DE2411061A1 - Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage - Google Patents

Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage

Info

Publication number
DE2411061A1
DE2411061A1 DE2411061A DE2411061A DE2411061A1 DE 2411061 A1 DE2411061 A1 DE 2411061A1 DE 2411061 A DE2411061 A DE 2411061A DE 2411061 A DE2411061 A DE 2411061A DE 2411061 A1 DE2411061 A1 DE 2411061A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
temperature
range
layers
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2411061A
Other languages
English (en)
Inventor
William Anthony Royer
Louis Richard Testardi
Jack Harry Wernick
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co Inc filed Critical Western Electric Co Inc
Publication of DE2411061A1 publication Critical patent/DE2411061A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B26HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
    • B26BHAND-HELD CUTTING TOOLS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B26B21/00Razors of the open or knife type; Safety razors or other shaving implements of the planing type; Hair-trimming devices involving a razor-blade; Equipment therefor
    • B26B21/54Razor-blades
    • B26B21/58Razor-blades characterised by the material
    • B26B21/60Razor-blades characterised by the material by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C27/00Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups C22C14/00 or C22C16/00
    • C22C27/04Alloys based on tungsten or molybdenum
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/02Parts of sliding-contact bearings
    • F16C33/04Brasses; Bushes; Linings
    • F16C33/06Sliding surface mainly made of metal
    • F16C33/12Structural composition; Use of special materials or surface treatments, e.g. for rust-proofing
    • F16C33/121Use of special materials
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2204/00Metallic materials; Alloys
    • F16C2204/40Alloys based on refractory metals
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2204/00Metallic materials; Alloys
    • F16C2204/40Alloys based on refractory metals
    • F16C2204/46Alloys based on molybdenum
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S505/00Superconductor technology: apparatus, material, process
    • Y10S505/80Material per se process of making same
    • Y10S505/815Process of making per se
    • Y10S505/816Sputtering, including coating, forming, or etching
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/261In terms of molecular thickness or light wave length
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/266Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension of base or substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Description

BLUMBACH . WESER ■ BERGEN & KRAMER
PATENTANWÄLTE IN WIESBADEN UMO MÜNCHEN DIPL-ING. P. G. ELUMBACH · DIPL.-PHYS. Dr. W. WESER · DIPL-ING. DR. JUR. P. BERGEN DIPL-ING. R. KRAMER
«2 WIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 . TEL. (00121) 562943, 5619 98 MÖNCHEN
Western Electric Company Royer-1-2-23
Incorporated
New York, N.Y. 241 1061
Verfahren zum Herstellen einer Schicht auf einer Unterlage
Die Erfindung bezieht «ich auf ein Verfahren zum Herstellen eines Körpers mit einer Zusammensetzung, die aus durch die Formeln Mo. , . cRuo un& w? 4 v,· 3 6^u? dargestellten Zusammensetzungen ausgewählt ist, wobei die Formelindizes relative Atomzahlen darstellen. Derartige Körper dienen als auf einer Unterlage aufgebrachte Schichten verschiedenen Zwecken, z.B. der Passivierung, dem Karosionsschutz, der Härte usw.
In der modernen Technik finden Schichtmaterialien in extrem weitem Umfang Verwendung. Ihre Zusammensetzung reicht von organischen Polymeren zu anorganischen oder hochschmelzenden Oxiden. Die mit derartigen Schichten versehenen Vorrichtungen bzw. Körper haben einen ebenso weiten Anwendungsbereich, wobei ihre Verwendung von Eigenschaften, wie Passivierung, Schmierung und Karosionsbeständigkeit abhängig ist.
Ein Katalog von Materialien und deren Verwendung wäre für diese Zwecke bei weitem zu umfangreich. Ein solcher Katalog
409839/0923
würde Elementarschichten, z.B. Gold zur Verwendung als elektrische Kontakte; Legierungsschichten, z.B. Tantalnitrid zur Verwendung als Widerstände; niedergeschlagene Oxidschichten, z.B. Kieselerde zur Verwendung als Passivierungsschichten; in situ oxidierte Schichten, z.B. Tantaloxid zur Verwendung als Kondensatordielektriken; polymere Schichten, z.B. aus Polytetrafluoräthylen zur Verwendung als Schmiermittelschichten usw. umfassen.
