DE3419367A1 - Method and device for applying fluids to substrates passing through - Google Patents

Method and device for applying fluids to substrates passing through

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DE3419367A1
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Mathias 4815 Schloss Holte Mitter
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Abstract

The pile of a carpet or of another substrate is treated with a foam fluid which is applied through the opening of a slit doctor to the underside of a tubular carrier through which the fluid is fed. The carrier can rotate about its axis inside a screen-print template so that the outlet of the opening, viewed with respect to the alignment of the substrate, can be moved forwards or backwards. This determines the degree of penetration of the fluid into or through the substrate and/or the amount of fluid which is applied per unit area of substrate. The angular adjustment of the application element can also bring about a stabilisation of the relatively thin screen-print template which is easily deformable. The same effects can also be achieved if the support for the substrate is appropriately moved in relation to the application element. <IMAGE>

Description

Falkenstr. 57Falkenstrasse 57

4815 Schloß Holte4815 Holte Castle

Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen strömungsfähiger Medien auf durchlaufende SubstrateMethod and device for the application of flowable media to substrates passing through

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Auftragen strömungsfähiger, geschäumter, pastöser oder flüssiger Medien auf Substrate, insbesondere zum Auftragen von schaumigen Medien auf durchlaufendes Textilmaterial oder dergleichen. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren sowie eine Vorrichtung, um das Ausmaß der Durchdringung der strömungsfähigen Medien in Teppichmaterial hinein oder in andere Arten von vergleichbaren Substraten hinein zu variieren.The present invention relates to a method and a device for applying flowable, foamed, pasty or liquid media on substrates, in particular for applying foamy media on continuous textile material or similar. In particular, the invention relates to a method and a device to the Extent of the penetration of the flowable media into carpeting or into other types of comparable substrates.

Es ist bekannt, das Ausmaß der Durchdringung eines Substrates mit einem strömungsfähigen Medium, beispielsweise Druckfarbe, Farbstoff, einem Imprägniermittel, einem Spülmittel oder dergleichen, dadurch zu regulieren, daß man den Druck des Mediums, das das Substrat kontaktieren soll, ändert. Es ist ferner bekannt, das Ausmaß der Durchdringung eines porösen Substrates dadurch zu ändern, daß man das Substrat sich über eine Saugkammer bewegen läßt, die das Medium in den Körper des Substrates mit einer Kraft hineinzieht, die in Abhängigkeit vom Different!al druck zwischen dem Inneren der Saugkammer und der Umgebung steht. Diese Techniken si'nd inIt is known the extent to which a substrate is penetrated by a flowable medium, for example Printing ink, dye, an impregnating agent, a rinsing agent or the like, thereby to regulate that one changes the pressure of the medium which is to contact the substrate. It is also known to change the extent of penetration of a porous substrate by the fact that Substrate can be moved via a suction chamber that carries the medium into the body of the substrate pulls in a force that depends on the differential pressure between the interior of the suction chamber and the environment. These techniques are in

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vielen Fällen zufriedenstellend in ihrer Funktion, erfordern jedoch eine zusätzliche kostspielige und raumaufwendige Ausrüstung, Drucküberwachungseinrichtungen und dergleichen. Darüberhinaus erfordert die Druckregelung des strömungsfähigen Mediums eine Fördereinrichtung, die zuverlässig gegenüber der Atmosphäre abgedichtet sein muß, was zusätzliche erhebliche Kosten mit sich bringt. Die Verwendung einer Saugkammer erfordert auch das Vorsehen poröser Supporte und/oder Förderer für die Substrate sowie ferner eine laufende betriebliche Überwachung, um zu kontrollieren, ob die Permeabilität des Supportes für das Substrat sich verändert hat, weil derartige Änderungen in erheblichem Ausmaß <3- as Ausmaß der Eindringung des Mediums iη das Substrat beeinflussen. in many cases satisfactory in their function, however, require additional expensive and bulky equipment, pressure monitors and the same. In addition, requires the pressure control of the flowable medium Conveyor that is reliable compared to the Atmosphere must be sealed, which brings additional significant costs with it. The usage a suction chamber also requires the provision of porous supports and / or conveyors for the substrates as well Furthermore, ongoing operational monitoring to check whether the permeability of the support for the substrate has changed because such changes to a considerable extent <3-as extent the penetration of the medium iη affect the substrate.

Der vorliegenden Erfindung liegt von daher zunächst die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Regulierung des Ausmaßes der Eindringung eines strömungsfähigen Mediums in ein Substrat in einer Siebdruckmaschine oder einer ähnlichen MaschineThe present invention is therefore initially based on the object of a method for regulating the extent to which a flowable medium penetrates a substrate in a screen printing machine or a similar machine

. zu schaffen, das bei geringem Aufwand eine außerordentlich genaue und jederzeit reproduzierbare Regulierung des Ausmaßes der Eindringung ermöglicht.. to create an extremely precise and reproducible at any time with little effort Allows regulation of the extent of penetration.

Dieses sehr einfache und preiswert durchzuführende Verfahren soll dabei sowohl eine abrupte wie eine graduelle Änderung des Ausmaßes der Eindringung ermöglichen. This is very simple and inexpensive to carry out The method is intended to enable both an abrupt and a gradual change in the extent of penetration.

Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens, wobei dafür Sorge getragen sein soll, daß das Ausmaß der Eindringung des Mediums in das Substrat während der laufenden Bearbeitung durchgeführt werden kann.The invention also relates to an apparatus for carrying out such a method, for which purpose Care should be taken that the extent of the penetration of the medium into the substrate during the ongoing processing can be carried out.

Mathias MitterMathias Mitter

Es soll auch dafür Sorge getragen sein, daß nur relativ geringe Änderungen bestehendetMaschinen bzw. Bearbeitungsanlagen erforderlich sind, um diese auf die Durchführung des neuen Verfahrens umzurüsten.It should also ensure be worn nen d a ß only relatively small changes bestehendetMaschi or processing equipment is required to convert this to the implementation of the new method.

Die erfindungsgemäße Lösung bezüglich des Verfahrens besteht im wesentlichen darin, daß das Substrat in einer gegebeneη Ebene angeordnet wird, das Medium auf die eine Seite des Substrates in der Ebene aufgetragen wird, indem man das Medium sich längs einem vorbestimmten Weg bewegen läßt und daß man dann die Richtungslage dieses Weges und der genannten Ebene im Verhältnis zueinander ändert.The solution according to the invention with regard to the method consists essentially in that the substrate is arranged in a given plane, The medium is applied to one side of the substrate in the plane by making the medium can be moved along a predetermined path and that you can then determine the direction of this path and said level changes in relation to each other.

Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung beinhaltet der Änderungsschritt das Alternieren der Richtungslage des Weges in Bezug zur Ebene des Substrates. According to a preferred embodiment included the changing step alternating the directional position of the path in relation to the plane of the substrate.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung bewegt man das Substrat in der gegebenen Ebene in einer vorbestimmten Richtung. Der Weg für das Medium ist vorzugsweise länglich und erstreckt sich quer zu dieser Richtung. Der Schritt zur Veränderung der Richtungslage beinhaltet das Bewegen des Weges um eine Achse, die im wesentlichen parallel zur Längsrichtung des Weges liegt. Der Schritt kann jedoch auch das Drehen der Wegbahn um die vorgenannte Achse im Uhrzeigersinn oder gegen Uhrzeigersinn bei nhalten.Moved according to a further preferred embodiment one the substrate in the given plane in a predetermined direction. The way for the medium is preferably elongate and extends transversely to this direction. The step to change the Directional orientation involves moving the path about an axis that is substantially parallel to the longitudinal direction the way lies. However, the step can also be rotating the path around the aforementioned Axis clockwise or counter-clockwise at nhalt.

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Bezüglich der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist bei einer Vorrichtung für die Bereithaltung des Substrates in einer vorbestimmten Ebene und mit einem Auftragselement mit einem Durchlaß für das Medium in Richtung auf die Ebene vorgesehen, das Einstellmittel für die Veränderung der Richtungslage des genannten Durchlasses und mindestens eines Teiles der genannten Ebene relativ zueinander vorgesehen sind.With regard to the device according to the invention, a device for keeping the Substrate in a predetermined plane and with an application element with a passage for the Medium provided in the direction of the plane, the adjustment means for changing the directional position of said passage and at least a part of said plane are provided relative to one another.

Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung kann das Auftragselement um eine ortsfeste Achse drehbar sein, um seine Winkellage verändern zu können. Das Auftragselement kann dabei ein länglich geschlitzter Rakel sein. DEr Rakel kann sich dabei im wesentlichen quer zur Bewegungsrichtung des beispielsweise auf einem Drucktuch angeordneten Substrates erstrecken. Die Vorrichtung kann dabei ferner eine Siebdruckschablone beinhalten, die zwischen der Substratebene und dem Auftragselement vorhanden ist, so daß das Medium auf seinem Weg zum Kontakt mit dem Substrat die Siebdruckschablone durchtreten muß.According to a preferred embodiment, the application element can be rotated about a fixed axis to be able to change its angular position. The order element can be elongated Be a squeegee. The squeegee can be positioned essentially transversely to the direction of movement of the for example arranged on a printing blanket Extend the substrate. The device can also include a screen printing stencil that is present between the substrate plane and the applicator element, so that the medium is on its way the screen printing stencil for contact with the substrate must pass through.

Auf der anderen Seite des Substrates kann ein zweiter Durchlaß vorgesehen sein und der zweite Durchlaß und der Durchlaß des Auftragselementes wirken auf den beiden Seiten der Substratebene so zusammen, daß mit Hilfe einer Saugeinrichtung, die auf den zweiten Durchlaß wirkt, das Medium in das Material des Substrates hineingezogen wird.A second passage and the second can be provided on the other side of the substrate The passage and the passage of the application element act on both sides of the substrate plane so together that with the help of a suction device that acts on the second passage, the medium in the material of the substrate is drawn into it.

Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Vorrichtung, insbesondere bezüglich des Trägers für das Auftragselement, bezüglich der detaillierten Konstruk-Further preferred configurations of the device, in particular with regard to the carrier for the application element, with regard to the detailed construction

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tion des Einstellmechanismsuses für das Auftragselement bezüglich seiner Richtungsverlagerung sowie auch von Konstruktionen, die eine Veränderung der Lage mindestens eines Teiles der Substratebene
ermöglichen, sind in den entsprechenden Unteransprlichen gekennzeichnet.
tion of the adjustment mechanism for the application element with regard to its directional shift as well as constructions that change the position of at least part of the substrate plane
enable are identified in the relevant sub-claims.

AusfUhrungsbeispiele von Vorrichtungen gemäß der Erfindung werden nachstehend unter Bezugnahme aufAusfUhrungsbeispiele of devices according to the Invention will be described below with reference to FIG

die Zeichnung näher beschrieben.the drawing described in more detail.

Es zeigen:Show it:

Figur 1 einen schematisierten Querschnitt durchFigure 1 is a schematic cross section through

eine Vorrichtung gemäß der Erfindung,
Figur 2 eine vereinfachte Tei1 seitenansicht der Vorrichtung nach Figur 1 mit teilweiser
a device according to the invention,
FIG. 2 shows a simplified partial side view of the device according to FIG. 1 with partial

Schnittdarste llung,
Figur 3 einen schematisierten Querschnitt durch
Sectional representation,
Figure 3 is a schematic cross section through

eine weitere Vorrichtung gemäß der Erfindung,
Figur 4 eine Tei1 seitenansicht der Vorrichtung
another device according to the invention,
Figure 4 is a partial side view of the device

nach Figur 3 mit teilweiser Schnittdar-according to Figure 3 with partial sectional view

stellungposition

Die in den Figuren 1 und 2 dargestellte Vorrichtung dient der Aufbringung eines Schaummediums auf aufein-The device shown in Figures 1 and 2 is used to apply a foam medium to one another

anderfolgende Stellen eines relativ breiten Substrates 1, beispielsweise auf den Flor auf der Oberseite eines durchlaufenden Teppichmateriales. Die Vorrichtung beinhaltet eine drehbare zylindrische Siebdruckschablone 2, die um ihre Achse in Richtung des Pfeiles B in Abhängigkeit der Bewegung des Substrates 1 in Richtung des Pfeiles A und/oder in Abhängigkeit der Übertragung eines Drehmomentes durch eine gesonderte Antriebseinheit (nicht dargestellt) dreht. Die Siebdruck schab!one 2 umgibt den überwiegenden Teil eines länglichen Rohrstückes, das einen Träger 3 für ein Auftragselement 4 bildet, das im dargestellten Ausführungsbeispiel als Schlitzrakel ausgebildet ist und einen länglichen Durchlaß 4a für einen Strom eines Schaummediums zu der Innenwandfläche der Siebdruckschablone 2 diejenige Region bildet, in der die Außenwandfläche der Schablone dem Substrat 1 am nächsten liegt. Das dargestellte Auftragselement 4 beinhaltet zwei elastische Auflagen 5 und 6, die mit der Umfangsf1äche des Trägers 3 verbunden sind und den wesentlichen Teil des Durchlasses 4a flankieren, sowie zwei Rakelschuhe 7 und 8, die jeweils auf den Unterseiten der beiden elastischen Auflagen 5 und 6 befestigt sind und die die Innenwandfläche der Siebdruckschablone 2 kontaktieren. Die Rakelschuhe 5 und 7 umgeben den untersten Bereich des Durchlasses 4a, dessen oberster Bereich das Schaummedium aus dem Inneren des Trägers 3 über einen Auslaß 3a aufnimmt, der aus einem oder mehreren länglichen Schlitzen gebildet sein kann, oder aus einer oder mehreren Reihen einzelner Löcher, oder aber aus einem oder mehrerer Reihen einzelner Löcher und kürzerer Schlitze.other places of a relatively wide substrate 1, for example on the pile on the top of a continuous carpet material. The device includes a rotatable cylindrical screen printing stencil 2, which is rotated around its axis in the direction of arrow B depending on the movement of the substrate 1 in Direction of arrow A and / or depending on the transmission of a torque by a separate Drive unit (not shown) rotates. The screen printing schab! one 2 surrounds most of one elongated pipe section which forms a carrier 3 for an application element 4, which is shown in the Embodiment designed as a slotted doctor blade and an elongated passage 4a for a flow of foam medium to the inner wall surface of the screen printing stencil 2 forms the region in which the outer wall surface of the stencil is attached to the substrate 1 next lies. The illustrated application element 4 includes two elastic pads 5 and 6, which with the circumferential surface of the carrier 3 are connected and flank the essential part of the passage 4a, as well as two squeegees 7 and 8, each on the Undersides of the two elastic pads 5 and 6 are attached and the inner wall surface of the screen printing stencil 2 contact. The squeegee shoes 5 and 7 surround the lowermost area of the passage 4a, the uppermost area of which receives the foam medium from the interior of the carrier 3 via an outlet 3a, which can be formed from one or more elongated slots, or from one or more rows individual holes, or from one or more rows of individual holes and shorter slots.

Der Träger 3 kann als Teil der Einrichtung zur Zuführung des Schaummediums in den Durchlaß 4a des Auftragselementes 4 angesehen werden. Diese Zuführungseinrichtung beinhaltet ferner eine Leitung 12, die das Schaummedium zu dem einen Achsende des Trägers 3 bringt und deren Aufnahmeende mit dem Auslaß eines Schaumerzeugers 13 verbunden ist.The carrier 3 can be used as part of the device for feeding the foam medium into the passage 4a of the Order element 4 are viewed. This feeder further includes a line 12, which the foam medium to one axis end of the Brings carrier 3 and the receiving end is connected to the outlet of a foam generator 13.

Der im Ausführungsbeispiel dargestellte Schaumerzeuger hat eine erste Leitung 14 mit einem Regulierventil 15 und dient der Zuführung eines gasförmigen Schäummittels, beispielsweise Luft, zum Schaumerzeuger. Der Schaumerzeuger 13 beinhaltet ferner eine zweite Leitung 16, die ein Regulierventil 17 beinhaltet und die eine Flüssigkeit von einem Speichergefäß 18 abzieht. Die Art und Weise, wie die Flüssigkeit vom Speichergefäß 18 in den Schaumerzeuger gepumpt wird und die Art und Weise, wie die Flüssigkeit vor Einbringung in die Leitung 12 im Erzeuger geschäumt wird, bildet nicht Teil der vorliegenden Erfindung.The foam generator shown in the exemplary embodiment has a first line 14 with a regulating valve 15 and is used to supply a gaseous Foaming agent, for example air, for Foam generator. The foam generator 13 also includes a second line 16, which is a regulating valve 17 and which draws off a liquid from a storage vessel 18. The type and How the liquid is pumped from the storage vessel 18 into the foam generator and the type and The manner in which the liquid is foamed in the generator prior to introduction into the conduit 12 does not form Part of the present invention.

Die dargestellte Einzelleitung 12 kann durch eine ganze Anordnung von Leitungen ersetzt sein, die Schaummedium zu in Achsrichtung abständigen Bereichen des Trägers 3 führen, um zu gewährleisten, daß der Innenraum des Trägers gleichförmig mit dem Medium gefüllt wird und er dieses Medium in jeglichem Bereich des Auslasses 3a mit der gleichen oder zumindest nahezu identischer Abgabemenge zu bringen.The individual line 12 shown can be through a entire arrangement of lines to be replaced, the foam medium to axially spaced areas of the carrier 3 to ensure that the interior of the carrier is uniform with the medium is filled and he this medium in any area of the outlet 3a with the same or at least to bring almost identical delivery quantity.

Die Einrichtung zur Vorhaltung des Substrates 1 unterhalb der Siebdruckschablone 2 in einer vorbestimmten, beispielsweise horizontalen Ebene beinhaltet das Obertrum eines endlosen, porösen Drucktuches 9, das in bekannter Weise so angetrieben ist,The device for holding the substrate 1 below the screen printing stencil 2 in a predetermined, for example includes horizontal plane the upper run of an endless, porous printing blanket 9, which is driven in a known manner,

daß das Obertrum sich in Richtung des Pfeiles A bewegt. Der Bereich des Obertrums des Drucktuches 9, der unmittelbar unterhalb der Siebdruckschablone 2 liegt, läuft längs der Oberseite eines stationären Supportes 10, der einen vertikalen Durchlaß 10a hat, der mit dem Saugeinlaß 11a eines einstellbaren Saug-Werkes 11, beispielsweise <einer Pumpe, eines Gebläses oder dergleichen verbunden ist. Das Ausmaß, mit dem das Schaummedium in das Substrat 1 in dem Bereich unterhalb des zu unterst liegenden Bereiches der Siebdruckschablone 2 eindringt, kann durch Änderung des Druckes im Durchlaß 10a, beispielsweise durch Änderung des Differentialdruckes zwischen dem Inneren des Durchlasses 10a und der umgebenden Atmosphäre, variiert werden. Das Ausmaß kann auch durch den Druck varriert werden, mit dem das geschäumte Medium in den Träger 3 über die Leitung 12 eingebracht wird, beispielsweise durch Änderung der Stellung der Ventile 15 und/oder 17.that the upper run moves in the direction of arrow A. The area of the upper run of the printing blanket 9, which is immediately below the screen printing stencil 2, runs along the top of a stationary Support 10, which has a vertical passage 10a which connects to the suction inlet 11a of an adjustable suction mechanism 11, for example <a pump, a fan or the like is connected. The extent to which the foam medium in the substrate 1 in the area penetrates below the lower lying area of the screen printing stencil 2, can by changing the Pressure in passage 10a, for example through Change in differential pressure between the interior of the passage 10a and the surrounding atmosphere can be varied. The extent can also be due to the pressure be varied, with which the foamed medium is introduced into the carrier 3 via the line 12, for example by changing the position of the valves 15 and / or 17.

Gemäß der vorliegenden Erfindung jedoch kann das Ausmaß, mit dem das Schaummedium in den Flor des Substrates eindringt, dadurch reguliert werden, daß man die Richtungslage des Durchlasses 4a bezüglich der Ebene des Substrates 1 unterhalb der Siebdruckschablone 2 ändert. Dasselbe Ergebnis kann, vielleicht mit ein wenig höheren Kosten, auch dadurch erreicht werden, daß man die Richtungslage der Ebene des Substrates 1 relativ zu dem Durchlaß 4a des Auftragselementes 4 ändert. Die Mittel zur Einstellung oder Änderung der Richtungslage des Durchlasses 4a bezüglich der Ebene des Substrates 1 beinhalten einen Zahnstangen-Zahnritzeltrieb 20, der den Träger 3 um eine ortsfeste horizontale Achse in den Richtungen der Doppelpfeile C und damit das Auftragselement 4 im Uhrzeigersinn oder im Gegenuhrzeigersinn bewegt, wie in Figur 1According to the present invention, however, the extent to which the foam medium in the pile of the Substrate penetrates, can be regulated by the fact that the directional position of the passage 4a with respect to the The level of the substrate 1 below the screen printing stencil 2 changes. The same result can, perhaps with one little higher costs can also be achieved by changing the directional position of the plane of the substrate 1 relative to the passage 4a of the application element 4 changes. The means of setting or changing the Directional position of the passage 4a with respect to the plane of the substrate 1 include a rack and pinion drive 20, the carrier 3 about a fixed horizontal axis in the directions of the double arrows C. and thus the order element 4 in a clockwise direction or moved counterclockwise as in Figure 1

dargestellt. Der Trieb 20 beinhaltet einen Ritzel 21, das an dem betroffenen Endabschnitt des Trägers 3 befestigt ist, eine horizontale Zahnstange 22, die mit dem Ritzel 21 in Eingriff steht, sowie einen Motor, der die Zahnstange in Richtungen im rechten Winkel der Ebene der Figur 2 hin- und herbewegt. Der Motor kann dabei ein von einem strömungsfähigen Medium betriebener Motor sein, beispielsweise ein doppelt wirkendes hydraulisches oder pneumatisches Kolbenaggregat, dessen Kolbenstange mit Bezugsziffer 22 in Figur 2 gekennzeichnet ist. Die Zahnstange 12 und der Motor sind auf einem ortsfesten Gestellteil 24 montiert, das ferner auch den Support 10, das einstellbare Saugwerk 11 und den Schaumerzeuger 13 sowie die Lager für die Endabschnitte der Siebdruckschablone 2 und des Trägers 3 tragen kann. Der Träger 3 ist vorzugsweise bezüglich der Siebdruckschablone 2 auf- und abbeweglich, um hierdurch den Druck ändern zu können, mit dem das Auftragselement 4 gegen die konkave Innenwandfläche der Siebdruckschablone 2 anliegt. Der Trieb 20 kann auf dem Gestell 24 so montiert sein, daß er an der Bewegung des Trägers 3 relativ zur Siebdruckschablone 2 teilnimmt.shown. The drive 20 includes a pinion 21 which is attached to the relevant end section of the carrier 3 is attached, a horizontal rack 22, which is in engagement with the pinion 21, and a motor, which reciprocates the rack in directions at right angles to the plane of FIG. The motor can be a motor operated by a flowable medium, for example a double motor Acting hydraulic or pneumatic piston unit, the piston rod of which has the reference number 22 is marked in Figure 2. The rack 12 and the motor are on a stationary frame part 24 mounted, which also includes the support 10, the adjustable suction unit 11 and the foam generator 13 as well the bearings for the end sections of the screen printing stencil 2 and the carrier 3 can carry. Of the Carrier 3 is preferably movable up and down with respect to the screen printing stencil 2 in order to thereby to be able to change the pressure with which the application element 4 against the concave inner wall surface of the screen printing stencil 2 is present. The drive 20 can be mounted on the frame 24 so that it is part of the movement of the carrier 3 relative to the screen printing stencil 2 takes part.

Die von dem Durchlaß 4a des Auftragselementes 4 definierte Wegbahn ist länglich schlitzförmig und erstreckt sich quer zur Richtung des Längstransportes des Substrates 1 gemäß Pfeil A. Die Breite des Substrates kann über 5 m hinausgehen und derThe pathway defined by the passage 4a of the application element 4 is elongated and slot-shaped extends transversely to the direction of longitudinal transport of the substrate 1 according to arrow A. The width of the substrate can go beyond 5 m and the

3Q einzelne Schaumerzeuger 13 kann durch eine Gruppe von zwei oder mehr Schaumerzeugern ersetzt sein, insbesondere, wenn der Träger 3 lang oder sehr lang ist, wobei dann jeder Schaumerzeuger Schaummedium in einen vorgegebenen Bereich des Trägers einbringt, so daß letzterer gleichförmig mit dem Medium gefüllt wird,3Q individual foam generator 13 can by a group be replaced by two or more foam generators, especially if the carrier 3 is long or very long, each foam generator then introducing foam medium into a predetermined area of the support so that the latter is uniformly filled with the medium,

das dann aus dem Träger 3 über den Auslaß 3a in den oberen Bereich des Durchlasses 4a auf seinem Weg in Kontakt mit dem Substrat 1 eintritt, wobei es dann schließlich durch die Siebdruckschablone 2 hindurchtritt. Die Siebdruckschablone 2 kann so gelocht sein, daß eine gleichförmige Lochverteilung in Achsrichtung und/oder Umfangsrichtung gegeben ist, oder mit Lochgruppen, die Muster bilden, je nach Art der Behandlung, der das Substrat unterzogen werden soll.which then from the carrier 3 via the outlet 3a in the upper region of the passage 4a on its way in Contact with the substrate 1 occurs, wherein it then finally passes through the screen printing stencil 2. The screen printing stencil 2 can be perforated so that a uniform hole distribution in the axial direction and / or circumferential direction is given, or with groups of holes that form patterns, depending on the type of treatment to which the substrate is to be subjected.

Diese Behandlung kann die Aufbringung einer Farbflüssigkeit oder irgendeiner anderen Art von drukkend wirkendem Material beinhalten, die Aufbringung eines Klebstoffes, eines Bleichmittels, eines Spülmittels, eines Imprägniermittels, eines Weichmachers, eines Versteifungsmittels oder irgendeines anderen Wirkstoffes, der in gleichförmigen oder selektiven Kontakt mit dem Substrat gebracht werden soll. Letzteres kann ein Teppichmaterial sein, irgendein anderes textiles Material, es kann sich um laufendes Bahnmaterial, um einzelne Bögen, Streifen oder dergleichen handeln und es kann sich auch um Papier oder Kunststoff und dergleichen handeln.This treatment can be the application of a color liquid or some other type of printing active material, the application of an adhesive, a bleach, a detergent, a waterproofing agent, a plasticizer, a stiffening agent or any other Active ingredient to be brought into uniform or selective contact with the substrate. The latter can be a carpet material, any other textile material, it can be running Web material, individual sheets, strips or the like, and it can also be paper or act plastic and the like.

Zweck der Winkeleinstellung des Auftragselementes 4 bezüglich der Ebene des Substrates 1, d. h. von Richtungslagenänderungen des schlitzförmigen Durchlasses 4a relativ zu dieser Ebene, ist es, das Ausmaß der Eindringung oder Durchdringung des strömungsfähigen Mediums in das Material des Substrates hinein zu ändern. Durch Drehung des Trägers 3 um seine Achse im Uhrzeigersinn, kann der Durchlaß 4a aus der in Figur 1 dargestellten vertikalen oder neutralen Lage in eine Stellung vor dem untersten Bereich der Siebdruckschablone 2 bewegt werden, so daß das Hindurchtreten des Schaummediums durch die Siebdruckschablone 2 früher beginnt, als in der FigurThe purpose of angular adjustment of the applicator element 4 with respect to the plane of the substrate 1, d. H. from Changes in direction of the slot-shaped passage 4a relative to this plane, it is that Extent of penetration or penetration of the flowable medium into the material of the substrate to change into it. By rotating the carrier 3 about its axis clockwise, the passage 4a from the vertical or neutral position shown in Figure 1 to a position in front of the lowest Area of the screen printing stencil 2 are moved so that the passage of the foam medium through the Screen printing stencil 2 starts earlier than in the figure

Mathias Mitter '..'.- .. 3 Λ 1 9 3 6Mathias Mitter '..'.- .. 3 Λ 1 9 3 6

dargestellten Stellung des Auftragselementes 4. Diese Einstellung kann von Hand oder durch eine Fernbetätigung über den die Kolbenstange 23 beinhaltenden Motor geschehen. Wenn die Abgabe von Schaummedium zum Substrat dagegen verzögert werden soll, d. h. also das Ausmaß der Eindringung über die Menge des aufzubringenden Schaummateriales reduziert werden soll, läßt man den Träger 3 über den Trieb 20 in Gegenuhrzeigersinn, gesehen auf Figur 1, drehen, so daß der Auslaßbereich des Durchlasses 4a gesehen auf Figur 1 nach rechts aus der dargestellten neutralen Lage herausbewegt wird.shown position of the order element 4. This setting can be done manually or by remote control happen via the engine containing the piston rod 23. When the delivery of foam medium to the Substrate, however, is to be delayed, d. H. i.e. the extent of the penetration beyond the amount to be applied Foam material is to be reduced, one lets the carrier 3 on the drive 20 in the counterclockwise direction, seen on Figure 1, rotate, so that the outlet region of the passage 4a, seen in FIG. 1, to the right from the neutral one shown Position is moved out.

Ein weiterer wesentlicher Vorteil der Winkelbeweglichkeit des Auftragselementes 4 ist es, daß dies eine ausgeprägte Stabilisierung der Siebdruckschablone 2 zur Folge haben kann. Im Regelfall ist die Siebdruckschablone 2 dünn oder sehr dünn und ihr Widerstand gegen Verformung ist sehr gering. Wenn das Substrat 1 mit erhöhter Geschwindigkeit angetrieben wird, hat die Schablone 2 häufig eine deutliche Tendenz zu Schwingungen und/oder einem unrunden Lauf. Es hat sich gezeigt, daß geringe Winkelverlagerungen des Auftragselementes 4 um die Achse des Trägers 3 zu einer ausgeprägten Stabilisierung der Siebdruckschablone 2 führen können und damit zu einem deutlich verbesserten Auftrag, d. h. einem gleichförmigeren oder besser vorherbestimmbaren Auftrag des Mediums auf das Substrat führen. Einstellungen der Relativlagen der Ebene des Substrates und des Durchlasses 4a sind häufig erforderlich, um der Tatsache Rechnung zu tragen, daß der Flor eines vorhergehenden SubstratesAnother major advantage of the angular mobility of the application element 4 is that this a pronounced stabilization of the screen printing stencil 2 can result. As a rule, the screen printing stencil is used 2 thin or very thin and their resistance to deformation is very low. When the substrate 1 is driven at increased speed, the stencil 2 often has a clear tendency to Vibrations and / or an uneven run. It has been shown that small angular displacements of the Application element 4 around the axis of the carrier 3 to a pronounced stabilization of the screen printing stencil 2 and thus to a significantly improved order, i.e. H. a more uniform or lead better predictable application of the medium to the substrate. Settings of the relative positions of the Level of the substrate and the passage 4a are often required to take account of the fact wear that the pile of a previous substrate

höher und/oder dichter war als der Flor des Substrates, das mit der Vorrichtung nun behandelt werden soll» Die Ebene der Bewegung des Substrates braucht auch rieht immer eben zu sein. Dies hängt von der Natur und Konfiguration des Supportes 10 ab.was higher and / or denser than the pile of the substrate that is now treated with the device should be »The plane of movement of the substrate also needs to always be level. This depends on the nature and configuration of the support 10.

Die Figuren 3 und 4 illustrieren einen Teil eines weiteren Ausführungsbeispieles einer derartigeh Vorrichtung. Identische Teile- oder eindeutig analoge Teile zu den entsprechenden Teilen der Vorrichtung nach den Figuren 1 und 2 sind mit gleichartigen Bezugsziffern, jeweils plus 100, gekennzeichnet.Figures 3 and 4 illustrate part of a further embodiment of such a device Contraption. Identical parts or clearly analogous parts to the corresponding parts of the device according to Figures 1 and 2 are identified with similar reference numerals, plus 100 in each case.

Die Vorrichtung nach den Figuren 3 und 4 beinhaltet einen zylindrischen Support 110, der längs einer bogenförmigen Wegbahn, wie mit dem Doppelpfel E angegeben, um die Achse des rohrförmigen Trägers 103 bewegbar ist, so daß hierdurch die Richtungslage eines Abschnittes der Ebene des Substrates 101 : relativ zu dem Durchlaß 104a des Auftragselementes 104 verändert wird. Der Doppelpfeil D zeigt die Richtungen auf, in die der Träger 103 und die Siebdruckschablone 102 um die Achse des zylindrischen Supportes 110 bewegbar sind, um die Richtungslage des Durchlasses 104a relativ zur Ebene des Substrates 101 zu verändern. Beispielsweise können der Träger und die Siebdruckschablone 102 zwischen einerseits der in ausgezogenen Linien dargestellten Neutrallage und andererseits den Lagen bewegt werden, die mit der strichpunktierten Lage 102' und der gestrichelten Lage 102' ' gezeigt sind. Wenn die Siebdruckschablone 102 in die Stellung 102' bewegt ist, wird das Substrat 101 aus einer ebenen horizontalen Lage entsprechend derThe device according to Figures 3 and 4 includes a cylindrical support 110, which is along a arcuate path, as indicated by the double apple E, about the axis of the tubular carrier 103 is movable, so that the directional position of a section of the plane of the substrate 101: relative to the passage 104a of the application element 104 is changed. The double arrow D shows the Directions in which the carrier 103 and the screen printing stencil 102 about the axis of the cylindrical Supports 110 are movable to the directional position of the passage 104a relative to the plane of the substrate 101 to change. For example, the carrier and the screen printing stencil 102 between on the one hand the neutral position shown in solid lines and on the other hand the positions that are moved with the dash-dotted position 102 'and the dashed position 102' 'are shown. When the screen printing stencil 102 is moved into the position 102 ', the substrate 101 is from a flat horizontal position corresponding to the

in ausgezogenen Linien dargestellten Lage des Substrates in eine unterschiedliche Ebene, beispielsweise die Lage 101', bewegt, was zwei gerade horizontale Abschnitte und einen dazwischenliegenden bogenförmigen Abschnitt beinhaltet. Der Krümmungsradius des bogenförmigen Abschnittes dieser Ebene entspricht dem Radius der zylindrischen Außenfläche des Supportes 110, weil die Siebdruckschablone 102 und das Auftragselement 104 dann das Substrat 101 dazu bringen, sich an einen Abschnitt der Umfangsfläche des Supportes 110 eng anzuschmiegen. Position of the substrate shown in solid lines in a different plane, for example the position 101 ', moving what is two straight horizontal sections and an intermediate arcuate section contains. The radius of curvature of the arcuate section of this plane corresponds to the radius of the cylindrical outer surface of the support 110, because the screen printing stencil 102 and the application element 104 then cause the substrate 101 to nestle against a portion of the peripheral surface of the support 110.

Anstelle der oder zusätzlich zu der vorstehend erörterten Beweglichkeit der Siebdruckschablone 102 und des Trägers 103 mit dem Auftragselement 104 um die Achse des Supportes 110 kann der Support 110 zwischen einer Vielzahl von Stellungen um eine ortsfeste Achse entsprechend der Achse des Trägers 103 bewegt werden, wenn der letztere seine neutrale Stellung einnimmt. Dies ist durch den genannten Doppelpfeil E aufgezeigt. Wenn der Support 110 in die Lage 110' bewegt ist, wird ein Abschnitt des Substrates 101 in die Lage 101'' bewegt, d. h., daß das Substrat sich dann an einen Abschnitt der Umfangsfläche der Siebdruckschablone 102 anschmiegt. Wird der Support 110 in die gestrichelte Lage 110'1 bewegt, wird der rechts liegende Teil des Substrates auf ein Niveau hochbewegt, das über dem des linken Teiles liegt. In den meisten oder zumindest in vielen Fällen ist es ausreichend, die Teile 102, 103, 104 für eine Bewegung relativ zum Support 110, oder aber umgekehrt, zu montieren.Instead of or in addition to the mobility of the screen printing stencil 102 and the carrier 103 with the applicator element 104 about the axis of the support 110, as discussed above, the support 110 can be moved between a plurality of positions about a fixed axis corresponding to the axis of the carrier 103 when the the latter takes its neutral position. This is indicated by the double arrow E mentioned. When the support 110 is moved into the position 110 ′, a section of the substrate 101 is moved into the position 101 ″, that is to say that the substrate then clings to a section of the circumferential surface of the screen printing stencil 102. If the support 110 is moved to the broken line position 110 '1, the right-lying portion of the substrate is moved up to a level, which is the left part to the. In most or at least in many cases it is sufficient to mount the parts 102, 103, 104 for movement relative to the support 110, or vice versa.

Die Anordnung zum Führen der Teile 102, 103 und 104 für eine Bewegung um die Achse des Supportes 110, und um sie in den ausgewählten Lagen zu halten, ist schematisch in Figur 4 gezeigt. Die Haltemittel beinhaltenThe arrangement for guiding the parts 102, 103 and 104 for movement about the axis of the support 110, and to keep them in the selected positions is shown schematically in FIG. The holding means include

stationäre Lager für die Endabschnitte des Trägers 103, wie beispielsweise das Lager 125. Jedes Lager 125 hat einen bogenförmigen Schlitz 126 für den jeweiligen Endabschnitt des Trägers 103 und letzterer hat ein oder mehrere Bügel 127 für Schrauben 128 oder andere Mittel, um die Teile 102, 103 und 104 in ausgewählten Lagen relativ zu dem Support 110 lösbar festzusetzen, beispielsweise zum Festsetzen der Teile 102, 103 und 104 in Stellungen ..entsprechend einer ausgewählten Richtungslage des Durchlasses 104a relativ zur Ebene des Substrates 101. Die Leitung 112 wird von einem Schlauch gebildet oder beinhaltet einen flexiblen Abschnitt. Wenn der Support 110 den Richtungen gemäß Pfeil E einstellbar ist, können seine Endabschnitte in entsprechenden Haltemitteln in einer Weise analog der oben für den Endabschnitt des Trägers 103 beschriebenen angeordnet sein.stationary bearings for the end portions of beam 103, such as bearing 125. Each bearing 125 has an arcuate slot 126 for the respective end portion of the beam 103 and the latter one or more brackets 127 for screws 128 or other means to hold the parts 102, 103 and 104 in selected one To releasably fix positions relative to the support 110, for example to fix the parts 102, 103 and 104 in positions .. corresponding to a selected one Directional position of the passage 104a relative to the plane of the substrate 101. The line 112 is from a hose formed or includes a flexible portion. When the support 110 according to the directions Arrow E is adjustable, its end sections in corresponding holding means in a manner analogous to that be arranged for the end portion of the carrier 103 described above.

Die beschriebene Vorrichtung kann noch zahlreichen weiteren Abwandlungen unterliegen. So kann beispielsweise der Schaumerzeuger 13 durch eine Speisung von pastösem oder leicht strömendem flüssigen Medium ersetzt sein, das Saugwerk 11 kann fortgelassen sein und das poröse Drucktuch 9 kann durch eine andere Abstützungsund Fördereinrichtung für das Substrat 101 oder 110 ersetzt sein. Der Träger 3, 103 muß nicht Teil der Zuführeinrichtung des Mediums zu dem Durchlaß 4a, 104a des Auftragselementes 4, 104 sein und das dargestellte Auftragselement kann durch eine Vielzahl anders gestalteter Auftragselemente ersetzt sein, solange die Vorrichtung nur in der Lage ist, die Richtungslage des Durchlasses des Auftragselementes relativ zur Ebene des Substrates und/oder umgekehrt, zu verändern. Das Ausmaß der Änderung der Richtungslage muß nicht ausgeprägt sein.The device described can be subject to numerous other modifications. For example the foam generator 13 is replaced by a supply of pasty or easily flowing liquid medium The suction mechanism 11 can be omitted and the porous printing blanket 9 can be supported by a different support Conveyor for the substrate 101 or 110 be replaced. The carrier 3, 103 does not have to be part of the Device for supplying the medium to the passage 4a, 104a of the application element 4, 104 and the illustrated application element can be designed differently by a variety Order elements be replaced as long as the device is only able to determine the direction of the To change the passage of the application element relative to the plane of the substrate and / or vice versa. The extent the change in direction does not have to be pronounced.

So muß beispielsweise, bezogen auf Figur 1, die Winkelbeweglichkeit des Trägers 3 mit dem Auftragseiemet 4 nicht 90 übersteigen. In den meisten Fällen braucht das Ausmaß der Winkelverstellung des Auftragselementes nicht über 10 hinauszugehen und kann lediglich einen Minutenbruchteil, d. h. weniger als 1°, eines solchen Winkels betragen.For example, with reference to FIG. 1, the angular mobility of the carrier 3 with the order set 4 do not exceed 90. In most cases it needs the extent of the angular adjustment of the application element not to go beyond 10 and can only take a fraction of a minute, i. H. less than 1 °, such Angle.

Auch der Einsatz der Siebdruckschablone 2, 102 ist
wahlweise, d. h., das Auftragselement 4, 104 kann das Medium gegebenenfalls auch direkt in Berührung mit der entsprechenden Seite des Substrates bringen.
Darüberhinaus kann die gezeigte Siebdruckschablone durch eine nicht zylindrische Schablone ersetzt sein, die über eine oder mehrere Walzen so angetrieben wird, daß sie ein Untertrum benachbart der Oberseite des Substrates hat.
The use of the screen printing stencil 2, 102 is also possible
optionally, ie the application element 4, 104 can optionally also bring the medium directly into contact with the corresponding side of the substrate.
In addition, the screen printing stencil shown can be replaced by a non-cylindrical stencil which is driven by one or more rollers so that it has a lower run adjacent to the top of the substrate.

Claims (18)

- - - Patentanwälte- - - Patent attorneys Mathias Mitter . :-:- i ': : Qr# Loesenbeck (1980)Mathias Mitter. : - : - i ' :: Q r # Loesenbeck (1980) Faikenstr.57 Dipl.-Ing. StrackeFaikenstrasse 57 Dipl.-Ing. Stracke schloß Holte ς λ ι Q ^ R 7 Dipl.-Ing. LoesenbeckSchloss Holte ς λ ι Q ^ R 7 Dipl.-Ing. Loesenbeck j ^ ι ό ο D / jaiienbeCkBT Str. 164,4800 Bielefeldj ^ ι ό ο D / jaiienbeCkBT Str. 164, 4800 Bielefeld PatentansprücheClaims Verfahren zur Regulierung des Ausmaßes der Eindringung eines strömungsfähigen geschäumten, pastösen oder flüssigen Mediums in ein Substrat, dadurch gekennzei chnet, daß das Substrat in einer vorbestimmten Ebene angeordnet wird, das Medium gegen die eine Seite des Substrates in dieser Ebene längs einem vorbestimmten Weg gefördert wird und die Richtungslage dieses Weges und der genannten Ebene relativ zueinander verändert wird.Method for regulating the extent of the penetration of a flowable foamed, pasty or liquid medium in a substrate, characterized in that the substrate is in a predetermined plane is arranged, the medium against one side of the substrate in this plane along a predetermined path is promoted and the directional position this path and the said level is changed relative to each other. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß2. The method according to claim 1, characterized in that das Substrat in der genannten Ebene in einer vorbestimmten Richtung bewegt wird, eine längliche Wegbahn verwendet wird, die im wesentlichen quer zu der genannten Richtung gehalten wird und das Verändern der Richtungslage dadurch durchgeführt wird, daß die Wegbahn um eine Achse, die im wesentlichen parallel zur Längserstreckung in der Wegbahn ist, bewegt wird.the substrate is moved in said plane in a predetermined direction, an elongated path is used, which is held essentially transversely to said direction and thereby changing the directional position it is carried out that the path is about an axis which is essentially parallel to the longitudinal extension in the path is moved. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Richtungslagenveränderung durch ein Drehen der Wegbahn um die genannte Achse im Uhrzeigersinn oder im Gegenuhrzeigersinn geschieht.3. The method according to claim 2, characterized in that the change in direction of position by rotating the path clockwise or counterclockwise around said axis happens. Math i as Mi tter - - - . ·Math i as middle - - -. · 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Wegbahn um eine ortsfeste Achse über einen Winkel von weniger als 90° bewegt wird.4. The method according to claim 3, characterized in that the path is moved around a fixed axis over an angle of less than 90 °. 5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer Auflagerung des Substrates in einer vorbestimmten Ebene und mit einem Auftragelement mit einem Durchlaß zum Aufbringen des Mediums auf die Ebene sowie einer Vorrichtung zum Zuführen des Mediums zum Durchlaß des Auftragselementes, dadurch gekennzeichnet, daß Einstellmittel (20) zur Veränderung der Richtungslage des genannten Durchlasses (4a) und zumindest einem Teil der Ebene des Substrates (1) relativ zueinander vorgesehen sind.5. Device for performing the method according to Claim 1, with a support of the substrate in a predetermined plane and with an application element with a passage for applying the medium to the plane and a device for feeding the medium for the passage of the application element, characterized in that that adjusting means (20) for changing the Directional position of said passage (4a) and at least a part of the plane of the substrate (1) are provided relative to one another. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellmittel (20) Mittel zum Drehen des Auftragselementes (4) um eine ortsfeste Achse beinhalten. 6. Apparatus according to claim 5, characterized in that the setting means (20) include means for rotating the application element (4) about a fixed axis. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Drehtrieb (20) zur Veränderung der Winkellage des Auftragselementes (4) auf eine maximale WinkelVerdrehung von 90° ausgelegt ist.7. Apparatus according to claim 6, characterized in that the rotary drive (20) for changing the angular position of the Application element (4) to a maximum angular rotation of 90 °. 8. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bereithaltung des Substrates Mittel (9) zum Bewegen des Substrates (1) in eine vorbestimmte Richtung beinhalten und das Auftragselement (4) länglich ausgebildet ist und sich im wesentlichen quer zu dieser Richtung erstreckt.8. Apparatus according to claim 5, characterized in that the means of keeping the substrate ready means (9) for moving the substrate (1) in a predetermined direction and the application element (4) elongated is formed and extends substantially transversely to this direction. 9. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Siebdruckschablone (2) vorgesehen ist, die zwischen der genannten Ebene des Substrates (1) und dem Auftragselement (4) derart angeordnet ist, daß das aus dem Durchlaß (4a) austretende Mediura vor Kontaktierung des Substrates (1) durch die Siebdruckschablone treten muß.9. Apparatus according to claim 5, characterized in that a screen printing stencil (2) is provided which is arranged between the said plane of the substrate (1) and the application element (4) in such a way that the medi ura emerging from the passage (4a) must pass through the screen printing stencil before contacting the substrate (1). ... - 3 Mathias Mitter ." "":" :... - 3 Mathias Mitter. "" ":": 10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bereithaltung des Substrates (1) einen zweiten Durchlass (10a) benachbart dem Auftragselement (4) definieren, der zweite Durchlaß (10a) und der Durchlaß (4) des Auftragselementes (4) auf entgegengesetzten Seiten der Ebene des Substrates (1) angeordnet sind und ferner ein Saugwerk (11) vorgesehen ist, dessen Einlaß (11a) mit dem zweiten Durchlaß (10a) verbunden ist.10. The device according to claim 1, characterized in that that the means for keeping the substrate ready (1) defining a second passage (10a) adjacent to the applicator element (4), the second passage (10a) and the passage (4) of the application element (4) on opposite sides Sides of the plane of the substrate (1) are arranged and a suction unit (11) is also provided is whose inlet (11a) is connected to the second passage (10a). 11. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für das Auftragselement (4) ein Träger (3) vorgesehen ist und die Einstellmittel (20) einen Trieb zur Veränderung der Richtungslage des genannten Durchlasses (4a) mittels dem Träger (3) beinhalten.11. The device according to claim 1, characterized in that that a carrier (3) is provided for the application element (4) and the adjusting means (20) a drive for Change in the direction of the said passage (4a) by means of the carrier (3). 12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der genannte Träger (3) Teil der Zuführeinrichtung für das Medium ist und ein rohrförmiges Trägerteil beinhaltet, das einen mit dem Durchlaß (4a) des Auftragselementes (4) in leitender Verbindung stehenden Auslaß (3a) hat.12. The device according to claim 11, characterized in that that said carrier (3) is part of the feed device for the medium and includes a tubular support part which has an outlet which is in conductive connection with the passage (4a) of the application element (4) (3a) has. 13. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,13. The device according to claim 5, characterized in that daß die Einstellmittel einen Zahnstangen-Zahnritzeltrieb (20) beinhalten.that the setting means a rack and pinion drive (20) include. 14. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellmittel (110) Mittel zur Veränderung der Lage mindestens eines Teiles der genannten Ebene des Substrates (101) bezüglich des Auftragselementes (104) bei nhalten.14. The device according to claim 5, characterized in that that the adjusting means (110) means for changing the position of at least a part of said plane of the Hold the substrate (101) with respect to the application element (104). 15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bereithaltung des Substrates (101) einen Substratsupport (110) bein hai ten und die Einstellmittel eine gegenüber dem Auftragselement (104) beweg-15. The device according to claim 14, characterized in that the means for keeping the substrate (101) ready a substrate support (110) and the adjustment means a relative to the application element (104) movable - 4 - . :
Mathias Mitter ■■'■- '"' 3419367
- 4 -. :
Mathias Mitter ■■ '■ -'"' 3419367
bare Halterung für den Support (110) beinhalten.include holder for the support (110).
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Support (10) eine im wesentlichen zylindrische Außenfläche hat, die in Kontakt mit dem Substrat (101) steht.16. The device according to claim 15, characterized in that that the support (10) has a substantially cylindrical outer surface which is in contact with the substrate (101) stands. 17. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Halterung eine bogenförmige Wegbahn für den
Support (110) bildet.
17. The device according to claim 15, characterized in that the holder has an arcuate path for the
Support (110) forms.
18. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einstellmittel eine Halterung für das Auftragselement (104) beinhalten, die diesem eine bogenförmige Wegbahn ermöglicht.
18. The device according to claim 5, characterized in that
that the setting means include a holder for the applicator element (104), which allows this an arcuate path.
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