenden
Metallisierens in vertikale Ausrichtung bewegt, wobei sie wiederum im wesentlichen kontinuierlich befördert werden,
jedoch mit einer verminderten Fördergeschwindigkeit, und danach werden die Platten wieder in eine allgemein horizontale
Ausrichtung umorientiert, wobei sie wiederum kontinuierlich oder im wesentlichen kontinuierlich durch anschließende
Spül-, Antibeschlag-, Trocknungs- oder andere Verfahren befördert werden. So bleibt das Gesamtverfahren im wesentlichen
kontinuierlich, doch indem man die Platten während des Metallisierens allgemein vertikal ausgerichtet
hält, wobei sie physikalisch viel enger beieinander sind
als während der anderen Verfahren, können sie mit einer verminderten
Geschwindigkeit wandern, während die Gesamtverfahrensgeschwindigkeit des Gesamtsystems vom Anfang bis zum
Ende im wesentlichen die gleiche bleibt.
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Die Platten können anschließend eine weitere darauf aufgebrachte Metallisierung bekommen, vorzugsweise in einer Galvanisierung
mit geeigneter Präparierung und Nachbehandlung, die auch in Verbindung damit stattfinden.
Außer Platten für gedruckte Schaltungen können die behandelten Gegenstände auch andere Formen haben, wie beim Metallisieren
von Keramikgegenständen, beim Metallisieren oder Abschirmen von Kunststoff- oder ähnlichen Teilen elektronischer
Einrichtungen, elektrischer Rechnereinrichtungen oder bei anderen Anwendungen zum Abschirmen von Kunststoffen oder
dergleichen sowie beim Metallisieren anderer Gegenstände unterschiedlicher Arten. Auch braucht der dünne Metallüberzug,
der stromlos aufgebracht wird, nicht auf Kupfer beschränkt zu sein, sondern kann Nickel, Kobalt, Gold, Silber
oder irgendeine Legierung sein, und ein nachfolgendes Metallisieren kann darin bestehen, daß ein dickerer Überzug dieser
und/oder anderer Metalle, vorzugsweise elektrolytisch, aufgebracht wird.
Die Erfindung gestattet einen geringeren Anfall von Ausschuß,
da Gegenstände gleichmäßiger gehandhabt werden, ein geringeres Auftreten von Oxidation, da sie im wesentlichen
kontinuierlich ohne Unterbrechung von Behandlung zu Behandlung gehen und die Zeit, die eine Oxidation gestatten würde,
verkürzt wird, sowie verminderte Arbeitskosten infolge der im wesentlichen kontinuierlichen Natur des Verfahrens.
Demnach ist es das Hauptzielt der Erfindung, ein neues Verfahren zur stromlosen Metallisierung von Gegenständen zu
bekommen.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, eine neue Vorrich-
tung zur stromlosen Metallisierung von Gegenständen zu erhalten.
Noch ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein neues Verfahren
zur stromlosen Verkupferung oder anderen Metallisierung von Platten für gedruckte Schaltungen oder anderen Gegenständen
zu bekommen, und zwar entweder getrennt von oder kombiniert mit einer anschließenden Metallisierung entweder
vom stromlosen Typ oder vom Galvanisierungstyp.
Noch ein anderes Ziel ist es, eine neue Vorrichtung zur stromlosen Verkupferung oder anderen Metallisierung von
Platten für gedruckte Schaltungen oder anderen Gegenständen entweder getrennt von oder kombiniert mit einer nachfolgenden
Metallisierung entweder vom stromlosen Typ oder vom Galvanisiertyp zu bekommen.
Andere Ziel der Erfindung sind etwa die Aufbringung eines metallischen leitfähigen Überzuges auf im wesentlichen
nichtmetallischen Oberflächen und dergleichen.
Andere Ziele und Vorteile der Erfindung werden für den Fachmann beim Lesen der folgenden kurzen Beschreibung der Zeichnungsfiguren,
der detailierten Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform sowie der beigefügten Ansprüche leicht verständlich.
In der Zeichnung bedeuten
Fig. 1 eine schematische seitliche Ansicht verschiedener Stationen in dem Verarbeitungssystem, wobei eine Anzahl
jener Stationen weggebrochen gezeigt ist, um mehrere unterschiedliche Verfahrensstationen zu simulieren,
gemäß der Erfindung, wobei der Strom der zu behandelnden Gegenstände (Platten für gedruckte
Schaltungen) durch das Verfahren von links nach rechts geht,
Fig. 2 einen vergrößerten Teilquerschnitt durch eine Platte für gedruckte Schaltungen gemäß einer Herstellungsstufe dieser Erfindung, besonders der chemischen Reduktionsstufe,
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Fig. 3 eine ähnliche Darstellung wie Fig. 2, worin jedoch die Aufbringung von Kupfer auf ein Durchgangsloch
der Platte für gedruckte Schaltungen nach der Metallisierungsstufe erläutert ist, und
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Fig. 4 ein schematisches Fließbild einer Anzahl von Verfahrens
stufen oder -Stationen, die gemäß der Erfindung realisiert werden können.
Bei der Erläuterung der Zeichnung im einzelnen wird zunächst auf Fig. 1 Bezug genommen, in der eine bevorzugte Ausführungsform
der Erfindung, die die stromlose Metallisierung einschließt, mit mehreren Stationen erläutert ist.
Betrachtet man die Vorrichtung gemäß Fig. 1 von links nach rechts, so sieht man, daß es dort eine allgemein mit dem
Bezugszeichen 10 versehene Eingangsstation in schematischer Erläuterung als vertikaler Längsschnitt gibt, wobei die Eingangsstation
10 so ausgebildet ist, daß sie unmetallisierte Gegenstände (Platten für gedruckte Schaltungen PCB in der
bevorzugten Ausführungsform) auf einer Eingangsfläche von ihr aufnimmt, damit diese Gegenstände von links nach rechts
durch die Anlage gemäß Fig. 1 wandern, wie erläutert ist.