Intermetallische Schichten aus Molybdän und Ruthenium oder Wolfram und Ruthenium, die bei niedriger Temperatur beispielsweise durch Aufstäuben niedergeschlagen sind, zeigen eine Vielzahl von Schichteigenschaften, die für Vorrichtungen von Interesse sind. Derartige Schichten haben die Nennzusammensetzung Mo5Ru- und W3RUp; geeignete Zusammensetzungen, schwanken über - 20 Atomprozent um die vorgenannten Atomformelwerte, und sie können generell dargestellt werden durch Mo4J,. qRu2 und W2 4 b's 3 6Ru2* Das erfrindun9s9emäße Verfahren der eingangs angegebenen Art zeichnet sich dadurch aus, daß das Material zur Erzielung wählbar geänderter Körpereigenschaften als Schicht von 300 S bis 10 Mikrometer Dicke auf einer Unterlage durch Aufstäuben niedergeschlagenxwird, wobei die Unterlage auf einer solchen Temperatur gehalten wird, daß die Schichttemperatur während des Niederschlagens im Bereich von 100 bis 1000 C, vorzugsweise im Bereich von etwa 400 bis 700° C liegt. Die.Optimierung gewisser Eigenschaften bei bestimmten Anwendungsfällen
409839/0923'
kann ein Niederschlagen außerhalb des vorgenannten Bereichs erforderlich machen. Die interessierenden Eigenschaften umfassen u.a. einen Härtewert nahe demjenigen von Saphir^Beständigkeit gegenüber vielen azidischen und kaustischen Medien; Reflexionsvermögen über das sichtbare Spektrum ähnlich demjenigen von Aluminium; und einstellbare Werte des spezifischen Widerstandes und des Widerstands-Temperaturkoeffizienten zur Anpassung an verschiedene Schaltungsbedürfnisse.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine Frontansicht einer auf einer Unterlage niedergeschlagenen Schicht der erfindungsgemäßen Zusammensetzung;
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht auf einen Teil einer integrierten Schaltung mit aus dem hier beschriebenen Schichtmaterial bestehenden Elementen;
Fig. 3 eine perspektivische, teilweise geschnittene Ansicht eines Schneidgeräts, das mit einer Schihtzusammensetzung gemäß der Erfindung überzogen ist;
Fig. 4 eine teilweise geschnittene Frontansicht eines Lasers innerhalb eines durch reflektierende Oberflächen definierten Resonators, von denen wenigstens eine eine erfindungsgemäß hergestellte Schicht aufweist; .
Fig. 5 eine teilweise geschnittene perspektivische Ansicht auf eine Vorrichtung mit einem Lager, dessen Oberfläche durch eine erfindungsgemäß hergestellte Schicht gebildet ist;
409839/0923
Fig. 6 ein Koordinatendiagramm mit auf der Ordinate aufgetragenen Knoop Härtezahlen und auf der Abszisse aufgetragenen NiederSchlagstemperaturen, das die Beziehung zwischen diesen beiden Parametern für Materialien aus den beiden Nennzusammensetzungen der Erfindung zeigt;
Fig. 7 ein Koordinatendiagramm mit auf verschiedenen Ordinatenparametern aufgetragenen Werten des spezifischen Widerstandes und des Widerstands-Temperaturkoeffizienten und auf der Abszisse aufgetragenen Werten der Niederschlagstemperatur, das die Beziehung dieser Parameter für beide Zusammensetzungsgruppen gemäß der Erfindung zeigt; und
Fig. 8 ein Koordinatendiagramm mit dem Reflexionsvermögen relativ zum niedergeschlagenen Aluminium auf der Ordinate und der Wellenlänge auf der Abszisse, das diese Parameter für die beiden Schichtzusammen— Setzungen gemäß der Erfindung zeigt.
A. Schichtzusammensetzung
Der Einfachheit halber wird die Erfindung anhand der Nennzusammensetzungen Mo5Ru3 und W3RUp erläutert. Wenn auch die Nennformeln die Atomverhältnisse der angegebenen Elemente angeben, hat dies keine Bedeutung für die Eigenschaften bzw. Natur der Schichtmaterialien. So wurde beispielsweise nicht festgestellt, daß die Zusammensetzungen echte, feste, intermetallische Verbindungen sind. Tatsächlich sind die Körpereigenschaften für den Gesamtbereich der Zusammensetzungen von Interesse, welche durch die Formeln Mo 4V1-J3 cRu3 unc^ W2 4 bis 3 Ruρ beschrieben werden können.
409839/0923
Die erfind.ungsgemäßen Schichten werden zweckmäßiger Weise
durch Zerstäuben unter Verwendung von Targets der vorgenannten Zusammensetzungen hergestellt. Derartige Targets
können Oberflächen aus Sigma—Phasen-Material haben oder beispielsweise aus feinkörnigen Mischungen der angegebenen Elemente oder einer anderen Zusammensetzung, die die Schichtmaterialien ergibt, gebildet werden.
Zusammensetzungen der vorgenannten Art sind die "wesentlichen" Zusammensetzungen der Erfindung. Verschiedene Anwendungsfälle können zur Steigerung solcher Eigenschaften wie spezifische Absorptionen für besondere Wellenlängen der elektromagnetischen Strahlung; Fluoreszenz; magnetische Eigenschaften; Adhäsion usw. Beimischungen bzw. Zusätze erforderlich machen.
B. Struktur
Die erfindungsgemäß angestrebten Eigenschaften sind mit der Schichtstruktur eng verknüpft. Die Phase der Schicht wurde
bisher nicht definitiv identifiziert; es wird jedoch angenommen, daß sie eine Niedertemperaturphase ist, welche sich von derjenigen der Sigmaphase unterscheidet, die notwendigerweise bei hohen Temperaturen hergestellten oder behandelten Grundmaterial zugeordnet ist. Die Eigenschaften gehen nicht auf die zweidimensionale Natur der Schichten zurück; und es hat sich gezeigt, daß die Eigenschaften für den gesamten
Dicken b ereich von einem Bruchteil eines Mikrometers bis zu
;09839/O923
vielen Mikrometern (z.B. von 300 A* bis 10 pm) im.wesentlichen unverändert sind. Die Vorrich'tungseigenschaften bzw. Körpereigenschaften hängen von der Temperatur beim Niederschlagen ab; so kann beispielsweise der Widerstands-Temperaturkoeffizient unter gewissen Umständen durch Änderung der -Niederschlagstemperatur von einem negativen zu einem positiven Wert geändert werden.
Massive Materialien bzw. Grundmaterialien der den erfindungsgemäßen Schichten entsprechenden Zusammensetzung sind bereits bekannt. Verwiesen wird z.B. auf 11,A.I.M.E. Met.Soc.Conf., 383 (1961); 45, Zeit. Metallkunde, 23 (1954). Die bekannten Eigenschaften des massiven Materials sind zwar attraktiv, unterscheiden sich jedoch von denjenigen der Schichten und sind letzteren generell unterlegen» So sind beispielsweise die Knoop Härtewerte für massive Proben aus MOrRu» und W3Ru7 1200 bzw. 600 im Vergleich zu den typischen Schichtwerten von 1600 bzw. 2400.
C. Schichtherstellung
Der wesentlichste Parameter ist die Niederschlagstemperatür. In Abhängigkeit von den gewünschten Schichteigenschaften liegt die Schichttemperatur während dem Niederschlagen der Schicht gewöhnlich im Bereich von etwa 400° C bis 700° Cj für einige Zwecke können jedoch Schichttemperaturen herunter bis zu 100 C oder herauf bis zu 10000C geeignet sein. Obwohl andere Methoden
409839/0923
zum Niederschlagen bei Temperaturen innerhalb dieses Bereiches führen können, sind wirtschaftliche Gesichtspunkte für die Verwendung der Zerstäubungs- bzw. Aufstäubungs-. methode ursächlich. Ein Vorteil der Aufstäubungsmethode gegenüber beispielsweise dem Niederschlagen durch Aufdampfen besteht in der Möglichkeit, durch Verwendung eines Targets mit genau der gewünschten Schichtzusammensetzung die Zusammensetzung unter gleichbleibenden Bedingungen aufrechtzuerhalten. Bei der Vakuum-Aufdampfmethode oder der Verwendung von Trägersystemen können sich Komplikationen durch Änderung der Flüchtigkeit der Komponenten der elementaren oder Verbindungs-Mutterquelle ergeben. Methoden zur Konstanterhaltung der Zusammensetzung trotz veränderlicher Flüchtigkeit sind jedoch bekannt. Verwiesen wird beispielsweise auf die US-PS 3,321,278.
Eine Aufstäubungsmethode, die sich zum Niederschlagen verschiedener Schichten, einschließlich derjenigen gemäß der Erfindung, als besonders zweckmäßig erwiesen hat, ist als Getter aufs täubung bekannt. Diese inzwischen generell gebräuchliche Methode verwendet eine Anordnung, bei der Verunreinigungen aus der eindringenden Atmosphäre entfernt werden, be— · vor ein Kontakt mit einem der für den AufstäubungsYrgang wesentlichen Elemente hergestellt wird. Verwiesen wird beispielsweise auf 35, Journal of Applied Physics, 554 (1964), wo diese Methode beschrieben ist.
409839/0923
Zerstäubungstargets enthalten solche Bestandteile, die nach Eigenschaft und Menge mit den durch die allgemeinen Schichtformeln Mo, . . --Ru-, und W0 - , . - cRu„ bezeichne-
4 bis 6 3 2,4 bis 3,6 2
ten Zusammensetzungen identisch sind. In das Target können auch solche Bestandteile einbezogen werden, die zur Änderung der Schichteigenschaften zwecks Anpassung an besondere Vorrichtungsbedürfnisse dienen. Ein hoher Reinheitsgrad ist bei den beschriebenen Eigenschaften der wesentlichen Zusammensetzungen nicht erforderlich, und in normaler Praxis reicht die Aufrechterhaltung eines Target-Reinheitsgrads von 99 % in Bezug auf unerwünschte Verunreinigungen aus. Targets können beispielsweise durch Lichtbogenschmelzen hergestellt werden, wobei sich in der Regel ein Sigma-Phasen-Massivmaterial bzw. Grundmaterial ergibt. Sie können auch durch andere Mittel, z.B. aus körnigem Material hergestellt werden, das trocken gepreßt und/oder zur Erhöhung der Homogenität gesintert werden kann.
Die Umgebungsatmosphäre beim Zerstäuben ist ebenfalls unkritisch, und übliche Inertgase, z.B. Argon, Helium und Neon können zu diesem Zweck verwendet werden.
Der Bereich der Niederschlagstemperatur wurde bereits angegeben. Die Zerstäubungsbedingungen sind im übrigen konventioneller Art, und vorgegebene Bedingungen sind sowohl von der Vorrichtung als auch von anderen Arbeitsparametern abhängig. So wurden beispielsweise beschriebene Materialien
409839/0 923
bei Spannungen zwischen Anode und Target in Bereichen von 1000 bis 2000 Volt niedergeschlagen; Ströme für Drücke über den Bereich von 50 bis 100 Mikrometer Quecksilber änderten sich von 3 bis 15 Milliampere. Typische Niederschlagsgeschwindigkeiten variierten zwischen 100 und 300 A pro Minute. Die in einigen der Zeichnungsfiguren angegebenen Eigenschaften wurden an Schichten gemessen, die wie folgt hergestellt wurden:
Mo5Ru3: 2000 Volt, 6 Milliampere, 51 Mikrometer Argondruck ergaben eine Niederschlagsgeschwindigkeit von 260 Ä pro Minute.
W3Ru2 : 2000 Volt, 10 Milliampere, 72 Mikrometer Hg-Druck ergaben eine Niederschlagsgeschwindig— keit von 206 A* pro Minute.
Die hergestellten Schichten hatten in typischer Ausführung eine Dicke von 0,3 bis 10 Mikrometer; sowohl dünnere als auch dickere Schichten zeigen jedoch ähnliche Eigenschaften.
Die gemessenen Schichteigenschaften wurden mit der Niederschlagstemperatur in Beziehung gesetzt. Diese Eigenschaften wurden an auf Substraten niedergeschlagenen Schichten gemessen, wobei die Substrate durch Wärmeleitung von elektrisch beheizten Substratunterlagen erwärmt wurden. Temperaturen sind diejenigen der niedergeschlagenen Schicht, bestimmt durch Pyrometermessung (im Vergleich zu den durch Thermoelementmessung festgestellten Träger— bzw. Unterlagentempera— türen). Es wurde festgestellt, daß Temperaturgradienten
409839/0923
zwischen dem erhitzten Träger und der Schicht innerhalb der Grenzen von 100° C bis 250 C liegen. Einige gemessene Ergebnisse wurden durch Verwendung bestimmter Trägerformen verbessert, deren Auslegung so gewählt wurde, daß sich ein Temperaturgradient innerhalb einer einzigen niedergeschlagenen Schicht ergab.
D. Unterlage
Es wurde festgestellt, daß die Schichtzusammensetzungen sehr gut haften. Geeignete Unterlagenjnaterialien sind auf die vorgesehene Verwendung abgestellt; selbstverständlich müssen alle Unterlagenmaterialien den Niederschlagsbedingungen standhalten. Soweit Schichten als Schaltungselemente dienen, sind die Unterlagen— bzw. Substratmaterialien notwendigerweise isolierend. Sofern die vorgesehenen Anwendungsfälle hohe Temperaturen oder korrosive Atmosphären erwarten lassen, sollten die Substrate geeignet gewählt sein, um diesen Bedingungen standzuhalten.
Obwohl die generelle Natur der Beschreibung teilweise auf Experimenten beruht, bei denen Substratzusammensetzungen geändert wurden, beruhen viele der angegebenen Ergebnisse auf der Verwendung eines "Standart" Substrats bzw. einer "Standart11 Unterlage. Für diese Zwecke wurden Schichten auf Saphir niedergeschlagen. Diese Standartunterlage wurde auf verschiedene Weise in Abhängigkeit von den zu messenden
409833/0923
Parametern feehandelt. So umfaßte die Behandlung zur Vorbereitung von Reflexionskraftmessungen beispielsvrise ein mechanisches Polieren, um die Oberflächengüte der Unterlage bzw. des Substrats wenigstens in die Größenordnung der vorgesehenen Schichtdicke, z.B. ein Mikrometer oder besser zu bringen. Bei verschiedenen Reinigungsprozessen wurden die Verfahrensschritte des Waschens in siedender Phosphorsäure, Lufttrocknens, Waschens inAlkohol usw. angewendet.
1. Härte
Härtewerte sind jene der Knoop-Härteskala. Verwiesen wird beispielsweise auf Metals Handbook, herausgegeben von T. Lyman, ASU, Cleveland, Seite 93 (Ausgabe 1948).
Die Härtewerte sind für beide Nennzusammehsetzungen als Funktion der Niederschlagstemperatur in Fig. 6 gezeigt. Wie aus dieser Figur zu erkennen ist, wächst die Härte mit bis zu etwa 500° C zunehmender Niederschlagstemperatur. Höhere Temperaturen ergeben keine weitere Zunahme und u.U. eine leichte Abnahme der Härte.
Zwar wurden verschiedene Bedingungen hergestellt, jedoch
die
beziehen sich in Fig. 6 angegebenen Werte auf Schichten
einer Dicke von etwa 10 Mikrometern unter Verwendung von
Tiefe Meßgewichten zwischen zwei und fünfzig Gramm. Die aes durch
409839/0923
den Eindringkörper hervorgerufenen Eindrucks war generell geringer als 5 % der Schichtdicke. Die angegebenen Werte sind Mittelwerte aus fünf Messungen, deren mittlere Schwankung weitgehend auf Oberflächenunebenheiten zurückgeht und einen Bereich von - 10 bis £ 20 % überspannt.
Der gemessene Härtewert hing in gewissem Umfang von der verwendeten Last ab. Eine typische Lastzunahme um einen Faktor von fünf führte zu einer Verringerung der Härte von etwa 15 %. Unterlagen- bzw.' Substrateffekte sind natürlich bei schweren Lasten signifikanter, und die Tests mit geringen Lasten sind bezeichnender für die zugehörige Schichteigenschaft. Verschiedene Härtewerte sind in Fig. 6 gezeigt. Eine kurze Zusammenfassung ist in Tabelle I angegeben.
TABELLE I
(genaue Werte in Fig. 6 angegeben)
Zusammensetzung NiederSchlagstemperatür Härte
600 - 700
1200 - 1500 600 - 700
1500 - 2400
2. Ätzwiderstand
Dieser Parameter ist in den Tabellen II und III angegeben. Der Ätzwiderstand wurde"durch Messung des Gewichtsverlustes nach Eintauchen in das Ätzmittel über 15 Minuten bestimmt.
409839/0923
Mo5Ru3 100° C
Mo5Ru3 500° C
W3Ru2 100° C
W3Ru 550° C
Als Ätzmittel fanden verschiedene übliche Säuren und Basen Verwendung. Die Messungen wurden bei Zimmertemperatur und
,o
bei etwa'100 C ausgeführt.
Die für die angegebenen Tests verwendeten .MOc-Ru3-hatten eine Dicke von 4000 S und wogen etwa 180 Mikrogramm. W-Ru„-Schichten waren 3000 A* und wogen etwa 200 Mikrogramm. Die angegebenen Gewichtsverlustmessungen haben schätzungsweise eine Genauigkeit von - 5 Mikrogramm.
TABELLE II : Ätzwiderstand von W3Ru3
Schichten Ätzmittelkonz., 'Gewichtsverlust Dickenreduktion Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) .(8/sec.) geben
3.000 ftdick
Gewicht'"»- 200 pg
Niederschlagstemp.*-» 200 C
kalte 3Hc£-lHN0o 0
kalte ECl 0 0
kalte NH4OH 0 0
kalte H2O2 0 0
heiße HNO3 0 0
heiße H3PO4 0 0
heiße HP 0 0
heiße H2SO4 0 0
heiße NH4OH 0,0854 0,52
heiße IHF-IHNO-, 0,121 0,73
409839/092 3
Schichten Ätzmittelkonz., Gewichtsverlust Dickenreduktion Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) (Ä/sec.)
geben
Nxederschlc
temp.->y 2OOC
H2O2 >
>
3 0,14 0,85
HC& 2°2 ν 0,55 - > 3,33
3HCi-IHNO 2°2 >0,55 >3,33
2NH4OH-IH 2,07 12,5
Niederschli
temp.~ 550c
2NH4OH-IH 3 0 0
IHF-IHNO3 2° 2 0,012 0,075
3HC£-1HNO .) 0,126 0,77
2NH4OH-IH .) 0,33 2,0
NaOH
(Ges.Lösg
0,076 0,46
NaOH
(Ges.Lösg
>0,55 >3,33
igs-
C heiße
heiße
heiße
heiße
JC ' kalte
heiße
heiße
heiße
60° C
100° C
TABELLE III : Ätzwiderstand von Mo5Ru3
Schichten Ätzmittelkonz., Gewichtsverlust Dickenreduktion
A* Dicke Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) (ft/sec.) Gewicht^ geben
ug
Niederschlags—
temp, r- 100 C kalte 3HC£-IHNO3 . 0 0
heiße H3PO4 0 0
kalte H3O2 0 0
kalte HNO3 0 -0
kalte H3SO4 0,022 0,2
kalte HCl 0,025 0,23
kalte HF 0,028 0,25
kalte NH4OH 0,025 0,23
heiße NH4OH 0,047 0,42" 409839/0923
Schichten
4000 X Dicke
Gewichte 180 ug
Niederschlags· temp.~300 C
- 15 -
Atzmittelkonz., Ausnahmen angegeben
Gewichtsverlust (ug/sec./cm )
heiße 3HCg-IHNO.
>0,47
Dickenreduktion (A/sec.)
> 4,4
Niederschlags- heiße UCt
temp.~450° C kaite 1HF-1HN0
0
0
0
0
kalte 2NH4OH-IH2O2 0 0
kalte HF 0 0
• heiße 2NH4OH-IH2O2 0 0
25° C NaOH
(halb ges.Lösg.)
0 0
Niederschlags-
temp .^450 C 100 C NaOH
(halb ges.Lösg.)
0 0
25°C NH4OH 0 0
90°C NH4QH 0 0
25°C NaOH
(ges.Lösg.)
0 0
6O0C NaOH
(ges.Lösg.)
0 0
1000C NaOH
(ges.Lösg.)
0,025 0,27
Schichten Säuren Gewichtsverlust
(ug/sec./cm )
Dickenreduktion
(Ä/sec.)
4000 A* Dicke Gewicht λ, 180 pg
409839/0923
Schichten Säuren Gewichtsverlust Dickenreduktion
(pg/sec./cm ) (8/sec.)
Niederschlagstemp.-v 4500C
kalte 2H2SO4-IH2O2 0,0055 0,05
kalte IHF-IHCl 0,011 0,1
heiße H2O2 0,016 0,15
heiße HNO3 0,033 0,3
heiße H2SO4 0,033 0,3
heiße 3HCl-IHNO3 0,050 0,45
Niederschlagstemp. ·* 600 C
heiße 3HCl-IHNO3 0,040 0,33
Schichten beider Zusammensetzungen, die bei verschiedenen Temperaturen niedergeschlagen wurden, zeigten bei den meisten azidischen Medien bei Zimmertemperatur praktisch keinen Angriff. Bei 15 mimügem Eintauchen ergaben sich keine Anzeichen eines Abblättern und kein Verlust des ursprünglich hellen metallischen Glanzes.
Der Ätzwiderstand erfuhr für eine Anzahl von Säuren auch bei Temperaturen in der Nähe der Siedepunkte der Ätzmittel (etwa 100° C) keine Einbuße. Ähnlich der Härte wächst der Ätzwiderstand bis zu dem Temperaturbereich von 450 bis 600° C mit der Niederschlagstemperatur. Die größte Angriffsgeschwindigkeit ergibt sich bei W3RUp (etwa 2 °v pro Sekunde) durch heiße 2NH4OH-IHpO2 und (0,77 % pro Sekunde) durch heißes Königswasser. 409839/0923
Der, beste Ätzwiderstand ergibt sich für Mo5Ru3 bei einer Niederschlagstemperatur von etwa 450 C· Am stärksten wird diese Zusammensetzung durch heißes Königswasser angegriffen (0,3 bis 0,45 8 pro Sekunde).
3. Spezifischer elektrischer Widerstand
Der spezifische elektrische Widerstand S und der Widerstands-Temperaturkoeffizient sind beide als Funktion der Niederschlagstemperatur in Fig . 7 aufgetragen. Die Messungen wurden mit einer Standart-Vierpunkt-Sonde unter Verwendung niedriger Wechselströme durchgeführt. Die Schichtdicken lagen im Bereich von 1 bis 2 Mikrometern. Die aufgetragenen Kurven beziehen sich auf Messungen bei 25° C. Zusätzliche Messungen wurden in flüssigem Stickstoff und flüssigem Helium durchgeführt. Superleitende Übergangstemperaturen wurden ebenfalls in der weiter unten beschriebenen Weise aufgezeichnet.
Der aufgetragene Widerstands-Temperaturkoeffiaent berücksichtigt die Änderung über das 220° C-Intervall zwischen 25° C bis herunter auf -195° C. Demgemäß ist diese Ordinateneinheit definiert als
-J>- 195° C
J>25°C χ 220.
Es wird postuliert, daß der fallende Wert des spezifischen Widerstandes zwischen Niederschlagstemperaturen von 25 C und
4 0 9 8 3 9/0923
400 C auf die gleichzeitige Zunahme der Korngröße zurückgeht. Während die Messungen, wie oben angegeben, mit Proben gleichförmiger Schichtdicke durchgeführt wurden, ergaben andere Messungen, daß der spezifische Widerstand von der Schichtdicke über einen Bereich von 1 Mikrometer bis 10 Mikrometer unabhängig ist. Der Widerstands- Temperaturkoeffizient ist bei dem Molybdän-enthaltenden Material nahezu Null und leicht negativ für das Wolfram-enthaltende Material. Wie sich aus der Figur ergibt, steigen beide Temperaturkoeffizienten
mit zunehmenden Niederschlagstemperaturen und erreichen ein Maximum von 500 bis 1000 ppm bei T =1000° C.
4. Optische Reflexionskraft
Die Reflexionskraft wurde im Wellenlängenbereich von 0,3 bis 20 Mikrometer unter Verwendung eines Doppelstrahlspektrometers gemessen. Die in Fig. 8 als Funktion der Wellenlänge aufgetragenen Reflexionskraftwerte wurden auf Aluminium bezogen. (Aluminium hat eine Reflexionskraft von 90 % oder mehr über den größten Teil des untersuchten Spektralbereichs.) Die Schichtdicken betrugen etwa 2000 A1. Die Schichten wurden insgesamt bei 100 C niedergeschlagen. Andere Beobachtungen zeigen praktisch die Unabhängigkeit der Reflexionskraft von der NiederSchlagstemperatur. Die Reflexionskraft war über den gesamten Spektralbereich, für den die Daten angegeben sind, gut, mit Ausnahme des Wellenlängenbereichs nahe 8000 A.
40983 9/092 3
5. Superleitfähiqkeit
Beide Zusammensetzungen wurden mit höheren Werten der Sprungtemperatur T entsprechend niedrigeren Niederschlagstemperaturen superleitend. T für ΜΟςΚιΐ- war etwa 8 K für
C JO
OO '
T_ zwischen 70 C und 600 C. Der entsprechende T -Wert für W-RUp war etwa 4,8 K. Bei höheren Niederschlagstemperaturen sank T und erreichte schließlich Werte unterhalb von 4>2 K für TD etwa 900° C.
F. Figuren
Fig. 1 zeigt.eine Unterlage 1 beispielsweise aus Saphir, die mit einer Schicht 2 aus nominell im wesentlichen Mo5Ru- und W3Ru2 überzogen ist.
Fig. 2 zeigt eine perspektivische Schnittansicht auf eine integrierte Schaltung 5 mit zwei Transistoren 6 und 7, die aus einem Schichtmaterial gemäß der Erfindung gebildet sind.
Fig. 3 zeigt eine übliche Rasierklinge 10 mit Schneidkanten 11 und 12, die ebenfalls mit einer der hier beschriebenen Zusammensetzungen beschichtet sind.
Fig. 4 zeigt schematisch einen Laser 15, der ein stimuliert emittierendes Medium 16 und Endteile 17 und 18 aufweist, von denen wenigstens eines mit einer Innenfläche, z.B. 19, versehen ist, welche mit einem hier beschriebenen Material beschichtet ist. Das stimuliert emittierende Medium 16 kann
4 0 9 8 3 9/0923
ein korrosives gasförmiges Material, z.B. ein Hochtemperaturgas sein. Die Anregungsvorrichtung, mögliche Zirkulationsvorrichtungen usw., welche zum Laserbetrieb notwendig sind, sind in der Zeichnung nicht dargestellt.
Fig. 5 zeigt einen Teil eines Lagers 25, dessen Innenfläche 26 mit dem erfindungsgemäßen Material beschichtet ist. Eine enggepaßte Welle 27 ist auf der Lageroberfläche 26 gelagert.
Fig. 6 bis 8 zeigen graphisch gewisse Schi: hteigenschaften, die zuvor im einzelnen erörtert wurden.
409839/092

Claims (5)

  1. BLUMBACH ■ WESER · BERGEN & KRAMETT ' '
    PATENTANWÄLTE IN WIESBADEN UND MÜNCHEN
    DIPL-ING. P. G. BlUMBACH · D1PL.-PHYS. Dr. W. WESER · DIPL-ING. DR. JUR. P. BERGEN DIPL-ING. R. KRAMER
    WIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 · TEL. {06121) 562943, 561998 . MÖNCHEN
    Ansprüche
    \ lJ Verfahren zum Herstellen eines Körpers mit einer Zusammensetzung, die aus durch die Formeln Mo. ,. gRu3 un(3 wo 4 bis 3 RU2 dargestellten Zusammensetzungen ausgewählt ist, wobei die Formelindizes relative Atomzahlen darstellen, dadurch gekennzeichnet, daß das Material zur Erzielung wählbar geänderter Körpereigenschaften als Schicht von 300 A bis 10 Mikrometer Dicke auf einer Unterlage durch Aufstäuben niedergeschlagen wird, wobei die Unterlage auf einer solchen Temperatur gehalten wird, daß die Schichttemperatur im Bereich von 100 bis 1000° C liegt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufstäuben von einem Target aus erfolgt, bei dem zumindest die freiliegende Oberfläche eine mit der Zusammensetzung der Schicht im wesentlichen identische Zusammensetzung hat.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Substrats so eingestellt wird, daß die Schicht bei einer Temperatur im Bereich von 400 bis 700 C niedergeschlagen wird.
    4098 3 9/092 3
    ORiQlMAL INSPECTED
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2t dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Substrats so eingestellt wird, daß das Niederschlagen der Schicht mit der zuerst genannten Zusammensetzung im Temperaturbereich von 100 bis 300 C und mit der zuletzt genannten Zusammensetzung im Temperaturbereich von 100 bis 500° C erfolgt.
  5. 5. Körper, hergestellt nach dem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche.
    409839/092 3
    Leerseite
DE2411061A 1973-03-12 1974-03-08 Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage Withdrawn DE2411061A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US339768A US3912611A (en) 1973-03-12 1973-03-12 Film material and devices using same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2411061A1 true DE2411061A1 (de) 1974-09-26

Family

ID=23330491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2411061A Withdrawn DE2411061A1 (de) 1973-03-12 1974-03-08 Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3912611A (de)
JP (1) JPS49122484A (de)
BE (1) BE808765A (de)
CA (1) CA1004628A (de)
CH (1) CH598359A5 (de)
DE (1) DE2411061A1 (de)
FR (1) FR2221537B1 (de)
GB (1) GB1436822A (de)
IT (1) IT1011557B (de)
NL (1) NL7403031A (de)
SU (1) SU625625A3 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007054256A1 (de) * 2005-11-08 2007-05-18 Hansgrohe Ag Beschichteter sanitärgegenstand

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2504116A1 (fr) * 1981-04-15 1982-10-22 Commissariat Energie Atomique Procede d'obtention de couches de verres luminescents, application a la realisation de dispositifs munis de ces couches et a la realisation de photoscintillateurs.
JPS5975695A (ja) * 1982-10-23 1984-04-28 日本碍子株式会社 セラミツク厚膜回路基板
JPH06100487B2 (ja) * 1986-05-26 1994-12-12 アイシン精機株式会社 高圧高磁場用液体ヘリウム液面計
US4960751A (en) * 1987-04-01 1990-10-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electric circuit having superconducting multilayered structure and manufacturing method for same
US6445537B1 (en) * 1999-12-02 2002-09-03 Storage Technology Corporation Protective film for minimization of shield and pole tip recession in thin film shielded read heads and write heads
US20040084305A1 (en) * 2002-10-25 2004-05-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Sputtering system and manufacturing method of thin film
US9963777B2 (en) * 2012-10-08 2018-05-08 Analog Devices, Inc. Methods of forming a thin film resistor

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3829969A (en) * 1969-07-28 1974-08-20 Gillette Co Cutting tool with alloy coated sharpened edge
BR7102060D0 (pt) * 1970-04-17 1973-04-05 Wilkinson Sword Ltd Lamina de barbear e processo para a fabricacao da mesma
US3754987A (en) * 1971-06-04 1973-08-28 Texas Instruments Inc Method of producing areas of relatively high electrical resistivity in dielectric substrates

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007054256A1 (de) * 2005-11-08 2007-05-18 Hansgrohe Ag Beschichteter sanitärgegenstand

Also Published As

Publication number Publication date
SU625625A3 (ru) 1978-09-01
CA1004628A (en) 1977-02-01
NL7403031A (de) 1974-09-16
FR2221537B1 (de) 1976-12-10
IT1011557B (it) 1977-02-10
FR2221537A1 (de) 1974-10-11
JPS49122484A (de) 1974-11-22
GB1436822A (en) 1976-05-26
BE808765A (fr) 1974-04-16
US3912611A (en) 1975-10-14
CH598359A5 (de) 1978-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2839535C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Meßkörpers für Interferenzmessungen von Schichtdicken eines einkristallinen Körpers und Verwendung dieses Meßkörpers für die Herstellung eines Halbleiterkörpers
DE69835986T2 (de) Elektrode eines halbleitenden Nitrids vom N-Typ, ein Halbleiterbauelement mit einer solchen Elektrode und ein Herstellungsverfahren
DE2601656C2 (de) Verfahren zum Herstellen eines hochohmigen Cermet-Schichtwiderstandes und Cermet-Schichtwiderstand
DE69635299T2 (de) Herstellungsverfahren von Schottky Elektroden auf Halbleitervorrichtungen
DE3628513A1 (de) Duennfilmleiter und verfahren zur herstellung eines duennfilmleiters
DE2834426A1 (de) Glasartige legierungsfaeden
EP0033507A2 (de) Verfahren zur reproduzierbaren Herstellung metallischer Schichten
DE2300813A1 (de) Verfahren zum niederschlagen von stickstoffdotiertem beta-tantal sowie eine beta-tantal-duennschicht aufweisender artikel
DE3217026C2 (de)
DE2719731A1 (de) Mehrschichtschaltung
DE2411061A1 (de) Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage
DE3039927A1 (de) Elektrischer widerstand und verfahren zur herstellung
EP0002703A1 (de) Verfahren zum Herstellen von dünnen metallisch leitenden Streifen auf Halbleitersubstraten und damit hergestellte metallisch leitende Streifen
DE1950126A1 (de) Verfahren zur Aufringung isolierender Filme und elektronische Bauelemente
DE3811907C1 (de)
DE2914581A1 (de) Thermoelektrische generatorelektrode
DE102021109368A1 (de) Galliumoxid-basierter halbleiter und herstellungsverfahren desselben
EP0154696A1 (de) Verfahren zur Kontrolle und Regelung der Zusammensetzung und der Schichtdicke von metallisch leitenden Legierungsschichten während ihrer Herstellung
DE112020007343T5 (de) Hoch-Entropie-Legierung und Verfahren zu deren Wärmebehandlung
DE3152307A1 (de) Use of metallic glasses for fabrication of structures with submicron dimensions
DE19605097A1 (de) Eingekapseltes Kontaktmaterial und Herstellungsverfahren für dieses und Herstellungsverfahren und Verwendungsverfahren für einen eingekapselten Kontakt
DE3603785C2 (de)
DE3604741A1 (de) Homogener, feinkoerniger metallfilm auf einem traegermaterial und dessen herstellungsverfahren
EP0016263A1 (de) Dünnschichtwiderstand mit grossem Temperaturkoeffizienten und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2920954A1 (de) Elektroden zur verwendung in elektrolytischen verfahren

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8125 Change of the main classification
8130 Withdrawal