DE2714491B2 - Bandgalvanisiervorrichtung - Google Patents

Bandgalvanisiervorrichtung

Info

Publication number
DE2714491B2
DE2714491B2 DE2714491A DE2714491A DE2714491B2 DE 2714491 B2 DE2714491 B2 DE 2714491B2 DE 2714491 A DE2714491 A DE 2714491A DE 2714491 A DE2714491 A DE 2714491A DE 2714491 B2 DE2714491 B2 DE 2714491B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal strip
level
container
bath
electroplating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2714491A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2714491A1 (de
DE2714491C3 (de
Inventor
Hajime Amakata
Masahiro Nakamura
Tetsuaki Tsuda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
Publication of DE2714491A1 publication Critical patent/DE2714491A1/de
Publication of DE2714491B2 publication Critical patent/DE2714491B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2714491C3 publication Critical patent/DE2714491C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils

Description

Die Erfindung betrifft eine Galvanisiervorrichtung zur kontinuierlichen einseitigen Galvanisierung eines horizontal geführten Metallbandes, mit Anoden, deren Breite etwa gleich der Breite des Metallbandes ist und die im Abstand gegenüber der Unterseite des Metallbandes angeordnet sind, mit Paaren von sich gegenüberliegend am Badbehälter angebrachten, das Metallband stützenden Staiirollen, mit einer eng benachbart zur Oberseite des Metallbandes angeordneten elektrisch isolierenden Platte und mit einer das Bad im Behälter auf einem solchen Pegel haltenden Einrichtung, daß dieser Pegel gleich dem Niveau ist, auf dem das Metallband durch den Behälter läuft.
Bei einer nach der DD-PS 51 177 bekannten Galvanisiervorrichtung dieser Art wird der Pegel des Bades durch die Kraft von aus einer Düse austretendem Elektrolyten aufgewirbelt. Es ist dann schwierig, wenn nicht unmöglich, den Pegel des Bades auf der Höhe des Metallbandes zu halten.
Aufgabe der Erfindung ist es, dafür zu sorgen, den Pegel stets ruhig auf der Höhe der Oberfläche des Metallbandes zu halten.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist die Vorrichtung gekennzeichnet durch eine am Boden des Behälters vorgesehene Düse zur Zuführung des Elektrolyten gegen die Unterseite des Metallbandes und durch oberhalb des Bandes angeordnete Flüssigkeitsabstreifdüsen für das Fernhalten des Elektrolyten von der Oberseite des Metallbandes.
Da nach der Erfindung die Düse zur Zuführung des Elektrolyten am Boden des Behälters angeordnet ist und den Strom des Elektrolyten gegen die Unterseite des Metallbandes richtet, kann die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten zwischen dem Metallband und der Anode erhöht werden, so daß die Galvanisierung mit großer Stromdichte und großem Stromwirkungsgrad durchführbar ist. Wird die Strömungsgeschwindigkeit vermindert, so ergibt sieh eine galvanische Schicht mit rauher bzw. dentrilischcr Oberfläche, wodurch das Produkt ein schwärzliches Aussehen erhält. Die Depolarisicrung der Anode wirtl dann beschleunigt, so dal! die Spannung im Giilviinisirrungshad schnell erhöht wird.
Durch die Flüssigkeitsabstreifdüsen wird das Bad
auch bei nicht genau ebenen Metallbändern von deren
Oberseite ferngehalten, was bei welligen Bändern selbst
dann nocht schwierig ist, wenn der Pegel des Bades genau in der Höhe des Weges der Bänder liegt
Eine konventionelle Vorrichtung zur kontinuierlichen Galvanisierung einer einzigen Flächenseite eines Metallbandes ist in den F i g. 1 bis 3 dargestellt Dabei zeigt
to F i g. 1 einen Querschnitt einer solchen Vorrichtung längs einer Linie I-I in F i g. 2;
Fig.2 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach F i g. 1; und
Fig.3 eine perspektivische Ansicht von in der
bekannten Vorrichtung verwendeten konventionellen elektrisch isolierenden Platten.
Bei einer derartigen konventionellen Vorrichtung zur kontinuierlichen Galvanisierung einer einzigen Flächenseite eines laufenden Metallbandes 2 sind Anoden 3, deren Breite etwa gleich der Breite des Metallbandes ist, in einem Behälter 1 angeordnet, welcher ein Galvanisierungsbad enthält. Diese Anoden sind durch Anodenhalterungeii 12 in Längsrichtung im Abstand voneinander gehaltert und gegen das Metallband gerichtet Das
2S Metallband selbst wirkt aufgrund einer Kontaktierung durch Rollen 14 als Kathode. In einem derartigen Bad fließt ein Teil des Stromes um die Seitenkanten des Metallbandes zu dessen Oberseite, welche der zu galvanisierenden Fläche gegenüberliegt Dabei entste-
JO hen auf der Oberseite im Bereich der Seitenkanten unerwünschte Abscheidungen mit einer Brt ite von jeweils 40 bis 60 mm. Um derartige Abscheidungen zu vermeiden, werden Anoden mit einer Breite verwendet, welche etwa gleich der Breite des Metallbandes ist
r> Darüber hinaus sind elektrisch isolierende Platten (beispielsweise zwei Platten 4a gemäß F i g. 3) vergesehen, welche mit Seitenrändern der Oberseite des Metallbandes in Kontakt stehen, wodurch ein Zirkulieren des Galvanisierungsbades über diese Stellen verhindert wird. Durch derartige Maßnahmen kann die Zirkulation des Galvanisierungsbades über diese Stellen jedoch nicht vollständig verhindert werden. Daher entstehen unerwünschte Abscheidungen in einer Breite von etwa 15 mm (diese Breite überschreitet die Breite
■Ti von etwa 10 mm, welche durch viele Abnehmer noch toleriert wird). Derartige Abscheidungen ergeben sich insgesamt aus den folgenden Gründen (wobei die Abscheidungen auf der Oberseite des Metallbandes natürlich nur entstehen, wenn das Galvanisierungsbad
V) mit dieser Oberseite in Kontakt tritt). Zunächst liegt der Pegel des Galvanisierungsbades im Behalter gewöhnlich weit höher als die Linie, in der das Metallband durch den Behälter läuft, so daß die nich; zu galvanisierende Seite des Metallbandes, d. h. dessen Oberseite, vollstän-
v> dig in das Galvanisierungsbad eingetaucht ist. Weiterhin ist eine konventionelle Auslrittsdüse 9 zur Zuführung des Galvanisierungsbades in den Behälter gewöhnlich senkrecht zur Linie des laufenden Bandes und auf der gleichen Höhe des Bandes angeordnet, so daß der
w) gewünschte schützende Kontakt zwischen den elektrisch isolierenden Platten 4.-> und dem Metallband durch die Strömiingswirkiing des eintretenden Gnlvanisicrungsbades beeinflußt wird. Eine Zirkulation ties Galvanisierungsbades zwischen tion isolierenden l'lat-
ii·· ten und der Oberseite des Melallbades kann daher nicht verhindert werden. Darüber hinaus ist es nicht möglich, das Galvanisierungsbad von Bereichen tier Oberseite des Meiallbandes /u entfernen, in denen die Oberseite
nicht mit den elektrisch isolierenden Platten in Kontakt stehen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in den F i g. 4 bis 8 der Zeichnung dargestellten Ausführungsformen näher erläutert Es zeigt
F i g. 4 eine in Längsrichtung geschnittene Vorderansicht einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Galvanisierung einer einzigen Fläche eines laufenden Bandes;
Fig.5 einen Teilschnitt längs einer Linie V-V in F i g. 4, aus der schematisch Merkmale der Gesamtvorrichtung ersichtlich sind;
Fig.6 einen vergrößerten Schnitt längs einer Linie VI-VI in Fig.4;
Fig.7 einen vergrößerten Schnitt längs einer Linie VII-VII in F ig. 4; und
Fig.8 ein Diagramm, aus dem experimentelle Ergebnisse bei einer erfindungsgemäßen Vorrichtung ersichtlich sind.
fn den Figuren der Zeichnung, sind gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen versehen. Gemäß den F i g. 4 bis 7 sind in einem horizontalen Galvanisierungstank 1, welcher ein Galvanisierungsbad enthält, auf einem Anodenträger 12 Anoden 3 vorgesehen, deren Breite jeweils gleich der Breite eines zu galvanisierenden Metallbandes 2 ist. Die Anoden liegen der zu galvanisierenden Fläche gegenüber, wobei sie in einem geeigneten Abstand zueinander angeordnet sind. Auf der Fläche des Metallbandes, welche der zu galvanisierenden Fläche gegenüberliegt, ist eine einstückig ausgebildete, elektrisch isolierende Platte 4 angeordnet, deren Breite wenig größer als die Breite des Bandes 2 ist. Die Abmessungen in Längsrichtung der Platte 4 ist gleich der Länge der durch die Anoden 3 gebildeten Zone. Die Platte 4 wird durch Halterungselemente 5 gehaltert. Oberhalb des Bandes sind zwischen den Längsseiten der Platte 4 sowie stützenden Staurollen 13 Gasdüsen 6 vorgesehen. Diese Gasdüsen sind auf die Oberseite des Bandes 2 gerichtet. Am Boden des Behälters ist eine Auslaßdüse 7 zur Rückführung des Galvanisierungsbades Vorgesehen, wodurch das rückgeführte Galvanisierungsbad gegen die Unterseite des Bandes gerichtet wird. Das Galvanisierungsbad kann im Behälter auf einen Pegel eingeregelt werden, welcher auf dem Niveau der Linie liegt, auf der das Band 2 läuft. Diese Einregelung des Pegels des Galvanisierungsbades wird im folgenden noch genauer beschrieben. Die elektrisch isolierende Platte 4 kann beispielsweise aus Gummi, insbesondere einem magnetischen Gummi hergestellt sein. Durch die Gasdüsen 6 wird Luft oder ein anderes Gas geführt, um Galvanisierungsflüssigkeit zu entfernen, welche mit der Oberseite des Bandes in Kontakt gelangt.
Da bei der in Rede stehenden Ausführungsform der Erfindung das Galvanisierungsbad auf einen Pegel eingestellt ist, welcher in der Ebene des bewegten Bandes liegt, kann kein Galvanisicrungsstrom um die unteren Längsseitenränder des Bandes zm der Oberseite fließen. Da darüber hinaus die elektrisch isolierende Platte einstückig ausgebildet ist, sind die Bereiche der Oberseite des Bandes, welche nicht mit der isolierenden Platte in Kontakt stehen und damit nicht geschützt sind, auf schmale Zonen im Bereich beider Enden der elektrisch isolierenden Platte begrenzt Da darüber hinaus auch Galvanisierungsflürsigkeit welche mit der nicht zu galvanisierenden Oberseite des Bandes in Kontakt tritt, durch die Gasdüsen wirksam entfernt wird, kann praktisch mit der gesamten Oberseite des Bandes keine Galvanisierungsflüssigkeit in Kontakt treten. Auf diese Weise werden unerwünschte Abscheidüngen auf der Oberseite des Bandes vermieden. Da die erfindungsgemäße Vorrichtung darüber hinaus auch so ausgebildet ist, daß die Ausströmrichtung der rückgeführten Galvanisierungsflüssigkeit gegen die Unterseite des Bandes gerichtet ist wird der Kontakt zwischen der Unterseite der isolierenden Platte und der Oberseite des Bandes wirksam aufrechterhalten. Darüber hinaus ist auf diese Weise sichergestellt daß die Galvanisierungsflüssigkeit ohne Turbulenz glatt durch den Raum zwischen der Unterseite des Bandes 2 und den Anoden 3 strömt. Auf diese Weise wird ein Gleichgewichtszustand aufrechterhalten, wobei eine Entpolarisierung der Elektroden verhindert wird. Aufgrund der Anordnung der Auslaßdüse 7 kann die Galvanisierungsflüssigkeit nicht über die Oberseite des Bandes zirkulieren, so daß der Betrag des Stromes, welcher über die Oberseite des Bandes fließt, reduziert wird.
Fig.8 zeigt experimentelle Ergebnisse, die mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung erzielbar sind, woraus klar hervorgeht, daß Abscheidungen auf der Oberseite
jo des Bandes so klein wie möglich gehalten werden.
Fig. 5 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung in ihrer Gesamtheit. Unterhalb des Galvanisierungsbehälters 1 ist ein Haupttank 8 vorgesehen. An einer Seite des Behälters 1 ist ein Überlaufsy-
r, stern mit einem Überlaufkörper und einem Überlaufrohr 11 angebracht, wodurch die Galvanisierungsflüssigkeit auf einem Pegel gehalten werden kann, welcher gleich dem Niveau der Linie ist, auf der das Band läuft. Das Üherlaufsystem ist am Behälter 1 an einer Stelle vorgesehen, an der ein Paar von Staurollen 13, welche das bewegte Band stützen, miteinander in Druckkontakt stehen.
Das Überlaufrohr 11 isi im Betrieb mit dem Haupttank 8 verbunden. Die im Haupttank 8 enthaltene
■Γ) Galvanisierungsflüssigkeit wird über eine Pumpe 9 und ein Regulierventil TB durch die Auslaßdüse 7 zurückgeführt, wobei das Ventil ein Sicherheitsventil darstellt. Die aus der Auslaßdüse 7 austretende Galvanisierungsflüssigkeit füllt das Galvanisierungsbad wieder auf,
w wobei ein Überschuß an Flüssigkeit über das vorgenannte Überlaufsystem abgeführt wird. Damit wird die Flüssigkeit im Behälter 1 auf einem konstanten Pegel gehalten, welcher auf dem Niveau der Linie liegt, auf der das Band 2 läuft.
v, Wie oben ausgeführt, ermöglicht die erfindungsgemäße Vorrichtung eine wesentliche Reduzierung einer unerwünschten Abscheidung auf der Fläch? des Bandes, welcher der zu galvanisierenden Fläche gegenüberliegt, so daß das hergestellte Produkt den Anforderungen von
μ ι Endverbrauchern besser genügt.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Vorrichtung zur kontinuierlichen einseitigen Galvanisierung eines horizontal geführten Metallbandes, mit Anoden, deren Breite etwa gleich der Breite des Metallbandes ist und die im Abstand gegenüber der Unterseite des Metallbandes angeordnet sind, mit Paaren von sich gegenüberliegend am Badbehälter angebrachten, das Metallband stützenden Staurollen, mit einer eng benachbart zur Oberseite des Metallbandes angeordneten elektrisch isolierenden Platte und mit einer das Bad im Behälter auf einem solchen Pegel haltenden Einrichtung, daß dieser Pegel gleich dem Niveau ist, auf dem das Metallband durch den Behälter läuft, gekennzeichnet durch eine am Boden des Behälters (1) vorgesehene Düse (7) zur Zuführung des Elektrolyten gegen die Unterseite des Metallbandes (2) und durch oberhalb des Bandes angeordnete Flüssigkeitsabstreifdüsen (6) für das Fernhalten des Elektrolyten von der Oberseite des Metallbandes (2).
DE2714491A 1976-03-31 1977-03-31 Bandgalvanisiervorrichtung Expired DE2714491C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1976039731U JPS5636933Y2 (de) 1976-03-31 1976-03-31

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2714491A1 DE2714491A1 (de) 1977-10-13
DE2714491B2 true DE2714491B2 (de) 1980-02-28
DE2714491C3 DE2714491C3 (de) 1980-10-30

Family

ID=12561108

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2714491A Expired DE2714491C3 (de) 1976-03-31 1977-03-31 Bandgalvanisiervorrichtung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4102772A (de)
JP (1) JPS5636933Y2 (de)
AU (1) AU504627B2 (de)
DE (1) DE2714491C3 (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU539903B2 (en) * 1979-06-01 1984-10-25 Nippon Kokan Kabushiki Kaisha Dip-plating process and apparatus
JPS5824934Y2 (ja) * 1979-11-16 1983-05-28 日本鋼管株式会社 金属ストリツプの連続片面電気メツキ装置
US4267024A (en) * 1979-12-17 1981-05-12 Bethlehem Steel Corporation Electrolytic coating of strip on one side only
AU525633B2 (en) * 1980-03-07 1982-11-18 Nippon Steel Corporation Metal strip treated by moving electrolyte
IT1138370B (it) * 1981-05-20 1986-09-17 Brev Elettrogalvan Superfinitu Metodo e apparecchiatura a doppia vasca,per la cromatura in continuo di barre e di pezzi di grosse dimensioni,con riciclo per la eliminazione dell'idrogeno
US4461419A (en) * 1981-06-23 1984-07-24 Instytut Metalurgii Zelaza Im. Stanislawa Staszica Auxiliary apparatus for manufacturing strips and sheets, coated on one side with a protective coating
EP1541719A3 (de) 1998-05-20 2006-05-31 Process Automation International Limited Vorrichtung zur Elektroplattierung
US6261425B1 (en) 1998-08-28 2001-07-17 Process Automation International, Ltd. Electroplating machine
JP2002198635A (ja) * 2000-12-27 2002-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 配線板及びその製造方法
US7279187B2 (en) * 2003-02-14 2007-10-09 The Procter & Gamble Company Mineral fortification systems
DE502006005186D1 (de) * 2006-06-08 2009-12-03 Bct Coating Technologies Ag Vorrichtung zur galvanischen Abscheidung von Oberflächen und Galvanisierungssystem
DE102008026199B3 (de) * 2008-05-30 2009-10-08 Rena Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur elektrischen Kontaktierung von ebenem Gut in Durchlaufanlagen
CN111519221A (zh) * 2020-04-15 2020-08-11 本钢板材股份有限公司 单面电镀锌的加工方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1191386A (en) * 1915-05-24 1916-07-18 Albert Ernest Battle Apparatus for use in and in connection with electrolytic processes.
US2399254A (en) * 1943-05-20 1946-04-30 Nat Steel Corp Electroplating
US2509304A (en) * 1944-02-24 1950-05-30 Nat Steel Corp Method and apparatus for electrolytic coating of strip material
US2490055A (en) * 1944-03-30 1949-12-06 Nat Steel Corp Metal strip electroplating apparatus
US2569577A (en) * 1947-05-09 1951-10-02 Nat Steel Corp Method of and apparatus for electroplating
US3178305A (en) * 1962-05-04 1965-04-13 United States Steel Corp Method of making galvanized sheet steel coated on one side
JPS4926174B1 (de) * 1970-07-11 1974-07-06
US3710482A (en) * 1971-08-17 1973-01-16 Rowe International Inc Semi-automatic sequencing machine
JPS4849630A (de) * 1971-10-26 1973-07-13
DE2448287B2 (de) * 1974-10-10 1977-09-22 Inovan-Stroebe Kg, 7534 Birkenfeld Vorrichtung zum selektiven galvanisieren

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5636933Y2 (de) 1981-08-31
DE2714491A1 (de) 1977-10-13
US4102772A (en) 1978-07-25
DE2714491C3 (de) 1980-10-30
JPS52131721U (de) 1977-10-06
AU504627B2 (en) 1979-10-18
AU2377877A (en) 1978-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19717512C2 (de) Vorrichtung zum Galvanisieren von Leiterplatten unter konstanten Bedingungen in Durchlaufanlagen
DE3107561C2 (de)
DE2714491C3 (de) Bandgalvanisiervorrichtung
DE3108615C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln eines Metallbandes
DE3828291A1 (de) Elektrolytisches behandlungsverfahren
DE2944852C2 (de)
EP0167790A2 (de) Beschichtete Ventilmetall-Elektrode zur elektrolytischen Galvanisierung
DE2619821A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen elektrolytischen behandlung eines metallbandes
DE3440457C2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen elektrolytischen Abscheidung einer Abdeckmetallschicht auf einem Metallband und Verwendung einer solchen Vorrichtung
DE1496714B2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen anodischen Herstellung von mindestens 25,4µ dicken und porösen Oxidschichten auf Aluminiumband oder -draht
DE19717489B4 (de) Anordnung zur elektrogalvanischen Metallbeschichtung eines Bandes
DE3017079A1 (de) Vorrichtung zum elektroplattieren
EP0302057B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur oberflächenbehandlung von bändern mit flüssigkeiten
DE2460634C3 (de) Galvanisiereinrichtung zum partiellen Metallisieren kontinuierlich durchlaufender Waren
DE3525183C2 (de)
EP0196420B1 (de) Hochgeschwindigkeits-Elektrolysezelle für die Veredelung von bandförmigem Gut
DE3901807C2 (de)
DE19633797B4 (de) Vorrichtung zum Galvanisieren von elektronischen Leiterplatten oder dergleichen
EP0534269A2 (de) Galvanisiereinrichtung für im horizontalen Durchlauf zu behandelnde gelochte Leiterplatten
DE2917630A1 (de) Anordnung zur elektrolytischen verzinkung von walzband
DE3418039C2 (de) Vorrichtung für die elektrolytische Behandlung metallischer Bänder
DE3603770C2 (de)
DE3423734C1 (de) Anlage zur elektrolytischen Oberflaechenbeschichtung eines Metallbandes,insbesondere zur Verzinkung von Stahlband
DE3527490A1 (de) Vertikal-(elektro-)verzinkungsvorrichtung
DE1796222C3 (de) Vertikalbandgalvani sie ran lage

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee