DE2231815A1 - Recording corpuscular radiation - using non-photosensitive supported copying layer - Google Patents
Recording corpuscular radiation - using non-photosensitive supported copying layerInfo
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Abstract
Description
Beschreibung zur Anmeldung der Material und Verfahren zur Aufzeichnung von Korpuskularstrahlen Die Erfindung betrifft ein Material und Verfahren zur Aufzeichnung von Korpuskularstrahlen, insbesondere für die Herstellung von Offsetdruckformen. Description of the registration of the material and method of recording of corpuscular rays The invention relates to a material and method for recording of corpuscular beams, especially for the production of offset printing forms.
Es ist bekannt, lichtempfindliche Fotolackschichten auf Werkstücken, z. B. Halbleiterscheiben, selektiv mit Elektronen zu bestrahlen (z. B. DOS 1 614 635 und GB 1 121 688). Nach der Bestrahlung werden die von den Elektronen getroffenen Teile des Resists durch Entwickeln entfernt, und die Weiterverarbeitung erfolgt nach den in der Halbleitertechnik üblichen Verfahren.It is known to apply light-sensitive photoresist layers on workpieces, z. B. semiconductor wafers to be selectively irradiated with electrons (e.g. DOS 1 614 635 and GB 1 121 688). After the irradiation, those hit by the electrons are Parts of the resist removed by developing, and further processing takes place according to the usual procedures in semiconductor technology.
Es ist auch bekannt, UV-lichtunempfindliche Polymerschichten zur Herstellung von Ätzbildern bzw. ätzbeständigen Masken mit Elektronen zu bestrahlen. Doch sind diese zur Herstellung von Flachdruckformen wenig geeignet, weil sie beispielsweise vor und/oder nach der Bestrahlung sehr zeitaufwendig vorzugsweise eingebrannt werden müssen (DOS 1 696 489, DOS 1 622 285, GB 1 057 947) undloder mit organischen Lösungsmitteln in ökologisch nachteiliger Weise entwickelt werden müssen.It is also known to produce polymer layers which are insensitive to UV light to irradiate etched images or etch-resistant masks with electrons. But are these are not very suitable for the production of planographic printing forms because they are, for example before and / or after the irradiation, preferably baked in, which is very time-consuming must (DOS 1 696 489, DOS 1 622 285, GB 1 057 947) and / or with organic solvents must be developed in an ecologically disadvantageous manner.
Aufgabe der Erfindung war es, ein Aufzeichnungsmaterial und -verfahren für Elektronenstrahlen zu finden, das vielseitig anwendbar ist und eine Entwicklung mit wäßrigen Lösungen erlaubt.The object of the invention was to provide a recording material and method for electron beams, which is versatile and a development allowed with aqueous solutions.
Gegenstand der Erfindung ist ein Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer nicht lichtempfindlichen, gegenüber Korpuskularstrahlen empfindlichen Kopierschicht.The invention relates to a recording material made from a carrier and one that is non-photosensitive and sensitive to corpuscular rays Copy layer.
Das Aufzeichnungsmaterial ist dadurch gekennzeichnet, daß die Kopierschicht als wesentlichen Bestandteil eine monomere oder polymere organische Substanz mit einem Molekulargewicht oberhalb etwa 150 enthält.The recording material is characterized in that the copying layer with a monomeric or polymeric organic substance as an essential component a molecular weight above about 150 contains.
Vorzugsweise enthält die Kopierschicht als polymere organische Substanz ein Epoxyharz, Maleinatharz, Acetalharz, Polyamid, Styrolpolymerisat, Acrylesterpolymerisat, einen Polyester, Polyvinylester, ein Formaldehydkondensationsharz, einen Celluloseäther, Celluloseester, Polyvinylalkohol, -Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylphosphonsäure, Gelatine, Casein oder Albumin.The copying layer preferably contains the polymeric organic substance an epoxy resin, maleic resin, acetal resin, polyamide, styrene polymer, acrylic ester polymer, a polyester, polyvinyl ester, a formaldehyde condensation resin, a cellulose ether, Cellulose ester, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyvinylphosphonic acid, Gelatin, casein or albumin.
