DE3442781A1 - Bildplatte und verfahren zu ihrer herstellung - Google Patents
Bildplatte und verfahren zu ihrer herstellungInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B13/00—Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras
- G03B13/18—Focusing aids
- G03B13/24—Focusing screens
Description
Bildplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
Die Erfindung betrifft eine Bildplatte für eine Kamera sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
Bisher werden Bildplatten für einäugige Spiegelreflexkameras
in weitern Umfang verwandt, bei denen ein Diffusionsrelief
mit unregelmäßigen und scharfen Wellen im Schnitt auf der Oberfläche eines optischen Materials, beispielsweise einer
Acrylharzplatte oder eine ähnlichen Platte, ausgebi1 det i s t.
Eine derartige Bildplatte wird gewöhnlich dadurch hergestellt, daß die Oberfläche einer Metallplatte einem Sandstrahlblasen
unterworfen und anschließend das sich ergebende sandgestrahlte Muster auf die Oberfläche eines plattanartigen
optischen Materials übertragen wird.
Wenn jedoch die Streuung der Bildplatte mit dem oben beschriebenen
sandgestrahlten Diffusionsrelief erhöht werden
soll, wird zwar die Trübung groß und die Scharfeinstellung
leicht, die KörnigKeit der matten Oberfläche wird jedoch
gleichfalls groß, so daß der Sucher sehr dunkel wird. Wenn andererseits die Streuung· verringert wird, wird der Sucher
hell, die Fähigkeit, die Trübung wahrzunehmen, nimrit jedoch
ab.
Es sind verschiedene Versuche unternommen worden, das oben beschriebene Problem zu lösen. Beispielsweise ist in den JP-OS
53-42 726 und 54-92 232 die Ausbildung eines iefleckten
oder genaserten Musters auf einem empfindlichen Material h^-
schrienen. Die in dieser Weise erhaltene Bildplatte ist nail
und hat eine geringe Körnigkeit, es besteht jedoch die Schwin-
rigkeit.daß die Körnigkeit deutlich wird, wenn ein Lichtfleck
Klein wi rd .
Urn das zuletzt genannte Problem zu lösen, ist versucht worden,
eine Bildplatte mit einem Diffusionsrelief zu verwenden,
das sine regelmäßige feine Struktur hat. Ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Bildplatte ist in der JP-OS 54-33
846 beschrieben. Bei diesem Verfahren wird ein lichtempfindliches
Harz auf ein Metal 1 substrat aufgebracht und wird dann ein Maskenbild des feinen Musters durch Belichtung
und Ätzen entwickelt. In der JP-OS 55-90 931 ist ein anderes Verfahren beschrieben, bei dem ein regelmäßiges Interferenzmuster
eines Laserlichtes auf eine Trockenplatte gedruckt und anschließend diese Platte gebleicht wird. Bei
dem zuerst genannten Verfahren ist es jedoch sehr schwierig, die Ätztiefe gleichmäßig einzustellen, während bei den zuletzt
genannten Verfahren die Ausrüstung einen großen Umfang erhält, die Einstellung schwierig zu steuern ist und die
Reproduzierbarkeit gering ist.
In der JP-OS 57-143,728 ist weiterhin ein Verfahren zum Herstellen
einer 3ildplatte mit einem Diffusionsrelief beschrieben,
bei dem ein regelmäßiges feines Musterbild auf einem lichtempfindlichen Material ausgebildet wird, das die Eigenschaft
hat, eine Lichtintensitätsverteilung in eine Oberflächenwellenverteilung
umzuwandeln, und der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials eine feine Wellenstruktur gegeben
wird, woraufhin eine Form dieser Struktur durch Galvanoplastik hergestellt wird. Bei diesem Verfahren ist es jedoch
schwierig, ein Diffusionsrelief über die gesamte Bildplatte
mit gleichmäßiger Tiafe zu erhalten, und ist die Herstellung
der Korn mit hohen Kosten verbunden.
