DE2230002A1 - Katoptrisches system mit der vergroesserung eins - Google Patents

Katoptrisches system mit der vergroesserung eins

Info

Publication number
DE2230002A1
DE2230002A1 DE2230002A DE2230002A DE2230002A1 DE 2230002 A1 DE2230002 A1 DE 2230002A1 DE 2230002 A DE2230002 A DE 2230002A DE 2230002 A DE2230002 A DE 2230002A DE 2230002 A1 DE2230002 A1 DE 2230002A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mirror
image
point
concave mirror
concave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2230002A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2230002C2 (de
Inventor
Abe Offner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Biosystems Inc
Original Assignee
Perkin Elmer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22553496&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE2230002(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Perkin Elmer Corp filed Critical Perkin Elmer Corp
Publication of DE2230002A1 publication Critical patent/DE2230002A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2230002C2 publication Critical patent/DE2230002C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
    • G02B17/0615—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in wich all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0626—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors
    • G02B17/0636—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
    • G02B23/02—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors
    • G02B23/06—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors having a focussing action, e.g. parabolic mirror
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Description

Patentanmeldung
The Perkin-Elmer Corp., Norwalk, Connecticut, USA
Katoptrisches System mit der Vergrößerung eins
Die Erfindung "betrifft ein katoptrisches System mit der Vergrößerung eins, durch welches eine einem Bildpunkt umgehende Bildfläche einen Objektpunkt umgehenden Ohjektfläche erzeugt wird.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein optisches System zur Erzeugung eines Bildes eines Objektes mit der Vergrößerung eins. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf ein katoptrisches System, bei welchem das Bild in genauem Mikrodetail mit hoher Auflösung erzeugt wird.
Es sind verschiedene optische Systeme zur Erzeugung von Bildern mit der Vergrößerung eins oder anderen Vergrößerungen bekannt. Bei katoptrischen Systemen ist normalerweise ein Teil der öffnung abgedeckt. Das führt zu einem Verlust an Kontrast der durch diese Systeme erzeugten Bilder. Es ist die Verwendung von Strahlenteilern zur Vermeidung der Wirkungen dieser zentralen Abdeckung bei katoptrischen Systemen vorgeschlagen worden. Es ist aber schwierig, diese Strahlenteiler mit gros-
209882/0695
Poetseheokkosto E>»er. *;24? · Commarzbank AQ Düsseldorf, Depoeltenkaasa Hauptbahnhof
sen Abmessungen in geeigneter Qualität herzustellen, und die Störung, welche durch solche Strahlenteiler hereingebracht wird, vermindert den Kontrast des Bildes.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verzerrungsfreies nur reflektierendes optisches System mit der Vergrösserung eins zu schaffen, bei welchem Objekt- und Bildebenen zugänglich sind, bei welchem der Kontrast gleichförmig hoch und im wesentlichen in allen (Teilen des Formates konstant ist, und bei welchem die Ausrichtung des Systems unabhängig von dem Spektralbereich ist, der bei der Bilderzeugung verwendet wird.
Das erfindungsgemäße katoptrisch^ System ist dadurch gekennzeichnet, daß es wenigstens einen konvexen sphärischen Spiegel und wenigstens einen konkaven sphärischen Spiegel enthält, deren Krümmungsmittelpunkte in einem Punkt zusammenfallen, daß die Spiegel so zueinander angeordnet sind, daß sich wenigstens drei Reflexionen innerhalb des Systems ergeben, daß jeder Spiegel so angeordnet ist, daß seine axialen konjugierten Punkte in dem besagten Punkt liegen, daß die Spiegel je zwei achsferne konjugierte Flächen mit der Vergrößerung eins in einer Ebene aufweisen, welche den besagten einen Punkt enthält, daß diese Flächen die gleichen für jeden Spiegel sind und die Bild- und Objektflächen des Systems sind, daß die Keferenzachse des Systems senkrecht zu der besagten Ebene durch den besagten Punkt verläuft und daß der besagte Objektpunkt und der besagte Bildpunkt im gleichen Abstand H von dem besagten einen Punkt angeordnet sind.
203332/0898
Kurz gesagt enthält das erfindungsgemäße System konvexe und konkave sphärische Spiegel, die so angeordnet sind, daß ihre Krümmungsmittelpunkte in einem einzigen Punkt zusammenfallen. Die Spiegel sind so angeordnet, daß ihre axialen konjugierten Punkte in dem letzteren Punkt liegen und sind so angeordnet, daß sie zwei achsferne konjugierte Flächen mit der Vergrößerung eins in einer Ebene liefern, die diesen Punkt enthalten. Die Referenzachse dieses Systems ist eine Achse senkrecht zu der letzteren Ebene und durch den Punkt. Das ergibt ein System, welches frei von sphärischer Aberration, Koma und Verzerrung ist und liefert ein beugungsbegrenztes Verhalten des Systems der vorliegenden Art mit mittleren Apertur- und GesiehtsfeidwinkeIn.
Bei katoptrischen Systemen nach der Erfindung ist die radiale Bildfläche eben bis zu allen Ordnungen der Aberration. Infolgedessen ist die Größe der Krümmung dritter Ordnung des Tangentialfeldes gleich dem Zweifachen der algebraischen Summe der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen. Bei einigen der dargestellten Ausführungsbeispiele sind zwei oder mehrere reflektierende Oberflächen tatsächlich Teile eines einzigen Spiegels. Man erkennt, daß in diesem Fal le jede Reflexion von einem getrennten Spiegel hervorgerufen werden könnte. Auch bei der Bestimmung der Summe der Brechkräfte wird die Brechkraft jedes reflektierenden Oberflächenteils für jede Reflexion daran addiert.
Bei einem spezieilen System nach der Erfindung sind die reflektierenden Oberflächen so ausgebildet, daß die algebraische Summe ihrer Brechkräfte null ist. Das spezielle System' ist dann afokal. Bei einem praktischen System dieser Art müssen wenigstens drei Reflexionen erfolgen.
209882/0695
Die Erfindung ist nachstehend an einem Ausführungsbeispiel unter Bezugnahme auf die zugehörigen Zeichnungen näher erläutert :
Fig. 1 ist eine schematische Darstellung einer
Ausführungsform eines erfindungsgemäßen
katoptrischen Systems mit der Vergrößerung eins.
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung eines zweiten Ausführungsbeispiels.
Fig.2a ist eine Ansicht längs der Linien 2a-2a von Fig. 2.
Fig. 5 zeigt eine Abwandlung der in Fig. 2 dargesteIlen Ausführungsform.
Fig. 4- ist eine andere Abwandlung der in Fig. dargestellen Ausführungsform.
Fig. 5 ist eine Ansicht unter einem rechten Winkel zu der Ansicht von Fig. 4- und zeigt das System von Fig. 4 in Stirnansicht längs der Linien 5-5 von Fig. 4.
Fig. 6 ist eine schematische Darstellung einer dritten Ausführungsform der Erfindung und
Fig. 7 ist eine schematische Darstellung einer vierten Ausführungsform der Erfindung.
209882/0695
Das in Pig. 1 dargestellte Ausfuhrungsbeispiel besteht aus einem konvex sphärischen Spiegel 10, einem ersten konkav sphärischen Spiegel 11 und einem zweiten konkav sphärischen Spiegel 15, die so angeordnet sind, daß ihre Krümmungsmittelpunkte in einem Punkt P zusammenfallen. Die jeweiligen Spiegel sind so angeordnet, daß Licht L, welches von links einfällt und auf den Punkt O konvergiert, von einen konvexen Spiegel 10 reflektiert wird, so daß es ein virtuelles Bild in dem konjugierten Punkt I erzeugt. Der erste konkave Spiegel ΛΛ reflektiert das Licht zu dem konjugierten Bildpunkt O. Der zweite konkave Spiegel 12 ist so angeordnet, daß für einen Objektpunkt in 0 der entsprechende konjugierte Bildpunkt in I liegt. Die Punkte P, O und I liegen auf einer gemeinsamen Geraden. Objekt- und Bildflächen um die Punkte O bzw. I herum liegen in einer Ebene, welche diese Gerade enthält. Die mit SA bezeichnete Referenzachse des Systems verläuft senkrecht zu dieser Ebene durch den Punkt P. Diese Beziehung der Punkte P, 0 und I und der Systemachse ist in jedem nach der Erfindung aufgebauten System die gleiche.
!•'ig. 2 zeigt eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung, in welcher zwei sphärische Spiegel, ein konvexer Spiegel 20 und ein konkaver Spiegel 21, so angeordnet sind, daß sie drei Reflexionen innerhalb des Systems hervorrufen. Die Spiegel sind so angeordnet, daß ihre Krümmungsmittelpunkte im Punkt P zusammenfallen und daß sie achsferne konjugierte !'lachen haben, welche zu den Punkten 0 und I zentriert sind. Die Punkte O und I sind jeder im Abstand H von der Referenzachse SA auf einander gegenüberliegenden Seiten desselben angeordnet. Der konkave Spiegel 21 erzeugt ein Bild des Objektoß O in I, der konvexe Spiegel 20 erzeugt ein virtuelles
- 6 209882/0695
Bild des Punktes I im Punkt O, welches durch den konkaven Spiegel 21 in I wieder abgebildet wird. Da zwei Reflexionen an dem konkaven Spiegel 21 stattfinden, ist, wenn der
Radius ΕηΛ des konkaven Spiegels 21 das Doppelte des Radius cc
R des konvexen Spiegels 20 ist, die algebraische Summe der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen null. Das System ist dann hinsichtlich aller Aberrationen dritter Ordnung korri-giert, und die einzige Aberration fünfter Ordnung ist die Krümmung des tangetialen Feldes, welches zu den Spiegeln hin konkav ist. Der Abstand D1- von der Gausschen Bildebene (der Ebene, welche die Punkte P, O und I enthält) zu dem tagentialen Bild von einem Punkt, welcher im Abstand H von der Achse SA liegt, ist durch den Ausdruck
Dn = 2H /R * gegeben. Eine Verfolgung der Strahlen durch diep cc
ses System zeigt, daß die Einflüsse der Aberrationen höherer Ordnung vernachlassigbar sind im Vergleich zu der Wirkung des Astigmatismus fünfter Ordnung.
Ein System, wie es in Pig. 2 dargestellt ist, bei welchem der Radius R das Doppelte des Radius R ist, ergibt ein
CC C2C
beugungsbegrenztes Verhalten für mittlere Aperturen und Felder. Wenn beispielsweise R gleich 1OOO mm und R gleich
C C C.X.
mm ist, ist der ilindestwert von H, bei welchem keine Vignettierung bei f/10 eintritt 50 mm. Wenn H gleich 85 mm ist, würde der Wert Dr gleich 0,1 mm betragen, was einer Entbündelung von 1/4 Wellenlänge bei einer Wellenlänge von 5000 Angstrom entspricht. Es kann somit eine Bildlage gefunden werden , so daß die Abbildung bei f/10 für alle Punkte in einem Format von 32 mm χ 45 mm nicht schlechter als 1/8 Wellenlänge ist. Die Formatgröße kann bis auf 45 mm χ 60 mm erhöht werden und ergibt dann eine Abbildung, die schlechter als 1/4 Wellenlänge für f/10 bei einer Wellenlänge von 5000 Angstrom ist.
- 7 2Q9882/069S
Konzentrische Spiegelsysteme mit einer Abbildung der Brech-Kraft 1 gemäß der vorliegenden Erfindung können verwendet werden bei Bildfeldabtastbetrieb, um eine aperturbegrenzte Güte bei kleinem Öffnungsverhältnis über ein großes Gesichtsfeld zu erhalten. Zu diesem Zweck wird das System konzentrisch gelassen, aber der Radius eines konvexen Spiegels wird erhöht über das Maß, welches zum Erhalt einer Petzval-Summe von null erforderlich ist. Das erzeugt eine tangatiale Feldkrümmung dritter Ordnung in einem der oben diskutierten tangentäale Feldkrümmung fünfter Ordnung entgegengesetzten Sinn. In dem System von Fig. 2 ist die Radius änderung ^.R , die erforderlieh ist, um eine stigmatische Abbildung in einer Höhe H zu
erreichen, ungefähr durch die Formel AR = H gegeben.
ex 7£jj
T? P
„„ ist dann ungefähr -—■ + £L·
ex d
Wenn eine Maske 15, cLL© in Fig. 2a gezeigt ist und einen gekrümmten Spalt 16 mit dem Radius H aufweist, so angeordnet ist, daß der Krümmungsmittelpunkt des Spaltes mit dem Krümmungsmitte lpunkt P des optischen Systems zusammenfällt und die Maske in der Objektebene bei O liegt, wie in Fig. 2 gezeigt ist, so daß die Abbildung auf den Teil der Objektflache begrenzt ist, der durch den Spalt 16 hindurch freiliegt, dann wird dieser Teil der Objektfläche stigmatisch auff eine ähnlich gekrümmte Fläche in der Bildebene abgebildet. Das liegt daran, daß alle Teile des Objektes und des Bildes, die in dem Spalt oder in dem Bild des Spaltes liegen, im gleichen Abstand H von dem Krümmungsmittelpunkt P des Systems liegen, für welchen das System korrigiert ist. Die Maske 15 könnte auch in der Bildebene bei I angeordnet sein, oder eine Maske 15 könnte in jeder Ebene vorgesehen werden. Im Fall
209882/0695
ο
— υ —
eines optischen Systems der in Fig. 2 dargestellten Art fallen die Objekt- und Bildebenen zusammen, da sowohl Objekt- als auch Bildpunkt O bzw. I in der Ebene durch den Krümmungsmittelpunkt P liegen, die senkrecht zur Referenzachse SA verläuft. Die Erhöhung des konvexen Radius des Spiegels 20, die für eine stigmatische Abbildung in der Höhe H erforderlich ist, ist gleich der longitudinalen sphärischen Aberration dritter Ordnung des konkaven Spiegels für einen Strahl parallel zu einer Achse und in einer Höhe H. Mit dieser Abwandlung wird das System von Fig. 2 afokal in der Höhe H mit dem Ergebnis, daß Fehler von Fokus und/oder longitudinaler Lage der konjugierten Ebenen keinen Einfluß auf die Vergrößerung des Systems haben.
Bei einem speziellen Beispiel dessin Fig. 2 dargestellten Systems, bei welchem der Radius R des konkaven Spiegels
CC
21=500 mm beträgt und H = 84,3^- mm, wird der Krümmungsradius des konvexen Spiegels 20 um 3*592 mm gegenüber dem Wert erhöht, der zur Erzielung einer Petzval-Summe null in diesem System erforderlich wäre. Es ist zu beachten, daß der Wert AR , der nach der oben angegebenen Formel berecht ist, 3»557 em beträgt. Das liefert ein Anzeichen für den Grad der Annäherung der Formel. Die Wellenfrontverformung in dem Bild irgendeines Punktes in einem Ring vom Radius 84-,3^ mm (gemessen durch die Wurzel des mittleren Fehlerquadrats) ist ungefähr /V40 bei Λ= 5000 Angstrom. Wenn in dem System von Fig. 2 das Objekt, beispielsweise ein photographisches Transparent, an dem Spalt 16 in der Richtung 23 vorbeibewegt wird, wird ein Bild mit der Vergrößerung eines desjenigen Teiles des Objektes, der durch den Spalt freigelassen ist, bei I erzeugt und bewegt sich an I in der
209882/0695
umgekehrten Richtung 24- vorbei. Um somit ein deutliches Bild in I zu erhalten, müßte die das Bild empfangende Oberfläche an dem Punkt I in einer Richtung vorbeibewegt werden, die entgegengesetzt zu der Bewegungsrichtung eines Objekt-Transparents an dem Spalt 16 im Punkte O wäre.
Bei der praktischen Ausführung eines Abtastsystems ist es zweckmäßig, wenn sich das Objekt und eine das Bild empfangende Oberfläche in der gleichen Richtung bewegen statt entgegengesetzt wie in dem System von Fig. 2. Mittel, um dies zu erreichen, sind in Fig. 5 dargestellt. Wie dort dargestellt ist, ist ein Planspiegel 25 so angeordnet, daß er den Objektpunkt.von O nach O1 ablenkt. Der Krümmungsmitte1-punkt P, wie er durch den Spiegel 25 gesehen wird, liegt somit an der Stelle P . Ein zweiter Planspiegel 26 ist so angeordnet, daß er den Bildpunkt I nach I1 ablenkt, so daß der Krümmungsmittelpunkt P relativ zu dem Spiegel 26 nach P^ verlagert wird. Wenn somit ein Objekt an dem Punkt O' in der Richtung 27 bewegt wird, bewegt sich das Bild über eine bildempfangende Oberfläche bei I in der gleichen Richtung wie durch den Pfeil 28 angedeutet ist. Bei dieser Anordnung kann ein Objekt und eine bildempfangende Oberfläche auf einem einzigen Schlitten angeordnet werden. Bei Bewegung des Schlittens in Richtung der Referenzachse SA zur Durchführung eines Abtastvorganges bewegt sich das Objekt an dem Spalt 16 bei O1 vorbei und das Bild bewegt sich mit der gleichen Geschwindigkei an dem dazu konjugierten Spaltbild 27 bei I. Die genaue bewegung des Schlittens stellt dann sicher, daß keine Bewegung des Bildes relativ zu der bildempfangenden Oberfläche stattfindet.
20988270695
Es können auch andere Anordnungen zu diesem Zweck verwendet werden. In Fig. 3 lenken die Spiegel 25 und 26 die Hauptstrahlen von dem konkaven Spiegel 21 zu dem ursprünglichen Objektpunkt O und zu dem ursprünglichen Bildpunkt I jeweils um 90° nach oben bzw. nach unten in bezug auf die Systemachse SA ab, so daß der Objektpunkt O und der Bildpunkt I jeder in die neue Lage O1 bzw. I' abgelenkt werden. Es werden somit die Winkellagen der Ebenen der ursprünglichen Objekt- und Bildflächen insgesamt um 180° gegeneinander verschwenkt. Jede andere Anordnung, bei welcher die ursprünglich in einer Ebene liegenden Objekt- und Bildflächen um 180° gegeneinander verschwenkt werden, würden auch in einer Bildbewegung in der gleichen Richtung wie die Objektbewegung führen.
Bei der Anordnung nach Fig. 3 ist die Bildorientierung relativ zu dem Objekt die, die gewöhnlich als "Spiegelbild" bezeichnet wird, d.h. das Bild ist nicht kopfstehend aber es ist seitenvertauscht. Die Fig. 4- und 5 zeigen eine Anordnung, bei welcher vier Spiegel verwendet werden, um ein Bild zu erzeugen, das weder kopfstehend noch seitenvertauscht relativ zu dem Objekt ist. Wie dargestellt ist, lenken Planspiegel 31 und 32 den Objektpunkt 0 und den Bildpunkt I in entgegengesetzten Richtungen um - im vorliegenden Falle beide einwärts auf die Achse SA - und zwar zu zwei anderen Planspiegeln 33 und 34-? welche dann die Objekt- und Bildpunkte O und I in der gleichen Richtung zu den Punkten O" und I" (Fig. L)) umlenken. Bei einer solchen Anordnung liegen ein Objekt, beispielsweise ein Transparent, und eine bildempfangende Oberfläche in den Punkten 0" und I" nebeneinander in einer Ebene parallel zur Achse SA und können in der gleichen Richtung, in der Richtung der Achse SA zur Abtastung bewegt werden.
- 11
209882/0695
Es sind verschiedene andere Anordnung von konzentrischen sphärisch konvex und konkaven Spiegeln zur Erzeugung von Bildern mit einer Vergrößerung eins nach der vorliegenden Erfindung denkbar, wie durch die Ausführungsbeispiele nach Fig. 6 und 7 veranschaulicht wird. Fig. 6 zeigt eine Anordnung mit einem konvexen Spiegel 40 und einem konkaven Spiegel 41, die gleichachsig und konzentrisch um einen Punkt P in solcher Weise angeordnet sind, daß insgesamt fünf Reflexionen innerhalb des Systems stattfinden, und zwar drei ReUßxionen an dem konkaven Spiegel 41 und zwei an dem konvexen Spiegel 40. Bei dieser Ausführungsform ist die algebraische Summe der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen null, wenn der Radius des konvexen Spiegels 40 z"wsLdrittel des Radius des konkaven Spiegels 41 beträgt.
Fig. 7 veranschaulicht ein Ausführungsbeispiel, in welchem drei Spiegel, ein konvexer Spiegel 50 und zwei konkave Spiegel 51? 52 vier Reflexionen innerhalb des Systems zwischen dem Objektpunkt 0 und dem Bildpunkt I bewirken. Bei diesem System liegen der konvexe Spiegel 50 und der konkave Hauptspiegel 51 auf einer Seite der Ebene, die durch die Punkte P, und I bestimmt ist, und der konkave Hilfsspiegel 52 liegt an der anderen Seite. Bei dieser Anordnung ist der Punkt I ein Zwischenabbildungspunkt und ist der konjugierte Objektpunkt des zweiten konkaven Spiegels 52, dessen konjugierte Objekt- und Bildpunkte somit in den Bild- und Objektpunkten I und 0 des Systems liegen. Um das Bild von dem Spiegel 52 zugänglich zu machen, ist zwischen dem Spiegel 52 und dem Punkt 0, der der konjugierte Bildpunkt des Spiegels 52 ist, ein Planspiegel 53 eingeschaltet, so daß der Spiegel 53 das endgültige Bild in einen mit I"1 bezeichneten Bildpunkt verlagert. Diese Aus-
- 12 -
209882/0695
führungsform nach Fig. 7 ist besonders interessant, da sie bei telezentrischer Verwendung mit einer zugänglichen Pupille versehen werden kann, beispielsweise der Pupille, die zwischen dem konkaven Spiegel 52 und dem Bildpunkt des Systems mit 5^ bezeichnet ist. Diese Anordnung ist besonders geeignet zur Verwendung bei der Datenverarbeitung, da die Pupille 5^ eine für Datenverarbeitungsanwendungen verfügbare "Transformierungsebene" liefert.
209882/06 9 5

