DE19957370A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines SubstratesInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (8) mit einer oder mehreren dünnen Schichten (10) unter Verwendung einer Strahlungsquelle (3), bei dem ein Schichtrohmaterial (7) zwischen dem Substrat (8) und einer dem Substrat (8) gegenüberliegenden formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) vorhanden ist. Zumindest ein Teil des Schichtrohmaterials (7) wird durch geeignetes Einbringen von Strahlungsenergie (6) verändert und haftet dadurch an dem Substrat (8) an. Die nun am Substrat (8) anhaftende Schicht (10) und die formveränderbare Oberfläche (2a) werden voneinander getrennt. Ferner betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Beschichtung.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum
Beschichten eines Substrates mit einer oder mehreren dünnen
Schichten unter Verwendung einer Strahlungsquelle. Bei
derartigen Verfahren und Vorrichtungen wird durch die
Strahlungsquelle ein Schichtrohmaterial durch die hierin
eingebrachte Strahlung in irgendeiner Weise verändert, so
dass das veränderte Schichtrohmaterial dann als Schicht am
Substrat oder einer zuvor aufgebrachten Schicht haften
bleibt. Indem die Strahlung in geeigneter Weise in die
gewünschten Bereiche eingebracht wird, kann dabei ein
irgendwie geartetes Muster erzeugt werden. Dabei ist auch die
Schichtdicke einstellbar.
Ein derartiges Beschichtungsverfahren ist insbesondere zur
Herstellung von dreidimensionalen Körpern verwendbar, indem
mehrere dünne, individuell gestaltete Schichten
aufeinanderfolgend erzeugt werden. So sind allgemein unter
dem Begriff Rapid Prototyping entsprechende Verfahren zur
Herstellung von Modellen bekannt. Auch die Stereolithographie
ist hierunter zu subsumieren.
Wie bereits eingangs erwähnt, sind Beschichtungsverfahren,
bei denen mehrere Schichten aufeinanderfolgend hergestellt
werden, indem die Strahlung einer Strahlungsquelle gezielt
eingesetzt wird, um ein Schichtrohmaterial in irgendeiner
Weise zu verändern, zur Herstellung von dreidimensionalen
Körpern seit längerem bekannt. So ist aus der US 4,801,477
ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von
dreidimensionalen Körpern durch Photopolymerisation bekannt.
Hier wird in einem flüssigen photopolymeren Kunststoff
sukzessive durch eine in den flüssigen Kunststoff
eingebrachte Strahlungsquelle auf einem gegenüberliegenden
Substrat eine Schicht mit vorbestimmter Dicke erzeugt.
Gegenüber den allgemein bekannten Stereolithographie-
Verfahren ist hier besonders, dass die Photopolymerisation
nicht an der freien Oberfläche des flüssigen Kunststoffs
erfolgt, sondern in der Flüssigkeit. Dabei ist die
Strahlungsquelle gegenüber dem Substrat sowohl in der Höhe
wie auch in der XY-Richtung verstellbar, so dass durch
Erzeugung vieler kleiner verfestigter Kunststoffabschnitte
ein dreidimensionaler Körper aufgebaut werden kann.
Gegenüber der Erzeugung einer Veränderung des
Schichtrohstoffes, hier dem flüssigen photopolymeren
Kunststoff, an der freien Oberfläche des Kunststoffbades
werden durch die unterhalb der Oberfläche des Kunststoffes
bewirkte Verhärtung - beispielsweise radikalische
Polymerisation für Acrylatharze, kationische Polymerisation
für Epoxy- und Vinyletherharze - die oftmals bei der
Photopolymerisation an der Oberfläche auftretenden Probleme,
wie Schrumpfen und Abweichen von der Sollstellung, vermieden.
Allerdings tritt hier dann das Problem auf, dass zwischen der
transparenten Schicht zum Durchlass der Strahlung und dem
gegenüberliegenden Substrat bzw. der zuvor erstellten Schicht
die Verhärtung des Schichtrohmaterials erfolgt, so dass die
transparente Schicht der Strahlungsquelle und die chemisch
veränderte, verhärtete Kunststoffschicht fest aneinander
haften. In der Praxis hat sich gezeigt, dass aufgrund dieses
Effektes, der beispielsweise mit dem Haftungseffekt von zwei
angefeuchteten, aneinander liegenden Platten vergleichbar
ist, eine praxisgerechte Lösung für eine solche Vorrichtung
bisher nicht möglich war. Zwar wird in der genannten US
4,801,477 dieses Haftungsproblem angesprochen und als
vermeintliche Lösung angegeben, die transparente starre
Schicht des Strahlers speziell zu beschichten, beispielsweise
mit UHMW-Polyolefin oder fluorinierten Ethylen-Propylen-
Copolymeren, wie beispielsweise verändertem Teflon, jedoch
ist damit in der Praxis das Haftungsproblem nicht erfolgreich
zu lösen.
Aus der US 5,089,184 ist darüber hinaus ein alternatives
Verfahren zum Herstellen von dreidimensionalen Körpern aus
mehreren Schichten unter Verwendung einer Strahlungsquelle
bekannt, bei dem die Strahlung durch eine
strahlungsdurchlässige starre Bodenfläche in einen flüssigen
photopolymeren Kunststoff eingebracht wird. Gegenüber der
strahlungsdurchlässigen Bodenfläche ist das Substrat
angeordnet, an dem der dreidimensionale Körper aufgebaut
wird. Das Substrat ist von der strahlungsdurchlässigen
Bodenfläche in einem Abstand zu positionieren, dass der
jeweils gewünschten herzustellenden Schichtdicke entspricht.
Aber auch hier tritt das zuvor erläuterte Haftungsproblem
zwischen der starren Bodenfläche und dem Substrat bzw. einer
darauf bereits aufgebrachten Schicht auf. Zur Lösung wird in
diesem Fall vorgeschlagen, jeweils nur sehr kleine Bereiche
einer Schicht herzustellen und nach jedem Bestrahlungsvorgang
durch Vergrößern des Abstandes zwischen der Bodenfläche und
der gerade hergestellten Schicht eine Trennung zu bewirken.
Alternativ wird vorgeschlagen, die Bodenfläche insgesamt
gegenüber dem Substrat um einen gewissen Winkelbetrag zu
kippen. Die erste vermeintliche Lösungsalternative ist, wenn
sie überhaupt in die Praxis umsetzbar ist, mit dem Problem
behaftet, dass der Aufbau einer oder mehrerer Schichten sehr
lange dauert, was die Herstellungskosten für einen
mehrschichtigen Körper stark erhöht. Die zweite vermeintliche
Lösungsalternative ist mit dem Problem behaftet, dass
weiterhin große mechanische Kräfte auf das Substrat und die
darauf anhaftenden Schichten wirken, was zum einen zur
Beschädigung der Schichten führen kann, zum anderen die
Genauigkeit eines zu fertigenden Bauteils beeinflussen kann.