Als monomere organische Substanzen kommen vor allem gesättigte oder ungesättigte Fettsäuren mit mindestens 10 Kohlenstoffatomen in Betracht, Erfindungsgemäß wird ferner ein Verfahren zur Bildaufzeichnung mittels Elektronenstrahlen vorgeschlagen, bei dem ein Aufzeichnungsmaterial der oben beschriebenen Art bildmäßig mit Elektronen bestrahlt und mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entwickelt wird.As monomeric organic substances there are mainly saturated or unsaturated fatty acids with at least 10 carbon atoms are possible according to the invention a method for image recording by means of electron beams is also proposed, in which a recording material of the type described above is imagewise with electrons irradiated and developed with water or an aqueous solution.
Das erfindungsgemäße Material eignet sich insbesondere für die Herstellung von Offsetdruckplatten und wird daher vorzugsweise mit einem lithographischen Träger versehen.The material according to the invention is particularly suitable for manufacture of offset printing plates and is therefore preferably used with a lithographic support Mistake.
Als lithographische Druckträger sind die verschiedensten Materialien wie Papier, Zink, Magnesium, Aluminium, Chrom, Kupfer, Messing, Stahl und Mehrmetall- oder Kunststoffolien geeignet. Vorzugsweise wird mechanisch, chemisch oder mit Hilfe des elektrischen Stroms aufgerauhtes und/oder anodisiertes Aluminium verwendet, das vorteilhaft vor der Sensibilisierung mit Phosphonsäuren oder Derivaten von Phosphonsäuren gemäß der deutschen Patentschrift 1 160 733, mit Alkalisilikat gemäß der deutschen Patentschrift 907 147, mit Zirkon- oder Titanhexahalogeniden gemäß den deutschen Auslegeschriften 1 183 919 und 1 192 666 oder mit monomeren und/oder polymeren Carbonsäuren vorbehandelt worden ist.A wide variety of materials are used as lithographic printing media such as paper, zinc, magnesium, aluminum, chrome, copper, brass, steel and multi-metal or plastic films are suitable. Preferably mechanically, chemically or with the aid roughened and / or anodized aluminum is used for the electrical current, this is advantageous before sensitization with phosphonic acids or derivatives of phosphonic acids according to the German patent specification 1 160 733, with alkali silicate according to the German Patent 907 147, with zirconium or titanium hexahalides according to the German Auslegeschriften 1 183 919 and 1 192 666 or with monomeric and / or polymeric carboxylic acids has been pretreated.
Als lichtunempfindliche Kopierschichten sind, wie oben erwähnt, solche geeignet, die ausschließlich oder überwiegend aus monomeren oder polymeren organischen Stoffen bestehen, z. B. gesättigten und/oder ungesättigten Fettsäuren, Novolaken, Epoxyharzen, Maleinatharzen, Polyvinylacetalen, Polyestern, Harnstoff- oder Melaminharzen, Resolen, Polyvinylphosphonsäure, Methozymethyl-perlon, Polystyrol, Polyvinylalkohol, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon oder aus Naturstoffen, wie Gelatine, Schellack, Casein, Albumin, Kolophonium. Auch Mischungen derselben sind brauchbar. Den Schichten können zusätzlich in kleinen Mengen Farbstoffe, Weichmacher und Netzmittel zugesetzt werden.As mentioned above, the light-insensitive copying layers are those suitable consisting exclusively or predominantly of monomeric or polymeric organic Fabrics exist, e.g. B. saturated and / or unsaturated fatty acids, novolaks, epoxy resins, Maleinate resins, polyvinyl acetals, polyesters, urea or melamine resins, resoles, Polyvinyl phosphonic acid, methozymethyl perlon, polystyrene, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, Polyvinylpyrrolidone or from natural substances such as gelatin, shellac, casein, albumin, Rosin. Mixtures of these can also be used. The layers can be added dyes, plasticizers and wetting agents are added in small amounts.
Als Lösungsmittel für die fabrikatorisqhe Herstellung der Schichten aus wasserunlöslichen Substanzen kommen allgemein als gute Löser bekannte Flüssigkeiten in Frage wie Alkohole, Amide und Ketone; bevorzugt sind Athylenglykolmonomethyläther Athylenglykolmonoäthyläther, Dimethylformamid, Diacetonalkohol und Butyrolacton.As a solvent for the fabrikatorisqhe production of the layers water-insoluble substances result in liquids generally known as good solvents in question such as alcohols, amides and ketones; Ethylene glycol monomethyl ethers are preferred Ethylene glycol monoethyl ether, dimethylformamide, diacetone alcohol and butyrolactone.