Claims (1)

  1. - 13 -
    Patent ansprüche
    Katoptrisches. System mit der Vergrößerung eins, durch welches eine einen Bildpunkt umgebende Bildfläche einer einen Qbjektpunkt umgebenden Objektfläche erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, daß es wenigstens einen konvexen sphärischen Spiegel (10; 20) und wenigstens einen konkaven sphärischen Spiegel (-11, 12; 21) enthält, deren Krümmungsmittelpunkte in einem Punkt (P) zusammenfallen, daß die Spiegel (10, 12; 20, 21) so zueinander angeordnet sind, daß sich wenigstens drei Reflexionen innerhalb des Systems ergeben, daß jeder Spiegel (10, 12; 20, 21) so angeordnet ist, daß seine axialen konjugierten Punkte in dem besagten Punkt liegen, daß die Spiegel je zwei achsferne konjugierte Flächen mit der Vergrößerung eins in einer Ebene aufweisen, welche den besagten einen Punkt enthält, daß.diese Flächen die gleichen für jeden Spiegel sind und die Bild- und Objektflächen des Systems sind, daß die Referenzachse (SA) des Syntoms senkrecht zu der besagten Ebene durch den besagten Punkt (P) verläuft und daß der besagte Objektpunkt (Q) und der besagte Bildpunkt(I) im gleichen Abstand (H) von dem besagten einen Punkt (P) angeordnet sind.
    Katoptrisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Summe der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen der konkaven Spiegel (21) gleich der iüunime der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen der konvexen Spiegel (20) ist.
    3. Katoptrisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Seite der besagten Ebene ein konvexer Spiegel (10) und ein erster konkaver Spiegel (11) in zusammenwirkender Beziehung zueinander und ein zweiter konkaver Spiegel (12) auf der anderen Seite dieser Ebene angeordnet sind, und daß die besagten Objekt- und Bildflächen die Objekt- und Bildkonjugierten des konvexen Spiegels und des zweiten konkaven Spiegels und die Bild- und Objektkonjugierten des ersten konkaven Spiegels sind.
    4. Katoptrisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Summe der Brechkräfte der verwendeten reflektierenden Oberflächen der konvexen Spiegel (20) hinreichend größer als die Summe der Brechkräfte verwendeten der reflektierenden Oberflächen der konkaven Spiegel (21) ist, um eine stigmatische Abbildung in dem besagten Bildpunkt zu erzeugen.
    5. Katoptrisches System nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Haske (15) > die einen Spalt (16) vom Radius H aufweist, mit dem Krümmungsmittelpunkt des Spaltes (16) in dem besagten einen Punkt (P) angeordnet ist und die Objektfläche auf den Teil derselben begrenzt, der durch den Spalt (16) freigegeben ist.
    ö. Katoptrisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem einzigen konvexen Spiegel (20) ur& einem einzigen konkaven Spiegel (21) besteht und daß zwei Reflexionen an dem konkaven Spiegel (21) und eine Reflexion an dem konvexen Spiegel (20) erfolgt.
    209882/0695
    7. Katoptrisches System nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich net, daß der Radius des konkaven Spiegels (21) zweimal so groß ist wie der Radius des konvexen Spiegels (20).
    8. Katoptrisches System nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich net, daß der konvexe Spiegel (20) ungefähr den Radius
    aoc
    besitzt, wobei
    R der Radius des konkaven Spiegels und
    C C
    H des besagten einen Punktes von dem besagten Objektpunkt
    ist, wodurch eine stigmatische Abbildung in dem besagten Bildpunkt erzeugt wird.
    9· Eatoptrisches System nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Radius des konvexen Spiegels (20) eine Größe hat gleich der Hälfte des Radius des konkaven Spiegels plus einen Betrag gleich der longitudinäLen sphärischen Aberration dritter Ordnung des konkaven Spiegels für einen Strahl, der parallel zu der Referenzachse ist und durch den besagten Obgektpunkt geht.
    10. Eatoptrisches System nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Reflexionen (40) an dem konvexen Spiegel und drei Reflexionen an dem konkaven Spiegel (41) stattfinden (Fig. 6).
    - 16 209882/0696
    2230Π02
    11. Katoptrisches System nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem besagten konkaven Spiegel (21) und der besagten Objektflache (0) ein erster Planspiegel (25) angeordnet ist, durch den der Hauptstrahl, der von der Objektflache (O) zu dem konkaven Spiegel (21) verläuft, um einen Winkel ablenkbar ist so, daß die Objektflache verlagert wird, daß zwischen dem besagtenkkonkaven Spiegel (21) und der besagten Bildfläche (I) ein zweiter Planspiegel (26) angeordnet ist, durch den der Hauptstrahl, der von dem konkaven Spiegel (21) zu der besagten Bildfläche (I) verläuft, ablenkbar ist, so daß die besagte Bildfläche (I) verlagert wird und Objekt- und Bildfläche winkelmäßig in neue Lagen (O1, I1) relativ zu der Systemachse geschwenkt werden, und daß die Summe der winkelmäßigen Ablenkrgaider Objekt- und Bildfläche 180° beträgt, so daß eine Bewegung eines Objektes über die neue Lage der Objektfläche eine Bewegung eines Bildes über die neue Lage der Bildfläche in der gleichen Richtung relativ zu der Systemachse bewirkt.
    12. Katoptrisches System.nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein erster konvexer Spiegel (50) und ein erster konkaver Spiegel (51) in zusammenwirkender Beziehung zueinander auf einer Seite der besagten Ebene angeordnet sind, die ihre Objekt- und Bildpunkte enthält, welche jeder im gleichen Abstand H von dem gemeinsamen, ebenfalls in dieser Ebene liegenden Krümmungsmittelpunkt liegen, daß ein zweiter konkaver Spiegel (52) vorgesehen ist, dessen endgülitge Objekt- und Bildflächen mit der Vergrößerung eins jeweils mit der Bild- bzw. Objektfläche der ersten konvexen und konkaven Spiegel zusammenfallen wurden, und daß zwischen dem zweiten konkaven SpieffL (52) und der endgültigen Bildfläche ein Planspiegel (53) angeordnet ist, der die besagte endgültige Bildfläche aus dem Zusammenfall mit der Objektfläche wog verlagert.
    209882/0695
DE2230002A 1971-06-21 1972-06-20 Optisch-mechanisches Abtastsystem Expired DE2230002C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15494871A 1971-06-21 1971-06-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2230002A1 true DE2230002A1 (de) 1973-01-11
DE2230002C2 DE2230002C2 (de) 1984-11-22

Family

ID=22553496

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2230002A Expired DE2230002C2 (de) 1971-06-21 1972-06-20 Optisch-mechanisches Abtastsystem

Country Status (13)

Country Link
US (1) US3748015A (de)
JP (3) JPS5751083B1 (de)
KR (1) KR790000468B1 (de)
BR (1) BR7203998D0 (de)
CA (1) CA970611A (de)
CH (1) CH552222A (de)
DE (1) DE2230002C2 (de)
FR (1) FR2143493B1 (de)
GB (1) GB1401687A (de)
IL (1) IL39693A (de)
IT (1) IT956732B (de)
NL (3) NL176711C (de)
SE (1) SE383423B (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2801882A1 (de) * 1977-02-11 1978-08-17 Perkin Elmer Corp Optisches system mit breitem, ringfoermigem abbildungsbereich und einfacher vergroesserung
DE3033509A1 (de) * 1979-10-09 1981-04-23 Perkin Elmer Corp Monozentrisches optisches system
EP0243950A2 (de) * 1986-05-02 1987-11-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optisches Projektionssystem
EP0271737A2 (de) * 1986-12-17 1988-06-22 Svg Lithography Systems, Inc. Optisches Übertragungssystem mit Vergrösserung

Families Citing this family (188)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4011011A (en) * 1973-03-09 1977-03-08 The Perkin-Elmer Corporation Optical projection apparatus
US3951546A (en) * 1974-09-26 1976-04-20 The Perkin-Elmer Corporation Three-fold mirror assembly for a scanning projection system
JPS6039205B2 (ja) * 1975-07-02 1985-09-05 キヤノン株式会社 反射光学系
CA1090183A (en) * 1976-09-22 1980-11-25 David A. Markle System for illuminating an annular field
US4293186A (en) * 1977-02-11 1981-10-06 The Perkin-Elmer Corporation Restricted off-axis field optical system
JPS5453867A (en) * 1977-10-06 1979-04-27 Canon Inc Printing device
JPS5467443A (en) * 1977-11-09 1979-05-30 Canon Inc Observer
US4241390A (en) * 1978-02-06 1980-12-23 The Perkin-Elmer Corporation System for illuminating an annular field
US4226501A (en) * 1978-10-12 1980-10-07 The Perkin-Elmer Corporation Four mirror unobscurred anastigmatic telescope with all spherical surfaces
US4205902A (en) * 1978-10-12 1980-06-03 The Perkin-Elmer Corporation Laser beam expander
US4240707A (en) * 1978-12-07 1980-12-23 Itek Corporation All-reflective three element objective
US4288148A (en) * 1979-08-29 1981-09-08 The Perkin-Elmer Corporation Beam-splitting optical system
FR2466786A1 (fr) * 1979-10-05 1981-04-10 Thomson Csf Dispositif catadioptre et systeme comportant un tel dispositif
US4272152A (en) * 1979-10-15 1981-06-09 The Perkin-Elmer Corporation Unit magnification relay systems
JPS5677815A (en) * 1979-11-28 1981-06-26 Canon Inc Optical reflection system
US4362384A (en) * 1981-05-01 1982-12-07 The Perkin-Elmer Corporation Means for providing uniform illumination to a light sensitive element
US4391494A (en) * 1981-05-15 1983-07-05 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
CA1171555A (en) 1981-05-15 1984-07-24 Ronald S. Hershel Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
JPS57192929A (en) * 1981-05-25 1982-11-27 Hitachi Ltd Projector provided with automatic focusing function
JPS58173836A (ja) * 1982-04-05 1983-10-12 コントロ−ル・デ−タ・コ−ポレ−シヨン 投影整列装置
US4444492A (en) * 1982-05-15 1984-04-24 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4469414A (en) * 1982-06-01 1984-09-04 The Perkin-Elmer Corporation Restrictive off-axis field optical system
JPS6093410A (ja) * 1983-10-27 1985-05-25 Canon Inc 反射光学系
JPS612124A (ja) * 1984-06-14 1986-01-08 Canon Inc 結像光学系
US4812028A (en) * 1984-07-23 1989-03-14 Nikon Corporation Reflection type reduction projection optical system
JPS61110214A (ja) * 1984-11-05 1986-05-28 Yoshida Kogyo Kk <Ykk> 自動扉の開口幅制御装置
US4779966A (en) * 1984-12-21 1988-10-25 The Perkin-Elmer Corporation Single mirror projection optical system
US4711535A (en) * 1985-05-10 1987-12-08 The Perkin-Elmer Corporation Ring field projection system
JPS6235732U (de) * 1985-08-23 1987-03-03
JPH0524404Y2 (de) * 1985-08-23 1993-06-22
US4734829A (en) * 1985-11-12 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Short arc lamp image transformer
EP0237041B1 (de) * 1986-03-12 1993-08-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optisches Projektionssystem für Präzisionskopien
US4707711A (en) * 1986-05-15 1987-11-17 Lumonics Inc. Character imaging system
GB8612609D0 (en) * 1986-05-23 1986-07-02 Wynne C G Optical imaging systems
DE3752314T2 (de) * 1986-07-11 2000-09-14 Canon Kk Verkleinerndes Projektionsbelichtungssystem des Reflexionstyps für Röntgenstrahlung
US4746205A (en) * 1987-01-30 1988-05-24 Westinghouse Electric Corp. High energy laser beam replica producing method and system
JPS6450004U (de) * 1987-09-24 1989-03-28
JPH01226684A (ja) * 1988-03-04 1989-09-11 Toshiba Corp エレベーター装置
US4913524A (en) * 1988-05-12 1990-04-03 The Perkin-Elmer Corporation Synthetic imaging technique
US4933714A (en) * 1988-05-31 1990-06-12 The Perkin-Elmer Corporation Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area
US4964705A (en) * 1988-11-07 1990-10-23 General Signal Corporation Unit magnification optical system
US5040882A (en) * 1988-11-07 1991-08-20 General Signal Corporation Unit magnification optical system with improved reflective reticle
US5078502A (en) * 1990-08-06 1992-01-07 Hughes Aircraft Company Compact afocal reimaging and image derotation device
US5315629A (en) * 1990-10-10 1994-05-24 At&T Bell Laboratories Ringfield lithography
US5212588A (en) * 1991-04-09 1993-05-18 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Reflective optical imaging system for extreme ultraviolet wavelengths
JPH04333011A (ja) * 1991-05-09 1992-11-20 Nikon Corp 反射縮小投影光学装置
US5298939A (en) * 1991-11-04 1994-03-29 Swanson Paul A Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JPH06118341A (ja) * 1991-11-11 1994-04-28 Topcon Corp 走査型投影装置
US5255114A (en) * 1991-11-12 1993-10-19 Eastman Kodak Company High resolution scanner
US5221975A (en) * 1991-11-12 1993-06-22 Eastman Kodak Company High resolution scanner
US5225678A (en) * 1991-11-13 1993-07-06 Connecticut Instrument Corporation Spectoscopic sampling accessory having dual measuring and viewing systems
JPH05249379A (ja) * 1992-03-04 1993-09-28 Topcon Corp 広フィールド露光光学系
IL101570A0 (en) * 1992-04-10 1992-12-30 Amir Alon Method and apparatus for reading data
US5822042A (en) * 1992-11-12 1998-10-13 International Business Machines Corporation Three dimensional imaging system
US5323263A (en) * 1993-02-01 1994-06-21 Nikon Precision Inc. Off-axis catadioptric projection system
IL106009A0 (en) * 1993-06-14 1993-10-20 Amir Alon Method and apparatus for the simultaneous writing of data on an optical disk
JPH0756090A (ja) * 1993-08-17 1995-03-03 Topcon Corp 走査型投影光学系
IL107181A0 (en) * 1993-10-04 1994-01-25 Nogatech Ltd Optical disk reader
US5515207A (en) * 1993-11-03 1996-05-07 Nikon Precision Inc. Multiple mirror catadioptric optical system
JPH07191274A (ja) * 1993-12-27 1995-07-28 Canon Inc 画像表示装置
IL113789A (en) * 1994-05-23 1999-01-26 Hughes Aircraft Co A non-focusing device with three hinged mirrors and a corrective mirror
US5625448A (en) * 1995-03-16 1997-04-29 Printrak International, Inc. Fingerprint imaging
US5548394A (en) * 1995-03-16 1996-08-20 Printrak International Inc. Scanning fingerprint reading
JP2565149B2 (ja) * 1995-04-05 1996-12-18 キヤノン株式会社 回路の製造方法及び露光装置
US5512759A (en) * 1995-06-06 1996-04-30 Sweatt; William C. Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light
US7304792B1 (en) 2003-08-25 2007-12-04 J.A. Woollam Co., Inc. System for sequentially providing aberation corrected electromagnetic radiation to a spot on a sample at multiple angles of incidence
US7317529B1 (en) 1999-10-18 2008-01-08 J.A. Woollam Co., Inc. Aspects of producing, directing, conditioning, impinging and detecting spectroscopic electromagnetic radiation from small spots on samples
US7245376B2 (en) * 1995-09-20 2007-07-17 J. A. Woollam Co., Inc. Combined spatial filter and relay systems in rotating compensator ellipsometer/polarimeter
US7304737B1 (en) 1995-09-20 2007-12-04 J.A. Woollam Co., Inc Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence
US7317530B2 (en) * 2003-08-28 2008-01-08 J.A. Woollam Co., Inc. Combined spatial filter and relay systems
US5805365A (en) * 1995-10-12 1998-09-08 Sandia Corporation Ringfield lithographic camera
US5883703A (en) * 1996-02-08 1999-03-16 Megapanel Corporation Methods and apparatus for detecting and compensating for focus errors in a photolithography tool
US5748365A (en) * 1996-03-26 1998-05-05 Hughes Electronics Catadioptric one-to-one telecentric image combining system
