DE102011087348A1 - Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction - Google Patents

Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction Download PDF

Info

Publication number
DE102011087348A1
DE102011087348A1 DE102011087348A DE102011087348A DE102011087348A1 DE 102011087348 A1 DE102011087348 A1 DE 102011087348A1 DE 102011087348 A DE102011087348 A DE 102011087348A DE 102011087348 A DE102011087348 A DE 102011087348A DE 102011087348 A1 DE102011087348 A1 DE 102011087348A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carrier
vertical direction
substrates
plane
lifting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102011087348A
Other languages
German (de)
Inventor
Matthias Niese
Jörg Franzke
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rena GmbH
Original Assignee
Rena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rena GmbH filed Critical Rena GmbH
Priority to DE102011087348A priority Critical patent/DE102011087348A1/en
Priority to DE202011110123U priority patent/DE202011110123U1/en
Priority to CN2012206468168U priority patent/CN203242603U/en
Priority to TW101223139U priority patent/TWM468772U/en
Priority to KR2020120011055U priority patent/KR200486679Y1/en
Publication of DE102011087348A1 publication Critical patent/DE102011087348A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02046—Dry cleaning only
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67757—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber vertical transfer of a batch of workpieces

Abstract

The method involves impressing support with substrates (T) at a level of treatment liquid. The support is lifted at predetermined angle in vertical direction. The substrates are lifted out of the treatment liquid so that the treatment liquid flows off completely from the surface of the substrates. The plane of the support is horizontally aligned when impressing in the treatment liquid. An independent claim is included for a device for drying substrate.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie eine Vorrichtung nach dem Oberbegriff nach dem Patentanspruchs 10.The invention relates to a method according to the preamble of patent claim 1 and a device according to the preamble of claim 10.

Ein derartiges Verfahren bzw. eine derartige Vorrichtung sind aus der US 4,902,350 oder der DE 102 15 284 A1 bekannt.Such a method and such a device are known from US 4,902,350 or the DE 102 15 284 A1 known.

Bei dem bekannten Verfahren werden auf einem Träger abgestützte Substrate in einen Behälter abgesenkt, der mit heißem, entionisiertem Wasser gefüllt ist. Die Substrate können mit Ultraschall beaufschlagt werden. Anschließend wird der Träger langsam in vertikaler Richtung angehoben, wobei die Substrate so aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben werden, dass die Behandlungsflüssigkeit vollständig von der Oberfläche der Substrate abfließt. In the known method, substrates supported on a support are lowered into a container filled with hot, deionized water. The substrates can be exposed to ultrasound. Subsequently, the carrier is slowly raised in the vertical direction, wherein the substrates are lifted out of the treatment liquid so that the treatment liquid flows completely from the surface of the substrates.

Bei dem bekannten Verfahren sind die Substrate in Trägerkassetten abgestützt. Die Trägerkassetten, insbesondere daran vorgesehene Nuten zum Halten der Substrate in einer vertikalen aufrechten Stellung, sind so geformt, dass ein möglichst vollständiges Ablaufen der Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben gewährleistet ist. Gleichwohl kommt es in der Praxis vor, dass insbesondere in Zwickelräumen zwischen einer Nut und einem darin aufgenommenen Substrat Behandlungsflüssigkeit zurückbleibt. Die anhaftende Behandlungsflüssigkeit bedingt eine Kontamination der Oberfläche des Substrats. Infolgedessen muss das betreffende Substrat ausgesondert und nochmals behandelt werden. Falls die Kontamination des Substrats unbemerkt bleibt, kann das zur Unbrauchbarkeit eines daraus hergestellten halbleitenden Bauelements führen. In the known method, the substrates are supported in carrier cassettes. The carrier cassettes, in particular provided grooves for holding the substrates in a vertical upright position, are shaped so that the most complete possible drainage of the treatment liquid is ensured when lifting out. Nevertheless, in practice, in particular in gusset spaces between a groove and a substrate accommodated therein, treatment liquid remains. The adhering treatment liquid causes contamination of the surface of the substrate. As a result, the substrate in question must be discarded and treated again. If the contamination of the substrate goes unnoticed, this can lead to the uselessness of a semiconducting component produced therefrom.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile nach dem Stand der Technik zu beseitigen. Es sollen insbesondere ein Verfahren und eine Vorrichtung angegeben werden, welche ein rückstandsfreies Trocknen von Substraten ermöglichen. Nach einem weiteren Ziel der Erfindung soll dabei möglichst die herkömmliche Behandlung der Substrate beibehalten werden. The object of the invention is to eliminate the disadvantages of the prior art. In particular, a method and a device are to be specified which enable a residue-free drying of substrates. According to a further object of the invention, the conventional treatment of the substrates should be retained as far as possible.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der Patentansprüche 1 und 9 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Merkmalen der Patentansprüchen 2 bis 8 und 10 bis 22.This object is solved by the features of claims 1 and 9. Advantageous embodiments of the invention will become apparent from the features of claims 2 to 8 and 10 to 22nd

Nach Maßgabe der Erfindung wird bei einem Verfahren zum Trocknen von Substraten vorgeschlagen, dass der Träger beim Anheben bezüglich der Vertikalrichtung um einen vorgegebenen Winkel verschwenkt wird. – Durch das erfindungsgemäß vorgeschlagene Verschwenken des Trägers während des Anhebens gelingt es, dass auch in Zwickelräumen haftende Behandlungsflüssigkeit abfließt. Damit wird ein rückstandsfreies vollständiges Trocknen der Substrate ermöglicht.According to the invention, it is proposed in a method for drying substrates that the carrier is pivoted by a predetermined angle when lifting with respect to the vertical direction. - By the inventively proposed pivoting of the carrier during lifting it is possible that flows away in gusseted spaces treatment liquid. This allows a residue-free complete drying of the substrates.

Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung wird beim Anheben eine senkrecht durch eine Trägerebene verlaufende z-Achse bezüglich der Vertikalrichtung um einen ersten Winkel α von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung enthaltenden xz-Ebene verschwenkt. According to an advantageous embodiment, a z axis extending vertically through a carrier plane is pivoted with respect to the vertical direction by a first angle α of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in an xz plane containing the vertical direction.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung wird unter dem Begriff "Vertikalrichtung" eine Richtung verstanden, welche unveränderbar ist und im Wesentlichen dem Vektor der Schwerkraft entspricht. Die erfindungsgemäß vorgeschlagene Schwenkbewegung des Trägers wird durch den Winkel einer senkrecht durch die Trägerebene verlaufenden z-Achse gegenüber der Vertikalrichtung beschrieben. For the purposes of the present invention, the term "vertical direction" is understood to mean a direction which is unchangeable and substantially corresponds to the vector of gravity. The pivoting movement of the carrier proposed according to the invention is described by the angle of a z-axis extending perpendicularly through the carrier plane relative to the vertical direction.

Unter dem Begriff "Behandlungsflüssigkeit" wird allgemein eine Flüssigkeit verstanden, welche herkömmlicherweise zur Behandlung der Oberfläche von Substraten verwendet wird. Es kann sich dabei um heißes, entionisiertes Wasser handeln. Dem heißen, entionisierten Wasser kann Ozon zugesetzt sein. Ferner kann die Behandlungsflüssigkeit HF, HNO3, Isopropanol, HCl oder KOH enthalten. The term "treatment liquid" is generally understood to mean a liquid which is conventionally used to treat the surface of substrates. It can be hot, deionized water. Ozone can be added to the hot, deionized water. Further, the treatment liquid may contain HF, HNO 3 , isopropanol, HCl or KOH.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung wird die z-Achse bezüglich der Vertikalrichtung um einen zweiten Winkel β von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung enthaltenden yz-Ebene verschwenkt. According to a further advantageous embodiment, the z-axis is pivoted with respect to the vertical direction by a second angle β of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a yz plane containing the vertical direction.

Die vorgeschlagenen relativ geringen Schwenkbewegungen der z-Achse des Trägers bezüglich der Vertikalrichtung reichen aus, um eine verbesserte Trocknung der Substrate zu erreichen. Die Schwenkbewegungen können während des Heraushebens des Trägers taktweise erfolgen. Dabei kann der Träger in entgegengesetzte Richtungen hin- und herverschwenkt werden. Zweckmäßigerweise wird die z-Achse bezüglich der Vertikalrichtung um Winkel von 3° bis 8°, vorzugsweise 4° bis 6°, verschwenkt. The proposed relatively small pivotal movements of the z-axis of the carrier with respect to the vertical direction are sufficient to achieve an improved drying of the substrates. The pivoting movements can take place during the lifting of the carrier intermittently. In this case, the carrier can be pivoted back and forth in opposite directions. Advantageously, the z-axis with respect to the vertical direction by angles of 3 ° to 8 °, preferably 4 ° to 6 ° pivoted.

Nach einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung wird der Träger während des Heraushebens kontinuierlich verschwenkt. Insbesondere hat es sich als vorteilhaft erwiesen, dass der Träger beim Anheben gemäß einer vorgegebenen Bahnkurve verschwenkt wird. Beispielsweise kann die z-Achse eine Präzessionsbewegung um die Vertikalrichtung ausführen. Damit kann eine sichere und zuverlässige Entfernung von Behandlungsflüssigkeit aus sämtlichen Zwickelräumen zwischen den Substraten und den sie aufnehmenden Nuten erreicht werden. According to a particularly advantageous embodiment, the carrier is pivoted continuously during lifting. In particular, it has proved to be advantageous that the carrier is pivoted when lifting in accordance with a predetermined trajectory. For example, the z-axis may precess about the vertical direction. Thus, a safe and reliable removal of treatment liquid from all the interstices between the substrates and the receiving grooves can be achieved.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung ist die Trägerebene des Trägers beim Untertauchen im Wesentlichen horizontal ausgerichtet. Die Substrate sind zweckmäßigerweise so auf dem Träger abgestützt, dass deren Oberseite im Wesentlichen parallel zur z-Achse des Trägers ausgerichtet ist. Bei der vorgeschlagenen Ausrichtung des Trägers bzw. der darauf abgestützten Substrate ist ein Strömungswiderstand beim Untertauchen minimal. Es kann ein unerwünschtes Abheben der Substrate vom Träger beim Untertauchen vermieden werden. According to a further advantageous embodiment, the carrier plane of the carrier is substantially horizontally aligned when immersed. The substrates are expediently supported on the carrier such that their upper side is aligned substantially parallel to the z-axis of the carrier. In the proposed orientation of the carrier or the substrates supported thereon, a flow resistance during immersion is minimal. It can be avoided unwanted lifting of the substrates from the carrier during immersion.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung sind die Substrate in einer Trägerkassette aufgenommen, welche auf den Träger gesetzt ist. Das ermöglicht eine gleichzeitige Trocknung einer Vielzahl von Substraten. Ferner erleichtert die Aufnahme der Substrate in einer Trägerkassette deren Handhabung und Transport. According to a further advantageous embodiment, the substrates are accommodated in a carrier cassette, which is set on the carrier. This allows simultaneous drying of a variety of substrates. Furthermore, the inclusion of the substrates in a carrier cassette facilitates their handling and transport.

Nach der vorrichtungsseitigen Maßgabe der Erfindung wird vorgeschlagen, dass eine Schwenkeinrichtung vorgesehen ist, mit welcher der Träger beim Anheben bezüglich der Vertikalrichtung um einen vorgegebenen Winkel verschwenkbar ist. – Das Vorsehen der erfindungsgemäß vorgeschlagenen Schwenkeinrichtung ermöglicht es, der Bewegung des vertikalen Anhebens des Trägers zusätzlich eine variable Schwenkbewegung zu überlagern. Infolgedessen kann der Träger beim Anheben in unterschiedliche Richtungen verkippt werden. After the device-side proviso of the invention, it is proposed that a pivoting device is provided with which the carrier is pivotable by a predetermined angle when lifting with respect to the vertical direction. - The provision of the inventively proposed pivoting device makes it possible to additionally superimpose a variable pivoting movement of the movement of the vertical lifting of the carrier. As a result, the carrier can be tilted when lifting in different directions.

Zweckmäßigerweise weist der Träger zwei kurze und zwei lange Kanten auf. Er kann einen im Wesentlichen rechteckigen Umriss haben. Der Träger kann insbesondere als Rahmen zur Aufnahme einer Trägerkassette ausgebildet. Dabei sind der Rahmen und die Trägerkassette korrespondierend ausgebildet. Bei auf den Rahmen aufgesetzter Trägerkassette wird diese im Wesentlichen unverrückbar auf dem Rahmen gehalten. Damit ist sichergestellt, dass auch im Falle eines Verschwenkens des Trägers die Trägerkassette gesichert gegen ein seitliches Abrutschen auf dem Träger gehalten wird. Conveniently, the carrier has two short and two long edges. It can have a substantially rectangular outline. The carrier can in particular be designed as a frame for receiving a carrier cassette. In this case, the frame and the carrier cassette are formed correspondingly. When placed on the frame carrier cassette this is held substantially immovable on the frame. This ensures that even in the case of pivoting of the carrier, the carrier cassette is secured against lateral slipping on the carrier is held.

Vorteilhafterweise weist die Bewegungseinrichtung zumindest eine erste Linearbewegungseinrichtung und zumindest eine zweite Linearbewegungseinrichtung auf. Die erste und die zweite Linearbewegungseinrichtung können beispielsweise im Bereich der kurzen Kanten des Trägers angebracht sein. Advantageously, the movement device has at least one first linear movement device and at least one second linear movement device. The first and the second linear movement device can be mounted, for example, in the region of the short edges of the support.

Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung weist die Schwenkeinrichtung zumindest eine mit dem Träger verbundene dritte Linearbewegungseinrichtung auf. In diesem Fall sind die erste und die dritte Linearbewegungseinrichtung vorteilhafterweise gelenkig im Bereich der Ecken an der ersten kurzen Kante und die zweite Linearbewegungseinrichtung gelenkig an einer zweiten kurzen Kante angebracht. Durch die vorgeschlagene Anbringung des Trägers mittels dreier Linearbewegungseinrichtungen an drei verschiedenen Punkten des Trägers kann dieser durch geeignete Steuerung der Linearbewegungseinrichtungen beim Anheben in beliebige Richtungen verschwenkt werden. According to an advantageous embodiment, the pivoting device has at least one third linear movement device connected to the carrier. In this case, the first and third linear movement means are advantageously articulated in the region of the corners on the first short edge and the second linear movement means are hinged on a second short edge. By the proposed attachment of the carrier by means of three linear motion devices at three different points of the carrier this can be pivoted by appropriate control of the linear motion devices when lifting in any direction.

Nach einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist eine Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen vorgesehen, derart, dass beim Untertauchen eine durch die kurzen und langen Kanten des Trägers aufgespannte Trägerebene im Wesentlichen horizontal ausgerichtet ist. Des Weiteren kann die Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen so ausgestaltet sein, dass beim Anheben eine senkrecht durch die Trägerebene verlaufende z-Achse bezüglich der Vertikalrichtung um einen ersten Winkel α von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung enthaltenden xz-Ebene verschwenkt wird. Ferner kann die Steuerung so ausgestaltet sein, dass die z-Achse bezüglich der Vertikalrichtung um einen zweiten Winkel β von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung enthaltenden yz-Ebene verschwenkt wird. Damit kann die Trägerebene in alle denkbaren Richtungen beim Anheben verschwenkt werden. Die Schwenkbewegungen können in einer geeigneten Weise in Abhängigkeit einer Geometrie des Trägers oder der Trägerkassette so gewählt werden, dass ein vollständiges Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit von den Substraten erreicht wird. Insbesondere kann durch ein Hin- und Herschwenken des Trägers auch eine dazu korrespondierende Kippbewegung der Substrate erreicht werden. Infolgedessen kann beispielsweise ein unerwünschtes Anhaften benachbarter Substrate vermieden und damit ein verbesserter Abfluss von Behandlungsflüssigkeit erreicht werden. According to a particularly advantageous embodiment, a controller for controlling the linear movement devices is provided, such that during immersion, a carrier plane spanned by the short and long edges of the carrier is oriented substantially horizontally. Furthermore, the control for controlling the linear movement devices can be configured so that when lifting a z-axis extending perpendicularly through the support plane with respect to the vertical direction by a first angle α of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a vertical direction containing xz plane is pivoted. Furthermore, the controller may be configured such that the z-axis is pivoted with respect to the vertical direction by a second angle β of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a yz-plane containing the vertical direction. Thus, the carrier plane can be pivoted in all conceivable directions when lifting. The pivoting motions may be selected in a suitable manner depending on a geometry of the carrier or the carrier cassette so that complete draining of treatment liquid from the substrates is achieved. In particular, by pivoting the carrier back and forth, a corresponding tilting movement of the substrates can also be achieved. As a result, for example, an undesired adhesion of adjacent substrates can be avoided and thus an improved outflow of treatment liquid can be achieved.

Zweckmäßigerweise werden die Schwenkbewegungen durch die Bedingung beschränkt, dass bereits über das Niveau der Behandlungsflüssigkeit herausgehobene Abschnitte der Substrate nicht noch einmal in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht werden. D. h. auch bei einer Überlagerung der Vertikalbewegung durch die Schwenkbewegung wird vorteilhafterweise immer eine Aufwärtsbewegung der Substrate bezüglich der Behandlungsflüssigkeit bewirkt. Expediently, the pivoting movements are limited by the condition that sections of the substrates which have already been raised above the level of the treatment liquid are not immersed again in the treatment liquid. Ie. Even with a superposition of the vertical movement by the pivoting movement is advantageously always causes an upward movement of the substrates with respect to the treatment liquid.

Zweckmäßigerweise ist die Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen so ausgestaltet, dass der Träger während des Heraushebens kontinuierlich verschwenkt wird. Es hat sich gezeigt, dass damit ein vollständiges Ablaufen der Behandlungsflüssigkeit aus den Zwickelräumen erreicht werden kann. Conveniently, the controller for controlling the linear motion means is configured so that the carrier is pivoted continuously during the lifting. It has been shown that a complete drainage of the treatment liquid from the interstices can be achieved.

Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, dass der Träger beim Anheben gemäß einer vorgegebenen Bahnkurve verschwenkt wird. Die Steuerung kann programmierbar sein. Damit kann die Bahnkurve gemäß einem vorgegebenen Programmm vorgegeben werden. Die Bahnkurve ist empirisch für jede verwendete Träger- oder Trägerkassettengeometrie zu ermitteln. It has proved to be particularly advantageous that the carrier is pivoted when lifting in accordance with a predetermined trajectory. The controller can be programmable. Thus, the trajectory can be specified according to a predetermined program. The trajectory is to be determined empirically for each carrier or carrier cassette geometry used.

Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, die Substrate auf dem Träger in im Wesentlichen paralleler Anordnung zueinander abzustützen. Vorteilhafterweise sind die Substrate so auf dem Träger abgestützt, dass deren Oberseite im Wesentlichen parallel zur z-Achse des Trägers ausgerichtet ist. Insbesondere können die Substrate in einer Trägerkassette aufgenommen sein, welche auf den Träger gesetzt ist. It has proven to be expedient to support the substrates on the carrier in a substantially parallel arrangement with respect to one another. Advantageously, the substrates are supported on the carrier so that their top is aligned substantially parallel to the z-axis of the carrier. In particular, the substrates can be accommodated in a carrier cassette which is placed on the carrier.

Nachfolgend wird eine Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:An embodiment of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. Show it:

1 eine perspektivische Ansicht einer Vorrichtung zum Trocknen von Substraten, 1 a perspective view of an apparatus for drying substrates,

2 eine perspektivische Ansicht des Trägers sowie der Bewegungseinrichtung gemäß 1 und 2 a perspective view of the carrier and the movement device according to 1 and

3 eine perspektivische Ansicht gemäß 2, wobei die Richtungen von Schwenkbewegungen angedeutet sind. 3 a perspective view according to 2 wherein the directions of pivotal movements are indicated.

1 zeigt eine allgemein mit dem Bezugszeichen T bezeichnete Vorrichtung zum Trocknen von Substraten. Die Vorrichtung ist in einem mit dem Bezugszeichen 1 bezeichneten Gehäuse aufgenommen. In dem Gehäuse 1 ist ein Behälter 2 zur Aufnahme einer Behandlungsflüssigkeit (hier nicht gezeigt) vorgesehen, in welchen die Vorrichtung T hinein ragt. 1 shows a generally designated by the reference numeral T device for drying substrates. The device is in one with the reference numeral 1 Recorded housing added. In the case 1 is a container 2 for receiving a treatment liquid (not shown here), in which the device T projects into it.

Wie insbesondere aus den 2 und 3 ersichtlich ist, weist die Vorrichtung T eine erste Linearbewegungseinrichtung 3, eine zweite Linearbewegungseinrichtung 4 und eine dritte Linearbewegungseinrichtung 5 auf. Mit dem Bezugszeichen 6 ist allgemein ein Träger bezeichnet, welcher hier nach Art eines Rahmens mit zwei Längsholmen 7 und zwei Querholmen 8a, 8b ausgebildet ist. Die Längsholme 7 bilden zwei lange Kanten, die Querholme 8a, 8b zwei kurze Kanten des rechteckigen Rahmens. Ein erstes Längsstellglied 9 der ersten Linearbewegungseinrichtung 3 ist gelenkig im Bereich eines ersten Endes eines ersten Querholms 8a angebracht. Ein zweites Längsstellglied 10 der zweiten Linearbewegungseinrichtung 4 ist etwa in der Mitte eines zweiten Querholms 8b gelenkig angebracht. Ein drittes Längsstellglied 11 der dritten Linearbewegungseinrichtung 5 ist an einem zweiten Ende des ersten Querholms 8a gelenkig angebracht. Mit dem Bezugszeichen 12 ist eine erste Längsführungseinrichtung und mit dem Bezugszeichen 13 eine zweite Längsführungseinrichtung bezeichnet. As in particular from the 2 and 3 it can be seen, the device T has a first linear movement device 3 , a second linear movement device 4 and a third linear motion device 5 on. With the reference number 6 is generally referred to a carrier, which here in the manner of a frame with two longitudinal beams 7 and two crossbars 8a . 8b is trained. The longitudinal beams 7 form two long edges, the crossbars 8a . 8b two short edges of the rectangular frame. A first longitudinal actuator nine the first linear movement device 3 is articulated in the area of a first end of a first transverse spar 8a appropriate. A second longitudinal actuator 10 the second linear movement device 4 is about in the middle of a second crossbar 8b hinged. A third longitudinal actuator 11 the third linear movement device 5 is at a second end of the first crossbar 8a hinged. With the reference number 12 is a first longitudinal guide device and with the reference numeral 13 denotes a second longitudinal guide device.

Die Funktion der Vorrichtung wird nunmehr insbesondere in Zusammensicht mit 3 näher erläutert.The function of the device is now in particular in conjunction with 3 explained in more detail.

Die Längs- 7 und Querholme 8a, 8b spannen eine Trägerebene xy auf. Dabei verlaufen die Längsholme 7 parallel zu einer x-Achse x und die Querholme 8a, 8b parallel zu einer y-Achse y. Eine z-Achse z steht senkrecht auf der Trägerebene xy. Mit dem Bezugszeichen V ist eine Vertikalrichtung bezeichnet, welche beispielsweise der Richtung einer der vertikalen Kanten des in 1 gezeigten Gehäuses 1 entspricht. Die Vertikalrichtung verläuft im Wesentlichen parallel zum Vektor der Gewichtskraft. Sie ist unveränderlich und dient als Bezugsgröße zur Beschreibung der Schwenkbewegungen des Trägers 6. The longitudinal 7 and crossbars 8a . 8b span a carrier plane xy. The longitudinal bars run along 7 parallel to an x-axis x and the crossbars 8a . 8b parallel to a y-axis y. A z-axis z is perpendicular to the carrier plane xy. The reference character V designates a vertical direction which, for example, corresponds to the direction of one of the vertical edges of the in 1 shown housing 1 equivalent. The vertical direction is substantially parallel to the vector of weight. It is immutable and serves as a reference for describing the pivotal movements of the wearer 6 ,

Zum Trocknen werden Substrate (hier nicht gezeigt) in eine Trägerkassette eingesetzt, wie sie beispielsweise aus der DE 102 15 284 bekannt ist. Die Trägerkassette wird auf den Träger 6 gesetzt. Dabei befindet sich der Träger 6 in einer Position oberhalb des Niveaus einer im Behälter 2 aufgenommenen Behandlungsflüssigkeit. Eine Trägerebene xy steht dabei vorteilhafterweise senkrecht zur Vertikalrichtung V. Anschließend wird der Träger 6 durch geeignete Ansteuerung der Linearbewegungsvorrichtungen 3, 4 und 5 abgesenkt, bis die Substrate vollständig in die Behandlungsflüssigkeit untergetaucht sind. Die Bewegung des Trägers 6 erfolgt dabei vorteilhafterweise so, dass die Trägerebene xy etwa senkrecht zur Vertikalrichtung V bleibt. For drying substrates are used (not shown here) in a carrier cassette, as for example from the DE 102 15 284 is known. The carrier cassette is placed on the carrier 6 set. This is the carrier 6 in a position above the level of one in the container 2 absorbed treatment liquid. A carrier plane xy is advantageously perpendicular to the vertical direction V. Subsequently, the carrier 6 by suitable control of the linear motion devices 3 . 4 and 5 lowered until the substrates are completely submerged in the treatment liquid. The movement of the carrier 6 takes place advantageously so that the carrier plane xy remains approximately perpendicular to the vertical direction V.

Zum Trocknen der Substrate wird der Träger 6 durch eine geeignete Ansteuerung der Linearbewegungseinrichtungen 3, 4 und 5 langsam angehoben. Dabei kann eine Geschwindigkeit der Linearbewegungseinrichtungen 3, 4 und 5 relativ zu einander derart variiert werden, dass die Trägerebene xy relativ zur Vertikalrichtung V verschwenkt. Infolgedessen bildet die senkrecht auf der Trägerebene xy stehende z-Achse beispielsweise einen ersten Winkel α mit der Vertikalrichtung. Der erste Winkel α ist ein Winkel, welcher sich in einer zx-Ebene befindet. Durch eine geeignete Relativbewegung der Linearbewegungseinrichtungen 3, 4 und 5 kann die z-Achse selbstverständlich auch in einer yz-Ebene verschwenkt werden. Es ergibt sich dann ein (hier nicht gezeigter) zweiter Winkel β. Die sich ergebenden möglichen Schwenkbewegungen sind durch die Pfeile in 3 angedeutet. Insbesondere kann durch eine geeignete Relativbewegung beim Anheben des Trägers 6 auch eine taumelnde Bewegung der Trägerebene xy erzeugt werden. – Die Bewegungen der Linearbewegungseinrichtungen 3, 4 und 5 können auch sequenziell erfolgen, wobei der Träger 6 aufeinanderfolgend in unterschiedliche Richtungen verkippt bzw. verschwenkt wird. To dry the substrates, the carrier 6 by a suitable control of the linear movement devices 3 . 4 and 5 slowly raised. In this case, a speed of the linear movement devices 3 . 4 and 5 be varied relative to each other such that the carrier plane xy pivoted relative to the vertical direction V. As a result, the z axis perpendicular to the support plane xy forms, for example, a first angle α with the vertical direction. The first angle α is an angle which is in a zx plane. By a suitable relative movement of the linear movement devices 3 . 4 and 5 Of course, the z-axis can also be pivoted in a yz plane. It then results in a (not shown here) second angle β. The resulting possible pivoting movements are indicated by the arrows in FIG 3 indicated. In particular, by a suitable relative movement when lifting the carrier 6 also a tumbling motion of the carrier plane xy be generated. - The movements of the linear motion devices 3 . 4 and 5 can also be carried out sequentially, wherein the carrier 6 successively tilted or pivoted in different directions.

Obwohl die vorliegende Erfindung lediglich anhand der im Ausführungsbeispiel gezeigten Vorrichtung erläutert ist, sind auch andere Vorrichtungen zur Ausführung der Erfindung geeignet. Beispielsweise kann der Träger auch auf einer einzigen vertikal bewegbaren Stütze abgestützt sein. Die Schwenkbewegungen des Trägers können beispielsweise mittels einer zwischen der Stütze und dem Träger vorgesehenen verstellbaren Taumelscheibe oder durch an den Träger angelenkte Aktuatoren erzeugt werden. Although the present invention is explained only by the device shown in the embodiment, other devices are suitable for carrying out the invention. For example, the carrier may also be supported on a single vertically movable support. The pivoting movements of the carrier can be generated, for example, by means of an adjustable swash plate provided between the support and the carrier or by actuators articulated to the carrier.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Gehäuse casing
22
Behandlungsbecken treatment tank
33
erste Linearbewegungseinrichtung first linear movement device
44
zweite Linearbewegungseinrichtung second linear movement device
55
dritte Linearbewegungseinrichtung third linear movement device
66
Träger carrier
77
Längsholm longeron
8a8a
erster Querholm first crossbar
8b8b
zweiter Querholm second crossbar
99
erstes Längsbewegungselement first longitudinal movement element
1010
zweites Längsbewegungselement second longitudinal movement element
1111
drittes Längsbewegungselement third longitudinal movement element
1212
erste Längsführung first longitudinal guide
1313
zweite Längsführung second longitudinal guide
TT
Vorrichtung zum Trocknen Device for drying
VV
Vertikalrichtung vertical direction
αα
erster Winkel first angle
xx
x-Achse X axis
yy
y-Achse y-axis
zz
z-Achse z-axis

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • US 4902350 [0002] US 4902350 [0002]
  • DE 10215284 A1 [0002] DE 10215284 A1 [0002]
  • DE 10215284 [0033] DE 10215284 [0033]

Claims (22)

Verfahren zum Trocknen von Substraten mit folgenden Schritten: Untertauchen von auf einem Träger (6) abgestützten Substrate unter ein Niveau einer Behandlungsflüssigkeit; Anheben des Trägers (6) in einer im Wesentlichen vertikalen Richtung (V), wobei die Substrate so aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben werden, dass die Behandlungsflüssigkeit im Wesentlichen vollständig von der Oberfläche der Substrate abfließt, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (6) beim Anheben bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen vorgegebenen Winkel verschwenkt wird.Method of drying substrates, comprising the steps of: immersing on a support ( 6 ) supported substrates below a level of a treatment liquid; Lifting the carrier ( 6 ) in a substantially vertical direction (V), wherein the substrates are lifted out of the treatment liquid so that the treatment liquid flows substantially completely from the surface of the substrates, characterized in that the carrier ( 6 ) is pivoted upon lifting with respect to the vertical direction (V) by a predetermined angle. Verfahren nach Anspruch 1, wobei beim Anheben eine senkrecht durch eine Trägerebene (xy) verlaufende z-Achse (z) bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen ersten Winkel α von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung (V) enthaltenden xz-Ebene verschwenkt wird.Method according to claim 1, wherein, during lifting, a z-axis (z) extending vertically through a support plane (x) with respect to the vertical direction (V) at a first angle α of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a vertical direction (V) containing xz plane is pivoted. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die z-Achse (z) bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen zweiten Winkel β von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung (V) enthaltenden yz-Ebene verschwenkt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the z-axis (z) with respect to the vertical direction (V) by a second angle β of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a vertical direction (V) containing yz plane pivots becomes. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (6) während des Heraushebens kontinuierlich verschwenkt wird. Method according to one of the preceding claims, wherein the carrier ( 6 ) is pivoted continuously during lifting. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (6) beim Anheben gemäß einen vorgegebenen Bahnkurve verschwenkt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the carrier ( 6 ) is pivoted when lifting in accordance with a predetermined trajectory. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Trägerebene (xy) des Trägers (6) beim Untertauchen im Wesentlichen horizontal ausgerichtet ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the carrier plane (xy) of the carrier (xy) 6 ) is substantially horizontally aligned when immersed. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Substrate auf dem Träger (6) so abgestützt sind, dass deren Oberseite im Wesentlichen parallel zur z-Achse (z) der Trägerebene (xy) ausgerichtet ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates on the support ( 6 ) are supported so that their upper side is aligned substantially parallel to the z-axis (z) of the carrier plane (xy). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Substrate in einer Trägerkassette aufgenommen sind, welche auf den Träger (6) gesetzt ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the substrates are received in a carrier cassette, which on the support ( 6 ) is set. Vorrichtung zum Trocknen von Substraten mit einer Bewegungseinrichtung (3, 4) zum Absenken und Anheben eines Trägers (6), so dass auf dem Träger (6) abgestützte Substrate unter ein Niveau einer Behandlungsflüssigkeit untertauchbar und in einer im Wesentlichen vertikalen Richtung (V) so aus der Behandlungsflüssigkeit heraushebbar sind, dass die Behandlungsflüssigkeit im Wesentlichen vollständig von der Oberfläche der Substrate abfließt, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schwenkeinrichtung (5) vorgesehen ist, mit welcher der Träger (6) beim Anheben bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen vorgegebenen Winkel (α, β) verschwenkbar ist. Device for drying substrates with a moving device ( 3 . 4 ) for lowering and lifting a carrier ( 6 ), so that on the carrier ( 6 ) are submerged below a level of a treatment liquid and are liftable out of the treatment liquid in a substantially vertical direction (V) such that the treatment liquid substantially completely drains from the surface of the substrates, characterized in that a pivoting device ( 5 ) is provided, with which the carrier ( 6 ) when lifting relative to the vertical direction (V) by a predetermined angle (α, β) is pivotable. Vorrichtung nach Anspruch 9, wobei der Träger (6) zwei kurze (8a, 8b) und zwei lange Kanten (7) aufweist, welche eine Trägerebene (xy) aufspannen.Device according to claim 9, wherein the carrier ( 6 ) two short ( 8a . 8b ) and two long edges ( 7 ), which span a carrier plane (xy). Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, wobei der Träger (6) als Rahmen zur Aufnahme einer Trägerkassette ausgebildet ist.Apparatus according to claim 9 or 10, wherein the support ( 6 ) is designed as a frame for receiving a carrier cassette. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, wobei die Bewegungseinrichtung zumindest eine erste Linearbewegungseinrichtung (3) und zumindest eine zweite Linearbewegungseinrichtung (4) aufweist.Device according to one of claims 9 to 11, wherein the movement device at least a first linear movement device ( 3 ) and at least one second linear movement device ( 4 ) having. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, wobei die Schwenkeinrichtung zumindest eine mit dem Träger (6) verbundene dritte Linearbewegungseinrichtung (5) aufweist.Device according to one of claims 9 to 12, wherein the pivoting device at least one with the carrier ( 6 ) connected third linear movement device ( 5 ) having. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 13, wobei die erste (3) und die dritte Linearbewegungseinrichtung (5) gelenkig im Bereich der Ecken einer ersten kurzen Kante (8a) und die zweite Linearbewegungseinrichtung (4) gelenkig an der zweiten kurzen Kante (8b) angebracht sind.Device according to one of claims 9 to 13, wherein the first ( 3 ) and the third linear movement device ( 5 ) hinged in the area of the corners of a first short edge ( 8a ) and the second linear movement device ( 4 ) hinged at the second short edge ( 8b ) are mounted. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, wobei eine Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen (3, 4, 5) vorgesehen ist, derart, dass beim Untertauchen die Trägerebene (xy) im Wesentlichen horizontal ausgerichtet ist.Device according to one of claims 9 to 14, wherein a controller for controlling the linear movement devices ( 3 . 4 . 5 ) is provided, such that when submerged the carrier plane (xy) is oriented substantially horizontally. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 15, wobei eine Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen (3, 4, 5) vorgesehen ist, derart, dass, beim Anheben eine senkrecht durch die Trägerebene (xy) verlaufende z-Achse (z) bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen ersten Winkel (α) von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung (V) enthaltenden xz-Ebene verschwenkt wird. Device according to one of claims 9 to 15, wherein a control for controlling the linear movement devices ( 3 . 4 . 5 ), such that, when lifting, a z-axis (z) extending perpendicularly through the support plane (x) with respect to the vertical direction (V) by a first angle (α) of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, is pivoted in an xz plane containing the vertical direction (V). Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 16, wobei die z-Achse (z) bezüglich der Vertikalrichtung (V) um einen zweiten Winkel (β) von höchstens ±20°, vorzugsweise höchstens ±10°, in einer die Vertikalrichtung (V) enthaltenden yz-Ebene verschwenkt wird. Device according to one of claims 9 to 16, wherein the z-axis (z) with respect to the vertical direction (V) by a second angle (β) of at most ± 20 °, preferably at most ± 10 °, in a vertical direction (V) containing yz plane is pivoted. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 17, wobei eine Steuerung zum Steuern der Linearbewegungseinrichtungen (3, 4, 5) vorgesehen ist, derart, dass, der Träger (6) während des Heraushebens kontinuierlich verschwenkt wird.Device according to one of claims 9 to 17, wherein a controller for controlling the linear movement devices ( 3 . 4 . 5 ), such that the wearer ( 6 ) is pivoted continuously during lifting. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 18, wobei der Träger (6) beim Anheben gemäß einen vorgegebenen Bahnkurve verschwenkt wird.Device according to one of claims 9 to 18, wherein the carrier ( 6 ) is pivoted when lifting in accordance with a predetermined trajectory. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 19, wobei die Substrate auf dem Träger (6) in im Wesentlichen paralleler Anordnung zueinander abgestützt sind.Device according to one of claims 9 to 19, wherein the substrates on the support ( 6 ) are supported in substantially parallel relationship to each other. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 20, wobei die Substrate auf dem Träger (6) so abgestützt sind, dass deren Oberseite im Wesentlichen parallel zur z-Achse (z) des Trägers (6) ausgerichtet ist.Device according to one of claims 9 to 20, wherein the substrates on the support ( 6 ) are supported so that their upper side substantially parallel to the z-axis (z) of the carrier ( 6 ) is aligned. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 21, wobei die Substrate in einer Trägerkassette aufgenommen sind, welche auf den Träger (6) gesetzt ist.Device according to one of claims 9 to 21, wherein the substrates are received in a carrier cassette, which on the support ( 6 ) is set.
DE102011087348A 2011-11-29 2011-11-29 Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction Ceased DE102011087348A1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011087348A DE102011087348A1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction
DE202011110123U DE202011110123U1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Device for drying substrates
CN2012206468168U CN203242603U (en) 2011-11-29 2012-11-29 Apparatus for drying substrate
TW101223139U TWM468772U (en) 2011-11-29 2012-11-29 Equipment for substrate drying
KR2020120011055U KR200486679Y1 (en) 2011-11-29 2012-11-29 Device for drying substrates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011087348A DE102011087348A1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102011087348A1 true DE102011087348A1 (en) 2013-05-29

Family

ID=48287806

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE202011110123U Expired - Lifetime DE202011110123U1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Device for drying substrates
DE102011087348A Ceased DE102011087348A1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE202011110123U Expired - Lifetime DE202011110123U1 (en) 2011-11-29 2011-11-29 Device for drying substrates

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR200486679Y1 (en)
CN (1) CN203242603U (en)
DE (2) DE202011110123U1 (en)
TW (1) TWM468772U (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902350A (en) 1987-09-09 1990-02-20 Robert F. Orr Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers
DE4133561A1 (en) * 1991-10-10 1993-04-15 Reinhard Kissler Gmbh Coating prods. in electrolytic bath - by superimposing linear up=and=down motion of prods. in bath with motion of prod. carrier with horizontal circular motion
DE10215284A1 (en) 2002-04-05 2003-10-30 Astec Halbleitertechnologie Gm Drying substrates following immersion in treatment fluid, employs dipping carrier system which moves substrate between positions on carrier holder

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19637875C2 (en) * 1996-04-17 1999-07-22 Steag Micro Tech Gmbh Plant for the wet treatment of substrates
KR19980033656U (en) * 1996-12-09 1998-09-05 문정환 Wafer Transfer Device of Wafer Dryer
US6164297A (en) * 1997-06-13 2000-12-26 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying apparatus for objects to be processed
KR100431186B1 (en) * 2002-02-28 2004-05-12 주식회사 에이텍 Cleaning and drying method for wafer
KR100497999B1 (en) * 2002-11-08 2005-07-01 (주)케이.씨.텍 Method and apparatus for drying a wafer
KR20050062029A (en) * 2003-12-19 2005-06-23 삼성전자주식회사 Apparatus of wafer transfer robot to prevent drying errors in ipa dryer
JP4758846B2 (en) * 2005-11-18 2011-08-31 東京エレクトロン株式会社 Drying apparatus, drying method, and drying program, and substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing program having the same
KR20100066010A (en) * 2008-12-09 2010-06-17 세메스 주식회사 Method and apparatus for cleaning and drying substrates

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902350A (en) 1987-09-09 1990-02-20 Robert F. Orr Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers
DE4133561A1 (en) * 1991-10-10 1993-04-15 Reinhard Kissler Gmbh Coating prods. in electrolytic bath - by superimposing linear up=and=down motion of prods. in bath with motion of prod. carrier with horizontal circular motion
DE10215284A1 (en) 2002-04-05 2003-10-30 Astec Halbleitertechnologie Gm Drying substrates following immersion in treatment fluid, employs dipping carrier system which moves substrate between positions on carrier holder

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130003387U (en) 2013-06-07
CN203242603U (en) 2013-10-16
TWM468772U (en) 2013-12-21
DE202011110123U1 (en) 2013-02-21
KR200486679Y1 (en) 2018-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60032654T2 (en) Device for cleaning and drying substrates
DE19549490C2 (en) Wet chemical treatment installation for substrate plates
DE2241905A1 (en) PROCESS FOR THE MACHINE EQUIPMENT OF A PERFORATED CARRIER PLATE WITH T-SHAPED CONTACT PINS AND CONNECTING THE CONTACT PINS TO A SUBSTRATE
DE19852735B4 (en) Device for drying substrates
DE1040747B (en) Automatic machine for washing, filling and melting of ampoules or similar containers
DE102018002401B4 (en) Method and device for chemical smoothing of plastic parts
DE102008060012A1 (en) Method for turning a sawn wafer block and device therefor
EP0244867B1 (en) Method and device for the cristallization of an in a liquid dissolved substance in a weightless condition
DE4106733A1 (en) DEVICE FOR DIMMING FIELD LINES IN A GALVANIC SYSTEM (III)
DE102011087348A1 (en) Method for drying substrates of semiconductor component, involves lifting support at predetermined angle in vertical direction
DE102007058260A1 (en) Cut wafer block cleaning method for use during manufacture of solar cell, involves turning lateral edges of wafer block and/or wafer about vertical axis, so that cleaning liquid is supplied between wafers
DE102015221273A1 (en) Water jet cutting process, water jet cutting machine and workpiece holder
EP0929367B1 (en) Method and device for treating substrates
DE102014207266A1 (en) Method for drying disc-shaped substrates and disc holders for carrying out the method
DE1498929C3 (en) Processing device for tubular or cylindrical vessels
DE3635525C3 (en) Closed system primarily for pickling and / or chemical surface treatment of workpieces
DE1807989C3 (en) Device for soldering electrical connections, in particular printed circuits
DE102008047114B4 (en) Apparatus and method for lifting immersion soldering
DE202007012844U1 (en) Handling device for handling workpiece carriers
DE4118886C2 (en)
CH707832A2 (en) Aquaculture for rearing fish.
DE112018002906T5 (en) cleaning fluid
DE2636413C2 (en)
DE342052C (en) Process for cleaning filter surfaces on rotating cell filter drums with internal rinsing device and agitator working in the mass trough
DE10215284B4 (en) Method and apparatus for drying substrates

Legal Events

Date Code Title Description
R138 Derivation of utility model

Ref document number: 202011110123

Country of ref document: DE

R012 Request for examination validly filed
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final

Effective date: 20130618