DE112004002038T5 - Akustisch gekoppelter Filmtransformator mit erhöhter Gleichtaktunterdrückung - Google Patents
Akustisch gekoppelter Filmtransformator mit erhöhter Gleichtaktunterdrückung Download PDFInfo
- Publication number
- DE112004002038T5 DE112004002038T5 DE112004002038T DE112004002038T DE112004002038T5 DE 112004002038 T5 DE112004002038 T5 DE 112004002038T5 DE 112004002038 T DE112004002038 T DE 112004002038T DE 112004002038 T DE112004002038 T DE 112004002038T DE 112004002038 T5 DE112004002038 T5 DE 112004002038T5
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- acoustic
- fact
- substrate
- fbar
- inductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 79
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 94
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 84
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 12
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 169
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 17
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 15
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 15
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 15
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 12
- 230000004044 response Effects 0.000 description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 poly (para-xylylene) Polymers 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006352 cycloaddition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical class [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 239000012858 resilient material Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezo-electric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/60—Electric coupling means therefor
- H03H9/605—Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/13—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
- H03H9/132—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials characterized by a particular shape
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezo-electric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/583—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques comprising a plurality of piezoelectric layers acoustically coupled
- H03H9/584—Coupled Resonator Filters [CFR]
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezo-electric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/586—Means for mounting to a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
- H03H9/587—Air-gaps
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezo-electric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/60—Electric coupling means therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/0023—Balance-unbalance or balance-balance networks
- H03H9/0095—Balance-unbalance or balance-balance networks using bulk acoustic wave devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
Abstract
einen ersten entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR) und einen zweiten DSBAR, wobei jeder DSBAR folgende Merkmale aufweist:
einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR) und einen oberen FBAR, wobei der obere FBAR auf den unteren FBAR gestapelt ist, wobei jeder FBAR gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden aufweist, und
einen akustischen Entkoppler zwischen den FBARs;
eine erste elektrische Schaltung, die die unteren FBARs verbindet; und
eine zweite elektrische Schaltung, die die oberen FBARs verbindet; wobei:
bei zumindest einem der DSBARs der akustische Entkoppler, eine der Elektroden des unteren FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, und eine der Elektroden des oberen FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, einen parasitären Kondensator bilden; und
der FACT außerdem einen Induktor aufweist, der elektrisch parallel zu dem parasitären Kondensator geschaltet ist.
Description
- Hintergrund
- Transformatoren bzw. Wandler werden bei vielen Typen von elektronischen Vorrichtungen verwendet, um solche Funktionen wie ein Umwandeln von Impedanzen, ein Verbinden einer Eintaktschaltungsanordnung mit einer symmetrischen Schaltungsanordnung oder umgekehrt und ein Bereitstellen einer elektrischen Isolation durchzuführen. Jedoch weisen nicht alle Transformatoren alle diese Eigenschaften auf. Zum Beispiel liefert ein Autotransformator keine elektrische Isolation.
- Transformatoren, die bei Audio- und Funkfrequenzen bis zu VHF wirksam sind, sind gewöhnlich als gekoppelte Primär- und Sekundärwicklungen um einen Hochpermeabilitätskern gebaut. Strom in den Wicklungen erzeugt einen Magnetfluss. Der Kern enthält den Magnetfluss und erhöht die Kopplung zwischen den Wicklungen. Ein Transformator, der in diesem Frequenzbereich wirksam ist, kann auch unter Verwendung eines optischen Kopplungselements realisiert sein. Ein Optokopplungselement, das in diesem Modus verwendet wird, wird in der Technik als ein Optoisolator bezeichnet.
- Bei Transformatoren, die auf gekoppelten Wicklungen oder Optokopplungselementen basieren, wird das elektrische Eingangssignal in eine andere Form (d. h. einen Magnetfluss oder Photonen) umgewandelt, die mit einer geeigneten Transformierungsstruktur (d. h. einer weiteren Wicklung oder einem Lichtdetektor) in Wechselwirkung tritt, und wird an dem Ausgang als ein elektrisches Signal wiederhergestellt. Zum Beispiel wandelt ein Optokopplungselement ein elektri sches Eingangssignal unter Verwendung einer Licht emittierenden Diode in Photonen um. Die Photonen gehen durch eine optische Faser oder freien Raum, der Isolation liefert. Eine Photodiode, die durch die Photonen beleuchtet wird, erzeugt ein elektrisches Ausgangssignal aus dem Photonenstrom. Das elektrische Ausgangssignal ist eine Nachbildung des elektrischen Eingangssignals.
- Bei UHF- und Mikrowellenfrequenzen werden spulenbasierte Transformatoren aufgrund solcher Faktoren wie Verluste im Kern, Verluste in den Wicklungen, Kapazität zwischen den Wicklungen und einer Schwierigkeit, dieselben klein genug zu machen, um wellenlängenbezügliche Probleme zu verhindern, unbrauchbar. Transformatoren für derartige Frequenzen basieren auf Viertelwellenlängenübertragungsleitungen, z. B. Marchand-Typ, verbundene Reiheneingangs-/Parallel- ausgangsleitungen usw. Es gibt auch Transformatoren, die auf mikrobearbeiteten gekoppelten Spulensätzen basieren und klein genug sind, sodass Wellenlängeneffekte unwichtig sind. Derartige Transformatoren weisen jedoch Probleme mit einem hohen Einfügungsverlust auf.
- Alle gerade beschriebenen Transformatoren zur Verwendung bei UHF- und Mikrowellenfrequenzen weisen Abmessungen auf, die dieselben zur Verwendung bei modernen Miniaturanwendungen hoher Dichte, wie z. B. Zellulartelefonen, wenig erwünscht machen. Derartige Transformatoren neigen auch dazu, teuer zu sein, da dieselben nicht durch einen Losprozess hergestellt werden können und da dieselben im Wesentlichen eine chipexterne Lösung sind. Außerdem weisen dieselben, obwohl derartige Transformatoren normalerweise eine Bandbreite aufweisen, die zur Verwendung bei Zellulartelefonen akzeptabel ist, normalerweise einen Einfügungsverlust auf, der größer als 1 dB ist, was zu hoch ist.
- Optokopplungselemente werden aufgrund der Übergangskapazität der Eingangs-LED, der Nicht-Linearitäten, die dem Photodetektor inhärent sind, der begrenzten Leistungshand habungsfähigkeit und einer nicht ausreichenden Isolation, um eine gute Gleichtaktunterdrückung zu liefern, nicht bei UHF- und Mikrowellenfrequenzen verwendet.
- Die U.S.-Patentanmeldung Serien-Nr. 10/699,481 offenbart einen akustisch gekoppelten Filmtransformator (film acoustically-coupled transformer – FACT), der auf entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonatoren (decoupled stacked bulk acoustic resonators – DSBARs) basiert. Ein DSBAR ist aus einem gestapelten Paar von akustischen Filmvolumenresonatoren (film bulk acoustic resonators – FBARs) und einem akustischen Entkoppler zwischen den FBARs gebildet.
1A veranschaulicht schematisch ein Ausführungsbeispiel100 eines derartigen FACT. Der FACT100 weist einen ersten entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR)106 und einen zweiten DSBAR108 auf, die über einem Hohlraum104 in einem Substrat102 hängen. Der DSBAR106 weist einen unteren FBAR110 , einen oberen FBAR120 , der auf den unteren FBAR110 gestapelt ist, und ein akustisches Kopplungselement130 zwischen denselben auf, und der DSBAR108 weist einen unteren FBAR150 , einen oberen FBAR160 , der auf den unteren FBAR150 gestapelt ist, und ein akustisches Kopplungselement170 zwischen denselben auf. Jeder der FBARs weist gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden auf. Zum Beispiel weist der FBAR110 gegenüberliegende planare Elektroden112 und114 mit einem piezoelektrischen Element116 zwischen denselben auf. - Der FACT
100 weist außerdem eine erste elektrische Schaltung141 , die den unteren FBAR110 des DSBAR106 und den unteren FBAR150 des DSBAR108 verbindet, und eine zweite elektrische Schaltung142 auf, die den oberen FBAR120 des DSBAR106 und den oberen FBAR160 des DSBAR108 verbindet. - Bei dem Ausführungsbeispiel des im Vorhergehenden beschriebenen FACT, das in
1A gezeigt ist, verbindet die elektrische Schaltung141 die unteren FBARs110 und150 anti-parallel und mit Anschlüssen143 und144 , und die elektrische Schaltung142 schaltet die oberen FBARs120 und160 in Reihe zwischen Anschlüsse145 und146 . Bei dem gezeigten Beispiel weist die elektrische Schaltung142 außerdem einen Mittelabgriffsanschluss147 auf, der mit Elektroden122 und162 der oberen FBARs120 bzw.160 verbunden ist. Dieses Ausführungsbeispiel weist ein 1:4-Impedanzwandlungsverhältnis zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 oder ein 4:1-Impedanzwandlungsverhältnis zwischen der elektrischen Schaltung142 und der elektrischen Schaltung141 auf. - Bei anderen Ausführungsbeispielen schaltet die elektrische Schaltung
141 die unteren FBARs110 und150 elektrisch entweder anti-parallel oder in Reihe, und die elektrische Schaltung142 schaltet die oberen FBARs elektrisch entweder anti-parallel oder in Reihe. - Alle Ausführungsbeispiele des im Vorhergehenden beschriebenen FACT weisen eine geringe Größe auf, sind in der Lage, eine Eintaktschaltungsanordnung mit einer symmetrischen Schaltungsanordnung oder umgekehrt zu verbinden, und liefern eine elektrische Isolation zwischen Primär- und Sekundärwicklung. Die speziell im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispiele sind auch nominal elektrisch symmetrisch.
- Das Ausführungsbeispiel, das in
1A gezeigt ist, ist von besonderem Interesse für eine Anzahl von Anwendungen. Obwohl dieses Ausführungsbeispiel jedoch nominal elektrisch symmetrisch ist, ist seine Gleichtaktunterdrückung geringer als es viele potentielle Anwendungen erfordern. Die Gleichtaktunterdrückung einer Differenzvorrichtung wird quantitativ durch ein Gleichtaktunterdrückungsverhältnis (CMRR) bestimmt, wobei es sich um das Verhältnis der Gegentaktspannungsverstärkung zu der Gleichtaktspannungsverstärkung der Differenzvorrichtung handelt. - Ein Lösungsansatz zum Erhöhen des Gleichtaktunterdrückungsverhältnisses besteht darin, die Dicke des akustischen Entkopplers zu erhöhen. Ein Erhöhen der Dicke des akustischen Entkopplers bewirkt jedoch, dass die Frequenzantwort des FACT störende Artefakte aufweist, die durch die Fähigkeit des dickeren akustischen Entkopplers bewirkt werden, mehr als eine einzige akustische Mode zu unterstützen. Derartige störende Antwortartefakte sind bei vielen Anwendungen unerwünscht.
- Was deshalb benötigt wird, ist ein FACT, der die Vorteile des im Vorhergehenden beschriebenen FACT aufweist, der jedoch ein erhöhtes Gleichtaktunterdrückungsverhältnis und eine glatte Frequenzantwort aufweist.
- Zusammenfassung der Erfindung
- In einem ersten Aspekt liefert die Erfindung einen akustisch gekoppelten Filmtransformator (FACT), der einen ersten entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR) und einen zweiten DSBAR aufweist. Jeder DSBAR weist einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR), einen oberen FBAR, der auf den unteren FBAR gestapelt ist, und einen akustischen Entkoppler zwischen den FBARs auf. Jeder FBAR weist gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden auf. Der FACT weist außerdem eine erste elektrische Schaltung, die den unteren FBAR des ersten DSBAR mit dem unteren FBAR des zweiten DSBAR verbindet, und eine zweite elektrische Schaltung auf, die den oberen FBAR des ersten DSBAR mit den oberen FBARs des zweiten DSBAR verbindet. Bei zumindest einem der DSBARs bilden der akustische Entkoppler, eine der Elektroden des unteren FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, und eine der Elektroden des oberen FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, einen parasitären Kondensator. Der FACT weist außerdem einen Induktor auf, der elektrisch parallel zu dem parasitären Kondensator geschaltet ist. Der Induktor erhöht das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT.
- In einem letzten Aspekt liefert die Erfindung ein DSBAR-Bauelement, das eine Bandpasscharakteristik aufweist, die durch eine Mittenfrequenz charakterisiert ist. Das DSBAR-Bauelement weist einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR), einen oberen FBAR, der auf den unteren FBAR gestapelt ist, und einen akustischen Entkoppler zwischen den FBARs auf. Jeder FBAR weist gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden auf. Der akustische Entkoppler ist strukturiert, um eine Phasenänderung, die nominal gleich π/2 ist, bei einem akustischen Signal zu bewirken, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz ist.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
-
1A ist eine schematische Zeichnung der elektrischen Schaltungen eines Ausführungsbeispiels eines akustisch gekoppelten 1:4- oder 4:1-Filmtransformators (FACT) gemäß dem Stand der Technik. -
1B ist ein schematisches Diagramm, das den parasitären Kondensator zeigt, der in dem FACT vorliegt, der in1A gezeigt ist, wenn der Mittelabgriff geerdet ist. -
1C ist ein schematisches Diagramm, das die parasitären Kondensatoren zeigt, die in dem FACT vorliegen, der in1A gezeigt ist, wenn der Mittelabgriff schwebt bzw. floatet. -
2A ist ein schematisches Diagramm eines exemplarischen Ausführungsbeispiels eines akustisch gekoppelten Filmtransformators (FACT) mit geerdetem Mittelabgriff mit einem hohen Gleichtaktunterdrückungsverhältnis (CMRR) gemäß der Erfindung. -
2B ist ein schematisches Diagramm eines exemplarischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit floatendem Mittelabgriff mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. -
3A ist ein schematisches Diagramm eines exemplarischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit geerdetem Mittelabgriff mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung, der eine Gleichstromisolation zwischen Primär- und Sekundärwicklung liefert. -
3B ist ein schematisches Diagramm eines exemplarischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit floatendem Mittelabgriff mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung, der eine Gleichstromisolation zwischen Primär- und Sekundärwicklung liefert. -
4A ,4B u.4C sind eine Grundrissansicht bzw. Querschnittsansichten entlang der Schnittlinien 4B-4B bzw. 4C-4C in4A eines FACT-Moduls mit einem hohen CMRR, das die Basis von praktischen Ausführungsbeispielen eines FACT gemäß der Erfindung bildet. -
5 ist eine Grundrissansicht eines ersten praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. -
6 ist eine Grundrissansicht eines zweiten praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. -
7 ist eine Grundrissansicht eines dritten praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung, der eine Gleich stromisolation zwischen Primär- und Sekundärwicklung liefert. -
8A ,8B u.8C sind eine Grundrissansicht, eine Seitenansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 8C-8C in8A eines vierten praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. -
8D und8E sind Grundrissansichten der Substrate, die einen Teil des FACT bilden, der in den8A –8C gezeigt ist. -
9A und9B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 9B-9B in9A eines fünften praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. -
10A und10B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 10B-10B in10A eines sechsten praktischen Ausführungsbeispiels eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung, der eine Gleichstromisolation zwischen Primär- und Sekundärwicklung liefert. -
11A bis11H sind Grundansichten und11I –11P sind Querschnittsansichten entlang der Schnittlinien 11I-11I bis 11P-11P jeweils in den11A bis11H , die einen Prozess veranschaulichen, der verwendet werden kann, um Ausführungsbeispiele des FACT herzustellen, der in den10A –10B gezeigt ist. - Detaillierte Beschreibung
- Die Erfinder haben herausgefunden, dass bei Ausführungsbeispielen des akustisch gekoppelten Filmtransformators (FACT)
100 , der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1A beschrieben ist, eine Signalfrequenz-Spannungsdifferenz zwischen den Elektroden an gegenüberliegenden Seiten zumindest eines der akustischen Entkoppler130 und170 während eines normalen Betriebs bestehen kann.1B zeigt den FACT100 , der in1A gezeigt ist, bei einer typischen Anwendung, bei der der Anschluss144 , der mit den Elektroden112 und154 verbunden ist, geerdet ist, und ein Mittelabgriffanschluss147 , der mit den Elektroden122 und162 verbunden ist, ebenfalls geerdet ist. Bei dieser Anwendung besteht eine Signalfrequenz-Spannungsdifferenz zwischen den Elektroden114 und122 auf gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 . Wenn dieselbe an den parasitären Kondensator CP angelegt wird, der aus den Elektroden114 und122 und dem akustischen Entkoppler130 gebildet ist, bewirkt diese Spannungsdifferenz, dass ein Signalfrequenzstrom zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 fließt. Dieser Stromfluss senkt die Gleichtaktunterdrückung des FACT100 . Ein Kondensatorsymbol, das mit CP etikettiert ist und mit gestrichelten Linien gezeigt ist, stellt den parasitären Kondensator CP dar, der aus den Elektroden114 und122 und dem akustischen Entkoppler130 gebildet ist. Die Kapazität des parasitären Kondensators ist bei Ausführungsbeispielen maximal, bei denen die Dicke des akustischen Entkopplers minimal ist, d. h. die Dicke des akustischen Entkopplers ist nominal gleich einem Viertel der Wellenlänge eines akustischen Signals, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT100 ist. Ein derartiger akustischer Entkoppler bewirkt eine Phasenänderung von π/2 Radian bei dem akustischen Signal. - Bei dieser Offenbarung wird ein Element, das mit einer niedrigen Impedanz bei der Signalfrequenz anstelle von Masse verbunden ist, als geerdet betrachtet.