Die Eingangsstation kann nach den Richtlinien des Eingangsmoduls konstruiert sein, der in der US-Patentschrift 4 015
706 beschrieben ist, auf dessen gesamten Inhalt hier Bezug genommen wird, damit die Gegenstände entlang einem vorbestimmten
Weg wandern, der rotierende Räder 11 oder ähnliche drehbare Teile aufweist. Die Platten für gedruckte Schaltungen
werden dann an eine oder mehrere Vorbereitungsstationen oder -moduln abgegeben, die gemeinsam mit dem Bezugszeichen
12 versehen sind, wie durch die gebrochenen schematischen
Linien 13 angezeigt ist. Die Stationen 12 können Entschmutzungsstationen
aufweisen, um Chemikalien auf die Platten für gedruckte Schaltungen aufzubringen, um Fett oder andere
Verschmutzungen darauf zu entfernen und/oder die Oberflächen zu behandeln, damit eine Verschmutzung darauf verhindert
wird.
Außerdem können die Stationen 12 eine oder mehrere Spülstationen und eine oder mehrere Ätzstationen aufweisen. Es ist
auch verständlich, daß die Walzen 11 in der ganzen Vorrichtung gemäß Fig. 1 alle vorzugsweise von einem gemeinsamen
Antrieb angetrieben werden, wie dies in der US-Patentschrift 4 015 706 beschrieben ist, um die Platten für gedruckte
Schaltungen PCB von links nach rechts durch die Apparatur zu befördern.
Die Stationen 12 besitzen allgemein Behälter 14 mit Einlaß- und Auslaßöffnungen 15 und 16, vorzugsweise von schlitzartiger
Natur, die gegebenenfalls mit (nicht gezeigten) flexiblen Klappen darüber versehen sein können, um den Durchgang
unerwünschter Fließmittelmengen in solche und aus solchen Öffnungen zu verhindern, und im übrigen sind die Stationen
12 so ausgebildet, daß sie Flüssigkeiten 17 darin mit irgendeinem vorbestimmten Flüssigkeitsspiegel 18 enthalten.
Nimmt man noch einmal Bezug auf die erläuternden Stationen 12, so sieht man, daß eine Pumpe 20 (allgemein elektrisch
betrieben) vorgesehen ist, um eine erwünschte Reinigungs-, Spül-, Ätz- oder andere Lösung durch geeignete Aufbringungseinrichtungen
entweder vom Überspülungsstabtyp 21 oder vom Sprühstabtyp 22 zu pumpen. Wenn die Aufbringungseinrichtungen
vom Überspülungstyp sind, dann sind sie allgemein mit länglichen Kanälen 23 versehen, die in Querrichtung vollständig
durch die Apparatur verlaufen, um einen Vorhang oder einen Schleier von aufgebrachter Flüssigkeit zu bilden. Wenn
die Aufbringungseinrichtungen vom Besprühungstyp 22 sind, können sie beispielsweise in der Weise der Sprühstäbe der
US-Patentschrift 3 905 827 konstruiert sein, auf deren Of-
fenbarung hier Bezug genommen wird, oder sie können in irgendeiner
anderen Weise konstruiert sein, erstrecken sich aber wiederum allgemein in einer Querrichtung über die ganze
Apparatur und sind mit Auslaßöffnungen versehen, um Flüssigkeit, die ihnen von der Pumpe 20 über die Zuführ leitungen
25 zugeführt wurde, zu versprühen. Es ist auch festzustellen, daß mehrere Niederhaltewalzen 26 benutzt werden können,
um die Platten für gedruckte Schaltungen PCB auf der oberen Fläche der Fördereinrichtungen oder anderen rotierenden Tei-Ie
11 zu halten, während sie einer Besprühung oder anderen Abgabe einer Behandlungsflüssigkeit von den Sprühdüsen 20
oder Überspülungsstäben 21 beim Durchgang der Platten für gedruckte Schaltungen PCB in Längsrichtung durch die Vorrichtung
gemäß Fig. 1 unterzogen werden.
Nachdem die Platten für gedruckte Schaltungen PCB in Kammern, wie jenen mit dem Bezugszeichen 14, durch Vorbereitungstechniken
behandelt wurden, werden sie dann vorzugsweise in eine oder mehrere Aktivierungskammern 30, die ebenfalls
vorzugsweise für einen gemeinsamen Antrieb mit den anderen erwähnten Moduln oder Stationen verbunden sind,
überführt, wobei eine chemische Aktivierungslösung vorzugsweise auf den Platten für gedruckte Schaltungen PCB vorgesehen
wird, bevor eine chemische Reduktionslösung in einer oder mehreren nachfolgenden Stationen, Apparaturen oder Moduln 31 darauf aufgebracht wird.
Bei der Station 30 wird die chemische Aktivierungslösung aufgebracht, während die Platte für gedruckte Schaltungen
sich entlang ihrem vorbestimmten Weg bewegt, und zwar allgemein mit Hilfe einer Pumpe 31, die diese Lösung von einem
Sumpf 32 im Boden einer Kammer 33 über Zulieferleitungen 34 zu geeigneten Sprüheinrichtungen 35 oder dergleichen
überführt. Es ist verständlich, daß anstelle von Sprüheinrichtungen 35 auch gegebenenfalls Überspülungsstäbe benutzt
werden können.
Vorzugsweise kann die an der Station 30 aufgebrachte Akti-
vierungslösung eine alkalische Palladiumlösung sein, die unter der Handelsbezeichnung NEOGANTH der Schering AG bekannt
ist und in einem Ionenpalladiumverfahren arbeitet. Die Lösung kann einen pH-Wert im Bereich von 7 bis 12 und
eine Betriebstemperatur von 20 0C bis 50 0C haben und aus
folgenden Bestandteilen bestehen:
Palladiumchlorid: 10 - 400 mg/1 Palladium
Natriumhydroxid: 3 - 20 g/l
Borsäure: 5 - 25 g/l
Komplexbildner: 5 - 100 g/l
Unter besonderer Bezugnahme auf Fig. 2 wird eine Platte 40 für gedruckte Schaltungen mit einer Innenschicht 41, die
allgemein aus einer mit Kunstharz imprägnierten Glasfaserkonstruktion besteht, mit Kupferaußenschichten 43 darauf
(und gegebenenfalls einer oder mehreren nichtgezeigten Kupferinnenschichten)
und einem nicht außen liegenden Abschnitt 44, der ein Durchgangsloch von einer Oberfläche 42 zu der
anderen Oberfläche 43 durch die Platte für gedruckte Schaltungen 40 hindurch bildet, erläutert. In dieser Darstellung
ist die Aktivierungslösung 45 im Verfahren gezeigt, wobei die Platte für gedruckte Schaltungen und vorzugsweise ihre
Durchgangsöffnungen 44, die nicht mit einem Kupferüberzug
versehen sind, zur Annahme einer reduzierenden Lösung darauf vorbereitet werden. ·
Unter Bezugnahme auf die Station 31 ist ersichtlich, daß eine reduzierende Lösung von einem Sumpf 51 am Boden eines
Behälters 50 (wiederum schematisch so erläutert, daß er entweder einen oder mehrere Behälter umfaßt, je nach der Anzahl
und Typen von Verfahren, die an diesem Punkt angewendet werden sollen) geliefert wird, wobei die reduzierende Lösung
von einer Pumpe 52 in dem Sumpf 51 an Sprühdüsen 53 oder gegebenenfalls Überspülungsstäbe 54 über Anlieferleitungen
55 überführt wird.
