DE19913560A1 - Flexographische Druckplatte mit Maskenschicht und Bildgebungs- und Druckverfahren - Google Patents

Abstract

Ein flexographisches Abbildungselement umfaßt einen Träger mit einer darauf befindlichen Relief-Abbildungsschicht und einer mehrere Level aufweisenden, beschreibbaren Maskenschicht. Diese Maskenschicht ist zu einer Kommunikation über mehrere Ebenen mit der darunterliegenden Relief-Abbildungsschicht in der Lage, so daß das resultierende Bild kontinuierliche Farbtondichten entsprechend den auf die Maskenschicht geschriebenen Informationen aufweist.

Description

Die Erfindung betrifft flexographische Abbildungselemente, die beschreibbar sind und eine Maske als integralen Bestandteil aufweisen, die dazu verwendet werden kann, um ein Bild mit kontinu­ ierlichem Farbton zu liefern ohne die Anwendung der Ablation.

Flexographische Druckplatten sind für ihre Verwendung beim Druckerpresse-Drucken allgemein bekannt, insbesondere auf Oberflächen, die weich und leicht verformbar sind, wie Verpackungs­ materialien, beispielsweise Pappe, Einwickelpapier und Kunststoffolien. Flexographische Druck­ platten können unter Verwendung von photopolymerisierbaren Massen bzw. Zusammensetzun­ gen, wie die in der US-A-4 323 637 beschriebenen, zur Bildung von Relief-Abbildungen herge­ stellt werden. Die photopolymerisierbaren Massen umfassen im allgemeinen ein elastomeres Bin­ demittel, mindestens ein Monomer und einen Photoinitiator. Photoempfindliche Elemente weisen im allgemeinen eine zwischen einem Träger und einem Deckblatt oder einem mehrschichtigen Deckelement eingeschlossene photopolymerisierbare Schicht auf. Bei der bildweisen Exposition durch eine aktinische Strahlung kommt es zu einer Polymerisation und damit einem Unlöslichma­ chen der photopolymerisierbaren Schicht in den exponierten Bereichen. Die Behandlung mit ei­ nem geeigneten Lösungsmittel (wie einem Entwickler) entfernt die nichtexponierten Bereiche der photopolymerisierbaren Schicht, wodurch ein Reliefbild zurückbleibt, welches für das flexogra­ phische Drucken verwendet werden kann.

Die bildweise Exposition eines photoempfindlichen Elements erfordert herkömmlicherweise den Einsatz eines Photowerkzeugs, bei dem es sich um eine Maske handelt, mit transparenten und opaken Bereichen, welche die photopolymerisierbare Schicht überdecken. Die Maske verhindert die Expositon und Polymerisation in den opaken Bereichen. Sie ermöglicht die Exposition an Strahlung in den transparenten Bereichen, so daß die darunterliegende Schicht polymerisiert und nach dem Entwicklungsschritt auf dem Träger verbleibt. Die Maske ist in der Regel ein photo­ graphisches Negativ des gewünschten Druckbildes. Wenn Korrekturen bei dem am Ende erhalte­ nen Bild erforderlich sind, muß ein neues Negativ hergestellt werden. Dies ist ein zeitraubender Vorgang. Außerdem kann die Maske leichte dimensionale Veränderungen erfahren infolge der Veränderungen der Temperatur und der Feuchtigkeit erfahren. Damit kann die gleiche Maske, wenn sie zu verschiedenen Zeiten oder in verschiedenen Umgebungen verwendet wird, zu unter­ schiedlichen Resultaten führen und könnte zu Einpassungsproblemen führen.

Daher wäre es wünschenswert, den Einsatz solcher Masken zu vermeiden und Informationen direkt auf einem photoempfindlichen Element aufzuzeichnen, beispielsweise mittels eines Laser­ strahls. Das zu entwickelnde Bild könnte dann in digitale Informationen umgewandelt werden, und die digitalen Informationen könnten zur Steuerung des Lasers für die Abbildung bzw. Bild­ gebung verwendet werden. Die digitalen Informationen könnten sogar von einem entfernten Ort übertragen werden. Korrekturen könnten leicht und schnell durch Anpassung des digitalisierten Bildes vorgenommen werden. Außerdem könnte das digitaliserte Bild entweder positiv oder ne­ gativ sein, womit das Erfordernis wegfällt, sowohl positiv arbeitende als auch negativ arbeitende photoempfindliche Materialien oder positive und negative Masken zu haben. Dies würde Spei­ cherplatz sparen und damit die Kosten senken. Ein weiterer Vorteil wäre, daß die Einpassung bzw. Registrierung durch ein Gerät während des Bildgebungsschrittes präzise gesteuert werden kann. Die digitalisierte Bildgebung ohne eine Maske wäre für die Herstellung nahtloser, kontinu­ ierlicher Druckformen gut geeignet.

Im allgemeinen war es nicht sehr praktisch, Laser einzusetzen, um die Elemente direkt abzubil­ den, die zur Herstellung flexographischer Druckplatten verwendet werden. Solche Elemente wei­ sen eine geringe Photoempfindlichkeit auf und erfordern lange Expositionszeiten selbst bei Hochleistungslasern. Ferner weisen die meisten der bei diesen Elementen eingesetzten photopo­ lymerisierbaren Materialien ihre größte Empfindlichkeit im UV-Bereich des elektromagnetischen Spektrums auf. Während UV-Laser bekannt sind, sind ökonomische und zuverlässige UV-Laser mit hoher Leistung im allgemeinen nicht verfügbar. Jedoch sind Nicht-UV-Laser verfügbar, die relativ billig sind und die einen geeigneten Leistungsoutput besitzen und zur Erzeugung eines Maskenbildes auf den flexographischen Druckelementen verwendet werden können.

Die US-A-5 262 275 beschreibt photoempfindliche flexographische Druckplatten mit einer durch Laser abtragbaren Maskenschicht. Diese Schicht ist in der Lage, Infrarotstrahlung zu absorbieren, ist aber gegenüber aktinischer Strahlung opak, wenn sie über einer Sperrschicht und eine photo­ polymerisierbare Schicht aufbeschichtet ist. Während des Einsatzes wird die Maskenschicht bild­ weise unter Anwendung von IR-Strahlung abgetragen, wodurch ein Maskenbild gebildet wird, welches die aktinische Strahlung in den Bereichen der photopolymerisierbaren Schicht blockiert, wo die Entwicklung gewünscht wird. Das Element wird danach überall aktinischer Strahlung ausgesetzt, um die exponierten Bereiche der photopolymerisierbaren Schicht zu härten, gefolgt von einer Verarbeitung in einem geeigneten Lösungsmittel (oder Entwickler), um die nicht­ exponierten Bereiche des Elements zu entfernen. Auf diese Weise wird ein flexibles Reliefbild in einer am Ende erhaltenen flexographischen Druckplatte erzeugt.

Ablationstechniken haben den Nachteil, daß sie festen Abfall erzeugen, welcher ein Risiko dar­ stellen kann und abgewischt und eingesammelt werden muß, um zu gewährleisten, daß er das gewünschte Bild nicht physisch beeinträchtigt. Die US-A-5 705 310 beschreibt ein Element ähn­ lich dem in dem Fan-Patent beschriebenen, doch es besitzt auch ein Deckblatt zum Sammeln von Material, das von der Maskenschicht während des Bildgebungsschrittes abgetragen wurde.

Die Elemente und Verfahren für die in diesen Druckschriften beschriebene Verwendung haben auch den Nachteil, daß die Ablation ein binärer Prozeß ist, was bedeutet, daß er nur entweder opake oder im wesentlichen transparente Bereiche bei der Abbildung erzeugt und keine Bereiche mit einer Zwischendichte vorsieht. Mit anderen Worten, ein Maskenbild, das unter Verwendung der Ablation erzeugt wurde, tendiert dazu, keine Bilder mit kontinuierlichem Farbton aufzuwei­ sen.

Neben den Ablationsverfahren ist die Laserbildgebung für eine Reihe von anderen, allgemein be­ kannten Anwendungen, wie die Farbimprägnierung (colour proofing) und die Farbübertragung, bekannt. Wie in der EP-0 679 531 A1 beschrieben, können laserinduzierte Übertragungsverfahren bei Farbstoff-Sublimationsverfähren eingesetzt werden, um Farbmittel an Empfangerelemente zu übertragen. Jedoch werden diese Verfahren mißbilligt aufgrund der hieraus resultierenden Bilder schlechter Qualität, die marmoriert sind und andere Bildfehler aufweisen.

In der Industrie besteht eine Nachfrage nach flexographischen Abbildungselementen, die ausge­ zeichnete Bilder mit kontinuierlichem Farbton vorsehen und die ohne die Anwendung einer Abla­ tion hergestellt werden können.

Die vorliegende Erfindung bewältigt die obenstehend erwähnten Probleme, wobei ein flexographi­ sches Abbildungselement einen Träger und, auf diesen aufgebracht, in dieser Reihenfolge, folgen­ des umfaßt:

• a) eine Relief-Abbildungsschicht, die entwickelbar ist, um ein mehrere Level bzw. Höhen aufweisendes Reliefbild zu liefern, dadurch gekennzeichnet, daß es weiterhin aufweist:
• b) als integralen Bestandteil und mit der Relief-Abbildungsschicht in Verbindung stehend, eine mehrere Level aufweisende beschreibbare Maskenschicht, die in der Lage ist, dar­ aufgeschriebene, mehrere Level aufweisende Informationen an die Relief-Abbildungs­ schicht zu liefern.

Die Erfindung stellt auch ein Abbildungsverfahren bereit, umfassend die Schritte:

• A) Vorsehen des obenstehend beschriebenen Abbildungselements;
• B) Abbilden des Abbildungselements, um ein mehrere Level aufweisendes Maskenbild in der Maskenschicht vorzusehen;
• C) Vorsehen eines mehrere Level aufweisenden Bildes in der Relief-Abbildungsschicht ent­ sprechend dem mehrere Level aufweisenden Maskenbild in der Maskenschicht; und
• D) Entwickeln der Relief-Abbildungsschicht.

Das Abbildungselement der Erfindung besitzt eine oberste, mehrere Level aufweisende, be­ schreibbare Maskenschicht, die die gesamte aktinische Strahlung blockiert (Strahlung im UV-, blauen und grünen Bereich des Spektrums). Ein Vorteil der Erfindung ist, daß die Maskenschicht in innigem Kontakt mit (oder ein Bestandteil von) der unentwickelten Relief-Abbildungsschicht ist, und zwar ohne Luftzwischenräume, die zu einer Streuung der aktinischen Strahlung und ei­ nem Verlust an Auflösung in der letztendlichen Druckplatte führen kann. Die Maskenschicht ist "beschreibbar", was bedeutet, daß bildweise Informationen an die Schicht unter Anwendung einer geeigneten analogen oder digitalen Abbildungsvorrichtung bzw. -methode (z. B. eines IR-Lasers) weitergegeben werden können.

Ein weiterer Vorteil ist, daß die beschreibbare Maskenschicht keine Verarbeitungschemikalien erfordert, die deren Dimensionen verändern können, was zu einer fehlerhaften Einpassung auf der Druckpresse führt.

Ein wichtiger Vorteil der Erfindung ist, daß die Maskenschicht auf eine "mehrere Level aufwei­ sende" Weise abgebildet werden kann, das heißt, sie wird in Gradationen bzw. Abstufungen ab­ gebildet, so daß eine Maske mit kontinuierlichem Farbton erzielt werden kann. Deshalb ist die Maskenschicht so aufgebaut, daß die mehrere Level aufweisenden Informationen, die darin er­ zeugt oder geschrieben wurden, auf eine geeignete Weise mit kontinuierlichem Ton an die Relief- Abbildungsschicht übertragen werden können. Somit können die Pixel am Rand eines Druck­ punktes mit partieller Dichte geschrieben werden, wodurch verschiedene Dichten vorgesehen werden, um das Reliefbild des letztendlichen flexographischen Druckelements im Anschluß an die Entwicklung zu gestalten.

Die Fig. 1 ist eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Abbildungselements der Erfindung.

Die Fig. 2A ist eine Explosions-Querschnittsansicht eines Abbildungselements des Stands der Technik mit einer Maskenschicht, die durch ein im Stand der Technik beschriebenes Ablations­ verfahren beschrieben wird.