-
1C zeigt den FACT100 bei einer weiteren exemplarischen Anwendung, bei der die Elektroden112 und154 geerdet sind und die elektrische Schaltung142 floatet. Bei dieser Anwendung besteht eine Signalfrequenz-Spannungsdifferenz zwischen den Elektroden114 und122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 , und eine Signalfrequenz-Spannungsdifferenz besteht außerdem zwischen den Elektroden154 und162 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers170 . Wenn dieselbe an den parasitären Kondensator CP' angelegt wird, der aus der Elektrode154 , der Elektrode162 und dem akustischen Entkoppler170 gebildet ist, bewirkt diese Spannungsdifferenz, dass ein zusätzlicher Strom zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 fließt. Dieser Stromfluss beeinträchtigt weiter das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT100 . Ein Kondensatorsymbol, das mit CP' etikettiert ist und mit gestrichelten Linien gezeigt ist, stellt den parasitären Kondensator CP' dar, der durch die Elektroden154 und162 und den akustischen Entkoppler170 bereitgestellt ist. -
2A ist eine schematische Zeichnung, die ein Ausführungsbeispiel200 eines akustisch gekoppelten Filmtransformators (FACT) gemäß der Erfindung zeigt. Der FACT200 dient zur Verwendung bei einer Anwendung, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1B beschrieben ist, wobei die Elektroden112 und154 , die mit dem Anschluss144 verbunden sind, geerdet sind, und die Elektroden122 und162 , die mit dem Mittelabgriffanschluss147 verbunden sind, ebenfalls geerdet sind. Elemente des FACT200 , die Elementen des FACT100 entsprechen, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1B beschrieben ist, sind durch die gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. Bei dem FACT200 ist ein Induktor180 zwischen die Elektrode114 und die Elektrode122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 geschaltet. Dies schaltet den Induktor180 parallel zu dem parasitären Kondensator CP. Der Induktor180 erhöht erheblich das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT200 relativ zu demjenigen des FACT100 durch ein Verringern des Stromflusses zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 . Der Induktor180 verbessert außerdem die Eingangsanpassung. - Der FACT
200 weist ein Durchlassband auf. Der Induktor180 und die Parallelkombination des parasitären Kondensators CP und der Kapazität C0 zwischen den Anschlüssen143 und144 bilden eine Parallelresonanzschaltung182 , die eine Resonanzfrequenz in dem Durchlassband aufweist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Resonanzfrequenz gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT200 . Die Impedanz der Parallelresonanzschaltung182 hängt von einer Beziehung zwischen der Signalfrequenz und der Resonanzfrequenz der Resonanzschaltung ab und ist bei der Resonanzfrequenz maximal. Bei Signalfrequenzen über und unter der Resonanzfrequenz ist die Impedanz der Parallelresonanzschaltung182 geringer als bei der Resonanzfrequenz, ist jedoch bei allen Signalfrequenzen in dem Durchlassband des FACT200 wesentlich größer als diejenige des parasitären Kondensators CP allein. Dementsprechend ist der Strom, der zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 durch die Parallelresonanzschaltung182 fließt, wesentlich geringer als derjenige, der durch den parasitären Kondensator CP alleine fließen würde. Folglich ist das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT200 größer als dasjenige des FACT100 , der in1B gezeigt ist. -
2B ist eine schematische Zeichnung, die ein Ausführungsbeispiel202 eines FACT gemäß der Erfindung zeigt. Der FACT202 dient zur Verwendung bei einer Anwendung, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezug nahme auf1C beschrieben ist, wobei die Elektroden112 und124 geerdet sind und die elektrische Schaltung142 floatet. Elemente des FACT202 , die Elementen des FACT100 , der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1B beschrieben ist, und des FACT200 entsprechen, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf2A beschrieben ist, sind durch die gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. Der FACT202 weist einen Induktor180 , der zwischen die Elektrode114 und die Elektrode122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 geschaltet ist, und einen Induktor181 auf, der zwischen die Elektrode154 und die Elektrode162 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers170 geschaltet ist. Die Induktoren180 und181 erhöhen erheblich das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT202 relativ zu demjenigen des FACT100 durch ein Verringern des Stromflusses zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 . Der Induktor180 verbessert außerdem die Eingangsanpassung. - Der Induktor
180 und die Parallelkombination des parasitären Kondensators CP und der Zwischenanschlusskapazität C0 bilden eine Parallelresonanzschaltung182 , die eine Resonanzfrequenz in dem Durchlassband des FACT202 aufweist. Der Induktor181 und der parasitäre Kondensator CP' bilden eine Parallelresonanzschaltung183 , die eine Resonanzfrequenz in dem Durchlassband des FACT202 aufweist. Bei einem Ausführungsbeispiel weisen die Parallelresonanzschaltungen182 und183 jeweilige Resonanzfrequenzen auf, die gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT202 sind. Die Impedanz der Parallelresonanzschaltungen182 und183 hängt von einer Beziehung zwischen der Signalfrequenz und der Resonanzfrequenz der jeweiligen Resonanzschaltung ab und ist bei der Resonanzfrequenz maximal. Bei Signalfrequenzen über und unter der Resonanzfrequenz ist die Impedanz der Parallelresonanzschaltungen182 und183 geringer als bei der Resonanzfrequenz, ist jedoch bei allen Signalfrequenzen in dem Durchlassband des FACT202 wesentlich größer als diejenige der parasitären Kondensatoren CP und CP' allein. Dementsprechend ist der Strom, der zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 durch die Parallelresonanzschaltungen182 und183 fließt, wesentlich geringer als derjenige, der durch die parasitären Kondensatoren CP und CP' allein fließen würde. Folglich ist das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT202 größer als dasjenige des FACT100 bei der Anwendung, die in1C gezeigt ist. - Bei dem FACT
200 , der in2A gezeigt ist, verbindet der Induktor180 die elektrische Schaltung141 und die elektrische Schaltung142 bei Gleichstrom. Folglich liefert der FACT200 keine elektrische Isolation zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 bei Gleichstrom.3A ist eine schematische Zeichnung, die ein Ausführungsbeispiel300 eines FACT gemäß der Erfindung zeigt, der außerdem eine elektrische Isolation zwischen den elektrischen Schaltungen141 und142 bei Gleichspannungen bis zur Durchbruchsspannung eines Isolationskondensators184 , der in Reihe mit dem Induktor180 geschaltet ist, liefert. Der FACT300 dient zur Verwendung bei einer Anwendung, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1B beschrieben ist, wobei die Elektroden112 und154 , die mit dem Anschluss144 verbunden sind, geerdet sind, und die Elektroden122 und162 , die mit dem Mittelabgriffanschluss147 verbunden sind, ebenfalls geerdet sind. Elemente des FACT300 , der in3A gezeigt ist, die Elementen des FACT200 entsprechen, der in2A gezeigt ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Bei dem FACT
300 sind der Isolationskondensator184 und der Induktor180 in Reihe zwischen die Elektrode114 und die Elektrode122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 geschaltet. Wie es im Vorhergehenden beschrieben ist, bilden der Induktor180 und die Parallelkom bination des parasitären Kondensators CP und der Zwischenelektrodenkapazität C0 eine Parallelresonanzschaltung182 , die den Stromfluss zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 verringert. Der Induktor180 bildet außerdem eine Reihenresonanzschaltung mit dem Isolationskondensator184 . Normalerweise ist die Kapazität des Isolationskondensators184 zumindest das Vierfache derjenigen der Parallelkombination des parasitären Kondensators CP und der Zwischenelektrodenkapazität C0, so dass die Reihenresonanzfrequenz des Induktors180 und des Isolationskondensators184 zumindest eine Oktave niedriger als die Parallelresonanzfrequenz des Induktors180 und der Parallelkombination der parasitären Kapazität CP und der Zwischenelektrodenkapazität C0 ist. Dies setzt die Reihenresonanzfrequenz außerhalb des Durchlassbandes des FACT300 . Folglich weist der Isolationskondensator184 eine vernachlässigbare Wirkung auf die Frequenzantwort der Parallelresonanz in dem Durchlassband des FACT300 auf. Die Kapazität des Isolationskondensators184 kann alternativ geringer sein als diejenige, die eben beschrieben wurde, in diesem Fall kann die Wirkung des Isolationskondensators184 auf die Frequenzantwort der Parallelresonanz in dem Durchlassband des FACT300 jedoch geringer als vernachlässigbar sein. -
3B ist eine schematische Zeichnung, die ein Ausführungsbeispiel302 eines FACT gemäß der Erfindung zeigt. Der FACT302 dient zur Verwendung bei einer Anwendung, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf1C beschrieben ist, wobei die Elektroden112 und154 geerdet sind und die elektrische Schaltung142 floatet. Elemente des FACT302 , der in3B gezeigt ist, die Elementen des FACT202 entsprechen, der in2B gezeigt ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. Der FACT302 weist den Induktor180 und den Isolationskondensator184 , die in Reihe zwischen die Elektrode114 und die Elektrode122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 geschaltet sind, und den Induktor181 und einen Isolationskondensator185 auf, die in Reihe zwischen die Elektrode154 und die Elektrode162 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers170 geschaltet sind. - Der Induktor
180 und der Isolationskondensator184 , die in Reihe geschaltet sind, verringern einen Stromfluss zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 und isolieren die elektrische Schaltung141 auf die im Vorhergehenden beschriebene Weise von der elektrischen Schaltung142 bei Gleichstrom. Der Induktor181 und der Isolationskondensator185 , die in Reihe geschaltet sind, verringern einen Stromfluss zwischen der elektrischen Schaltung141 und der elektrischen Schaltung142 und isolieren die elektrische Schaltung141 auf eine Weise, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden beschrieben ist, von der elektrischen Schaltung142 bei Gleichstrom. - Die
4A bis4C sind eine Grundrissansicht bzw. zwei Querschnittsansichten eines Ausführungsbeispiels400 eines Akustisch-gekoppelter-Filmtransformator-(FACT) Moduls, das einen Teil von praktischen Ausführungsbeispielen eines FACT mit einem hohen Gleichtaktunterdrückungsverhältnis bildet, der im Folgenden beschrieben wird. Elemente des FACT-Moduls400 , die Elementen des FACT100 entsprechen, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die1A und1B beschrieben ist, sind durch die gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Das FACT-Modul
400 ist aus einem Substrat102 und entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonatoren (DSBARs)106 und108 gebildet. Jeder DSBAR ist aus einem unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR), einem oberen FBAR und einem akustischen Entkoppler zwischen den FBARs gebildet. Das FACT-Modul400 ist außerdem aus einer elektrischen Schaltung, die den unteren FBAR110 des DSBAR106 mit dem unteren FBAR150 des DSBAR108 verbindet, und einer elekt rischen Schaltung, die den oberen FBAR120 des DSBAR106 mit dem oberen FBAR160 des DSBAR108 verbindet, gebildet. - Bei dem DSBAR
106 ist der untere FBAR110 aus gegenüberliegenden planaren Elektroden112 und114 und einem piezoelektrischen Element116 zwischen den Elektroden gebildet, und der obere FBAR120 ist aus gegenüberliegenden planaren Elektroden122 und124 und einem piezoelektrischen Element126 zwischen den Elektroden gebildet. Bei dem DSBAR108 ist der untere FBAR150 aus gegenüberliegenden planaren Elektroden152 und154 und einem piezoelektrischen Element156 zwischen den Elektroden gebildet, und der obere FBAR160 ist aus gegenüberliegenden planaren Elektroden162 und164 und einem piezoelektrischen Element166 zwischen den Elektroden gebildet. - Bei dem FACT-Modul
400 ist bei dem DSBAR106 der akustische Entkoppler130 zwischen dem unteren FBAR110 und dem oberen FBAR120 angeordnet; insbesondere zwischen der Elektrode114 des unteren FBAR110 und der Elektrode122 des oberen FBAR120 . Der akustische Entkoppler130 steuert die Kopplung akustischer Energie zwischen den FBARs110 und120 . Der akustische Entkoppler130 koppelt weniger akustische Energie zwischen den FBARs110 und120 als gekoppelt würde, wenn sich die FBARs in direktem Kontakt miteinander befinden würden. Außerdem ist der akustische Entkoppler170 bei dem DSBAR108 zwischen den FBARs150 und160 angeordnet; insbesondere zwischen der Elektrode154 des unteren FBAR150 und der Elektrode162 des oberen FBAR160 . Der akustische Entkoppler170 steuert die Kopplung akustischer Energie zwischen den FBARs150 und160 . Der akustische Entkoppler170 koppelt weniger akustische Energie zwischen den FBARs150 und160 als gekoppelt würde, wenn sich die FBARs in direktem Kontakt miteinander befinden würden. Das Koppeln akustischer Energie, das durch die akustischen Entkoppler130 und170 definiert ist, bestimmt die Bandbreite des Durchlassbandes des FACT-Moduls400 . - Bei dem Beispiel, das in den
4A bis4C gezeigt ist, sind die akustischen Entkoppler130 und170 jeweilige Teile einer akustischen Entkopplungsschicht131 . Die akustische Entkopplungsschicht131 ist eine Schicht aus akustischem Entkopplungsmaterial. Eine wichtige Eigenschaft des akustischen Entkopplungsmaterials der akustischen Entkopplungsschicht131 ist eine akustische Impedanz, die sich wesentlich von derjenigen der FBARs110 ,120 ,150 und160 unterscheidet. Andere wichtige Eigenschaften des akustischen Entkopplungsmaterials sind ein hoher elektrischer spezifischer Widerstand und eine niedrige dielektrische Permittivität, um eine elektrische Isolation zwischen der Primärwicklung und der Sekundärwicklung des FACT zu liefern. - Die akustische Entkopplungsschicht
131 weist eine nominale Dicke t zwischen den Elektroden114 und122 und zwischen den Elektroden154 und162 auf, die gleich einem ungeraden ganzzahligen Vielfachen eines Viertels der Wellenlänge λn in dem akustischen Entkopplungsmaterial eines akustischen Signals ist, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT-Moduls400 ist, d. h. t = (2m + 1)λn/4, wobei m eine Ganzzahl ist, die größer oder gleich Null ist. Eine derartige akustische Entkopplungsschicht bewirkt eine Phasenänderung eines ungeraden ganzzahligen Vielfachen von π/2 Radian bei einem akustischen Signal, das eine Frequenz aufweist, die nominal gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT-Moduls400 ist. Eine akustische Entkopplungsschicht, die sich von der nominalen Dicke um etwa ± 10 % von λn/4 unterscheidet, kann alternativ dazu verwendet werden. Eine Dicke-Toleranz außerhalb dieses Bereichs kann mit einer gewissen Leistungsverschlechterung verwendet werden, aber die Dicke der akustischen Entkopplungsschicht131 sollte sich erheblich von einem ganzzahligen Vielfachen von λn/2 unterscheiden. - Ausführungsbeispiele des FACT-Moduls
400 , die ein Ausführungsbeispiel der akustischen Entkopplungsschicht131 umfassen, bei dem der Wert der Ganzzahl m Null ist (t = λn/4), weisen eine Frequenzantwort auf, die sich wesentlich näher an einer idealen Frequenzantwort befindet als Ausführungsbeispiele, bei denen die akustische Entkopplungsschicht eine nominale Dicke aufweist, die größer als λn/4 (m > 0) ist. Ein derartiges Ausführungsbeispiel der akustischen Entkopplungsschicht wird als eine akustische Entkopplungsschicht minimaler Dicke bezeichnet. Eine akustische Entkopplungsschicht minimaler Dicke bewirkt eine Phasenänderung von π/2 Radian bei einem akustischen Signal, das eine Frequenz aufweist, die nominal gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT-Moduls400 ist. Die Frequenzantwort von Ausführungsbeispielen des FACT-Moduls, die eine akustische Entkopplungsschicht minimaler Dicke aufweisen, weist nicht die im Vorhergehenden erwähnten störenden Antwortartefakte auf, die von Ausführungsbeispielen gezeigt werden, bei denen die nominale Dicke der akustischen Entkopplungsschicht größer als das Minimum ist. Wie es im Vorhergehenden erwähnt ist, wurde eine glatte Frequenzantwort bislang auf Kosten dessen erhalten, das der parasitäre Kondensator CP eine wesentlich größere Kapazität aufweist, und Ausführungsbeispiele, die eine glatte Frequenzantwort aufweisen, hatten deshalb normalerweise ein geringes Gleichtaktunterdrückungsverhältnis. Ausführungsbeispiele des FACT gemäß der Erfindung verwenden einen Induktor, um die Wirkung der hohen parasitären Kapazität zu verringern, die sich aus einer akustischen Entkopplungsschicht minimaler Dicke ergibt. Somit weisen Ausführungsbeispiele des FACT gemäß der Erfindung sowohl ein hohes CMRR als auch die glatte Frequenzantwort auf, die durch die akustische Entkopplungsschicht minimaler Dicke geliefert wird. - Ein Induktor, oder ein Induktor und ein Sperrkondensator in Reihe, können bei einem beliebigen Bauelement, wie z. B. einem akustisch gekoppelten Transformator oder einem Bandpassfilter, das ein oder mehr DSBARs umfasst, zwischen die Elektroden, die an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers angeordnet sind, geschaltet sein, um die Wirkung der parasitären Kapazität zwischen den Bestandteil-FBARs auf die Eigenschaften des Bauelements zu verringern. Derartige Bauelemente werden allgemein als DSBAR-Bauelemente bezeichnet. Ein Verringern der Wirkung der parasitären Kapazität ermöglicht, dass die Vorteile des Verwendens eines akustischen Entkopplers minimaler Dicke bei jedem beliebigen DSBAR-Bauelement erhalten werden können.
- Viele Kunststoffmaterialien weisen akustische Impedanzen in dem im Vorhergehenden angegebenen Bereich auf und können in Schichten gleichmäßiger Dicke in den im Vorhergehenden angegebenen Dickebereichen angewendet werden. Derartige Kunststoffmaterialien sind deshalb potentiell zur Verwendung als das akustische Entkopplungsmaterial der akustischen Entkopplungsschicht
131 geeignet, die die akustischen Entkoppler130 und170 liefert. Das akustische Entkopplungsmaterial muss jedoch auch in der Lage sein, den Temperaturen der Herstellungsoperationen zu widerstehen, die durchgeführt werden, nachdem die akustische Entkopplungsschicht131 auf die Elektroden114 und154 aufgebracht worden ist, um die akustischen Entkoppler130 und170 zu bilden. Die Elektroden122 ,124 ,162 und164 und die piezoelektrischen Elemente126 und166 werden durch Sputtern aufgebracht, nachdem die akustische Entkopplungsschicht131 aufgebracht worden ist. Temperaturen von bis zu 300°C werden während dieser Aufbringungsprozesse erreicht. Somit wird ein Kunststoff, der bei derartigen Temperaturen stabil bleibt, als das akustische Entkopplungsmaterial verwendet. - Bei einem Ausführungsbeispiel wird ein Polyimid als das akustische Entkopplungsmaterial der Schicht
131 verwendet. Polyimid wird unter dem Warenzeichen Kapton® von E.I. du Pont de Nemours and Company vertrieben. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel sind die akustischen Entkoppler130 und170 aus einer Schicht131 aus Polyimid gebildet, die auf die Elektroden114 und154 durch Schleuderbeschichtung aufgebracht wird. Polyimid weist eine akustische Impedanz von etwa 4 Megarayleigh (Mrayl) auf. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird ein Poly-(Para-Xylylen) als das akustische Entkopplungsmaterial der Schicht
131 verwendet. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel sind die akustischen Entkoppler130 und170 aus einer Schicht131 aus Poly-(Para-Xylylen) gebildet, die durch Vakuumaufbringung auf die Elektroden114 und154 aufgebracht wird. Poly-(Para-Xylylen) ist in der Technik auch als Parylen bekannt. Der Dimer-Vorläufer Di-Para-Xylylen, aus dem Parylen hergestellt wird, und eine Ausrüstung zum Durchführen einer Vakuumaufbringung von Schichten von Parylen sind von vielen Lieferanten erhältlich. Parylen weist eine akustische Impedanz von etwa 2,8 Mrayl auf. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist das akustische Entkopplungsmaterial der akustischen Entkopplungsschicht
131 ein vernetztes Polyphenylenpolymer. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel ist die akustische Entkopplungsschicht131 eine Schicht aus einem vernetzten Polyphenylenpolymer. Vernetzte Polyphenylenpolymere wurden als dielektrische Materialien mit einer niedrigen dielektrischen Konstante zur Verwendung bei integrierten Schaltungen entwickelt und bleiben folglich bei den hohen Temperaturen stabil, denen die akustische Entkopplungsschicht131 während der nachfolgenden Herstellung der FBARs120 und160 ausgesetzt wird. Die Erfinder haben herausgefunden, dass vernetzte Polyphenylenpolymere außerdem eine berechnete akustische Impedanz von etwa 2 Mrayl aufweisen. Diese akustische Impedanz befindet sich in dem Bereich von akustischen Impedanzen, der dem FACT-Modul400 eine nützliche Durchlassbandbreite liefert. - Vorläuferlösungen, die verschiedene Oligomere enthalten, die sich polymerisieren, um jeweilige vernetzte Polyphenylenpolymere zu bilden, werden unter dem Warenzeichen SiLK von The Dow Chemical Company, Midland, MI, vertrieben. Die Vorläuferlösungen werden durch Schleuderbeschichtung aufgebracht. Das vernetzte Polyphenylenpolymer, das von einer dieser Vorläuferlösungen erhalten wird, die als SiLKTM J bezeichnet wird, die außerdem einen Haftungspromotor enthält, weist eine berechnete akustische Impedanz von 2,1 Mrayl, d. h. etwa 2 Mrayl auf.
- Die Oligomere, die sich polymerisieren, um vernetzte Polyphenylenpolymere zu bilden, werden aus Biscyclopentadienon und aromatisches Acetylen enthaltenden Monomeren hergestellt. Ein Verwenden derartiger Monomere bildet lösliche Oligomere ohne die Notwendigkeit einer unangemessenen Substitution. Die Vorläuferlösung enthält ein spezifisches Oligomer, das in Gammabutyrolacton- und Cyclohexanon-Lösungsmitteln aufgelöst ist. Der Anteil des Oligomers in der Vorläuferlösung bestimmt die Schichtdicke, wenn die Vorläuferlösung aufgeschleudert wird. Nach der Aufbringung verdampft ein Anwenden von Hitze die Lösungsmittel, härtet dann das Oligomer, um ein vernetztes Polymer zu bilden. Die Biscyclopentadienone reagieren mit den Acetylenen in einer 4+2-Cycloadditionsreaktion, die einen neuen aromatischen Ring bildet. Ein weiteres Härten führt zu dem vernetzten Polyphenylenpolymer. Die im Vorhergehenden beschriebenen vernetzten Polyphenylenpolymere sind von Godschalx u. a. in dem U.S.-Patent Nr. 5,965,679 offenbart. Zusätzliche praktische Details sind von Martin u. a., Development of Low-Dielectric Constant Polymer for the Fabrication of Integrated Circuit Interconnect, 12 ADVANCED MATERIALS, 1769 (2000), beschrieben. Verglichen mit Polyimid weisen vernetzte Polyphenylenpolymere eine niedrigere akustische Impedanz, eine niedrigere akustische Dämpfung und eine niedrigere dielektrische Konstante auf. Außerdem ist eine aufgeschleuderte Schicht der Vorläuferlösung in der Lage, einen qualitativ hochwertigen Film des vernetzten Polyphenylenpolymers mit einer Dicke der Größenordnung von 200 nm zu erzeugen, wobei es sich um eine typische Dicke der akustischen Entkopplungsschicht
131 handelt. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel sind die akustischen Entkoppler
130 und170 aus akustischen Entkopplungsschichten (nicht gezeigt) aus akustischen Entkopplungsmaterialien gebildet, die unterschiedliche akustische Impedanzen aufweisen, wie es in der U.S.-Patentanmeldung Serien-Nr. XX/XXX,XXX von John D. Larson III und Stephen Ellis mit dem Titel Pass Bandwidth Control in Decoupled Stacked Bulk Acoustic Resonator Devices beschrieben ist. Die akustischen Impedanzen und Dicken der akustischen Entkopplungsschichten definieren zusammen die akustische Impedanz der akustischen Entkoppler130 und170 und die Phasenänderung, die durch dieselben bewirkt wird. Die akustische Impedanz der akustischen Entkoppler definiert wiederum die Durchlassbandbreite des FACT-Moduls400 . - Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel waren die akustischen Entkoppler aus einer akustischen Entkopplungsschicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer auf einer akustischen Entkopplungsschicht aus Polyimid gebildet. Derartige akustische Entkoppler liefern ein Ausführungsbeispiel des FACT-Moduls
400 mit einer Durchlassbandbreite, die zwischen den Durchlassbandbreiten von Ausführungsbeispielen liegt, bei denen die akustischen Entkoppler aus einer einzigen akustischen Entkopplungsschicht131 aus Polyimid gebildet sind oder aus einer einzigen akustischen Entkopplungsschicht131 aus dem vernetzten Polyphenylenpolymer gebildet sind. - Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel weist das akustische Entkopplungsmaterial der akustischen Entkopplungsschicht
131 eine akustische Impedanz auf, die wesentlich größer als bei den Materialien der FBARs110 und120 ist. Keine Materialien, die diese Eigenschaft aufweisen, sind derzeit bekannt, es kann jedoch sein, dass derartige Materialien in Zukunft verfügbar werden, oder dass FBAR-Materialien geringerer akustischer Impedanz in Zukunft verfügbar werden. Die Dicke der akustischen Entkopplungsschicht131 aus einem derartigen akustischen Entkopplungs material hoher akustischer Impedanz ist wie im Vorhergehenden beschrieben. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel (nicht gezeigt) umfassen die akustischen Entkoppler
130 und170 jeder eine Bragg-Struktur, die aus einem Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz gebildet ist, das sandwichartig zwischen Bragg-Elementen hoher akustischer Impedanz angeordnet ist. Das Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz ist eine Schicht aus einem Material niedriger akustischer Impedanz, wohingegen die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz jedes eine Schicht aus Material hoher akustischer Impedanz sind. Die akustischen Impedanzen der Bragg-Elemente sind als „niedrig" und „hoch" bezüglich einander und außerdem bezüglich der akustischen Impedanz des piezoelektrischen Materials der Schichten116 ,126 ,156 und166 charakterisiert. Zumindest eines der Bragg-Elemente weist außerdem einen hohen elektrischen spezifischen Widerstand und eine niedrige dielektrische Permittivität auf, um eine elektrische Isolation zwischen Eingang und Ausgang des FACT-Moduls400 zu liefern. - Jede der Schichten, die die Bragg-Elemente bilden, weist eine nominale Dicke auf, die gleich einem ungeraden ganzzahligen Vielfachen eines Viertels der Wellenlänge in dem Material der Schicht eines akustischen Signals ist, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz des FACT-Moduls
400 ist. Schichten, die sich von der nominalen Dicke um etwa ± 10 % eines Viertels der Wellenlänge unterscheiden, können alternativ dazu verwendet werden. Eine Dicken-Toleranz außerhalb dieses Bereichs kann bei gewisser Leistungsverschlechterung verwendet werden, aber die Dicke der Schichten sollte sich wesentlich von einem ganzzahligen Vielfachen der Hälfte der Wellenlänge unterscheiden. - Bei einem Ausführungsbeispiel ist das Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz eine Schicht aus Siliziumdioxid (SiO2), das eine akustische Impedanz von etwa 13 Mrayl aufweist, und jedes der Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz ist eine Schicht aus dem gleichen Material wie die Elektroden
114 ,122 ,154 und162 , z. B. Molybdän, das eine akustische Impedanz von etwa 63 Mrayl aufweist. Ein Verwenden des gleichen Materials für die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz und die Elektroden der FBARs110 ,120 ,150 und160 ermöglicht, dass die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz zusätzlich als die Elektroden der FBARs dienen, die benachbart zu den akustischen Kopplungselementen sind. - Der DSBAR
106 und der DSBAR108 sind benachbart zueinander über einem Hohlraum104 hängend angeordnet, der in einem Substrat102 definiert ist. Das Hängen der DSBARs über einem Hohlraum ermöglicht, dass die gestapelten FBARs bei jedem DSBAR mechanisch in Resonanz sind. Andere Aufhängungsschemata, die ermöglichen, dass die gestapelten FBARs mechanisch in Resonanz sind, sind möglich. Zum Beispiel können die DSBARs über einem fehlangepassten akustischen Bragg-Reflektor (nicht gezeigt) angeordnet sein, der in oder auf dem Substrat102 gebildet ist, wie es durch Lakin in dem U.S.-Patent Nr. 6,107,721 offenbart ist. - Unter zusätzlicher Bezugnahme auf
2A liefert eine Bondanschlussfläche138 , die auf der Hauptoberfläche des Substrats102 angeordnet ist, den Signalanschluss143 der elektrischen Schaltung141 des FACT-Moduls400 . Eine Bondanschlussfläche132 , die auf der Hauptoberfläche des Substrats102 angeordnet ist, und eine Bondanschlussfläche172 , die auf der Hauptoberfläche einer piezoelektrischen Schicht117 angeordnet ist, die die piezoelektrischen Elemente116 und156 liefert, bilden zusammen den Masseanschluss144 der elektrischen Schaltung141 . Eine Zwischenverbindungsanschlussfläche176 , die auf der Hauptoberfläche des Substrats angeordnet ist, eine elektrische Bahn177 , die sich von der Elektrode152 zu der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 erstreckt, eine Zwischenverbindungsanschlussfläche136 in elektrischem Kontakt mit der Zwischen verbindungsanschlussfläche176 , eine elektrische Bahn137 , die sich von der Elektrode114 zu der Zwischenverbindungsanschlussfläche136 erstreckt, und eine elektrische Bahn139 , die sich von der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 zu der Bondanschlussfläche138 erstreckt, bilden den Teil der elektrischen Schaltung141 , der die Elektrode114 des FBAR110 mit der Elektrode152 des FBAR150 und mit dem Signalanschluss143 elektrisch verbindet. Eine elektrische Bahn133 , die sich von der Elektrode112 zu der Bondanschlussfläche132 erstreckt, eine elektrische Bahn167 , die sich von der Bondanschlussfläche132 zu der Bondanschlussfläche172 erstreckt, und eine elektrische Bahn173 , die sich von der Elektrode154 zu der Bondanschlussfläche172 erstreckt, bilden den Teil der elektrischen Schaltung141 , der die Elektrode112 des FBAR110 elektrisch mit der Elektrode154 des FBAR150 verbindet. - Eine Bondanschlussfläche
134 und eine Bondanschlussfläche174 , die auf der Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht127 angeordnet sind, die die piezoelektrischen Elemente126 und166 liefert, bilden Signalanschlüsse145 und146 der elektrischen Schaltung142 . Eine Bondanschlussfläche178 , die auf der Hauptoberfläche der akustischen Entkopplungsschicht131 angeordnet ist, bildet den Mittelabgriffanschluss147 der elektrischen Schaltung142 . Bondanschlussflächen163 und168 , die auf der Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht127 angeordnet sind, liefern zusätzliche Masseverbindungen. - Eine elektrische Bahn
171 , die sich zwischen der Elektrode122 und der Elektrode162 über die Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht131 erstreckt, und eine elektrische Bahn179 , die sich zwischen der elektrischen Bahn171 und der Bondanschlussfläche178 erstreckt, bilden den Teil der elektrischen Schaltung142 , der den FBAR120 und den FBAR160 in Reihe und mit dem Mittelabgriffanschluss147 verbindet. Eine elektrische Bahn135 , die sich zwischen der Elektrode124 und der Bondanschlussfläche134 erstreckt, und eine elektrische Bahn175 , die sich zwischen der Elektrode154 und der Bondanschlussfläche174 erstreckt, bilden den Teil der elektrischen Schaltung142 , der den FBAR120 und den FBAR160 mit den Signalanschlüssen145 und146 verbindet. Eine elektrische Bahn169 erstreckt sich zwischen der Bondanschlussfläche163 und der Bondanschlussfläche168 , die die Masseanschlüsse der elektrischen Schaltung142 liefern. Bei diesem Ausführungsbeispiel erstreckt sich die elektrische Bahn169 außerdem zu der Bondanschlussfläche178 , um den Mittelabgriffanschluss147 (2A ) mit der Masse der elektrischen Schaltung142 zu verbinden. - Tausende von FACT-Modulen, die dem FACT-Modul
400 ähnlich sind, werden gleichzeitig durch eine Herstellung im Wafermaßstab hergestellt. Eine derartige Herstellung im Wafermaßstab macht die FACT-Module kostengünstig in der Herstellung. Ein exemplarischer Herstellungsprozess, der mit unterschiedlichen Masken verwendet werden kann, um Ausführungsbeispiele des FACT-Moduls400 herzustellen, ist im Folgenden beschrieben. -
5 ist eine Grundrissansicht eines ersten praktischen Ausführungsbeispiels500 eines FACT mit erhöhtem CMRR gemäß der Erfindung. Elemente des FACT500 , die dem FACT-Modul400 entsprechen, das in den4A bis4C gezeigt ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Der FACT
500 ist aus dem FACT-Modul400 , einer Tochterplatine511 und dem Induktor180 (2A ) gebildet, der bei dem gezeigten Beispiel als ein Oberflächenbefestigungsinduktor513 ausgeführt ist. In einer leitfähigen Schicht auf der Hauptoberfläche515 der Tochterplatine511 definiert sind Bondanschlussflächen521 ,522 ,523 ,524 ,525 ,526 ,527 und528 , Anschluss-Anschlussflächen531 ,532 ,533 ,534 ,535 ,536 ,537 und538 und Anbringungsanschlussflächen541 und543 . Ebenfalls in der leitfähigen Schicht der Tochterplatine511 definiert sind eine Bahn551 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche521 und der Anschluss-Anschlussfläche531 erstreckt; eine Bahn552 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche522 und der Anschluss-Anschlussfläche532 erstreckt; eine Bahn553 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche523 und der Anschluss-Anschlussfläche533 erstreckt; eine Bahn554 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche524 und der Anschluss-Anschlussfläche534 erstreckt; eine Bahn555 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche525 und der Anschluss-Anschlussfläche535 erstreckt; eine Bahn556 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche526 und der Anschluss-Anschlussfläche536 erstreckt; eine Bahn557 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche527 und der Anschluss-Anschlussfläche537 erstreckt; und eine Bahn558 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche528 und der Anschluss-Anschlussfläche538 erstreckt. - Ebenfalls in der leitfähigen Schicht der Tochterplatine
511 definiert sind eine Bahn561 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche526 und der Anbringungsanschlussfläche541 erstreckt, und eine Bahn563 , die sich zwischen der Bondanschlussfläche522 und der Anbringungsanschlussfläche543 erstreckt. - Das FACT-Modul
400 ist auf der Hauptoberfläche515 der Tochterplatine511 mit Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 gegenüber Bondanschlussflächen521 ,522 ,523 ,524 ,525 ,526 ,527 bzw.528 befestigt. Bonddrähte571 ,572 ,573 ,574 ,575 ,576 ,577 und578 erstrecken sich zwischen den Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 bzw.168 des FACT-Moduls400 und den Bondanschlussflächen521 ,522 ,523 ,524 ,525 ,526 ,527 bzw.528 der Tochterplatine511 und verbinden dieselben elektrisch. - Alternativ dazu ist das FACT-Modul
400 mit Anschluss-Anschlussflächen (nicht gezeigt) konfiguriert, die auf der Hauptoberfläche (nicht gezeigt) des Substrats102 gegenüber einer Hauptoberfläche103 auf eine Weise angeordnet sind, die derjenigen ähnlich ist, die im Folgenden unter Bezugnahme auf die8A bis8C beschrieben ist. Die Anschluss-Anschlussflächen sind elektrisch durch Durchgangslöcher (nicht gezeigt), die sich durch das Substrat zu den Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 erstrecken, verbunden. Die Bondanschlussflächen521 ,522 ,523 ,524 ,525 ,526 ,527 bzw.529 sind auf der Hauptoberfläche515 der Tochterplatine511 in Positionen angeordnet, die den Positionen der Anschluss-Anschlussflächen an dem FACT-Modul400 entsprechen. Das FACT-Modul400 wird dann an der Tochterplatine511 befestigt, wobei die Anschluss-Anschlussflächen an dem FACT-Modul mit den Bondanschlussflächen an der Tochterplatine unter Verwendung von Lötmittelhöckern oder einer anderen geeigneten Verbindungstechnik verbunden sind. - Der Oberflächenbefestigungsinduktor
513 ist an den Anbringungsanschlussflächen541 und543 befestigt. Alternativ dazu kann ein Nicht-Oberflächenbefestigungsinduktor elektrisch mit den Anbringungsanschlussflächen541 und543 verbunden sein. - Bei dem FACT
500 ist ein Ende des Induktors513 mit der Elektrode122 des FBAR120 (4B ) elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche541 , die Bahn561 , die Bondanschlussfläche526 , den Bonddraht576 , die Bondanschlussfläche178 , die Bahn179 und einen Teil der Bahn171 (4A ) verbunden. Außerdem ist das andere Ende des Induktors513 mit der Elektrode114 des FBAR110 elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche543 , die Bahn563 , die Bondanschlussfläche522 , den Bonddraht572 , die Bondanschlussfläche138 , die Bahn139 , die Zwischenverbindungsanschlussflächen176 und136 und die Bahn137 verbunden. Somit ist der Induktor513 mit den Elektroden114 und122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 auf eine Weise verbunden, die derjenigen ähnlich ist, die in2A gezeigt ist. - Bei einem Beispiel des FACT
500 , der zum Betrieb bei einer Frequenz von etwa 1,9 GHz strukturiert war, bei dem die akustischen Entkoppler130 und170 eine nominale Dicke aufwiesen, die gleich einem Viertel der Wellenlänge in dem akustischen Entkopplungsmaterial eines akustischen Signals war, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT war, betrug der parasitäre Kondensator CP zwischen den Elektroden114 und122 etwa 1 pF, die Kapazität C0 zwischen den Eingangsanschlüssen143 und144 (2A ) betrug etwa 1,2 pF, und die Induktivität des Induktors513 betrug etwa 3,2 nH. -
6 ist eine Grundrissansicht eines zweiten praktischen Ausführungsbeispiels502 eines FACT mit erhöhtem CMRR gemäß der Erfindung. Elemente des FACT502 , die dem FACT-Modul500 , das in5 gezeigt ist, und dem FACT-Modul400 , das in den4A bis4C gezeigt ist, entsprechen, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Bei dem FACT
502 ist der Induktor180 als eine Spiralbahn514 ausgeführt, die in der leitfähigen Schicht der Tochterplatine511 definiert ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Tochterplatine511 eine Mehrschichtplatine, und eine Bahn565 befindet sich auf einer Ebene unter der Hauptoberfläche515 der Tochterplatine. Die Bahn565 ist mit der Spiralbahn514 und mit einer Bahn563 durch Durchgangslöcher516 verbunden. Alternativ dazu kann der Induktor180 als eine schlangenförmige Bahn ausgeführt sein, die in der leitfähigen Schicht der Tochterplatine511 definiert ist. In diesem Fall muss die Tochterplatine511 keine Mehrschichtplatine sein. -
7 ist eine Grundrissansicht eines dritten praktischen Ausführungsbeispiels504 eines FACT mit erhöhtem CMRR gemäß der Erfindung. Der FACT504 liefert eine Gleichstromisolation zwischen den elektrischen Schaltungen141 und142 (3A ). Elemente des FACT504 , die dem FACT-Modul500 , das in5 gezeigt ist, und dem FACT-Modul400 , das in den4A bis4C gezeigt ist, entsprechen, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Der FACT
504 ist aus dem FACT-Modul400 , der Tochterplatine511 , dem Induktor180 (3A ), der bei dem gezeigten Beispiel als ein Oberflächenbefestigungsinduktor513 ausgeführt ist, und einem Isolationskondensator184 (3A ), der bei dem gezeigten Beispiel als ein Oberflächenbefestigungskondensator517 ausgeführt ist, gebildet. Außerdem sind in einer leitfähigen Schicht auf der Hauptoberfläche515 der Tochterplatine511 Anbringungsanschlussflächen545 und547 und Leiterbahnen565 und567 definiert. Die Leiterbahn565 erstreckt sich zwischen der Anbringungsanschlussfläche543 und der Anbringungsanschlussfläche545 , und die Leiterbahn567 erstreckt sich zwischen der Anbringungsanschlussfläche547 und der Bondanschlussfläche522 . - Der Oberflächenbefestigungsinduktor
513 ist an den Anbringungsanschlussflächen541 und543 befestigt, wie es im Vorhergehenden beschrieben ist. Der Oberflächenbefestigungskondensator517 ist an den Anbringungsanschlussflächen545 und547 befestigt. Alternativ dazu kann ein Nicht-Oberflächenbefestigungsinduktor elektrisch mit den Anbringungsanschlussflächen541 und543 verbunden sein, und/oder ein Nicht-Oberflächenbefestigungsisolationskondensator kann elektrisch mit den Anbringungsanschlussflächen545 und547 verbunden sein. Ein Induktor, der in der leitfähigen Schicht der Tochterplatine511 ähnlich der Spiralbahn514 definiert ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf6 beschrieben ist, kann die Anbringungsanschlussflächen541 und543 und den Oberflächenbefestigungsinduktor513 ersetzen. - Bei dem FACT
504 ist ein Ende des Induktors513 mit der Elektrode122 des FBAR120 (4B ) elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche541 , die Bahn561 , die Bondanschlussfläche526 , den Bonddraht576 , die Bondanschlussfläche178 , die Bahn179 (4A ) und einen Teil der Bahn171 (4A ) verbunden. Das andere Ende des Induktors513 ist mit einem Ende des Isolationskondensators517 elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche543 , die Bahn565 und die Anbringungsanschlussfläche545 verbunden. Das andere Ende des Isolationskondensators517 ist mit der Elektrode114 des FBAR110 durch die Anbringungsanschlussfläche547 , die Bahn567 , die Bondanschlussfläche522 , den Bonddraht572 , die Bondanschlussfläche138 , die Bahn139 , die Zwischenverbindungsanschlussfläche176 , die Zwischenverbindungsanschlussfläche136 und die Bahn137 verbunden. Somit sind der Induktor513 und der Isolationskondensator517 , die in Reihe geschaltet sind, mit den Elektroden114 und122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 auf eine Weise verbunden, die derjenigen ähnlich ist, die in3A gezeigt ist. - Bei einem Beispiel, das demjenigen ähnlich ist, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf
5 beschrieben ist, bei dem der parasitäre Kondensator CP etwa 1 pF betrug, und die Zwischenanschlusskapazität C0 etwa 1,2 pF betrug, wies der Isolationskondensator517 eine Kapazität von etwa 8 pF und eine Durchbruchspannung von mehr als der maximalen Gleichspannung auf, die zwischen den elektrischen Schaltungen141 und142 (3A ) spezifiziert war. - Jeder der FACTs
500 ,600 und700 wird durch ein Befestigen der Tochterplatine511 an der gedruckten Schaltungsplatine einer elektronischen Hostvorrichtung (nicht gezeigt), wie z. B. einem Zellulartelefon, und ein Herstellen elektrischer Verbindungen zwischen den Anschluss-Anschlussflächen531 ,532 ,533 ,534 ,535 ,536 ,537 und538 und entsprechenden Anschlussflächen an der gedruckten Schaltungsplatine verwendet. Viele Techniken sind in der Technik zum Befestigen einer Tochterplatine an einer gedruckten Schaltungsplatine bekannt und werden deshalb hier nicht beschrieben. Die Tochterplatine511 kann alternativ so strukturiert sein, dass dieselbe an der gedruckten Schaltungsplatine der elektronischen Hostvorrichtung als ein Flip-Chip oder unter Verwendung von Lötmittelhöckern befestigt werden kann. - Die
8A ,8B und8C sind eine Grundrissansicht, eine Seitenansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 8C-8C in8A eines vierten praktischen Ausführungsbeispiels600 eines FACT mit einem hohen CMRR gemäß der Erfindung. Bei dem FACT600 sind die DSBARs106 und108 , die elektrischen Schaltungen141 und142 und der Induktor181 in einer hermetischen Umhüllung umschlossen, zu der das Substrat des FACT-Moduls gehört. Die8D und8E sind jeweils Grundrissansichten eines Ausführungsbeispiels601 des FACT-Moduls400 und eines Hilfssubstrats611 , die zusammen mit einer Ringdichtung607 den FACT600 bilden. Elemente des FACT600 , die dem FACT-Modul400 entsprechen, das in den4A bis4C gezeigt ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Der FACT
600 ist aus dem Ausführungsbeispiel601 des FACT-Moduls400 , das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist, dem Hilfssubstrat611 , der Ringdichtung607 und dem Induktor180 (2A ) gebildet, der bei dem gezeigten Beispiel als ein Oberflächenbefestigungsinduktor613 ausgeführt ist.8D ist eine Grundrissansicht des FACT-Moduls601 , das einen Teil des FACT600 bildet. Das FACT-Modul601 weist ein Substrat602 auf, das relativ zu dem Substrat102 des Ausführungsbeispiels des FACT-Moduls400 , das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist, in der x- und y-Richtung erweitert ist. Eine Ringanschlussfläche605 ist auf der Hauptoberfläche609 des Substrats602 angeordnet, die die DSBARs106 und108 (4A ) und die Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 umgibt. Die Bondanschlussflächen132 und138 und die Zwischenverbindungsanschlussfläche176 sind auf der Hauptoberfläche609 angeordnet. Die Ringdichtung607 weist normalerweise eine Abmessung in der z-Richtung von mehr als der Summe der z-Richtungsabmessungen des DSBAR106 oder des DSBAR108 und des Oberflächenbefestigungsinduktors613 auf und ist an der Ringanschlussfläche605 angeordnet. - Eine Anschluss-Anschlussfläche ist auf der Hauptoberfläche
