DE2331377C2 - Lichtempfindliches Kopiermaterial - Google Patents

Lichtempfindliches Kopiermaterial

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DE2331377C2 DE2331377A DE2331377A DE2331377C2 DE 2331377 C2 DE2331377 C2 DE 2331377C2 DE 2331377 A DE2331377 A DE 2331377A DE 2331377 A DE2331377 A DE 2331377A DE 2331377 C2 DE2331377 C2 DE 2331377C2
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Paul Dipl.-Chem. Dr. 6200 Wiesbaden Stahlhofen
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Description

Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Kopiermaterial, dessen lichtempfindliche Schicht einen Ester oder ein Amid einer o-Naphthochinondiazidsulfon- oder -carbonsäure enthält
Es ist bekannt, zur Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten als lichtempfindliche Substanzen Naphtochinon-(l,2)-diazid-Verbindungen zu verwenden. Derartige Materialien sind z. B. in den deutschen Patentschriften 8 54 890 und 9 38 233 beschrieben. Sie haben den Nachteil, daß die an sich gelb gefärbten Napthochinon-(l,2)-diazid-Schichten bei der Belichtung zu einem fahlgelb gefärbten Lichtzersetzungsprodukt ausbleichen, wodurch die nicht vom Licht zersetzten Schichtanteile (Bildstellen) und die Lichtzersetzungsprodukte (Nichtbildstellen) nur schwer zu unterscheiden sind. Dies führt in der Praxis zu Fehlkopien, vor allem bei der Belichtung in den sogenannten Repetier-Kopiermaschinen, wo ein Diapositiv mehrfach nebeneinander auf die Druckplatte projiziert wird. Da der visuelle Kontrast zwischen Bild- und Nichtbildstellen nach dem Belichten, insbesondere in Gegenwart von gelbem Licht, wie es in den Kopierräumen bei der Verarbeitung von lichtempfindlichen Druckplatten erforderlich ist, auf der Druckplatte nur schwach ist, ist es schwierig, genaue und platzsparende Einpaß-Arbeiten durchzuführen.
Aus der DE-OS 14 47 011 ist es bekannt, diesen Nachteil dadurch zu beseitigen, daß man der lichtempfindlichen Schicht einen organischen Indikator-Farbstoff in homogener Verteilung zugibt, welcher im pH-Bereich zwischen 2,5 und 6,5 seine Farbe wechselt. Ferner ist bekannt, daß o-Chinondiazide mit einem Leukofarbstoff nach der Belichtung ein gefärbtes Bild in den belichteten Bereichen bilden (US-PS 36 69 658). Nachteilig ist jedoch, daß der erzielte Bildkontrast unter den Bedingungen der Praxis in vielen Fällen noch nicht genügend ist und daß der Bildkontrast bei der nachfolgenden Entwicklung wieder verschwindet.
Aus der DE-OS 22 29 365 ist weiterhin bekannt, einer lichtempfindlichen Schicht, die o-Chinondiazide enthalten kann, ein Diazoniumsalz und eine Azoverbindung zuzusetzen, die in Gegenwart der Lichtzersetzungsprodukte des Diazoniumsalzes eine Farbänderung erfährt.
