DE2322230C2 - Lichtempfindliches Gemisch und dessen Verwendung - Google Patents
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- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0381—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using a combination of a phenolic resin and a polyoxyethylene resin
Description
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch,
das eine lichtempfindliche Verbindung und ein Polymerisat oder Mischpolymerisat enthält, und dessen Verwendung
in lichtempfindlichen Materlallen.
Lichtempfindliche Gemische, Druckplatten und Verfahren zur Herstellung von Druckformen sind aus den
britischen Patentschriften 6 99 412, 7 45 886 und 11 10 017 bekannt.
In der britischen Palentschrift 6 99 412 sind Druckplatten
beschrieben, die mit einem lichtempfindlichen Überzug
aus einem wasserunlöslichen Ester oder Amid einer o-Naphthochinondlazldsulfon- oder -carbonsäure und
einem alkall-lösllchen Harz, wie z. B. Novolak, Kolophonium oder Schellack, versehen sind.
Lichtempfindliche Materlallen, die aromatische Azide
und Phenol-Formaldehydharze, Schellack oder Kolophonium
enthalten, sind In der britischen Patentschrift 7 45 886 offenbart.
Die britische Patentschrift 11 10 017 bezieht sich aui
Druckplatten, auf denen ein Überzug aus Novolak oder einem anderen alkall-lösllchen Harz, wie z. B. ein Styrolmlschpolymerlsat,
das Carboxylgruppen enthalt, und einem Kondensationsprodukt von p-Dlazodlphenylamln
aufgebracht Ist.
Aus der DE-OS 18 17 107 sind Mehrmetall-Offsetdruckplatten
mit einer Kopierschicht bekannt, die ein
spezielles Imlnochlnondlazld und eine Polymerkomponente
aus unterschiedlichen Anteilen Novolak, Epoxidharz, durch Kondensation mit Monochlorcsslgsäure
modifiziertem Novolak, carboxylgruppenfrelen fllmblldenden Polymerisaten und/oder carboxylgruppenhaltigen
Mischpolymerisaten von Vinylverbindungen enthüll. Diese Mehrmetall -Offsetdruckplatten sind jedoch üußerst
kostspielig und werden nur In jenen Fällen eingesetzt. In
denen wegen einer besonders hohen Auflage der Preis der Druckplatte keine wesentliche Rolle spielt.
In der DE-OS 19 04 764 sind Orfsetdruckplalten beschrieben, die in ihrer lichtempfindlichen Kopierschicht
spezielle Dlazooxlde und alkalllösllche Novolakharze sowie als erflndungswesentllche Komponente polymere
Carbonsäuren enthalten. Durch Zusatz der polymeren Carbonsäuren soll die erzielbare Druckauflage erhöht
werden, jedoch ist die Zahl der verwendbaren Sensibilisatoren recht beschränkt und die Druckplatten arbeiten
ausschließlich positiv.
Aus der DE-OS 20 34 655 sind andererseits ausschließlich
negativ arbeilende Druckplatten bekannt, die In Ihrer
Konlerschicht lichtempfindliche Diazoniumverbindungen und z's Polymerkomponente Epoxidharze sowie zum
Teil Polyvinylacetat enthalten.
Aus der DE-OS 21 30 283 ist ein lichtempfindliches Gemisch der beanspruchten Gattung bekannt, das beim
S Belichten alkalilöslich wird und durch einen Gehalt an einer lichtempfindlichen Verbindung aus der Gruppe
der o-Chinondiazidverbindungen und an einem Ester aus Polyvinylalkohol und einer Verbindung aus der
Gruppe der aromatischen Carbonsäuren, Sulfonsäuren
ίο und Aldehyde mit phenolischer Hydroxylgruppe gekennzeichnet
ist Das hierbei verwendete Vinylpolymerisat enthält keine Vinylphenoleinheiten, sondern Einheiten
von Hydroxybenzoesäure, Salicylsäure, p-Aminosalicylsäure, Hydroxybenzolsulfonsäure, Hydroxybenzaldehyd
und Vanillin, die mit den Hydroxygruppen von Polyvinylalkohol verestert sind.
Dieses bekannte lichtempfindliche Gemisch kann auf einem Schichtträger in lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien
verwendet werden, wobei als Schichtträger solche aus Aluminium, Zink, Magnesium und deren
Legierungen, aber auch Kunststoffolien, die zur Herstellung gedruckter Schaltungen u. dgl. verwendet
werden, eingesetzt werden. Die bei den bekannten Gemischen verwendeten Vinylpolymere weisen gute Flexibilität
hohe Abriebfestigkeit, hohes Adhäsionsvermögen auf und führen während der Verarbeitung nur selten
zu feinen Löchern oder Kratzern.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein lichtempfindliches Gemisch bereitzustellen, das beim Autbringen auf einen
Schichtträger lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial^, z. B. Druckplatten, mit hoher Druckauflagenhöhe
ergibt, selbst wenn weniger kostspielige Schichtträger wie Kunststoffolien oder mechanisch aufgerauhte Alumlnlumfollen
verwendet werden. Ferner soll das llchtempflndllche Gemisch sowohl für negativ als auch für positiv
arbeitende Druckplatten geeignet sein und als Äl/reslsl
eine wesentlich verbesserte Äi/.lösungsbeständlgkeit aufweisen.