615 des Substrats602 gegenüber jeder der Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 angeordnet. Die Hauptoberfläche615 liegt der Hauptoberfläche609 gegenüber. Ein leitfähiges Durchgangsloch erstreckt sich durch das Substrat602 von jeder der Verbindungsanschlussflächen132 ,138 ,178 ,168 und172 zu ihrer jeweiligen Anbringungsanschlussfläche. Die Orte der Durchgangslöcher621 ,622 ,623 ,624 ,625 ,626 ,627 und628 sind in8D mit gestrichelten Linien angezeigt. Die Seitenansicht von8B zeigt Anschluss-Anschlussflächen631 und638 , die auf der Hauptoberfläche615 angeordnet sind. Die Querschnittsansicht von8C zeigt Anschluss-Anschlussflächen632 und636 , die auf der Hauptoberfläche615 gegenüber den Bondanschlussflächen138 bzw.178 angeordnet und mit den Bondanschlussflächen138 bzw.178 durch die Durchgangslöcher622 bzw.626 , die sich durch das Substrat602 erstrecken, elektrisch verbunden sind. - Unter zusätzlicher Bezugnahme auf
8D sind zylindrische Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 auf der Oberfläche der Bondanschlussflächen138 bzw.178 angeordnet. Die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 weisen eine Abmessung in der z-Richtung auf, die größer oder gleich der Abmessung der Dichtung607 in der z-Richtung ist. -
6E zeigt die Hauptoberfläche617 des Hilfssubstrats611 . Die Hauptoberfläche617 liegt der Hauptoberfläche609 des Substrats602 gegenüber, wenn der FACT600 zusammengesetzt ist. Auf der Hauptoberfläche617 angeordnet sind eine Ringanschlussfläche619 , Verbindungsanschlussflächen682 und686 , Anbringungsanschlussflächen641 und642 und elekt rische Bahnen661 und663 . Bei einem Ausführungsbeispiel sind die Ringanschlussfläche619 , die Verbindungsanschlussflächen682 und686 , die Anbringungsanschlussflächen641 und642 und die elektrischen Bahnen661 und663 in einer leitfähigen Schicht (nicht gezeigt) definiert, die auf der Hauptoberfläche617 angeordnet ist. - Die Ringanschlussfläche
619 ist in Form und Abmessungen der Ringanschlussfläche605 auf dem Substrat602 ähnlich und nimmt die Dichtung607 in Eingriff, wenn der FACT600 zusammengesetzt ist. Die Verbindungsanschlussflächen682 und686 sind in Form und Abmessungen den Bondanschlussflächen138 und178 ähnlich und sind auf der Hauptoberfläche617 relativ zu der Ringanschlussfläche619 derart angeordnet, dass dieselben die Zwischenverbindungsvorsprünge672 bzw.676 in Eingriff nehmen, wenn die Ringanschlussfläche619 sich in Eingriff mit der Dichtung607 befindet. Die Positionen der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und672 und der Dichtung607 bei einer Ineingriffnahme sind mit gestrichelten Linien in6E angezeigt. Die elektrische Bahn661 erstreckt sich von der Verbindungsanschlussfläche686 zu der Anbringungsanschlussfläche641 , und die elektrische Bahn663 erstreckt sich von der Verbindungsanschlussfläche682 zu der Anbringungsanschlussfläche643 . - Der Oberflächenbefestigungsinduktor
613 ist an den Anbringungsanschlussflächen641 und643 befestigt. Alternativ dazu kann ein Nicht-Oberflächenbefestigungsinduktor elektrisch mit den Anbringungsanschlussflächen641 und643 verbunden sein. - Bei dem FACT
600 ist ein Ende des Induktors613 mit der Elektrode122 des FBAR120 (2B ) elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche641 , die Bahn661 , die Verbindungsanschlussfläche686 , den Zwischenverbindungsvorsprung676 , die Bondanschlussfläche178 , die Bahn179 und einen Teil der Bahn171 (4A ) verbunden. Außerdem ist das andere Ende des Induktors613 mit der Elektrode114 des FBAR110 (2B ) elektrisch durch die Anbringungsanschlussfläche643 , die Bahn663 , die Verbindungsanschlussfläche682 , den Zwischenverbindungsvorsprung672 , die Bondanschlussfläche138 , die Bahn139 , die Zwischenverbindungsanschlussflächen176 und136 und die Bahn137 verbunden. Somit ist der Induktor613 mit den Elektroden114 und122 an gegenüberliegenden Seiten des akustischen Entkopplers130 auf eine Weise verbunden, die derjenigen ähnlich ist, die in2A gezeigt ist. - Ein Induktor, der der Spiralbahn
514 ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf6 beschrieben ist, kann in der leitfähigen Schicht des Hilfssubstrats611 definiert sein und die Anbringungsanschlussflächen641 und643 und den Oberflächenbefestigungsinduktor613 ersetzen. Zusätzliche Anbringungsanschlussflächen, die den Anbringungsanschlussflächen545 und547 ähnlich sind, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf7 beschrieben sind, können zusätzlich in der leitfähigen Schicht des Hilfssubstrats611 definiert sein. Elektrische Bahnen, die zusätzlich in der leitfähigen Schicht definiert sind, schalten einen Oberflächenbefestigungs- oder anderen Typ von Isolationskondensator, der an den zusätzlichen Anbringungsanschlussflächen befestigt ist, elektrisch in Reihe mit dem Induktor zwischen die Verbindungsanschlussflächen682 und686 , um eine Gleichstromisolation zwischen den elektrischen Schaltungen141 und142 auf eine Weise zu liefern, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die3A ,3B und7 beschrieben ist. - Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Dichtung
607 aus einem nicht hermetischen Material gebildet, das mit einer Schicht aus Abdichtungsmaterial beschichtet ist, und die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 sind aus einem nicht leitfähigen Material gebildet, das mit einer Schicht aus elektrisch leitfähigem Material beschichtet ist, wie es in der U.S.-Patentanmeldung Serien-Nr. 10/890,343 von Larson III u. a. beschrieben ist, die an den Anmelder dieser Offenbarung übertragen ist. Das gleiche Material oder andere Materialien können als das nicht hermetische Material und das nicht leitfähige Material verwendet werden. Das gleiche Material oder andere Materialien können als das Abdichtungsmaterial und das leitfähige Material verwendet werden. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist die Dichtung607 aus einem Material gebildet, das mit Silizium bondet, wie es in dem U.S.-Patent Nr. 6,090,687 von Merchant u. a. beschrieben ist, das an den Anmelder dieser Offenbarung übertragen ist. - Der FACT
600 wird durch ein Befestigen desselben an der gedruckten Schaltungsplatine einer elektronischen Hostvorrichtung (nicht gezeigt) und ein Anbringen der Anschluss-Anschlussflächen 5631–638 an entsprechenden Anschlussflächen an den gedruckten Schaltungsplatinen unter Verwendung von Lötmittelhöckern oder einem anderen geeigneten Anbringungsprozess verwendet. - Ein exemplarischer Prozess zum Herstellen des FACT
600 wird nun beschrieben. Obwohl die Herstellung eines einzigen FACT beschrieben wird, werden die zu beschreibenden Prozesse normalerweise bei Wafern angewandt, bei denen Tausende von Bauelementen gebildet werden, die mit dem FACT600 identisch sind. - Das FACT-Modul
602 wird unter Verwendung eines Prozesses hergestellt, der demjenigen ähnlich ist, der im Folgenden unter Bezugnahme auf die11A bis11P beschrieben ist, jedoch unter Verwendung anderer Masken. Ein Strukturieren einer der Metallschichten, normalerweise der ersten Metallschicht, die im Verlauf des FACT-Modulherstellungsprozesses aufgebracht wird, definiert zusätzlich die Ringanschlussfläche604 auf der Hauptoberfläche609 des Substrats602 . - Die Zwischenverbindungsvorsprünge
672 und676 und die Dichtung607 werden an den Bondanschlussflächen138 und178 bzw. der Ringanschlussfläche609 des Substrats602 durch ein Aufbringen einer Schicht eines nachgiebigen Materials, wie z. B. Polyimid, auf der Hauptoberfläche609 gebildet. Die Schicht aus nachgiebigem Material wird durch Photolithographie und ein Entwicklungslösungsmittel strukturiert, um die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 zu definieren. Die Zwischenverbindungsvorsprünge und die Dichtung werden dann mit einem Beschichtungsmaterial beschichtet. Um die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 zu beschichten, wird zunächst eine Startschicht (z. B. eine Schicht aus Titan) auf das Substrat aufgesputtert und wird überall außer an den Zwischenverbindungsvorsprüngen672 und676 und der Dichtung607 entfernt. Dann werden die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 mit einer relativ dicken Schicht aus einem elektrisch leitfähigen Material, wie z. B. Gold, elektroplattiert. Die Beschichtung macht die Dichtung607 und die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 elektrisch leitfähig und macht außerdem die Dichtung607 gegenüber Gasen, wie z. B. Luft und Wasserdampf, undurchlässig. - Durchgangslöcher werden in dem Substrat
602 an Orten gebildet, die unter den Bondanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 liegen, und werden in dem Substrat602 gebildet. Photolithographie und anisotropes Ätzen werden verwendet, oder es wird eine andere geeignete Herstellungstechnik verwendet, um Löcher zu bilden, die sich jeweils durch das Substrat602 und, wo vorhanden, die Schichten, die auf das Substrat602 aufgebracht sind, zu den darüber liegenden Bondanschlussflächen erstrecken. Die Löcher werden dann mit einem leitfähigen Material gefüllt, wie z. B. Kupfer oder Gold. Eine Schicht (nicht gezeigt) aus einem elektrisch leitenden Material, wie z. B. Gold, wird dann auf die Hauptoberfläche615 des Substrats602 aufgebracht. Die Schicht wird strukturiert, um eine Anschluss-Anschlussfläche zu definieren, die elektrisch mit jedem der Durchgangslöcher und somit mit einer jeweiligen der Verbindungsanschlussflächen172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 verbunden ist. Bei einem Ausführungsbeispiel wird Gold durch Aufdampfung auf die Hauptoberfläche615 aufgebracht. Das Gold wird strukturiert, um die Anschluss-Anschlussflächen zu definieren. Die Dicke der Anschluss-Anschlussflächen wird dann durch ein Plattieren derselben mit zusätzlichem Gold erhöht. Die Anschluss-Anschlussflächen631 ,632 ,636 und638 sind in den8B und8C gezeigt. - Eine Schicht aus elektrisch leitendem Material (nicht gezeigt) wird auf die Hauptoberfläche
617 des Hilfssubstrats611 durch eine geeignete Aufbringungstechnik aufgebracht. Das Hilfssubstrat611 ist normalerweise ein Teil eines Wafers aus Silizium, Keramik oder einem anderen Material. Keramik hat den Vorteil, dass dasselbe geringe elektrische Verluste bei Mikrowellenfrequenzen aufweist. Das elektrisch leitfähige Material ist normalerweise Gold, ein weiteres elektrisch leitfähiges Material. Die Schicht aus elektrisch leitendem Material kann aus zwei oder mehr Schichten aus unterschiedlichen Materialien gebildet sein. Die Verbindungsanschlussflächen682 und686 , die Anbringungsanschlussflächen641 und643 , die elektrischen Bahnen661 und663 und die Ringanschlussfläche619 werden in der elektrisch leitenden Schicht unter Verwendung eines geeigneten Prozesses, wie z. B. Photolithographie und Ätzen oder ein Abhebeprozess, definiert. Die Orte und Formen der Verbindungsanschlussflächen682 und686 und der Ort und die Form der Ringanschlussfläche619 auf dem Hilfssubstrat611 entsprechen jeweils den Orten und Querschnittsformen der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und dem Ort und der Form der Dichtung607 auf dem Substrat602 . Die Form der Verbindungsanschlussflächen682 und686 kann sich jedoch von der Querschnittsform der Zwischenverbindungsvorsprünge672 bzw.676 unterscheiden. - Der Oberflächenbefestigungsinduktor
613 wird an den Anbringungsanschlussflächen641 und643 unter Verwendung einer herkömmlichen Oberflächenbefestigungsanbringungstechnik befestigt. Bei Ausführungsbeispielen wie dem, das in3A gezeigt ist, die einen Kondensator in Reihe mit dem Induktor613 aufweisen, wird der Kondensator zusätzlich an seinen jeweiligen Anbringungsanschlussflächen befestigt. Bei Ausführungsbeispielen, bei denen der Induktor180 als eine spiral- oder schlangenförmige Bahn ausgeführt ist, die in der elektrisch leitfähigen Schicht definiert ist, die auf das Hilfssubstrat611 aufgebracht ist, wird kein Induktorbefestigungsprozess durchgeführt. - Das Hilfssubstrat
611 wird umgedreht und gegenüber dem Substrat602 angeordnet, wobei die Ringanschlussfläche619 und die Anbringungsanschlussflächen682 und686 mit der Dichtung607 bzw. den Zwischenverbindungsvorsprüngen672 und676 ausgerichtet sind. Das Hilfssubstrat611 wird dann gegen das Substrat602 gepresst und an dasselbe gebondet. Das Zusammenpressen der Substrate bringt die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 in Kontakt mit den Verbindungsanschlussflächen682 bzw.686 und bringt die Dichtung607 in Kontakt mit der Ringanschlussfläche619 . Wenn die Substrate zusammengepresst werden, ermöglicht das nachgiebige Material der Zwischenverbindungsvorsprünge, dass sich die Zwischenverbindungsvorsprünge ohne ein Brechen oder anderes Versagen verformen, und das nachgiebige Material der Dichtung607 ermöglicht, dass sich die Dichtung ohne ein Brechen oder anderes Versagen verformt. Normalerweise werden die Substrate602 und611 gebondet, während dieselben zusammengepresst werden. Verschiedene bekannte oder in der Zukunft zu entwickelnde Bondtechniken können verwendet werden, um die Substrate602 und611 zu bonden. - Bei einem Ausführungsbeispiel wird thermisches Druckbonden verwendet. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel ist das elektrisch leitfähige Material, das verwendet wird, um die Zwischenverbindungsvorsprünge
672 und676 und die Dichtung607 zu beschichten, Gold (Au). Bevor die Substrate602 und611 gebondet werden, wird eine Schicht aus Zinn (Sn) auf die goldbeschichteten Zwischenverbindungsvorsprünge und die Dichtung aufgebracht. Die Substrate602 und611 werden dann zusammengepresst, bis die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 sich in einem engen Kontakt mit den Verbindungsanschlussflächen682 und686 bzw. der Ringanschlussfläche619 befinden, und die Anordnung wird erhitzt, bis die Gold- und Zinnbeschichtung an den Zwischenverbindungsvorsprüngen und der Dichtung zu schmelzen beginnt. An diesem Punkt haftet das Beschichtungsmaterial an dem Material der Ringanschlussfläche619 und der Verbindungsanschlussflächen682 und686 . Die Anordnung lässt man dann abkühlen. Das geschmolzene Beschichtungsmaterial verfestigt sich, wenn die Anordnung abkühlt, und das verfestigte Material bildet eine Verbindung zwischen den Verbindungsanschlussflächen682 und686 und den Zwischenverbindungsvorsprüngen672 bzw.676 und zwischen der Dichtung607 und der Ringanschlussfläche619 . Die zusätzliche Schicht aus Zinn auf den goldbeschichteten Zwischenverbindungsvorsprüngen und der Dichtung trägt dazu bei, eine stärkere Verbindung während des thermischen Druckbondens zu bilden. - Die nachgiebigen Materialien der Zwischenverbindungsvorsprünge
672 und676 und der Dichtung607 stellen sicher, dass die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 auf dem Substrat611 mit den Verbindungsanschlussflächen682 und686 und der Ringanschlussfläche619 auf dem Hilfssubstrat611 in engem Kontakt sind. Die nachgiebigen Materialien der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und der Dichtung607 ermöglichen, dass sich die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und die Dichtung607 verformen, bis die Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 einen elektrischen Kontakt mit geringem Widerstandswert mit den Verbindungsanschlussflächen682 bzw.686 bilden und die Dichtung607 die Ringanschlussfläche619 entlang ihres gesamten Umfangs kontaktiert. Zum Beispiel ist es aufgrund von Unvollkommenheiten bei der Herstellung der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 und der Dichtung607 möglich, dass die Dichtung607 die Ringan schlussfläche619 kontaktiert, bevor einer oder beide der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 die Verbindungsanschlussflächen682 bzw.686 kontaktieren. In diesem Fall verformt sich die Dichtung607 , um zu ermöglichen, dass die Substrate602 und611 weiter zusammengepresst werden, bis die Zwischenverbindungsvorsprünge sich in engem Kontakt mit ihren jeweiligen Kontaktanschlussflächen befinden. Auf ähnliche Weise können sich einer oder beide der Zwischenverbindungsvorsprünge672 und676 oder Abschnitte der Dichtung607 verformen, um zu ermöglichen, dass der gesamte Umfang der Dichtung einen engen physischen Kontakt mit der Ringanschlussfläche619 herstellt. Der enge physische Kontakt zwischen den Zwischenverbindungsvorsprüngen und ihren jeweiligen Kontaktanschlussflächen und zwischen der Dichtung und der Ringanschlussfläche619 während des Bondens hilft dabei, sicherzustellen, dass die Zwischenverbindungsvorsprünge eine zuverlässige elektrische Leitung geringer Impedanz zwischen den Elektroden114 und112 und dem Induktor613 liefern, und dass die Dichtung607 eine zuverlässige hermetische Abdichtung für die Kammer liefert, die durch die Substrate602 und611 und die Dichtung607 begrenzt wird. - Der im Vorhergehenden beschriebene Prozess zum Zusammensetzen der Substrate
602 und611 , um eine hermetisch abgedichtete Kammer zu bilden, ist genauer in der im Vorhergehenden erwähnten U.S.-Patentanmeldung Serien-Nr. 10/890,343 und außerdem in der ebenfalls übertragenen U.S.-Patentanmeldung Serien-Nr. 10/723,095 von Bai beschrieben. - Der FACT
600 wird durch ein Befestigen desselben auf der gedruckten Schaltungsplatine einer elektronischen Hostvorrichtung unter Verwendung der Anschluss-Anschlussflächen, wie z. B. der Anschluss-Anschlussflächen631 ,632 ,636 und638 auf der Hauptoberfläche615 des Substrats602 , verwendet. - Bei einem praktischen Ausführungsbeispiel des FACT
202 , der in2B gezeigt ist, oder des FACT302 , der in3B gezeigt ist, ist ein zusätzlicher Zwischenverbindungsvorsprung (nicht gezeigt) an der Bondanschlussfläche172 angeordnet, um eine elektrische Verbindung mit dem Hilfssubstrat611 von der Elektrode154 zu liefern. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel sind eine Verbindungsanschlussfläche (nicht gezeigt), die dem zusätzlichen Zwischenverbindungsvorsprung entspricht, und Befestigungsanschlussflächen zum Befestigen eines zusätzlichen Oberflächenbefestigungsinduktors (und eines optionalen zusätzlichen Isolationskondensators) in der leitfähigen Schicht des Hilfssubstrats611 definiert. Eine zusätzliche elektrische Bahn (nicht gezeigt) verbindet das andere Ende des zusätzlichen Induktors direkt oder über den zusätzlichen Isolationskondensator mit der Verbindungsanschlussfläche686 . - Die
9A und9B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 9B-9B in9A eines fünften praktischen Ausführungsbeispiels700 eines akustisch gekoppelten Filmtransformators (FACT) mit erhöhtem CMRR gemäß der Erfindung. Bei dem FACT700 ist ein Induktor zwischen die Elektroden114 und122 geschaltet, in einer Anordnung, die derjenigen ähnlich ist, die in2A gezeigt ist. Der Induktor ist an dem Substrat angeordnet, das einen Teil eines Ausführungsbeispiels des FACT-Moduls400 bildet, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist. Elemente des FACT700 , die dem FACT-Modul400 entsprechen, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Der FACT
700 ist aus einem Ausführungsbeispiel701 des FACT-Moduls400 , das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist, gebildet. Bei dem FACT-Modul701 ist ein Substrat702 in der -x-Richtung relativ zu dem Substrat102 des Ausführungsbeispiels des FACT- Moduls400 erweitert. Eine piezoelektrische Schicht717 und eine akustische Entkopplungsschicht731 erstrecken sich zusätzlich über den erweiterten Abschnitt des Substrats702 . Der Induktor180 (2A ) ist als ein Spiralinduktor713 ausgeführt, der in einer leitfähigen Schicht definiert ist, die an der Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 angeordnet ist. - Eine elektrische Bahn
763 erstreckt sich in der -x-Richtung über die Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht717 von der Elektrode114 zu einer Zwischenverbindungsanschlussfläche741 . Die akustische Entkopplungsschicht731 bedeckt eine Bahn763 , ein Fenster733 , das in der akustischen Entkopplungsschicht731 definiert ist, liefert jedoch einen Zugang zu der Zwischenverbindungsanschlussfläche741 . Der Spiralinduktor713 ist als eine Spiralbahn714 strukturiert, die an der Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 angeordnet ist. Eine Zwischenverbindungsanschlussfläche743 , die die Zwischenverbindungsanschlussfläche741 durch das Fenster733 elektrisch kontaktiert, ist an dem inneren Ende der Spiralbahn714 angeordnet. Eine elektrische Bahn761 erstreckt sich in der -x-Richtung über die Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 von der Elektrode122 zu dem äußeren Ende der Spiralbahn714 . - Die
10A und10B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie 10B-10B in10A eines sechsten praktischen Ausführungsbeispiels704 eines akustisch gekoppelten Filmtransformators (FACT) mit erhöhtem CMRR gemäß der Erfindung. Bei dem FACT704 sind ein Induktor und ein Kondensator in Reihe zwischen die Elektroden114 und122 geschaltet, in einer Anordnung, die derjenigen ähnlich ist, die in3A gezeigt ist. Der Kondensator und der Induktor sind auf dem Substrat angeordnet, das einen Teil eines Ausführungsbeispiels des FACT-Moduls400 bildet, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist. Elemente des FACT700 , die dem FACT-Modul400 , das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist, und dem FACT700 entsprechen, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die9A und9B beschrieben ist, sind unter Verwendung der gleichen Bezugszeichen angezeigt und werden hier nicht noch einmal beschrieben. - Der FACT
704 ist aus dem im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispiel701 des FACT-Moduls400 gebildet, wobei das Substrat702 in der -x-Richtung erweitert ist und die piezoelektrische Schicht717 und die akustische Entkopplungsschicht731 sich über den erweiterten Abschnitt des Substrats702 erstrecken. Der Induktor180 (3A ) ist als ein Spiralinduktor713 ausgeführt, der in einer leitfähigen Schicht definiert ist, die auf der Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 angeordnet ist. Der Kondensator184 (3A ) ist als ein Parallelplattenkondensator715 ausgeführt, der einen Teil der akustischen Entkopplungsschicht731 als sein Dielektrikum aufweist. - Eine Platte
718 des Parallelplattenkondensators715 ist auf der Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht717 angeordnet. Eine elektrische Bahn763 erstreckt sich in der -x-Richtung über die Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht717 von der Elektrode114 zu der Platte718 . Eine elektrische Bahn765 erstreckt sich mit etwa 45° bezüglich der x-Richtung über die Hauptoberfläche der piezoelektrischen Schicht717 von einer Zwischenverbindungsanschlussfläche745 , die außerhalb der Platte718 angeordnet ist, zu der Zwischenverbindungsanschlussfläche741 , die in der Mitte des Spiralinduktors713 angeordnet ist. Die akustische Entkopplungsschicht731 bedeckt die Bahn763 , die Bahn765 und die Platte718 , ein Fenster733 und ein Fenster735 , die in der akustischen Entkopplungsschicht731 definiert sind, liefern jedoch einen Zugang zu der Zwischenverbindungsanschlussfläche741 bzw. der Zwischenverbindungsanschlussfläche745 . - Die andere Platte
719 des Kondensators715 und der Spiralinduktor713 sind auf der Hauptoberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 angeordnet. Der Spiralinduktor713 ist als eine Spiralbahn714 strukturiert, die auf der Hauptoberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 angeordnet ist. Eine elektrische Bahn761 erstreckt sich weiter über die Oberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 von der Elektrode122 zu dem äußeren Ende der Spiralbahn714 . Eine Zwischenverbindungsanschlussfläche743 , die die Zwischenverbindungsanschlussfläche741 durch das Fenster733 elektrisch kontaktiert, ist an dem inneren Ende der Spiralbahn714 angeordnet. - Eine elektrische Bahn
767 erstreckt sich in der y-Richtung über die Hauptoberfläche der akustischen Entkopplungsschicht731 von der Platte719 zu einer Zwischenverbindungsanschlussfläche747 . Die Zwischenverbindungsanschlussfläche747 kontaktiert elektrisch die Zwischenverbindungsanschlussfläche745 durch das Fenster735 , um die Reihenschaltung des Induktors713 und des Kondensators715 zwischen den Elektroden114 und122 zu vervollständigen. - Bei einigen Ausführungsbeispielen ist der Hohlraum
104 erweitert, so dass derselbe außerdem unter dem Spiralinduktor713 liegt. Dies erhöht die Trennung zwischen dem Induktor und dem Material des Substrats702 , was elektrische Verluste verringert. - Bei praktischen Ausführungsbeispielen der Schaltungen, die in den
2B und3B gezeigt sind, die auf den praktischen Ausführungsbeispielen basieren, die in den9A ,9B ,10A und10B gezeigt sind, sind das Substrat702 , die piezoelektrische Schicht717 und die akustische Entkopplungsschicht731 außerdem in der +x-Richtung (nicht gezeigt) erweitert. Ein zusätzlicher Spiralinduktor ist auf der zusätzlichen Erweiterung des Substrats in der +x-Richtung angeordnet und ist zwischen die Elektroden154 und162 geschaltet, wie es in2B gezeigt ist. Alternativ dazu sind ein zusätzlicher Spiralinduktor, der in Reihe mit einem zusätzlichen Parallelplattenkondensator geschaltet ist, auf der zusätzlichen Erweiterung des Substrats in der +x-Richtung angeordnet und sind zwischen die Elektroden154 und162 geschaltet, wie es in3B gezeigt ist. - Ein Prozess, der verwendet werden kann, um den FACT
704 herzustellen, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die10A und10B beschrieben ist, wird anschließend unter Bezugnahme auf die Grundrissansichten der11A bis11H und die Querschnittsansichten der11I bis11P beschrieben. Das Durchlassband des Ausführungsbeispiels des FACT704 , dessen Herstellung beschrieben wird, weist eine nominale Mittenfrequenz von etwa 1,9 GHz auf. Ausführungsbeispiele zur Operation bei anderen Frequenzen sind in Struktur und Herstellung ähnlich, weisen jedoch Dicken und laterale Abmessungen auf, die sich von den im Folgenden als Beispiel verwendeten unterscheiden. Außerdem kann der Prozess mit anderen Masken auch verwendet werden, um Ausführungsbeispiele des FACT700 , der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die9A und9B beschrieben ist, und die verschiedenen Ausführungsbeispiele des FACT-Moduls400 herzustellen, das hauptsächlich im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A bis4C beschrieben ist. Tausende von FACTs, die dem FACT704 ähneln, werden gleichzeitig durch eine Herstellung im Wafermaßstab hergestellt. Eine derartige Herstellung im Wafermaßstab macht die FACTs kostengünstig in der Herstellung. - Ein Wafer aus Einkristallsilizium wird bereitgestellt. Ein Abschnitt des Wafers bildet für jeden FACT, der hergestellt wird, ein Substrat, das dem Substrat
702 des FACT704 entspricht. Die11A bis11H und die11I bis11P veranschaulichen die Herstellung des FACT704 in und auf einem Abschnitt des Wafers, und die folgende Beschreibung beschreibt dies. Wenn der FACT704 hergestellt wird, werden die anderen FACTs auf dem Wafer auf ähnliche Weise hergestellt. - Der Abschnitt des Wafers, der das Substrat
702 des FACT704 bildet, wird selektiv nassgeätzt, um einen Hohlraum zu bilden. Eine Schicht Füllmaterial (nicht gezeigt) wird auf die Oberfläche des Wafers mit einer Dicke aufgebracht, die ausreichend ist, um jeden Hohlraum zu füllen. Die Oberfläche des Wafers wird dann planarisiert, was jeden Hohlraum mit Füllmaterial gefüllt zurücklässt. Die11A und11I zeigen den Hohlraum104 in Substrat702 mit Füllmaterial105 gefüllt. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Füllmaterial Phosphorsilikatglas (PSG) und wurde unter Verwendung einer herkömmlichen chemischen Niederdruckdampfaufbringung (LPCVD) aufgebracht. Das Füllmaterial kann alternativ dazu durch Sputtern oder durch Schleuderbeschichtung aufgebracht werden.
- Eine erste Metallschicht wird auf die Oberfläche des Substrats
702 und das Füllmaterial105 aufgebracht. Die erste Metallschicht wird strukturiert, wie es in den11B und11J gezeigt ist, um die Elektrode112 , die Elektrode152 , die Bondanschlussfläche132 , die Bondanschlussfläche138 und die Zwischenverbindungsanschlussfläche176 zu definieren. Das Strukturieren definiert auch in der ersten Metallschicht die elektrische Bahn133 , die sich zwischen der Elektrode112 und der Bondanschlussfläche132 erstreckt, die elektrische Bahn177 , die sich zwischen der Elektrode152 und der Zwischenverbindungsanschlussfläche177 erstreckt, und die elektrische Bahn139 , die sich zwischen der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 und der Bondanschlussfläche138 erstreckt. - Die Elektrode
112 und die Elektrode152 weisen normalerweise eine asymmetrische Form in einer Ebene auf, die parallel zu der Hauptoberfläche des Wafers ist. Eine asymmetrische Form minimiert laterale Moden in dem FBAR110 und dem FBAR150 (2A ), zu denen die Elektroden gehören. Dies ist in dem U.S.-Patent Nr. 6,215,375 von Larson III u. a. beschrieben. Die Elektrode112 und die Elektrode152 lassen einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 freiliegend, so dass das Füllmaterial später durch ein Ätzen entfernt werden kann, wie es im Folgenden beschrieben ist. - Unter zusätzlicher Bezugnahme auf
2A werden die Elektroden114 und154 in einer zweiten Metallschicht definiert, die Elektroden122 und162 werden in einer dritten Metallschicht definiert, und die Elektroden124 und164 werden in einer vierten Metallschicht definiert, wie es im Folgenden beschrieben ist. Die Metallschichten, in denen die Elektroden definiert sind, werden derart strukturiert, dass in jeweiligen Ebenen, die zu der Hauptoberfläche des Wafers parallel sind, die Elektroden112 und114 des FBAR110 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen, die Elektroden122 und124 des FBAR120 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen, die Elektroden152 und154 des FBAR150 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen, und die Elektroden162 und164 des FBAR160 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen. Normalerweise weisen die Elektroden114 und122 außerdem die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position auf, und die Elektroden154 und162 weisen außerdem die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position auf. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Material jeder der Metallschichten Molybdän, das durch Sputtern mit einer Dicke von etwa 300 nm aufgetragen wurde. Die Elektroden, die in jeder der Metallschichten definiert waren, waren fünfeckig, wobei jede eine Fläche von etwa 12.000 Quadratμm aufwies. Andere Elektrodenflächen ergeben andere charakteristische Impedanzen. Andere hochschmelzende Metalle, wie z. B. Wolfram, Niobium und Titan, können alternativ dazu als das Material der Metallschichten verwendet werden. Die Metallschichten können jede alternativ dazu Schichten aus mehr als einem Material aufweisen. Ein zu berücksichtigen der Faktor beim Auswählen des Materials der Elektroden des FACT
704 sind die akustischen Eigenschaften des Elektrodenmaterials: die akustischen Eigenschaften der ein oder mehr Materialien der restlichen Metallteile des FACT704 sind weniger wichtig als andere Eigenschaften, wie z. B. elektrische Leitfähigkeit. Somit können sich die ein oder mehr Materialien der restlichen Metallteile des FACT704 von dem Material der Elektroden unterscheiden. - Eine Schicht aus piezoelektrischem Material wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
11C und11K gezeigt ist, um eine piezoelektrische Schicht717 zu definieren, die das piezoelektrische Element116 des FBAR110 und das piezoelektrische Element156 des FBAR150 liefert. Die piezoelektrische Schicht717 erstreckt sich über das Substrat702 über die Erstreckung des Hohlraums104 hinaus, um einen Träger für den Spiralinduktor713 und den Kondensator715 zu liefern. Die piezoelektrische Schicht717 wird strukturiert, um einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 , die Bondanschlussflächen132 und138 und die Zwischenverbindungsanschlussfläche176 freizulegen. Die piezoelektrische Schicht717 wird außerdem strukturiert, um Fenster119 zu definieren, die einen Zugang zu zusätzlichen Teilen der Oberfläche des Füllmaterials liefern. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das piezoelektrische Material, das aufgebracht wurde, um die piezoelektrische Schicht
717 und die piezoelektrische Schicht727 , die im Folgenden beschrieben sind, aufzubringen, Aluminiumnitrid, das durch Sputtern mit einer Dicke von etwa 1,4 μm aufgebracht wurde. Das piezoelektrische Material wurde durch Nassätzen in Kaliumhydroxid oder durch ein chlorbasiertes Trockenätzen strukturiert. Alternative Materialien für die piezoelektrischen Schichten umfassen Zinkoxid, Kadmiumsulfid und gepolte ferroelektrische Materialien, wie z. B. ferroelektrische Perowskit-Materialien, einschließlich Bleizirkoniumtitanat, Bleimetaniobat und Bariumtitanat. - Eine zweite Metallschicht wird auf die piezoelektrische Schicht
717 aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den11D und11L gezeigt ist, um die Elektrode114 , die Elektrode154 , die Platte718 des Kondensators715 (10A ), die Bondanschlussfläche172 , die Zwischenverbindungsanschlussfläche136 in elektrischem Kontakt mit der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 und die Zwischenverbindungsanschlussflächen741 und745 zu definieren. Das Strukturieren definiert außerdem in der zweiten Metallschicht die elektrische Bahn137 , die sich zwischen der Elektrode114 und der Zwischenverbindungsanschlussfläche136 erstreckt, die elektrische Bahn173 , die sich zwischen der Elektrode154 und der Bondanschlussfläche172 erstreckt, die elektrische Bahn763 , die sich zwischen der Elektrode114 und der Platte718 erstreckt, die elektrische Bahn765 , die sich zwischen den Zwischenverbindungsanschlussflächen741 und745 erstreckt, und die elektrische Bahn167 , die sich zwischen den Bondanschlussflächen132 und172 erstreckt. - Eine Schicht aus akustischem Entkopplungsmaterial wird dann aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
11E und11M gezeigt ist, um die akustische Entkopplungsschicht731 zu definieren, die den akustischen Entkoppler130 und den akustischen Entkoppler170 liefert. Die akustische Entkopplungsschicht731 erstreckt sich über das Substrat702 über die Erstreckung des Hohlraums104 hinweg, um das Dielektrikum des Kondensators715 und einen Träger für den Spiralinduktor713 zu liefern. Die akustische Entkopplungsschicht731 wird strukturiert, um zumindest die Elektrode114 und die Elektrode154 zu bedecken und einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 , die Bondanschlussflächen132 ,138 und172 und die Zwischenverbindungsanschlussflächen136 und176 freizulegen. Die akustische Entkopplungsschicht731 wird außerdem strukturiert, um die Fenster119 zu definieren, die einen Zugang zu zusätzlichen Teilen der Oberfläche des Füllmaterials liefern, und um die Fenster733 und735 zu definieren, die einen Zugang zu den Zwischenverbindungsanschlussflächen741 bzw.745 liefern. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das akustische Entkopplungsmaterial Polyimid mit einer Dicke von etwa 200 nm, d. h. ein Viertel der Mittenfrequenzwellenlänge in dem Polyimid. Das Polyimid wurde durch Schleuderbeschichten aufgebracht, um die akustische Entkopplungsschicht
731 zu bilden, und wurde durch Photolithographie strukturiert. Polyimid ist photoempfindlich, so dass kein Photoresist benötigt wird. Wie es im Vorhergehenden erwähnt wurde, können andere Kunststoffmaterialien als das akustische Entkopplungsmaterial verwendet werden. Das akustische Entkopplungsmaterial kann durch andere Verfahren als Schleuderbeschichten aufgebracht werden. - Bei einem Ausführungsbeispiel, bei dem das akustische Entkopplungsmaterial Polyimid war, wurde der Wafer nach dem Aufbringen und Strukturieren des Polyimids anfangs bei einer Temperatur von etwa 250°C in Luft und schließlich bei einer Temperatur von etwa 415°C in einer inerten Atmosphäre, wie z. B. einer Stickstoffatmosphäre, gebacken, bevor eine weitere Verarbeitung durchgeführt wurde. Das Backen verdampft flüchtige Bestandteile des Polyimids und verhindert, dass die Verdampfung derartiger flüchtiger Bestandteile während einer nachfolgenden Verarbeitung eine Trennung von nachfolgend aufgebrachten Schichten bewirkt.
- Eine dritte Metallschicht wird auf die akustische Entkopplungsschicht
731 aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den11F und11N gezeigt ist, um die Elektrode122 , die Elektrode162 , die Spiralbahn714 , die den Spiralinduktor713 bildet, die Platte719 des Kondensators715 (10A ), die Bondanschlussfläche178 , die Zwischenverbindungsanschlussfläche743 an dem inneren Ende der Spiralbahn714 in elektrischem Kontakt mit der Zwischenverbindungsanschlussfläche741 und die Zwischenverbindungsanschlussfläche747 in elektrischem Kontakt mit der Zwischenverbin dungsanschlussfläche745 zu definieren. Das Strukturieren definiert auch in der dritten Metallschicht die elektrische Bahn171 , die sich zwischen der Elektrode122 und der Elektrode162 erstreckt, die elektrische Bahn179 , die sich zwischen der elektrischen Bahn171 und der Bondanschlussfläche178 erstreckt, die elektrische Bahn761 , die sich zwischen der Elektrode122 und dem äußeren Ende der Spiralbahn714 erstreckt, und die elektrische Bahn767 , die sich zwischen der Platte719 und der Zwischenverbindungsanschlussfläche747 erstreckt. - Eine Schicht aus piezoelektrischem Material wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
11G und11O gezeigt ist, um die piezoelektrische Schicht727 zu definieren, die das piezoelektrische Element126 des FBAR120 und das piezoelektrische Element166 des FBAR150 liefert. Die piezoelektrische Schicht727 wird strukturiert, um den Induktor713 , den Kondensator715 , die Bondanschlussflächen132 ,138 ,178 und172 , die Zwischenverbindungsanschlussflächen136 und176 und einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 freizulegen. Die piezoelektrische Schicht727 wird außerdem strukturiert, um die Fenster119 zu definieren, die einen Zugang zu zusätzlichen Teilen der Oberfläche des Füllmaterials liefern. - Eine vierte Metallschicht wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
11H und11P gezeigt ist, um die Elektrode124 , die Elektrode164 , die Bondanschlussfläche163 , die Bondanschlussfläche134 , die Bondanschlussfläche174 und die Bondanschlussfläche168 zu definieren. Das Strukturieren definiert auch in der vierten Metallschicht die elektrische Bahn135 , die sich von der Elektrode124 zu der Bondanschlussfläche134 erstreckt, die elektrische Bahn175 , die sich von der Elektrode164 zu der Bondanschlussfläche174 erstreckt, und die elektrische Bahn169 , die sich von der Bondanschlussfläche163 und der Bondanschlussfläche168 zu der Bondanschlussfläche178 erstreckt. - Der Wafer wird dann isotrop nassgeätzt, um das Füllmaterial
105 aus dem Hohlraum104 zu entfernen. Wie es im Vorhergehenden erwähnt ist, bleiben Abschnitte der Oberfläche des Füllmaterials105 z. B. durch die Fenster119 freiliegend. Der Ätzprozess hinterlässt den FACT704 über dem Hohlraum104 hängend, wie es in den10A und10B gezeigt ist. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Ätzmittel, das verwendet wurde, um das Füllmaterial
105 zu entfernen, verdünnte Flusssäure. - Eine Goldschutzschicht wird auf die freiliegenden Oberflächen der Bondanschlussflächen
172 ,138 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 aufgebracht. - Der Wafer wird dann in einzelne FACTs, einschließlich des FACT
704 , geteilt. Jeder FACT wird dann in einem Gehäuse befestigt, und elektrische Verbindungen werden zwischen den Bondanschlussflächen172 ,132 ,163 ,134 ,178 ,174 und168 des FACT und Anschlussflächen, die zu dem Gehäuse gehören, hergestellt. - Bei einem Ausführungsbeispiel wird der FACT
704 in einem hermetischen Gehäuse gehäust, das demjenigen ähnlich ist, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die8A bis8E beschrieben ist. Es werden jedoch andere Komponenten als der Induktor180 und optional der Kondensator184 an der Oberfläche des Hilfssubstrats befestigt. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist das akustische Entkopplungsmaterial der akustischen Entkopplungsschicht
731 ein vernetztes Polyphenylenpolymer. Nachdem die zweite Metallschicht strukturiert worden ist, um die Elektroden114 und154 zu definieren, wie es im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die11D und11L beschrieben ist, wird die Vorläuferlösung für das vernetzte Polyphenylenpolymer auf eine Weise aufgeschleudert, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die11E und11M beschrieben ist, wird jedoch nicht strukturiert. Die Formulierung des vernetzten Polyphenylenpolymers und die Schleudergeschwindigkeit sind so ausgewählt, dass das vernetzte Polyphenylenpolymer eine Schicht mit einer Dicke von etwa 187 nm bildet. Dies entspricht einem Viertel der Wellenlänge λn in dem vernetzten Polyphenylenpolymer eines akustischen Signals, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FACT704 ist. Der Wafer wird dann bei einer Temperatur in dem Bereich von etwa 385°C bis etwa 450°C in einer inerten Umgebung, wie z. B. unter Vakuum oder in einer Stickstoffatmosphäre, gebacken, bevor ein weiteres Verarbeiten durchgeführt wird. Das Backen vertreibt zuerst die organischen Lösungsmittel aus der Vorläuferlösung und bewirkt dann, dass sich das Oligomer vernetzt, wie es im Vorhergehenden beschrieben ist, um das vernetzte Polyphenylenpolymer zu bilden. - Die dritte Metallschicht wird dann auf die Schicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer auf eine Weise aufgebracht, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf
11F beschrieben ist, wird jedoch anfangs auf eine Weise strukturiert, die derjenigen ähnlich ist, die in11E gezeigt ist, um eine Hartmaske zu definieren, die verwendet wird, um die Schicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer zu strukturieren, um die akustische Entkopplungsschicht731 zu definieren. Die anfangs strukturierte dritte Metallschicht weist die gleiche Erstreckung wie die akustische Entkopplungsschicht731 auf und weist Fenster an den folgenden Orten auf: über einem Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 , über den Bondanschlussflächen132 ,138 und172 und an den vorgesehenen Orten der Fenster119 ,733 und735 in der akustischen Entkopplungsschicht731 . - Die Schicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer wird dann, wie es in
11E gezeigt ist, mit der anfangs strukturierten dritten Metallschicht als einer Hartätzmaske strukturiert. Das Strukturieren definiert die folgenden Merkmale in der Schicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer: die Erstreckung der akustischen Entkopplungsschicht731 , Fenster, die einen Zugang zu einem Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 und zu den Bondanschlussflächen132 ,138 und172 liefern, Fenster733 und735 , die einen Zugang zu den Zwischenverbindungsanschlussflächen741 bzw.745 liefern, und Fenster119 , die einen Zugang zu zusätzlichen Teilen der Oberfläche des Füllmaterials liefern. Das Strukturieren wird mit einem Sauerstoffplasmaätzen durchgeführt. - Die dritte Metallschicht wird dann erneut strukturiert, wie es in den
11F und11N gezeigt ist, um die Elektrode122 , die Elektrode162 , die Spiralbahn714 , die den Spiralinduktor713 bildet, die Platte719 des Kondensators715 (10A ), die Bondanschlussfläche178 , die Zwischenverbindungsanschlussfläche743 an dem inneren Ende der Spiralbahn714 in elektrischem Kontakt mit der Zwischenverbindungsanschlussfläche741 und die Zwischenverbindungsanschlussfläche747 in elektrischem Kontakt mit der Zwischenverbindungsanschlussfläche745 zu definieren. Das erneute Strukturieren definiert auch in der dritten Metallschicht die elektrische Bahn171 , die sich zwischen der Elektrode122 und der Elektrode162 erstreckt, die elektrische Bahn179 , die sich zwischen der elektrischen Bahn171 und der Bondanschlussfläche178 erstreckt, die elektrische Bahn761 , die sich zwischen der Elektrode122 und dem äußeren Ende der Spiralbahn714 erstreckt, und die elektrische Bahn767 , die sich zwischen der Platte719 und der Zwischenverbindungsanschlussfläche747 erstreckt. - Eine Herstellung des Ausführungsbeispiels des FACT
704 mit einer akustischen Entkopplungsschicht aus vernetztem Polyphenylenpolymer wird durch ein Durchführen der Bearbeitung abgeschlossen, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die11G ,11H ,11O und11P beschrieben ist. - Bei einem Ausführungsbeispiel war die Vorläuferlösung für das vernetzte Polyphenylenpolymer eine, die von The Dow Chemical Company vertrieben und mit SiLKTM J bezeichnet wird. Alternativ dazu kann es sich bei der Vorläuferlösung um eine beliebige geeignete der Vorläuferlösungen handeln, die von The Dow Chemical Company unter dem Warenzeichen SiLK vertrieben werden. Bei bestimmten Ausführungsbeispielen wurde eine Schicht eines Haftungspromotors aufgebracht, bevor die Vorläuferlösung aufgeschleudert wurde. Vorläuferlösungen, die Oligomere enthalten, die, wenn dieselben gehärtet werden, ein vernetztes Polyphenylenpolymer bilden, das eine akustische Impedanz von etwa 2 Mrayl aufweist, können jetzt oder in Zukunft von anderen Lieferanten erhältlich sein und können ebenfalls verwendet werden.
- Diese Offenbarung beschreibt die Erfindung unter Verwendung veranschaulichender Ausführungsbeispiele im Detail. Die Erfindung, die durch die angehängten Ansprüche definiert ist, ist jedoch nicht auf die genauen beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt.
- Zusammenfassung
- Der akustisch gekoppelte Filmtransformator (FACT) (z. B.
200 ) weist einen ersten (106 ) und einen zweiten (108 ) entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR) auf. Jeder DSBAR weist einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR) (z. B.110 ), einen oberen FBAR (z. B.120 ) auf dem unteren FBAR und einen akustischen Entkoppler (z. B.130 ) zwischen den FBARs auf. Jeder FBAR weist gegenüberliegende planare Elektroden (z. B.112 ,114 ) und ein piezoelektrisches Element (z. B.116 ) zwischen den Elektroden auf. Eine erste elektrische Schaltung (z. B.141 ) verbindet den unteren FBAR (110 ,150 ) des ersten DSBAR und des zweiten DSBAR. Eine zweite elektrische Schaltung (z. B.142 ) verbindet die oberen FBARs (120 ,160 ) des ersten DSBAR und des zweiten DSBAR. Bei zumindest einem der DSBARs bilden der akustische Entkoppler und eine Elektrode jedes des unteren FBAR und des oberen FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, einen parasitären Kondensator (CP). Der FACT weist außerdem einen Induktor (180 ) auf, der elektrisch parallel zu dem parasitären Kondensator geschaltet ist. Der Induktor erhöht das Gleichtaktunterdrückungsverhältnis des FACT.
Claims (16)
- Ein akustisch gekoppelter Filmtransformator (FACT), der folgende Merkmale aufweist: einen ersten entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR) und einen zweiten DSBAR, wobei jeder DSBAR folgende Merkmale aufweist: einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR) und einen oberen FBAR, wobei der obere FBAR auf den unteren FBAR gestapelt ist, wobei jeder FBAR gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden aufweist, und einen akustischen Entkoppler zwischen den FBARs; eine erste elektrische Schaltung, die die unteren FBARs verbindet; und eine zweite elektrische Schaltung, die die oberen FBARs verbindet; wobei: bei zumindest einem der DSBARs der akustische Entkoppler, eine der Elektroden des unteren FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, und eine der Elektroden des oberen FBAR, die zu dem akustischen Entkoppler benachbart ist, einen parasitären Kondensator bilden; und der FACT außerdem einen Induktor aufweist, der elektrisch parallel zu dem parasitären Kondensator geschaltet ist.
- Der FACT gemäß Anspruch 1, wobei: der FACT ein Durchlassband aufweist; und der Induktor und der parasitäre Kondensator einen Teil einer Parallelresonanzschaltung bilden, die eine Resonanzfrequenz in dem Durchlassband aufweist.
- Der FACT gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei: der FACT außerdem ein Substrat aufweist, das angeordnet ist, um die DSBARs zu tragen, wobei das Substrat eine Hauptoberfläche aufweist; und der Induktor über dem Substrat angeordnet ist.
- Der FACT gemäß Anspruch 3, bei dem der Induktor folgende Merkmale aufweist: eine Schicht aus isolierendem Material; und ein induktives Element über der Schicht aus isolierendem Material.
- Der FACT gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, wobei: der FACT außerdem folgende Merkmale aufweist: ein Substrat, das die DSBARs trägt, und eine Tochterplatine, die elektrisch leitende Bahnen aufweist; und das Substrat und der Induktor an der Tochterplatine durch die Leiterbahnen elektrisch verbunden befestigt sind.
- Der FACT gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, wobei: der FACT außerdem ein Gehäuse aufweist, das die DSBARs unterbringt, wobei das Gehäuse folgende Merkmale aufweist: ein erstes Substrat, das die DSBARs trägt, ein zweites Substrat, das parallel zu dem ersten Substrat angeordnet ist, und eine Dichtung, die sich zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat erstreckt; und der Induktor an dem zweiten Substrat befestigt ist.
- Der FACT gemäß Anspruch 6, bei dem die Substrate und die Dichtung zusammen eine hermetische Kammer definieren, in der die DSBARs und der Induktor angeordnet sind.
- Der FACT gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, wobei: der FACT außerdem ein Gehäuse aufweist, das folgende Merkmale aufweist: ein erstes Substrat, das die DSBARs trägt, ein zweites Substrat, das parallel zu dem ersten Substrat angeordnet ist, und eine Dichtung, die sich zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat erstreckt; und der Induktor in einer Metallschicht definiert ist, die auf einer Oberfläche des zweiten Substrats angeordnet ist.
- Der FACT gemäß Anspruch 8, bei dem: das Gehäuse außerdem einen Zwischenverbindungsvorsprung aufweist, der sich zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat erstreckt; und der Induktor elektrisch über den Zwischenverbindungsvorsprung mit einer der Elektroden des parasitären Kondensators verbunden ist.
- Der FACT gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, der außerdem einen Isolationskondensator aufweist, der elektrisch in Reihe mit dem Induktor geschaltet ist.
- Der FACT gemäß Anspruch 10, bei dem: der Induktor ein Teil einer Parallelresonanzschaltung ist, die eine Resonanzfrequenz aufweist; und der Induktor und der Isolationskondensator eine Reihenresonanz bei einer Frequenz aufweisen, die sich von der Resonanzfrequenz um mehr als eine Oktave unterscheidet.
- Der FACT gemäß Anspruch 10 oder 11, bei dem: der Isolationskondensator ein Paar von parallelen Platten und ein Dielektrikum zwischen den parallelen Platten aufweist; eine der parallelen Platten und eine der Elektroden des parasitären Kondensators Teile einer ersten leitfähigen gemeinsamen Schicht sind; die andere der parallelen Platten und die andere der Elektroden des parasitären Kondensators Teile einer zweiten gemeinsamen leitfähigen Schicht sind; und das Dielektrikum des Isolationskondensators und das akustische Kopplungselement Teile einer dritten gemeinsamen Schicht sind.
- Ein DSBAR-Bauelement, das eine Bandpasscharakteristik aufweist, die durch eine Mittenfrequenz charakterisiert ist, wobei das DSBAR-Bauelement folgende Merkmale aufweist: einen unteren akustischen Filmvolumenresonator (FBAR) und einen oberen FBAR, der auf den unteren FBAR gestapelt ist, wobei jeder FBAR gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden aufweist; und einen akustischen Entkoppler zwischen den FBARs, wobei der akustische Entkoppler strukturiert ist, um eine Phasenänderung, die nominal gleich π/2 ist, bei einem akustischen Signal zu bewirken, das frequenzmäßig gleich der Mittenfrequenz ist.
- Das DSBAR-Bauelement gemäß Anspruch 13, bei dem: der akustische Entkoppler nicht mehr als eine akustische Entkopplungsschicht aus akustischem Entkopplungsmaterial aufweist; und die akustische Entkopplungsschicht eine Dicke aufweist, die nominal gleich einem Viertel der Wellenlänge des akustischen Signals in dem akustischen Entkopplungsmaterial ist.
- Das DSBAR-Bauelement gemäß Anspruch 13, bei dem der akustische Entkoppler akustische Entkopplungsschichten aus akustischen Entkopplungsmaterialien aufweist, die unterschiedliche akustische Impedanzen aufweisen.
- Das DSBAR-Bauelement gemäß Anspruch 13, 14 oder 15, bei dem: der akustische Entkoppler und benachbarte der Elektroden des unteren FBAR und der Elektroden des oberen FBAR einen parasitären Kondensator bilden; und das DSBAR-Bauelement außerdem einen Induktor aufweist, der elektrisch parallel zu dem parasitären Kondensator geschaltet ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/699,481 | 2003-10-30 | ||
US10/699,481 US6946928B2 (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Thin-film acoustically-coupled transformer |
PCT/US2004/036089 WO2005043752A1 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Film acoustically-coupled transformer with increased common mode rejection |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE112004002038T5 true DE112004002038T5 (de) | 2006-09-21 |
DE112004002038B4 DE112004002038B4 (de) | 2010-06-02 |
Family
ID=34423456
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE602004020435T Active DE602004020435D1 (de) | 2003-10-30 | 2004-06-22 | Akustisch gekoppelter Dünnschicht-Transformator |
DE112004002035T Expired - Fee Related DE112004002035B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Impedanzwandlungsverhältnissteuerung bei akustisch gekoppelten Filmtransformatoren |
DE112004002038T Expired - Fee Related DE112004002038B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Akustisch gekoppelter Filmtransformator mit erhöhter Gleichtaktunterdrückung |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE602004020435T Active DE602004020435D1 (de) | 2003-10-30 | 2004-06-22 | Akustisch gekoppelter Dünnschicht-Transformator |
DE112004002035T Expired - Fee Related DE112004002035B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Impedanzwandlungsverhältnissteuerung bei akustisch gekoppelten Filmtransformatoren |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US6946928B2 (de) |
EP (1) | EP1528675B1 (de) |
JP (3) | JP4648680B2 (de) |
CN (5) | CN100555854C (de) |
DE (3) | DE602004020435D1 (de) |
GB (2) | GB2422059B (de) |
WO (2) | WO2005043752A1 (de) |
Families Citing this family (186)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100107389A1 (en) | 2002-01-11 | 2010-05-06 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating an electrode for a bulk acoustic resonator |
US7044196B2 (en) * | 2003-01-31 | 2006-05-16 | Cooligy,Inc | Decoupled spring-loaded mounting apparatus and method of manufacturing thereof |
US7275292B2 (en) | 2003-03-07 | 2007-10-02 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method for fabricating an acoustical resonator on a substrate |
FR2853473B1 (fr) * | 2003-04-01 | 2005-07-01 | St Microelectronics Sa | Composant electronique comprenant un resonateur et procede de fabrication |
US7994877B1 (en) | 2008-11-10 | 2011-08-09 | Hrl Laboratories, Llc | MEMS-based quartz hybrid filters and a method of making the same |
DE10319554B4 (de) * | 2003-04-30 | 2018-05-09 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren |
US8766745B1 (en) | 2007-07-25 | 2014-07-01 | Hrl Laboratories, Llc | Quartz-based disk resonator gyro with ultra-thin conductive outer electrodes and method of making same |
US7019605B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-03-28 | Larson Iii John D | Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth |
DE602004000851T2 (de) * | 2003-10-30 | 2007-05-16 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Akustisch gekoppelter Dünnschicht-Transformator mit zwei piezoelektrischen Elementen, welche entgegengesetzte C-Axen Orientierung besitzten |
US6946928B2 (en) * | 2003-10-30 | 2005-09-20 | Agilent Technologies, Inc. | Thin-film acoustically-coupled transformer |
US7391285B2 (en) * | 2003-10-30 | 2008-06-24 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Film acoustically-coupled transformer |
US7242270B2 (en) * | 2003-10-30 | 2007-07-10 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Decoupled stacked bulk acoustic resonator-based band-pass filter |
US7358831B2 (en) * | 2003-10-30 | 2008-04-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with simplified packaging |
JP4488167B2 (ja) * | 2003-12-18 | 2010-06-23 | Tdk株式会社 | フィルタ |
US7388454B2 (en) | 2004-10-01 | 2008-06-17 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Acoustic resonator performance enhancement using alternating frame structure |
US8981876B2 (en) | 2004-11-15 | 2015-03-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements |
US7202560B2 (en) | 2004-12-15 | 2007-04-10 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Wafer bonding of micro-electro mechanical systems to active circuitry |
US7791434B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-09-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch and having a trench in the piezoelectric |
JP4622574B2 (ja) * | 2005-02-21 | 2011-02-02 | 株式会社デンソー | 超音波素子 |
US7427819B2 (en) * | 2005-03-04 | 2008-09-23 | Avago Wireless Ip Pte Ltd | Film-bulk acoustic wave resonator with motion plate and method |
US7369013B2 (en) | 2005-04-06 | 2008-05-06 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Acoustic resonator performance enhancement using filled recessed region |
US7436269B2 (en) * | 2005-04-18 | 2008-10-14 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically coupled resonators and method of making the same |
US7934884B2 (en) * | 2005-04-27 | 2011-05-03 | Lockhart Industries, Inc. | Ring binder cover |
US7276892B2 (en) * | 2005-04-29 | 2007-10-02 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Resonator based spectrum analyzer and method |
US7562429B2 (en) * | 2005-06-20 | 2009-07-21 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Suspended device and method of making |
DE102005028927B4 (de) * | 2005-06-22 | 2007-02-15 | Infineon Technologies Ag | BAW-Vorrichtung |
US7443269B2 (en) | 2005-07-27 | 2008-10-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method and apparatus for selectively blocking radio frequency (RF) signals in a radio frequency (RF) switching circuit |
US7185695B1 (en) * | 2005-09-01 | 2007-03-06 | United Technologies Corporation | Investment casting pattern manufacture |
FR2890490A1 (fr) * | 2005-09-05 | 2007-03-09 | St Microelectronics Sa | Support de resonateur acoustique et circuit integre correspondant |
US7868522B2 (en) | 2005-09-09 | 2011-01-11 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Adjusted frequency temperature coefficient resonator |
US8094704B2 (en) * | 2005-09-15 | 2012-01-10 | Avago Technologies Wiresless IP (Singapore) Pte. Ltd. | Detecting wireless channel status from acoustic discrimination of spectral content |
US7391286B2 (en) * | 2005-10-06 | 2008-06-24 | Avago Wireless Ip Pte Ltd | Impedance matching and parasitic capacitor resonance of FBAR resonators and coupled filters |
US7525398B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-04-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier |
US7675390B2 (en) | 2005-10-18 | 2010-03-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator |
US20070085632A1 (en) * | 2005-10-18 | 2007-04-19 | Larson John D Iii | Acoustic galvanic isolator |
US7425787B2 (en) * | 2005-10-18 | 2008-09-16 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating single insulated decoupled stacked bulk acoustic resonator with acoustically-resonant electrical insulator |
US7423503B2 (en) * | 2005-10-18 | 2008-09-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating film acoustically-coupled transformer |
US7737807B2 (en) | 2005-10-18 | 2010-06-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators |
US7463499B2 (en) * | 2005-10-31 | 2008-12-09 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte Ltd. | AC-DC power converter |
US7561009B2 (en) * | 2005-11-30 | 2009-07-14 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with temperature compensation |
JP5103873B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2012-12-19 | セイコーエプソン株式会社 | 静電型超音波トランスデューサの駆動制御方法、静電型超音波トランスデューサ、これを用いた超音波スピーカ、音声信号再生方法、超指向性音響システム及び表示装置 |
US7867636B2 (en) * | 2006-01-11 | 2011-01-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transparent conductive film and method for manufacturing the same |
US7514844B2 (en) * | 2006-01-23 | 2009-04-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic data coupling system and method |
US7586392B2 (en) * | 2006-01-23 | 2009-09-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Dual path acoustic data coupling system and method |
US7612636B2 (en) * | 2006-01-30 | 2009-11-03 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Impedance transforming bulk acoustic wave baluns |
US7746677B2 (en) | 2006-03-09 | 2010-06-29 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | AC-DC converter circuit and power supply |
US20070210724A1 (en) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Mark Unkrich | Power adapter and DC-DC converter having acoustic transformer |
US20070210748A1 (en) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Mark Unkrich | Power supply and electronic device having integrated power supply |
US7479685B2 (en) | 2006-03-10 | 2009-01-20 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Electronic device on substrate with cavity and mitigated parasitic leakage path |
US7629865B2 (en) * | 2006-05-31 | 2009-12-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters |
US7586389B2 (en) * | 2006-06-19 | 2009-09-08 | Maxim Integrated Products, Inc. | Impedance transformation and filter using bulk acoustic wave technology |
US7598827B2 (en) * | 2006-06-19 | 2009-10-06 | Maxim Integrated Products | Harmonic termination of power amplifiers using BAW filter output matching circuits |
DE102006032950B4 (de) * | 2006-07-17 | 2010-07-22 | Epcos Ag | Schaltung mit BAW-Resonatoren |
JP5036435B2 (ja) * | 2006-09-01 | 2012-09-26 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイス、フィルタおよび分波器 |
US7508286B2 (en) * | 2006-09-28 | 2009-03-24 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | HBAR oscillator and method of manufacture |
US20080202239A1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-08-28 | Fazzio R Shane | Piezoelectric acceleration sensor |
CN100547396C (zh) * | 2007-05-08 | 2009-10-07 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种应用于生物微质量检测的硅基压电薄膜传感器及制作方法 |
US7982363B2 (en) * | 2007-05-14 | 2011-07-19 | Cree, Inc. | Bulk acoustic device and method for fabricating |
US10266398B1 (en) | 2007-07-25 | 2019-04-23 | Hrl Laboratories, Llc | ALD metal coatings for high Q MEMS structures |
JP5040991B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-10-03 | 株式会社村田製作所 | 透明導電膜および透明導電膜の製造方法 |
CN101384133B (zh) * | 2007-09-07 | 2011-11-16 | 富葵精密组件(深圳)有限公司 | 对位方法 |
US20090079514A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-03-26 | Tiberiu Jamneala | Hybrid acoustic resonator-based filters |
US7791435B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-09-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Single stack coupled resonators having differential output |
US7786826B2 (en) | 2007-10-12 | 2010-08-31 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Apparatus with acoustically coupled BAW resonators and a method for matching impedances |
US8018303B2 (en) * | 2007-10-12 | 2011-09-13 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic wave device |
US8151640B1 (en) | 2008-02-05 | 2012-04-10 | Hrl Laboratories, Llc | MEMS on-chip inertial navigation system with error correction |
US7802356B1 (en) | 2008-02-21 | 2010-09-28 | Hrl Laboratories, Llc | Method of fabricating an ultra thin quartz resonator component |
US8179025B1 (en) | 2008-02-29 | 2012-05-15 | University Of Maryland College Park | Lead-free piezoceramic materials |
US7732977B2 (en) | 2008-04-30 | 2010-06-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) | Transceiver circuit for film bulk acoustic resonator (FBAR) transducers |
US7855618B2 (en) | 2008-04-30 | 2010-12-21 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator electrical impedance transformers |
JP5226409B2 (ja) | 2008-07-17 | 2013-07-03 | 太陽誘電株式会社 | 共振デバイス、通信モジュール、通信装置、共振デバイスの製造方法 |
JP5220503B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2013-06-26 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイス |
FR2939986A1 (fr) * | 2008-12-12 | 2010-06-18 | St Microelectronics Sa | Circuit de filtrage comportant des resonateurs baw couples et autorisant une adaptation d'impedance |
EP2387152A1 (de) | 2009-01-09 | 2011-11-16 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Filterelement, verzweigungsfilter und elektronisches gerät |
US8291559B2 (en) * | 2009-02-24 | 2012-10-23 | Epcos Ag | Process for adapting resonance frequency of a BAW resonator |
JP5578797B2 (ja) * | 2009-03-13 | 2014-08-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
DE102009014068B4 (de) * | 2009-03-20 | 2011-01-13 | Epcos Ag | Kompaktes, hochintegriertes elektrisches Modul mit Verschaltung aus BAW-Filter und Symmetrierschaltung und Herstellungsverfahren |
EP2237416A1 (de) * | 2009-03-30 | 2010-10-06 | Nxp B.V. | Vorrichtung mit einem elektroakustischen Balun |
US8198958B1 (en) * | 2009-03-30 | 2012-06-12 | Triquint Semiconductor, Inc. | Power amplifier matching RF system and method using bulk acoustics wave device |
US8248185B2 (en) | 2009-06-24 | 2012-08-21 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure comprising a bridge |
US8902023B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-12-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion |
US8176607B1 (en) | 2009-10-08 | 2012-05-15 | Hrl Laboratories, Llc | Method of fabricating quartz resonators |
US8193877B2 (en) | 2009-11-30 | 2012-06-05 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Duplexer with negative phase shifting circuit |
JP5617523B2 (ja) * | 2009-12-08 | 2014-11-05 | 株式会社村田製作所 | 積層型圧電薄膜フィルタの製造方法 |
FR2954626B1 (fr) | 2009-12-23 | 2013-12-06 | Commissariat Energie Atomique | Resonateur acoustique comprenant un electret, et procede de fabrication de ce resonateur, application aux filtres commutables a resonateurs couples |
US8673121B2 (en) | 2010-01-22 | 2014-03-18 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating piezoelectric materials with opposite C-axis orientations |
US9243316B2 (en) | 2010-01-22 | 2016-01-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation |
US9679765B2 (en) | 2010-01-22 | 2017-06-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating rare-earth doped piezoelectric material with various amounts of dopants and a selected C-axis orientation |
US8796904B2 (en) | 2011-10-31 | 2014-08-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer |
DE102010005906A1 (de) * | 2010-01-27 | 2011-07-28 | Epcos Ag, 81669 | Piezoelektrisches Bauelement |
US8283999B2 (en) * | 2010-02-23 | 2012-10-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator structures comprising a single material acoustic coupling layer comprising inhomogeneous acoustic property |
US8587391B2 (en) * | 2010-02-23 | 2013-11-19 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic coupling layer for coupled resonator filters and method of fabricating acoustic coupling layer |
US8508315B2 (en) * | 2010-02-23 | 2013-08-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically coupled resonator filter with impedance transformation ratio controlled by resonant frequency difference between two coupled resonators |
JP5519326B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2014-06-11 | 太陽誘電株式会社 | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 |
US8390397B2 (en) * | 2010-03-29 | 2013-03-05 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator structure comprising hybrid electrodes |
US8912711B1 (en) | 2010-06-22 | 2014-12-16 | Hrl Laboratories, Llc | Thermal stress resistant resonator, and a method for fabricating same |
JP5187597B2 (ja) * | 2010-07-05 | 2013-04-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性波素子 |
US8674789B2 (en) * | 2010-07-07 | 2014-03-18 | Wei Pang | Serially connected first and second coupled resonator filters configured to provide at least one feedback capacitor |
US8232845B2 (en) | 2010-09-27 | 2012-07-31 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Packaged device with acoustic resonator and electronic circuitry and method of making the same |
FR2966306B1 (fr) | 2010-10-15 | 2013-06-14 | Commissariat Energie Atomique | Filtre baw a couplage lateral utilisant des cristaux phononiques |
US9608589B2 (en) * | 2010-10-26 | 2017-03-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of forming acoustic resonator using intervening seed layer |
JP5643056B2 (ja) * | 2010-11-01 | 2014-12-17 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイス |
CN102056037B (zh) * | 2010-12-20 | 2014-08-13 | 张�浩 | 声耦合器件 |
CN102075161B (zh) * | 2011-01-20 | 2013-06-05 | 张�浩 | 声波器件及其制作方法 |
JP5360432B2 (ja) * | 2011-01-27 | 2013-12-04 | 株式会社村田製作所 | 圧電デバイス |
US8962443B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-02-24 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same |
US9048812B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer |
US9154112B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-10-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge |
US9136818B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked acoustic resonator comprising a bridge |
US9148117B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-29 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements |
US9425764B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-08-23 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features |
US9083302B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-07-14 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator |
US9203374B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-12-01 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator comprising a bridge |
US9490418B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-11-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising collar and acoustic reflector with temperature compensating layer |
US9490771B2 (en) | 2012-10-29 | 2016-11-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising collar and frame |
US9401692B2 (en) | 2012-10-29 | 2016-07-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator having collar structure |
US8575820B2 (en) | 2011-03-29 | 2013-11-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator |
US9444426B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-09-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature |
US8551251B2 (en) * | 2011-04-28 | 2013-10-08 | Lam Research Ag | Ultrasonic treatment method and apparatus |
US8350445B1 (en) | 2011-06-16 | 2013-01-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge |
US9069005B2 (en) | 2011-06-17 | 2015-06-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Capacitance detector for accelerometer and gyroscope and accelerometer and gyroscope with capacitance detector |
US8922302B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-12-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator formed on a pedestal |
US8649820B2 (en) | 2011-11-07 | 2014-02-11 | Blackberry Limited | Universal integrated circuit card apparatus and related methods |
US9391226B2 (en) | 2011-11-10 | 2016-07-12 | Lei Guo | Semiconductor DC transformer |
CN102427094B (zh) * | 2011-11-10 | 2013-08-28 | 郭磊 | 一种半导体直流光电变压器 |
CN102832287B (zh) * | 2011-11-10 | 2015-11-25 | 郭磊 | 一种半导体直流光电变压器 |
USD703208S1 (en) | 2012-04-13 | 2014-04-22 | Blackberry Limited | UICC apparatus |
US8936199B2 (en) | 2012-04-13 | 2015-01-20 | Blackberry Limited | UICC apparatus and related methods |
USD701864S1 (en) | 2012-04-23 | 2014-04-01 | Blackberry Limited | UICC apparatus |
US9804126B2 (en) * | 2012-09-04 | 2017-10-31 | Veeco Instruments Inc. | Apparatus and method for improved acoustical transformation |
WO2014050482A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 株式会社村田製作所 | インピーダンス変換回路の設計方法 |
US9385684B2 (en) | 2012-10-23 | 2016-07-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator having guard ring |
JP6135185B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサーデバイス、ヘッドユニット、プローブ、超音波画像装置及び電子機器 |
JP6135184B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサーデバイス、ヘッドユニット、プローブ及び超音波画像装置 |
JP6185292B2 (ja) | 2013-06-10 | 2017-08-23 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイス |
US9599470B1 (en) | 2013-09-11 | 2017-03-21 | Hrl Laboratories, Llc | Dielectric high Q MEMS shell gyroscope structure |
US9977097B1 (en) | 2014-02-21 | 2018-05-22 | Hrl Laboratories, Llc | Micro-scale piezoelectric resonating magnetometer |
US9368564B2 (en) * | 2014-03-28 | 2016-06-14 | Qualcomm Incorporated | 3D pillar inductor |
US9991863B1 (en) | 2014-04-08 | 2018-06-05 | Hrl Laboratories, Llc | Rounded and curved integrated tethers for quartz resonators |
US9929714B2 (en) * | 2014-04-13 | 2018-03-27 | Texas Instruments Incorporated | Temperature compensated bulk acoustic wave resonator with a high coupling coefficient |
US10340885B2 (en) | 2014-05-08 | 2019-07-02 | Avago Technologies International Sales Pte. Limited | Bulk acoustic wave devices with temperature-compensating niobium alloy electrodes |
DE102015107569A1 (de) | 2014-05-15 | 2015-11-19 | Avago Technologies General Ip Pte. Ltd. | Verfahren zur Herstellung von mit Seltenerdelement dotiertem piezoelektrischen Material mit verschiedenen Mengen an Dotiermittel und einer ausgewählten C-Achsen Orientierung |
US10308505B1 (en) | 2014-08-11 | 2019-06-04 | Hrl Laboratories, Llc | Method and apparatus for the monolithic encapsulation of a micro-scale inertial navigation sensor suite |
US10333494B2 (en) | 2014-12-24 | 2019-06-25 | Qorvo Us, Inc. | Simplified acoustic RF resonator parallel capacitance compensation |
US20160191015A1 (en) * | 2014-12-27 | 2016-06-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Split current bulk acoustic wave (baw) resonators |
US10031191B1 (en) | 2015-01-16 | 2018-07-24 | Hrl Laboratories, Llc | Piezoelectric magnetometer capable of sensing a magnetic field in multiple vectors |
US9915232B2 (en) * | 2015-02-23 | 2018-03-13 | Lao Khang | Throttle body neck for an intake manifold |
US9602076B1 (en) * | 2015-05-19 | 2017-03-21 | Qorvo Us, Inc. | Resonators with balancing capacitor |
CN108463720B (zh) * | 2015-10-21 | 2021-03-23 | Qorvo美国公司 | 具有声学振动的剪切模式和纵向模式的增强反射的谐振器结构 |
TW201719963A (zh) * | 2015-11-24 | 2017-06-01 | Prosperity Dielectrics Co Ltd | 高頻傳輸線之阻抗匹配轉換器 |
US10175307B1 (en) | 2016-01-15 | 2019-01-08 | Hrl Laboratories, Llc | FM demodulation system for quartz MEMS magnetometer |
US20170288122A1 (en) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Baw resonator having thin seed layer |
US10581156B2 (en) | 2016-05-04 | 2020-03-03 | Qorvo Us, Inc. | Compensation circuit to mitigate antenna-to-antenna coupling |
WO2017212774A1 (ja) * | 2016-06-07 | 2017-12-14 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びその製造方法 |
US10581403B2 (en) | 2016-07-11 | 2020-03-03 | Qorvo Us, Inc. | Device having a titanium-alloyed surface |
KR102066960B1 (ko) * | 2016-08-03 | 2020-01-16 | 삼성전기주식회사 | 박막 벌크 음향 공진기 및 이를 포함하는 필터 |
US11050412B2 (en) * | 2016-09-09 | 2021-06-29 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter using acoustic coupling |
US10367470B2 (en) | 2016-10-19 | 2019-07-30 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level-packaged BAW devices with surface mount connection structures |
KR20180048244A (ko) * | 2016-10-31 | 2018-05-10 | 삼성전기주식회사 | 체적 음향 공진기를 포함하는 필터 |
JP6661521B2 (ja) * | 2016-12-05 | 2020-03-11 | 太陽誘電株式会社 | フィルタおよびマルチプレクサ |
US11165412B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Zero-output coupled resonator filter and related radio frequency filter circuit |
US11165413B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator structure |
CN107196618A (zh) * | 2017-02-16 | 2017-09-22 | 杭州左蓝微电子技术有限公司 | 薄膜体声波谐振器及其制备方法 |
US10256788B2 (en) | 2017-03-31 | 2019-04-09 | Avago Technologies International Sales Pte. Limited | Acoustic resonator including extended cavity |
US10873318B2 (en) | 2017-06-08 | 2020-12-22 | Qorvo Us, Inc. | Filter circuits having acoustic wave resonators in a transversal configuration |
US10615772B2 (en) | 2017-06-30 | 2020-04-07 | Texas Instruments Incorporated | Acoustic wave resonators having Fresnel surfaces |
US10686425B2 (en) | 2017-06-30 | 2020-06-16 | Texas Instruments Incorporated | Bulk acoustic wave resonators having convex surfaces, and methods of forming the same |
US10622966B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Bulk acoustic wave resonators having a phononic crystal acoustic mirror |
US10855251B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Unreleased plane acoustic wave resonators |
US10361676B2 (en) | 2017-09-29 | 2019-07-23 | Qorvo Us, Inc. | Baw filter structure with internal electrostatic shielding |
JP2019124687A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 音波センサおよび気相分析物を検知する方法 |
US11152913B2 (en) | 2018-03-28 | 2021-10-19 | Qorvo Us, Inc. | Bulk acoustic wave (BAW) resonator |
KR102066962B1 (ko) * | 2018-05-04 | 2020-01-16 | 삼성전기주식회사 | 체적 음향 공진기를 포함하는 필터 |
CN109639251A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-04-16 | 开元通信技术(厦门)有限公司 | 体声波谐振器及其制作方法、滤波器 |
CN111010110A (zh) * | 2019-03-12 | 2020-04-14 | 天津大学 | 考虑距离的薄膜封装的mems器件组件及电子设备 |
US11146247B2 (en) | 2019-07-25 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Stacked crystal filter structures |
CN111146327A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-05-12 | 诺思(天津)微系统有限责任公司 | 单晶压电结构及其制造方法、单晶压电层叠结构的电子设备 |
US11757430B2 (en) | 2020-01-07 | 2023-09-12 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter circuit for noise suppression outside resonance frequency |
US11146245B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Mode suppression in acoustic resonators |
US11146246B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Phase shift structures for acoustic resonators |
CN111669141B (zh) * | 2020-05-29 | 2021-11-02 | 见闻录(浙江)半导体有限公司 | 一种体声波谐振器的电极结构及制作工艺 |
CN111755591A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-10-09 | 济南晶正电子科技有限公司 | 一种压电薄膜体及其制备方法、空腔型器件及其制备方法 |
CN112234949A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-15 | 武汉大学 | 一种多频段可调谐的三维体声波谐振器 |
US11632097B2 (en) | 2020-11-04 | 2023-04-18 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator filter device |
US11575363B2 (en) | 2021-01-19 | 2023-02-07 | Qorvo Us, Inc. | Hybrid bulk acoustic wave filter |
CN113541638A (zh) * | 2021-07-29 | 2021-10-22 | 绍兴汉天下微电子有限公司 | 滤波器及其制备方法、双工器 |
Family Cites Families (157)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1307476A (fr) * | 1960-12-12 | 1962-10-26 | U S Sonics Corp | Amplificateur sélecteur de fréquences |
US3189851A (en) * | 1962-06-04 | 1965-06-15 | Sonus Corp | Piezoelectric filter |
US3321648A (en) * | 1964-06-04 | 1967-05-23 | Sonus Corp | Piezoelectric filter element |
GB1207974A (en) | 1966-11-17 | 1970-10-07 | Clevite Corp | Frequency selective apparatus including a piezoelectric device |
US3422371A (en) * | 1967-07-24 | 1969-01-14 | Sanders Associates Inc | Thin film piezoelectric oscillator |
US3826931A (en) | 1967-10-26 | 1974-07-30 | Hewlett Packard Co | Dual crystal resonator apparatus |
US3582839A (en) | 1968-06-06 | 1971-06-01 | Clevite Corp | Composite coupled-mode filter |
US3607761A (en) | 1968-12-09 | 1971-09-21 | Continental Oil Co | Soap bars containing salts of fatty acids derived from the guerbet reaction |
US3610969A (en) | 1970-02-06 | 1971-10-05 | Mallory & Co Inc P R | Monolithic piezoelectric resonator for use as filter or transformer |
US3845402A (en) | 1973-02-15 | 1974-10-29 | Edmac Ass Inc | Sonobuoy receiver system, floating coupler |
FR2380666A1 (fr) | 1977-02-14 | 1978-09-08 | Cii Honeywell Bull | Systeme de commande de decoupage pour convertisseur dans une alimentation electrique continue |
US4084217A (en) | 1977-04-19 | 1978-04-11 | Bbc Brown, Boveri & Company, Limited | Alternating-current fed power supply |
GB2033185B (en) | 1978-09-22 | 1983-05-18 | Secr Defence | Acoustic wave device with temperature stabilisation |
US4281299A (en) | 1979-11-23 | 1981-07-28 | Honeywell Inc. | Signal isolator |
ZA81781B (en) | 1980-02-13 | 1982-03-31 | Int Computers Ltd | Digital systems |
US4320365A (en) | 1980-11-03 | 1982-03-16 | United Technologies Corporation | Fundamental, longitudinal, thickness mode bulk wave resonator |
US4373177A (en) * | 1981-09-30 | 1983-02-08 | Sprague Electric Company | High temperature electrolytic capacitor |
JPS58137317A (ja) | 1982-02-09 | 1983-08-15 | Nec Corp | 圧電薄膜複合振動子 |
GB2137056B (en) | 1983-03-16 | 1986-09-03 | Standard Telephones Cables Ltd | Communications apparatus |
US4625138A (en) | 1984-10-24 | 1986-11-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Piezoelectric microwave resonator using lateral excitation |
US4719383A (en) | 1985-05-20 | 1988-01-12 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Piezoelectric shear wave resonator and method of making same |
SE465946B (sv) | 1986-09-11 | 1991-11-18 | Bengt Henoch | Anordning foer oeverfoering av elektrisk energi till elektrisk utrustning genom omagnetiska och elektriskt isolerande material |
JPH0626352B2 (ja) * | 1987-11-20 | 1994-04-06 | 日本電気エンジニアリング株式会社 | プログラマブル変調回路 |
US4906840A (en) | 1988-01-27 | 1990-03-06 | The Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr., University | Integrated scanning tunneling microscope |
US4841429A (en) | 1988-03-24 | 1989-06-20 | Hughes Aircraft Company | Capacitive coupled power supplies |
US4836882A (en) | 1988-09-12 | 1989-06-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method of making an acceleration hardened resonator |
JPH02108301A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-20 | Mitsubishi Electric Corp | λ/4形スイッチ回路 |
US5118982A (en) | 1989-05-31 | 1992-06-02 | Nec Corporation | Thickness mode vibration piezoelectric transformer |
US5048036A (en) | 1989-09-18 | 1991-09-10 | Spectra Diode Laboratories, Inc. | Heterostructure laser with lattice mismatch |
US5048038A (en) | 1990-01-25 | 1991-09-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Ion-implanted planar-buried-heterostructure diode laser |
EP0461437B1 (de) | 1990-05-22 | 1998-07-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Datenaufzeichnungsgerät |
US5241456A (en) | 1990-07-02 | 1993-08-31 | General Electric Company | Compact high density interconnect structure |
JP2995076B2 (ja) | 1990-07-24 | 1999-12-27 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
US5162691A (en) | 1991-01-22 | 1992-11-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Cantilevered air-gap type thin film piezoelectric resonator |
US5185589A (en) * | 1991-05-17 | 1993-02-09 | Westinghouse Electric Corp. | Microwave film bulk acoustic resonator and manifolded filter bank |
US5294898A (en) | 1992-01-29 | 1994-03-15 | Motorola, Inc. | Wide bandwidth bandpass filter comprising parallel connected piezoelectric resonators |
JPH065944A (ja) * | 1992-06-24 | 1994-01-14 | Nec Corp | 圧電磁器トランスフィルタとその駆動方法 |
US5382930A (en) | 1992-12-21 | 1995-01-17 | Trw Inc. | Monolithic multipole filters made of thin film stacked crystal filters |
US5384808A (en) | 1992-12-31 | 1995-01-24 | Apple Computer, Inc. | Method and apparatus for transmitting NRZ data signals across an isolation barrier disposed in an interface between adjacent devices on a bus |
US5448014A (en) | 1993-01-27 | 1995-09-05 | Trw Inc. | Mass simultaneous sealing and electrical connection of electronic devices |
US5465725A (en) | 1993-06-15 | 1995-11-14 | Hewlett Packard Company | Ultrasonic probe |
US5587620A (en) | 1993-12-21 | 1996-12-24 | Hewlett-Packard Company | Tunable thin film acoustic resonators and method for making the same |
US5594705A (en) | 1994-02-04 | 1997-01-14 | Dynamotive Canada Corporation | Acoustic transformer with non-piezoelectric core |
US5864261A (en) * | 1994-05-23 | 1999-01-26 | Iowa State University Research Foundation | Multiple layer acoustical structures for thin-film resonator based circuits and systems |
JPH0878786A (ja) | 1994-09-02 | 1996-03-22 | Mitsubishi Electric Corp | 歪量子井戸の構造 |
