DE2952607A1

DE2952607A1 - Verfahren zur herstellung eines teils mit einer anordnung von mikrostrukturelementen auf demselben

Info

Publication number: DE2952607A1
Application number: DE19792952607
Authority: DE
Inventors: Takashi Suzuki
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1978-12-29
Filing date: 1979-12-28
Publication date: 1980-07-10
Anticipated expiration: 1999-12-29
Also published as: JPS633291B2; DE2952607C2; US4523807A; JPS5590931A

Description

Verfahren zur Herstellung eines Teils mit einer Anordnung von Mikrostrukturelementen auf demselben

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Teils mit einer Anordnung von Mikrostrukturelementen auf demselben, bei dem ein eine zweidimensionale Periodizität aufweisendes Muster in Luft hergestellt und optisch aufgezeichnet wird. Der Vorgang des optischen Aufzeichnens bei diesem Verfahren schließt nicht nur das Aufzeichnen mit sichtbarem Licht ein, sondern das Aufzeichnen mit anderer Strahlung, die nicht sichtbar ist. Das Teil mit einer Anordnung von Mikrostrukturelementen wird nachstehend zur Vereinfachung der Beschreibung als Mikrostrukturteil bezeichnet. Beispiele für ein solches Mikrostrukturelement, auf das sich die Erfindung bezieht, sind eine Mikroreliefstruktur, eine Mikrosiebstruktur und dgl. Diese Mikrostrukturteile sind für viele Zwecke in der optischen, chemischen, Druck- und Maschinenindustrie nützlich. Beispielsweise werden sie als Einstell- bzw. Mattscheibe in Kameras verwendet.

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Sie können auch als Teilchengrößen-Auswahlfilter für Poliermittel und als Punktgitterschirm beim Drucken verwendet werden. Nachstehend wird das Herstellungsverfahren für solche Mikrostruktorteile und deren Verwendung insbesondere in Verbindung mit solchen Mikrostrukturteiien beschrieben, die vorteilhaft in der Technik der Optik verwendet werden.

Beispiele für in der Optik bekannte Mikrostrukturteile sind Fliegenaugenlinsen und Mikroprismen, die in Kameras als Einstellscheibe und Mattscheibe und bei Bildprojektionsgeräten als Projektionswand verwendet werden. Andere Verwendungsarten für Mikrostrukturteile findet man auch in Beleuchtungsgeräten und Datenverarbeitungsgeräten.

Es hat sich herausgestellt, daß die allgemein in optischen Geräten und insbesondere in Kameras verwendeten Diffusions- bzw. Streuplatten einen entscheidenden Nachteil besitzen, der darin liegt, daß ihre Helligkeit unzureichend ist, so daß viele Versuche gemacht wurden, um die Streuplatten zu verbessern. Als eine Lösung dieses Problems ist vorgeschlagen worden, Fliegenaugenlinsen als Einstellscheiben bzw. Mattscheiben in Kameras zu verwenden. In diesem Fall ist es jedoch erforderlich, daß die einzelnen Linsenelemente einer Fliegenaugenlinse bzw. Fazettenlinse einen sehr kleinen Durchmesser in der Größenordnung von 10 um oder weniger haben müssen. Der Grund hierfür wird später beschrieben.

im Augenblick ist kein Verfahren verfügbar, um Fliegenaugenlinsen, die aus derart kleinen Linsenelementen bestehen, herzustellen. Aus diesem Grunde ist bisher keine einzige Fliegenaugenscheibe ^zur Verwendung in Kameras verwirklicht worden.

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Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, nach dem es möglich ist, eine Fliegenaugenlinsenscheibe mit der erwähnten Anordnung sehr kleiner Linsenelemente herzustellen.

Ferner soll ein Verfahren angegeben werden, welches

die Herstellung eines Bildprojektionsschirms mit gut steuerbaren Streueigenschaften erlaubt. Der Schirm soll auf einfache Weise so herstellbar sein, daß er rotationsunsymmetrische Streueigenschaften besitzt.

Erfindungsgemäß soll eine Scheibe bzw. ein Schirm hersteilbar sein, dessen Anordnung von Mikrostrukturelementen in zwei Dimensionen regelmäßig ist.