Die Fig. 2 ist eine Explosions-Querschnittsansicht eines Abbildungselements mit einer Masken­ schicht, die durch das Verfahren der Erfindung beschrieben wird.

Die Fig. 3A ist eine Profilansicht eines flexographischen Abbildungselement-Bildpunktes, der durch Verwendung eines Ablationsverfahrens, wie im Stand der Technik beschrieben, erhalten wird.

Die Fig. 3B ist eine Profilansicht eines flexographischen Abbildungselement-Bildpunktes, der durch das Verfahren der Erfindung erhalten wird.

Das Abbildungselement der Erfindung läßt sich unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschreiben, welche eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht. In Fig. 1 schließt das Abbil­ dungselement 5 einen Träger 10, eine nicht-abgebildete und unentwickelte Relief-Abbildungs­ schicht 20 und eine mehrere Level aufweisende, beschreibbare Maskenschicht 30 ein.

Der Träger für das Element kann jegliches flexible Material sein, welches herkömmlicherweise bei photoempfindlichen Elementen verwendet wird. Beispiele für solche Materialien schließen ein- sind aber nicht beschränkt auf - polymere Folien, wie die durch Hinzugabe von Polymeren oder linearen Kondensationspolymeren, transparenten Schaumstoffen und Geweben gebildeten. Ein bevorzugtes Trägermaterial ist eine Polyesterfolie, wie eine Polyethylenterephthalatfolie. Flexible Metall- oder Papierschichten oder Laminate aus irgendeiner von diesen und polymeren Folien können ebenfalls als Träger eingesetzt werden.

Die Dicke des Trägers kann variiert werden, solange sie ausreichend ist, der Abnutzung einer Druckpresse standzuhalten, doch dünn genug, um für das Wickeln um die Druckform flexibel zu sein. Ein bevorzugtes Trägermaterial ist eine Polyethylenterephthalatfolie mit einer Dicke von 100 bis 200 µm. Der Träger sollte dem Recken standhalten, so daß die Farbaufzeichnungen als vollständiges Farbbild aufgezeichnet werden. Der Träger kann mit einer oder mehreren "dazwischenliegenden" Schichten beschichtet sein, um die Haftung der am Ende erhaltenen Struktur zu verbessern. Die Rückseite des Trägers kann mit Antistatikmitteln und/oder Gleit­ schichten oder Mattierungsschichten überzogen sein, um die Handhabung und das "Anfühlen" des Elements zu verbessern.

Die unentwickelte Relief-Abbildungsschicht des Elements umfaßt, wie in dem Fachbereich allge­ mein bekannt ist, im allgemeinen ein Elastomer- oder Kautschukbindemittelmaterial zusammen mit mindestens einem härtbaren oder polymerisierbaren Material. Bei einer bevorzugten Ausfüh­ rungsform ist das härtbare oder polymerisierbare Material ein photohartbares oder photopolyme­ risierbares Material, das gegenüber Strahlung üblicherweise im UV-, blauen und grünen Bereich des elektromagnetischen Spektrums (das heißt von 300 bis 500 nm) empfindlich ist. Die Bezeich­ nungen "photohärtbar" und "photopolymerisierbar" gelten allgemein im wesentlichen als das glei­ che in dem Fachbereich der flexographischen Druckplatten.

Wie hierin verwendet, soll die Bezeichnung "photopolymerisierbar" Systeme umfassen, die pho­ topolymerisierbar, photovernetzbar oder beides sind. Bei einer Ausführungsform umfaßt das photopolymerisierbare Material mindestens ein photopolymerisierbares Monomer, welches bei Exposition an die aktinische Strahlung polymerisiert werden kann. Die Schicht wurde auch ein oder mehrere Polymerisationsinitiatoren einschließen, die eine Empfindlichkeit gegenüber der obengenannten aktinischen Strahlung besitzen. In den meisten Fällen ist der Initiator gegenüber sichtbarer oder UV-Strahlung empfindlich.

Bei anderen Ausführungsformen schließt das photohärtbare Material ein oder mehrere photover­ netzbare Polymere ein. Solche Materialien müssen auch "entwickelbar" sein, was heißt, daß un­ vernetztes Polymer in einem Entwickler, wie hierin beschrieben, entfernbar sein muß. Andere Härtungssysteme können ebenfalls verwendet werden, einschließlich der Hartung durch Epoxid- Polymerisation, wie sie auf dem Gebiet der Klebstoffe bekannt ist.

Es können jegliche bekannten photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, die in dem Fachbe­ reich als geeignet für Abbildungsschichten bei flexographischen Druckplatten bekannt sind, bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Beispiele für geeignete Zusammensetzungen wurden beispielsweise in der US-A-4 323 637, der US-A-4 427 749 und der US-A-4 894 315 beschrieben.

Die bei der Relief-Abbildungsschicht verwendeten elastomeren Bindemittelmaterialien können ein oder mehrere Polymere sein, die in wäßrigen, halbwäßrigen oder organischen Lösungsmittel- Entwicklern löslich, quellbar oder dispergierbar sind. Bindemittelmaterialien, die in wäßrigen oder halbwäßrigen Entwicklern löslich oder dispergierbar sind, wurden in der US-A-3 458 311, der US-A-4 442 302, der US-A-4 361 640, der US-A-3 794 494, der US-A-4 177 074, der US- A-4 431 723, und der US-A-4 517 279 beschrieben. Bindemittelmaterialien, die in organischen Lösungsmittelentwicklern löslich, quellbar oder dispergierbar sind, schließen natürliche oder synthetische Polymere von konjugierten Diolefinkohlenwasserstoffen (wie Polyisopren, 1,2- Polybutadien, 1,4-Polybutadien, Butadien/Acrylnitril, thermoplastische-elastomere Buta­ dien/Styrol-Blockcopolymere und andere Copolymere) ein. Nützliche Blockcopolymere sind in der US-A-4 323 636, der US-A-4 430 417 und der US-A-4 045 231 beschrieben.

Das (die) Bindemittelmaterial(ien) liegen im allgemeinen in der Relief-Abbildungsschicht in einer Menge von mindestens 65%, und vorzugsweise 70 bis 80% (Trockengewicht) der Schicht vor.

Die Bezeichnung "Bindemittelmaterial", wie hierin verwendet, schließt auch Kern-/Hüllen- Maskenmikrogele und Mischungen von Mikrogelen und vorgeformte makromolekulare Polyme­ re, wie die in der US-A-4 956 252 beschriebenen, ein.

