DE2648867C2 - Tintenstrahlmatrixdrucker - Google Patents
TintenstrahlmatrixdruckerInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Tintenstrahlmatrixdrucker, bei dem jeweils mindestens ein Teil einer Punktzeile,
die aus einer Anzahl Druckpunktpositionen auf dem zu bedruckenden Papier besteht, gleichzeitig gedruckt
wird, mit einem Düsenfeld, bestehend aus mindestens zwei sowohl untereinander als auch gegenüber der
Punktzeile parallelen Reihen von gegeneinander versetzt angeordneten Düsen, deren Tintentröpfchen
durch eine Aufladeelektrode wahlweise aufladbar sind, wodurch die aufgeladenen Tintentröpfchen in eine Tintenauffangvorrichtung
und die unaufgeladenen auf das zu bedruckende Papier gelangen.
In Tintenstrahldruckern mit je einer Düse für jeden Punkt eines Aufzeichnungsrasters hängt die Druckqualität
vom Mittenabstand einander in der Anordnung benachbarter Düsen ab. Gemäß der bisher bekannten
Technik in der Herstellung von Düsen für Tintenstrahldrucker war man in der Lage, relativ kleine Mittenabstände
in der Größenordnung von etwa 0,076 mm oder 0,1 mm herzustellen. Dabei erhält man aber wegen der
engen Nachbarschaft der jeweiligen Düsen eine sehr zerbrechliche Anordnung.
Die Verwendung einer seitlich gegeneinander versetzten, mehrfachen Anordnung von Düsen, wie sie beispielsweise
in der DE-OS 23 37 611 offenbart ist, zeigt eine andere Lösungsmöglichkeit bei der Herstellung
von Düsen mit geringen Abständen auf, wobei sich wiederum zwei Probleme ergeben.
Das erste Problem besteht darin, daß man zusätzliche, der Taktgabe dienende Netzwerke verwenden muß,
damit die versetzte Anordnung gemäß dieser Offenlegungsschrift sich tatsächlich so verhält wie eine längs
einer Linie angeordnete Reihe von Düsen. Das bedeutet, daß für eine gestaffelte Anordnung von zwei Reihen
von Düsen das der oberen Reihe von Düsen zugeluhrtc Drucksignal in bezug auf das der unteren Reihe von
Düsen zugeführte Drucksignal entweder verzögert oder beschleunigt angelegt werden muß, abhängig von der
Bewegungsrichtung des Druckträgers, so daß die den beiden Reihen der Düsen entstammenden Tröpfchen
nacheinander Zeile für Zeile zur Darstellung einer einzigen Linie auf dem Druckträger abgegeben werden
können.
Das zweite Problem liegt in der Konstruktion des Ablaufs und der dafür erforderlichen Ablenkspannungen.
Wird nur ein einziger Ablauf verwendet, dann müssen die von beiden Reihen von Düsen ausgehenden, nicht
zum Druck verwendeten Tröpfchen nach diesem einzigen Ablauf abgelenkt werden. Dafür benötigt man aber
eine höhere Ablenkspannung, als sie für nur eine Reihe von Düsen erforderlich wäre, da es sich hierbei um verschiedene
und im wesentlichen parallel verlaufende Tröpfchenbahnen von den beiden Reihen von Düsen
handelt. Man kann auch, wie in der obengenannten Offenlegungsschrift angegeben, zwei Abläufe verwenden;
aber dadurch wird die Gesamtkonstruklion des Druckers recht kompliziert.
Durch die US-PS 33 73 437 und die DE-OS 23 33 629
sind Schreibköpfe bekannt, deren aus parallelen Reihen von Düsen ausgestoßenen Tintenstrahlen unter einem
Winkel zueinander verlaufen, wobei bei dem Schreibkopfnach
dergcnannlen US PS die Flugbahnen der sich längs einer Linie niederschlagenden Tintentröpfchen in
einer Ebene verlaufen und beim Schreibkopf nach der genannten OS mehrere unterschiedlich farbige Tintentröpfchen
auf den gleichen Punkt des Aufzeichnungsträgers gerichtet sind.
Außerdem ist es durch die US-PS 39 21 916 bekannt, in Siliziumplättchen Düsen herzustellen, deren Eintritts-
und Austrittsöffnungen ähnliche polygonale Querschnittsllächen aufweisen.
Es ist die Aufgabe der in Anspruch 1 angegebenen Erfindung, einen Tintenstrahldrucker anzugeben, der
trotz einer Anordnung der für den Druck einer einzigen Punktreihe erforderlichen Düsen in mehreren, zueinander
versetzten Reihen mit einer einfachen Taktgeberschaltung ohne Verzögerungs- bzw. Beschleunigungsscbaltungen
für die einzelnen Düsenreihen auskommt und trotz der genannten Düsenanordnung für das Ablenken
der aufgeladenen und für den Druck nicht erforderlichen Tintentröpfchen nur eine einzige Ablenkspannung
erfordert.
Weitere Merkmale der Erfindung sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den Figuren veranschaulichten Ausführungsbeispielen
beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 schematisch eine Seitenansicht einer versetzten Anordnung von Düsen zum Drucken einer Linie
gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht einer versetzten Anordnung von Düsen gemäß der vorliegenden Erfindung;
F i g. 3 eine Vorderansicht einer Aufladeelektrode zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 eine Ansicht einer Membran-Siliziumdüse, von hinten nach vorn gesehen;
Fig. 5 und 6 Querschnittsansichten zur Darstellung
der Flüssigkeitsströmung in normaler bzw. umgekehrter
Richtung durch eine sich verengende Düse;
Fig. 7 eine Querschnittsansicht einer Membran-Siliziumdüse,
bei der die Austrittsöffnung der Düse in bezug auf die Längsmittelachse der Eintrittsöffnung der
Düse versetzt ist, mit einer Darstellung der aus der Düse austretenden Flüssigkeit;
Fig. 8A-8J eine Folge von Querscnnittsansichten eines Siliciumplättchens zur Darstellung des Herstellungsverfahrens
bei der Bildung einer Membran-Siliciumdüse mit einer schiefliegenden Ausgangsöffnung;
Fig. 9 A, B eine Querschnittsansicht und eine Draufsieht
einer sich verjüngenden Düse in einem Siliciumplältchen mit einem (lOO)-Kristallschnitt, wobei die
Flächennormale des Plättchens mit der (100) ■Kristallachse ausgerichtet ist;
Fig. 10 A, B eine Querschnittsansicht und eine Draufsicht einer sich verjüngenden Düse in einem SiIiciumplättchcn
mit einer (lOO)-Kristallorientierung, wobei die Flächennormale des Plättchens mit der
(lOO)-Kristallachse einen Winkel bildet;
Fig. 11 die Anordnung trichterförmig ausgestalteter Düsen in einem Siliciumplättchen mit einer (lOO)-Kristallorientierung,
bei der die Flächennormale des Plättchcns in bezug auf die (lOO)-Kristallachse eine Schieflage
aufweist, mit der Darstellung der austretenden Tröpfchenströme;
Fig. 12A-1211 eine Folge von Schnittansichten eines
Siliciumplättchens, das nicht in bezug auf die (10O)-Knslallachsc
ausgerichtet ist, in den verschiedenen Bearbeitungsstufen;
Fig. 13 eine Querschnittsansicht eines Tintenstrahldruckers
mit versetzt angeordneten Düsen gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 14 eine Vorderansicht einer Membrandüse mit einer kreisförmigen Auftrittsöffnung, die gegen den
Mittelpunkt der Membran versetzt ist;
Fig. 15 ein Diagramm, bei dem die Ablenkwinkel über der Schiefläge der Düsenöffnung für eine Membrandüse
aufgetragen sind;
Fig. 16 eine schematische Darstellung einer von der Flächennormalen abweichenden, nach dem Ablaufgerichteten
Tröpfchenbahn;
Fig. 17 schemalisch eine aus der Flächennormalen hervorgehende, auf den Ablauf gerichtete Tröpfchenbahn;
Fig. 18 schematisch zwei von der Flächennormalen abweichende Tröpfchenbahnen für zwei nach dem
Ablauf gerichtete Tröpfchenstrahlen;
Fig. 19 schematisch eine Darstellung von mehreren, aus einer versetzten Anordnung von Düsen ausgehenden
Tröpfchenstrahlen;
Fig. 20A-20D Impulsdiagramme zur Darstellung der Zeitpunkte, an denen die Aufladespannungen an
Tröpfchen angelegt werden, die an den verschiedenen Reihen von Düsen in der Düsenanordnung gemäß Fig.
19 austreten.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Drucken, Linie für Linie und Zeile Tür Zeile
oder mehrere Linien oder Zeilen gleichzeitig mit einer Anordnung von Tintenstrahldüsen offenbart. Die
Düsenanordnung kann unter Benutzung üblicher Verfahren aus einem Halbleitermaterial hergestellt werden.
Das bevorzugte Halbleitermaterial ist Silicium, obgleich auch andere Halbleitermaterialien wie Germanium,
Galliumarsenid oder dergleichen zur Durchführung der Erfindung verwendet werden können. Selbstverständlich
können auch andere Materialien anstelle von Halbleitern bei der Verwirklichung der Erfindung
eingesetzt werden. Das in der bevorzugten Ausführungsform, mit Silicium, verwendete Verfahren benutzt
ein anisotropes chemisches Ätzmittel zur Herstellung von Bohrungen der gewünschten Abmessungen in dem
Halbleitermaterial. In der bevorzugten Abmessung verjüngt sich die Bohrung von der Eingangs- zur Ausgangsöffnung.
In einer Ausführungsform weist die Bohrung eine polygonale Eingangsöffnung auf, die sich zu einer
polygonalen Ausgangsöffnung verjüngt. In der Praxis können die Ecken der Öffnungen abgerundet sein,
um damit eine Konzentration der Beanspruchung nach Möglichkeit kleinzuhalten, die ein Ausfällen oder übermäßige
Abnützung einer Düse zur Folge haben könnten. In einer weiteren Ausfuhrungsform hat die Bohrung
die Form eines Pyramidenstumpfs mit einer rechteckigen Eingangsöffnung, die sich in einen rechteckigen
Querschnitt verjüngt, in dem eine Membrane mit einer kreisförmigen Bohrung vorgesehen ist.
Die ausgezeichneten Betriebseigenschaften der neuartigen Düsenanordnung gehen unmittelbar auf den
Einfluß der Kristallsymmetrie und der geometrischen Abmessungen der Düse zurück, woraus sich genau vorherbestimmbare
Richtungs- und Geschwindigkeitswerte für den die Düse verlassenden Strahl und ein
hoher Wirkungsgrad der Düse ergeben.
Es ist bekannt, daß anisotrope Ätzmittel kristalline Materialien in den verschiedenen kristallographischen
Achsen mit unterschiedlichen Ätzeeschwin-
digkeiten angreifen. Für monokristallines Silicium ist eine große Anzahl anisotroper Ätzmittel bekannt, die
alkalische Flüssigkeiten oder deren Mischungen enthalten. Als für monokristallines Silicium geeignete anisotrope
Ätzmittel seien erwähnt: wäßriges Natriumhydroxid, wäßriges Kaliumhydroxid, wäßriges Hydrazin-Tetranmethyl,
Ammoniumhydroxyd, Mischungen von Phenolen und Aminen wie z. B. eine Mischung von
Pyrochatechol und Äthylendiamin mit Wasser und Mischungen von Kaliumhydroxid-N-Propanol und
Wasser. Diese und andere bevorzugte, für monokristallines Silicium geeignete Ätzmittel können bei der Herstellung
von Düsenanordnung gemäß der Erfindung eingesetzt werden.
Im Hinblick auf die drei am häufigsten in monokristallinem Silicium verwendeten Kristallebenen mit
kleinem Index ist die anisotrope Ätzgeschwindigkeit für in (lOO)-Richtung ausgerichtetes Silicium am höchsten,
in der Richtung (110) etwas geringer und am kleinsten für die Ausrichtung (111). Die zur Herstellung der
Düsenanordnungen gemäß der Erfindung verwendeten Verfahren zum Bearbeiten von Silicium werden im folgenden
beschrieben.
Fig. 1 zeigt eine aus Silicium hergestellte Düsenanordnung!, in der die Düsen einer Reihe in bezug auf die
Düsen einer anderen Reihe seitlich versetzt angeordnet sind. Das heißt, die Düsenöffnungen in einer Reihe sind
gegenseitig in bezug auf die Düsen einer anderen Reihe in einer Richtung senkrecht zur Ebene der Fig. 1 versetzt.
Außerdem weisen die Ausgangsöffnungen der Düsen in bestimmten Reihen in bezug auf die Längsmittelachsen
der entsprechenden Eingangsöffnungen eine Schiefläge auf, woraus sich eine von der Flächennormalen der Ebene der Düsenplatte abweichende
Tröpfchenbahn ergibt. Man sieht, daß die Tröpfchenbahn 10 aus der Düse 8 praktisch senkrecht zur Ebene
der Düsenplatte 2 verläuft, so daß der Tröpfchenstrahl 10 das Druckmedium, wie z. B. das Papier 14 an einer
vorbestimmten Punktposition in einer Reihe 12 trifft. Wenn daher die von den Düsen 4 und 6 ausgehenden
Tröpfchenstrahien andere Punktpositionen in der Reihe 12 treffen sollen, dann müssen die von den Düsen 4 und
6 ausgehenden Tröpfchenbahnen unter einem Winkel gegen die Flächep.norrnale der Ebene der Düsenplatte 2
austreten und ihre Bahnen dürfen nicht in bezug auf die Tröpfchenbahn 10 zu dieser parallel verlaufen. Somit ist
also die Größe der axialen Verschiebung der jeweiligen Austrittsöffnungen der Düsen in den Reihen 4 und 6 in
der Weise vorbestimmt, daß die diesen Düsen entspringenden Tröpfchenbahnen 16 und 18 an Punktpositionen
in der Reihe 12 auftreffen, so daß jedesmal eine ganze
Zeile oder Linie gedruckt wird.
Fig. 2 zeigt eine perspektivische Ansicht der Düsenplatte 2, aus der man deutlich erkennt, wie die aus den
Zeilen 4, 6 und 8 austretenden Tröpfchenstrahlen benachbarte Punkte zur Erzeugung einer Linie 12 auf
einem Aufzeichnungsträger 14 erzeugen können. Das heißt, daß die aus den Düsen 4 austretenden Tröpfchenstrahlen
die nicht benachbarten Punktpositionen 1, 4 und 7, die aus den Düsen 6 hervorgehenden Tröpfchenstrahlen
die nicht benachbarten Punktpositionen 2, 5 und 8 und die aus den Düsen 8 hervorgehenden Tröpfchenstrahlen
die nicht benachbarten Punktpositionen 3, 6 und 9 markieren.
Fig. 3 zeigt eine Aufladeelektrode 20, wie sie bei der
Durchführung der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden kann. Die Aufladeelektrode 20 kann dabei aus
einem Substrat aus keramischem Material bestehen.
das eine Anzahl paralleler Schlitze 22 aufweist, die z. B.
eingefräst sein können, so daß Tröpfchenströme in den verschiedenen Bahnen von verschiedenen Reihen von
Düsen durchtreten können. Das heißt, daß die Abmessungen der Schlitze derart gewählt sein sollten, daß
sowohl aus der ersten als auch aus der zweiten Düsenreihe austretenden Strahlen passieren können. Das
Innere der Schlitze oder Nuten ist mit einem leitenden Überzug versehen, so daß an die entsprechenden
Schlitze eine Spannung angelegt werden kann, damit die hindurchfliegenden Tröpfchen selektiv aufgeladen
werden können, so daß die nicht geladenen Tröpfchen für den Druck benutzt werden, während die aufgeladenen
Tröpfchen nach einem gemeinsamen Ablauf abgelenkt werden. Die Lage der Auflageelektrode in einem
vollständigen Tintenstrahldrucker ist in Fig. 13 im einzelnen dargestellt.
Wie bereits erwähnt, kann die Düsenanordnung eine Anzahl von in einem Siliciumsubstrat hergestellter
Düsen enthalten, wobei die die Düse bildenden Bohrungen die Form eines Pyramidenstumpfes aufweisen,
die größere Öffnung die Einlaßöffnung bildet und in dem kleineren rechteckigen Abschnitt der Düse eine
Membran mit einer kreisförmigen Bohrung in der Membran vorgesehen ist, die als Auslaßöffnung dient.
In einem Siliciumplättchen 24 (Fig. 4) ist eine Bohrung
hineingeätzt, deren Einlaßöffnung aus den Seiten 26, 28,30 und 32 besteht und die sich nach einem kleineren
rechteckigen Abschnitt verjüngt, der aus den Seiten 34, 36,38 und 40 besteht und durch eine Membran 42 abgeschlossen
ist, die eine kreisförmige Bohrung 44 aufweist. In einer derartigen Düsenkonstruktion, bei der
sich die Bohrung 44 in der Mitte der Membran 42 befindet, tritt ein die Bohrung 44 verlassender Strahl im
wesentlichen senkrecht zur Ebene der Membran 42 aus. Ist die Bohrung 44 jedoch außermittig angeordnet, dann
tritt der aus der Bohrung 44 austretende Strahl unter einem Winkel gegen die Flächennormale der Ebene der
Membran 42 aus. Wie eine derartige Düse hergestellt wird und wie man den Abstand der Bohrung von der
Mitte der Membran bestimmt, um damit eine von der Flächennormalen abweichende Bahn zu erzielen, wird
anschließend beschrieben.
F i g. 5 stellt die Flüssigkeitsströmung in Richtung der Normalen durch eine sich verjüngende Düse in einem
Siliciumplättchen 45 dar, d. h. die Flüssigkeit strömt von der größeren Öffnung 46 nach der kleineren Öffnung 48.
Die Fig. 6 zeigt eine Flüssigkeitsströmung in umgekehrter Richtung, d. h. von der kleineren Öffnung 48
nach der größeren Öffnung 46. Die Flüssigkeitsströmung durch die Düse in Vorwärtsrichtung in Fig. 5 ist
durch eine gleichförmige Konvergenz der Strömung in Richtung auf die Öffnung 48 gekennzeichnet, wobei die
Geschwindigkeitskomponenten durch die Pfeile 50 bzw. 52 angezeigt sind. Die Flüssigkeitsströmung in der
umgekehrten Richtung in Fig. 6 ist durch eine scharfe Änderung in der Richtung der Strömung in der Nähe
der Öffnung 48 gekennzeichnet, wobei die Geschwindigkeitskomponenten durch Pfeile 54 und 56 dargestellt
sind. Die Strömungsgeschwindigkeit in der Vorwärtsrichtung V1 ist größer als die Strömungsgeschwindigkeit
in der Rückwärtsrichtung, Vn Mit zunehmendem Druck
nimmt der Unterschied zwischen V1 und Vr ab.
Fig. 7 zeigt eine Membrandüse in einem Siliciumplättchen 58 mit einer Einlaßöffnung 60 und einer Auslaßöffnung
62 in einer Membrane 64, wobei die Mittellinie 66 der Auslaßöffnung 62 gegen die Mittelachse 68
der Membrane um die Strecke δ verschoben ist. Die
durch einen Pfeil 72 angedeutete Flüssigkeitsströmung
liings der Wand 70 verläuft ähnlich wie die Flüssigkeitsströmung in Vorwärtsrichtung durch die in Fi g. 5 dargestellte
Düse, während die Flüssigkeitsströmung längs der Oberfläche 74 der Membran 64, wie durch einen
Pfeil 76 angedeutet, ähnlich verläuft wie eine Flüssigkeitsströmung in umgekehrter Richtung durch eine
Düse, wie dies in Fig. 6 gezeigt ist. Daher ist die Strömungsgeschwindigkeit
in der durch den Pfeil 72 angedeuteten Richtung größer als die Strömungsgeschwindigkeit
in der durch den Pfeil 76 angedeuteten Richtung, so daß der aus der Bohrung 62 austretende Strahl 78 unter
einem Winkel Θ gegen die Plättchennormale 80 austritt, die üblicherweise mit der Mittellinie 66 zusammenfallt.
Die Größe des Abstandes δ von der Mittel- !5 achse ergibt eine entsprechende Ablenkung von der
Normalen um einen Winkel Θ.
Fig. 8A bis 8J zeigen eine beispielsweise Folge von
Verfahrensschritten zur Herstellung einer Düse oder einer Anzahl von Düsen gemäß der vorliegenden Erfindung.
Wie in Fig. 8A gezeigt, wird ein p-oder n-leitendes,
in der(100)-Ebene geschnittenes Siliciumplättchen
82 mit einer chemisch-mechanisch polierten Oberfläche zunächst gereinigt. Dann wird, wie in Fig. 8B
gezeigt, das Siliciumplättchen 82 zur Bildung eines SiO2-FiImS 84 mit einer Stärke von etwa 4500 Ä auf der
Vorder- und Rückseite des Plättchens in Dampf von clwa 10000C oxidiert, worauf anschließend eine Schicht
Tür das Membranmaterial 86 aus hochschmelzendem oder feuerfestem Glas auf der vorderen SiO2-Schicht 84
niedergeschlagen wird. Als nächstes wird dann gemäß Fig. 8C das Halbleiterplättchen 82 auf seiner Vorder-
und Rückseite mit einer Photolackschicht 88 überzogen. Anschließend wird, wie Fig. 8D zeigt, auf der
Rückseite des Halbleiterplättchens in der Photolackschicht 88 ein Muster 90 für die Bohrungen belichtet.
Als nächstes wird, wie in Fig. 8E dargestellt, die SiO2-Schicht
in der Öffnung 90 durch gepufferte Fluorwasserstoffsäure bis aufdie rückseitige Oberfläche 92 des Plättchcns
82 abgeätzt. Wie in Fig. 8F zu sehen, wird anschließend das Silicium in der Öffnung 90 durch ein
anisotropes Ätzmittel, beispielsweise durch eine Äthylendiamin-Pyroehatecol
und Wasser enthaltende Lösung bei 110 bis 12O0C zur Bildung einer sich verjüngenden
Öffnung in dem Plättchen abgeätzt. Die sich verjüngende Öffnung wird durch die Seitenwände 94
und 96 bestimmt. Die Ätzdauer beträgt im allgemeinen zwischen 3 bis 4 Std. bei einer Dicke des Substrats von
etwa 0,2 mm. Anschließend wird gemäß Fig. 8G ein Bohrungsmuster 97 auf der vorderen Photolackschicht
88 belichtet und entwickelt, wobei das Muster der einzelnen Bohrungen von der Mittelachse 98 bis zu einer
Achse 100 um einen Abstand <5 verschoben ist. Anschließend wird gemäß Fig. SH die Membranschicht
86 bis zu einer Frontoberfläche 102 der SiO2-Schicht 84 geätzt. Anschließend wird gemäß F i g. 8E die
SiO2-Schicht 84 unmittelbar unter dem Bohrungsmuster
102 abgeätzt, so daß die Austrittsöffnung 104 übrigbleibt. Anschließend wird, wie F i g. 8J zeigt, die Photolackschicht
88 von der Vorder- und Rückseite des Plattchens entfernt und dann kann die Düse zur Verhinderung
von Korrosion und dergleichen oxidiert werden.
Fig. 9A zeigt ein Siliciumplättchen 106 mit einer (lOO)-Kristallorientierung, bei dem die Plättchennormale
108 mit der (100)-Kristallachse 110 ausgerichtet
ist, die innerhalb des Plättchens 106 durch Punkte 112 angedeutet ist. Das Plättchen 106 weist eine geätzte Öffnung
in Form eines Pyramidenstumpfs mit einer polygonalen Eingangsöffnung 114 auf, die sich zu einer polygonalen
Auslaßöffnung 116 verjüngt, so daß eine von der Einlaßöffnung nach der Auslaßöffnung 116 strömende
Flüssigkeit im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche des Halbleiterplättchens strömt. Fig. 9B ist eine
Endansicht der Öffnung 116. Die aus der Öffnung 116 austretende Flüssigkeit hat unmittelbar bei Austreten
aus der Auslaßöffnung einen rechteckigen Querschnitt. Wegen der Oberflächenspannung der Flüssigkeit wird
der Querschnitt des Strahls kurz danach kreisförmig.
In Fig. 1OA ist ein Siliciumplättchen 118 mit einer (lOO)-Kristallorientierung dargestellt, bei der die Plättchennormale
120 mit der (lOO)-Kristallachse 122 einen Winkel δ bildet. Die Kristallorientierung ist schematisch
durch Punkte 124 innerhalb des Plättchens 118 angedeutet. Auf der Oberfläche 126 des Plättchens 118
wird in dem teilweise durch die Punkte 128 und 130 definierten Bereich ein Ätzmittel zur Einwirkung gebracht.