Diese Aufgabe wird erflndungsgemäll bei einem lichtempfindlichen Gemisch der eingangs beschriebenen An dadurch gelöst, daß man ein Polymerisat oder Mischpolymerisat mit Vinylphenoleinheiten verwendet.
Diese Aufgabe wird erflndungsgemäll bei einem lichtempfindlichen Gemisch der eingangs beschriebenen An dadurch gelöst, daß man ein Polymerisat oder Mischpolymerisat mit Vinylphenoleinheiten verwendet.
Die Harze, die In den erfindungsgemäßen lichtempfindlichen
Gemischen und Aufzeichnungsmaterlallcn verwendet werden können, sind Homopolymerisate und
Mischpolymerisate von o-, m- und p-Vlnylphenolen. Die
Vinylphenole können einen oder mehrere Substitucnlen enthalten, die die Eigenschaften der entsprechenden
Polymerisate nicht wesentlich beeinflussen. Diese Substlluenten
können z. B. Alkoxygruppen sein, wie z. B. Methoxy- oder Äthoxygruppen, oder Alkylgruppen, wie
z. B. Methyl- und Isopropylgruppen.
Erflndungsgemilß besonders geeignet sind die Homopolymerisate
von o-Vlnylphenol.
Die Poly vinylphenole können In der Form von Homo·
polymerisaten, Mischpolymerisaten miteinander oder als Mischpolymerisate mit anderen Vinylverbindungen, wie
z. B. Styrol, Acrylsäure, Acrylsäureester, Methacrylsäure und Methacrylsäureester, verwendet werden.
Das Molekulargewicht des Polymerisats ist nicht kritisch.
Obwohl Polymerisate mit einem zahlenmäßigen durchschnittlichen
Molekulargewicht zwischen 2000 und 60 000 vorzugsweise verwendet werden, sind auch PoIy-
f>5 mcrlsale mit höherem oder niedrigcrem Molekulargewicht
erl'liulungscmäß geeignet.
Die Pülyvlnylphenole können durch Block-, Emulsions-
oder Lösungspolymerisation der entsprechenden
Monomeren In Gegenwart eines kationischen Katalysators, wie ζ. B. Bortrlfluorldätherat, hergestellt werden. Es
können auch Kadlkal-Polymerisatlonsniethoden, Initiiert
durch Wärme, Strahlung oder Katalysatoren, wie z. B. Azoblsisobutyronltrll, angewendet werden. Derartige
Polymerisationsverfahren sind Im Detail z. B. in »Journal of Polymer Science«, Tell Al. Bd. 7 (1969) Selten
2175-2184 und 2405-2410, »Journal of Organic Chemistry«, Bd. 24 (1959) Selten 1345-1347 und In »La ChI-mlca c rindusirla.« Bd. 50 (1968) Seiten 742-745,
beschrieben.
Verschiedene Vinylphenole, die zur Herstellung der erflndungsgemäßen Polymerisate geeignet sind, können
durch Hydrolyse von handelsüblichem Kumarln oder substituierten Kumarlnen mit nachfolgender Decarboxylierung der erhaltenen Hydroxyzlmtsäuren hergestellt
werden. Man erhält geeignete Vinylphenole auch durch Dehydratisierung der entsprechenden Hydroxyalkylphenole oder durch Decarboxylierung von Hydroxyzlmtsäurcn, die durch die Reaktion von substituiertem oder
unsubslltulertem Hydroxybenzaldehyd mit Malonsäure erhalten wurden. Verschiedene Herstellungsverfahren
sind Im Detail z. B. In »Journal of Organic Chemistry«
Bd. 23 (1958), Selten 544-549, In »Arklv Tor Keml, Mineralogl och Geolog!« Bd. 16 A (1943) No. 12, Selten 1-20
und In »Annalen der Chemie«, Bd. 413 (1919), Selten 287-309, beschrieben.
