DE10324839B4 - mass spectrometry - Google Patents

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DE10324839B4 DE2003124839 DE10324839A DE10324839B4 DE 10324839 B4 DE10324839 B4 DE 10324839B4 DE 2003124839 DE2003124839 DE 2003124839 DE 10324839 A DE10324839 A DE 10324839A DE 10324839 B4 DE10324839 B4 DE 10324839B4
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/06Electron- or ion-optical arrangements
    • H01J49/062Ion guides
    • H01J49/065Ion guides having stacked electrodes, e.g. ring stack, plate stack

Abstract

Massenspektrometer mit einer Ionenführung (1a, 1b, 1c), wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Stapel aus mehreren parallelen Plattenelektroden (2) aufweist, wobei die Plattenelektroden (2) derart ausgebildet sind, dass gekrümmte oder auf andere Weise nicht lineare Kanäle in jeder Plattenelektrode (2) zur Ionenführung bereitgestellt werden und die Plattenelektroden (2) parallel zur Ebene der Ionenbewegung angeordnet sind, und die Ionenführung (1a, 1b, 1c) mindestens einen Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse sowie mindestens einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) entlang einer zweiten Achse austreten, aufweist.mass spectrometry with an ion guide (1a, 1b, 1c), wherein the ion guide (1a, 1b, 1c) a stack of a plurality of parallel plate electrodes (2), wherein the plate electrodes (2) are formed are that curved or otherwise non-linear channels in each plate electrode (2) provided for ion guide and the plate electrodes (2) are parallel to the plane of ion motion are arranged, and the ion guide (1a, 1b, 1c) at least one input for receiving ions along a first axis and at least one output from which ions from the ion guide (1a, 1b, 1c) emerge along a second axis.

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung sowie ein Verfahren zum Betrieb eines solchen Massenspektrometers.The The present invention relates to a mass spectrometer having a ion guide and a method of operating such a mass spectrometer.

Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen sind bekannt und werden zum Transportieren von Ionen bei verhältnismäßig niedrigen Drücken (beispielsweise < 10–4 mbar), bei denen Ionenkollisionen mit Hintergrundgasmolekülen unwahrscheinlich sind, und auch zum Transportieren von Ionen bei mittleren Drücken (beispielsweise 10–4 – 10 mbar), bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen erwartet werden können, verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden bei mittleren Drücken für einen weiten Anwendungsbereich verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden beispielsweise als Kollisionszellen, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen beabsichtigt sind, um eine Ionenfragmentation herbeizuführen, und als Reaktionszellen, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen beabsichtigt sind, um Ionen-Molekül-Reaktionen zu erzeugen, verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden auch als Kühlvorrichtungen verwendet, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen zu einem Ausgleich der Ionen- und Gasmolekültemperaturen oder ihrer kinetischen Energien führen. Bekannte Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen weisen eine gerade Mittelachse mit einem einzigen Ioneneingang und einem einzigen Ionenausgang auf.Multipole rod-set RF ion guides are known and are used to transport ions at relatively low pressures (eg, <10 -4 mbar) where ion collisions with background gas molecules are unlikely, and also to transport ions at medium pressures (e.g., 10 -4 - 10 mbar) at which ion-molecule collisions can be expected. Multipole rod set RF ion guides are used at medium pressures for a wide range of applications. Multipole rod set RF ion guides are used, for example, as collision cells in which ion-molecule collisions are intended to cause ion fragmentation, and as reaction cells in which ion-molecule collisions are intended to produce ion-molecule reactions. used. Multipole rod-set RF ion guides are also used as cooling devices in which ion-molecule collisions result in compensation for ion and gas molecule temperatures or their kinetic energies. Known multipole rod set RF ion guides have a straight central axis with a single ion input and a single ion output.

Ein Massenspektrometer mit einer Einrichtung zum Fokussieren und Führen der Ionen ist aus der WO 02/43105 A1 bekannt. Diese Einrichtung besteht aus parallel angeordneten Plattenelektroden, die senkrecht zur Ionenbewegung angeordnet sind. Die Ionenbewegung erfolgt durch Aperturen oder Aussparungen in den Plattenelektroden hindurch. Zur Realisierung komplexer, insbesondere krummliniger Ionenwege müssen bei einer derartigen Einrichtung die Aperturen in den Plattenelektroden und/oder die Positionen der einzelnen Plattenelektroden verändert werden. Dies ist mit erhöhtem Aufwand verbunden. Ähnliche Einrichtungen zur Ionenführung sind aus den Druckschriften GB 2 341 270 A und US 5 206 506 A bekannt.A mass spectrometer with a device for focusing and guiding the ions is known from WO 02/43105 A1. This device consists of parallel plate electrodes, which are arranged perpendicular to the ion movement. The ion movement takes place through apertures or recesses in the plate electrodes. To realize complex, in particular curvilinear ion paths, the apertures in the plate electrodes and / or the positions of the individual plate electrodes must be changed in such a device. This is associated with increased effort. Similar devices for ion guide are from the publications GB 2 341 270 A and US 5,206,506 A known.

Die DE 196 29 134 C1 offenbart eine Vorrichtung zur Überführung von Ionen, die in Ionenquellen erzeugt werden, in ein Massenspektrometer, wobei hierzu rotierbare gekrümmte Multipol-Ionenleitvorrichtungen vorgesehen sind. Die Verwendung von Plattenelektroden ist hier nicht angesprochen.The DE 196 29 134 C1 discloses a device for transferring ions generated in ion sources into a mass spectrometer, provided with rotatable curved multipole ion guides. The use of plate electrodes is not addressed here.

Es ist erwünscht, ein Massenspektrometer mit einer verbesserten und leichter herzustellenden HF-Ionenführung, insbesondere für krummlinige Ionenwege, bereitzustellen.It is desired a mass spectrometer with an improved and easier to manufacture RF ion guide, especially for curvilinear ion pathways.

Diese Aufgabe wird durch ein Massenspektrometer gemäß Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Verfahren zum Betrieb eines solchen Massenspektrometers sind in den Ansprüchen 45 bis 73 angegeben.These The object is achieved by a mass spectrometer according to claim 1. advantageous Methods for operating such a mass spectrometer are in the claims 45 to 73 indicated.

Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vorgesehen. Die Ionenführung weist mehrere Plattenelektroden und einen Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse und einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung entlang einer zweiten Achse austreten, auf. Die zweite Achse steht unter einem Winkel θ zur ersten Achse, wobei θ > 0° ist. Zwischen der Eingangsöffnung und der Ausgangsöffnung der Ionenführung ist ein Ionenführungsbereich bereitgestellt. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform beträgt der Winkel θ vorzugsweise < 10°, 10 – 20°, 20 – 30°, 30 – 40°, 40 – 50°, 50 – 60°, 60 – 70°, 70 – 80°, 80 – 90°, 90 – 100°, 100 – 110°, 110 – 120°, 120 – 130°, 130 – 140°, 140 – 150°, 150 – 160°, 160 – 170° oder 170 – 180°. Es werden auch Winkel > 180° erwogen, wobei die Ionenführung einen spiralförmigen Ionenführungsbereich aufweist. Ein Winkel von 0° entspricht einem Zustand, in dem die zweite Achse zur ersten Achse parallel ist. Ein Winkel von 180° entspricht einer Ausführungsform, bei der ein U-förmiger Ionenführungsbereich innerhalb der Ionenführung bereitgestellt wurde, so daß in die Ionenführung eintretende Ionen um 180° umgelenkt werden, bevor sie in der entgegengesetzten Richtung, zu der die Ionen in die Ionenführung eingetreten sind, aus der Ionenführung austreten.According to one Aspect of the present invention is a mass spectrometer with an ion guide provided. The ion guide has a plurality of plate electrodes and an input for receiving of ions along a first axis and an exit from the Ions from the ion guide emerge along a second axis, on. The second axis is stationary at an angle θ to first axis, where θ> 0 °. Between the entrance opening and the exit opening the ion guide is an ion guide region provided. According to the preferred embodiment is the angle θ is preferably <10 °, 10-20 °, 20-30 °, 30-40 °, 40-50 °, 50-60 °, 60-70 °, 70-80 °, 80-90 °, 90 ° 100 °, 100-110 °, 110-120 °, 120-130 °, 130-140 °, 140-150 °, 150-160 °, 160-170 ° or 170-180 °. It will also considered angles> 180 °, the ion guide a spiral Ion guide region having. An angle of 0 ° corresponds a condition in which the second axis is parallel to the first axis is. An angle of 180 ° corresponds an embodiment, at a U-shaped ion guide region within the ion guide was provided so that in the ion guide Incoming ions deflected by 180 ° before going in the opposite direction to which the Ions into the ion guide have occurred from the ion guide escape.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse und einem Ausgang, aus dem Ionen entlang einer zweiten Achse austreten, aufweist. Die Ionenführung weist weiter einen gekrümmten Ionenführungsbereich zwischen dem Eingang und dem Ausgang auf. Der gekrümmte Ionenführungsbereich weist vorzugsweise einen einzigen zusammenhängenden, vorzugsweise glatt zusammenhängenden Ionenführungsbereich auf, durch den Ionen vom Eingang zum Ausgang geführt werden. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist der Ionenführungsbereich im wesentlichen "S"-förmig und/oder weist einen einzigen Beugungspunkt auf. Gemäß dieser speziellen Ausführungsform sollte der Ausdruck "gekrümmter Ionenführungsbereich" nicht als ein labyrinthartiger Ionenführungsbereich oder ein labyrinthartiger Ionenführungsbereich mit einem oder mehreren toten Enden ausgelegt werden. Die erste Achse kann im wesentlichen parallel zur zweiten Achse verlaufen und vorzugsweise seitlich gegenüber dieser versetzt sein.In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer comprising an ion guide having a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions along a first axis, and an exit from which ions exit along a second axis. The ion guide further has a curved ion guide region between the input and the output. The curved ion guide region preferably has a single contiguous, preferably smoothly contiguous ion guide region, through which ions are conducted from the entrance to the exit. In the preferred embodiment, the ion guide region is substantially "S" shaped and / or has a single diffraction point. According to this particular embodiment, the term "curved ion guide region" should not be construed as a labyrinthine ion guide region or a labyrinthine ion guide region having one or more dead ends. The first axis can extend substantially parallel to the second axis and preferably laterally offset from this.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse, einem gekrümmten Ionenführungsbereich und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Bei dieser Ionenführung ist die zweite Achse koaxial mit der ersten Achse.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions along a first axis, a curved ion guide region and an exit from which ions exit. At this ion guide the second axis is coaxial with the first axis.

Eine Ionenführung mit einem gekrümmten Ionenführungsbereich und einer koaxialen ersten und zweiten Achse bietet einen längeren Ionenführungsbereich, ohne daß es erforderlich wäre, daß der Abstand zwischen dem Ionenführungseingang und dem Ionenführungsausgang vergrößert ist. Dies ist besonders vorteilhaft, wenn die Ionenführung als eine Kollisions-, Fragmentations- oder Reaktionszelle verwendet wird, weil die vergrößerte Weglänge durch das Gas dazu führt, daß die Wahrscheinlichkeit erhöht ist, daß Kollisionen, Fragmentationen oder Reaktionen auftreten. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung weiter eine Vor richtung in der Art einer Prallfläche, einer Platte oder einer Elektrode auf, die zumindest teilweise außerhalb des Ionenführungsbereichs angeordnet ist, um neutrale Teilchen oder Photonen zu blockieren, die direkt vom Eingang der Ionenführung zu ihrem Ausgang laufen.A ion guide with a curved Ion guide region and a coaxial first and second axis provides a longer ion guide area, without it would be required that the Distance between the ion guide input and the ion guide output is enlarged. This is particularly advantageous when the ion guide is used as a collision, Fragmentation or reaction cell is used because the increased path length through the gas causes that the Increased probability is that collisions, Fragmentations or reactions occur. According to the preferred embodiment Removes the ion guide an on direction in the manner of a baffle, a plate or a Electrode on, at least partially outside the ion guide region is arranged to block neutral particles or photons, the directly from the entrance of the ion guide to their exit.

Gemäß einem anderen Aspekt sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine erste Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Das Massenspektrometer weist weiter eine zweite Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf.According to one In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that a first ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions and an exit from which ions emerge. The Mass spectrometer also has a second ion guide a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions and an exit from which ions exit.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist das Massenspektrometer weiter eine dritte Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Das Massenspektrometer kann auch eine vierte Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweisen. Gemäß anderen Ausführungsformen können fünf, sechs, sieben, acht, neun, zehn oder mehr als zehn Ionenführungen bereitgestellt sein.According to the preferred embodiment the mass spectrometer further includes a third ion guide a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions and an exit from which ions exit. The mass spectrometer can also do a fourth ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions and an exit from which ions emerge. According to others embodiments can five, six, seven, eight, nine, ten or more than ten ion guides be provided.

In einem Betriebsmodus können die erste Ionenführung und die zweite Ionenführung bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der ersten Ionenführung austretende Ionen in die zweite Ionenführung gedrängt werden. Die zweite und die dritte Ionenführung können bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der zweiten Ionenführung austretende Ionen in die dritte Ionenführung gedrängt werden. Die dritte und die vierte Ionenführung können auch bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der dritten Ionenführung austretende Ionen in die vierte Ionenführung gedrängt werden. Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen Ionen aus der ersten in die zweite Ionenführung und/oder aus der zweiten in die dritte Ionenführung und/oder aus der dritten in die vierte Ionenführung und/oder aus der vierten Ionenführung gedrängt werden.In an operating mode the first ion guide and the second ion guide when used on different DC potentials be held so that out the first ion guide emerging Ions into the second ion guide packed become. The second and the third ion guide may be in use different DC potentials are kept, so that from the second ion guide leaking ions are forced into the third ion guide. The third and the fourth ion guide can also when used on different DC potentials be held so that out the third ion guide leaking ions are forced into the fourth ion guide. It will too embodiments in which ions from the first to the second ion guide and / or from the second to the third ion guide and / or from the third in the fourth ion guide and / or from the fourth ion guide packed become.

In einem anderen oder weiteren Betriebsmodus kann die zweite Ionenführung auf einem von demjenigen der ersten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der ersten Ionenführung eingefangen werden. Die dritte Ionenführung kann auf einem von demjenigen der zweiten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der zweiten Ionenführung eingefangen werden. Die vierte Ionenführung kann auf einem von demjenigen der dritten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der dritten Ionenführung eingefangen werden. Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen beispielsweise Ionen in der ersten, der zweiten und der dritten Ionenführung oder in der zweiten und der dritten Ionenführung eingefangen werden.In another or further operating mode, the second ion guide on a DC potential different from that of the first ion guide be held so that ions in the first ion guide be captured. The third ion guide can be on one of the one the second ion guide be held different DC potential, so that ions in the second ion guide be captured. The fourth ion guide can be on one of the one the third ion guide different DC potential are held so that ions trapped in the third ion guide become. There are also embodiments in which, for example, ions in the first, the second and the third ion guide or captured in the second and third ion guides.

Es ist auch zu verstehen, daß die vorstehend erörterten Ausführungsformen, die das Drängen von Ionen aus einer Ionenführung betreffen, mit vorstehend erörterten Ausführungsformen kombiniert werden können, die das Einfangen von Ionen innerhalb einer Ionenführung betreffen.It is also to be understood that the discussed above Embodiments, the urge of ions from an ion guide as discussed above embodiments can be combined which concern the trapping of ions within an ion guide.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform kann entweder die erste und/oder die zweite und/oder die dritte und/oder die vierte Ionenführung Ionenspeicherbereiche aufweisen. In einem ersten Betriebsmodus können diese Ionenspeicherbereiche Ionen durch eine einzige Öffnung empfangen, und in einem zweiten Betriebsmodus wird ermöglicht, daß Ionen durch dieselbe Öffnung aus dem Ionenspeicherbereich austreten.According to one preferred embodiment can be either the first and / or the second and / or the third and / or the fourth ion guide Have ion storage areas. In a first operating mode these can Ion storage areas receive ions through a single opening, and in one second operating mode is enabled that ions through the same opening emerge from the ion storage area.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, zwei oder mehr Eingängen zum Empfangen von Ionen und einem oder mehreren Ausgängen, aus denen Ionen austreten, aufweist.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with multiple plate electrodes, two or more inputs to the Receiving ions and one or more outputs from which ions exit, having.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung vorzugsweise zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Gemäß einer anderen Ausführungsform weist die Ionenführung drei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Die Plattenelektroden können eine beliebige Form aufweisen, so daß Ionenstrahlen unter einem beliebigen Winkel oder aus einer beliebigen Richtung von der Ionenführung empfangen werden können oder unter einem beliebigen Winkel oder in einer beliebigen Richtung aus der Ionenführung austreten können.According to one preferred embodiment has the ion guide preferably two entrances for receiving ions and an exit from which ions emerge, on. According to one another embodiment has the ion guide three entrances for receiving ions and an exit from which ions emerge, on. The plate electrodes can have any shape such that ion beams under any one Angle or from any direction received by the ion guide can be or at any angle or in any direction from the ion guide can escape.

Es werden weitere Ausführungsformen erwogen, bei denen 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 oder mehr als 10 Ioneneingänge bereitgestellt sind und bei denen 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 oder mehr als 10 Ionenausgänge bereitgestellt sind. Beispielsweise kann die Ionenführung drei Eingänge und drei Ausgänge aufweisen.It become further embodiments where 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or more than 10 are considered ion inputs 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or more than 10 ion outputs are. For example, the ion guide three inputs and three outputs exhibit.

Vorzugsweise weist das Massenspektrometer weiter wenigstens zwei gleiche oder verschiedene Ionenquellen auf. Die Ionenquellen sind vorzugsweise wenigstens eine von einer Elektrospray-Ionenquelle ("ESI-Ionenquelle"), einer chemischen Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle ("APCI-Ionenquelle"), einer Atmosphärendruck-Photoionisations-Ionenquelle ("APPI-Ionenquelle"), einer matrixunterstützten Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("MALDI-Ionenquelle"), einer Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("LDI-Ionenquelle"), einer induktiv gekoppelten Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle"), einer Elektronenstoß-Ionenquelle ("EI-Ionenquelle"), einer chemischen Ionisations-Ionenquelle ("CI-Ionenquelle"), einer Ionenquelle mit schnellem Atombeschuß ("FAB-Ionenquelle") und einer Flüssigkeits-Sekundärionen-Massenspektrometrie-Ionenquelle ("LSIMS-Ionenquelle").Preferably the mass spectrometer further has at least two equal or different ion sources. The ion sources are preferably at least one of an electrospray ion source ("ESI ion source"), a chemical Atmosphärendruckionisations ion source ("APCI ion source"), an atmospheric pressure photoionization ion source ("APPI ion source"), a matrix-assisted laser desorption ionization ion source ("MALDI ion source"), a laser desorption ionization ion source ("LDI ion source"), an inductive one coupled plasma ion source ("ICP ion source"), an electron impact ion source ("EI ion source"), a chemical ion Ionization ion source ("CI ion source"), an ion source with fast atom bombardment ("FAB ion source") and a liquid secondary ion mass spectrometry ion source ( "LSIMS") ion source.

Es werden Ausführungsformen erwogen, bei denen beispielsweise zwei Ionenquellen bereitgestellt sind. Eine Ionenquelle kann eine kontinuierliche Ionenquelle in der Art einer APCI- oder Elektrospray-Ionenquelle sein, und die andere Ionenquelle kann eine gepulste Ionenquelle in der Art einer MALDI-Ionenquelle sein.It become embodiments in which, for example, two ion sources are provided. An ion source may be a continuous ion source in the art an APCI or electrospray ion source, and the other ion source may be a pulsed ion source, such as a MALDI ion source.

Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen mehr als zwei Ionenquellen bereitgestellt sind. Gemäß einer Ausführungsform können beispielsweise wenigstens 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 oder 10 APCI-Ionenquellen, Elektrospray-Ionenquellen oder eine der anderen vorstehend erwähnten Ionenquellen bereitgestellt sein. Die bevorzugte Ionenführung kann es ermöglichen, daß Ionen von einer oder mehreren ausgewählten Ionenquellen als Probe entnommen und dann massenanalysiert werden.It also become embodiments in which more than two ion sources are provided. According to one embodiment can for example at least 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 APCI ion sources, Electrospray ion sources or any of the other ion sources mentioned above. The preferred ion guide can make it possible that ions from one or more selected ion sources taken as a sample and then mass analyzed.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem oder mehreren Eingängen zum Empfangen von Ionen und zwei oder mehr Ausgängen, aus denen Ionen austreten, aufweist.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with several plate electrodes, one or more inputs to the Receiving ions and two or more outputs from which ions emerge, having.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung einen Eingang zum Empfangen von Ionen und zwei Ausgänge, aus denen Ionen austreten, auf. Gemäß einer anderen Ausführungsform wird der in einen Eingang der Ionenführung eintretende Ionenstrahl in drei oder mehr Strahlen aufgeteilt, wobei der dritte Strahl über einen dritten Ausgang aus der Ionenführung austritt. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und zwei Ausgänge, aus denen Ionen austreten, auf. Das Massenspektrometer kann weiter wenigstens zwei Ionenquellen aufweisen. Ein in einen Eingang der Ionenführung eintretender Ionenstrahl kann in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt werden, wobei ein erster Strahl über einen ersten Ausgang aus der Ionenführung austritt und ein zweiter Strahl über einen zweiten Ausgang austritt. Vorzugsweise werden die in einen Eingang der Ionenführung eintretenden Ionen durch eine oder mehrere Elektroden, die neben dem Eingang angeordnet sind, eine oder mehrere Elektroden, die innerhalb der Ionenführung angeordnet sind, oder eine oder mehrere Elektroden, die neben einem Ausgang der Ionenführung angeordnet sind, in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt.According to the preferred embodiment has the ion guide an input for receiving ions and two outputs, off which ions emerge on. According to one another embodiment becomes the ion beam entering an entrance of the ion guide divided into three or more beams, the third beam via a third exit from the ion guide exit. According to one another preferred embodiment has the ion guide two entrances for receiving ions and two outlets from which ions emerge, on. The mass spectrometer may further comprise at least two ion sources exhibit. An ion beam entering an entrance of the ion guide can be divided into two or more beams, with a first Beam over a first exit from the ion guide emerges and a second Beam over one second exit exits. Preferably, those are in an entrance the ion guide entering ions through one or more electrodes next to arranged at the entrance, one or more electrodes inside the ion guide are arranged, or one or more electrodes next to an output the ion guide are arranged, divided into two or more beams.

Ein in die Ionenführung eintretender Ionenstrahl kann in einem gewünschten Verhältnis in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt werden. Vorzugsweise weist wenigstens ein Strahl einen Prozentsatz der in die Ionenführung eintretenden Ionen auf, der 0 – 10 %, 10 – 20 %, 20 – 30 %, 30 – 40 %, 40 – 50 %, 50 – 60 %, 60 – 70 %, 70 – 80 %, 80 – 90 % oder größer als 90 % ist.One in the ion guide entering ion beam can in a desired ratio in two or more beams are split. Preferably, at least a ray on a percentage of ions entering the ion guide, the 0-10 %, 10 - 20 %, 20 - 30 %, 30 - 40 %, 40 - 50 %, 50 - 60 %, 60 - 70%, 70-80 %, 80 - 90 % or greater than 90% is.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist wenigstens ein Teil eines in die Ionenführung eintretenden Ionenstrahls zu oder zwischen einem von mehreren Ausgängen umschaltbar. Wenigstens eine Elektrode kann neben einem oder mehreren der Ausgänge angeordnet werden, um entweder zu bewirken, daß Ionen über diesen Ausgang aus der Ionenführung austreten, oder um im wesentlichen zu verhindern, daß Ionen über diesen Ausgang aus der Ionenführung austreten. Eine oder mehrere Elektroden können neben dem Eingang oder innerhalb der Ionenführung bereitgestellt sein. Gemäß einer Ausführungsform kann ein Ionenstrahl zwischen Ausgängen umgeschaltet werden, indem ein blockierendes Gleichspannungspotential an eine neben einem Ausgang der Ionenführung angeordnete Elektrode angelegt und dann davon entfernt wird.In the preferred embodiment, at least a portion of an ion beam entering the ion guide is switchable to or between one of a plurality of outputs. At least one electrode may be placed adjacent one or more of the outputs to either cause ions to exit the ion guide via this exit, or to substantially prevent ions from exiting the ion guide via that exit. One or more electrodes may be provided adjacent to the entrance or within the ion guide. In one embodiment, an ion beam may be switched between outputs by applying a blocking DC potential to an electrode adjacent an exit of the ion guide and then removing it.

Das Massenspektrometer kann weiter einen ersten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweisen. Das Massenspektrometer kann weiter einen ersten Massenanalysator, der angeordnet ist, um aus dem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Massenanalysator, der angeordnet ist, um aus dem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweisen.The Mass spectrometer may further include a first ion detector, which is arranged is to receive ions emerging from a first exit, and a second ion detector arranged to be one of second ion output to receive exiting ions have. The mass spectrometer may further include a first mass analyzer, which is arranged to exit from the first exit ions to receive, and a second mass analyzer, which arranged is to receive ions emerging from the second ion exit, exhibit.

Das Massenspektrometer kann einen oder mehrere Massenanalysatoren, die angeordnet sind, um über wenigstens einen ersten Ausgang aus der Ionenführung austretende Ionen zu empfangen, und einen oder mehrere Ionendetektoren, die angeordnet sind, um über wenigstens einen zweiten Ionenausgang aus der Ionenführung austretende Ionen zu empfangen, aufweisen.The Mass spectrometer may include one or more mass analyzers are arranged to over at least one first exit from the ion guide leaking ions receive, and one or more ion detectors arranged are about to over at least one second ion exit emerging from the ion guide To receive ions.

Gemäß einer anderen Ausführungsform weist das Massenspektrometer eine erste und/oder eine zweite Ionenspeichervorrichtung auf, die jeweils mehrere Plattenelektroden aufweisen. In einem ersten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über eine Öffnung in eine Ionenspeichervorrichtung ein, und in einem zweiten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über dieselbe Öffnung aus der Ionenspeichervorrichtung aus.According to one another embodiment For example, the mass spectrometer includes a first and / or a second ion storage device each having a plurality of plate electrodes. In a first In operation mode, an ion beam enters an ion storage device via an opening and, in a second mode of operation, an ion beam exits through the same aperture of the ion storage device.

Es wird auch eine Ausführungsform erwogen, bei der die Ionenführung zwei Ausgänge aufweist, wobei eine Ionenspeichervorrichtung stromabwärts eines Ausgangs angeordnet ist und ein Massenanalysator stromabwärts des anderen Ausgangs angeordnet ist.It also becomes an embodiment considered, in which the ion guide two outputs wherein an ion storage device is downstream of a Output is arranged and a mass analyzer downstream of the other output is arranged.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vor, die mehrere Plattenelektroden, einen oder mehrere Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen oder mehrere Ausgänge, aus denen Ionen austreten, aufweist. In einem ersten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über eine erste Öffnung in die Ionenführung ein und über eine zweite Öffnung aus der Ionenführung aus, und in einem zweiten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über die zweite Öffnung in die Ionenführung ein.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion guide before, the multiple plate electrodes, one or more inputs to the Receiving ions and one or more outlets from which ions emerge, having. In a first mode of operation, an ion beam passes over one first opening in the ion guide one and over a second opening from the ion guide out, and in a second mode of operation, an ion beam passes over the second opening into the ion guide.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform tritt ein Ionenstrahl in dem zweiten Betriebsmodus über die erste Öffnung aus der Ionenführung aus. Alternativ kann der Ionenstrahl in einem zweiten Betriebsmodus über eine von der ersten und der zweiten Öffnung verschiedene dritte Öffnung aus der Ionenführung austreten.According to the preferred embodiment In the second mode of operation, an ion beam exits via the first opening the ion guide out. Alternatively, the ion beam in a second mode of operation via a from the first and the second opening different third opening from the ion guide escape.

In einer weiteren Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenspeichervorrichtung vor, die mehrere Plattenelektroden aufweist, wobei in einem ersten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über eine Öffnung in die Ionenspeichervorrichtung eintritt und in einem zweiten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über dieselbe Öffnung aus der Ionenspeichervorrichtung austritt.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion storage device comprising a plurality of plate electrodes wherein, in a first mode of operation, an ion beam passes through an aperture in the ion storage device enters and in a second mode of operation an ion beam over the same opening exits the ion storage device.

Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen die Ionenspeichervorrichtung zwei Öffnungen aufweist, nämlich eine erste Öffnung zum Empfangen von Ionen und eine zweite Öffnung, aus der Ionen die Ionenspeichervorrichtung verlassen.It become other embodiments in which the ion storage device has two openings has, namely a first opening for receiving ions and a second opening, from which ions the ion storage device leave.

In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vor, die mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Der Eingang hat ein erstes Querschnittsprofil und eine erste Querschnittsfläche, und der Ausgang hat ein zweites Querschnittsprofil und eine zweite Querschnittsfläche. Das erste Querschnittsprofil ist von dem zweiten Querschnittsprofil verschieden, und/oder die erste Querschnittsfläche ist von der zweiten Querschnittsfläche verschieden.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion guide before, the multiple plate electrodes, an input for receiving of ions and an exit from which ions exit. The entrance has a first cross-sectional profile and a first cross-sectional area, and the outlet has a second cross-sectional profile and a second cross-sectional area. The first cross-sectional profile is of the second cross-sectional profile different, and / or the first cross-sectional area is different from the second cross-sectional area.

Das erste und/oder das zweite Querschnittsprofil können im wesentlichen kreisförmig, oval, rechteckig oder quadratisch sein. Ein von der Ionenführung empfangener Ionenstrahl hat ein drittes Querschnittsprofil und eine dritte Querschnittsfläche. Vorzugsweise sind das erste Querschnittsprofil und/oder die erste Querschnittsfläche im wesentlichen gleich dem dritten Querschnittsprofil und/oder der dritten Querschnittsfläche. Das Massenspektrometer kann weiter stromabwärts der Ionenführung eine ionenoptische Vorrichtung mit einem viertem Querschnittsprofil und einer vierten Querschnittsfläche aufweisen. Das zweite Querschnittsprofil und/oder die zweite Querschnittsfläche können im wesentlichen dem vierten Querschnittsprofil und/oder der vierten Querschnittsfläche gleichen. Die ionenoptische Vorrichtung kann eine Ionenführung oder einen Quadrupol-Massenfilter/Analysator mit im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofilen aufweisen. Die Ionenführung kann einen Quadrupol-, Hexapol-, Oktopol-Stabsatz oder einen Stabsatz höherer Ordnung, einen Ionentunnel mit mehreren Elektroden, die Öffnungen im wesentlichen der gleichen Größe aufweisen, oder einen Ionentrichter mit mehreren Elektroden, die zunehmend kleinere Öffnungen haben, aufweisen. Die ionenoptische Vorrichtung kann einen Querbeschleunigungs-Flugzeit-Massenanalysator oder einen Magnetsektoranalysator mit im wesentlichen quadratischen oder rechteckigen Querschnittsprofilen aufweisen.The first and / or the second cross-sectional profile may be substantially circular, oval, rectangular or square. An ion beam received from the ion guide has a third cross-sectional profile and a third cross-sectional area. Preferably, the first cross-sectional profile and / or the first cross-sectional area are substantially equal to the third cross-sectional profile and / or the third cross-sectional area. The mass spectrometer may further include an ion optical device having a fourth cross-sectional profile and a fourth cross-sectional area downstream of the ion guide. The second cross-sectional profile and / or the second cross-sectional area may be substantially the same as the fourth cross-sectional profile and / or the fourth cross-sectional area. The ion optical device may include an ion guide or a quadrupole mass filter / analyzer having substantially circular cross-sectional profiles. The ion guide may comprise a quadrupole, hexapole, octopole rod set or higher order rod set, a multi-electrode ion tunnel having openings of substantially the same size, or an ion funnel having a plurality of electrodes having progressively smaller openings. The ion optical device may include a lateral acceleration time-of-flight mass analyzer or a magnetic sector analyzer having substantially square or rectangular cross-sectional profiles.

Gemäß anderen Ausführungsformen kann die ionenoptische Vorrichtung einen Fourier-Transformations-Ionenzyklotronresonanz-Massenanalysator ("FTICR-Massenanalysator") mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil, eine zweidimensionale (lineare) Quadrupol-Ionenfalle mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil oder eine dreidimensionale (Paul-) Quadrupol-Ionenfalle mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil aufweisen.According to others embodiments For example, the ion optical device may include a Fourier transform ion cyclotron resonance mass analyzer ("FTICR mass analyzer") having a substantially circular cross-sectional profile, a two-dimensional (linear) quadrupole ion trap with an im essential circular Cross-sectional profile or a three-dimensional (Paul) quadrupole ion trap with a substantially circular Have cross-sectional profile.

Vorstehend wurden die "Querschnittsfläche" und das "Querschnittsprofil" erwähnt. Wenngleich diese die physikalische Querschnittsfläche und das Profil einer Vorrichtung oder eines Ionenstrahls einschließen sollen, sollten die Begriffe auch als den praktischen Akzeptanzbereich oder das Profil der Vorrichtung oder des Ionenstrahls analog der numerischen Apertur einer optischen Vorrichtung einschließend verstanden werden.above the "cross-sectional area" and the "cross-sectional profile" were mentioned. Although these are the physical cross-sectional area and the profile of a device or an ion beam, the terms should also as the practical acceptance range or profile of the device or the ion beam analogous to the numerical aperture of an optical Including device be understood.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist der Ionenführungsbereich zwischen wenigstens einem der Eingänge und der Ausgänge der Ionenführung eine Länge auf, die sich in der Größe und/oder der Form ändert. Der Ionenführungsbereich kann auch eine Länge, eine Breite oder eine Höhe aufweisen, die in der Größe zunehmend abnimmt oder deren Form sich stetig ändert.According to one preferred embodiment indicates the ion guide area between at least one of the inputs and the outputs of ion guide a length on that are in size and / or the shape changes. The ion guide area can also be a length, a width or a height which are increasing in size decreases or whose shape is constantly changing.

Vorzugsweise weist die Ionenführung weiter einen zweiten Eingang zum Empfangen von Ionen und/oder einen zweiten Ausgang, über den Ionen aus der Ionenführung austreten, auf, wobei der zweite Eingang ein fünftes Querschnittsprofil und eine fünfte Querschnittsfläche aufweist und der zweite Ausgang ein sechstes Querschnittsprofil und eine sechste Querschnittsfläche aufweist, wobei das fünfte Querschnittsprofil von dem sechsten Querschnittsprofil verschieden ist und/oder die fünfte Querschnittsfläche von der sechsten Querschnittsfläche verschieden ist.Preferably has the ion guide further a second input for receiving ions and / or a second exit, over the ions from the ion guide emerge, with the second input a fifth cross-sectional profile and a fifth Cross sectional area and the second output has a sixth cross-sectional profile and a sixth cross-sectional area having the fifth Cross-sectional profile different from the sixth cross-sectional profile is and / or the fifth Cross sectional area from the sixth cross-sectional area is different.

Vorzugsweise sind das erste Querschnittsprofil und die erste Querschnittsfläche und/oder das zweite Querschnittsprofil und die zweite Querschnittsfläche und/oder das fünfte Querschnittsprofil und die fünfte Querschnittsfläche und/oder das sechste Querschnittsprofil und die sechste Querschnittsfläche verschieden.Preferably are the first cross-sectional profile and the first cross-sectional area and / or the second cross-sectional profile and the second cross-sectional area and / or the fifth Cross-sectional profile and the fifth cross-sectional area and / or the sixth cross-sectional profile and the sixth cross-sectional area are different.

Gemäß den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen können wenigstens 50 %, 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Plattenelektroden im wesentlichen parallel sein. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform sind die Plattenelektroden in einer ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene angeordnet, und die Ionenführung ist gleichermaßen in der ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene gekrümmt. Es werden jedoch auch Ausführungsformen erwogen, bei denen die Plattenelektroden nicht flach, sondern gebogen sind. Bei diesen Ausführungsformen können die Platten zunächst in einer ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene angeordnet werden, die Plattenelektroden werden jedoch dann in einer zweiten orthogonalen (beispielsweise vertikalen) Ebene gebogen. Gemäß dieser Ausführungsform können die Plattenelektroden daher vielmehr wie ein Periskop wirken und Ionen von einer (vertikalen) Ebene zu einer anderen übertragen.According to the above described embodiments can at least 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95% of the plate electrodes to be essentially parallel. According to the preferred embodiment are the plate electrodes in a first (for example, horizontal) Plane arranged, and the ion guide is alike curved in the first (eg horizontal) plane. It but also become embodiments in which the plate electrodes are not flat but bent are. In these embodiments can the plates first be arranged in a first (for example, horizontal) plane, however, the plate electrodes then become in a second orthogonal (for example, vertical) plane bent. According to this embodiment can the plate electrodes therefore act rather like a periscope and Transfer ions from one (vertical) plane to another.

Die Plattenelektroden sind vorzugsweise im wesentlichen in gleichen Abständen voneinander angeordnet. Gemäß weniger bevorzugten Ausführungsformen kann sich der Abstand zwischen den Elektroden jedoch entlang der Ionenführung ändern. Beispielsweise kann der Abstand zwischen den Elektroden zunehmend abnehmen (ansteigen), so daß Ionen trichterartig von einer verhältnismäßig großen (kleinen) Eingangsöffnung zu einer verhältnismäßig kleinen (großen) Ausgangsöffnung befördert werden. Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen sich der Abstand zwischen den Elektroden entlang der Ionenführung nichtlinear ändert.The Plate electrodes are preferably substantially the same intervals arranged from each other. According to less preferred embodiments However, the distance between the electrodes may be along the Change the ion guide. For example the distance between the electrodes can increasingly decrease (increase), so that ions funnel-shaped from a relatively large (small) entrance opening to a relatively small (huge) output port promoted become. There will be other embodiments considered, in which the distance between the electrodes along the ion guide changes nonlinearly.

Die mehreren Plattenelektroden umfassen vorzugsweise 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 oder mehr als 20 Plattenelektroden. Die Plattenelektroden der bevorzugten Ionenführung können eine Dicke von kleiner oder gleich 5 mm, kleiner oder gleich 4,5 mm, kleiner oder gleich 4 mm, kleiner oder gleich 3,5 mm, kleiner oder gleich 3 mm, kleiner oder gleich 2,5 mm, kleiner oder gleich 2 mm, kleiner oder gleich 1,5 mm, kleiner oder gleich 1 mm, kleiner oder gleich 0,8 mm, kleiner oder gleich 0,6 mm, kleiner oder gleich 0,4 mm, kleiner oder gleich 0,2 mm, kleiner oder gleich 0,1 mm oder kleiner oder gleich 0,25 mm aufweisen.The plurality of plate electrodes preferably include 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, or more than 20 plate electrodes. The plate electrodes of the preferred ion guide may have a thickness of less than or equal to 5 mm, less than or equal to 4.5 mm, less than or equal to 4 mm, less than or equal to 3.5 mm, less than or equal to 3 mm, less than or equal to 2.5 mm less than or equal to 2 mm, less than or equal to 1.5 mm, less than or equal to 1 mm, less than or equal to 0.8 mm, less than or equal to 0.6 mm, less than or equal to 0.4 mm, less than or equal to 0, 2 mm, less than or equal to 0.1 mm or less than or equal to 0.25 mm exhibit.

Gemäß einer Ausführungsform können die Plattenelektroden durch Aufbringen einer leitenden Farbe oder einer anderen Substanz auf einem Substrat gebildet werden. Bei diesen Ausführungsformen beträgt die typische Dicke der aufgebrachten leitenden Schicht (Elektrodenschicht) in etwa 250 μm (0, 25 mm).According to one embodiment can the plate electrodes by applying a conductive paint or of another substance are formed on a substrate. In these embodiments is the typical thickness of the applied conductive layer (electrode layer) in about 250 microns (0, 25 mm).

Die Plattenelektroden der bevorzugten Ionenführung können um einen Abstand von kleiner oder gleich 5 mm, kleiner oder gleich 4,5 mm, kleiner oder gleich 4 mm, kleiner oder gleich 3,5 mm, kleiner oder gleich 3 mm, kleiner oder gleich 2,5 mm, kleiner oder gleich 2 mm, kleiner oder gleich 1,5 mm, kleiner oder gleich 1 mm, kleiner oder gleich 0,8 mm, kleiner oder gleich 0,6 mm, kleiner oder gleich 0,4 mm, kleiner oder gleich 0,2 mm, kleiner oder gleich 0,1 mm oder kleiner oder gleich 0,25 mm voneinander beabstandet sein.The Plate electrodes of the preferred ion guide can be spaced a smaller distance or equal to 5 mm, less than or equal to 4.5 mm, less than or equal to 4 mm, less than or equal to 3.5 mm, less than or equal to 3 mm, smaller or equal to 2.5 mm, less than or equal to 2 mm, less than or equal to 1.5 mm, less than or equal to 1 mm, less than or equal to 0.8 mm, smaller or equal to 0.6 mm, less than or equal to 0.4 mm, less than or equal to 0.2 mm, less than or equal to 0.1 mm or less than or equal to 0.25 mm apart.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform wird den Plattenelektroden Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt. Benachbarten Plattenelektroden können entgegengesetzte Phasen der Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt werden. Die Wechsel- oder HF-Spannung hat vorzugsweise eine Frequenz von < 100 kHz, 100 – 200 kHz, 200 – 300 kHz, 300 – 400 kHz, 400 – 500 kHz, 0,5 – 1,0 MHz, 1,0 – 1,5 MHz, 1,5 – 2,0 MHz, 2,0 – 2,5 MHz, 2,5 – 3,0 MHz, 3,0 – 3,5 MHz, 3,5 – 4,0 MHz, 4,0 – 4,5 MHz, 4,5 – 5,0 MHz, 5,0 – 5,5 MHz, 5,5 – 6,0 MHz, 6,0 – 6,5 MHz, 6,5 – 7,0 MHz, 7,0 – 7,5 MHz, 7,5 – 8,0 MHz, 8,0 – 8,5 MHz, 8,5 – 9,0 MHz, 9,0 – 9,5 MHz, 9,5 – 10,0 MHz oder > 10,0 MHz.According to the preferred embodiment AC or RF voltage is applied to the plate electrodes. neighboring Plate electrodes can opposite phases of the AC or RF voltage can be supplied. The change or HF voltage preferably has a frequency of <100 kHz, 100-200 kHz, 200-300 kHz, 300 - 400 kHz, 400 - 500 kHz, 0.5 - 1.0 MHz, 1.0 - 1.5 MHz, 1.5 - 2.0 MHz, 2.0 - 2.5 MHz, 2.5 - 3.0 MHz, 3.0 - 3.5 MHz, 3.5 - 4.0 MHz, 4.0 - 4.5 MHz, 4.5 - 5.0 MHz, 5.0 - 5.5 MHz, 5.5 - 6.0 MHz, 6.0 - 6.5 MHz, 6.5 - 7.0 MHz, 7.0 - 7.5 MHz, 7.5 - 8.0 MHz, 8.0 - 8.5 MHz, 8.5 - 9.0 MHz, 9.0 - 9.5 MHz, 9.5-10.0 MHz or> 10.0 MHz.

Die Wechsel- oder HF-Spannung beträgt vorzugsweise < 50 V von Spitze zu Spitze, 50 – 100 V von Spitze zu Spitze, 100 – 150 V von Spitze zu Spitze, 150 – 200 V von Spitze zu Spitze, 200 – 250 V von Spitze zu Spitze, 250 – 300 V von Spitze zu Spitze, 300 – 350 V von Spitze zu Spitze, 350 – 400 V von Spitze zu Spitze, 400 – 450 V von Spitze zu Spitze, 450 – 500 V von Spitze zu Spitze oder > 500 V von Spitze zu Spitze.The AC or RF voltage is preferably <50 V from tip to tip, 50 - 100 V from tip to tip, 100 - 150 V from tip to tip, 150-200 V from tip to tip, 200 - 250 V from tip to tip, 250 - 300 V from tip to tip, 300 - 350 V from tip to tip, 350 - 400 V from tip to tip, 400 - 450 V from tip to tip, 450 - 500 V from tip to tip or> 500 V from tip to tip.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 0,0001 mbar, (ii) größer oder gleich 0,0005 mbar, (iii) größer oder gleich 0,001 mbar, (iv) größer oder gleich 0,005 mbar, (v) größer oder gleich 0,01 mbar, (vi) größer oder gleich 0,05 mbar, (vii) größer oder gleich 0,1 mbar, (viii) größer oder gleich 0,5 mbar, (ix) größer oder gleich 1 mbar, (x) größer oder gleich 5 mbar und (xi) größer oder gleich 10 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) greater or equal to 0.0001 mbar, (ii) greater than or equal to equal to 0.0005 mbar, (iii) greater or less equal to 0.001 mbar, (iv) greater or equal to 0.005 mbar, (v) greater or less equal to 0.01 mbar, (vi) greater than or equal to equal to 0.05 mbar, (vii) larger or equal to 0.1 mbar, (viii) greater or equal to 0.5 mbar, (ix) greater than or equal to 1 mbar, (x) larger or equal to 5 mbar and (xi) greater or equal to 10 mbar.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 10 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 mbar, (iv) kleiner oder gleich 0,5 mbar, (v) kleiner oder gleich 0,1 mbar, (vi) kleiner oder gleich 0,05 mbar, (vii) kleiner oder gleich 0,01 mbar, (viii) kleiner oder gleich 0,005 mbar, (ix) kleiner oder gleich 0,001 mbar, (x) kleiner oder gleich 0,0005 mbar und (xi) kleiner oder gleich 0,0001 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) less than or equal to 10 mbar, (ii) less than or equal to 5 mbar, (iii) less than or equal to 1 mbar, (iv) less than or equal to 0.5 mbar, (v) less than or equal to 0.1 mbar, (vi) less than or equal to 0.05 mbar, (vii) less than or equal to 0.01 mbar, (viii) smaller or equal to 0.005 mbar, (ix) less than or equal to 0.001 mbar, (x) smaller or equal to 0.0005 mbar and (xi) less than or equal to 0.0001 mbar.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 0,0001 und 10 mbar, (ii) zwischen 0,0001 und 1 mbar, (iii) zwischen 0,0001 und 0,1 mbar, (iv) zwischen 0,0001 und 0,01 mbar, (v) zwischen 0,0001 und 0,001 mbar, (vi) zwischen 0,001 und 10 mbar, (vii) zwischen 0,001 und 1 mbar, (viii) zwischen 0,001 und 0,1 mbar, (ix) zwischen 0,001 und 0,01 mbar, (x) zwischen 0,01 und 10 mbar, (xi) zwischen 0,01 und 1 mbar, (xii) zwischen 0,01 und 0,1 mbar, (xiii) zwischen 0,1 und 10 mbar, (xiv) zwischen 0,1 und 1 mbar und (xv) zwischen 1 und 10 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) between 0.0001 and 10 mbar, (ii) between 0.0001 and 1 mbar, (iii) between 0.0001 and 0.1 mbar, (iv) between 0.0001 and 0.01 mbar, (v) between 0.0001 and 0.001 mbar, (vi) between 0.001 and 10 mbar, (vii) between 0.001 and 1 mbar, (viii) between 0.001 and 0.1 mbar, (ix) between 0.001 and 0.01 mbar, (x) between 0.01 and 10 mbar, (xi) between 0.01 and 1 mbar, (xii) between 0.01 and 0.1 mbar, (xiii) between 0.1 and 10 mbar, (xiv) between 0.1 and 1 mbar and (xv) between 1 and 10 mbar.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 1 × 10–7 mbar, (ii) größer oder gleich 5 × 10–7 mbar, (iii) größer oder gleich 1 × 10–6 mbar, (iv) größer oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) größer oder gleich 1 × 10–5 mbar und (vi) größer oder gleich 5 × 10–5 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the group consisting of: (i) greater than or equal to 1 × 10 -7 mbar, (ii) greater than or equal to 5 × 10 -7 mbar, (iii) greater or equal to 1 × 10 -6 mbar, (iv) greater than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) greater than or equal to 1 × 10 -5 mbar and (vi) greater than or equal to 5 × 10 -5 mbar.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 1 × 10–4 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 × 10–5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 × 10–5 mbar, (iv) kleiner oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) kleiner oder gleich 1 × 10–6 mbar, (vi) kleiner oder gleich 5 × 10–7 mbar und (vii) kleiner oder gleich 1 × 10–7 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the following group: (i) less than or equal to 1 × 10 -4 mbar, (ii) less than or equal to 5 × 10 -5 mbar, (iii) smaller or equal to 1 × 10 -5 mbar, (iv) less than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) less than or equal to 1 × 10 -6 mbar, (vi) less than or equal to 5 × 10 -7 mbar and (vii ) is less than or equal to 1 × 10 -7 mbar.

Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (ii) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (iii) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (iv) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (v) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (vi) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–7 mbar, (vii) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (viii) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (ix) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (×) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (xi) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (xii) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xiii) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xiv) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xv) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–6 mbar, (xvi) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xvii) zwischen 5 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xviii) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xix) zwischen 1 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar, (xx) zwischen 1 × 10–5 und 5 × 10–5 mbar und (xxi) zwischen 5 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the following group: (i) between 1 x 10 -7 and 1 x 10 -4 mbar, (ii) between 1 x 10 -7 and 5 x 10 -5 mbar, (iii) is between 1 x 10 -7 and 1 x 10 -5 mbar, (iv) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (v) between 1 × 10 -7 to 1 × 10 -6 mbar, (vi) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -7 mbar, (vii) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -4 mbar, (viii) between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -5 mbar, (ix) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -5 mbar, (×) between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (xi) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -6 mbar, (xii) between 1 × 10 -6 and 1 × 10 -4 mbar, (xiii) between 1 × 10 -6 and 5 x 10 -5 mbar, (xiv) between 1 x 10 -6 and 1 x 10 -5 mbar, (xv) between 1 x 10 -6 and 5 x 10 -6 mbar, (xvi) between 5 x 10 -6 and 1 x 10 -4 mbar, (xvii) is between 5 × 10 -6 and 5 × 10 -5 mbar, (xviii) is between 5 × 10 -6 and 1 × 10 -5 mbar, (xix) is between 1 x 10 - 5 and 1 × 10 -4 mbar, (xx) between 1 × 10 -5 and 5 × 10 -5 mbar and (xxi) between 5 × 10 -5 and 1 × 10 -4 mbar.

Die Ionenführung weist vorzugsweise weiter eine auf einer ersten Seite der Ionenführung angeordnete erste äußere (beispielsweise oberste/obere) Plattenelektrode und eine auf einer zweiten Seite der Ionenführung angeordnete zweite (beispielsweise unterste/untere) äußere Plattenelektrode auf. Gemäß weniger bevorzugten Ausführungsformen kann keine obere oder untere Plattenelektrode bereitgestellt sein. Bei diesen Ausführungsformen kann durch Wechselspannungs- oder HF-Einschluß, der durch andere Mittel, wie eine benachbarte Stabsatzanordnung bereitgestellt wird, verhindert werden, daß Ionen aus dem Oberteil oder dem Unterteil der Ionenführung austreten.The ion guide preferably further comprises a first outer (for example top / top) plate electrode and one on a second side the ion guide arranged second (for example, lowest / lower) outer plate electrode on. According to less preferred embodiments no upper or lower plate electrode can be provided. In these embodiments may be due to AC or RF confinement caused by other means, how an adjacent set of rod assemblies is provided prevents be that ions emerge from the upper part or the lower part of the ion guide.

Gemäß einer anderen Ausführungsform können die von der Mitte der Ionenführung fernen Plattenelektroden auf ständig zunehmenden positiven oder negativen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß Ionen, die sich vom Mittelbereich der Ionenführung fortbewegen, zunehmend zur Mitte der Ionenführung zurückgedrängt werden. Gemäß dieser Ausführungsform können keine äußeren Plattenelektroden bereitgestellt sein, die die Ionenführung einschließen.According to one another embodiment can from the center of the ion guide distant plate electrodes on constantly increasing positive or negative DC potentials be held so that ions, increasingly moving away from the central region of the ion guide to the middle of the ion guide be pushed back. According to this embodiment can no external plate electrodes be provided, which include the ion guide.

Es kann dafür gesorgt werden, daß die erste äußere Plattenelektrode und/oder die zweite äußere Plattenelektrode auf eine Gleich-Vorspannung in bezug auf die mittlere Spannung der Plattenelektroden, an die eine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt ist, vorgespannt werden.It can do that be taken care of that first outer plate electrode and / or the second outer plate electrode to a DC bias with respect to the mean voltage of Plate electrodes to which an AC or RF voltage is applied to be biased.

Diese Vorspannung ist vorzugsweise kleiner als –10 V, –9 bis –8 V, –8 bis –7 V, –7 bis –6 V, –6 bis –5 V, –5 bis –4 V, –4 bis –3 V, –3 bis –2 V, –2 bis –1 V, –1 bis 0 V, 0 bis 1 V, 1 bis 2 V, 2 bis 3 V, 3 bis 4 V, 4 bis 5 V, 5 bis 6 V, 6 bis 7 V, 7 bis 8 V, 8 bis 9 V, 9 bis 10 V oder mehr als 10 V.These Bias voltage is preferably less than -10 V, -9 to -8 V, -8 to -7 V, -7 to -6 V, -6 to -5 V, -5 to -4 V, -4 to -3 V , -3 to -2 V, -2 to -1 V, -1 to 0 V, 0 to 1 V, 1 to 2V, 2 to 3V, 3 to 4V, 4 to 5V, 5 to 6V, 6 to 7V, 7 to 8V, 8 to 9V, 9 to 10V or more than 10V.

Gemäß einer Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte, also den äußeren Elektroden, eine reine Gleichspannung zugeführt (d.h. an sie ist keine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt). Gemäß einer anderen Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte eine reine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt (d.h. die Platten werden nicht mit einer Gleichspannung in bezog auf die anderen Plattenelektroden vorgespannt). Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte sowohl eine Gleichspannung als auch eine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt (d.h. die äußeren Elektroden sind in bezog auf die anderen Elektroden durch eine Gleichspannung vorgespannt, und ihnen wird auch eine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt).According to one embodiment is the upper and / or lower plate, so the outer electrodes, fed a pure DC voltage (i.e., there is no change or HF voltage applied). According to one another embodiment the upper and / or the lower plate is a pure change or RF voltage supplied (i.e., the plates are not referenced with a DC voltage biased to the other plate electrodes). According to one another embodiment For example, the upper and / or lower plate becomes both a DC voltage as well as an AC or RF voltage (i.e., the outer electrodes are in relation to the other electrodes by a DC voltage biased, and they will also have an AC or RF voltage fed).

Gemäß den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen kann die Ionenführung weiter eine in der oberen und/oder der unteren Platte angeordnete Öffnung aufweisen. Die Öffnung kann verwendet werden, um zu ermöglichen, daß Ionen und/oder ein Gas und/oder ein Laserstrahl in die Ionenführung eintreten und/oder aus dieser austreten.According to the above described embodiments can the ion guide further comprise an opening disposed in the upper and / or the lower plate. The opening can be used to enable that ions and / or a gas and / or a laser beam enter the ion guide and / or emerge from this.

Gemäß einer Ausführungsform werden eine oder mehrere der Plattenelektroden bei der Verwendung auf einem von demjenigen der anderen Plattenelektroden verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten, so daß innerhalb der Ionenführung mehrere diskrete Ionenführungsbereiche gebildet sind. Beispielsweise können eine oder mehrere der Plattenelektroden zur Mitte des Stapels der Plattenelektroden hin auf einem Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß sie einen Potentialwall bilden. Gemäß einer solchen Anordnung können dann zwei parallele und sich in Längsrichtung erstreckende Ionenführungsbereiche innerhalb der Ionenführung gebildet werden, wobei beispielsweise ein oberer Ionenführungsbereich und ein unterer Ionenführungsbereich gebildet wird. Gemäß anderen Ausführungsformen können mehr als zwei parallele Ionenführungsbereiche gebildet werden.According to one embodiment become one or more of the plate electrodes in use one different from that of the other plate electrodes Held DC potential, so that within the ion guide more discrete ion guide areas are formed. For example, you can one or more of the plate electrodes to the center of the stack of Plate electrodes held at a DC potential so they form a potential wall. According to one such arrangement can then two parallel and longitudinally extending ion guide regions within the ion guide are formed, for example, an upper ion guide region and a lower ion guide area is formed. According to others embodiments can formed more than two parallel ion guide regions become.

Gemäß einer anderen Ausführungsform werden mehrere Plattenelektroden auf erheblich verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten. Gemäß diesen Ausführungsformen kann zwischen den Platten ein Gleichspannungs-Potentialprofil aufrechterhalten werden. Beispielsweise kann zwischen den Plattenelektroden ein V-förmiges Gleichspannungs-Potentialprofil aufrechterhalten werden, so daß Ionen zum Mittelbereich der Ionenführung hin gedrängt werden. Gemäß dieser Ausführungsform brauchen obere und untere Plattenelektroden, die die Ionenführung wirksam einschließen, möglicherweise nicht bereitgestellt werden, so daß die Ionenführung vom Oberteil und vom Unterteil her im wesentlichen offen erscheinen kann.According to one another embodiment become multiple plate electrodes at significantly different DC potentials held. According to these embodiments can maintain a DC potential profile between the plates become. For example, between the plate electrodes, a V-shaped DC potential profile be maintained so that ions to the central region of the ion guide pushed become. According to this embodiment need upper and lower plate electrodes, which make the ion guide effective lock in, possibly are not provided, so that the ion guide of Upper part and appear from the lower part substantially open can.

Vorzugsweise weist die Ionenführung einen ersten äußeren Abschnitt, einen zweiten äußeren Abschnitt und einen Zwischenabschnitt zwischen dem ersten und dem zweiten äußeren Abschnitt auf, wobei das Gleichspannungspotential, auf dem die Plattenelektroden gehalten werden, im ersten und/oder im zweiten äußeren Abschnitt in bezug auf den Zwischenabschnitt erhöht ist, so daß Ionen zu einem Mittelbereich der Ionenführung zurückgerichtet werden.Preferably, the ion guide has a first outer portion, a second outer Ab and an intermediate portion between the first and second outer portions, wherein the DC potential at which the plate electrodes are held is increased in the first and / or second outer portions with respect to the intermediate portion so that ions become a central region of the ion guide be returned.

Es werden weitere Ausführungsformen erwogen, bei denen sich die an die Plattenelektroden angelegten Gleichspannungspotentiale zeitlich ändern können. Vorzugsweise sind an die Plattenelektroden ein oder mehrere transiente Gleichspannungspotentiale oder eine oder mehrere Gleichspannungspotential-Wellenformen angelegt. Dies kann vorzugsweise bewirken, daß Ionen von einem Bereich (beispielsweise einem oberen Bereich) der Ionenführung zu einem anderen Bereich (beispielsweise einem unteren Bereich) der Ionenführung gedrängt werden.It become further embodiments contemplated in which the applied to the plate electrodes DC voltage potentials can change over time. Preferably are on the plate electrodes have one or more transient DC potentials or one or more DC potential waveforms applied. This may preferably cause ions from a region (e.g. an upper portion) of the ion guide to another area (for example, a lower area) the ion guide packed become.

Gemäß einer anderen Ausgestaltung, die nicht Gegenstand vorliegender Anmeldung ist, ist ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vorgesehen, wobei die Ionenführung aufweist:
mehrere Elektrodenschichten und
mehrere Isolatorschichten, die zwischen den Elektrodenschichten eingestreut oder verschachtelt sind.
According to another embodiment, which is not part of the present application, a mass spectrometer with an ion guide is provided, wherein the ion guide comprises:
several electrode layers and
multiple insulator layers interspersed or interleaved between the electrode layers.

Vorzugsweise sind wenigstens 10 %, 20 %, 30 %, 40 %, 50 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Elektrodenschichten auf den Isolatorschichten angeordnet oder darauf abgeschieden.Preferably are at least 10%, 20%, 30%, 40%, 50 60%, 70%, 80%, 90 % or 95% of the electrode layers are arranged on the insulator layers or deposited on it.

Gemäß einer anderen Ausgestaltung, die nicht Gegenstand vorliegender Anmeldung ist, ist ein Massenspektrometer mit einer Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung vorgesehen, wobei die Ionenführung aufweist:
mehrere Elektroden und
mehrere Isolatoren, die zwischen den Elektroden eingestreut bzw. eingefügt oder verschachtelt sind,
wobei die Elektroden auf den Isolatoren angebracht oder darauf abgeschieden sind.
According to another embodiment, which is not part of the present application, a mass spectrometer with an AC or RF ion guide is provided, wherein the ion guide comprises:
several electrodes and
a plurality of insulators interspersed between the electrodes, inserted or interleaved,
wherein the electrodes are mounted on or deposited on the insulators.

Vorzugsweise weist die Ionenführung einen Ioneneingang und einen Ionenausgang auf, wobei im wesentlichen verhindert wird, daß Gasmoleküle innerhalb der Ionenführung an anderer Stelle als durch den Ioneneingang oder den Ionenausgang aus der Ionenführung austreten. Es kann eine Gasöffnung zum Einleiten von Gas in die Ionenführung bereitgestellt sein, es kann jedoch vorzugsweise im wesentlichen verhindert werden, daß Gas über diese Gasöffnung aus der Ionenführung austritt.Preferably has the ion guide an ion input and an ion output, wherein substantially prevents gas molecules within the ion guide elsewhere than through the ion input or the ion output from the ion guide escape. It can be a gas opening be provided for introducing gas into the ion guide, however, it may be preferable to substantially prevent gas from passing therethrough gas opening from the ion guide exit.

In einer weiteren nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Ausgestaltung ist ein Massenspektrometer mit einer ersten Ionenführung, einer Gaskollisions-/Reaktionszelle und einer zweiten Ionenführung vorgesehen. Die zweite Ionenführung weist mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen, einen Ionenführungsbereich, der durch die Ionenführung verläuft, und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Es gibt vorzugsweise keine direkte Sichtlinie vom Eingang zum Ausgang der zweiten Ionenführung.In another embodiment not belonging to the present application is a mass spectrometer with a first ion guide, a Gaskollisions- / reaction cell and a second ion guide. The second ion guide has a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions, an ion guide region, through the ion guide runs, and an exit from which ions exit. There are preferably no direct line of sight from the entrance to the exit of the second ion guide.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform umfaßt das Massenspektrometer weiter eine Elektrospray-Ionenquelle ("ESI-Ionenquelle"), eine chemische Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle ("APCI-Ionenquelle"), eine Atmosphärendruck-Photoionisations-Ionenquelle ("APPI-Ionenquelle"), eine matrixunterstützte Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("MALDI-Ionenquelle"), eine Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("LDI-Ionenquelle"), eine induktiv gekoppelte Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle"), eine Elektronenstoß-Ionenquelle ("EI-Ionenquelle"), eine chemische Ionisations-Ionenquelle ("CI-Ionenquelle"), eine Ionenquelle mit schnellem Atombeschuß ("FAB-Ionenquelle") oder eine Flüssigkeits-Sekundärionen-Massenspektrometrie-Ionenquelle ("LSIMS-Ionenquelle").According to the preferred embodiment comprises the mass spectrometer further an electrospray ion source ("ESI ion source"), a chemical Atmospheric pressure ionization ion source ("APCI ion source"), an atmospheric pressure photoionization ion source ("APPI ion source"), a matrix-assisted laser desorption ionization ion source ("MALDI ion source"), a laser desorption ionization ion source ("LDI ion source"), an inductive coupled plasma ion source ("ICP ion source"), an electron impact ion source ("EI ion source"), a chemical Ionization ion source ("CI ion source"), an ion source with fast atom bombardment ("FAB ion source") or a liquid secondary ion mass spectrometry ion source ( "LSIMS") ion source.

Das Massenspektrometer kann auch einen stromabwärts der zweiten Ionenführung angeordneten Massenanalysator aufweisen. Der Massenanalysator kann einen Flugzeit-Massenanalysator, einen Quadrupol-Massenanalysator, einen Fourier-Transformations-Ionenzyklotronresonanz-Massenanalysator ("FTICR-Massenanalysator") eine zweidimensionale (lineare) Quadrupol-Ionenfalle, eine dreidimensionale (Paul-) Quadrupol-Ionenfalle oder einen Magnetsektor-Massenanalysator aufweisen.The Mass spectrometers may also include a mass analyzer located downstream of the second ion guide. The mass analyzer may include a Time of Flight mass analyzer, a quadrupole mass analyzer, a Fourier transform ion cyclotron resonance mass analyzer ("FTICR mass analyzer") is a two-dimensional (linear) quadrupole ion trap, a three-dimensional (Paul) quadrupole ion trap or a magnetic sector mass analyzer exhibit.

Ionenführungen gemäß der bevorzugten Ausführungsform können vorteilhafterweise einen Ionenführungsbereich mit wenigstens einem gekrümmten oder nichtlinearen Abschnitt aufweisen, und sie können mehr als einen Ioneneingang und/oder Ionenausgang aufweisen. Es wäre sehr schwierig und übermäßig kostspielig, zu versuchen, gleichwertige Ionenführungen aus herkömmlichen Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen herzustellen und aufzubauen.ion guides according to the preferred embodiment can advantageously an ion guide region with at least one curved one or nonlinear section, and they may more than have an ion input and / or ion output. It would be very difficult and overly expensive, too try equivalent ion guides from conventional Multipole rod set RF ion guides manufacture and build.

Die Ionenführung gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist aus einer Reihe geformter Platten oder Plattenelektroden aufgebaut. Die Platten müssen nicht gerade sein, und sie können mehr als einen Ioneneingang und/oder Ionenausgang aufweisen. Die bevorzugten Ionenführungen sind verhältnismäßig einfach herzustellen und sie sind erheblich kostengünstiger als herkömmliche Mehrpol-Stabsatz-Ionenführungen. Es können auch leicht Ionenführungen mit komplizierten Formen hergestellt werden. Beispielsweise können mehrere identische Platten mit komplizierten Formen leicht und kostengünstig durch Druckschneiden oder Stanzen, photochemisches Ätzen, Laserschneiden, Drahterosion, Funkenerosion usw. aus dünnen Abschnitten aus Metallblech hergestellt werden. Weiterhin können die Platten in einer Baugruppe oder einer Mehrfachanordnung gestapelt werden, wobei die Platten beabstandet und isoliert sind und wobei alternierende Platten elektrisch miteinander verbunden sind, so daß benachbarte Platten um 180° außer Phase miteinander gehalten werden.The ion guide according to the preferred embodiment is constructed of a series of shaped plates or plate electrodes. The plates need not be straight, and you can have more than one ion input and / or ion output. The preferred ion guides are relatively easy They are considerably cheaper than conventional ones Multipole rod set ion guides. It can also easy ion guides be made with complicated shapes. For example, several identical ones Plates with complicated shapes easily and inexpensively through Pressure cutting or punching, photochemical etching, laser cutting, wire erosion, Spark erosion, etc. from thin Sections are made of sheet metal. Furthermore, the Plates stacked in an assembly or multiple array with the plates spaced and insulated, and with alternating ones Plates are electrically connected together, so that adjacent Plates out of phase by 180 ° held together.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist die HF-Ionenführung aus einer Reihe geformter Platten aufgebaut, die in einem Stapel angeordnet sind, wobei geeignete Gleichspannungspotentiale an eine oberste oder obere Plattenelektrode und an eine unterste oder untere flache Plattenelektrode angelegt sind. Dies ist eine besonders einfache und kostengünstige Art des Aufbauens einer komplexen HF-Ionenführung. Die oberste und die unterste Platte können mit einer an sie angelegten Wechsel- oder HF-Spannung oder einer Kombination von Wechsel- oder HF- und Gleichspannungen betrieben werden.According to one preferred embodiment is the RF ion guide off constructed of a series of shaped plates arranged in a stack are, with suitable DC potentials to a supreme or upper plate electrode and to a lower or lower flat Plate electrode are applied. This is a very simple one and cost-effective Type of building a complex RF ion guide. The top and the bottom plate can with an AC or RF voltage applied thereto or a combination of AC or DC and DC voltages are operated.

Gemäß der bevorzugten Ausführungsform können die Platten mit einem Eingang und einem Ausgang hergestellt werden, die nicht ausgerichtet sind, so daß es keine Sichtlinie durch die Ionenführung gibt, so daß neutrale Teilchen, große Teilchen oder Tröpfchen oder Strahlung, wie sichtbares Licht oder UV-Licht nicht gerade durch die Ionenführung hindurchlaufen.According to the preferred embodiment can the plates are manufactured with an input and an output, which are not aligned so that there is no line of sight through the ion guide gives, so that neutral Particles, big Particles or droplets or radiation, such as visible light or UV light just not through the ion guide pass.

Gemäß einem weiteren nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren zur Massenspektrometrie vorgesehen, welches die folgenden Schritte aufweist:
Erzeugen von Ionen von einer Atmosphärendruck-Ionenquelle und
Führen der Ionen durch eine Ionenführung, wobei die Ionenführung mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, über den Ionen aus der Ionenführung austreten, aufweist, wobei ein Ionenführungskanal in den Plattenelektroden ausgebildet ist und im wesentlichen über die Länge der Ionenführung verläuft und wobei die Plattenelektroden in der Ebene der Ionenbewegung angeordnet sind.
According to a further aspect not belonging to the present application, a method for mass spectrometry is provided which comprises the following steps:
Generating ions from an atmospheric pressure ion source and
Guiding the ions through an ion guide, the ion guide comprising a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions, and an exit through which ions exit the ion guide, wherein an ion guide channel is formed in the plate electrodes and extends substantially the length of the ion guide and wherein the plate electrodes are arranged in the plane of ion movement.

Gemäß einem anderen nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren zum Herstellen einer Ionenführung für ein Massenspektrometer vorgesehen, bei dem mehrere Elektroden mit mehreren Isolatoren eingestreut oder verschachtelt angeordnet werden, um eine Ionenführung mit mehreren an den Isolatoren angeordneten Elektroden zu bilden, so daß ein Ionenführungsstapel gebildet wird.According to one Another aspect not belonging to the present application is a method for producing an ion guide for a Mass spectrometer provided in which multiple electrodes with multiple Insulators interspersed or nested to be arranged an ion guide with a plurality of electrodes arranged on the insulators, so that one Ion guide stack is formed.

Gemäß einem anderen nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren zum Herstellen einer Ionenführung für ein Massenspektrometer vorgesehen, bei dem mehrere Elektrodenschichten auf mehreren Isolatorschichten abgeschieden werden, um einen Ionenführungsstapel mit mehreren auf den Isolatorschichten angeordneten Elektrodenschichten zu bilden.According to one Another aspect not belonging to the present application is a method for producing an ion guide for a Mass spectrometer provided, in which several electrode layers on a plurality of insulator layers are deposited to an ion guide stack with a plurality of electrode layers arranged on the insulator layers to build.

Der in der vorliegenden Anmeldung verwendete Begriff "Plattenelektrode" sollte breit ausgelegt werden. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weisen die Plattenelektroden dünne Metallbleche auf. Gemäß anderen Ausführungsformen können die Plattenelektroden jedoch Drahtnetze oder -gitter aufweisen und daher Öffnungen haben. Der Begriff soll auch Elektroden einschließen, die auf ein Substrat in der Art eines Isolators aufgebracht worden sind.Of the The term "plate electrode" as used in the present application should be interpreted broadly become. According to one preferred embodiment the plate electrodes are thin Metal sheets on. According to others embodiments can however, the plate electrodes have wire nets or grids and therefore openings to have. The term is also meant to include electrodes that have been applied to a substrate in the manner of an insulator.

Gemäß der Erfindung sind die die Ionenführung bildenden Elektroden im Gegensatz zu einer Ionentunnel- oder Ionentrichter-Ionenführung, bei der die Ringelektroden in einer Ebene senkrecht zur Ionenbewegungsrichtung angeordnet sind, in der Ebene der Ionenbewegung angeordnet.According to the invention are the ion guide forming electrodes as opposed to an ion tunnel or ion funnel ion guide the ring electrodes in a plane perpendicular to the ion movement direction are arranged, arranged in the plane of ion movement.

Die vorstehend beschriebenen Ionenführungen können entweder als eine Ionenführung an sich verwendet werden, oder sie können eine Fragmentations-, Kollisions-, Reaktions- oder Kollisions-Kühlzelle bilden.The ion guides described above can either as an ion guide can be used per se, or they can be a fragmentation, Collision, reaction or collision cooling cell form.

Verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun nur als Beispiel mit Bezug auf die anliegende Zeichnung beschrieben, in der:Various embodiments The present invention will now be described by way of example only with reference to FIG the attached drawing, in which:

1A eine Draufsicht einer Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung gemäß einer Ausführungsform zeigt und 1B eine Schnittansicht der Ionenführung aus 1A entlang einem Querschnitt A-A zeigt, 1A a plan view of an AC or RF ion guide according to an embodiment shows and 1B a sectional view of the ion guide 1A along a cross section AA,

2 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Platten einen C-förmigen Ionenweg aufweisen, so daß die Ionen vom Eingang zum Ausgang um 90° gedreht werden, 2 shows an embodiment in which the plates have a C-shaped ion path, so that the ions are rotated by 90 ° from the input to the output,

3 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Platten einen S-förmigen Ionenweg aufweisen, so daß Ionen vom Eingang zum Ausgang seitlich versetzt werden, 3 shows an embodiment in which the plates have an S-shaped ion path, so that ions are laterally offset from the input to the output,

4 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Platten einen Ω-förmigen Ionenweg aufweisen, so daß es keine Sichtlinie zwischen dem Eingang und dem Ausgang gibt, wobei die Ionen jedoch nicht seitlich oder schräg versetzt sind, wenn sie aus der Ionenführung austreten, 4 Fig. 5 shows an embodiment in which the plates have an Ω-shaped ion path so that there is no line of sight between the input and the output, but the ions are not offset laterally or obliquely as they emerge from the ion guide,

5 eine Ausführungsform zeigt, bei der ein S-förmiger Ionenweg aus zwei Plattenstapeln mit C-förmigen Ionenwegen gebildet ist, 5 shows an embodiment in which an S-shaped ion path is formed of two plate stacks with C-shaped ion paths,

6 eine Ausführungsform zeigt, bei der ein Ω-förmiger Ionenweg aus zwei Plattenstapeln mit S-förmigen Ionenwegen gebildet ist, 6 1 shows an embodiment in which an Ω-shaped ion path is formed from two plate stacks with S-shaped ion paths,

7 eine Ausführungsform zeigt, bei der ein Ω-förmiger Ionenweg aus zwei Plattenstapeln mit C-förmigen Ionenwegen gebildet ist, 7 1 shows an embodiment in which an Ω-shaped ion path is formed from two plate stacks with C-shaped ion paths,

8 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung zwei Eingänge und einen Ausgang aufweist, 8th 1 shows an embodiment in which the ion guide has two inputs and one output,

9 eine andere Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung zwei Eingänge und einen Ausgang aufweist, 9 another embodiment in which the ion guide has two inputs and one output,

10 eine andere Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung zwei Eingänge und einen Ausgang aufweist, 10 another embodiment in which the ion guide has two inputs and one output,

11 eine andere Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung zwei Eingänge und einen Ausgang aufweist, 11 another embodiment in which the ion guide has two inputs and one output,

12 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung drei Eingänge und einen Ausgang aufweist, 12 an embodiment in which the ion guide has three inputs and one output,

13 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung einen Eingang und zwei Ausgänge aufweist, 13 shows an embodiment in which the ion guide has an input and two outputs,

14 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung einen Eingang und drei Ausgänge aufweist, 14 an embodiment in which the ion guide has an input and three outputs,

15 eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung zwei Eingänge und zwei Ausgänge aufweist, 15 shows an embodiment in which the ion guide has two inputs and two outputs,

16A eine Ausführungsform zeigt, bei der die Ionenführung drei Öffnungen aufweist, die selektiv als Eingänge und Ausgänge verwendet werden können, und 16B dieselbe Ionenführung zeigt, die in einem anderen Betriebsmodus verwendet wird, 16A an embodiment in which the ion guide has three openings that can be used selectively as inputs and outputs, and 16B shows the same ion guide used in another mode of operation,

17 eine Ausführungsform einer Ionenführung mit drei Öffnungen zeigt, die mit einer HF-Ionenführung mit einer Öffnung und einem Ioneneinfangbereich kombiniert ist, 17 shows an embodiment of a three-hole ion guide combined with an RF ion guide having an aperture and an ion capture region,

18A eine Ausführungsform einer Ionenführung mit drei Ionenwegen unterschiedlicher Größe und Form zeigt und 18A shows an embodiment of an ion guide with three ion paths of different size and shape and

18B einen Querschnitt einer Ionenführung mit einem nicht rechteckigen Querschnittsprofil zeigt, 18B shows a cross section of an ion guide with a non-rectangular cross-sectional profile,

19A eine Ausführungsform zeigt, bei der eine Ionenführung insgesamt sechs Öffnungen aufweist, und 19B eine andere Ausführungsform zeigt, bei der eine Ionenführung insgesamt sechs Öffnungen aufweist, 19A shows an embodiment in which an ion guide has a total of six openings, and 19B another embodiment in which an ion guide has a total of six openings,

20 ein Massenspektrometer zeigt, das eine bevorzugte Ionenführung aufweist, 20 shows a mass spectrometer having a preferred ion guide,

21A eine Ausführungsform einer Ionenführung zeigt, die mit einer an die oberste und die unterste Platte angelegten Gleichspannung betrieben wird, 21B eine Ausführungsform einer Ionenführung zeigt, die mit einer an die oberste und die unterste Platte angelegten Wechsel- oder HF-Spannung betrieben wird, und 21C eine Ausführungsform einer Ionenführung zeigt, die sowohl mit einer Gleichspannung als auch mit einer Wechsel- oder HF-Spannung, die an die oberste und die unterste Platte angelegt sind, betrieben wird, und 21A shows an embodiment of an ion guide operated with a DC voltage applied to the top and bottom plates, 21B shows an embodiment of an ion guide, which is operated with an applied to the top and bottom plate alternating or RF voltage, and 21C shows an embodiment of an ion guide, which is operated with both a DC voltage and with an AC or RF voltage applied to the top and bottom plate, and

22 eine Ionenführung zeigt, die aus einem Stapel auf Isolatoren angebrachter oder darauf abgeschiedener Elektroden besteht. 22 shows an ion guide consisting of a stack of insulators attached or deposited on electrodes.

Es werden einige verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beschrieben. Ein gemeinsames Merkmal der verschiedenen Ausführungsformen besteht jedoch darin, daß eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung bereitgestellt ist, die mehrere Plattenelektroden aufweist. Die Plattenelektroden sind vorzugsweise verhältnismäßig dünn und können aus Metallblechen bestehen. Alternativ können die Plattenelektroden aus einer nichtleitenden Platte, beispielsweise aus Glas oder Keramik, bestehen, die dann zumindest teilweise mit einer elektrisch leitenden Beschichtung überzogen wird. Die Glas- oder Keramikplatte kann in der gleichen Weise wie die Metallbleche geformt sein, um einen Ionenführungsbereich bereitzustellen.It be some different embodiments of the present invention. A common feature the various embodiments is, however, that a AC or RF ion guide is provided, which has a plurality of plate electrodes. The Plate electrodes are preferably relatively thin and may be made of metal sheets. Alternatively you can the plate electrodes from a non-conductive plate, for example made of glass or ceramic, which then at least partially with an electrically conductive coating is coated. The glass or Ceramic plate can be shaped in the same way as the metal plates be an ion guide area provide.

Die Glas- oder Keramikplatten sind vorzugsweise zusammenhängend, und Bereiche ihrer Oberfläche können mit einer leitenden Beschichtung beschichtet sein, um geformte Elektroden zum Führen der Ionen bereitzustellen.The Glass or ceramic plates are preferably contiguous, and Areas of their surface can with a conductive coating to be molded electrodes to lead to provide the ions.

Die bevorzugten Plattenelektroden unterscheiden sich von herkömmlichen Stabsatz-Elektroden, die ein kreisförmiges Querschnittsprofil aufweisen und deren Länge normalerweise viel größer ist als ihre Breite. Dagegen weisen die Plattenelektroden, die die Ionenführung gemäß der bevor zugten Ausführungsform bilden, vorzugsweise ein rechteckiges Querschnittsprofil auf, und die Breite der Elektroden kann mit der Länge der Elektroden vergleichbar sein (oder sogar größer sein als diese).The preferred plate electrodes differ from conventional ones Rod set electrodes having a circular cross-sectional profile and their length usually much bigger as their width. In contrast, the plate electrodes which guide the ion guide according to the before embodiment form, preferably a rectangular cross-sectional profile, and The width of the electrodes can be compared with the length of the electrodes to be (or even bigger as this).

1A zeigt eine Draufsicht einer Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a, die aus einem Stapel von Plattenelektroden aufgebaut ist, so daß ein S-förmiger Ionenweg innerhalb der Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a gebildet ist. Die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a besteht vorzugsweise aus einer Reihe identischer Platten, die jeweils etwa 0,7 mm dick sind und vorzugsweise 1,0 mm voneinander beabstandet sind. 1A shows a top view of an AC or RF ion guide 1a composed of a stack of plate electrodes such that an S-shaped ion path within the AC or RF ion guide 1a is formed. The AC or RF ion guide 1a preferably consists of a series of identical plates, each about 0.7 mm thick and preferably spaced 1.0 mm apart.

1B ist eine Schnittansicht entlang A-A der in 1A dargestellten Ionenführung, und es ist darin eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a dargestellt, die einen Stapel von sechs Plattenelektroden 2 mit einer oberen Plattenelektrode 3 und einer unteren Plattenelektrode 4 aufweist. Die innere Öffnung oder der Ionenführungsbereich 5 innerhalb der Ionenführung 1a ist vorzugsweise 11,2 mm hoch und 5 mm breit. Die Länge des durch die in 1A dargestellte Ionenführung 1a verlaufenden Ionenwegs kann etwa 60 mm betragen. Die Frequenz der HF-Versorgung, die an die die Ionenführung 1a bildenden Platten 2, 3, 4 angelegt ist, kann 6 MHz betragen, und die HF-Spannung kann 200 V von Spitze zu Spitze betragen. Die oberste oder die obere Plattenelektrode 3 und die unterste oder die untere Plattenelektrode 4 können gemäß einer Ausführungsform mit +3 V gegenüber der mittleren Spannung der geformten Plattenelektroden 2, an die die Wechsel- oder HF-Spannung angelegt wurde, vorgespannt sein. 1B is a sectional view along AA of in 1A represented ion guide, and it is an AC or RF ion guide therein 1a shown a stack of six plate electrodes 2 with an upper plate electrode 3 and a lower plate electrode 4 having. The inner opening or ion guide area 5 within the ion guide 1a is preferably 11.2 mm high and 5 mm wide. The length of the through 1A illustrated ion guide 1a extending ionic path can be about 60 mm. The frequency of the RF supply connected to the ion guide 1a forming plates 2 . 3 . 4 can be 6 MHz, and the RF voltage can be 200 V peak to peak. The top or top plate electrode 3 and the bottom or bottom plate electrode 4 may, in one embodiment, be +3 volts versus the average voltage of the shaped plate electrodes 2 to which the AC or RF voltage was applied should be biased.

Die bevorzugte Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a weist vorzugsweise mehrere in einem Stapel oder einem Feld angeordnete Plattenelektroden 2 auf. Die Ionenführung 1a weist vorzugsweise eine obere Plattenelektrode 3 und eine untere Plattenelektrode 4 auf. Die Elektroden 2, die nicht die obere Plattenelektrode 3 und die untere Plattenelektrode 4 sind, weisen vorzugsweise einen Kanal auf, der in den Platten im wesentlichen entlang ihrer gesamten Länge bereitgestellt ist. Bei dem in 1A dargestellten Beispiel sind die Plattenelektroden 2 und die obere Plattenelektrode 3 sowie die untere Plattenelektrode 4 S-förmig. Der in jeder der Plattenelektroden 2 bereitgestellte Kanal führt dazu, daß in der Ionenführung 1a ein Ionenführungsbereich 5 bereitgestellt wird.The preferred AC or RF ion guide 1a preferably has a plurality of plate electrodes arranged in a stack or a field 2 on. The ion guide 1a preferably has an upper plate electrode 3 and a lower plate electrode 4 on. The electrodes 2 not the top plate electrode 3 and the lower plate electrode 4 are preferably a channel provided in the plates substantially along their entire length. At the in 1A Example shown are the plate electrodes 2 and the upper plate electrode 3 and the lower plate electrode 4 S-shaped. The one in each of the plate electrodes 2 provided channel causes that in the ion guide 1a an ion guide region 5 provided.

Nachdem die grundlegende Anordnung der Ionenführung 1a beschrieben wurde, werden nun verschiedene Ausführungsformen detaillierter beschrieben.After the basic arrangement of the ion guide 1a has been described, various embodiments will now be described in more detail.

Eine erste Hauptausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die 24 beschrieben, in denen verschiedene Anordnungen einer Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a dargestellt sind. Gekrümmte oder auf andere Weise nichtlineare Kanäle sind in den Plattenelektroden 2 mit Ausnahme der oberen Plattenelektrode 3 und der unteren Plattenelektrode 4 bereitgestellt. Die Ionenführung 1a weist einen Eingang 6 und einen Ausgang 7 auf, und der Ionenführungsbereich 5 ist so angeordnet, daß es zwischen der Ioneneingangsöffnung 6 und der Ionenausgangsöffnung 7 keine Sichtlinie gibt. Dies ist in der Hinsicht vorteilhaft, daß Strahlung, neutrale Teilchen oder Tröpfchen, die am Eingang 6 in die Ionenführung 1a eintreten, nicht schräg oder seitlich von der Ionenführung 1a versetzt werden und daher bei den in den 2 und 3 dargestellten Ausführungsformen nicht durch den Ausgang 7 aus der Ionenführung 1a austreten. Bei der in 4 dargestellten Ausführungsform kann eine Vorrichtung außerhalb des Ionenführungsbereichs 5 angeordnet werden, um Strahlung, neutrale Teilchen oder Tröpfchen, die direkt vom Eingang 6 zum Ausgang 7 laufen, zu blockieren. Diese Vorrichtung kann eine Prallfläche, eine Platte oder eine Elektrode aufweisen.A first main embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS 2 - 4 described in which various arrangements of an AC or RF ion guide 1a are shown. Curved or otherwise non-linear channels are in the plate electrodes 2 With Exception of the upper plate electrode 3 and the lower plate electrode 4 provided. The ion guide 1a has an entrance 6 and an exit 7 on, and the ion guide area 5 is arranged so that it is between the ion input port 6 and the ion exit port 7 no line of sight exists. This is advantageous in that radiation, neutral particles or droplets at the entrance 6 in the ion guide 1a enter, not obliquely or laterally from the ion guide 1a be offset and therefore in the in the 2 and 3 embodiments not shown by the output 7 from the ion guide 1a escape. At the in 4 illustrated embodiment, a device outside the ion guide region 5 be arranged to receive radiation, neutral particles or droplets coming directly from the entrance 6 to the exit 7 run, block. This device may comprise a baffle, a plate or an electrode.

Die Ionenführung 1a kann vorzugsweise bei mittleren Drücken von beispielsweise zwischen 0,0001 und 10 mbar betrieben werden. Wegen des vorhandenen Gases treten häufige Kollisionen zwischen Ionen und Molekülen auf, was dazu führen kann, daß Ionen verlangsamt werden und möglicherweise sogar innerhalb der Ionenführung 1a zum Stillstand kommen.The ion guide 1a may preferably be operated at average pressures of, for example, between 0.0001 and 10 mbar. Because of the presence of gas, frequent collisions between ions and molecules occur, which can cause ions to slow down and possibly even within the ion guide 1a come to a standstill.

Eine zweite Hauptausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die 57 beschrieben. Gemäß der zweiten Hauptausführungsform sind zwei oder mehr Wechselspannungs- oder HF-Ionenführungen 1a, 1b vorgesehen, wobei jede Ionenführung 1a, 1b einen Stapel von Plattenelektroden aufweist. Jede Plattenelektrode 2 ist so geformt, daß ein Weg für die hindurchzuführenden Ionen bereitgestellt ist. Ein Gleichspannungspotential kann an den Bereich angelegt werden, in dem die Ionen eine Ionenführung 1a verlassen und dann in eine benachbarte Ionenführung 1b eintreten. Das Gleichspannungspotential kann ein axiales Feld erzeugen, das dabei hilft, Ionen bei Vorhandensein eines Gases beim Durchqueren der Ionenführungen 1a, 1b in Bewegung zu halten.A second main embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS 5 - 7 described. According to the second main embodiment, there are two or more AC or RF ion guides 1a . 1b provided, each ion guide 1a . 1b comprises a stack of plate electrodes. Each plate electrode 2 is shaped to provide a path for the ions to be passed therethrough. A DC potential may be applied to the region where the ions are an ion guide 1a leave and then into an adjacent ion guide 1b enter. The DC potential can create an axial field that helps to ionize in the presence of a gas as it passes through the ion guides 1a . 1b to keep moving.

Bei der in 7 dargestellten Ausführungsform kann entlang der Ionenstrahlachse eine Potentialmulde erzeugt werden. Ionen können beispielsweise innerhalb der zweiten Ionenführung 1b oder der dritten Ionenführung 1c eingefangen werden. Das im Bereich zwischen dem Ausgang der ersten Ionenführung 1a und dem Eingang der zweiten Ionenführung 1b angelegte Potential und das im Bereich zwischen dem Ausgang der zweiten Ionenführung 1b und dem Eingang der dritten Ionenführung 1c angelegte Potential können so gewählt werden, daß in einem ersten Betriebsmodus Ionen innerhalb der zweiten Ionenführung 1b eingefangen werden. In ähnlicher Weise könnte dafür gesorgt werden, daß Ionen in der dritten Ionenführung 1c eingefangen werden. Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen Ionen innerhalb der zweiten Ionenführung 1b und der dritten Ionenführung 1c eingefangen werden. Ionen können innerhalb einer bestimmten Ionenführung 1a, 1b, 1c eingefangen werden, indem die stromabwärts gelegene Ionenführung 1b, 1c, 1d auf einem anderen Gleichspannungspotential gehalten wird.At the in 7 In the embodiment shown, a potential well can be generated along the ion beam axis. For example, ions can be within the second ion guide 1b or the third ion guide 1c be captured. That in the area between the output of the first ion guide 1a and the entrance of the second ion guide 1b applied potential and that in the region between the output of the second ion guide 1b and the entrance of the third ion guide 1c applied potential can be chosen so that in a first operating mode ions within the second ion guide 1b be captured. Similarly, it could be ensured that ions in the third ion guide 1c be captured. Other embodiments are envisioned where ions within the second ion guide 1b and the third ion guide 1c be captured. Ions can be within a specific ion guide 1a . 1b . 1c be captured by the downstream ion guide 1b . 1c . 1d is held at a different DC potential.

Eine dritte Hauptausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die 812 beschrieben. Gemäß der dritten Hauptausführungsform können zwei oder mehr Eingänge der Ionenführung 1a bereitgestellt werden, welche einen oder mehrere Ausgänge aufweist. Alternativ kann die Ionenführung 1a einen oder mehrere Eingänge und zwei oder mehr Ausgänge aufweisen. Dagegen haben herkömmliche Mehrpol-Stabsatz-Ionenführungen nur einen einzigen Ioneneingang und einen einzigen Ionenausgang.A third main embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS 8th - 12 described. According to the third main embodiment, two or more inputs of the ion guide 1a be provided, which has one or more outputs. Alternatively, the ion guide 1a have one or more inputs and two or more outputs. In contrast, conventional multipole rod set ion guides have only a single ion input and a single ion output.

Die 811 zeigen Ausführungsformen, bei denen die Ionenführung 1a zwei Eingänge 6a, 6b aufweist und wobei es möglich ist, zwischen dem Empfangen von Ionen von einem Eingang 6a zum Empfangen von Ionen von einem anderen Eingang 6b umzuschalten. Alternativ können zwei oder mehr Ionenstrahlen zusammengeführt werden. Die Ioneneingänge können unter Winkeln im Bereich von 0 – 10°, 10 – 20°, 20 – 30°, 30 – 40°, 40 – 50°, 50 – 60°, 60 – 70°, 70 – 80°, 80 – 90°, 90 – 100°, 100 – 110°, 110 – 120°, 120 – 130°, 130 – 140°, 140 – 150°, 150 – 160°, 160 – 170° oder 170 – 180° zueinander angeordnet werden.The 8th - 11 show embodiments in which the ion guide 1a two entrances 6a . 6b and wherein it is possible to receive ions from an input 6a for receiving ions from another input 6b switch. Alternatively, two or more ion beams may be merged. The ion inputs may be at angles in the range 0 - 10 °, 10 - 20 °, 20 - 30 °, 30 - 40 °, 40 - 50 °, 50 - 60 °, 60 - 70 °, 70 - 80 °, 80 - 90 °, 90 ° to 100 °, 100 ° to 110 °, 110 ° to 120 °, 120 ° to 130 °, 130 ° to 140 °, 140 ° to 150 °, 150 ° to 160 °, 160 ° to 170 ° or 170 ° to 180 ° to each other ,

Die Ionenführung 1a kann mit einer ersten Ionenquelle (nicht dargestellt) zum Analysieren von Analytionen und einer zweiten Ionenquelle (nicht dargestellt) zum Erzeugen von Referenzionen verwendet werden. Alternativ kann die Ionenführung mit zwei verschiedenen Typen von Ionenquellen verwendet werden, und sie kann beispielsweise in Zusammenhang mit einer Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle ("API-Ionenquelle") und einer matrixunterstützten Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("MALDI-Ionenquelle") verwendet werden. Die Plattenelektroden können mit einer beliebigen Form hergestellt werden, so daß Ionenstrahlen von der Ionenführung unter einem beliebigen Winkel oder aus einer beliebigen Richtung empfangen werden oder unter einem beliebigen Winkel oder in einer beliebigen Richtung aus der Ionenführung austreten können.The ion guide 1a may be used with a first ion source (not shown) for analyzing analyte ions and a second ion source (not shown) for generating reference ions. Alternatively, the ion guide may be used with two different types of ion sources and may be used, for example, in conjunction with an atmospheric pressure ionization ion source ("API ion source") and a matrix assisted laser desorption ionization ion source ("MALDI ion source"). The plate electrodes may be made in any shape so that ion beams can be received by the ion guide at any angle or direction, or exit the ion guide at any angle or in any direction.

Bei der in 8 dargestellten Ausführungsform sind die Plattenelektroden der Ionenführung so geformt, daß sich die beiden Eingänge auf entgegengesetzten Seiten der Platten befinden und sich der Ausgang auf einer dritten Seite befindet. Die Plattenelektroden können im wesentlichen rechteckig oder quadratisch sein. 9 zeigt eine Ausführungsform, bei der die Platten so geformt sind, daß sich die Eingänge unter rechten Winkeln zueinander befinden, so daß bei der Verwendung die von den Eingängen empfangenen Ionenstrahlen beide schräg zum aus der Ionenführung austretenden Ionenstrahl stehen. Alternativ können die Eingänge auf derselben Seite der Platte liegen, wobei sich der Ausgang auf einer zweiten Seite befindet, wie in 10 dargestellt ist. 11 zeigt eine andere Ausführungsform, bei der einer der Eingänge und der Ausgang auf entgegengesetzten Seiten der Platte, direkt zueinander entgegengesetzt, liegen und sich ein zweiter Eingang auf einer dritten Seite befindet.At the in 8th illustrated embodiment, the plate electrodes of the ion guide are so ge forms that the two inputs are on opposite sides of the disks and the output is on a third side. The plate electrodes may be substantially rectangular or square. 9 shows an embodiment in which the plates are shaped so that the inputs are at right angles to each other so that in use the ion beams received by the inputs are both oblique to the ion beam emanating from the ion guide. Alternatively, the inputs may be on the same side of the disc, with the output on a second side, as in FIG 10 is shown. 11 shows another embodiment in which one of the inputs and the output are on opposite sides of the plate, directly opposite each other, and a second input is on a third side.

12 zeigt eine Ausführungsform, bei der die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a drei Eingänge 6a, 6b, 6c aufweist. Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen vier oder mehr Eingänge bereitgestellt sein können. Die in 12 dargestellte Ionenführung 1a kann verwendet werden, um zwischen Ionenstrahlen, beispielsweise von zwei verschiedenen Ionenquellen zum Analysieren von Analytionen und einem dritten Ionenstrahl zum Erzeugen von Referenzionen, umzuschalten oder diese zusammenzuführen. 12 shows an embodiment in which the AC or RF ion guide 1a three entrances 6a . 6b . 6c having. Other embodiments are contemplated in which four or more inputs may be provided. In the 12 illustrated ion guide 1a can be used to switch between or combine ion beams, for example from two different ion sources to analyze analyte ions, and a third ion beam to generate reference ions.

Eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mit mehreren Ioneneingängen 6a, 6b, 6c kann verwendet werden, um zwischen verschiedenen Ionenquellen innerhalb einer Mehrfachanordnung von Ionenquellen zu multiplexieren. Eine solche Anordnung ermöglicht eine parallele Analyse einer großen Anzahl von Probenströmen, beispielsweise von vier bis acht verschiedenen Flüssigkeits- oder Gasströmen von vier bis acht verschiedenen Flüssigkeits- oder Gaschromatographiesäulen.An AC or RF ion guide 1a with several ion inputs 6a . 6b . 6c can be used to multiplex between different ion sources within a multiple array of ion sources. Such an arrangement allows parallel analysis of a large number of sample streams, for example from four to eight different liquid or gas streams from four to eight different liquid or gas chromatography columns.

Eine vierte Hauptausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die 1316 beschrieben. Es werden Ionenführungen 1a in der Art der in 13 dargestellten erwogen, die mehr als einen Ausgang 7a, 7b aufweisen, so daß ein Ionenstrom zwischen zwei oder mehr Ausgängen aufgeteilt werden kann oder zwischen zwei oder mehr Ausgängen umgeschaltet wird. Eine solche Ausführungsform kann beispielsweise verwendet werden, um Ionen zwischen zwei Detektoren aufzuteilen oder umzuschalten. Ionen können beispielsweise zwischen einem Faraday-Becher-Detektor und einem Ionenzähldetektor aufgeteilt oder umgeschaltet werden, um ein Detektionssystem bereitzustellen, das einen sehr breiten Dynamikbereich aufweist und dennoch in der Lage ist, einzelne Ionen zu erfassen und zu zählen.A fourth main embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS 13 - 16 described. There are ion guides 1a in the way of in 13 considered that have more than one exit 7a . 7b so that an ion current can be split between two or more outputs or switched between two or more outputs. Such an embodiment can be used, for example, to split or switch ions between two detectors. For example, ions may be split or switched between a Faraday cup detector and an ion counting detector to provide a detection system that has a very wide dynamic range and yet is capable of detecting and counting individual ions.

Alternativ kann eine solche Ionenführung 1a verwendet werden, um Ionen zwischen einem Detektor und einem anderen Analysator in der Art eines Massenanalysators aufzuteilen oder umzuschalten. Ionen können beispielsweise so aufgeteilt werden, daß ein Teil des Ionensignals auf einem Detektor überwacht wird, während der restliche Teil zu einer Vorrichtung zur weiteren Analyse, beispielsweise einer Kollisionszelle und einem Massenanalysator für Ionenstrukturuntersuchungen oder zur spezifischeren Ionenüberwachung, weiterlaufen gelassen wird.Alternatively, such an ion guide 1a used to divide or switch ions between a detector and another analyzer in the manner of a mass analyzer. For example, ions may be split so that a portion of the ion signal is monitored on a detector while the remainder is passed to a device for further analysis, such as a collision cell and mass analyzer for ionic structure studies or for more specific ion monitoring.

Alternativ kann eine solche Ionenführung 1a verwendet werden, um Ionen zwischen zwei Massenanalysatoren aufzuteilen oder umzuschalten. Beispielsweise können Ionen zwischen zwei Massenanalysatoren, die bei verschiedenen Auflösungen arbeiten, oder zwischen zwei Massenanalysatoren, die für verschiedene Massen abgestimmt sind, aufgeteilt werden.Alternatively, such an ion guide 1a used to split or switch ions between two mass analyzers. For example, ions can be split between two mass analyzers operating at different resolutions, or between two mass analyzers tuned for different masses.

Die in 13 dargestellte Ausführungsform kann verwendet werden, um einen Ionenstrahl in zwei Ionenstrahlen aufzuteilen, die zu zwei oder mehr verschiedenen Massenanalysatoren zu leiten sind, und sie kann ein Mittel zum Messen von Isotopenverhältnissen bereitstellen. Zwei Massenanalysatoren können auf die geeigneten Massen abgestimmt werden, um ein beliebiges gewünschtes Isotopenverhältnis zu messen. Diese Ausführungsform ist die Umkehrung der in 8 dargestellten Ausführungsform, bei der eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mit zwei Eingängen 6a, 6b und einem einzigen Ausgang 7 versehen ist.In the 13 The illustrated embodiment may be used to divide an ion beam into two ion beams to be routed to two or more different mass analyzers, and may provide a means for measuring isotopic ratios. Two mass analyzers can be tuned to the appropriate masses to measure any desired isotope ratio. This embodiment is the inverse of in 8th illustrated embodiment, in which an AC or RF ion guide 1a with two entrances 6a . 6b and a single outlet 7 is provided.

Alle der in den 812 dargestellten Ausführungsformen können umgekehrt werden, so daß sie einen einzigen Eingang und zwei (oder mehr) Ausgänge aufweisen.All in the 8th - 12 The illustrated embodiments may be reversed to include a single input and two (or more) outputs.

14 zeigt eine Ausführungsform, bei der eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a drei Ausgänge 7a, 7b, 7c aufweist. Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen mehr als drei Ausgänge bereitgestellt sind. Die in 14 dargestellte Ausführungsform mit drei Ausgängen 7a, 7b, 7c ermöglicht es, daß ein Ionenstrom zwischen verschiedenen Detektoren und/oder Massenanalysatoren in einer beliebigen Kombination umgeschaltet oder aufgeteilt wird. 14 shows an embodiment in which an AC or RF ion guide 1a three outputs 7a . 7b . 7c having. Other embodiments are contemplated in which more than three outputs are provided. In the 14 illustrated embodiment with three outputs 7a . 7b . 7c allows an ion current to be switched or split between various detectors and / or mass analyzers in any combination.

Es werden Ausführungsformen erwogen, bei denen die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mehrere Eingänge und mehrere Ausgänge aufweist. In 15 ist beispielsweise eine Ausführungsform dargestellt, bei der eine Ionenführung 1a mit zwei Eingängen 6a, 6b und zwei Ausgängen 7a, 7b versehen ist. Gemäß dieser Ausführungsform kann die Ionen führung 1a Ionen von zwei verschiedenen Ionenquellen, wie einer Thermoionisations-Ionenquelle und einer induktiv gekoppelten Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle"), empfangen. Die Ionen können dann zu zwei verschiedenen Massenanalysatoren gelenkt werden, die jeweils auf zwei verschiedene Isotopen-Masse-Ladungs-Verhältnisse abgestimmt sind.Embodiments are contemplated wherein the AC or RF ion guide 1a has multiple inputs and multiple outputs. In 15 For example, an embodiment is shown in which an ion guide 1a with two entrances 6a . 6b and two outputs 7a . 7b is provided. According to this embodiment, the ion guide 1a Receive ions from two different ion sources, such as a thermionic ion source and an inductively coupled plasma ion source ("ICP ion source"). The ions can then be directed to two different mass analyzers, each tuned to two different isotopic mass-to-charge ratios.

Es werden Ausführungsformen erwogen, bei denen die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mit mehreren Eingängen und/oder Ausgängen verwendet werden kann, wobei Ionen in einem Betriebsmodus einen Weg einschlagen und in einem anderen Betriebsmodus den anderen Weg einschlagen. Beispielsweise wirkt bei der in den 16A und 16B dargestellten Ausführungsform die in 16A dargestellte Öffnung 7 in dem in 16A dargestellten Betriebsmodus als eine Ausgangsöffnung, dieselbe Öffnung (nun mit 6' bezeichnet) kann jedoch, wie in 16B dargestellt ist, in einem nachfolgenden Betriebsmodus als eine Eingangsöffnung wirken. Im nachfolgenden Betriebsmodus treten Ionen über eine dritte Öffnung 7' aus der Ionenführung 1a aus.Embodiments are contemplated wherein the AC or RF ion guide 1a can be used with multiple inputs and / or outputs, with ions going one way in one mode of operation and going the other way in another mode of operation. For example, acts in the in the 16A and 16B illustrated embodiment, the in 16A illustrated opening 7 in the 16A illustrated operating mode as an output port, the same opening (now with 6 ' however, as in 16B is shown to act as an input port in a subsequent operating mode. In the subsequent operating mode, ions pass through a third opening 7 ' from the ion guide 1a out.

Es werden Ionenführungen 1a erwogen, bei denen Ionenströme innerhalb einer Gesamtanordnung von Ionenquellen, Analysatoren und Detektoren vor- und zurückgeleitet werden können. Beispielsweise kann es eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a in einem Betriebsmodus Ionen erlauben, von einer Ionisationsquelle zu einem Massenanalysator durchzulaufen, und die Ionenführung 1a kann in einem anderen Betriebsmodus Ionen vom Massenanalysator oder einer Ionenfalle empfangen und sie durch eine dritte Öffnung zu einem Detektor leiten. Ionen können durch eine Öffnung laufen gelassen werden, oder es kann verhindert werden, daß sie durch eine Öffnung laufen, indem ein geeignetes Potential an ein Element neben einer bestimmten Öffnung angelegt wird. Eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mit mehreren Öffnungen kann verwendet werden, um einen Ionenstrom in mehrere Richtungen zu leiten.There are ion guides 1a in which ion currents can be conducted back and forth within an overall array of ion sources, analyzers and detectors. For example, it may be an AC or RF ion guide 1a in an operating mode, allow ions to pass through from an ionization source to a mass analyzer and the ion guide 1a In another mode of operation, it may receive ions from the mass analyzer or an ion trap and direct them through a third orifice to a detector. Ions can be passed through an aperture or prevented from passing through an aperture by applying a suitable potential to an element adjacent a particular aperture. An AC or RF ion guide 1a with multiple openings can be used to direct an ion current in multiple directions.

17 zeigt eine weitere Ausführungsform mit einer ersten Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a mit drei Öffnungen 6, 7, 8 und einer zweiten Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1b mit einer einzigen Öffnung 9. Ionen treten durch die Eingangsöffnung 6 in die erste Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a ein und werden um 90° zur Öffnung 8 gelenkt. Die Ionen laufen dann über die Öffnung 9 in die zweite Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1b. Die zweite Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1b weist eine einzige Öffnung 9 und einen Ionenspeicherbereich 10 zum Empfangen und Speichern von Ionen auf. In einem Betriebsmodus kann dafür gesorgt werden, daß Ionen, die im Einfang- oder Speicherbereich 10 gespeichert oder eingefangen worden sind, über die Öffnung 9 aus der zweiten Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1b austreten und über die Öffnung 8, durch die die Ionen zuvor ausgetreten sind, wieder in die erste Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a eintreten. Die Ionen werden dann um 90° zur Ausgangsöffnung 7 geleitet, durch die die Ionen aus der ersten Ionenführung 1a austreten. 17 shows a further embodiment with a first AC or RF ion guide 1a with three openings 6 . 7 . 8th and a second AC or RF ion guide 1b with a single opening 9 , Ions pass through the entrance opening 6 into the first AC or RF ion guide 1a and become 90 ° to the opening 8th directed. The ions then run over the opening 9 into the second AC or RF ion guide 1b , The second AC or RF ion guide 1b has a single opening 9 and an ion storage area 10 for receiving and storing ions. In an operating mode, it can be ensured that ions in the trapping or storage area 10 stored or captured over the opening 9 from the second AC or RF ion guide 1b exit and over the opening 8th , through which the ions have previously leaked, back into the first AC or RF ion guide 1a enter. The ions then become 90 ° to the exit opening 7 passed through which the ions from the first ion guide 1a escape.

Die Ionen können dazu veranlaßt bzw. darin unterstützt werden, sich durch eine bestimmte Öffnung 6, 7, 8, 9 zu bewegen, indem geeignete Spannungen an Elemente unmittelbar neben der Öffnung angelegt werden, oder dies kann nicht der Fall sein. Beispielsweise können Ionen dazu veranlaßt werden, in die zweite Wechselspannungs- oder HF- Ionenführung 1b einzudringen oder diese zu verlassen, indem das an die zweite Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung angelegte Gleichspannungspotential in bezug auf das an die erste Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a angelegte Gleichspannungspotential verringert oder erhöht wird.The ions may be caused to be supported by a certain opening 6 . 7 . 8th . 9 to move by applying appropriate voltages to elements immediately adjacent to the opening, or this may not be the case. For example, ions may be caused to enter the second AC or RF ion guide 1b by entering or leaving the DC voltage potential applied to the second AC or RF ion guide with respect to the first AC or RF ion guide 1a applied DC potential is reduced or increased.

18A zeigt weitere Ausführungsformen, bei denen eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a verwendet wird, um das Querschnitts-Strahlprofil eines Ionenstrahls zu ändern oder die Querschnittsfläche des Ionenstrahls zu ändern. Gemäß einer Ausführungsform kann die Eingangsöffnung 6 vorzugsweise sowohl hinsichtlich der Größe als auch der Querschnittsform an den ankommenden Ionenstrahl angepaßt werden. In ähnlicher Weise können auch die Ausgangsöffnungen 7a, 7b hinsichtlich der Größe und des Querschnittsprofils angepaßt werden, so daß sie zur optimalen Größe und zum optimalen Querschnittsprofil der ionenoptischen Vorrichtungen passen, die sich stromabwärts der Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a befinden und die den aus der Ionenführung 1a austretenden Ionenstrom empfangen sollen. Eine Eingangsöffnung 6 und die zwei Ausgangsöffnungen 7a, 7b können alle verschiedene Querschnittsflächen und/oder Querschnittsprofile aufweisen. Vorzugsweise gleicht die Querschnittsfläche der Eingangsöffnung (der Eingangsöffnungen) im wesentlichen der Summe der Querschnittsflächen der Ausgangsöffnungen. Die Führungsbereiche zwischen den Öffnungen 6, 7a, 7b können auch Längen aufweisen, deren Größe und/oder Form sich stetig ändert. 18A shows further embodiments in which an AC or RF ion guide 1a is used to change the cross-sectional beam profile of an ion beam or to change the cross-sectional area of the ion beam. According to one embodiment, the inlet opening 6 preferably both in size and the cross-sectional shape are adapted to the incoming ion beam. Similarly, the outlet openings 7a . 7b in size and cross-sectional profile to match the optimum size and cross-sectional profile of the ion optical devices located downstream of the AC or RF ion guide 1a located and the from the ion guide 1a to receive exiting ionic current. An entrance opening 6 and the two exit openings 7a . 7b can all have different cross-sectional areas and / or cross-sectional profiles. Preferably, the cross-sectional area of the entrance opening (s) is substantially equal to the sum of the cross-sectional areas of the exit openings. The guiding areas between the openings 6 . 7a . 7b may also have lengths whose size and / or shape is constantly changing.

18B zeigt eine Ausführungsform einer Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a, bei der die Plattenelektroden 2, welche die Wechsel- oder HF-Spannung führen, einen Kanal aufweisen, dessen Breite sich von einem oberen Abschnitt der Ionenführung 1a zum unteren Abschnitt der Ionenführung 1a zunehmend ändert. Gemäß der in 18B dargestellten Ausführungsform ist die Breite des Kanals in den Plattenelektroden 2 derart, daß ein durch die Ionenführung 1a hindurchtretender Ionenstrahl ein im wesentlichen kreisförmiges Querschnittsprofil aufweist. 18B shows an embodiment of an AC or RF ion guide 1a in which the plate electrodes 2 which carry the AC or RF voltage, have a channel whose width extends from an upper portion of the ion guide 1a to the lower portion of the ion guide 1a increasingly changing. According to the in 18B In the embodiment shown, the width of the channel in the plate electrodes 2 such that a through the ion guide 1a passing through the ion beam has a substantially circular cross-sectional profile.

Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen die Form und die Größe jeder Öffnung oder jedes Ionenwegs von denjenigen der anderen verschieden sein kann. Solche Wechselspannungs- oder HF-Ionenführungen 1a können auch mit anderen als rechteckigen oder kreisförmigen Querschnittsformen oder -profilen hergestellt werden.Other embodiments are contemplated in which the shape and size of each aperture or ion path may be different from those of the others. Such AC or RF ion guides 1a can also be made with other than rectangular or circular cross-sectional shapes or profiles.

In den 19A und 19B sind weitere Ausführungsformen dargestellt, bei denen dafür gesorgt wird, daß Ionen durch die obere Plattenelektrode 3 und/oder durch die untere Plattenelektrode 4 in die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a eintreten und/oder aus dieser austreten. Die in den 19A und 19B dargestellte Ausführungsform ähnelt den in den 12, 14 und 15 dargestellten Ausführungsformen, wobei jedoch eine zusätzliche Öffnung 11 in der oberen Plattenelektrode 3 bereitgestellt ist und eine zusätzliche Öffnung 12 in der unteren Plattenelektrode 4 bereitgestellt ist. Die zusätzlichen Öffnungen 11, 12 können verwendet werden, um zu ermöglichen, daß Ionen (oder Gas oder ein Laserstrahl) in die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a eingeführt werden, oder um zu ermöglichen, daß Ionen oder Gas oder ein Laserstrahl) aus der Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a austreten. In dem in den 19A und 19B dargestellten Beispiel hat die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a insgesamt sechs Öffnun gen.In the 19A and 19B Further embodiments are shown in which it is ensured that ions through the upper plate electrode 3 and / or through the lower plate electrode 4 into the AC or RF ion guide 1a enter and / or exit from this. The in the 19A and 19B illustrated embodiment is similar to those in the 12 . 14 and 15 illustrated embodiments, but with an additional opening 11 in the upper plate electrode 3 is provided and an additional opening 12 in the lower plate electrode 4 is provided. The additional openings 11 . 12 can be used to allow ions (or gas or a laser beam) into the AC or RF ion guide 1a introduced or to allow ions or gas or a laser beam) from the AC or RF ion guide 1a escape. In the in the 19A and 19B Example shown has the AC or RF ion guide 1a a total of six openings.

20 zeigt eine Draufsicht einer bevorzugten Ausführungsform, bei der eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a stromabwärts einer Kollisionszelle 34 in einem Massenspektrometer 30 bereitgestellt ist. Zur einfacheren Darstellung sind verschiedene horizontal verlaufende Vakuumöffnungen dargestellt, während gemäß der bevorzugten Ausführungsform die Vakuumöffnungen vorzugsweise senkrecht unterhalb des Massenspektrometers 30 verlaufen. Das Massenspektrometer 30 weist vorzugsweise eine induktiv gekoppelte Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle") (nicht dargestellt) auf. Eine Anzahl von Probenentnahmekegeln 31 und Vakuumpumpen kann bereitgestellt sein, um zu ermöglichen, daß ein Teil der von der Ionenquelle emittierten Ionen in eine Vakuumkammer 32 eintritt. Es wird dann dafür gesorgt, daß die Ionen in eine HF-Hexapol-Ionenführung 33 eintreten, die vorzugsweise einen umschlossenen Abschnitt 34 aufweist. Gas wird vorzugsweise in den umschlossenen Abschnitt 34 eingeleitet, so daß durch den umschlossenen Abschnitt 34 laufende Ionen mit dem in den umschlossenen Abschnitt 34 eingeleiteten Gas kollidieren. Diese Kollisionen bewirken, daß die Ionen Energie verlieren. Argonionen und andere Ionen aus dem Plasma können vorzugsweise durch Ladungsaustausch mit dem Kollisionsgas in dem Ionenstrahl erheblich abgeschwächt werden. Die restlichen Analytionen treten dann aus der Hexapol-Ionenführung 33 aus und treten in eine S-förmige Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a ein, welche Ionen seitlich versetzt. Diese Ionen treten dann aus der S-förmigen Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a aus und laufen durch eine Zwischenkammeröffnung 36 in die nächste Vakuumkammer (Analysator-Vakuumkammer) 35. Die Ionen laufen dann durch ein Quadrupol-Massenfilter 37 mit einem Vorfilter 38 und einem Nachfilter 39 zur Massenanalyse und dann zu einem Detektor 40, der vorzugsweise zylindrisch geformt ist und entlang der horizontalen Achse angeordnet ist. 20 shows a top view of a preferred embodiment, in which an AC or RF ion guide 1a downstream of a collision cell 34 in a mass spectrometer 30 is provided. For ease of illustration, various horizontally extending vacuum ports are shown, while according to the preferred embodiment, the vacuum ports are preferably vertically below the mass spectrometer 30 run. The mass spectrometer 30 preferably has an inductively coupled plasma ion source ("ICP ion source") (not shown). A number of sampling cones 31 and vacuum pumps may be provided to allow a portion of the ions emitted by the ion source to enter a vacuum chamber 32 entry. It is then ensured that the ions in an HF-hexapole ion guide 33 enter, preferably an enclosed section 34 having. Gas is preferably in the enclosed section 34 initiated so that through the enclosed section 34 running ions with the in the enclosed section 34 collide introduced gas. These collisions cause the ions to lose energy. Argon ions and other ions from the plasma can be significantly attenuated, preferably by charge exchange with the collision gas in the ion beam. The remaining analyte ions then emerge from the hexapole ion guide 33 and enter an S-shaped AC or RF ion guide 1a which displaces ions laterally. These ions then emerge from the S-shaped AC or RF ion guide 1a off and run through an intermediate chamber opening 36 into the next vacuum chamber (analyzer vacuum chamber) 35 , The ions then pass through a quadrupole mass filter 37 with a pre-filter 38 and a postfilter 39 for mass analysis and then to a detector 40 which is preferably cylindrical in shape and arranged along the horizontal axis.

ICP-Ionenquellen erzeugen gewöhnlich ein hohes Maß an schnellen neutralen Atomen und Molekülen und einen intensiven Strahl sichtbarer Strahlung und UV-Strahlung. Die Kollisions-/Reaktionszelle 34 kann auch zu einem Hintergrund schneller neutraler Atome und Moleküle führen. Die sichtbare Strahlung und UV-Strahlung und die schnellen Teilchen führen zu einem Kontinuum von Hintergrundrauschen, falls zugelassen wird, daß sie zum Detektor gelangen. Dieses Rauschen stört die Messung von Analytsignalen und begrenzt ihre Erfassung. Die S-förmige HF-Ionenführung 1a beseitigt vorteilhafterweise jeden Sichtlinienweg, wodurch verhindert wird, daß schnelle neutrale Teilchen und Strahlung den Detektor 40 erreichen, während Ionen noch zur nachfolgenden Massenanalyse und Detektion durch das Massenspektrometer 30 geführt werden.ICP ion sources usually generate high levels of fast neutral atoms and molecules and an intense beam of visible and UV radiation. The collision / reaction cell 34 can also lead to a background of faster neutral atoms and molecules. The visible radiation and ultraviolet radiation and the fast particles result in a continuum of background noise, if allowed to pass to the detector. This noise interferes with the measurement of analyte signals and limits their detection. The S-shaped RF ion guide 1a advantageously eliminates any line of sight, thereby preventing fast neutral particles and radiation from blocking the detector 40 while ions are still for subsequent mass analysis and detection by the mass spectrometer 30 be guided.

Das Ionensignal für Uranionen (m/z 238) wurde unter Verwendung der in 20 dargestellten Ausführungsform gemessen. Ein ICP-Brenner bildete die Quelle für die durch einen Analysator mit einer niedrigen Massenauflösung von 12,6 und einer hohen Massenauflösung von 15,6 zu analysierenden Ionen. Der ICP-Brenner wurde so eingestellt, daß die x-Achse bei 2,54 lag, die y-Achse bei –0,69 lag und die z-Achse bei 1,10 lag. Der Druck im Analysator wurde bei 5,1 × 10–5 mbar gehalten, und es war ein Kollisionsgas aus Wasserstoff und Helium in der Kollisionszelle 34 vorhanden. Eine Kegellinse 31 wurde auf ein Potential von 50 V gelegt, eine Hexapol-Ausgangslinse wurde auf ein Potential von 190 V gelegt, und der Hexapol 33 wurde durch 0 V vorgespannt. Die Ionen hatten im Quadrupol-Massenanalysator 37 eine Energie von 2 eV und wurden durch einen Photomultiplizierer mit einer auf 450 gelegten Verstärkung erfaßt. Die Messungen gaben an, daß der Transmissionsgrad von Ionen durch die S-förmige Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a zwischen 50 % und 100 % lag, während die Transmission schneller neutraler Teilchen, sichtbarer Strahlung und UV-Strahlung im wesentlichen beseitigt wurde.The ionic signal for uranium ions (m / z 238) was determined using the in 20 measured embodiment. An ICP burner was the source of the ions to be analyzed by an analyzer with a low mass resolution of 12.6 and a high mass resolution of 15.6. The ICP burner was set so that the x-axis was 2.54, the y-axis was -0.69, and the z-axis was 1.10. The pressure in the analyzer was kept 10 -5 mbar at 5.1 x, and it was a collision gas of hydrogen and helium in the collision cell 34 available. A cone lens 31 was at a potential of 50V A hexapole output lens was placed at a potential of 190 V, and the hexapole 33 was biased by 0V. The ions were in the quadrupole mass analyzer 37 an energy of 2 eV and were detected by a photomultiplier with a gain of 450. The measurements indicated that the transmittance of ions through the S-shaped AC or RF ion guide 1a between 50% and 100%, while substantially eliminating the transmission of fast neutral particles, visible radiation and UV radiation.

In den 21A – C sind drei verschiedene Konfigurationen dargestellt, bei denen eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung 1a entweder mit einer Gleich-Vorspannung, einer Wechsel- oder HF-Spannung oder einer Kombination einer Gleich-Vorspannung und einer Wechsel- oder HF-Spannung, die an die obere Plattenelektrode 3 bzw. die untere Plattenelektrode 4 angelegt sind, betrieben wird. Wenn eine Wechsel- oder HF-Spannung an die obere Plattenelektrode 3 und die untere Plattenelektrode 4 angelegt wird, wie in den 21B und 21C dargestellt ist, kann die obere Plattenelektrode 3 und die untere Plattenelektrode 4 entweder direkt mit der übernächsten Plattenelektrode 2 gekoppelt werden oder über einen Kondensator mit einer anderen Plattenelektrode 2 gekoppelt werden, so daß zwischen benachbarten Elektroden 2, 3, 4 eine 180°-Phasenverschiebung aufrechterhalten wird.In the 21A - C are shown three different configurations involving an AC or RF ion guide 1a either a DC bias, an AC or RF voltage, or a combination of DC bias and AC or RF voltage applied to the top plate electrode 3 or the lower plate electrode 4 are created, operated. If an AC or RF voltage to the top plate electrode 3 and the lower plate electrode 4 is created, as in the 21B and 21C is shown, the upper plate electrode 3 and the lower plate electrode 4 either directly with the next but one plate electrode 2 be coupled or via a capacitor with another plate electrode 2 be coupled so that between adjacent electrodes 2 . 3 . 4 a 180 ° phase shift is maintained.

Die Transmission atomarer Ionen für Beryllium, Kobalt, Indium und Uran für die drei verschiedenen in den 21A, 21B bzw. 21C dargestellten Konfigurationen und für verschiedene Gleichspannungen wurde getestet, und die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle dargestellt.The transmission of atomic ions for beryllium, cobalt, indium and uranium for the three different in the 21A . 21B respectively. 21C The configurations shown and for various DC voltages were tested and the results are shown in the table below.

Figure 00470001
Figure 00470001

Es ist aus der vorstehenden Tabelle der relativen Empfindlichkeitsmessungen für die vier Elemente ersichtlich, daß es vorteilhaft ist, an die Platten 3, 4 eine Wechsel- oder HF-Spannung an Stelle oder zusätzlich zu einer Gleich-Vorspannung anzulegen. Es scheint so, daß sich beim Anlegen in erster Linie einer Wechsel- oder HF-Spannung, wie in 21B, die beste Gesamttransmission über einem breiten Massenbereich ergibt. Es scheint jedoch so, daß durch das Anlegen einer Kombination aus einer Wechsel- oder HF-Spannung und einer Gleich-Vorspannung die Transmission über einen begrenzteren Massenbereich erhöht wird. Die Kombination aus einer Wechsel- oder HF-Spannung und einer Gleichspannung von 10 V, wie in 21C, lieferte eine Transmission für Uran, die in etwa zweimal so groß war wie diejenige, die zuvor für das in 20 dargestellte Massenspektrometer aufgezeichnet wurde, wenn der Ausgang der HF-Hexapol-Ionenführung 33 neben der zum Quadrupol-Massenanalysator 37 führenden Zwischenkammeröffnung 36 angeordnet war.It can be seen from the above table of relative sensitivity measurements for the four elements that it is beneficial to the plates 3 . 4 apply an AC or RF voltage instead of or in addition to a DC bias. It appears that when applied primarily an AC or RF voltage, as in 21B which gives the best overall transmission over a wide mass range. However, it appears that by applying a combination of AC or RF voltage and DC bias, the transmission is increased over a more limited mass range. The combination of an AC or RF voltage and a DC voltage of 10 V, as in 21C , provided a transmission for uranium that was about twice as large as the one previously used for the in 20 mass spectrometer was recorded when the output of the HF-hexapole ion guide 33 next to the quadrupole mass analyzer 37 leading intermediate chamber opening 36 was arranged.

22 zeigt eine Ausführungsform, bei der die Elektroden 2 an Isolatoren 2' oder auf diesen angebracht sind. Gemäß einer Ausführungsform können die Isolatoren 2' Bakellite (RTM), eine Keramik oder einen Kunststoff, wie PTFE, Polyethylen, PEEK oder Kapton (RTM) aufweisen. Die Elektroden 2 können zwischen den Isolatoren 2' eingestreut oder verschachtelt sein. Gemäß einer Ausführungsform können die Elektroden 2 auf die Isolatoren 2' aufgebracht sein, und sie können beispielsweise elektrisch leitende Farbe aufweisen. Gemäß dieser Ausführungsform haben die Elektrodenschichten vorzugsweise eine Dicke von etwa 250 μm. Ein besonders vorteilhaftes Merkmal der in 22 dargestellten Ausführungsform besteht darin, daß es zwischen den Elektroden 2 und den Isolatoren 2' vorzugsweise keine Luftspalte gibt. Demgemäß wird vorteilhafterweise verhindert, daß Gas innerhalb der Ionenführung 1a außer am Eingang und am Ausgang der Ionenführung aus dieser austritt. Die in 22 dargestellte Ionenführung 1a ist daher besonders für eine Verwendung als eine Kollisions- oder Reaktionszelle geeignet, wobei Gas in die Ionenführung 1a eingeleitet wird. Eine Gaseinlaßöffnung kann in einer oberen Plattenelektrode 3 oder einer unteren Plattenelektrode 4 bereitgestellt werden, das Gas tritt jedoch vorzugsweise nicht über diese Öffnung aus der Ionenführung 1a aus. Weil die in 22 dargestellte Ionenführung 1a erheblich weniger leckbehaftet ist als Ausführungsformen, bei denen ein Luftspalt zwischen Elektroden vorhanden ist, kann das in die Ionenführung 1a eingeführte Gas auf einem verhältnismäßig hohen Druck gehalten werden, ohne daß es erforderlich wäre, größere Vakuumpumpen zu verwenden. In ähnlicher Weise kann, verglichen mit anderen Ausführungsformen, eine größere Druckdifferenz entlang der Ionen führung 1a aufrechterhalten werden. 22 shows an embodiment in which the electrodes 2 on insulators 2 ' or attached to these. According to one embodiment, the insulators 2 ' Bakellite (RTM), a ceramic or a plastic such as PTFE, polyethylene, PEEK or Kapton (RTM). The electrodes 2 can be between the insulators 2 ' be interspersed or nested. According to one embodiment, the electrodes 2 on the insulators 2 ' be applied, and they may for example have electrically conductive paint. According to this embodiment, the electrode layers preferably have a thickness of about 250 μm. A particularly advantageous feature of in 22 illustrated embodiment is that it is between the electrodes 2 and the insulators 2 ' preferably there are no air gaps. Accordingly, advantageously prevents gas inside the ion guide 1a except at the entrance and at the exit of the ion guide emerges from this. In the 22 illustrated ion guide 1a is therefore particularly suitable for use as a collision or reaction cell, with gas in the ion guide 1a is initiated. A gas inlet opening may be in an upper plate electrode 3 or a lower plate electrode 4 However, the gas preferably does not pass through this opening from the ion guide 1a out. Because the in 22 illustrated ion guide 1a is considerably less leaking than embodiments in which an air gap between electrodes is present, which can be in the ion guide 1a introduced gas at a relatively high pressure, without it being necessary to use larger vacuum pumps. Similarly, as compared to other embodiments, a greater pressure differential may be conducted along the ion 1a be maintained.

Wenngleich die vorliegende Erfindung mit Bezug auf bevorzugte Ausführungsformen beschrieben worden ist, werden Fachleute verstehen, daß verschiedene Änderungen an der Form und den Einzelheiten vorgenommen werden können, ohne von dem in den anliegenden Ansprüchen dargelegten Schutzumfang der Erfindung abzuweichen.Although the present invention with reference to preferred embodiments Those skilled in the art will understand that various changes are made can be made on the form and the details, without from that in the appended claims to depart from the scope of the invention.

Claims (73)

Massenspektrometer mit einer Ionenführung (1a, 1b, 1c), wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Stapel aus mehreren parallelen Plattenelektroden (2) aufweist, wobei die Plattenelektroden (2) derart ausgebildet sind, dass gekrümmte oder auf andere Weise nicht lineare Kanäle in jeder Plattenelektrode (2) zur Ionenführung bereitgestellt werden und die Plattenelektroden (2) parallel zur Ebene der Ionenbewegung angeordnet sind, und die Ionenführung (1a, 1b, 1c) mindestens einen Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse sowie mindestens einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) entlang einer zweiten Achse austreten, aufweist.Mass spectrometer with an ion guide ( 1a . 1b . 1c ), wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) a stack of several parallel plate electrodes ( 2 ), wherein the plate electrodes ( 2 ) are formed such that curved or otherwise non-linear channels in each plate electrode ( 2 ) are provided for guiding the ions and the plate electrodes ( 2 ) are arranged parallel to the plane of ion movement, and the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) at least one input for receiving ions along a first axis and at least one output from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) emerge along a second axis. Massenspektrometer nach Anspruch 1, wobei die zweite Achse unter einem Winkel θ zur ersten Achse steht und wobei θ > 0° ist.The mass spectrometer of claim 1, wherein the second Axis at an angle θ to first axis and where θ> 0 °. Massenspektrometer nach Anspruch 2, wobei θ innerhalb des folgenden Bereichs liegt: (i) < 10°, (ii) 10 – 20°, (iii) 20 – 30°, (iv) 30 – 40°, (v) 40 – 50°, (vi) 50 – 60°, (vii) 60 – 70°, (viii) 70 – 80°, (ix) 80 – 90°, (x) 90 – 100°, (xi) 100 – 110°, (xii) 110 – 120°, (xiii) 120 – 130°, (xiv) 130 – 140°, (xv) 140 – 150°, (xvi) 150 – 160°, (xvii) 160 – 170° und (xviii) 170 – 180°.A mass spectrometer according to claim 2, wherein θ is within of the following range: (i) <10 °, (ii) 10-20 °, (iii) 20-30 °, (iv) 30-40 °, (v) 40-50 °, (vi) 50-60 °, (vii) 60 - 70 °, (viii) 70 - 80 °, (ix) 80 - 90 °, (x) 90 - 100 °, (xi) 100 - 110 °, (xii) 110 - 120 °, (xiii) 120 - 130 °, (xiv) 130 - 140 °, (xv) 140 - 150 °, (xvi) 150 - 160 °, (xvii) 160 - 170 ° and (xviii) 170 - 180 °. Massenspektrometer nach Anspruch 1, wobei der Ionenführungsbereich (5) "S"-förmig ist.A mass spectrometer according to claim 1, wherein the ion guide region ( 5 ) Is "S" -shaped. Massenspektrometer nach Anspruch 1 oder 4, wobei die erste Achse parallel zur zweiten Achse verläuft.A mass spectrometer according to claim 1 or 4, wherein the first axis is parallel to the second axis. Massenspektrometer nach Anspruch 1, 4 oder 5, wobei die zweite Achse seitlich gegenüber der ersten Achse versetzt ist.A mass spectrometer according to claim 1, 4 or 5, wherein the second axis laterally opposite the first axis is offset. Massenspektrometer nach Anspruch 5, wobei die zweite Achse koaxial zur ersten Achse verläuft.The mass spectrometer of claim 5, wherein the second Axis coaxial with the first axis. Massenspektrometer nach Anspruch 7, welches weiter eine Vorrichtung aufweist, die zumindest teilweise außerhalb des Ionenführungsbereichs (5) angeordnet ist, um Teilchen und/oder Photonen, die direkt von dem Eingang zu dem Ausgang laufen, zu blockieren.A mass spectrometer as claimed in claim 7, further comprising means at least partially external to the ion guide region (12). 5 ) to block particles and / or photons passing directly from the entrance to the exit. Massenspektrometer nach Anspruch 8, wobei die Vorrichtung eine Prallfläche, eine Platte oder eine Elektrode aufweist.A mass spectrometer according to claim 8, wherein the device a baffle, a plate or an electrode. Massenspektrometer nach einem der vorangehenden Ansprüche mit einer zweiten Ionenführung (1, 1b, 1c).Mass spectrometer according to one of the preceding claims with a second ion guide ( 1 . 1b . 1c ). Massenspektrometer nach Anspruch 10, welches weiter eine dritte Ionenführung (1a, 1b, 1c) aufweist.A mass spectrometer according to claim 10, which further comprises a third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) having. Massenspektrometer nach Anspruch 11, welches weiter eine vierte Ionenführung (1a, 1b, 1c) aufweist.A mass spectrometer according to claim 11, which further comprises a fourth ion guide ( 1a . 1b . 1c ) having. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei entweder die erste und/oder die zweite und/oder die dritte und/oder die vierte Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Ionenspeicherbereich (10) aufweist.Mass spectrometer according to one of claims 10 to 12, wherein either the first and / or the second and / or the third and / or the fourth ion guide ( 1a . 1b . 1c ) an ion storage area ( 10 ) having. Massenspektrometer nach Anspruch 1 mit zwei oder mehr Eingängen zum Empfangen von Ionen und einem oder mehreren Ausgängen, aus denen Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten.A mass spectrometer according to claim 1, having two or more inputs for receiving ions and one or more outputs from which ions are emitted from the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 14, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist.Mass spectrometer according to claim 14, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) two inputs for receiving ions and one output from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 14, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) drei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist.Mass spectrometer according to claim 14, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) three inputs for receiving ions and one output from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 1 mit einem oder mehreren Eingängen zum Empfangen von Ionen und zwei oder mehr Ausgängen, aus denen Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten.A mass spectrometer according to claim 1, having one or more inputs for receiving ions and two or more outputs from which ions are emitted from the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 17, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Eingang zum Empfangen von Ionen und zwei Ausgänge, aus denen Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist.Mass spectrometer according to claim 17, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) an input for receiving ions and two outputs from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 17, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Eingang zum Empfangen von Ionen und drei Ausgänge, aus denen Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist.Mass spectrometer according to claim 17, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) an input for receiving ions and three outputs from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 14 oder 17, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) wenigstens zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und wenigstens zwei Ausgänge, aus denen Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist.Mass spectrometer according to claim 14 or 17, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) at least two inputs for receiving ions and at least two outputs from which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Massenspektrometer nach Anspruch 14, 15, 16, 20 welches weiter wenigstens zwei Ionenquellen aufweist, wobei Ionen von einer ersten Ionenquelle in einen ersten Eingang eintreten und Ionen von einer zweiten Ionenquelle in einen zweiten Eingang eintreten und wobei die erste und/oder die zweite Ionenquelle aus der Gruppe ausgewählt sind, welche umfaßt: (i) eine Elektrospray-Ionenquelle, (ii) eine chemische Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle, (iii) eine Atmosphärendruck-Photoionisations-Ionenquelle, (iv) eine matrixunterstützte Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle, (v) eine Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle, (vi) eine induktiv gekoppelte Plasmaionenquelle, (vii) eine Elektronenstoß-Ionenquelle, (viii) eine chemische Ionisations-Ionenquelle, (ix) eine Ionenquelle mit schnellem Atombeschuß und (x) eine Flüssigkeits-Sekundärionen-Massenspektrometrie-Ionenquelle.Mass spectrometer according to claim 14, 15, 16, 20 which further comprises at least two ion sources, wherein ions enter from a first ion source in a first input and Ions from a second ion source into a second input and wherein the first and / or the second ion source from the group selected are, which includes: (i) an electrospray ion source, (ii) an atmospheric atmospheric pressure ionization ion source, (iii) an atmospheric pressure photoionization ion source, (iv) a matrix-assisted Laser desorption ion source, (v) a laser desorption ionization ion source, (vi) an inductively coupled one Plasma ion source, (vii) an electron impact ion source, (viii) a chemical ionization ion source, (ix) an ion source with fast Atomic shot and (x) a liquid secondary ion mass spectrometry ion source. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 14 bis 21, welches weiter einen ersten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweist.Mass spectrometer according to one of claims 14 to 21, which further comprises a first ion detector arranged to receive ions emitted from a first exit, and a second ion detector arranged to be a second one Ion output to receive exiting ions has. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 14 bis 22, welches weiter einen ersten Massenanalysator, der angeordnet ist, um aus einem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Massenanalysator, der an geordnet ist, um aus einem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweist.Mass spectrometer according to one of claims 14 to 22, which further comprises a first mass analyzer arranged is to receive ions emerging from a first exit, and a second mass analyzer arranged to be one of second ion output to receive exiting ions has. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 14 bis 21, welches weiter einen Massenanalysator, der angeordnet ist, um über einen ersten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen zu empfangen, und einen Ionendetektor, der angeordnet ist, um über einen zweiten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen zu empfangen, aufweist.The mass spectrometer of any one of claims 14 to 21, further comprising a mass analyzer arranged to exit the ion guide (16) via a first exit. 1a . 1b . 1c ) and an ion detector which is arranged to connect via a second output from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) to receive leaking ions. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 14 bis 21, welches weiter aufweist: eine Ionenspeichervorrichtung, die angeordnet ist, um über einen ersten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen zu empfangen, wobei die Ionenspeichervorrichtung mehrere Plattenelektroden aufweist, wobei in einem ersten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über eine Öffnung in die Ionenspeichervorrichtung eintritt und wobei in einem zweiten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über die Öffnung aus der Ionenspeichervorrichtung austritt, und einen Massenanalysator, der angeordnet ist, um über einen zweiten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen zu empfangen.The mass spectrometer of any one of claims 14 to 21, further comprising: an ion storage device arranged to communicate through a first exit from the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ), wherein the ion storage device comprises a plurality of plate electrodes, wherein in a first mode of operation an ion beam enters the ion storage device via an opening and wherein in a second mode of operation an ion beam exits the ion storage device via the opening and a mass analyzer disposed to connect via a second exit from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) to receive leaking ions. Massenspektrometer nach Anspruch 25, wobei die Ionenspeichervorrichtung mehrere Plattenelektroden (2) aufweist, die parallel zur Ebene der Ionenbewegung angeordnet sind.A mass spectrometer according to claim 25, wherein the ion storage device comprises a plurality of plate electrodes ( 2 ), which are arranged parallel to the plane of ion movement. Massenspektrometer nach Anspruch 1, wobei der Eingang ein erstes Querschnittsprofil und eine erste Querschnittsfläche aufweist, wobei der Ausgang ein zweites Querschnittsprofil und eine zweite Querschnittsfläche aufweist, wobei das erste Querschnittsprofil von dem zweiten Querschnittsprofil verschieden ist und/oder die erste Querschnittsfläche von der zweiten Querschnittsfläche verschieden ist.The mass spectrometer of claim 1, wherein the input has a first cross-sectional profile and a first cross-sectional area, the output having a second cross-sectional profile and a second cross-section surface, wherein the first cross-sectional profile is different from the second cross-sectional profile and / or the first cross-sectional area is different from the second cross-sectional area. Massenspektrometer nach Anspruch 27, wobei das erste Querschnittsprofil und/oder das zweite Querschnittsprofil einen kreisförmigen oder ovalen Querschnitt aufweisen.The mass spectrometer of claim 27, wherein the first Cross-sectional profile and / or the second cross-sectional profile a circular or oval cross-section. Massenspektrometer nach Anspruch 27, wobei das erste Querschnittsprofil und/oder das zweite Querschnittsprofil einen rechteckigen oder quadratischen Querschnitt aufweisen.The mass spectrometer of claim 27, wherein the first Cross-sectional profile and / or the second cross-sectional profile a have rectangular or square cross-section. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 27 bis 29, welches weiter eine ionenoptische Vorrichtung stromabwärts der Ionenführung (1a, 1b, 1c) aufweist, wobei der Eingang der ionenoptischen Vorrichtung ein viertes Querschnittsprofil und eine vierte Querschnittsfläche aufweist, wobei das zweite Querschnittsprofil und/oder die zweite Querschnittsfläche dem vierten Querschnittsprofil und/oder der vierten Querschnittsfläche gleichen.The mass spectrometer of any one of claims 27 to 29, further comprising an ion optical device downstream of the ion guide (12). 1a . 1b . 1c ), wherein the input of the ion optical device has a fourth cross-sectional profile and a fourth cross-sectional area, wherein the second cross-sectional profile and / or the second cross-sectional area are the same as the fourth cross-sectional profile and / or the fourth cross-sectional area. Massenspektrometer nach Anspruch 30, wobei die ionenoptische Vorrichtung eine Vorrichtung aufweist, die aus der Gruppe ausgewählt ist, welche umfaßt: (i) eine Ionenführung (1a, 1b, 1c) mit einem kreisförmigen Querschnittsprofil, (ii) einen Quadrupol-Massenfilter/Analysator mit einem kreisförmigen Querschnittsprofil, (iii) einen Querbeschleunigungs-Flugzeit-Massenanalysator mit einem quadratischen oder rechteckigen Querschnittsprofil, (iv) einen Magnetsektoranalysator mit einem rechteckigen Querschnittsprofil, (v) einen Fourier-Transformations-Ionenzyklotronresonanz-Massenanalysator ("FTICR-Massenanalysator") mit einem kreisförmigen Querschnittsprofil, (vi) eine zweidimensionale (lineare) Quadrupol-Ionenfalle mit einem kreisförmigen Querschnittsprofil und (vii) eine dreidimensionale (Paul-) Quadrupol-Ionenfalle mit einem kreisförmigen Querschnittsprofil.The mass spectrometer of claim 30, wherein the ion optical device comprises a device selected from the group consisting of: (i) an ion guide ( 1a . 1b . 1c (ii) a quadrupole mass filter / analyzer having a circular cross-sectional profile, (iii) a transverse acceleration time-of-flight mass analyzer having a square or rectangular cross-sectional profile, (iv) a magnetic sector analyzer having a rectangular cross-sectional profile, (v) a Fourier transform ion cyclotron resonance mass analyzer ("FTICR mass analyzer") having a circular cross-sectional profile, (vi) a two-dimensional (linear) quadrupole ion trap having a circular cross-sectional profile, and (vii) a three-dimensional (Paul) quadrupole ion trap having a circular cross-sectional profile cross-sectional profile. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 27 bis 31, wobei ein Ionenführungsbereich (5) zwischen dem Eingang und dem Ausgang (i) seine Größe und/oder seine Form entlang dem Ionenführungsbereich (5) ändert oder (ii) eine Breite und/oder eine Höhe aufweist, deren Größe zunehmend abnimmt.A mass spectrometer according to any one of claims 27 to 31, wherein an ion guide region ( 5 ) between the input and the output (i) its size and / or its shape along the ion guide region ( 5 ) or (ii) has a width and / or a height whose size decreases progressively. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 27 bis 32, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) weiter einen zweiten Eingang zum Empfangen von Ionen und/oder einen zweiten Ausgang, über den Ionen aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austreten, aufweist, wobei der zweite Eingang ein fünftes Querschnittsprofil und eine fünfte Querschnittsfläche aufweist und der zweite Ausgang ein sechstes Querschnittsprofil und eine sechste Querschnittsfläche aufweist, wobei das fünfte Querschnittsprofil von dem sechsten Querschnittsprofil verschieden ist und/oder die fünfte Querschnittsfläche von der sechsten Querschnittsfläche verschieden ist.Mass spectrometer according to one of claims 27 to 32, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) further comprises a second input for receiving ions and / or a second output, via which ions from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ), wherein the second input has a fifth cross-sectional profile and a fifth cross-sectional area and the second output has a sixth cross-sectional profile and a sixth cross-sectional area, the fifth cross-sectional profile being different from the sixth cross-sectional profile and / or the fifth cross-sectional area being different from the sixth cross-sectional area is different. Massenspektrometer nach Anspruch 33, wobei das erste Querschnittsprofil und die erste Querschnittsfläche und/oder das zweite Querschnittsprofil und die zweite Querschnittsfläche und/oder das fünfte Querschnittsprofil und die fünfte Querschnittsfläche und/oder das sechste Querschnittsprofil und die sechste Querschnittsfläche verschieden sind.The mass spectrometer of claim 33, wherein the first Cross-sectional profile and the first cross-sectional area and / or the second cross-sectional profile and the second cross-sectional area and / or the fifth Cross-sectional profile and the fifth Cross sectional area and / or the sixth cross-sectional profile and the sixth cross-sectional area are different are. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei wenigstens 50 %, 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Platten in einer ersten Ebene angeordnet sind und die Ionenführung (1a, 1b, 1c) in der ersten Ebene gekrümmt ist.A mass spectrometer according to any one of the preceding claims, wherein at least 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95% of the plates are arranged in a first plane and the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is curved in the first plane. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei wenigstens 50 %, 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Platten an einem Eingang der Ionenführung (1a, 1b, 1c) in einer ersten Ebene angeordnet sind und die Ionenführung (1a, 1b, 1c) in einer zweiten Ebene orthogonal zur ersten Ebene gekrümmt ist.A mass spectrometer according to any one of the preceding claims, wherein at least 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95% of the plates are located at an entrance of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are arranged in a first plane and the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is curved in a second plane orthogonal to the first plane. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei wenigstens 50 %, 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Platten den gleichen Abstand aufweisen.Mass spectrometer according to one of the preceding claims, wherein at least 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95% of the plates have the same distance. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Plattenelektroden eine Dicke aufweisen, die aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 5 mm, (ii) kleiner oder gleich 4,5 mm, (iii) kleiner oder gleich 4 mm, (iv) kleiner oder gleich 3,5 mm, (v) kleiner oder gleich 3 mm, (vi) kleiner oder gleich 2,5 mm, (vii) kleiner oder gleich 2 mm, (viii) kleiner oder gleich 1,5 mm, (ix) kleiner oder gleich 1 mm, (x) kleiner oder gleich 0,8 mm, (xi) kleiner oder gleich 0,6 mm, (xii) kleiner oder gleich 0,4 mm, (xiii) kleiner oder gleich 0,2 mm, (xiv) kleiner oder gleich 0,1 mm und (xv) kleiner oder gleich 0,25 mm.Mass spectrometer according to one of the preceding claims, wherein the plate electrodes have a thickness consisting of the following Group selected is: (i) less than or equal to 5 mm, (ii) less than or equal to 4.5 mm, (iii) less than or equal to 4 mm, (iv) less than or equal to 3.5 mm, (v) less than or equal to 3 mm, (vi) less than or equal to 2.5 mm, (vii) less than or equal to 2 mm, (viii) less than or equal to 1.5 mm, (ix) less than or equal to 1 mm, (x) less than or equal to 0.8 mm, (xi) less than or equal to 0.6 mm, (xii) less than or equal to 0.4 mm, (xiii) less than or equal to 0.2 mm, (xiv) less than or equal to 0.1 mm and (xv) is less than or equal to 0.25 mm. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Plattenelektroden einen Abstand aufweisen, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 5 mm, (ii) kleiner oder gleich 4,5 mm, (iii) kleiner oder gleich 4 mm, (iv) kleiner oder gleich 3,5 mm, (v) kleiner oder gleich 3 mm, (vi) kleiner oder gleich 2,5 mm, (vii) kleiner oder gleich 2 mm, (viii) kleiner oder gleich 1,5 mm, (ix) kleiner oder gleich 1 mm, (x) kleiner oder gleich 0,8 mm, (xi) kleiner oder gleich 0,6 mm, (xii) kleiner oder gleich 0,4 mm, (xiii) kleiner oder gleich 0,2 mm, (xiv) kleiner oder gleich 0,1 mm und (xv) kleiner oder gleich 0,25 mm.Mass spectrometer according to one of the preceding claims, wherein the plate electrodes are spaced apart from the following Group selected is: (i) less than or equal to 5 mm, (ii) less than or equal to 4.5 mm, (iii) less than or equal to 4 mm, (iv) less than or equal to 3.5 mm, (v) less than or equal to 3 mm, (vi) less than or equal to 2.5 mm, (vii) less than or equal to 2 mm, (viii) less than or equal to 1.5 mm, (ix) less than or equal to 1 mm, (x) less than or equal to 0.8 mm, (xi) less than or equal to 0.6 mm, (xii) less than or equal to 0.4 mm, (xiii) less than or equal to 0.2 mm, (xiv) less than or equal to 0.1 mm and (xv) is less than or equal to 0.25 mm. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei eine Wechsel- oder HF-Spannungsquelle vorgesehen ist, die an die Plattenelektroden (2) angeschlossen ist.Mass spectrometer according to one of the preceding claims, wherein an alternating or HF voltage source is provided, which is connected to the plate electrodes ( 2 ) connected. Massenspektrometer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) weiter eine erste äußere Plattenelektrode (3), die auf einer ersten Seite der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet ist, und eine zweite äußere Plattenelektrode (4), die auf einer zweiten Seite der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet ist, aufweist.Mass spectrometer according to one of the preceding claims, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) further comprises a first outer plate electrode ( 3 ) located on a first side of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ), and a second outer plate electrode (FIG. 4 ) located on a second side of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is arranged. Massenspektrometer nach Anspruch 41, wobei eine Gleichspannungsquelle vorgesehen ist, die die erste äußere Plattenelektrode (3) und/oder die zweite äußere Plattenelektrode (4) auf eine Gleich-Vorspannung in bezug auf eine mittlere Spannung der Plattenelektroden, an die eine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt ist, vorspannt.A mass spectrometer according to claim 41, wherein a DC voltage source is provided, comprising the first outer plate electrode ( 3 ) and / or the second outer plate electrode ( 4 ) is biased to a DC bias with respect to a mean voltage of the plate electrodes to which an AC or RF voltage is applied. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 41 oder 42, welches weiter eine Ionen- und/oder Gas- und/oder Laserstrahlöffnung aufweist, die in der ersten äußeren Plattenelektrode angeordnet ist.Mass spectrometer according to one of claims 41 or 42, which further comprises an ion and / or gas and / or laser beam opening, those in the first outer plate electrode is arranged. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 41 bis 43, welches weiter eine Ionen- und/oder Gas- und/oder Laseröffnung aufweist, die in der zweiten äußeren Plattenelektrode angeordnet ist.Mass spectrometer according to one of claims 41 to 43, which further comprises an ion and / or gas and / or laser aperture, in the second outer plate electrode is arranged. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 10, 11 oder 12, wobei in einem Betriebsmodus die erste Ionenführung (1a, 1b, 1c) und die zweite Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der ersten Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen in die zweite Ionenführung (1a, 1b, 1c) gedrängt werden.Method for operating a mass spectrometer with the features according to claim 10, 11 or 12, wherein in an operating mode the first ion guide ( 1a . 1b . 1c ) and the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are held at different DC potentials, so that from the first ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exiting ions into the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 11 oder 12, wobei in einem Betriebsmodus die zweite Ionenführung (1a, 1b, 1c) und die dritte Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der zweiten Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen in die dritte Ionenführung (1a, 1b, 1c) gedrängt werden. Method for operating a mass spectrometer having the features of claim 11 or 12, wherein in an operating mode the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ) and the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are held at different DC potentials, so that from the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ) leaking ions into the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 12, wobei in einem Betriebsmodus die dritte Ionenführung (1a, 1b, 1c) und die vierte Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der dritten Ionenführung (1a, 1b, 1c) austretende Ionen in die vierte Ionenführung (1a, 1b, 1c) gedrängt werden. A method of operating a mass spectrometer having the features of claim 12, wherein in an operating mode the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) and the fourth ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are held at different DC potentials, so that from the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exiting ions into the fourth ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 10, 11 oder 12, wobei in einem Betriebsmodus die zweite Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf einem von demjenigen der ersten Ionenführung (1a, 1b, 1c) verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten wird, so daß Ionen in der ersten Ionenführung (1a, 1b, 1c) eingefangen werden.Method for operating a mass spectrometer having the features according to claim 10, 11 or 12, wherein in an operating mode the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ) on one of those of the first ion guide ( 1a . 1b . 1c ) holding different DC potential, so that ions in the first ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 11 oder 12, wobei in einem Betriebsmodus die dritte Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf einem von demjenigen der zweiten Ionenführung (1a, 1b, 1c) verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten wird, so daß Ionen in der zweiten Ionenführung (1a, 1b, 1c) eingefangen werden. Method for operating a mass spectrometer having the features of claim 11 or 12, wherein in an operating mode the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) on one of those of the second ion guide ( 1a . 1b . 1c ) holding different DC potential, so that ions in the second ion guide (1a, 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 12, wobei in einem Betriebsmodus die vierte Ionenführung (1a, 1b, 1c) auf einem von demjenigen der dritten Ionenführung (1a, 1b, 1c) verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten wird, so daß Ionen in der dritten Ionenführung (1a, 1b, 1c) eingefangen werden.A method of operating a mass spectrometer having the features of claim 12, wherein in an operating mode the fourth ion guide ( 1a . 1b . 1c ) on one of those of the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is held at different DC potential, so that ions in the third ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 13, wobei in einem ersten Betriebsmodus der Ionenspeicherbereich (10) Ionen durch eine einzige Öffnung empfängt und in einem zweiten Betriebsmodus Ionen aus dem Ionenspeicherbereich (10) durch die einzige Öffnung austreten. Method for operating a mass spectrometer having the features of claim 13, wherein in a first operating mode the ion storage area ( 10 ) Receives ions through a single orifice and in a second mode of operation, ions from the ion storage region (FIG. 10 ) through the single opening. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 14 bis 21, wobei bei der Verwendung ein in die Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintretender Ionenstrahl in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt wird, wobei der erste Strahl über einen ersten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austritt und der zweite Strahl über einen zweiten Ausgang aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austritt.A method of operating a mass spectrometer having the features of any one of claims 14 to 21, wherein in use, a probe is inserted into the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is split into two or more beams, wherein the first beam via a first output from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) and the second jet via a second exit from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) exit. Verfahren nach Anspruch 52, wobei bei der Verwendung die in einen Eingang der Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintretenden Ionen durch eine oder mehrere Elektroden, die neben dem Eingang angeordnet sind, eine oder mehrere Elektroden, die innerhalb der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet sind, oder eine oder mehrere Elektroden, die neben einem Ausgang der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet sind, in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt werden. The method of claim 52, wherein, in use, the into an input of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) entering through one or more electrodes, which are arranged adjacent to the input, one or more electrodes, which within the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) or one or more electrodes adjacent to an exit of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are divided into two or more beams. Verfahren nach einem der Ansprüche 52 oder 53, wobei wenigstens ein Teil eines in die Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintretenden Ionenstrahls zu oder zwischen einem von mehreren Ausgängen umschaltbar ist.A method according to any one of claims 52 or 53, wherein at least a part of one into the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) entering ion beam to or between one of several outputs is switchable. Verfahren nach Anspruch 54, wobei bei der Verwendung die in einen Eingang der Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintretenden Ionen durch entweder eine oder mehrere Elektroden, die neben dem Eingang angeordnet sind, oder eine oder mehrere Elektroden, die innerhalb der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet sind, oder eine oder mehrere Elektroden, die neben einem Ausgang der Ionenführung (1a, 1b, 1c) angeordnet sind, zu oder zwischen einem von mehreren Ausgängen umschaltbar sind.The method of claim 54, wherein, in use, the into an input of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) entering through either one or more electrodes disposed adjacent to the input, or one or more electrodes disposed within the ion guide (FIG. 1a . 1b . 1c ) or one or more electrodes adjacent to an exit of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ), are switchable to or between one of a plurality of outputs. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 1, wobei in einem ersten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über eine erste Öffnung in die Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintritt und über eine zweite Öffnung aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austritt und wobei in einem zweiten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über die zweite Öffnung in die Ionenführung (1a, 1b, 1c) eintritt.A method of operating a mass spectrometer having the features of claim 1, wherein in a first mode of operation an ion beam is introduced via a first opening into the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ) and via a second opening from the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) and wherein in a second mode of operation, an ion beam via the second opening in the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) entry. Verfahren nach Anspruch 56, wobei in dem zweiten Betriebsmodus der Ionenstrahl über die erste Öffnung aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austritt.The method of claim 56, wherein in the second mode of operation, the ion beam is directed across the first opening of the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ) exit. Verfahren nach Anspruch 56, wobei in dem zweiten Betriebsmodus der Ionenstrahl über eine von der ersten und der zweiten Öffnung verschiedene dritte Öffnung aus der Ionenführung (1a, 1b, 1c) austritt. The method of claim 56, wherein in the second mode of operation, the ion beam is separated from the ion guide by a third orifice other than the first and second apertures. 1a . 1b . 1c ) exit. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 40, wobei benachbarten Plattenelektroden entgegengesetzte Phasen der Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt werden. Method for operating a mass spectrometer with the features of claim 40, wherein adjacent plate electrodes opposite phases of the AC or RF voltage can be supplied. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei eine oder mehrere der Plattenelektroden bei der Verwendung auf einem von den anderen Plattenelektroden verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß mehrere diskrete Ionenführungsbereiche innerhalb der Ionenführung (1a, 1b, 1c) ausgebildet sind. A method of operating a mass spectrometer having the features of any one of claims 1 to 44, wherein one or more of the plate electrodes are held in use at a different DC potential from the other plate electrodes so that multiple discrete ion guide regions within the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are formed. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei mehrere der Plattenelektroden auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden.Method for operating a mass spectrometer with the features of any one of claims 1 to 44, wherein a plurality the plate electrodes at different DC potentials being held. Verfahren nach Anspruch 61, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen ersten äußeren Abschnitt, einen zweiten äußeren Abschnitt und einen Zwischenabschnitt zwischen dem ersten und dem zweiten äußeren Abschnitt aufweist und wobei das Gleichspannungspotential, auf dem die Plattenelektroden gehalten werden, in dem ersten und/oder dem zweiten äußeren Abschnitt in bezug auf den Zwischenabschnitt erhöht ist, so daß Ionen zu einem mittleren Bereich der Ionenführung (1a, 1b, 1c) zurückgerichtet werden. The method of claim 61, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) has a first outer portion, a second outer portion and an intermediate portion between the first and second outer portions, and wherein the DC potential on which the plate electrodes are held increases in the first and / or second outer portions with respect to the intermediate portion is such that ions to a central region of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) are returned. verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei eines oder mehrere transiente Gleichspannungspotentiale oder eine oder mehrere Gleichspannungspotential-Wellenformen an die Plattenelektroden angelegt sind.Method for operating a mass spectrometer with the features of any one of claims 1 to 44, wherein one or several transient DC potentials or one or more DC potential waveforms applied to the plate electrodes are. Verfahren nach Anspruch 63, wobei das eine oder die mehreren transienten Gleichspannungspotentiale oder die eine oder die mehreren Gleichspannungspotential-Wellenformen Ionen von einem Bereich der Ionenführung (1a, 1b, 1c) in einen anderen Bereich der Ionenführung (1a, 1b, 1c) drängen. The method of claim 63, wherein the one or more transient DC potentials or the one or more DC potential waveforms comprises ions from a region of the ion guide (10). 1a . 1b . 1c ) into another region of the ion guide ( 1a . 1b . 1c ). Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 0,0001 mbar, (ii) größer oder gleich 0,0005 mbar, (iii) größer oder gleich 0,001 mbar, (iv) größer oder gleich 0,005 mbar, (v) größer oder gleich 0,01 mbar, (vi) größer oder gleich 0,05 mbar, (vii) größer oder gleich 0,1 mbar, (viii) größer oder gleich 0,5 mbar, (ix) größer oder gleich 1 mbar, (x) größer oder gleich 5 mbar und (xi) größer oder gleich 10 mbar. Method for operating a mass spectrometer having the features according to one of claims 1 to 44, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the group consisting of: (i) greater than or equal to 0.0001 mbar, (ii) greater than or equal to 0.0005 mbar, (iii) greater than or equal to 0.001 mbar, (iv) greater than or equal to 0.005 mbar, (v) greater than or equal to 0.01 mbar, (vi) greater than or equal to 0.05 mbar, (vii) greater than or equal to 0.1 mbar, (viii ) greater than or equal to 0.5 mbar, (ix) greater than or equal to 1 mbar, (x) greater than or equal to 5 mbar and (xi) greater than or equal to 10 mbar. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 10 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 mbar, (iv) kleiner oder gleich 0,5 mbar, (v) kleiner oder gleich 0,1 mbar, (vi) kleiner oder gleich 0,05 mbar, (vii) kleiner oder gleich 0,01 mbar, (viii) kleiner oder gleich 0,005 mbar, (ix) kleiner oder gleich 0,001 mbar, (x) kleiner oder gleich 0,0005 mbar und (xi) kleiner oder gleich 0,0001 mbar.Method for operating a mass spectrometer having the features according to one of claims 1 to 44, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the following group: (i) less than or equal to 10 mbar, (ii) less than or equal to 5 mbar, (iii) less than or equal to 1 mbar, (iv) less than or equal to equal to or less than 0.5 mbar, (v) less than or equal to 0.1 mbar, (vi) less than or equal to 0.05 mbar, (vii) less than or equal to 0.01 mbar, (viii) less than or equal to 0.005 mbar, (ix ) less than or equal to 0.001 mbar, (x) less than or equal to 0.0005 mbar and (xi) less than or equal to 0.0001 mbar. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 44, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 0,0001 und 10 mbar, (ii) zwischen 0,0001 und 1 mbar, (iii) zwischen 0,0001 und 0,1 mbar, (iv) zwischen 0,0001 und 0,01 mbar, (v) zwischen 0,0001 und 0,001 mbar, (vi) zwischen 0,001 und 10 mbar, (vii) zwischen 0,001 und 1 mbar, (viii) zwischen 0,001 und 0,1 mbar, (ix) zwischen 0,001 und 0,01 mbar, (x) zwischen 0,01 und 10 mbar, (xi) zwischen 0,01 und 1 mbar, (xii) zwischen 0,01 und 0,1 mbar, (xiii) zwischen 0,1 und 10 mbar, (xiv) zwischen 0,1 und 1 mbar und (xv) zwischen 1 und 10 mbar.Method for operating a mass spectrometer having the features according to one of claims 1 to 44, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the following group: (i) between 0.0001 and 10 mbar, (ii) between 0.0001 and 1 mbar, (iii) between 0.0001 and 0, 1 mbar, (iv) between 0.0001 and 0.01 mbar, (v) between 0.0001 and 0.001 mbar, (vi) between 0.001 and 10 mbar, (vii) between 0.001 and 1 mbar, (viii) between 0.001 and 0.1 mbar, (ix) between 0.001 and 0.01 mbar, (x) between 0.01 and 10 mbar, (xi) between 0.01 and 1 mbar, (xii) between 0.01 and 0.1 mbar, (xiii) between 0.1 and 10 mbar, (xiv) between 0.1 and 1 mbar and (xv) between 1 and 10 mbar. Verfahren ach Anspruch 59 oder zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 40, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 1 × 10–7 mbar, (ii) größer oder gleich 5 × 10–7 mbar, (iii) größer oder gleich 1 × 10–6 mbar, (iv) größer oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) größer oder gleich 1 × 10–5 mbar und (vi) größer oder gleich 5 × 10–5 mbar.A method according to claim 59 or for operating a mass spectrometer having the features of any one of claims 1 to 40, wherein the ion guide (16) 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the group consisting of: (i) greater than or equal to 1 × 10 -7 mbar, (ii) greater than or equal to 5 × 10 -7 mbar, (iii) greater than or equal to 1 × 10 -6 mbar, (iv) greater than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) greater than or equal to 1 × 10 -5 mbar and (vi) greater than or equal to 5 × 10 -5 mbar. Verfahren nach Anspruch 59 oder zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 40, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 1 × 10–4 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 × 10–5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 × 10–5 mbar, (iv) kleiner oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) kleiner oder gleich 1 × 10–6 mbar, (vi) kleiner oder gleich 5 × 10–7 mbar und (vii) kleiner oder gleich 1 × 10–7 mbar.A method according to claim 59 or for operating a mass spectrometer having the features of any one of claims 1 to 40, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the group consisting of: (i) less than or equal to 1 × 10 -4 mbar, (ii) less than or equal to 5 × 10 -5 mbar, (iii) less than or equal to 1 × 10 -5 mbar, (iv) less than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) less than or equal to 1 × 10 -6 mbar, (vi) less than or equal to 5 × 10 -7 mbar and (vii) smaller or equal to 1 × 10 -7 mbar. Verfahren nach Anspruch 59 oder zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach einem der Ansprüche 1 bis 40, wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) bei der Verwendung auf einem Druck gehalten wird, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (ii) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (iii) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (iv) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (v) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (vi) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–7 mbar, (vii) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (viii) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (ix) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (×) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (xi) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (xii) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xiii) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xiv) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xv) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–6 mbar, (xvi) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xvii) zwischen 5 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xviii) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xix) zwischen 1 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar, (xx) zwischen 1 × 10–5 und 5 × 10–5 mbar und (xxi) zwischen 5 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar.A method according to claim 59 or for operating a mass spectrometer having the features of any one of claims 1 to 40, wherein the ion guide ( 1a . 1b . 1c ) is maintained in use at a pressure selected from the following group: (i) between 1 × 10 -7 and 1 × 10 -4 mbar, (ii) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -5 (iii) between 1 × 10 -7 and 1 × 10 -5 mbar, (iv) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (v) between 1 × 10 -7 and 1 × 10 . 6 mbar, (vi) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -7 mbar, (vii) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -4 mbar, (viii) between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -5 mbar, (ix) is between 5 × 10 -7 and 1 x 10 -5 mbar, (x) is between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (xi) is between 5 × 10 -7 to 1 × 10 -6 mbar, (xii) between 1 × 10 -6 and 1 × 10 -4 mbar, (xiii) between 1 × 10 -6 and 5 × 10 -5 mbar, (xiv) between 1 × 10 -6 and 1 X 10 -5 mbar, (xv) between 1 × 10 -6 and 5 × 10 -6 mbar, (xvi) between 5 × 10 -6 and 1 × 10 -4 mbar, (xvii) between 5 × 10 -6 and 5 x 10 -5 mbar, (xviii) is between 5 × 10 -6 and 1 x 10 5 mbar, (xix) is between 1 × 10 -5 and 1 x 10 -4 mbar, (xx) between 1 × 10 -5 and 5 × 10 -5 mbar and (xxi) is between 5 × 10 -5 and 1 x 10 -4 mbar. sVerfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 41, wobei an die erste äußere Plattenelektrode und/oder die zweite äußere Plattenelektrode eine reine Gleichspannung angelegt ist.sMethod for operating a mass spectrometer with the features of claim 41, wherein the first outer plate electrode and / or the second outer plate electrode a pure DC voltage is applied. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 41, wobei an die erste äußere Plattenelektrode und/oder die zweite äußere Plattenelektrode eine reine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt ist.Method for operating a mass spectrometer with the features of claim 41, wherein the first outer plate electrode and / or the second outer plate electrode a pure AC or RF voltage is applied. Verfahren zum Betrieb eines Massenspektrometers mit den Merkmalen nach Anspruch 41, wobei an die erste äußere Plattenelektrode und/oder die zweite äußere Plattenelektrode eine Gleichspannung und eine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt ist.Method for operating a mass spectrometer with the features of claim 41, wherein the first outer plate electrode and / or the second outer plate electrode a DC voltage and an AC or RF voltage applied is.
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