Diese Schichten ergeben einen stärkeren Farbumschlag als solche o-Chinondiazidschichten, die keine Diazoniumsalze enthalten. Ein Nachteil ist die geringere Druckleistung und Entwicklerresistenz dieser Schichten gegenüber reinen o-Chinondiazidschichten. Auch ergeben die dort beschriebenen Azofarbstoffe keinen optimalen Farbkontrast, insbesondere nach dem Entwickeln. Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein lichtempfindliches Kopiermaterial der oben beschriebenen Art, insbesondere für die Herstellung von Druckplatten, aber auch von Leiterbildern, Siebdruckschablonen, Photoresiste, bereitzuste?\en, das nach dem Belichten unter einer Vorlage ein Abbild der
is Vorlage zeigt, das kontrastreicher als bei bekannten
Kopiermaterialien dieser Art ist und nach dem Entwickeln mit alkalischen Lösungen kontrastreich
bleibt
Die Erfindung geht aus von dem bekannten
lichtempfindlichen Kopiermaterial, dessen lichtempfindliche Schicht einen Ester oder ein Amid einer o-Naphthochinondiazidsulfon- oder -carbonsäure zusammen mit einem organischen Farbstoff enthält und beim Belichten ihren Farbton ändert Die Lösung der Aufgabe wird dadurch erreicht, daß die lichtempfindliche Schicht, auf ihren Gesamtgehalt an o-Naphthochinondiazidverbindungen bezogen, 10 bis 50 Gew.-% o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid und 10 bis 50 Gew.-% eines zur Salzbildung befähigten basischen Triphenylmethan-, Azin- oder Anthrachinonfarbstoffs enthält
In der DE-OS 15 97 786 wird eine ätzfeste lichtempfindliche Kopierschicht beschrieben, die ein säurefestes alkalilösliches Phenolharz, als lichtempfindliche Sub stanz ein Naphthochinon-(l,2)-diazidsulfonsäurehaloge- nid und gegebenenfalls einen Farbstoff, z.B. einen Triphenylmethanfarbstoff, enthält Von einem Farbumschlag bei der Belichtung wird in dieser Druckschrift nichts erwähnt
^o Mit großer Wahrscheinlichkeit wird das in dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Kopiermaterial enthaltene o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid bei der Belichtung photolytisch gespalten und reagiert in einer Folgereaktion mit dem vorhandenen
Farbstoff unter Änderung des Farbtons der Schicht, so daß nach der Belichtung mit aktinischem Licht ein deutlicher Gegensatz zwischen den belichteten und nichtbelichteten Stellen entsteht. Die nicht vom Licht getroffenen gefärbten Bereiche (Bildstellen) sind gegen
so den entsprechenden Entwickler resistent, so daß nach der Entwicklung ebenfalls ein kontrastreich eingefärbtes Abbild der Belichtungsvorlage resultiert.
Die Diazogruppe der o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenide kann in 1- oder in 2-Stellung stehen.
Aufgrund ihrer besseren Lichtempfindlichkeit und der leichteren Zugänglichkeit werden jedoch die Napthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäurehalogenide bevorzugt Überraschenderweise ergeben nur die Verbindungen mit der Sulfonsäurehalogenid-Gruppe in 4-Stellung
so den erfindungsgemäß erzielten guten Bildkontrast nach der Belichtung.
Geeignete Triphenylmethan-, Anthrachinon- oder Azinfarbstoffe, wie Phenazin- oder Oxazinfarbstoffe, sind z. B. Kristallviolett (42 555), Metliylviolett 2 B (42 535), Malachitgrün (42 000), Fuchsin (42 510), Parafuchsin (42 500), Sudanblau G (61 520), Acilanbrillantblau 5 B (42 740), Acilanviolett S 4 BN (42 640), Astradiamantgrün GX (42 040), Rhodamin B (45 170),
Somaronblau GSL (62 500), Viktoriablau B (44045), Alizarindirektblau (62 055), Viktoriaeinblau BOD (42 595), Brillantgrün (42 040), Nilblau BX (51185), Neutralrot (50040) und Rhodulinreinblau 3 G (51 004). Die in Klammern stehenden Zahlen bedeuten dabei die »C. I. Constitution Number«, die in dem fünfbändigen Werk »Colour Index« 3. Auflage (1971, London) zur Identifizierung der Farbstoffe verwendet wird. Am deutlichsten ist der gewünschte bildgemäße Farbkontrast der belichteten Schicht dann, wenn der in ihr enthaltene Farbstoff ein roter, blauer oder grüner ist Solche Farbstoffe werden daher bevorzugt verwendet
Als lichtempfindliche Substanz enthalten die Kopierschichten außer dem o-Naphtochinondiazid-4-suIfonsäurehalogenid, eine oder mehrere der oben angegebenen o-Naphthochinondiazid-Verbindungen. Ihre Herstellung ist beispielsweise in den deutschen Patentschriften 8 54 890, 8 65 109, 8 79 203, 8 94 959, 9 38 233, 11 09 521, 11 14 705, 11 18606, 11 20273 und 11 24 817 beschrieben.
Die erfindungsgemäßen Kopierschichten können in an sich bekannter Weise Harze, Weichmacher und andere für lichtempfindliche Schichten übliche Zusatz· und Hilfsmittel enthalten. Der Harzgehalt kann dabei sehr groß sein und beispielsweise mehrere hundert Prozent des Gesamtgehalts an o-Naphthochinondiazidverbindungen betragen.
Als Kopierschichtträger können die in den jeweiligen Reproduktionstechniken üblichen verwendet werden, zum Beispiel aus einem Metall, wie Aluminium oder Zink hergestellte Platten oder Folien mit entsprechend vorbehandelter Oberfläche, ferner Mehrmetallplatten, wie Chrom/Kupfer, Chrom/Kupfer/Aluminium, Chrom/ Kupfer/Zink, ferner Papierfolien, Kunststoff-Folien, für den Siebdruck geeignete Gewebe oder metallisierte Isolierstoffplatten.
Durch die Erfindung wird es erstmals möglich, bei den seit Jahren bewährten positiv arbeitenden Kopiermaterialien durch Belichten eine deutliche Farbänderung in den belichteten Gebieten auch dann zu erhalten, wenn die Kopierschicht infolge des in ihr enthaltenen Farbstoffs eine kräftige Eigenfärbung aufweist, und damit ein kontrastreiches Bild zu erhalten, welches sich auch bei gelber Beleuchtung deutlich von den nicht belichteten Stellen abhebt
Nach der Entfernung der belichteten Teile mit einem alkalischen Entwickler ist eine ebenfalls kontrastreich gefärbte Schablone entsprechend der Belichtungsvorlage zu sehen. Hierdurch werden mitkopierte Filmkanten und Paßkreuze, die nach der Entwicklung entfernt bzw. korrigiert werden müssen, deutlicher sichtbar. Auf das Einfärben mitkopierter Filmränder zwecks besserer Sichtbarmachung kann daher verzichtet werden.
In den folgenden Beispielen ist ein VoL-TeH 1 ml, wenn für 1 Gew.-Teil 1 g genommen wird.
Man löst
Beispiel 1
1,5 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man durch Kondensation voii 1 Mol 2,4-Dihydroxybenzophenon und 2 Mol Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält,
0,75 Gew.-Teile Naphthochinone l,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäurechlorid
0,35 Gew.-Teile Kristallviolett
6,5 Gew.-Teile Novolak (Erweichungspunkt 112 -118° C; Gehalt an phenolischen OH-Gruppen 14Gew.-%)
0,45 Gew.-Teile Polyvinylbutyral 0,75 Gew.-Teile Weichmacher.z. B.Phosphorsäuretri-(/fchloräthyl)-ester
S in einem Lösungsmittelgemisch aus
80 VoL-TeilenÄthylenglykounonomethyläther :.
55 VoL-Teilen Butylacetat
Mit der Lösung beschichtet man eine durch Bürsten aufgerauhte Aluminium-Folie. ;r
Die so erhaltene lichtempfindliche Druckplatte hat eine kräftig blau gefärbte Kopierschicht Nach ihrer Belichtung unter einem Diapositiv bleiben die unbelich teten Bereiche der Schicht kräftig blau gefärbt, während die belichteten Bereiche der Schicht nur noch schwach gefärbt bis nahezu farblos erscheinen. Man sieht daher das Bild der Vorlage in gutem Kontrast, so daß es auch bei gelber Beleuchtung in allen Einzelheiten deutlich erkennbar ist
Läßt man bei der Herstellung der Druckplatte in obiger Beschichtungslösung den Anteil an Naphthochinone ^J-diazid-^^-sulfonsäurechlorid weg oder ersetzt man ihn. durch eine entsprechende Erhöhung des Anteils des oben angegebenen Veresterungsproduktes, dann zeigt sich nach dem Belichten der Druckplatte nur ein schwacher Kontrast zwischen belichteten und unbelichteten Schichtbereichen, so daß das Bild, insbesondere bei gelber Beleuchtung, nur mit Mühe in allen Einzelheiten erkennbar ist
Zur Herstellung einer Druckform wird die belichtete Druckplatte in bekannter Weise mit einer wäßrigen alkalischen Lösung entwickelt wobei die belichteten Schichtbereiche entfernt werden. Die zurückbleibenden nicht belichteten Schichtbereiche bleiben mit gutem Kontrast zum ungefärbten Untergrund sichtbar.
In den folgenden Beispielen 2 bis 10 wird in entsprechender Weise wie im obigen Beispiel 1 verfahren, und es werden nach dem Belichten der erhaltenen lichtempfindlichen Druckplatten hinsichtlich Bildkontrast, sowohl vor wie auch nach dem Entwickeln, im wesentlichen entsprechende Resultate erhalten. Es werden daher für die folgenden Beispiele meist nur die Rezepturen der Beschichtungslösungen und die Art der verwendeten Kopierschichtträger angegeben und nur gelegentlich weitere kurze Bemerkungen hinzugefügt.
Beispiel 2 Beschichtungslösung:
0,65 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man durch Kondensation von 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy benzophenon und 2 Mol Napthochinon-(l,2)-di-
azid-(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält, 0,73 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man
durch Kondensation von 1 Mol 2,2'-Dihydroxydieo naphthyl-(l,l')-methan und 2 Mol Naphthochinon-
(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält, 0,78 Gew.-Teile Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sul fonsäurechlorid
032 Gew.-Teile Kristallviolett-Base 6,25 Gew.-Teile Novolak (wie im Beispiel 1) 0,52 Gew.-Teile Epoxidharz 0,75 Gew.-Teile Weichmacher (wie im Beispiel 1) 90 Vol.-Teile Lösungsmittelgemisch wie im Beispiel 1
j 23 31
5 		Kopierschichtträger: 5 377
6
wie im Beispiel 1.
I Beispiel 3 Beispiel 6
I Beschichtungslösung: Beschichtungslösung:
i 10 13 Gew.-Teile des Veresierungsproduktes, das man
0,94 Gew.-Teile des p-Cumylphenolesters der Naphto- durch Kondensation von 1 Mol 23,4-Trihydroxy-
ft chinon-{ 1,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäure benzophenon und 2 MoI Naphthochinone ,2)-dia-
ί 0,81 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man zid-(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält.
r * durch Kondensation von 1 Mol 2,2'-Dihydroxydi- 0,8 Gew.-Teile Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sul-
naphthyl-(l,r)-methan und 2 MoI Naphthochinon- 15 fonsäurefluorid
(l,2)-diazidH(2)-5-sulfonsäurechIorid erhält, 035 Gew.-Teile Sudanblau G
0,60 Gew.-Teile Naphthochinon-(l,2)-diazid-{2)-4-sul- 6,5 Gew.-Teiie Novolak (wie im Beispiel 1)
fonsäurechSorid 03 Gew.-Teile Carbamidsäureester-Aldehyd-Konden-
032 Gew.-Teile Kristallviolett sat(Uresin(R)B)
6,01 Gew.-Teile Novolak(wie im Beispiel 1) 20 0,75 Gew.-Teile Weichmacher (wie im Beispiel 1)
0,65 Gew.-Teile eines Copolymeren aus (225 Gew.-Tei- 90 VoL-Teile Lösungsmittelgemisch wie im Beispiel 5
len) Äthylmethacrylat und (40 Gew.-Teilen) Meth Kopierschichtträger:
acrylsäure Gebürstete Aluminiumfolie.
0,75 Gew.-Teile Weichmacher (wie im Beispiel 1)
90 VoL-Teile Lösungsmittelgemisch wie im Beispiel 1 25
Kopierschichtträger: Beispiel 7
Chromschicht einer Trimetallplatte aus Alumini
umträgerfolie mit verchromter Kupferschicht.
Beispiel 4 30 Beschichtungslösung:
2 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man
Beschichtungslösung: durch Kondensation von 1 Mol 2,4-Dihydroxyben-
zophenon mit 2 Mol Naphthochinon-(l,2)-diazid-
1,5 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man (2)-5-sulfonsäurechlorid erhält,
durch Kondensation von 1 Mol 2,4-Dihydrt>xyben- 35 0,6 Gew.-Teile Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sul-
zophenon und 2 Mol Naphthochinon-{l,2)-diazid- fonsäurechlorid
(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält, 0,25 Gew.-Teile Samaronblau GSL
\ 0,75 Gew.-Teile Naphthochinone l,2)-diazid-(2)-4-sul- 5 Gew.-Teile Novolak (wie im Beispiel 1)
fonsäurefluorid 04 Gew.-Teile Celluloseacetobutyrat (mit 17 Gew.-0
035 Gew.-Teile Viktoriablau B 40 Butyryl, 293 Gew.-% Acetyl und 13 Gew.-%
ί 5,2 Gew.-Teile Novolak (wie im Beispiel 1) Hydroxyl)
1,0 Gew.-Teil Vinylchlorid-Copolymerisat (LutofanW 130 VoL-Teile Lösungsmittelgemisch aus Tetrahydrofu
200L) ran, Äthylenglykolmonomethyläther und Butylace
90 VoL-Teile Lösungsmittelgemisch wie im Beispiel 1 tat im Vol.-Verhältnis von 5:4:1
Kopierschichtträger: 45 Kopierschichtträger:
Gebürstete Aluminiumfolie. a) Celluloseacetatfolie, Oberfläche verseift
b) gebürstete Aluminiumfolie
Beispiel 5 Kopierschichtdicke:
I; Beschichtungslösung: 50 2 g je m2 (Trockengewicht).
1,5 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man Beispiel 8
durch Kondensation von 1 Mol 23,4-Trihydroxy-
benzophenon und 2 Mol Napthochinon-(l,2)-di-
■';:; azid-(2)-5-sulfonsäurechlorid erhält, 55 Beschichtungslösung:
0,8 Gew.-Teile Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sul-
.M' fonsäurechlorid 1 Gew.-Teil des p-Cumylphenolesters der Naphtho
035 Gew.-Teile Astradiamantgrün GX chinone 1,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäure
ß,5 Gew.-Teile Novolak wie im Beispiel 1, dessen 1 Gew.-Teil Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sulfon-
phenolische OH-Gruppen jedoch etwa zur Hälfte 60 säurechlorid
mit monochloressigsaurem Natrium in bekannter 0,4 Gew.-Teile Brillantgrün
Weise veräthert sind, 3 g Novolak (Erweichungsbereich 110-1180C)
0,8 Gew.-Teile Copolymerisat aus Styrol und Malein 0,2 gAcrylatharz(Synthacryl<R>SC200)
säureanhydrid (Lytron<R)820) 120 VoL-Teile Lösungsmitteigemisch wie im Beispiel 7
0,75 Gew.-Teile Weichmacher (wie im Beispiel 1) 65 Kopierschichtträger:
90 Vol.-Teile Lösungsmittelgemisch aus 80 Vol.-Teilen Papierdruckfolie.
Äthylenglykolmonomethyläther und 10 Vol.-Teilen
Butylacetat Ist der Kopierschichtträger eine gebürstete Alumini
Kopierschichtträger: umfolie, dann genügt es, in obiger Rezeptur 0,6
Polyesterfolie, mit hydrophilem Vorstrich verse Gew.-Teile Naphthochinone ,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäu-
hen. rechlorid zu verwenden, um einen guten Bildkontrast
nach dem Belichten zu erhalten.
ι,ο
16
1,6
Beispiel 9
Beschichtungslösung:
Gew.-Teile des Veresterungsproduktes, das man durch Kondensation von 1 Mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon mit 2 Mol Napthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-suIfonsäurechlorid erhält, Gew.-Teile Naphthochinone 1,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäurechlorid
Gew.-Teil Rhodulinreinblau 3 G Gew.-Teile Novolakharz (Schmelzintervall 108 bis 118° C)
Gew.-Teile Copolymerisat aus Acrylsäure und
Äthylacryl (im Gew.-Verhältnis 1 :9) VoL-Teiie Lösungsmittelgemisch wie im Beispiel 7 Kopierschichtträger:
Zinkplatte, poliert
Nach dem Entwickeln erhitzt man 15 Min. auf 2400C und ätzt nach dem Erkalten δ Min. mit 6%iger Salpetersäure und erhält eine Hochdruckform.
Beispiel 10
Beschichtungslösung:
Gew.-Teil Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurebutylamid
Gew.-Teile Naphthochinone ,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäurechlorid
Gew.-Teile Kristallviolettbase
Gew.-Teile Novolak (AlnovoKR> PN 430) Gew.-Teile Polyvinylbutyral
Vol.-Teile Lösungsmittelgemisch aus 80 Vol.-Teilen
Äthylenglykolmonomethyläther und 20 Voi.'Teüen
Butylacetat
Kopierschichtträger:
Gebürstete Aluminiumfolie.

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Lichtempfindliches Kopiermaterial, dessen lichtempfindliche Schkht einen Ester oder ein Amid einer o-Naphthochinondiazidsulfon- oder -carbonsäure zusammen mit einem organischen Farbstoff enthält und beim Belichten ihren Farbton ändert, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht, auf ihren Gesamtgehalt an o-Naphthochinondiazid verbindungen bezogen, 10 bis 50 Gew.-% o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid und 10 bis 50 Gew.-% eines zur Salzbildung befähigten basischen Triphenylmethan-, Azin- oder Anthrachinonfarbstoffs enthält
2. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht 10 bis 30 Gew.-°/o o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid und 10 bis 30 Gew.-% Farbstoff, bezogen auf den Gesamtgehalt an o-Naphthochinondiazidverbindungen, enthält
DE2331377A 1973-06-20 1973-06-20 Lichtempfindliches Kopiermaterial Expired DE2331377C2 (de)

Priority Applications (21)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2331377A DE2331377C2 (de) 1973-06-20 1973-06-20 Lichtempfindliches Kopiermaterial
NLAANVRAGE7407678,A NL177353C (nl) 1973-06-20 1974-06-07 Lichtgevoelig kopieermateriaal.
JP6643274A JPS5652301B2 (de) 1973-06-20 1974-06-11
SE7407871A SE391404B (sv) 1973-06-20 1974-06-14 Ljuskensligt kopieringsskikt
FR7420898A FR2234584B1 (de) 1973-06-20 1974-06-17
CA202,661A CA1046332A (en) 1973-06-20 1974-06-17 Light sensitivbe copying layer containing a halide of o-naphthoquinone diazide-4-sulfonic acid
US05/480,226 US3969118A (en) 1973-06-20 1974-06-17 Light-sensitive o-quinone diazide containing copying layer
ZA00743882A ZA743882B (en) 1973-06-20 1974-06-18 Light-sensitive copying composition
FI1860/74A FI58221C (fi) 1973-06-20 1974-06-18 Ljuskaensligt kopieringsskikt
GB2694074A GB1463717A (en) 1973-06-20 1974-06-18 Positive-working photoresist composition
ES427391A ES427391A1 (es) 1973-06-20 1974-06-18 Mejoras introducidas en un procedimiento para la obtencion de una capa de copia fotosensible.
AU70157/74A AU481838B2 (en) 1973-06-20 1974-06-18 Light sensitive o-quinone diazide containing copying layer
IT51578/74A IT1016063B (it) 1973-06-20 1974-06-18 Strato di copiatura fotosensibile
BR4981/74A BR7404981D0 (pt) 1973-06-20 1974-06-18 Processo para a preparacao de camadas de copias sensiveis a luz
AT508274A AT331636B (de) 1973-06-20 1974-06-19 Lichtempfindliche kopierschicht
BE145639A BE816580A (fr) 1973-06-20 1974-06-19 Couche a copier photosensible
NO742238A NO139458C (no) 1973-06-20 1974-06-19 Lysfoelsomt o-kinondiazid-kopieringssjikt som for farveendring ytterligere inneholder et lysfoelsomt farvestoff
CS4323A CS167209B2 (de) 1973-06-20 1974-06-19
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ZA (1) ZA743882B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3510220A1 (de) * 1985-03-21 1986-09-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung

Families Citing this family (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2626419C2 (de) * 1976-06-12 1982-10-21 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Lichtempfindliches Gemisch
JPS538128A (en) * 1976-07-09 1978-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
DE2641099A1 (de) * 1976-09-13 1978-03-16 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopierschicht
DE2641100A1 (de) * 1976-09-13 1978-03-16 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopierschicht
US4108664A (en) * 1976-11-01 1978-08-22 Gaf Corporation Light-sensitive negative-working film containing a diazo oxide sensitizer and a p-toluenesulfonyl halide or a 2,4-dihalo-S-triazine
DE2650978A1 (de) * 1976-11-08 1978-05-11 Graenges Oxeloesunds Jaernverk Frischverfahren durch sauerstoffaufblasen
GB1604652A (en) * 1977-04-12 1981-12-16 Vickers Ltd Radiation sensitive materials
GB2005855A (en) * 1977-10-03 1979-04-25 Polychrome Corp Lithographic imaging composition having improved image visibility
US4212935A (en) * 1978-02-24 1980-07-15 International Business Machines Corporation Method of modifying the development profile of photoresists
JPS5562444A (en) * 1978-11-02 1980-05-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
DE2847878A1 (de) * 1978-11-04 1980-05-22 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch
US4308368A (en) * 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS55126235A (en) * 1979-03-22 1980-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS55129341A (en) * 1979-03-29 1980-10-07 Daicel Chem Ind Ltd Photosensitive covering composition
JPS569740A (en) * 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
JPS56140342A (en) * 1980-04-02 1981-11-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Image forming composition and formation of resist image
DE3100077A1 (de) * 1981-01-03 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters
AU8021782A (en) * 1981-02-20 1982-08-26 Polychrome Corp. Non-silver positive working radiation sensitive compositions
JPS57163234A (en) * 1981-04-01 1982-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
US4348471A (en) * 1981-06-15 1982-09-07 Polychrome Corporation Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff
US4350753A (en) * 1981-06-15 1982-09-21 Polychrome Corporation Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff
DE3144480A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3144499A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
JPS59104421A (ja) * 1982-12-04 1984-06-16 Nippon Steel Corp 含クロム溶鋼の脱炭法
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure
EP0164083B1 (de) * 1984-06-07 1991-05-02 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung
DE3445276A1 (de) * 1984-12-12 1986-06-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
US4672021A (en) * 1985-06-03 1987-06-09 Fairmount Chemical Company Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder
JPS6478249A (en) * 1987-09-18 1989-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material and image forming method
JPH07120045B2 (ja) * 1987-10-22 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 パターン形成方法
JPH01142721A (ja) * 1987-11-30 1989-06-05 Fujitsu Ltd ポジ型感光性パターン形成材料およびパターン形成方法
US5250669A (en) * 1987-12-04 1993-10-05 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Photosensitive compound
US5272026A (en) * 1987-12-18 1993-12-21 Ucb S.A. Negative image process utilizing photosensitive compositions containing aromatic fused polycyclic sulfonic acid and partial ester or phenolic resin with diazoquinone sulfonic acid or diazoquinone carboxylic acid, and associated imaged article
GB8729510D0 (en) * 1987-12-18 1988-02-03 Ucb Sa Photosensitive compositions containing phenolic resins & diazoquinone compounds