Die chemisch reduzierende Lösung oder Reduktionsmittellö-
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sung, die auf den Platten für gedruckte Schaltungen aufgebracht wird, wenn diese in Längsrichtung durch die Stationen
31 gehen, ist auch schematisch in Fig. 2 in der gleichen Weise wie oben die Aktivierungslösung erläutert.
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Die reduzierende Lösung reduziert vorzugsweise das komplexgebundene
Palladium zu metallischem Palladium, um während der anschließenden Metallisierung das rasche Überziehen mit
Kupfer zu fördern. Die spezielle reduzierende Lösung kann eine solche sein, die unter dem Warenzeichen NEOGANTH der
Schering AG bekannt ist. Die reduzierende Lösung kann folgendermaßen zusammengesetzt sein und einen pH-Wert im Bereich
von 8 bis 12 und eine Arbeitstemperatur von 20 0C bis 60 0C haben:
Natriumborhydrid: 0,1 - 5 g/l
Natriumhypophosphat: 10 - 80 g/l
Es ist verständlich, daß der Betrieb des Verfahrens über
die verschiedenen oben beschriebenen Stationen erfolgt, während
Platten für gedruckte Schaltungen im wesentlichen kontinuierlich durch die Vorrichtung geführt werden, und daß
die Vorrichtung an verschiedenen Stellen Inspektionsmoduln oder -einrichtungen haben kann, die in der Forderlinie zwisehen
den verschiedenen Stationen angeordnet sind, und Antriebsmoduln oder '-einrichtungen sowie einen Auslaßmodul
bzw. eine Auslaßeinrichtung 60 haben kann, an den oder die die Platten für gedruckte Schaltungen überführt werden, wenn
sie die Auslaßöffnung 61 der letzten Bearbeitungsstation vor ihrer Überführung in einen Metallisierungsmodul bzw.
eine Metallisierungsstation 62 verlassen.
Unmittelbar vor oder bei Beginn der Abgabe der Platten für gedruckte Schaltungen in Reihe an die Metallisierungsstation
62 werden sie aus ihrer allgemein ebenen horizontalen Ausrichtung in eine allgemein vertikale parallele Ausrichtung,
bei der Oberfläche zu Oberfläche blickt, mit irgendeiner geeigneten Einrichtung, die die vorzugsweise schnelle über-
-Xo-
führung bewirkt, überführt. Bezüglich der Station 62 ist eine solche Einrichtung erläutert. Sie überführt die Platten
für gedruckte Schaltungen von drehbaren Elementen 59 der Ausgangsstation 60 zu einer Lage zwischen dem Walzenspalt
zwischen einem Paar einander gegenüberliegender rotierender Walzen 63 und 64, die vorzugsweise von dem gleichen gemeinsamen
(nicht gezeigten) Antrieb, der die drehbaren Elemente 11 und 59 in den verschiedenen oben erwähnten Stationen antreibt,
angetrieben. Die Walzen 63 und 64 sind derart angeordnet, daß, wenn die Platte für gedruckte Schaltungen in
ihrem Walzenspalt 65 aufgenommen wird, die am weitesten links liegenden Enden 66 der Platten für gedrucke Schaltungen
aufwärts gekippt werden, wobei sie durch den Walzenspalt 65 in Abwärtsrichtung gehen, wie gestrichelt an dem am weitesten
links liegenden Ende der Station 62 erläutert ist. Während sie so überführt werden, treffen die Platten für
gedruckte Schaltungen auf eine gekrümmte Oberfläche 67, um die Platten für gedruckte Schaltungen reihenweise in Schlitze
70 eines antreibbaren Endlosförderbandes 82 oder dergleichen zu führen. Das Umlenkteil 68 wird von einem Stoßstab
71 getragen, der seinerseits von einem Zylinder 72 für eine Aufwärts- oder Abwärtsbewegung angetrieben wird, wie durch
den Doppelpfeil 73 gezeigt ist, um das Umlenk- oder Mitnehmerteil 68 schnell in seine Stellung und aus seiner Stellung
zu bewegen, um nicht die Bewegung einer gerade in verikale Position gebrachten, in dem Schlitz 70 abgelagerten
Platte für gedruckte Schaltungen nach rechts zu stören und sie in dem Schlitz durch Reibberührung mit den Seiten des
Schlitzes zu halten.
Die Aktivierung des Zylinders 72 kann von der Walze 64 mit Hilfe eines geeigneten vorhandenen Detektors, der über eine
Signalleitung 65, über einen Zeitgeber oder eine andere geeignete Steuereinrichtung 76 arbeitet, gesteuert werden,
um die geeignete zeitliche Abstimmung des Betriebs des Zylinders 72 derart zu steuern, daß das Umlenk- oder Mitnehmerteil
68 zu der geeigneten Zeit in seine Stellung und aus seiner Stellung gebracht wird. Diese Steuerung des Betriebs
des Zylinders 76 kann elektrisch, pneumatisch, hydraulisch
oder anderweitig erfolgen, und die Zeitgabe kann gegebenenfalls so erfolgen, daß über die Steuerleitung 77 eine Koordination
mit der zeitlichen Abstimmung des Antriebs eines Motors 78 wiederum gegebenenfalls über eine geeignete Zeitgebereinrichtung
80 erfolgt, die ihrerseits die Drehung einer Antriebswalze 81 im Uhrzeigersinn an dem am weitesten
links gelegenen Ende des Förderbandes 82 steuern kann.
Mit einer Platte für gedruckte Schaltungen dann so in vertikaler Stellung und mit dem Mitnehmerteil 68 aufwärts
aus einer Störstellung zwischen benachbarten Schlitzen 70 auf dem oberen Trum des Förderbandes 82 bewegt, kann die
die Platte für gedruckte Schaltungen, die gerade in dem Förbandschlitz 70 abgesetzt wurde, nach rechts in der Richtung
des Pfeiles 83 durch ein Metallisierbad 84 mit der erwünschten Fördergeschwindigkeit kleiner als die Fördergeschwindigkeit
der Platten für gedruckte Schaltungen beispielsweise durch die Stationen 12, 30 und 31 bewegt werden.
Es ist festzustellen, daß die Länge des Förderbandes 82 in Längsrichtung vorausbestimmt wird, um die erwünschte Verweilzeit
der Platten für gedruckte Schaltungen in dem Bad 84 der Station 62 gemäß der erwünschten Metallisierungsdikke,
die in der Kammer 85 der Station 62 erhalten werden soll, zu bekommen.
Es ist festzustellen, daß der Motor 78 den Mechanismus antreiben kann, der die horizontale Bewegung der vertikal angeordneten
Platten durch die Station 62 entweder kontinuierlich oder im wesentlichen kontinuierlich ergibt. Wenn die
Bewegung kontinuierlich ist, wäre es erforderlich, das obere Abziehen des Mitnehmerteils 68 sehr genau zu koordinieren
und den genauen Zeitablauf der geeigneten Positionierung der Quer schlitze 70 in dem Band 82 einzustellen, um die darin
abzusetzenden Platten für gedruckte Schaltungen aufzunehmen. Eine im wesentlichen kontinuierliche horizontale
Bewegung vertikal ausgerichteter Platten in dem Bad kann
jedoch durch eine kontinuierliche Stopp- und Gehbewegung erreicht werden, bei der das Band 82 jeweils momentan anhält,
wenn ein Querschlitz 70 hiervon eine äußere Totpunktstellung auf der Walze 81 erreicht, wobei das Mitnehmerteil 68 sich
in der in Fig. 1 erläuterten Stellung befindet, um die Platte für gedruckte Schaltungen genau in den Schlitz 70 zu bewegen,
wie er durch die Walzen 63 und 64 angetrieben wird. Sobald sich die Platte für gedruckte Schaltungen an ihrer
Stelle in dem Schlitz 71 befindet, wird im wesentlichen augenblicklich danach der Zylinder 72 das Mitnehmerteil 68
abziehen, und sobald as Mitnehmerteil 68 in genügendem Abstand von einer dann vertikal angeordneten Platte für gedruckte
Schaltungen ist, kann der Motor 78 wieder eine Bewegung des oberen Trums des Bandes 82 in einer Längsrichtung
von links nach rechts beginnen, wie in Fig. 1 dargestellt ist. Darin ist eine Bewegung über die Länge "D", den Abstand
zwischen einander benachbarten Schlitzen 70 angezeigt, an welchem Punkt der Motor 78 anhält und dabei die Bewegung
des Bandes und aller von ihm getragenen, vertikal angeordneten Platten für gedruckte Schaltungen stoppt, so daß das
Mitnehmerteil 68 durch den Zylinder 72 abwärts getrieben werden kann, um wiederum eine Mitnehmerstellung zur Erleichterung
des Eintrittes einer nächstnachfolgenden Platte für gedruckte Schaltungen in einen nächstnachfolgenden Schlitz
70 zu erleichtern. So ist ein solcher Betrieb zwar technisch eine Stopp- und Gehbewegung ähnlich einer Uhrenmechanismusbewegung,
aber im wesentlichen kontinuierlich. Es ist auch zu verstehen, daß die genaue Einrichtung zur Bewirkung einer
Bewegung vertikal angeordneter Platten für gedruckte Schaltungen durch ein Bad 84 stark variieren kann, wenn dies für
die speziell erläuterte Bandanordnung erwünscht ist, und irgendeinen geeigneten kontinuierlichen oder im wesentlichen
kontinuierlichen Antriebsmechanismus aufweisen kann. Auch ist verständlich, daß die oben diskutierte spezielle Apparatür,
wie die Walzen 63, 64 und das Mitnehmerteil 68 und verbundene Teile, bloß eine mögliche Anordnung zur Ausrichtung
der Platten für gedruckte Schaltungen aus der horizontalen in die verikale Stellung ist .
Wenn die Platten für gedruckte Schaltungen zu dem rechten Ende des Behälters 85 befördert werden, können sie aus einer
vertikalen Ausrichtung in eine horizontale Ausrichtung durch irgendeinen geeigneten Umorientierungsmechanismus überführt
werden. In Fig. 1 ist ein solcher Mechanismus so dargestellt, daß er ein Paar einander gegenüberliegender Walzen
90, 91 aufweist, die angetrieben sind und einen Walzenspalt 92 zwischen sich bilden, um eine angelieferte Platte für
gedruckte Schaltungen dazwischen aufzunehmen, wobei die WaI-ze 91 im Uhrzeigersinn angetrieben ist, wie in Fig. 1 erläutert
ist, und die Walze 90 im Gegenuhrzeigersinn angetrieben ist, um eine Platte für gedruckte Schaltungen PCB aus
ihrem Spalt auf dem oberen Trum des Bandes 82 dahinein zu heben, wie in der gestrichelten Darstellung bei 93 erläutert
ist, um wieder in Anlage an eine Mitnehmer- oder Umlenkflache
94 zu gelangen. Die Mitnehmerfläche 94 kann eine stationäre
sein, um die Platte für gedruckte Schaltungen auf drehbare
Elemente 95 am Auslaßende der Kammer 85 durch eine Auslaßöffnung 96 darin zu führen.
Es ist festzustellen, daß die Walze 90 in der erläuterten Anordnung von einem geeigneten Stoß/Ziehstab 97 getragen
ist, der seinerseits von einem geeigneten Zylinder 98 angetrieben wird, um sich in der Richtung des Doppelpfeiles 100
aufwärts und abwärts in die Stellung und aus der Stellung in genau der gleichen Weise wie die Aufwärts- und Abwärtsbewegung
des Mitnehmerteils 68 zu bewegen, um eine überführung
vertikal ausgerichteter Platten danach bis gerade vor das Eintreten in den Walzenspalt 92 zu gestatten. Es ist auch
ersichtlich, daß geeignete Zeitgebereinrichtungen 101 verwendet werden können, die mit dem Zylinder 98 verbunden sind
und die mit der Antriebswalze 91 über geeignete Steuerverbindungsleitungen 102, 103 verbunden sind, um den Antrieb
der Walzen 90, 91 mit der Aufwärts- und Abwärtsbewegung des Stabes 97 zu koordinieren.
Es ist vorzugsweise auch erwünscht, eine Einrichtung zur Erhitzung
des Bades 84 in der Kammer 85 entweder durch einen
elektrischen Erhitzer oder einen Dampferhitzer oder dergleichen 104 vorzusehen, um das Bad 84 auf der erwünschten Temperatur
zu halten.
Das Bad 84 besteht aus einer stromlosen Kupferlösung, die
eine von der Schering AG unter der Handelsbezeichnung PRIN-TOGANTH vertriebene Lösung sein kann, um die erwünschte Dikke
von Kupfer stromlos auf Platten für gedruckte Schaltungen während ihrer Verweilzeit in dem Bad niederzuschlagen.
Wenn das Bad eine Kupferlösung ist, kann sie folgendermaßen zusammengesetzt sein, um einen pH-Wert im Bereich von 10
bis 13,5 zu haben, und die Betriebstemperatur kann im Bereich von 20 0C bis 70 0C liegen:
Kupfer-II-chlorid: 1-15 g/l
Ethylendiamintetraessigsäure: 5-25 g/l
Natriumhydroxid: 5-15 g/l
Formaldehyd: 3-10 g/l
Ablagerungsgeschwindigkeit: 2-10 μ/h
Es ist zu verstehen, daß auch andere Metalle mit dem Bad 84 anstelle einer stromlosen Kupferlösung niedergeschlagen werden
können, wie Nickel, Kobalt, Silber, Gold oder irgendeine der zahlreichen Legierungen aus stromlosen Lösungen. Beispielsweise
wenn das Bad 84 eine Nickellösung aufweist, kann diese folgende Zusammensetzung haben, um einen pH-Wert im
Bereich von 4 bis 10 zu besitzen, und die Betriebstemperatur kann 20 0C bis 95 0C betragen:
Nickelsulfat: Natriumhydrogenphosphit: Ammoniak: Natriumhydroxid:
Komplexbildner (Tartrate oder beispielsweise
Natriumlactat oder Natriumacetat)
Stabilisator
Ablagerungsgeschwindigkeit
Natriumlactat oder Natriumacetat)
Stabilisator
Ablagerungsgeschwindigkeit
5 | - 50 | g/i |
10 | - 50 | g/i |
1 | - 50 | g/i |
1 | - 10 | g/i |
20 | - 80 | g/i |
0,01 | mm E% | g/i |
5 | - 25 | μ/h |
In Fig. 3 ist eine Platte 105 für gedruckte Schaltungen derart dargestellt, daß sie einen glasfaserverstärkten Kunstharzkern
106 mit Kupferoberflächen 107 und 108 und mit einem Kupferüberzug 109, der sich durch ein Durchgangsloch 110
zwischen einander gegenüberliegenden Oberflächen 108 erstreckt, aufweist, wobei der Kuferüberzug von der Station
62 auch auf den Kupferoberflächen 107 und 108 aufgebracht wird. Die Länge des Durchgangsloches durch die Platte 105
ist gewöhnlich ein Vielfaches ihres Durchmessers, nicht wie in der nicht maßstabsgetreuen Darstellung von Fig. 3.
Nach dem Verlassen der Station 62 werden die Platten für gedruckte Schaltungen, die sich nun wieder in horizontaler
Ausrichtung befinden, zu geeigneten Verarbeitungsstationen überführt, um zu spülen, ein Fließmittel gegen Trübwerden
aufzubringen, anschließend nochmals zu spülen usw., worauf
allgemein eine Trocknung folgt. In der Erläuterung der Fig. 1 zeigt die Station 110 schematisch eine Anordnung für ein
solches Spülen, Aufbringen eines Mittels gegen Trübwerden und anschließendes nochmaliges Spülen mit einer Kammer 111
mit einem geeigneten Einlaß 96 und Auslaß 112, die mit angetriebenen drehbaren Elementen 113 versehen ist (vorzugsweise
mit dem gleichen Antrieb angetrieben, der die drehbaren Elemente 11, 59 usw. für mehrere Stationen vor der Metallisierungsstation
62 antreibt). In dem Sumpf 114 in der Kammer 111 fördert eine Pumpe 115 eine geeignete Spülflüssigkeit,
Flüssigkeit gegen Trübwerden oder dergleichen über geeignete Förderleitungen 116 zu einer geeigneten Sprühapparatur 117
(die gegebenenfalls durch Überspülungsstäbe ersetzt sein
kann), um Platten für gedruckte Schaltungen während ihres Durchgangs durch die Station oder Stationen 110 in geeigneter
Weise naßzubehandeln. Dann werden die Platten für gedruckte Schaltungen vorzugsweise durch die Kammer 119 einer
Trockenstation 120 befördert, wobei Luftpumpen oder Gebläse 121 oder dergleichen, die damit verbundene Heizelemente 122
haben, erhitzte Luft über geeignete Leitungen 123 durch geeignete Hauben 124 zu Platten für gedruckte Schaltungen PCB
befördern, welche letztere dazwischen getragen werden, um
sie bei 125 zu einer Austragsstation 126 zu entfernen.
Unter besonderer Bezugnahme nun auf Fig. 4 wird eine Gesamtbearbeitungsanordnung
für gemäß der vorliegenden Erfindung zu behandelnde Gegenstände beschrieben. Es ist verständlich,
daß die Darstellung von Stufen oder Stationen in Fig. 4 nicht beabsichtigt, eine vollständige Darstellung derselben
in Verbindung mit irgendeinem speziellen zu bearbeitenden Gegenstand zu sein, noch zeigt die Darstellung von Fig. 4
notwendigerweise die wenigstmöglichen Stufen oder Stationen, sondern erläutert nur einige repräsentative Stufen oder Stationen.
