DE1521062A1 - Waessriges,saures,galvanisches Kupferbad - Google Patents
Waessriges,saures,galvanisches KupferbadInfo
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
Description
dring. H. NBQlNDANK dim-iko. H. HAUCK · DiFL.F»Ti.W.eCHlfITi
The Udylite Research Corporation τ«ι.···ο···
Wässriges saures galvanisches Kupferbad
Die Erfindung bezieht sich auf wässrige saure galvaniecht
Kupferbäder, insbesondere saure Kupfersulfat- und Pluoboratbäder,
sowie die galvanische Abscheidung von lupfer
aus diesen Bädern, sowie auf Zusammensetzungen'als Zusatz zu dienen Bildern.
Obwohl eine große Anzahl von organischen Verbindungen vorgesohlagen
und benutzt worden ist» um die Korngröße herabzusetzen und den Glanz der Kupfeabseheidung aus sauren
Bädern zu erhöhen, bleibt dennoch vieles zu wünschen übrig,
und zwar hinsichtlich der Urlangung einer glänzenden Kupfer
plattier ung mit guter glatter Oberflächenbeschaffenheit, die Iceine Streifenbildungen oder Hippcnbildungen aufweist
und welche die äußerst hohe Duktilität der Kupferabscheidung,
welche aus bekannten sauren Kupferbädern gewonnen wird, beibehält.
909833/112Θ
ORIGINAL
Wie in der deutschen Patentanmeldung (Aktenseichen
P 15 21 061.4) "beschrieben ist, ermöglicht der Zusatz
von 1 ,3-Dioxolanpolymerisaten, welche ei a Molekulargewicht
von wenigstens 296, jedoch vorzugsweise zwischen
296 und 30 000 aufweisen, zu sauren Kupferplattierung3-bädern,
die Erlangung einer glatben, biegsamen, halbglänzenden
Kupferabscheidung von geringer Spannung, welche frei von Streifenbildungen ist. Wenn beispielsweise
ein Poly-1,3-Dioxolan von einem durchschnittlichen
Molekulargewicht von etwa 5000 in einem sauren Kupferbad aufgelöst wird, welches aus 150 bis 275 g/l
Kuprisulfatpentahydrat und etwa 3 bis 70 g/l Sohwefelsäure hergestellt ist und die aufgelöste Menge etwa
0,1 g/l beträgt, dann wird eine sehr glatte, halbglänzende Kupferplattierung erzielt, und zwar in einen Stromdichtebereich von der geringsten Stromdichte bis aum Bntzündungspunkt oder der Grenzstromdichte, welcher bei
üblicher Bewegung etwa bei 10 bis 15 Ampdre/dm liegt,
jedoch bei sehr schneller löeungsbewegung einen höheren
Wert annimmt. Bei jedem sauren Pluoboratbad, welches etwa 150 bis 450 g je 1 oder mehr an yiuoborsäure enthält,
ergeben dieselben Zusätze ähnlich ausgezeichnete Resultate auch bei höheren Stromdlebten und bei denselben Badtemperaturen. Bei Polymerisaten von geringerem Molekulargewicht, z. B. etwa 400 bis 1000, sollten höhere Konzentrationen bis zu 5 g/l und darüber verwendet werden. Bei
9098337112g "3 "
BAD ORIGINAL
den Polymerisaten mit höherem Molekulargewicht, z. B. etwa 5000 und darüber, können Konzentrationen von nur
etwa 0,01 g/l mit guten Resultaten verwendet werden, insbesondere wenn andere organische Zusätze den Bädern
zugesetzt werden,
Im Gegensatz zu anderen Polymerisaten mit hohem Molekulargewicht verursachen die Dioxolanpolymerisate keine
Streifenbildungen auf der Plattierung, und es ist nicht
erforderlich, cio in Verbindung mit Chlorid- oder Bromidionen
in Konzentrationen von etwa 0,02 bis 0,1 g/l und darüber zu verwenden, wie es bei anderen Polyäthern
der Pail ist.
1,3-Dioxolan kann nach bekannten Polymerisationsverfahren
in Polymerisate mit hohem Molekulargewicht übergeführt werden, nämlich durch Erv&men des Dioxolans in Gegenwart
eines-sauren Katalysators, bis ein Polymerisat mit dem i
gewünschten Molekulargewicht entstanden ist, welches voxaigsweise etwa 5000 beträgt. Der beste saure Katalysator
für die Polymerisation des Dioxolans ist ein Bortriflttoridkatalysator.
Die 1,3-Dioxolanpolymerisate sind Polyether und bestehen aus sich abwechselnden Methylen-
und Äthylengruppen, die durch Sauerstoffatome unterbrochen sind. Die Polymerisate mit endständigen Hydroxylgruppen können mit vielen organischen Verbindungen weiter
9O9833/H20 -4-
mämis wslofe eia reaktiTes "faserstoff atom
ölil©3?i?.3rclria©p iaal
fi2?uGk :^ A) ^--^lozolajäpolyffierisa'ße"·3 soll auo.li. dies©
Aolyeo:.dsc't;3 ait nmfase©no ®©r Sosi; öer TtsrMaauag?
fcis ri;^.- -äe.··" Diosolaia ait ©ndstsaaigsa HyöEOsylgr-iJppjii
aag-:>yü:3ü ',-l^dc, äasf nicht so beselaaffen" seia, daB sr
Si ■ ---Aii'öuiläsvfije 7ifirk»j£ig des .!©'festeren in der Braaeabar-
t::"^'r ösQiatsäclitigt» Ib aligeaeiaea bildet der Esst des
Ar ;yüio2£ölaas. mit endständigen Hyelroxylgruppen wenigstens
a-4^ das Zusatzes.
Is ist festgestellt woxjäen? daß die genannten 1,3-Diosolanpeljmerisate
und andere Polyätkerverbindungen,
die noclx ausfuhrIieher beschrieben werden» bei Verwendung
in den sauren Kupferbädern mit sehr geringen Konzentrationen organischer Sulfide (Ehiole,
ülhioäther und dergleichen» wie sie in der folgenden
Tabelle I beschrieben sind, die galvanische Abscheidung einer glatten, glänzenden Kupferplattierung ermöglichen,
ohne daß dabei die Biegsamkeit der Kupferabscheidung
909833/1129 _ 5 „ bad original
nennenswert vermindert würde. Die organischen SuIfidverbiadungen
nach der -!Tabelle I erzeugen, wenn sie allein in den Bädern in Konzentrationen von 0,0005
bis 0,04 g/l oder sogar bis zu 0,1 g/l verwendet werden, keinen starken Glanz} erst wenn sie in Konzentrationen
von wenigstens 1 g/l eingesetzt werden, geben ais,
wenn sie allein verwendet werden, Glanz und bringen auch dann nicht den höchsten Glanz hervor· Zum
Beispiel wirken die sulfonierten organischen Sulfide, die zur Verwendung in sauren Kupferbädern zum ersten
Mal in dem USA-Patent Mr. 2 424 887 beschrieben wurden, wie z. B.· üJhianthrensulfönsäuren, (Beispiel IV,
Tabelle I) und die Phenyläisulfidsulfonsäure (Beispiel
V, Tabelle I) bei Verwendung in so geringen Konzentrationen, wie 0,0005 bis 0,01 g/l bei etwa 0,05
bis 0,2 g/l der 1,3-Dioxolanpolymerisate mit hohem
Molekulargewicht in der SOrm mit, daß sie glänzende,
biegsame Ktapferabsaheidungea geben· Wenn jedoch a. 3· %
sulfoniert·» Thianthren allein oder mit ©Ines ähnlichen
sulfonierten organischen. Sulfid in einem saugen
Kupferbad nach dem Beispiel VIII des genannten Patentes
verwendet wird, dann ist es erforderlich, 1 bis 2 1 zu verwenden, um glänzende Plattierungen zu erzielen.
Mit anderea Worten vermindert die Verwendung von
Sulfid in Verbindung mit den 1,3-Dioxolanpolymerisaten
mit hohem Molekulargewicht die erforderliche Koa-
'808833/11-2* - $ ~ :
ze&tratioa am ein. 1ÖQ-faches und ergibt außerdem einen
"besseren Glanz-» Basselbe gilt für die sulfonierten
Fhenyläisulfide und andere aulfonierte organische
Sulfide, die in der Tabelle I aufgezeigt sind.
Wenn äußerst kleine Mengen der organischen Sulfide in
Verbindung mit den 1,3-DiQxolanpolymerisäten von hohem
fc Molekulargewicht verwendet werden, oder in Verbindung mit anderen Polyätherpolymerisäten, die noch ausführlicher
beschrieben werden, dann wird der Glanz
der !Plattlerung insbesondere in den Bereichen von
geringer Stromdichte bei langer Benutzung der Bäder durch schläuche Zersetzungsprodukte nicht nachteilig
beeinflußt. Dieses ist ein unerwartetes Merkmal, weil bei der Verwendung des organischen Sulfides in einer
Konzentration von mehr als 0,04 g/l sich bei einer ausgedehnten Elektrolyse schädliche Zersetzungsprodukte
(breakdown products) bilden.
