DE102007043181A1 - Optoelectronic component of receiver and transmitter for motor vehicle headlight, has semiconductor body with active zone, which is suitable for production or detection of electromagnetic radiation - Google Patents

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Abstract

The optoelectronic component (1) has a semiconductor body (4) with an active zone, which is suitable for production or detection of electromagnetic radiation. The optoelectronic component has a non-planar assembly area (3) of a support (2), on which the semiconductor body is placed in a deformable manner such that a radiation passage side (5) of the semiconductor body has a curvature or a break by the assembly area. A substrate is a glass film or a plastic film.

Description

Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement.The The invention relates to an optoelectronic component.

Zur Formung ihrer Abstrahlcharakteristik, beispielsweise zur Strahlbündelung oder zur Strahlspreizung, umfassen optoelektronische Bauelemente in der Regel externe optische Elemente oder strahlformende Gehäuse. Ein optoelektronisches Bauelement mit einem externen optischen Element zur Strahlformung, das geeignet ist, in einem Kfz-Scheinwerfer als Beleuchtungseinheit verwendet zu werden, ist beispielsweise in der Druckschrift WO 2006/045277 beschrieben.In order to form their emission characteristic, for example for beam focusing or for beam spread, optoelectronic components generally comprise external optical elements or beam-shaping housings. An optoelectronic component with an external optical element for beam shaping, which is suitable to be used in a motor vehicle headlight as a lighting unit, is for example in the document WO 2006/045277 described.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes optoelektronisches Bauelement anzugeben.task The invention is an improved optoelectronic device specify.

Diese Aufgabe wird durch ein optoelektronisches Bauelement mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 sowie durch ein optoelektronisches Bauelement mit den Merkmalen des Patentanspruches 3 gelöst.These The object is achieved by an optoelectronic component having the features of claim 1 and by an optoelectronic device solved with the features of claim 3.

Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen des optoelektronischen Bauelementes sind in den jeweils abhängigen Ansprüchen angegeben.advantageous Embodiments and developments of the optoelectronic Component are in the respective dependent claims specified.

Gemäß einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauelements umfasst dieses insbesondere:

  • – einen Halbleiterkörper, der eine aktive Zone aufweist, die zur Erzeugung oder zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung geeignet ist, und
  • – einen nicht-planen Montagebereich eines Trägers, auf den der Halbleiterkörper derart verformt aufgebracht ist, dass vermittels des Montagebereiches eine Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers eine Krümmung oder einen Knick aufweist.
According to one embodiment of the optoelectronic component, this comprises in particular:
  • A semiconductor body having an active zone suitable for generating or detecting electromagnetic radiation, and
  • A non-planar mounting region of a carrier on which the semiconductor body is applied in such a deformed manner that by means of the mounting region a radiation passage side of the semiconductor body has a curvature or a bend.

Zur Strahlungserzeugung umfasst die aktive Zone des Halbleiterkörpers beispielsweise einen herkömmlichen pn-Übergang, eine Doppelheterostruktur, eine Einfach-Quantentopfstruktur oder eine Mehrfach-Quantentopfstruktur. Beispiele für solche Mehrfachquantentopfstrukturen sind beispielsweise in den Druckschriften WO 01/39282 , WO 98/31055 , US 5,831,277 , EP 1017113 und US 5,684,309 beschrieben, deren Offenbarungsgehalt insofern hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.For radiation generation, the active zone of the semiconductor body comprises, for example, a conventional pn junction, a double heterostructure, a single quantum well structure or a multiple quantum well structure. Examples of such multiple quantum well structures are, for example, in the documents WO 01/39282 . WO 98/31055 . US 5,831,277 . EP 1017113 and US 5,684,309 described, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.

Eine aktive Zone, die zur Strahlungserzeugung geeignet ist, in der Regel ebenfalls dazu geeignet ist, ist elektromagnetische Strahlung zu detektieren. Insbesondere eine aktive Zone mit einem pn-Übergang, der weitergehend in Form einer Einfachquantentopfstruktur oder einer Mehrfachquantentopfstruktur ausgebildet sein kann, ist zur Strahlungsdetektion geeignet. Zur Strahlungsdetektion wird ein solcher im Sperrbereich seiner Kennlinie angewendet.A active zone suitable for generating radiation, as a rule is also suitable, is electromagnetic radiation too detect. In particular, an active zone with a pn junction, the going on in the form of a single quantum well structure or a Multiple quantum well structure can be formed, is for radiation detection suitable. For radiation detection, such is in the stopband its characteristic applied.

Die Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers ist dazu vorgesehen, dass elektromagnetische Strahlung durch die Strahlungsdurchtrittsseite den Halbleiterkörper verlässt oder in ihn hinein tritt. Ist die aktive Zone dazu vorgesehen, elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, so wird diese Strahlung von der Strahlungsdurchtrittsfläche ausgesandt. In diesem Fall wird die Strahlungsdurchtrittsfläche vorliegend auch als "strahlungsemittierende Vorderseite" bezeichnet. In dem Fall, dass die aktive Zone dazu vorgesehen ist, elektromagne tische Strahlung zu detektieren, tritt die zu detektierende elektromagnetische Strahlung über die Strahlungsdurchtrittsfläche in den Halbleiterkörper hinein.The Radiation passage side of the semiconductor body is to provided that electromagnetic radiation through the radiation passage side the Leaves semiconductor body or enters into it. is the active zone is designed to provide electromagnetic radiation generate, so this radiation from the radiation passage area sent. In this case, the radiation passage area is present also referred to as "radiation-emitting front side". By doing Case that the active zone is intended to electromagnetic tables To detect radiation, the electromagnetic to be detected occurs Radiation over the radiation passage area into the semiconductor body.

Der verformte Einbau des Halbleiterkörpers auf dem nicht-planen Montagebereich des Trägers ermöglicht es beispielsweise, leuchtende Freiformflächen mit einer sehr homogenen Abstrahlcharakteristik zu erzeugen, die weitgehend beliebige Formen im Raum ausbilden. Weiterhin kann so die Abstrahlcharakteristik des optoelektronischen Bauelementes auf gewünschte Art und Weise eingestellt werden. So weist eine in ihrer Abstrahlrichtung konkave strahlungsemittierende Vorderseite gegenüber einer planen strahlungsemittierenden Vorderseite eine Strahlspreizung auf, wie sie etwa für Raumstrahlungsquellen von Vorteil ist, während eine in Abstrahlrichtung konvexe strahlungsemittierende Vorderseite eine Strahlbündelung aufweist, wie sie für Projektionsanwendungen vorteilhaft ist.Of the deformed installation of the semiconductor body on the non-planar Mounting range of the carrier allows, for example, luminous free-form surfaces with a very homogenous emission characteristic to produce, which form largely arbitrary shapes in space. Furthermore, so the emission characteristics of the optoelectronic Component can be adjusted in the desired manner. Thus, a concave in their emission radiation-emitting Front opposite a plane radiation-emitting Front on a beam spread on, as for about Radiation sources is beneficial while a in Direction of radiation convex radiation-emitting front beam focusing as advantageous for projection applications is.

So ist es vorteilhafterweise möglich, auf externe Optiken und/oder strahlformende Gehäuse teilweise oder ganz zu verzichten. Weiterhin weist eine gekrümmte strahlungsemittierende Vorderseite gegenüber einer planen strahlungsemittierenden Vorderseite in der Regel einer erhöhte Leuchtdichte auf.So it is advantageously possible to external optics and / or beam-forming housing partially or completely closed without. Furthermore, a curved radiation-emitting Front opposite a plane radiation-emitting Front usually a raised luminance on.

Um verformt auf den Träger aufgebracht zu werden, ist der Halbleiterkörper zweckmäßigerweise flexibel, dass heißt biegsam, ausgebildet. Nach dem Aufbringen ist der Halbleiterkörper jedoch bei der vorliegenden Ausführungsform in der Regel in der verformten Position fixiert. Beispielsweise kann der Halbleiterkörper verformt auf den Träger aufgeklebt sein.Around deformed to be applied to the carrier, is the Semiconductor body expediently flexible, that means flexible, educated. After application is however, the semiconductor body in the present embodiment usually fixed in the deformed position. For example the semiconductor body can be deformed on the carrier be glued on.

Gemäß einer anderen Ausführungsform weist das optoelektronische Bauelement folgende Merkmale auf:

  • – einen flexiblen Halbleiterkörper, mit einer aktiven Zone, die zur Erzeugung oder zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung geeignet ist,
  • – einen Träger, auf dem der Halbleiterkörper angeordnet ist, und
  • – zumindest eine Verstelleinheit, die geeignet ist, die Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers auf gewünschte Art und Weise derart zu verformen, dass diese eine Krümmung oder einen Knick aufweist.
According to another embodiment, the optoelectronic component has the following features:
  • A flexible semiconductor body having an active zone suitable for generating or detecting electromagnetic radiation,
  • - A support on which the semiconductor body to ordered, and
  • - At least one adjustment, which is adapted to deform the radiation passage area of the semiconductor body in a desired manner such that it has a curvature or a kink.

Gemäß dieser Ausführungsform ist der Halbleiterkörper somit nicht auf dem Träger in einer starren Position fixiert, sondern es ist möglich, ihn mittels der Verstelleinheit derart zu bewegen, dass die Strahlungsdurchtrittsfläche auf eine gewünschte Art und Weise verformt werden kann.According to this Embodiment is the semiconductor body thus not fixed to the carrier in a rigid position, but it is possible to use the adjustment unit to move such that the radiation passage area can be deformed in a desired manner.

Bevorzugt unterscheidet sich gemäß beider Ausführungsformen ein Krümmungsradius der Strahlungsdurchtrittseite des Halbleiterkörpers von einem Krümmungsradius des Trägers maximal um die Dicke des Halbleiterkörpers.Prefers differs according to both embodiments a radius of curvature of the radiation passage side of the semiconductor body maximum of a radius of curvature of the carrier around the thickness of the semiconductor body.

Als Verstelleinheit kann beispielsweise ein Piezoaktor oder ein Mikroversteller verwendet sein.When Adjustment, for example, a piezoelectric actuator or a micro adjuster be used.

Die Verwendung einer Verstelleinheit macht es beispielsweise möglich, die Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers im Betrieb zu verformen. Die Strahlungsdurchtrittsfläche kann beispielsweise gepulst verformt werden.The Using an adjustment unit makes it possible, for example the radiation passage area of the semiconductor body to deform during operation. The radiation passage area For example, it can be deformed in a pulsed manner.

Die gepulste Verformung einer strahlungsemittierenden Vorderseite kann beispielsweise zur optischen Übertragung von Nachrichten verwendet werden.The pulsed deformation of a radiation-emitting front can for example, for the optical transmission of messages be used.

Gemäß einer Ausführungsform ist über der Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers ein optisches Element derart angeordnet, dass die von dem Halbleiterkörper erzeugte oder detektierte Strahlung zumindest teilweise durch das optische Element hindurch tritt. Das optische Element dient beispielsweise dazu, die Abstrahlcharakteristik des optoelektronischen Bauelementes auf gewünschte Art und Weise einzustellen. Ist das optoelektronische Bauelement etwa dazu vorgesehen, für Projektionsanwendungen oder in Raumlichtquellen eingesetzt zu werden, so wird in der Regel eine Strahlbündelung angestrebt, während bei einem optoelektronischen Bauelement, das für Raumstrahlungsquellen vorgesehen ist, in der Regel eine Strahlspreizung erzielt werden soll.According to one Embodiment is above the radiation passage side of the semiconductor body an optical element arranged such in that the radiation generated or detected by the semiconductor body at least partially passes through the optical element. The optical element is used, for example, the radiation characteristic of the optoelectronic component in the desired manner and set way. Is the optoelectronic device about intended for projection applications or in room light sources to be used, as a rule, beam bundling is sought, while in an optoelectronic device used for Space radiation sources is provided, usually a beam spread should be achieved.

Das optische Element kann beispielsweise eine Linse, ein zusammengesetzter parabolischer Konzentrator (Compound parabolic concentrator, CPC), ein zusammengesetzter elyptischer Konzentrator (Compound elyptic concentrator, CEC) oder ein zusammengesetzter hyperbolischer Konzentrator (Compound hyperbolic concentrator, CHC) sein.The optical element may, for example, a lens, a composite parabolic concentrator (Compound Parabolic Concentrator, CPC), a composite elliptical concentrator (compound elyptic concentrator, CEC) or a compound hyperbolic concentrator (Compound hyperbolic concentrator, CHC).

Umfasst das optoelektronische Bauelement eine Verstelleinheit zur Verformung der Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers, so ist das optische Element in der Regel flexibel ausgebildet. Hierzu kann es beispielsweise Silikon aufweisen oder aus Silikon bestehen.includes the optoelectronic component an adjusting unit for deformation the radiation passage area of the semiconductor body, As a rule, the optical element is flexible. For this For example, it may be silicone or silicone.

Gemäß einer Ausführungsform weist der Halbleiterkörper eine Dicke zwischen 2 μm und 20 μm auf, wobei die Grenzen einge schlossen sind. Besonders bevorzugt weist der Halbleiterkörper eine Dicke zwischen 6 μm und 20 μm auf, wobei die Grenzen ebenfalls eingeschlossen sind. Ein solcher Halbleiterkörper ist in der Regel ausreichend flexibel.According to one Embodiment, the semiconductor body has a Thickness between 2 microns and 20 microns, with the limits are included. Particularly preferably, the semiconductor body a thickness between 6 microns and 20 microns, wherein the borders are also included. Such a semiconductor body is usually flexible enough.

Die aktive Zone, insbesondere mit einer der oben beschriebenen strahlungserzeugenden bzw. strahlungsdetektierenden Strukturen, ist in der Regel epitaktisch gewachsen und von einer epitaktisch gewachsenen Halbleiterschichtenfolge umfasst. Die Halbleiterschichtenfolge wird in der Regel auf einem Aufwachssubstrat abgeschieden, das an die Gitterkonstante der Halbleiterschichtenfolge angepasst ist. Herkömmliche Halbleiterkörper umfassen in der Regel das Aufwachssubstrat mit einer Dicke von mehreren hundert um. Solche Halbleiterkörper sind auf Grund ihrer Dicke nicht flexibel.The active zone, in particular with one of the above-described radiation-generating or radiation-detecting structures, is usually epitaxial grown and of an epitaxially grown semiconductor layer sequence includes. The semiconductor layer sequence is usually on a growth substrate deposited, the lattice constant of the semiconductor layer sequence is adjusted. Conventional semiconductor bodies include usually the growth substrate with a thickness of several hundred around. Such semiconductor bodies are due to their thickness not flexible.

Um einen flexiblen Halbleiterkörper zu erhalten, wird daher in der Regel das Aufwachssubstrat von der Halbleiterschichtenfolge entfernt oder gedünnt. Vorzugsweise wird das Aufwachssubstrat entfernt oder derart gedünnt, dass es die Halbleiterschichtenfolge alleine nicht mehr ausreichend mechanisch stützt. Ein flexibler Halbleiterkörper mit der oben beschriebenen Dicke kann daher zum Beispiel durch die Halbleiterschichtenfolge gebildet sein. Insbesondere ist der Halbleiterkörper bevorzugt frei von einem Aufwachssubstrat.Around Therefore, to obtain a flexible semiconductor body becomes usually the growth substrate of the semiconductor layer sequence removed or thinned. Preferably, the growth substrate becomes removed or thinned so that it is the semiconductor layer sequence alone no longer sufficiently mechanically supported. A flexible one Semiconductor body with the thickness described above can Therefore, for example, be formed by the semiconductor layer sequence. In particular, the semiconductor body is preferably free of one Growth substrate.

Gemäß einer Ausführungsform weist der Halbleiterkörper ein flexibles Substrat auf. Ein flexibles Substrat stabilisiert den Halbleiterkörper mechanisch.According to one Embodiment, the semiconductor body flexible substrate on. A flexible substrate stabilizes the Semiconductor body mechanically.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Halbleiterkörper ein Substrat, das für die Strahlung, die in der akti ven Zone erzeugt oder detektiert wird, durchlässig ausgebildet ist.According to one In another embodiment, the semiconductor body comprises a substrate responsible for the radiation that acts in the acti Zone is generated or detected, permeable is.

Ein solches Substrat ist bevorzugt zwischen der aktiven Zone und der Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers angeordnet. Das Substrat kann beispielsweise die Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers ausbilden. Es ist jedoch auch möglich, dass zwischen dem Substrat und der Strahlungsdurchtrittsfläche weitere Elemente angeordnet sind, beispielsweise Auskoppelschichten, die Strukturen zur verbesserten Auskopplung aus dem Halbleiterkörper aufweisen.One such substrate is preferably between the active zone and the Radiation passage surface of the semiconductor body arranged. The substrate may, for example, the radiation passage area of the semiconductor body. However, it is also possible that between the substrate and the radiation passage area further elements are arranged, for example coupling-out layers, the structures for improved coupling out of the semiconductor body exhibit.

Als flexibles Substrat, das durchlässig für die in der aktiven Zone erzeugten oder detektierten Strahlung ist, kann beispielsweise eine Glasfolie oder eine Kunststofffolie verwendet sein. Eine Glasfolie weist in der Regel eine Dicke zwischen 10 μm und 500 μm auf, wobei die Grenzen eingeschlossen sind. Besonders bevorzugt weist die Glasfolie eine Dicke von 30 μm auf.When flexible substrate that is permeable to the in the active zone generated or detected radiation can For example, a glass sheet or a plastic film used be. A glass sheet usually has a thickness between 10 microns and 500 microns, with the limits included. Especially Preferably, the glass sheet has a thickness of 30 microns.

Die Kunststofffolie weist bevorzugt eine Dicke zwischen 10 μm und 500 μm auf, wobei die Grenzen eingeschlossen sind. Besonders bevorzugt ist die Kunststofffolie beständig gegenüber elektromagnetischer Strahlung aus dem ultravioletten Bereich. Als Kunststofffolie kann beispielsweise Acrylfolie verwendet sein.The Plastic film preferably has a thickness between 10 microns and 500 microns, with the limits included. Particularly preferably, the plastic film is resistant to electromagnetic radiation from the ultraviolet range. When Plastic film can be used, for example, acrylic film.

Gemäß einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauelementes ist zwischen der aktiven Zone des Halbleiterkörpers und einer Rückseite des Halbleiterkörpers, die der Strahlungsdurchtrittsfläche gegenüber liegt, eine reflektierende Schicht angeordnet. Die reflektierende Schicht bietet den Vorteil, die von der aktiven Zone in Richtung Rückseite ge sandte Strahlung zur Strahlungsdurchtrittsfläche des Halbleiterkörpers umzulenken und so die Effizienz des Bauelementes zu erhöhen. Es sei an dieser Stelle darauf hingewiesen, dass es sich bei der reflektierende Schicht nicht zwingend um eine einzelne Schicht handeln muss, vielmehr kann die reflektierende Schicht mehrere Schichten umfassen.According to one Embodiment of the optoelectronic component is between the active region of the semiconductor body and a Rear side of the semiconductor body, which faces the radiation passage area lies, a reflective layer arranged. The reflective Layer offers the advantage of moving from the active zone towards Backside ge sent radiation to the radiation passage area to redirect the semiconductor body and so the efficiency of the device to increase. It should be noted at this point that the reflective layer is not necessarily a single layer must act, rather, the reflective layer include several layers.

Bei der reflektierenden Schicht kann es sich beispielsweise um einen Braggspiegel, eine Metallschicht oder eine Kombination aus einer Metallschicht und einer TCO-Schicht handeln.at the reflective layer may be, for example, a Braggspiegel, a metal layer or a combination of a Metal layer and a TCO layer act.

Die TCO-Schicht weist ein transparentes, elektrisch leitendes Oxid (transparent conductive Oxide, TCO) auf oder besteht aus einem solchen. Transparente leitende Oxide sind in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Kadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder Indium-Zinnoxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoffverbindungen gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitender Oxide zu der Gruppe der TCOs. Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrischen Zusammensetzung und können auch p- sowie n-dotiert sein.The TCO layer has a transparent, electrically conductive oxide (transparent conductive oxides, TCO) or consists of such. transparent conductive oxides are usually metal oxides, such as Zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or indium tin oxide (ITO). In addition to binary metal oxygen compounds include also ternary metal oxygen compounds or mixtures different transparent conductive oxides to the group of TCOs. Furthermore, the TCOs do not necessarily correspond to a stoichiometric Composition and can also be p- and n-doped.

Ist eine TCO-Schicht in Kombination mit einer Metallschicht als reflektierende Schicht verwendet, ist die TCO-Schicht bevorzugt zwischen der Halbleiterschichtenfolge und der Metallschicht angeordnet. Die TCO-Schicht und die Metallschicht weisen jeweils bevorzugt eine Dicke von einigen 100 nm auf.is a TCO layer in combination with a metal layer as a reflective Layer used, the TCO layer is preferably between the semiconductor layer sequence and the metal layer. The TCO layer and the metal layer each preferably have a thickness of several 100 nm.

Gemäß einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauelementes ist zwischen der aktiven Zone und der Rückseite des Halbleiterkörpers eine Verstärkungsschicht angeordnet. Die Verstärkungsschicht ist bevorzugt flexibel ausgebildet. Sie hat die Aufgabe, die Halbleiterschichtenfolge mechanisch zu stabilisieren. Die Verstärkungsschicht kann beispielsweise die Rückseite des Halbleiterkörpers ausbilden. Weiterhin ist es aber auch möglich, dass auf der Verstärkungsschicht weitere Schichten aufgebracht sind, die beispielsweise der elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers dienen oder die Montage des Halbleiterkörpers vereinfachen sollen, wie etwa eine Haftvermittlungsschicht.According to one Embodiment of the optoelectronic component is between the active zone and the back of the semiconductor body a reinforcing layer is arranged. The reinforcing layer is preferably designed flexible. Its task is the semiconductor layer sequence mechanically stabilize. The reinforcing layer can for example, the back of the semiconductor body form. Furthermore, it is also possible that on the reinforcing layer further layers are applied, for example, the electrical contacting of the semiconductor body serve or facilitate the assembly of the semiconductor body such as an adhesive layer.

Bei der Verstärkungsschicht kann es sich beispielsweise um eine galvanisch aufgebrachte Schicht handeln. Eine solche galvanisch aufgebrachte Schicht weist bevorzugt zumindest eines der folgenden Materialien auf oder besteht aus einem solchen: Gold, Nickel, Kupfer, Aluminium, Silber. Bevorzugt weist eine galvanisch aufgebrachte Verstärkungsschicht eine Dicke zwischen 1 μm und 100 μm auf, wobei die Grenzen eingeschlossen sind.at the reinforcing layer may be, for example an electroplated layer act. Such a galvanic applied layer preferably has at least one of the following Materials or consists of such: gold, nickel, copper, Aluminum, silver. Preferably, a galvanically applied Reinforcing layer has a thickness between 1 micron and 100 microns, with the limits included.

Weiterhin kann es sich bei der Verstärkungsschicht um eine Metallfolie handeln. Die Metallfolie weist bevorzugt zumindest eines des folgenden Materialien auf oder besteht aus einem solchen: Molybdän, Tantal. Die Metallfolie ist bevorzugt nicht dicker als 50 μm. Besonders bevorzugt weist die Metallfolie eine Dicke von 20 μm auf.Farther For example, the reinforcing layer may be a metal foil act. The metal foil preferably has at least one of the following Materials on or consists of such: molybdenum, Tantalum. The metal foil is preferably not thicker than 50 microns. Particularly preferably, the metal foil has a thickness of 20 μm on.

Gemäß einer Ausführungsform weist die Verstärkungsschicht Silizium auf oder besteht aus Silizium. Eine Verstärkungsschicht, die Silizium aufweist oder aus Silizium besteht, ist bevorzugt nicht dicker als 10 μm. Sie ist beispielsweise mit einem Lot an der Halbleiterschichtenfolge befestigt.According to one Embodiment has the reinforcing layer Silicon on or consists of silicon. A reinforcing layer, which comprises silicon or consists of silicon is preferably not thicker than 10 μm. She is for example with a lot attached to the semiconductor layer sequence.

Gemäß einer Ausführungsform weist der Montagebereich des Trägers, auf den der Halbleiterkörper aufgebracht ist, eine kon vexe oder konkave Krümmung auf. Dem entsprechend weist auch die Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers eine konvexe oder konkave Krümmung auf. Die Begriffe „konvex" und „konkav" beziehen sich in dem vorliegenden Text jeweils auf die Abstrahlrichtung des Halbleiterkörpers unter der Annahme, dass es sich um einen strahlungserzeugenden Halbleiterkörper handelt. Dies bedeutet jedoch nicht, dass die jeweiligen Aussagen auf einen strahlungserzeugenden Halbleiter beschränkt sind. Es dient lediglich einer eindeutigen Festlegung der Krümmung.According to one Embodiment shows the mounting area of the carrier, on which the semiconductor body is applied, a kon vexe or concave curvature. The accordingly also points the radiation passage side of the semiconductor body is a convex or concave curvature. The terms "convex" and "concave" refer to each other in the present text on the emission direction of the semiconductor body under the Assumption that it is a radiation-generating semiconductor body. However, this does not mean that the respective statements are for one radiation-generating semiconductor are limited. It serves only a clear definition of the curvature.

Eine konvexe Krümmung der strahlungsemittierenden Vorderseite eines strahlungserzeugenden Halbleiterkörpers ist insbesondere geeignet, eine Strahlaufweitung beispielsweise für Projektionsanwendungen zu erzeugen. Eine konkave Krümmung hingegen fährt in der Regel zu einer Strahlenbündelung beispielsweise für Beleuchtungsanwendungen. Eine konkave Krümmung des Montagebereichs ermöglicht weiterhin vorteilhafterweise eine besonders gute Abfuhr der vorn Halbleiterkörper im Betrieb erzeugten Wärme.A convex curvature of the radiation-emitting front side of a radiation-generating semiconductor body is particularly suitable for generating a beam expansion, for example for projection applications. A concave curvature, however, usually leads to a beam bundling for example for lighting applications. A concave curvature of the mounting area further advantageously allows a particularly good dissipation of the heat generated by the semiconductor body during operation.

Gemäß einer Ausführungsform weist der Montagebereich einen Knick auf. In diesem Fall weist auch die Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers einen Knick auf.According to one Embodiment, the mounting area has a kink. In this case also has the radiation passage side of the semiconductor body a kink.