US5692279A (en) | 1995-08-17 | 1997-12-02 | Motorola | Method of making a monolithic thin film resonator lattice filter |
CN1183587C (zh) | 1996-04-08 | 2005-01-05 | 德克萨斯仪器股份有限公司 | 用于把两个集成电路直流上相互隔离的方法和设备 |
US5965679A (en) * | 1996-09-10 | 1999-10-12 | The Dow Chemical Company | Polyphenylene oligomers and polymers |
US5714917A (en) | 1996-10-02 | 1998-02-03 | Nokia Mobile Phones Limited | Device incorporating a tunable thin film bulk acoustic resonator for performing amplitude and phase modulation |
US5873154A (en) * | 1996-10-17 | 1999-02-23 | Nokia Mobile Phones Limited | Method for fabricating a resonator having an acoustic mirror |
US6087198A (en) | 1998-02-12 | 2000-07-11 | Texas Instruments Incorporated | Low cost packaging for thin-film resonators and thin-film resonator-based filters |
US5872493A (en) | 1997-03-13 | 1999-02-16 | Nokia Mobile Phones, Ltd. | Bulk acoustic wave (BAW) filter having a top portion that includes a protective acoustic mirror |
US5853601A (en) | 1997-04-03 | 1998-12-29 | Northrop Grumman Corporation | Top-via etch technique for forming dielectric membranes |
US6339048B1 (en) * | 1999-12-23 | 2002-01-15 | Elementis Specialties, Inc. | Oil and oil invert emulsion drilling fluids with improved anti-settling properties |
US6040962A (en) | 1997-05-14 | 2000-03-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistive element with conductive films and magnetic domain films overlapping a central active area |
US5910756A (en) | 1997-05-21 | 1999-06-08 | Nokia Mobile Phones Limited | Filters and duplexers utilizing thin film stacked crystal filter structures and thin film bulk acoustic wave resonators |
JP3378775B2 (ja) | 1997-07-07 | 2003-02-17 | 株式会社村田製作所 | 圧電共振子およびその周波数調整方法 |
US5982297A (en) | 1997-10-08 | 1999-11-09 | The Aerospace Corporation | Ultrasonic data communication system |
US6873065B2 (en) * | 1997-10-23 | 2005-03-29 | Analog Devices, Inc. | Non-optical signal isolator |
US6081171A (en) * | 1998-04-08 | 2000-06-27 | Nokia Mobile Phones Limited | Monolithic filters utilizing thin film bulk acoustic wave devices and minimum passive components for controlling the shape and width of a passband response |
US5936150A (en) | 1998-04-13 | 1999-08-10 | Rockwell Science Center, Llc | Thin film resonant chemical sensor with resonant acoustic isolator |
US5953479A (en) | 1998-05-07 | 1999-09-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Tilted valance-band quantum well double heterostructures for single step active and passive optical waveguide device monolithic integration |
KR100328807B1 (ko) * | 1998-05-08 | 2002-03-14 | 가네코 히사시 | 제조비용이 저렴하고 충분한 접착 강도가 수득될 수 있는 수지구조물 및 이의 제조 방법 |
JPH11345406A (ja) | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Sony Corp | マスクパターンの形成方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
US6060818A (en) | 1998-06-02 | 2000-05-09 | Hewlett-Packard Company | SBAR structures and method of fabrication of SBAR.FBAR film processing techniques for the manufacturing of SBAR/BAR filters |
DE19826152A1 (de) | 1998-06-12 | 1999-12-16 | Thomson Brandt Gmbh | Anordnung mit einem Schaltnetzteil und einem Mikroprozessor |
US6150703A (en) | 1998-06-29 | 2000-11-21 | Trw Inc. | Lateral mode suppression in semiconductor bulk acoustic resonator (SBAR) devices using tapered electrodes, and electrodes edge damping materials |
US6252229B1 (en) | 1998-07-10 | 2001-06-26 | Boeing North American, Inc. | Sealed-cavity microstructure and microbolometer and associated fabrication methods |
US6090687A (en) * | 1998-07-29 | 2000-07-18 | Agilent Technolgies, Inc. | System and method for bonding and sealing microfabricated wafers to form a single structure having a vacuum chamber therein |
US6488444B2 (en) * | 1998-09-11 | 2002-12-03 | Jack Joseph Licata | Manhole protective pad |
US6229247B1 (en) | 1998-11-09 | 2001-05-08 | Face International Corp. | Multi-layer piezoelectric electrical energy transfer device |
US6525996B1 (en) | 1998-12-22 | 2003-02-25 | Seiko Epson Corporation | Power feeding apparatus, power receiving apparatus, power transfer system, power transfer method, portable apparatus, and timepiece |
FI113211B (fi) * | 1998-12-30 | 2004-03-15 | Nokia Corp | Balansoitu suodatinrakenne ja matkaviestinlaite |
US6215375B1 (en) | 1999-03-30 | 2001-04-10 | Agilent Technologies, Inc. | Bulk acoustic wave resonator with improved lateral mode suppression |
JP3531522B2 (ja) | 1999-04-19 | 2004-05-31 | 株式会社村田製作所 | 圧電共振子 |
US6262637B1 (en) | 1999-06-02 | 2001-07-17 | Agilent Technologies, Inc. | Duplexer incorporating thin-film bulk acoustic resonators (FBARs) |
DE19931297A1 (de) | 1999-07-07 | 2001-01-11 | Philips Corp Intellectual Pty | Volumenwellen-Filter |
FI107660B (fi) * | 1999-07-19 | 2001-09-14 | Nokia Mobile Phones Ltd | Resonaattorirakenne |
JP4420538B2 (ja) | 1999-07-23 | 2010-02-24 | アバゴ・テクノロジーズ・ワイヤレス・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド | ウェーハパッケージの製造方法 |
US6265246B1 (en) | 1999-07-23 | 2001-07-24 | Agilent Technologies, Inc. | Microcap wafer-level package |
US6228675B1 (en) | 1999-07-23 | 2001-05-08 | Agilent Technologies, Inc. | Microcap wafer-level package with vias |
US6107721A (en) | 1999-07-27 | 2000-08-22 | Tfr Technologies, Inc. | Piezoelectric resonators on a differentially offset reflector |
US6292336B1 (en) | 1999-09-30 | 2001-09-18 | Headway Technologies, Inc. | Giant magnetoresistive (GMR) sensor element with enhanced magnetoresistive (MR) coefficient |
US6307447B1 (en) | 1999-11-01 | 2001-10-23 | Agere Systems Guardian Corp. | Tuning mechanical resonators for electrical filter |
JP2001196883A (ja) | 1999-11-01 | 2001-07-19 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振素子の周波数調整方法 |
US6441539B1 (en) | 1999-11-11 | 2002-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Piezoelectric resonator |
JP2001244778A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-09-07 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 高周波圧電振動子 |
DE19962028A1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-06-28 | Philips Corp Intellectual Pty | Filteranordnung |
DE60042916D1 (de) * | 2000-01-10 | 2009-10-22 | Eta Sa Mft Horlogere Suisse | Vorrichtung um ein Signal zu erzeugen,dessen Frequenz wesentlich Temperatur unabhängig ist |
US6521477B1 (en) * | 2000-02-02 | 2003-02-18 | Raytheon Company | Vacuum package fabrication of integrated circuit components |
US6479320B1 (en) | 2000-02-02 | 2002-11-12 | Raytheon Company | Vacuum package fabrication of microelectromechanical system devices with integrated circuit components |
US6466418B1 (en) | 2000-02-11 | 2002-10-15 | Headway Technologies, Inc. | Bottom spin valves with continuous spacer exchange (or hard) bias |
US6262600B1 (en) | 2000-02-14 | 2001-07-17 | Analog Devices, Inc. | Isolator for transmitting logic signals across an isolation barrier |
DE10007577C1 (de) | 2000-02-18 | 2001-09-13 | Infineon Technologies Ag | Piezoresonator |
US6441481B1 (en) * | 2000-04-10 | 2002-08-27 | Analog Devices, Inc. | Hermetically sealed microstructure package |
US6384697B1 (en) | 2000-05-08 | 2002-05-07 | Agilent Technologies, Inc. | Cavity spanning bottom electrode of a substrate-mounted bulk wave acoustic resonator |
US6420820B1 (en) | 2000-08-31 | 2002-07-16 | Agilent Technologies, Inc. | Acoustic wave resonator and method of operating the same to maintain resonance when subjected to temperature variations |
US6377137B1 (en) | 2000-09-11 | 2002-04-23 | Agilent Technologies, Inc. | Acoustic resonator filter with reduced electromagnetic influence due to die substrate thickness |
US6486751B1 (en) | 2000-09-26 | 2002-11-26 | Agere Systems Inc. | Increased bandwidth thin film resonator having a columnar structure |
US6530515B1 (en) | 2000-09-26 | 2003-03-11 | Amkor Technology, Inc. | Micromachine stacked flip chip package fabrication method |
US6542055B1 (en) | 2000-10-31 | 2003-04-01 | Agilent Technologies, Inc. | Integrated filter balun |
DE60110827T2 (de) | 2000-11-03 | 2006-01-12 | Paratek Microwave, Inc. | Verfahren zur kanalfrequenzzuteilung für hf- und mikrowellenduplexer |
US6515558B1 (en) | 2000-11-06 | 2003-02-04 | Nokia Mobile Phones Ltd | Thin-film bulk acoustic resonator with enhanced power handling capacity |
GB0029090D0 (en) * | 2000-11-29 | 2001-01-10 | Univ Cranfield | Improvements in or relating to filters |
US6550664B2 (en) * | 2000-12-09 | 2003-04-22 | Agilent Technologies, Inc. | Mounting film bulk acoustic resonators in microwave packages using flip chip bonding technology |
US6424237B1 (en) | 2000-12-21 | 2002-07-23 | Agilent Technologies, Inc. | Bulk acoustic resonator perimeter reflection system |
US6407649B1 (en) | 2001-01-05 | 2002-06-18 | Nokia Corporation | Monolithic FBAR duplexer and method of making the same |
US6518860B2 (en) | 2001-01-05 | 2003-02-11 | Nokia Mobile Phones Ltd | BAW filters having different center frequencies on a single substrate and a method for providing same |
US6512300B2 (en) * | 2001-01-10 | 2003-01-28 | Raytheon Company | Water level interconnection |
EP1360762A1 (de) * | 2001-01-18 | 2003-11-12 | Infineon Technologies AG | Filterbausteine und verfahren zu ihrer herstellung |
US6462631B2 (en) | 2001-02-14 | 2002-10-08 | Agilent Technologies, Inc. | Passband filter having an asymmetrical filter response |
US6714102B2 (en) * | 2001-03-01 | 2004-03-30 | Agilent Technologies, Inc. | Method of fabricating thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and FBAR structure embodying the method |
US6566979B2 (en) * | 2001-03-05 | 2003-05-20 | Agilent Technologies, Inc. | Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method |
US6874211B2 (en) * | 2001-03-05 | 2005-04-05 | Agilent Technologies, Inc. | Method for producing thin film bulk acoustic resonators (FBARs) with different frequencies on the same substrate by subtracting method and apparatus embodying the method |
US6483229B2 (en) | 2001-03-05 | 2002-11-19 | Agilent Technologies, Inc. | Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method |
US6469597B2 (en) | 2001-03-05 | 2002-10-22 | Agilent Technologies, Inc. | Method of mass loading of thin film bulk acoustic resonators (FBAR) for creating resonators of different frequencies and apparatus embodying the method |
JP4058970B2 (ja) * | 2001-03-21 | 2008-03-12 | セイコーエプソン株式会社 | ニオブ酸カリウム圧電薄膜を有する表面弾性波素子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、及び電子機器 |
US6472954B1 (en) | 2001-04-23 | 2002-10-29 | Agilent Technologies, Inc. | Controlled effective coupling coefficients for film bulk acoustic resonators |
US6476536B1 (en) | 2001-04-27 | 2002-11-05 | Nokia Corporation | Method of tuning BAW resonators |
US6489688B1 (en) | 2001-05-02 | 2002-12-03 | Zeevo, Inc. | Area efficient bond pad placement |
JP2005236337A (ja) * | 2001-05-11 | 2005-09-02 | Ube Ind Ltd | 薄膜音響共振器及びその製造方法 |
KR100398365B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2003-09-19 | 삼성전기주식회사 | 폭방향 파동이 억제되는 박막 공진기 |
JP3903842B2 (ja) * | 2001-07-03 | 2007-04-11 | 株式会社村田製作所 | 圧電共振子、フィルタおよび電子通信機器 |
US6710681B2 (en) * | 2001-07-13 | 2004-03-23 | Agilent Technologies, Inc. | Thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and inductor on a monolithic substrate and method of fabricating the same |
DE10147075A1 (de) | 2001-09-25 | 2003-04-30 | Infineon Technologies Ag | Piezoelektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6808955B2 (en) * | 2001-11-02 | 2004-10-26 | Intel Corporation | Method of fabricating an integrated circuit that seals a MEMS device within a cavity |
US6720844B1 (en) * | 2001-11-16 | 2004-04-13 | Tfr Technologies, Inc. | Coupled resonator bulk acoustic wave filter |
US6710508B2 (en) * | 2001-11-27 | 2004-03-23 | Agilent Technologies, Inc. | Method for adjusting and stabilizing the frequency of an acoustic resonator |
DE10160617A1 (de) * | 2001-12-11 | 2003-06-12 | Epcos Ag | Akustischer Spiegel mit verbesserter Reflexion |
US6670866B2 (en) | 2002-01-09 | 2003-12-30 | Nokia Corporation | Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers |
US6873529B2 (en) * | 2002-02-26 | 2005-03-29 | Kyocera Corporation | High frequency module |
CN1292533C (zh) * | 2002-03-15 | 2006-12-27 | 松下电器产业株式会社 | 平衡高频器件,平衡特性的改进方法和采用此类器件的平衡高频电路 |
JP4039322B2 (ja) * | 2002-07-23 | 2008-01-30 | 株式会社村田製作所 | 圧電フィルタ、デュプレクサ、複合圧電共振器および通信装置、並びに、圧電フィルタの周波数調整方法 |
US6944432B2 (en) * | 2002-11-12 | 2005-09-13 | Nokia Corporation | Crystal-less oscillator transceiver |
FR2848036B1 (fr) * | 2002-11-28 | 2005-08-26 | St Microelectronics Sa | Support pour resonateur acoustique, resonateur acoustique et circuit integre correspondant |
JP3889351B2 (ja) * | 2002-12-11 | 2007-03-07 | Tdk株式会社 | デュプレクサ |
DE10258422A1 (de) * | 2002-12-13 | 2004-06-24 | Epcos Ag | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren |
DE10301261B4 (de) * | 2003-01-15 | 2018-03-22 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung |
EP1489740A3 (de) * | 2003-06-18 | 2006-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung desselben |
JP2005057332A (ja) * | 2003-08-04 | 2005-03-03 | Tdk Corp | フィルタ装置およびそれを用いた分波器 |
US7230511B2 (en) * | 2003-09-12 | 2007-06-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film bulk acoustic resonator, method for producing the same, filter, composite electronic component device, and communication device |
JP2005117641A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧電体共振器、それを用いたフィルタ及び共用器 |
US6946928B2 (en) * | 2003-10-30 | 2005-09-20 | Agilent Technologies, Inc. | Thin-film acoustically-coupled transformer |
US7391285B2 (en) * | 2003-10-30 | 2008-06-24 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Film acoustically-coupled transformer |
US7358831B2 (en) * | 2003-10-30 | 2008-04-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with simplified packaging |
US7019605B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-03-28 | Larson Iii John D | Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth |
US7294919B2 (en) * | 2003-11-26 | 2007-11-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Device having a complaint element pressed between substrates |
US7615833B2 (en) * | 2004-07-13 | 2009-11-10 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator package and method of fabricating same |
US7280007B2 (en) * | 2004-11-15 | 2007-10-09 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Thin film bulk acoustic resonator with a mass loaded perimeter |
US20060087199A1 (en) * | 2004-10-22 | 2006-04-27 | Larson John D Iii | Piezoelectric isolating transformer |
US7675390B2 (en) * | 2005-10-18 | 2010-03-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator |
US7425787B2 (en) * | 2005-10-18 | 2008-09-16 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating single insulated decoupled stacked bulk acoustic resonator with acoustically-resonant electrical insulator |
US7737807B2 (en) * | 2005-10-18 | 2010-06-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators |
US7525398B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-04-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier |
US7600371B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-10-13 | The Boeing Company | Thrust reversers including support members for inhibiting deflection |
US7423503B2 (en) * | 2005-10-18 | 2008-09-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating film acoustically-coupled transformer |
US20070085632A1 (en) * | 2005-10-18 | 2007-04-19 | Larson John D Iii | Acoustic galvanic isolator |
-
2003
- 2003-10-30 US US10/699,481 patent/US6946928B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-29 US US10/836,663 patent/US7091649B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-29 US US10/836,653 patent/US6987433B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-06-22 DE DE602004020435T patent/DE602004020435D1/de active Active
- 2004-06-22 EP EP04014570A patent/EP1528675B1/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-13 US US10/965,474 patent/US7173504B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-13 US US10/965,586 patent/US7388455B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-28 JP JP2004313995A patent/JP4648680B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 WO PCT/US2004/036089 patent/WO2005043752A1/en active Application Filing
- 2004-10-29 CN CNB2004800308892A patent/CN100555854C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 GB GB0605770A patent/GB2422059B/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 JP JP2006538339A patent/JP4796501B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 CN CNB2004800299925A patent/CN100555851C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 JP JP2006538279A patent/JP4701183B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 CN CNB2004800309240A patent/CN100555856C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 CN CN2004800324503A patent/CN1883115B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 CN CNB2004800308939A patent/CN100555855C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 DE DE112004002035T patent/DE112004002035B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 WO PCT/US2004/035906 patent/WO2005046052A1/en active Application Filing
- 2004-10-29 GB GB0605767A patent/GB2421379B/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 DE DE112004002038T patent/DE112004002038B4/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE112004002038B4 (de) | Akustisch gekoppelter Filmtransformator mit erhöhter Gleichtaktunterdrückung | |
DE112004002027B4 (de) | Akustisch gekoppelter Filmtransformator | |
DE112004002004B4 (de) | Akustische Filmvolumenresonator-Vorrichtungen (FBAR-Vorrichtungen) mit vereinfachtem Gehäuseeinbau | |
DE102006048632B4 (de) | Akustisches, galvanisches Trennglied, das einen einzigen, isolierten, entkoppelten, gestapelten, akustischen Volumenresonator mit akustisch resonantem, elektrischen Isolator umfasst | |
DE602004000851T2 (de) | Akustisch gekoppelter Dünnschicht-Transformator mit zwei piezoelektrischen Elementen, welche entgegengesetzte C-Axen Orientierung besitzten | |
US7145427B2 (en) | Coil component and method of manufacturing the same | |
DE102006048633A1 (de) | Akustischer galvanischer Isolator, der einen akustisch gekoppelten Filmtransformator umfasst | |
JP4754802B2 (ja) | 逆方向のc軸圧電材料を備えた音響結合変成器 | |
DE102006048193A1 (de) | Akustischer, galvanischer Isolator, der in Reihe verbundene, entkoppelte, gestapelte, akustische Volumenresonatoren einlagert | |
US7352060B2 (en) | Multilayer wiring substrate for providing a capacitor structure inside a multilayer wiring substrate | |
US7855458B2 (en) | Electronic component | |
KR100697405B1 (ko) | 전자 디바이스 | |
DE112017008319T5 (de) | Hybridfilter und packages für dieselben | |
KR100881005B1 (ko) | 전자 부품 | |
DE19915245A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektronischen Bauelementen mit Streifenleitungen | |
KR20020008757A (ko) | 이동 전화 장치 | |
JPH10190311A (ja) | 誘電体フィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law |
Ref document number: 112004002038 Country of ref document: DE Date of ref document: 20060921 Kind code of ref document: P |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELLSCHA |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE, SG |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE., SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG Effective date: 20130719 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE Effective date: 20130719 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES INTERNATIONAL SALES PTE. LT, SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG, HAEUSLER, SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESE, DE Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |