DE2904626C2 - - Google Patents

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    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Description

Durch Licht härtbare Einkomponentensysteme auf der Basis von Epoxiden, die ein Komplexsalz als Initiator zur Photopolymerisation enthalten, sind bekannt. Derartige Gemische sind für viele Anwendungszwecke im Handel, beispielsweise zur Herstellung von Schutzüberzügen für Holz, Metall, Pappe, Fußbodenplatten, Lithographiedruckplatten, Druckfarben und Lötmasken für Schaltungsplatten. Solche Überzüge bestehen aus dünnen Filmen mit Schichtdicken von etwa 0,002 bis 0,08 mm, die durch Einwirkung von Licht rasch aushärten.
Die vorgenannten durch Licht härtbaren Gemische bestehen zu 100% aus Feststoffen, d. h. sie enthalten keine flüchtigen nichtreaktiven Lösungsmittel. Dementsprechend sind derartige Systeme von großer Bedeutung, da sie eine Verunreinigung der Luft und den Einsatz von sehr energieintensiven Trockenöfen vermeiden.
Es gibt viele Anwendungsmöglichkeiten für härtbare Gemische in Form dicker Filme oder Beschichtungen, z. B. auf dem Gebiet des Einkapselns elektronischer Bauelemente, der verstärkten Kunststoffe, der Hochdruckplatten, des Reparierens von Autokarosserien und der Dichtungsmassen. Bei derartigen Anwendungszwecken müssen die Gemische in Schichtdicken bis zu etwa 1,3 cm oder mehr rasch durchhärten. Die vorgenannten durch Licht härtbaren bekannten Gemische sind bisher nicht zur Härtung in derartigen Schichtdicken einsetzbar.
Der Erfindung liegt demnach die Aufgabe zugrunde, Initiatoren zur Photopolymerisation zur Verfügung zu stellen, mit denen durch Licht härtbare, z. B. durch Licht polymerisierbare, Gemische auch in relativ großen Schichtdicken härtbar sind. Diese Aufgabe wird durch die Erfindung gelöst.
Die Erfindung betrifft somit den in den Ansprüchen gekennzeichneten Gegenstand.
Es hat sich unerwartet herausgestellt, daß die erfindungsgemäßen Komplexsalze wirksame Initiatoren zur Photopolymerisation von Gemischen auf der Basis von Epoxidharzen darstellen und deren Härtung in großen Schichtdicken, beispielsweise in Schichtdicken von etwa 1,3 cm, ermöglichen.
Die photopolymerisierbaren Gemische enthalten ein monomeres Epoxid und eine kleine Menge eines erfindungsgemäßen Triarylsulfoniumkomplexsalzes. Die erforderliche Menge des Komplexsalzes hängt von der zu härtenden Schichtdicke, der Intensität des zur Härtung eingesetzten Lichts, der Art des zu beschichtenden Substrats, der Art des eingesetzten Monomers sowie der Tatsache ab, ob während der Bestrahlung des Gemisches mit Licht außerdem Wärme zugeführt wird. Im allgemeinen liegt das Komplexsalz in Mengen von 0,02 bis 1,5 Gewichtsprozent, vorzugsweise etwa 0,03 bis 1,25 Gewichtsprozent, jeweils bezogen auf das monomere Epoxid, vor.
Obwohl die erfindungsgemäßen Komplexsalze besonders wertvoll für den Einsatz zur Härtung großer Schichtdicken von Epoxidsystemen sind, können die Komplexsalze auch zur Härtung geringer Schichtdicken verwendet werden. Jedoch hat sich herausgestellt, daß zwischen der Konzentration des Komplexsalzes im zu härtenden Gemisch und der Schichtdicke, in der das Gemisch bei einer gegebenen Lichtintensität polymerisiert oder härtet, eine umgekehrte Beziehung besteht.
In den photopolymerisierbaren Gemischen einsetzbare Epoxide enthaltende Stoffe sind organische Verbindungen mit einem Oxiranring der Struktur
die durch Ringöffnung eine Polymerisation ermöglicht. Derartige Stoffe, allgemein "Epoxide" genannt, sind beispielsweise monomere oder polymere Epoxide, die aliphatisch, cycloaliphatisch oder aromatisch sein können. Diese Stoffe weisen durchschnittlich eine polymerisierbare Epoxidgruppe, vorzugsweise mindestens zwei Epoxidgruppen, pro Molekül auf. Die polymeren Epoxide sind beispielsweise lineare Polymerisate mit endständigen Epoxidgruppen, wie ein Diglycidyläther eines Polyoxyalkylenglykols, Polymerisate mit Epoxidgruppen im Gerüst, wie ein Polybutadienpolyepoxid, und Polymerisate mit Epoxidgruppen in der Seitenkette, wie ein Glycidylmethacrylatpolymerisat oder -copolymerisat. Das Molekulargewicht der Epoxidgruppen enthaltenden Stoffe kann zwischen 58 und etwa 100 000 liegen oder noch höher sein. Gemische aus verschiedenen Epoxidgruppen enthaltenden Stoffen können in den Gemischen auch vorliegen. Geeignete Epoxidgruppen enthaltende Stoffe enthalten beispielsweise Cyclohexenoxidgruppen, wie Epoxycyclohexancarboxylate, z. B. 3,4-Epoxycyclohexylmethyl- 3,4-epoxycyclohexancarboxylat, 3,4-Epoxy- 2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexancarboxylat und Bis-(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)-adipat. Im einzelnen sind derartige Epoxide in der US-PS 31 17 099 beschrieben. Weitere Epoxidgruppen enthaltende Stoffe, die sich zum Einsatz in den Gemischen eignen, sind monomere Glycidyläther der allgemeinen Formel
in der R′ einen Alkyl- oder Arylrest und n eine ganze Zahl von 1 bis 6 bedeuten. Beispiele sind Glycidyläther von mehrwertigen Phenolen, die durch Umsetzen eines mehrwertigen Phenols mit einem Überschuß an einem Chlorhydrin, wie Epichlorhydrin, erhalten werden. Ein spezielles Beispiel hierfür ist der Diglycidyläther des 2,2-Bis-(2,3-epoxypropoxyphenol)- propans. Weitere Beispiele für derartige Epoxide, die in den Gemischen eingesetzt werden können, sind in der US-PS 30 18 262 und in "Handbook of Epoxy Resins", Lee und Neville, McGraw-Hill Book Co., New York (1967) beschrieben.