Dieser Bereich definiert eine große Öffnung 131. Die Ätzung schreitet in dem Plättchen längs der Wand 129
schneller fort und langsamer längs der Seitenwand 132, was sich aus der kristallographischen Ausrichtung des
Plättchens ergibt, so daß die kleinere Auslaßöffnung 134 in bezug aufdie Einlaßöffnung und die Längsmittelachse
120 der größeren Öffnung 131 außermittig liegt. Fig. 1OB zeigt eine Endansicht der kleineren Auslaßöffnung
134, deren Form nicht rechteckig ist. Man sieht ferner, daß die kleinere Auslaßöffnung 134 außermittig
liegt in bezug auf die Längsmittelachse der größeren Einlaßöffnung 131. In diesem Fall fällt die Längsmittelachse
der größeren Öffnung mit der Linie 120 zusammen, die die Plättchennormale darstellt. Wenn nun eine
Flüssigkeit von der größeren Einlaßöffnung 131 nach der kleineren Auslaßöffnung 134 strömt, dann verläßt
der Strahl die Auslaßöffnung 134 unter einem Winkel gegen die Plättchennormale.
Fig. 11 zeigt ein Siliciumplättchen 136 mit einer (lOO)-Kristallorientierung, bei welchem die Plättchennormale
138 in bezug auf die (100)-Kristallachse 140 um einen Winkel δ geneigt ist. In dem Halbleiterplättchen
wird durch Ätzen von der Vorderseite 144 nach der Rückseite 146 eine Öffnung 142 hergestellt. Eine weitere
Öffnung 148 wird durch Ätzen in umgekehrter Richtung, d. h. von der Rückseite 146 nach der Vorderseite
144 hergestellt. Wenn eine Flüssigkeit von einer nicht gezeigten Quelle auf die Rückseite 146 auftritt,
dann ist die durch die Öffnung 142 fließende Strömung genau wie bei einer klassischen Bohrung, da die Flüssigkeit
die Seitenwände der Bohrung nicht berührt und die Bahn des Strahls im wesentlichen normal zur Vorderseite
144 des Plättchens verläuft. Da andererseits die durch die Bohrung 148 ausströmende Flüssigkeit die Wände
der Bohrung berührt, bildet die Bahn des austretenden Strahls mit der Flächennormalen der Vorderseite 144
des Plättchens 136 einen Winkel. Wie bereits beschrieben, kann man mit Hilfe nichtparalleler Bahnen der
Tintenstrahlen Zeile für Zeile auf einem Druckträger zum Abdruck bringen. Wie die in Fig. 11 dargestellten
Bohrungen für eine Düsenanordnung hergestellt werden, wird in Zusammenhang mit Fig. 12 beschrieben.
Fig. 12A bis 12H zeigen schematisch eine Folge von Verfahrensschritten zum Herstellen von Bohrungen
oder Öffnungen in einem einkristallinen Siliciumplättchen zur Bildung einer Düsenanordnung. Selbstverständlich
können die nachfolgenden Verfahrensschritte auch in einer anderen Reihenfolge durchgeführt werden.
Weiterhin lassen sich auch andere Schichtmaterialien für die gleichen, noch zu beschreibenden Funktio-
nen einsetzen. Die Bildung von Schichten, ihre Größe und Dicke kann ebenfalls verändert werden.
Die Herstellung einer Anordnung von Düsen in einem Siliciumplättchen, bei dem die Flächennormale
des Plättchens mit der (1 OO)-Kristallachse einen Winkel 5
bildet, wie dies in Fig. 10 und 11 erläutert ist, kann wie folgt durchgeführt werden. Wie aus Fig. 12A zu sehen,
wird ein p- oder η-leitendes Siliciumplättchen 154 mit (lOO)-Orientierung, das chemisch-mechanisch polierte
Oberflächen aufweist, zunächst gereinigt. Anschließend wird gemäß Fig. 12B das Siliciumplättchen 154 in
Dampf von etwa 10000C zur Bildung eines SiO2-FiImS
156 von etwa 4500 Ä Dicke auf der Vorder- und Rückseite des Plättchens oxidiert. Anschließend wird, wie
Fig. 12C zeigt, das so oxidierte Plättchen auf der Vorder- und Rückseite mit einem Photolackmaterial 158
überzogen. Dann werden, wie in Fig. 12Dgezeigt, Bohrungen
160 auf der Photolackschicht 158 auf der Vorderseite belichtet und entwickelt und Bohrungen 162 werden
auf der Photolackschicht 158 auf der Rückseite des Plättchens belichtet und entwickelt. Anschließend wird
gemäß Fig. 12E die in den Bohrungen 160und 162freiliegende
SiO:-Schicht mit gepufferter Fluorwasserstoffsäure
abgeätzt, worauf das Photolackmaterial 158 von dem Plättchen abgezogen wird. Wie in Fig. 12Fgezeigt,
wird anschließend das Silicium in den Bohrungen 160 und 162 mit einem anisotropen Ätzmittel, beispielsweise
mit einer Äthyldiamin-Pyrochatecol und Wasser enthaltenden Lösung bei 110 bis 1200C zur Bildung der
sich verjüngenden Bohrungen 164 bzw. 166 in dem Plättchen 154 geätzt. Der Ätzvorgang ist dann beendet,
wenn die Bohrungen auf der jeweils gegenüberliegenden Seite des Plättchens auftauchen. Die Ätzdauer
beträgt für ein Substrat von etwa 0,2 mm Dicke in der Größenordnung zwischen 3 und 4 Std. Wie in Fig. 12G
gezeigt, wird anschließend die SiO2-Schicht 156 von
dem Plättchen 154 abgeätzt, so daß man ein Siliciumplättchen mit Bohrungen 164 und 166 erhält. Auf einem
solchen Plättchen 154 wird dann durch Oxidieren eine Schicht 168 erzeugt. Die Oxidschicht 168 verhindert
eine Korrosion durch die in einem Tintenstrahldrucker verwendeten Tinten. Selbstverständlich können auch
andere korrosionsfeste Schichten benutzt werden.