Wenn »ine bildplatte mit einer derartigen Oberfläche in ein
Objektiv eingebaut wird, ergeben sich viele Vorteile. D.h.,
daß die Steuerung des Abstandes zwischen den anzuordnenden Linsen und der Vergrößerung leicht ist, um die Stärke der
Trübung und die Leuchtkraft zu steuern. Es tritt weiterhin keine Schattenbildung diffuser Strahlen auf, so daß es keine
Körnigkeit schwarzer Flecken gibt und die Leuchtkraft selbst dann weniger beeinträchtigt ist, wenn ein Objektiv mit kleiner
öffnung verwandt wird. Es besteht andererseits der Nachteil, daß Beugungserscheinungen aufgrund der regelmäßigen
Anordnung auftreten, so daß eine Interferenzfarbe entwickelt
wird, und daß das lichtschwache oder trübe Bild eine unnatürliche Ringform bekommt, die nicht die natürliche Trübung
wiedergibt, die sich bei einer mit Sandstrahlblasen behandelten
Bildplatte zeigt.
Die Diffusionspaltte oder Streuscheibe in der Bildebene
eines Kameraobjektivs hat, verglichen mit der Grenze der Auflösung des bloßen Auges, eine geringe Auflösung,
wenn der Anordnungsabstand der Linsen atwa 20 um beträgt
und die Vergrößerung des Suchers gleich 4 bis 5 ist. Wenn weiterhin der Linsenwinkel bezüglich der Grundfläche
10° beträgt, wird es möglich, die Lichtdämpfung auf der Grundlage
der Streuung der Lichtstrahlen zu vermindern. Es ist jedoch sehr schwierig, eine Form für die genaue Anordnung
feiner Linsen gleichmäßiger Größe herzustellen, wobei diese
Herstellung mit hohen Kosten verbunden ist und das sich ergebende Objektiv lediglich eine Annäherung darstellt.
Durch die Erfindung soll daher eine Bildplatte mit leichter
Scharfeinstellung sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung
geschaffen werden, das sehr einfach und mit geringen Kosten verbunden ist.
Die erfindungsgemäße Bildplatte umfaßt ein optisches Material,
eine Vielzahl von linsenartigen unebenen Bereichen, die regelmäßig auf der Oberfläche des optischen Materials
angeordnet sind,und sehr feine rauhe Bereiche auf jedem der
linsenartigen unebenen Bereiche. In diesem Fall sind die Regelmäßigkeit
und die Unregelmäßigkeit des Diffusionsreliefes
durch die linsenartigen unebenen Bereiche und die feinen rauhen Bereiche aufeinander abgestimmt.
Eine derartige Bildplatte wird dadurch hergestellt, daß ein regelmäßiges unebenes Relief auf der Oberfläche einer Metallplatte
durch mechanische Bearbeitung gebildet wird, das
sich ergebende Relief einem Galvanisieren unterworfen wird,
um ein honigwabenartiges Muster aus linsenartigen unebenen Teilen mit hexagonaler Form im Außenumfang und darin enthaltenen
feinen rauhen Teilen zu bilden,und das Honigwabenmuster auf die Oberfläche eines optischen Materials übertragen wird.
In diesem Fall kann das Honigwabenmuster direkt auf das optische Material übertragen werden auch durch Galvanoplastik
zunächst auf eine Form und anschließend durch die Form auf das optische Material übertragen werden.
Im folgenden werden anhand der zugehörigen Zeichnung besonders bevorzugte Ausführungsbeispiels der Erfindung näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig.1 eine teilweise vergrößerte Schnittansicht
eines Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen
Bildplatte,
Fig.2 eine schematische Ansicht einer in her
kömmlicher Weise sandgestrahlten Bildplatte,
wobei das Lichtstreumuster dargestellt ist,
Fig.3 eine schematische Ansicht eines Ausfüh
rungsbeispiels der erfindungsge.'näßen Bildplatte,
wobei das Lichtstreumuster darge-
3U2781
stellt ist,
Fig.4 eine perspektivische Ansicht eines pyrami-
denartigen Reliefs, das bei einem mechanischen Arbeitsschritt bei der Herstellung
der erfindungsgemäßen Bildplatte gebildet
wird,
Fig.5 in einer schematischen Ansicht das Auf
bringen des pyramidenartigen Reliefs auf ein Honigwaben.nuster,
Fig.5 und 7 in perspektivischen Tei 1 ansicnten Prismen-
reliefs, die bei einem mechanischen Arbeitsschritt bei der Herstellung anderer
Ausführungsbeispiele der erf indung sge;näßen Bildplatte ausgebildet werden, und
Fig.3 und 9 in schematischen Ansichten das Aufbringen
des Prismareliefs auf ein Honigwabanmuster
jeweils.
Fi g. 1 zeigt in einer vergrößerten Ansicht ein erstes Ausführungsbeispiel
der erfindungsgemäßen Bildplatte, bei der eine Vielzahl von linsenartigen unebenen Bereichen 2 regelmäßig
angeordnet und auf einer Oberfläche eines plattenartigen optischen Materials 1, beispielsweise einer Acryl harzplatte
oder eine ähnlichen Platte, ausgebildet i st, und weiterhin
sehr feine rauhe Bereiche 3 auf der Oberfläche jedes linsenartigen unebenen Bereiches 2 vorgesehen sind.
Wi-3 es in Fig.2 dargestellt ist, zeigt eine herkömnliche,
sandgestrahlte Bildplatte, bei der 2in Diffusionsrelief 4 aus
eins-n unrsqe 1 mäßigen unebenen Muster auf einer Oberfläcno ;i
nes optiscnen Materials 5 durch Sandstrahlen ausgebildet ist,
ein Diffusionsmuster 7, bei dem die Lichtstrahlen unter eine
·τι großen Winkel Ot gestreut werden. Andererseits hat die
erfindungsgemäße Bildplatte linsenartige unebene Bereiche 9
in Form eines feinen Diffusionsmusters, das auf der Oberfläche
des optischen Materials 8 ausgebildet ist, wie es in Fig.3 dargestellt ist, so daß diese Platte ein Diffusionsmuster
10 zeigt, das die Lichtstrahlen unter einem relativ kleinen Winkel ß streut.
Die erfindungsgemäße Bildplatte erzeugt somit keine Körnigkeit
und Verschlechterung des Suchers, wie die sandgestrahlte Bildplatte, und gleichfalls keine Verfärbung oder ringartige
Trübung, wie es bei einer Bildplatte mit einem regelmäßig angeordneten Linsenmuster der Fall ist.
Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Bildplatte wird
die Oberfläche einer Metallplatte 11 zunächst einer mechanischen Bearbeitung über eine Schleifmaschine mit einem
Diamantschleifstein ausgesetzt, um ein pyramidartiges Relief
14 auszubilden, das aus einer regelmäßigen Kombination von hexagonalen Pyramiden 12 und dreiseitigen Pyramiden 13 mit
einer Höhe von 15 um und einem Winkel von 30° bezüglich der Grundfläche besteht, wie es in Fig.4 dargestellt ist.
Die mechanische Bearbeitung des obigen pyramidartigen Reliefs
aus einer einfachen Kombination von drei geraden Linien ist sehr einfach, wenn eine geeignete Metallplatte als zu bearbeitendes
Material gewählt wird'. Die Arbei tsgenau igke i t ist
weiterhin hoch.
Die Oberfläche des pyra.nidart igen Reliefs 14 wird anschliessend
einer Nickelgalvanisierung unterworfen, bei der die
Scheitel und Grate der Pyramiden durch die Glättung beim Galvanisieren abgerundet werden, u,n ein non igwabenart iges
Muster 15 zu bilden, das aus hexagonalan Linse.η flächen 15
3 3U2781
rf
besteht, wie es in Fig.5 dargestellt ist.
Beim Nickelgalvanisieren wird ein Galvanisierbad benutzt,das
im wesentlichen aus Nickelsufat, Nickelchlorid, Borsäure mit
einem DH-Wert 4,4 bis 4,6 besteht und weiterhin pu 1 verförmige
Sulfosäure als Glanzzusatz und Äthylenoxid, Propylsnoxid oder ein Additionsprodukt aus Äthylenoxid und Propylenoxid als
fein verteilte Emulsion enthält. D.h., daß das Nickelgalvanisieren in einem derartigen Galvanisierbad bei einer Badtemperatur
von 43 bis 5Z°C durch Kathodeneinfang ohne Rühren durchgeführt wird.
In diesem Fall verschwinden über einen Glättungseffekt die
dreiseitigen Pyramiden 13, die eine Höhe haben, die kleiner als die der hexagonalen Pyramiden 12 ist, so daß das Honigwabenmuster
15 aus hexagonalen Pyramiden besteht.
Weiterhin werden eine Vielzahl von feinen rauhen Bereichen auf jeder Linsenfläche 15 auf der Grundlage der Tatsache ausgebildet,
daß die fein verteilte Emulsion beim Galvanisieren
auf der Oberfläche des pyramidartigen Reliefs 14 haftet und sich von dieser Oberfläche löst. Ein derartiger Glättungseffekt
der fein verteilten Emulsion ist dann geringer, wenn die Emulsion in einer Menge unter einem gegebenen Bereich zugegeben
wird, wobei die Stabilität des Galvanisiervorganges
dann beeinträchtigt wird, wenn die zugegebene Menge den gegebenen
Sereich überschreitet. Andererseits ist der Glättungseffekt selbst dann konstant, wenn die Galvanisierzeit sehr
lang ist. Es hat sich jedoch bestätigt, daß der Glättungseffekt durch die Konzentration an Nickel im Galvanisierbad
gesteuert wird.
Es wird zweck.näßigerwei se eine Menge an fein verteilter
Emulsion von etwa 2 ml/1 1 Galvanisierlösung zugegeben,wenn
als Emulsion das unter der Handelsbezeichnung Beroa No.30
von Shelling Co.,Ltd. erhältliche Material verwandt wird. Um
•?inen besseren Glättungseffekt unter diesen Umständen zu erzielen,
beträgt die Nickelkonzentration pro 1 der Galvanisierlösung 330 bis 460 g im Fall von Nickelsulfat (einschließlich
6H2O) und 35 bis 55 g i:n Fall von Nickelchlorid (einschließlich
6H2O) jeweils. In diesem Fall beträgt die Menge an Borsäure,
die eine Ausscheidung von Nickelkörnern verhindern kann, 55 bis 69 g/l der Galvanisierlösung.
Wenn das Galvanisieren in einem Galvanisierbad mit niedriger
liickelkonzentration erfolgt, besteht die Gefahr, daß eine unregelmäßige
Fleckenbildung in Abhängigkeit von der Form des
zu galvanisierenden Plattenmaterials, einer Ungleichmäßigkeit
der Galvanisierstromverteilung an der zu galvanisierenden
Stelle und einer Konvektion aufgrund der Wärmeerzeugung der
Galvanisierlösung erzeugt wird. In diese:n Fall kann eine Verstärkung
und Vergleichmäßigung der Glanzbildung durch eine
Erhöhung der Nickelkonzentration erzielt werden.
Wenn auf der zu galvanisierenden Oberfläche ein Zersetzungsprodukt der fein verteilten Emulsion haftet, die den Glanz
bewirkt, kann das Niederschlagen des Nickels auf der zu galvanisierenden
Oberfläche bis zum Ende des GaIvanisiervorgangas
gestört sein. Der durch das Zersetzungsprodukt gestörte Überflächenbereich ist ein weiter Bereich von etwa όύ bis
100 pm, verglichen mit der Korngröße der normalen Emulsion
von 3 bis 20 um, was für eine genaue Diffusionsfor,τι einen fatalen
Mangel darstellt. Dieser Mangel kann nicht dadurch beseitigt werden, daß die GaI vanisierungslösung gereinigt, neue
chemische Stoffe zugesetzt oder die galvanischen Verhältnisse
geändert werden.
Jn den obigen Fehler zu vermeiden, wird das Galvanisieren
vorzugsweise in der folgenden Weise durchgeführt. Wenn ein? gewünschte Galvanisierstärke durch ein fortlaufen-
U 3Α42781
des Galvanisieren über etwa fünfzehn Minuten auf einmal erhalten
werden soll, wird das Galvanisieren in drei bis fünf
Stufen jeweils für drei bis fünf Minuten unterteilt, und wird die zu galvanisierende Oberfläche einer Aktivierungsbehandlung
und einem Waschen unterworfen, während sie einer Ultraschallwelle in den Intervallen zwischen den GaIvanisierungsschritten
ausgesetzt wird, um das Zersetzungsprodukt von der galvanisierten Oberfläche zu entfernen. Dadurch, daß zusätzlich
ein derartiges Waschen vorgesehen wird, wird der durch das Zersetzungsprodukt gestörte Teil des Galvanoniederschlages
auf ein Maß beschränkt, das bei einer Form zum Herstellen der Bildplatte keine Schwierigkeiten bereitet. Das
Nickelgalvanisieren kann somit mit hoher Ausbeute selbst beim
Vorliegen eines Zersetzungsproduktes durchgeführt werden,da die Wahrscheinlichkeit, daß das Zersetzungsprodukt an derselben
Stelle haftet, außerordentlich gering ist.
Anschließend wird das honigwabenförmige Muster 16 als Übertragungsform
direkt auf eine Oberfläche eines optischen Materials, beispielsweise einer transparenten optischen Kunststoffplatte,
übertragen, um die gewünschte Bildplatte zu erhalten. Das Honigwabenmuster
16 Kann auch zunächst auf eine Form durch Galvanoplastik übertragen werden, um anschließend auf das optische
Material übertragen zu werden.
Zusätzlich zu dem pyramidartigen Relief 14 aus regelmäßig angeordneten
hexagonalen Pyramiden 12 und dreiseitigen Pyramiden 13, wie es in Fig.4 dargestellt ist, kann ein regelmäßig
angeordnetes unebenes Relief, beispielsweise in Forn eines
prismaartigen Reliefs 19, gebildet werden, das in Fig.6 dargestellt
ist und bei dem eine Vielzahl von hexagon.! lan Prismen
13 mit einem regelmäßigen Abstand von 20 pm, einar Höhe
von 5 um und einer Seitenlänge von 3um regelmäßig auf einer
Oberfläche einer Metallplatte 17 durch mechanische uearoeitung
angeordnet wird, oder bei asm das in Fig.7 dargestelI to
pfi si! aar ti-je Relief 2 2 mit einer Vielzahl von rho.nbi sehen
Pr i 3 neri 21 jeweils mit einem regelmäßigen Abstand von 15 um,
einer Höhe von 4 pm und einer Seitenlänge von δ um in regal-.iiäiiicjcr
For.η auf der Oberfläche einer Metallplatte 20 durch ■neciian i sch-i bearbeitung angeordnet wird. Wenn diese prismaartigen
He liefs 19 und 22 einem Nickel galvanisiereη ausgesetzt
werden, wie es in Vorhergehenden beschrieben wurde, ändern diese Reliefs ihre Form in honigwabenför.nige Muster 15 aus
einer Vielzahl von hexagonalen Linsenflächen 15, die in den Fij.8 und 3 jeweils dargestellt sind und eine Vielzahl von
nicht dargestellten feinen rauhen Bereichen enthalten.
Die Form der Hemisphäre jeder Linsenfläche 15 kann leicht
durch den Winkel bezüglich der Grundfläche im Falle einer
Pyramide und durch die Höhe von der Grundflache i .■; Falls eines
Prisms geändert werden.
W^nn diese Mikrolinsenflachen als Oberfläche einer Bildplatte
verwandt werden, steht die Vergrößerung dieser Flachen in j ine π BezLij zur Helligkeit der Bildplatte und zu in rar Sch arf-.ibbi
1 dung , während der Anordnungsabstand zwischen den Fliehen
kleiner als das Auflösungsvermögen des bloßen Auges werden
.nuß, wenn die Vergrößerung des Suchers in der Kauere 4 bis 5
batragt. In diesem Zusammenhang sind verschiedene Versuche .:ij rc hg G fuhrt worden, bei denen die Werte des Anordnung s ab-Standes,
des Winkels bezüglich der Grundfläche in der Pyranii-Je,
der Hone von der Grundfläche und der Größe im Prisx.'i Dei
i:?.ii mechdiii scnen Bearbeitungsschritt und die Stärke Jas
Nicko1 Überzuges, die galvanischen Verhältnisse und die Zusan-■p.Misetzun·,]
des galvanischen 3ades beim Galvanisieren geändert
wurden, ts hat sich dabei herausgestellt, daß eine du.j^rordont lieh
.jünstiji! Helligkeit und Scharfabbi 1 Jung aann erzielt
'./•M'Jen käriii, wenn der Anordnungabstand nicht nehr als Zj \i?:
um.; ,',^r ,iiiKoi der Mi.<roi insenf lache bezüglich der Gr-:nifiä-,:!■
' iiicht -ohr als 15° beträgt.
Wie es oben beschrieben wurde, wird das feine pyra:nidartige
oder pri STiaart ige Relief, das leicht auf einer Metallplatte
durch mechanische Bearbeitung ausgebildet werden Rann, durch
Galvanisieren in ein honigwabenförmiges Muster umg awandelt,
das aus einer Vielzahl von linsenartigen unebenen Bereichen
besteht, die jeweils die gleiche Größe wie das Prisma oder die Pyramide haben und sehr feine rauhe Bereiche enthalten.
Dieses Muster wird zur Slidung einer Bildplatte auf eine
transparente optische Kunststoffplatte übertragen. D.h.,daß
die erfindungsgemaße Bildplatte einfach und mit geringen
Kosten Dei guter Reproduzierbarkeit durch eine einfache mechanische
Bearoeitung und ein Nickelgalvanisieren herbestelle
werden kann. Die erfindungsgemäße Platte ist in der Helligkeit
und Mattheit den bekannten Platten überlegen und erzeuot
keine Interferenzfarbe oder ringartige Trübung, wie es bei
der herkör.nl ichen Bildplatte der Fall ist.
Weiterhin kann die Form der Pyramide oder des Prisinas, die
auszubilden ist, dreieckig, rechteckig, hexagonal oder eine Kombination dieser Formen sein, und kann die Größe der Pyramide
oder des Prismas in der gewünschten Weise besti;n;it werden.
Die For.ή für die Bildplatte .mit Eigenschaften, die dem
33nutzungszwec< entsprechen, kann insbesondere leicht dadurch
hergestellt -.-/erden, daß willkürlich der Pyramidenwi n;<el , ai-?.
Galvanisierungsstärke, die Dichte der Sl anzbi ldunjskor;vr
und ähnliches, gewählt werden. Nach den Nickel 3 a 1 van i sie-rsn
kann' die sich ergebende Form einer Galvanoplastik ausgesetz r.
werden, urr. das Muster auf das optische Material .:u übertragen.
Weiterhin kann das Nickelgal vani siaren .11 it hoher Ausbeute dadurch
ausgeführt ,verden, daß in geeigneter Weise die Zusammensetzung
des galvanischen Bad es und der GaI van i si -"? rung svorgang
jewahlt werden.
- Leerseite
Claims (7)
1. Bildplatte,
gekennzeichnet durch
gekennzeichnet durch
ein optisches Material, eine Vielzahl von linsenartigen
unebenen Bereichen, die regelmäßig auf der Oberfläche des optischen Materials ausgebildet sind, und eine Vielzahl
von sehr feinen rauhen Bereichen, die auf jedem linsenartigen unebenen Bereich ausgebildet sind.
2. Bildplatte nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die linsenartigen unebenen
Bereiche aus hexagonalen Pyramiden und dreiseitigen Pyramiden
bestehen.
3. Bildplatte nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die linsenartigen uneben-η
Bereiche aus hexagonalen Prismen bestehen.
4. Bildplatte nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die linsenartigen unebenen
Bereiche aus rhombischen Prismen bestehen.
5. Verfahren zum Herstellen einer Bildplatte, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Oberfläche einer Metallplatte einer mechanischen
3earbeitung unterworfen wird, um ein regelmäßiges unebenes Relief auszubilden,
das Relief einem Galvanisieren unterworfen wird, urn ein
honigwabenförmiges Muster zu bilden, das aus hexagonaien
Linsenflächen besteht, die feine rauhe Bereiche enthalten, und
das honigwabenförmige Muster auf die Oberfläche eines
optischen Materials übertragen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß das Galvanisieren mehrmals
nach einem Waschen wiederholt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß das honigwabenförmige Muster in einem Nickelgalvanisierbad ausgebildet wird,
das eine fein vartailte Emulsion enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß das honigwabenförmige
Muster auf das optische Material übertragen wird, nachdem as vorher auf eine Form durch Galvanoplastik übertragen
wurde.
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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