Beginnt man mit der Fließrichtung, die durch den Pfeil 130 angezeigt ist, sieht man, daß eine erste repräsentative
Stufe für die zu behandelnden Gegenstände ein Reinigen ist, worauf ein Spülen und dann ein Trocknen, Entschmutzen,
Inspizieren und Spülen, Rückenätzen, Spülen, Trocknen, Reinigen, Spülen, Reinigen, Spülen, Ätzreinigen, dann Ätzen
(im Falle einer Platte für gedruckte Schaltungen, wie ein Kunststoff- oder Keramikteil) folgt und anschließend nacheinander
gespült, vorgetaucht, aktiviert, gespült, reduziert, reduziert und inspiziert wird. Im Falle einer Reihe
von Operationen, die in Moduln oder Bauteilen durchgeführt werden, kann es an irgendeinem Punkt in der Linie üblich
sein, ein Antriebsmodul mit der Funktion eines Antriebs aller
der miteinander verbundenen Moduln (oder Stationen) von einer gemeinsamen Quelle aus vorzusehen. Nach der letzten
Inspektionsstufe können die Gegenstände zu der oben beschriebenen stromlosen Metallisierung überführt werden. Danach
kann ein Inspizieren, Spülen, Aufbringen eines Mittels gegen Trübwerden, Spülen, Trocknen, Bürsten und Inspizieren
folgen. Die Gegenstände können dann (oder gegebenenfalls an irgendeinem Punkt nach dem stromlosen Metallisieren) gegebenenfalls
einem stromlosen Metallisierverfahren unterzogen werden (die Gegenstände entweder horizontal wie bei 131a
oder vertikal wie bei 131b) oder gegebenenfalls einem Bilderzeugungsverfahren
132 unterzogen werden. Nach dem Galvanisieren würden die Gegenstände gewöhnlich geeigneten Nachbehandlungen
unterzogen, wie einem Inspizieren, Spülen, Auf-
bringen eines Mittels gegen Trübwerden, Spülen, und sie würden in der Richtung des Pfeiles 133 einer Photolackaufbringung,
Entwicklung, Inspektion, einem Ätzen, Spülen, Trocknen und Inspizieren unterworfen und dann zum Austragen befördert
werden, wie an der Stelle des Pfeiles 134 in Fig. 4 gezeigt ist.
Wenn die Gegenstände einem Bilderzeugungsverfahren unterzogen
werden, wie bei 132, können sie entlang dem Weg 135 einem Siebdruckverfahren oder entlang dem Weg 136 einer Photolackbeschichtung
und Entwicklung unterzogen werden, um dann zu einer Metallisierungsfolge 137 nach Vorlage (vertikal
oder horizontal) geliefert zu werden, wo ein Inspizieren, Reinigen, Spülen, Ätzen, Verkupfern, Spülen, Ätzen, Zinn-Blei-Metallisieren
oder Verzinnen, Spülen, Trocknen und Inspizieren erfolgt. Danach können die Gegenstände einem Weglösen
von Trockenfilm oder einem Siebdrucken mit Druckfarbe unterzogen werden, worauf ein Spülen, Inspizieren, Ätzen,
Spülen und Inspizieren folgt, um bei 138 ausgetragen zu wer-
Es ist zu verstehen, daß, wie oben gesagt, die zu behandelnden
Gegenstände hier Kunststoffe, Keramikmaterialien oder andere allgemein nichtmetallische Gegenstände umfassen können,
nicht nur um Platten für gedruckte Schaltungen, sondern auch andere metallisierte Gegenstände einschließlich Abschirmungen
und dergleichen, herzustellen. Wenn die vorliegende Erfindung verwendet wird, um Metall auf Keramik aufzubringen,
kann sie angewendet werden, um einen elektronischen Stromkreis beispielsweise für die Verwendung unter Bedingungen
hoher Temperaturanwendung zu konstruieren. Wenn das Verfahren und die Anwendung in der vorliegenden Erfindung für
das Abschirmen von Gegenständen benutzt werden, kann dies zum Zweck einer Verminderung elektromagnetischer Interferenz
von elektrischen oder elektronischen Anlagen erfolgen, indem man Kunststoffoberflächen von Gegenständen, wie Vorder-,
Hinter- und Seitenplatten, aus denen Gegenstände hergestellt werden, oder durch Beschichten irgendwelcher anderen Gegen-
stände, die abgeschirmt werden sollen, wie Kunststoffgegenstände, mit Kunststoff imprägnierte Glasfasergegenstände
und dergleichen, mit Metallüberzogen erfolgen. Solche Überzüge können eine Kombination von stromlos aufgebrachten
Überzügen sein, die in der oben beschriebenen Weise getrennt oder zusammen mit galvanisch aufgebrachten Überzügen sind.
Wenn gemäß der vorliegenden Erfindung Galvanisieren verwendet wird, kann dies entweder in kontinuierlicher Weise oder
in diskontinuierlicher Weise (wie in einem Ansatzverfahren) geschehen, obwohl es bevorzugt ist, das Galvanisieren auf
kontinuierliche Weise durchzuführen. In Übereinstimmung mit dem Obigen wird Bezug genommen auf die Offenbarung der US-Patentschriften
4 402 799 und 4 402 800 für den Fall, daß die Platten vertikal angeordnet sind, oder der US-Patentschrift
4 385 967, in der die Platten galvanisiert werden, während sie horizontal angeordnet sind. Auf die Beschreibungen
jedes dieser Patente wird hier Bezug genommen. Es ist auch offensichtlich, daß andere geeignete Apparaturen für
die Durchführung der vorliegenden Erfindung beim Galvanisieren mit horizontaler oder vertikaler Anordnung der Platten
verwendet werden können.
Die Elektrolyten, die beim Galvanisieren nach der vorliegenden Erfindung verwendet werden, können Bäder von Kupfer,
Zinn, Blei, Kobalt, .Eisen, Silber, Gold, Palladium oder verschiedenen
Legierungen sein. Wenn der Elektrolyt Kupfer ist, kann das Bad folgende Zusammensetzung und eine Betriebstemperatur
im Bereich von 20 0C bis 50 0C haben:
30
30
Kupfersulfat: 25 - 250 g/l
Schwefelsäure: 50 - 400 g/l
Natriumchlorid: 40 - 100 mg/1
Aufheller: 1-10 g/l
Oberflächenaktives Mittel: 0,1 - 10 g/l
Stromdichte: 0,5 - 10 A/dm2
3643286
Wenn das Elektrolytbad, das zum Galvanisieren nach der Erfindung verwendet wird, beispielsweise Nickel enthalten
soll, kann das Bad folgendermaßen zusammengesetzt sein und eine Betriebstemperatur im Bereich von 20 0C bis 70 0C haben:
Nickelsulfat: 100 - 300 g/l
Nickelchlorid: 50 - 200 g/l
Borsäure: 10 - 50 g/l
Aufheller: 0,5 - 10 g/l
Oberflächenaktives Mittel: 0,1 - 10 g/l
Stromdichte: 0,5 - 10 A/dm2
Es ist somit ersichtlich, daß die vorliegende Erfindung in fast jeder Umgebung benutzt werden kann, in welcher ein metallischer
leitfähiger Überzug auf einem anderen Gegenstand erwünscht ist.
Es ist ersichtlich, daß bei der Durchführung vieler der Her-Stellungsfunktionen
und vieler der anderen Funktionen anschließend an das Metallisieren viele Mechanismen und Apparaturen
aus der bestehenden Technologie herangezogen werden können. Beispielsweise können verschiedene Sprüh-, Pump-
und Sumpfoperationen aus der US-Patentschrift 3 905 827 benutzt werden. Verschiedene Ätz- und Filterfunktionen können
aus der US-PS 3 77.6 800 benutzt werden, und verschiedene Ätzmittelentfernungstechniken, wie jene der US-PS 3 801 387,
können verwendet werden. Auch können verschiedene Trockenmethoden, wie jene der US-PS 4 017 982, angewendet werden.
Außerdem können die verschiedenen Bearbeitungsstationen nach der Erfindung in Moduln vorliegen, die in gleicher Weise
und mit gemeinsamem Antrieb wie gemäß den Prinzipien der US-Patentschriften 4 015 706 und 4 046 248 miteinander verbunden
sind.
Claims (21)
- Dr. Dieter Weber Klaus SeiflfertDipL-Chem. Dr. Dieter Weber · DipL-Phys. Klaus Seiflert Poetfach 6145-6200 WiesbadenDeutsches Patentamt Zweibrückenstr.8000 München 2PatentanwälteD-6200 Wiesbaden 1Gustav-Freytag-Straße 25 Telefon 0 6121/37 2720 + 37 25 80 Telegrammadresse: Willpa tent Telex: 4-186 247 Telekopierer Gn III06121/372111Postscheck: Frankfurt/Main 67 63-602 Bank: Dresdner Bank AG, Wiesbaden, Konto-Nr. 276 807 00 (BLZ 510 800 60)1 142-85Datum 5. Dez. 1985 We/WhSchering Aktiengesellschaft Müllerstr. 170 - 178, 1000 Berlin 65Verfahren zur Metallisierung von Oberflächen flacher GegenständePriorität: Serial No. 726 049 vom 23. April 1985 in USAPatentansprüche20 1. Verfahren zur Metallisierung von Oberflächen allgemein flacher Gegenstände, dadurch gekennzeichnet, daß mana) die Gegenstände mit wenigstens einigen allgemein flachen Außenflächen mit Bereichen allgemein nichtmetal-25 lischer Oberflächenbeschaffenheit vorsieht,b) die Gegenstände kontinuierlich und in Reihe entlang einem vorbestimmten Weg befördert,c) die Gegenstände auf Oberflächenbereichen für stromloses Metallisieren vorbereitet, während sie kontinuierlich entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, indem man wenigstens eine chemische Lösung und wenigstens eine Spülung anwendet,d) bei der Beförderung der Gegenstände diese in allgemein flacher horizontaler Ausrichtung entlang einem allgemein horizontalen Weg mit einer ersten Fördergeschwindigkeit während wenigstens eines Teils der Beförderung der Gegenstände entlang deren vorbestimmten Weg vor der Einführung der Gegenstände in ein Bad für stromlose Metallisierung bewegt,e) die Gegenstände aus ihrer allgemein flachen Horizontalausrichtung in eine allgemein vertikale Ausrichtung überführt, während sie entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, undf) im wesentlich kontinuierlich die Gegenstände in Reihe, Oberfläche gegen Oberfläche blickend, in ihrer allgemein vertikalen Ausrichtung entlang einem allgemein horizontalen Weg durch ein Bad einer stromlosen Metallösung mit einer zweiten Fördergeschwindigkeit, die wesentlich geringer als die erste Fördergeschwindigkeit ist, "bewegt und so einen dünnen Metallüberzug auf ihnen aufbringt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man nach ihrer Beförderung durch das Bad die Gegenstände aus ihrer allgemein vertikalen Ausrichtung in ihre allgemein flache horizontale Ausrichtung überführt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Gegenstände nacheinander wenigstens spült und trocknet, während sie entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden und während sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die we-nigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen.
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gegenstände Platten für gedruckte Schaltungen mit wenigstens einigen Durchgangslöchern mit nichtmetallischen Oberflächenbereichen sind.
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die stromlose Metallösung eine Lösung von Metallverbindungen aus der Gruppe Kupfer, Nickel, Kobalt, Silber, Gold und Legierungen dieser Metalle ist.
- 6. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Gegenstände nach ihrer Überführung zurück in die allgemein horizontale Ausrichtung spült und die Gegenstände, während sie entlang ihrem allgemein horizontalen Weg in allgemein flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen, trocknet.
- 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man auf dem dünnen metallischen Überzug, der in dem stromlosen Bad aufgebracht wurde, durch Galvanisieren einen weiteren Metallüberzug aufbringt, indem man die Gegenstände durch eine galvanische Lösung führt.
- 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß man als galvanische Lösung eine Lösung von Metallverbindung aus der Gruppe Kupfer, Zinn, Blei, Nickel, Kobalt, Eisen, Silber, Gold, Palladium sowie Legierungen dieser Metalle verwendet.
- 9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß man in der Galvanisierstufe die Gegenstände in Reihe und im wesentlichen kontinuierlich durch ein Galvanisierbadbefördert.
- 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch ge kennzeichnet, daß die Stufe der Vorbereitung der Gegenstände die Anwendung einer chemischen Reduktionsmittellösung auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen des Gegenstandes zur Förderung der Metallisierung derselben einschließt.
- 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorbereitung der Gegenstände die Aufbringung einer chemischen Aktiviermittellösung auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Gegenstände vor der Aufbringung der Reduziermittellösung darauf einschließt.
- 12. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Stufe der Vorbereitung der Platten die Anwendung einer chemischen Aktiviermittellösung, die Palladiumchlorid, Natriumhydroxid, Borsäure und einen Komplexbildner enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Platten einschließt, worauf die Stufe einer Anwendung einer chemischen Reduktionsmittellösung, die Natriumborhydrid und Natriumhypophosphat enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereiche ' der Platten folgt, um eine Verkupferung derselben zu fördern, daß die stromlose Metallösung eine Lösung von Kupfer-II-chlorid, Ethylendiamintetraessigsäure, Natriumhydroxid, Formaldehyd und eines Stabilisators ist, einschließlich der Stufe einer Überführung der Platten aus einer allgemein vertikalen Ausrichtung in eine allgemein flache horizontale Ausrichtung nach ihrer Wanderung durch das stromlose Bad, gefolgt von den Stufen eines Spülens der Platten nach ihrer Überführung zurück in eine allgemein horizontale Ausrichtung sowie anschließenden Trocknens der Platten, wenn sie entlang ihrem allgemein horizontalen Weg in allgemein flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während_5_ 3B43286sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen, und einschließlich der Galvanisierstufe einer Aufbringung eines Metallüberzuges auf dem dünnen Metallüberzug, der in dem stromlosen Bad aufgebracht wurde, indem die Platten in Reihe und im wesentlichen kontinuierlich durch ein Galvanisierbad geführt werden, das Kupfersulfat, Schwefelsäure und Natriumchlorid enthält.
10 - 13. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 12, gekennzeichnet durcha) Einrichtungen zur Aufnahme der Gegenstände mit wenigstens einigen allgemein flachen Außenflächen mit Bereichen allgemein nichtmetallischer Oberflächenbeschaffenheit,b) Einrichtungen zur kontinuierlichen und reihenweisen Beförderung der Gegenstände entlang einem vorbestimmten Weg,c) Einrichtungen zur Vorbereitung der Gegenstände für stromlose Metallisierung von Oberflächenbereichen, während sie kontinuierlich entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, durch Aufbringung wenigstens einer chemischen Lösung und wenigstens eine Spülung,d) Einrichtungen zur Bewegung der Gegenstände in allgemeiner flacher horizontaler Ausrichtung entlang einem allgemein horizontalen Weg mit einer ersten Fördergeschwindigkeit während wenigstens eines Teils der Wanderung der Gegenstände entlang ihrem vorbestimmten Weg, bevor die Gegenstände in ein stromloses Metallisierbad eingeführt werden,e) Einrichtungen zur Überführung der Gegenstände ausihrer allgemein flachen horizontalen Ausrichtung in eine allgemein vertikale Ausrichtung, während sie entlang ihrem vorbestimmten Weg befördert werden, und
5f) Einrichtungen zur im wesentlichen kontinuierlichen Bewegung der Gegenstände in Reihe, Oberfläche gegen Oberfläche blickend, in ihrer allgemein vertikalen Ausrichtung entlang einem allgemein horizontalen Weg durch ein Bad einer stromlosen Metallösung mit einer zweiten Fördergeschwindigkeit, die wesentlich geringer als die erste Fördergeschwindigkeit ist, um dabei einen dünnen Metallüberzug aufzubringen. - 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, gekennzeichnet durch Einrichtungen zur Überführung der Gegenstände aus einer allgemein vertikalen Ausrichtung in eine allgemein flache horizontale Ausrichtung nach ihrem Durchgang durch das Bad.
- 15. Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14, gekennzeichnet durch Einrichtungen wenigstens für ein Spülen und Trocknen der Gegenstände, während sie entlang ihrem vorbestimmten Weg wandern, nach ihrer Bewegung durch das Bad, wobei sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen.
- 16. Vorrichtung nach Anspruch 14, gekennzeichnet durch Einrichtungen zum Spülen der Gegenstände, nachdem sie in ihre allgemein horizontale Ausrichtung zurückgeführt wurden, und zum Trocknen der Gegenstände, während sie entlang einem allgemein horizontalen Weg in allgemein flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen.— "7 —
- 17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 16, gekennzeichnet durch Einrichtungen zum Galvanisieren der Gegenstände durch Aufbringung eines Metallüberzuges auf dem dünnen Metallüberzug, der in dem stromlosen Bad aufgebracht wurde, durch Förderung der Gegenstände durch eine Galvanisierlösung.
- 18. Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Galvanisiereinrichtungen Einrichtungen zum reihenweisen, im wesentlichen kontinuierlichen Befördern der Gegenstände durch ein Galvanisierbad einschließen.
- 19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zur Vorbereitung der Gegenstände Einrichtungen zur Aufbringung einer chemischen Reduktionsmittellösung auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Gegenstände zur Förderung von deren Metallisierung einschließen.
- 20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zur, Vorbereitung der Gegenstände Einrichtungen zur Aufbringung einer chemischen Aktiviermittellösung auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Gegenstände vor der Aufbringung der Reduktionsmittellösung darauf einschließen.
- 21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 20 für Platten für gedruckte Schaltungen mit wenigstens einigen Durchgangslöchern mit nichtmetallischen Bereichen, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zur Vorbereitung der Platten Einrichtungen zur Aufbringung einer chemischen Aktiviermittellösung, die Palladiumchlorid, Natriumhydroxid, Borsäure und einen Komplexbildner enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Platten und Einrichtungen zur Aufbringung einer chemischen Reduktionsmittellösung, die Natriumborhydrid und Natriumhypophosphat enthält, auf wenigstens den nichtmetallischen Oberflächenbereichen der Plattenzur Förderung der Verkupferung derselben einschließen, die Einrichtungen zur Aufbringung einer stromlosen Metallösung Einrichtungen zur Aufbringung einer Lösung von Kupfer-II-chlorid, Ethylendiamintetraessigsäure, Natriumhydroxid, Formaldehyd und eines Stabilisators aufweisen, Einrichtungen zur überführung der Platten aus einer allgemein vertikalen Ausrichtung in eine allgemein flache horizontale Ausrichtung nach ihrem Durchgang durch das stromlose Bad vorgesehen sind, Einrichtungen zum Spülen der Platten nach ihrer Überführung zurück in die allgemein horizontale Ausrichtung und zum anschließenden Trocknen der Platten, während sie entlang ihrem allgemein horizontalen Weg in allgemein flacher horizontaler Ausrichtung wandern und während sie sich im wesentlichen kontinuierlich mit einer Fördergeschwindigkeit, die wenigstens so groß wie die erste Fördergeschwindigkeit ist, bewegen, vorgesehen sind und Galvanisiereinrichtungen zur Aufbringung eines Metallüberzuges auf dem dünnen Metallüberzug, der in dem stromlosen Bad aufgebracht wurde, vorgesehen sind, mit denen die Platten in Reihe und im wesentlichen kontinuierlich durch ein Galvanisierbad befördert werden, welches Kupfersulfat, Schwefelsäure und Natriumchlorid enthält.
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ID=24917013
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: C25D 5/02 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |