DE3421511A1

DE3421511A1 - Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck

Info

Publication number: DE3421511A1
Application number: DE19843421511
Authority: DE
Inventors: Werner H. Dipl.-Chem. Dr. 6239 Eppstein Müller
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1984-06-08
Filing date: 1984-06-08
Publication date: 1985-12-12
Also published as: JPS6122048A; EP0167779A3; DE3567025D1; EP0167779B1; US5085975A; EP0167779A2

Description

HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG

84/K048 - If.. 08. Juni 1984

WLK-Dr.I.-wf

Polymerisierbare, Perfluoralkylgruppen aufweisende Verbindungen, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck

Die Erfindung betrifft polymerisierbare, Perfluoralkylgruppen aufweisende Verbindungen mit mindestens zwei ethylenisch-ungesättigten Gruppen und ein Verfahren zu deren Herstellung; außerdem betrifft sie strahlungsemp- ^₀ findliche Reproduktionsschichten, die diese Verbindungen enthalten, und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck.

Beim wasserlosen Flachdruck, insbesondere Offsetdruck ^5 wird - im Unterschied zum üblicherweise eingesetzten Offsetdruck - beim Drucken die Differenzierung in Bild- und Nichtbildstellen nicht durch das gleichzeitige Einwirken von Wasser oder wasserhaltigen Flüssigkeiten einerseits und Druckfarbe andererseits bewirkt, sondern die Differenzierung erfolgt in der Regel durch eine unterschiedliche Wechselwirkung zwischen färbannehmenden bzw. oleophilen und (nicht-wasserfeuchten) färbabweisenden bzw. oleophoben Stellen auf einer Druckplattenoberfläche mit der Druckfarbe. Aus dem Stand der Technik sind dazu beispielsweise die folgenden Druckschriften bekannt:

In der DE-C 15 71 890 (= US-A 3 677 178) wird eine Druckplatte beschrieben, die auf einem Trägermaterial aus einem Metall, einem Kunststoff oder Papier eine Schicht aus einem hydrophoben und oleophoben Silikonkautschuk und

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eine strahlungsempfindliche Reproduktionsschicht in dieser oder der umgekehrten Reihenfolge aufweist. Die Reproduktionsschicht enthält als strahlungsempfindliche Verbindung Ammoniumdichromat, Formaldehydkondensate von Diphenylamin-4-diazoniumsalzen oder Polyvinylcinnamat. Die beim Drucken farbführenden Stellen sind entweder freigelegte Teile des Trägermaterials oder durch das Bestrahlen gehärtete Teile der Reproduktionsschicht.

Die Druckplatte gemäß der DE-B 16 71 637 (= US-A 3 511 178 und 3 682 633) weist auf einem Trägermaterial zunächst eine strahlungsempfindliche Reproduktionsschicht und darauf eine Beschichtung auf, die gegenüber Druckfarben einen geringeren Ablösewert (geringere adhäsive Wechselwirkung) als das Trägermaterial hat. Die letzgenannte Beschichtung besteht entweder aus einem Polysiloxan (Silikonelastomer) oder einer fluorhaltigen organischen Verbindung wie einem Homopolymer aus dem Methyl-

acrylsäureester des Perfluoroctanols. 20

Weitere Ausgestaltungen von Druckplatten für den wasserlosen Offsetdruck bzw. von dafür geeigneten Verbindungen sind beispielsweise den folgenden Druckschriften zu entnehmen:
25

Aus der DE-A 23 54 838 (= US-A 3 953 212) ist die Kombination einer strahlungsempfindlichen Verbindung mit einem Silikonkautschuk in einer Schicht auf einem der üblichen Trägermaterialien bekannt. Die Druckplatte gemäß der DE-B 24 22 428 (= GB-A 1 464 123) enthält in einer Schicht ein

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-1·

photopolymerisierbares Polysiloxan und einen Photosensibilisator.

In der DE-A 25 24 562 (= GB-A 1 501 128) werden strahlungsempfindliche Beschichtungen beschrieben, die ein aromatisches Diazoniumkation, ein Anion einer Perfluoralkylgruppen aufweisenden Carbon- oder Sulfonsäure und gegebenenfalls ein polymeres organisches Bindemittel enthalten. Von dieser Schicht soll nach dem Bestrahlen direkt, d. h. ohne Entwicklungsschritt, gedruckt werden können.

In einer oleophoben Beschichtung enthalten die Druckplatten nach der DE-A 26 48 278 (= US-A 4 087 584) ein fluorhaltiges Homo- oder Copolymerisat mit Monomereneinheiten, die sich von Acrylsäure- oder Methacrylsäureester! mit Perfluoralkyl-, 4-Perfluoralkoxy-benzoyloxy-alkyl- oder Perfluoralkan-sulfonamide-alkyl-Gruppen ableiten. Bei Copolymerisaten ist der Anteil der fluorhaltigen Monomereneinheiten größer als 75 %. Diese oleophobe Beschichtung befindet sich entweder direkt auf einem Trägermaterial und Bildbezirke werden auf die Beschichtung aufgetragen oder sie befindet sich oberhalb einer elektrophotographisch-arbeitenden Reproduktionsschicht, so daß dann auf der oleophoben Beschichtung Tonerbilder erzeugt werden.

Aus der US-A 3 910 187 sind verschiedene Möglichkeiten bekannt, aus üblichen Photopolymerdruckplatten (d. h. Druckplatten aus einem Trägermaterial und einer Reproduktionsschicht mit einem Gehalt an. photopolymerisierbaren

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-K-

Verbindungen) durch Aufbringen einer Zwischen- oder Abschlußschicht Druckplatten für die Anwendung im wasserlosen Offsetdruck zu erzeugen. Diese Zwischen- oder Abschlußschichten enthalten entweder Perfluoralkylgruppen aufweisende Carbon-, Sulfon-, Phosphonsäuren und Amine oder Polymerisate aus Perfluoralkylgruppen aufweisenden Acrylsäure- oder Methacrylsäureester^ Maleinsäurediestern, Vinylethern, Carbonsäurevinylestern, Sulfonamidoallylestern u. ä.; die Polymerisate werden entweder be- IQ reits vor dem Aufbringen auf die Druckplatte aus den genannten Monomeren oder direkt auf den Druckplatten durch Photopolymerisation hergestellt.

Der EP-A 0 037 094 ist zu entnehmen, daß strahlungsempfindliche Polymere (u.a. für den Einsatz als Beschichtung für Druckplatten) hergestellt werden können, die Copolymerisate aus a) Acrylsäure- oder Methacrylsäure-perfluoralkylestern und b) Acrylsäure- oder Methacrylsäure-azidobenzoyloxy-alkylestern sind. Strahlungsempfindliche Reproduktionsschichten können neben diesen Copolymerisaten auch noch alkalisch-entwickelbare organische Bindemittel und übliche Hilfsmittel enthalten. Nach der Bestrahlung und Entwicklung wird auf dem Trägermaterial ein Reliefbild erzeugt. In der EP-A 0 040 841 werden strahlungsempfindliche Polymere beschrieben, die Copolymerisate aus a) Monomeren mit endständigen Perfluoralkylgruppen und endständigen ethylenisch-ungesättigten Gruppen und b) Monomeren mit strahlungsempfindlichen Gruppen und ethylenisch-ungesättigten Gruppen sind. Zu der ersten

30 Gruppe von Monomeren zählen beispielsweise

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oder Methacrylsäure-perfluoralkylester und zu der zweiten Gruppe beispielsweise Methacrylsäure-azidobenzoyloxyalkylester, Acrylsäure-cinnamoyloxy-alkylester, Methacrylsäure-benzoyl-phenylester oder Methacrylsäure-cinnamoyl-phenylester. Aus der EP-A 0 096 845 sind strahlungsempfindliche Polymere bekannt, die Copolymerisate aus a) Acrylsäure- oder Methacrylsäure-2-perfluoralkoxy-2-fluor-ethyl-1-estern oder verwandten Verbindungen, b) Monomeren mit strahlungsempfindlichen Gruppen und ethylenisch-ungesättigten Gruppen und c) gegebenenfalls weiteren fluorfreien copolymerisierbaren Vinylmonomeren sind.

Die bisher bekanntgewordenen Fluor enthaltenden Verbindüngen für strahlungsempfindliche Reproduktionsschichten, die auf dem Gebiet des wasserlosen Offsetdrucks eingesetzt werden sollen, sind teilweise zu wenig strahlungsempfindlich, d. h. sie benötigen zu lange Bestrahlungs-(Belichtungs)zeiten zur Differenzierung in Bild- und Nichtbildstellen für den nachfolgenden Druckvorgang. Ein wesentlicher Nachteil ist auch, daß im Regelfall organische Lösemittel wie 2-Butoxyethanol-(1 ) , Ethylenglykolmonoethylether, Methylenchlorid, Dioxan oder Hexafluor- -m-Xylol im Entwicklungsschritt eingesetzt werden müssen. ²^ Außerdem sind die Ausgangskomponenten oftmals nur schwer (d. h. zum Beispiel über mehrere Stufen) zu synthetisieren, so daß sie für eine großtechnische Anwendung nicht oder nur in untergeordnetem Maße in Betracht gezogen werden können. Mit Reproduktionsschichten, die kein Bindemittel enthalten und/oder nach deren Bestrahlung kein

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-i.

zusätzlich differenzierender Entwicklungsschritt durchgeführt wird, sind im allgemeinen keine höheren Druckauflagen zu erzielen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, neue strahlungsempfindliche Verbindungen, insbesondere für den Einsatz auf dem Gebiet des wasserlosen Offsetdrucks, zu synthetisieren, die eine gute praktische Strahlungs-(Licht)empfindlichkeit aufweisen, aus im Handel erhält-. liehen Ausgangsstoffen (Edukten) hergestellt und in Reproduktionsschichten nach der Bestrahlung möglichst mit wäßrigen Lösungen (insbesondere mit wäßrig-alkalischen Lösungen) entwickelt werden können.

._ Gegenstand der Erfindung sind polymerisierbare, Perfluoralkylgruppen aufweisende Verbindungen mit mindestens zwei endständigen ethylenisch-ungesättigten Gruppen, die dadurch gekennzeichnet sind, daß sie mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens eine über eine funktioneile Gruppe an das Molekül gebundene Perfluoralkylgruppe aufweisen. Unter dem Begriff "über eine fraktionelle Gruppe an das Molekül gebunden" ist für die vorliegende Erfindung zu verstehen, daß sich zwischen den Acryloyl- bzw. Methacryloylgruppen und der bzw. den Perfluoralkylgruppe(n) noch mindestens eine fraktionelle Gruppe befindet, die nicht unmittelbar der Acryloyl- bzw. Methacryloylgruppe benachbart ist und ursprünglich zum in das Molekül eingeführten Perfluoralkylrest gehörte; funktioneile Gruppen sind dabei solche, die mindestens ein Heteroatom wie 0, N, P oder S enthalten. Insbesondere ist

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(sind) die Perfluoralkylgruppe(n) über eine Ester- oder Amidfunktion an das Molekül gebunden, wobei die Esterfunktion bevorzugt ist. Dabei befinden sich die genannten Substituentengruppen der Verbindungen an verschiedenen C-Atomen der Moleküle dieser Verbindungen, und die Perfluoralkylgruppe ist direkt oder über ein unverzweigtes oder verzweigtes, gesättigtes oder ungesättigtes Alkylenzwischenglied mit 1 bis 5 C-Atomen mit der funktioneilen Gruppe, insbesondere mit dem C-Atom des Carbonylgruppenteils der Ester- oder Amidfunktion, verbunden; es sind aber auch solche Moleküle möglich, bei denen die Perfluoralkylgruppe mit dem O- bzw. N-Atom der Ester- oder Amidfunktion verbunden ist. Die Perfluoralkylgruppen sind ungesättigt oder gesättigt, verzweigt oder unverzweigt

jL5 und weisen im allgemeinen 4 bis 20 C-Atome, insbesondere 5 bis 15 C-Atome, auf; sie sind bevorzugt unverzweigte Molekülreste und haben maximal zwei Doppelbindungen pro Molekülrest. In den Perfluoralkylgruppen können gegebenenfalls auch durch Etherbrücken verknüpfte Difluorme-

2o thylengruppen vorhanden sein.

Die als Monomere oder Oligomere (d. h. über ein mindestens bifunktionell reagierendes Zwischenglied verknüpfte Monomere wie mit einem Diisocyanat zur Reaktion gebrachte, noch freie Hydroxylgruppen enthaltende Monomere) vorliegenden erfindungsgemäßen Verbindungen unterscheiden sich von den meisten der bekannten Verbindungen des Standes der Technik dadurch, daß sie im Molekül mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens eine Perfluoralkylgruppe aufweisen und von dem aus der US-A 3 910 187 bekannten 2-(2'-Perfluorhexyl-ethyl-V)-

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1,3-propandiol-diacrylat dadurch, daß die Perfluoralkylgruppe nicht ausschließlich über eine Alkylengruppe an den Molekülrest gebunden ist, sondern - wie vorstehend definiert - über eine funktioneile Gruppe. Diese Verbindungen sind insbesondere die folgenden mindestens eine Perfluoralkylgruppe aufweisenden Verbindungen:

A: Acrylsäure- oder Methacrylsäureester oder -teilester eines mehrwertigen (mindestens dreiwertigen) Alkohols mit 3 bis 12 C-Atomen,

B: Additionsprodukte von aktiven Wasserstoff enthaltenden Verbindungen (z. B. von Alkoholen, Thiolen, Aminen, Carbonsäuren, Sulfonsäuren, Phosphonsäuren oder Phenolen) mit Glycidylacrylat oder -methacrylat,

.. _ C: Additionsprodukte von Monoepoxy- oder Polyepoxyverbindungen mit Acrylsäure oder Methacrylsäure,

D: Ester von N-Methylolacrylamid oder -methacrylamid mit Hydroxycarbonsäuren,

E: Additionsprodukte von N-Methylolacrylamid oder -meth- _ acrylamid mit Monoepoxy- oder Polyepoxyverbindungen.

Von diesen Verbindungen sind die bevorzugt, die mindestens drei Acryloyloxy- oder Methacryloyloxygruppen besitzen. Die Perfluoralkylgruppe wird insbesondere in mindestens eine Hydroxylgruppe enthaltende, meist technisch einfach verfügbare Komponenten durch Umsetzung mit einer geeigneten Perfluoralkansäure b2w. einer solchen Säure, die zwischen dem Perfluoralkylrest und der Carboxylgruppe noch ein Alkylenzwischenglied aufweist, oder insbesondere deren Säurehalogenid (bevorzugt Säurechlorid) eingeführt.

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- /- ■ti.

Zu den unter A genannten Verbindungen zählen (zusätzlich muß im folgenden jeweils davon ausgegangen werden, daß die Moleküle mindestens eine Perfluoralkylgruppe tragen, die über eine funktionelle Gruppe gebunden ist) beispielsweise folgende:

Acrylsäure- oder Methacrylsäureester oder -teilester von Glycerin, Trimethylolmethan, Trimethylolethan, Trimethylolpropan oder Pentaerythrit; zu B Addukte von Glycidylacrylat oder -methacrylat mit Ethylenglykol, Trimethylolmethan, Pentaerythrit, Ethanolamin, Triethanolamin, Ethandithiol, Ethylendiamin, Xylylendiamin, Phenylendiamin, 1,6-Diaminohexan, 1,12-Diamonododecan, 1,3-Bis-(aminomethyl)cyclohexan, 1,4-Bis(aminomethyl)cyclohexan, Bis(4-aminocyclohexyl)methan, Malonsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Decandisäure, Dodecandisäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Itakonsäure, Äpfelsäure, Weinsäure, Citronensäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Naphthalindicarbonsäure sowie mit folgenden Tetracarbonsäuren bzw. deren Mono- und Diestern: Pyromellitsäure, 3,3',4,4'-Diphenyltetracarbonsäure, 1,2,5,6-Naphthalintetracarbonsäure, 2,2',3,3'-Diphenyltetracarbonsäure, 2,2-Bis(3,4-dicarboxypheny1)propan, 2,2-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)propan, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfon, Perylentetracarbonsäure, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether, 1,1-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethan, 1,1-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethan, Bis-(2,3-dicarboxyphenyl)methan, Bis.(3,4-dicarboxyphenyI)-methan, 3,4,3'^'-Benzophenontetracarbonsäure, 2,2-Bis-(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropan, Phenol, Thiophenol, Hydrochinon, Brenzkatechin, Gallussäure, Pyrogallol,

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Bisphenol A, 2,3-Bis(4-hydroxyphenyl)hexafluoropropan; zu C Addukte von Glycidylestern mit wenigstens zwei Epoxygruppen und 9 bis 14 C-Atomen an Acryl- oder Methacrylsäure wie ein Addukt von Acryl- und Methacrylsäure mit Glycidylestern von Phthalsäure, Tetrahydrophthalsäure, Bernsteinsäure, Adipinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure oder Itakonsäure oder Addukte von Glycidylethern mit wenigstens 2 Epoxygruppen an Acryl- oder Methacrylsäure wie ein Addukt von Acryl- oder Methacrylsäure an Glycidylether von 2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)propan oder 2,2-Bis-(4-hydroxyphenyl)hexafluoropropan; zu D Diester von N-Methylolacrylamid oder -methacrylamid mit Apfelsäure, Weinsäure oder Zitronensäure; zu E Addukte von N-Methylolacrylamid oder -methacrylamid an Glycidylester von Acrylsäure, Methacrylsäure, Phthalsäure, Tetrahydrophthalsäure, Maleinsäure, Fumarsäure oder Itakonsäure.

Außer den vorstehend aufgeführten Klassen von mindestens eine Perfluoralkylgruppe aufweisenden Verbindungen A bis E gibt es auch noch weitere Klassen:

F: Additionsprodukte von Isocyanatoethylacrylaten oder -methylacrylaten mit mindestens dreiwertigen Alkoholen oder Aminen, die noch mindestens eine reaktionsfähige OH- oder NH-Funktion zur Einführung der Perfluoralkylgruppe besitzen müssen,

G: Perfluoralkylgruppen aufweisende Di- oder Polyole, Di- oder Polycarbonsäuren, Di- oder Polyamine mit mindestens zwei freien NH-Funktionen zur Umsetzung von Isocyanatoethylacrylaten zu den entsprechenden Urethanen, Amiden oder Harnstoffen,

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- Jrf -

H: Perfluoralkylgruppen aufweisende ein- oder mehrwertige Alkohole oder Amine, die mit Acryl- oder Methacrylsäuren oder ihren Derivaten zur Bildung von Estern oder Amiden umgesetzt werden,

I: Perfluoralkylgruppen und Hydroxylgruppen aufweisende Ester von Polycarbonsäuren, die mit Acryl- oder Methacrylsäuren oder ihren Derivaten zur Bildung von Estern umgesetzt werden.

IQ Bei Bildung der Verbindungsklassen G, H und I treten auch Strukturen auf, bei denen der Perfluoralkylrest nicht direkt bzw. über ein Alkylenzwischenglied am C-Atom der Ester- oder Amidgruppen sitzt, sondern über ein 0 oder N daran gebunden ist; sie werden dadurch hergestellt, daß der Perfluoralkylrest bereits vor der abschließenden Reaktion in einem der Reaktionspartner durch einen Perfluoralkylalkohol eingeführt wird. Bestimmte Verbindungen der allgemeinen Klassen können beispielsweise mit Diisocyanaten auch zu Oligoraeren verknüpft werden.

Strukturformeln für die vorstehend aufgeführten Klassen A bis I sind beispielsweise die folgenden (I bis XII), weitere Formeln auch im experimentellen Teil:

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Vt -

Λ

^R I Oi R¹

R^J -

lot

C-O-C-C CHOHJ _χ

-C-O-C-H

(CHOE¹

R^J -C-O-C-C = C

|0j R¹

R^F = FCC^^) ( - CH₂)_Z oder F(C_w_iF_2w_₂) - CF = CH, wobei die Difluormethylengruppen gegebenenfalls auch über Etherbrücken verknüpft sein können

R¹ = H oder CH₃; R², R³ = H, CH₃, C₂H₅; x, y = 0, 1, ζ = 0 bis 5; w = 5 bis 15

20- (H)

|O| R¹

_ Il I CHo -0-C-C=

Hv

^XC = C - C - 0 - CH₉ -C- CH₉ -0-C-C = C

ι -ι ti R¹ (01

R¹

CH₂

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(Ill) ΙΟΙ 101 R¹

. I - -I I Λ

_RF . _c _ p_ . _CH _ _CH2 _ ο - C - C = C

CH₂

_R4 10 *

CH₂ |0| R¹

₅ I Il I .

A, B = COO, SO₂, PO₂H, NH, 0, S; R⁴ = Alkylen von C₂ bis C^₂, Phenylen, Naphthylen, Biphenylen (auch mit Ether-, Thioether- oder Carbonylgruppen überbrückt); R^ = Alkoyloxy von C₂ bis Ci₂; Benzoyl- oder Naphthoyloxy, R^" — COO

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lot R. ·

-κ/— c — C-C-, I

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C =

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R —C-o-c-i

I _

C-O_ I IO I

« ι

\ r

B -CH^ -CH-CH₂,- R -

ναι R^A

— κ · -CW₄-O- C - C

-O -CW_3--CH-CH, - R^-CU_2--CH-CH,- O - C ~ C ■=

R^u =

R⁴,

-Ii

A — R⁴- B

ΙΟΙ Κ^Λ — ν» ι

μ-μ — ο— C-C ι CU,

(Ol I o,

(3)

ίο/

-C-o-CW ι CH₂.

(Ol I

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-M -CH₂. - CU^.- O_-- C - C =

I _

C^-=O_-

D= 0, NH; ν = 1 bis 3

1° ι

\oi Rⁿ - c+t_L — o —c — c=c

C- N» — CtU - CIb -O — C — C ■=

ι ~ ·· ι

u=0 oder 1

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CH, - Ci-C-SJ- CH> -C«7~ O -C-- C "1 — Il »

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-Vt-

Die erfindungsgemäßen, Perfluoralkylgruppen enthaltenden Acrylate bzw. Methacrylate sind polymerisierbar, insbesondere in Anwesenheit eines Photoinitiators. Dadurch können sie zur Herstellung von hydrophoben und oleophoben Massen wie Lacken, Imprägnierungen oder Beschichtungen, insbesondere aber in strahlungsempfindlichen Reproduktionsschichten verwendet werden. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung sind deshalb strahlungsempfindliche Reproduktionsschichten mit einem Gehalt an a) mindestens einer

-^₀ polymerisierbaren, Perfluoralkylgruppen aufweisenden Verbindung mit mindestens zwei endständigen, ethylenischungesättigten Gruppen und b) mindestens einem Photoinitiator, die dadurch gekennzeichnet sind, daß die Verbindung a) mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens eine über eine funktionelle Gruppe an das Molekül gebundene Perfluoralkylgruppe aufweist und die Reproduktionsschicht c) gegebenenfalls mindestens ein organisches polymeres Bindemittel enthält. Außer den unter a) definierten polymerisierbaren Verbindungen können die genannten Massen, insbesondere Reproduktionsschichten, auch noch weitere polymerisierbare perfluoralkylgruppenfreie Monomere und Oligoraere enthalten, die gegebenenfalls mit den unter a) genannten Verbindungen auch copolymerisierbar sind. In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die Komponente a) eine Verbindung aus den genannten Monomeren und eine Verbindung aus den genannten Oligomeren. Die genannten Massen enthalten im allgemeinen dann 20 bis 100 %, insbesondere 30 bis 60 %, an polymerisierbaren Verbindungen und 0 bis 80 %, insbesondere 40 bis 70 %, an organischen polymeren Bindemitteln (bei Re-

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- tff ■ iA-

produktionsschichten bevorzugt 20 bis 80 % an polymerisierbaren Verbindungen und 80 bis 20 % an organischen polymeren Bindemitteln). Insbesondere bei dem Einsatz der erfindungsgemäßen Verbindungen in Reproduktionsschichten werden als Bindemittel ebenfalls Fluor, bevorzugt Perfluoralkylgruppen enthaltende organische Polymere, gewählt, da dies häufig zu einer besseren Vermischbarkeit der Komponenten und damit zu einer auch optisch gleichmäßigeren Beschichtung führt. Der Anteil des Photoinitiators beträgt im allgemeinen 0,1 bis 10 %.

Als Beispiele für geeignete Bindemittel seien genannt: Polyamide, Polyvinylester, PoIyvinylacetale, Polyvinylether, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Polyester, Alkydharze, Polyacrylamid, Polyvinylalkohol, Polyethylenoxid, Polydimethylacrylamid, Polyvinylraethylformamid, Polyvinylmethylacetamid sowie Mischpolymerisate der Monomeren, die die aufgezählten Homopolymerisate bilden. Ferner kommen als Bindemittel Naturstoffe oder umgewandelte Naturstoffe in Betracht, z. B. Gelatine oder Celluloseether.

Mit Vorteil werden Bindemittel verwendet, die in wäßrigalkalischen Lösungen löslich oder mindestens quellbar sind, da sich Schichten mit solchen Bindemitteln mit den bevorzugten wäßrig-alkalischen Entwicklern entwickeln lassen. Derartige Bindemittel können z. B. die folgenden Gruppen enthalten: -COOH, -PO₃H₂, -SO3H, -SO₂NH₂, -SO₂-NH-CO-. Als Beispiele hierfür seien genannt:

Maleinatharze, Polymerisate aus N-(p-Tolylsulfonyl)-

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- Yf- -41.

carbaminsäure-(ß-methacryloyloxyethyl)-ester und Mischpolymerisate dieser.und ähnlicher Monomeren mit anderen Monomeren, ferner Methylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymerisate oder Mischpolymerisate aus Methacrylsäure, Alkylmethacrylaten und Methylmethacrylat und/oder Styrol, Acrylnitril u.a.

Besonders bevorzugt sind in den Reproduktionsschichten die in den gleichzeitig eingereichten Patentanmeldungen

P (interne Bezeichnung: Hoe 84/K049) und

P (interne Bezeichnung: Hoe 84/K050) mit den

Titeln "Perfluoralkylgruppen aufweisende Copolymere (bzw. Polymere), sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck" erstmalig beschriebenen Perfluoralkylgruppen enthaltenden Polymeren, die beispielsweise Copolymerisate aus Perfluoralkylacrylaten/Acrylsäure/Styrol oder Copolymerisate aus Perfluoralkylacrylaten und Acrylaten mit mindestens einer phenolischen OH-Gruppe oder Cokondensate aus einer phenolischen Komponente mit Perfluoralkylgruppen und einer kondensationsfähigen Verbindung sind.

Als Photoinitiatoren können eine Vielzahl von Substanzen Verwendung finden. Beispiele sind Benzoin, Benzoinether, Mehrkernchinone wie 2-Ethyl-anthrachinon, Acridinderivate wie 9-Phenyl-acridin, 9-p-Methoxyphenylacridin, 9-Acetylamino-acridin, Benz(a)acridin; Phenazinderivate wie 9,1O-Dimethyl-benz(a)phenazin, 9-Methylbenz(a)phenazin, 10-Methoxy-benz(a)phenazin, Chinoxalinderivate wie 6.4·¹ ,4"-Trimethoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin, 4' ,4"-Dimeth-

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-W-

oxy-2,S-diphenyl-S-aza-chinoxalin, Chinazolinderivate oder halogenierte Triazinderivate wie 2-(4-Ethoxy~naphth-1-yl)-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin.

Die genannten Massen, insbesondere die Reproduktionsschichten, können außer Monomeren und/oder Oligomeren, Bindemitteln und Photoinitiatoren noch eine Reihe weiterer üblicher Zusätze enthalten, z. B. Inhibitoren zur Verhinderung der thermischen Polymerisation der Monomeren, Wasserstoffdonatoren, sensitometrische Regler, Farbstoffe, Farbpigmente und ungefärbte Pigmente. Die Summe aller Komponenten soll 100 % ergeben. Diese Bestandteile sind zweckmäßig so auszuwählen, daß sie in dem für den Initiierungsvorgang wichtigen aktinischen Strahlungsbereich möglichst nicht zu stark absorbieren. Als aktinische Strahlung soll jede Strahlung verstanden werden, deren Energie mindestens der des kurzwelligen sichtbaren Lichts entspricht. Geeignet ist insbesondere langwellige UV-Strahlung, aber auch Elektronen-, Röntgen- und Laser-

20 strahlung.

Die genannten photopolymerisierbaren Massen ergeben Reproduktionsschichten mit hoher Lichtempfindlichkeit. Diese ist in einigen Fällen auch dann gegeben, wenn auf eine Sauerstoff abschirmende Deckschicht verzichtet wird. Die Reproduktionsschichten zeigen auch ohne Deckschicht praktisch keine Klebeneigung und. sind im belichteten Zustand beständig gegen alkalische Entwickler und saure alkoholische Wischwässer. Die Herstellung der Reproduktionsschichten erfolgt in bekannter Weise. So kann man

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die Komponenten in einem Lösemittel aufnehmen und die Lösung bzw. Dispersion durch Gießen, Sprühen, Tauchen oder Antragen mit Walzen auf den vorgesehenen Träger als Film aufbringen und anschließend trocknen. Die Reproduktionsschichten werden in bekannter Weise belichtet und entwickelt. Als Entwickler sind wäßrige, vorzugsweise wäßrig-alkalische Lösungen, z. B. von Alkaliphosphaten oder Alkalisilikaten, geeignet, denen gegebenenfalls kleine Mengen an mischbaren organischen Lösemitteln und Netzmitteln zugesetzt werden können.

Die erfindungsgemäßen Reproduktionsschichten eignen sich besonders in Form eines vorsensibilisierten Kopiermaterials auf einem geeigneten Träger, z. B. aus Aluminium, Polyester oder Zink, für die photomechanische Herstellung von Offsetdruckformen für den wasserlosen Offsetdruck. Das Trägermaterial aus z. B. Aluminium kann auch durch mechanische, chemische und/oder elektrochemische Aufrauhung und gegebenenfalls einer nachfolgenden anodischen

20 Oxidation an der Oberfläche modifiziert werden.

In den nachfolgenden Beispielen und im vorstehenden Text verhalten sich Gew.-Teile zu Vol.-Teilen wie g zu cnr und %-Angaben sind - wenn nichts anderes angegeben ist auf das Gewicht bezogen.

Allgemeine Arbeitsvorschrift (Beispiele 1 bis 15 und 21) für die Acylierung von Hydroxyacrylaten 0,1 Äquivalente des Hydroxyacrylats (bezogen auf den OH-Gruppengehalt) und 0,1 Mol des Perfluoralkylgruppen ent-

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-Λ6-

haltenden Säurechlorids werden in 200 Vol.-Teilen Methylenchlorid gelöst. Dazu werden unter Rühren und Eiskühlung 0,1 Mol Triethylamin, gelöst in 50 Vol.-Teilen Methylenchlorid, innerhalb von 30 min zugetropft. Die Temperatur im Reaktionsgefäß wird dabei unter 20 °C gehalten. Nach fünfstündiger Nachreaktion bei Raumtemperatur wird die flüssige Phase vom ausgefallenen Triethylammoniumhydrochlorid abfiltriert, mit Wasser chloridfrei gewaschen und mit MgSO^ getrocknet. Nach dem erneuten

Xq Abfiltrieren werden 0,06 Gew.-Teile 4-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor zugegeben, und das Methylenchlorid wird im Vakuum abdestilliert (z. B. im Rotationsverdampfer) . Nach der Ausbeutebestimmung wird vom jeweiligen Reaktionsprodukt eine 20%ige Lösung in Butanon-2 für die später beschriebenen Anwendungsbeispiele bereitet.

In den Beispielen 4 und 5 wird als Edukt ein technisches Gemisch aus Pentaerythrittri- und -tetraacrylat eingesetzt. Da das Tetraacrylat keine substituierbare OH-Gruppe enthält, liegt der Fluorgehalt im Reaktionsprodukt niedriger als bei Einsatz des reinen Triacrylats. Wenn das als weiteres Edukt verwendete Säurechlorid neben den CF2~Gruppen noch CH?-Gruppen enthält, so kann bei der Umsetzung mit dem Acrylat, insbesondere bei Anwesenheit eines Überschusses an zugesetztem Amin, eine intramolekulare HF-Abspaltung stattfinden, die dann zu einer Doppelbindung führen kann. Im ¹ %-NMR-Spektrum ist dann ein Verschwinden eines CF2-Signals und ein Auftreten eines neuen Signals geringerer Intensität zu beobachten.

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- 25 -

Umsetzung von Carbonsäuren mit Epoxiden (Beispiel 16) In einem mit Rührer, Thermometer, Kühler und Trockenrohr ausgestatteten Mehrhalskolben werden 0,2 Mol Glycidylraethacrylat und 0,1 Mol Dicarbonsäure durch Rühren vermischt und nach Zugabe von 0,3 Gew.-Teilen Hydrochinon als Polymerisationsinhibitor und 0,5 Gew.-Teilen Benzyltriethylammoniumchlorid vorsichtig auf eine Innentemperatur von etwa 80 ⁰C erhitzt. Nach einer Behändlungszeit von etwa 2 h wird eine klare Lösung erhalten, die mit Butanon-2 auf einen Feststoffgehalt von 20 % verdünnt wird.

Umsetzung mit Isocyanaten (Beispiele 17 bis 20)

In einem mit Rührer, Thermometer, Kühler und Trockenrohr ausgestatteten Mehrhalskolben werden 0,1 Äquivalente eines Isocyanats oder Diisocyanate mit 0,1 Äquivalenten einer Hydroxylgruppen enthaltenden Perfluorverbindung in 400 Vol.-Teilen Butanon-2 in Gegenwart von 0,2 Gew.-Teilen Dibutylzinndilaurat unter Stickstoff während 3 h auf 78 °C erhitzt. Nach dem Abkühlen wird das Reaktionsgemisch in Eiswasser gegeben, der ausgefällte Feststoff abfiltriert und getrocknet. Die Butanon-2-Lösung kann auch direkt in Anwendungsbeispielen eingesetzt werden.

Die Edukte und Produkte der Beispiele 1 bis 21 werden in der nachfolgenden Tabelle näher charakterisiert, die Produkte der Beispiele 1 bis 16 und 19 bis 21 werden dabei als Monomere und die der Beispiele 17 und 18 als Oligomere angesehen.

HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG

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-26 -

Tabelle	^:·	! I (Fortsetzung II)	Mischung aus Pentaerythrt't- triacrylat und -pentaacrylat	Produkt <	Aus beute	η	97	Fluorge halt im Produkt	gef.
Bei spiel		Edukte	2,2-Dihydro-perfluor-octan- säurechlorid		(%)			ber.	21.3
4		F(CF₂)₆ - CH₂ - COCl		65			35,7
	4.1		C^
	4.2	wie 4.1
		Pe rf luor-o ctansäurechlorid			35.5
5		F(CF₂)7 - COCl		41,1
	5.1
	5.2	Glycerind imethacrylat
		\|0\| CH₃ H I HOCH (-CH₂-O-C-C = CH₂) ₂			41,7
6		wie 2.2	^F O^ )_s	41,7
6.1		(^C=TC- CH₃

6.2
	'Strukturformel, Summenfonnel, Molekularraasse)

= CH-C -O- ClL-)C O " ^Λ


Io ι ιοί



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Tabelle I (Fortsetzung III)

- 27 -

Bei spiel	Edukte	F(CF*)	9.2 wie 5.2	Produkt (Strukturformel, Summenformel, Molekularmasse)	aii-o-c-c^c«^^	Aus- jeute	Fluorge halt im Produkt	gef.
7	7.1 wie 6.1					*(X)*	ber.	44,9
	7.2 wie 1.2			^- CF = CH - C. —O-CH (-<	IO1 CH₁	77	44,2
		F(CF^
8	8.1 wie 6.1		IOI				42,7
	8.2 wie 5.2	—7c«2	ι- c-o—CW (-C-Hi.- C^	Io» ^c«l "1 — » ι / _L-O-C—C =CH_al	77	45,7
9	9.1 Umsetzungsprodukt aus Adipinsäure (Hexandi- säure) und Glycidyl- methacrylat	j - (CH2-CH2-C00-CH2-CH-CH2-OOOCCH3=CH2)2					48,2
		ΙΟΙ *- CM^- C— qj~* C«^,-· CW-CH; ΙΟΙ __ J**		-	46,6
		]
I OH
3.C- 2.g 12- O

f O O

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O 21 Φ

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_ 28 -

Tabelle I (Fortsetzung IV)

Bei spiel	Edukte	Produkt (Strukturformel, Summenformel, Molekularmasse)	Aus beute	Fluorge halt im Produkt	gef.
10	10.1 wie 9.1	—/CM>-CH»-C--0"-CH_2--CH-CHi-O-C-C. = CH> I L- ιοί —· *	-	ber.	49,8
	10.2 wie 1.2	O= C-CHatCF-CdF^KF		46,4
11	11.1 Umsetzungsprodukt aus Bisphenol A und Glyci- dylrnethacrylat C H₂= CU -COO - Ci^-CU -CH₂-O-{C3)--\| OH J	ΙΟΙ (Oi I	-
	OH I	F(CH₄) X-_w		43,7
	Cl^=CH -Ceo-CHj.-CH-Ci+i-ö-^—I	CH^CH-l-o-CH_i-C«-C«e-O^_^
	11.2 wie 5.2

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Tabelle I (Fortsetzung VI)

Beispiel

Edukte

14.1 Ifasetzungsprodukt aus einem Perfluoralkanol, Epichlorhydrin und Benz ophenontetracarbonsäureanhydrid

14.2 wie 13.2

15.1 Umsetzungsprodukt aus einem Perfluoralkanol, Pentaerithryt und Buten-

_ 2-disäureanhydrid

- C-H

15.2 wie 13.2

- 30 -

Produkt (Strukturformel, Summenformel,
Molekularmasse)

toi Q

-CH-CHt-ö- C

νβι

tO'

e=C-C-O-CH₁-) c- CH₂-S- C-

" *l ^C I

ΙΟΙ Ausbeute

Fluorgehalt im
Produkt

ber.

83,1 40,0

38,4

gef.

38,9

38,2

H- Si (D

Q. cn (D

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O

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Edukte

Η" Η-¹
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Aus
beute

Fluorge
halt im
Produkt

1

—

36,8

gef.

F O
tr¹

16.1 ümsetzungsprodukt aus
einem Perfluoralkanol
und Benzophenontetra-
carbonsäureanhydrid

_ 31 _

ΙΟΙ
I
— CH-CH₄

(%)

ber.

E C H S ^r
E Nieder

Tabelle I (Fortsetzung VII)

16.2 Methacrylsäureester des
1,2-Epoxy-propanols-3

I

36,0

η rj
I-·

Bei
spiel

CH3

Produkt (Strukturformel, Simmenformel,
Molekularmasse)

ί _^

41,0

AKTIE
assung der

16

CH₂=C-COO-CH2-CH-CH2

ac ,
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fifCK) --CHj-CMj-O-C' C-0-CHjJ-CH-CH^
* _lO, .0, _% _ti,_

Ώ W

17.1 Produkt Beispiel 16

OO C

17.2 Hexan-1,6-diisocyanat

Zo,O

O

OCN - (CH2)6 - NCO

17

»τι CO

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HC- CH-1 Mo»«lt-X.Ues4 "PredjL*^+

Ο= C-C=CHj

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Tabelle I (Fortsetzung VIII)

Beispiel

Edukte

18.1 Produkt Beispiel 16

18.2 Toluol-1,3-diisocyanat

octo

19.1 Produkt Beispiel 16

19.2 Isocyanato-ethylmethacrylat

CH₃ OCN-CH2-CH2-OOC-C=CH2 - 32 -

Produkt (Strukturformel, Summenforrael,
Molekularmasse)

ΙΟΙ -CM

O SC-C= CHj

^^{Cb c}\;::o

Vor -CH-CH₂.

s Z Wm" S S

10.

= C-N-CH₂-CD_2--O-C -CH S

0--C-C=CH₂ CH₁, W C-CK.J

C=O

toi

O = C-O- CH.- CH,- I

Ausbeute

Fluorgehalt im
Produkt

ber.

36,7

33,9

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29,6

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Anwendungsbeispiele (Beispiele 22 bis 47) Die in den Beispielen 1 bis 21 synthetisierten Produkte können als polymerisierbare Mono- bzw. Oligomere im Gemisch mit einem Photoinitiator, einem Farbstoff und einem polymeren organischen Bindemittel und gegebenenfalls mit einem weiteren polymerisierbaren Monomeren bzw. Oligoraeren zu einer Reproduktionsschicht verarbeitet werden. Dazu wird im Regelfall eine Lösung oder Dispersion der Komponenten in einem organischen Lösemittel (Butanon-2 oder

^₀ 1-Methoxy-Propanol-2) hergestellt und auf ein Trägermaterial wie eine elektrochemisch aufgerauhte Aluminiumfolie oder eine Polyesterfolie aufgebracht. Anschließend wird die strahlungsempfindliche Beschichtung getrocknet. Zur Verhinderung der Sauerstoffdiffusion wird auf die Repro-

■^5 duktionsschicht eine Deckschicht aus Polyvinylalkohol aufgebracht.

Die so vorbereiteten Offsetdruckplatten werden mit einer Metallhalogenidlampe (5 kW) im Abstand von 100 cm zwisehen Lampe und Vakuumkopierrahmen durch eine Positivvorlage hindurch während 20 bis 150 see belichtet. Die Entwicklung des belichteten Materials kann meist mit einer 3%igen wäßrigen Na₉Si0o-Lösung (E1) durchgeführt werden, die in den mit E2 gekennzeichneten Beispielen noch Glyzerin, Propylenglykol und Ethylenglykolmonoacetat enthält. Nach Abwaschen mit Wasser und einer kurzen Trocknung bei 100 °C kann mit den so hergestellten Druckformen trocken (d. h. unter Abschalten des Feuchtwerks einer Druckmaschine) mit käuflichen Spezialfarben für den wasserlosen Offsetdruck gedruckt werden. Die farbanneh-

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tf-

menden Stellen sind Teile der Oberfläche des Trägermaterials, die farbabstoßenden Stellen die stehengebliebenen Teile der Reproduktionsschicht.

Als Photoinitiator wird in allen Beispielen 2-(4-Ethoxynaphth-1 -yl)-4, 6-bis-trichlormethyl-s-triazin eingesetzt, als Bindemittel eines der in der Beschreibung genannten,

in der Patentanmeldung P (unser Fall Hoe

84/K04-9) erstmals beschriebenen Perfluoralkylgruppen enthaltenden Polymeren, diese sind Copolymerisate aus den Komponenten Acrylsäureester des F(CF₂)η 5-CH₂-CH₂-O_--H (Komp. I) und Methacrylsäureester/m-Hydroxybenzoesäureester des Glycerins (Komp. II) als B1 (60/40 von Komp. I/ Komp. II), B2 (40/60) und B3 (30/70). Im Bindemittel B4 (60/40) ist die erste Komponente der Acrylsäureester des 1,1,2,2-Tetrahydro-perfluordecanols-i und im Bindemittel B5 (60/40) der Vinyl-benzylether des 1,1,2,2-Tetrahydroperfluordecanols-1.

Als Beurteilungskriterien für die Reproduktionsschicht dienen die Beschichtungsqualität (G - gut, B = befriedigend, M = mäßig) durch visuelle Beurteilung vor der Bestrahlung, Entwicklung und Einfärbung und nach diesen Verfahrensstufen die Anzahl der freien bzw. gedeckten Stufen (x/y) in einem Halbtonstufenkeil mit 13 Stufen einer Keilkonstante (Dichteabstufung) von 0,15 (z. B. Belichtungstestkeil "BKO1" der Firma KALLE, Niederlassung der Hoechst AG) und die Wiedergabe von feinsten Bildelementen in einem 12stufigen Rasterkeil mit 60er Raster, beginnend mit einem Tonwert von 5 % in Stufe 1 und endend

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-tÄ-

mit einem Tonwert von 95 % in Stufe 12 (z. B. Rasterkeil "RKO1" der Firma KALLE, Niederlassung der Hoechst AG);
bei der Anwendung des Rasterkeils sind einerseits in der Tabelle die Anzahl der Felder angegeben, die noch Farbe
abstoßen (d. h. Nichtbildstellen aufweisen) und andererseits das Feld, das erstmals Farbe annimmt (v/w).

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Tabelle II

Komponenten, Behandlungs	Gew.-Teile der Komponenten	23	G	im	24	G	(bzw.	G	26	G	andere	G	Parameter)	29
mittel, Beurteilung		1,0	50		150	Beispiel	70		150		150
	22		E1		E2	25	El	0,5	E1	27	E1	28
Binden ittel BI	1.0		2	0,5	2		2		1		1
B2			7/8		12/13		9/10		13		2/6		1,0
B3			12/3		12/3	0,5	12/4		12/10	1.0	11/2	0,5
. B4								-I₁O
B5		0,5
polymer is ierbares Bsp.1
Monomeres 2	0,5
4 5 6 7
8
9			1,0
10
13					1,0
14				1.0
15
16						1.0	1.0
19
20		0,25	0.5		0,5			0,5
21
polymer is ierbares Bsp.17		0,025	0,05	0.5	0,05		0.5	0,05
Oligomeres 18		0,025	0,025		0,025			0,02
Ehotoinitiator	0,025	10	10	0,05	10	0,05 '	0,05	15
Farbstoff	0,025	4	—	0,025	-	0,025	0,025	4
Butanon-2	10	10	10	10	G
1 -MethoJcy-propanol-2	4	—	—		50
Beschichtungsqualität	G	G	E1
Belichtungszeit (see)	100	150	1.5
Entwickler	E1	E2	12/-
Entwicklungszeit (min)	2	2	12/4
Halbtonstufenkeil (x/y)	6/8	10/12
Rasterkeil· (v/w)	11/2	12/3

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Tabelle II (Fortsetzung I)

Komponenten, Behandlungs	Gew.-Teile der Komponenten	31 I	im	32	(bzw. andere	34	35 I	I&rameter)	37
mittel, Beurteilung				Beispiel
	30			33			36
Bindemittel B1
B2		1.0	1,0		1.0	1,0		1.0
B3
B4	1,0			1,0			1.0
B5
polymerisierbares Bsp.1			1.0
bfonomeres 2	1,0
4					1,0
5				1.0		1.0
6
7
8 9							1.0
10
13
14								1.0
15
16 19		1,0
20		0.5	0,5		0.5	0,5		! 0,5
21						mm
polymerisierbares Bsp.17	0,5	0,05	0,05	0,5	0,05	0,05	0,5	^: 0,05
Oligomeres 18	™	0,02	0,02		0,02	0,02		; 0,02
Riotoinitiator	0,05	15	15	0,05	15	15	0,05	: 15
Farbstoff	0,02	4	4	0,02	4	4	0,02	4
Butanon-2	15	G	G	15	G	M	15	G
1-Methoxy-propanol-2	—	50 ·	50	4	50	50	4	50
Beschichtüngsqualität	G	El	E1	B	El	E1	G	: ei
Belichtungszeit (see)	50	0,5	1,0	50	1.0	1.0	50	i ¹^⁰
Entwickler	E1	3/10	2/6	E1	ι 6/10	6/9	E1	' 10/-
Entwicklungszeit (min)	1,5	9/2	11/2	0,75	11/3	11/3	0,5	; 12/2
Halbtonstufenkeil (x/y)	8/13	3/6		4/7
Basterkeil (v/w)	12/3	12/1	8/2

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- 3S--

Tabelle II (Fortsetzung II)

Komponenten, Behandlungs	Gew.-Teile der Komponenten	39	im	50	(bzw. <	B	42	B	andere	Parameter)
mittel, Beurteilung				Beispiel	20		20
	38			41	.E1		E1	43	44
Bindemittel . B1					1,0		1,0
B2		1,0	1,0		5/12;		5/12	1,0	1,0
B3					12/4	1,0	11/3 :
B4	1,0	1,0	1,0		1,0
B5				1,0
polymer is ierbares Bsp.1				1,0
Monomeres 2
4
5						1,0	1,0
6
7
8
9
10
13
14
15
16
19
20	1,0	0,5
21			0,5		O.5
polyraerisierbares Bsp.17	0,5	0,05	0,05	0,5	0,05	0,5
Oligoraeres 18	•m	0,02	0,02		0,02		0,5
Hiotoinitiator	0,05	15	15	0,05	15	0,05	0,05
Farbstoff	0,02	—	—	0,02	—	0,02	0,02
Butanon-2	15	M	M	15	15	15
1 -Methoxy-propanol-2	4	20	20	—	4	4
BeschichtungsqualitMt	G	E1	E1	G	G !
Belichtungszeit (see)	50	1,0	1,0	50	50
Entwickler	Et	7/11	5/11	E1	E1
Entwicklungszeit (min)	1,0	12/3	12/4	0,5	0,5
Halbtonstufenkeil (x/y)	9/10	1/6	-/6
Rasterkeil (v/w)	11/2	12/1	12/1

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-VS-

Tabelle II (Fortsetzung III)

Komponenten, Behandlungs mittel, Beurteilung	Gew.-T 45	eile d 46	er Kbmp im 47	onenten (bzw. andere Parameter) Beispiel
Bindemittel . B1 B2 B3 B4 B5	1.0	1,0	1,0
polymerisierbares Bsp.1 Monomeres 2 4 5 6 7 8 9 10 13 14 15 16 19 20 21	1,0	1,0	1,0
polymeris ierbares Bsp. 17 Oligomeres 18	-	-	-	:
Hiotoinitiator Farbstoff	0,05 0,02	0,05 0,02	0,05 0,02
Butanon-2 1-Methoxy-propanol-2	15 4	15 4	15 4
Beschichtungsqualität	G	G	M
Belichtungszeit (see)	50	50	50
Entwickler Entwicklungszeit (min)	E1 0,5	E1 1,25	E1 1,5
Halbtonstufenkeil (x/y) ßasterkeil (v/w)	2/9 12/2	91- 12/4	V- 11/2

Claims

Patentansprüche

Polymerisierbare, Perfluoralkylgruppen aufweisende Verbindungen mit mindestens zwei endständigen ethylenisch-ungesättigten Gruppen, dadurch gekennzeichnet, daß sie mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens eine über eine funktionelle Gruppe an das Molekül gebundene Perfluoralkylgruppe aufweisen.
2. Verbindungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie mindestens eine über eine Ester- oder Amidfunktion an das Molekül gebundene Perfluoralkylgrup-

₁₅ pe aufweisen.
3. Verbindung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Perfluoralkylgruppe über ein Alkylenzwischenglied mit 1 bis 5 C-Atomen mit der

2Q funktionellen Gruppe verbunden ist.
4. Verbindungen nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie mindestens drei Acryloyloxy- oder Methacryloyloxygruppen und mindere stens eine über eine Esterfunktion an das Molekül

gebundene Perfluoralkylgruppe aufweisen.
5. Verfahren zur Herstellung der Verbindungen nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß

2Q eine mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgrup-

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pen und mindestens eine Hydroxylgruppe aufweisende Komponente mit einem eine Perfluoralkylgruppe aufweisenden Carbosäurechlorid in Gegenwart eines Amins umgesetzt wird.
6. Strahlungsempfindliche Reproduktionsschicht mit einem

Gehalt an a) mindestens einer polymerisierbaren, Perfluoralkylgruppen aufweisenden Verbindung mit mindestens zwei endständigen, ethylenisch-ungesättigten

IQ Gruppen und b) mindestens einem Photoinitiator, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung a) mindestens zwei Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens eine über eine funktionelle Gruppe an das Molekül gebundene Perfluoralkylgruppe aufweist und die Reproduktionsschicht gegebenenfalls c) mindestens ein organisches polymeres Bindemittel enthält.
7. Reproduktionsschicht nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Perfluoralkylgruppen enthalten-

2o des Bindemittel enthält.
8. Reproduktionsschicht nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches Bindemittel enthält.
9. Reproduktionsschicht nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Komponente (d) mindestens eine weitere von der Komponente (a) verschiedene perfluoralkylgruppenfreie polymerisierbare

30 Verbindung enthält.

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10. Reproduktionsschicht nach einem der Ansprüche 6 bis

9, dadurch gekennzeichnet, daß sie 20 bis 80 % an polymerisierbaren Verbindungen und 80 bis 20 % an organischen polymeren Bindemitteln enthält.
11. Reproduktionsschicht nach einem der Ansprüche 6 bis

10, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Komponente (a) ein Gemisch aus einer monomeren mindestens zwei
Acryloyl- oder Methacryloylgruppen und mindestens

XO eine über eine funktionelle Gruppe an das Molekül

gebundene Perfluoralkylgruppe aufweisende Verbindung und einem Oligomeren enthält, das aus mindestens zwei dieser Monomeren durch Umsetzung mit einem mindestens bifunktionell reagierenden Zwischenglied syntheti-

15 siert wurde.
12. Verwendung einer Reproduktionsschicht nach den Ansprüchen 6 bis 11 als strahlungsempfindliche Beschichtung von Druckplattenträgermaterialien für den

2o wasserlosen Offsetdruck.