DE10215284B4

DE10215284B4 - Method and apparatus for drying substrates

Info

Publication number: DE10215284B4
Application number: DE2002115284
Authority: DE
Inventors: Matthias Niese; Jörg FRANZKE
Original assignee: Astec Halbleitertechnologie GmbH
Current assignee: Astec Halbleitertechnologie GmbH
Priority date: 2002-04-05
Filing date: 2002-04-05
Publication date: 2007-05-31
Anticipated expiration: 2022-04-06
Also published as: DE10215284A1

Abstract

Verfahren zum Trocknen von Substraten (S), wobei die Substrate (S) in einem mindestens ein Trägerelement (2, 3) sowie mindestens ein Trägergegenelement (4) aufweisenden Träger (T) aufgenommen sind, welcher in eine Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, mit folgenden Schritten:
a) Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Träger (T) und einer Oberfläche (FO) der Behandlungsflüssigkeit, bis das Trägergegenelement (4) sich vollständig oberhalb der Oberfläche (FO) der Behandlungsflüssigkeit befindet und das Trägerelement (2, 3) in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist,
b) Abheben der Substrate (S) vom eingetauchten Trägerelement (2, 3) mittels einer ersten Hubeinrichtung, so dass die Substrate (S) im Träger (T) in einer am Trägerelement (2, 3) vorgesehenen Haltevorrichtung (5) von einer ersten Position in eine zweite Position verschoben werden,
c) weitere Relativbewegung zwischen dem Träger (T) und der Oberfläche (FO) der Behandlungsflüssigkeit bis das Trägerelement (2, 3) sich vollständig oberhalb der Oberfläche (FO) der Behandlungsflüssigkeit befindet und
d) Abstützen der Substrate...Method for drying substrates (S), wherein the substrates (S) are accommodated in a carrier (T) having at least one carrier element (2, 3) and at least one carrier counter element (4), which is immersed in a treatment liquid, with the following steps :
a) generating a relative movement between the carrier (T) and a surface (FO) of the treatment liquid until the counter carrier element (4) is completely above the surface (FO) of the treatment liquid and the carrier element (2, 3) is immersed in the treatment liquid .
b) lifting the substrates (S) from the immersed carrier element (2, 3) by means of a first lifting device, so that the substrates (S) in the carrier (T) in a holding device (5) provided on the carrier element (2, 3) of a first Position to be moved to a second position,
c) further relative movement between the carrier (T) and the surface (FO) of the treatment liquid until the carrier element (2, 3) is completely above the surface (FO) of the treatment liquid and
d) supporting the substrates ...

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten.The The invention relates to a method and an apparatus for drying of substrates.

Aus der US 4,722,752 sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Spülen und Trocknen von Substraten bekannt. Dabei sind die Substrate in einem Träger aufgenommen, der am Boden einen Durchbruch aufweist. Der Träger wird mittels einer ersten Hubeinrichtung in ein Behandlungsbad eingetaucht. Zum Herausgeben der Substrate aus dem Behandlungsbad wird ein Hubelement einer zweiten Hubeinrichtung angehoben, das den bodenseitigen Durchbruch des Trägers durchgreift und die Substrate aus dem Träger heraus und über die Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit heraushebt. Das Herausheben der Substrate erfolgt so langsam, dass daran anhaftende Behandlungsflüssigkeit vollständig abgezogen wird. Sobald die Substrate vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben worden sind, wird mittels der ersten Hubeinrichtung der Träger ebenfalls langsam aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben, so dass auch daran anhaftende Behandlungsflüssigkeit vollständig abgezogen wird. Der Träger wird soweit angehoben, dass darin anschließend die Substrate wieder aufgenommen werden.From the US 4,722,752 For example, a method and apparatus for rinsing and drying substrates are known. The substrates are accommodated in a carrier which has an opening at the bottom. The carrier is immersed by means of a first lifting device in a treatment bath. To output the substrates from the treatment bath, a lifting element of a second lifting device is raised, which passes through the base-side opening of the carrier and lifts the substrates out of the carrier and over the surface of the treatment liquid. The lifting out of the substrates takes place so slowly that the treatment liquid adhering to it is completely removed. As soon as the substrates have been completely lifted out of the treatment liquid, the carrier is also slowly lifted out of the treatment liquid by means of the first lifting device, so that any treatment liquid adhering thereto is also completely removed. The carrier is raised so far that subsequently the substrates are taken up again.

Das bekannte Verfahren ist zeitaufwendig, weil nacheinander die Substrate und dann der Träger getrocknet werden. Beim Verfahren werden in der Behandlungsflüssigkeit mitunter Gasbläschen gebildet oder erzeugt. Diese können an der Oberfläche der Substrate anhaften. Es kann infolgedessen insbesondere bei dünnen Substraten ein Auftrieb entstehen, welcher die Substrate aus dem Träger heraushebt. Beim Herausheben der im Träger aufgenommenen Substrate können diese außerdem uner wünschterweise aneinanderliegen. Dabei kann Behandlungsflüssigkeit herausgeschleppt werden. Ein kontrolliertes rückstandsfreies Trocknen findet an den Kontaktstellen nachteiligerweise nicht statt.The known method is time consuming, because successively the substrates and then dried the carrier become. In the process, in the treatment liquid sometimes gas bubbles formed or generated. these can on the surface of the Attach substrates. As a result, it can be used especially on thin substrates create a lift, which lifts the substrates out of the carrier. When lifting out in the vehicle recorded substrates can these as well undesirably against one another. In this case, treatment liquid can be dragged out. A controlled residue-free Drying disadvantageously does not take place at the contact points.

Aus der DE 195 46 990 C2 ist ein ähnliches Verfahren bekannt. Dabei wird zum Trocknen des Trägers nach dem vollständigen Herausheben der Substrate aus der Behandlungsflüssigkeit diese abgepumpt. Anschließend werden die Substrate wieder im getrockneten Träger aufgenommen.From the DE 195 46 990 C2 a similar method is known. In this case, it is pumped to dry the carrier after the complete lifting of the substrates from the treatment liquid. Subsequently, the substrates are taken up again in the dried carrier.

Bei dem aus der WO 98/14282 bekannten Verfahren ist zusätzlich ein Tropfen-Ableitelement vorgesehen, mit dem eventuell an der Unterkante der Substrate hängende Tropfen beim Herausheben derselben über der Flüssigkeitsoberfläche abgeleitet werden können.at the method known from WO 98/14282 is additionally a Drop-discharge provided, with the possibly at the lower edge the substrates hanging Drops when lifting them are derived above the liquid surface can.

Bei den beiden vorgenannten Verfahren werden die Substrate zum Trocknen vollständig vom Träger abgehoben und in ein Aufnahmeelement geschoben. Sie werden nach dem Trocknen des Trägers wieder auf diesem abgestützt. Diese Verfahren bergen das Risiko von Fehlfunktionen. Es kann beim Überführen in das Aufnahmeelement zum Verkanten oder zum Bruch von Substraten kommen. Durch die Gleitbewegung innerhalb des Aufnahmeelements können sich Partikel lösen; es kann zu unerwünschten Kontaminationen auf der Oberfläche der Substrate kommen.at The two aforementioned methods are the substrates for drying Completely from the carrier lifted and pushed into a receptacle. They are going to drying the carrier again supported on this. These procedures carry the risk of malfunction. It can when transferring into the receiving element for tilting or breaking of substrates come. Due to the sliding movement within the receiving element can Dissolve particles; it can be too unwanted Contaminations on the surface the substrates come.

Die DE 196 37 875 C2 beschreibt ein Verfahren zum Trocknen von Substraten, bei dem die Substrate in einem, mindestens ein Trägerelement aufweisenden Träger aufgenommen sind, welcher in eine Behandlungsflüssigkeit getaucht ist. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte:
Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Träger und einer Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit bis das Trägerelement noch in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist; Abheben der Substrate von eingetauchten Trägerelement mittels einer ersten Hubeinrichtung, so dass die Substrate vom Träger abgehoben werden;
weitere Relativbewegung zwischen dem Träger und der Oberseite der Behandlungsflüssigkeit, bis der Träger sich vollständig oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindet und
Abstützen der Substrate auf das oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindliche Trägerelement, wobei die Substrate in am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtungen verschoben werden.The DE 196 37 875 C2 describes a process for drying substrates, in which the substrates are accommodated in a carrier having at least one carrier element, which is immersed in a treatment liquid. The method comprises the following steps:
Generating a relative movement between the support and a surface of the treatment liquid until the support member is still immersed in the treatment liquid; Lifting the substrates from submerged carrier element by means of a first lifting device, so that the substrates are lifted from the carrier;
further relative movement between the carrier and the top of the treatment liquid until the carrier is completely above the surface of the treatment liquid and
Supporting the substrates on the carrier element located above the surface of the treatment liquid, the substrates being displaced in holding devices provided on the carrier element.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, mit denen auf einfache Weise ein unerwünschtes Herausheben von Substraten aus dem Träger vermieden werden kann. Außerdem soll beim Herausheben des Trägers aus der Behandlungsflüssigkeit ein Aneinanderliegen der Substrate vermieden werden. Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens bereitzustellen, die möglichst einfach aufgebaut ist.task the invention is to provide a method and a device, with which in a simple way an undesirable lifting of substrates from the carrier can be avoided. Furthermore should when lifting the carrier from the treatment liquid Aneinanderliegen the substrates are avoided. Another one The aim of the invention is to provide a device for carrying out the To provide method that is as simple as possible.

Die verfahrensseitige Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen der Ansprüche 2 bis 15.The procedural task is with the features of claim 1 solved. Advantageous embodiments emerge from the features of claims 2 to 15.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht ein vollständiges Trocknen der Substrate. Gleichzeitig wird ein Herausheben der in die Behandlungsflüssigkeit eingetauchten Substrate aus dem Träger sicher vermieden. Ein Aneinanderliegen beim Herausheben wird ebenfalls vermieden.The inventive method allows a complete one Drying the substrates. At the same time a lifting of the in the treatment liquid Submerged substrates from the carrier safely avoided. A juxtaposition when lifting is also avoided.

Nach einer Ausgestaltung sind das Trägerelement und die Haltevorrichtung beim Verschieben der Substrate von der zweiten Position in die erste Position trocken. Damit wird verhindert, dass eventuell am Trägerelement anhaftende Behandlungsflüssigkeit die Substrate nach dem Herausheben wieder benetzt. Eine durch eine solche Benetzung verursachte unerwünschte Kontamination der Substrate wird vermieden.According to one embodiment, the carrier element and the holding device are dry when moving the substrates from the second position to the first position. This prevents eventu ell adhering to the carrier element treatment liquid wets the substrates after lifting again. An undesirable contamination of the substrates caused by such wetting is avoided.

Zweckmäßigerweise werden die Substrate zwischen der ersten und zweiten Position mittels der ersten Hubeinrichtung um höchstens 10 mm, vorzugsweise 3 bis 5 mm, verschoben. Die vorerwähnten Merkmale ermöglichen die Durchführung des Verfahrens mit einer konstruktiv besonders einfach ausgeführten Vorrichtung.Conveniently, the substrates between the first and second position by means the first lifting device at most 10 mm, preferably 3 to 5 mm, shifted. The aforementioned features enable the implementation the method with a structurally particularly simple running device.

Nach einer weiteren Ausgestaltung werden die Substrate kontinuierlich angehoben. An den Substraten anhaftende Behandlungsflüssigkeit wird in einer kontinuierlichen Bewegung abgezogen. Damit wird verhindert, dass sich an der Grenzlinie der Behandlungsflüssigkeit zum Substrat Kontaminationen anreichern und auf dem Substrat ablagern können.To In a further embodiment, the substrates are continuous raised. On the substrates adhering treatment liquid is subtracted in a continuous motion. This prevents that accumulate contamination at the boundary line of the treatment liquid to the substrate and can deposit on the substrate.

Nach einer weiteren Ausgestaltung werden die Substrate so langsam angehoben, dass ein daran anhaftender Behandlungsflüssigkeitsfilm bis zum Abheben des Substrats von der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit stets in Verbindung der im Behandlungsbecken aufgenommenen Behandlungsflüssigkeit bleibt. Es wird so die Bildung isolierter Tropfen auf der Oberfläche der Substrate vermieden. Bei einer Verdunstung derartiger Tropfen besteht die Gefahr, dass Kontaminationen auf der Oberfläche des Substrats zurückbleiben.To In another embodiment, the substrates are raised so slowly, that an adhering treatment liquid film until lifting of the substrate from the surface the treatment liquid always in connection with the treatment liquid received in the treatment tank remains. It will be the formation of isolated drops on the surface of the Substrates avoided. At an evaporation of such drops the risk that contaminants will remain on the surface of the substrate.

Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, dass die Geschwindigkeit beim Herausheben zwischen 0,1 und 20 mm/sec, vorzugsweise zwischen 0,5 mm/sec und 3,0 mm/sec, beträgt. Bei einer solchen Geschwindigkeit kann in der Regel ein unerwünschtes Abreißen des am Substrat anhaftenden Behandlungsflüssigkeitsfilms vermieden werden.It has proved to be useful that the lifting speed is between 0.1 and 20 mm / sec, preferably between 0.5 mm / sec and 3.0 mm / sec. at Such a speed can usually be an undesirable Tear off of the adhering to the substrate treatment liquid film can be avoided.

Zweckmäßigerweise werden die Substrate mittels der ersten Hubeinrichtung vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben. Damit kann erreicht werden, dass die Substrate bereits vollständig trocken sind, wenn sie nachfolgend wieder vom Träger übernommen werden.Conveniently, The substrates are completely by means of the first lifting device the treatment liquid lifted. This can be achieved that the substrates already Completely are dry when they are subsequently taken over again by the wearer.

Nach einer weiteren besonders vorteilhaften Ausgestaltung weist das Trägergegenelement eine weitere Haltevorrichtung auf. In diesem Fall werden die Substrate beim Schritt lit. b in der weiteren Haltevorrichtung von einer ersten in eine zweite Position und beim Schritt lit. d von der zweiten in die erste Position verschoben. Die Substrate werden in diesem Fall also zu jedem Zeitpunkt während des Heraushebens sowohl am Trägerelement als auch am Trägergegenelement in Haltevorrichtungen gehalten. Damit wird sichergestellt, dass die Substrate jederzeit in einer vertikalen voneinander beabstandeten parallelen Position im Träger gehalten werden.To a further particularly advantageous embodiment, the carrier counter-element another holding device. In this case, the substrates become at step lit. b in the further holding device of a first in a second position and at step lit. d from the second moved to the first position. The substrates are in this case so at any time during the lifting out both on the support element as well as on the counter carrier element held in holding devices. This will ensure that the substrates at any time in a vertical spaced apart parallel position in the carrier being held.

Die Haltevorrichtung und/oder die weitere Haltevorrichtung können aus nebeneinander liegenden Zähnen oder schlitzartigen Ausnehmungen gebildet sein.The Holding device and / or the further holding device can be made adjacent teeth or slot-like recesses may be formed.

Vorteilhafterweise ist/sind das Trägergegenelement und ggf. die daran vorgesehene weitere Haltevorrichtung beim Schritt lit. b trocken. So wird eine unerwünschte Benetzung der bereits trockenen Substrate sicher vermieden.advantageously, is / are the counter carrier element and possibly the further holding device provided thereon in the step lit. b dry. Thus, an unwanted wetting of the already dry substrates safely avoided.

An einer Unterkante der Substrate eventuell hängende Tropfen können mittels eines sich von der Substratstützleiste erstreckenden Tropfenableitelements abgeleitet werden. Auch diese Maßnahme stellt ein vollständiges und kontaminationsfreies Trocknen der Substrate sicher.At a lower edge of the substrates possibly hanging drops can by means of one from the substrate support bar extending droplet derivation elements are derived. These too Measure a complete one and contamination-free drying of the substrates safely.

Nach einer weiteren besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist zur Erzeugung der Relativbewegung eine zweite den in die Behandlungsflüssigkeit eingetauchten Träger tragende Hubeinrichtung vorgesehen, mittels derer der Träger angehoben wird. Die Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur ersten Hubeinrichtung kann mittels einer Steuereinrichtung gesteuert werden, die eine fest am Behandlungsbecken angebrachte Kulissenführung aufweist. Zweckmäßigerweise weist die erste Hubeinrichtung zwei parallel zu einem an der zweiten Hubeinrichtung vorgesehenen Hubarm verlaufende Wellen auf, an denen endständig jeweils ein Hebel vorgesehen ist, der zum Drehen der Wellen um einen vorgegebenen Winkel mit daran vorgesehenen Zapfen in die Kulissenführung eingreift. Eine solche Steuereinrichtung kann ohne großen Aufwand realisiert werden. Zur Betätigung der ersten Hubeinrichtung sind keine gesonderten Motoren oder Pneumatikzylinder erforderlich. Das vorgeschlagene Verfahren kann mittels einer konstruktiv besonders einfach ausgeführten Vorrichtung realisiert werden.To Another particularly advantageous embodiment is for generating the relative movement a second submerged in the treatment liquid carrier supporting lifting device provided by means of which the carrier is raised becomes. The movement of the first lifting device relative to the first Lifting device can be controlled by means of a control device, which has a firmly attached to the treatment basin slotted guide. Conveniently, the first lifting device has two parallel to one at the second Hubeinrichtung provided lifting arm extending waves on which terminally in each case a lever is provided which is for rotating the shafts around a predetermined angle engages with it provided pins in the slotted guide. Such a control device can be realized without much effort. For operation the first lifting device are not separate motors or pneumatic cylinders required. The proposed method can by means of a constructive very simple Device can be realized.

Nach einer weiteren Ausgestaltung weist die erste Hubeinrichtung eine Aufnahme für den Träger auf. Die Aufnahme kann an den Wellen befestigte Aufnahmehebel zum Heben und Senken des darauf aufgenommenen Trägers aufweisen. So kann der Träger zum Abstützen der Substrate auf dem Trägerelement beim Schritt lit. d mittels der ersten Hubeinrichtung abgesenkt werden.To In a further embodiment, the first lifting device has a Recording for the wearer. The holder can be attached to the shafts lifting lever for lifting and lowering the carrier received thereon. So can the wearer to support the substrates on the support element at step lit. D lowered by means of the first lifting device become.

Ferner weist die erste Hubeinrichtung vorteilhafterweise eine fest am Hubarm angebrachte Substratstützleiste auf, auf der die Substrate bei relativ zum Hubarm abgesenktem Träger abgestützt werden können.Further the first lifting device advantageously has a fixed to the lifting arm attached substrate support bar on, on which the substrates are supported at relative to the lifting arm lowered carrier can.

Nach einer alternativen Ausführungsform kann zur Erzeugung der Relativbewegung auch Behandlungsflüssigkeit aus dem Behandlungsbecken entfernt werden. Dazu kann z. B. ein Boden des Behandlungsbeckens ein Ablauf mit einem steuerbaren Ventil vorgesehen sein. Durch entsprechende Ansteuerung des Ventils kann eine kontinuierliche Absenkung der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit relativ zum z. B. auf den Boden des Behandlungsbeckens abgestellten Träger erreicht werden. Die erste Hubeinrichtung ist in diesem Fall ebenfalls im Bereich des Bodens des Behandlungsbeckens unterhalb des Trägers angebracht.According to an alternative embodiment For the production of the relative movement, treatment liquid can also be removed from the treatment tank. This can z. B. a bottom of the treatment tank a drain can be provided with a controllable valve. By appropriate control of the valve, a continuous lowering of the surface of the treatment liquid relative to the z. B. parked on the floor of the treatment tank carrier can be achieved. The first lifting device is also mounted in this case in the region of the bottom of the treatment basin below the carrier.

Die vorrichtungsseitige Aufgabe der Erfindung wird mit den Merkmalen des Anspruchs 16 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen der Ansprüche 18 bis 52.The Device-side object of the invention is with the features of claim 16 solved. Advantageous embodiments result from the features of claims 18 to 52.

Die vorgeschlagene Vorrichtung ist besonders einfach und kompakt ausgebildet.The proposed device is particularly simple and compact.

Nach einer Ausgestaltung ist eine Steuereinrichtung zur Steuerung der Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur zweiten Hubeinrichtung vorgesehen. Mittels der Steuereinrichtung ist die Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur zweiten Hubeinrichtung zweckmäßigerweise derart steuerbar, dass die Substrate im Träger vom Trägerelement abgehoben und in einer am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von einer ersten Position in eine zweite Position verschiebbar sind, wenn ein Trägergegenelement sich vollständig oberhalb einer Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindet und das Trägerelement in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, und die Substrate in der Haltevorrichtung von der zweiten Position wieder in die erste Position verschiebbar und auf das Trägerelement abstützbar sind, wenn das Trägerelement oberhalb der Flüssigkeitsoberfläche sich befindet. Eine solche Steuereinrichtung ermöglicht ein vollständig trockenes Herausheben der Substrate aus der Behandlungsflüssigkeit.To an embodiment is a control device for controlling the Movement of the first lifting device relative to the second lifting device intended. By means of the control device is the movement of the first Lifting device relative to the second lifting device expediently Controlled such that the substrates in the carrier lifted from the support element and in one on the carrier element provided holding device from a first position into a second position are displaced when a counter carrier element is completely above a surface the treatment liquid located and the support element into the treatment liquid immersed, and the substrates in the fixture of the second position back to the first position and on the carrier element supportable are when the carrier element above the surface of the liquid itself located. Such a control device allows a completely dry Lifting out the substrates from the treatment liquid.

Bei einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung weist die Steuereinrichtung eine fest am Behandlungsbecken angebrachte Kulissenführung auf. Die erste Hubeinrichtung weist zweckmäßigerweise zwei parallel zu einem an der ersten Hubeinrichtung vorgesehenen Hubarm verlaufende Wellen auf, an denen endständig jeweils ein Hebel vorgesehen ist, der zum Drehen der Wellen um einen vorgegebenen Winkel mit daran vorgesehenen Zapfen in die Kulissenführung eingreift. Eine solche mechanische Steuerung der ersten Hubeinrichtung ist besonders einfach realisierbar. Sie ist reparaturunanfällig.at a particularly advantageous embodiment, the control device a firmly attached to the treatment basin slotted guide on. The first lifting device expediently has two parallel to a provided on the first lifting device lifting arm extending Waves on where terminal in each case a lever is provided which is for rotating the shafts around a predetermined angle engages with it provided pins in the slotted guide. Such a mechanical control of the first lifting device is particularly easy to implement. It is not prone to repair.

Die erste Hubeinrichtung kann eine Aufnahme für den Träger aufweisen, wobei die Aufnahme an den Wellen befestigte Aufnahmehebel zum Heben und Senken des darauf aufgenommenen Trägers aufweisen kann. Die erste Hubeinrichtung kann ferner eine fest am Hubarm angebrachte Substratstützleiste aufweisen. Zweckmäßigerweise ist der Träger mittels der Aufnahmehebel relativ zur Substratstützleiste in der Höhe um höchstens 10 mm, vorzugsweise um 3 bis 5 mm, bewegbar. Mit den vorer wähnten Merkmalen kann die Vorrichtung besonders einfach und effizient ausgestaltet werden.The first lifting device may have a receptacle for the carrier, wherein the recording Mounted lever mounted on the shafts for lifting and lowering the have recorded on it carrier can. The first lifting device may also be a fixedly mounted on the lifting arm Substrate supporting strip exhibit. Conveniently, is the carrier by means of the take-up lever relative to the substrate support bar in height by at most 10 mm, preferably 3 to 5 mm, movable. With the aforementioned features The device can be designed particularly simple and efficient become.

Nach einer weiteren Ausgestaltung ist an der Substratstützleiste ein sich davon erstreckendes Tropfenableitelement vorgesehen. Bei einem solchen Tropfenableitelement kann es sich um eine flexible Kunststoffzunge handeln, welche an einem tiefsten Punkt der Substrate anliegt, wenn diese auf der Substratstützleiste abgestützt sind. Die Substratstützleiste kann nach Art eines U-Profils mit zwei parallel zueinander angeordneten Stützschenkeln ausgebildet sein. Ein die Stützschenkel verbindender Boden des U-Profils kann eine Vielzahl von Durchbrüchen aufweisen. Das gewährleistet ein Ablaufen der Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben der Substratstützleiste.To a further embodiment is on the substrate support bar an extending therefrom Tropfenableitelement provided. at Such a droplet discharge element may be a flexible one Act plastic tongue, which at a lowest point of the substrates is present, if they are supported on the substrate support bar. The substrate support bar can be arranged in the manner of a U-profile with two parallel to each other Support legs formed be. A the support legs connecting bottom of the U-profile may have a variety of breakthroughs. That guarantees a drainage of the treatment liquid when lifting out the substrate support bar.

Die Substratstützleiste ist zweckmäßigerweise aus einem besonders verschleißfesten Kunststoff, vorzugsweise aus Ultem^®, hergestellt. Dadurch wird eine Beschädigung der Substratstützleiste durch das wiederkehrende Abstützen von scharfkantigen Substraten vermieden.The substrate support strip is suitably made of a highly wear-resistant plastic, preferably of Ultem ^®. As a result, damage to the substrate support bar is avoided by the recurrent support of sharp-edged substrates.

Das Trägerelement und das Trägergegenelement können mindestens zwei einander gegenüberliegende Wände des Trägers verbinden. Das Trägergegenelement ist zweckmäßigerweise bezüglich des Trägerelements so angeordnet oder ausgebildet, dass damit eine Bewegung der Substrate in Vertikalrichtung begrenzbar ist, und die Substrate lediglich schräg bezüglich der Vertikalrichtung be- bzw. entladbar sind. Ein solcher Träger lässt sich einfach handhaben. Es wird gleichzeitig damit ein Aufschwimmen der Substrate in der Behandlungsflüssigkeit sicher vermieden.The support element and the carrier counter element can at least two opposing ones Walls of the carrier connect. The carrier counter element is expediently concerning the support element arranged or formed so as to allow movement of the substrates can be limited in the vertical direction, and the substrates only obliquely with respect to the Vertical direction can be loaded or unloaded. Such a carrier can be easy to handle. It is at the same time a floating up of the Substrates in the treatment liquid safely avoided.

Das Trägerelement kann als Haltemittel schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne aufweisen. Die Zähne sind zweckmäßigerweise so auf dem Trägerelement angebracht, dass ein Zahngrund der Zähne auf der oberen Scheitellinie des Trägerelements liegt. Das Trägergegenelement kann in Richtung des Trägerelements weisende als schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne ausgebildete weitere Haltemittel aufweisen. Die Zähne können so auf dem Trägergegenelement angebracht sein, dass ein Zahngrund der Zähne auf einer unteren Scheitellinie des Trägergegenelements liegt. Die vorgeschlagene Ausbildung der Haltemittel gewährleistet, dass Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben der Haltemittel schnell und zuverlässig davon abläuft, auch wenn die Substrate zumindest teilweise in die Haltemittel eingreifen.The support member may have slot-like recesses or teeth as holding means. The teeth are expediently mounted on the carrier element such that a tooth base of the teeth lies on the upper apex line of the carrier element. The carrier counter-element may have, in the direction of the carrier element, further retaining means which are designed as slot-like recesses or teeth. The teeth may be mounted on the backing counter member such that a tooth root of the teeth lies on a lower crest line of the backing member. The proposed design of the holding means ensures that treatment liquid when lifting the holding means quickly and reliably expires, even if the substrates at least partially in the holding intervene.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung ist das Trägergegenelement bezüglich des Trägerelements so angeordnet oder ausgebildet, dass die Substrate stets in den Haltemitteln und/oder den weiteren Haltemitteln gehalten werden. Der Abstand des Trägergegenelements zum Trägerelement ist durch die Geometrie und Größe der Substrate vorgegeben. Indem die Substrate gleichzeitig in die Haltemittel und die weiteren Haltemittel eingreifen, wird stets eine vertikale parallele Ausrichtung der Substrate gewährleistet, wobei diese sich während des Heraushebens aus der Behandlungsflüssigkeit zu keinem Zeitpunkt berühren können. Bei einer Berührung der Substrate kann es unerwünschterweise zu einem Herausschleppen von Behandlungsflüssigkeit zwischen zwei aneinanderliegenden Substraten kommen.To A further advantageous embodiment is the carrier counter-element in terms of the carrier element arranged or formed so that the substrates are always in the Holding means and / or the other holding means are kept. The distance of the counter carrier element to the support element is due to the geometry and size of the substrates specified. By placing the substrates in the holding means at the same time and the other holding means intervene, is always a vertical ensures parallel alignment of the substrates, these being while the lifting out of the treatment liquid at any time touch can. At a touch of the Substrates can be unwanted to drag out treatment liquid between two adjacent ones Substrates come.

Nach einem weiteren Ausgestaltungsmerkmal weist das Trägerelement einen im Wesentlichen vertikal nach unten sich erstreckenden Ablaufsteg auf. In ähnlicher Weise kann das Trä gergegenelement einen im Wesentlichen vertikal nach oben sich erstreckenden weiteren Ablaufsteg aufweisen. Eine Breite des Ablauflaufstegs und/oder des weiterer Ablaufstegs kann zur Mitte des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements hin zunehmen. Die vorgenannten Merkmale erleichtern ein vollständiges Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit vom Trägerelement bzw. Trägergegenelement.To a further embodiment feature, the carrier element a substantially vertically downwardly extending gutter on. In similar Way, the Trä can counter-element a substantially vertically upwardly extending further Have runway. A width of the drainage and / or the Further drainage web can be to the center of the carrier element or the counter carrier element increase. The aforementioned features facilitate complete drainage of treatment liquid from the carrier element or carrier counter element.

Nach einer weiteren Ausgestaltung können die Kanten der Wände abgeschrägt sein. Zweckmäßigerweise fallen die Unterkanten der Wände beidseits einer mittig angeordneten U-förmigen ersten Ausnehmung schräg ab. Ein wesentlicher Abschnitt der Seitenkanten der Wände verläuft vorteilhafterweise vertikal. Auch diese Merkmale tragen zu einem erleichtertem Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit vom Träger bei.To In another embodiment, the Edges of the walls bevelled be. Conveniently, fall the lower edges of the walls on both sides of a centrally disposed U-shaped first recess obliquely. One significant portion of the side edges of the walls is advantageously vertical. These features also contribute to a facilitated drainage of treatment liquid from carrier at.

Die Seitenkanten können in einem oberen Abschnitt in einander gegenüberliegender Anordnung zweite Ausnehmungen zum Eingriff einer Greifvorrichtung aufweisen. Eine Oberkante der Wände kann eine dritte Ausnehmung zum Eingreifen einer Be- bzw. Entladevorrichtung für Substrate aufweisen. Die dritte Ausnehmung wird zweckmäßigerweise durch wenigstens zwei schräg zu den Seitenkanten verlaufende Ausnehmungskanten begrenzt. Diese Merkmale ermöglichen ein schräges Be- bzw. Entladen der Substrate bei aus dem Behandlungsbad herausgehobenem Träger. Gleichzeitig wird ein Aufschwimmen der Substrate im Behandlungsbad vermieden. Bei in das Behandlungsbad eingetauchtem Träger stoßen die Substrate bei einer Schrägbewegung an der Wand des Behandlungsbeckens an. Sie werden im Behandlungsbad jederzeit sicher im Träger gehalten.The Side edges can in an upper portion in opposing arrangement second Having recesses for engagement of a gripping device. A Top of the walls can a third recess for engaging a loading and unloading device for substrates exhibit. The third recess is expediently by at least two at an angle limited to the side edges extending recess edges. These features enable a weird one Loading or unloading the substrates when lifted out of the treatment bath Carrier. At the same time, a floating of the substrates in the treatment bath avoided. When submerged in the treatment bath carrier encounter the Substrates in an oblique motion on the wall of the treatment tank. They are in the treatment bath always safe in the carrier held.

Das Trägerelement und/oder das Trägergegenelement können aus einer mit einem ersten Kunststoff ummantelten Versteifungs struktur gebildet sein. Die Versteifungsstruktur kann aus einem mit Kohlefaser verstärkten zweiten Kunststoff hergestellt sein. Diese Merkmale wirken einer Verformung des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements entgegen. Es ist eine Benutzung eines solchen Trägers auch in heißen Behandlungsflüssigkeiten möglich.The support element and / or the counter carrier element can from a coated with a first plastic stiffening structure be formed. The stiffening structure can be made of one with carbon fiber increased be made of second plastic. These features seem one Deformation of the carrier element or the counter carrier element opposite. It is a use of such a carrier even in hot treatment liquids possible.

Nach einer weiteren Ausgestaltung können die Wände aus dem ersten Kunststoff hergestellt sein. Der erste Kunststoff ist zweckmäßigerweise gegen Säuren und Basen resistent. Er kann vorzugsweise aus der folgenden Gruppe ausgewählt sein: PFA, PTFE und PVDF.To In another embodiment, the Walls off be made of the first plastic. The first plastic is expediently against acids and bases resistant. He can preferably be from the following group selected be: PFA, PTFE and PVDF.

Nach einer weiteren konstruktiven Ausgestaltung verbinden vier Trägerelemente die Wände. Es können zwei untere Trägerelemente in der Nähe einer Unterkante der Wände und zwei obere Trägerelemente in der Nähe eines unteren Abschnitts der Seitenkanten der Wände angebracht sein. Das Trägergegenelement ist zweckmäßigerweise in der Nähe einer Oberkante der Seitenwände angebracht.To another constructive embodiment connect four support elements the walls. It can two lower support elements near one Bottom edge of the walls and two upper support members near be attached to a lower portion of the side edges of the walls. The carrier counter element is expediently near an upper edge of the side walls appropriate.

Nach einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist das Trägergegenelement bezüglich einer die Anordnung oder Ausbildung des/der Trägerelements/e betreffenden und parallel zu dieser/diesen verlaufenden Symmetrieebene versetzt angeordnet. Ein solcher Träger ist besonders einfach ausgestaltet. Er ist relativ kostengünstig herstellbar.To a particularly advantageous embodiment is the carrier counter-element in terms of one concerning the arrangement or formation of the carrier element / s and offset parallel to this / this extending plane of symmetry arranged. Such a carrier is very simple. He is relatively inexpensive to produce.

Nach einer weiteren – selbstständigen – vorrichtungsseitigen Lösung ist eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten vorgesehen, wobei die Substrate in einem mindestens ein Trägerelement sowie mindestens ein Trägergegenelement aufweisenden Träger aufgenommen sind, welcher in einer Behandlungsflüssig keit eingetaucht ist, wobei eine Steuerung vorgesehen ist a) zum Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Träger und einer Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit bis das Trägergegenelement sich vollständig oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit findet und das Trägerelement in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, b) zum Abheben der Substrate vom eingetauchten Trägerelement mittels einer ersten Hubeinrichtung, so dass die Substrate im Träger in einer am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von einer ersten Position in eine zweite Position verschoben werden, c) zur Erzeugung einer weiteren Relativbewegung zwischen dem Träger und der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit, bis das Trägerelement sich vollständig oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindet, und d) zum Abstützen der Substrate auf das oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindliche Trägerelement, wobei die Substrate in der am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von der zweiten Position wieder in die erste Position verschoben werden.After a further - independent - device-side solution, a device for drying substrates is provided, wherein the substrates are accommodated in a at least one carrier element and at least one carrier counter element having carrier, which is immersed in a speed keits keit, wherein a control is provided a) Producing a relative movement between the carrier and a surface of the treatment liquid until the carrier counter element is completely above the surface of the treatment liquid and the carrier element is immersed in the treatment liquid, b) for lifting the substrates from the immersed carrier element by means of a first lifting device, so that the substrates in Carrier are moved in a holding device provided on the support member from a first position to a second position, c) for generating a further relative movement between the carrier and the surface e of the treatment liquid until the support member is completely above the surface of the treatment liquid, and d) for supporting the substrates on the above the surface of the Be holding liquid located carrier element, wherein the substrates are moved in the provided on the support member holding device from the second position back to the first position.

Bei der vorgenannten Vorrichtung kann die Steuereinrichtung sowohl die erste Hubeinrichtung als auch ein am Boden des Behandlungsbeckens vorgesehenes steuerbares Ventil steuern. Die Steuerung erfolgt derart, dass damit die vorgenannten Verfahrensschritte zum Trocknen der Substrate durchgeführt werden. Bei der Steuereinrichtung handelt es sich zweckmäßigerweise um eine programmierbare oder auch fest programmierte Steuerung, welche einen Mikroprozessor aufweist.at the aforementioned device, the control device both the first lifting device as well as provided at the bottom of the treatment tank control controllable valve. The control is done in such a way that it the aforementioned process steps are carried out for drying the substrates. The control device is expediently a programmable or also hard-coded control, which has a microprocessor.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:following Be exemplary embodiments of Invention explained in more detail with reference to the drawings. Show it:

1 eine Ansicht auf die Längsseite einer Vorrichtung, 1 a view on the longitudinal side of a device,

2 die Ansicht A gemäß 1, 2 the view A according to 1 .

3 die Ansicht B gemäß 1, 3 the view B according to 1 .

4 eine schematische Querschnittsansicht eines Trägerelements bzw. eines Trägergegenelements, 4 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a carrier element or a counter carrier element, FIG.

5 eine Seitenansicht auf die Längsseite einer Vorrichtung mit darauf aufgenommenem Träger, 5 a side view of the longitudinal side of a device with recorded on support,

6 eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß 5 ohne Träger, 6 a plan view of the device according to 5 without carrier,

7 eine Querschnittsansicht gemäß der Schnittlinie A–A' in 5 und 7 a cross-sectional view along the section line A-A 'in 5 and

8a–d den Verfahrensablauf beim Herausheben der Substrate. 8a -D the procedure for lifting the substrates.

In den 1–4 ist ein Träger zur Aufnahme von Substraten und dgl. in verschiedenen Ansichten gezeigt. Zwei Wände 1 sind unlösbar verbunden mit zwei unteren Trägerelementen 2, zwei oberen Trägerelementen 3 sowie einem Trägergegenelement 4. Die unteren 2 und oberen Trägerelemente 3 sind bezüglich einer Symmetrieebene E symmetrisch angeordnet. Das Trägergegenelement 4 ist bezüglich der Symmetrieebene E versetzt angeordnet. Es ist ebenfalls unlösbar mit den Wänden 1 verbunden.In the 1 - 4 is a support for receiving substrates and the like. Shown in different views. Two walls 1 are permanently connected to two lower support elements 2 , two upper support elements 3 and a counter carrier element 4 , The lower 2 and upper support members 3 are arranged symmetrically with respect to a plane of symmetry E. The carrier counter element 4 is offset with respect to the plane of symmetry E. It is also insoluble with the walls 1 connected.

Wie insbesondere aus den 2 und 3 ersichtlich ist, sind die Wände 1 spiegelbildlich ausgebildet. Ein in der Vorrichtung aufgenommenes Substrat ist mit S bezeichnet. Das Sub strat S ist abgestützt auf den unteren 2 und den oberen Trägerelementen 3. Eine Bewegung des Substrats S in eine mit V bezeichnete Vertikalrichtung wird durch das Trägergegenelement 4 begrenzt. Dagegen ist ein Be- bzw. Entladen der Vorrichtung in einer mit SR bezeichneten Schrägrichtung möglich.As in particular from the 2 and 3 it can be seen, are the walls 1 formed mirror image. A substrate received in the device is designated S. The sub strate S is supported on the lower 2 and the upper support members 3 , A movement of the substrate S in a vertical direction denoted by V by the carrier counter-element 4 limited. In contrast, loading or unloading of the device in a direction designated by SR oblique direction is possible.

Auf den Trägerelementen 2, 3 sind als Haltemittel Zähne 5 vorgesehen. Die Zähne 5 sind hier vertikal nach oben angeordnet. Es ist aber auch möglich, dass die Zähne 5 in Richtung in einer mit ZA bezeichneten Zentralachse weisen. Die an den Trägergegenelementen 4 vorgesehenen Zähne 5 weisen vertikal nach unten. Auch hier ist es möglich, dass die Zähne 5 in Richtung der Zentralachse ZA weisen. Ein durch zwei nebeneinanderliegende Zähne 5 gebildeter Schlitz verjüngt sich in Richtung des Trägerelements 2, 3 bzw. des Trägerelements 4.On the carrier elements 2 . 3 are as holding means teeth 5 intended. The teeth 5 are arranged vertically up here. It is also possible that the teeth 5 pointing in the direction of a central axis designated ZA. The on the counter-elements 4 provided teeth 5 point vertically downwards. Again, it is possible that the teeth 5 pointing in the direction of the central axis ZA. One by two adjacent teeth 5 formed slot tapers in the direction of the support element 2 . 3 or of the carrier element 4 ,

Die an den Wänden 1 befindlichen umlaufenden Kanten sind mit Abschrägungen 6 versehen.The on the walls 1 located circumferential edges are with bevels 6 Mistake.

Die Trägerelemente 2, 3 weisen jeweils vertikal nach unten sich erstreckende Ablaufstege 7a, das Trägergegenelement 4 einen sich vertikal nach oben erstreckenden weiteren Ablaufsteg 7b auf. Eine Breite der Ablaufstege 7a, 7b nimmt zur Mitte der Trägerelemente 2, 3 bzw. des Trägergegenelements 4 zu.The carrier elements 2 . 3 each have vertically downwardly extending gutters 7a , the carrier counter element 4 a vertically upwardly extending further gutter 7b on. A width of the gutters 7a . 7b takes to the middle of the support elements 2 . 3 or the counter carrier element 4 to.

Unterkanten 8 der Wände 1 weisen mittig eine U-förmige erste Ausnehmung 9 auf. Die Unterkanten 8 fallen beidseits der U-förmigen ersten Ausnehmung 9 nach außen hin ab.lower edges 8th the walls 1 have centrally a U-shaped first recess 9 on. The lower edges 8th fall on both sides of the U-shaped first recess 9 towards the outside.

Seitenkanten 10 verlaufen im Wesentlichen vertikal, d. h. parallel zur Vertikalrichtung V. Sie weisen in einem oberen Abschnitt zweite Ausnehmungen 11 zum Eingriff einer (hier nicht gezeigten) Greifeinrichtung zum Greifen der Vorrichtung auf.side edges 10 are substantially vertical, ie parallel to the vertical direction V. They have in an upper portion second recesses 11 for engagement of a gripping device (not shown here) for gripping the device.

An einer Oberkante 12 der Wände 1 ist außerdem eine dritte Ausnehmung 13. Die dritte Ausnehmung 13 ermöglicht das Eingreifen eines Greifarms zum Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S. Mindestens zwei der die dritte Ausnehmung begrenzenden Ausnehmungskanten 14a, 14b verlaufen schräg zu den Seitenkanten 10. Die so gebildete schräge dritte Ausnehmung 13 ermöglicht ein Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S in der Schrägrichtung SR.At a top edge 12 the walls 1 is also a third recess 13 , The third recess 13 allows the engagement of a gripping arm for loading and unloading the device with substrates S. At least two of the recesses limiting the third recess 14a . 14b run obliquely to the side edges 10 , The oblique third recess thus formed 13 allows loading and unloading of the device with substrates S in the oblique direction SR.

In 4 ist ein Querschnitt durch ein unteres Trägerelement 2 gezeigt. Das untere Trägerelement 2 ist gebildet aus einer zentralen Versteifungsstruktur 15, die zweckmäßigerweise aus einem mit Kohlefaser verstärkten zweiten Kunststoff hergestellt ist. Selbstverständlich kann die Versteifungsstruktur auch aus anderen Materialien hergestellt sein, wobei nichtmetallische Materialien bevorzugt sind. Die Versteifungsstruktur 15 weist eine aus einem ersten Kunststoff hergestellte Ummantelung 16 auf. Der erste Kunststoff ist zweckmäßigerweise resistent gegen Säuren und Basen. Es kann sich dabei beispielsweise handeln um PFA (Perfluoralkoxi-Copolymer), PTFE (Polytetrafluorethylen), PVDF (Polyvinylidenfluorid).In 4 is a cross section through a lower support element 2 shown. The lower support element 2 is formed of a central stiffening structure 15 , which is conveniently made of a carbon fiber reinforced second plastic. Of course, the stiffening structure can also be made of other materials, non-metallic materials are preferred. The stiffening structure 15 has one of a first Plastic-made sheath 16 on. The first plastic is suitably resistant to acids and bases. These may be, for example, PFA (perfluoroalkoxy copolymer), PTFE (polytetrafluoroethylene), PVDF (polyvinylidene fluoride).

Die Zähne 5 und die Ablaufstege 7a, 7b sind zweckmäßigerweise in einstückiger Ausbildung mit der Ummantelung 16 hergestellt. Mit 17 ist ein oberer Scheitelpunkt des hier zylindrisch ausgebildeten unteren Trägerelements 2 bezeichnet. Ein Zahngrund 18 ist im Querschnitt die hier kreissegmentförmig ausgebildete Kontaktlinie zwischen dem Zahn 5 und dem unteren Trägerelement 2. Damit stets ein vollständiger Ablauf von Reinigungsflüssigkeit gewährleistet ist, sind die Zähne 5 so anzuordnen, dass der obere Scheitelpunkt 17 Bestandteil des Zahngrunds 18 ist.The teeth 5 and the gutters 7a . 7b are expediently in one-piece training with the sheath 16 produced. With 17 is an upper vertex of the here cylindrically shaped lower support member 2 designated. A tooth base 18 is in cross-section here circular segment-shaped contact line between the tooth 5 and the lower support member 2 , So that a complete flow of cleaning fluid is guaranteed, the teeth are 5 arrange so that the upper vertex 17 Part of the tooth base 18 is.

Die gezeigte Anordnung der Zähne 5 gilt in gleicher Weise für die oberen Trägerelemente 3. Sie gilt in analoger Weise für das Trägergegenelement 4, wobei hier bezüglich der Anordnung der Zähne 5 auf einen unteren Scheitelpunkt abzustellen ist, der in 4 mit dem Bezugszeichen 19 angedeutet ist.The arrangement of teeth shown 5 applies in the same way for the upper support elements 3 , It applies analogously to the carrier counter-element 4 Here, with respect to the arrangement of the teeth 5 is to be placed on a lower vertex that is in 4 with the reference number 19 is indicated.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist es selbstverständlich möglich, die Anzahl und Ausbildung der Trägerelemente 2, 3 sowie des Trägergegenelements 4 zu ändern, insbesondere an die Geometrie des jeweils zu transportierenden Substrats S anzupassen. So ist es beispielsweise auch möglich, statt der im vorliegenden Ausführungsbeispiel beschriebenen vier Trägerelemente nur zwei oder ein Trägerelement/e zu verwenden.In the context of the present invention, it is of course possible, the number and design of the support elements 2 . 3 and the counter carrier element 4 to change, in particular to adapt to the geometry of the respective substrate S to be transported. For example, it is also possible to use only two or one carrier element / s instead of the four carrier elements described in the present exemplary embodiment.

Mit dem im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorgeschlagenen Träger wird auf einfache Weise eine unerwünschte Vertikalbewegung von Substraten S in einem Behandlungsbad unterbunden. Gleichzeitig ist ein einfaches Be- und Entladen der Vorrichtung möglich, ohne dass dazu ein Niederhalteelement, wie das Trägergegenelement 4, von der Vorrichtung entfernt werden muss.With the support proposed in the context of the present invention, undesired vertical movement of substrates S in a treatment bath is prevented in a simple manner. At the same time a simple loading and unloading of the device is possible without the need for a hold-down element, such as the counter carrier element 4 , must be removed from the device.

5 bis 7 zeigen eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten S. Eine zweite Hubeinrichtung weist einen im Wesentlichen horizontal verlaufenden Hubarm 20, der mittels einer vertikalen Hubstange 21 mit einem (hier nicht gezeigten) Hubantrieb verbunden ist. Bei dem Hubantrieb kann es sich um einen herkömmlichen elektrisch, hydraulisch oder pneumatisch betreibbaren Hubantrieb handeln. Auf dem Hubarm 20 ist eine zweite Hubeinrichtung aufgenommen. Dazu sind Lagerhalter 22 vorgesehen, welche fest mit dem Hubarm verbunden sind. In den Lagerhaltern 22 sind beidseits des Hubarms 20 drehbar Wellen 23 gehalten. Wie insbesondere aus 6 gut ersichtlich ist, erstrecken sich von den Lagerhaltern 22 vertikal nach oben Führungsnasen 24, in denen die Träger T mit ihrer ersten U-förmigen Ausnehmung 9 gleitend geführt sind. 5 to 7 show a device for drying substrates S. A second lifting device has a substantially horizontally extending lifting arm 20 by means of a vertical lifting rod 21 with a (not shown here) lifting drive is connected. The lifting drive can be a conventional electrically, hydraulically or pneumatically operated lifting drive. On the lift arm 20 a second lifting device is received. These are storekeepers 22 provided, which are fixedly connected to the lift arm. In the storehouses 22 are on both sides of the lift arm 20 rotatable waves 23 held. As in particular from 6 It can be clearly seen, extending from the storekeepers 22 vertically upwards guide lugs 24 in which the carrier T with its first U-shaped recess 9 are guided in a smooth manner.

An den einen Enden sind die Wellen 23 fest mit Hebeln 25 verbunden, die mit daran vorgesehenen Zapfen 26 in eine Kulissenführung 27 eingreifen. Die Kulissenführung 27 ist hier als Schlitz in einer Kulissenführungsplatte 28 ausgebildet. Die Kulissenführungsplatte 28 ist fest an einer Wand eines Behandlungsbeckens angebracht (hier nicht gezeigt). Fest mit den Wellen 23 verbunden sind Aufnahmehebel 29, die zur Aufnahme des Trägers T dienen. Die Aufnahmehebel 29 können mit Führungsrollen 30 versehen sein.At one end are the waves 23 firmly with levers 25 connected with the pins provided thereon 26 in a slide tour 27 intervention. The scenery tour 27 is here as a slot in a slotted guide plate 28 educated. The slotted guide plate 28 is firmly attached to a wall of a treatment tank (not shown here). Hard with the waves 23 connected recording lever 29 , which serve to receive the carrier T. The recording lever 29 can with guide rollers 30 be provided.

Auf den Lagerhaltern 22 sind ferner Substratstützleisten 31 montiert, die im Querschnitt U-förmig ausgebildet sind. Von einem Boden 31a erstrecken sich zwei parallel zueinander angeordnete Stützschenkel 31b. Der Boden 31a weist eine Vielzahl von Durchbrüchen auf.On the storehouses 22 are also substrate support strips 31 mounted, which are formed in cross-section U-shaped. From a floor 31a extend two mutually parallel support legs 31b , The floor 31a has a variety of breakthroughs.

Ein Behandlungsbecken ist in 7 mit B angedeutet. Es ist erkennbar, dass der Träger T so nahe an den Wänden des Behandlungsbeckens B vorbeigeführt wird, dass die Substrate S bei einer schräg aufwärts gerichteten Bewegung an der Wand des Behandlungsbeckens B anstoßen würden. Sie können während des Heraushebens aus dem Behandlungsbad nicht aus dem Träger T entweichen.A treatment basin is in 7 indicated by B. It can be seen that the carrier T is passed so close to the walls of the processing tank B that the substrates S would abut against the wall of the processing tank B in an obliquely upward movement. They can not escape from the carrier T during lifting out of the treatment bath.

Die Funktion der Vorrichtung wird nun in Zusammensicht mit den 8a–d näher erläutert. In 8a–d sind der Übersichtlichkeit halber lediglich die unteren Trägerelemente 2 und das Trägergegenelement 4 des Trägers T dargestellt. Ebenfalls der Übersichtlichkeit halber sind in 8b–c die Wand 1 des Trägers weggelassen worden.The function of the device will now be considered in conjunction with the 8a -D explained in more detail. In 8a For the sake of clarity, only the lower carrier elements are shown 2 and the carrier counter element 4 of the carrier T shown. Also for the sake of clarity are in 8b -C the wall 1 the carrier has been omitted.

In einer ersten Phase des Trocknungsverfahrens sind die Substrate S vollständig unterhalb der Flüssigkeitsoberfläche FO untergetaucht. Die Stützschenkel 31a der Substratstützleiste 31 sind nicht im Kontakt mit den Substraten S. Die Substrate S sind abgestützt auf den Trägerelementen 2, 3. Der Träger T wiederum ist abgestützt auf den Aufnahmehebeln 29.In a first phase of the drying process, the substrates S are completely submerged below the liquid surface FO. The support legs 31a the substrate support bar 31 are not in contact with the substrates S. The substrates S are supported on the support elements 2 . 3 , The carrier T in turn is supported on the receiving levers 29 ,

In einer zweiten Phase des Trocknungsverfahrens wird der Hubarm 20 angehoben. Der Träger T mit den darin aufgenommenen Substraten S wird über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben (8a).In a second phase of the drying process, the lift arm 20 raised. The carrier T with the substrates S received therein is lifted out above the liquid surface FO (FIG. 8a ).

Sobald das Trägergegenelement 4 vollständig über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden ist, beginnen die Aufnahmehebel 29 entgegen der Hubrichtung nach unten zu rotieren. Die Rotationsbewegung der Aufnahmehebel 29 wird gesteuert über die an den Wellen 23 angebrachten Hebel 25, deren Stellung durch die Kulissenführung 27 in Abhängigkeit des jeweiligen Hubs bestimmt wird. Wie aus 8b ersichtlich ist, wird der Träger T mit den Trägerelementen 2, 3 gegenüber dem Hubarm bzw. der fest damit verbundenen Substratstützleiste 31 so weit abgesenkt, dass die Substrate S auf den Stützschenkeln 31a der Substratstützleiste 31 abgestützt werden. Die Substrate S werden somit von den Trägerelementen 2, 3 abgehoben. Sie werden jedoch nur um etwa 3 bis 5 mm von den Trägerelementen 2, 3 abgehoben, so dass die Substrate S auch im abgehobenen Zustand noch in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen geführt sind. Die Substrate S werden also von einer ersten auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützten Position in eine zweite Position verschoben, in der sie nicht mehr auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützt sind. Die Verschiebung der Substrate S erfolgt in analoger Weise entsprechend in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen am Trägergegenelement 4.Once the carrier counter element 4 has been lifted completely over the liquid surface FO, start the recording lever 29 to rotate downwards against the stroke direction. The rotational movement of the recording lever 29 is ge controls over the on the waves 23 attached lever 25 whose position through the slotted guide 27 is determined depending on the respective stroke. How out 8b can be seen, the carrier T with the support elements 2 . 3 relative to the lifting arm or the firmly associated substrate support bar 31 lowered so far that the substrates S on the support legs 31a the substrate support bar 31 be supported. The substrates S are thus of the support elements 2 . 3 lifted. However, they are only about 3 to 5 mm from the support elements 2 . 3 lifted, so that the substrates S even in the lifted state still in through the teeth 5 formed slots are guided. The substrates S are thus from a first to the support elements 2 . 3 supported position shifted to a second position in which they are no longer on the support elements 2 . 3 are supported. The displacement of the substrates S takes place analogously in the through the teeth 5 formed slots on the counter carrier element 4 ,

Während des Durchtritts der Trägerelemente 2, 3 durch die Flüssigkeitsoberfläche FO sind die Substrate S nicht auf die Trägerelemente 2, 3 abgestützt. Das ermöglicht ein vollständiges Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit von den Trägerelementen 2, 3. Sobald die Trägerelemente zu einem wesentlichen Teil über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden sind, wird der Träger T mittels der Aufnahmehebel 29 gegenüber der Substratstützleiste 31 wieder angehoben. Die Substrate S werden wieder auf die Trägerelemente 2, 3 abgestützt, d. h. sie werden in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen wieder von der zweiten in die erste Position verschoben. Dieser Verfahrensschritt ist in 8c gezeigt.During the passage of the carrier elements 2 . 3 through the liquid surface FO, the substrates S are not on the support elements 2 . 3 supported. This allows complete drainage of treatment liquid from the support members 2 . 3 , Once the support members have been lifted to a substantial extent on the liquid surface FO, the carrier T by means of the recording lever 29 opposite the substrate support bar 31 raised again. The substrates S are returned to the carrier elements 2 . 3 supported, ie they are in the teeth 5 formed slots again moved from the second to the first position. This process step is in 8c shown.

Anschließend wird der noch in die Behandlungsflüssigkeit eintauchende restliche Abschnitt des Substrats S mittels der Trägerelemente 2, 3 aus dem Behandlungsbad herausgehoben. Zweckmäßigerweise werden die Substrate S erst dann wieder auf die Trägerelemente 2, 3 aufgesetzt, wenn sie vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben worden sind.Subsequently, the remaining portion of the substrate S immersed in the treatment liquid is conveyed by the support members 2 . 3 lifted out of the treatment bath. Expediently, the substrates S are only then returned to the carrier elements 2 . 3 put on when they have been completely lifted out of the treatment liquid.

Mit dem vorgeschlagenen Verfahren wird beim Durchtritt des Trägergegenelements 4 sowie der Trägerelemente 2, 3 durch die Flüssigkeitsoberfläche FO stets vermieden, dass zu diesem Zeitpunkt die Substrate S am Trägergegenelement 4 oder den Trägerelementen 2, 3 anliegen. Beim Durchtritt durch die Flüssigkeitsoberfläche ist stets die Kante des Substrats be abstandet vom Trägergegenelement 4 bzw. den Trägerelementen 2, 3. Diese Maßnahme gewährleistet ein vollständiges Abfließen von Behandlungsflüssigkeit, welche sich beim Herausheben in dem zwischen zwei benachbarten Zähnen 5 gebildeten Schlitz befindet.The proposed method is the passage of the counter carrier element 4 as well as the carrier elements 2 . 3 through the liquid surface FO always avoided that at this time the substrates S on the counter carrier element 4 or the carrier elements 2 . 3 issue. When passing through the liquid surface is always the edge of the substrate be spaced from the carrier counter-element 4 or the carrier elements 2 . 3 , This measure ensures a complete drainage of treatment liquid, which is when lifting out in the between two adjacent teeth 5 formed slot is located.

Mit dem vorgeschlagenen Verfahren wird auch ein unerwünschtes Aufschwimmen der Substrate S im Behandlungsbad vermieden. Im Falle eines Auftriebs von Substraten S durch anhaftende Wasserstoffbläschen wird das Substrat S in seiner Aufwärtsbewegung bzw. Vertikalbewegung durch das Trägergegenelement 4 gehemmt.The proposed method also avoids unwanted floating of the substrates S in the treatment bath. In the case of buoyancy of substrates S by adhering hydrogen bubbles, the substrate S is in its upward movement or vertical movement through the carrier counter-element 4 inhibited.

Das vorbeschriebene Verfahren kann selbstverständlich auch nur unter Verwendung der ersten Hubeinrichtung durchgeführt werden. Diese kann in diesem Fall z. B. am Boden des Behandlungsbeckens angeordnet sein. Die Relativbewegung zwischen dem Träger T und der Oberfläche FO der Behandlungsflüssigkeit kann auch durch Ablassen der Behandlungsflüssigkeit aus dem Behandlungsbecken durch ein (hier nicht gezeigtes) steuerbares Ventil erreicht werden, mit dem ein im Boden des Behandlungsbeckens vorgesehener Abfluss verschliessbar ist. Sowohl das Ventil als auch die erste Hubeinrichtung können in diesem Fall durch eine geeignete Steuereinrichtung entsprechend den vorgenannten Verfahrensschritten gesteuert werden.The Of course, the above-described method can also be used only the first lifting device are performed. This can be in this Case z. B. be arranged at the bottom of the treatment tank. The Relative movement between the carrier T and the surface FO of the treatment liquid may also be by draining the treatment liquid from the treatment tank be achieved by a (not shown here) controllable valve, with the drain provided in the bottom of the treatment tank is lockable. Both the valve and the first lifting device can in this case by a suitable control device accordingly be controlled the aforementioned method steps.

11: Wandwall
22: unteres Trägerelementlower support element
33: oberes Trägerelementupper support element
44: TrägergegenelementCounter carrier element
55: Zahntooth
66: Abschrägungbevel
7a, b7a, b: Ablaufstegdrain away
88th: Unterkantelower edge
99: erste Ausnehmungfirst recess
1010: Seitenkanteside edge
1111: zweite Ausnehmungsecond recess
1212: Oberkantethe top edge
1313: dritte Ausnehmungthird recess
14a, b14a, b: AusnehmungskantenAusnehmungskanten
1515: Versteifungsstrukturstiffening structure
1616: Ummantelungjacket
1717: oberer Scheitelpunktupper vertex
1818: Zahngrundtooth root
1919: unterer Scheitelpunktlower vertex
2020: Hubarmlifting arm
2121: Hubstangelifting rod
2222: Lagerhalterstorekeeper
2323: Wellewave
2424: Führungsnaseguide nose
2525: Hebellever
2626: Zapfenspigot
2727: Kulissenführunglink guide
2828: KulissenführungsplatteLink guide plate
2929: Aufnahmehebelup lever
3030: Führungsrolleleadership
3131: SubstratstützleisteSubstrate supporting strip
31a31a: Bodenground
31b31b: Stützschenkelsupport legs
VV: Vertikalrichtungvertical direction
SRSR: Schrägrichtungoblique direction
SS: Substratsubstratum
Ee: Symmetrieebeneplane of symmetry
ZAZA: Zentralachsecentral axis
TT: Trägercarrier
FOFO: Flüssigkeitsoberflächeliquid surface

Claims

Method for drying substrates (S), wherein the substrates (S) in a at least one carrier element ( 2 . 3 ) as well as at least one counter carrier element ( 4 ) which is immersed in a treatment liquid, comprising the following steps: a) generating a relative movement between the support (T) and a surface (FO) of the treatment liquid until the support counter element (FIG. 4 ) is completely above the surface (FO) of the treatment liquid and the carrier element ( 2 . 3 ) is immersed in the treatment liquid, b) lifting the substrates (S) from the immersed support element ( 2 . 3 ) by means of a first lifting device, so that the substrates (S) in the carrier (T) in a on the support element ( 2 . 3 ) holding device ( 5 ) are moved from a first position to a second position, c) further relative movement between the carrier (T) and the surface (FO) of the treatment liquid to the carrier element ( 2 . 3 ) is located completely above the surface (FO) of the treatment liquid and d) supporting the substrates (S) on the above the surface (FO) of the treatment liquid carrier element ( 2 . 3 ), wherein the substrates (S) in the on the support element ( 2 . 3 ) holding device ( 5 ) are moved from the second position back to the first position.

Method according to claim 1, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) and the holding device ( 5 ) are dry when moving the substrates (S) from the second position to the first position.

Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates (S) by means of the first lifting device between the first and second positions are shifted by a maximum of 10 mm.

Process according to claim 3, wherein the substrates (S) by means of the first lifting device between the first and the second Position at 3-5 mm are shifted.

Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates (S) are raised continuously.

Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates (S) are raised so slowly that an adhering to them Treatment liquid film until the substrate (S) is lifted off the surface (FO) of the treatment liquid (B) always in connection with the one taken in the treatment tank treatment liquid remains.

Method according to one of the preceding claims, wherein the speed when lifting out between 0.1 and 20 mm / sec is.

The method of claim 7, wherein the speed when lifting out between 0.5 mm / sec and 3.0 mm / sec.

Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates (S) in step lit. b in a on the counter-carrier element ( 4 ) provided further holding device ( 5 ) from a first to a second position and at step lit. d be moved from the second to the first position.

Method according to one of the preceding claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) at step lit. b is dry.

The method of claim 10, wherein the at the counter-carrier element ( 4 ) provided further holding device ( 5 ) at step lit. b is dry.

Method according to one of the preceding claims, wherein at a lower edge of the substrates (S) possibly hanging drops by means of a from the substrate support strip ( 31 ) extending droplets.

Method according to one of the preceding claims, wherein to generate the relative movement, a second immersed in the treatment liquid carrier (T) supporting lifting device is provided, by means of which the carrier (T) is raised.

Method according to one of the preceding claims, wherein the movement of the first lifting device is controlled relative to the second lifting device by means of a control device which has a fixedly attached to the treatment basin (B) slide guide ( 27 ) having.

Method according to one of the preceding claims, wherein for generating the relative movement treatment liquid from the treatment tank (B) is removed.

Device for drying substrates (S), wherein the substrates (S) are accommodated in a carrier (T) immersed in a treatment liquid, comprising: a first lifting device for lifting the substrates (S) from at least one carrier element (T) provided on the support ( 2 . 3 ), a second lifting device for lifting the carrier (T) from the treatment liquid, wherein the first lifting device comprises a lifting arm carrying the carrier (T) ( 20 ), characterized in that the first lifting device on the lifting arm ( 20 ) and a firmly attached to the treatment tank (B) slide guide ( 27 . 28 ) having control means for controlling the movement of the first lifting device is provided relative to the second lifting device.

Apparatus according to claim 16, wherein by means of the control device, the movement of the first lifting device relative to the second lifting device is controllable such that the substrates (S) in the carrier (T) of the carrier element ( 2 . 3 ) and in a on the support element ( 2 . 3 ) are slidable from a first position to a second position when a counter carrier element ( 4 ) is completely above a surface (FO) of the treatment liquid and the carrier element ( 2 . 3 ) is submerged in the treatment liquid, and the substrates (S) are displaceable in the holding device from the second position back to the first position and on the carrier element ( 2 . 3 ) are supportable when the support member is above the liquid surface (FO).

Device according to one of claims 16 or 17, wherein the first lifting device two parallel to a provided on the first lifting device lifting arm ( 20 ) running waves ( 23 ), at each of which a lever ( 29 ) provided for rotating the shafts ( 23 ) by a predetermined angle with it provided pin ( 26 ) in the slotted guide ( 27 ) intervenes.

Device according to one of claims 16 to 18, wherein the first Lifting device a receptacle for the carrier (T).

Device according to one of claims 16 to 19, wherein the receptacle on the shafts ( 23 ) attached recording levers ( 29 ) having.

Device according to one of claims 16 to 20, wherein the first lifting device fixed to the lifting arm ( 20 ) attached substrate support bar ( 31 ) having.

Device according to one of claims 16 to 21, wherein the carrier (T) by means of the receiving lever ( 29 ) relative to the substrate support bar ( 31 ) is movable in height by at most 10 mm.

Apparatus according to claim 22, wherein the support (T) by means of the receiving lever ( 29 ) relative to the substrate support bar ( 31 ) is movable in height by 3-5 mm.

Device according to one of claims 16 to 23, wherein on the substrate support strip ( 31 ) is provided extending therefrom Tropfenableitelement.

Device according to one of claims 16 to 24, wherein the substrate support strip ( 31 ) in the manner of a U-profile with two mutually parallel support legs ( 31a ) is trained.

Device according to one of claims 16 to 25, wherein one of the support legs ( 31a ) connecting ground ( 31b ) of the U-profile has a plurality of openings.

Device according to one of claims 16 to 26, wherein the substrate support strip ( 31 ) is made of Ultem.

Device according to one of claims 16 to 27, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) and the counter carrier element ( 4 ) at least two opposing walls ( 1 ) of the carrier (T).

Device according to one of claims 16 to 28, wherein the carrier counter element ( 4 ) with respect to the carrier element ( 2 . 3 ) is arranged or formed so that a movement of the substrates (S) in the vertical direction (VK) can be limited, and the substrates (S) only obliquely with respect to the vertical direction (VK) can be loaded or unloaded.

Device according to one of claims 16 to 29, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) as holding means slit-like recesses or teeth ( 5 ) having.

Device according to one of claims 16 to 30, wherein the teeth ( 5 } so on the carrier element ( 2 . 3 ), that a tooth base ( 18 ) the teeth ( 5 ) on the top crest line ( 17 ) of the carrier element ( 2 . 3 ) lies.

Device according to one of claims 16 to 31, wherein the carrier counter element ( 4 ) in the direction of the carrier element ( 2 . 3 ) pointing as slot-like recesses or teeth ( 5 ) has formed further holding means.

Device according to one of claims 16 to 32, wherein the teeth ( 5 ) are mounted on the counter carrier element such that a tooth base ( 18 ) the teeth ( 5 ) on a lower crest line ( 19 ) of the counter carrier element ( 4 ) lies.

Device according to one of claims 16 to 33, wherein the carrier counter element ( 4 ) with respect to the carrier element ( 2 . 3 ) is arranged or formed so that the substrates (S) are always held in the holding means and / or the further holding means.

Device according to one of claims 16 to 34, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) a substantially vertically downwardly extending gutter ( 7a ) having.

Device according to one of claims 16 to 35, wherein the carrier counter element ( 4 ) a substantially vertically upwardly extending further gutter ( 7b ) having.

Device according to one of claims 16 to 36, wherein a width of the gutter ( 7a ) and / or the further runway ( 7b ) to the center of the carrier element ( 2 . 3 ) or of the counter carrier element ( 4 ) increases.

Device according to one of claims 16 to 37, wherein the edges of the walls ( 1 ) are bevelled.

Device according to one of claims 16 to 38, wherein the lower edges ( 8th ) of the walls ( 1 ) on both sides of a centrally arranged U-shaped first recess ( 9 ) sloping down.

Device according to one of claims 16 to 39, wherein a substantial portion of the side edges ( 10 ) of the walls ( 1 ) is vertical.

Device according to one of claims 16 to 40, wherein the side edges ( 10 ) in an upper portion in opposing arrangement second recesses ( 11 ) for engaging a gripping device.

Device according to one of claims 16 to 41, wherein an upper edge ( 12 ) of the walls ( 1 ) a third recess ( 13 ) for engaging a loading and unloading device for substrates (S).

Device according to one of claims 16 to 42, wherein the third recess ( 13 ) by at least two obliquely to the side edges ( 10 ) extending recess edges ( 14a . 14b ) is limited.

Device according to one of claims 16 to 43, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) and / or the counter carrier element ( 4 ) made of a stiffening structure encased in a first plastic material ( 15 ) are formed.

Device according to one of claims 16 to 44, wherein the stiffening structure ( 15 ) is made of a carbon fiber reinforced second plastic.

Device according to one of claims 16 to 45, wherein the walls ( 1 ) are made of the first plastic.

Apparatus according to any one of claims 16 to 46, wherein the first Plastic against acids and bases is resistant plastic.

The device of claim 47, wherein the plastic selected from the following group is: PFA, PTFE, PVDF.

Device according to one of claims 16 to 48, wherein four carrier elements ( 2 . 3 ) the walls ( 1 ) connect.

Device according to one of claims 16 to 49, wherein two lower support elements ( 2 ) near a lower edge of the walls ( 1 ) and two upper support elements ( 3 ) near a lower portion of the side edges ( 10 ) of the walls ( 1 ) are mounted.

Device according to one of claims 16 to 50, wherein the counter-carrier element ( 4 ) near an upper edge of the side walls ( 10 ) is attached.

Device according to one of claims 16 to 51, wherein the counter-carrier element ( 4 ) with respect to an arrangement or design of the carrier element / carrier elements ( 2 . 3 ) and offset parallel to this / these extending symmetry plane (E) is arranged offset.