Die lichtempfindliche Verbindung kann irgendein bekanntes lichtempfindliches Produkt sein. Erflndungsgcmäß geeignet sind z. B. p-Chlnondlazldc, wie das //-Niiphthylanild einer p-Benzochlnondiazldsulfonsilure, p-Imiiiachinondtazlde gemäß der britischen Patentschriften
7 23 3X2 und 9 42 404, die Kondensatlonsprodukte von Diazoniumsalzen mit Formaldehyd, die In organischen
Lösungsmitteln löslich sind, gemäß der britischen Patentschrift 11 10017 und der französischen Patentschrift 20 22 413, Ko-Kondensatlonsprodukte aromatischer Diazoniumsalze und anderer aromatischer Produkte mit Formaldehyd, wie z. B. das Ko-Kondensailonsprodukl eines Salzes des p-Dlazodiphenylamlns und
4,4'-Bis-methoxymethyldlphenyläther mit Formaldehyd, und aromatische Azide, wie die in der Britischen Patentschrift 7 45 886 beschriebenen Azoverbindungen.
F.rflndungsgemaß geeignet sind jedoch auch andere
lichtempfindliche Komponenten, wie z. B. nledrig-molckulare aromatische Diazoniumsalze, Diazosulfonate von
aromatischen und heterocyclischen Aminen, polymere Produkte, die Chinondiazide Diazo-, Azido- oder andere
lichtempfindliche Gruppen enthalten, und - wenn ein
l'olyalhylenoxld In Mischung mit dem Polyvlnylphcnol
verwendet wird - eine organische Halogenverbindung, wie z. B. Bromoform.
lirflndungsgemäü besonders geeignet sind o-Chinondla/ldc, wie z. B. die aromatischen Ester oder Amide der o-Naphlhochlnondlazldsulfon- oder -carbonsäuren.
lirfindungsgemüß können zusätzlich zu den lichtempfindlichen Komponenten auch noch andere Komponenten In Mischung mit diesen verwendet werden, wie z. B.
Farben, Weichmacher und andere Harze, wie Novolak-
I)Ie erflndungsgemälJcn lichtempfindlichen Aufzclchnungsniaierlallen können Druckplatten, Farbprülungsmalerlalien oder andere Im graphischen Gewerbe verwen:
dete Materialien sein. Je nach dem besonderen Verwendungszweck kann der Schichtträger ein übliches Malerial, wie z. B. Plasllkfollen oder -platten, oder Folien oder
Platten aus Metall, sein. Für Druckplatten werden vorzuKSwclse blnietalllsche oder Irlmetalllsche Folien oder
Platten oder Aluminlumfollen oder -platten verwendet. Die Alumlnlumoberfläche, auf der das lichtempfindliche
Präparat aufgebracht werden soll, wird üblicherweise nach einem mechanischen, chemischen oder elektroche
mischen Verfahren aufgerauht und kann anodisch
behandelt oder mit einem Vorüberzug versehen werden.
Indem man sie mit einer heißen Lösung von Natriumslllkat, Kiillumzlrkonfluorld, Ammoniak, Polyvlnylphosphonsaure. Polyacrylsäure oder anderen Produkten, die
ίο der Oberfläche eine hydrophile Schutzschicht verleihen,
behandelt. Das Aluminium kann auch ohne Vorüberzug verwendet werden, wenn die lichtempfindliche Komponente mit Metallen verträglich 1st.
Die erfindungsgemäßen Druckplatten können hcrge-
is stellt werden. Indem man auf den metallischen Schichtträger eine Lösung der Ilchtempflndllchen Komponente
und das Polymerisat In einen, organischen Lösungsmittel, wie z. B. Alkohol, 2-Äthoxyäthanol, 2-Methoxyathanol. Methylethylketon, Dloxan, Dimethylformamid
otter Mischungen solcher Lösungsmittel, aufbringt. Das Verhältnis des Harzes zur Ilchtempflndllchen Komponente Ist nicht kritisch, aber Üblicherwelse verwendet
man 0,2 bis 20 Gewichtstelle Polymerisat pro Gewlchtstell lichtempfindliche Komponente. Die das Polymerl-
sat enthaltende Schicht kann die übliche Stärke haben.
Z. B.lst ein Gewicht der Schicht zwischen 0,25 bis
25 g/m2 zufriedenstellend. Nach der Belichtung unter einem Transparent-Bild kann die Platte mit organischen
Lösungsmitteln oder mit alkalischen Lösungen, die ein
oder mehrere alkalische Substanzen enthalten, wie z. B.
Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Trlnalrlumphosphul und Nairlumsillkat, entwickelt werden. Besteht der
Schichtträger aus behandeltem oder unbehandellem Aluminium, dann können die Platten einer Nachbehandlung
mit verdünnten Säuren, wie z. B. einer 2%igen Phosphorsäure, zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften
des Blldhintergrunds unterworfen werden. Blmelallische Platten können mit üblichen Ätzlösungen geätzt worden.