US5717518A (en) 1996-07-22 1998-02-10 Kla Instruments Corporation Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system
US6403124B1 (en) * 1997-04-16 2002-06-11 Sigma-Tau Industrie Farmaceutiche Riunite S.P.A. Storage and maintenance of blood products including red blood cells and platelets
US5960016A (en) * 1997-06-05 1999-09-28 The Regents Of The University Of California Aberration-free, all-reflective laser pulse stretcher
US5956192A (en) * 1997-09-18 1999-09-21 Svg Lithography Systems, Inc. Four mirror EUV projection optics
US5917594A (en) * 1998-04-08 1999-06-29 Kla-Tencor Corporation Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements
DE19923609A1 (de) * 1998-05-30 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Ringfeld-4-Spiegelsysteme mit konvexem Primärspiegel für die EUV-Lithographie
US6577443B2 (en) 1998-05-30 2003-06-10 Carl-Zeiss Stiftung Reduction objective for extreme ultraviolet lithography
US6104511A (en) * 1998-07-16 2000-08-15 Siros Technologies, Inc. Reflector-based off-axis optical system for holographic storage
US6331904B1 (en) 1998-07-16 2001-12-18 Siros Technologies, Inc. Reflection optics reference beam telescope
US6426506B1 (en) * 1999-05-27 2002-07-30 The Regents Of The University Of California Compact multi-bounce projection system for extreme ultraviolet projection lithography
US6304315B2 (en) 1999-08-31 2001-10-16 Eastman Kodak Company High speed high resolution continuous optical film printer for duplicating motion films
US6563648B2 (en) 2000-10-20 2003-05-13 Three-Five Systems, Inc. Compact wide field of view imaging system
US6542307B2 (en) 2000-10-20 2003-04-01 Three-Five Systems, Inc. Compact near-eye illumination system
US6522403B2 (en) 2000-12-04 2003-02-18 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Computed tomography imaging spectrometer (CTIS) with 2D reflective grating for ultraviolet to long-wave infrared detection especially useful for surveying transient events
US6416181B1 (en) 2000-12-15 2002-07-09 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus and method
KR20040032816A (ko) 2000-12-21 2004-04-17 제테틱 인스티튜트 반사 및 반사굴절 영상장치
DE10115875A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-10 Heidelberger Druckmasch Ag Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einer Makrooptik vom Offner-Typ
NZ511257A (en) * 2001-04-20 2003-05-30 Ind Res Ltd Imaging system having a dual cassegrain-like format
US6752498B2 (en) 2001-05-14 2004-06-22 Eastman Kodak Company Adaptive autostereoscopic display system
US6702442B2 (en) * 2002-03-08 2004-03-09 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus using resonant fiber-optic image generation
US6550918B1 (en) * 2002-03-19 2003-04-22 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic viewing apparatus using resonant fiber-optic image generation
US6768585B2 (en) 2002-05-02 2004-07-27 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus using a scanned linear electromechanical modulator
JP2004004256A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Sony Corp 光走査装置及び２次元画像形成装置
US20030226968A1 (en) * 2002-06-10 2003-12-11 Steve Montellese Apparatus and method for inputting data
US6779892B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-24 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical display having an expanded color gamut
US6678308B1 (en) 2002-09-06 2004-01-13 The Boeing Company Laser resonator system using offner relay
DE10245559A1 (de) * 2002-09-30 2004-04-08 Carl Zeiss Jena Gmbh Kamera
US7199876B2 (en) * 2002-12-31 2007-04-03 Wavefront Research, Inc. Compact hyperspectral imager
US7061611B2 (en) * 2002-12-31 2006-06-13 Wavefront Research, Inc. Refractive relay spectrometer
JP2006516762A (ja) * 2003-01-27 2006-07-06 ゼテテック インスティテュート トレンチの特性を測定するために干渉共焦点顕微鏡法で使用される漏洩被挟導波モード
US7084983B2 (en) * 2003-01-27 2006-08-01 Zetetic Institute Interferometric confocal microscopy incorporating a pinhole array beam-splitter
KR20050114615A (ko) * 2003-02-04 2005-12-06 제테틱 인스티튜트 비공초점, 공초점 및 간섭 공초점 현미경 검사시 기판-매질계면에서의 굴절률 불일치 효과 보상
US6717736B1 (en) 2003-02-13 2004-04-06 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging systems
JP2006518487A (ja) * 2003-02-19 2006-08-10 ゼテテック インスティテュート 縦型微分干渉共焦点顕微鏡
JP2006518488A (ja) * 2003-02-19 2006-08-10 ゼテテック インスティテュート 暗視野干渉共焦点顕微鏡使用の方法及び装置
WO2004090465A2 (en) * 2003-04-01 2004-10-21 Zetetic Institute Apparatus and method for joint measurement of fields of scattered/reflected or transmitted orthogonally polarized beams by an object in interferometry
US7054077B2 (en) 2003-04-01 2006-05-30 Zetetic Institute Method for constructing a catadioptric lens system
JP2006522338A (ja) * 2003-04-03 2006-09-28 ゼテテック インスティテュート 干渉計測対象物による後方散乱および前方散乱／反射ビームの視野測定のための装置および方法
US6940645B2 (en) * 2003-04-22 2005-09-06 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus with a spherical gradient-index ball lens
US7130020B2 (en) * 2003-04-30 2006-10-31 Whitney Theodore R Roll printer with decomposed raster scan and X-Y distortion correction
US7158215B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
WO2005008334A2 (en) 2003-07-07 2005-01-27 Zetetic Institute Apparatus and method for high speed scan for detection and measurement of properties of sub-wavelength defects and artifacts in semiconductor and mask metrology
WO2005008214A2 (en) * 2003-07-07 2005-01-27 Zetetic Institute Apparatus and method for ellipsometric measurements with high spatial resolution
US7355722B2 (en) * 2003-09-10 2008-04-08 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging systems with adaptive catoptric surfaces
US20050111007A1 (en) * 2003-09-26 2005-05-26 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging system with pellicle and aperture-array beam-splitters and non-adaptive and adaptive catoptric surfaces
US7312877B2 (en) * 2003-10-01 2007-12-25 Zetetic Institute Method and apparatus for enhanced resolution of high spatial frequency components of images using standing wave beams in non-interferometric and interferometric microscopy
US7245408B1 (en) 2003-10-10 2007-07-17 Zebra Imaging, Inc. Systems and methods for producing wide field-of-view holographic displays
US7345771B2 (en) * 2004-05-06 2008-03-18 Zetetic Institute Apparatus and method for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in UV, VUV, and EUV lithography masks
TW200538704A (en) * 2004-05-21 2005-12-01 Zetetic Inst Apparatus and methods for overlay, alignment mark, and critical dimension metrologies based on optical interferometry
FR2872592B1 (fr) * 2004-07-02 2006-09-15 Thales Sa Chaine amplificatrice pour la generation d'impulsions lumineuses ultracourtes de durees d'impulsions differentes
US7161680B2 (en) * 2004-08-16 2007-01-09 Zetetic Institute Apparatus and method for joint and time delayed measurements of components of conjugated quadratures of fields of reflected/scattered and transmitted/scattered beams by an object in interferometry
WO2006023612A2 (en) * 2004-08-19 2006-03-02 Zetetic Institute Sub-nanometer overlay, critical dimension, and lithography tool projection optic metrology systems based on measurement of exposure induced changes in photoresist on wafers
US7173686B2 (en) * 2004-09-02 2007-02-06 Agilent Technologies, Inc. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
US7315352B2 (en) * 2004-09-02 2008-01-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
WO2006034065A2 (en) * 2004-09-20 2006-03-30 Zetetic Institute Catoptric imaging systems comprising pellicle and/or aperture-array beam-splitters and non-adaptive and /or adaptive catoptric surfaces
US7199877B2 (en) * 2004-10-20 2007-04-03 Resonon Inc. Scalable imaging spectrometer
US7184124B2 (en) * 2004-10-28 2007-02-27 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method
CN100386662C (zh) * 2005-03-14 2008-05-07 上海理工大学 全息凸面光栅光刻光路设计方法
US7359050B1 (en) 2005-04-08 2008-04-15 Wavefront Research, Inc. Compact triple pass hyperspectral imager
US7330258B2 (en) 2005-05-27 2008-02-12 Innovative Technical Solutions, Inc. Spectrometer designs
WO2007016502A2 (en) * 2005-08-02 2007-02-08 Wisconsin Alumni Research Foundation Synthesis of arrays of oligonucleotides and other chain molecules
US7545446B2 (en) * 2005-08-27 2009-06-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Offner relay for projection system
DE102005044910B3 (de) * 2005-09-14 2007-03-15 Jena-Optronik Gmbh Schiefspiegler-Teleskop mit drei Spiegelflächen
US20070109520A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-17 Whitney Theodore R Modular illuminator for a scanning printer
US8203710B1 (en) 2006-06-12 2012-06-19 Wavefront Research, Inc. Compact wide field fast hyperspectral imager
DE102007033967A1 (de) 2007-07-19 2009-01-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
DE102008049588B4 (de) * 2008-09-30 2018-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Abbildungseinrichtung, Mikroskop und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie
DE102008049589A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Optische Abbildungseinrichtung und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie
US8274720B2 (en) * 2009-02-15 2012-09-25 Kessler Optics and Photonics Solutions, Ltd. Concentric afocal beam relay
US8531750B2 (en) 2009-02-15 2013-09-10 Kessler Optics & Photonics Solutions, Ltd. Afocal beam relay
US7929129B2 (en) * 2009-05-22 2011-04-19 Corning Incorporated Inspection systems for glass sheets
US8271120B2 (en) * 2009-08-03 2012-09-18 Lawrence Livermore National Security, Llc Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing
US8780440B2 (en) * 2009-08-03 2014-07-15 Lawrence Livermore National Security, Llc Dispersion compensation in chirped pulse amplification systems
DE102009037815B4 (de) 2009-08-18 2016-06-09 Sintermask Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objektes
DE102009050163A1 (de) * 2009-10-21 2011-04-28 Lfk-Lenkflugkörpersysteme Gmbh Optische Einrichtung für ein Visier
US7933067B1 (en) 2010-03-09 2011-04-26 Raytheon Company Flat field Schmidt telescope with extended field of view
US8139289B2 (en) 2010-07-27 2012-03-20 Corning Incorporated Precision optical mount
US8493670B2 (en) 2010-09-10 2013-07-23 Coherent, Inc. Large-field unit-magnification catadioptric projection system
GB201019181D0 (en) * 2010-11-12 2010-12-29 Univ Leicester Improved optical arrangement
WO2012073178A2 (en) * 2010-12-01 2012-06-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Sensor device with double telecentric optical system
US9409255B1 (en) * 2011-01-04 2016-08-09 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
US10095016B2 (en) 2011-01-04 2018-10-09 Nlight, Inc. High power laser system
US9429742B1 (en) * 2011-01-04 2016-08-30 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
US8823932B2 (en) 2011-04-04 2014-09-02 Corning Incorporated Multi field of view hyperspectral imaging device and method for using same
US8659823B2 (en) 2011-04-22 2014-02-25 Coherent, Inc. Unit-magnification catadioptric and catoptric projection optical systems
US9720244B1 (en) 2011-09-30 2017-08-01 Nlight, Inc. Intensity distribution management system and method in pixel imaging
US8830580B2 (en) 2011-10-27 2014-09-09 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging optics
US8786943B2 (en) 2011-10-27 2014-07-22 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging system
DE102012200851B3 (de) * 2012-01-20 2013-07-25 Bruker Optik Gmbh Infrarot(=IR)-Mikroskop mit Bildfeldkrümmungs-Kompensation und zusätzlicher Ausleuchtungsoptimierung im Beobachtunqsstrahlenqang des sichtbaren Lichts
JP5650157B2 (ja) * 2012-05-23 2015-01-07 東芝テック株式会社 結像素子アレイ及び画像形成装置
US9810825B2 (en) 2012-07-13 2017-11-07 The University Of North Carolina At Chapel Hill Curved volume phase holographic (VPH) diffraction grating with tilted fringes and spectrographs using same
US9310248B2 (en) 2013-03-14 2016-04-12 Nlight, Inc. Active monitoring of multi-laser systems
DE102013105205B4 (de) 2013-05-22 2020-06-10 Carl Zeiss Jena Gmbh Abbildungsoptik für Laserstrahlen, Vorrichtung zur Werkstückbearbeitung sowie Verfahren zur Herstellung einer Abbildungsoptik
EP2857810A1 (de) * 2013-10-02 2015-04-08 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Monolithisches Spektrometer
US9709810B2 (en) 2014-02-05 2017-07-18 Nlight, Inc. Single-emitter line beam system
JP6344933B2 (ja) 2014-03-03 2018-06-20 株式会社ミツトヨ 光電式エンコーダ
DE102014005790A1 (de) 2014-04-16 2015-10-22 Carl Zeiss Ag Abbildungsoptik für Laserstrahlen
DE102014118880A1 (de) 2014-12-17 2016-06-23 Rofin-Baasel Lasertech Gmbh & Co. Kg Optische Einrichtung zur Modulation der spektralen Phase von Laserpulsen
GB2543592B (en) 2016-03-30 2018-08-01 The Science And Tech Facilities Council Imaging a retina of an eye
US20170329113A1 (en) * 2016-05-12 2017-11-16 Raytheon Company Compact five-reflection optical system as a unity magnification finite conjugate relay
JP6635904B2 (ja) * 2016-10-14 2020-01-29 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及び物品の製造方法
US10816795B2 (en) 2016-11-28 2020-10-27 Amalgamated Vision, Llc Wearable display for near-to-eye viewing
US10345562B2 (en) 2017-02-07 2019-07-09 Raytheon Company All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem
US10845582B2 (en) 2018-06-07 2020-11-24 Raytheon Company All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem
GB201811903D0 (en) 2018-07-20 2018-09-05 Univ Oxford Innovation Ltd Scanning laser ophthalmoscopes
DE102019203560A1 (de) * 2019-03-15 2020-09-17 Bruker Optik Gmbh IR-Mikroskop
US11340451B2 (en) 2019-06-19 2022-05-24 Amalgamated Vision, Llc Wearable display for near-to-eye viewing with expanded beam
US11719576B2 (en) 2019-11-01 2023-08-08 California Institute Of Technology Mid-wave and long-wave infrared point spectrometer
US11762181B2 (en) 2019-12-26 2023-09-19 Kessler Optics and Photonics Solutions Ltd. Scanning microscope with enhanced FOV and NA
US11796791B2 (en) 2020-01-16 2023-10-24 Magic Leap, Inc. Scanning mirror systems and methods of manufacture
DE102020122449A1 (de) 2020-08-27 2022-03-03 Carl Zeiss Ag Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von Abbildern eines Lichtquellenarrays
DE102020216123A1 (de) 2020-12-17 2022-06-23 Carl Zeiss Ag Belichtungseinrichtung, Vorrichtung und Verfahren zur additiven Fertigung eines Werkstücks
KR20230161498A (ko) 2021-03-30 2023-11-27 키옵티크 포토닉스 게엠베하 운트 콤파니 카게 패널을 검사하기 위한 패널 검사 디바이스 및 방법
DE102021111728A1 (de) 2021-05-05 2022-11-10 General Atomics Synopta GmbH Sphärisches Spiegelsystem für eine Freiraumkommunikation mit Satelliten mit beugungsbegrenzter Abbildungsqualität und hoher Transmission
DE102022201002A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3190171A (en) * 1960-06-07 1965-06-22 Oxford Corp Viewing device having optical arrangement producing virtual image at infinity

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3062101A (en) * 1959-05-29 1962-11-06 Perkin Elmer Corp Anastigmatic catoptric systems
US3527526A (en) * 1965-05-26 1970-09-08 Ernest W Silvertooth Catoptric image-forming system in which light is reflected twice from each surface
NL6701520A (de) * 1967-02-01 1968-08-02
US3508813A (en) * 1967-03-24 1970-04-28 Instrumentation Labor Inc Adjustable slit system for use in spectroanalysis apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3190171A (en) * 1960-06-07 1965-06-22 Oxford Corp Viewing device having optical arrangement producing virtual image at infinity

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2801882A1 (de) * 1977-02-11 1978-08-17 Perkin Elmer Corp Optisches system mit breitem, ringfoermigem abbildungsbereich und einfacher vergroesserung
DE3033509A1 (de) * 1979-10-09 1981-04-23 Perkin Elmer Corp Monozentrisches optisches system
EP0243950A2 (de) * 1986-05-02 1987-11-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optisches Projektionssystem
EP0243950A3 (en) * 1986-05-02 1989-02-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical projection system
EP0271737A2 (de) * 1986-12-17 1988-06-22 Svg Lithography Systems, Inc. Optisches Übertragungssystem mit Vergrösserung
EP0271737A3 (en) * 1986-12-17 1988-10-12 The Perkin-Elmer Corporation Optical relay system with magnification

Also Published As

Publication number Publication date
FR2143493A1 (de) 1973-02-02
CA970611A (en) 1975-07-08
FR2143493B1 (de) 1977-12-23
DE2230002C2 (de) 1984-11-22
NL176711C (nl) 1985-05-17
JPS5517196A (en) 1980-02-06
IL39693A (en) 1975-02-10
GB1401687A (en) 1975-07-30
US3748015A (en) 1973-07-24
JPS5751083B1 (de) 1982-10-30
NL8401001A (nl) 1984-07-02
CH552222A (de) 1974-07-31
NL176711B (nl) 1984-12-17
IL39693A0 (en) 1972-08-30
JPS5817932B2 (ja) 1983-04-11
NL8401002A (nl) 1984-07-02
SE383423B (sv) 1976-03-08
NL7208478A (de) 1972-12-27
JPS5817933B2 (ja) 1983-04-11
BR7203998D0 (pt) 1973-06-05
JPS5517197A (en) 1980-02-06
KR790000468B1 (en) 1979-05-20
IT956732B (it) 1973-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2230002A1 (de) Katoptrisches system mit der vergroesserung eins
DE2739488C3 (de) Fotografisches Weitwinkelobjektiv
DE2828530A1 (de) Achromatisches optisches system
DE1931260A1 (de) Verfahren zur Wiedergabe eines Hologrammes,das die Funktion einer nach optischen Prinzipien arbeitenden komplexen Wellenaenderungsanordnung ausuebt,mit hoher Wiedergabetreue
DE2617727C2 (de)
DE2323931C3 (de) Holographisches Mikroskop
DE2532578A1 (de) Katadioptrisches system
DE3915868A1 (de) Uv-taugliches trockenobjektiv fuer mikroskope
DE2532787C3 (de) Objektiv für Bildplatten
DE2801882C2 (de)
DE3629875A1 (de) Asphaerische einzellinse
DE3151221A1 (de) &#34;abtastobjektiv fuer abtastung mit gleichmaessiger geschwindigkeit mit hohem aufloesungsvermoegen&#34;
DE2605837C2 (de) Optisch-mechanischer Abtaster
DE1275304B (de) Catadioptrisches Vergroesserungssystem
DE6920354U (de) Objektiv
DE69906361T2 (de) Anpassungsoptik für ein filmkamera-objektiv auf eine videokamera
DE2047776A1 (de) Funflinsiges optisches System
DE2635102A1 (de) Teleobjektiv
DE2652546A1 (de) Verfahren zur vergroesserung der brennweite eines varioobjektivs im telebereich
DE1957628A1 (de) Optische Einrichtung mit einem Konkavspiegel und mit einem Korrekturteil
DE4301291A1 (de) Universeller Zweispiegelkorrektor für Cassegrainartige Spiegelsysteme
DE2028357A1 (de) Elektronenmikroskop
DE2229735C3 (de) Außeraxiales optisches System mit wenigstens zwei getrennten, gleichachsig angeordneten optischen Gliedern
DE109091C (de)
DE2036285A1 (de) Pankratisches Projektionsobjektiv

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
OI Miscellaneous see part 1
OI Miscellaneous see part 1
8172 Supplementary division/partition in:

Ref country code: DE

Ref document number: 2266024

Format of ref document f/p: P

Q171 Divided out to:

Ref country code: DE

Ref document number: 2266024

AH Division in

Ref country code: DE

Ref document number: 2265558

Format of ref document f/p: P

Ref country code: DE

Ref document number: 2265557

Format of ref document f/p: P

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition