DE102008049541A1 - Ultrasonic transducer for recording ultrasonic images, has monolithic, stacked piezo element which has two electrode layers and piezo ceramic layer arranged between electrode layers - Google Patents

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Abstract

The ultrasonic transducer (1) has a monolithic, stacked piezo element (10) which has two electrode layers (12,13) and a piezo ceramic layer (14) arranged between the electrode layers. A photo-structured electrical insulating layer (19) is arranged for selective electrical contacting of the outer electrode and the former electrode layer together and for selective electric insulation of the outer electrode and the latter electrode layer from each other at the surface section. An independent claim is included for a method for manufacturing an ultrasonic transducer.

Description

Die Erfindung betrifft einen Ultraschallwandler mit mindestens einem monolithischen, stapelförmigen Piezoelement, das in Stapelrichtung eine Elektrodenschicht, mindestens eine weitere Elektrodenschicht und mindestens eine zwischen den Elektrodenschichten angeordnete Piezokeramikschicht aufweist, wobei sich die Elektrodenschicht bis an einen seitlichen Oberflächenabschnitt des Piezoelements erstreckt und eine Außenelektrode derart am Oberflächenabschnitt des Piezoelements angeordnet ist, dass die Außenelektrode am Oberflächenabschnitt selektiv mit der Elektrodenschicht elektrisch leitend verbunden und am Oberflächenabschnitt selektiv von der weiteren Elektrodenschicht elektrisch isoliert ist. Neben dem Ultraschallwandler mit dem monolithischen Piezoelement werden ein Verfahren zum Herstellen des Ultraschallwandlers sowie eine Verwendung des Ultraschallwandlers angegeben.The The invention relates to an ultrasonic transducer with at least one monolithic, stacked piezoelectric element in the stacking direction an electrode layer, at least one further electrode layer and at least one disposed between the electrode layers Having piezoceramic layer, wherein the electrode layer until to a side surface portion of the piezoelectric element extends and an outer electrode so on the surface portion of the piezoelectric element is arranged such that the outer electrode at the surface portion selectively with the electrode layer electrically connected and on the surface portion selectively electrically isolated from the further electrode layer is. In addition to the ultrasonic transducer with the monolithic piezoelectric element be a method of manufacturing the ultrasonic transducer as well a use of the ultrasonic transducer specified.

Ein Ultraschallwandler der genannten Art ist beispielsweise aus R. L. Goldberg et al., IEEE Ultrasonic Symposium, 1993, S. 1103 bis 1106 bekannt. Der Ultraschallwandler ist ein sogenannter 2D-Ultraschallwander. Bei dem bekannten 2D-Ultraschallwandler sind 3 × 43 einzelne Piezoelemente zu einer Piezoelement-Matrix angeordnet. Die Piezoelemente dienen dem Umwandeln von Schallwellen in ein elektrisches Signal. Jedes der Piezoelemente weist eine Vielschicht-Kondensatorstruktur mit einem Stapel aus übereinander angeordneten, elektrisch parallel geschalteten Kondensatorelementen auf. Jedes der Kondensatorelemente verfügt über eine piezoelektrische Schicht. An einander abgekehrten Hauptflächen der piezoelektrischen Schicht sind Elektrodenschichten angeordnet. Im Stapel benachbarte Kondensatorelemente weisen jeweils eine gemeinsame Elektrodenschicht auf. Ein piezoelekt risches Material der piezoelektrischen Schichten ist Bleizirkonattitanat (PZT). Eine Stapelhöhe des Stapels beträgt beispielsweise 660 μm. Eine Grundfläche des Stapels beträgt 370 μm × 3.500 μm.An ultrasonic transducer of the type mentioned is, for example RL Goldberg et al., IEEE Ultrasonic Symposium, 1993, pp. 1103-1106 known. The ultrasonic transducer is a so-called 2D ultrasonic transducer. In the known 2D ultrasonic transducer 3 × 43 individual piezo elements are arranged to a piezo element matrix. The piezoelectric elements are used to convert sound waves into an electrical signal. Each of the piezoelectric elements has a multilayer capacitor structure with a stack of capacitor elements arranged one above another and electrically connected in parallel. Each of the capacitor elements has a piezoelectric layer. On opposite major surfaces of the piezoelectric layer electrode layers are arranged. In the stack adjacent capacitor elements each have a common electrode layer. Piezoelectric material of the piezoelectric layers is lead zirconate titanate (PZT). A stack height of the stack is, for example, 660 μm. A footprint of the stack is 370 μm × 3,500 μm.

Aus der US 5,329,496 ist ein Ultraschallwandler mit Piezoelementen in monolithischer Vielschichtbauweise bekannt. Zum Herstellen der Piezoelemente werden beispielsweise keramische Grünfolien mit PZT, die in einem Siebdruckverfahren mit einer Silber-Palladium-Paste bedruckt sind, übereinander gestapelt, entbindert und gemeinsam gesintert. Es entsteht ein Stapel, bei dem Elektrodenschichten (Innenelektroden) aus Silber-Palladium und piezoelektrische Schichten aus PZT abwechselnd übereinander zu einem monolithischen Stapel angeordnet sind. Eine Stapelhöhe beträgt dabei 500 μm bis 1000 μm.From the US 5,329,496 is an ultrasonic transducer with piezo elements in a monolithic multilayer construction known. To produce the piezoelectric elements, for example, green ceramic films with PZT, which are printed in a screen printing process with a silver-palladium paste, are stacked on top of one another, debinded and sintered together. The result is a stack in which electrode layers (inner electrodes) made of silver-palladium and piezoelectric layers of PZT are arranged alternately one above the other to form a monolithic stack. A stack height is 500 .mu.m to 1000 .mu.m.

Zur elektrischen Kontaktierung der Elektrodenschichten sind in Stapelrichtung benachbarte Elektrodenschichten abwechselnd an zwei elektrisch voneinander isolierte, seitliche Oberflächenabschnitte des Stapels geführt, an denen jeweils eine Außenmetallisierung angebracht ist. Jede der Elektrodenschichten eines Kondensatorelements erstreckt sich dabei nicht über die gesamte Hauptfläche der jeweiligen piezoelektrischen Schicht. Die Bereiche mit den beiden Außenmetallisierungen werden als Kontaktzonen des Piezoelements bezeichnet. Im Bereich dieser Kontaktzonen sind die piezoelektrische Schicht und damit das Piezoelement piezoelektrisch inaktiv. Durch die elektrische Ansteuerung der Elektrodenschichten wird in die piezoelektrische Schicht ein elektrisches Feld eingekoppelt, das zur Auslenkung der piezoelektrischen Schicht führt. In einen piezoelektrisch inaktiven Bereich der piezoelektrischen Schicht wird dabei ein elektrisches Feld eingekoppelt, das sich deutlich von dem elektrischen Feld unterscheidet, das in einen piezoelektrisch aktiven Bereich der piezoelektrischen Schicht eingekoppelt wird. Der piezoelektrisch aktive Bereich der piezoelektrischen Schicht befindet sich direkt zwischen den benachbarten Elektrodenschichten. Bei der elektrischen Ansteuerung der Elektrodenschichten, also beim Polarisieren und/oder im Betrieb des Piezoelements, kommt es aufgrund der unterschiedlichen elektrischen Felder zu unterschiedlichen Auslenkungen der piezoelektrischen Schicht im piezoelektrisch aktiven Bereich und im piezoelektrisch inaktiven Bereich.to electrical contacting of the electrode layers are in the stacking direction adjacent electrode layers alternately on two electrically from each other isolated, lateral surface sections of the stack led, in each case an outer metallization is appropriate. Each of the electrode layers of a capacitor element does not extend over the entire main surface the respective piezoelectric layer. The areas with the two External metallizations are used as contact zones of the piezoelectric element designated. In the region of these contact zones are the piezoelectric layer and thus the piezoelectric element piezoelectrically inactive. By the electric Control of the electrode layers is in the piezoelectric Layer coupled an electric field, which is used to deflect the piezoelectric layer leads. In a piezoelectric Inactive region of the piezoelectric layer is thereby an electric Field coupled, which differs significantly from the electric field, that in a piezoelectrically active region of the piezoelectric Layer is coupled. The piezoelectrically active region of piezoelectric layer is located directly between the adjacent ones Electrode layers. In the electrical control of the electrode layers, So when polarizing and / or during operation of the piezoelectric element comes it due to the different electrical fields to different Deflections of the piezoelectric layer in the piezoelectrically active Area and in the piezoelectrically inactive area.

Die bekannten Ultraschallwandler werden in der medizinischen Diagnostik eingesetzt. Dabei fungiert der Ultraschallwandler als Antenne, die kurze Schallimpulse aussendet beziehungsweise empfängt. Eine Dicke (Stapelhöhe) der Piezoelemente bestimmt eine Arbeitsfrequenz der Antenne. Im Fall der Piezoelemente in monolithischer Vielschichtbauweise beträgt die Arbeitsfrequenz zwischen 1 MHz und 10 MHz. Eine laterale Abmessung der Piezoelemente (Länge und eine Breite) stellen ein Maß für eine laterale Auflösung der Antenne dar. Je kleiner eine Stapellänge und je kleiner eine Stapelbreite der Piezoelemente sind, desto mehr Piezoelemente können pro Flächeneinheit in einem entsprechenden Sensor-Kopf platziert werden und desto höher ist daher die Auflösung. Eine hohe Auflösung ist für eine Erstellung von dreidimensionalen Abbildungen notwendig.The known ultrasonic transducers are used in medical diagnostics used. In this case, the ultrasonic transducer acts as an antenna, the sends or receives short sound pulses. A thickness (stack height) of the piezo elements determines a Working frequency of the antenna. In the case of piezo elements in monolithic Multilayer construction is the working frequency between 1 MHz and 10 MHz. A lateral dimension of the piezo elements (length and a width) represent a measure of a lateral Resolution of the antenna. The smaller a stack length and the smaller a stack width of the piezo elements, the more Piezo elements can per unit area in one corresponding sensor head are placed and the higher is therefore the resolution. A high resolution is necessary for creating three-dimensional images.

Eine kleine Dimensionierung der Piezoelemente bei gleichzeitig hoher Effizienz ist mit einem Ultraschallwandler mit vollaktiven Piezoelementen möglich. Aus der WO 2005/075113 A1 ist ein derartiger Ultraschallwandler bekannt. Eine laterale Stapel-Abmessung der Piezoelemente beträgt beispielsweise 250 μm. Die Stapelhöhe beläuft sich beispielsweise auf 500 μm. Im Piezoelement-Stapel bedecken die Elektrodenschichten die benachbarte Piezokeramikschicht vollflächig. Dadurch resultiert ein hohes piezoelektrisch aktives Volumen des Piezoelements.A small dimensioning of the piezo elements with simultaneously high efficiency is possible with an ultrasonic transducer with fully active piezo elements. From the WO 2005/075113 A1 Such an ultrasonic transducer is known. A lateral stack dimension of the piezo elements is for example 250 μm. The stack height amounts, for example, to 500 μm. In the piezoelectric element stack, the electrode layers cover the adjacent piezoceramic layer over the entire surface. This results in a high piezoelectrically active volume of the piezoelectric element.

Problematisch bei diesem Ultraschallwandler ist allerdings die Notwendigkeit, die Elektrodenschichten einzeln zu kontaktieren. Dies gelingt hier durch elektrophoretische Abscheidung von Isolationsmaterial an einem Oberflächenabschnitt des Piezoelements, an dem die Elektrodenschicht, die bei der Abscheidung angesteuert wird, elektrisch isoliert werden soll. Dieses Verfahren ist Zeit aufwändig.Problematic however, with this ultrasonic transducer, there is a need to contact the electrode layers individually. This succeeds here by Electrophoretic deposition of insulating material on a surface portion of the piezoelectric element, on which the electrode layer, during the deposition is controlled, to be electrically isolated. This method is time consuming.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, aufzuzeigen, wie eine einfache Einzelkontaktierung der Elektrodenschichten eines Piezoelements eines Ultraschallwandlers realisiert werden kann.task The present invention is to show how a simple Single contact of the electrode layers of a piezoelectric element an ultrasonic transducer can be realized.

Zur Lösung der Aufgabe wird ein Ultraschallwandler mit mindestens einem monolithischen, stapelförmigen Piezoelement angegeben, das in Stapelrichtung eine Elektrodenschicht, mindestens eine weitere Elektrodenschicht und mindestens eine zwischen den Elektrodenschichten angeordnete Piezokeramikschicht aufweist, wobei sich die Elektrodenschicht bis an einen seitlichen Oberflächenabschnitt des Piezoelements erstreckt, eine Außenelektrode derart am Oberflächenabschnitt des Piezoelements angeordnet ist, dass die Außenelektrode am Oberflächenabschnitt selektiv mit der Elektrodenschicht elektrisch leitend verbunden und am Oberflächenabschnitt selektiv von der weiteren Elektrodenschicht elektrisch isoliert ist. Der Ultraschallwandler ist dadurch gekennzeichnet, dass zur selektiven elektrischen Kontaktierung der Außenelektrode und der Elektrodenschicht miteinander und zur selektiven elektrischen Isolierung der Außenelektrode und der weiteren Elektrodenschicht voneinander am Oberflächenabschnitt eine photostrukturierte elektrische Isolationsschicht angeordnet ist.to Solution of the task is an ultrasonic transducer with at least given a monolithic, stacked piezoelectric element, in the stacking direction, an electrode layer, at least one further Electrode layer and at least one between the electrode layers arranged piezoceramic layer, wherein the electrode layer to a side surface portion of the piezoelectric element extends, an outer electrode so on the surface portion of the piezoelectric element is arranged such that the outer electrode at the surface portion selectively with the electrode layer electrically conductively connected and selective on the surface portion is electrically isolated from the further electrode layer. Of the Ultrasonic transducer is characterized in that the selective electrical contacting of the outer electrode and the electrode layer together and for selective electrical insulation of the outer electrode and the further electrode layer from each other at the surface portion arranged a photostructured electrical insulation layer is.