Fig. 13 zeigt im Querschnitt einen Tintenstrahldrukker
170, der eine gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellte Düsenanordnung verwendet. Eine Düssnplatte
172 ist in einem Siliciumplättchen mit zwei Reihen von seitlich gegeneinander versetzten Düsen 174
und 176 hergestellt. Der Mittenabstand zwischen den Düsen einer Reihe und den Düsen der nächsten Reihe
liegt in der Größenordnung von etwa 0,4 mm. Die Düsen 174 in der einen Reihe sind dabei so aufgebaut,
daß ein daraus austretender Strahl einer Bahn folgt, die gegenüber der Flächennormalen der Austrittsebene der
Düse um etwa 1 Grad nach unten geneigt ist. Die Düsen 174 der anderen Reihe sind so aufgebaut, daß ein daraus
austretender Strahl gegenüber der Flächennormalen der Austrittsebene der Düse um einen Winkel von angenähert
1 Grad nach oben abweicht. Für eine derartige Düsenanordnung wird man die einzelnen Düsen als
Membrandüsen gemäß dem im Zusammenhang mit
den Fig. 8Abis8J beschriebenen Verfahren herstellen.
Selbstverständlich können auch mehr als zwei Reihen von Düsen benutzt werden, doch sind hier der Einfachheit
halber nur zwei Reihen dargestellt. Außerdem könnten die aus den einzelnen Düsen austretenden
Strahlen alle nach unten oder alle nach oben gerichtet sein. Andererseits ist es auch durchaus möglich, daß die
aus einer Reihe von Düsen austretenden Strahlen in einer Richtung senkrecht zur Austrittsebene der Düse
austreten, während alle anderen Düsen Strahlen liefern, deren Bahnen nicht parallel zur Flächennormalc verlaufen.
Ferner können Düsen mit polygonalen Austriltsöffnungen, die gemäß dem im Zusammenhang mit Fig. 12
beschriebenen Verfahren hergestellt wurden, anstelle der Membrandüsen in der Düsenanordnung verwendet
werden. In einem solchen Fall würden die aus einer Reihe von Düsen austretenden Strahlen senkrecht zur
Austrittsebene der Anordnung verlaufen, während die Bahnen der aus der anderen Reihe von Düsen stammenden
Strahlen einer von der Normalen abweichenden Bahn folgen würden.
Eine Aufladeelektrode 178 mit einer Seitenabmessung von 1,52 mm ist in einem Abstand von 0,5 mm von
der Düsenplatte angeordnet. Die Aufladeelektrode kann beispielsweise so aufgebaut sein wie dies in F i g. 3
gezeigt ist. Eine Ablenk- und Ablaufanordnung 180 mit einer Seitenabmessung von 7,6 mm ist in einem
Abstand von 1,3 mm von der Aufladeelektrode 178 angeordnet. Eine Hochspannungs-Ablenkplatte 182 ist an
einer Hochspannungsquelle (nicht gezeigt) angeschlossen. Die Hochspannung kann in der Größenordnung
von 1 bis 2 kV liegen. Die andere Ablenkelektrode 184 ist mit Erdpotential verbunden. Die Ablenkelektrode
184 kann aus porösem Material bestehen und als Ablauf dienen und an einem Rohr 186, das an einer Vakuumpumpe
und einem Tintenvorrat (nicht gezeigt) angeschlossen sein, so daß die in den Ablauf eindringende
Tinte durch das poröse Material und das Rohr 186 Tür einen Rücklauf in den Tintenvorrat abgesaugt werden
kann. Wie bereits erwähnt, hat die Benutzung von nichtparallelen Strahlbahnen zur Folge, daß die dem Ablauf
zugeführten Tröpfchenströme die Ablenkplatte und den Ablauf praktisch am gleichen Punkt treffen, während
man wegen der unterschiedlichen Bahnen keine übermäßige Spannungen benötigt. Ein Druckträger ist
in einem Abstand von etwa 1,8 mm von der Ablenk- und Ablaufeinheit 180 angeordnet und die nicht dem Ablauf
zugeführten, aus den Düsen 174 und 176 stammenden Tröpfchen bilden, Zeile für Zeile, auf dem Druckmedium
eine aus miteinander abwechselnden Punktpositionen bestehende Zeile. Der Druckträger 188, der aus
Papier bestehen kann, wird nach Abdruck jeder Zeile in Richtung des Pfeils 1.90 bewegt.
In Fig. 14 ist eine Membrandüse gezeigt, bei der die Achse der Bohrung außerhalb der Mitte liegt, wodurch
sich eine Bahn eines Strahls ergibt, welche mit der Flächennormalen der Membran einen Winkel von etwa
1 Grad ergibt. In F i g. 15 ist eine Anzahl von Kurven zur Bestimmung des Ablenkwinkels, abhängig vom
Abstand der Bohrung von der Mitte und von der Größe der Bohrung dargestellt. In Fig. 14 ist der Membrananteil
192 einer Membran-Siliciumdüse gezeigt, die gemäß Fig. 8 hergestellt ist, bei welcher die Mittelachse
196 der Austrittsbohrung 194 einen Abstand δ von der Mittelachse 198 der Membran aufweist. Die Kurven
200, 202, 204, 206 und 208 in Fig. 15 stellen für einen vorgegebenen Druck die verschiedenen Verhältnisse
der Durchmesser von Düse und Membran dar.
Die zur Bestimmung des Ablenkwinkels gegen die Flächennormale der Anordnung von Fig. 15 verwendeten
Gleichungen ergeben sich wie folgt:
Durchmesserverhältnis Düse zu Membran = —
Anlage der Düsenbohrung (in %) = — x 100
lur Abmessungen, wobei:
D die Scilenabmessung der quadratischen Membran, d der Durchmesser der Bohrung in der Membran;
I)
a - τ
ö der Abstand der Mittelachse der Membran von der
Mittelachse der Bohrung.
Für die in Fig. 14 gegebenen Abmessungen beträgt das Verhältnis Düse zu Membran
d_
D
3,85
- 0,26 und die
Ablage der Bohrung in %
15
20
= JL χ 100 =
a
a
1,925
= 47%.
Für ein Verhältnis von Düse zu Membran von angenähert 0,26 wird die Kurve 206in Fig. 15 zur Bestimmung
des von der Flächennormalen abweichenden Winkels des Strahls benutzt. Wie zuvor gesagt, beträgt die Ablage
der Bohrung ungefähr47%, so daß der Punkt 210auf der Kurve 206 in Fig. 15 den Winkel des Strahls gegenüber
der Normalen für die Membrandüse in Fig. 14 angibt. Man sieht aus F i g. 15, daß dieser Winkel gegenüber
der Normalen bei ungefähr 1 Grad liegt. Für die hier dargestellte Anordnung der Bohrung oberhalb der
Mittelachse der Membran würde der austretende Strahl um einen Winkel von 1 Grad nach unten von der Flächennormalen
abweichen. Wenn andererseits die Bohrung der Membrandüse unterhalb der Mittelachse der
Membran angeordnet wäre, dann würde der Strahl unter einem Winkel von 1 Grad nach oben von der Flächennormale
austreten. Für das gezeigte Diagramm sind Ablenkwinkel bis gegen 4 Grad leicht erzielbar.
Wie bereits erläutert, ist es bei der vorliegenden Erfindung möglich, eine einzige Ablauf- und Ablenkeinheit
mit den üblichen normalen Ablenkspannungen zu benutzen, wobei die von den verschiedenen Reihen von
Düsen dem Ablauf zugeführten Tröpfchen praktisch in der gleichen Position im Ablauf aufgefangen werden.
Dies läßt sich noch besser aus den Fig. 16, 17 und 18 erkennen. Fig. 16 zeigt ein Ablenksystem mit einer
Hochspannungsablenkplatte 212, einer Ablenkplatte 214 und einen Ablauf 216. Ein Tröpfchenstrom 218 hat
eine Geschwindigkeit Vd und verläuft unter einem Winkel
0in bezug auf die Flächennormale der Düsenanordnung, wobei die Tröpfchen an einem Punkt 220 um
einen Abstand ε von der Längsmittelachse 120 zwischen den Ablenkplatten entfernt sind. Die folgenden Parameter
und Gleichungen definieren die Bahn der einem Ablauf zugeführten Tröpfchen für ein System gemäß
Fig. 16, wobei:
60
V1, = Tröpfchengeschwindigkeit V = Ablenkspannung
S = Plattenabstand
Q1, = Ladung der Tröpfchen
S = Plattenabstand
Q1, = Ladung der Tröpfchen
m,i = Masse der Tröpfchen
a = Beschleunigung
ν = Abstand eines Tröpfchens von der .Y-Achse beim
Einlaufen zwischen die Ablenkplatten
(1) V11x . = ^cos 0(Anfangsgeschwindigkeit längs der
JT-Achse)
(2) V111. = V11 sin ©(Anfangsgeschwindigkeit längs der
X-Achse)
— V
-Vi)
(3) F-mja=-fQd~a=-f -^
5 S
S m,i
(die auf ein Tröpfchen einwirkende Kraft)
(die auf ein Tröpfchen einwirkende Kraft)
(4) x= V0x t =(K/Cos0)r
(5) y = Λ + V1n t + j at:
(6) y = - ε + V1, sin Θ ι + y at2
/·7\ , Κι si" ö ,' χ1
(7) ν= -f H—- ν H a —ϊ i—
y Vj cos Θ 2 V]1 cos- Θ
Für ein Tröpfchen eines unteren Strahls (nach oben gerichtet mit einem Abstand mach unten):
1 y2
(8) y,_ = -c+ tan Θα·+ - a —- '
2 V]1 cost Θ
Für Tröpfchen im oberen Strahl (nicht gezeigt) nach unten gerichtet um f nach oben verschoben:
(9) yu = £ + tan Θ χ + — a
2 V]1 cos2 Θ '
Fig. 17 zeigt eine zunächst der Flächennormalen folgende
Bahn eines Strahls, der dem Ablauf 216 zugeleitet wird. Die folgenden Gleichungen beschreiben die Y-Strahlbahn
in einem solchen Fall.
(10) y-ja ^
(Ablaufbedingung: X = L, S = -5/2).
(Ablaufbedingung: X = L, S = -5/2).
Hält man alle Veränderlichen (Geschwindigkeit, Spannungen usw.) konstant, dann vereinigen sich die
Bahnen der oberen und unteren Tröpfchenströme, wie sie durch die Gleichungen (8) und (9) beschrieben
werden, an ungefähr dem gleichen Ort wie der durch Gleichung (10) beschriebene Tröpfchenstrom, wenn
ε = L tan & Da X = L ist, ergibt sich:
(11) yL=yu =— a —, ,— Ä -r-
2 V-, cor Θ 2
da
(12) cos2 Θ = 1 - Θ1 = 1 - Ctjj) = °,'
(für©= 1°).
(für©= 1°).
0,9997
Fig. 18 zeigt die Bahnen von zwei Reihen von Düsen ausgehenden Strahlen, wenn die von der oberen Reihe
ausgehenden Strahlen 224 um einen Winkel Θ gegenüber der Flächennormalen der Düsenplatte nach unten
abgelenkt und die untere Reihe von Strahlen 226 in einem Winkel Θ in bezug auf die Flächennormale der
Düsenplatte nach oben gerichtet ist. Man sieht sofort, daß dies einer der schlimmsten Fälle für nicht parallele
Bahnen von Strahlen darstellt, die von verschiedenen Reihen von Düsen ausgehen und in einem einzigen Ab-
13
lauf abgeleitet werden sollen. Für eine Ablenkplatte mit
einer Länge von 0,8 mm und einem Winkel θ von 1 ° wird ε = 7,6 : 57,3 = 0,1 mm. Dies sind die Abmessungen
für den in Fig. 13 gezeigten Tintenstrahldrucker und man sieht, daß bei diesen Abmessungen die Tinten- s
strahlen 224 und 226 dann, wenn ungefähr die gleichen Ablenkspannungen an beiden Tintenstrahlen abgelenk;
sind, an praktisch dergleichen Stelle auf dem Ablauf auftreffen.
Fig. 19 zeigt eine Düsenplatte 228 mit Reihen 230, 232,234 und 236 von gegeneinander versetzt angeordneten
Düsen, wobei die von den Reihen 230 bzw. 232 ausgehenden Strahlen 238 bzw. 240 in einem Winkel nach
unten auf den Druckträger 242 gerichtet sind, während die von den Reihen 234 bzw. 236 ausgehenden Strahlen
244 bzw. 246 in einem Winkel nach oben auf den Druckträger 242 gerichtet sind. Man sieht, daß die Strecke, die
die einzelnen Tröpfchen von den Reihen 230 und 236 zurückzulegen haben, praktisch gleich groß sind. Ferner
sieht man, daß die Strecke, die die Tröpfchen von den Reihen 230 und 236 zurückzulegen haben, größer ist als
die Strecke, die die den Reihen 232 und 234 entstammenden Tröpfchen zurückzulegen haben. Demgemäß
muß den von den Reihen 230 und 236 ausgehenden Tröpfchen die Drucksignale um einen Zeitabschnitt A
früher zugeführt werden als die den von den Reihen 232 und 234ausgehenden Tröpfchen zuzuführenden Drucksignale.
Mit anderen Worten die den von den Reihen 232 und 234 ausgehenden Tröpfchen zugeführten
Drucksignale werden gegenüber den von den Reihen 230 und 236 ausgehenden Tröpfchen zugeführten
Drucksignalen verzögert. Dies ist noch deutlicher zu sehen in Fig. 20, wobei Fig. 20A und Fig. 20B die den
von den Reihen 230 und 236 ausgehenden Tröpfchen zugeführten Drucksignale darstellen, während die in
Fig. 2OB und 20C dargestellten Drucksignale den von den Reihen 232 und 234 kommenden Tröpfchen zugeleitet
werden. Da die Drucksignale, die den von den Reihen 230 und 236 kommenden Tröpfchen zugeführt werden
zur gleichen Zeit auftreten, können sie von einer gemeinsamen Taktimpulsquelle abgeleitet werden. Die
an die Tröpfchen der Reihen 232 und 234 angelegten Drucksignale können von einer anderen gemeinsamen
Impulsquelle abgeleitet werden. Daher kann man aber für ein System der in Fig. 19 gezeigten Art die Anzahl
der Takt- und Verzögerungsnetzwerke gegenüber bekannten, mit seitlicher Versetzung arbeitenden
Drucksystemen, die für jede Reihe eine andere Taktfolge erfordern, um den Faktor 2 verringern. Es ist
jedoch einleuchtend, daß der tatsächliche Unterschied in den einzelnen von den Tröpfchen zu durchlaufende.i
Strecken in Wirklichkeit sehr klein ist, so daß bei vielen Anwendungsgebieten Verzögerungsnetzwerke nicht
notwendig sind. Der Abstand zwischen benachbarten Reihen in Fig. 19 beträgt etwa 0,4 mm und der Abstand
zwischen der Düsenplatte 228 und dem Druckträger 242 beträgt 12.7 mm, so daß die maximale Bahnlängendifferenz
der Tröpfchenstrahlen etwa 0,01 mm beträgt. Für viele Anwendungsgebiete ist der durch diese Bahnlängendifferenz
hervorgerufene Fehler im Auftreffpunkt der Tröpfchen vernachlässigbar klein, so daß Verzögerungsnetzwerke
nicht erforderlich sind, was die Schaltung wesentlich vereinfacht.
Hierzu 10 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
- Patentansprüche:l.Tintenstrahlmatrixdrucker bei dem jeweils mindestens ein Teil einer Punktzeile, die aus einer Anzahl Druckpunktpositionen auf dem zu bedrukkenden Papier besteht, gleichzeitig gedruckt wird, mit einem Düsenfeld, bestehend aus mindestens zwei sowohl untereinander als auch gegenüber der Punktzeile parallelen Reihen von gegeneinander versetzt angeordneten Düsen, deren Tintentröpfchen durch eine Aufladeelektrode wahlweise aufladbar sind, wodurch die aufgeladenen Tintentröpfchen in eine Tintenauffangvorrichtung und die unaufgeladenen auf das zu bedruckende Papier gelangen, dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Düsen einer jeden Reihe (4,6,8) gegenüber den entsprechenden Düsen der jeweils benachbarten Reihe um eine Druckpunktposition, in Richtung der Punktzeile gesehen, versetzt angeordnet sind und einen Teilungsabstand aufweisen, der gleich ist dem Produkt aus den Druckpunktpositionen einer Punktzeile mal der Anzahl von Düsenreihen, und daß die Längsachsen der Düsen einer jeden Düsenspalte derart unterschiedlich geneigt sind gegenüber der Flächennormaien auf die die Düsen aufweisende Platte (2), daß alle die Düsen des Düsenfeldes verlassenden, nicht abgelenkten Tintentröpfchen auf einer gemeinsamen Punktzeile (12) auf dem zu bedruckenden Papier (14) auftreffen.
- 2. Tintenstrahlmatrixdrucker nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Längsachsen von einer Reihe von Düsen (174) solch eine Neigung aufweisen, daß die austretenden Tintentröpfchen unter einem Winkel gegen die Flächennormale der Düsenplatte (172) nach unten gerichtet auf eine erste Gruppe einander nicht benachbarter Druckpunktpositionen in einer Punktieile auf das zu bedruckende Papier (188) gerichtet werden, während die Längsachsen von der zweiten Reihe von Düsen (176) solche eine Neigung aufweisen, daß die austretenden Tintentröpfchen unter einem gegen die Flächennormale der Düsenplatte (172) nach oben gerichteten Winkel auf eine zweite Gruppe von einander nicht benachbarten Druckpunktpositionen in einer Punktzeile auf das zu bedruckende Papier (188) gerichtet werden.
- 3. Tintenstrahlmatrixdrucker nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Düsenplatte ein Siliciumplüttchen (118,136,154) mit einer (lOO)-Kri-Stallorientierung dient, dessen Plattchennormale (120,138)nichtmitder(100)-Kristallachse(122,140) zusammenfällt und daß die darin gebildeten Düsen Eintritts- und Austrittsöffnungen (131, 134) unterschiedliche polygonale Querschnittsflächen aufweisen, wobei die Achse der Austrittsöffnung (134) jeder Düse nicht mit der Längsmittelachse der Eintrittsöffnung (131) der Düse ausgerichtet ist.
- 4. Tintenstrahlmatrixdrucker nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Düsenplatte ein Siliciumplättchen (106) mit einer (lOO)-Kristallorientierung dient, dessen Plättchennormale (108) mit der (lOOj-Kristallachse ausgerichtet ist, daß jede Düse eine Eintrittsöll'nung (114) mit rechteckigem Querschnitt auf einer Oberfläche des Plättchens auf- <i5 weist, die sich nach einer an der anderen Oberfläche des Plättchens liegenden Membrane (42) verjüngt, die eine kreisförmige Bohrung (44) aufweist und daß die Achsen dieser kreisförmigen Bohrungen (44) in mindestens einer Reihe von Düsen gegenüber der Längsmittelachse der entsprechenden HintriUsöffnungen (114) der Düsen versetzt angeordnet sind.
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