Es gibt eine Menge handelsüblicher Epoxidgruppen enthaltender Stoffe, die in den Gemischen eingesetzt werden können. Derartige Epoxide sind beispielsweise Octadecylenoxid, Epichlorhydrin, Styroloxid, Vinylcyclohexanoxid, Glycid, Glycidylmethacrylat, Diglycidyläther von Bisphenol A, Vinylcyclohexendioxid, 3,4- Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexencarboxylat, 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl- 3,4-epoxy-6-methylcyclohexencarboxylat, Bis-(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)-adipat, Bis-(2,3-Epoxy-cyclopentyl)-äther, mit Polypropylenglykol modifizierte aliphatische Epoxidverbindungen, Dipentendioxid, epoxidiertes Polybutadien, Epoxidgruppen enthaltende Silikone, Epoxysilane (z. B. β-(3,4-Epoxycyclohexyl)- äthyltrimethoxysilan und γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilan), flammhemmende Epoxidharze (z. B. ein bromiertes Bisphenol-Epoxidharz), 1,4-Butandioldiglycidyläther, Polyglycidyläther von Phenolformaldehyd- Novolak-Harzen und Resorcindiglycidyläther.
In den photopolymerisierbaren Gemischen können auch Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe vorliegen, die mit dem Epoxid copolymerisierbar sind. Als Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe kommen irgendwelche flüssigen oder festen organischen Stoffe in Frage, die eine Hydroxylfunktionalität von mindestens 1, vorzugsweise mindestens 2, aufweisen. Die Hydroxylgruppen enthaltenden organischen Stoffe sind frei von anderen mit Epoxidgruppen reagierenden reaktionsfähigen Wasserstoffatomen. Der Ausdruck "reaktionsfähiges Wasserstoffatom" ist bekannt und bedeutet hier ein reaktionsfähiges Wasserstoffatom, das nach der von Zerewitinoff in J. Am. Chem. Soc., Bd. 49 (1927), S. 3181, beschriebenen Methode bestimmt worden ist. Selbstverständlich ist der Hydroxylgruppen enthaltende Stoff im wesentlichen auch frei von solchen Resten, die thermisch oder photolytisch instabil sein können. Das heißt, daß diese Stoffe sich unterhalb 100°C oder bei Einwirkung aktinischer Strahlung zur Härtung der Gemische nicht zersetzen oder flüchtige Komponenten abgeben.
Vorzugsweise enthält der organische Stoff zwei oder mehr primäre oder sekundäre aliphatische Hydroxylgruppen, d. h. direkt an nichtaromatische Kohlenstoffatome gebundene Hydroxylgruppen. Die Hydroxylgruppen können endständig oder an einem Polymerisat oder Copolymerisat mittelständig sein. Das mittlere Molekulargewicht des Hydroxylgruppen enthaltenden organischen Stoffes kann sehr verschieden sein, beispielsweise sehr niedrig, entsprechend einem Wert von 62, bis sehr hoch, entsprechend einem Wert von 20 000 oder mehr. Das mittlere Äquivalentgewicht dieser Stoffe liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 31 bis 5000. Bei Einsatz entsprechender Stoffe mit einem höheren Äquivalentgewicht neigen diese dazu, die Geschwindigkeit und das Ausmaß der Copolymerisation zu vermindern.
Beispiele für entsprechende organische Stoffe mit einer Hydroxylfunktionalität von 1 sind Alkanole, Monoalkyläther von Polyoxyalkylenglykolen und Monoalkyläther von Alkylenglykolen.
Spezielle Beispiele von einsetzbaren monomeren Polyhydroxyverbindungen sind Alkylenglykole, wie 1,2-Äthandiol, 1,3-Propandiol, 1,4-Butandiol, 2-Äthyl-1,6-hexandiol, Bis-(hydroxymethyl)- cyclohexan, 1,18-Dihydroxyoctadecan, 3-Chlor-1,2- propandiol, Polyhydroxyalkane, wie Glycerin, Trimethyloläthan, Pentaaerithryt und Sorbit, und andere Polyhydroxyverbindungen, wie N,N-Bis-(hydroxyäthyl)-benzamid, 2-Butin-1,4-diol, 4,4′- Bis-(hydroxymethyl)-diphenyläther und Castoröl.
Einsetzbare polymere Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe sind beispielsweise Polyoxyäthylen- und Polyoxypropylenglykole und Triole mit Molekulargewichten von etwa 200 bis etwa 10 000, entsprechend Äquivalentgewichten von 100 bis 5000 für die Diole oder 70 bis 3300 für die Triole, Polytetramethylenglykole mit verschiedenen Molekulargewichten sowie endständige Hydroxylgruppen aufweisende Polyester, Polylactone und Polyalkadiene.
Spezielle Beispiele für einsetzbare handelsübliche Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe sind Polytetramethylenätherglykole, Polyoxyalkylentetrole mit sekundären Hydroxylgruppen, Polycaprolactonepolyole, aliphatisches Polyesterdiol sowie gesättigte Polyesterpolyole.
Die Menge der Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffe in den Gemischen kann sehr verschieden sein und hängt von mehreren Faktoren ab, beispielsweise der Verträglichkeit dieser Stoffe mit dem Epoxid, dem Äquivalentgewicht und der Funktionalität der Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffe, den gewünschten physikalischen Eigenschaften des am Ende gehärteten Gemisches oder der gewünschten Geschwindigkeit der Photohärtung.
Im allgemeinen weist das gehärtete Produkt mit zunehmendem Gehalt am Hydroxylgruppen enthaltenden Stoff eine steigende Schlagfestigkeit, Adhäsion gegenüber Substraten und Flexibilität sowie eine abnehmende Schrumpfung während des Härtens und in entsprechender Weise eine allmähliche Abnahme von Härte, Zugfestigkeit und Lösungsmittelbeständigkeit auf.
Obwohl sowohl monofunktionelle als auch polyfunktionelle Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe bei den Gemischen zu den gewünschten Ergebnissen führen, ist der Einsatz von polyfunktionellen Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffen für eine Vielzahl von Anwendungsgebieten bevorzugt. Die monofunktionellen Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffe sind besonders wirksam zur Herstellung von niedrig viskosen und lösungsmittelfreien Gemischen für Beschichtungen. Bei Einsatz Hydroxylgruppen enthaltender organischer Stoffe mit einer Funktionalität, die wesentlich unter 2 liegt, z. B. bei 1 bis 1,5, können Mengen von über 0,4 Äquivalenten Hydroxylgruppen pro Äquivalent Epoxidgruppen zur Bildung von gehärteten Gemischen führen, die im allgemeinen eine geringe innere Festigkeit und Zugfestigkeit aufweisen sowie gegenüber Lösungsmitteln nicht beständig sind. Derartige Gemische sind für viele Anwendungsgebiete ungeeignet. Diese Neigung zur Bildung gehärteter Gemische mit schlechten Eigenschaften nimmt mit zunehmendem Äquivalentgewicht der Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffe deutlich zu. Dementsprechend ist es beim Einsatz von monofunktionellen Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffen bevorzugt, daß ihr Äquivalentgewicht nicht mehr als 250 beträgt.
Polyfunktionelle Hydroxylgruppen enthaltende Stoffe können in irgendeiner Menge eingesetzt werden, die von den gewünschten Eigenschaften des gehärteten Gemisches abhängt. Beispielsweise beträgt das Verhältnis der Äquivalente des Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffs zu den Äquivalenten des Epoxids etwa 0,001 : 1 bis 10 : 1.
Gemische aus verschiedenen Hydroxylgruppen enthaltenden Stoffen können gegebenenfalls eingesetzt werden. Beispielsweise kann man Gemische aus mindestens zwei polyfunktionellen Hydroxylverbindungen oder Gemische aus einer oder mehreren monofunktionellen Hydroxylverbindungen mit polyfunktionellen Hydroxylverbindungen einsetzen.
Die erfindungsgemäßen Komplexsalze können in bekannter Weise hergestellt werden. Beispielsweise stellt das in J. Chem. Soc., Seite 696 (1906) beschriebene Verfahren zur Herstellung der Verbindung
mit einigen Veränderungen eine günstige Methode mit breiter Anwendbarkeit dar. Zum Beispiel kann eine entsprechende Verbindung wie folgt erhalten werden:
Ein 100 ml fassender Kolben, der mit einem Rückflußkühler ausgerüstet ist, wird mit 20,2 g Diphenylsulfoxid, 20,5 g Diphenylsulfid und 19,9 g Phosphorpentoxid beschickt. Das Gemisch wird 3 Stunden in einem Dampfbad erhitzt und dann portionsweise in 2500 ml gerührtes heißes Wasser eingetragen. Die leicht trübe Lösung läßt man abkühlen, dekantiert von einer kleinen Menge unlöslichem Öl und filtriert über ein Filterhilfsmittel. Das klare Filtrat wird unter Rühren mit 25,9 g pulverförmigem NaSbF₆ versetzt. Das Reaktionsprodukt scheidet sich in Form eines viskosen Öls ab. Die wäßrige Schicht wird abdekantiert. Die ölige Schicht wird in 400 ml Methylenchlorid gelöst, getrocknet und unter vermindertem Druck vom Lösungsmittel befreit. Man erhält 26,7 g der Verbindung der Formel
in 44prozentiger Ausbeute. Durch Umkristallisieren aus Isopropanol enthält man ein analytisch reines Produkt. F. 118 bis 119°C.
Elementaranalyse:
gefunden:
C 47,4; H 3,0%;
berechnet:
C 47,5; H 3,1%.
Gemäß dieser Methode können auch die entsprechenden substituierten Derivate bei Einsatz des entsprechend substituierten Diphenylsulfoxids und substituierten Diphenylsulfids erhalten werden.
Die bevorzugte und wirtschaftlich günstigere Methode zur Herstellung des entsprechenden Chlorids erfolgt gemäß dem in der US-PS 28 07 648 beschriebenen Verfahren. Im Gegensatz zu den in dieser Druckschrift genannten Ergebnissen wurde überraschenderweise festgestellt, daß bei Einsatz von Benzol als Ausgangsverbindung (gemäß den Beispielen 1 und 10 der Druckschrift) ein Gemisch von Arylsulfoniumchloriden erhalten wird. Dieses Gemisch enthält das gewünschte Salz der Formel
in einer Konzentration von 55%. Andere Komponenten in dem Gemisch sind Φ₃S⊕Cl⊖ und (RΦ)₃S⊕Cl⊖, wobei R ein Wasserstoff- oder Chloratom bedeuten kann. Dieses Gemisch wird im folgenden mit der Formel "Ar₃SCl" bezeichnet. Gemäß Beispiel 10 der vorgenannten Druckschrift wird eine wäßrige Lösung von Ar₃SCl erhalten. Seine Konzentration wird durch Analyse bestimmt. Anschließend wird durch Verdünnen mit Wasser eine 25gewichtsprozentige Lösung hergestellt. Diese wird mit einer äquivalenten Menge festem NaSbF₆ oder KSbF₆ versetzt. Die Feststoffe werden als Pulverstrom unter Rühren zugegeben. Das Reaktionsprodukt bildet sich als Niederschlag und wird abfiltriert sowie getrocknet. Man erhält das Chlorid in quantitativer Ausbeute.
Zur Herstellung des Salzes
und Ar₃SSbF₅OH wird das Natriumhexafluoroantimonat zuerst in Wasser gelöst, in dem es spontan zu NaSbF₅OH und Fluorwasserstoff hydrolysiert. Diese Lösung wird dann zu der wäßrigen Lösung des Chlorids gemäß vorstehender Verfahrensweise gegeben. Durch IR-Analyse wird zwischen SbF₆ und SbF₅OH unterschieden. Die Absorption der Sb-F-Streckschwingung für SbF₆ liegt bei 655 cm-1. Sie verschiebt sich für SbF₅OH nach 630 cm-1.
Die Menge des Salzes
das im Reaktionsgemisch vorliegt, kann leicht durch UV-Absorption festgestellt werden. Die erfindungsgemäßen Komplexsalze haben eine charakteristische Absorption bei 308 nm in Methylenchlorid. Das Absorptionsvermögen in dieser Verbindung liegt bei 41,0. Das Absorptionsvermögen für ein bekanntes Gemisch, beispielsweise ein gemäß vorstehender Methode erhaltenes Gemisch, liegt durchschnittlich bei 19,6. Die Konzentration der gewünschten Verbindung beträgt demnach 48%. Dieses Gemisch wird in den Beispielen als Ar₃SSbF₆ bezeichnet und weist eine gute Wirksamkeit als Initiator bei der Photopolymerisation auf.
Die zusätzliche Zuführung von etwas Wärme entweder vor dem Belichten oder während des Belichtens der Gemische erhöht deutlich die Härtungsgeschwindigkeit der monomeren Epoxide, wenn die erfindungsgemäßen Komplexsalze als Initiatoren eingesetzt werden. Dies trifft nicht zu, wenn man die entsprechenden AsF₆-, BF₄- oder PF₆-Salze einsetzt. Es kann auch eine Lampe mit geringerer Intensität an UV-Licht, wie eine Sonnenlampe, eingesetzt werden, da sie auch Wärme abgibt. Die Wärme erhöht offensichtlich die Polymerisationsgeschwindigkeit des Epoxids durch die Säure HSbF₆, die durch Photolyse des Sulfoniumsalzes gebildet wird. Überraschenderweise geschieht dies nicht bei den Säuren HAsF₆, HPF₆ oder HBF₄.
Die photopolymerisierbaren Gemische sind besonders dann wertvoll, wenn dicke Filme oder Beschichtungen erzeugt werden müssen. Beispielsweise sind diese Gemische besonders vorteilhaft als Gießharze zum Gießen, Abdichten oder Einkapseln von elektronischen Bauelementen sowie auf dem Gebiet der optischen Linsen, industriellen Dichtungsmassen, Reparaturen von Autokarosserien und Bootskörper, Formen, stoßdämpfenden Materialien, faserverstärkten Kunststoffen, Schutzüberzügen und Ausbesserungsmittel.
Die photopolymerisierbaren Gemische können, was häufig vorteilhaft ist, mit bis zu 50% oder mehr Füllstoffen, wie Siliciumdioxid, Talg, Glasblasen, Ton, Stärke und feingemahlenem Gummi, Gleitmittel, Viskositätsregulatoren, Klebrigmacher, Mikrofasern und ähnlichen Zusatzstoffen versetzt werden. Die Gemische können auf verschiedene Substrate, wie Kunststoffe, Metall, Holz, Beton, Glas, Papier und Keramik, aufgebracht werden.
Die Photopolymerisation der Gemische geschieht dadurch, daß sie irgendeiner Strahlungsquelle ausgesetzt werden, die aktinische Strahlung im UV-Bereich des Spektrums (z. B. 1840 bis 4000 Å) abgeben. Geeignete Strahlungsquellen sind beispielsweise Quecksilberdampflampen, Kohlelichtbogen, Xenonlampen und Sonnenlicht. Die Stärke der Bestrahlung hängt von verschiedenen Faktoren ab, beispielsweise der Konzentration des Initiators, der chemischen Struktur des Monomers und seinem Äquivalentgewicht, der Dicke der Beschichtung, der Art des Substrats, der Intensität der Lampe und der von der Beschichtung oder dem Substrat absorbierten Wärmemenge.
Beispiele 1 und 2 und Vergleichsbeispiele 1 bis 6
Die folgenden Beispiele zeigen die Wirkung des Kations der als Initiator bei der Photopolymerisation eingesetzten Oniumverbindung beim Härten dicker Filme.
Es werden Lösungen hergestellt, die 100 Teile eines monomeren aromatischen Glycidylätherepoxids, Diglycidyläther von Bisphenol A und 0,1 Teile des entsprechenden in der nachfolgenden Tabelle I angegebenen Sulfoniumsalzes enthalten. Jede Lösung wird in einer Form aus schwarzem Gummi eingewogen, wobei eine Schichtdicke von 0,5 cm eingestellt wird. Die Form wird dann unter eine 275-W-Sonnenlampe gestellt, zu der eine Entfernung von 10 cm eingehalten wird. Jede Probe wird in dieser Weise belichtet, dann in Aceton getaucht, an der Luft getrocknet sowie auf seine Dicke untersucht. Die Ergebnisse sind in der Tabelle I zusammengefaßt.
Tabelle I
Beispiele 3 bis 6 und Vergleichsbeispiele 7 bis 12
In den folgenden Beispielen ist die Wirkung des Anions des Sulfoniumsalzes beim Härten dicker Filme erläutert.
Es werden Lösungen hergestellt, die 100 Teile Epoxid (3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexencarboxylat) und 0,1 Teil des entsprechenden in der nachfolgenden Tabelle II angegebenen Sulfoniumsalzes enthalten. Jede Lösung wird in einer Form aus schwarzem Gummi eingewogen, wobei eine Schichtdicke von 0,5 cm eingestellt wird. Die Form wird dann gemäß den Beispielen 1 und 2 belichtet. Jede Probe wird 4 Minuten und 15 Minuten belichtet. Falls die Probe gehärtet ist, wird sie weggenommen, in Aceton getaucht, 20 Minuten gerührt und dann an der Luft getrocknet. Die dann festgestellten Dicken werden bestimmt. Die Ergebnisse sind in der Tabelle II zusammengefaßt.
Tabelle II
Beispiele 7 und 8 und Vergleichsbeispiele 13 bis 16
Die erfindungsgemäßen Initiatoren zur Photopolymerisation können auch dazu eingesetzt werden, dicke Beschichtungen aliphatischer Glycidyläther zu gummiähnlichen Produkten zu härten. Die in der nachfolgenden Tabelle III angegebenen Sulfoniumsalze werden in den angegebenen Konzentrationen in einem monomeren Epoxid, einem Propylenglykoldiglycidyläther mit einem Äquivalentgewicht von 175 bis 205 pro Epoxigruppe gelöst und gemäß Beispiel 1 und 2 4½ Minuten belichtet. Die Dicke der gehärteten Polymerisate wird nach dem Tauchen der Proben in Aceton bestimmt. Die Ergebnisse sind in der Tabelle III zusammengefaßt.
Tabelle III
Beispiele 9 und 10 und Vergleichsbeispiele 17-25
Die folgenden Vergleichsversuche erläutern die Herstellung von durch Licht gehärteten Beschichtungen mit einer Dicke von 12,7 mm unter Verwendung von erfindungsgemäßen Initiatoren gegenüber schlechtwirkenden bekannten Initiatoren. Die zu härtenden Beschichtungen enthalten eine Kombination aus einem monomeren Epoxid und einem Polyol und werden in elastomere dicke Filme überführt, die als industrielle Dichtungsmassen eingesetzt werden können.
Es wird eine Masterlösung von 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexencarboxylat und 50 Teilen Polyäthylenglykol 400 hergestellt. 20 Teile dieser Lösung werden jeweils mit dem in der nachfolgenden Tabelle IV angegebenen Initiator versetzt, so daß die in dieser Tabelle angegebenen Konzentration erreicht wird. Die Proben werden in Gummiformen (Tiefe 12,7 mm) gegossen und gemäß den Beispielen 1 und 2 belichtet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle IV zusammengefaßt.
Bei Einsatz entsprechender PF₆-, AsF₆-, und BF₄-Salze wird keine deutliche Härtung erzielt.
Tabelle IV

Claims (4)

1. Triarylsulfoniumkomplexsalze der allgemeinen Formel in der X ein Fluoratom oder eine Hydroxylgruppe bedeutet und R₁, R₂, R₃ und R₄ gleich oder verschieden sind und jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom, einen C1-4-Alkylrest oder einen C1-4-Alkoxyrest bedeuten.
2. Salze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß R₁, R₂, R₃ und R₄ jeweils ein Wasserstoffatom bedeuten.
3. Verfahren zur Herstellung der Triarylsulfoniumkomplexsalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man in an sich bekannter Weise Diphenylsulfoxid, das gegebenenfalls an den Phenylgruppen durch die in Anspruch 1 angegebenen Reste R₁ und/oder R₂ substituiert ist, mit Diphenylsulfid, das gegebenenfalls an den Phenylringen durch die in Anspruch 1 angegebenen Reste R₃ und R₄ substituiert ist, in Gegenwart von Phosphorpentoxid umsetzt und das erhaltene Produkt mit Natriumhexafluoroantimonat (NaSbF₆) behandelt.
4. Verwendung der Triarylsulfoniumkomplexsalze nach Anspruch 1 zur Aushärtung von photopolymerisierbaren Gemischen auf der Basis von Epoxidharzen.
DE19792904626 1978-02-08 1979-02-07 Triarylsulfoniumkomplexsalze, verfahren zu ihrer herstellung und diese salze enthaltende photopolymerisierbare gemische Granted DE2904626A1 (de)

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GB (1) GB2014144B (de)
IN (1) IN154811B (de)
SE (1) SE446862B (de)
SU (1) SU1178334A3 (de)
ZA (1) ZA786897B (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10023353A1 (de) * 2000-05-12 2001-11-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung
EP1973000A2 (de) 2007-03-22 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Automatische Tauchentwicklungsvorrichtung und Verfahren für Lithografiedruckplatten
EP1975710A2 (de) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers

Families Citing this family (253)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4407759A (en) * 1974-05-02 1983-10-04 General Electric Company Photoinitiators
US4299938A (en) * 1979-06-19 1981-11-10 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions
US4286047A (en) * 1979-07-25 1981-08-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification
US4250203A (en) * 1979-08-30 1981-02-10 American Can Company Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and odor suppressants and method of polymerization using same
US4374066A (en) * 1979-09-28 1983-02-15 General Electric Company Method for making triarylsulfonium salts
ZA805273B (en) * 1979-09-28 1981-11-25 Gen Electric Process of deep section curing photocurable compositions
GB2069486B (en) * 1980-02-19 1984-09-26 Gen Electric Method for making triarylsulphonium salts
US4339567A (en) * 1980-03-07 1982-07-13 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerization by means of sulphoxonium salts
US4367251A (en) * 1980-04-21 1983-01-04 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
US4319974A (en) * 1980-04-21 1982-03-16 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
US4362263A (en) * 1980-04-24 1982-12-07 Westinghouse Electric Corp. Solderable solventless UV curable enamel
US4383025A (en) * 1980-07-10 1983-05-10 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerization by means of sulfoxonium salts
US4398014A (en) * 1980-11-04 1983-08-09 Ciba-Geigy Corporation Sulfoxonium salts and their use as polymerization catalysts
US4818776A (en) * 1983-02-07 1989-04-04 Union Carbide Corporation Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content
US4874798A (en) * 1983-02-07 1989-10-17 Union Carbide Corporation Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents
US4622349A (en) * 1983-02-07 1986-11-11 Union Carbide Corporation Blends of epoxides and monoepoxides
US4814361A (en) * 1983-02-07 1989-03-21 Union Carbide Corporation Blends of epoxides and monoepoxides
US4812488A (en) * 1983-02-07 1989-03-14 Union Carbide Corporation Photocopolymerizable compositions based on hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents
US4593051A (en) * 1983-02-07 1986-06-03 Union Carbide Corporation Photocopolymerizable compositons based on epoxy and polymer/hydroxyl-containing organic materials
GB2137626B (en) * 1983-03-31 1986-10-15 Sericol Group Ltd Water based photopolymerisable compositions and their use
JPS6121126A (ja) * 1984-07-11 1986-01-29 Suriibondo:Kk 紫外線硬化性樹脂組成物
US4946817A (en) * 1984-07-17 1990-08-07 The Dow Chemical Company Latent catalysts for epoxy-containing compounds
US5503937A (en) * 1984-07-17 1996-04-02 The Dow Chemical Company Curable composition which comprises adducts of heterocyclic compounds
US4594291A (en) * 1984-07-17 1986-06-10 The Dow Chemical Company Curable, partially advanced epoxy resins
US4554342A (en) * 1984-07-30 1985-11-19 Shell Oil Company Heat-curable compositions comprising an epoxy resin, an amine and a sulfonium salt
DE3537401A1 (de) * 1984-10-22 1986-04-24 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Verfahren zur herstellung von triarylsulfoniumsalzen
JPS61190524A (ja) * 1985-01-25 1986-08-25 Asahi Denka Kogyo Kk エネルギ−線硬化性組成物
US4694029A (en) * 1985-04-09 1987-09-15 Cook Paint And Varnish Company Hybrid photocure system
US5012001A (en) * 1985-09-03 1991-04-30 General Electric Company Triaryl sulfonium photoinitiators
US4882245A (en) * 1985-10-28 1989-11-21 International Business Machines Corporation Photoresist composition and printed circuit boards and packages made therewith
US4892894A (en) * 1985-11-07 1990-01-09 Union Carbide Chemical And Plastics Company Inc. Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
US4654379A (en) * 1985-12-05 1987-03-31 Allied Corporation Semi-interpenetrating polymer networks
DE3604580A1 (de) * 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
US4690957A (en) * 1986-02-27 1987-09-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Ultra-violet ray curing type resin composition
US4751138A (en) 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
US4857562A (en) * 1987-01-30 1989-08-15 General Electric Company UV curable epoxy resin compositions with delayed cure
US4760013A (en) * 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
US4975300A (en) * 1987-12-31 1990-12-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for curing an organic coating using condensation heating and radiation energy
DE3806745A1 (de) * 1988-03-02 1989-09-14 Henkel Kgaa Lichtinduziert dunkelhaertende klebstoffe
EP0379464B1 (de) * 1989-01-16 1993-02-10 Ciba-Geigy Ag Araliphatische Sulfoniumsalze und deren Verwendung
US5247113A (en) * 1989-01-16 1993-09-21 Ciba-Geigy Corporation Araliphatic sulfonium and their use
DE3902114A1 (de) * 1989-01-25 1990-08-02 Basf Ag Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung
EP0410606B1 (de) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
US5098816A (en) * 1989-10-10 1992-03-24 International Business Machines Corporation Method for forming a pattern of a photoresist
US5110711A (en) * 1989-10-10 1992-05-05 International Business Machines Corporation Method for forming a pattern
US5059512A (en) * 1989-10-10 1991-10-22 International Business Machines Corporation Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions
CA2034400A1 (en) * 1990-04-30 1991-10-31 James Vincent Crivello Method for making triarylsulfonium hexafluorometal or metalloid salts
KR100189642B1 (ko) * 1991-02-18 1999-06-01 디어터 크리스트 전자 부품 및 조립체를 피복시키거나 접착시키는 방법
AU664431B2 (en) * 1992-03-03 1995-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermosetting binder for an abrasive article
JP2751779B2 (ja) * 1992-08-28 1998-05-18 日本電気株式会社 光分解性高分子化合物およびフォトレジスト組成物
US6485589B1 (en) 1993-04-15 2002-11-26 3M Innovative Properties Company Melt-flowable materials and method of sealing surfaces
US7575653B2 (en) * 1993-04-15 2009-08-18 3M Innovative Properties Company Melt-flowable materials and method of sealing surfaces
US5436063A (en) * 1993-04-15 1995-07-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive article incorporating an energy cured hot melt make coat
US5856373A (en) * 1994-10-31 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure
US5550171A (en) * 1995-05-31 1996-08-27 International Business Machines Corporation Polymeric sulfonium salt photoinitiators
JPH0954437A (ja) 1995-06-05 1997-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 化学増幅型ポジレジスト組成物
US5707780A (en) * 1995-06-07 1998-01-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photohardenable epoxy composition
DE19534594B4 (de) * 1995-09-19 2007-07-26 Delo Industrieklebstoffe Gmbh & Co. Kg Kationisch härtende, flexible Epoxidharzmassen und ihre Verwendung zum Auftragen dünner Schichten
SG48462A1 (en) * 1995-10-26 1998-04-17 Ibm Lead protective coating composition process and structure thereof
US5814431A (en) 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
US5907333A (en) * 1997-03-28 1999-05-25 Lexmark International, Inc. Ink jet print head containing a radiation curable resin layer
US5931803A (en) * 1997-04-04 1999-08-03 Playtex Products, Inc. Epoxy coated tampon applicator having a pierce-through fingergrip
JP3950241B2 (ja) * 1997-10-17 2007-07-25 三菱重工業株式会社 樹脂組成物、樹脂硬化物、及び構造物の補修方法、補強方法、補修用材料、補強用材料
US6193359B1 (en) 1998-04-21 2001-02-27 Lexmark International, Inc. Ink jet print head containing a radiation curable resin layer
US6077601A (en) 1998-05-01 2000-06-20 3M Innovative Properties Company Coated abrasive article
US6057382A (en) * 1998-05-01 2000-05-02 3M Innovative Properties Company Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition
US6228133B1 (en) 1998-05-01 2001-05-08 3M Innovative Properties Company Abrasive articles having abrasive layer bond system derived from solid, dry-coated binder precursor particles having a fusible, radiation curable component
US6274643B1 (en) 1998-05-01 2001-08-14 3M Innovative Properties Company Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition
US6136398A (en) * 1998-05-01 2000-10-24 3M Innovative Properties Company Energy cured sealant composition
US20060154175A9 (en) * 1998-07-10 2006-07-13 Lawton John A Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6203871B1 (en) 1998-10-14 2001-03-20 Lexmark International, Inc. Encapsulant for leads in an aqueous environment
KR100344232B1 (ko) * 2000-06-19 2002-07-24 금호석유화학 주식회사 폴리머 술포늄염 및 그 제조방법
US6511790B2 (en) 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
US6841330B2 (en) 2000-11-30 2005-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
US6582487B2 (en) 2001-03-20 2003-06-24 3M Innovative Properties Company Discrete particles that include a polymeric material and articles formed therefrom
US6605128B2 (en) 2001-03-20 2003-08-12 3M Innovative Properties Company Abrasive article having projections attached to a major surface thereof
TWI246525B (en) * 2001-11-06 2006-01-01 Wako Pure Chem Ind Ltd Hybrid onium salt
US7521168B2 (en) 2002-02-13 2009-04-21 Fujifilm Corporation Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
DE60237933D1 (de) * 2002-03-04 2010-11-18 Wako Pure Chem Ind Ltd Heterozyklenhaltiges Oniumsalz
EP1507836A1 (de) * 2002-05-28 2005-02-23 3M Innovative Properties Company Klebeband
US6939662B2 (en) 2002-05-31 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working resist composition
US20050059752A1 (en) * 2002-07-12 2005-03-17 Rhodia Chimie Stable, cationically polymerizable/crosslinkable dental compositions having high filler contents
JP2004091698A (ja) * 2002-09-02 2004-03-25 Konica Minolta Holdings Inc 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクとそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP2005028774A (ja) 2003-07-07 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷方法
KR101042659B1 (ko) * 2003-10-21 2011-06-20 와코 쥰야꾸 고교 가부시키가이샤 트리아릴술포늄염의 제조 방법
US7192991B2 (en) * 2003-11-26 2007-03-20 3M Innovative Properties Company Cationically curable composition
US20050148679A1 (en) * 2003-12-29 2005-07-07 Chingfan Chiu Aryl sulfonium salt, polymerizable composition and polymerization method of the same
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
US20070144384A1 (en) 2004-05-19 2007-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Image recording method
EP2618215B1 (de) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
DE602005007427D1 (de) 2004-07-20 2008-07-24 Fujifilm Corp Bilderzeugendes Material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US7435453B2 (en) * 2004-08-04 2008-10-14 Valspar Sourcing, Inc. Method of finishing veneer surface of veneered wood product by application and curing of UV-curable coating layers having cationically and free-radically polymerizable moieties
EP1630618B1 (de) 2004-08-24 2008-03-19 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
DE102004045950A1 (de) * 2004-09-22 2006-03-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Gehäuse für ein optoelektronisches Bauelement, optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7691932B2 (en) * 2004-09-27 2010-04-06 3M Innovative Properties Company Method of making a composition and nanocomposites therefrom
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
US8193270B2 (en) * 2004-12-14 2012-06-05 3M Innovative Properties Company Method of making composites and nanocomposites
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2007055224A (ja) 2005-01-26 2007-03-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体
JP4439409B2 (ja) 2005-02-02 2010-03-24 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP3086176A1 (de) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Lithografiedruckverfahren
US20060204732A1 (en) 2005-03-08 2006-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20070015845A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Pentron Clinical Technologies, Llc Dental resin composition, method of manufacture, and method of use thereof
JP2007051193A (ja) 2005-08-17 2007-03-01 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
ATE410460T1 (de) 2005-08-23 2008-10-15 Fujifilm Corp Härtbare tinte enthaltend modifiziertes oxetan
JP4757574B2 (ja) 2005-09-07 2011-08-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
FR2890967A1 (fr) * 2005-09-16 2007-03-23 Rhodia Recherches & Tech Procede de preparation de revetements organiques reticules sur un support
FR2890970B1 (fr) * 2005-09-16 2008-03-14 Rhodia Recherches & Tech Procede de preparation d'un revetement silicone anti- adherent
ATE494341T1 (de) 2005-11-04 2011-01-15 Fujifilm Corp Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung
DE602007012161D1 (de) 2006-03-03 2011-03-10 Fujifilm Corp Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte
JP2007241144A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4698470B2 (ja) 2006-03-31 2011-06-08 富士フイルム株式会社 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2008189776A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
JP2008208266A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
CA2680785A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-25 Llyod E. Tucker Spray wood coating system having improved holdout
DE602008001572D1 (de) 2007-03-23 2010-08-05 Fujifilm Corp Negativ-Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (de) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung
EP1975706A3 (de) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer
JP5159141B2 (ja) 2007-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5376844B2 (ja) 2007-06-21 2013-12-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
EP2006091B1 (de) 2007-06-22 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Plattenherstellungsverfahren
US8221957B2 (en) 2007-07-02 2012-07-17 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5111039B2 (ja) 2007-09-27 2012-12-26 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
EP2042928B1 (de) 2007-09-28 2010-07-28 FUJIFILM Corporation Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
EP2042311A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JPWO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2011-03-31 富士フイルム株式会社 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
US8240838B2 (en) 2007-11-29 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5371449B2 (ja) 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2009229771A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 平版印刷版用自動現像方法
JP4940174B2 (ja) 2008-03-21 2012-05-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用自動現像装置
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
EP2105298B1 (de) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20090260531A1 (en) 2008-04-18 2009-10-22 Fujifilm Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5444933B2 (ja) 2008-08-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
EP2168767A1 (de) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
ATE541905T1 (de) 2008-09-26 2012-02-15 Fujifilm Corp Tintenzusammensetzung und tintenaufzeichnungsverfahren
JP5461809B2 (ja) 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
JP5127651B2 (ja) 2008-09-30 2013-01-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
US8617787B2 (en) * 2009-02-20 2013-12-31 San-Apro, Ltd. Sulfonium salt, photo-acid generator, and photosensitive resin composition
JP2010221692A (ja) 2009-02-26 2010-10-07 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5292156B2 (ja) 2009-03-30 2013-09-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2010237435A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
EP2481603A4 (de) 2009-09-24 2015-11-18 Fujifilm Corp Lithografische originaldruckplatte
JP2011073211A (ja) 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の製造方法
JP2011148292A (ja) 2009-12-25 2011-08-04 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5322963B2 (ja) 2010-01-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5537980B2 (ja) 2010-02-12 2014-07-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
EP2549331B1 (de) 2010-03-19 2015-11-11 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche farbentwicklungszusammensetzung, original-lithographiedruckplatte und herstellungsverfahren dafür
BR112012024549A2 (pt) 2010-03-26 2016-05-31 Fujifilm Corp precursor placa impressão litográfica e método de produção do mesmo
WO2011118457A1 (ja) 2010-03-26 2011-09-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製造方法
CN102834264B (zh) 2010-03-30 2015-03-25 富士胶片株式会社 平版印刷版的制版方法
AU2011236976B2 (en) 2010-03-31 2014-08-14 Fujifilm Corporation Developer for processing planographic printing plate precursor, method for preparing planographic printing plate using the developer, and method for printing
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
JP5669825B2 (ja) * 2010-04-12 2015-02-18 住友精化株式会社 光酸発生剤及び光反応性組成物
BR112012033390A2 (pt) 2010-06-28 2016-11-22 Dow Global Technologies Llc composição curável por uv, processo para preparar uma composição de resina de dióxido de divinilareno curável e produto curado
US20130090407A1 (en) 2010-06-28 2013-04-11 James Wells Carter Curable resin compositions
BR112013003865B1 (pt) 2010-08-27 2020-05-26 Fujifilm Corporation Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método
JP5789448B2 (ja) 2010-08-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5656784B2 (ja) 2010-09-24 2015-01-21 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5286350B2 (ja) 2010-12-28 2013-09-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、その平版印刷方法
CN103415808B (zh) 2011-02-28 2017-06-23 富士胶片株式会社 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法
JP5244987B2 (ja) 2011-02-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
JP5651538B2 (ja) 2011-05-31 2015-01-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2749947B8 (de) 2011-08-22 2016-06-01 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung von lithografiedruckplatten
JP5432960B2 (ja) 2011-08-24 2014-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
JP5602195B2 (ja) 2011-09-27 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5690696B2 (ja) 2011-09-28 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5740275B2 (ja) 2011-09-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5771738B2 (ja) 2012-02-23 2015-09-02 富士フイルム株式会社 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5579217B2 (ja) 2012-03-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
WO2013188070A1 (en) 2012-06-15 2013-12-19 Dow Global Technologies Llc Curable compositions
EP2869122A4 (de) 2012-06-29 2016-03-02 Fujifilm Corp Verfahren zur konzentrierung von prozessabwasser und recycling-verfahren für prozessabwasser
JP5699112B2 (ja) 2012-07-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2899034B1 (de) 2012-09-20 2019-07-03 FUJIFILM Corporation Originalflachdruckplatte und plattenherstellungsverfahren
WO2014050359A1 (ja) 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
EP2905144B1 (de) 2012-09-26 2017-07-19 Fujifilm Corporation Originalflachdruckplatte und plattenherstellungsverfahren
KR20150086524A (ko) 2012-12-28 2015-07-28 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 적외선 컷 필터 및 이것을 사용한 고체 촬상 소자
KR20150090142A (ko) 2012-12-28 2015-08-05 후지필름 가부시키가이샤 적외선 반사막 형성용의 경화성 수지 조성물, 적외선 반사막과 그 제조 방법, 적외선 차단 필터, 및 이것을 이용한 고체 촬상 소자
CN105190436A (zh) 2013-02-27 2015-12-23 富士胶片株式会社 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法
DE102013211047B4 (de) 2013-06-13 2015-04-30 MTU Aero Engines AG Verfahren zum Verschließen von Kühlluftbohrungen
WO2015031344A1 (en) 2013-08-27 2015-03-05 Georgia-Pacific Gypsum Llc Membrane-ready fibrous faced gypsum panels, apparatus, and methods
CN105960335B (zh) 2014-02-04 2020-12-11 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版的制版方法以及印刷方法
EP3733808A1 (de) 2015-06-04 2020-11-04 3M Innovative Properties Co. Uv-härtbare epoxy-/acrylathaftzusammensetzung
US9945119B2 (en) 2016-07-28 2018-04-17 United States Gypsum Company Methods for making gypsum boards with polymer coating and gypsum boards made by the method
JP7099791B2 (ja) 2016-12-02 2022-07-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多層接着剤物品
EP3879346A1 (de) 2017-02-28 2021-09-15 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
WO2019038324A1 (en) 2017-08-23 2019-02-28 Mercene Labs Ab PRIMER OR ADHESIVE COATING COMPOSITION
CN114174458B (zh) 2019-08-07 2023-07-04 3M创新有限公司 可uv固化粘合剂组合物和粘合剂膜、粘合带及包含它们的粘结组件
CN113072900B (zh) 2020-01-06 2022-09-23 3M创新有限公司 可紫外光固化的压敏胶组合物及可紫外光固化的压敏胶带
US20240084125A1 (en) 2020-12-31 2024-03-14 3M Innovative Properties Company Uv-curable tape
WO2024003637A1 (en) 2022-06-29 2024-01-04 3M Innovative Properties Company Curable adhesive and articles for bonding pavement and concrete

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2514186A (en) * 1945-10-22 1950-07-04 Firestone Tire & Rubber Co Antimony phenol sulfides
US2581930A (en) * 1950-01-25 1952-01-08 Firestone Tire & Rubber Co Stabilization of rubber with a mixture of a phenol sulfide and trivalent antimony oxide
US2807648A (en) * 1955-09-16 1957-09-24 Stauffer Chemical Co Process for making sulfonium compounds
US3018262A (en) * 1957-05-01 1962-01-23 Shell Oil Co Curing polyepoxides with certain metal salts of inorganic acids
NL128404C (de) * 1959-12-24
US3691133A (en) * 1971-03-25 1972-09-12 Union Carbon Corp Polyepoxide compositions containing dicyandiamide and an iodonium, phosphonium, or sulfonium salt
US4058400A (en) * 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts
GB1512981A (en) * 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4058401A (en) * 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts
US4069054A (en) * 1975-09-02 1978-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4102687A (en) * 1977-02-14 1978-07-25 General Electric Company UV Curable composition of a thermosetting condensation resin and Group VIa onium salt

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10023353A1 (de) * 2000-05-12 2001-11-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung
EP1973000A2 (de) 2007-03-22 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Automatische Tauchentwicklungsvorrichtung und Verfahren für Lithografiedruckplatten
EP1975710A2 (de) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers

Also Published As

Publication number Publication date
AR223168A1 (es) 1981-07-31
GB2014144A (en) 1979-08-22
AU521611B2 (en) 1982-04-22
SE446862B (sv) 1986-10-13
JPS6326105B2 (de) 1988-05-27
BE874004A (fr) 1979-08-07
CA1121092A (en) 1982-03-30
DE2954646C2 (de) 1991-01-24
IN154811B (de) 1984-12-15
JPS54151936A (en) 1979-11-29
BR7900747A (pt) 1979-08-28
FR2416884A1 (fr) 1979-09-07
CH640222A5 (de) 1983-12-30
ZA786897B (en) 1980-07-30
GB2014144B (en) 1982-07-28
US4173476A (en) 1979-11-06
SU1178334A3 (ru) 1985-09-07
FR2416884B1 (de) 1984-08-17
SE7900980L (sv) 1979-08-09
DE2904626A1 (de) 1979-08-09
AU4402579A (en) 1979-08-16

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DE2904626C2 (de)
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DE2559718C2 (de) Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz
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