Di© orgenischen Sulfide enthalten wenigstens eine
SuIfonsäuregruppej and in der Tabelle I sind Beispiele
für die Sulfide angegeben. Diese Sulfide können durch
Gruppen» wie z. B, Methyl-, Chlor-, Brom-, Methoxy-,
Jttboxy-.. iznd Hydrexy-Gruppen substituiert sein,
bei aromatischen und
S0S833/112S badoriginai
1521082
Sulfid·-= und Sulfonsäuren» ohne daß g
?3säaö®a?u]ag8ii im Crlanz entstehen. Die o^gsnisolae
Salfiü°3ul£onsäuren können den BääS3?a- als fs=o:Le
Saar an angesetzt wurden, oder als fialso5 S5 3c
iill:alia©tsllsals@ odes? organische ilaiasals©^ -.vrls
lamin» &aaaiöia,3 Imino-gta^rL-Ii-J., Hi':-;:?"-!-
iltiiylesdiaiiiii and
©ia= 3λ "d©a meisten Pällen wird es fce^orisiigt^ cli
Sülf oaeäarsa Im-^QTm tob freien Sau:?®« au ^ss
Di® organischen Sulfiäe» wie sie z-, 3* .in. öes? iSa^sils
aufgeführt sind, ergeben in Konaen"S3?ationen "?oa
0^.-005 bis 0,01 oder Q9QA g/l glänsaM^ uad äa aiaigas
lällea stark glänzende Ab Scheidungen 9 ohne dsi-D
achäaliche Streifenbildungen oder Hippenbilüisagev ezrsstehen,
wenn sie in Verbindung mit !Polyäthem τογ-wendet
werden, wie a. B. mit Polyäthyienäthanolen miß,
Grlykolen mit hohem Molekulargewicht (durchschnittliches
Molekulargewicht 220 bis wenigstens 30 000).
Dieses ist ein unerwartetes Merkmal, da die Ergebnisse, die bei Terwendung beider Materialien allein erzielt
werden, in keiner Weise darauf schließen lassen, daß eine bemerkenswerte Verbesserung des Glanzes eintreten
würde, wenn die beiden Materialien gemeinsamen verwendet werden. Der Ausschluß von Eippenbildungen und
9098 33/1129
-8 -
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'""', -: ";a gieiüäes3 f ais© alt den seli3? geringen Koazentafa-
ea naeh der 2a,fe©lle X verwendet
Sie Bolyäthö3?, die in Verbindung mit der Erfindung
■verweaäst werden können, sind diegenigen, die wenigstens
drei, vorzugsweise-'wenigstens- sechs, Äther sauer stoff atome
enthalten und die frei τοη gesättigten aliphatischen Kohlenwasserstoffketten von mehr als sechs Kohlenstoffatomen
sind. Es ist festgestellt worden, daß Verbindungen, welche Kohlenwasserstoffketten von mehr als
sechs Kohlenstoffatomen enthalten, die Neigung haben,
909833/1129 - 9 -
ßADORJGJNAL
bei Bewegung mittels Luft überzuschäumen und, was von
größerer Bedeutung ist, den Glanz der Abscheidung zu vermindern, insbesondere in Bereichen geringerer
Stromstärke. Die Polyäther schließen neben den erwähnten
Dioxolanpolymerisaten Polyäther ein, welche von Ithylenoxyd oder Propylenoxyd oder Mischungen derselben
abgeleitet sind. Sie können als Endgruppen andere als Hydroxylgruppen aufweisen, z. B. AmIn-,
Chlorid-, Bromid-, Sulfonsäure-, Merkapto- und
Alkoxygruppen, welche 1-7 Kohlenstoffatome enthalten,
sowie Jfaphthoxy-, Phenoxy- und Chlor-, Brom-, Hitro-, Methoxy- und Äthoxy-substituierte Phenoxygruppen,
wie auch Alky!phenoxygruppen mit kurzer
Kette, bei denen die Alkylgruppe weniger als 6 Kohlenstoff
atome enthält»
In der Tabelle II sind Beispiele im Bad löslicher Polyätherderivate aufgeführt, die in der Erfindung
verwendet «erden können» Sie bevorzugten Verbindungen
hinsichtlich &er besten Zusammenwirkung mit dan Sulfiden
zur Bildung eines glatten, streifenfreien, glänzenden»
biegsamen Kupfers sind Dioxolanpolymerieate und die
Polypropylenpropanole und Polypropylenglykole mit einen
Molekizlargowiclat τοη &ΐπ:&, "αίΐ uls
BAD
Bs ist £m'£®T.festgestellt worden, daß bei einem
Sttsatz niedriger Konzentrationen (0,001 bis 0,05 g/l)
von.Ehenazinfarben» wie z.B. Janusgrün B, zu den
Bädern gemäß ä@r Erfindung der Glanz und die Ebnung
weiter verbessert werden und eine sehr glänzende,
sehr glatte, "biegsame Kupferplattierung innerhalb
eines vi©I größeren Plattierungsbereiehes erzielt
fc wird, welcher die Bereiche mit sehr niedriger Stromstärke
einschließt. Diese Art des Glanzes und des äußerst großen Bereiches einer glänzenden Flattierung
wird nicht erzielt, wenn Janusgrün B in Verbindung mit den organischen Sulfidverbindungen allein verwendet
wird, oder wenn es mit den Verbindungen der
Tabelle II allein verwendet wird. Auch der Glanz iiaä die Biegsamkeit überschreiten bei weitem diejenigen, die mit Parbeh der Type Januegrün B in Verbindung
mit thioharnstoffderivaten wie Azetyl- oder
w Propionylthioharnstoff»erhalten werden.
Die Farben der Phenazinklasse (die Safraniatype) und
iasböSGnäK?© di@ Bhenazinazefarben (z-· B. Januegrün
B), welek« äie stark verfeesas^t© glatte Oberflächen-
msM des, attsg©i©bnteia
ßAD ORIGINAL
f~i'*l /S=t ^Ih I^
O3H3, O4
4H9
i^J J
ist? Ί gleich 0Γ% Βγ°5 SQ,-,"""., HSO,,". 0ϊΙ-έ0Λ
TT
1^ odes=
>κ ist snel ü gleich
O2E5, 0Hs IH2, IfSH5J2 oder
ö H
252 2H5J SH oä
ist? ^orin Z eine Yerbindungsgruppe 1εΓό? di>? ^5
Bimetkylanilin^ Anilin, PJienylendiamin und sabsi: :
■Aniline und Piienylendiamine, ITaphthole- und
iiaphthole, Phenole und substituierte Phenole, ihiasoi,3
Benzothiazole und ^minobenzothiazole, die an eine Azo-Yerbindung
IT=IT gebunden ist.
Die bevorzugten Phenazinfarben sind diejenigen der
Type Janusgrün B (Diäthyl-safranin-Azodimethylanilin oder
Dimethylsafranin-Azodiraethylanilin, CL !Tos. 11045»
11050) oder der Farbtype Janusschwarz H, auchCI.
11975 (Colour Index, Second Edition, ToI. 3, 1356-57),
9 0883 3/1129
- 12 -
da diese Yerfoindung die höchste Ibassmg und den
weiisGstQS JBareich einei* glänzenden Platzierung
ermSglielrfc. Sie Anionen dieser Isationi sehen färben
siae. lsi allgemeinen hinsichtlich d@r höchsten Wirksam«
koii iiioJat 7ca Bsagutangj obwohl ein Beweis für sine
!öäeiipag£?n:-i;3! vorhandea ist3 eaä ISsiae inionen, die beim
Bsaetzsa isi-jJat Qh^T-tleMieimi^ksam siad^ sind wünsoiiens-·
ia,ioa©a9 wi© z. 3»
™ s!al£ö;na'«jöP isind iiioht erwüssoirfe isad aeigen
■üie Hi-:-£iQ£.iniarben ni
Im ©Iig©m©;i2ien sind bei Terwendung τοη Phenazinfarben
Suifonatanionen in verhältnismäßig
Konzentrationes in dem Bad vorhanden, anderen
fd&ls vermindert die Ionenpaarung die löslichkeit der
Wenn saure Eupferbäder verwendet werden, um Stahl
oder eisenhaltige Gegenstände zu galvanisieren» wie a*, B. Stoßstangen für Kraftfahrzeuge, Nabenkappen
und Druckrollen, dann kann zunächst ein vorläufiger Kupfer- oder Messingniederschlag aus einem Cyanidbad
oder ein Uickelniederschlag aus einem sauren UickelgalAiisierungslDad (pH von etwa 0,5 "bis 5) benutzt
werden, um schlecht haftende EauchabScheidungen zu vermeiden. Es wird jedoch oft ein saurer Mckelnieder-
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BAD ORIGINAL
schlag (vorzugsweise aus erLaem Bad mit hohem SuIfatgehalt
und geringem Ghloridgehalt zur Verminderung des Einziehens von Chloridionen in das Kupferbad) bevorzugt»
weil es eine Überwachung, Spülung und Abfallentfernung
ermöglicht. Die bevorzugten sauren Kupferbäder sind saure Sulfat- und lluoboratbäder, es können jedoch
andere saure Kupferplattierungsbäder, die Komponenten,
wie Kupfermethansulfonat% Kupfermethandisulfonate,
Kupferäthansulfonate, Kupferäthandisulfonate, Kupferpropansulfonate,
mit einem duroh die freien Sulfonsäuren zugeführten Säureüberschuß enthalten, mit den Verbindungen
der Zusätze gemäß der Erfindung verwendet
werden, um einen hochglänzenden Überzug zu gewährleisten.
Die anorganische Zusammensetzung der sauren Kupfergalvanisier ungsbäder, wie z. B* das saure Sulfat oder
das saure IPluoborat können in weiten Grenzen veränderlich
sein, und tatsächlich kann der Säuregehalt bei der Verbindung d<?r Zusätze gemäß der Erfindung erheblich |
niedriger sein als bei den üblichen Verbindungen. Wenn
jedoch sehr geringe Säuregehalte verwendet werden» dann werden höhere Badspannungen benötigt· In den unten
aufgeführten Beispielen, die zur Erläuterung von
. Bädern für glänzende Kupferabsoheidungen dienen, werden
die üblichen ixten von sauren Kupfersulfat- und Pluoboratbädern
verwendet. Wenn die glänzenden Kupferplattierungen gemäß der Erfindung in wasaerstoffhaltiger
Atmosphäre auf öoae Semperaturen erwärmt werden, dann
00883371128
erscheint ils aus dem Fluoboratbad stammende Plattierung
stärker als die aus Sulfat stammende Plattierung.
Es können viele anorganische Kationen, die sich nicht
in Form von Plattierungen aus den normalen sauren Kupferplattierungsbädern ausscheiden» in Konzentrationen
bis zu wenigstens 25 g/l vorhanden sein, ohne daß
^ schädliche Auswirkungen auftreten; Beispiele dieser
W
Sationen sind Bisen-, Nickel-, Kobalt-, Sink- und
Cadmiumkationen. Die Konzentration der Chlorid- und/ oder Bromidanionen sollte i» allgemeinen unterhalb etwa
Or1 «A gehalten werden und sollte vorzugsweise unterhalb
etwa 0,02 g/l liegen; Im Interesse einer Durchführung
der Plattierung mit höchster Geschwindigkeit und zur Erlangung günstigster Ergebnisse ist eine Luft- oder
©ine Kathodenstabbewegung oder eine lösungs- und
Kathodenstabbewegung wünschenswert. Die besten Badtemperaturen
sind 25 bis 30 0C, obwohl niedrigere oder
* höhere Temperaturen (in einigen Fällen sogar bis zu
50 0C) zur Anwendung kommen können»
Obwohl bisher oberflächenaktive Substanzen, z. B. anionaktive, wie Natriumoetylsulfat, sulfoniert· nichtionische
Substanzen und nicht-ionische Polyoxoverbindungen in sauren Kupferplattierungsbädera oft mit guten
Ergebnissen verwendet worden sind, werden sie in dan
Bädern gemäß der Erfindung nicht benötigt· 3?atsäohlioh
• 1st ihre Verwendung in Bädea?n9 weishe Ihtaassinfarbön
908-8 3 3/112-9-
'.■■-■-■ ■ . ' ■ . "«15«
SADORIGiNAt
enthalten» insbesondera der JEype Janus B, unbedingt
nachteilig·'
organischen Sulfid» und Polyäihergruppe?! können is
Ton einzelnen'Molekülen in das Bad si«g©führt- w©r&@n,
welche ggfs· mit einer der Hienasi&faE'Tben
■ysrmiacht oder umgeaetst.werden kö*nn@&} ou-es? siQ
können als einfache chemische 'Verbindung eiageftiterö
t/©rd©n. Dieses ist durchführbar, da die Sulfide,
Polyäther und Ehenazisfarben alle im wesentlichen in
gleichem Maße aus der Sösung austreten. Wenn ζ ο B-.
die Verbindungen der JDabelle I in Konzentrationen you
Oj0005 bis etwa 0,025 g/l verwendet werden, dann
ist das Ausmaß ihrer Erschöpfung praktisch das
gleiche wie das der Phenazinfarben, wenn sie iß einer
Konzentration τοη 0,001 bis 0,05 g/l verwendet S
Wenn saure Kupfersulfat-, Kupferfluoborate- oder
Kupfermethansulfonatbäder verwendet werden, dann ist
das Ausmaß der Erschöpfung der Zusätze nahezu das
gleiche» Es können auch Bäder verwendet werden, welche die Sulfonate mit kurzen Alky!ketten enthalten. Da jedoch
die löslichkeit der Kupfersalfce dieser Verbindungen
erheblich geringer ist als beispielsweise diejenige von Kupfermethan-, Äthan- oder Propanaonosulfonat,
müssen sie in viel niedrigeren Konzentrationen verwendet
909833/1129
- 16 -
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aioii-j so RGGh sisäo WaiöEi Äi© 2?l®,*ste weniger glänssad
isS;. ist iiiolat -zu. sagen» Die -pJaosphorisierten Anoden
OiHialten etwa Q9 02 "bis Oj2 fl Ibosphor» rniä die■ Kathoden-
£r:4-Jö5?pXatti©rung9 weloiie mit diesen pho^phorisierten
verwendet wurde, enthält aacii einen gleichen
i3 an Piiospiiör? und es ist möglich, daS es
dieser Einschluß ist, welcher den G-lanz verbessert.
ψ Sie phosphorisierten Kupferanoden enthalten im allgemeinen
aueh etwa 0,01 "bis 0,05 ^ Silber und Spuren von
Nickel, Bisen, Schwefel, Arsen, Antimon und Wismut. Die Kathodenplatte enthält noch weniger von diesen Unreinheiten.
Das Silber scheint in lOrm von Chlorid ausgefüllt zu sein, was wahrscheinlich eine Erklärung dafür
gibt, daß es in der Kathodenplatte in sehr viel geringerer Konzentration vorhanden ist. Wenn jedoch
eine Phenazinfarbe, wie z« B. Janusgrün, ebenfalls in
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BAD ORIGINAL
den sauren Bädern vorhanden ist, dann ist der Glanz
der Kupferplatte im wesentlichen unabhängig von der ixt der verwendeten Kupferanode.
In der Tabelle I sind verschiedene Beispiele geeigneter Sulfide zur Verwendung gemäß der Erfindung aufgeführt,
Tabelle II zeigt Beispiele für geeignete Eolyäther.
Eine Anzahl von sauren Kupferplattierungsbädern für die
Erzeugung hochgradig biegsamer, glänzender Kupferabscheidungen sind nach den Tabellen beschrieben.
Sie Bäder A und B geben keine so glänzende Plattierung
wie die übrigen Bäder, bei denen Kombinationen von Zusatzmitteln zur Anwendung kommt, und werden.zum
Vergleich einbezogen. Der höchste Glanz, der weiteste
Bereich für eine glänzende flattierung und für die beste Gberfläohenglätte werden erzielt, wenn Bäder
zur Anwendung kommen, bei denen Janusgrün eines der ^
Glanzmittel ist.
» 18 -909833/1128
- 18 gaballe I
Ο.ΌΟΟ5 bis 0.04 gA bei Verwendung
mit den Verbindungen der Tabelle II
- H BC —GH
SO5H
s -(ν sh»
SH
O5H
- 19 -
909833/1129
IHÖOCH,
SO-OG«HC
V J
θsS
- SH, HO-S-(GH9)_
- SH η
SO5H SO3H
/ V-S-O2HH-/ \ - S -/ -^V-.
HHSO5
SO^SOxH
I 2 I .?
10. HS-CH2-CH-Ch-CH2-SH, HS-CH2-CH-Ch2-CH2-SH
11. -
CH2
SH
[0GH2f]
CH2 -OH ζ und y jedes = 1 zu etwa
100
SO5H - 20 -
9098 33/1129
12. OH
_S(OH , 0
SH
13. HO3S-OH2-OH-OH2SH, HS-OH2-CH-OH2SO3H
SO5H
jF 3 0(CH0), SOxH
r—\
J 2'3
O-rjQ
OVJrril ^.
-S-(CH2)3 - SO3H
16. CH,
S-(OH2J3-
- 21 -
909833/1
- SO3H
SO3H
SO5H
3 ο
20. HS-C2H4(OC2H4)x - SH(CH2)nSOjH χβΙ-100,, n«1-4
21. HS-C5H6 (OC3H6)y-IfH(CH2
y*1-20, n=1-4
22. CH
90 9833/1129 - 22 -
- 22 Tabelle II (Polyäther)
(Konzentrationsbereich 0.01 bis 5 g/U Sie niedrigere
Konzentration für die Arten mit höherem Molekulargewicht)
H2C
- OH,
O -
Polymerisate mit einem durchschnittlichen
Molekulargewicht von 388-30,000
2* -. £oCH2-Ch]'■*" C OCH2-OH 3 y"öH
CH,
SO5H"
CH2 ι
BO3H
χ und y je = 5 bis etwa 100
C OC2H4 )XSO3H
χ = 20-100
- 23 -
909833/1129
■-. 23 -
0H x=5-1
E=H,
C2H4 ( OC2H4 )xOH
)ZOH
9098 33/1129
- 24 -
8. HO-C2H4(OG2H4) OH durchschnittliches Molgewicht
9 1,000 400-50,000- (-C2H4OC2H4O-).
x=10 - 1,000
9.HOO5H6(OC5H6)OH durchschnittliches Molgewicht
5""20 550-1,000 (-O5H6OC5H6O-)_
y=4 - 20
10. HS-O2H4(OO2H4) OH
9-100
11. H2N-C2H4(OC2H4) OH, H2N-C2H4(OC2H4)
9-600
HO5SC2H4MHC2H4(OC2H4) OH
5-1,000
5-500
12. H2N-C5H6(OC5H6) OH,
5-20
HO5S-C2H4NHC5H6(OC5H6)-0Η
3-30
9098 33/1129
3-20
- 25 -
OH 5-50
OH 5-15
0H
16. CH3OO2H4(OO2H4) OH
5-30
17. O2HjOC2H4(OO2H4) OH
5-30
18. HO(O3H6O)C3H6-Ir-^- S -Q;-H-C3H6(OO3H6)3 OH
3-20
- 26 -
909833/1129
~ 26 E B
19. H0(C2H40)02H4-li-/~yS-/~yir-C2H4(0O2H4) OH
5-100 *—*
5-100
5 3
ι ι
20. HO(C2H4O) C2H4O-C-CSO-C-C-OC2H4(OC2H4) OH
5-100 * · 5-100
t t
21. HO(C2H4O) C2H4O-C-CSC-C-OC2H4(OC2H4) OH
5-100 ' · 5-100
C2H5 C2H5
22· (-lffl-C2H4-liH-C2H4-)a (-O2H4OC2H4O-^
b=10-100
23. (-SH-C2H4-BH-C2H4-)a (-C3H6OC3H6O-)0 a=1-2
c==6-15
.λ
Beispiel A
Konzentration g/l CuSO4.SH2O 150-225
H2SO4 30 - 75
1,3-Dioxolanpolymerisat mit einem
durchschnittlichen Molgewicht γοη 5.000 0.03 - 0.15
Temp* 20 - 350C
Durchnittliche Kathodenetromstärke 5 A/du
909833/1129 9_
- 27 Beispiel B
4J2 150 - 425
HBP4 10 - 30
H5BO3 0 - 30
1,3-Dioxolanpolymerisat mit einem durchschnittlichen Molgewicht von
1 000 bis 10 000 0,01-1 {
Temp. 20 - 35 0C
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 8 A/dm
CuSO4.5H2O 150 - 250
H2SO4 30 - 75
1,3-Dioxolanpolymerisat mit einem durchschnittlichen Molgewicht von
5.000 0.1 -
Diäthylsafraninazodimethylanilin
(Janus-Grün B) 0.001 - 0.01
Thiophen-2-8ulfonsäure (Beispiel I,
lab. I) 0.001- 0.01
Temp. 25 - 30 0C
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5 A/dm
- 28 -
909833/1129
- 28 Beispiel D
Konzentration g/l
OuSO4.5H2O 150 - 250
H2SO4 30-75
1,3-Dioxolanpolymerisat mit einem durchschnittlichen Molgewicht von
5.000 0,05 - 0,15
Thianthrensulfonsäure (Beispiel 4,
Tab. I) 0,001-0,01
Temperatur 20 - 35 0O
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5 A/dm
CuBP4 150 - 425
10 - 30 0-30
1,3-Dioxolanpolymerisat mit
einem durchschnittlichen
Temperatur 20 - 35 0O
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5-10 A/dm2.
- 29 -909833/1129
GuSO4.SH2O 150 - 250
H2SO4 30 - 75
Polypropylenglykol mit einem
durchschnittlichen Molgewicht
von 350 - 750 0,05 - 0,2
Ihianthrenaulfonsäure 0,001 - 0,02 |
Dimethylsafraninazodimethylanilin 0,001 - 0,01 Xemp· 20 - 35 0C
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5 A/dm .
150-250
H2SO4 30-60
Beispiel 12, IaDeIIe II 0,05 - 0,5
Phenyldisulfidsulfonsäure
(Beispiel 5, Tab. I) 0,001 - 0,02
Janus-Grün B 0,001 - 0,01
OJemp. 25 - 30 0O
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5 A/dm .
- 30 -
9 0 9 8 3 3/1129
CuSO4.5H2O 150 - 250
H2SO4 30 - 60
Polypropylenglykol uit einem
durchschnittlichen Molgewicht
von 350 - 750 0,02 - 0,4
Beispiel 3, Tabelle I 0,001 - 0,02
Temp. 25 - 30 0O
Durchschnittliche Kathodenetromstärke 5 A/dm .
CuBP4 " 150 - 425
HBP4 10 - 30
H5BO3 0-30
Beispiel 12, Tabelle II 0,02 - 0,3
Beispiel 2, Tabelle I 0,001 - 0,01
Janus-Schwarz E 0,001 - 0,01
Temp. 25 - 30 0C
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5-10 A/dm
- 31 -
909833/1129
- 31 Beispiel J
Konzentration g/l .5H2O 150 - 250
H2SO4 30 - 60
Polypropylenglykol mit einem
durchschnittlichen Molgewicht von
300-750 0,01 - 0,2
Janus-Grün B 0,001 - 0,02
Beispiel 13, Tabelle I 0,001 - 0,02
Temperatur 25 - 30 0C
Durchschnittliche Kathodenstromstärke 5 A/dm ·
- 32 909833/1129
Claims (1)
- Patentansprüche x1. Wässriges saures galvanisches Kupferbad zur Abscheidung von duktilem glänzendem Kupfer, gekennzeichnet durch einen Badzusatz, bestehend auseinem organischen Sulfid, das mindestens eine SuIfonsäuregruppe enthält und, im Gemisch damit oder chemisch gebunden, einem Polyäther, der mindestens 3, vorzugsweise 6 Äther-Sauerstoffatome enthält und frei von aliphatischen Kohlenwasserstoffketten mit mehr als 6 C-Atomen ist.dadurch2. Bad nach Anspruch 1,/gekennzeichnet, daß das Sulfidim Gemisch mit dem Polyäther in einer Konzentration von 0,0005 - 0,04 g/l vorliegt.3· Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ) der Polyäther wenigstens 6 Äther-Sauerstoffatomeenthält·4. Bad nach Anspruch 2 oder 3» dadurch gekennzeichnet, daß die organische SuIfidverbindung in einer Konzentration von 0,0005 - 0,01 g/l vorliegt.- 33 -909833/1129I LWl -Ck-,5.· Bad nach Anspruch 2 - 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Polyäther ein 1,3-Dioxolanpolymerisat ist, welches ein Molekulargewicht von wenigstens 296 hat.6. Bad nach jedem der Ansprüche 2-4, dadurch gekennzeichnet, daß der Polyäther die Gruppe (-02Η,0σ2Η^0-)χ enthält, in welcher χ gleich 3 oder mehr ist, oder die Gruppe (-C^H600,HgO-) , in der y einen Wert τοη 3 bis 10 hat.7· Bad nach jedem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad 0.001 bis 0.05 g/l einer in einen Bad löslichen Phenazinfarbe enthält, vorzugsweise Oiäthyl-safranin-azo-dinethyl-anilin, Dimethylsafranin-azo-dimethy1-anilin oder Janus-Schwarz enthält.8. Zusammensetzung zum Einschluß in ein saures Kupferplattierungsbad, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung eine organische Sulfidverbindung umfaßt, die wenigstens eine Sulfonsäuregruppe in der Beimischung mit einer Polyätherverbindung enthält, welche wenigstens drei und vorzugsweise wenigstens sechs Äthersauerstoffatome enthält und frei von aliphatischen Kohlenwasserstoffketten von mehr als sechs Kohlenstoffatomen ist.909833/1129- 34 -- 54 -9· Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung eine Phenazinfarbe enthält.10. Verfahren zur Blektroauflagerung biegsamen, glänzenden Kupfers, dadurch gekennzeichnet, daß das Kupfer aus einem wässrigen, sauren Kupferplattierungsbad nach einem der Ansprache 1-7 elektrisch aufgelagert wird.11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß für die Blektroauflagerung eine phosphorieierte Kupferanode rerwendet wird.909833/1129
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