Gemäß einer Ausführungsform ist zumindest der Montagebereich als Wärmesenke ausgebildet. Hierzu weist der Montagebereich in der Regel ein Material mit einer hohen Wärmeleitfähigkeit auf oder besteht aus einem solchem. Weiterhin ist der Ausdehnungskoeffizient des Materials der Wärmesenke bevorzugt an den Ausdehnungskoeffizienten des Halbleiterkörpers angepasst. Geeignete Materialien für die Wärmesenke sind beispielsweise Aluminiumoxid und Aluminiumnitrid.According to one Embodiment is at least the mounting area as a heat sink educated. For this purpose, the mounting area usually has a material with a high thermal conductivity on or consists from such a. Furthermore, the expansion coefficient of the Material of the heat sink preferred to the expansion coefficient adapted to the semiconductor body. Suitable materials for the heat sink are, for example, aluminum oxide and aluminum nitride.

Gemäß einer Ausführungsform sind die elektrischen Kontakte zur elektrischen Kontaktierung der aktiven Zone des Halbleiterkörpers auf der Rückseite des Halbleiterkörpers angebracht. Auf diese Art und Weise steht die gesamte Strahlungsdurchtrittseite des Halbleiterkörpers zur Strahlungsemission oder zur Strahlungsdetektion zur Verfügung. Ein Halbleiterkörper, bei dem die elektrischen Kontakte auf dessen Rückseite angeordnet sind, sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung sind beispielsweise in der Druckschrift DE 10 2007 022 947 angegeben, deren Offenbarungsgehalt diesbezüglich hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.According to one embodiment, the electrical contacts for electrically contacting the active zone of the semiconductor body are mounted on the rear side of the semiconductor body. In this way, the entire radiation passage side of the semiconductor body is available for radiation emission or for radiation detection. A semiconductor body in which the electrical contacts are arranged on the rear side thereof, as well as a method for the production thereof are described, for example, in the document DE 10 2007 022 947 the disclosure of which is hereby incorporated by reference.

Alternativ ist es auch möglich, dass zur Kontaktierung der aktiven Zone ein elektrischer Kontakt auf der Rückseite des Halbleiterkörpers angeordnet ist, während ein weiterer elektrischer Kontakt auf der Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers angeordnet ist. In diesem Fall befindet sich der elektrische Kontakt auf der Strahlungsdurchtrittsseite bevorzugt innerhalb eines Randbereiches der Strahlungsdurchtrittsseite.alternative it is also possible that for contacting the active Zone an electrical contact on the back of the semiconductor body is arranged while another electrical contact on the radiation passage side of the semiconductor body is arranged. In this case, there is the electrical contact on the radiation passage side preferably within an edge region the radiation passage side.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist über der Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers eine wellenlängenkonvertierende Schicht derart angeordnet, dass die von dem Halbleiterkörper erzeugte oder detektierte Strahlung zumindest teilweise durch die wellenlängenkonvertierende Schicht hindurch tritt. Besonders bevorzugt ist die wellenlängenkonvertierende Schicht auf die Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörpers aufgebracht. Die wellenlängenkonvertierende Schicht ist dazu geeignet, Strahlung einer ersten Wellenlänge, in Strahlung einer zweiten Wellenlänge umzuwandeln. In der Regel wandelt die wellenlängenkonvertierende Schicht die Strahlung der ersten Wellenlänge in Strahlung einer längeren Wellenlänge um. Zur Wellenlängenkonversion umfasst die wellenlängenkonvertierende Schicht in der Regel einen Wellenlängenkonversionsstoff, der in ein Bindemittel eingebracht ist.According to one Another embodiment is over the radiation passage side the semiconductor body is a wavelength converting Layer arranged such that of the semiconductor body generated or detected radiation at least partially through the wavelength converting layer passes through. Especially Preferably, the wavelength-converting layer is on the radiation passage side of the semiconductor body applied. The wavelength converting layer is suitable for radiation a first wavelength, in radiation of a second wavelength convert. In general, the wavelength converting converts Layer the radiation of the first wavelength into radiation a longer wavelength. For wavelength conversion includes the wavelength-converting layer usually a wavelength conversion substance that is transformed into a binder is introduced.

Umfasst das optoelektronische Bauelement einen Halbleiterkörper der dazu geeignet ist, elektromagnetische Strahlung des ersten Wellenlängenbereichs aus dem sichtbaren blauen Spektralbereich zu emittieren, so kann mittels eines Wellenlängenkonversionsstoffes, der geeignet ist, einen Teil der blauen Strahlung des ersten Wellenlängenbereichs in gelbe Strahlung umzuwandeln, ein optoelektronisches Bauelement erzeugt werden, dass Mischlicht aus blauer Strahlung des ersten Wellenlängenbereichs und gelber Strahlung des zweiten Wellenlängenbereichs aussendet. Dieses Mischlicht weist bevorzugt einen Farbort im weißen Bereich der CIE-Normfarbtafel auf.includes the optoelectronic component a semiconductor body which is suitable for electromagnetic radiation of the first wavelength range can emit from the visible blue spectral range, so can by means of a wavelength conversion substance suitable is a part of the blue radiation of the first wavelength range convert into yellow radiation, an optoelectronic device be generated that mixed light of blue radiation of the first Wavelength range and yellow radiation of the second wavelength range sending out. This mixed light preferably has a color locus in white Area of the CIE standard color chart.

Eine wellenlängenkonvertierende Schicht ist beispielsweise in der Druckschrift WO 97/50132 beschrieben, deren Offenbarungsgehalt diesbezüglich durch Rückbezug aufgenommen wird.A wavelength-converting layer is for example in the document WO 97/50132 The disclosure of which is hereby incorporated by reference.

Der Wellenlängenkonversionsstoff ist beispielsweise aus der Gruppe gewählt, die durch die folgenden Materialien gebildet wird: Mit Metallen der seltenen Erden dotierte Granate, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Erdalkalisulfide, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Thiogalate, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Aluminate, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Orthosilikate, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Chlorosilikate, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Erdalkalisiliziumnitride, mit Metallen der seltenen Erden dotierte Oxynitride und mit Metallen der seltenen Erden dotierten Aluminiumoxynitride.Of the Wellenlängenkonversionsstoff is for example from the Group selected, formed by the following materials will: Garnets doped with rare earth metals, with metals of the rare earth doped alkaline earth sulfides, with rare metals Earth doped thiogalates, doped with rare earth metals Aluminates, rare earth doped orthosilicates, chlorosilicates doped with rare earth metals, with metals of the rare earth doped alkaline earth silicon nitrides, with metals rare earth doped oxynitrides and rare metals Ground doped aluminum oxynitrides.

Besonders bevorzugt wird als Wellenlängenkonversionsstoff ein Ce-dotierter YAG-Wellenlängenkonversionsstoff (YAG:Ce) verwendet. YAG:Ce ist dazu geeignet, blaue sichtbare Strahlung in gelbe Strahlung umzuwandeln.Especially preferred as the wavelength conversion substance is a Ce-doped YAG wavelength conversion substance (YAG: Ce) used. YAG: Ce is suitable to blue visible radiation in yellow radiation convert.

Gemäß einer Ausführungsform ist das Bindemittel ein Epoxidharz, ein Silikonharz oder enthält ein Silikonharz und/oder ein Epoxidharz. Insbesondere Silikonharze sind besonders gut geeignet, als Bindemittel für eine wellenlängenkonvertierende Schicht zu dienen, da diese sehr strahlungsstabil sind.According to one Embodiment, the binder is an epoxy resin, a Silicone resin or contains a silicone resin and / or an epoxy resin. In particular, silicone resins are particularly well suited as a binder for a wavelength converting layer too serve, since they are very stable to radiation.

Weiterhin kann die wellenlängenkonvertierende Schicht Diffusorpartikel aufweisen, die beispielsweise ebenfalls in das Bindemittel eingebracht sind. Diffusorpartikel können in die wellenlängenkonvertierende Schicht eingebracht werden, um die Abstrahlcharakteristik des optoelektronischen Bauelements zu verbessern.Farther For example, the wavelength-converting layer may be diffuser particles have, for example, are also incorporated in the binder. Diffuser particles can be converted into the wavelength converting Layer are introduced to the emission characteristics of the optoelectronic Improve device.

Neben Wellenlängenkonversionsstoffen und Diffusorpartikeln kann die wellenlängenkonvertierende Schicht weiterhin Farbstoffpigmente aufweisen. Farbstoffpigmente können beispielsweise die Aufgabe haben, den Farbort der von dem optoelektronischen Bauelement emittierten Strahlung an einen gewünschten Wert anzupassen.Next Wavelength conversion materials and diffuser particles can the wavelength-converting layer continues to contain dye pigments exhibit. Dye pigments may, for example, the Task, the color locus of the optoelectronic device adjusted radiation to a desired value.

Gemäß einer Ausführungsform sind mehrere Halbleiterkörper auf dem Träger angeordnet. Hierbei können die Halbleiterkörper beispielsweise verformt auf dem Träger aufgebracht sein oder mit einer Verstelleinheit auf gewünschte Art und Weise verformt werden.According to one Embodiment are a plurality of semiconductor bodies arranged on the carrier. Here, the Semiconductor body, for example, deformed on the support be applied or with an adjustment to desired Be deformed way.

Besonders bevorzugt sind mehrere Halbleiterkörper auf jeweils einen konkav oder konvex geformten Montagebereich derart auf gebracht, dass die Strahlungsdurchtrittsseite jedes Halbleiterkörpers konkav bzw. konvex geformt ist. Bei einer hohen Flächenbelegung mit strahlungsemittierenden Halbleiterkörpern kann so eine leuchtende Fläche mit nahezu homogener Abstrahlcharakteristik und hoher Leuchtdichte erzielt werden.Especially Preferably, a plurality of semiconductor bodies are each one concave or convex shaped mounting area so placed on the radiation passage side of each semiconductor body is concave or convex. With a high surface occupancy with radiation-emitting semiconductor bodies can such a luminous surface with almost homogeneous emission characteristics and high luminance can be achieved.

Die Halbleiterkörper können beispielsweise elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge aussenden und derart angeordnet sein, dass sich ihre Strahlkegel mischen. Auf diese Art und Weise ist es möglich, ein optoelektronisches Bauelement zu erzeugen, das mischfarbiges, beispielsweise weißes Licht aussendet. Sind die Halbleiterkörper mit Verstelleinheiten versehen, so dass die strahlungsemittierende Vorderseite der Halbleiterkörper verformt werden kann, so ist es bei dieser Ausführungsform möglich, den Farbort der vom optoelektronischen Bauelement ausgesandten Strahlung zu verändern.The Semiconductor bodies, for example, electromagnetic Send radiation of different wavelengths and such be arranged that mix their beam cone. In this manner and way, it is possible to use an optoelectronic device to produce the mixed-color, for example, white light sending out. Are the semiconductor bodies with adjusting units provided so that the radiation-emitting front of the semiconductor body deformed can be, it is possible in this embodiment, the color locus of the radiation emitted by the optoelectronic component to change.

Weiterhin kann über den Strahlungsdurchtrittsseiten der Halbleiterkörper eine gemeinsame wellenlängenkonvertierende Schicht derart angeordnet sein, dass die von den Halbleiterkörpern ausgesandte oder detektierte Strahlung zumindest teilweise durch die wellenlängenkonvertierende Schicht hindurch tritt.Farther can over the radiation passage sides of the semiconductor body a common wavelength converting layer such be arranged that emitted by the semiconductor bodies or detected radiation at least partially through the wavelength converting Layer passes through.

Gemäß einer Ausführungsform ist der Träger zumindest teilweise nach Art eines Rotationsparaboloids, eines Zylinders oder einer Kugel ausgebildet. Insbesondere, wenn ein solcher Träger mit mehreren strahlungsemittierenden Halbleiterkörpern bestückt wird, kann so eine Raumstrahlungsquelle erzielt werden. Besonders bevorzugt ist bei dieser Ausführungsform die gesamte Außenseite des Trägers überwiegend mit flexiblen Halbleiterkörpern belegt.According to one Embodiment, the carrier is at least partially in the manner of a paraboloid of revolution, a cylinder or a Ball formed. In particular, if such a carrier with a plurality of radiation-emitting semiconductor bodies is equipped, can be achieved as a space radiation source become. Particularly preferred is in this embodiment the entire outside of the vehicle predominantly occupied with flexible semiconductor bodies.

Gemäß einer Ausführungsform ist die Oberfläche des Trägers, auf den der Halbleiterkörper aufgebracht ist, zumindest teilweise reflektierend ausgebildet. Hierzu kann die Oberfläche des Trägers beispielsweise mit einer metallischen spiegelnden Schicht versehen sein. Die metallische spiegelnde Schicht kann zumindest eines der folgenden Materialien aufweisen oder aus zumindest einem dieser Materialien bestehen: Aluminium, Silber.According to one Embodiment is the surface of the carrier, on which the semiconductor body is applied, at least partially reflective formed. This may be the surface the carrier, for example, with a metallic reflective layer be provided. The metallic reflective layer can at least have one of the following materials or from at least one of these materials are: aluminum, silver.

Gemäß einer Ausführungsform ist der Halbleiterkörper eine Leuchtdiode oder eine Laserdiode. Insbesondere kann eine oberflächenemittierende Laserdiode (VCSEL) als Halbleiterkörper verwendet sein.According to one Embodiment, the semiconductor body is a LED or a laser diode. In particular, a surface emitting Laser diode (VCSEL) may be used as a semiconductor body.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Rückseite des Halbleiterkörpers durchlässig für die in der aktiven Zone erzeugte oder detektierte Strahlung ausgebildet. Bei dieser Ausführungsform ist die aktive Zone bevorzugt zur Strahlungserzeugung vorgesehen. Weiterhin ist der Halbleiterkörper bevorzugt frei von einer reflektierenden Schicht. Besonders bevorzugt ist der Halbleiterkörper frei von Elementen, die die in der aktiven Zone erzeugte Strahlung absorbieren oder reflektieren, so dass die elektromagnetische Strahlung den Halbleiterkörper von der aktiven Zone zu der Strahlungsdurchtrittsfläche und zu der Rückseite weitestgehend ungehindert durchläuft und von der Strahlungsdurchtrittsfläche und der Rückseite abgestrahlt werden. Ist der Halbleiterkörper bei dieser Ausführungsform auf einen Montagebereich eines Trägers aufgebracht, so ist der Montagebereich und der Träger zumindest in den Bereichen die von der Strahlung des Halbleiterkörpers durchlaufen werden, ebenfalls durchlässig für die von dem Halbleiterkörper ausgesandte Strahlung ausgebildet. Auf diese Art und Weise kann eine gekrümmte Raumstrahlungsquelle geschaffen werden, die von zwei Seiten Strahlung aussendet.According to one Another embodiment is the back of the Semiconductor body permeable to the formed in the active zone or detected radiation formed. In this embodiment, the active zone is preferred for generating radiation. Furthermore, the semiconductor body is preferred free from a reflective layer. Particularly preferred the semiconductor body free of elements that in the absorb or reflect radiation generated in the active zone that the electromagnetic radiation the semiconductor body of the active zone to the radiation passage area and goes through to the back largely unhindered and from the radiation passage area and the back side be radiated. Is the semiconductor body at this Embodiment on an assembly area of a carrier Applied, so is the mounting area and the carrier at least in the areas of the radiation of the semiconductor body to be run through, also permeable to the formed by the semiconductor body emitted radiation. In this way, a curved space radiation source be created, which emits radiation from two sides.

Ein hier beschriebenes optoelektronisches Bauelement ist insbesondere geeignet, in einem Kfz-Scheinwerfer als Beleuchtungsquelle verwendet zu sein. Insbesondere die Ausführungsform, bei der das optoelektronische Bauelement eine Verstelleinheit umfasst, ist hierzu besonders geeignet, da hiermit ein aktives Kurvenlicht erzielt werden kann, bei dem der Scheinwerfer der Lenkbewegung folgt.One The optoelectronic component described here is in particular suitable to be used as a lighting source in a motor vehicle headlight be. In particular, the embodiment in which the optoelectronic Component comprises an adjustment, is particularly suitable for this purpose, since hereby an active cornering light can be achieved, in which the headlight follows the steering movement.

Weiterhin ist ein optoelektronisches Bauelement der hier beschriebenen Art dazu geeignet, als Empfänger oder Sender verwendet zu werden. Insbesondere ein optoelektronisches Bauelement dessen Halbleiterkörper eine konvexe Strahlungsdurchtrittsseite aufweist – beispielsweise da der Halbleiterkörper auf einen konvexen Montagebereich aufgebracht ist – hat eine Abstrahlcharakteristik mit einem größeren Raumwinkelbereich als ein optoelektronisches Bauelement dessen Halbleiterkörper eine plane strahlungsemittierende Vorderseite aufweist und ist daher besonders gut als Sender – aber, mit einem strahlungsdetektierenden Halbleiterkörper versehen, auch als Empfänger – geeignet.Furthermore, an optoelectronic component of the type described here is suitable to be used as a receiver or transmitter. In particular, an optoelectronic component whose semiconductor body has a convex radiation passage side-for example because the semiconductor body is mounted on a convex mounting area -has a radiation characteristic with a larger solid angle range than an optoelectronic component whose semiconductor body has a flat radiation-emitting front and is therefore particularly good as a transmitter - but provided with a radiation-detecting semiconductor body, also as a receiver - suitable.

Gemäß einer Ausführungsform ist ein hier beschriebenes optoelektronisches Bauelement von einem Empfänger oder einem Sender umfasst, der bevorzugt dazu geeignet ist, elektromagnetische Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich zu detektieren bzw. auszusenden. Ein solcher Sender bzw. Empfänger kann beispielsweise in einer Fernbedienung oder deren Gegenstück enthalten sein.According to one Embodiment is an optoelectronic described here Comprises a component of a receiver or a transmitter, which is preferably suitable for electromagnetic radiation to detect or emit the infrared spectral range. Such a transmitter or receiver can, for example, in a remote control or its counterpart be included.

Weitere Merkmale, vorteilhafte Ausgestaltungen und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den 1 bis 15 beschriebenen Ausführungsbeispielen.Further features, advantageous embodiments and advantages of the invention will become apparent from the following in connection with the 1 to 15 described embodiments.

Es zeigen:It demonstrate:

1, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelements gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel, 1 , a schematic sectional view of an optoelectronic component according to a first exemplary embodiment,

2A bis 2D, schematische Schnittdarstellungen optoelektronischer Halbleiterkörper gemäß verschiedener Ausführungsbeispiele, 2A to 2D , schematic sectional views of optoelectronic semiconductor bodies according to various embodiments,

3, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelements gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel, 3 , a schematic sectional view of an optoelectronic component according to a second exemplary embodiment,

4, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelements gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel, 4 , a schematic sectional view of an optoelectronic component according to a third exemplary embodiment,

5, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelementes gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel, 5 , a schematic sectional view of an optoelectronic component according to a fourth exemplary embodiment,

6, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelementes gemäß einem fünften Ausführungsbeispiel, 6 , a schematic sectional view of an optoelectronic component according to a fifth exemplary embodiment,

7, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelementes mit mehreren Halbleiterkörpern gemäß einem sechsten Ausführungsbeispiel, 7 , a schematic sectional view of an optoelectronic component with a plurality of semiconductor bodies according to a sixth exemplary embodiment,

8, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelementes mit mehreren Halbleiterkörpern gemäß einem siebten Ausführungsbeispiel, 8th FIG. 4 is a schematic sectional view of an optoelectronic component having a plurality of semiconductor bodies according to a seventh exemplary embodiment, FIG.

9, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelements mit mehreren Halbleiterkörpern gemäß einem achten Ausführungsbeispiel, 9 , a schematic sectional view of an optoelectronic component with a plurality of semiconductor bodies according to an eighth exemplary embodiment,

10, ein optoelektronisches Bauelement gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel mit einer Verstelleinheit und einem externen optischen Element, 10 , an optoelectronic component according to a further exemplary embodiment with an adjustment unit and an external optical element,

11, schematische Schnittdarstellung eines optoelektronisches Bauelementes gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel mit mehreren Halbleiterkörpern, 11 , schematic sectional view of an optoelectronic component according to a further exemplary embodiment with a plurality of semiconductor bodies,

12, schematische Schnittdarstellung eines optoelektronisches Bauelementes gemäß einem Ausführungsbeispiel mit mehreren Halbleiterkörpern, einer wellenlängenkonvertierenden Schicht und einem externen optischen Element, 12 3 shows a schematic sectional illustration of an optoelectronic component according to an exemplary embodiment with a plurality of semiconductor bodies, a wavelength-converting layer and an external optical element,

13, schematische, perspektivische Darstellung eines PKWs mit einem Kfz-Scheinwerfer gemäß einem Ausführungsbeispiel, 13 , schematic, perspective view of a car with a motor vehicle headlamp according to an embodiment,

14A, eine schematische, perspektivische Darstellung eines Fernsehers mit einem Empfänger gemäß einem Ausführungsbeispiel. 14A , A schematic perspective view of a television with a receiver according to an embodiment.

14B, eine schematische, perspektivische Darstellung einer Fernbedienung mit einem Sender gemäß einem Ausführungsbeispiel, und 14B , A schematic perspective view of a remote control with a transmitter according to an embodiment, and

15, eine schematische Schnittdarstellung eines optoelektronischen Bauelementes gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel. 15 , A schematic sectional view of an optoelectronic component according to a further embodiment.

In den Ausführungsbeispielen und Figuren sind gleiche oder gleich wirkende Bestandteile jeweils mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die dargestellten Elemente der Figuren sind nicht notwendigerweise als maßstabsgerecht anzusehen. Vielmehr können einzelne Bestandteile, beispielsweise Schichtdicken, zum besseren Verständnis teilweise übertrieben groß dargestellt sein.In The embodiments and figures are the same or like-acting components each with the same reference numerals Mistake. The illustrated elements of the figures are not necessarily to be considered as true to scale. Rather, you can individual components, for example layer thicknesses, for the better Understanding partly exaggeratedly big be.

Das optoelektronische Bauelement gemäß dem Ausführungsbeispiel der 1 umfasst einen Träger 2 mit einem nicht-planen Montagebereich 3, auf den ein Halbleiterkörper 4 derart verformt aufgebracht ist, dass vermittels des Montagebereiches 3 eine Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 eine Krümmung aufweist. Der Halbleiterkörper 4 ist vorliegend dazu vorgesehen, im Betrieb elektromagnetische Strahlung auszusenden. Der Montagebereich 3 des Trägers 2 ist vorliegend in Abstrahlrichtung 17 konkav ausgebildet, so dass der Halbleiterkörper 4 ebenfalls konkav verformt ist und seine strahlungsemittierende Vorderseite 5 in Abstrahlrichtung 17 eine konkave Krümmung aufweist. Ein Krümmungsradius RT des Trägers 2 unterscheidet sich von einem Krümmungsradius RH der strahlungsemittierenden Vorderseite 5 vorliegend maximal um die Dicke DH des Halbleiterkörpers 4. Die konkave Krümmung der strahlungsemittierenden Vorderseite 5 des Halbleiterkörpers 4 führt zu einer gebündelten Abstrahlcharakteristik ge genüber einem optoelektronischen Bauelement mit einem strahlungsemittierenden Halbleiterkörper 4 mit planer strahlungsemittierenden Vorderseite 5. Die Strahlbündelung ist in 1 schematisch durch Pfeile gezeigt. Ein optoelektronisches Bauelement 1 mit einer Strahlbündelung ist insbesondere für Projektionsanwendungen geeignet. Weiterhin ist ein optoelektronisches Bauelement 1 mit einer gebündelten Abstrahlcharakteristik beispielsweise als Beleuchtungsquelle für eine Punktstrahlungsquelle geeignet.The optoelectronic component according to the embodiment of the 1 includes a carrier 2 with a non-planning assembly area 3 on which a semiconductor body 4 is applied deformed such that by means of the mounting area 3 a radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 has a curvature. The semiconductor body 4 is presently intended to emit electromagnetic radiation during operation. The assembly area 3 of the carrier 2 is present in the emission direction 17 concave, so that the semiconductor body 4 is also concavely deformed and its radiation-emitting front 5 in the direction of radiation 17 has a concave curvature. A radius of curvature R T of the carrier 2 differs from a radius of curvature R H of the radiation-emitting front side 5 in the present case at most about the thickness D H of the semiconductor body 4 , The concave curvature of the radiation-emitting front 5 of the semiconductor body 4 leads to a bundled emission characteristic compared to an optoelectronics rule component with a radiation-emitting semiconductor body 4 with planar radiation-emitting front 5 , The beam is in 1 schematically shown by arrows. An optoelectronic component 1 with beam focusing is particularly suitable for projection applications. Furthermore, an optoelectronic component 1 with a bundled radiation characteristic, for example as a source of illumination for a point radiation source suitable.

Bei dem optoelektronischen Bauelement 1 der 1 ist auf einem Randbereich 6 der strahlungsemittierenden Vorderseite 5 des Halbleiterkörpers 4 eine elektrische Kontaktstelle 7 angeordnet, auf der zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers 4 ein Bonddraht 8 aufgebracht ist. Der zweite elektrische Kontakt 9 wird vorliegend über eine der Vorderseite 5 gegenüberliegende Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 erzeugt, beispielsweise mittels einer elektrisch leitenden Verbindung zwischen Halbleiterkörper 4 und Montagebereich 3. Um eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Montagebereich 3 und Halbleiterkörper 4 herzustellen, kann der Halbleiterkörper 4 beispielsweise mit einem elektrisch leitenden Klebstoff oder einem Lot auf den Montagebereich 3 des Trägers 2 aufgebracht sein.In the optoelectronic component 1 of the 1 is on a border area 6 the radiation-emitting front 5 of the semiconductor body 4 an electrical contact point 7 arranged on the for electrical contacting of the semiconductor body 4 a bonding wire 8th is applied. The second electrical contact 9 is present over one of the front 5 opposite back 10 of the semiconductor body 4 generated, for example by means of an electrically conductive connection between the semiconductor body 4 and mounting area 3 , To make an electrically conductive connection between mounting area 3 and semiconductor body 4 can produce, the semiconductor body 4 for example, with an electrically conductive adhesive or a solder on the mounting area 3 of the carrier 2 be upset.

Um den Halbleiterkörper 4 verformt auf den Träger 2 aufbringen zu können, ist er zweckmäßigerweise flexibel ausgebildet. Flexible optoelektronische Halbleiterkörper 4, wie sie bei dem Bauelement 1 gemäß der 1 und bei allen weiteren Ausführungsbeispielen optoelektronischer Bauelemente verwendet sein können, werden im Folgenden anhand der 2A bis 2D beschrieben.To the semiconductor body 4 deformed on the carrier 2 to be able to apply, it is expediently flexible. Flexible optoelectronic semiconductor body 4 as with the component 1 according to the 1 and can be used in all other exemplary embodiments of optoelectronic components are described below with reference to 2A to 2D described.

Der Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2A weist eine epitaktisch gewachsene Halbleiterschichtenfolge 11 mit einer strahlungsaktiven Zone 12 auf, dass heißt, die aktive Zone 12 ist dazu geeignet, elektromagnetische Strahlung zu erzeugen oder zu detektieren. Zur Strahlungserzeugung bzw. Detektion umfasst die aktive Zone 12 des Halbleiterkörpers 4 beispielsweise einen herkömmlichen pn-Übergang, eine Doppelheterostruktur, eine Einfach-Quantentopfstruktur oder eine Mehrfach-Quantentopfstruktur. Die Halbleiterschichtenfolge 11 weist eine Dicke zwischen 2 μm und 20 μm auf, wobei die Grenzen eingeschlossen sind. Bei dem Halbleiterkörper 4 kann es sich beispielsweise um eine Leuchtdiode, eine Laserdiode oder eine oberflächenemittierende Laserdiode (VCSEL) handeln.The semiconductor body 4 according to the embodiment of the 2A has an epitaxially grown semiconductor layer sequence 11 with a radiation active zone 12 on, that is, the active zone 12 is suitable for generating or detecting electromagnetic radiation. For radiation generation or detection, the active zone comprises 12 of the semiconductor body 4 for example, a conventional pn junction, a double heterostructure, a single quantum well structure, or a multiple quantum well structure. The semiconductor layer sequence 11 has a thickness between 2 microns and 20 microns, with the limits are included. In the semiconductor body 4 it may, for example, be a light emitting diode, a laser diode or a surface emitting laser diode (VCSEL).

Die in der aktiven Zone 12 beim Betrieb des Halbleiterkörpers 4 erzeugte oder detektierte elektromagnetische Strahlung durchläuft die Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4. Auf einem Randbereich 6 der Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 ist vorliegend ein Bondpad als erster elektrischer Kontakt 7 angeordnet. Auf dem Bondpad ist zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers 4 und insbesondere zu elektrischen Kontaktierung der aktiven Zone 12 des Halbleiterkörpers 4 ein Bonddraht 8 aufgebracht.Those in the active zone 12 during operation of the semiconductor body 4 generated or detected electromagnetic radiation passes through the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 , On a border area 6 the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 In the present case, a bonding pad is the first electrical contact 7 arranged. On the bondpad is for electrical contacting of the semiconductor body 4 and in particular for electrical contacting of the active zone 12 of the semiconductor body 4 a bonding wire 8th applied.

Auf der von der Strahlungsdurchtrittsseite 5 abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge 11 ist vorliegend eine reflektierende Schicht 13 angeordnet. Bei der reflektierenden Schicht 13 kann es sich beispielsweise um eine metallische Schicht, einen Bragg-Spiegel oder eine TCO-Schicht in Kombination mit einer Metallschicht handeln. Die TCO-Schicht weist ein transparentes, elektrisch leitendes Oxid (transparent, conductive Oxide, TCO) auf oder besteht aus einem solchen.On the from the radiation passage side 5 remote side of the semiconductor layer sequence 11 is in this case a reflective layer 13 arranged. In the reflective layer 13 it may be, for example, a metallic layer, a Bragg mirror or a TCO layer in combination with a metal layer. The TCO layer has or consists of a transparent, electrically conductive oxide (transparent, conductive oxides, TCO).

Transparente leitende Oxide sind in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Kadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder Indium-Zinnoxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoffverbindungen gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitender Oxide zu der Gruppe der TCOs. Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrischen Zusammensetzung und können auch p- sowie n-dotiert sein.transparent conductive oxides are usually metal oxides, such as Zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or indium tin oxide (ITO). In addition to binary metal oxygen compounds include also ternary metal oxygen compounds or mixtures different transparent conductive oxides to the group of TCOs. Furthermore, the TCOs do not necessarily correspond to a stoichiometric Composition and can also be p- and n-doped.

Ist als reflektierende Schicht 13 eine TCO-Schicht in Kombination mit einer Metallschicht verwendet, so ist die TCO-Schicht bevorzugt zwischen der Halbleiterschichtenfolge 11 und der Metallschicht angeordnet. Die TCO-Schicht und die Metallschicht weisen bevorzugt eine Dicke von einigen 100 nm auf.Is as a reflective layer 13 a TCO layer used in combination with a metal layer, the TCO layer is preferably between the semiconductor layer sequence 11 and the metal layer. The TCO layer and the metal layer preferably have a thickness of several 100 nm.

Handelt es sich bei der reflektierenden Schicht 13 um einen Bragg-Spiegel, so ist dieser bevorzugt Teil der Halbleiterschichtenfolge 11 und wie diese epitaktisch gewachsen.Is it the reflective layer 13 around a Bragg mirror, this is preferably part of the semiconductor layer sequence 11 and how these have grown epitaxially.

Weiterhin umfasst der Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2A eine Verstärkungsschicht 14, die über der reflektierenden Schicht 13 aufgebracht ist und vorliegend die Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 ausbildet, die dessen Strahlungsdurchtrittsseite 5 gegenüberliegt. Bei der Verstärkungsschicht 14 kann es sich beispielsweise um eine galvanisch aufgebrachte Schicht oder um eine Metallfolie handeln. Eine galvanisch aufgebrachte Schicht kann beispielsweise eines der folgenden Materialien aufweisen oder aus einem dieser Materialien bestehen: Gold, Nickel, Kupfer, Aluminium, Silber. Eine galvanisch aufgebrachte Verstärkungsschicht hat bevorzugt eine Dicke zwischen 1 μm und 100 μm.Furthermore, the semiconductor body comprises 4 according to the embodiment of the 2A a reinforcing layer 14 that over the reflective layer 13 is applied and in this case the back 10 of the semiconductor body 4 forms, whose radiation passage side 5 opposite. In the reinforcing layer 14 it may, for example, be an electrodeposited layer or a metal foil. For example, an electrodeposited layer may include or consist of one of the following materials: gold, nickel, copper, aluminum, silver. A galvanically applied reinforcing layer preferably has a thickness of between 1 μm and 100 μm.

Ist die Verstärkungsschicht 14 durch eine Metallfolie gebildet, so weist diese bevorzugt eine der folgenden Materialien auf oder besteht aus einem dieser Materialien: Molybdän, Tantal. Die Metallfolie ist weiterhin bevorzugt, nicht dicker als 50 μm ausgebildet, damit sie flexibel ist. Besonders bevorzugt weist die Metallfolie eine Dicke von 20 μm auf.Is the reinforcing layer 14 formed by a metal foil, it preferably has one of the following materials or consists of one of these materials: molybdenum, tantalum. The metal foil is further preferred, not thicker than 50 microns formed so that it is flexible. Particularly preferably, the metal foil has a thickness of 20 μm.

Weiterhin kann die Verstärkungsschicht 14 auch Silizium aufweisen oder aus Silizium bestehen.Furthermore, the reinforcing layer 14 also have silicon or consist of silicon.

Der Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2B ist im Unterschied zu dem Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2A frei von einer Verstärkungsschicht 14. Stattdessen wird die Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 durch die reflektierende Schicht 13 gebildet.The semiconductor body 4 according to the embodiment of the 2 B is unlike the semiconductor body 4 according to the embodiment of the 2A free from a reinforcing layer 14 , Instead, the back is 10 of the semiconductor body 4 through the reflective layer 13 educated.

Der Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2C weist im Unterschied zu den Halbleiterkörpern 4 der 2A und 2B zwei elektrische Kontakte 7, 9 auf der Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 auf, während die Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 frei von elektrischen Kontakten ist.The semiconductor body 4 according to the embodiment of the 2C points in contrast to the semiconductor bodies 4 of the 2A and 2 B two electrical contacts 7 . 9 on the back side 10 of the semiconductor body 4 on while the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 is free of electrical contacts.

Auch der Halbleiterkörper 4 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 2D weist zwei elektrische Kontakte 7, 9 auf seiner Rückseite 10 auf, während die Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 frei von elektrischen Kontakten 7, 9 ist. Im Unterschied zu dem Halbleiterkörper 4 gemäß 2C umfasst der Halbleiterkörper 4 der 2D jedoch ein flexibles Substrat 15, das für die in der aktiven Zone 12 des Halbleiterkörpers 4 erzeugte oder detektierte elektromagnetische Strahlung durchlässig ausgebildet ist. Das Substrat 15 bildet vorliegend die Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 aus. Als flexibles Substrat 15, das durchlässig für die von dem Halbleiterkörper 4 emittierte oder detektierte elektromagnetische Strahlung ausgebildet ist, ist beispielsweise eine Glasfolie oder eine Kunststofffolie geeignet.Also the semiconductor body 4 according to the embodiment of the 2D has two electrical contacts 7 . 9 on his back 10 on while the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 free of electrical contacts 7 . 9 is. In contrast to the semiconductor body 4 according to 2C includes the semiconductor body 4 of the 2D however, a flexible substrate 15 that for in the active zone 12 of the semiconductor body 4 generated or detected electromagnetic radiation is permeable. The substrate 15 in the present case forms the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 out. As a flexible substrate 15 permeable to that of the semiconductor body 4 emitted or detected electromagnetic radiation is formed, for example, a glass sheet or a plastic film is suitable.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 3 weist wie das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 1 einen Montagebereich 3 auf, der konkav gekrümmt ist. Im Unterschied zu diesem Ausführungsbeispiel ist der Montagebereich 3 des vorliegenden Bauelementes 1 jedoch auch seitlich des Halbleiterkörpers 4 ausgebildet. Weiterhin ist der Montagebereich 3 gemäß der 3 als Wärmesenke ausgebildet, dass heißt, der Montagebereich 3 umfasst ein Material, das besonders gut die Wärme ableiten kann und weiterhin bevorzugt an den Ausdehnungskoeffizienten des Halbleiterkörpers 4 angepasst ist. Geeignete Materialien hierzu sind beispielsweise Aluminiumoxid und Aluminiumnitrid.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 3 has like the optoelectronic device 1 according to the embodiment of the 1 a mounting area 3 on, which is concavely curved. In contrast to this embodiment, the mounting area 3 of the present component 1 but also on the side of the semiconductor body 4 educated. Furthermore, the assembly area 3 according to the 3 designed as a heat sink, that is, the mounting area 3 comprises a material which is particularly good at dissipating the heat and further preferably at the coefficient of expansion of the semiconductor body 4 is adjusted. Suitable materials for this purpose are, for example, aluminum oxide and aluminum nitride.

Neben der Materialwahl ermöglicht weiterhin die konkave Krümmung des Montagebereiches 3 sowie die Ausbildung des Montagereiches 3 seitlich des Halbleiterkörpers 4, dass Wärme, die im Betrieb des Halbleiterkörpers 4 in der aktiven Zone 12 entsteht, besonders effektiv von dem Halbleiterkörper 4 abgeleitet werden kann. Der Wärmefluss ist in 3 schematisch durch gestrichelte Pfeile angedeutet.In addition to the choice of material continues to allow the concave curvature of the mounting area 3 as well as the training of the assembly area 3 side of the semiconductor body 4 that heat, in the operation of the semiconductor body 4 in the active zone 12 arises, particularly effective from the semiconductor body 4 can be derived. The heat flow is in 3 schematically indicated by dashed arrows.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 4 weist im Unterschied zu den optoelektronischen Bauelementen 1 der Ausführungsbeispiele der 1 und 3 einen konvexen Montagebereich 3 auf. Dem entsprechend weist auch die Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 eine konvexe Krümmung auf. Aufgrund der konvexen Krümmung der Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 weist das optoelektronische Bauelement 1 gemäß der 4 eine Abstrahlcharakteristik mit einer Strahlspreizung, dass heißt, mit einem größeren Raumwinkel gegenüber einem optoelektronischen Bauelement 1 mit einem Halbleiterkörper 4 mit einer planen Vorderseite 5, auf. Die gespreizte Abstrahlcharakteristik ist in 4 schematisch durch Pfeile gezeigt. Ein optoelektronisches Bauelement 1 mit einer gespreizten Abstrahlcharakteristik ist insbesondere als Sender, beispielsweise für Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich geeignet. Wird ein strahlungsdetektierender Halbleiterkörper anstelle eines strahlungserzeugenden Halbleiterkörpers verwendet, so ist das optoelektronische Halbleiterbauelement auch als Empfänger elektromagnetischer Strahlung geeignet. Ein Sender bzw. Empfänger für infrarote Strahlung kann beispielsweise in einer Fernbedienung eingesetzt werden.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 4 Unlike the optoelectronic components 1 the embodiments of the 1 and 3 a convex mounting area 3 on. Accordingly, also the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 a convex curvature. Due to the convex curvature of the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 has the optoelectronic component 1 according to the 4 a radiation characteristic with a beam spread, that is, with a larger solid angle with respect to an optoelectronic device 1 with a semiconductor body 4 with a flat front 5 , on. The spread radiation characteristic is in 4 schematically shown by arrows. An optoelectronic component 1 with a spread radiation characteristic is particularly suitable as a transmitter, for example, for radiation from the infrared spectral range. If a radiation-detecting semiconductor body is used instead of a radiation-generating semiconductor body, the optoelectronic semiconductor component is also suitable as a receiver of electromagnetic radiation. A transmitter or receiver for infrared radiation can be used for example in a remote control.

Alternativ oder zusätzlich zu zumindest einer Krümmung kann der Träger 2 auch einen Knick aufweisen. Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß 5 weist als Montagebereich 3 einen Quader auf, auf den der Halbleiterkörper 4 derart auf zwei aneinandergrenzende Seitenflächen aufgebracht ist, dass die Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 einen Knick aufweist.Alternatively, or in addition to at least one curvature, the carrier 2 also have a kink. The optoelectronic component 1 according to 5 points as an assembly area 3 a cuboid, on which the semiconductor body 4 is applied to two adjacent side surfaces such that the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 has a kink.

Die Oberfläche des Montagebereichs 3, auf die der Halbleiterkörper 4 aufgebracht wird, kann nicht nur eine einzige Krümmung oder einen einzigen Knick aufweisen, sondern vielmehr eine beliebige Freiformfläche ausbilden, so dass auch die Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 eine beliebige Freiformfläche bildet.The surface of the mounting area 3 to which the semiconductor body 4 is applied, may not only have a single curvature or a single bend, but rather form any free-form surface, so that the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 forms any free-form surface.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 6 weist einen Montagebereich 3 mit einer Freiformfläche mit zwei aneinandergrenzenden konkaven Teilbereichen auf, auf die der Halbleiterkörper 4 aufgebracht ist. Dem entsprechend weist auch die Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 eine Freiformfläche mit zwei aneinandergrenzenden konkaven Teilbereichen auf.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 6 has a mounting area 3 with a free-form surface with two adjoining concave subregions, on which the semiconductor body 4 is applied. Accordingly, also the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 a freeform surface with two adjoining concave subregions on.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 7 umfasst zwei konkav geformte Montagebereiche 3, wie sie bereits anhand 1 beschrieben wurden. Die beiden Montagebereiche 3 sind nebeneinander auf dem Träger 2 angeordnet und jeweils mit einem Halbleiterkörper 4 versehen, der ebenfalls eine konkav gekrümmte Strahlungsdurchtrittsfläche 5 aufweist.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 7 includes two concave-shaped mounting areas 3 as they are already based 1 have been described. The two assembly areas 3 are side by side on the carrier 2 arranged and each with a semiconductor body 4 provided, which also has a concave curved radiation passage area 5 having.

Im Unterschied zu dem optoelektronischen Bauelement 1 gemäß der 7 umfasst das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 8 zwei nebeneinander auf dem Träger 2 angeordnete konvexe Montagebereiche 3, wie sie bereits anhand der 4 bereits beschrieben wurden.In contrast to the optoelectronic component 1 according to the 7 includes the optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 8th two side by side on the carrier 2 arranged convex mounting areas 3 as already stated by the 4 already described.

Bei dem optoelektronischen Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 9 ist der Träger 2 selber gekrümmt – vorliegend konkav – ausgebildet. Weiterhin weist der Träger 2 mehrere nebeneinander angeordnete konvex gekrümmte Montagebereiche 3 auf, auf die jeweils ein strahlungserzeugender Halbleiterkörper 4 aufgebracht ist, der dementsprechend ebenfalls konkav gekrümmt ist. Solche konvex gekrümmte Montagebereiche 3 wurden bereits anhand der 4 und 8 bereits beschrieben. Die Montagebereiche 3 sind weiterhin derart eng nebeneinander auf dem Träger 2 angeordnet, dass jeweils benachbar te strahlungserzeugende Halbleiterkörper 4 nahezu lückenlos aneinander angrenzen. Auf diese Art und Weise bilden die Vorderseiten 5 der Halbleiterkörper 4 eine nahezu lückenlose strahlungsemittierende Oberfläche mit sehr homogener Abstrahlcharakteristik aus.In the optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 9 is the carrier 2 itself curved - in this case concave - trained. Furthermore, the carrier 2 several juxtaposed convexly curved mounting areas 3 on, on each of which a radiation-generating semiconductor body 4 is applied, which is accordingly also concave curved. Such convexly curved mounting areas 3 were already based on the 4 and 8th already described. The mounting areas 3 are still so close to each other on the carrier 2 arranged, that in each case neigh te radiation-generating semiconductor body 4 almost completely adjoin one another. In this way, the fronts form 5 the semiconductor body 4 a nearly complete radiation-emitting surface with a very homogeneous radiation characteristic.

Aufgrund der Krümmung der strahlungsemittierenden Vorderseite 5 der Halbleiterkörper 4 weist das optoelektronische Bauelement 1 eine höhere Leuchtdichte auf als ein optoelektronisches Bauelement 1 mit planen Halbleiterkörpern 4. Um diesen Sachverhalt zu veranschaulichen, sind in 9 unterhalb des Trägers 2 die Halbleiterkörper 4 in planer Geometrie schematisch dargestellt. Ein Vergleich zeigt, dass die Halbleiterkörper 4 plan nebeneinander angeordnet eine größere Fläche einnehmen würden als gekrümmt. Da die von den Halbleiterkörpern 4 ausgesandte elektromagnetische Strahlung jedoch gleich bleibt, ist die Leuchtdichte der gekrümmt angeordneten Halbleiterkörpern 4 gegenüber plan angeordneten Halbleiterkörpern 4 erhöht. Die Leuchtdichte des optoelektronischen Bauelementes 1 wird bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel durch die konkave Krümmung des Trägers 2 weiter erhöht.Due to the curvature of the radiation-emitting front side 5 the semiconductor body 4 has the optoelectronic component 1 a higher luminance than an optoelectronic device 1 with planar semiconductor bodies 4 , To illustrate this situation, are in 9 below the carrier 2 the semiconductor bodies 4 shown schematically in plane geometry. A comparison shows that the semiconductor body 4 arranged side by side to occupy a larger area than would be curved. Because of the semiconductor bodies 4 emitted electromagnetic radiation remains the same, however, is the luminance of the curved arranged semiconductor bodies 4 compared to plan arranged semiconductor bodies 4 elevated. The luminance of the optoelectronic component 1 is in the present embodiment by the concave curvature of the carrier 2 further increased.

Alternativ zu der konkaven Krümmung des Trägers 2, wie sie in 9 dargestellt ist, kann der Träger 2 auch jede andere Fläche im Raum ausbilden. So kann der Träger 2 beispielsweise als Rotationsparaboloid, Zylinder oder Kugel ausgebildet sein. In Kombination mit einer nahezu lückenlosen Bedeckung des Trägers 2 mit konvex gekrümmten strahlungsemittierenden Halbleiterkörpern 4, entsteht so ein optoelektronisches Bauelement 1, dass geeignet ist, als Raumstrahlungsquelle mit hoher Leuchtdichte zu dienen.Alternatively to the concave curvature of the carrier 2 as they are in 9 is shown, the carrier can 2 also form any other surface in space. So can the carrier 2 For example, be designed as a paraboloid of revolution, cylinder or ball. In combination with almost complete coverage of the wearer 2 with convexly curved radiation-emitting semiconductor bodies 4 , so creates an optoelectronic device 1 that is suitable to serve as a space radiation source with high luminance.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 10 weist im Unterschied zu den übrigen Ausführungsbeispielen vier Verstelleinheiten 16 auf, die auf der von der Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des strahlungserzeugenden Halbleiterkörpers 4 abgewandten Seite des Trägers 2 angeordnet sind. Mit Hilfe der Verstelleinheiten 16 kann die Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 beliebig verformt werden, so dass die Abstrahlcharakteristik des optoelektronischen Bauelementes 1 während des Betriebes auf gewünschte Art und Weise verändert werden kann. Als Verstelleinheit 16 kann beispielsweise ein Mikroversteller oder ein Piezoaktor verwendet sein.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 10 has in contrast to the other embodiments, four adjustment units 16 on top of that from the radiation passage area 5 the radiation-generating semiconductor body 4 opposite side of the carrier 2 are arranged. With the help of the adjustment units 16 can the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 be deformed arbitrarily, so that the radiation characteristic of the optoelectronic component 1 can be changed during operation in the desired manner. As an adjustment unit 16 For example, a micro-adjuster or a piezoelectric actuator may be used.

Weiterhin kann das optoelektronische Bauelement 1 mit Hilfe einer Verstelleinheit 16 und mit einem strahlungserzeugenden Halbleiterkörper 4 versehen, zur Übermittlung von Nachrichten gepulst betrieben werden.Furthermore, the optoelectronic component 1 with the help of an adjustment unit 16 and with a radiation-generating semiconductor body 4 be operated pulsed to transmit messages.

Über der Strahlungsdurchtrittsseite 5 des Halbleiterkörpers 4 ist ein optisches Element 18 angeordnet, das ebenfalls flexibel ausgebildet ist. Hierzu weist das optische Element 18 ein Silikonharz auf oder besteht aus einem solchen.Above the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 is an optical element 18 arranged, which is also flexible. For this purpose, the optical element 18 a silicone resin or consists of such.

Als optisches Element 18 ist vorliegend eine Linse verwendet. Bei dem optischen Element 18 kann es sich aber auch um einen zusammengesetzten parabolischen Konzentrator (Compound parabolic concentrator, CPC), einen zusammengesetzten elyptischen Konzentrator (Compound elyptic concentrator, CEC) oder einen zusammengesetzten hyperbolischen Konzentrator (Compound hyperbolic concentrator, CHC) handeln.As an optical element 18 In this case, a lens is used. In the optical element 18 however, it may also be a Compound Parabolic Concentrator (CPC), a Compound Elyptic Concentrator (CEC), or a Compound Hyperbolic Concentrator (CHC).

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 11 weist wie das optoelektronische Bauelement 1 gemäß 9 einen konkav gekrümmten Träger 2 auf. Der Träger 2 umfasst drei konvex gekrümmte Montagebereiche 3. Auf die konvex gekrümmten Montagebereiche 3 ist jeweils ein strahlungserzeugender Halbleiterkörper 4 aufgebracht, der entsprechend der Krümmung der Montagebereiche 3 eine konvex gekrümmte strahlungsemittierende Vorderseite 5 aufweist. Die Halbleiterkörper 4 senden elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlängen aus. Der mittlere Halbleiterkörper 4 sendet Strahlung R aus dem sichtbaren roten Spektralbereich aus, während der eine benachbarte Halbleiterkörper 4 Strahlung G aus dem sichtbaren grünen Spektralbereich und der andere benachbarte Halbleiterkörper 4 Strahlung B aus dem sichtbaren blauen Spektralbereich aussendet. Aufgrund der Krümmung des Trägers 2 mischt sich das farbige Licht RGB der Halbleiterkörper 4 derart, dass das optoelektronische Bauelement 1 Licht mit einem Farbort im weißen Bereich der CIE-Normfarbtafel aussendet.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 11 has like the optoelectronic device 1 according to 9 a concave curved support 2 on. The carrier 2 includes three convexly curved mounting areas 3 , On the convex curved mounting areas 3 each is a radiation-generating semiconductor body 4 applied according to the curvature of the mounting areas 3 a convex curved radiation-emitting front 5 having. The semiconductor body 4 emit electromagnetic radiation of different wavelengths. The middle semiconductor body 4 emits radiation R from the visible red spectral region, while the one adjacent semiconductor bodies 4 Radiation G from the visible green spectral region and the other adjacent semiconductor body 4 Radiation B emitted from the visible blue spectral range. Due to the curvature of the wearer 2 mixes the colored light RGB of the semiconductor body 4 such that the optoelectronic component 1 Send out light with a color spot in the white area of the CIE standard color chart.

Die Oberfläche des Trägers 2 ist weiterhin seitlich der Montagebereiche 3 reflektierenden ausgebildet, um die optischen Eigenschaften des optoelektronischen Bauelementes 1 zu verbessern. Hierzu weist die Oberfläche eine spiegelnde metallische Schicht 19 auf, die beispielsweise eines der folgenden Materialien aufweist oder aus einem dieser Materialien besteht: Aluminium, Silber.The surface of the carrier 2 is still on the side of the mounting areas 3 reflective formed to the optical properties of the optoelectronic component 1 to improve. For this purpose, the surface has a reflective metallic layer 19 on, for example, one of the following materials or consists of one of these materials: aluminum, silver.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 12 weist wie das optoelektronische Bauelement 1 gemäß der 11 einen konkav gekrümmten Träger 2 mit drei konvex gekrümmten Montagebereichen 3 auf. Im Unterschied zu dem Ausführungsbeispiel gemäß der 11 senden die Halbleiterkörper 4 jedoch Strahlung B derselben Wellenlänge aus, die vorliegend aus dem sichtbaren blauen Spektralbereich stammt. Über der strahlungsemittierenden Vorderseite 5 der Halbleiterkörper 4 ist eine gemeinsame wellenlängenkonvertierende Schicht 20 angeordnet. Die wellenlängenkonvertierende Schicht 20 ist dazu geeignet, zumindest einen Teil der von den Halbleiterkörpern 4 emittierten sichtbaren blauen Strahlung B in sichtbare gelbe Strahlung Y umzuwandeln. Hierzu umfasst die wellenlängenkonvertierende Schicht 20 einen Wellenlängenkonversionsstoff 21, beispielsweise YAG:Ce, der in ein Bindemittel 22 eingebracht ist. Bei dem Bindemittel 22 kann es sich beispielsweise um ein Silikonharz oder um ein Epoxidharz handeln.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 12 has like the optoelectronic device 1 according to the 11 a concave curved support 2 with three convexly curved mounting areas 3 on. In contrast to the embodiment according to the 11 send the semiconductor bodies 4 However, radiation B of the same wavelength, which in the present case comes from the visible blue spectral range. Above the radiation-emitting front 5 the semiconductor body 4 is a common wavelength-converting layer 20 arranged. The wavelength-converting layer 20 is suitable for at least part of the semiconductor bodies 4 emitted visible blue radiation B into visible yellow radiation Y to convert. For this purpose, the wavelength-converting layer comprises 20 a wavelength conversion substance 21 For example, YAG: Ce, which is in a binder 22 is introduced. For the binder 22 it may be, for example, a silicone resin or an epoxy resin.

Die wellenlängenkonvertierende Schicht 21 wandelt einen Teil der von den Halbleiterkörpern 4 ausgesandten sichtbaren blauen Strahlung B in Strahlung Y aus dem sichtbaren gelben Spektralbereich um, während ein Teil der sichtbaren blauen Strahlung B die wellenlängenkonvertierende Schicht 20 unkonvertiert durchläuft. Das optoelektronische Bauelement 1 sendet daher mischfarbiges Licht mit gelben und blauen Anteilen aus, das einen weißen Farbeindruck beim Betrachter hervorruft. In Abstrahlrichtung 17 nachfolgend auf die wellenlängenkonvertierende Schicht 20 ist weiterhin ein externes optisches Element 18, beispielsweise eine Linse angeordnet, das die Abstrahlcharakteristik des optoelektronischen Bauelementes 1 weiter auf gewünschte Art und Weise beeinflusst.The wavelength-converting layer 21 converts a part of the semiconductor bodies 4 emitted visible blue radiation B in radiation Y from the visible yellow spectral range, while a portion of the visible blue radiation B, the wavelength-converting layer 20 goes through unconverted. The optoelectronic component 1 emits therefore mixed-colored light with yellow and blue proportions, which causes a white color impression in the viewer. In the direction of radiation 17 following on the wavelength converting layer 20 is still an external optical element 18 , For example, arranged a lens that the emission characteristic of the optoelectronic component 1 further influenced in the desired way.

Der Kfz-Scheinwerfer 23 gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur umfasst eines der oben beschriebenen optoelektronischen Bauelemente 1, das sichtbares Licht aus dem weißen Bereich der CIE-Normfarbtafel aussendet. Das optoelektronische Bauelement 1 ist in die Frontseite eines PKWs hinter einer Scheibe 24 eingebaut, die durchlässig, für sichtbares Licht aus dem weißen Bereich ist. Insbesondere ein Bauelement 1, bei dem die strahlungsemittierende Vorderseite 5 des Halbleiterkörpers 4 während des Betriebes beliebig mit einer Verstelleinheit 16 verändert werden kann, ist dazu geeignet, in einem Kfz-Scheinwerfer 23 als Beleuchtungseinheit verwendet zu werden. Mit Hilfe einer solchen Beleuchtungseinheit ist es beispielsweise möglich, ein aktives Kurvenlicht zu erzeugen, dass den Lenkbewegungen des Fahrers folgt.The car headlight 23 according to the embodiment of the figure comprises one of the optoelectronic components described above 1 which emits visible light from the white area of the CIE standard color chart. The optoelectronic component 1 is in the front of a car behind a disc 24 built-in, which is permeable, for visible light from the white area. In particular, a component 1 in which the radiation-emitting front 5 of the semiconductor body 4 during operation as desired with an adjustment unit 16 can be changed, is suitable in a motor vehicle headlight 23 to be used as a lighting unit. With the aid of such a lighting unit, it is possible, for example, to generate an active cornering light that follows the driver's steering movements.

Der Fernseher gemäß dem Ausführungsbeispiel der 14A umfasst ein optoelektronisches Bauelement 1, das geeignet ist, elektromagnetische Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich zu detektieren. Insbesondere ein Bauelement 1 mit einem Halbleiterkörper 4, der eine konvex gekrümmte Vorderseite 5 aufweist, ist hierzu geeignet, da er Strahlung mit einer besonders großen Raumwinkel detektieren kann. Ein solches Bauelement 1 ist beispielsweise anhand der 4 beschrieben.The television according to the embodiment of 14A comprises an optoelectronic component 1 which is suitable for detecting electromagnetic radiation from the infrared spectral range. In particular, a component 1 with a semiconductor body 4 , which has a convex curved front 5 has, is suitable for this purpose, since it can detect radiation with a particularly large solid angle. Such a device 1 is for example based on the 4 described.

Die Fernbedienung gemäß dem Ausführungsbeispiel gemäß der 14B weist ebenfalls ein optoelektronisches Bauelement 1 mit einem Halbleiterkörper 4 mit einer konvex gekrümmten strahlungsemittierenden Vorderseite 5 auf, das geeignet ist, Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich auszusenden. Ein solches Bauelement ist aufgrund seiner gespreizten Abstrahlcharakteristik dazu geeignet, einen besonders großen Raumwinkelbereich abzudecken und daher für eine Fernbedienung besonders vorteilhaft.The remote control according to the embodiment according to the 14B also has an optoelectronic component 1 with a semiconductor body 4 with a convex curved radiation-emitting front 5 which is suitable for emitting radiation from the infrared spectral range. Such a device is due to its spread radiation characteristic suitable to cover a particularly large solid angle range and therefore particularly advantageous for remote control.

Das optoelektronische Bauelement 1 gemäß dem Ausführungsbeispiel der 15 umfasst einen Halbleiterkörper 4 mit einer aktiven Zone 12, die zur Strahlungserzeugung vorgesehen ist. Die Rückseite 10 des Halbleiterkörper 4 ist durchlässig für die von der aktiven Zone 12 erzeugte Strahlung ausgebildet und wie die Strahlungsdurchtrittsseite 5 dazu vorgesehen, Strahlung im Betrieb des Bauelementes 1 zu auszusenden.The optoelectronic component 1 according to the embodiment of the 15 comprises a semiconductor body 4 with an active zone 12 , which is intended for generating radiation. The backside 10 of the semiconductor body 4 is permeable to that of the active zone 12 generated radiation and formed as the radiation passage side 5 provided radiation during operation of the device 1 to send out.

Der Halbleiterkörper 4 ist weiterhin ebenfalls durchlässig für die von der aktiven Zone 12 erzeugte Strahlung ausgebildet. Insbesondere ist der Halbleiterkörper 4 frei von absorbierenden oder reflektierenden Elementen, die den Strahlungsverlauf von der aktiven Zone 12 zur Rückseite 10 oder zur Strahlungsdurchtrittsseite 5 behindern könnten, wie beispielsweise eine reflektierende Schicht 13.The semiconductor body 4 is still permeable to those of the active zone 12 generated radiation formed. In particular, the semiconductor body 4 free of absorbing or reflecting elements that control the radiation path of the active zone 12 to the back 10 or to the radiation passage side 5 could hinder, such as a reflective layer 13 ,

Zur mechanischen Stabilisierung des Halbleiterkörpers 4 ist es möglich, dass dieser zumindest ein Substrat 15 aufweist (in 15 nicht dargestellt), dass für die von dem Halbleiterkörper 4 ausgesandte Strahlung durchlässig ausgebildet ist, wie einer Glasfolie oder einer Kunststofffolie. Das Substrat 15 kann beispielsweise die Strahlungsdurchtrittsfläche 5 oder die Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 ausbilden. Weiterhin ist es auch möglich, dass der Halbleiterkörper 4 zwei Substrate 15 aufweist, die für die von dem Halbleiterkörper 4 ausgesandte Strahlung durchlässig ausgebildet sind. So kann ein Substrat 15, beispielsweise eine Kunststofffolie, die Strahlungsdurchtrittsseite 5 und ein weiteres Substrat 15, beispielsweise ebenfalls eine Kunststofffolie, die Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 ausbilden. Der Halbleiterkörper 4 kann beispielsweise zwischen zwei Kunststofffolien einlaminiert sein.For mechanical stabilization of the half conductor body 4 is it possible for this to be at least one substrate 15 has (in 15 not shown) that for the of the semiconductor body 4 emitted radiation is permeable, such as a glass sheet or a plastic film. The substrate 15 For example, the radiation passage area 5 or the back 10 of the semiconductor body 4 form. Furthermore, it is also possible that the semiconductor body 4 two substrates 15 that for the of the semiconductor body 4 emitted radiation are permeable. So can a substrate 15 , For example, a plastic film, the radiation passage side 5 and another substrate 15 , for example, also a plastic film, the back 10 of the semiconductor body 4 form. The semiconductor body 4 For example, it can be laminated between two plastic films.

Der Halbleiterkörper 4 ist auf einen nicht-planen Montagebereich 3 eines Trägers 2 derart verformt aufgebracht, dass die Strahlungsdurchtrittseite 5 des Halbleiterkörpers 4 eine Krümmung aufweist. Der Montagebereich 3 weist vorliegend eine konvexe Krümmung auf, so dass die Strahlungsdurchtrittseite 5 des Halbleiterkörpers 4, ebenso wie die Rückseite 10 des Halbleiterkörpers 4 ebenfalls eine konvexe Krümmung aufweist. Der Montagebereich 3 und der Träger 2 sind vorliegend ebenfalls durchlässig für die von dem Halbleiterkörper 4 ausgesandte Strahlung ausgebildet, so dass das optoelektronische Bauelement 1 im Betrieb Strahlung von der Strahlungsdurchtrittsfläche 5 des Halbleiterkörpers 4 und von der Seite des Trägers 2, die von dem Halbleiterkörper 4 abgewandt ist, aussendet. Auf diese Art und weise lässt sich eine Raumstrahlungsquelle erzeugen.The semiconductor body 4 is on a non-planning assembly area 3 a carrier 2 applied deformed such that the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 has a curvature. The assembly area 3 in the present case has a convex curvature, so that the radiation passage side 5 of the semiconductor body 4 , as well as the back 10 of the semiconductor body 4 also has a convex curvature. The assembly area 3 and the carrier 2 are presently also permeable to those of the semiconductor body 4 emitted radiation is formed, so that the optoelectronic component 1 In operation, radiation from the radiation passage area 5 of the semiconductor body 4 and from the side of the wearer 2 that of the semiconductor body 4 turned away, sent out. In this way, a spatial radiation source can be generated.

Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination von Merkmalen selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The The invention is not by the description based on the embodiments limited. Rather, the invention includes every new feature as well any combination of features, especially any combination includes features in the claims, also if this feature or this combination of features itself is not explicitly in the patent claims or exemplary embodiments is specified.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • - WO 2006/045277 [0002] WO 2006/045277 [0002]
  • - WO 01/39282 [0007] WO 01/39282 [0007]
  • - WO 98/31055 [0007] WO 98/31055 [0007]
  • - US 5831277 [0007] US 5831277 [0007]
  • - EP 1017113 [0007] - EP 1017113 [0007]
  • - US 5684309 [0007] US 5684309 [0007]
  • - DE 102007022947 [0042] - DE 102007022947 [0042]
  • - WO 97/50132 [0046] WO 97/50132 [0046]

Claims (39)

Optoelektronisches Bauelement (1) mit: – einem Halbleiterkörper (4), der eine aktive Zone (12) aufweist, die zur Erzeugung oder zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung geeignet ist, und – einem nicht-planen Montagebereich (3) eines Trägers (2), auf den der Halbleiterkörper (4) derart verformt aufgebracht ist, dass vermittels des Montagebereiches (3) eine Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) eine Krümmung oder einen Knick aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) comprising: - a semiconductor body ( 4 ), which is an active zone ( 12 ), which is suitable for the generation or detection of electromagnetic radiation, and - a non-planar mounting area ( 3 ) of a carrier ( 2 ) to which the semiconductor body ( 4 ) is applied deformed such that by means of the mounting area ( 3 ) a radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) has a curvature or a kink. Optoelektronisches Bauelement (1) nach Anspruch 1, bei dem der Halbleiterkörper (4) flexibel ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to claim 1, in which the semiconductor body ( 4 ) is flexible. Optoelektronisches Bauelement (1) mit: – einem flexiblen Halbleiterkörper (4), der eine aktive Zone (12) aufweist, die zur Erzeugung oder zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung geeignet ist, – einem Träger (2), auf dem der Halbleiterkörper (4) angeordnet ist, und – zumindest einer Verstelleinheit (16), die geeignet ist, eine Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) auf gewünschte Art und Weise derart zu verformen, dass diese eine Krümmung oder einen Knick aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) with: - a flexible semiconductor body ( 4 ), which is an active zone ( 12 ) suitable for generating or detecting electromagnetic radiation, - a carrier ( 2 ), on which the semiconductor body ( 4 ), and - at least one adjustment unit ( 16 ), which is suitable, a radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) in a desired manner such that it has a curvature or a kink. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Verstelleinheit (16) ein Piezoaktor oder ein Mikroversteller ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the adjusting unit ( 16 ) is a piezoelectric actuator or a micro adjuster. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 3 bis 4, bei dem die Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) im Betrieb verformbar ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 3 to 4, wherein the radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) is deformable during operation. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Strahlungsdurchtrittsseite (5) gepulst verformbar ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the radiation passage side ( 5 ) is pulsed deformable. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 4 bis 6, bei dem über der Strahlungsdurchtrittsseite des Halbleiterkörper (4) ein optisches Element (15) derart angeordnet ist, dass die von dem Halbleiterkörper (4) erzeugte oder detektierte Strahlung zumindest teilweise durch das optische Element (15) hindurch tritt.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of Claims 4 to 6, in which, above the radiation passage side of the semiconductor body ( 4 ) an optical element ( 15 ) is arranged such that the of the semiconductor body ( 4 ) generated or detected radiation at least partially by the optical element ( 15 ) passes through. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch unter Rückbezug auf einen der Ansprüche 3 bis 6, bei dem das optische Element (15) flexibel ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim with reference to one of claims 3 to 6, in which the optical element ( 15 ) is flexible. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 8, bei dem der Halbleiterkörper (4) eine Dicke zwischen 2 μm und 20 μm aufweist, wobei die Grenzen eingeschlossen sind.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 2 to 8, in which the semiconductor body ( 4 ) has a thickness of between 2 μm and 20 μm, the limits being included. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Halbleiterkörper (4) ein flexibles Substrat (15) aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims, in which the semiconductor body ( 4 ) a flexible substrate ( 15 ) having. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Halbleiterkörper (4) ein Substrat (15) aufweist, das für die in der aktiven Zone (12) erzeugte oder detektierte Strahlung durchlässig ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims, in which the semiconductor body ( 4 ) a substrate ( 15 ), which is suitable for use in the active zone ( 12 ) generated or detected radiation is permeable. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem das Substrat (15) zwischen der aktiven Zone (12) und der Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) angeordnet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the substrate ( 15 ) between the active zone ( 12 ) and the radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) is arranged. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 10 bis 12, bei dem das Substrat (15) eine Glasfolie oder eine Kunststofffolie ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 10 to 12, in which the substrate ( 15 ) is a glass sheet or a plastic film. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem zwischen der aktiven Schicht (13) und einer Rückseite des Halbleiterkörpers, die der Strahlungsdurchtrittsseite (5) gegenüberliegt, eine reflektierende Schicht angeordnet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein between the active layer ( 13 ) and a rear side of the semiconductor body, the radiation passage side ( 5 ) is opposite, a reflective layer is arranged. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die reflektierende Schicht (13) durch einen Braggspiegel, eine Metallschicht oder eine Metallschicht in Kombination mit einer TCO-Schicht gebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the reflective layer ( 13 ) is formed by a Bragg mirror, a metal layer or a metal layer in combination with a TCO layer. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem zwischen der aktiven Zone (12) und der Rückseite (10) des Halbleiterkörpers (4) eine Verstärkungsschicht (14) angeordnet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein between the active zone ( 12 ) and the back ( 10 ) of the semiconductor body ( 4 ) a reinforcing layer ( 14 ) is arranged. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Verstärkungsschicht (14) eine galvanisch aufgebrachte Schicht oder eine Metallfolie ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the reinforcing layer ( 14 ) is a plated layer or a metal foil. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 16 bis 17, bei dem die Verstärkungsschicht (14) Silizium aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 16 to 17, in which the reinforcing layer ( 14 ) Comprises silicon. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Montagebereich (3) des Trägers (2), auf den der Halbleiterkörper (4) aufgebracht ist, eine konvexe oder konkave Krümmung aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the mounting area ( 3 ) of the carrier ( 2 ) to which the semiconductor body ( 4 ), has a convex or concave curvature. Optoelektronisches Bauelement (11) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Montagebereich (3) des Trägers (2), auf den der Halbleiterkörper (4) aufgebracht ist, einen Knick aufweist.Optoelectronic component ( 11 ) according to any one of the preceding claims, wherein the mounting area ( 3 ) of the carrier ( 2 ) to which the semiconductor body ( 4 ), has a kink. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem zumindest der Montagebereich (3) als Wärmesenke ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) after egg nem of the above claims, wherein at least the mounting area ( 3 ) is designed as a heat sink. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Wärmesenke Aluminiumoxid oder Aluminiumnitrid aufweist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the heat sink comprises aluminum oxide or aluminum nitride. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem elektrische Kontakte (7, 9) zur elektrischen Kontaktierung der aktiven Zone (12) auf der Rückseite (10) des Halbleiterkörpers (4) angebracht sind.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which electrical contacts ( 7 . 9 ) for electrically contacting the active zone ( 12 ) on the back side ( 10 ) of the semiconductor body ( 4 ) are mounted. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 22, bei dem zumindest ein elektrischer Kontakt (7, 9) auf einem Randbereich (6) der Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) angeordnet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 1 to 22, in which at least one electrical contact ( 7 . 9 ) on a border area ( 6 ) of the radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) is arranged. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem über der Strahlungsdurchtrittsseite (5) des Halbleiterkörpers (4) eine wellenlängenkonvertierende Schicht (20) derart angeordnet ist, dass die von dem Halbleiterkörper erzeugte oder detektierte Strahlung zumindest teil weise durch die wellenlängenkonvertierende Schicht (20) hindurch tritt.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims, wherein above the radiation passage side ( 5 ) of the semiconductor body ( 4 ) a wavelength-converting layer ( 20 ) is arranged such that the radiation generated or detected by the semiconductor body at least partially by the wavelength-converting layer ( 20 ) passes through. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem mehrere Halbleiterkörper (4) auf dem Träger (2) angeordnet sind.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims, in which a plurality of semiconductor bodies ( 4 ) on the support ( 2 ) are arranged. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Halbleiterkörper (4) elektromagnetische Strahlung (R, G, B) unterschiedlicher Wellenlänge aussenden und derart angeordnet sind, dass sich ihre Strahlkegel mischen.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, in which the semiconductor bodies ( 4 ) emit electromagnetic radiation (R, G, B) of different wavelengths and are arranged such that their beam cones mix. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 26 bis 27, bei dem über den Strahlungsdurchtrittsseiten (5) der Halbleiterkörper (4) eine gemeinsame wellenlängenkonvertierende Schicht (20) derart angeordnet ist, dass die von den Halbleiterkörpern (4) ausgesandte oder detektierte Strahlung zumindest teilweise durch die wellenlängenkonvertierende Schicht (20) hindurch tritt.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 26 to 27, in which over the radiation passage sides ( 5 ) the semiconductor body ( 4 ) a common wavelength-converting layer ( 20 ) is arranged such that the of the semiconductor bodies ( 4 ) emitted or detected radiation at least partially through the wavelength-converting layer ( 20 ) passes through. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Träger (2) zumindest teilweise nach Art eines Rotationsparaboloids, eines Zylinders oder einer Kugel ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the carrier ( 2 ) is formed at least partially in the manner of a paraboloid of revolution, a cylinder or a sphere. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem die Oberfläche des Trägers (2), auf den der Halbleiterkörper (4) aufgebracht ist, zumindest teilweise reflektierend ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the surface of the carrier ( 2 ) to which the semiconductor body ( 4 ) is applied, at least partially reflective is formed. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Halbleiterkörper (4) eine Leuchtdiode oder eine Laserdiode ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims, in which the semiconductor body ( 4 ) is a light emitting diode or a laser diode. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem der Halbleiterkörper (4) eine oberflächenemittierende Laserdiode ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, in which the semiconductor body ( 4 ) is a surface emitting laser diode. Optoelektronisches Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche, bei dem die Rückseite (10) des Halbleiterkörpers (4) durchlässig für die von der aktiven Zone (12) erzeugte oder detektierte Strahlung ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the rear side ( 10 ) of the semiconductor body ( 4 ) permeable to those of the active zone ( 12 ) generated or detected radiation is formed. Optoelektronisches Bauelement (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem der Montagebereich (3) durchlässig für die von der in der aktiven Zone (12) erzeugte oder detektierte Strahlung ausgebildet ist.Optoelectronic component ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the mounting area ( 3 ) permeable to those in the active zone ( 12 ) generated or detected radiation is formed. Kfz-Scheinwerfer (23) mit einem optoelektronischen Bauelement (1) nach einem der obigen Ansprüche.Car headlights ( 23 ) with an optoelectronic component ( 1 ) according to one of the above claims. Empfänger, der geeignet ist, elektromagnetische Strahlung zu detektieren, mit einem optoelektronischen Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 34.Receiver capable of detecting electromagnetic radiation with an opto-electronic device ( 1 ) according to one of claims 1 to 34. Empfänger nach dem vorherigen Anspruch, der geeignet ist, elektromagnetische Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich zu detektieren.Receiver according to the previous claim, the is suitable electromagnetic radiation from the infrared spectral range to detect. Sender, der geeignet ist, elektromagnetische Strahlung auszusenden, mit einem optoelektronischen Bauelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 34.Transmitter which is suitable for emitting electromagnetic radiation, having an optoelectronic component ( 1 ) according to one of claims 1 to 34. Sender nach dem vorherigen Anspruch, der geeignet ist, elektromagnetische Strahlung aus dem infraroten Spektralbereich auszusenden.Transmitter according to the previous claim, which is suitable is, electromagnetic radiation from the infrared spectral range send out.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009019524A1 (en) * 2009-04-30 2010-11-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor body with a reflective layer system
DE102015114275A1 (en) * 2015-08-27 2017-03-02 Osram Oled Gmbh Lighting device, method for operating a lighting device and system for lighting a vehicle

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5684309A (en) 1996-07-11 1997-11-04 North Carolina State University Stacked quantum well aluminum indium gallium nitride light emitting diodes
WO1997050132A1 (en) 1996-06-26 1997-12-31 Siemens Aktiengesellschaft Light-emitting semiconductor component with luminescence conversion element
WO1998031055A1 (en) 1997-01-09 1998-07-16 Nichia Chemical Industries, Ltd. Nitride semiconductor device
US5831277A (en) 1997-03-19 1998-11-03 Northwestern University III-nitride superlattice structures
WO2001039282A2 (en) 1999-11-19 2001-05-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh & Co. Ohg Optical semiconductor device comprising a multiple quantum well structure
US6357893B1 (en) * 2000-03-15 2002-03-19 Richard S. Belliveau Lighting devices using a plurality of light sources
US20030005954A1 (en) * 2001-07-04 2003-01-09 Makiko Emoto Solar cell module and method of manufacturing the same
US20030222559A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Eastman Kodak Company Lighting apparatus with flexible OLED area illumination light source and fixture
DE10326480A1 (en) * 2002-06-18 2004-01-22 Jens Goldenstein Device for varying illumination device radiation angle, comprises equidistant light elements, whose alignment magnitudes are strongly proportional to distance of light element in center of illumination device
JP2004047625A (en) * 2002-07-10 2004-02-12 Nec Kansai Ltd Method and apparatus for manufacturing semiconductor device
WO2006045277A2 (en) 2004-10-29 2006-05-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lighting device, automotive headlights and method for producing a lighting device
DE102005003633A1 (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Matthias Lang Light dispersing and concentrating device for e.g. motor vehicle headlight, has flexible matrix achieving concave or convex shape due to effect of forces so that lights emitted from sources as concentrated at common point or are dispersed
DE102007022947A1 (en) 2007-04-26 2008-10-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor body and method for producing such

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997050132A1 (en) 1996-06-26 1997-12-31 Siemens Aktiengesellschaft Light-emitting semiconductor component with luminescence conversion element
US5684309A (en) 1996-07-11 1997-11-04 North Carolina State University Stacked quantum well aluminum indium gallium nitride light emitting diodes
WO1998031055A1 (en) 1997-01-09 1998-07-16 Nichia Chemical Industries, Ltd. Nitride semiconductor device
EP1017113A1 (en) 1997-01-09 2000-07-05 Nichia Chemical Industries, Ltd. Nitride semiconductor device
US5831277A (en) 1997-03-19 1998-11-03 Northwestern University III-nitride superlattice structures
WO2001039282A2 (en) 1999-11-19 2001-05-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh & Co. Ohg Optical semiconductor device comprising a multiple quantum well structure
US6357893B1 (en) * 2000-03-15 2002-03-19 Richard S. Belliveau Lighting devices using a plurality of light sources
US20030005954A1 (en) * 2001-07-04 2003-01-09 Makiko Emoto Solar cell module and method of manufacturing the same
US20030222559A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Eastman Kodak Company Lighting apparatus with flexible OLED area illumination light source and fixture
DE10326480A1 (en) * 2002-06-18 2004-01-22 Jens Goldenstein Device for varying illumination device radiation angle, comprises equidistant light elements, whose alignment magnitudes are strongly proportional to distance of light element in center of illumination device
JP2004047625A (en) * 2002-07-10 2004-02-12 Nec Kansai Ltd Method and apparatus for manufacturing semiconductor device
WO2006045277A2 (en) 2004-10-29 2006-05-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lighting device, automotive headlights and method for producing a lighting device
DE102005003633A1 (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Matthias Lang Light dispersing and concentrating device for e.g. motor vehicle headlight, has flexible matrix achieving concave or convex shape due to effect of forces so that lights emitted from sources as concentrated at common point or are dispersed
DE102007022947A1 (en) 2007-04-26 2008-10-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor body and method for producing such

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009019524A1 (en) * 2009-04-30 2010-11-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor body with a reflective layer system
US9012940B2 (en) 2009-04-30 2015-04-21 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor bodies having a reflective layer system
DE102009019524B4 (en) 2009-04-30 2023-07-06 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelectronic semiconductor body with a reflective layer system
DE102015114275A1 (en) * 2015-08-27 2017-03-02 Osram Oled Gmbh Lighting device, method for operating a lighting device and system for lighting a vehicle

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