Darüber hinaus ist es Aufgabe der Erfindung, ein Biidprojektionsgerät zu schaffen, bei dem die oben genannte Anordnung von Mikrostrukturelementen mit einer bestimmten Periodizität als Projektionsschirm verwendet wird und das mit Mitteln ausgestattet ist, die einen durch Moirestreifen, wie sie in solchen Geräten auftreten, hervorgerufenen ungünstigen Einfluß auf das zugehörige Bildbeobachtungssystem verhindern.

Erfindungsgemäß sollen Mikrostrukturteile mit einer Anordnung von Mikrostrukturelementen herstellbar sein, von denen jedes eine Größe in der Größenordnung von um besitzt, beispielsweise Siebscheiben, die nicht nur in der optischen Industrie, sondern auch in ver-

schiedenen anderen Techniken nützlich sind.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden drei oder mehr kohärente Strahlen auf ein Aufzeichnungsmaterial projiziert/ und zwar bilden die Strahlen end-"" liehe Winkelrichtungen zueinander und erzeugen ein Muster auf dem Aufzeichnungsmaterial. Das auf dem Auf-

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Zeichnungsmaterial aufgezeichnete Muster wird einer Entwicklungsbehandlung unterworfen, um auf diese Weise Mikrostrukturelemente zu erhalten.

Die Erfindung wird nachstehend anhand der Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Geräts zur Erzeugung und Aufzeichnung

eines Musters zur Herstellung eines Mikrostrukturteils;

Fig. 2 ein Beispiel von Mustern, die unter '5 Verwendung des Geräts gemäß Fig. 1

hergestellt sind;

Fig. 3 ein Beispiel eines Geräts zum Erzeugen

und Aufzeichnen von Mustern zur Her- *" stellung eines Mikrostrukturteils

ohne Verzeichnung bzw. Verzerrung;

Fig. 4 ein Muster, das dann erhalten wird, wenn das Gerät gemäß Fig. 1 durch Änderung der dreieckigen Anordnung von Punktlichtquellen auf eine rhombische Anordnung modifiziert wird;

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Fig. 5 ein Muster, das dann erhalten wird,

wenn das Gerät gemäß Fig. 1 durch Änderung der dreieckigen Anordnung von Punktlichtquellen auf eine rechteckige Anordnung modifiziert

wird;

Fig. 6 ein Muster, das dann erhalten wird, wenn das Gerät gemäß Fig. 1 durch Änderung der dreieckigen Anordnung

von Punktlichtquellen auf eine doppelringförmige Anordnung modifiziert wird;

Fig. 7 eine Anordnung zur Erzeugung einer

Punktlichtquelle, mit der das in Fig. 6 gezeigte Muster erhalten werden kann;

Fig. 8 ein Beispiel einer unregelmäßigen An-Ordnung von Punktlichtquellen und

Fig. 9 die Intensitätsverteilung auf dem

Schirm bzw. der Scheibe, der bzw. die unter Verwendung der Anordnung von Punktlichtquellen gemäß Fig. 8 herge

stellt ist.

Nachstehend wird zunächst ein Verfahren zur Herstellung eines Schirms bzw. einer Scheibe mit einer MikroStruktur gemäß einer Fliegenaugenlinse entsprechend einem ersten Ausführungsbeispiel unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben.

In Fig. 1 bezeichnen 1 einen Laserstrahl und 2 und 3 ein optisches System zum Aufweiten des Strahls.

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Mit 4 ist ein Linsenhalter beschrieben, der drei konvexe Linsen 5y 5₂ und 5₃ trägt. Reelle Punktlichtquellen, die durch die drei konvexen Linsen entstehen, sind mit 6., 6- und 6- bezeichnet. Wie durch die Strichlinie 7 angedeutet, kann in der Ebene, die die drei Punktlichtquelien enthält, ein Filter angeordnet sein, das kleine öffnungen besitzt, die etwas größer als die Punktlichtquellen sind, um auf diese Weise ein Rauschen bzw. Störungen auszuschließen, die durch Schmutz oder andere Fremdstoffe auf den Linsen erzeugt werden können.

Mit 8 ist ein Aufzeichnungsmaterial bezeichnet, auf das divergierende Strahlen 9. , 9_ und 9.. von den oben genannten drei Punktlichtquellen projiziert werden.

In dem Bereich 10, wo die drei Strahlen einander überlappen, wird ein Interferenzstreifenmuster erzeugt, das aus der Interferenz der drei Strahlen resultiert. Bei der Ausführung gemäß Fig. 1 liegen die drei Punktlichtquellen 6., 6p und 6., nahezu in den drei Spitzen bzw. Eckpunkten eines regelmäßigen Dreiecks. Das Interferenzmuster besitzt eine zweidimensionale Periodizität, wie es aus Fig. 2 ersichtlich wird. Da Fig. 2 jedoch eine Photographie ist, die die unter Verwendung eines Mikroskops ohne irgendein Rauschfilter 7 direkt aufgenommen ist, sind dem Interferenzmuster einige Störinterferenzen überlagert. Dies gilt auch für die Photographiengemäß den Fig. 4 bis 6.

Das Interferenzmuster wird auf eine Silbersalzemulsions-Trockenplatte aufgezeichnet und einer bekannten Bleichbehandlung unterworfen. Durch diese Behandlung wird die Intensitätsverteilung des Lichts in ein Reliefmuster der Geiatineschicht umgewandelt. Auf diese Weise wird eine Art Fliegenaugenlinse erhalten, die aus dicht ^OJ angeordneten kleinen Linsenelementen zusammengesetzt ist. Eine solche Reliefmusterstruktur kann mittels eines

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Massenherstellungsverfahrens reproduziert werden, indem irgendein geeignetes der verschiedenen bekannten Kopierverfahren angewendet wird.

Wenn das in Fig. 2 gezeigte Interferenzmuster auf einer, anderen Aufzeichnungsmaterial aufgezeichnet wird, das in der Technik des Aufzeichnens von IC-Mustern bekannt ist, d. h. auf einem solchen Aufzeichnungsmaterial, das durch Aufbringen einer Schicht eines photolöslichen Abdecklacks auf einem chrombeschichteten Glas hergestellt wird, wird eine Netzwerkstruktur erhalten, die dem Interferenzmuster nach dem Entwickeln und Ätzen komplementär ist. Wenn in diesem Fall eine dünne Metallfolie den aufgedampften Chromfilm ersetzt, wird auf einfache Weise ein vollständiges Teil mit einer Mikrosieb- bzw. Mikrogitterstruktur erhalten.

Als Aufzeichnungsmaterial 8 können auch Photopolymere, Thermoplaste, dichromatisierte Gelatine und

Chalcogenglas verwendet werden, und zwar entsprechend der Wellenlänge der dann verwendeten Lichtquelle und dem Zweck, für den das Mikrostrukturteil verwendet werden soll. Die durch Verwendung der vorstehend genannten Aufzeichnungsmaterialien erhältliche Mikrostruktur ist nicht auf eine periodische Reliefstruktur beschränkt. Durch geeignete Auswahl des Behandlungsverfahrens des ausgewählten Materials kann die Mikrostruktur auch in Form einer inneren Brechungsindexverteilung ausgebildet sein.

Bei dem in Fig. 1 gezeigten Interferenzmuster-Erzeugungsgerät können die Linsen S₁ bis 5-, durch Konkaviinsen ersetzt werden. In gleicher Weise sind die „,. für die Ausbildung des Interferenzstreifenmusters verwendeten Strahlen nicht auf diverqierende Strahlen begrenzt. Konvergierende Strahlen und parallele Strahlen

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können zu demselben Zweck benutzt werden. Es können auch solche Strahlen verwendet werden, die eine gewisse Aberration enthalten, vorausgesetzt, daß die Aberration nicht irgendeine Unregelmäßigkeit in die Periodizität des Interferenzmusters einführt.

Insbesondere werden gemäß dem in Fig. 1 gezeigten Verfahren Interferenzmuster mit einer gewissen Verzeichnung bzw. Verzerrung erzeugt. Wenn daher ein Muster erzeugt werden soll, das über einen weiten Bereich frei von Verzerrungen bzw. Verzeichnungen ist, ist es von Vorteil, ebene Wellen herzusteilen, die miteinander interferieren. Fig. 3 zeigt ein optisches System, mit dem drei ebene Wellen auf relativ einfache Weise erhalten werden können, obgleich die Möglichkeit einer gewissen Aberration gegeben ist.

In Fig. 3 bezeichnen 11 einen Laserstrahl, 12 und 13 ein optisches System zur StrahlaufWeitung und 14 einen

™ Linsenhalter für Linsen 15. bis 15... Durch die drei Linsen entstehende reelle Punktlichtquellen sind mit 16.., 16_ und 16-, bezeichnet. Die durch diese drei Punkte 16.J, 16„ und 16 definierte Ebene fällt mit der Brennebene einer Linse 17 zusammen. Aus der Linse 17

^ZJ treten daher drei parallele Strahlen 18^ 18₂ und 18₃ aus und fallen auf ein Photoaufzeichnungsmaterial 19.

Es ist möglich, durch geeignetes Einstellen des

Abstandes zwischen den beiden Linsen 12 und 13 sicher-

zustellen, daß die drei Strahlprojektionsflächen auf dem Aufzeichnungsmaterial einander in einer Fläche 20 überlappen. Auch die Größe der einzelnen Muster gemäß Fig. 2 kann leicht dadurch gesteuert werden, daß der Abstand zwischen den Punktlichtquellen und/oder der

Abstand zwischen der die Punktlichtquellen enthaltenen Ebene und dem Aufzeichnungsmaterial geändert wird. Auf

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diese Weise können ohne Schwierigkeiten Muster von etwa 1 um Größe erhalten werden.

Zur Erzeugung der erforderlichen Strahlen in dem gezeigten Gerät können auch Strahlteiler oder verschiedene Prismen verwendet werden.

Während in den Fig. 1 und 2 eine dreieckige Anordnung von Punktlichtquellen gezeigt ist, kann die Art der Anordnung der Punktlichtquellen auf verschiedene Weisen modifiziert werden. Beispielsweise kann eine Mehrzahl von Punktlichtquellen so angeordnet werden, daß sie eine Raute bzw. einen Rhombus, ein Rechteck oder zwei oder mehr Dreiecke bilden. Die Punktlichtquellen können auch so angeordnet werden, daß sie auf einem oder mehreren Kreisen oder Ellipsen liegen. Es kann auch eine punktsymmetrische Anordnung verwendet werden, vorausgesetzt, daß die Anordnung mindestens zwei Sätze von Punktlichtquellen darstellt, von denen jeder Satz zwei

™ Punktlichtquellen besitzt, die relativ zu einem Punkt symmetrisch angeordnet sind. Es ist nicht stets notwendig, die Punktlichtquellen regelmäßig anzuordnen, wie es oben erwähnt wurde. Es kann auch eine unregelmäßige Anordnung der Punktlichtquellen verwendet werden,

" solange das dabei erhaltene Interferenzmuster eine Periodizität besitzt. Ein Beispiel einer derartigen unregelmäßigen Anordnung ist in Fig. 8 gezeigt.

Gemäß Fig. 8 sind vier Punktlichtquellen 19. bis

19. unregelmäßig angeordnet. Wie aus Fig. 9 jedoch ersichtlich wird, weist die Intensitätsverteilung des daraus resultierenden Lichts,in einer linearen Richtung betrachtet, eine Regelmäßigkeit auf. Während die in Fig.

9 gezeigte Verteilungskurve innerhalb der Spanne χ

unregelmäßig verläuft, besitzt sie einen periodischen Verlauf x, wenn man einen größeren Bereich betrachtet.

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Durch eine rhombische regelmäßige Anordnung wird ein in zwei Dimensionen periodisches Interferenzmuster erhalten, wie es in Fig. 4 gezeigt ist. Die einzelnen Musterelemente des Interferenzmusters besitzen die Form eines Rhombus, dessen Ecken abgeschnitten sind, so daß sich im ganzen angenähert eine Ellipse ergibt. Wenn eine rechteckige Anordnung verwendet wird, wird ein in zwei Dimensionen periodisches Muster erhalten, wie es in Fig. 5 gezeigt ist. Aus Fig. 5 wird ersichtlich, daß sich das Interferenzmuster aus einer Anzahl von Musterelementen in Form von Rechtecken zusammensetzt, deren Ecken abgeschnitten sind. Ähnlich setzt sich das Muster, das bei Verwendung einer quadratischen Anordnung erhalten wird, aus einer Anzahl von Musterelementen zusammen, von denen jedes die Form eines Quadrats besitzt, dessen Ecken abgeschnitten sind.

Aus dem vorstehenden wird deutlich , daß bei dem beschriebenen Verfahren die Größe, die Form und die Verteilung des herzustellenden Interferenzmusters auf einfache Weise gesteuert werden können, indem die Anordnung der jeweils verwendeten Punktlichtquellen geändert wird. Daher können unterschiedliche Schirme bzw. Scheiben mit sehr gut steuerbaren Diffusionseigenschaften erhalten werden, indem das Interferenzmuster in ein entsprechendes Reliefmuster umgewandelt wird, wobei ein bekanntes Aufzeichnungsverfahren verwendet werden kann, beispielsweise das Silbersalz-Bleichverfahren, das Photolackverfahren, das Thermoplastverfahren und

^OKJ andere bekannte Verfahren. Das erfindungsgemäße Verfahren läßt viele Schirm- bzw. Scheibentypen herstellen, die in der Bildprojektionstechnik verlangt werden, d. h. Schirme mit einem gut begrenzten Richtvermögen, Schirme mit rotationsunsymmetrischen Streueigenschaften und

sog. Klarglaseinstellscheiben mit relativ niedrigem Granulationsgrad.

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Muster/ wie sie in den Fig. 4 und 5 gezeigt sind, die unterschiedliche Grundfrequenzen in Längsrichtung und in Querrichtung besitzen, sind insbesondere zur Herstellung von Scheiben bzw. Schirmen geeignet, die rotationsunsymmetrische Streueigenschaften besitzen. Diese Scheiben können vorteilhaft in Kameras angewendet werden, bei denen die Lichtmessung unter Verwendung eines Teils des von der Matt- bzw. Einstellscheibe zerstreuten Lichts durchgeführt wird, oder bei Projektionswänden, bei denen in Längsrichtung eine geringere Streuung und in Querrichtung eine höhere Streuung erwünscht ist.

Schirme bzw. Scheiben oder Wände, die aus solchen periodischen Strukturmustern, wie sie in den Fig. 2, 4 und 5 gezeigt sind, hergestellt sind, führen insbesondere dann zu einem Problem, wenn sie in Bildprojektionsgeräten verwendet werden. Wenn das zu projezierende Bild ein periodisches Muster enthält, besteht die Möglichkeit, daß infolge von Interferenz zwischen dem den Bild angehörenden periodischen Muster und dem dem Schirm angehörenden periodischen Muster ein Moirestreifen erzeugt wird. Ein typisches Beispiel dieses Phänomens, das oft

erfahren wird, ist eine Moirestreifenanordnung auf dem Bildschirm eines Farbfernsehgeräts. Wenn beispielsweise

eine Person auf dem Bildschirm erscheint, die schachbrettartig gemusterte Kleidung trägt, erscheint eine Moirestreifenanordnung als Ergebnis einer Interferenz zwischen der Matrixstruktur der Lochmaske des Farbfernsehgeräts und dem Muster der Kleidung. In diesem Fall

kann kein gutes Bild erhalten werden. Um dieses Problem des Auftretens von Moirestreifen zu lösen, muß die periodische Struktur von dem Schirm ausgeschaltet werden. Dies kann durch Verringerung der optischen Qualität der Anordnung der Punktlichtquellen erreicht werden.

Bei den Ausführungen, die die vorstehend beschriebene

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Anordnung von Punktlichtquellen benutzen, die alle hohe Qualität aufweisen, werden Muster erhalten, die zweidimensional periodische Strukturen besitzen, wie sie den Fig. 2, 4 und 5 gezeigt sind. Uir daher die periodische Struktur von den Scheiben bzw. Schirmen zu eliminieren, muß die Qualität der Anordnung in optischem Sinne in einem gewissen Ausmaß reduziert werden. Mittel, die dies erreichen lassen, sind in Fig. 7 gezeigt.

Der in Fig. 7 gezeigte Aufbau besteht aus einer Kunststofflinsenanordnung, wie sie gewöhnlich für in einer Kamera montierte Belichtungsmesser verwendet wird. Punktlichtquellen sind auf einem Doppelring angeordnet. Fig. 6 zeigt ein Muster, wie es durch diese in Fig. 7 gezeigte Anordnung erhalten wird. In makroskopischer Hinsicht ist diese Anordnung von Linsenelementen regelmäßig. Wenn jedoch eine extrem kleine Fläche in der Größenordnung der Weilenlänge betrachtet wird, besitzt sie im Hinblick auf die Qualität des Linsenmaterials die Konfiguration der Linsenoberfläche, des Abstands zwischen jeweils zwei benachbarten Linsen usw. eine Unregelmäßigkeit. Daher ist das Interferenzmuster, das durch diese Anordnung erhalten wird, unregelmäßig, wie es in Fig. 6 gezeigt ist, und ist eine Art Fleckenmuster.

Das oben erwähnte Problem der Moirestreifen kann auch auf andere Weise gelöst bzw. gemildert werden, ohne daß die periodische Struktur von der Scheibe bzw.

dem Schirm eliminiert wird.
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Ein weiteres Ausführungsbeispiel ist auf ein solches Bildprojektionsgerät gerichtet, bei dem keine Moirestreifenanordnung zwischen dem projizierten Bild und eiern Projektionsschirm beobachtet werden kann, oder

bei dem ein Moirestreifen, wenn er überhaupt auftritt,

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' sogar dann nahezu unbemerkt bleibt, wenn ein Bildschirm mit einer periodischen Struktur wie oben beschrieben in dem Gerät verwendet wird. Diese Ausführung wird nachstehend insbesondere in Verbindung mit einer Mattscheibe bzw. einer Einstellscheibe einer Kamera beschrieben.

Bei einer einäugigen Spiegelreflexkamera wird als Blendenwert des Objektivs meistens F/5,6 oder

■0 ein Wert in der Nähe dieses Werts verwendet. Das ideale Auflösungsvermögen in der Bildebene bei F/5,6 beträgt etwa 300 Linien/mm. Im Hinblick auf das Luftbild (in-air image) im Sucher ist das Auflösungsvermögen jedoch im allgemeinen auf die Hälfte reduziert, nämlich auf etwa

'** 150 Linien/mm, und zwar aufgrund des Einflusses von durch den Klappspiegel eingebrachter Aberration, von Helligkeit und Kontrast des Objekts oder anderen ähnlichen Faktoren. Andererseits liegt die Vergrößerung des optischen Suchersystems in der Größenordnung von 5. Unter

der Voraussetzung, daß das Auflösungsvermögen des menschlichen Auges bei einem deutliches Sehen erlaubenden Abstand 10 Linien/mm beträgt, beträgt das Auflösungsvermögen des optischen Suchersystems einschließlich des Auges im Hinblick auf das Muster auf der Scheibe 50

Linien/mm.

Dies bedeutet, daß dann, wenn die Raumfrequenz der Moirestreifenanordnung, die auf der Bildebene erscheinen kann, größer als 50 Linien/mm ist, die Moirestreifen-

anordnung dann nicht bemerkt werden kann. Wenn daher die Scheibe eine periodische Struktur von mehr als 200 Linien/mm besitzt, kann kein Moirestreifen beobachtet werden, da die Differenz zwischen der periodischen Struktur und der maximalen Raumfrequenz der periodischen Struktur, die ein Bild haben kann, nämlich

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150 Linien/mm, größer als 50 Linien/mm ist. Aus dieser Tatsache ergibt sich, daß die Teilung der periodischen Struktur, die für eine Einstellscheibe einer einäugigen Spiegelreflexkamera erforderlich ist, theoretisch etwa 5 um beträgt. In der Praxis ist jedoch eine größere Teilung zulässig; zu diesem Zweck ist etwa 10 um ausreichend. Gewöhnlich werden Einstellscheiben vom Phasentyp verwendet, wobei es in vielen Fällen nicht eintreten kann, daß die Einstellscheibe selbst als Verteilung von Dunkel und Hell beobachtet werden kann, solange das Objektiv hell ist. Sogar dann, wenn die Blende auf eine Stellung verkleinert wird, bei der eine Dunkel-und Hellverteilung erscheinen kann, ist der Kontrast zwischen den hellen und den dunklen Bereichen sehr gering. Wenn daher die Teilung etwa 10 um beträgt, braucht praktisch bei keinem Blendenwert das Auftreten von Moirestreifen befürchtet zu werden.

Aus der vorstehenden Beschreibung wird deutlich, daß das erfindungsgemäße Verfahren die Konstruktion und Herstellung optimaler Scheiben und Schirme für unterschiedliche Bildprojektionsgeräte erlaubt. Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können feinere, genauere und großflächigere Maschenschirme bzw. Maschensiebe für die chemische Industrie, die Druckindustrie und andere Industrien erhalten werden. Es wird deutlich/ daß die Erfindung eine wertvolle Bereicherung der Technik darstellt.

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Claims

TlEOTKE - BüHLING - KlNNE Grupe - Pellmann SÄ SSL, Dipl.-Ing. R. Kinne 2952607 Dipl.-Ing. R Grupe *" Dipl.-Ing. B. Pellmann Bavariaring 4, Postfach 20 2403 8000 München Tel.: 0 89-53 96 Telex: 5-24 845 tipat cable: Germaniapatent München 28. Dezember 1979 DE 0150 Patentansprüche

1. Verfahren zur Herstellung eines Teils mit einer Anzahl von auf demselben angeordneten Mikrostrukturelementen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Interferenz- ^5 muster mit zweidimensionaler Periodizität gebildet wird, indem drei oder mehr zueinander kohärente Strahlen einander überlagert werden und das Interferenzmuster auf ein Aufzeichnungsmaterial aufgebracht wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Interferenzmuster mit zweidimensionaler Periodizität mittels Strahlen erzeugt wird, die von einer Anordnung von Punktlichtquellen aus mindestens einem Satz von Punktiichtquellen kommen, wobei jeder Satz aus drei zueinander kohärenten Punktlichtquellen besteht, die auf oder in der Nähe der Eckpunkte eines Dreiecks liegen.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Interferenzmuster mit zweidimensionaler Periodizität von Strahlen erzeugt wird, die von einer Anordnung von Punktlichtquellen mit mindestens zwei Sätzen von Punktiichtquellen kommen, wobei jeder Satz aus zwei zueinander kohärenten Punktlichtquellen zusammengesetzt ist, die relativ zu einem Punkt symmetrisch angeordnet sind.

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Deutsche bank (Muncheni Klo 51/6ΙΟ7Ό ntnsdnci U.mk (Mund on) KIo 31:11814 r<islsi:hcck (M.inchr'ii Io t:n>

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4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Interferenzmuster mit zweidimensionaler Periodizität durch Strahlen erzeugt wird, die von einer Anordnung von Punktlichtquellen mit mindestens einem Satz von Punktlichtquellen kommen, wobei jeder Satz aus drei oder mehr Punktlichtquellen zusammengesetzt ist, die auf oder in der Nähe eines Kreises oder einer Ellipse liegen.

5. Mikrostrukturen, das nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4 hergestellt ist, dadurch gekennzeichnet, daß es Maschen- bzw. Siebstruktur besitzt.

6. Verwendung eines nach dem Verfahren gemäß

einem der Ansprüche 1 bis 4 hergestellten Mikrostrukturteils als Bildprojektionsschirm.

7. Verwendung eines nach dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 hergestellten Mikrostrukturteils als Bildprojektionsschirm, wobei das Mikrostrukturteil eine Strukturperiodizität (^s/mm) besitzt und das Auflösungsvermögen (fi/mm) des auf den Schirm projizierten Bilds und das Auflösungsvermögen (/o/mm) des Systems zur Beobachtung des projizierten Bilds zum Muster auf dem Schirm untereinander etwa in der folgenden Beziehung stehen:

<Ό ^ is ^Ii (Differenz zwischen Is und Ii)

(1) oder

Co > Cs /v.£i (2)

8. Verwendung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch zeichnet, daß das
Kamera verwendet wird.

^OJ gekennzeichnet, daß das Mikrostrukturteil in einer

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