Die Relief-Abbildungsschicht kann ein einzelnes Monomer oder eine Mischung von Monomeren enthalten, die mit dem Bindemittelmaterial in dem Maße kompatibel sind, daß eine klare, unge­ trübte, photopolymerisierbare Schicht entsteht. Photopolymerisierbare Monomere, die zum Ein­ satz kommen können, sind in dem Fachbereich wohlbekannt, einschließlich der in der US-A- 4 323 636, der US-A-4 753 865, der US-A-4 726 877 und der US-A-4 894 315 beschriebenen. Das eine oder mehrere Monomere sind in der Schicht im allgemeinen in einer Menge von minde­ stens 5%, und vorzugsweise 10 bis 20% des Gesamttrockengewichts der Schicht vorhanden.

Bei Vorhandensein kann der Photoinitiator eine einzelne Verbindung oder eine Kombination von Verbindungen sein, die gegenüber der obenstehend beschriebenen aktinischen Nicht-Infrarot- Strahlung empfindlich ist und die freie Radikale erzeugt, welche die Polymerisation des Mono­ mers oder der Monomere ohne übermäßige Terminierung initiieren. Der Photoinitiator ist im all­ gemeinen gegenüber der obenstehend beschriebenen aktinischen Strahlung empfindlich, und vor­ zugsweise gegenüber UV-Strahlung empfindlich. Er sollte thermisch inaktiv sein bei und unter­ halb 185°C. Beispiele für geeignete Photoinitiatoren schließen beispielsweise substituierte und unsubstituierte polynukleare Chinone ein. Beispiele für andere geeignete Photoinitiatoren sind beispielsweise in der US-A-4 460 675 und der US-A-4 894 315 beschrieben. Die Photoinitiatoren liegen im allgemeinen in der Relief-Abbildungsschicht in einer Menge von 0,001% bis 10%, bezogen auf das Trockengewicht der Schicht, vor.

Wenn die Relief-Abbildungsschicht aus einem oder mehreren photohärtbaren Polymeren anstelle von Monomeren zusammengesetzt ist, können das (die) photohärtbaren Polymer(e) sowohl als Bindemittelmaterial als auch als photoempfindliches Material dienen. Alternativ können das (die) photohärtbare(n) Polymer(e) mit einem oder mehreren Bindemittelmaterialien wie obenstehend beschrieben vermischt werden, solange die verschiedenen Schichtkomponenten kompatibel sind und in den nicht-abgebildeten Bereichen entwickelbar sind.

Die Relief-Abbildungsschicht kann andere Additive enthalten je nach den erwünschten Endeigen­ schaften. Solche Additive schließen Sensibilisatoren, Rheologie-Modifizierungsmittel, thermische Polymerisationsinhibitoren, Klebrigmacher, Weichmacher, Farbmittel, Antioxidationsmittel oder Füllstoffe ein.

Die Dicke der Relief-Abbildungsschicht kann über einen weiten Bereich schwanken je nach der Art des gewünschten Druckelements. Für sogenannte "dünne Platten" kann die Schicht 0,05 bis 0,15 cm dick sein. Dickere Elemente haben eine Relief-Abbildungschicht mit einer Dicke von bis zu 0,7 cm.

Das Abbildungselement der Erfindung besitzt keine Sperrschicht, wie für die durch die in der US- A-5 262 275 beschriebene Ablation abgebildeten Elemente beschrieben. Damit weisen die Ele­ mente der Erfindung nur zwei wesentliche Schichten auf dem Träger für die Bildgebung und den beabsichtigten Zweck des Elements auf, und die mehrere Level aufweisende beschreibbare Mas­ kenschicht ist ein integraler Bestandteil der Relief-Abbildungsschicht oder grenzt an diese an.

Die mehrere Level aufweisende, beschreibbare Maskenschicht ist darauf ausgelegt, mit einer fo­ kussierten Energiequelle, wie einer elektromagnetischen Strahlung, einem Elektronenstrahl oder Ultraschall, "beschrieben" (oder abgebildet) zu werden. Im Prinzip kann jede Energiequelle, die fokussiert werden kann, zur Anwendung kommen. In der Praxis ist sichtbares oder Infrarotlicht leicht auf einen kleinen Punkt zu fokussieren und ist eine stabile Quelle, die leicht zu modulieren ist. Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird Infrarotstrahlung angewandt, wie von einem Infrarotstrahlung aussendenden Diodenlaser des von Spectra Diode Laboratories (San Jose, Calf.) verfügbaren Typs. Dioden-gepumpte YAG-Laser sind ebenfalls eine wirksame Ener­ giequelle.

Damit muß die Maskenschicht gegenüber jeglicher Strahlungsquelle, die zum Einsatz kommt, empfindlich sein. Dies wird durch Einschluß innerhalb der Maskenschicht von verschiedenen Komponenten erreicht, die für die gewünschte Empfindlichkeit sorgen. Wenn zum Beispiel Infra­ rotstrahlung zum Abbilden der Maskenschicht verwendet wird, ist die Schicht in der Lage, Infra­ rotstrahlung zu absorbieren, die bildweise die Wärme in ein geeignetes, mehrere Level aufwei­ sendes Bild umwandelt.

Auf diese Weise, wenn ein Infrarotstrahlung aussendender Laserstrahl angewandt wird, muß die Schicht in der Lage sein, die Strahlung in Wärme umzuwandeln. Dies kann durch den Einschluß in der Maskenschicht von ein oder mehreren photothermischen Infrarot-Umwandlungsmaterialien bewerkstelligt werden. Solche Materialien sind in dem Fachbereich allgemein dafür bekannt, daß sie eine starke Absorption im Infrarotbereich des elektromagnetischen Spektrums (typischerweise von 750 bis 20 000 nm) zeigen. Besonders nützliche photothermische Infrarot-Umwandlungs­ materialien sind Infrarotstrahlung absorbierende Farbstoffe, wie Poly(substituierte)-phthalo­ cyaninverbindungen, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Chalcogenopyryloarylidenfarbstof­ fe, Bis(chalogenopyrylo)polymethinfarbstoffe, Oxyindolizinfarbstoffe, Bis(aminoaryl)polymethin­ farbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Croconiumfarbstoffe, Metallthiolatfarbstoffe und Chinoidfarb­ stoffe; siehe beispielsweise die US-A-5 019 549, die US-A-5 674 661, die US-A-4 948 776, die US-A-5 491 045 und die US-A-4 942 141.

Opake anorganische Pigmente, wie Ruß, Graphit, Kupferchromit, Chromiumoxide, Cobaltchro­ maluminat, Metalle, wie Aluminium, Kupfer oder Zink, und Legierungen von Bismuth, Indium und Kupfer, können nicht als photothermische Infrarot-Umwandlungsmaterialien bei der prakti­ schen Durchführung der Erfindung verwendet werden. Sie sind bei Elementen des Stands der Technik nützlich, wo die Laserablation angewandt wird, um die Maskenschicht abzubilden. Bei der vorliegenden Erfindung wird die Ablation nicht für die Bildgebung aus den obenstehend ge­ nannten Gründen angewandt. Andere Bildgebungsmethoden bzw. -einrichtungen (untenstehend beschrieben) werden angewandt, und die genannten opaken anorganischen Pigmente können nicht mit diesen Bildgebungsmethoden angewandt werden.

Die Menge der nützlichen photothermischen Infrarot-Umwandlungsmaterialien in der Masken­ schicht wäre für einen Fachmann auf dem Gebiet für den gewünschten Zweck leicht ersichtlich. Im allgemeinen beträgt die Menge 0,1 bis 40%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Maskenschicht.

Das (die) photothermische(n) Infrarot-Umwandlungsmaterial(ien) werden im allgemeinen als Mischung mit einem oder mehreren Bindemittelmaterialien bereitgestellt, um physikalische Fe­ stigkeit und Integrität in der Maskenschicht zu gewährleisten. Geeignete Bindemittelmaterialien schließen Cellulosepolymere (wie Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Celluloseacetatpropio­ nat und Nitrocellulose), Vinylpolymere (wie Polyvinylacetat, Polyvinylbutyral, Polystyrol, Po­ lyacrylsäuren, Polyvinylalkohol, Polyolefine und Polymethacrylate und Polyacrylate) ein. Im all­ gemeinen kann jedes thermoplastische Folienbiidungsharz als Bindemittelmaterial für diese Schicht verwendet werden. Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist das Bindemittelmaterial ein Cellulosepolymer, wie Nitrocellulose. Das Bindemittelmaterial sollte auch in dem Entwickler, der nach der Bildgebung angewandt wird, löslich oder auflösbar sein.

Die Maskenschicht umfaßt weiterhin ein oder mehrere Komponenten, die bei der thermischen (beispielsweise IR-)Exposition der Schicht für eine mehrere Level aufweisende Bildgebung der Schicht sorgt. Zum Beispiel kann eine solche Komponente eine chemische Einheit sein (wie eine Säure), die die Polymerisation des (der) härtbaren oder polymerisierbaren Materialien in der Reli­ ef-Abbildungsschicht verhindern oder initiieren kann. Eine solche chemische Komponente ist bildweise von der Maskenbildschicht zu der Relief-Abbildungsschicht als Reaktion auf die auf die Maskenschicht angewandte Abbildungsenergie diffundierbar. Auf diese Weise können die in der Maskenschicht abgebildeten Informationen an die Relief-Abbildungsschicht bildweise "übertragen" werden, um nach der Entwicklung ein Druckbild mit kontinuierlichem Farbton vor­ zusehen.

Vorzugsweise wird eine solche Übertragung von Informationen jedoch mittels einer aktinischen Strahlung (UV-, Blau- und Grünstrahlung) bewerkstelligt. Bei einer solchen Ausführungsform enthält die Maskenschicht ein oder mehrere sublimierbare Farbstoffe, die im wesentlichen die aktinische Strahlung absorbieren, und von der Schicht im Verhältnis zu der angewandten thermi­ schen Abbildungsenergie sublimieren oder verdampfen, wodurch unterschiedliche Bilddichten in der Maskenschicht auf Basis der Abbildungsintensität der Wärme vorgesehen werden. Die Menge an Farbstoff(en), die in der Maskenschicht verbleibt, bestimmt den Umfang der anschließenden Photohärtung, die in der Relief-Abbildungsschicht erfolgt. Auf diese Weise wird eine "Über­ tragung über mehrere Level" des Bildes zwischen den zwei Schichten erreicht.

Die Farbstoffsublimation unterscheidet sich ziemlich von der Ablation. Bei der Farbstoff- Sublimation wird eine abbildbare Komponente (zum Beispiel ein sublimierbarer Farbstoff) in gasförmige Form umgewandelt und in die Atmosphäre abgegeben. Bei der Ablation wird das Material sowohl in gasförmigen als auch festen Abfall umgewandelt, welcher explosionsartig von dem Element weggeblasen wird. In einigen Fällen verklebt der feste Abfall mit dem Element und muß abgewischt oder anderweitig entfernt werden. Die bevorzugte Ausführungsform der Erfin­ dung wendet die Farbstoff-Sublimation, nicht die Ablation, an.

Während ein einzelner sublimierbarer "Breitband"-Farbstoff auf diese Weise verwendet werden kann, wird üblicherweise ein Farbstoffgemisch verwendet, so daß Strahlung über den gesamten Bereich des elektromagnetischen Spektrums absorbiert wird. Sublimierbare Farbstoffe, die in dieser Weise verwendet werden können, werden beispielsweise in der US-A-5 576 141, der US- A-5 576 142, der US-A-5 521 050, der US-A-5 521 051, der US-A-5 510 228 beschrieben. Ein bevorzugter Farbstoff oder ein Farbstoffgemisch schließt Curcumin und Thioxanthon ein.

Der (die) sublimierbare(n) Farbstoff(e) liegen in der Maskenschicht in ausreichendem Maße vor, so daß die mehrere Level aufweisende Maskierung von photopolymerisierbarem Material der Relief-Abbildungsschicht vorgesehen wird, die erwünscht ist. Ein erfahrener Arbeiter auf dem Gebiet wäre in der Lage, die geeigneten und optimalen Mengen für spezifische Farbstoffe durch Routineexperimente zu bestimmen. Im allgemeinen liegen solche Farbstoffe in einer Menge von mindestens 25%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Schicht, vor.

Während die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung durch die Verwendung einer sublimier­ baren Maskenschicht und die Übertragung zwischen den Schichten durch aktinische Strahlung erläutert wurde, ist es für einen Fachmann auf dem Gebiet klar, daß andere Verfahren und Ein­ richtungen für die Übertragung des Bildes ebenfalls angewandt werden können, wie obenstehend in bezug auf diffundierbare chemische Komponenten erwähnt wurde.

Die Eigenschaften der mehrere Level aufweisenden Maskenschicht können durch Verwendung anderer Bestandteile, wie Weichmacher, Dispergiermittel, Tenside und Beschichtungshilfsmittel, modifiziert werden, mit der Maßgabe, daß sie die Bildgebungseigenschaften des Elements nicht negativ beeinflussen. Beispiele für solche optionalen Zusätze sind in der US-A-5 262 275 be­ schrieben.

Das Abbildungselement der Erfindung kann zunächst durch Herstellung der Relief-Abbildungs­ schichtformulierung und deren Aufbringung in einer geeigneten Weise auf den Träger hergestellt werden. Die mehrere Level aufweisende Maskenschicht wird danach in ähnlicher Weise aufge­ bracht. Herkömmliche Beschichtungstechniken und -bedingungen können für beide Schichten angewandt werden, doch es können Heißschmelzkalandrier- oder -extrusions-, Laminierungs- und Aufdampftechniken ebenfalls angewandt werden. Allgemein bekannte Beschichtungsverfah­ ren schließen die Spinbeschichtung, das Rakelstreichverfahren, die Rasterwalzenbeschichtung, die Tauchbeschichtung oder die Extrusionstrichterbeschichtung ein. Lösungsmittel, Beschichtungs- und Trocknungsbedingungen werden auf Basis der Beschaffenheit der in den Schichten verwen­ deten Materialien gewählt, wie es bei Fachleuten auf dem Gebiet der flexographischen Druck­ plattenherstellung bekannt ist.

Das Betriebsverfahren der Erfindung ist wie folgt unter Bezugnahme auf die bevorzugte Ausfüh­ rungsform veranschaulicht:
Das Abbildungselement der Erfindung wird an fokussierte Hochleistungslaserenergie von einer herkömmlichen Quelle exponiert (wie einem Diodenlaser einer Emission von 750 bis 880 nm), die durch die sublimierbare, mehrere Level aufweisende, beschreibbare Infrarotmaskenschicht absor­ biert wird, wodurch die Schicht erhitzt wird und bewirkt wird, daß ein Teil oder alle sublimierba­ ren Farbstoffe in der Schicht von der Schicht sublimieren oder bildweise verdampfen. Ein Vaku­ umreinigungs-Staubfänger kann während des Laser-Expositionsschritts nützlich sein, um die Fo­ kussierungslinse sauber zu halten. Eine solche Auffangeinrichtung ist in der US-A-5 574 493 beschrieben. Nach der Laserexposition maskiert das Maskenbild in der Maskenschicht danach einige Bereiche der Schicht gegenüber ultravioletter, blauer und grüner Strahlung, während ande­ re Bereiche gegenüber solcher Strahlung transparent bzw. durchlässig sind.

Der nächste Schritt bei dem Verfahren ist die totale (flutweise) Exposition des Abbildungsele­ ments durch aktinische Strahlung durch die Maskenschicht hindurch. Die Art der in diesem Schritt angewandten Strahlung hängt von der Art des photohärtbaren Materials und/oder des Photoinitiators in der Relief-Abbildungsschicht ab. Das Maskenbild über der Relief-Abbildungs­ schicht verhindert, daß sie dieser Strahlung ausgesetzt wird. Das Härten oder die Photopolymeri­ sation erfolgt im Verhältnis zu der Dichte der darüberliegenden Maskenschicht.

Es kann jede herkömmliche Quelle von aktinischer Strahlung für diesen Expositionsschritt ver­ wendet werden. Beispiele für geeignete sichtbare UV-Quellen schließen Kohlebögen, Quecksil­ berdampfbögen, Fluoreszenzlampen, Elektronenblitzgeräte, Elektronenstrahlgeräte und photo­ graphische Flutlichtlampen ein. Die am meisten geeigneten Quellen von UV-Strahlung sind Quecksilberdampflampen, insbesondere Sonnenlichtlampen. Eine Standardstrahlungsquelle ist die Sylvania 350 Blacklight-Fluoreszenzlampe (FR 48T12/350 VL/VHO/180, 115w), die eine mittle­ re Emissionswellenlänge um etwa 354 nm besitzt.

Die Expositionszeit mit aktinischer Strahlung kann von ein paar Sekunden bis zu mehreren Mi­ nuten schwanken, je nach der Intensität und Spektralenergieverteilung der Strahlung, ihrem Ab­ stand von dem Abbildungselement und der Beschaffenheit und Dicke der photopolymerisierbaren Relief-Abbildungsschicht. Typischerweise wird ein Quecksilberdampfbogen oder eine Sonnen­ lichtlampe in einem Abstand von 3,8 bis 153 cm von dem Abbildungselement verwendet. Die Expositionstemperaturen sind vorzugsweise 20 bis 35°C.

Das Verfahren der Erfindung schließt wahlweise einen Rückexpositions- oder Backflashschritt ein. Dies ist eine "Abdeckungs"-Exposition an aktinische Strahlung durch den Träger. Dieser wird angewandt, um eine flache Schicht aus polymerisiertem Material oder einen "Bodenbelag" auf der Trägerseite der photopolymerisierbaren Relief-Abbildungsschicht zu erzeugen und um diese Schicht zu sensibilisieren. Der "Bodenbelag" sorgt für eine verbesserte Haftung zwischen der Relief-Abbildungsschicht und dem Träger, unterstützt die Hervorhebung der Punktauflösung und legt auch die Tiefe des Plattenreliefs fest. Die Backflash-Exposition kann vor, nach oder während der anderen Bildgebungsschritte erfolgen. Es ist bevorzugt, daß diese unmittelbar vor der thermischen bildweisen Exposition der mehrere Level aufweisenden Maskenschicht erfolgt. Es kann jede der obenstehend beschriebenen herkömmlichen Strahlungsquellen für den Back­ flash-Expositionsschritt verwendet werden. Die Expositionszeit variiert von ein paar Sekunden bis zu einer Minute.

Die Fig. 2A ist eine schematische Ansicht eines Maskenbildes, das unter Anwendung der Ablati­ onsverfahren des Stands der Technik (insbesondere US-A-5 262 275) während der totalen (flutweisen) aktinischen Exposition des Abbildungselements erhalten wird. Der nichtentfernte Bereich 40 der Maskenschicht blockiert die aktinische Strahlung (durch Pfeile kenntlich ge­ macht), doch die gesamte aktinische Strahlung gelangt durch die entfernten Bereiche 50 und 55. Die aktinische Strahlung dringt tief in das Abbildungselement in diesen exponierten Bereichen ein. Die Form oder das Profil des resultierenden Punktes 80 (nach der Entwicklung) in der Relief- Abbildungsschicht ist in Fig. 3A gezeigt. Dieses Profil, das lang und dünn ist, resultiert aus der binären ("ein" oder "aus") Maskierungsfunktion des in Fig. 2A gezeigten Maskenbildes. Leider sind Punkte dieses Profiltyps schwach und flexibel, brechen leicht ab und sind gegenüber der fle­ xiblen Bewegung bei dem Druckverfahren übermäßig empfindlich.

Demgegenüber zeigt die Fig. 2B eine abgebildete Maskenschicht, die durch die vorliegende Er­ findung erhalten wurde. Der vollständig nicht-entfernte Bereich 40 in der Maskenschicht verhin­ dert, daß die ganze aktinische Strahlung die Relief-Abbildungsschicht darunter erreicht. Aller­ dings lassen die teilweise entfernten Bereiche 60 und 65 etwas aktinische Strahlung, jedoch nicht die gesamte Strahlung, durch (das heißt die Strahlung wird abgeschwächt), wodurch die Relief- Abbildungsschicht darunter teilweise gehärtet wird. Die vollständig entfernten Bereiche 70 und 75 ermöglichen einen vollständigen Durchlaß der aktinischen Strahlung in die darunterliegende Relief-Abbildungsschicht. Der resultierende Punkt 80 in der Relief-Abbildungsschicht ist schema­ tisch in Fig. 3B gezeigt. Der Punkt ist kräftiger und ist weniger anfällig für ein Zerfallen durch die Bewegung während des Druckens. Die Höhe der durch die Erfindung erreichten vorspringen­ den Punktränder kann durch Veränderung der Dichte der teilweise exponierten Bereiche der Maskenschicht variiert werden. Dies kann durch Variieren der thermischen Bildgebungsbedin­ gungen und der Energie geschehen.

Im Anschluß an die totale (flutweise) Exposition an Strahlung durch das in der Maskenschicht gebildete Maskenbild wird das gewünschte Bild in der Relief-Abbildungsschicht durch Kontaktie­ ren des Elements mit einem geeigneten Entwickler entwickelt. Die Entwicklung wird in der Regel bei Raumtemperatur durchgeführt. Die Entwickler können organische Lösungsmittel oder wäßri­ ge oder halbwäßrige Lösungen sein. Die Wahl des Entwicklers hängt von der chemischen Be­ schaffenheit des photopolymerisierbaren oder photohärtbaren Materials, das entfernt wird, ab. Geeignete organische Lösungsmittel/Entwickler schließen aromatischen oder aliphatischen Koh­ lenwasserstoff und aliphatische oder aromatische Halogenkohlenwasserstoff-Lösungsmittel oder Mischungen solcher Lösungsmittel mit geeigneten Alkoholen ein. Andere organische Lösungs­ mittel-Entwickler wurden in der veröffentlichten DE 38 28 551 beschrieben. Geeignete halbwäß­ rige Entwickler enthalten in der Regel Wasser und ein mit Wasser vermischbares organisches Lösungsmittel und ein alkalisches Material. Geeignete wäßrige Entwickler enthalten in der Regel Wasser und ein alkalisches Material. Andere geeignete wäßrige Entwicklerkombinationen sind in der US-A-3 796 602 beschrieben.

Die Entwicklungszeit kann schwanken, liegt aber vorzugsweise im Bereich von 2 bis 25 Minuten. Entwickler kann auf eine beliebige herkömmliche Weise angewandt werden, einschließlich Ein­ tauchen, Besprühen und einer Bürst- oder Walzanwendung. Bürsthilfsmittel können zur Entfer­ nung der unpolymerisierten Bereiche der Relief-Abbildungsschicht eingesetzt werden. Jedoch wird das Ausspülen häufig in einer automatischen Verarbeitungsanlage durchgeführt, die Ent­ wickler und eine mechanische Bürstwirkung anwendet, um die nichtexponierten Bereiche des Elements zu entfernen, wobei ein Reliefbild zurückbleibt, welches die exponierten Bereiche der Relief-Abbildungsschicht und "Bodenbelag", welcher durch die Backflash-Exposition durch den Träger gebildet wird, darstellt.

Ein Vorentwicklungsschritt kann notwendig sein, wenn das Maskenschichtmaterial durch den Entwickler nicht leicht entfernbar ist. Ein zusätzlicher Entwickler, welcher das polymerisierte Material nicht beeinträchtigt, kann angewandt werden, um das Maskenschichtmaterial zuerst zu entfernen.

Im Anschluß an die Lösungsmittelentwicklung werden die Elemente allgemein abgetupft oder trockengewischt und danach in einem Gebläse- oder Infrarot-Ofen getrocknet. Die Trocknungs- Zeiten und -temperaturen können schwanken, doch wird die Platte üblicherweise 60 bis 120 Mi­ nuten lang bei 60°C getrocknet. Höhere Temperaturen werden nicht empfohlen, da der Träger schrumpfen kann, was zu Einpassungsproblemen führt.

Die flexographischen Abbildungselemente können gleichmäßig nachexponiert werden, um sicher­ zustellen, daß der Photohärtungsprozeß abgeschlossen ist und daß das Element während des Druckens und der Lagerung stabil bleibt. Dieser Nachexpositionsschritt kann unter Verwendung derselben aktinischen Strahlungsquelle, die bei dem Hauptexpositionsschrift eingesetzt wird, durchgeführt werden.

Das Nichtklebrigmachen ist eine weitere optionale Nachentwicklungsbehandlung, die durchge­ führt werden kann, wenn die Oberfläche immer noch klebrig ist, und eine solche Klebrigkeit wird während eines Nachexpositionsschritts nicht beseitigt. Die Klebrigkeit kann durch in dem Fachbe­ reich allgemein bekannte Verfahren behoben werden, wie eine Behandlung mit Brom- oder Chlorlösungen. Solche Behandlungen wurden beispielsweise in der US-A-4 400 459, der US-A- 4 400 460 und der DE-28 23 300 beschrieben. Das Nichtklebrigmachen kann auch durch Expo­ sition an Strahlungsquellen mit einer Wellenlänge von nicht länger als 300 nm bewerkstelligt werden, wie in der EP-A-0 017 927 und der US-A-4 806 506 beschrieben.

Wenn nichts anderes angegeben ist, umfaßt die Bezeichnung "flexographische Druckplatte oder Abbildungselement" Platten oder Elemente jeglicher Form, die für das flexographische Drucken geeignet sind, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Flachfolien und nahtlose kontinuierliche Formen.

Die Elemente der Erfindung können bei der Bildung nahtloser, kontinuierlicher Abbildungsele­ mente verwendet werden. Die Flachfolienelemente können durch Wickeln des Elements um eine zylindrische Form, in der Regel um eine Druckhülse oder den Druckzylinder selbst, und Ver­ schmelzen der Kanten unter Bildung eines nahtlosen, kontinuierlichen Elements weiterverarbeitet werden. Bei einer bevorzugten Methode wird die Relief-Abbildungsschicht um die zylindrische Form gewickelt, und die Kanten werden wie in dem Fachbereich bekannt miteinander verbunden. Diese umwickelte Schicht kann danach mit einer geeigneten Formulierung unter Bildung der mehrere Level aufweisenden, beschreibbaren Maskenschicht sprühbeschichtet werden.

Kontinuierliche Abbildungselemente finden ihre Anwendung beim flexographischen Aufdrucken kontinuierlicher Muster, wie bei Tapeten, Dekorations- und Geschenkeinwickelpapier. Außerdem eignen sich solche kontinuierlichen Abbildungselemente gut für die Anbringung auf herkömmli­ cher Lasergerätschaft. Die Hülse oder der Zylinder, auf welchen das Abbildungselement gewic­ kelt wird, wenn die Kanten verschmolzen werden, können direkt in die Laservorrichtung montiert werden, wo sie als Rotationstrommel während des Laser-Expositionsschritts fungieren.

Die Laser, die angewandt werden, um die Maskenschicht der Erfindung zu exponieren, sind vor­ zugsweise Diodenlaser aufgrund der Zuverlässigkeit und des geringen Wartungserfordernisses von Diodenlasersystemen, doch es können auch andere Laser, wie Gas- oder Festkörperlaser, eingesetzt werden.

Claims (12)

1. Flexographisches Abbildungselement, umfassend einen Träger, auf den, von dem Träger aus in dieser Reihenfolge, folgendes aufgebracht ist:

• a) eine Relief-Abbildungsschicht, die entwickelbar ist, um ein mehrere Level bzw. Höhen aufweisendes Reliefbild zu liefern, und dadurch gekennzeichnet ist, daß es weiterhin aufweist:
• b) als integralen Bestandteil und mit der Relief-Abbildungsschicht in Verbindung stehend, eine mehrere Level aufweisende, beschreibbare Maskenschicht, die in der Lage ist, die Relief-Abbildungsschicht mit darauf geschriebenen Mehrfach-Level-Informationen zu versehen.

2. Element nach Anspruch 1, wobei:
die Relief-Abbildungsschicht gegenüber aktinischer Strahlung mit einer Wellenlänge von 300 bis 500 nm empfindlich ist, und
die mehrere Level aufweisende beschreibbare Maskenschicht einen oder mehrere sublimier­ bare Farbstoffe umfaßt, die praktisch die gesamte aktinische Strahlung absorbieren.

3. Abbildungselement nach Anspruch I oder Anspruch 2, wobei die mehrere Level aufweisende beschreibbare Maskenschicht weiterhin ein photothermisches Infrarot-Umwandlungsmaterial aufweist.

4. Abbildungselement nach Anspruch 3, wobei die mehrere Level aufweisende beschreibbare Maskenschicht weiterhin ein Bindemittelmaterial umfaßt und das photothermische Infrarot- Umwandlungsmaterial ein Infrarotstrahlung absorbierender Farbstoff ist.

5. Abbildungselement nach Anspruch 4, wobei das Bindemittelmaterial Cellulosepolymer ist.

6. Abbildungselement nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Relief- Abbildungsschicht ein photohärtbares Polymer umfaßt.

7. Abbildungselement nach Anspruch 2, wobei die sublimierbaren Farbstoffe in der mehrere Level aufweisenden, beschreibbaren Maskenschicht,in einer Menge von mindestens 25%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Schicht, vorliegen.

8. Abbildungselement nach Anspruch 1, wobei die Relief-Abbildungsschicht ein härtbares oder polymerisierbares Material umfaßt und die mehrere Level aufweisende, beschreibbare Mas­ kenschicht ein chemisch aktives Material umfaßt, welches das Härten oder die Polymerisati­ on des härtbaren oder polymerisierbaren Materials inhibiert.

9. Abbildungsverfähren, umfassend die Schritte:

• A) des Vorsehens des Abbildungselements nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8;
• B) des Abbildens des Abbildungselements, um ein mehrere Level aufweisendes Maskenbild in der Maskenschicht vorzusehen;
• C) Vorsehen eines mehrere Level aufweisenden Bildes in der Relief-Abbildungsschicht ent­ sprechend dem mehrere Level aufweisenden Maskenbild in der Maskenschicht; und
• D) Entwickeln der Relief-Abbildungsschicht.

10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei der Schritt C durch eine Gesamtexposition des Abbil­ dungselements mit einer aktinischen Strahlung vorgesehen wird.

11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, wobei die bildweise Erwärmung unter Anwendung ei­ nes eine Infrarotstrahlung aussendenden Lasers erfolgt.

12. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 11, wobei der Schritt D durch Kon­ taktieren des Abbildungselements mit einer Entwicklerlösung durchgeführt wird, um nicht­ abgebildete Bereiche der Relief-Abbildungsschicht zu entfernen.