Zur Erzielung gleichmäßiger Schichten werden im Falle organischer Lösungsmittel diesen oftmals noch Äther und/oder Ester wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Butylacetat und Äthylenglykolmethylätheracetat zugesetzt. Für die in Wasser löslichen Stoffe sind natürlich auch Wasser oder Wasser-Alkohol-Gemische geeignet.In order to achieve even layers, organic Solvent these often also ethers and / or esters such as dioxane, tetrahydrofuran, Butyl acetate and ethylene glycol methyl ether acetate were added. For those soluble in water Substances are of course also suitable for water or water-alcohol mixtures.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Kopiermaterials für die Druckplattenherstellung werden die oben genannten Stoffe in einem oder mehreren der genannten Lösungsmittel gelöst, auf einen geeigneten Schichtträger aufgebracht, und die aufgetragene Lösung wird getrocknet.For the production of the copy material according to the invention for the production of printing plates the substances mentioned above in one or more of the solvents mentioned dissolved, applied to a suitable layer support, and the applied solution is dried.
Die Beschichtung kann durch Aufschleudern, Sprühen, Tauchen, Antragen mittels Walzen oder mit Hilfe eines Flüssigkeitsfilms erfolgen und richtet sich auch nach den Eigenschaften des zu beschichtenden Materials.The coating can be applied by centrifuging, spraying, dipping or applying take place by means of rollers or with the aid of a liquid film and aligns itself also according to the properties of the material to be coated.
Die beschichteten Druckträger werden mit Elektronen in einer Ladungsdichte von etwa 10 8 bis 10 2 Coul./cm2 bei einer Beschleunigungsspannung von etwa 5 bis 50 kV bestrahlt. Je nach Empfindlichkeit der eingesetzten Schichten werden Zeiten von 0,005 bis 10 Sekunden pro 2 cm Wegstrecke bei Strahlstromstärken von 1/ uA bis 1000/ um benötigt. Da die Schichten lichtunempfindlich, auch gegenüber UV-Licht, sind, kann die Bestrahlung im Tageslicht erfolgen. Der Elektronenstrahl wird zweckmäßig mittels einer vorgegebenen programmierten Strich-und/oder Raster-Bewegung gesteuert.The coated print carriers are charged with electrons in a charge density from about 10 8 to 10 2 coul./cm2 at an accelerating voltage of about 5 to 50 kV irradiated. Times are depending on the sensitivity of the layers used from 0.005 to 10 seconds per 2 cm distance at beam currents from 1 / uA to 1000 / um needed. Since the layers are insensitive to light, also to UV light, the irradiation can take place in daylight. The electron beam becomes appropriate controlled by means of a predetermined programmed line and / or grid movement.
Welche Reaktionen beim Auftreffen des Strahls in der Schicht in Abhängigkeit von der Energie des Strahls stattfinden, ist noch ungeklärt. In den weiter unten beschriebenen Beispielen wird die Schicht entweder an den vom Strahl getroffenen Stellen unlöslich oder löslich. Es ist anzunehmen, daß im ersteren Falle eine Polymerisation bzw. Vernetzung, im zweiten Falle eine Depolymerisation oder eine oxydative Einführung von löslichmachenden Gruppen erfolgt. Ob eine Abnahme oder Zunahme der Löslichkeit eintritt, hängt von der Zusammensetzung der Schicht und gegebenenfalls noch von der Bestrahlungsdosis und dem Entwickler ab. In jedem Einzelfall läßt sich das Schichtverhalten durch einfache Vorversuche leicht ermitteln. Für die Herstellung von Flachdruckformen wird bevorzugt so gearbeitet, daß eine Löslichkeitsverminderung oder Schichthärtung eintritt, weil in diesem Fall nach der Entwicklung und dem Einfärben der lithografischen Druckform mit fetter Farbe ein positives Bild erhalten wird.Which reactions when the beam hits the layer depending on of the energy of the ray taking place is still unexplained. In the below described For example, the layer is either insoluble at the points struck by the beam or soluble. It can be assumed that in the former case a polymerization or Crosslinking, in the second case a depolymerization or an oxidative introduction by solubilizing groups. Whether a decrease or an increase in solubility occurs depends on the composition of the layer and possibly also on the exposure dose and the developer. The layer behavior can be determined in each individual case easily determined by simple preliminary tests. For the production of planographic printing forms it is preferred to work in such a way that a reduction in solubility or layer hardening occurs because in this case after the development and inking of the lithographic Printing form with bold color a positive image is obtained.
Als Entwickler sind überraschenderweise sowohl bei anfangs wasserlöslichen als auch wasserunlöslichen Schichten Wasser oder alkalische oder saure wäßrige Lösungen geeignet, die anorganische Salze, schwache Säuren und ggf. Netzmittel enthalten. Brauchbar sind auch wäßrige Lösungen, die bis zu etwa einem Drittel ihres Volumens niedere aliphatische Alkohole, z. B.As a developer are surprisingly both initially water-soluble as well as water-insoluble layers water or alkaline or acidic aqueous solutions suitable, which contain inorganic salts, weak acids and possibly wetting agents. Are useful also aqueous solutions, up to about a third their volume lower aliphatic alcohols, e.g. B.
Propanol, oder andere mit Wasser mischbare organische Lösungsmittel enthalten.Propanol, or other water-miscible organic solvents contain.
Das nicht lichtempfindliche Kopiermaterial besitzt eine sehr gute Lagerfähigkeit auch bei höheren Temperaturen und Wassergehalten der Luft und im Licht. Es zeigt ferner gute Entwicklerresistenz, während sich die Nichtbildstellen der Kopierschicht schnell und sauber durch die wäßrigen, nicht brennbaren Entwickler entfernen lassen. Die erhaltenen Druckformen liefern eine gute Anzahl von Druckkopien.The non-photosensitive copy material has a very good one Can be stored even at higher temperatures and water contents in the air and in the Light. It also shows good developer resistance while the non-image areas the copy layer quickly and cleanly thanks to the aqueous, non-flammable developer have it removed. The printing forms obtained provide a good number of printed copies.
Durch Variation der Zusammensetzung der Schichten und der Elektronenstrahlbedingungen kann man die Eigenschaften der Kopiermaterialien für besondere Anwendungszwecke, wie sie beispielsweise für automatische Druckformherstellung in sogenannten Kopierstraßen notwendig sind, in weiten Bereichen steuern.By varying the composition of the layers and the electron beam conditions one can determine the properties of the copy materials for special purposes, as used, for example, for automatic printing form production in so-called copier lines are necessary to control in wide areas.
Nach den erfindungsgemäßen Verfahren werden vor allem Druckformen für den Flachdruck hergestellt. Die Kopiermaterialien können auch nach dem Entwickeln durch Ätzen in Hoch- oder Tiefdruckformen oder in Offset-Mehrmetalldruckformen übergeführt werden. Ebenso können die erfindungsgemäßen Kopiermassen zur Herstellung kopierter Schaltungen, von Siebdruckformen, Gerbbildern und dgl. verwendet werden.The process according to the invention is primarily used for printing forms manufactured for planographic printing. The copy materials can also be used after developing by etching in relief or intaglio printing forms or in offset multi-metal printing forms be transferred. The copying compositions according to the invention can also be used for production copied circuits, screen printing forms, tanning images and the like. Can be used.
Die folgenden Beispiele erläutern bevorzugte Ausführungsformen. Prozentangaben sind, wenn nichts anderes angegeben ist, Gewichtsprozente. Als Gewichtsteil (Gt.) ist 1 g zu setzen; wenn als Volumenteil (Vt) 1 com gewählt wird.The following examples illustrate preferred embodiments. Percentages are, unless otherwise specified, percentages by weight. As part by weight (Gt.) put 1 g; if 1 com is selected as the volume part (Vt).
Beispiel 1 Eine Aluminiumplatte von 0,3 mm Dicke wird durch Bürsten mechanisch aufgerauht und 3 Minuten bei 700 C in 20 %ige Trinatriumphosphatlösung getaucht, mit Wasser gespült, 15 Sekunden lang mit 70 %iger Salpetersäure behandelt und nach nochmaligem Spülen mit warmem Wasser 3 Minuten in 2 %einer Natriumsilikat-Lösung bei 850 C vorbehandelt, mit Wasser gespült und getrocknet.Example 1 An aluminum plate 0.3 mm thick is made by brushing mechanically roughened and 3 minutes at 700 C in 20% trisodium phosphate solution dipped, rinsed with water, treated with 70% nitric acid for 15 seconds and after rinsing again with warm water for 3 minutes in 2% sodium silicate solution Pretreated at 850 C, rinsed with water and dried.
