DE102013212367A1 - Optical module i.e. facet mirror, for optical imaging device for microlithography, has damping device attenuating second relative movement between damping elements of damping device with respect to attenuation of first movement - Google Patents

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Abstract

The module (106.1) has an optic element (109) i.e. facet element, and a supporting structure (108) supporting the optic element. The supporting structure is provided with a mechanical damping device, which attenuates first relative movement between the optic element and the supporting element of the supporting structure. The mechanical damping device attenuates friction-affected second relative movement between a first damping element and a second damping element of the damping device with respect to the attenuation of the first relative movement. Independent claims are also included for the following: (1) an optical imaging device (2) a method for supporting an optic element (3) an optical imaging method.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Modul sowie ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen. The present invention relates to an optical module and a method for supporting an optical element. The invention can be used in conjunction with any optical devices or optical imaging methods. In particular, it can be used in conjunction with the microlithography used in the manufacture of microelectronic circuits.

Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die Position und Geometrie optischer Module der Abbildungseinrichtung, also beispielsweise der Module mit optischen Elementen wie Linsen, Spiegeln oder Gittern aber auch der verwendeten Masken und Substrate, im Betrieb möglichst präzise gemäß vorgegebenen Sollwerten einzustellen bzw. solche Komponenten in einer vorgegebenen Position bzw. Geometrie zu stabilisieren, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen. In particular in the field of microlithography, in addition to the use of components with the highest possible precision, the position and geometry of optical modules of the imaging device, for example the modules with optical elements such as lenses, mirrors or gratings but also the masks and substrates used, to be set as precisely as possible in accordance with predetermined setpoint values during operation or to stabilize such components in a predetermined position or geometry in order to achieve a correspondingly high imaging quality.

Im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. Sie sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben. In the field of microlithography, the accuracy requirements in the microscopic range are on the order of a few nanometers or less. Not least of all, they are a consequence of the constant need to increase the resolution of the optical systems used in the manufacture of microelectronic circuits, in order to advance the miniaturization of the microelectronic circuits to be produced.

Mit der erhöhten Auflösung und der damit in der Regel einhergehenden Verringerung der Wellenlänge des verwendeten Lichts steigen naturgemäß die Anforderungen an die Genauigkeit der Positionierung und Orientierung der verwendeten Komponenten. Dies wirkt sich insbesondere für die in der Mikrolithographie verwendeten geringen Arbeitswellenlängen im UV-Bereich (beispielsweise im Bereich von 193 nm), insbesondere aber im so genannten extremen UV-Bereich (EUV) mit Arbeitswellenlängen zwischen 5 nm und 20 nm (typischerweise im Bereich von 13 nm), natürlich auf den Aufwand aus, der für die Einhaltung der hohen Anforderungen an die Genauigkeit der Positionierung und/oder Orientierung der beteiligten Komponenten zu betreiben ist.With the increased resolution and thus usually associated reduction in the wavelength of the light used naturally increase the requirements for the accuracy of the positioning and orientation of the components used. This has an effect in particular on the low operating wavelengths used in microlithography in the UV range (for example in the range of 193 nm), but especially in the so-called extreme UV range (EUV) with operating wavelengths between 5 nm and 20 nm (typically in the range of 13 nm), of course, on the effort to operate to meet the high demands on the accuracy of the positioning and / or orientation of the components involved.

Im Zusammenhang mit der vorstehend erwähnten Stabilisierung des optischen Systems erweist sich der Umgang mit im System entstehender oder von außen in das System eingetragener Schwingungsenergie jedoch als besonders problematisch. Ein häufig verwendeter Ansatz, dieses Problem zu lösen, besteht darin, Position und/oder Orientierung einzelner oder mehrerer der verwendeten Systemkomponenten, insbesondere verwendete optische Elemente, aktiv zu beeinflussen, um die betreffende Komponente an einer vorgegebenen Position und/oder in einer vorgegebenen zu halten. In connection with the above-mentioned stabilization of the optical system, however, the handling of vibration energy generated in the system or introduced from outside into the system proves to be particularly problematic. A frequently used approach to solving this problem is to actively influence the position and / or orientation of individual or several of the system components used, in particular optical elements used, in order to keep the relevant component at a predetermined position and / or in a predetermined position ,

Aus der DE 102 05 425 A1 (Holderer et al.), deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird, ist es im Zusammenhang mit der definierten Positionierung und Orientierung der Facettenelemente eines Facettenspiegels eines EUV-Systems bekannt, diese Facettenelemente einzeln zu justieren und danach durch entsprechende Fixierkräfte im justierten Zustand zu halten.From the DE 102 05 425 A1 (Holderer et al.), The disclosure of which is incorporated herein by reference, in connection with the defined positioning and orientation of the facet elements of a facet mirror of an EUV system, it is known to individually adjust these facet elements and then maintain them in the adjusted state by appropriate fixing forces ,

Zwar kann hierbei durch entsprechend bemessene Fixierkräfte eine Dejustage der Facettenelemente durch eingeleitete Schwingungsenergie relativ zu deren Träger verhindert werden. Problematisch ist jedoch, dass der Träger selbst durch eingeleitete Schwingungsenergie verformt werden kann, sodass die Facettenelemente aus ihrer gewünschten Position bzw. Orientierung im Strahlengang ausgelenkt werden können. Although it can be prevented by appropriately introduced fixing forces a misalignment of the facet elements by introduced vibration energy relative to the carrier. The problem, however, is that the carrier itself can be deformed by the introduced vibration energy, so that the facet elements can be deflected from their desired position or orientation in the beam path.

Zudem ist häufig zur Erhöhung der Flexibilität des optischen Systems eine aktive Beeinflussung der Position und/oder Orientierung einzelner oder mehrerer optischer Elemente des Abbildungssystems erwünscht. So ist es wiederum bei EUV-Systemen insbesondere in der Beleuchtungseinrichtung für eine flexible Pupillenbildung erwünscht, Facettenspiegel mit einer großen Anzahl beweglicher (in der Regel kippbarer) Mikrospiegel bzw. Facettenelemente zu verwenden, deren Position und/oder Orientierung dann natürlich hoch präzise eingestellt werden muss.In addition, in order to increase the flexibility of the optical system, an active influencing of the position and / or orientation of individual or several optical elements of the imaging system is often desired. Thus, it is again desirable in EUV systems, especially in the illumination device for a flexible pupil formation, to use faceted mirrors with a large number of movable (usually tiltable) micromirrors or facet elements whose position and / or orientation must of course then be set with high precision ,

Gerade bei solchen EUV-Systemen besteht eine besondere Herausforderung darin, die präzise Einstellung der Position und/oder Orientierung einer großen Anzahl von Facettenelementen bei sehr geringen Abmessungen dieser Facettenelemente zu realisieren. So liegt bei einem Facettenspiegel für ein solches EUV-Systemen die Anzahl der Facettenelemente typischerweise in der Größenordnung von mehreren Hunderttausend Facettenelementen, während der Durchmesser der optisch wirksamen Fläche des einzelnen Facettenelements typischerweise in der Größenordnung von einigen Hundert Mikrometern liegt.Especially with such EUV systems, a particular challenge is to realize the precise adjustment of the position and / or orientation of a large number of facet elements with very small dimensions of these facet elements. For example, with a facet mirror for such an EUV system, the number of facet elements is typically on the order of several hundred thousand facet elements, while the diameter of the optically effective surface of the single facet element is typically on the order of a few hundred microns.

Ähnliche Mikrospiegelanordnungen mit mehreren Hunderttausend Mikrospiegeln sind beispielsweise auch aus der US 6,906,845 B2 (Cho et al.) bekannt, deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird.Similar micromirror arrangements with several hundred thousand micromirrors are also known, for example US 6,906,845 B2 (Cho et al.), The disclosure of which is incorporated herein by reference.

KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, ein optisches Modul mit einem optischen Element sowie ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise eine zuverlässige Positionierung bzw. Orientierung eines optischen Elements gewährleisten.The present invention is therefore based on the object to provide an optical module with an optical element and a method for supporting an optical element are available, which do not have the disadvantages mentioned above, or at least to a lesser extent and in particular easily a reliable positioning or to ensure orientation of an optical element.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass man auf einfache Weise auf kleinstem Raum eine verbesserte Abstützung eines optischen Elements, insbesondere auch kleinster Facettenelemente, und damit eine verbesserte Positionierung bzw. Orientierung des optischen Elements erzielt, wenn eine Dämpfung in das optische Element eingeleiteter Schwingungen mittels einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen zwei Dämpfungselementen einer Dämpfungseinrichtung erfolgt, welche mit dem optischen Element in Wirkverbindung stehen. The present invention is based on the finding that improved support of an optical element, in particular even the smallest facet elements, and thus improved positioning or orientation of the optical element are achieved in a simple manner in a very small space, when attenuation is introduced into the optical element Vibrations by means of a frictional relative movement between two damping elements of a damping device takes place, which are in operative connection with the optical element.

Die durch die Reibung zwischen den beiden Dämpfungselementen erzielte Dissipation eines Teils der in das optische Element eingeleiteten Schwingungsenergie hat dabei den Vorteil, dass sie sich auf besonders einfache Weise realisieren lässt. So müssen lediglich zwei Reibpartner zur Verfügung gestellt werden, welche so angeordnet und ausgebildet sind, dass zumindest einer der beiden Reibpartner bei einer Auslenkung des optischen Elements aus einer vorgegebenen Position und/oder Orientierung eine Auslenkung relativ zum anderen Reibpartner erfährt, die zur reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den Reibkontaktflächen der beiden Reibpartner führt. Hierzu sind lediglich zwei einander an einer oder mehreren Stellen kontaktierende Festkörper erforderlich, von denen wenigstens einer bedingt durch die Auslenkung des optischen Elements ebenfalls eine entsprechende Auslenkung erfährt. Derartige Konstellationen lassen sich auch auf kleinstem Raum realisieren, indem beispielsweise aneinander anliegende Blattfedern und/oder Membranelemente als Dämpfungselemente verwendet werden.The achieved by the friction between the two damping elements dissipation of a portion of the introduced into the optical element vibration energy has the advantage that it can be implemented in a particularly simple manner. Thus, only two friction partners must be made available, which are arranged and designed so that at least one of the two friction partners undergoes a deflection relative to the other friction partner in a deflection of the optical element from a predetermined position and / or orientation relative to the frictional relative movement between the friction contact surfaces of the two friction partners leads. For this purpose, only two solid bodies contacting each other at one or more locations are required, of which at least one also experiences a corresponding deflection due to the deflection of the optical element. Such constellations can be realized even in the smallest space, for example, by using adjacent leaf springs and / or membrane elements are used as damping elements.

Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel, mit einem optischen Element und einer Stützstruktur zur Abstützung des optischen Elements. Die Stützstruktur weist eine mechanische Dämpfungseinrichtung zur Dämpfung einer ersten Relativbewegung zwischen dem optischen Element und einem Basiselement der Stützstruktur auf, wobei die Dämpfungseinrichtung zur Dämpfung der ersten Relativbewegung durch eine reibungsbehaftete zweite Relativbewegung zwischen einem ersten Dämpfungselement und einem zweiten Dämpfungselement der Dämpfungseinrichtung ausgebildet ist.According to a first aspect, the present invention therefore relates to an optical module, in particular a facet mirror, with an optical element and a support structure for supporting the optical element. The support structure has a mechanical damping device for damping a first relative movement between the optical element and a base element of the support structure, wherein the damping device is designed to damp the first relative movement by a frictional second relative movement between a first damping element and a second damping element of the damping device.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer Maske mit einem Projektionsmuster, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei die Beleuchtungseinrichtung zur Beleuchtung des Projektionsmusters ausgebildet ist und die Projektionseinrichtung zur Projektion des Projektionsmusters auf das Substrat ausgebildet ist. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst ein erfindungsgemäßes optisches Modul.According to a further aspect, the present invention relates to an optical imaging device, in particular for microlithography, with a lighting device having a first optical element group, a mask device for receiving a mask with a projection pattern, a projection device with a second optical element group and a substrate device for receiving a substrate wherein the illumination device is designed to illuminate the projection pattern and the projection device is designed to project the projection pattern onto the substrate. The illumination device and / or the projection device comprises an optical module according to the invention.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere eines Facettenelements eines Facettenspiegels, bei dem das optische Element durch eine Stützstruktur abgestützt wird. Eine erste Relativbewegung zwischen dem optischen Element und einem Basiselement der Stützstruktur wird durch eine reibungsbehaftete zweite Relativbewegung zwischen einem ersten Dämpfungselement und einem zweiten Dämpfungselement einer mechanischen Dämpfungseinrichtung der Stützstruktur gedämpft.According to a further aspect, the present invention relates to a method for supporting an optical element, in particular a facet element of a facet mirror, in which the optical element is supported by a support structure. A first relative movement between the optical element and a base element of the support structure is damped by a frictional second relative movement between a first damping element and a second damping element of a mechanical damping device of the support structure.

Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt. Hierbei gehören jegliche Kombinationen der offenbarten Merkmale ungeachtet ihrer Erwähnung in den Ansprüchen zum Gegenstand der Erfindung.Further preferred embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims and the following description of preferred embodiments, which refers to the accompanying drawings. In this regard, any combination of the disclosed features, notwithstanding their mention in the claims, forms the subject of the invention.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, welche eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen optischen Moduls umfasst, bei dem eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements zur Anwendung kommt. 1 is a schematic representation of a preferred embodiment of an optical imaging device according to the invention, which comprises a preferred embodiment of an optical module according to the invention, in which a preferred embodiment of a method according to the invention for supporting an optical element is used.

2 ist eine schematische Draufsicht auf das erfindungsgemäße optische Modul aus 1. 2 is a schematic plan view of the optical module of the invention 1 ,

3 ist eine schematische Schnittansicht durch einen Teil einer bevorzugten Variante des optischen Moduls aus 2 (entlang Linie III-III aus 2) in einem ersten Betriebszustand. 3 is a schematic sectional view through part of a preferred variant of the optical module 2 (along line III-III off 2 ) in a first operating state.

4 ist eine schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 3 (entlang Linie III-III aus 2) in einem zweiten Betriebszustand. 4 is a schematic sectional view through the part of the optical module 3 (along line III-III off 2 ) in a second operating state.

5 ist eine schematische Schnittansicht durch einen Teil einer weiteren bevorzugten Variante des optischen Moduls aus 2 (entlang Linie III-III aus 2). 5 is a schematic sectional view through part of a further preferred variant of the optical module 2 (along line III-III off 2 ).

6 ist eine (leicht vergrößerte) schematische Schnittansicht durch den Teil des optischen Moduls aus 5 (entlang Linie VI-VI aus 5). 6 is a (slightly enlarged) schematic sectional view through the part of the optical module 5 (along line VI-VI off 5 ).

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGDETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

Erstes AusführungsbeispielFirst embodiment

Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 4 eine erste Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung 101 beschrieben. Zur Vereinfachung des Verständnisses der nachfolgenden Erläuterungen wurde in die beigefügten Zeichnungen ein orthogonales xyz-Koordinatensystem eingeführt, in welchem die z-Richtung mit der Richtung der Gravitationskraft zusammenfällt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Ausrichtung dieses xyz-Koordinatensystems bzw. der Komponenten der optischen Abbildungseinrichtung im Raum gewählt sein kann.The following is with reference to the 1 to 4 a first embodiment of an optical imaging device according to the invention 101 described. In order to facilitate the understanding of the following explanations, an orthogonal xyz coordinate system in which the z-direction coincides with the direction of the gravitational force has been introduced in the accompanying drawings. However, it is understood that in other variants of the invention, any other orientation of this xyz coordinate system or the components of the optical imaging device may be selected in space.

Die 1 ist eine schematische, nicht maßstäbliche Darstellung der optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, welche zur Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendet wird. Die Abbildungseinrichtung 101 umfasst eine Beleuchtungseinrichtung 102 und eine optische Projektionseinrichtung 103, die dazu ausgebildet ist, in einem Abbildungsprozess eine Abbildung eines auf einer Maske 104.1 einer Maskeneinrichtung 104 gebildeten Projektionsmusters auf ein Substrat 105.1 einer Substrateinrichtung 105 zu projizieren. Hierzu beleuchtet die Beleuchtungseinrichtung 102 die Maske 104.1 mit einem (nicht näher dargestellten) Beleuchtungslichtbündel. Die Projektionseinrichtung 103 erhält dann das von der Maske 104.1 kommende Projektionslichtbündel (welches in 1 durch die Linie 101.1 angedeutet ist) und projiziert das Abbild des Projektionsmusters der Maske 104.1 auf des Substrat 105.1, beispielsweise einen so genannten Wafer oder dergleichen.The 1 is a schematic, not to scale representation of the optical imaging device in the form of a microlithography device 101 , which is used for the production of microelectronic circuits. The imaging device 101 includes a lighting device 102 and an optical projection device 103 , which is adapted, in an imaging process, an image of one on a mask 104.1 a mask device 104 formed projection pattern on a substrate 105.1 a substrate device 105 to project. For this illuminates the lighting device 102 the mask 104.1 with a (not shown) illuminating light beam. The projection device 103 then get that from the mask 104.1 upcoming projection light bundles (which in 1 through the line 101.1 is indicated) and projects the image of the projection pattern of the mask 104.1 on the substrate 105.1 , For example, a so-called wafer or the like.

Die Beleuchtungseinrichtung 102 umfasst ein (in 1 nur stark schematisiert dargestelltes) System optischer Elemente 106, welches unter anderem ein erfindungsgemäßes optisches Modul 106.1 umfasst. Wie nachfolgend noch näher erläutert werden wird, ist das optische Modul 106.1 als Facettenspiegel ausgebildet. Die optische Projektionseinrichtung 103 umfasst ein weiteres System optischer Elemente 107, welches eine Mehrzahl optischer Module 107.1 umfasst. Die optischen Module der optischen Systeme 106 und 107 sind dabei entlang einer gefalteten optischen Achse 101.1 der Abbildungseinrichtung 101 angeordnet.The lighting device 102 includes a (in 1 only highly schematically represented) system of optical elements 106 , which inter alia an optical module according to the invention 106.1 includes. As will be explained in more detail below, the optical module 106.1 designed as a facet mirror. The optical projection device 103 includes another system of optical elements 107 which is a plurality of optical modules 107.1 includes. The optical modules of optical systems 106 and 107 are along a folded optical axis 101.1 the imaging device 101 arranged.

Im gezeigten Beispiel arbeitet die Abbildungseinrichtung 101 mit Licht im EUV-Bereich bei einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 20 nm, genauer gesagt bei einer Wellenlänge von etwa 13 nm. Folglich sind die optischen Elemente in der Beleuchtungseinrichtung 102 und der Projektionseinrichtung 103 ausschließlich als reflektive optische Elemente ausgebildet. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung, welche mit anderen Wellenlängen arbeiten, auch einzeln oder in beliebiger Kombination beliebige Arten von optischen Elementen (z. B. refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente) zum Einsatz kommen können. Weiterhin kann auch die Projektionseinrichtung 103 ein weiteres erfindungsgemäßes optisches Modul, beispielsweise in Form eines weiteren Facettenspiegels, umfassen. In the example shown, the imaging device works 101 with light in the EUV range at a wavelength between 5 nm and 20 nm, more specifically at a wavelength of about 13 nm. Consequently, the optical elements are in the illumination device 102 and the projection device 103 designed exclusively as reflective optical elements. It is understood, however, that in other variants of the invention, which work with other wavelengths, also individually or in any combination of any kind of optical elements (eg refractive, reflective or diffractive optical elements) can be used. Furthermore, the projection device can also 103 another optical module according to the invention, for example in the form of another facet mirror.

Wie den 2 bis 4 zu entnehmen ist, umfasst der Facettenspiegel 106.1 eine Stützstruktur 108, welche eine Vielzahl von optischen Elementen in Form von Facettenelementen 109 abstützt (von denen in 3 nur ein einziges dargestellt ist). In 2 sind aus Gründen der Übersichtlichkeit nur 900 Facettenelemente 109 dargestellt. In der Realität umfasst der Facettenspiegel 106.1 jedoch etwa 400.000 Facettenelemente 109, wobei es sich versteht, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine abweichende Anzahl von (beliebigen) optischen Elementen auf einer entsprechenden Stützstruktur abgestützt sein kann. Like that 2 to 4 can be seen, includes the facet mirror 106.1 a support structure 108 comprising a plurality of optical elements in the form of facet elements 109 is supported (of which in 3 only one is shown). In 2 are for clarity only 900 facet elements 109 shown. In reality, the facet mirror covers 106.1 however, about 400,000 facet elements 109 , wherein it is understood that in other variants of the invention, a different number of (optional) optical elements may be supported on a corresponding support structure.

Es sei angemerkt, dass bei Facetteneinrichtungen bevorzugt so viele Facettenelemente wie möglich vorgesehen sind, um eine möglichst weit gehende Homogenisierung des Lichts zu erzielen. Insbesondere bei Facetteneinrichtungen sind daher bevorzugt 100.000 bis 700.000, vorzugsweise 200.000 bis 600.000, weiter vorzugsweise 300.000 bis 500.000, Facettenelemente vorgesehen.It should be noted that as many facet elements as possible are preferably provided in the case of facet devices in order to achieve the greatest possible homogenization of the light. In the case of facet devices, therefore, preferably 100,000 to 700,000, preferably 200,000 to 600,000, more preferably 300,000 to 500,000, facet elements are provided.

Im gezeigten Beispiel sind die Facettenelemente 109 in einer regelmäßigen rechtwinkligen Matrix so angeordnet, dass zwischen ihnen ein schmaler Spalt von vorzugsweise weniger als 0,1 mm, vorzugsweise weniger als 0.05 mm bis 0,02 mm verbleibt, um einen möglichst geringen Verlust an Strahlungsleitung zu erzielen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Anordnung der durch die Stützstruktur abgestützten optischen Elemente in Abhängigkeit von den optischen Anforderungen der Abbildungseinrichtung realisiert sein kann. In the example shown, the facet elements are 109 arranged in a regular rectangular matrix so that between them a narrow gap of preferably less than 0.1 mm, preferably less than 0.05 mm to 0.02 mm remains in order to achieve the lowest possible loss of radiation line. It is understood, however, that in other variants of the invention, any other arrangement of supported by the support structure optical elements in dependence on the optical requirements of the imaging device can be realized.

Wie den 2, 3 und 4 zu entnehmen ist, weist das Facettenelement 109 eine reflektierende und damit optisch wirksame Oberfläche 109.1 auf. Die reflektierende Oberfläche 109.1 ist auf einer der Stützstruktur 108 abgewandten bzw. dem Beleuchtungslichtbündel zugewandten Vorderseite eines Facettenkörpers 109.2 des Facettenelements 109 ausgebildet. Like that 2 . 3 and 4 can be seen, the facet element has 109 a reflective and thus optically effective surface 109.1 on. The reflective surface 109.1 is on one of the support structure 108 facing away from the illumination light beam or front of a facet body 109.2 of the facet element 109 educated.

Der Flächeninhalt der optisch wirksamen Oberfläche 109.1 des Facettenelements 109 beträgt vorzugsweise 0,1 mm2 bis 1,0 mm2, weiter vorzugsweise 0,15 mm2 bis 0,8 mm2. Im vorliegenden Beispiel liegt der Flächeninhalt der optisch wirksamen Oberfläche 109.1 zwischen 0,2 mm2 und 0,3 mm2, nämlich bei 0,25 mm2.The surface area of the optically effective surface 109.1 of the facet element 109 is preferably 0.1 mm 2 to 1.0 mm 2 , more preferably 0.15 mm 2 to 0.8 mm 2 . In the present example, the surface area of the optically active surface is 109.1 between 0.2 mm 2 and 0.3 mm 2 , namely at 0.25 mm 2 .

An der (der reflektierenden Oberfläche 109.1 abgewandten) Rückseite des Facettenkörpers 109.2 ist ein säulenartiges Kopplungselement 109.3 vorgesehen, mittels dessen das Facettenelement 109 über eine mechanische Dämpfungseinrichtung 110 mit der Stützstruktur 108 verbunden ist. Hierzu sitzt das dem Facettenkörper 109.2 abgewandte Ende des Kopplungselements 109.3 auf einem ersten Ende der Dämpfungseinrichtung 110, während das andere, zweite Ende der Dämpfungseinrichtung 110 mit der Stützstruktur 108 verbunden ist.At the (the reflecting surface 109.1 opposite) back of the facet body 109.2 is a columnar coupling element 109.3 provided by means of which the facet element 109 via a mechanical damping device 110 with the support structure 108 connected is. For this sits the facet body 109.2 opposite end of the coupling element 109.3 on a first end of the damping device 110 while the other, second end of the damping device 110 with the support structure 108 connected is.

Wie nachfolgend noch näher dargelegt wird, ist die mechanische Dämpfungseinrichtung 110 dazu ausgebildet, eine erste Relativbewegung zwischen dem Facettenelement 109 und einem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 zu bedämpfen. Hierdurch kann eine Auslenkung des Facettenelements 109 aus seinem (in 3 bzw. in 4 durch die gestrichelte Kontur 109.4 dargestellten) Sollzustand möglichst gering gehalten werden, welche das Facettenelement 109 in der Regel durch in die Abbildungseinrichtung 101 eingeleitete und/oder in der Abbildungseinrichtung 101 generierte störende bzw. unerwünschte Schwingungsenergie erfährt, welche in 4 durch eine auf das Facettenelement 109 wirkende resultierende Kraft Fz repräsentiert ist. As will be explained in more detail below, the mechanical damping device 110 adapted to a first relative movement between the facet element 109 and a base element 108.1 the support structure 108 to dampen. This can cause a deflection of the facet element 109 from his (in 3 or in 4 through the dashed outline 109.4 shown) target state are kept as low as possible, which the facet element 109 usually through in the imaging device 101 initiated and / or in the imaging device 101 generated disturbing or unwanted vibrational energy experiences, which in 4 through one on the facet element 109 acting resultant force F z is represented.

Wie den 2 und 3 zu entnehmen ist, umfasst die Dämpfungseinrichtung 110 hierzu ein erstes Dämpfungselement in Form einer ersten Blattfeder 110.1 und ein zweites Dämpfungselement in Form einer zweiten Blattfeder 110.2. Die beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 weisen jeweils einen dem Facettenelement 109 zugeordneten Elementanschlussabschnitt, einen dem Basiselement 108.1 zugeordneten Basisanschlussabschnitt, und einen zwischen dem Elementanschlussabschnitt und dem Basisanschlussabschnitt angeordneten elastischen Zwischenabschnitt auf.Like that 2 and 3 can be seen, includes the damping device 110 For this purpose, a first damping element in the form of a first leaf spring 110.1 and a second damping element in the form of a second leaf spring 110.2 , The two damping elements 110.1 and 110.2 each have a facet element 109 associated element connection portion, a the base element 108.1 associated base terminal portion, and a disposed between the element connection portion and the base terminal portion elastic intermediate portion.

Das erste Dämpfungselement 110.1 und das zweite Dämpfungselement 110.2 liegen aneinander an, wobei sie sich flächig im Bereich einer ersten Reibkontaktfläche 110.3 des ersten Dämpfungselements 110.1 und einer zweiten Reibkontaktfläche 110.4 des zweiten Dämpfungselements berühren. Hierbei sind die beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 im vorliegenden Beispiel lediglich im Bereich ihres Anschlusses an die Stützstruktur 108 relativ zueinander fixiert, während sie in einem Reibkontaktbereich, der sich vorzugsweise über ihre gesamte restliche Länge (hier: Abmessung in der y-Richtung) erstreckt, nur lose aneinander anliegen.The first damping element 110.1 and the second damping element 110.2 lie against one another, wherein they are flat in the region of a first Reibkontaktfläche 110.3 of the first damping element 110.1 and a second friction contact surface 110.4 touch the second damping element. Here are the two damping elements 110.1 and 110.2 in the present example only in the area of their connection to the support structure 108 fixed relative to each other, while in a frictional contact region, which preferably extends over its entire remaining length (here: dimension in the y-direction), only loosely abut each other.

Im vorliegenden Beispiel ist das Facettenelement 109 ausschließlich über die Dämpfungseinrichtung 110 fest mit der Stützstruktur 108 verbunden. Hierzu ist das erste Dämpfungselement 110.1 zum einen in seinem Elementanschlussabschnitt fest mit dem Kopplungselement 109.3 des Facettenelements 109 und andererseits in seinem Basisanschlussabschnitt fest mit dem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 verbunden. Das zweite Dämpfungselement 110.2 ist lediglich in seinem Basisanschlussabschnitt fest mit dem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 verbunden, während sein Elementanschlussabschnitt lediglich lose an dem Elementanschlussabschnitt des ersten Dämpfungselements 110.1 anliegt. In this example, the facet element is 109 exclusively via the damping device 110 firmly with the support structure 108 connected. For this purpose, the first damping element 110.1 on the one hand in its element connecting portion fixed to the coupling element 109.3 of the facet element 109 and on the other hand in its base terminal portion fixed to the base member 108.1 the support structure 108 connected. The second damping element 110.2 is only in its base connection portion fixed to the base member 108.1 the support structure 108 while its element connecting portion only loosely on the element connecting portion of the first damping element 110.1 is applied.

Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sei kann, dass das zweite Dämpfungselement 110.2 zum einen fest mit dem Kopplungselement 109.3 des Facettenelements 109 und andererseits fest mit der Stützstruktur 108 verbunden ist, während das erste Dämpfungselement 110.1 lediglich mit dem Kopplungselement 109.3 fest verbunden ist. Hierbei sind die beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 dann lediglich im Bereich ihres Anschlusses an das Kopplungselement 109.3 relativ zueinander fixiert, während sie in ihrem Reibkontaktbereich, der sich vorzugsweise über ihre restliche Länge (hier: Abmessung in der y-Richtung) erstreckt, wiederum nur lose aneinander anliegen.It is understood, however, that in other variants of the invention can also be provided that the second damping element 110.2 on the one hand with the coupling element 109.3 of the facet element 109 and on the other hand firmly with the support structure 108 is connected while the first damping element 110.1 only with the coupling element 109.3 is firmly connected. Here are the two damping elements 110.1 and 110.2 then only in the area of their connection to the coupling element 109.3 fixed relative to each other while in their Reibkontaktbereich, which preferably extends over its remaining length (here: dimension in the y-direction), in turn, only loosely abut each other.

Es versteht sich weiterhin, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine weitere Abstützung des Facettenelements 109 an der Stützstruktur 108 vorgesehen sei kann. Insbesondere kann eine separate Führungseinrichtung oder dergleichen vorgesehen sein, welche die erste Relativbewegung zwischen dem Facettenelement 109 und dem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 definiert, wie dies in 3 durch die gestrichelte Kontur 111 angedeutet ist.It is further understood that in other variants of the invention, a further support of the facet element 109 on the support structure 108 can be provided. In particular, a separate guide device or the like may be provided which controls the first relative movement between the facet element 109 and the base element 108 .1 of the support structure 108 defines how this is done in 3 through the dashed outline 111 is indicated.

Wie in den 3 und 4 durch die gestrichelte Kontur 112 (stark schematisiert) angedeutet ist, kann weiterhin eine aktive Verstellung des Facettenelements 109 durch eine Aktuatoreinrichtung vorgesehen sein. Die Aktuatoreinrichtung 112 kann (wie in 3 und 4 dargestellt) über die Dämpfungseinrichtung 110 oder unmittelbar auf das Facettenelement 109 einwirken, um dieses in wenigstens einem Freiheitsgrad, vorzugsweise mehreren (bis hin zu allen sechs) Freiheitsgraden verstellen zu können. Eine solche aktive Einstellung der Facettenelemente 109 kann beispielsweise für einen Settingwechsel bzw. eine flexible Pupillenbildung genutzt werden.As in the 3 and 4 through the dashed outline 112 (strongly schematized) is indicated, can continue an active adjustment of the facets element 109 be provided by an actuator. The actuator device 112 can (as in 3 and 4 represented) via the damping device 110 or directly on the facet element 109 act in order to adjust this in at least one degree of freedom, preferably several (up to all six) degrees of freedom. Such an active setting of the facet elements 109 can be used for example for a setting change or a flexible pupil formation.

Während in 3 ein Ruhezustand bzw. ein Sollzustand des Facettenelements 109 dargestellt ist, in welcher das Facettenelement 109 eine Sollposition und eine Sollorientierung bezüglich einer (beliebig vorgebbaren) Referenz aufweist, zeigt 4 einen ausgelenkten Zustand, in dem das Facettenelement 109 durch (von außen eingetragene) Schwingungsenergie im Zuge einer ersten Relativbewegung (entlang der resultierenden Kraft Fz) aus seinem Sollzustand relativ zum Basiselement 108.1 ausgelenkt ist. While in 3 a sleep state or a desired state of the facet element 109 is shown, in which the facet element 109 a setpoint position and a target orientation with respect to a (arbitrarily specifiable) reference, shows 4 a deflected state in which the facet element 109 by (input from outside) vibration energy in the course of a first relative movement (along the resulting force F z ) from its desired state relative to the base element 108.1 is distracted.

Wie den 3 und 4 zu entnehmen ist, werden die beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 bei der Auslenkung des Facettenelements 109 aus seiner Sollposition durch die resultierende Kraft Fz einer Deformation, genauer gesagt einer Biegedeformation, unterworfen, welche zu einer ersten Auslenkung des ersten Dämpfungselements 110.1 aus seiner ersten Ruheposition (siehe 3) und einer zweiten Auslenkung des zweiten Dämpfungselements 110.2 aus seiner zweiten Ruheposition (siehe 3) führt. Die elastische Deformation der beiden Dämpfungselemente 110.1, 110.2 führt zum einen zu einer elastischen Rückstellkraft, welche der Auslenkung durch die resultierende Kraft Fz entgegenwirkt.Like that 3 and 4 it can be seen, the two damping elements 110.1 and 110.2 at the deflection of the facet element 109 from its nominal position by the resulting force F z of a deformation, more precisely a bending deformation, subjected, resulting in a first deflection of the first damping element 110.1 from its first resting position (see 3 ) and a second deflection of the second damping element 110.2 from its second resting position (see 3 ) leads. The elastic deformation of the two damping elements 110.1 . 110.2 On the one hand leads to an elastic restoring force, which counteracts the deflection by the resultant force F z .

Da die beiden Dämpfungselemente 110.1, 110.2 lediglich im Bereich ihres Anschlusses an die Stützstruktur 108 relativ zueinander fixiert sind und über ihre restliche Länge (in der y-Richtung), das heißt den Reibkontaktbereich, nur lose aneinander anliegen, wirkt hierbei auf beide jeweils im Wesentlichen das gleiche aus der Kraft Fz resultierende Biegemoment My (um die y-Achse).Because the two damping elements 110.1 . 110.2 only in the area of their connection to the support structure 108 are fixed relative to each other and over their remaining length (in the y-direction), that is the friction contact area, only loosely abut each other acts on both in each case substantially the same from the force F z resulting bending moment M y (to the y Axis).

Dieses Biegemoment bewirkt in beiden Dämpfungselementen 110.1 und 110.2 eine Normalspannungsverteilung, bei welcher ein dem Facettenelement 109 zugewandter Teil des jeweiligen Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 unter Zugspannung steht, während ein dem Facettenelement 109 abgewandter Teil des jeweiligen Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 unter Druckspannung steht. Während sich also der dem Facettenelement 109 zugewandte, unter Zugspannung stehende Teil des jeweiligen Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 elastisch verlängert, verkürzt sich der dem Facettenelement 109 abgewandte, unter Druckspannung stehende Teil des jeweiligen Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2. This bending moment causes in both damping elements 110.1 and 110.2 a normal stress distribution, in which a the facet element 109 facing part of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 under tension, while a the facet element 109 remote part of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 under compressive stress. So while the the facet element 109 facing, under tension standing part of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 lengthened elastically, shortens the facet element 109 remote, under compressive stress part of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 ,

Im Kontaktbereich zwischen den beiden Dämpfungselementen 110.1 und 110.2 führt dieser Umstand zu einer Verkürzung des ersten Dämpfungselements 110.1 im Bereich der ersten Reibkontaktfläche 110.3 und einer Verlängerung des zweiten Dämpfungselements 110.2 im Bereich der zweiten Reibkontaktfläche 110.4. Hierdurch kommt es im Zuge der ersten Relativbewegung (entlang der resultierenden Kraft Fz, die im Wesentlichen senkrecht zu der jeweiligen Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 verläuft) zwischen dem Facettenelement 109 und dem Basiselement 108.1 zu einer zweiten Relativbewegung, bei welcher die erste Reibkontaktfläche 110.3 und die zweite Reibkontaktfläche 110.4 unter gegenseitiger Reibung (im Wesentlichen parallel zu der jeweiligen Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2) aneinander abgleiten. In the contact area between the two damping elements 110.1 and 110.2 this circumstance leads to a shortening of the first damping element 110.1 in the area of the first friction contact surface 110.3 and an extension of the second damping element 110.2 in the region of the second friction contact surface 110.4 , This results in the course of the first relative movement (along the resulting force F z , which is substantially perpendicular to the respective main extension plane of the two damping elements 110.1 and 110.2 runs) between the facet element 109 and the base element 108.1 to a second relative movement, wherein the first friction contact surface 110.3 and the second friction contact surface 110.4 under mutual friction (substantially parallel to the respective main extension plane of the two damping elements 110.1 and 110.2 ) slide off each other.

Im vorliegenden Beispiel führt also die erste Relativbewegung in Richtung der resultierenden Kraft Fz, zu einer zweiten Relativbewegung zwischen den beiden Dämpfungselementen 110.1 und 110.2 in einer zweiten Richtung, die quer, genauer gesagt im Wesentlichen senkrecht, zu der ersten Richtung verläuft. In the present example, therefore, the first relative movement leads in the direction of the resultant force F z , to a second relative movement between the two damping elements 110.1 and 110.2 in a second direction that is transverse, more specifically substantially perpendicular, to the first direction.

Da die resultierenden Kraft Fz aufgrund dieser Anordnung zwischen der ersten Reibkontaktfläche 110.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 110.4 auch eine entsprechende Flächenpressung bewirkt, ergibt sich zwischen der ersten Reibkontaktfläche 110.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 110.4 ein Reibungswiderstand, welcher der zweiten Relativbewegung und damit auch der ersten Relativbewegung entgegenwirkt und diese somit dämpft. Because the resulting force F z due to this arrangement between the first Reibkontaktfläche 110.3 and the second friction contact surface 110.4 also causes a corresponding surface pressure results between the first Reibkontaktfläche 110.3 and the second friction contact surface 110.4 a frictional resistance, which counteracts the second relative movement and thus also the first relative movement and thus damps them.

Die beschriebene Ausrichtung der ersten und zweiten Relativbewegung ist hierbei insofern von Vorteil, als die die Auslenkung der beteiligten Komponenten bewirkenden Kraft Fz selbst für die zur Dämpfung erforderliche Flächenpressung zwischen den beiden Dämpfungselementen 110.1, 110.2 sorgt, sodass hierfür keine zusätzlichen Einrichtungen erforderlich sind.The described alignment of the first and second relative movement is advantageous insofar as the force F z effecting the deflection of the components involved itself, even for the surface pressure required for damping between the two damping elements 110.1 . 110.2 ensures that no additional facilities are required.

Der Reibungswiderstand gegen die zweite Relativbewegung hängt somit unter anderem wesentlich von dem Reibungskoeffizienten µh bzw. µr der Reibpaarung zwischen der ersten Reibkontaktfläche 110.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 110.4 sowie der (die Auslenkung bewirkenden) Kraft Fz ab.The frictional resistance to the second relative movement thus depends inter alia substantially on the friction coefficient μ h or μ r of the friction pairing between the first frictional contact surface 110.3 and the second friction contact surface 110.4 and the force F z causing the deflection.

Hierbei ist es unter Dynamikgesichtpunkten von Vorteil, wenn eine möglichst geringe Abweichung zwischen dem Haftreibungskoeffizienten µh und dem Gleitreibungskoeffizienten µr der der Reibpaarung besteht, um ruckartiges Einsetzen der zweiten Relativbewegung (den so genannten Stick-Slip-Effekt, der zu weiterer Schwingungsanregung und dynamischer Instabilität des Systems führen könnte) zu vermeiden und eine möglichst genau definierte Dämpfung innerhalb vergleichsweise enger Toleranzen zu realisieren.Here it is advantageous under dynamic aspects, if the smallest possible deviation between the static friction coefficient μ h and the sliding friction coefficient μ r of the friction pairing exists to avoid jerky onset of the second relative movement (the so-called stick-slip effect, which could lead to further vibration excitation and dynamic instability of the system) and to realize the most accurate attenuation defined within relatively narrow tolerances.

Bevorzugt entspricht der Haftreibungskoeffizient µh der Reibpaarung 100% bis 120%, vorzugsweise 100% bis 110%, weiter vorzugsweise 100% bis 105%, des Gleitreibungskoeffizienten µr der Reibpaarung Im gezeigten Beispiel sind die erste Reibkontaktfläche 110.3 und die zweite Reibkontaktfläche 110.4 derart ausgebildet, dass der Haftreibungskoeffizient µh der Reibpaarung im Wesentlichen dem Gleitreibungskoeffizienten µr der Reibpaarung entspricht.Preferably, the coefficient of static friction μ h of the friction pairing corresponds to 100% to 120%, preferably 100% to 110%, more preferably 100% to 105%, of the sliding friction coefficient μ r of the friction pairing In the example shown, the first friction contact surface 110.3 and the second friction contact surface 110.4 formed such that the static friction coefficient μ h of the friction pair substantially corresponds to the sliding friction coefficient μ r of the friction pair.

Bei der Auswahl bzw. Einstellung der Reibungskoeffizienten bzw. von deren Verhältnis finden bei der vorliegenden Erfindung im Übrigen bevorzugt die atmosphärischen Bedingungen Berücksichtigung, welche im Betrieb im Bereich der Reibkontaktflächen 110.3 und 110.4 vorherrschen. So herrscht insbesondere im vorliegenden Beispiel eines EUV-Systems im Bereich der Reibkontaktflächen 110.3 und 110.4 typischerweise ein so genanntes Ultrahochvakuum (UHV) vor, bei welchem der Umgebungsdruck im Bereich von 10–7 bis 10–12 mbar liegt. In the selection or adjustment of the coefficients of friction or of their ratio, in the present invention, by the way, the atmospheric conditions, which during operation in the area of the friction contact surfaces, are preferably taken into consideration 110.3 and 110.4 prevalence. Thus, especially in the present example of an EUV system in the area of friction contact surfaces prevails 110.3 and 110.4 typically a so-called ultra-high vacuum (UHV), in which the ambient pressure is in the range of 10 -7 to 10 -12 mbar.

Bei solchen stark von der Normalatmosphäre (beispielsweise in Reinräumen häufig Umgebungsluft bei etwa 22°C, etwa 1013 mbar, etwa 45% relativer Luftfeuchtigkeit etc.) abweichenden Umgebungsbedingungen ergeben sich im Bereich der Reibkontaktflächen 110.3 und 110.4 Oberflächenreaktionen, welche von den Oberflächenreaktionen unter Normalatmosphäre abweichen. Dieser Umstand kann erheblichen Einfluss auf die tribologischen Eigenschaften der Reibkontaktflächenpaarung haben, mithin also eine starke Abweichung des Reibungskoeffizienten vom Zustand unter Normalatmosphäre mit sich bringen. In such strong ambient conditions (for example, in clean rooms often ambient air at about 22 ° C, about 1013 mbar, about 45% relative humidity, etc.) deviating ambient conditions arise in the area of Reibkontaktflächen 110.3 and 110.4 Surface reactions, which deviate from the surface reactions under normal atmosphere. This circumstance can have a considerable influence on the tribological properties of the frictional contact surface pairing, that is to say bring about a strong deviation of the coefficient of friction from the state under normal atmosphere.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung liegt der Gleitreibungskoeffizient µr der Reibpaarung unter den im Betrieb im Bereich der Reibkontaktflächen 110.3 und 110.4 vorherrschenden atmosphärischen Bedingungen (im vorliegenden Beispiel mithin also unter UHV-Bedingungen) bevorzugt bei 0,2 bis 0,5, wobei dann bevorzugt die oben genannten Verhältnisse zum Haftreibungskoeffizient µh gelten.For the purposes of the present invention, the sliding friction coefficient μ r of the friction pair is below that in operation in the region of the friction contact surfaces 110.3 and 110.4 prevailing atmospheric conditions (in the present example, therefore, therefore, under UHV conditions) preferably at 0.2 to 0.5, in which case preferably the above-mentioned ratios for static friction coefficient μ h apply.

Um dies zu erzielen, ist im vorliegenden Beispiel wenigstens eine der beiden Reibkontaktflächen 110.3 und 110.4 durch eine den Reibkoeffizienten µh bzw. µr der Reibpaarung herabsetzende Beschichtung des betreffenden Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 gebildet. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung alleine die entsprechende Wahl des Materials des Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 ausreichen kann.To achieve this, in the present example, at least one of the two friction contact surfaces 110.3 and 110.4 by a friction coefficient μ h or μ r of the friction pairing-reducing coating of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 educated. It is understood, however, that in other variants of the invention alone the appropriate choice of the material of the damping element 110.1 respectively. 110.2 can suffice.

Art und Material der Beschichtung richten sich grundsätzlich nach dem zu beschichtenden Trägermaterial. Die Beschichtung umfasst vorzugsweise ein polymeres Material, wobei sich Polytetraflourethylen, ein Parylen, insbesondere Polyparaxylylen, einzeln oder in Kombination besonders als Beschichtungsmaterial eignen, um die gewünschte Angleichung von Haftreibungskoeffizient µh und Gleitreibungskoeffizient µr der Reibpaarung zu erzielen. Im vorliegenden Beispiel handelt es sich bei dem Beschichtungsmaterial um Polyparaxylylen (Parylen N).The type and material of the coating are always based on the carrier material to be coated. The coating preferably comprises a polymeric material, wherein polytetrafluoroethylene, a parylene, in particular polyparaxylylene, individually or in combination are particularly suitable as a coating material in order to achieve the desired approximation of static friction coefficient μ h and friction coefficient μ r of the friction pairing. In the present example, the coating material is polyparaxylylene (parylene N).

Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch andere Beschichtungen gewählt sein können. So können Beschichtungen wie Beschichtungen aus diamantartigem Kohlenstoff (so genanntes Diamond Like Carbon, DLC), Saphir, Diamant, Aluminiumoxid (Al2O3) etc. Verwendung finden. It is understood, however, that in other variants of the invention, other coatings may be selected. For example, coatings such as diamond-like carbon (DLC), sapphire, diamond, alumina (Al 2 O 3 ), etc. can be used.

Vorzugsweise weicht der thermische Ausdehnungskoeffizient des Beschichtungsmaterials möglichst wenig von dem thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Materials des betreffenden Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 ab, um eine dauerhafte Verbindung der Beschichtung zum Dämpfungselement 110.1 bzw. 110.2 sicherzustellen. Bevorzugt weist die Beschichtung einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf, der um weniger als 20%, vorzugsweise weniger als 10%, von dem thermischen Ausdehnungskoeffizienten des zugeordneten Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2 abweicht. Im vorliegenden Beispiel liegt die Abweichung zwischen den thermischen Ausdehnungskoeffizienten bei weniger als 5% des thermischen Ausdehnungskoeffizienten des zugeordneten Dämpfungselements 110.1 bzw. 110.2.Preferably, the thermal expansion coefficient of the coating material deviates as little as possible from the thermal expansion coefficient of the material of the respective damping element 110.1 respectively. 110.2 off to a permanent connection of the coating to the damping element 110.1 respectively. 110.2 sure. Preferably, the coating has a thermal expansion coefficient of less than 20%, preferably less than 10%, of the thermal expansion coefficient of the associated damping element 110.1 respectively. 110.2 differs. In the present example, the deviation between the thermal expansion coefficients is less than 5% of the thermal expansion coefficient of the associated damping element 110.1 respectively. 110.2 ,

Hierbei ist weiterhin zu beachten, dass gerade bei den vergleichsweise geringen Abmessungen des Facettenelements 109 und damit auch der Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 die Oberflächenkräfte, welche zwischen der ersten Reibkontaktfläche 110.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 110.4 wirken einen erheblichen Anteil an dem Reibungswiderstand gegen die zweite Relativbewegung haben können. Insbesondere kann elektrostatische Aufladung im Bereich der Reibkontaktflächen 110.3, 110.4 zu einer erheblichen Beeinträchtigung der Gleichförmigkeit der Dämpfungswirkung führen.It should also be noted that especially with the comparatively small dimensions of the facet element 109 and thus also the damping elements 110.1 and 110.2 the surface forces which exist between the first friction contact surface 110.3 and the second friction contact surface 110.4 can have a significant share of the frictional resistance to the second relative movement. In particular, electrostatic charge in the area of Reibkontaktflächen 110.3 . 110.4 lead to a significant impairment of the uniformity of the damping effect.

Im vorliegenden Beispiel ist daher zumindest eine der beiden Reibkontaktflächen 110.3, 110.4 in dem wenigstens einen Kontaktbereich zumindest abschnittsweise zur Vermeidung elektrostatischer Aufladung elektrisch leitend ausgebildet.In the present example, therefore, at least one of the two Reibkontaktflächen 110.3 . 110.4 in the at least one contact region, at least in sections, to be electrically conductive in order to avoid electrostatic charging.

Es sei an dieser Stelle angemerkt, dass die beiden Dämpfungselemente 110.1, 110.2 gegebenenfalls bereits in ihrer Ruhelage (siehe 3) mit einer gewissen Vorspannung bzw. initialen Flächenpressung aneinander anliegen, um auch für den Fall, dass die resultierende Kraft Fz in der entgegengesetzten Richtung wirkt, zu vermeiden, dass das erste Dämpfungselements 110.1 einfach von dem zweiten Dämpfungselement 110.2 abhebt, bzw. sicherzustellen, dass es auch in diesem Fall zu einer reibungsbehafteten zweiten Relativbewegung zwischen den beiden Dämpfungselementen 110.1 und 110.2 kommt. Dies kann beispielsweise über eine entsprechende Vorverformung wenigstens eines der beiden Dämpfungselemente 110.1 und 110.2 realisiert sein. Zusätzlich oder alternativ kann über die Führungseinrichtung 111 und/oder die Aktuatoreinrichtung 112 eine entsprechende Vorspannung erzielt sein. It should be noted at this point that the two damping elements 110.1 . 110.2 possibly already in its rest position (see 3 ) abut each other with a certain preload or initial surface pressure in order to avoid, even in the event that the resultant force F z acts in the opposite direction, that the first damping element 110.1 simply from the second damping element 110.2 lifts, or ensure that there is a frictional second relative movement between the two damping elements in this case 110.1 and 110.2 comes. This can, for example, via a corresponding pre-deformation of at least one of the two damping elements 110.1 and 110.2 be realized. Additionally or alternatively, via the guide device 111 and / or the actuator device 112 be achieved a corresponding bias.

Es sei an dieser Stelle weiterhin angemerkt, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch mehr als eine Dämpfungseinrichtung 110 vorgesehen sein können, welche mit dem jeweiligen Facettenelemente 109 in Wirkverbindung stehen, um dessen Auslenkung in der beschriebenen Weise zu dämpfen. It should also be noted at this point that in other variants of the invention, more than one damping device 110 may be provided, which with the respective facet elements 109 are operatively connected to dampen its deflection in the manner described.

Weiterhin kann die jeweilige Dämpfungseinrichtung 110 mehr als zwei Dämpfungselemente umfassen. So können beispielsweise drei oder mehr blattfederartige Dämpfungselemente entsprechend aneinander geschichtet werden, um über ihre jeweiligen aneinander anliegenden Reibkontaktflächen die gewünschte dämpfende Reibung zu erzielen. Auf diesem Wege ist es in besonders einfacher Weise möglich, über die Anzahl der Reibpaarungen die gewünschte Dämpfung einzustellen.Furthermore, the respective damping device 110 comprise more than two damping elements. Thus, for example, three or more leaf spring-like damping elements can be stacked according to each other in order to achieve the desired damping friction via their respective abutting friction contact surfaces. In this way, it is possible in a particularly simple manner to set the desired damping on the number of friction pairings.

Es an dieser Stelle weiterhin angemerkt, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine anderweitige Ausrichtung der Dämpfungselemente bezüglich der zu erwartenden (die Auslenkung bewirkenden) Kraft Fz vorgesehen sein kann. So kann beispielsweise eine derartige Ausrichtung der Dämpfungselemente vorgesehen sein, dass die Kraft Fz im Wesentlichen parallel zur Haupterstreckungsebene der Dämpfungselemente verläuft. Die erforderliche Flächenpressung zwischen den Dämpfungselementen kann dann durch eine entsprechende Vorspannung im Bereich der Reibkontaktflächen erzeugt werden. It should also be noted at this point that in other variants of the invention, a different orientation of the damping elements with respect to the expected (the deflection effecting) force F z can be provided. Thus, for example, such an alignment of the damping elements can be provided that the force F z runs substantially parallel to the main extension plane of the damping elements. The required surface pressure between the damping elements can then be generated by a corresponding bias in the region of Reibkontaktflächen.

Zweites AusführungsbeispielSecond embodiment

Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 2, 5 und 6 eine weitere bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Moduls 206.1 beschrieben. Das optische Modul 206.1 kann anstelle des optischen Moduls 106.1 in der Abbildungseinrichtung 101 verwendet werden. Das optische Modul 206.1 entspricht in seiner grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise dem optischen Modul aus den 3 und 4, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.The following is with reference to the 1 . 2 . 5 and 6 a further preferred embodiment of the optical module according to the invention 206.1 described. The optical module 206.1 can instead of the optical module 106.1 in the imaging device 101 be used. The optical module 206.1 corresponds in its basic design and operation of the optical module of the 3 and 4 , so that only the differences should be discussed here. In particular, identical components are provided with the same reference numerals, while similar components are provided with reference numerals increased by 100. Unless otherwise stated below, with regard to the features, functions and advantages of these components, reference is made to the above statements in connection with the first exemplary embodiment.

Der Unterschied zur Ausführung aus 3 und 4 besteht in der Gestaltung der Dämpfungseinrichtung 210, welche im vorliegenden Beispiel nicht durch zwei Blattfederelemente, sondern durch ein erstes Membranelement 210.1 als erstes Dämpfungselement und ein zweites Membranelement 210.2 als zweites Dämpfungselements gebildet ist. The difference from the execution 3 and 4 consists in the design of the damping device 210 , which in the present example not by two leaf spring elements, but by a first membrane element 210.1 as the first damping element and a second membrane element 210.2 is formed as a second damping element.

Wie 5 zu entnehmen ist, weisen die beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 wiederum jeweils einen dem Facettenelement 109 zugeordneten Elementanschlussabschnitt, einen dem Basiselement 108.1 zugeordneten Basisanschlussabschnitt, und einen zwischen dem Elementanschlussabschnitt und dem Basisanschlussabschnitt angeordneten elastischen Zwischenabschnitt auf.As 5 can be seen, have the two damping elements 210.1 and 210.2 again each one the facet element 109 associated element connection portion, a the base element 108.1 associated base terminal portion, and a disposed between the element connection portion and the base terminal portion elastic intermediate portion.

Das erste Dämpfungselement 210.1 und das zweite Dämpfungselement 210.2 liegen wiederum aneinander an, wobei sie sich flächig im Bereich einer ersten Reibkontaktfläche 210.3 des ersten Dämpfungselements 210.1 und einer zweiten Reibkontaktfläche 210.4 des zweiten Dämpfungselements berühren. Hierbei sind die beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 im vorliegenden Beispiel lediglich im Bereich ihres Anschlusses an die Stützstruktur 108 relativ zueinander fixiert, während sie in einem Reibkontaktbereich, der sich vorzugsweise über ihre gesamte restliche Abmessung (hier: in der y-Richtung) bis zum Facettenelement 109 nur lose aneinander anliegen.The first damping element 210.1 and the second damping element 210.2 in turn abut each other, wherein they are flat in the area of a first Reibkontaktfläche 210.3 of the first damping element 210.1 and a second friction contact surface 210.4 touch the second damping element. Here are the two damping elements 210.1 and 210.2 in the present example only in the area of their connection to the support structure 108 fixed relative to each other while in a Reibkontaktbereich, preferably over its entire remaining dimension (here: in the y-direction) to the facet element 109 only lie loosely against each other.

Im vorliegenden Beispiel ist das Facettenelement 109 wiederum ausschließlich über die Dämpfungseinrichtung 210 fest mit der Stützstruktur 108 verbunden. Hierzu ist das erste Dämpfungselement 210.1 zum einen in seinem Elementanschlussabschnitt fest mit dem Kopplungselement 109.3 des Facettenelements 109 und andererseits in seinem Basisanschlussabschnitt fest mit dem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 verbunden. Das zweite Dämpfungselement 210.2 ist lediglich in seinem Basisanschlussabschnitt fest mit dem Basiselement 108.1 der Stützstruktur 108 verbunden, während sein Elementanschlussabschnitt lediglich lose an dem Elementanschlussabschnitt des ersten Dämpfungselements 210.1 anliegt. In this example, the facet element is 109 again exclusively via the damping device 210 firmly with the support structure 108 connected. For this purpose, the first damping element 210.1 on the one hand in its element connecting portion fixed to the coupling element 109.3 of the facet element 109 and on the other hand in its base terminal portion fixed to the base member 108.1 the support structure 108 connected. The second damping element 210.2 is only in its base connection portion fixed to the base member 108.1 the support structure 108 while its element connecting portion only loosely on the Element connection portion of the first damping element 210.1 is applied.

Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch hier wiederum eine umgekehrte Anbindung vorgesehen sein kann, bei welcher das zweite Dämpfungselement 210.2 fest mit dem Kopplungselement 109.3 und der Stützstruktur 108 verbunden ist, während das erste Dämpfungselement 210.1 lediglich fest mit dem Kopplungselement 109.3 verbunden ist. It is understood, however, that in other variants of the invention here again a reverse connection can be provided, in which the second damping element 210.2 firmly with the coupling element 109.3 and the support structure 108 is connected while the first damping element 210.1 only firmly with the coupling element 109.3 connected is.

Es versteht sich weiterhin, dass bei anderen Varianten der Erfindung wiederum eine weitere Abstützung des Facettenelements 109 durch eine separate Führungseinrichtung 111 oder dergleichen vorgesehen sein kann. Ebenso kann wiederum eine aktive Verstellung des Facettenelements 109 durch eine Aktuatoreinrichtung 112 vorgesehen sein. It is further understood that in other variants of the invention, in turn, a further support of the facet element 109 by a separate guide device 111 or the like may be provided. Likewise, in turn, an active adjustment of the facet element 109 by an actuator device 112 be provided.

Wie den 5 und 6 zu entnehmen ist, weist der Zwischenabschnitt des jeweiligen Dämpfungselements 210.1, 210.2 einen ringförmigen geschlitzten Abschnitt 210.5 auf, in dem N elastische Elemente 210.6 (im vorliegenden Beispiel: N = 3) ausgebildet sind (die eine elastische Rückstellkraft erzeugen können). Der ringförmige geschlitzte Abschnitt 210.5 ist im Wesentlichen konzentrisch zu einem Zentralbereich des jeweiligen Dämpfungselements 210.1, 210.2 (in dem sich der Elementanschlussabschnitt befindet) sowie im Wesentlichen konzentrisch zu dem Kopplungselement 109.3 angeordnet.Like that 5 and 6 can be seen, has the intermediate portion of the respective damping element 210.1 . 210.2 an annular slotted section 210.5 on, in which N elastic elements 210.6 (in the present example: N = 3) are formed (which can produce an elastic restoring force). The annular slotted section 210.5 is substantially concentric with a central region of the respective damping element 210.1 . 210.2 (in which the element connection portion is located) and substantially concentric with the coupling element 109.3 arranged.

Im vorliegenden Beispiel sind die elastischen Elemente als spiralartig verlaufende, ineinander verschachtelt Stegelemente 210.6 gestaltet. Zu diesem Zweck weist der Zwischenabschnitt 210.5 N (im vorliegenden Beispiel: N = 3) ineinander verschachtelt angeordnete und sich spiralartig aufweitende Schlitze 210.7 vorgesehen, wobei die Schlitze derart ineinander verschachtelt sind, dass eine jeweilige Verbindungslinie 213 zwischen einem inneren Ende und einem äußeren Ende eines Schlitzes 210.7 jeweils durch die übrigen Schlitze 210.7 gekreuzt wird. In the present example, the elastic elements are designed as spirally running nested web elements 210.6 designed. For this purpose, the intermediate section 210.5 N (in the present example: N = 3) nested and spiraling slots 210.7 provided, wherein the slots are interleaved in such a way that a respective connecting line 213 between an inner end and an outer end of a slot 210.7 each through the remaining slots 210.7 is crossed.

Wie der 6 zu entnehmen ist, erstrecken sich jeder der N Schlitze 210.7 um den Zentralbereich in einer Umfangsrichtung bevorzugt über einen Umfangswinkel α von 300° bis 420°, vorzugsweise 320° bis 400°, weiter vorzugsweise 340° bis 380°. Im vorliegenden Beispiel beträgt der Umfangswinkel etwa α = 360°.Again 6 As can be seen, each of the N slots extend 210.7 around the central area in a circumferential direction preferably over a circumferential angle α of 300 ° to 420 °, preferably 320 ° to 400 °, more preferably 340 ° to 380 °. In the present example, the circumferential angle is approximately α = 360 °.

Dabei sind zwei benachbarte Schlitze 210.7 bezüglich des Zentralbereichs in einer Umfangsrichtung jeweils um einen Verdrehwinkel γ zueinander verdreht angeordnet. Dieser Verdrehwinkel γ beträgt vorzugsweise 70% bis 130%, weiter vorzugsweise 80% bis 120%, weiter vorzugsweise 80% bis 120%, eines Bezugsverdrehwinkels β, für den gilt: β = 1 / N·360°. (1) There are two adjacent slots 210.7 with respect to the central region in a circumferential direction in each case by a twist angle γ twisted to each other. This angle of rotation γ is preferably 70% to 130%, more preferably 80% to 120%, more preferably 80% to 120%, of a reference twist angle β, for which the following applies: β = 1 / N × 360 °. (1)

Im vorliegenden Beispiel beträgt der Verdrehwinkel γ etwa 100% des Bezugsverdrehwinkels β, der sich im vorliegenden Beispiel mit den N = 3 Schlitzen 210.7 nach Gleichung (1) zu β = 120° berechnet.In the present example, the twist angle γ is approximately 100% of the reference twist angle β, which in the present example has the N = 3 slots 210.7 calculated according to equation (1) to β = 120 °.

Die Schlitze 210.7 der beiden Dämpfungselements 210.1, 210.2 fluchten im vorliegenden Beispiel miteinander in einer Richtung senkrecht zur Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselements 210.1, 210.2. Es versteht sich jedoch, dass dies bei anderen Varianten der Erfindung auch nicht der Fall sein kann.The slots 210.7 the two damping element 210.1 . 210.2 In the present example, they are aligned with one another in a direction perpendicular to the main extension plane of the two damping elements 210.1 . 210.2 , It is understood, however, that this may not be the case with other variants of the invention.

Es sei an dieser Stelle angemerkt, dass bei anderen Varianten der Erfindung natürlich auch eine andere Anzahl N an Stegelementen 210.6 bzw. Schlitzen 210.7 vorgesehen sein kann. Typischerweise sind wenigstens N = 2 Schlitze 210.7 vorgesehen. It should be noted at this point that in other variants of the invention, of course, also a different number N of web elements 210.6 or slots 210.7 can be provided. Typically, at least N = 2 slots 210.7 intended.

Die geschlitzten Abschnitte 210.5 der Dämpfungselemente 210.1, 210.2 bedingen im vorliegenden Beispiel eine vergleichweise weiche Anbindung des Facettenelements 109 an die Stützstruktur 108 in allen sechs Freiheitsgraden. Demgemäß kann beispielsweise der Aktuator 112 das Facettenelement 109 in bis zu sechs Freiheitsgraden verstellen. Hinsichtlich der Dämpfungswirkung der Dämpfungselemente 210.1, 210.2 im Hinblick auf die Kraft Fz unterscheidet sich die Dämpfungseinrichtung 210 grundsätzlich nicht von der Dämpfungseinrichtung 110, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird. The slotted sections 210 .5 of the damping elements 210.1 . 210.2 condition in the present example a comparatively soft connection of the facet element 109 to the support structure 108 in all six degrees of freedom. Accordingly, for example, the actuator 112 the facet element 109 in up to six degrees of freedom. With regard to the damping effect of the damping elements 210.1 . 210.2 with respect to the force F z , the damping device differs 210 basically not from the damping device 110 so that reference is made in this respect to the above statements.

Auch hier werden die beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 bei der Auslenkung des Facettenelements 109 aus seiner Sollposition durch die resultierende Kraft Fz einer Deformation, genauer gesagt einer Biegedeformation, unterworfen, welche zu einer ersten Auslenkung des ersten Dämpfungselements 210.1 aus seiner ersten Ruheposition und einer zweiten Auslenkung des zweiten Dämpfungselements 210.2 aus seiner zweiten Ruheposition führt. Die elastische Deformation der beiden Dämpfungselemente 210.1, 210.2 führt zum einen zu einer elastischen Rückstellkraft, welche der Auslenkung durch die resultierende Kraft Fz entgegenwirkt.Again, the two damping elements 210.1 and 210.2 at the deflection of the facet element 109 from its nominal position by the resulting force F z of a deformation, more precisely a bending deformation, subjected, resulting in a first deflection of the first damping element 210.1 from its first rest position and a second deflection of the second damping element 210.2 from his second resting position leads. The elastic deformation of the two damping elements 210.1 . 210.2 On the one hand leads to an elastic restoring force, which counteracts the deflection by the resultant force F z .

Zum anderen kommt es auch hier im Zuge der ersten Relativbewegung (entlang der resultierenden Kraft Fz, die im Wesentlichen senkrecht zu der jeweiligen Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 verläuft) zwischen dem Facettenelement 109 und dem Basiselement 108.1 wiederum zu einer zweiten Relativbewegung, bei welcher die erste Reibkontaktfläche 210.3 und die zweite Reibkontaktfläche 210.4 unter gegenseitiger Reibung (im Wesentlichen parallel zu der jeweiligen Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2) aneinander abgleiten.On the other hand, in the course of the first relative movement (along the resulting force F z) , which is essentially perpendicular to the respective main extension plane of the two damping elements 210.1 and 210.2 runs) between the facet element 109 and the base element 108.1 in turn to a second relative movement, in which the first friction contact surface 210.3 and the second friction contact surface 210.4 under mutual friction (substantially parallel to the respective main extension plane of the two damping elements 210.1 and 210.2 ) slide off each other.

Auch hier bewirkt die resultierende Kraft Fz zwischen der ersten Reibkontaktfläche 210.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 210.4 wiederum eine entsprechende Flächenpressung, welche den Reibungswiderstand gegen die zweite Relativbewegung neben dem Reibungskoeffizienten µh bzw. µr der Reibpaarung zwischen der ersten Reibkontaktfläche 210.3 und der zweiten Reibkontaktfläche 210.4 maßgeblich beeinflusst.Again, the resulting force F z between the first Reibkontaktfläche 210.3 and the second friction contact surface 210.4 in turn, a corresponding surface pressure, which the frictional resistance to the second relative movement in addition to the friction coefficient μ h and μ r the friction pairing between the first Reibkontaktfläche 210.3 and the second friction contact surface 210.4 significantly influenced.

Im vorliegenden Beispiel ist wiederum (aus den oben erläuterten Gründen) eine möglichst geringe Abweichung zwischen dem Haftreibungskoeffizienten µh und dem Gleitreibungskoeffizienten µr der der Reibpaarung vorgesehen. Demgemäß ist auch im vorliegenden Beispiel wenigstens eine der beiden Reibkontaktflächen 210.3 und 210.4 durch eine den Reibkoeffizienten µh bzw. µr der Reibpaarung herabsetzende Beschichtung des betreffenden Dämpfungselements 210.1 bzw. 210.2 gebildet. Die Beschichtung umfasst wiederum ein polymeres Material, nämlich Polyparaxylylen (Parylen N), wobei wiederum die oben bereits beschriebene Abstimmung bzw. Gestaltung hinsichtlich des thermischen Ausdehnungskoeffizienten und/oder der elektrischen Leitfähigkeit der Reibkontaktflächen 210.3 und 210.4 realisiert wird.In the present example, for the reasons explained above, the smallest possible deviation between the static friction coefficient μ h and the sliding friction coefficient μ r of the friction pairing is provided. Accordingly, in the present example, at least one of the two Reibkontaktflächen 210.3 and 210.4 by a friction coefficient μ h or μ r of the friction pairing-reducing coating of the respective damping element 210.1 respectively. 210.2 educated. The coating, in turn, comprises a polymeric material, namely polyparaxylylene (parylene N), again having the tuning or design already described above with regard to the thermal expansion coefficient and / or the electrical conductivity of the friction contact surfaces 210.3 and 210.4 is realized.

Wie der 5 zu entnehmen ist, grenzt der Elementanschlussabschnitt des zweiten Dämpfungselements 210.2 mit radialem Spiel an das Kopplungselement 109.3 an, wobei zudem keine Fixierung des Elementanschlussabschnitts des zweiten Dämpfungselements 210.2 an dem Kopplungselement 109.3 vorgesehen ist. Dies und die vergleichweise weiche Anbindung des Facettenelements 109 durch die geschlitzten Abschnitte 210.5 der Dämpfungselemente 210.1, 210.2 ermöglichen es, dass in einem zweiten Betriebszustand, in dem die erste Relativbewegung in einer (dritten) Richtung verläuft, die parallel zur Haupterstreckungsebene der beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 (also im Wesentlichen in der xy-Ebene) verläuft, auch die zweite Relativbewegung in einer (vierten) Richtung verläuft, die im Wesentlichen parallel zu der (dritten) Richtung der ersten Relativbewegung verläuft. Mit der vorliegenden Gestaltung wird somit auch eine Auslenkung des Facettenelements 109 parallel zu der Haupterstreckungsebene der Dämpfungselement 210.1 und 210.2 gedämpft.Again 5 can be seen, adjacent to the element connection portion of the second damping element 210.2 with radial play on the coupling element 109.3 in addition, wherein no fixing of the element connection portion of the second damping element 210.2 on the coupling element 109.3 is provided. This and the comparatively soft connection of the facet element 109 through the slotted sections 210.5 the damping elements 210.1 . 210.2 allow in a second operating state, in which the first relative movement in a (third) direction, which is parallel to the main extension plane of the two damping elements 210.1 and 210.2 (ie substantially in the xy plane), the second relative movement also runs in a (fourth) direction, which runs essentially parallel to the (third) direction of the first relative movement. With the present design is thus also a deflection of the facet element 109 parallel to the main extension plane of the damping element 210.1 and 210.2 attenuated.

Es sei an dieser Stelle angemerkt, dass die beiden Dämpfungselemente 210.1, 210.2 wiederum bereits in ihrer Ruhelage mit einer gewissen Vorspannung bzw. initialen Flächenpressung aneinander anliegen, um auch für den Fall, dass die resultierende Kraft Fz in der entgegengesetzten Richtung wirkt, zu vermeiden, dass das erste Dämpfungselement 210.1 einfach von dem zweiten Dämpfungselement 210.2 abhebt, bzw. sicherzustellen, dass es auch in diesem Fall zu einer reibungsbehafteten zweiten Relativbewegung zwischen den beiden Dämpfungselementen 210.1 und 210.2 kommt. It should be noted at this point that the two damping elements 210.1 . 210.2 again in their rest position with a certain bias or initial surface pressure abut each other to avoid, even in the event that the resultant force F z acts in the opposite direction, that the first damping element 210.1 simply from the second damping element 210.2 lifts, or ensure that there is a frictional second relative movement between the two damping elements in this case 210.1 and 210.2 comes.

Weiterhin können bei anderen Varianten der Erfindung auch mehr als eine Dämpfungseinrichtung 210 vorgesehen sein, welche mit dem jeweiligen Facettenelement 109 in Wirkverbindung stehen, um dessen Auslenkung in der beschriebenen Weise zu dämpfen. Schließlich kann die jeweilige Dämpfungseinrichtung 210 wiederum mehr als zwei Dämpfungselemente umfassen. So können beispielsweise drei oder mehr membranartige Dämpfungselemente entsprechend aneinander geschichtet werden, um über ihre jeweiligen aneinander anliegenden Reibkontaktflächen die gewünschte dämpfende Reibung zu erzielen. Auf diesem Wege ist es in besonders einfacher Weise möglich, über die Anzahl der Reibpaarungen die gewünschte Dämpfung einzustellen.Furthermore, in other variants of the invention, more than one damping device 210 be provided, which with the respective facet element 109 are operatively connected to dampen its deflection in the manner described. Finally, the respective damping device 210 again comprise more than two damping elements. Thus, for example, three or more membrane-like damping elements can be laminated to one another in order to achieve the desired damping friction via their respective abutting friction contact surfaces. In this way, it is possible in a particularly simple manner to set the desired damping on the number of friction pairings.

Es sei an dieser Stelle schließlich erwähnt, dass die beiden Dämpfungselemente 210.1 und 210.2 jeweils Teile einer größeren ersten bzw. zweiten Membran sind, welche die Dämpfungselemente 210.1 bzw. 210.2 für mehrere Facettenelemente 109, gegebenenfalls sogar alle Facettenelemente 109 des Facettenspiegels 106.1 ausbildet. Hierdurch vereinfacht sich die Herstellung des optischen Moduls 106.1, insbesondere die präzise relative Positionierung und/oder Orientierung der Facettenelemente 109 zueinander, erheblich. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch für jedes Facettenelemente 109 ein separates erstes und zweites Membranelement vorgesehen sein kann.It should be mentioned at this point, finally, that the two damping elements 210.1 and 210.2 are each parts of a larger first and second membrane, which the damping elements 210.1 respectively. 210.2 for multiple faceted elements 109 , possibly even all facet elements 109 of the facet mirror 106.1 formed. This simplifies the production of the optical module 106.1 , in particular the precise relative positioning and / or orientation of the facet elements 109 to each other, considerably. It is understood, however, that in other variants of the invention for each facet elements 109 a separate first and second membrane element may be provided.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend ausschließlich anhand von Facettenspiegeln beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Modulen bzw. optischen Elementen zum Einsatz kommen kann.The present invention has been described above solely on the basis of facet mirrors. However, it is understood that the invention can also be used in connection with any other optical modules or optical elements.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend weiterhin ausschließlich anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann.The present invention has been described above exclusively by means of examples from the field of microlithography. It is understood, however, that the invention may also be used in connection with any other optical applications, in particular imaging processes at other wavelengths.

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  • US 6906845 B2 [0010] US 6906845 B2 [0010]

Claims (16)

Optisches Modul, insbesondere Facettenspiegel, mit – einem optischen Element (109) und – einer Stützstruktur (108) zur Abstützung des optischen Elements (109), dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstruktur (108) eine mechanische Dämpfungseinrichtung (110; 210) zur Dämpfung einer ersten Relativbewegung zwischen dem optischen Element (109) und einem Basiselement (108.1) der Stützstruktur (108) aufweist, wobei – die Dämpfungseinrichtung (110; 210) zur Dämpfung der ersten Relativbewegung durch eine reibungsbehaftete zweite Relativbewegung zwischen einem ersten Dämpfungselement (110.1; 210.1) und einem zweiten Dämpfungselement (110.2; 210.2) der Dämpfungseinrichtung (110; 210) ausgebildet ist.Optical module, in particular faceted mirror, with - an optical element ( 109 ) and - a support structure ( 108 ) for supporting the optical element ( 109 ), characterized in that - the support structure ( 108 ) a mechanical damping device ( 110 ; 210 ) for damping a first relative movement between the optical element ( 109 ) and a base element ( 108.1 ) of the support structure ( 108 ), wherein - the damping device ( 110 ; 210 ) for damping the first relative movement by a frictional second relative movement between a first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and a second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) of the damping device ( 110 ; 210 ) is trained. Optisches Modul nach Anspruch 1, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) eine erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) aufweist, – das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) eine zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) aufweist und – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) dem zweiten Dämpfungselement (110.2; 210.2) derart zugeordnet ist, dass die erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) und die zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) einander zumindest während der zweiten Relativbewegung zur Erzeugung dämpfender Reibung in wenigstens einem Kontaktbereich flächig kontaktieren, wobei – die erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) und/oder die zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) in dem wenigstens einen Kontaktbereich insbesondere zumindest abschnittsweise zur Vermeidung elektrostatischer Aufladung elektrisch leitend ausgebildet ist.An optical module according to claim 1, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) a first friction contact surface ( 110.3 ; 210.3 ), - the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) a second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) and - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) is assigned such that the first friction contact surface ( 110.3 ; 210.3 ) and the second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) contact each other at least during the second relative movement for generating damping friction in at least one contact area, wherein - the first friction contact surface ( 110.3 ; 210.3 ) and / or the second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) is formed in the at least one contact area in particular at least partially electrically conductive to avoid electrostatic charge. Optisches Modul nach Anspruch 2, wobei – die erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) und die zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) eine Reibpaarung bilden und – die erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) und/oder die zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) derart ausgebildet ist, dass unter den atmosphärischen Einsatzbedingungen in einem Normalbetrieb des optischen Moduls der Haftreibungskoeffizient der Reibpaarung 100% bis 120%, vorzugsweise 100% bis 110%, weiter vorzugsweise 100% bis 105%, weiter vorzugsweise im Wesentlichen 100%, des Gleitreibungskoeffizienten der Reibpaarung entspricht, wobei – der Gleitreibungskoeffizient der Reibpaarung unter den atmosphärischen Einsatzbedingungen in dem Normalbetrieb des optischen Moduls bevorzugt bei 0,2 bis 0,5 liegt.An optical module according to claim 2, wherein - the first rubbing contact surface ( 110.3 ; 210.3 ) and the second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) form a friction pair and - the first friction contact surface ( 110.3 ; 210.3 ) and / or the second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) is designed such that under the atmospheric conditions of use in a normal operation of the optical module, the static friction coefficient of the friction pair 100% to 120%, preferably 100% to 110%, more preferably 100% to 105%, more preferably substantially 100%, of the sliding friction coefficient corresponds to the friction pair, wherein - the sliding friction coefficient of the friction pair under the atmospheric conditions in the normal operation of the optical module is preferably from 0.2 to 0.5. Optisches Modul nach Anspruch 2 oder 3, wobei – die erste Reibkontaktfläche (110.3; 210.3) und/oder die zweite Reibkontaktfläche (110.4; 210.4) durch eine Beschichtung gebildet ist, wobei – die Beschichtung insbesondere als eine den Reibkoeffizienten zwischen dem ersten Dämpfungselement (110.1; 210.1) dem zweiten Dämpfungselement (110.2; 210.2) herabsetzende Beschichtung ausgebildet ist und/oder – die Beschichtung insbesondere ein polymeres Material umfasst, insbesondere Polytetraflourethylen und/oder ein Parylen, insbesondere Polyparaxylylen, umfasst. und/oder – die Beschichtung insbesondere wenigstens ein Material aus einer Beschichtungsgruppe aufweist, welche aus diamantartigem Kohlenstoff (DLC), Saphir, Diamant und Aluminiumoxid (Al2O3) besteht, und/oder – die Beschichtung insbesondere einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, der um weniger als 20%, vorzugsweise weniger als 10%, weiter vorzugsweise weniger als 5%, von dem thermischen Ausdehnungskoeffizienten des zugeordneten Dämpfungselements (110.1, 110.2; 210.1, 210.2 abweicht.An optical module according to claim 2 or 3, wherein - the first rubbing contact surface ( 110.3 ; 210.3 ) and / or the second friction contact surface ( 110.4 ; 210.4 ) is formed by a coating, wherein - the coating in particular as a coefficient of friction between the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) coating is formed and / or - the coating comprises in particular a polymeric material, in particular polytetrafluoroethylene and / or a parylene, in particular polyparaxylylene comprises. and / or - the coating comprises in particular at least one material from a coating group consisting of diamond-like carbon (DLC), sapphire, diamond and aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and / or - the coating in particular has a thermal expansion coefficient which is around less than 20%, preferably less than 10%, more preferably less than 5%, of the thermal expansion coefficient of the associated damping element ( 110.1 . 110.2 ; 210.1 . 210.2 differs. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) dem optischen Element (109) derart zugeordnet ist, insbesondere derart mit dem optischen Element (109) verbunden ist, dass das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) bei der ersten Relativbewegung eine erste Auslenkung aus einer ersten Ruhelage erfährt, und – das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) dem Basiselement (108.1) derart zugeordnet ist, insbesondere derart mit dem Basiselement (108.1) verbunden ist, dass das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) bei der ersten Relativbewegung eine zweite Auslenkung aus einer zweiten Ruhelage erfährt, wobei – die erste Auslenkung des ersten Dämpfungselements (110.1; 210.1) und die zweite Auslenkung des zweiten Dämpfungselements (110.2; 210.2) zu der reibungsbehafteten zweiten Relativbewegung führen.Optical module according to one of claims 1 to 4, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) the optical element ( 109 ) is assigned, in particular in such a way with the optical element ( 109 ) is connected, that the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) undergoes a first deflection from a first rest position during the first relative movement, and - the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) the base element ( 108.1 ), in particular in such a way with the base element ( 108.1 ) is connected, that the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) experiences a second deflection from a second rest position during the first relative movement, wherein - the first deflection of the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and the second deflection of the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) lead to the frictional second relative movement. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) derart ausgebildet ist, dass es mit Auslenkung aus einer Ruhestellung eine der ersten Relativbewegung entgegenwirkende, insbesondere elastische, Rückstellkraft erzeugt, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) insbesondere mit Auslenkung aus der Ruhestellung eine elastische Deformation erfährt, und/oder – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) insbesondere mit Auslenkung aus der Ruhestellung eine Biegedeformation erfährt.Optical module according to one of claims 1 to 5, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) is formed such that it generates with deflection from a rest position one of the first relative movement counteracting, in particular elastic, restoring force, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) undergoes an elastic deformation, in particular with deflection from the rest position, and / or the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) undergoes a bending deformation, in particular with deflection from the rest position. Optisches Modul nach Anspruch 6, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) einen dem optischen Element (109) zugeordneten Elementanschlussabschnitt, einen dem Basiselement (108.1) zugeordneten Basisanschlussabschnitt, und einen zwischen dem Elementanschlussabschnitt und dem Basisanschlussabschnitt angeordneten elastischen Zwischenabschnitt aufweist, wobei – der Zwischenabschnitt dazu ausgebildet ist, die der ersten Relativbewegung entgegenwirkende elastische Rückstellkraft zu erzeugen, wobei – der Zwischenabschnitt wenigstens einen geschlitzten Abschnitt (210.5) zur Ausbildung wenigstens eines die elastische Rückstellkraft erzeugenden elastischen Elements (210.6), insbesondere wenigstens eines elastischen Stegelements (210.6), aufweist.An optical module according to claim 6, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) a the optical element ( 109 ) associated element connecting portion, a the base element ( 108.1 ), and an elastic intermediate section arranged between the element connection section and the base connection section, wherein - the intermediate section is designed to generate the first relative movement counteracting elastic restoring force, wherein - the intermediate section at least one slotted section ( 210.5 ) for forming at least one elastic restoring force-generating elastic element ( 210.6 ), in particular at least one elastic Stegelements ( 210.6 ), having. Optisches Modul nach Anspruch 7, wobei – der Zwischenabschnitt N, insbesondere N = 3, ineinander verschachtelt angeordnete und sich spiralartig aufweitende Schlitze (210.7) aufweist und – die Schlitze (210.7) einen geschlitzten Abschnitt (210.5) definieren, der insbesondere im Wesentlichen ringförmig ausgebildet ist und zu einem Zentralbereich im Wesentlichen konzentrisch angeordnet ist, wobei – die Schlitze (210.7) sich um den Zentralbereich in einer Umfangsrichtung insbesondere über einen Umfangswinkel α von 300° bis 420°, vorzugsweise 320° bis 400°, weiter vorzugsweise 340° bis 380°, erstrecken, – zwei benachbarte Schlitze (210.7) bezüglich des Zentralbereichs in einer Umfangsrichtung insbesondere um einen Verdrehwinkel γ von 70% bis 130%, vorzugsweise 80% bis 120%, weiter vorzugsweise 80% bis 120%, eines Bezugsverdrehwinkels β zueinander verdreht angeordnet sind, wobei gilt β = 1 / N·360°, – die Schlitze (210.7) insbesondere derart ineinander verschachtelt angeordnet sind, dass eine Verbindungslinie (213) zwischen einem inneren Ende und einem äußeren Ende eines Schlitzes (210.7) jeweils durch die übrigen Schlitze (210.7) gekreuzt wird, – der Zentralbereich insbesondere dem optischen Element (109) zugeordnet ist, vorzugsweise mit dem optischen Element (109) verbunden ist. Optical module according to claim 7, wherein - the intermediate section N, in particular N = 3, nested and spiraling slots (FIG. 210.7 ) and - the slots ( 210.7 ) a slotted section ( 210.5 ), which is in particular substantially annular and is arranged concentrically to a central region substantially, wherein - the slots ( 210.7 ) extend around the central area in a circumferential direction, in particular over a circumferential angle α of 300 ° to 420 °, preferably 320 ° to 400 °, more preferably 340 ° to 380 °, - two adjacent slots ( 210.7 ) with respect to the central region in a circumferential direction, in particular by a twist angle γ of 70% to 130%, preferably 80% to 120%, more preferably 80% to 120% of a reference twist angle β are arranged rotated to each other, where β = 1 / N × 360 °, - the slots ( 210.7 ) are arranged interleaved in particular such that a connecting line ( 213 ) between an inner end and an outer end of a slot ( 210.7 ) through the remaining slots ( 210.7 ), - the central region, in particular the optical element ( 109 ), preferably with the optical element ( 109 ) connected is. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) derart angeordnet sind, dass in einem ersten Betriebszustand, in dem die erste Relativbewegung in einer ersten Richtung verläuft, die zweite Relativbewegung in einer zweiten Richtung verläuft, die quer, insbesondere im Wesentlichen senkrecht, zu der ersten Richtung verläuft, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1; 210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2; 210.2) insbesondere eine Haupterstreckungsebene definiert und die erste Richtung quer, insbesondere im Wesentlichen senkrecht, zu der ersten Haupterstreckungsebene verläuft.Optical module according to one of claims 1 to 8, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) are arranged such that in a first operating state, in which the first relative movement extends in a first direction, the second relative movement in a second direction which transversely, in particular substantially perpendicular, extends to the first direction, wherein - the first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) defines in particular a main extension plane and the first direction transversely, in particular substantially perpendicular, extends to the first main extension plane. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei – das erste Dämpfungselement (210.1) und das zweite Dämpfungselement (210.2) derart angeordnet sind, dass in einem zweiten Betriebszustand, in dem die erste Relativbewegung in einer dritten Richtung verläuft, die zweite Relativbewegung in einer vierten Richtung verläuft, die im Wesentlichen parallel zu der dritten Richtung verläuft, wobei – das erste Dämpfungselement (210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (210.2) insbesondere eine Haupterstreckungsebene definiert und die dritte Richtung im Wesentlichen parallel zu der Haupterstreckungsebene verläuft.Optical module according to one of claims 1 to 9, wherein - the first damping element ( 210.1 ) and the second damping element ( 210.2 ) are arranged such that in a second operating state, in which the first relative movement extends in a third direction, the second relative movement in a fourth direction, which runs substantially parallel to the third direction, wherein - the first damping element ( 210.1 ) and / or the second damping element ( 210.2 ) defines in particular a main extension plane and the third direction is substantially parallel to the main extension plane. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei – das erste Dämpfungselement (110.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (110.2) nach Art einer Blattfeder ausgebildet ist, und/oder – das erste Dämpfungselement (210.1) und/oder das zweite Dämpfungselement (210.2) nach Art eines Membranelements ausgebildet ist. Optical module according to one of claims 1 to 10, wherein - the first damping element ( 110.1 ) and / or the second damping element ( 110.2 ) is formed in the manner of a leaf spring, and / or - the first damping element ( 210.1 ) and / or the second damping element ( 210.2 ) is formed in the manner of a membrane element. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei – eine Aktuatoreinrichtung (112) vorgesehen ist, wobei – die Aktuatoreinrichtung (112) zur aktiven Einstellung einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements (109) in wenigstens einem Freiheitsgrad ausgebildet ist. Optical module according to one of claims 1 to 11, wherein - an actuator device ( 112 ), wherein - the actuator device ( 112 ) for actively adjusting a position and / or orientation of the optical element ( 109 ) is formed in at least one degree of freedom. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei – das optische Element (109) ein Facettenelement, insbesondere ein Facettenspiegel, mit einer optisch wirksamen Oberfläche (109.1) ist, wobei – die optisch wirksame Oberfläche (109.1) insbesondere eine Fläche von 0,1 mm2 bis 1,0 mm2, vorzugsweise 0,15 mm2 bis 0,8 mm2, weiter vorzugsweise 0,2 mm2 bis 0,3 mm2, aufweist, und/oder – insbesondere 100.000 bis 700.000, vorzugsweise 200.000 bis 600.000, weiter vorzugsweise 300.000 bis 500.000, Facettenelemente (109) vorgesehen sind.Optical module according to one of claims 1 to 12, wherein - the optical element ( 109 ) a facet element, in particular a facet mirror, with an optically effective surface ( 109.1 ), wherein - the optically effective surface ( 109.1 ) has in particular an area of 0.1 mm 2 to 1.0 mm 2 , preferably 0.15 mm 2 to 0.8 mm 2 , more preferably 0.2 mm 2 to 0.3 mm 2 , and / or in particular 100,000 to 700,000, preferably 200,000 to 600,000, more preferably 300,000 up to 500,000, faceted elements ( 109 ) are provided. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (106), – einer Maskeneinrichtung (104) zur Aufnahme einer Maske (104.1) mit einem Projektionsmuster, – einer Projektionseinrichtung (103) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (107) und – einer Substrateinrichtung (105) zur Aufnahme eines Substrats (105.1), wobei – die Beleuchtungseinrichtung (102) zur Beleuchtung des Projektionsmusters ausgebildet ist und – die Projektionseinrichtung (103) zur Projektion des Projektionsmusters auf das Substrat (105.1) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass – die Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder die Projektionseinrichtung (103) ein optisches Modul (106.1; 206.1) nach einem der Ansprüche 1 bis 13 umfasst.Optical imaging device, in particular for microlithography, with - a lighting device ( 102 ) with a first optical element group ( 106 ), - a mask device ( 104 ) for receiving a mask ( 104.1 ) with a projection pattern, - a projection device ( 103 ) with a second optical element group ( 107 ) and - a substrate device ( 105 ) for receiving a substrate ( 105.1 ), wherein - the illumination device ( 102 ) is designed to illuminate the projection pattern and - the projection device ( 103 ) for projecting the projection pattern onto the substrate ( 105.1 ), characterized in that - the illumination device ( 102 ) and / or the projection device ( 103 ) an optical module ( 106.1 ; 206.1 ) according to any one of claims 1 to 13. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere eines Facettenelements eines Facettenspiegels, bei dem – das optische Element (109) durch eine Stützstruktur (108) abgestützt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – eine erste Relativbewegung zwischen dem optischen Element (109) und einem Basiselement (108.1) der Stützstruktur (108) durch eine reibungsbehaftete zweite Relativbewegung zwischen einem ersten Dämpfungselement (110.1; 210.1) und einem zweiten Dämpfungselement (110.2; 210.2) einer mechanischen Dämpfungseinrichtung (110; 210) der Stützstruktur (108) gedämpft wird.Method for supporting an optical element, in particular a facet element of a facet mirror, in which - the optical element ( 109 ) by a support structure ( 108 ) is supported, characterized in that - a first relative movement between the optical element ( 109 ) and a base element ( 108.1 ) of the support structure ( 108 ) by a frictional second relative movement between a first damping element ( 110.1 ; 210.1 ) and a second damping element ( 110.2 ; 210.2 ) a mechanical damping device ( 110 ; 210 ) of the support structure ( 108 ) is dampened. Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – eine Beleuchtungseinrichtung (102) ein Projektionsmuster beleuchtet und – eine Projektionseinrichtung (103) das Projektionsmuster auf ein Substrat (105.1) projiziert, dadurch gekennzeichnet, dass – ein optisches Element (109), insbesondere ein Facettenelement eines Facettenspiegels, der Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder der Projektionseinrichtung (103) mit einem Verfahren nach Anspruch 15 abgestützt wird.Optical imaging method, in particular for microlithography, in which - a lighting device ( 102 ) illuminates a projection pattern and - a projection device ( 103 ) the projection pattern on a substrate ( 105.1 ), characterized in that - an optical element ( 109 ), in particular a facet element of a facet mirror, the illumination device ( 102 ) and / or the projection device ( 103 ) is supported by a method according to claim 15.
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