Die erfindungsgemäß zu verwendenden ilchlemplind
liehen Gemische sind gegen Ätzlösungen sehr wider
standsfähig. _
Eine hohe Verschleißfestigkeit und gute Adhäsion sind für die bemerkenswerten Druckauflagen verantwortlich, die man mit Druckplatten erhält, deren Blldtelle ein crflndungsgemäß zu verwendendes Harz enthalten. Druckplatten, die eiflndungsgemäß mit einem lichtempfindlichen Prüparat, das o-Chlnondiazld und ein PoIyvlnylphenol enthält, scnsiblllslcrt wurden, sind besonders
gut für hohe Druckauflagen geeignet. Z. B. entspricht die Druckaullage mit einer Alumlnluniplatte, die mit einem
o-Naphlhoehlnondlazidsulfonsäureesier und Polyvlnylphenol
sensibilisiert wurde, mehr als zweimal der Druckauflage mit der entsprechenden Druckplatte, die
ein Novolak anstelle von Polyvinylphenol enthält.
ils wurden 3 Druckplatten (mit a, b, c gekennzeichnet)
hergestellt. Indem man auf 3 mechanisch aufgerauhte
Aluminlumfollen je eine der folgenden Lösungen aufbrachte:
a) 5 g des Kondensationsprodukts von Naphthochlnon-(l,2)-diazld-(2)-5-suirochlorld mit
3,5-Dlmethylphenol
10 g eines Polymerisats von o-Vlnylphenol mit
einem zahlenmäßigen durchschnittlichen Molekulargewicht von 10 000
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dloxan
50 ecm Dloxan
b) 5 g des Kondensationsproduktes von Naphtho-
chlnon-i l^J-dlazld-OJ-S-sulfochlorld mit
3,5-Dlmethylphenol
10 g eines Polymerisats von o-Vlnylphenol mit
10 g eines Polymerisats von o-Vlnylphenol mit
einem zahlenmäßigen durchschnittlichen
Molekulargewicht von 3800
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dloxan
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dloxan
c) 5 g des Kondensatlonsprodukies von Naphtho
chinone l^i-dlazld-^-S-sulfochlorld mit
3,5-Dimethylphenol
10 g eines Novolaks
50 ecm Methyiaihylkeion
50 ecm ülüxan.
10 g eines Novolaks
50 ecm Methyiaihylkeion
50 ecm ülüxan.
Nach dem Trocknen bei einer Temperatur von 80° C
betrug das Überzugsgewicht der Platten 2,2 g/m2. Die
mit dem Überzug versehenen Platten wurden unter einem Positiv belichtet und dann durch Behandlung mit
einem Wattebausch, der mit einer Losung enthaltend
2,5 Gew.-% Trinatriumphosphat (ohne Krislallwasser) und 2 Gew.-% Natriumsilikat (ohne K ristall wasser)
getränkt war, entwickelt.
Die entwickelten und gespülten Platten wurden mit einer 21UgCn wäßrigen Phosphorsäurelosung behandelt
und mit einer Fett-Druckerschwärze elngcsehwär/.l. Die
erhaltenen Planen wurden in einer Offsetdruckmaschine verwendet. Die Platten a) und h) zeigten auch
nach 50 000 Druckvorgängen keine Abnulzungserschcinungcn,
wohingegen die Platte c) nach 22(100 Druckvorgängen die ersten Abnulzungserseheinungcn auf ilen
Drucken aufwies.
2 Druck),lullen (mit a) und b) gekennzeichnet) wurden
hergestellt. Indem man auf 2 mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie!! je eine der folgenden Lösungen aufbrachte.
a) 5 g l-Azldo-2,5-dlmethoxy-4-(p-tolylthio)-
benzol
10 g eines Polymerisats von o-Vlnylphcnol mil
10 g eines Polymerisats von o-Vlnylphcnol mil
einem zahlenmäßigen durchschnittlichen
Molekulargewicht von 3800
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dloxan
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dloxan
h) Sg l-Azldo-2,5-dimelhoxy-4-(p-tolyllhio)-
benzol
10 g eines Novolaks
50 ecm Melhyläthylketon
50 ecm Dioxan
50 ecm Melhyläthylketon
50 ecm Dioxan
Nach dem Trocknen bei einer Temperatur von 80 C betrug das Überzugsgcwieht der Platten 2,2g/nr. Die
überzogenen Folien wurden unter einem Negativ belichtet und durch Behandlung mit einem Wattebausch, der
mit einer tniwlcklerlösung getränkt war, entwickelt. Die
F.ntwicklerlösung für Platte b) bestand aus einer wäßrigen
Lösung von 2,5 Gew.-'\, Trinulrlumphosphat (ohne
Krislallwasser) und 2Gew.-% Natriumsillkal (ohne Kristallwasser).
Da die Plane a) mit dieser Lösung nicht entwickelt werden konnte, wurde sie mit einer Mischung
aus 8 Vol.-Teilen Älhylenglykol, I Vol.-Teil Dläihylcnglykolmonomelhylaiher
und 0,09 Vol.-Teilen kon/. Schuclclsilurc entwickelt.
Die entwickelten und gespülten PL-men wurden mit einer 2'·. igen wäßrigen Phosphorsäurelösung behandelt
und mit einer fettigen Druckerschwärze cingcschwär/t. Die erhaltenen Platten wurden In einer OHsct-Druekniaschine
verwendet. Platte a) zeigte die ersten AbnuUungserscheinungen
nach 35 000 Druckvorgängen auf den Drucken und Platte b) nach 18 000 Druck vorgängen.
Es wurden 4 Druckplatten (mit a, b, c, d gekennzeichnet) hergestellt, indem man auf 4 aufgerauhte Aluminiumfollen
je eine der folgenden Lösungen aufbrachte:
a) 13 g l-(p-Tolylsulfonylimino)-2-(2',3'-dimeihyl-
phcnylaminosulfonyl)-benzoehlnon-(l,4)-dla?ld-(4)
3 g eines Polymerisats von 0-Vlnylphcnol mit
einem zahlenmäßigen durchschnittlichen Molekulargewicht von 10 000
100 ecm Älhylcnglykolmonomclhy lather
100 ecm Älhylcnglykolmonomclhy lather
b) 10 g des Am Ids aus Benzochinone 1,4)-dla/id-
(4)-2-sulfonsäure und 2-Naphlylamln
2 g eines Polymerisats von o-Vinylphenol mit einem /ahlenmäßigen durchschnittlichen
2 g eines Polymerisats von o-Vinylphenol mit einem /ahlenmäßigen durchschnittlichen
Molekulargewicht von 10 000
100 ecm Älhylcnglykolmonomclhyliither
100 ecm Älhylcnglykolmonomclhyliither
c) 10 g des 2-Naphtylsulfunai.s eines Polykondensate
von p-Dia/odlphenylamln und lormaldehyd
2 g eines Polymerisats von o-Vlnylphenol mit einem /.ahlenniilßlgen durchschnittlichen
Molekulargewicht von 10 000
100 ecm Alhylenglykolmonomethyiather
d) 5 g des Kondensalionsprodukls von Naphlhochlnon-(1.2)-diazid-(2)-5-sulfoehlorld mit 3,5-Dlmcthylphenol
100 ecm Alhylenglykolmonomethyiather
d) 5 g des Kondensalionsprodukls von Naphlhochlnon-(1.2)-diazid-(2)-5-sulfoehlorld mit 3,5-Dlmcthylphenol
10 g eines Polymerisats von p-Vinylphcnol mit
einem zahlenmäßigen durchschnittlichen Molekulargewicht von 7500
50 ecm Methyläthylketon
50 ecm Dioxan.
50 ecm Dioxan.
Nach dem Trocknen bei einer Temperatur von 80 C betrug das Überzugsgcwieht der Platten 2,2 g/m'. Die
mit dem Überzug versehenen Platten wurden unter einem Original belichtet und durch Behandlung mit
einem in einer Fntwicklerlösung getränkten Wattebausch
entwickelt. Für die Platten a bis d wurden die folgenden Entwicklerlösungen benutzt:
a) eine wäßrige Lösung enthaltend 1,5 Gew.-\
Na,POj 12 11.0
b) eine wäßrige Lösung enthaltend 0,5 Gew.-c\.
Na1POj · 12 11.0
c) eine wäßrige Lösung enthallend 1 Vol.-Teil konz.
Schwefelsäure. 30 Vol.-Teile Propylalkohol und 70 Vol.-Teile Wasser
d) eine wäßrige Lösung enthaltend 5 Gew.-",, Na1POj · 12 11.0 und 5 Gew.-'\, Na.SiO, · 9 M.O.
Die entwickelten und gespülten Platten wurden mit
einer 2%igcn wäßrigen Lösung von Phosphorsäure behandelt und mit einer fettigen Druckerschwärze elngeschwarzi.
Die erhaltenen Platten wurden In einer Ollsct-Druckmaschine
verwendet und ergaben 2mal so hohe Druckauflagen als man mit entsprechenden Druckplatten
erhielt, die anstelle der erfindungsgemäli zu verwendenden IUirze Novülak enthielten.
Claims (3)
1. Lichtempfindliches Gemisch, das eine lichtempfindliche Verbindung und ein Vinylpolymerisat oder
-mischpolymerisat mit phenolischer Hydroxylgruppe enthält, dadurch gekennzeichnet, daß
das Polymerisat oder Mischpolymerisat Vinylphenoleinheiten enthält
2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymerisat oder
Mischpolymerisat Einheiten von o-Vinylphenol enthält
3. Verwendung des lichtempfindlichen Gemisches nach Anspruch 1 oder 2 auf einem Schichtträger in
lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien.
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Families Citing this family (97)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5236043B2 (de) * | 1974-02-21 | 1977-09-13 | ||
JPS5241050B2 (de) * | 1974-03-27 | 1977-10-15 | ||
JPS51120712A (en) * | 1975-04-15 | 1976-10-22 | Toshiba Corp | Positive type photo-resistant compound |
JPS522519A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Toshiba Corp | Positive photosensitive composite material |
US4009033A (en) * | 1975-09-22 | 1977-02-22 | International Business Machines Corporation | High speed positive photoresist composition |
JPS549619A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Oji Paper Co | Photosensitive composition |
US4259434A (en) * | 1977-10-24 | 1981-03-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for developing positive acting light-sensitive planographic printing plate |
JPS5498614A (en) * | 1978-01-09 | 1979-08-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
DE2855393A1 (de) * | 1978-12-21 | 1980-07-03 | Hoechst Ag | Verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
GB2052084B (en) * | 1979-06-13 | 1983-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Process for preparing photosensitive lithographic printing plate precursor |
JPS5672991A (en) * | 1979-11-19 | 1981-06-17 | Mita Ind Co Ltd | Color former for coloring substance of leucoline and recording material made by use thereof |
JPS56162744A (en) * | 1980-05-19 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Formation of fine pattern |
JPS5730829A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-19 | Hitachi Ltd | Micropattern formation method |
JPS5852638A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-28 | Hitachi Ltd | 放射線感応性組成物 |
JPS5872139A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性材料 |
US4554237A (en) * | 1981-12-25 | 1985-11-19 | Hitach, Ltd. | Photosensitive resin composition and method for forming fine patterns with said composition |
US4439516A (en) * | 1982-03-15 | 1984-03-27 | Shipley Company Inc. | High temperature positive diazo photoresist processing using polyvinyl phenol |
JPS58203433A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS58205147A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
DE3415033C2 (de) * | 1983-04-20 | 1986-04-03 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 4'-Azidobenzal-2-methoxyacetophenon, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltende photoempfindliche Masse |
DE3417607A1 (de) * | 1983-05-12 | 1984-11-15 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Verfahren zur herstellung feiner muster |
JPS60107644A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-06-13 | フイリツプ エイ.ハント ケミカル コ−ポレ−シヨン | 現像しうる水性ネガレジスト組成物 |
US4551409A (en) * | 1983-11-07 | 1985-11-05 | Shipley Company Inc. | Photoresist composition of cocondensed naphthol and phenol with formaldehyde in admixture with positive o-quinone diazide or negative azide |
US4631249A (en) * | 1984-01-16 | 1986-12-23 | Rohm & Haas Company | Process for forming thermally stable negative images on surfaces utilizing polyglutarimide polymer in photoresist composition |
US4569897A (en) * | 1984-01-16 | 1986-02-11 | Rohm And Haas Company | Negative photoresist compositions with polyglutarimide polymer |
DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
JPS60220931A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-11-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂用下地材料 |
EP0164248B1 (de) * | 1984-06-01 | 1991-10-09 | Rohm And Haas Company | Lichtempfindliche Beschichtungszusammensetzung, aus diesem hergestellte thermisch stabile Beschichtungen und Verfahren zur Herstellung von thermisch stabilen Polymerbildern |
DE3421448A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
JPS6161154A (ja) * | 1984-09-03 | 1986-03-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | 微細ネガレジストパターン形成方法 |
DE3445276A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform |
US4600683A (en) * | 1985-04-22 | 1986-07-15 | International Business Machines Corp. | Cross-linked polyalkenyl phenol based photoresist compositions |
JPH0766184B2 (ja) * | 1985-06-04 | 1995-07-19 | 住友化学工業株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5238774A (en) * | 1985-08-07 | 1993-08-24 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive composition containing 1,2-quinonediazide compound, alkali-soluble resin and monooxymonocarboxylic acid ester solvent |
US5215857A (en) * | 1985-08-07 | 1993-06-01 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | 1,2-quinonediazide containing radiation-sensitive resin composition utilizing methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate or methyl 3-methoxypropionate as the solvent |
JPS62123444A (ja) | 1985-08-07 | 1987-06-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
US5256522A (en) * | 1985-08-12 | 1993-10-26 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-naphthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing |
ATE42419T1 (de) * | 1985-08-12 | 1989-05-15 | Hoechst Celanese Corp | Verfahren zur herstellung negativer bilder aus einem positiv arbeitenden photoresist. |
US5217840A (en) * | 1985-08-12 | 1993-06-08 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working o-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment and element produced therefrom |
US4931381A (en) * | 1985-08-12 | 1990-06-05 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment |
DE3528930A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Polymere verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3528929A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
US4758497A (en) * | 1985-08-22 | 1988-07-19 | Polychrome Corporation | Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds |
US5039594A (en) * | 1985-10-28 | 1991-08-13 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4983490A (en) * | 1985-10-28 | 1991-01-08 | Hoechst Celanese Corporation | Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4948697A (en) * | 1985-10-28 | 1990-08-14 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
JPS62102241A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
US4942108A (en) * | 1985-12-05 | 1990-07-17 | International Business Machines Corporation | Process of making diazoquinone sensitized polyamic acid based photoresist compositions having reduced dissolution rates in alkaline developers |
EP0224680B1 (de) * | 1985-12-05 | 1992-01-15 | International Business Machines Corporation | Photoresistzusammensetzungen mit vermindertem Lösungsgrad in basischen Entwicklern, auf Basis von durch Diazochinon sensibilisierter Polyamidsäure |
US4980264A (en) * | 1985-12-17 | 1990-12-25 | International Business Machines Corporation | Photoresist compositions of controlled dissolution rate in alkaline developers |
US4822716A (en) * | 1985-12-27 | 1989-04-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polysilanes, Polysiloxanes and silicone resist materials containing these compounds |
US4720445A (en) * | 1986-02-18 | 1988-01-19 | Allied Corporation | Copolymers from maleimide and aliphatic vinyl ethers and esters used in positive photoresist |
JPS62227143A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-06 | Toshiba Corp | 感光性組成物 |
JPH07113773B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1995-12-06 | 株式会社日立製作所 | パタ−ン形成方法 |
EP0255989B1 (de) * | 1986-08-06 | 1990-11-22 | Ciba-Geigy Ag | Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und Epoxidverbindungen oder Vinylethern |
US5300380A (en) * | 1986-08-06 | 1994-04-05 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers |
US4788127A (en) * | 1986-11-17 | 1988-11-29 | Eastman Kodak Company | Photoresist composition comprising an interpolymer of a silicon-containing monomer and an hydroxystyrene |
US5128230A (en) * | 1986-12-23 | 1992-07-07 | Shipley Company Inc. | Quinone diazide containing photoresist composition utilizing mixed solvent of ethyl lactate, anisole and amyl acetate |
JPH07117747B2 (ja) * | 1987-04-21 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPS63265242A (ja) * | 1987-04-23 | 1988-11-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色画像形成方法 |
JPS6435436A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-06 | Mitsubishi Chem Ind | Photosensitive planographic printing plate |
DE3729035A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial |
US4927956A (en) * | 1987-09-16 | 1990-05-22 | Hoechst Celanese Corporation | 3,5-disubstituted-4-acetoxystyrene and process for its production |
JP2693472B2 (ja) * | 1987-11-26 | 1997-12-24 | 株式会社東芝 | レジスト |
DE3800617A1 (de) * | 1988-01-12 | 1989-07-20 | Hoechst Ag | Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial |
US4824758A (en) * | 1988-01-25 | 1989-04-25 | Hoechst Celanese Corp | Photoresist compositions based on acetoxystyrene copolymers |
DE3812326A1 (de) * | 1988-04-14 | 1989-10-26 | Basf Ag | Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren und photochemisch saeurebildenden verbindungen und verfahren zur herstellung von reliefmustern und reliefbildern |
DE3820699A1 (de) * | 1988-06-18 | 1989-12-21 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US5342727A (en) * | 1988-10-21 | 1994-08-30 | Hoechst Celanese Corp. | Copolymers of 4-hydroxystyrene and alkyl substituted-4-hydroxystyrene in admixture with a photosensitizer to form a photosensitive composition |
DE3837500A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Neue, strahlungsempfindliche verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches gemisch und aufzeichnungsmaterial |
DE3837499A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von substituierten 1,2-naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsaeureestern und deren verwendung in einem strahlungsempfindlichen gemisch |
US5128232A (en) * | 1989-05-22 | 1992-07-07 | Shiply Company Inc. | Photoresist composition with copolymer binder having a major proportion of phenolic units and a minor proportion of non-aromatic cyclic alcoholic units |
DE3940911A1 (de) * | 1989-12-12 | 1991-06-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung negativer kopien |
DE4002397A1 (de) * | 1990-01-27 | 1991-08-01 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE4003025A1 (de) * | 1990-02-02 | 1991-08-08 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE4004719A1 (de) * | 1990-02-15 | 1991-08-22 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
US5210137A (en) * | 1990-11-19 | 1993-05-11 | Shell Oil Company | Polyketone polymer blends |
EP0501919A1 (de) * | 1991-03-01 | 1992-09-02 | Ciba-Geigy Ag | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen auf der Basis von Polyphenolen und Acetalen |
US5200460A (en) * | 1991-04-30 | 1993-04-06 | Shell Oil Company | Polyacetal polymer blends |
US5340687A (en) * | 1992-05-06 | 1994-08-23 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Chemically modified hydroxy styrene polymer resins and their use in photoactive resist compositions wherein the modifying agent is monomethylol phenol |
US5550004A (en) * | 1992-05-06 | 1996-08-27 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Chemically amplified radiation-sensitive composition |
KR950004908B1 (ko) * | 1992-09-09 | 1995-05-15 | 삼성전자주식회사 | 포토 레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
DE19507618A1 (de) * | 1995-03-04 | 1996-09-05 | Hoechst Ag | Polymere und diese enthaltendes lichtempfindliches Gemisch |
US5853947A (en) * | 1995-12-21 | 1998-12-29 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Quinonediazide positive photoresist utilizing mixed solvent consisting essentially of 3-methyl-3-methoxy butanol and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5719004A (en) * | 1996-08-07 | 1998-02-17 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Positive photoresist composition containing a 2,4-dinitro-1-naphthol |
US5763135A (en) * | 1996-09-30 | 1998-06-09 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Light sensitive composition containing an arylhydrazo dye |
US6103443A (en) * | 1997-11-21 | 2000-08-15 | Clariant Finance Lmited | Photoresist composition containing a novel polymer |
DE19803564A1 (de) | 1998-01-30 | 1999-08-05 | Agfa Gevaert Ag | Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen |
US6783914B1 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Encapsulated inorganic resists |
US6936398B2 (en) | 2001-05-09 | 2005-08-30 | Massachusetts Institute Of Technology | Resist with reduced line edge roughness |
KR20140014217A (ko) | 2011-03-10 | 2014-02-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 여과 매체 |
US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
US9217920B2 (en) | 2012-08-09 | 2015-12-22 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3230087A (en) * | 1959-02-26 | 1966-01-18 | Azoplate Corp | Light-sensitive polymeric diazonium and azidoacrylamido reproduction materials and process for making plates therefrom |
BE606888A (de) * | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
US3615532A (en) * | 1963-12-09 | 1971-10-26 | Union Carbide Corp | Printing plate compositions |
US3396020A (en) * | 1965-11-16 | 1968-08-06 | Azoplate Corp | Planographic printing plate |
GB1136544A (en) * | 1966-02-28 | 1968-12-11 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical cross-linking of polymers |
US3625919A (en) * | 1967-02-10 | 1971-12-07 | Hiroyoshi Kamogawa | Process for the preparation of diazotized vinylphenol polymers having phototropic properties |
US3589898A (en) * | 1968-10-08 | 1971-06-29 | Polychrome Corp | Litho plate |
DE1817107C3 (de) * | 1968-12-27 | 1980-09-11 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Vorsensibilisierte MehrmetaU-Offsetdruckplatte |
DE1904764A1 (de) * | 1969-01-31 | 1970-09-10 | Algraphy Ltd | Positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatten und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US3669658A (en) * | 1969-06-11 | 1972-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive printing plate |
US3647443A (en) * | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
JPS508658B1 (de) * | 1970-06-19 | 1975-04-05 | ||
US3666473A (en) * | 1970-10-06 | 1972-05-30 | Ibm | Positive photoresists for projection exposure |
US3778270A (en) * | 1970-11-12 | 1973-12-11 | Du Pont | Photosensitive bis-diazonium salt compositions and elements |
-
1972
- 1972-05-05 GB GB2119172A patent/GB1375461A/en not_active Expired
-
1973
- 1973-04-16 NL NL7305260.A patent/NL164140C/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-04-23 JP JP4658073A patent/JPS5629261B2/ja not_active Expired
- 1973-05-03 FR FR7315857A patent/FR2183748B1/fr not_active Expired
- 1973-05-03 US US357025A patent/US3869292A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-05-03 DE DE2322230A patent/DE2322230C2/de not_active Expired
- 1973-05-03 SE SE7306232A patent/SE403662B/xx unknown
- 1973-05-04 IT IT68257/73A patent/IT985848B/it active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL164140B (nl) | 1980-06-16 |
IT985848B (it) | 1974-12-20 |
SE403662B (sv) | 1978-08-28 |
JPS4948403A (de) | 1974-05-10 |
FR2183748B1 (de) | 1977-02-11 |
NL164140C (nl) | 1980-11-17 |
FR2183748A1 (de) | 1973-12-21 |
GB1375461A (de) | 1974-11-27 |
DE2322230A1 (de) | 1973-11-22 |
JPS5629261B2 (de) | 1981-07-07 |
NL7305260A (de) | 1973-11-07 |
US3869292A (en) | 1975-03-04 |
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