DE29924161U1 - Implantat - Google Patents

Implantat

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Description

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Claims (26)

1. Implantat (1) mit einem Träger (2), insbesondere aus Metall, der eine insbesondere in mit Körpergewebe und/oder -flüssigkeiten in Kontakt tretenden Bereichen angeordnete, zumindest abschnittsweise ausgebil­ dete Deckschicht (6) zur Aufnahme mindestens eines therapeutischen Mittels (5) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht (6) eine Vielzahl von Hohlräumen (10) mit separa­ ten Öffnungen (9) zur Oberfläche (8) der Deckschicht (6) zur Aufnahme des mindestens einen therapeutischen Mittels (5) aufweist, wobei die Öffnungen (9) und/oder die Hohlräume (10) zumindest im wesentlichen gleichförmig ausgebildet sind, wobei die Deckschicht (6) zumindest im wesentlichen aus Magnesium-, Tantal-, Aluminium-, Eisen- und/oder Wolframoxid besteht und/ oder die Hohlräume (10) und/oder deren Öffnungen (9) einen Querschnitt bzw. eine Öffnungsfläche mit einem größten oder mittleren Durch­ messer von im Mittel maximal 100 nm aufweisen.
2. Implantat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Deck­ schicht (6) zumindest im wesentlichen nickelfrei ist.
3. Implantat nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger (2) mit einer elektrolytisch aufgebrachten bzw. oxidierten Deck­ schicht (6) und/oder mit einer im Plasmabeschichtungsverfahren, insbe­ sondere aus der Dampfphase, aufgebrachten Deckschicht (6) versehen ist und/oder daß die Deckschicht (6) durch eine insbesondere oxidierte Oberflächenschicht des Trägers (2) gebildet ist.
4. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Deckschicht (6) nur auf außenseitigen oder sowohl auf außenseitigen als auch auf innenseitigen Oberflächenabschnitten des Trägers (2) ausgebildet ist.
5. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Deckschicht (6) im wesentlichen gleichmäßig dick ausgebildet ist.
6. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Dicke der Deckschicht (6) zumindest im wesentlichen höchstens 1,5 µm, vorzugsweise maximal 200 nm und insbesondere etwa 30 bis 150 nm, beträgt.
7. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Deckschicht (6) eine insbesondere für Köperflüssigkei­ ten undurchlässige, vorzugsweise die gesamte Oberfläche (7) des Trä­ gers (2) bedeckende Sperrschicht (11) bildet.
8. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Hohlräume (10) zumindest im wesentlichen gleichmä­ ßig ausgebildet sind und/ oder daß die Hohlräume (10) zumindest im we­ sentlichen länglich, insbesondere röhrenartig, ausgebildet und/oder je­ weils zumindest einseitig verschlossen sind.
9. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Hohlräume (10) voneinander beabstandet bzw. getrennt ausgebildet sind und/oder daß die Hohlräume (10) zumindest im wesentlichen parallel zueinander und/oder zumindest im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche (7, 8) der Deckschicht (6) und/oder des Trägers (2) verlaufen.
10. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Deckschicht (6) Hohlräume (10) mit unterschiedlichen Querschnitten und/oder Volumina und/oder Öffnungsflächen zur Ober­ fläche (8) der Deckschicht (6) aufweist und/oder daß die Hohlräume (10) j eweils Abschnitte mit unterschiedlichen bzw. zu- und/oder abnehmen­ den Querschnitten aufweisen und/oder verzweigt sind.
11. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Hohlräume (10) ausschließlich in der Deckschicht (6) ausgebildet sind.
12. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Hohlräume (10) und/oder deren Öffnungen (9) über zumindest einen Teil der Oberfläche (8) der Deckschicht (6) verteilt an­ geordnet sind und/ oder daß die Hohlräume (10) bzw. deren Öffnungen (9) mit einer Flächendichte von 108 bis 1011/cm2 über die Oberfläche (8) der Deckschicht (6) verteilt sind.
13. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Summe der Querschnittsflächen der Fläche der Öff­ nungen (9) höchstens 50% der Oberfläche (8) der Deckschicht (6) be­ trägt und/oder daß die Öffnungen (9) zumindest im wesentlichen die gleiche Querschnittsfläche und/oder zumindest im wesentlichen den gleichen minimalen, mittleren und/oder maximalen Durchmesser auf­ weisen.
14. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Hohlräume (10) und/oder deren Öffnungen (9) einen Querschnitt bzw. eine Öffnungsfläche mit einem größten oder mittleren Durchmesser von im Mittel maximal 50 nm, insbesondere etwa 25 nm oder weniger, aufweisen.
15. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Implantat (1) als Stent ausgebildet ist.
16. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Implantat (1) mindestens ein therapeutisches Mittel (5) umfaßt, das in den Hohlräumen (10) aufgenommen ist.
17. Implantat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das thera­ peutische Mittel (5) zumindest teilweise an Wandungen (12) der Hohlräume (10), insbesondere über Komplexbildner (13), chemisch gebunden ist.
18. Implantat nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine therapeutische Mittel (5) derart in den Hohlräumen (10) gebunden bzw. fixiert ist, daß dieses bei Überschreiten einer vorbe­ stimmten Temperatur und/oder durch körperspezifische Stoffe, Körper­ flüssigkeiten, Enzyme oder Aktivierungsstoffe oder durch Einwirkung einer sonstigen Aktivierung, insbesondere Laser oder Ultraschall, vom Implantat (1) im implantierten Zustand abgeben wird.
19. Implantat nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Implantat (1) mindestens zwei in den Hohlräumen (10) derart aufgenommene therapeutische Mittel (5) aufweist, daß die Mittel (5) nacheinander und/oder mit unterschiedlicher Geschwindigkeit und/oder in unterschiedlicher Menge im implantierten Zustand abgebbar sind.
20. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Implantat (1) als therapeutisches Mittel (5) radioakti­ ves Material umfaßt, das eine insbesondere vorbestimmte Menge minde­ stens eines Radionukleids enthält und das in den Hohlräumen (10) auf­ genommen und insbesondere darin fixiert ist.
21. Implantat nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das radioak­ tive Material an Wandungen (12) der Hohlräume (10), insbesondere über Komplexbildner (13), wie Thiole, chemisch gebunden ist.
22. Implantat nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, daß das radioaktive Material radioaktives Rhenium und/oder Technetium enthält, das insbesondere über Schwefelgruppen in den Hohlräumen (10) fixiert ist.
23. Implantat nach einem der Ansprüche 20 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß das radioaktive Material verschiedene Radionuklide, insbesondere mit unterschiedlichen Halbwertszeiten, Strahlungsarten und/oder Energien, in vorbestimmten Mengen und Verhältnissen umfaßt.
24. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Deckschicht (6) bzw. die Öffnungen (9) der Hohlräume (10) durch eine Abdeckschicht (14), vorzugsweise aus Gold, zumindest temporär überdeckt bzw. verschlossen sind.
25. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß zur Bildung der Deckschicht (6) bzw. der Hohlräume (10) eine Oberflächenschicht des Trägers (2) oder eine auf den Träger (2) aufgebrachte Beschichtung anodisch oxidiert ist.
26. Implantat nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Anzahl und/oder der Durchmesser der Hohlräume (10) in Abhängigkeit vom Abstand zur Oberfläche (8) der Deckschicht (6) variieren.
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