Den zuvor erläuterten bekannten Verfahrensweisen und
Vorrichtungen haben gemein, dass die an sich gegenüber einer
Schichtherstellung an der freien Oberfläche eines
Schichtrohmaterials günstigere Verfahrensweise nicht oder nur
mit nicht akzeptablen Ergebnissen in die Praxis umsetzbar
sind, weil der Abtrennvorgang zwischen der gerade
hergestellten Schicht und der strahlungsdurchlässigen
Gegenfläche bisher nicht beherrschbar ist.
Das der Erfindung zugrundeliegende technische Problem besteht
darin, ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs
genannten Art dahingehend zu verbessern, dass ein leichterer
Abtrennvorgang zwischen der hergestellten Schicht und einer
angrenzenden, gegenüberliegenden Oberfläche durchführbar ist.
Dieses technische Problem wird durch eine Verfahrensweise
gemäß dem Anspruch 1 und eine Vorrichtung nach dem Anspruch
14 gelöst. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren befindet sich
das Schichtrohmaterial zwischen dem Substrat oder einer
bereits auf dem Substrat aufgebrachten Schicht und einer dem
Substrat gegenüberliegenden, formveränderbaren Oberfläche.
Durch geeignetes Einbringen von Strahlungsenergie in das
Schichtrohmaterial wird wie beim Stand der Technik zumindest
ein Teil des Schichtrohmaterials verändert, wodurch es dann
an dem Substrat bzw. der zuvor aufgebrachten Schicht
anhaftet. Hiernach erfolgt ein Abtrennen des Substrates mit
der gerade hergestellten und daran anhaftenden Schicht von
der formveränderbaren Oberfläche, beispielsweise, indem das
Substrat von der Formveränderbaren Oberfläche weggezogen oder
gegenüber dieser verdreht wird. Es wäre aber auch denkbar,
vorzusehen, dass die formveränderbare Oberfläche von dem
Substrat wegbewegt oder gegenüber diesem verdreht wird indem
diese beim Abtrennvorgang. Das Schichtrohmaterial kann sowohl
ein flüssiges, festes oder gasförmiges Material sein. Diese
Materialien sind bereits im Stand der Technik hinlänglich
bekannt. Die entsprechenden Verfahren werden unter dem
Oberbegriff Rapid Prototyping als u. a. Stereolithographie,
Selektives Lasersintern, Fused Deposition Modelling und
Laminated Object Manufactering bezeichnet. Auf all diese
bekannten Verfahren wird hier ausdrücklich bezug genommen.
Auf eine ausführliche Erläuterung dieser bekannten Verfahren
wird aber zur Vermeidung unnötiger Widerholungen verzichtet.
Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, anstatt - wie beim
Stand der Technik - eine starre Oberfläche als Gegenseite zum
Substrat vorzusehen, eine formveränderbare Oberfläche
einzusetzen. Durch die veränderbare Form bzw. Geometrie der
Oberfläche, insbesondere einem flexiblen Schichtelement mit
entsprechend veränderbarer Oberflächengestalt, ist es
erstmals möglich, eine neu hergestellte Schicht leichter von
der zur Festlegung der Schichtdicke und/oder der Schichtform
der zu erzeugenden Schicht dienenden Oberfläche abzulösen.
Das heißt, insbesondere eine flexible Oberfläche ermöglicht
einen problemloseren Trennvorgang. Wie bereits erwähnt, ist
es mit dem neuen Verfahren gemäß der Erfindung zudem auch
optional möglich, die Schichtform - anders gesagt deren
Querschnittsgeometrie oder allgemein das Relief einer neuen
Schicht - vorab durch entsprechende Reliefgestaltung der
formveränderbaren Oberfläche festzulegen. Damit ist also
erstmals eine Schicht mit unterschiedlichen Dicken
herstellbar. Dabei wird vorteilhafterweise die Energie der
Strahlungsquelle je nach der Dicke des jeweiligen
Schichtbereichs variiert. So sollte beim Einsatz eines
Lasers, bei größerer Schichtdicke die Energie erhöht werden,
entsprechend bei geringerer Schichtdicke des herzustellenden
Schichtbereichs dessen Energie reduziert werden. Es sei hier
nochmals herausgestellt, dass damit erstmals nicht nur plane
Schichten mit gleichmäßiger Dicke herstellbar sind, sondern
auch Schichten mit beliebiger Oberflächengeomtrie. Für den
Fall, dass Bereiche in der herzustellenden Schicht leer, d. h.
nicht mit Schichtmaterial gefüllt, sein sollen, ist dies mit
dem neuen Verfahren problemlos realisierbar. Dazu wird
einfach in dem entsprechenden Bereich ein reeller Kontakt
zwischen dem Substrat oder einer bereits hieran anhaftenden
Schicht und der formveränderbaren Oberfläche hergestellt.
Dies geschieht optimalerweise dadurch, dass die flexible
Oberfläche in dem später gewünschten Freiraum ein Erhöhung
bzw. Auswölbung aufweist, die also im Querschnitt gesehen
gegenüber benachbarten Oberflächenbereichen vorstehen.
Damit erweitert sich das mögliche Einsatzspektrum eines
erfindungsgemässen Verfahrens bedeutend. Beispielsweise
könnten so u. a. auch Platinen oder dergleichen bearbeitet
oder hergestellt werden, indem die entsprechenden Muster mit
den erforderlichen Tiefen geschaffen werden.
Die Erfindung erlaubt auch erstmals den Einsatz von
Schichtrohmaterialien, die sich aus unterschiedlichen
Substanzen zusammensetzen, die wiederum unter verschiedenen
Bedingungen veränderbar, insbesondere aushärtbar sind.
Beispielsweise wäre es denkbar, irgendeinen flüssigen
photopolymeren Kunststoff mit thermoplastischen Bestandteilen
zu vermischen, so dass dann mit verschiedenen
Strahlungsquellen die verschiedenen Substanzen in
unterschiedlichen Bereichen der herzustellenden Schicht
geschaffen werden können. Insbesondere ist für ein
erfindungsgemässes Verfahren eine Folie oder eine Membran
einsetzbar, die flexibel und/oder elastisch aus ihrer
ursprünglichen Lage, wie sie während der Herstellung der
Schicht eingenommen ist, auslenkbar ist und dabei ihre
ursprüngliche Oberflächenform verändert. So eine Folie kann
beispielsweise aus Silikon, Polyethylen oder PVC bestehen
oder zumindest hiermit beschichtet sein. Es ist
selbstverständlich auch ein anderer dreidimensionaler Körper
hierfür einsetzbar, dessen irgendwie geometrisch geartete
Oberfläche kurzzeitig nachgiebig, flexibel oder irgendwie
formveränderbar ist. Kern der vorliegenden Erfindung ist also
die spezielle Wahl der Oberfläche, die dem Substrat
gegenüberliegt und die zusammen mit dem Substrat oder einer
bereits zuvor erstellten Schicht die Schichtdicke und/oder
die Schichtoberflächengeometrie der zu erzeugenden Schicht
aus Schichtrohmaterial festlegt. Zum Beispiel nimmt die
Oberfläche beim Trennvorgang kurzzeitig eine andere Form ein,
die sich von der ursprünglichen unterscheidet. So wird eine
Folie im Querschnitt gesehen beispielsweise um einen gewissen
Betrag ausgelenkt und löst sich dadurch nach und nach von der
daran anhaftenden, gerade hergestellten Schicht ab, wird aber
nach einem vollständigen Ablösen der Schicht
vorteilhafterweise wieder ihre ursprüngliche Lage und Form
einnehmen.
Selbstverständlich ist es auch möglich, anstatt des
Substrates die formveränderbare Oberfläche zu bewegen oder
beide Teile in einander entgegengesetzte Richtungen zu
bewegen oder gegeneinander zu verdrehen. Bei all diesen
Trennvorgängen ist wesentlich, dass die Oberfläche in ihrer
Form veränderbar ist, also ihre ursprüngliche geometrische
Form verändert, um den Trennvorgang zu erleichtern. Sie kann,
muss aber nicht mehr in die ursprüngliche Lage zurück kehren.
Das erfindungsgemäße Verfahren wie auch die erfindungsgemäße
Vorrichtung arbeiten grundsätzlich nach den Verfahren, wie
sie bereits im Stand der Technik bekannt sind und
insbesondere zuvor erläutert wurden. All diese bekannten
Verfahren sind aber dahingehend modifiziert, dass nun keine
starre abzulösende Oberfläche vorhanden ist, sondern eine
formveränderbare oder in ihrer Geometrie veränderbare
Oberfläche eingesetzt wird.
Insbesondere ist das erfindungsgemäße Verfahren mit einer
Folie durchführbar, die faltenfrei gespannt ist und beim
Trennvorgang um einen gewissen Betrag aus ihrer
ursprünglichen Ebene ausgelenkt wird. Vorteilhafterweise ist
diese Folie natürlich dann auch wie beim eingangs genannten
Stand der Technik beschichtet, um die Haftung weiter
herunterzusetzen. Das erfindungsgemäße Verfahren lässt sich
auch sowohl mit einem Laser, dessen Laserstrahl in bekannter
Weise durch Spiegel oder dergleichen abgelenkt wird,
durchführen, jedoch sind auch andere Strahlungsquellen
einsetzbar. Die jeweilige Strahlungsquelle richtet sich
natürlich nach dem verwendeten Schichtrohmaterial.
Das heißt, das Verfahren lässt sich nicht nur mit flüssigen
photopolymeren Kunststoffen durchführen, sondern auch mit
beispielsweise thermisch veränderbaren Flüssigkeiten oder
Feststoffen wie auch Gasen, indem aus der Gasphase
abgeschieden wird. So sind Verfestigungen des
Schichtrohmaterials möglich, Schmelzvorgänge durchführbar,
andere modifizierte Ausführungsformen denkbar, wie
beispielsweise eine besondere Aktivierung oder Passivierung
des Schichtrohmaterials. Das Schichtrohmaterial selbst kann
somit flüssig, pulverförmig, wachsartig oder gasförmig sein.
Gegenüber Verfestigungen an der Oberfläche von flüssigen
photopolymeren Kunststoffen, wie sie bei der bekannten
Stereolithographie bewirkt werden, weist das erfindungsgemäße
Verfahren den Vorteil auf, dass auch nunmehr nicht nur
niedrigviskose, sondern auch hochviskose Materialien
verwendbar sind. Bekanntlich tritt ein sog. Dewetting-Effekt
auf, je dünner eine Flüssigkeit verteilt wird; d. h. die
dünnverteilte Flüssigkeit zieht sich wieder zusammen, so dass
Bereiche entstehen, die nicht mit Schichtrohmaterial bedeckt
sind. Genau dies geschieht beim Wischen an der freien
Oberfläche, wie sie bei der bekannten Stereolithographie
notwendig ist. Würde man nun, um dem Dewetting-Effekt
entgegenzuwirken, eine hochviskose Flüssigkeit einsetzten, so
träte hierbei das Problem auf, dass aufgrund des beim Wischen
entstehenden Geschwindigkeitsprofils sich eine unakzeptable
Welligkeit ergeben würde, die sich auf die Baugenauigkeit
äußerst nachteilig auswirken würde. Da beim erfindungsgemäßen
Verfahren keine freie Oberfläche mehr vorhanden ist, treten
die zuvor genannten Probleme nicht auf, so dass nunmehr auch
hochviskose Materialien wie Kunststoffe, Harze und auch
pulverförmige Festkörper verwendbar sind. Darüber hinaus ist
dadurch, dass keine freie Oberfläche des Schichtrohmaterials
vorliegt, auch eine Kontaktierung mit Umgebungsgasen
vermeidbar, was insbesondere bei flüssigen photopolymeren
Kunststoffen von Vorteil ist. Erstmals ist damit auch weit
weniger Schichtrohmaterial bereitzustellen, da die Bäder weit
weniger tief sein müssen als bisher, was durch die sehr
teueren photopolymeren Kunststoffen hinsichtlich der
notwendigen Bereitstellungskosten äußerst wichtig ist.
Dadurch wird auch die Flexibilität des Verfahrens stark
erhöht. So können nun verschiedene Materialien für
verschiedene Schichten eingesetzt werden. Es ist auch
möglich, kostengünstig verschiedene Stoffe, wie
beispielsweise Farben oder Verstärkungsfasern, in flüssige
Kunststoffe beizumischen, was aufgrund der hohen Kosten für
die bisher notwendigen, großen Kunststoff- oder Harzmengen
nicht wirtschaftlich durchführbar war. Da erstmals die zum
Bau eines mehrschichtigen Körpers notwendige
Schichtrohmaterialmenge weitaus geringer ist als bei den
Verfahren, die mit einer freien Oberfläche arbeiten
(Stereolithograpie), ist es erstmals auch nicht notwendig,
dass das Schichtrohmaterial eine chemische Langzeitstabilität
aufweist. Bisher war es beispielsweise bei der
Stereolithographie notwendig, die Harze so zu gestalten, dass
diese zumindest mehrere Wochen oder sogar Monate chemisch
stabil sind. Ansonsten wäre keine wirtschaftliche Fertigung
mit diesen sehr teueren Harzen möglich, die ja bekanntlich in
großen Mengen in einer Stereolithographie-Maschine
bevorratet sein müssen. Da bei der Erfindung weitaus weniger
Schichtrohmaterial auf einmal einzusetzen ist, ist deren
chemische Langzeitstabilität kein Kriterium mehr, so dass
bisher aus wirtschaftlichen Erwägungen unbeachtete
Materialien, die aber fertigungstechnische Vorteile haben,
nunmehr zum Einsatz kommen können. So muß theoretisch das
Material zur eine chemische Stabilität haben, die der Bauzeit
einer Schicht entspricht.
Die wesentlichen Merkmale einer Vorrichtung zum Beschichten
eines Substrates mit einer oder mehreren dünnen Schichten
unter Verwendung einer Strahlungsquelle sind ein
Substratträger, an dem das zu beschichtende Substrat
anbringbar ist, ein dem Substrat gegenüberliegendes Element
mit formveränderbarer Oberfläche sowie eine Strahlungsquelle
zum Erzeugen einer Strahlung. Mit der Strahlung ist ein
Schichtrohmaterial zwischen dem Substrat oder einer bereits
anhaftenden Schicht und der formveränderbaren Oberfläche
veränderbar und dadurch am Substrat oder einer bereits zuvor
erzeugten Schicht anhaftbar. Schließlich ist eine
Trennvorrichtung erforderlich, um die hergestellte Schicht
von der formveränderbaren Oberfläche zu trennen.
Vorteilhafterweise ist das dem Substrat gegenüberliegende
Element eine Folie, die beispielsweise plan gespannt ist,
aber durch Druck oder Zug senkrecht zur Folienebene
auslenkbar ist.
Grundsätzlich sind zwei Ausführungsformen der Vorrichtung
denkbar. Bei der einen, die im Aufbau der US 4,801,477
ähnelt, ist die formveränderbare Oberfläche die Oberseite der
Strahlungsquelle, die beispielsweise in einem flüssigen
photopolymeren Kunststoff eingetaucht ist, der eine feste,
starre Oberfläche gegenüberliegt und zwischen denen durch die
Strahlung der Kunststoff in gewünschter Weise erhärtet wird.
Bei dieser Anordnung kann das Schichtrohmaterial natürlich
auch ein zu schmelzendes Pulver oder ein irgendwie gearteter
Festkörper sein. Beispielsweise ist es auch möglich, Wachs
etc. einzusetzen. Die andere Bauweise entspricht der in der
US 5,089,184 gezeigten Anordnung (Fig. 2 dieses Standes der
Technik), bei der an einem Substratträger mehrere Schichten
erzeugt werden und die Strahlungsquelle unterhalb einer
strahlungsdurchlässigen Platte angeordnet ist.
Erfindungsgemäß wird nun bei beiden Alternativen die starre
Oberfläche des strahlungsdurchlässigen Teils durch eine
formveränderbare Oberfläche ersetzt, wie beispielsweise eine
Folie, die insbesondere dehnbar, flexibel oder elastisch ist.
Wie bei der US 5,089,184 ist es erfindungsgemäß möglich, dass
als Strahlungsquelle ein Laser eingesetzt wird, der je nach
dem verwendeten Schichtrohmaterial ausgestaltet ist und
dessen Strahl in der gewünschten Weise durch eine
Ablenkeinrichtung abgelenkt wird. Außerdem ist aber auch, wie
es auch in der US 5,089,184 beschrieben ist, eine
flächenbestrahlende Einrichtung als Strahlungsquelle
einsetzbar, wobei dann eine Maske in dem Strahlengang
angeordnet ist, um das gewünschte Muster in die
herzustellende Schicht einzubringen. Die Maske selbst ist
dann vorteilhafterweise in die Folie integriert, indem die
Folie teilweise strahlungsdurchlässig, teilweise nicht
strahlungsdurchlässig ist. Ein entsprechend wirkende Maske
kann aber als separates Teil der formveränderbaren Oberfläche
vorgeschaltet sein.
Grundsätzlich ist keine ursprünglich plan vorliegende
formveränderbare Oberfläche notwendig, es kann auch eine
ursprünglich dreidimensionale Geometrie vorliegen, die dann
beim Trennvorgang eine andere dreidimensionale Geometrie
einnimmt.
Bei einer zuvor genannten Anordnung, bei der die
strahlungsdurchlässige formveränderbare Oberfläche
gleichzeitig ein Teil oder den ganzen Boden einer
Aufnahmeeinrichtung für den Schichtrohstoff bildet, kann es
vorteilhaft sein, als Stützelement eine
strahlungsdurchlässige starre Unterlage einzusetzen,
beispielsweise eine Glasplatte oder dergleichen. In diesem
Fall kann es zur Unterstützung des Trennvorgangs zweckmäßig
sein, zwischen das Stützelement und die darüberliegende Folie
ein Fluid einzubringen. Unter Umständen kann der
Einblasvorgang bereits vor oder nach dem Trennvorgang
beginnen. Idealerweise wird er gleichzeitig mit Beginn des
Trennvorgangs gestartet, d. h. beim Wegbewegen des
Substratträgers oder der Oberfläche. Als Fluid ist
insbesondere Luft einsetzbar, die unter Druck in den
entstehenden Spalt zwischen dem Stützelement und einer der
formveränderbaren Oberfläche gegenüberliegenden Seite
eingebracht wird.
Es ist hier nochmals abschließend herauszustellen, dass
grundsätzlich alle bekannten Beschichtungsverfahren, bei
denen ein Schichtrohmaterial durch Einsatz von
Strahlungsenergie in gewünschter Weise verändert wird,
einsetzbar ist, wobei zwischen dem zu beschichtenden Teil und
einer Gegenfläche - erfindungsgemäß die erstmals
formveränderbare Schicht - die Schichtdicke und/oder das
Schichtrelief begrenzt wird.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist die räumliche
Anordnung dieses zu beschichtenden Teils und der Gegenfläche
egal. So kann die zu beschichtende Oberfläche über oder
unterhalb der Gegenfläche angeordnet sein. Genauso ist es
aber auch möglich, die beiden Teile seitlich zueinander
anzuordnen, so dass die herzustellenden Schicht eine im
wesentlichen vertikale oder irgendeinen anderen Winkel zu
Horizontalen aufweist. Dies ist bei freien Oberflächen, wie
sie bei der Stereolithographie notwendig sind, technisch
ausgeschlossen. Durch die wahlweise räumliche Anordnung ist
das erfindungsgemäße Verfahren an alle möglichen räumlichen
und weiteren Bearbeitungssituationen anpassbar.
Im Folgenden sind zur weiteren Erläuterung und zum besseren
Verständnis der Erfindung mehrere Ausführungsbeispiele unter
Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben
und erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 eine schematische Seitenansicht einer ersten
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
in einer ersten Betriebsphase,
Fig. 2 die in Fig. 1 gezeigte Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung in einer weiteren
Betriebsphase,
Fig. 3 die in der Fig. 1 gezeigte Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung in einer weiteren
Betriebsphase,
Fig. 4 die Ausführungsform der Fig. 1 in einer weiteren
Betriebsphase,
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer zweiten
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen
Vorrichtung,
Fig. 6 eine schematische Darstellung einer dritten
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen
Vorrichtung,
Fig. 7 die Vorrichtung der Fig. 6 in einer anderen
Betriebsphase,
Fig. 8 eine schematische Darstellung einer weiteren
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen
Vorrichtung, die der in der Fig. 1 gezeigten
ähnelt, jedoch modifiziert ist,
Fig. 9 eine schematische Darstellung einer weiteren
modifizierten Ausführungsform der in Fig. 8
gezeigten Vorrichtung,
Fig. 10 eine schematische Darstellung einer weiteren
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
mit flächenabstrahlender Strahlungsquelle,
Fig. 11 eine schematische Darstellung einer weiteren
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
mit dreidimensionaler, formveränderbarer Oberfläche
eines dem Substrat gegenüberliegenden Elements,
Fig. 12 eine schematische Darstellung einer weiteren
modifizierten Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung und
Fig. 13a)-d) mehrere schematische Querschnitte einer
formveränderbaren Oberfläche, die ein Relief zur
Ausbildung verschiedener Schichtdicken in einer
Schicht hat.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 1-4 wird eine erste
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung sowie ein
erfindungsgemäßes Verfahren erläutert. Wie in der Fig. 1
schematisch dargestellt, umfasst die Vorrichtung einen
Behälter für einen flüssigen photopolymeren Kunststoff 7. Der
Behälter besteht hier aus einem Metallring oder Rahmen 1, der
bodenseitig mit einer Folie 2 bespannt ist. Die Folienränder
21 sind an der Seitenwand des Metallrings 1 umgelegt und dort
dichtend befestigt, beispielsweise mittels eines Klebebandes.
Die Folie ist hier eine Silikon- oder PE-Folie, die eine
Stärke von einigen µm bis einigen Millimetern, insbesondere
ungefähr 5 µm-1 mm, hat. Sie ist faltenfrei im Rahmen 1
gespannt. Der Rahmen 1 ist um eine Mittelachse 11 drehbar
gelagert (nicht gezeigt). Zum Drehen des Rahmens 1 um die
Mittelachse 11 ist ein Reibrad 14 vorhanden, das durch einen
nicht gezeigten Antrieb betrieben wird und an einer ebenfalls
nicht dargestellten Steuerung angeschlossen ist.
Unterhalb des Behälters ist eine Ablenkeinrichtung in Form
eines gesteuerten, beweglichen Spiegels 6 angeordnet, der zur
gerichteten Ablenkung eines Laserstrahls 4, 5 wird dient. Der
Laserstrahl von einer hier schematisch dargestellten
Strahlungsquelle 3, beispielsweise einem UV-Laser, emittiert.
Über dem Behälter ist ein Substratträger 9 angeordnet, der in
Z-Richtung mittels einer nicht gezeigten Steuerung verfahrbar
ist. An dem Substratträger 9 ist ein Substrat 8 in Form einer
Platte, die beispielsweise auch mehrere Durchgangslöcher
haben kann, beispielsweise gitterartig ausgebildet sein kann,
befestigt. Die Verstellbarkeit des Substratträgers 9 in Z-
Richtung ist äußerst fein. Die Beschichtung des Substrates 8
erfolgt folgendermaßen, wie es auch aus den Fig. 1-4
ersichtlich ist. In den Behälter wird der flüssige
photopolymere Kunststoff 7 eingefüllt. Die Füllhöhe über der
Folie 2 muss hier nur wenig mehr als die gewünschte
Schichtdicke der zu erzeugenden Schicht sein, was bedeutend
weniger ist als bei einer Vorrichtung, die eine Erhärtung des
flüssigen Photopolymers an einer freien Oberfläche
durchführt, also mit einem Wischer arbeitet.
Der Substratträger 9 wird nach unten in das flüssige
Photopolymer eingetaucht, und zwar soweit, dass der Abstand
zwischen dem Substrat und der dem Substrat 8 zugewandten
Oberfläche 2a gleich der Schichtdicke d zu der zu erzeugenden
Schicht ist. Je nach der Viskosität des Schichtrohstoffes,
hier der flüssige photopolymere Kunststoff 7, ist auch bei
sehr dünnen Schichtdicken d beim Herunterfahren des
Substrates 8 gewährleistet, dass der Spalt zwischen den
beiden gegenüberliegenden Elementen 8 und 2a vollständig mit
Schichtrohmaterial 7 gefüllt ist. Bei hochviskosen
Flüssigkeiten kann es unter Umständen zweckmäßig sein,
mehrere Durchgangslöcher oder ein Gitter in dem Substrat 8
vorzusehen, die einen Durchtritt von Flüssigkeit zulassen,
damit sich beim Eintauchen des Substrates 8 in den
Schichtrohstoff 7 dieser vollständig, ohne Lufteinschlüsse
zwischen der Folie 2 und dem Substrat 8 verteilen kann.
Ist die Schichtdicke d erreicht, wird der Laser 3 aktiviert
und der Laserstrahl 4 mit Hilfe der Spiegeleinrichtung 6 in
dem gewünschten Muster abgelenkt. Der abgelenkte Laserstrahl
5 trifft durch die Folie 2 hindurchtretend auf den flüssigen
photopolymeren Kunststoff mit der Schichtdicke d. An
denjenigen Stellen, an denen der Strahl auftrifft, wird durch
eine chemische Reaktion das Schichtrohmaterial 7 verändert,
es verhärtet sich. Es entstehen erhärtete Bereiche 10, die an
dem Substratträger 8 anhaften. Eine Anhaftung erfolgt auch an
der Oberfläche 2a der Folie 2. Dort ist sie allerdings
unerwünscht.
Es wird nun, wie bereits bei einem mehrschichtigen Modell in
der Fig. 3 gezeigt, der Substratträger 9 von der Folie 2
wegbewegt. Durch die anfängliche starke Haftung der
Oberfläche 2a an der gerade erzeugten Schicht 10 wird die
Folie 2 aus ihrer ursprünglichen Lage ausgelenkt und nimmt
die Lage 2' ein. Die Lage löst sich dann aber von der zuletzt
erzeugten Schicht 10 ab und kehrt aufgrund der hier
vorhandenen Flexibilität und Elastizität wieder in ihre
Ursprungslage zurück. Dabei fließt flüssiger Kunststoff 7 in
den entstehenden Spalt zurück. Durch Absenken des
Substratträgers 9 und damit des Substrats 8 kann zwischen der
Folienoberfläche 2a und der zuletzt erzeugten Schicht 10
erneut ein gewünschter Abstand d, der sich u. U. von dem
vorherigen Abstand d unterscheidet, eingestellt werden. Durch
erneute Aktivierung des Lasers kann dann eine weitere Schicht
10 gewünschten Musters erzeugt werden. Dieser letzte Zustand
ist in der Fig. 4 gezeigt. Wie ersichtlich, ist ein
mehrschichtiges Modell geschaffen, das irgendeine
dreidimensionale Gestalt aufweisen kann und dessen Schichten
10 unterschiedliche Dicke d haben, je nach dem, wie der
Abstand zwischen der Folienoberfläche 2a und der zuvor
erzeugten Schicht 10 eingestellt wurde.
Bei der Einbringung des Laserstrahls 5 in den Schichtrohstoff
7 werden randseitig der erhärteten Bereiche 10 in dem
flüssigen Photopolymer chemische Reaktionen bewirkt, so dass
einzelne verfestigte, lose Teilchen, die nicht an der Schicht
10 haften, im flüssigen Photopolymerbad verbleiben. Um
Qualitätseinbußen bei der darauffolgenden zu erzeugenden
Schicht zu vermeiden, wird hier über das Reibrad 14 das
gesamte Behältnis um einen gewissen Winkelbetrag gedreht. Das
Drehen kann während, gleichzeitig oder auch kurz vor dem nach
oben Bewegen des Supportträgers 9 beginnen. Damit ist
gewährleistet, dass möglichst reiner Kunststoff für die neu
zu erstellende Schicht 10 vorhanden ist. Wenn das Drehen
gleichzeitig mit dem Hochfahren des Supportträgers 9 beginnt,
oder kurz zuvor, wird das Abtrennen der erhärteten Schicht 10
von der Folienoberfläche 2 zusätzlich unterstützt.
Aus den obigen Erläuterungen zu dem Verfahren gemäß den Fig.
1-4 ist erkennbar, das natürlich nach jeder erzeugten
Schicht 10 durch Austausch des Behältnisses auch ein anderes
Schichtrohmaterial 7 für die Schichten 10 verwendet werden
kann. So ist erstmals auch ein Körper aus mehreren Schichten
aus unterschiedlichen Materialien herstellbar. Beispielsweise
können auch verschiedene Farben dem jeweiligen
Schichtrohmaterial 7 beigemischt werden, oder auch
Zusatzstoffe wie Glasfasern, etc., um die Festigkeit des
fertigen Modells zu erhöhen.
Aus der Fig. 5 ist eine weitere Ausführungsform der
erfindungsgemäßen Vorrichtung ersichtlich. Hier ist ein
Rahmen 1 bodenseitig mit der Folie 2 versehen. In der
gezeigten X-Richtung sind verschiedene Abteile durch
Unterteilungen 26 gebildet, die verschiedene Schichtrohstoffe
23, 24, 25 enthalten. Der gesamte Rahmen 1 mit der Folie und
den verschiedenen Schichtrohmaterialien 23, 24, 25 ist in
X-Richtung verschiebbar. So kann gemäß der zuvor erläuterten
Verfahrensweise eine oder mehre Schichten mit dem
Schichtrohmaterial 23 am Substrat 8 gebildet werden. Dann
wird ein anderes Schichtrohmaterial 24 unter das Substrat 8
verfahren und eine oder mehrere Schichten aus diesem
Schichtmaterial 24 gefertigt. In gleicher Weise kann das
Schichtrohmaterial 25 eingesetzt werden. Selbstverständlich
ist es auch möglich, den Substratträger 9 nicht nur in Z-
sondern auch in X-Richtung zu verfahren. Dabei bleibt der
Behälter mit den verschiedenen Schichtrohmaterialien
ortsfest. In dieser Figur ist die Strahlungsquelle 3 nicht
dargestellt, das Verfahren ist aber ansonsten wie gemäß den
Fig. 1-4 durchzuführen.
Aus den Fig. 6 und 7 ist eine weitere Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung ersichtlich. Die hier
schematisch dargestellte Vorrichtung umfasst eine als
Endlosband ausgebildete Folie 30, die an Umlenkrollen 31
umläuft. Zwischen den zwei oberen Umlenkrollen 31 erstreckt
sich ein ebener Folienabschnitt. Die Folienaußenseite 30a ist
einem Substrat 8 an einem Substratträger 9 zugewandt. Wie bei
den zuvor genannten Ausführungsformen ist hier der
Substratträger 9 in Z-Richtung beweglich. Unterhalb der Folie
30 ist wiederum eine Strahlungsquelle vorhanden, deren Strahl
4 durch eine Umlenkeinrichtung 6 in gewünschter Weise auf das
Substrat zu richten ist. In dem ebenen Flächenabschnitt der
Folie 30 sind oberhalb der Folienoberfläche 30a mehrere
Speichervorrichtungen 32, 33, 34 für verschiedene flüssige,
feste, pulverförmige oder hochviskose Schichtrohmaterialien
angeordnet. Je nach Bedarf wird aus den gezeigten Speichern
32-34 auf die Folienoberfläche 30a eine Schicht aufgebracht
und durch eine Glättungseinrichtung 35 glattgestrichen, so
dass die dann entstehende Schicht 36 auf der Folienoberfläche
30a eine vorbestimmte Dicke d' aufweist.
Durch Transport der Folie 30 in Pfeilrichtung wird diese
Schicht 36 unter das Substrat 8 verfahren. Dann wird das
Substrat 8 bzw. eine bereits erstellte Schicht 10 mit dieser
Schicht berührend in Kontakt gebracht oder darin eingetaucht,
wie es in der Fig. 7 gezeigt ist, je nachdem, welche
Schichtdicke gewünscht wird. Dann wird die Strahlungsquelle 3
aktiviert und durch die Folie 30 hindurch der vorbestimmte
Bereich des Schichtrohmaterial 36 durch die eingebrachte
Strahlungsenergie so verändert, dass eine Beschichtung 10 mit
gewünschtem Muster am Substrat 8 oder einer bereits zuvor
aufgebrachten Schicht 10 hergestellt wird. Dann wird der
Substratträger 9 mit dem Substrat 8 in Z-Richtung nach oben
verfahren und das Folienband 30 weitertransportiert, wo über
einen Abstreifer 38 das "verbrauchte" Schichtrohmaterial 37
vom Folienband 30 abgestreift und wieder aufbereitet oder
unmittelbar wider der zugehörigen Speichereinrichtung 32-34
zugeleitet wird. Für die nächste Schicht kann dann das
gleiche oder ein anderes Schichtrohmaterial aus einem anderen
Speicher 32-34 auf das Folienband 30 aufgebracht werden.
Indem die Einrichtung 35 ebenfalls in Z-Richtung verschiebbar
ist, ist die gewünschte Schichtdicke d' einstellbar.
In der Fig. 8 ist eine modifizierte Ausführungsform der in
den Fig. 1-4 gezeigten Vorrichtung schematisch dargestellt.
Hier ist unterhalb der Folie 2 eine Glasplatte 12 vorhanden,
die zur Abstützung der Folie 2 dient. Sie ist ebenfalls für
den abgelenkten Laserstrahl 5 durchlässig. Ferner weist diese
Platte 12 eine oder mehrere Luftzuführungsöffnungen 13 auf,
in die Luft oder ein anderes Fluid einbringbar ist, um
während des Hochziehens des Substratträgers 9 das Fluid
zwischen die Folie 2 und die Glasplatte 12 einzubringen,
wodurch der Trennvorgang der erhärteten Schicht 10 aus
Schichtrohmaterial 7 und der Folienoberfläche 2a noch
zusätzlich unterstützt wird.
Bei der in der Fig. 9 dargestellten Ausführungsform ist die
in der Fig. 8 gezeigte Vorrichtung dahingehend verändert,
dass mehrere Laserquellen 3, 3' vorhanden sind, so dass
mehrere Laserstrahlen zur Erzeugung einer Schicht
gleichzeitig aktiviert werden, wodurch die Bearbeitungszeiten
für die Herstellung einer Schicht verringert werden können
oder auch unterschiedliche Materialien im Schichtrohmaterial
gleichzeitig verändert bzw. bei verschiedenen Photopolymeren
verhärtet werden können.
Im Gegensatz zu den vorhergehenden Ausführungsformen ist bei
der in der Fig. 10 schematisch dargestellten Vorrichtung
keine Strahlungsquelle mit einem Strahl 4, 5 eingesetzt,
sondern eine Strahlungsquelle 3", die eine diffuse- oder
flächige Ausstrahlung 4' bewirkt. Die Folie 2' ist hier als
Maske ausgebildet, d. h. sie enthält Folienabschnitte 2b, die
strahlungsdurchlässig sind und andere Abschnitte, die nicht
strahlungsdurchlässig sind. Damit ist es möglich, ein
vorbestimmtes Muster in der bereits zuvor erläuterten Weise
durch chemische Veränderung des Schichtrohstoffs 7 am
Substrat 8 zu erzielen. Die Folie selbst weist wiederum eine
formveränderbare Oberfläche 2a auf, d. h. die Folie ist hier
flexibel. Selbstverständlich ist es auch möglich, die Maske
nicht in der Folie 2' zu integrieren, sondern in einer
darunter liegenden Glasplatte, wie es beispielsweise auch in
der Fig. 9 oder 8 gezeigt ist.
In der Fig. 11 ist schematisch eine Vorrichtung gezeigt, bei
der ein zumindest im Bereich einer Oberfläche 40a elastischer
oder flexibler Körper 40 als Aufnahmebecken für den
Schichtrohstoff 43 dient und mit einer dreidimensionalen,
formveränderbaren Oberfläche 40a ausgestattet ist. Der Körper
besteht beispielsweise aus einem strahlungsdurchlässigen
Silikongummi oder einem anderen strahlungsdurchlässigen,
elastischen Kunststoff oder dergleichen. Durch den Körper 40
hindurch ist wiederum ein in gewünschter Weise abgelenkter
Laserstrahl 5 in den Schichtrohstoff 43 einbringbar, so dass
an einem Substrat 45, das einem Substratregler 9 befestigt
ist, eine dreidimensionale Schicht 44 erzeugt wird. Nach der
Herstellung der Schicht 44 am Substrat 45 wird wiederum der
Substratregler 9 in Z-Richtung nach oben verfahren, wodurch
durch die elastische Ausbildung des Körpers 40 ein Nachgeben
der Oberfläche 2a, das heißt eine Formveränderung, möglich
ist, so dass der Trennvorgang zwischen der erhärteten Schicht
44 und der Oberfläche 40a erleichtert ist.
In der Fig. 12 ist eine weitere Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung gezeigt. Hier erstreckt sich
die Folie 2 längs eines länglichen Beckens mit flüssigem
photopolymeren Kunststoff 7. Mit einer ersten
Strahlungsquelle wird ein erster Bereich 10' erhärtet,
allerdings ist die Energie des Laserstrahls 5 hier so
eingestellt, dass keine Erhärtung bis zur freien Oberfläche
des Kunststoffes 7 erfolgt. Dann wird die Folie mit dem
Bereich 10' weiterbewegt bis zum Substrat 8. Hier erfolgt in
der zuvor beschriebenen Weise eine Erhärtung des noch
flüssigen Materials 7 zwischen dem abgesenkten Substrat und
dem bereits erhärteten Bereich 10'. Der Laserstrahl 5 wird
dabei durch den zuerst gehärteten Bereich 10' geführt.
Schließlich zeigen die verschiedenen schematischen
Querschnitte einer Folie gemäß der Fig. 13a)-d)
verschiedene Oberflächengestaltungen einer Gegenfläche
50a-50d, die selbst natürlich verformbar ist, insbesondere
elastisch ist. So ist in der Fig. 13a) eine plane Oberfläche
50a gezeigt, die zur Herstellung einer Schicht 10a mit
gleichmässiger Dicke dient.
Die Fig. 13b) zeigt eine Oberfläche 50b mit Relief zur
Bildung zweier verschiedener Schichtdicken d1 und d2. Damit
wird eine Schicht 10b mit verschieden Schichtstärken
geschaffen.
Die Fig. 13c) zeigt schematisch eine Ausbildung der
Oberfläche 50c, die nicht nur zur Bildung verschiedener
Schichtdicken d1 und d2 dient, sondern ein richtiges Relief
aufweist, mit dem verschiedene Konturen in der
herzustellenden Schicht 10c ausgebildet werden.
Schließlich zeigt die Fig. 13d eine Konfiguration, mit der
dadurch, dass nicht nur die Folienoberfläche 10d ein Relief
aufweist, sondern auch das zu beschichtende Substrat 8, eine
Schicht 10d mit einem Relief auf zwei Seiten herstellbar ist.
Claims (34)
1. Verfahren zum Beschichten eines Substrats (8) mit einer
oder mehreren dünnen Schichten (10) unter Verwendung
einer Strahlungsquelle (3), bei dem
- a) ein Schichtrohmaterial (7) zwischen dem Substrat (8) und einer dem Substrat (8) gegenüberliegenden formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) vorhanden ist,
- b) zumindest ein Teil des Schichtrohmaterials (7) durch geeignetes Einbringen von Strahlungsenergie (6) verändert wird und dadurch an dem Substrat (8) anhaftet und
- c) die nun am Substrat (8) anhaftende Schicht (10) von der formveränderbaren Oberfläche (2a) getrennt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass die Verfahrensschritt a)-c)
wiederholt durchgeführt werden, wobei dann die
Verfahrensschritte wie folgt abgewandelt werden:
- 1. a') ein Schichtrohmaterial (7) ist zwischen der zuvor erzeugten Schicht (10) und der dem Substrat (8) gegenüberliegenden formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) vorhanden,
- 2. b') das Schichtrohmaterial (7) wird durch geeignetes Einbringen von Strahlungsenergie (6) in der gewünschten Dicke (d) und dem gewünschten Muster verändert und haftet dabei an der zuvor erzeugten Schicht (10) an und
- 3. c') die zuletzt hergestellte Schicht (10) wird von formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) getrennt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass der Abstand zwischen dem
Substrat (8) und der formveränderbaren Oberfläche (2a,
30a) auf die gewünschte Schichtdicke (d) der
herzustellenden Schicht (10) eingestellt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, dass der Abstand zwischen der
einen Arbeitsgang zuvor erstellten Schicht (10) und der
formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) auf die gewünschte
Schichtdicke (d) eingestellt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, dass der Verfahrensschritt c)
bzw. der Verfahrensschritt c') dadurch durchgeführt
werden, dass der Abstand zwischen dem Substrat (8) und
der formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) vergrößert
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, dass das Substrat (8) von der
formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a) wegbewegt wird
oder die formveränderbare Oberfläche von dem Substrat (8)
wegbewegt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, dass der Verfahrensschritt c)
bzw. der Verfahrensschritt c') dadurch durchgeführt
werden, dass das Substrat (8) und die formveränderbare
Oberfläche (2a, 30a) gegeneinander verdreht werden.
8. Verfahren nach Anspruch 3 und 5, dadurch
gekennzeichnet, dass der Verfahrensschritt c)
bzw. der Verfahrensschritt c') dadurch durchgeführt
werden, dass eine translatorische und eine rotatorische
Bewegung des Substrats (8) und/oder der formveränderbaren
Oberfläche (2a, 30a) überlagert werden.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass eine Folie (2),
insbesondere eine elastische oder elastisch gelagerte
Folie, verwendet wird, um so die formveränderbare
Oberfläche (2a, 30a) bereitzustellen.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die
formveränderbare Oberfläche (2a, 30a) für die von der
Strahlungsquelle (3) ausgehende Strahlung (4, 5)
durchlässig ist und die Strahlung (4, 5) durch die
strahlungsdurchlässige Oberfläche hindurch in das
Schichtrohmaterial (7) eingebracht wird.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass als
Strahlungsquelle (3) ein Laser eingesetzt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (4, 5)
durch gesteuerte Strahlablenkung (6) in dem gewünschten
Muster in das Schichtrohmaterial (7) gelenkt wird.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass damit ein
dreidimensionaler, aus einer Vielzahl von dünnen
Schichten (10) erhärteten Materials gebildeter Körper
hergestellt wird.
14. Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats (8) mit
einer oder mehreren dünnen Schichten (10), mit
- - einem Substratträger (9), an dem das Substrat (8) anbringbar ist,
- - einem dem Substrat (8) gegenüberliegenden Element (2) mit formveränderbarer Oberfläche (2a, 30a),
- - einer Strahlungsquelle (3) zum Erzeugen einer Strahlung (4, 5), mit der ein Schichtrohmaterial (7) veränderbar und dadurch am Substrat (8) oder einer bereits zuvor erzeugten Schicht (10) anhaftbar ist, und
- - einer Einrichtung zum voneinander Trennen einer hergestellten Schicht (10) von der formveränderbaren Oberfläche (2a, 30a).
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass eine Folie (2) vorhanden
ist, deren eine formveränderbare Oberfläche (2a, 30a) dem
Substrat (8) zugewandt ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch
gekennzeichnet, dass die Folie (2) zumindest
Teil eines Bodens eines Behälters (1) ist und die
Strahlungsquelle (3) so angeordnet ist, dass deren
Strahlung (4, 5) durch die Folie (2) in das
Schichtrohmaterial (7) einbringbar ist.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14-16, dadurch
gekennzeichnet, dass die formveränderbare
Oberfläche (10) plan ist oder ein Relief aufweist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15-17, dadurch
gekennzeichnet, dass die Folie (2) eine Dicke
von 1 µ-3 cm, insbesondere 2 µ-15 µ hat.
19. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass der Substratträger (9)
beweglich gelagert ist und eine Steuerung vorhanden ist,
mit der der Substratträger (9) entsprechend dem
gewünschten Abstand zur formveränderbaren Oberfläche (2a,
30a) einstellbar ist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14-19, dadurch
gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle ein
Laser (3) ist und eine Ablenkeinrichtung (6) vorhanden
ist, mit der der vom Laser (3) ausgehende Strahl (4, 5)
in der gewünschten Richtung ablenkbar ist.
21. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle eine
flächenbestrahlende Einrichtung (3") ist und eine Maske
in dem Strahlengang angeordnet ist.
22. Vorrichtung nach Anspruch 21, dadurch
gekennzeichnet, dass die Maske in der Folie
(3") integriert ist.
23. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass ein dreidimensionaler
Körper (40) mit dreidimensionaler formveränderbarer
Oberfläche (40a) vorhanden ist.
24. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass die Folie (2, 30) auf der
nicht mit dem Schichtrohmaterial (7) in Kontakt kommenden
Seite von einem Stützelement (12) unterstützt ist.
25. Vorrichtung nach Anspruch 24, dadurch
gekennzeichnet, dass das Stützelement eine
zumindest in einem Abschnitt strahlungsdurchlässige
Platte (12) ist.
26. Vorrichtung nach Anspruch 24 oder 25, dadurch
gekennzeichnet, dass eine Einrichtung (13)
vorhanden ist, mit der ein Fluid zwischen die Folie (2,
30) und dem Stützelement (12) einbringbar ist.
27. Vorrichtung nach Anspruch 26, dadurch
gekennzeichnet, dass die Einrichtung (13) zum
Einbringen eines Fluids zum Einblasen von Luft
ausgebildet ist.
28. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 14-27,
dadurch gekennzeichnet, dass die Folie
als Endlosband (30) ausgebildet ist.
29. Vorrichtung nach Anspruch 28, dadurch
gekennzeichnet, dass zumindest eine
Zuführeinrichtung (32, 33, 34) vorhanden ist, mit der ein
Schichtrohmaterial (36) auf die Folie (30) aufbringbar
ist.
30. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass eine Einrichtung vorhanden
ist, mit der das Element (2) mit formveränderbarer
Oberfläche (2a) unterhalb des Substrats (8) um einen
Längen- und/oder Winkelbetrag gegenüber dem Substrat
versetzbar ist.
31. Vorrichtung nach Anspruch 30, dadurch
gekennzeichnet, dass der Substratträger (9) um
einen Längen- und/oder Winkelbetrag gegenüber dem
darunter befindlichen Schichtrohmaterial (7) versetzbar
ist.
32. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass die Trenneinrichtung darin
besteht, dass der Substratträger (9) beweglich angeordnet
ist.
33. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass die Trenneinrichtung darin
besteht, dass die formveränderbare Oberfläche (10)
gegenüber dem Substrat (8) wegbewegbar angeordnet ist.
34. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch
gekennzeichnet, dass die Trenneinrichtung darin
besteht, dass die formveränderbare Oberfläche (10)
gegenüber dem Substrat (8) wegbewegbar angeordnet ist.
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