Vorzugsweise ist auch die weitere Elektrodenschicht entsprechend elektrisch kontaktiert bzw. isoliert. Gemäß einer besonderen Ausgestaltung erstreckt sich die weitere Elektrodenschicht bis an einen weiteren seitlichen Oberflächenabschnitt des Piezoelements. Eine von der Außenelektrode elektrisch isolierte weitere Außenelektrode ist derart am weiteren Oberflächenabschnitt des Piezoelements angeordnet, dass die weitere Außenelektrode am weiteren Oberflächenabschnitt selektiv mit der weiteren Elektrodenschicht elektrisch leitend verbunden und am weiteren Oberflächenabschnitt selektiv von der Elektrodenschicht elektrisch isoliert ist. Zur selektiven elektrischen Kontaktierung der weiteren Außenelektrode und der weiteren Elektrodenschicht miteinander und zur selektiven elektrischen Isolierung der weiteren Außenelektrode und der Elektrodenschicht voneinander ist am weiteren Oberflächenabschnitt eine weitere photostrukturierte elektrische Isolationsschicht angeordnet ist. Die Isolationsschichten weisen beispielsweise eine Schichtstärke von 5 μm bis 10 μm auf. Höhere Schichtstärken bis 20 μm sind ebenfalls denkbar.Preferably the further electrode layer is also electrically contacted accordingly or isolated. According to a particular embodiment the further electrode layer extends to another one lateral surface portion of the piezoelectric element. A from the outer electrode electrically isolated further outer electrode is arranged on the further surface portion of the piezoelectric element, that the further outer electrode on the further surface portion selectively electrically conductively connected to the further electrode layer and at the further surface portion selectively from the electrode layer is electrically isolated. For selective electrical contacting the further outer electrode and the further electrode layer with each other and for selective electrical isolation of the others Outer electrode and the electrode layer from each other at the further surface portion another photostructured electrical insulation layer is arranged. The insulation layers For example, have a layer thickness of 5 microns up to 10 μm. Higher layer thicknesses up to 20 μm are also conceivable.

Zur Lösung der Aufgabe wird auch ein Verfahren zum Herstellen des Ultraschallwandlers mit folgenden Verfahrensschritten angegeben: a) Bereitstellen eines keramischen Grün-Riegels mit abwechselnd übereinander angeordneten piezokeramischen Grünfolien und dazwischen angeordneten Metall-Schichten, b) Temperaturbehandeln des Grün-Riegels, wobei ein Keramik-Riegel mit einer sich bis an einen Riegel-Oberflächenabschnitt erstreckenden Riegel-Elektrodenschicht, mindestens einer weiteren sich bis an einen weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt erstreckenden weiteren Riegel-Elektrodenschicht und einer zwischen den Riegel-Elektrodenschichten angeordneten Riegel-Piezokeramikschicht entsteht, c) Kontaktieren der Riegel-Elektrodenschicht durch Aufbringen einer Riegel-Metallisierung am Riegel-Oberflächenabschnitt des Keramik-Riegels, und d) Zerteilen des Keramik-Riegels in eine Mehrzahl von Piezoelementen. Der Keramik-Riegel und der Keramik-Riegel sind quaderförmig. Sie liegen als Quader vor.to Solution to the problem is also a method of manufacturing of the ultrasonic transducer indicated with the following process steps: a) providing a ceramic green bar with alternately one above the other arranged piezoceramic green sheets and in between arranged metal layers, b) temperature treatment of the green bar, wherein a ceramic bar with a down to a bar surface portion extending bar electrode layer, at least one other up to another bar surface section extending further bar electrode layer and an intermediate the bar-electrode layers arranged bar-piezoceramic layer c) contacting the bar electrode layer by applying a bar metallization on the bar surface section the ceramic bar, and d) cutting the ceramic bar into one Plurality of piezo elements. The ceramic bar and the ceramic bar are cuboid. They are available as a cuboid.

In gleicher Weise wird bezüglich der Kontaktierung der weiteren Riegel-Elektrodenschicht vorgegangen. Vor dem Zerteilen des Keramik-Riegels wird folgender weitere Verfahrensschritt durchgeführt: e) Weiteres Kontaktieren der weiteren Riegel-Elektrodenschicht durch weiteres Aufbringen einer weiteren Riegel-Metallisierung am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt des Keramik-Riegels.In the same way with respect to the contacting of the other Bar electrode layer proceeded. Before cutting the ceramic bar the following further process step is carried out: e) further contacting the further bar electrode layer further application of a further bar metallization on the other Bolt surface section of the ceramic latch.

Das Aufbringen der Metallisierungen erfolgt beispielsweise durch Sputtern. Die resultierenden Metallisierungsbahnen weisen beispielsweise eine Bahn-Stärke von 2 μm bis 5 μm auf.The Applying the metallization is done for example by sputtering. The resulting metallization webs have, for example, a web strength from 2 μm to 5 μm.

Ein Sprühverfahren, bei dem beispielsweise ein bei niedriger Temperatur sinterndes Metall aufgebracht wird, ist ebenfalls denkbar. Ein derartiges Metall ist beispielsweise Silber mit Nano-Partikeln. Dabei werden beispielsweise Bahnstärken der Metallisierungsbahnen von 5 μm bis 10 μm erhalten.One Spray method in which, for example, one at low Temperature sintering metal is applied, is also conceivable. Such a metal is for example silver with nano-particles. In this case, for example, web thickness of the metallization from 5 .mu.m to 10 .mu.m.

Die resultierenden Keramik-Riegel können in einzelne Piezoelemente zerteilt werden. Diese einzelnen Piezoelemente werden anschließend auf einem Träger platziert und befestigt, beispielsweise durch Verkleben. Aufgrund der geringen Abmessungen der Piezoelemente (unter 1 mm) ist es aber vorteilhaft, zunächst die Keramik-Riegel auf einem Träger, beispielsweise auf einem Träger eines Ultraschall-Sensorkopfs, zu platzieren und erst danach zu zerteilen. Der Keramik-Riegel kann im Vergleich zu den vereinzelten Piezoelementen wesentlich einfacher ausgerichtet werden. Gemäß einer besonderen Ausgestaltung wird daher nach dem Kontaktieren und dem weiteren Kontaktieren und vor dem Zerteilen ein Aufbringen des Keramik-Riegels auf einen Träger durchgeführt. Auch hier bietet sich insbesondere ein Befestigen durch Kleben an.The resulting ceramic bars can be divided into individual piezo elements. These individual piezo elements are then placed on a support and fixed, for example by gluing. Due to the small dimensions of the piezoelectric elements (less than 1 mm), it is advantageous to first place the ceramic bars on a support, for example on a support of an ultrasonic sensor head, and only then to divide. The ceramic bar can be aligned much easier compared to the isolated piezo elements. According to a particular embodiment, therefore, after contacting and further contacting and before Zertei len performed an application of the ceramic bar on a support. Here, too, attaching by gluing offers particular.

Zum Zerteilen des Keramik-Riegels wird vorzugsweise gesägt. Durch den Sägeverschnitt entstehen Gräben. Die Graben-Breite der Gräben lässt sich durch Variation des Sägespalts einstellen. Damit ist es möglich, eine gewünschte örtliche Auflösung des Ultraschallwandlers zu erzielen.To the Parting of the ceramic bar is preferably sawn. The saw cut creates trenches. The Trench width of the trenches can be determined by variation adjust the sawing gap. This makes it possible a desired local resolution of the ultrasonic transducer to achieve.

Im Hinblick auf die Kontaktierung werden gemäß einer besonderen Ausgestaltung vor dem Aufbringen der Riegel-Metallisierung ein Erzeugen einer photostrukturierten Riegel-Isolationsschicht am Riegel-Oberflächenabschnitt durchgeführt und/oder vor dem weiteren Aufbringen der weiteren Riegel-Metallisierung ein weiteres Erzeugen einer weiteren photostrukturierten Riegel-Isolationsschicht am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt durchgeführt. Zum Erzeugen der Riegel-Isolationsschicht am Riegel-Oberflächenabschnitt und/oder zum Erzeugen der weiteren Riegel-Isolationsschicht am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt wird insbesondere ein Aufbringen einer photoempfindlichen Schicht durchgeführt. In der aufgebrachten photoempfindlichen Schicht wird mittels Belichtung mindestens eine Kontaktierungsöffnung erzeugt. Durch die Kontaktierungsöffnung wird die zu kontaktierende Elektrodenschicht am entsprechenden Riegel-Oberflächenabschnitt freigelegt.in the With regard to contacting, according to a special embodiment before applying the bar metallization producing a photostructured bar insulation layer performed on the bar surface section and / or before further application of the further bar metallization further producing a further photostructured bar insulation layer performed on the other bar surface section. For producing the bar insulating layer on the bar surface portion and / or for producing the further bar insulation layer further Bar surface section is in particular an application of a Photosensitive layer performed. In the angry Photosensitive layer is exposed by means of at least one Contact opening generated. Through the contact opening becomes the electrode layer to be contacted at the corresponding bar surface portion exposed.

Die beschriebene Einzelkontaktierung eignet sich insbesondere für vollaktive Piezoelemente. In einer besonderen Ausgestaltung begrenzen die Elektrodenschicht und die weitere Elektrodenschicht die Piezokeramikschicht im Wesentlichen vollflächig. Dies führt zu einem maximal möglichen piezoelektrisch aktiven Volumen der Piezokeramikschicht. Außerdem ist damit ein verbessertes Frequenzverhalten verbunden.The described single contact is particularly suitable for fully active piezo elements. Limit in a particular embodiment the electrode layer and the further electrode layer, the piezoceramic layer essentially full surface. This leads to a maximum possible piezoelectrically active volume of the piezoceramic layer. In addition, this is associated with improved frequency response.

Insbesondere weist das Piezoelement eine aus dem Bereich von 100 μm bis 500 μm ausgewählte laterale Stapel-Abmessung auf. Die laterale Abmessung ist eine Länge oder Breite des Piezoelements.Especially the piezoelectric element has a range of 100 μm up to 500 μm selected lateral stack dimension on. The lateral dimension is a length or width of the piezoelectric element.

Das Piezoelement weist vorzugsweise eine Mehrzahl Elektrodenschichten, eine Mehrzahl von weiteren Elektrodenschichten und eine Mehrzahl von Piezokeramikschichten auf. Das Piezoelement liegt in Mehrschichtbauweise vor. Die einzelnen Piezoelemente weisen dabei insbesondere eine aus dem Bereich von 200 μm bis 1000 μm und vorzugsweise aus dem Bereich von 500 μm bis 1000 μm ausgewählte Stapel-Höhe auf. Vorteilhaft ist es beispielsweise, wenn das Piezoelement in Mehrschichtbauweise eine ungerade Anzahl an Innenelektroden (Elektrodenschichten und weitere Elektrodenschichten) hat. Die Anzahl der Innenelektroden beträgt beispielsweise fünf oder sieben. In diesem Fall werden die oberste und die unterste Elektrodenschicht (äußerste Elektrodenschichten) mit dem gleichen elektrischen Potential angesteuert. Somit werden aufwändige Isolierungen zwischen einer obersten Lage als Anpassungs-Schicht zur Ultraschall-Aussendung und dem Träger (Basisplatte) vermieden, auf dem die Piezoelemente aufgeklebt sind.The Piezoelement preferably has a plurality of electrode layers, a plurality of further electrode layers and a plurality of piezoceramic layers. The piezoelectric element is in multilayer construction in front. The individual piezo elements have in particular one from the range of 200 microns to 1000 microns, and preferably selected from the range of 500 microns to 1000 microns stack height on. It is advantageous, for example, if the piezoelectric element in Multilayer construction an odd number of internal electrodes (electrode layers and further electrode layers). The number of internal electrodes is for example five or seven. In this Case, the top and bottom electrode layers (outermost Electrode layers) with the same electrical potential. Thus, elaborate insulation between a top Position as adjustment layer for ultrasonic emission and the carrier (Base plate) avoided, on which the piezo elements are glued.

Im Hinblick auf eine gute Auflösung, die mit dem Ultraschallwandler erzielt werden soll, sind folgende Merkmale besonders vorteilhaft: Eine Vielzahl von Piezoelementen ist auf einem Träger nebeneinander und durch Gräben voneinander beabstandet angeordnet. Zwischen den Piezoelementen verlaufen Gräben. Die Gräben weisen insbesondere eine aus dem Bereich von 20 μm bis 60 μm ausgewählte Graben-Breite auf. Beispielsweise beträgt die Grabenbreite 40 μm. Vorteilhaft weisen die Gräben elektrisches Isolationsmaterial auf. Dadurch wird eine elektrische Isolierung benachbarter Piezoelemente verbessert.in the In view of a good resolution with the ultrasonic transducer is to be achieved, the following features are particularly advantageous: A plurality of piezoelectric elements is on a support next to each other and spaced apart by trenches. Between The piezo elements are trenches. The trenches in particular have a range from 20 microns to 60 μm selected trench width. For example the trench width is 40 μm. Advantageously the trenches contain electrical insulation material. Thereby an electrical insulation of adjacent piezoelectric elements is improved.

Gemäß einer besonderen Ausgestaltung ist Vielzahl der Piezoelemente als zweidimensionale Matrix auf dem Träger angeordnet. Mit dem beschriebenen Herstellverfahren ist eine derartige Matrix besonders einfach herzustellen.According to one special embodiment is a plurality of piezoelectric elements as a two-dimensional matrix arranged on the carrier. With the described manufacturing process Such a matrix is particularly easy to produce.

Der Ultraschallwandler wird insbesondere zur Aufnahme eines Ultraschallbildes eingesetzt. Vorzugsweise wird Ultraschallwandler in der medizinischen Diagnostik oder in der zerstörungsfreien Werkstoffprüfung (Ultraschallprüfung) verwendet.Of the Ultrasonic transducer is used in particular for receiving an ultrasound image used. Preferably, ultrasonic transducer is used in the medical Diagnostics or in non-destructive materials testing (Ultrasonic testing) used.

Zusammenfassend sind folgende Vorteile der Erfindung hervorzuheben:

  • – Durch die Erfindung sind vollaktive Piezoelemente für einen Ultraschallwandler zugänglich. Vollaktive Piezoelemente zeigen ein im Vergleich zu einem Piezoelement mit piezoelektrisch aktiven und piezoelektrisch inaktiven Bereichen verbessertes Frequenzverhalten.
  • – Aufgrund der vollflächig auf eine Piezokeramikschicht aufgebrachten Elektrodenschichten resultiert eine hohe Schichthomogenität.
  • – Durch die elektrische Kontaktierung auf der Stufe eines Keramik-Riegels ist eine Nutzen-Verarbeitung möglich. Die Kontaktierung ist nicht nur kostengünstig. Die Kontaktierung erfolg insbesondere mit hoher Genauigkeit.
In summary, the following advantages of the invention should be emphasized:
  • - Fully active piezoelectric elements for an ultrasonic transducer are accessible by the invention. Fully active piezoelectric elements show an improved frequency response compared to a piezoelectric element with piezoelectrically active and piezoelectrically inactive regions.
  • - Due to the entire surface applied to a piezoceramic layer electrode layers results in a high layer homogeneity.
  • - By the electrical contacting at the level of a ceramic bar a benefit processing is possible. The contact is not only inexpensive. The contacting succeeds in particular with high accuracy.

Anhand eines Ausführungsbeispiels und der dazugehörigen Figuren wird die Erfindung näher erläutert. Die Figuren sind schematisch und stellen keine maßstabsgetreuen Abbildungen dar.Based an embodiment and the associated Figures, the invention is explained in detail. The Figures are schematic and are not to scale Illustrations

1A zeigt ein Piezoelement des Ultraschallwandlers in einem seitlichen Querschnitt. 1A shows a piezoelectric element of the ultrasonic transducer in a lateral cross-section.

1B zeigt einen Ausschnitt des Piezoelements in einem seitlichen Querschnitt. 1B shows a section of the piezoelectric element in a lateral cross section.

2 zeigt einen Ausschnitt eines Piezoelement-Arrays eines Ultraschallwandlers in Aufsicht. 2 shows a section of a piezoelectric element array of an ultrasonic transducer in a plan view.

3 zeigt ein Verfahren zum Herstellen des Piezoelements. 3 shows a method of manufacturing the piezoelectric element.

Der Ultraschallwandler 1 ist eine 2D-Ultraschallantenne. Diese 2D-Ultraschallantenne besteht aus 64 × 64 einzelnen Piezoelementen 2. Die Piezoelemente sind zu einer 64 × 64 Elemente enthaltenden Piezoelement-Matrix 110 zusammengefasst (2). Die Vielzahl der Piezoelemente ist auf einem gemeinsamen Träger 2 angeordnet. Der Träger dient unter anderem der elektrischen Ansteuerung der Piezoelemente.The ultrasonic transducer 1 is a 2D ultrasound antenna. This 2D ultrasonic antenna consists of 64 × 64 individual piezo elements 2 , The piezo elements are a 64 × 64 elements containing piezo element matrix 110 summarized ( 2 ). The plurality of piezo elements is on a common carrier 2 arranged. Among other things, the carrier serves the electrical control of the piezoelectric elements.

Jedes der Piezoelemente ist ein monolithisches Piezoelement in Vielschichtbauweise, das in Stapelrichtung 11 mindestens eine Elektrodenschicht 12, mindestens eine weitere Elektrodenschicht 13 und mindestens eine zwischen den Elektrodenschichten angeordnete piezoelektrische Schicht in Form einer Piezokeramikschicht 14 aufweist. In einer ersten Ausführungsform sind fünf Piezokeramikschichten und sechs Elektrodenschichten bzw. weitere Elektrodenschichten übereinander gestapelt (vgl. 3). In einer weiteren Ausführungsform sind vier Piezokeramikschichten und fünf Innenelektrodenschichten übereinander gestapelt (vgl. 1A). Den Abschluss des Stapels bilden zwei piezoelektrisch inaktive Deckschichten 21 aus einer Keramik.Each of the piezoelectric elements is a monolithic piezoelectric element in multilayer construction, in the stacking direction 11 at least one electrode layer 12 , at least one further electrode layer 13 and at least one piezoelectric layer in the form of a piezoceramic layer arranged between the electrode layers 14 having. In a first embodiment, five piezoceramic layers and six electrode layers or further electrode layers are stacked on top of each other (cf. 3 ). In a further embodiment, four piezoceramic layers and five inner electrode layers are stacked on top of each other (cf. 1A ). The stack ends with two piezoelectrically inactive layers 21 from a ceramic.

Die Piezokeramikschichten sind aus einem Blei-Zirkonat-Titanat (PZT). Die Elektrodenschichten sind aus einer Silber-Palladium-Legierung. Eine Grundfläche der Piezokeramikschichten und eine Grundfläche der Elektrodenschichten sind quadratisch und im Wesentlichen gleich. Dies bedeutet, die Elektrodenschicht und die weitere Elektrodenschicht die dazwischen angeordnete Piezokeramikschicht vollflächig begrenzen. Die Piezoelemente sind vollaktiv.The Piezoceramic layers are made of a lead zirconate titanate (PZT). The electrode layers are made of a silver-palladium alloy. A base of piezoceramic layers and a base the electrode layers are square and substantially the same. This means that the electrode layer and the further electrode layer the interposed piezoceramic layer over the entire surface limit. The piezo elements are fully active.

Eine Kantenlänge der Grundfläche jedes der Piezoelemente und damit deren laterale Abmessung 101 beträgt etwa 100 μm. Die Grundfläche des Piezoelements beträgt 100 μm × 100 μm. Die Stapelhöhe 102 entlang der Stapelrichtung 11 der Piezoelemente beträgt etwa 500 μm.An edge length of the base area of each of the piezo elements and thus their lateral dimension 101 is about 100 microns. The base of the piezoelectric element is 100 .mu.m.times.100 .mu.m. The stack height 102 along the stacking direction 11 the piezoelectric elements is about 500 microns.

Die Elektrodenschicht 12 eines Piezoelements erstreckt sich bis an den seitlichen Oberflächenabschnitt 15 des Piezoelements. Die weitere Elektrodenschicht 13 ist ebenfalls bis an diesen Oberflächenabschnitt geführt. An diesem Oberflächenabschnitt ist die Elektrodenschicht mit der aufgebrachten Außenelektrode 17 elektrisch kontaktiert. Die Außenelektrode wird von einer am Oberflächenabschnitt aufgebrachten Metallisierungsbahn gebildet.The electrode layer 12 a piezoelectric element extends to the lateral surface portion 15 of the piezoelectric element. The further electrode layer 13 is also led to this surface section. At this surface portion is the electrode layer with the external electrode applied 17 electrically contacted. The outer electrode is formed by a metallization path applied to the surface section.

Die Außenelektrode ist an dem Oberflächenabschnitt von der weiteren Elektrodenschicht 13 elektrisch isoliert. Dazu ist am Oberflächenabschnitt photostrukturierte Isolationsschicht 19 angeordnet.The outer electrode is at the surface portion of the further electrode layer 13 electrically isolated. For this purpose, photostructured insulation layer is on the surface portion 19 arranged.

Die weitere Elektrodenschicht 13 eines Piezoelements erstreckt sich bis an den weiteren seitlichen Oberflächenabschnitt 16 des Piezoelements. Die Elektrodenschicht 12 ist ebenfalls bis an diesen weiteren Oberflächenabschnitt geführt. An diesem weiteren Oberflächenabschnitt ist die weitere Elektrodenschicht mit der aufgebrachten weiteren Außenelektrode 18 elektrisch kontaktiert. Die weitere Außenelekt rode wird von einer am weiteren Oberflächenabschnitt aufgebrachten weiteren Metallisierungsbahn gebildet.The further electrode layer 13 a piezoelectric element extends to the further lateral surface portion 16 of the piezoelectric element. The electrode layer 12 is also guided to this other surface section. At this further surface portion is the further electrode layer with the applied further outer electrode 18 electrically contacted. The further outer electrode is formed by a further metallization web applied to the further surface section.

Das Herstellverfahren ist in 3 angedeutet. Der rechte Teil der 3 stellt einen jeweiligen Schnitt entlang der Verbindungslinie A-A dar. Zum Herstellen des Ultraschallwandlers wird wie folgt vorgegangen: Ein keramischer Grünblock mit übereinander gestapelten und laminierten Grünfolien und dazwischen angeordneten Metallschichten wird in Grünriegel zersägt. Diese Grünriegel werden entbindert und gesintert. Es entstehen entsprechende Keramik-Regel 22. Diese Keramik-Riegel weisen jeweils mindestens eine sich bis an einen seitlichen Riegel-Oberflächenabschnitt 26 erstreckende Riegel-Elektrodenschicht 23, mindestens eine sich bis an den seitlichen Riegel-Oberflächenabschnitt erstreckende weitere Riegel-Elektrodenschicht 24 und eine zwischen den Riegel-Elektrodenschichten angeordnete Riegel-Piezokeramikschicht 25 auf.The production process is in 3 indicated. The right part of the 3 represents a respective section along the connecting line AA. The procedure for producing the ultrasonic transducer is as follows: A ceramic green block with green sheets stacked on top of one another and laminated metal layers is sawn into green bars. These green bars are debinded and sintered. There are corresponding ceramic rule 22 , These ceramic bars each have at least one up to a side bar surface portion 26 extending bar electrode layer 23 at least one further bar electrode layer extending to the side bar surface portion 24 and a bar-piezoceramic layer disposed between the bar electrode layers 25 on.

Die Riegel-Elektrodenschichten werden elektrisch kontaktiert. Dazu wird am Riegel-Oberflächenabschnitt eine photostrukturierbare Isolationsschicht 27 aufgebracht und zur Riegel-Elektrodenschicht hin geöffnet. In der aufgebrachten Isolationsschicht wird eine Kontaktierungsöffnung 28 durch Photostrukturierung erzeugt, beispielsweise durch Belichten und Entwickeln der Isolationsschicht. Dazu wird der Keramik-Riegel vor dem Aufbringen der Isolationsschicht optisch vermessen. An der Stelle, an der die Elektrodenschicht kontaktiert werden soll, wird die Kontaktierungsöffnung erzeugt.The bar electrode layers are electrically contacted. For this purpose, a photostructurable insulation layer is formed on the bar surface section 27 applied and opened to the bar electrode layer. In the applied insulating layer is a contact hole 28 produced by photostructuring, for example by exposing and developing the insulating layer. For this purpose, the ceramic bar is measured optically before the application of the insulating layer. At the point at which the electrode layer is to be contacted, the contacting opening is produced.

Nachfolgend wird elektrisch leitendes Material abgeschieden, so dass das Kontaktierungsfenster mit dem elektrisch leitenden Material befüllt wird. Es entsteht eine Metallisierungsbahn 29 mit der Kontaktierung zur Elektrodenschicht. Das Abscheiden des elektrisch leitenden Materials erfolgt aus der Gasphase mittels Sputtern. Alternativ dazu erfolgt das Sprühverfahren durchgeführt, bei dem Nanopartikel aus Silber aufgetragen werden.Subsequently, electrically conductive material is deposited, so that the contacting window is filled with the electrically conductive material. The result is a metallization 29 with the contact with the electrode layer. The deposition of the electrically conductive material takes place from the gas phase by means of sputtering. Alternatively, the spraying process is carried out, in which nanoparticles be applied from silver.

In gleicher Weise wird hinsichtlich der Kontaktierung der weiteren Riegel-Elektrodenschicht am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt 30 vorgegangen. Es wird eine weitere Metallisierungsbahn 31 zur Kontaktierung der weiteren Riegel-Elektrodenschichten aufgebracht.In the same way, with regard to the contacting of the further bar electrode layer on the further bar surface section 30 proceed. There will be another metallization track 31 applied for contacting the other bar electrode layers.

Die resultierenden Keramik-Riegel werden im einem Abstand von ca. 40 μm parallel zu einander auf dem Träger 2 aufgeklebt. Nachfolgend werden die Keramik-Riegel quer zu deren paralleler Ausrichtung zersägt. In 3 ist dieses Zerteilen mit den Bezugszeichen 32 angedeutet. Das Zersägen erfolgt derart, dass Säge-Spalte mit einer Spaltbreite von ca. 40 μm entstehen. Es resultieren einzelne Piezoelemente, die auf dem gemeinsamen Träger nebeneinander angeordnet und durch Gräben mit einer Graben-Breite von ca. 40 μm voneinander getrennt sind. In einer ersten Ausführungsform sind die Gräben mit einem Kunststoff befüllt. In einer weiteren Ausführungsform sind die Gräben mit einer Keramik befüllt.The resulting ceramic bars are at a distance of about 40 microns parallel to each other on the support 2 glued. Subsequently, the ceramic bars are sawed transversely to their parallel orientation. In 3 is this division by the reference numerals 32 indicated. The sawing takes place in such a way that sawing gaps with a gap width of approx. 40 μm are formed. This results in individual piezoelectric elements, which are arranged side by side on the common carrier and separated by trenches with a trench width of about 40 microns. In a first embodiment, the trenches are filled with a plastic. In another embodiment, the trenches are filled with a ceramic.

Mit dem beschriebenen Ultraschallwandler kann eine aktive Bauteilfläche (Fläche des Piezoelement-Arrays auf dem Träger) auf über 72% abgeschätzt werden (mit 2 × Isolationsschichten mit jeweils etwa 15 μm, 2 × Metallisierungsbahnen mit jeweils etwa 5 μm Bahndicke und einer Graben-Breite von 40 μm).With The described ultrasonic transducer can be an active component surface (Area of the piezo element array on the carrier) estimated at over 72% (with 2 × insulation layers each with about 15 microns, 2 × Metallisierungsbahnen each with about 5 microns web thickness and a trench width of 40 μm).

Das Ergebnis ist ein Ultraschallwandler mit dem Piezoelement-Array. Verwendung findet das Piezoelement-Array in der Medizintechnik. Es kommt in einem Sensorkopf eines Ultraschallwandler-Geräts zum Einsatz.The The result is an ultrasonic transducer with the piezo element array. The piezo element array is used in medical technology. It comes in a sensor head of an ultrasonic transducer device Commitment.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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Claims (16)

Ultraschallwandler (1) mit – mindestens einem monolithischen, stapelförmigen Piezoelement (10), das in Stapelrichtung (11) eine Elektrodenschicht (12), mindestens eine weitere Elektrodenschicht (13) und mindestens eine zwischen den Elektrodenschichten angeordnete Piezokeramikschicht (14) aufweist, wobei – sich die Elektrodenschicht bis an einen seitlichen Oberflächenabschnitt (15) des Piezoelements erstreckt, – eine Außenelektrode (17) derart am Oberflächenabschnitt des Piezoelements angeordnet ist, dass die Außenelektrode am Oberflächenabschnitt selektiv mit der Elektrodenschicht elektrisch leitend verbunden und am Oberflächenabschnitt selektiv von der weiteren Elektrodenschicht elektrisch isoliert ist, dadurch gekennzeichnet, dass – zur selektiven elektrischen Kontaktierung der Außenelektrode und der Elektrodenschicht miteinander und zur selektiven elektrischen Isolierung der Außenelektrode und der weiteren Elektrodenschicht voneinander am Oberflächenabschnitt eine photostrukturierte elektrische Isolationsschicht (19) angeordnet ist.Ultrasonic transducer ( 1 ) with - at least one monolithic, stacked piezoelectric element ( 10 ), in the stacking direction ( 11 ) an electrode layer ( 12 ), at least one further electrode layer ( 13 ) and at least one arranged between the electrode layers piezoceramic layer ( 14 ), wherein - the electrode layer extends as far as a lateral surface section ( 15 ) of the piezoelectric element extends, - an outer electrode ( 17 ) is arranged on the surface portion of the piezoelectric element, that the outer electrode at the surface portion selectively electrically connected to the electrode layer and the surface portion selectively electrically insulated from the further electrode layer, characterized in that - for selective electrical contacting of the outer electrode and the electrode layer with each other and selective electrical insulation of the outer electrode and the further electrode layer from each other at the surface portion of a photostructured electrical insulation layer ( 19 ) is arranged. Ultraschallwandler nach Anspruch 1, wobei – sich die weitere Elektrodenschicht bis an einen weiteren seitlichen Oberflächenabschnitt (16) des Piezoelements erstreckt, – eine von der Außenelektrode elektrisch isolierte weitere Außenelektrode (18) derart am weiteren Oberflächenabschnitt des Piezoelements angeordnet ist, dass die weitere Außenelektrode am weiteren Oberflächenabschnitt selektiv mit der weiteren Elektrodenschicht elektrisch leitend verbunden und am weiteren Oberflächenabschnitt selektiv von der Elektrodenschicht elektrisch isoliert ist, und – zur selektiven elektrischen Kontaktierung der weiteren Außenelektrode und der weiteren Elektrodenschicht miteinander und zur selektiven elektrischen Isolierung der weiteren Au ßenelektrode und der Elektrodenschicht voneinander am weiteren Oberflächenabschnitt eine weitere photostrukturierte elektrische Isolationsschicht angeordnet ist.Ultrasonic transducer according to Claim 1, in which - the further electrode layer extends as far as a further lateral surface section ( 16 ) of the piezoelectric element extends, - a further external electrode electrically isolated from the outer electrode ( 18 ) is arranged on the further surface portion of the piezoelectric element in such a way that the further outer electrode is selectively electrically conductively connected to the further electrode layer at the further surface section and selectively electrically insulated from the electrode layer at the further surface section, and - for selective electrical contacting of the further outer electrode and the further electrode layer with each other and for the selective electrical insulation of the further Au ßenelektrode and the electrode layer from each other on the further surface portion a further photostructured electrical insulation layer is arranged. Ultraschallwandler nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Elektrodenschicht und/oder die weitere Elektrodenschicht die Piezokeramikschicht im Wesentlichen vollflächig begrenzen.Ultrasonic transducer according to claim 1 or 2, wherein the electrode layer and / or the further electrode layer the Limit piezoceramic layer substantially over the entire surface. Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Piezoelement eine aus dem Bereich von 100 μm bis 500 μm ausgewählte laterale Stapel-Abmessung aufweist.Ultrasonic transducer according to one of claims 1 to 3, wherein the piezoelectric element one from the range of 100 microns up to 500 μm selected lateral stack dimension having. Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Piezoelement eine Mehrzahl Elektrodenschichten, eine Mehrzahl von weiteren Elektrodenschichten und eine Mehrzahl von Piezokeramikschichten aufweist.Ultrasonic transducer according to one of claims 1 to 4, wherein the piezoelectric element has a plurality of electrode layers, a plurality of further electrode layers and a plurality having piezoceramic layers. Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das Piezoelement eine aus dem Bereich von 200 μm bis 1000 μm und insbesondere eine aus dem Bereich von 500 μm bis 1000 μm ausgewählte Stapel-Höhe aufweist.Ultrasonic transducer according to one of claims 1 to 5, wherein the piezoelectric element one from the range of 200 microns to 1000 microns and in particular one from the range of 500 microns up to 1000 microns selected stack height has. Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei eine Vielzahl von Piezoelementen auf einem Träger (2) nebeneinander und durch Gräben voneinander beabstandet angeordnet sind.Ultrasonic transducer according to one of claims 1 to 6, wherein a plurality of piezo elements on a support ( 2 ) are arranged side by side and spaced apart by trenches. Ultraschallwandler nach Anspruch 7, wobei die Vielzahl als zweidimensionale Matrix auf dem Träger angeordnet ist.An ultrasonic transducer according to claim 7, wherein said plurality is arranged as a two-dimensional matrix on the carrier. Ultraschallwandler nach Anspruch 7 oder 8, wobei die Gräben eine aus dem Bereich von 20 μm bis 60 μm ausgewählte Graben-Breite aufweisen.Ultrasonic transducer according to claim 7 or 8, wherein the trenches a from the range of 20 microns to 60 microns selected trench width. Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 7 bis 9, wobei die Gräben ein Isolationsmaterial aufweisen.Ultrasonic transducer according to one of the claims 7 to 9, wherein the trenches comprise an insulating material. Verfahren zum Herstellen eines Ultraschallwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 10, mit folgenden Verfahrensschritten: a) Bereitstellen eines keramischen Grün-Riegels mit abwechselnd übereinander angeordneten piezokeramischen Grünfolien und dazwischen angeordneten Metall-Schichten, b) Temperaturbehandeln des Grün-Riegels, wobei ein Keramik-Riegel mit einer sich bis an einen Riegel-Oberflächenabschnitt erstreckenden Riegel-Elektrodenschicht, mindestens einer weiteren sich bis an einen weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt erstreckenden weiteren Riegel-Elektrodenschicht und einer zwischen den Riegel-Elektrodenschichten angeordneten Riegel-Piezokeramikschicht entsteht, c) Kontaktieren der Riegel-Elektrodenschicht durch Aufbringen einer Riegel-Metallisierung am Riegel-Oberflächenabschnitt des Keramik-Riegels, d) Zerteilen des Keramik-Riegels in eine Mehrzahl von Piezoelementen.Method of manufacturing an ultrasonic transducer according to one of claims 1 to 10, with the following process steps: a) Providing a ceramic green bar with alternately one above the other arranged piezoceramic green sheets and in between arranged metal layers, b) tempering the green bar, wherein a ceramic bar with a down to a bar surface portion extending bar electrode layer, at least one further extending to another latch surface portion another bar electrode layer and one between the bar electrode layers arranged bar-piezoceramic layer arises, c) contact the bar electrode layer by applying a bar metallization at the bar surface portion of the ceramic bar, d) Parting the ceramic bar into a plurality of piezo elements. Verfahren nach Anspruch 11, wobei vor dem Zerteilen des Keramik-Riegels folgender weitere Verfahrensschritt durchgeführt wird: e) Weiteres Kontaktieren der weiteren Riegel-Elektrodenschicht durch weiteres Aufbringen einer weiteren Riegel-Metallisierung am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt des Keramik-Riegels.The method of claim 11, wherein prior to dicing the ceramic bar, the following further process step carried out becomes: e) further contacting the further bar electrode layer by further application of another bar metallization on another latch surface portion of the ceramic latch. Verfahren nach Anspruch 12, wobei nach dem Kontaktieren und dem weiteren Kontaktieren und vor dem Zerteilen ein Aufbringen des Keramik-Riegels auf einen Träger durchgeführt wird.The method of claim 12, wherein after contacting and further contacting and before splitting an application carried out of the ceramic bar on a support becomes. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei vor dem Aufbringen der Riegel-Metallisierung ein Erzeugen einer photostrukturierten Riegel-Isolationsschicht am Riegel-Oberflächenabschnitt durchgeführt wird und/oder vor dem weiteren Aufbringen der weiteren Riegel-Metallisierung ein wei teres Erzeugen einer weiteren photostrukturierten Riegel-Isolationsschicht am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt durchgeführt wird.Method according to one of claims 11 to 13, wherein before applying the bar metallization generating a photostructured bar insulation layer on the bar surface portion is carried out and / or before further application the further bar metallization Wei teres generating another photostructured bar insulation layer at the further bar surface section is carried out. Verfahren nach Anspruch 14, wobei zum Erzeugen der Riegel-Isolationsschicht am Riegel-Oberflächenabschnitt und/oder zum Erzeugen der weiteren Riegel-Isolationsschicht am weiteren Riegel-Oberflächenabschnitt ein Aufbringen einer photoempfindlichen Schicht durchgeführt wird und in der photoempfindlichen Schicht mittels Belichtung mindestens eine Kontaktierungsöffnung erzeugt wird.The method of claim 14, wherein for generating the Bolt Insulation Layer at Bar Surface Section and / or for producing the further bar insulation layer further Bar surface section applying a photosensitive Layer is carried out and in the photosensitive Layer by exposure at least one contact hole is produced. Verwendung des Ultraschallwandlers nach einem der Ansprüche 1 bis 10 zur Aufnahme eines Ultraschallbildes.Use of the ultrasonic transducer according to one of Claims 1 to 10 for receiving an ultrasound image.
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