JP2623309B2 (ja) * 1988-02-22 1997-06-25 ユーシービー ソシエテ アノニム レジストパターンを得る方法
DE69029104T2 (de) 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
US5002856A (en) * 1989-08-02 1991-03-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thermally stable carbazole diazonium salts as sources of photo-initiated strong acid
US5250392A (en) * 1991-02-04 1993-10-05 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Process of developing a negative-working radiation-sensitive photoresist containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
US5206110A (en) * 1991-02-04 1993-04-27 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Negative-working radiation-sensitive mixtures containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
DE4110057A1 (de) * 1991-03-27 1992-10-01 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung eines mehrfarben-pruefbildes und hierfuer geeignetes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
GB2277382A (en) * 1993-04-19 1994-10-26 Pan Graphics Ind Limited Photoresist composition
GB9326150D0 (en) * 1993-12-22 1994-02-23 Alcan Int Ltd Electrochemical roughening method
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
EP1225478B1 (de) 1998-04-06 2012-12-19 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
ATE439235T1 (de) 1999-05-21 2009-08-15 Fujifilm Corp Lichtempfindliche zusammensetzung und flachdruckplattenbasis damit
US6296982B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging articles
JP2001264979A (ja) * 2000-03-22 2001-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性平版印刷版
US6841330B2 (en) 2000-11-30 2005-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
KR101309055B1 (ko) 2006-05-18 2013-09-16 후지필름 가부시키가이샤 피건조물의 건조 방법 및 장치
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5253433B2 (ja) 2010-02-19 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
CN102834779B (zh) 2010-03-31 2015-07-08 富士胶片株式会社 用于处理平版印刷版原版的显影液,通过使用显影液制备平版印刷版的方法和印刷方法
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
US11675266B2 (en) * 2021-04-15 2023-06-13 Industrial Technology Research Institute Photosensitive compound, photosensitive composition, and patterning method

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL78723C (de) * 1949-07-23
BE508664A (de) * 1951-02-02
NL129161C (de) * 1959-01-14
DE1114705C2 (de) * 1959-04-16 1962-04-12 Kalle Ag Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
NL138044C (de) * 1961-07-28
NL292007A (de) * 1962-04-27
DE1447011A1 (de) * 1963-07-12 1969-01-02 Kalle Ag Mit o-Naphtholchinondiaziden vorsensibilisierte Druckplatten
GB1052699A (de) * 1963-12-03
DE1447975A1 (de) * 1965-11-05 1969-01-16 Standard Elek K Lorenz Ag Verfahren zur Herstellung von Photokopiedacken
GB1116674A (en) * 1966-02-28 1968-06-12 Agfa Gevaert Nv Naphthoquinone diazide sulphofluoride
DE1572085B2 (de) * 1966-07-08 1976-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und kopiermaterial zur duplizierung von silberfilmen
US3635709A (en) * 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
JPS492284B1 (de) * 1969-05-30 1974-01-19
US3669658A (en) * 1969-06-11 1972-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive printing plate
US3647443A (en) * 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
FR2095515A5 (de) * 1970-06-02 1972-02-11 Agfa Gevaert Nv
US3759711A (en) * 1970-09-16 1973-09-18 Eastman Kodak Co Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
GB1347759A (en) * 1971-06-17 1974-02-27 Howson Algraphy Ltd Light sensitive materials

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3510220A1 (de) * 1985-03-21 1986-09-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung

Also Published As

Publication number Publication date
BE816580A (fr) 1974-12-19
NO139458B (no) 1978-12-04
FI58221C (fi) 1980-12-10
AR199440A1 (es) 1974-08-30
DK144345C (da) 1982-07-19
NL177353B (nl) 1985-04-01
AU7015774A (en) 1975-12-18
SE391404B (sv) 1977-02-14
DK144345B (da) 1982-02-22
NL177353C (nl) 1985-09-02
DK327274A (de) 1975-03-03
ZA743882B (en) 1975-06-25
JPS5036209A (de) 1975-04-05
CS167209B2 (de) 1976-04-29
JPS5652301B2 (de) 1981-12-11
GB1463717A (en) 1977-02-09
US3969118A (en) 1976-07-13
DE2331377A1 (de) 1975-01-16
FI186074A (de) 1974-12-21
FR2234584B1 (de) 1981-09-18
NL7407678A (de) 1974-12-24
CA1046332A (en) 1979-01-16
BR7404981D0 (pt) 1975-09-30
NO742238L (de) 1975-01-13
FI58221B (fi) 1980-08-29
AT331636B (de) 1976-08-25
CH601842A5 (de) 1978-07-14
ES427391A1 (es) 1977-03-01
FR2234584A1 (de) 1975-01-17
IT1016063B (it) 1977-05-30
ATA508274A (de) 1975-11-15
NO139458C (no) 1979-03-14
SE7407871L (de) 1974-12-23

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