Diese vorbehandelte Al-Platte wird mit einer Lösung von 5 Gt. des Novolaks Alnovol PN 429 in 75 Gt.This pretreated Al plate is treated with a solution of 5 pbw. of Novolaks Alnovol PN 429 in 75 Gt.
Äthylenglykolmonomethyläther und 20 Gt, Butylacetat beschichtet und getrocknet.Ethylene glycol monomethyl ether and 20 pbw, butyl acetate coated and dried.
Die nicht lichtempfindliche, jahrelang lagerfähige beschichtete Al-Platte wird nun mit mittelschnellen Elektronen mit Energien um 10-15 kV im Hochvakuum (etwa 10 5 Torr) bildmäßig bestrahlt. Die Strahlstromstärke beträgt 20,um und die Ablenkgeschwindigkeit 0,5 sec/2 cm Weglänge. Mit gleichem Erfolg kann man 100,uA und 0,05 sec/2 cm wählen.The non-light-sensitive coated aluminum plate that can be stored for years is now with medium-fast electrons with energies around 10-15 kV in a high vacuum (approx 10 5 Torr) irradiated imagewise. The beam current is 20 µm and the deflection speed 0.5 sec / 2 cm path length. With the same success you can choose 100, uA and 0.05 sec / 2 cm.
Die derart bestrahlte Platte wird danach in der in der deutschen Patentschrift 1 200 133 beschriebenen Art mit einer wäßrigen Lösung, die 5,0 % Natriummetasilikat ~ 9 Wasser, 3,0 % Trinatriumphosphat ~ 12 Wasser und 0,4 % Mononatriumphosphat enthält, überwischt. Dabei werden die nicht vom Elektronenstrahl getroffenen Stellen der Novolakschicht abgelöst und das hydrophile Aluminium freigelegt. An den vom Strahl getroffenen Stellen ist die Novolakschicht vollkommen unlöslich gegenüber dem verwendeten Entwickler, Mit gleichem Erfolg können anstelle des Novolaks folgende Harze oder Mischungen derselben auf Aluminium aufgebracht, bestrahlt und entwickelt werden: ein Epoxyharz aus Bisphenol A und Epichlorhydrin mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 450-500, ein Styrol- Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisat mit der Säurezahl 180 und dem mittleren Molekulargewicht 20000, ein nichtplastifiziertes Melaminharz (Resamin 533 F), ein ölfreies Alkydharz (Schmelzbereich 75-850 C, Säurezahl 180-200), Polystyrol LG, Kolophonium, Schellack und Casein.The plate irradiated in this way is then described in the German patent specification 1 200 133 type described with an aqueous solution containing 5.0% sodium metasilicate Contains ~ 9 water, 3.0% trisodium phosphate ~ 12 water and 0.4% monosodium phosphate, wiped over. The areas not hit by the electron beam are the Novolak layer peeled off and the hydrophilic aluminum exposed. To the one from the beam The novolak layer is completely insoluble compared to the one used Developer, The following resins or Mixtures of these are applied to aluminum, irradiated and developed: an epoxy resin composed of bisphenol A and epichlorohydrin having an epoxy equivalent weight from 450-500, a styrene Maleic anhydride copolymer with with an acid number of 180 and an average molecular weight of 20,000, a non-plasticized one Melamine resin (Resamin 533 F), an oil-free alkyd resin (melting range 75-850 C, acid number 180-200), polystyrene LG, rosin, shellac and casein.
Wenn man anstelle des oben beschriebenen wäßrigalkalischen Entwicklers einen sauren Entwickler der Zusammensetzung 5,0 Gt. Magnesiumsulfat 0,5 Gt. nichtionisches Netzmittel 20,0 Gt. Propanol 75,0 Gt. Wasser verwendet, kann man den Al-Träger mit folgenden Harzen beschichten und bestrahlen: Härtbares Phenol-Formaldehyd-Harz (Phenodur 373 U), Polyvinylacetat mit dem mittleren Molekulargewicht 110 000, Vinylacetat-Crotonsäure-Mischpolymerisat (Mowilith Ct 30), Polyester aus 2,5 Mol Adipinsäure, 0,5 Mol Phthalsäure und 4 Mol Triol oder Polyvinylformal (Formvar 12/85).If instead of the aqueous alkaline developer described above an acidic developer of the composition 5.0 pbw. Magnesium sulfate 0.5 pbw nonionic Wetting agent 20.0 pbw Propanol 75.0 pbw If water is used, one can use the Al carrier with coat and irradiate the following resins: Hardenable phenol-formaldehyde resin (Phenodur 373 U), polyvinyl acetate with an average molecular weight of 110,000, vinyl acetate-crotonic acid copolymer (Mowilith Ct 30), polyester made from 2.5 mol of adipic acid, 0.5 mol of phthalic acid and 4 mol Triol or polyvinyl formal (Formvar 12/85).
Beispiel 2 Eine walzblanke Al-Rolle wird im Bandverfahren mechanisch durch Körnen aufgerauht und mit einer 4 %igen Lösung von Polyvinylpyrrolidon in Wasser beschichtet und getrocknet.Example 2 A bright-rolled Al roll is made mechanically in the strip process roughened by graining and with a 4% solution of polyvinylpyrrolidone in Water coated and dried.
Das nicht lichtempfindliche Material wird zu Stücken zerschnitten und, wie in Beispiel 1 beschrieben, bildmäßig mit mittelschnellen Elektronen bestrahlt, jedoch mit einer Ablenkgeschwindigkeit von 5 sec/2 cm Wellenlänge. Nach der Bestrahlung wird die Al-Folie mit reinem Wasser überwischt, wobei die nicht von den Strahlen getroffenen Schichtteile abgelöst werden.The non-photosensitive material is cut into pieces and, as described in Example 1, irradiated imagewise with medium-fast electrons, but with a deflection speed of 5 sec / 2 cm wavelength. After the irradiation the aluminum foil is wiped over with pure water, which is not exposed to the rays affected parts of the layer are detached.
Die getroffenen Teile sind danach mit fetter Farbe einfärbbar.The affected parts can then be colored with bold paint.
Gleichgute Ergebnisse erhält man, wenn man statt Polyvinylpyrrolidon 0,5 % Gelatine, 0,5 % Carboxymethylcellulose oder 5 % Polyvinylalkohol mit dem K-Wert 50 und 12 % unverseiften Vinylacetateinheiten in Wasser gelöst als Beschichtungslösung verwendet.Equally good results are obtained if one uses instead of polyvinylpyrrolidone 0.5% gelatin, 0.5% carboxymethyl cellulose or 5% polyvinyl alcohol with the K value 50 and 12% unsaponified vinyl acetate units dissolved in water as a coating solution used.
Beispiel 3 Eine anodisierte Al-Platte wird mit einer 5 %igen Lösung von Methoxymethyl-perlon in Äthanol beschichtet und mit der in Beispiel 1 beschriebenen Apparatur bildmäßig bestrahlt, jedoch mit der Ablenkgeschwindigkeit von 10 sec/2 cm Weglänge. Beim Entwickeln mit dem in Beispiel 1 beschriebenen sauren Entwickler wird die Schicht an den bestrahlten Stellen abgelöst, die unbestrahlten Stellen sind oleophil und werden mit fetter Farbe eingefärbt.Example 3 An anodized Al plate is made with a 5% solution coated by methoxymethyl perlon in ethanol and with that described in Example 1 Apparatus irradiated imagewise, but with a deflection speed of 10 sec / 2 cm path length. When developing with the acidic developer described in Example 1 the layer is peeled off at the irradiated areas, the non-irradiated areas are oleophilic and are colored with bold paint.
Gleichgute Bilder erhält man, wenn man mit dem Maleinatharz Älresat 313 oder mit Polybutylmethacrylat in Äthylenglykolmonomethyläther beschichtet und ebenso wie oben entwickelt, oder wenn man mit Nitrocellulose beschichtet und mit einer Lösung entwickelt, die 1,5 % Natriummetasilikat und 0,3 % Polyglykol enthält.Images of the same quality are obtained by using ealresat with the maleinate resin 313 or coated with polybutyl methacrylate in ethylene glycol monomethyl ether and just like developed above, or if one coated with nitrocellulose and with a solution containing 1.5% sodium metasilicate and 0.3% polyglycol.
Beispiel 4 Eine wasserfeste Papierdruckfolie wird mit 0,1 % ölsäure in Äthylenglykolmonomethyläther beschichtet und mit dem Elektronenstrahl bildmäßig bestrahlt.Example 4 A waterproof paper printing film is made with 0.1% oleic acid coated in ethylene glycol monomethyl ether and imagewise with the electron beam irradiated.
Die Strahlstromstärke beträgt 100/um und die Ablenkgeschwindigkeit 5 sec/2 cm Weglänge. Bei der Entwicklung mit reinem Wasser wird die Schicht an den bestrahlten Stellen abgelöst, an den nicht bestrahlten Stellen bleibt sie erhalten, ist oleophil und wird mit fetter Farbe eingefärbt.The beam current is 100 µm and the deflection speed 5 sec / 2 cm path length. When developing with pure water, the layer is applied to the detached from irradiated areas, it remains in the non-irradiated areas, is oleophilic and is colored with bold paint.
Beispiel 5 Eine hydrophilierte Polyesterdruckfolie wird mit 0,5 %iger Stearinsäurelösung in Äthylenglykolmonomethyläther beschichtet und mit dem Elektronenstrahl mit der Ablenkgeschwindigkeit von 10 sec12 cm Weglänge bei einer Strahlstromstärke von 20,uA bestrahlt. Bei der Entwicklung mit dem in Beispiel 1 genannten alkalischen Entwickler wird die Schicht an den nicht bestrahlten Stellen entfernt. Die bestrahlten Stellen sind oleophil und werden eingefärbt.Example 5 A hydrophilized polyester printing film is made with 0.5% Stearic acid solution coated in ethylene glycol monomethyl ether and with the electron beam with a deflection speed of 10 sec, 12 cm path length at a beam current strength of 20, uA irradiated. When developing with the alkaline mentioned in Example 1 Developer, the layer is removed from the non-irradiated areas. The irradiated Areas are oleophilic and are colored.
Beisp#iel 6 Eine anodisierte Al-Platte wird mit einer 0,01 %igen Laurinsäurelösung in Äthylenglykolmonomethyläther beschichtet und mit dem Elektronenstrahl mit der Ablenkgeschwindigkeit von 5 sec/2 cm Weglänge bei einer Strahlstromstärke von 100/ um bestrahlt, Bei der Entwicklung mit dem in Beispiel 1 genannten alkalischen Entwickler wird die Schicht an den nicht bestrahlten Stellen entfernt. Beim Einfärben mit fetter Farbe erhält man ein oleophiles Bild auf hydrophilem Grund.Example 6 An anodized Al plate is coated with a 0.01% lauric acid solution coated in ethylene glycol monomethyl ether and with the electron beam with the Deflection speed of 5 sec / 2 cm path length a beam current of 100 / µm irradiated, in the development with the alkaline mentioned in Example 1 Developer, the layer is removed from the non-irradiated areas. When coloring a bold color gives an oleophilic image on a hydrophilic base.
Mit gleich gutem Erfolg kann statt der Laurinsäure Stearinsäure zum Beschichten verwendet werden.With equal success, stearic acid can be used instead of lauric acid Coating can be used.
Beispiel 7 Eine mechanisch gekörnte Al-Platte wird durch Tauchen in 800 C heiße 0,4 %ige wäßrige Polyvinylphosphonsäure beschichtet, getrocknet und mit einem Elektronenstrahl bildmäßig bestrahlt. Der Strahl hat die Stromstärke sec von 41uA und die Ablenkgeschwindigkeit von 5 ehe/2 cm Weglänge. Danach wird mit 2 %iger wäßriger Orthophosphorsäure entwickelt, wobei die nicht bestrahlten Stellen abgelöst werden.Example 7 A mechanically grained Al plate is made by dipping in 800 C hot 0.4% aqueous polyvinylphosphonic acid coated, dried and irradiated imagewise with an electron beam. The beam has a current strength of sec of 41uA and the deflection speed of 5 ehe / 2 cm path length. Then with 2% aqueous orthophosphoric acid developed, with the non-irradiated areas be replaced.
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1972
- 1972-06-29 DE DE19722231815 patent/DE2231815C2/en not_active Expired
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