DE102007021064A1 - Platine mit eingebetteten Bauteilen und Verfahren zur Erkennung einer fehlerhaften Verdrahtung - Google Patents

Platine mit eingebetteten Bauteilen und Verfahren zur Erkennung einer fehlerhaften Verdrahtung Download PDF

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Abstract

Eine Platine mit einem eingebetteten Bauteil weist eine Verdrahtungskarte (2), in welche ein elektronisches Bauteil (4) eingebettet ist, ein Verbindungsteil (6a, 6b), das leitfähig und an einer Oberfläche der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist und eine Innenverdrahtungseinheit (8) auf, die in der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist und eine Elektrode (4a) des elektronischen Bauteils (4) mit dem Verbindungsteil (6a, 6b) verbindet. Die Platine mit eingebettetem Bauteil weist weiterhin ein Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) für eine Überprüfung auf eine fehlerhafte Verdrahtung der Innenverdrahtungseinheit (8) und eine Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) auf, die in der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist und das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) mit der Elektrode (4a) oder einem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit (8) verbindet. Das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) ist leitfähig und an einer Oberfläche der Verdrahtungskarte (2) angeordnet.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Platine mit eingebetteten Bauteilen, sowie ein Verfahren, mit dem eine fehlerhafte Verdrahtung in einer derartigen Platine erkennbar ist.
  • Es ist bekannt, eine Platine oder gedruckte Schaltkreiskarte vorzusehen, die aus thermoplastischen Kunstharz- oder Kunststofffilmen aufgebaut ist (JP-2003-086949A). Die thermoplastischen Kunststofffilme werden aufeinander gestapelt und gemeinsam bei hoher Temperatur gepresst, um die Platine zu bilden. (In diesem Zusammenhang sei festzuhalten, dass in der vorliegenden Beschreibung sowie in den Ansprüchen der Begriff „Kunststoff" als übergeordneter Begriff für sämtliche Kunststoffe, Harze, hieraus gebildete Verbundstoffe oder dergleichen zu verstehen ist, so weit nicht ausdrücklich anders angegeben.) Hierbei kann, wie in 9 gezeigt, ein Chipwiderstand 102 in eine Platine 101 eingebettet werden. Eine Elektrode 102a des Chipwiderstands 102 und eine Verdrahtung 103, die an einer Oberfläche der Platine 101 angeordnet sind, sind elektrisch miteinander über ihre Verdrahtungen 104 und Durchgänge 105 verbunden.
  • Eine Überprüfung einer elektrischen Verbindung zu dem Chipwiderstand 102 wird durchgeführt, indem der Widerstandswert der Gesamtheit der inneren Verdrahtung einschließlich des Chipwiderstandes 102 gemessen wird. Für den Fall, dass der Widerstandswert des Chipwiderstand 102 hoch ist, ist der Widerstandswert des Chipwiderstands 102 gegenüber einem Anstieg eines Widerstandswerts aufgrund eines Fehlers in der Innenverdrahtung 104 und/oder des Durchgangs 105, der oder die in Verbindung mit dem Chipwiderstand 102 ist oder sind, vergleichsweise hoch. Das heißt, ein Anstieg des Widerstandswerts aufgrund eines Fehlers der Innenverdrahtung 104 und/oder des Durchgangs 105 wird von dem Widerstandswert des Chipwiderstands 102 überdeckt. Somit wird es schwierig, einen Fehler an der Innenverdrahtung 104 und/oder dem Durchgang 105 zu erkennen.
  • Angesichts des oben beschriebenen Nachteiles ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Platine mit eingebetteten Bauteilen zu schaffen, bei der eine fehlerhafte Verdrahtung bzw. ein Fehler in der Verdrahtung einer Innenverdrahtung zur Verbindung des eingebetteten Bauteils oder der eingebetteten Bauteile mit einem Verbindungsabschnitt an einer Platinenoberfläche erkannt werden kann, sowie ein entsprechendes Verfahren zur Erkennung der fehlerhaften Verdrahtung (eines Fehlers in der Verdrahtung).
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Platine mit wenigstens einem eingebetteten Bauteil versehen mit: einer Verdrahtungsplatine, in der wenigstens ein elektronisches Bauteil eingebettet ist, sowie einem Verbindungsteil, das leitfähig ist und an einer Oberfläche der Verdrahtungsplatine angeordnet ist; einer Innenverdrahtungseinheit, die in der Verdrahtungsplatine angeordnet ist und leitfähig eine Elektrode des elektronischen Bauteils mit dem Verbindungsteil verbindet; einem Überprüfungsverbindungsteil für eine Überprüfung eines Verdrahtungsfehlers der Innenverdrahtungseinheit; und einer Überprüfungseinheit, die in der Verdrahtungsplatine angeordnet ist und leitfähig das Überprüfungsverbindungsteil mit entweder der Elektrode oder einem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit verbindet. Das Überprüfungsverbindungsteil ist leitfähig und befindet sich an einer Oberfläche der Verdrahtungsplatine.
  • Für den Fall, dass ein Fehler in der Verdrahtung an der Innenverdrahtungseinheit auftritt, wird der Widerstandswert durch die Innenverdrahtungseinheit und die Überprüfungsverdrahtungseinheit einen Anstieg zeigen. Da die Überprüfungsverdrahtungseinheit leitfähig das Überprüfungsverbindungsteil mit entweder der Elektrode oder einem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit verbindet, wird dieser Widerstandswert (ohne demjenigen des elektronischen Bauteils) relativ gering sein. Somit lässt sich ein Fehler in der Verdrahtung der Innenverdrahtungseinheit erkennen, in dem der Widerstandswert zwischen dem Verbindungsteil und dem Überprüfungsverbindungsteil gemessen wird.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren zur Erkennung eines Verdrahtungsfehlers oder einer fehlerhaften Verdrahtung für die Platine mit dem wenigstens einen eingebetteten Bauteil die Erkennung eines Widerstandswerts zwischen dem Verbindungsteil und dem Überprüfungsverbindungsteil und die Bestimmung, ob oder ob nicht eine fehlerhafte Verdrahtung an der Innenverdrahtungseinheit vorliegt, was basierend auf dem erkannten Widerstandswert erfolgt. Es wird bestimmt, das eine fehlerhafte Verdrahtung an der Innenverdrahtungseinheit vorliegt, wenn der Widerstandswert sich von einem normalen Wert unterscheidet.
  • Ein Verdrahtungsfehler oder ein Fehler in der Verdrahtung der Innenverdrahtungseinheit der Platine mit eingebetteten Bauteil kann somit bestimmt werden.
  • Weitere Einzelheiten, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich besser aus der nachfolgenden detaillierten Beschreibung unter Bezugnahme auf die Zeichnung.
  • Es zeigt:
  • 1 eine Längsschnitt-Teilansicht einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung:
  • 2 eine perspektivische Ansicht einer in beispielsweise einem Fahrzeug anzuordnenden Platine gemäß der ersten Ausführungsform;
  • 3 eine auseinandergebaute geschnittene Teilansicht der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine gemäß der ersten Ausführungsform;
  • 4A bis 4E Schnittteilansichten, die jeweils Herstellungsschritte für ein Basismaterial gemäß der ersten Ausführungsform zeigen;
  • 5 eine Graphik einer Beziehung zwischen einer Bearbeitungstemperatur eines thermoplastischen Kunststoffs und eines Elastizitätskoeffizienten hiervon bei der ersten Ausführungsform;
  • 6 eine Längsschnittteilansicht einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 7 eine Längsschnittteilansicht einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 8 eine Längsschnittteilansicht einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
  • 9 eine Längsschnittteilansicht einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine nach dem Stand der Technik.
  • Beispielhafte, jedoch nicht einschränkend zu verstehende Ausführungsformen werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung beschrieben.
  • [ERSTE AUSFÜHRUNGSFORM]
  • Eine ge- oder bedruckte Schaltkreiskarte oder Platine mit wenigstens einem eingebetteten elektrischen und/oder elektronischen Bauteil gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 beschrieben. Die Platine mit dem wenigstens einen eingebetteten Bauteil (nachfolgend als „Platine" bezeichnet) kann beispielsweise als eine in einem Fahrzeug einzubauende Platine 1 verwendet werden.
  • Wie in 2 gezeigt, kann die in ein Fahrzeug einzubauende Platine 1 mit einer mehrschichtigen Verdrahtungsplatine 2 versehen sein. Verschiedene elektronische Bauteile 3 sind auf einer Bauteilanordnungsoberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine angeordnet und miteinander mittels der Bauteilanordnungsoberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine 2 und einer Verdrahtungseinheit (nicht gezeigt) verbunden, die in der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine 2 angeordnet ist, so dass bestimmte elektronische Schaltkreise gebildet werden.
  • Hierbei kann wenigstens ein elektronisches Bauteil, beispielsweise ein Widerstand in Chipform (z.B. ein passives Chipbauteil) oder dergleichen in die mehrschichtige Verdrahtungsplatine 2 eingebettet sein und mit den anderen elektronischen Bauteilen über die Verdrahtungseinheit verbunden sein, um als Widerstand zu dienen, der einen Teil des elektronischen Schaltkreises bildet.
  • Bezugnehmend auf 1 (wo die elektronischen Bauteile nicht gezeigt sind) hat die mehrschichtige Verdrahtungskarte 2 eine Mehrzahl von isolierenden Schichten 5 (beispielsweise insgesamt acht in 1), von denen jede aus einem thermoplastischen Kunststoff gebildet sein kann und die in einer bestimmten Stapelrichtung aufeinander gestapelt sind, wobei eine Mehrzahl von leitfähigen Mustern 6 vorgesehen ist, von denen jedes beispielsweise aus einer Kupferfolie sein kann. Die leitfähigen Muster 6 sind entsprechenden zwischen einander benachbarten isolierenden Schichten 5 in Stapelrichtung angeordnet und an den äußeren Oberflächen der isolierenden Schicht 5 an den äußersten Seiten (z. B. Oberseite und Unterseite) in Stapelrichtung verlaufend.
  • Genauer gesagt, das leitfähige Muster 6 (d.h. ein Kontaktpunkt 6a entsprechenden dem Verbindungsteil im Sinn der vorliegenden Erfindung) und das leitfähige Muster 6 (d. h. ein Kontaktpunkt 6d für Überprüfungszwecke entsprechen dem Überprüfungsverbindungsteil im Sinn der vorliegenden Erfindung) können an der äußeren Fläche der in 1 ganz oben liegenden isolierenden Schicht 5 angeordnet sein. Das leitfähige Muster 6 (d. h. der Kontaktpunkt 6b entsprechen dem Verbindungsteil im Sinn der vorliegenden Erfindung) und das leitfähige Muster 6 (d. h. der Kontaktpunkt 6c zur Verwendung bei einer Überprüfung entsprechen dem Überprüfungsverbindungsteil im Sinn der vorliegenden Erfindung) können an der Außenfläche der isolierenden Schicht 5 angeordnet sein, die in 1 ganz unten liegt. Das heißt, in diesem Fall sind der Überprüfungskontaktpunkt 6c und der Kontaktpunkt 6b bezüglich dem Überprüfungskontaktpunkt 6d und dem Kontaktpunkt 6a an einander entgegengesetzten oder gegenüberliegenden Seiten der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine 2 angeordnet.
  • Weiterhin weist die mehrschichtige Verdrahtungsplatine 2 in sich eine Mehrzahl von Durchgängen (Durchkontaktierungen) 7 auf, die jeweils an bestimmten Positionen der isolierenden Schichten 5 angeordnet sind. In diesem Fall sind die benachbarten leitfähigen Muster 6 (in Stapelrichtung) miteinander jeweils über einen oder mehrere Durchgänge 7 verbunden.
  • Der Chipwiderstand 4, der in die mehrschichtige Verdrahtungsplatine 2 eingebettet ist, ist mit Elektroden 4a versehen. Die Elektroden 4a sind mit den Durchgängen 7 verbunden, die in den isolierenden Schichten 5 angeordnet sind (im Beispiel von 1 der dritten und sechsten Schicht von oben her), das heißt den Schichten, die benachbart den isolierenden Schichten 5 sind, in denen der Chipwiderstand 4 angeordnet ist. In diesem Fall ist die mehrschichtige Verdrahtungsplatine 2 mit Innenverdrahtungseinheiten 8 versehen, von denen jede gebildet ist aus leitfähigen Mustern 6 und Durchgängen 7, die aufeinander gestapelt sind. Die Dicke des Chipwiderstands 4 kann beispielsweise auf die zweifache Dicke einer isolierenden Schicht 5 festgesetzt werden.
  • Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf die 3 bis 5 ein Herstellungsverfahren der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 beschrieben.
  • Zuerst wird ein Basismaterial-Herstellungsprozess durchgeführt, um Basismaterialteile 9 zum Aufbau der isolierenden Schichten 5 herzustellen. Genauer gesagt, die leitfähigen Muster 6 werden auf einem Film 10 gebildet, der aus einem thermoplastischen Kunststoff eines kristallinen Übergangstyps ist, um die isolierende Schicht 5 zu bilden und eine Mehrzahl von Durchgangsöffnungen 11 zur Bildung der Durchgänge 7 wird an bestimmten Positionen des Films 10 ausgebildet. Weiterhin werden die Durchgangsöffnungen 11 mit leitfähigen Pasten 12 gefüllt. Somit ist das Basismaterialteil 9 gebildet.
  • Der Film 10 kann aus einem Kunststoffmaterial (mit dem Handelsnamen PALCLAD) sein, bestehend aus einem Polyetheretherketon (PEEK) mit 35 bis 65 Gew.-% und einem Polyetherimid (PEI) mit 35 bis 65 Gew.-% (Beispiel). Der Film 10 kann mit einer Dicke vorgesehen werden, welche im Wesentlichen zwischen 25 und 75 Micron liegt und wird entsprechend der Größe der mehrschichtigen Verdrahtungsplatine 2 hergestellt.
  • Bezugnehmend auf 5, wo eine Druck/Temperaturbedingung gezeigt ist, ist das Kunststoffmaterial für den Film 10 bei einer bestimmten Temperatur (z.B. 200° Celsius) im Wesentlichen weich und bei einer Temperatur unter oder über dieser bestimmten Temperatur hart. Andererseits, wenn die Temperatur von einer hohen Temperatur fällt, bleibt das Kunststoffmaterial hart, auch wenn es sich im Wesentlichen bei der genannten bestimmten Temperatur (z.B. 200° Celsius) befindet. Das Kunststoffmaterial löst sich bei weiter höheren Temperaturen auf, beispielsweise bei 400° Celsius.
  • Die 4A bis 4E zeigen Herstellungsschritte zur Herstellung des Basismaterialteils 9. Zunächst wird gemäß 4A eine leitfähige Folie 13, beispielsweise eine Kupferfolie an einer Oberfläche (z. B. der oberen Fläche) des Films 10 angeheftet. Wie in 4B gezeigt, wird dann das leitfähige Muster 6 durch Ätzen (Mustern) der sich auf dem Film 10 befindlichen Kupferfolie 13 gebildet.
  • Nach Ausbildung des leitfähigen Musters 6 wird ein Schutzfilm 14 aus Polyethylen-Naphtahalat (PEN) oder dergleichen an der rückwärtigen Fläche (z. B. unteren Fläche) des Films 10 angeheftet, wie in 4B gezeigt. Der Schutzfilm 14 liegt somit bezüglich des leitfähigen Musters 6 auf der gegenüberliegenden Seite des Films 10.
  • Dann werden gemäß 4C die Durchgangsöffnungen 11, welche jeweils nach Art von Sacklöchern ausgebildet sind, an bestimmten Stellen des Films 10 durch Verwendung eines CO2-Lasers oder dergleichen von der Seite des Schutzfilms 14 her gebildet. In diesem Fall bilden jeweils die leitfähigen Muster 5 die Böden der Durchgangsöffnungen 11. Leistung und Bestrahlungszeit durch den CO2-Laser werden so eingestellt, dass das leitfähige Muster 6 nicht durchbohrt wird.
  • Danach wird gemäß 4D die leitfähige Paste 12 in die jeweiligen Durchgangsöffnungen 11 gefüllt ("Durchgangsöffnung" sei hier so verstanden, dass diese Öffnungen den Film 10 durchtreten, also durch den Film 10 hindurchgehen und somit als Durchgangsöffnungen zu verstehen sind, obgleich sie durch das leitfähige Muster 6 nach Art eines Sacklochs blind enden).
  • Durch Einfüllen der leitfähigen Pasten in die Durchgangsöffnungen 11 werden die Durchgangsöffnungen 11 mit der leitfähigen Paste 12 verschlossen. Die leitfähige Paste 12 kann aus einem Metallpulver (z. B. Kupfer, Silber, Zinn) sein, dem ein Binderkunststoff oder ein organisches Lösungsmittel hinzugefügt und untergemischt ist. Die leitfähige Paste 12 kann in die Durchgangsöffnungen 11 mittels eines Siebdruckverfahrens eingebracht werden, wobei eine Metallmaske oder dergleichen verwendet wird. Nachdem die leitfähige Paste 12 eingefüllt worden ist, wird der Schutzfilm 11 vom Film 10 abgezogen, wie in 4E gezeigt. Die Herstellung des Basismaterialteils 9 ist damit abgeschlossen.
  • Wie oben beschrieben wird eine Mehrzahl von Basismaterialteilen 9 verwendet, um die isolierenden Schichten 5 zu bilden. In diesem Fall sind die Basismaterialteile 9 (beispielsweise die dritte Schicht und die sechste Schicht in 3), die benachbart den Basismaterialteilen 9 (beispielsweise der vierten Schicht und der fünften Schicht in 3) sind, wo der Chipwiderstand 4 aufgenommen ist, ebenfalls mit den Durchgangsöffnungen 11 versehen, die mit der leitfähigen Paste 12 gefüllt sind und diese Öffnungen sind jeweils entsprechend den Elektroden 4a des Chipwiderstands 4 angeordnet.
  • Weiterhin werden bei dem Herstellungsvorgang der Basismaterialteile 9 (der vierten und der fünften Schicht in den 1 und 3), wo der Chipwiderstand 4 aufgenommen worden ist, Löcher 15 einer bestimmten Form (z. B. im Wesentlichen rechteckig) entsprechend derjenigen des Chipwiderstands 4 in den Filmen 10 dieser Basismaterialteile 9 gebildet. In diesem Fall sind die Basismaterialteile 9 der vierten Schicht und der fünften Schicht in den 1 und 3 nicht mit den leitfähigen Mustern 6 und den Durchgangsöffnungen 11 versehen, die mit den leitfähigen Pasten 12 gefüllt sind.
  • Nachfolgend wird gemäß 3 ein Stapelprozess durchgeführt, um die Basismaterialteile 9 von der ersten bis zur vierten Schicht (die gemäß den obigen 4A bis 4E gebildet wurden) derart aufeinander zu stapeln, dass die Oberfläche (eines jeden dieser Basismaterialteile 9), wo die leitfähigen Muster 6 liegen, in eine erste bestimmte Richtung weisen, beispielsweise in 3 nach oben.
  • Weiterhin werden beim Stapelvorgang die Basismaterialteile 9 von der fünften Schicht bis zur achten Schicht (die ähnlich wie diejenigen der ersten Schicht bis zur vierten Schicht gebildet sind) so gestapelt, dass die Oberfläche (eines jeden dieser Basismaterialteile 9), wo die leitfähigen Muster 6 angeordnet sind, in eine zweite bestimmte Richtung weisen, die entgegengesetzt zur ersten bestimmten Richtung ist, d. h. beispielsweise in 3 nach unten weist.
  • Wie in 3 gezeigt, ist der Chipwiderstand 4 in den Löchern 15 der beiden Basismaterialteile 9 der vierten und fünften Schicht derart aufgenommen, dass der Chipwiderstand 4 zwischen dem Basismaterialteil 9 der dritten Schicht und dem Basismaterialteil 9 der sechsten Schicht eingeschlossen ist. Weiterhin ist hierbei der Chipwiderstand 4 so angeordnet, dass die Elektrodenoberflächen des Chipwiderstands 4 jeweils als Frontfläche und Rückfläche hiervon dienen (z. B. obere Fläche und untere Fläche in 3). Die Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 ist mit einem Metall versehen (z. B. Kupfer, Zinn oder dergleichen) das in Form eines Überzugs durch einen Diffusionsvorgang mit der leitfähigen Paste 12 verbindbar ist.
  • In dieser Ausführungsform werden die Schichten von der ersten Schicht bis zur achten Schicht von der Oberseite in den 1 und 3 her definiert (gezählt).
  • Nachfolgend wird ein Erwärmungs- oder Erhitzungs-Druckprozess im Herstellungsverfahren für die mehrschichtige Verdrahtungskarte 2 durchgeführt, wobei die Basismaterialteile 9 (mit insgesamt beispielsweise acht Schichten, die aufeinander gestapelt wurden, zu erhitzen und zusammenzupressen. Bei diesem auch als Heißpressvorgang bezeichenbaren Vorgang werden die Basismaterialteile 9 in eine Unterdruck-Pressmaschine (nicht gezeigt) oder dergleichen gebracht, um in Stapelrichtung (z. B. in 3 von oben nach unten) in einem Druckbereich von ca. 0,1 Mpa bis ca. 10 Mpa in einem Zustand unter Druck gesetzt zu werden, wo die Basismaterialteile 9 sich einem Temperaturbereich von ca. 200 °C bis ca. 350 °C (Beispielwerte) befinden.
  • Wie oben unter Bezug auf 5 beschrieben, ändert sich der Elastizitätskoeffizient des Films 10 (der das Basismaterialteil 9 bildet) abhängig von der Temperatur. Daher werden bei dem Heißpressvorgang die Filme 10 derart unter Druck gesetzt, dass die Filme 10 aufgrund der Erhitzung vorübergehend weich werden, so dass die Filme 10 anschmelzen und miteinander verbunden werden. Danach kristallisieren (Härten) die Filme 10, so dass sie quasi einstückig werden.
  • Somit sind bei den oben beschriebenen Prozessabläufen die leitfähigen Muster 6 so vorgesehen, dass sie entsprechend zwischen benachbarten isolierenden Schichten 5 angeordnet und an den Außenflächen der Schichten zu liegen kommen. Weiterhin härtet die leitfähige Paste 12 in jeder Durchgangsöffnung 11 aus, so dass der Durchgang 7 gemäß 1 gebildet wird. Gleichzeitig wird der Chipwiderstand 4 in den isolierenden Schichten 5 derart eingebettet, dass die Elektroden 4a des Chipwiderstands 4 in Verbindung mit den leitfähigen Mustern 6 auf den isolierenden Schichten 5 (beispielsweise der dritten Schicht und der sechsten Schicht) gelangen, die benachbart denjenigen Schichten sind, in denen der Chipwiderstand 4 aufgenommen ist. Somit wird die mehrschichtige Verdrahtungskarte 2 gebildet.
  • Gleichzeitig diffundieren der Metallüberzug der Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 und die leitfähige Paste 12 in der Durchgangsöffnung 11 wechselseitig ineinander, um eine Legierungsschicht an der Vorderfläche und der Rückfläche der Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 zu bilden, so dass die elektrische Verbindung zwischen dem Chipwiderstand 4 und der leitfähigen Paste 12 erzielt wird und auch eine hinreichende mechanische Verbindung dazwischen erreicht werden kann.
  • Weiterhin wird bei dieser Ausführungsform die Öffnung 15 im Basismaterialteil 9 ausgebildet, um den Chipwiderstand 4 aufzunehmen, sodass eine Verformung der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 etc. beschränkt wird. Die Verformung wird ansonsten erzeugt, wenn der Chipwiderstand 4 das Material (z. B. den thermoplastischen Grundstoff des Basismaterialteils 9 bei dem Pressvorgang zur Seite schiebt.
  • Bei dieser Ausführungsform werden die leitfähigen Muster 6 (Kontaktpunkte 6a bis 6d), die an den Aussenflächen der isolierenden Schicht an der äußersten Seite (z. B. erste Schicht und achte Schicht) der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 liegen, mit der Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 über die Innenverdrahtungseinheiten 8 und die Innenverdrahtungseinheiten 16 (Überprüfungsverdrahtungseinheiten) 16 verbunden, die in der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 liegen.
  • In diesem Fall wird jede der Innenverdrahtungseinheiten 8 und 16 gebildet durch einen Durchgang 7 und das leitfähige Muster 6 in der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2, die elektrisch miteinander in Verbindung sind. Die beiden Innenverdrahtungseinheiten 8 können so angeordnet werden, dass sie jeweils elektrisch die Kontaktpunkte 6a und 6b mit den Elektroden 4a des Chipwiderstands 4 verbinden. Die beiden Innenverdrahtungseinheiten 16 können so angeordnet werden, dass sie jeweils elektrisch die Überprüfungskontaktpunkte 6c und 6d mit den Elektroden 4a des Chipwiderstandes 4 verbinden.
  • Bezugnehmend auf 1 ist der Chipwiderstand 4 zwischen dem Verbindungspunkt 6a (an der rechten oberen Seite in 1) und dem Kontaktpunkt 6b an der linken unteren Seite von 1) über die beiden Verdrahtungseinheiten 8 verbunden.
  • Da jedoch die Innenverdrahtungseinheit 8 aus den leitfähigen Mustern 6 und dem Durchgang 7 gebildet ist, die übereinandergestapelt und verbunden sind, kann der Widerstandswert der Innenverdrahtungseinheit 8 größer als ein normaler Wert werden, da es einen Verdrahtungsfehler für den Fall gibt, wenn die Verbindung zwischen den fraglichen Elementen nicht ausreichend ist.
  • Für den Fall, dass eine fehlerhafte Verdrahtung (fehlerhafte Verbindung) in der Innenverdrahtungseinheit 8 auftritt, kann sich diese fehlerhafte Verdrahtung aufgrund des Einflusses von Hitze und/oder Vibrationen weiter entwickeln, beispielsweise wenn die Platine 1 – wie eingangs erwähnt – in ein Fahrzeug eingebaut wird. Somit kann ein normaler Betrieb des elektronischen Schaltkreises behindert oder unmöglich gemacht werden, wenn der Widerstandswert der Innenverdrahtungseinheit 8 zu hoch wird.
  • In diesem Fall kann ein Anstieg des Widerstandwerts der Innenverdrahtungseinheit 8 erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen den Kontaktpunkt 6a (oder 6b), der an der Außenfläche der isolierenden Schicht 5 der ersten Schicht und dem leitfähigen Muster 6 gemessen wird, das an der Oberfläche der isolierenden Schicht 5 beispielsweise der dritten Schicht angeordnet ist.
  • In dem Fall jedoch, wo der Widerstandswert des Chipwiderstands 4, der zwischen den Kontaktpunkten 6a und 6b liegt, groß ist (beispielsweise ist der Widerstandswert gleich 1MΩ), geht der oben erwähnte Anstieg des Widerstandswerts in dem zulässigen Bereich des Widerstandswerts des Chipwiderstands 4 unter, so dass es schwierig wird, den Anstieg des Widerstandswerts der Innenverdrahtungseinheit 8 zu erkennen.
  • Insbesondere wenn der Widerstandswert des Chipwiderstands 4 im Wesentlichen gleich 1MΩ ist, hat der Widerstandswert des Chipwiderstands 4 einen Zuläs sigkeitsbereich von 1MΩ ± 50kΩ. Wenn eine fehlerhafte Verdrahtung an der Innenverdrahtungseinheit 8 auftritt, so dass der Widerstandswert gleich beispielsweise 3Ω wird, geht dieser Anstieg des Widerstandswerts im zulässigen Bereich des Chipwiderstands 4 unter. Somit wird es schwierig, den Anstieg des Widerstandswerts zu erkennen.
  • Bei der vorliegenden Ausführungsform ist der Überprüfungskontaktpunkt 6c, 6d für Überprüfungszwecke (Überprüfungsverbindungsteil) aus dem leitfähigen Muster 6 gebildet, dass an der Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet ist. Der Überprüfungskontaktpunkt 6d und der Kontaktpunkt 6a (an der oberen Oberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 in 1 angeordnet) liegen auf einer gegenüberliegenden Seite der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 bezüglich dem Überprüfungskontaktpunkt 6b und dem Kontaktpunkt 6b und dem Kontaktpunkt 6c (die an der Unterseite oder unteren Fläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 in 1 angeordnet sind).
  • Weiterhin sind die Überprüfungskontaktpunkte 6c und 6d mit den Elektroden 4a des Chipwiderstands 4 über die Überprüfungsverdrahtungseinheiten 16 (Innenverdrahtungseinheiten) verbunden. Die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 ist gebildet aus dem Durchgang 7 und den leitfähigen Mustern 6, die in der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet und abwechselnd aufeinander gestapelt sind.
  • In diesem Fall ist der Überprüfungskontaktpunkt 6c, 6d mit der Elektrode 4a über den Durchgang 7 elektrisch verbunden, wobei eine lineare Anordnung vorliegt. Das heißt, die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 erstreckt sich im Wesentlichen linear oder geradlinig zwischen dem Überprüfungskontaktpunkt 6c, 6d und der Elektrode 4a. Der Überprüfungskontaktpunkt 6c, 6d kann an der äußeren Oberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 derart angeordnet werden, dass der Überprüfungskontaktpunkt 6c, 6d elektrisch mit der Elektrode 4a des Chipwiderstandes 4 in einer Richtung senkrecht zur Oberfläche der Elektrode 4a verbunden ist.
  • In diesem Fall hat die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 ähnlichen Aufbau wie die Innenverdrahtungseinheit 8. Somit kann die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 gleichzeitig mit der Herstellung der Innenverdrahtungseinheit 8 gemäß obiger Beschreibung hergestellt werden. Besondere Mittel oder ein besonderer Vorgang zur Herstellung der Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 sind daher nicht nötig.
  • Somit kann eine fehlerhafte Verdrahtung oder ein Leitungsfehler der Innenverdrahtungseinheit 8, die den Kontaktpunkt 6a und die eine Elektrode 4a des Widerstandes 4 verbindet, dadurch erkannt werden, dass der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c gemessen wird (der an einer Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 auf der gegenüberliegenden Seite des Kontaktpunktes 6a angeordnet ist).
  • In diesem Fall sind der Kontaktpunkt 6a und der Überprüfungskontaktpunkt 6c miteinander über die eine Elektrode 4a des Widerstands 4 verbunden, so dass der Widerstandswert (ohne den Widerstandswert des Widerstands 4), der zu erkennen ist, die Gesamtheit aus Widerstandswert der Innenverdrahtungseinheit 8 und Widerstandswert der Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 ist. Da in diesem Fall die Durchgänge 7 geradlinig oder linear verbunden sind, um die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 zu bilden, ist der Widerstandswert der Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 äußerst gering und die Wahrscheinlichkeit, dass ein Fehler in der Verdrahtung auftritt, ist äußerst gering. Daher kann der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c als Widerstandswert der Innenverdrahtungseinheit 8 betrachtet werden, welche den Kontaktpunkt 6a und die Elektrode 4a verbindet.
  • Wenn beispielsweise der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c im Wesentlichen 100mΩ beträgt (normaler Wert), kann bestimmt werden, dass eine fehlerhafte Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8 vorliegt, wenn der gemessene Wert des Widerstands zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c größer oder gleich einem bestimmten Wert ist (beispielsweise 3Ω, was 30 mal dem Normalwert entspricht). Wenn somit bestimmt wurde, dass eine fehlerhafte Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8 vorliegt, kann die mehrschichtige Verdrahtungskarte 2 als das zu überprüfende Objekt beispielsweise aussortiert werden.
  • Auf ähnliche Weise kann eine fehlerhafte Verdrahtung oder ein Verdrahtungsfehler der Innenverdrahtungseinheit 8 (auf der anderen Seite der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2, die den Kontaktpunkt 6b mit der anderen Elektrode 4a verbindet, erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6b und dem Überprüfungskontaktpunkt 6d gemessen wird.
  • Wenn somit bestimmt wird, dass in den Innenverdrahtungseinheiten 8 kein Fehler in der Verdrahtung vorliegt, wird beispielsweise durch ein Siebdruckverfahren eine Lotpaste auf bestimmte Abschnitte der Bauteilanordnungsoberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte aufgebracht und dann werden die elektronischen Bauteile 3 an den ihnen zugewiesenen Abschnitten angebracht. In diesem Fall können die elektronischen Bauteile 3 auf der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 durch Erhitzen mittels Lot-Reflow angeordnet werden. Auf diese Weise kann eine im Fahrzeug anzuordnende Platine 1 mit den bestimmten elektronischen Bauteilen einschließlich dem Chipwiderstand 4 fertiggestellt werden.
  • Bei der vorliegenden Ausführungsform werden die Elektroden 4a des Chipwiderstands 4, der in der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 eingebettet ist, entsprechend mit den Kontaktpunkten 6a und 6b verbunden, die an den Außenflächen der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet sind, was durch die Innenverdrahtungseinheiten 8 erfolgt, von denen jede gebildet ist aus den leitfähigen Mustern 6 und den Durchgängen 7. In diesem Fall liegen die Überprüfungskontaktpunkte 6c und 6d an der Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 auf einer gegenüberliegenden Seite wie die Kontaktpunkte 6a und 6d und die Überprüfungskontaktpunkte 6c und 6d sind entsprechend mit den Elektroden 4a des Chipwiderstands 4 über die Überprüfungsverdrahtungseinheiten 16 verbunden. Somit kann ein Verdrahtungsfehler der Innenverdrahtungseinheiten 8 entsprechend erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen den Kontaktpunkten 6a und 6c und derjenige zwischen den Kontaktpunkten 6b und 6d gemessen wird.
  • Da weiterhin die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 gleichzeitig mit der Innenverdrahtungseinheit 8 gebildet wird, wenn das Basismaterialteil 9 hergestellt wird, kann der Herstellungsprozess problemlos durchgeführt werden, ohne die Kosten wesentlich zu erhöhen.
  • [ZWEITE AUSFÜHRUNGSFORM]
  • Bei der oben beschriebenen ersten Ausführungsform wird eine fehlerhafte Verdrahtung oder ein Verdrahtungsfehler in der Innenverdrahtungseinheit 8, die den Kontaktpunkt 6a und die eine Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 verbindet, dadurch erkannt, dass der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c gemessen wird, die an den beiden gegenüberliegenden Seiten der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet sind. Auf ähnliche Weise wird ein Verdrahtungsfehler an der Innenverdrahtungseinheit 8, die den Kontaktpunkt 6b und die andere Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 verbindet, dadurch gemessen, dass der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6b und dem Überprüfungskontakt 6d gemessen wird, die entsprechend an den beiden gegenüberliegenden Seiten der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet sind.
  • Bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung und wie in 6 gezeigt, sind der Überprüfungskontaktpunkt 6c und der Kontaktpunkt 6a auf der gleichen Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2. Weiterhin sind der Überprüfungskontaktpunkt 6d und der Kontaktpunkt 6b auf der gleichen Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet, die gegenüberliegend zu derjenigen Seite ist, wo der Überprüfungskontaktpunkt 6c und der Kontaktpunkt 6a angeordnet sind.
  • In diesem Fall verbindet die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 zur Erkennung der fehlerhaften Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8, welche den Kontaktpunkt 6a mit der einen Elektrode 4a verbindet, den Überprüfungskontaktpunkt 6c mit dem leitfähigen Muster 6 (welches den Durchgang 7 in Verbindung mit der einen Elektrode 4a kontaktiert und zur besseren Unterscheidbarkeit gegenüber den anderen leitfähigen Mustern 6 mit dem Bezugszeichen 6e versehen ist) dieser Innenverdrahtungseinheit 8. Mit anderen Worten, bei der zweiten Ausführungsform ist die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 mit einem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit 8 in Verbindung.
  • Somit kann eine fehlerhafte Verdrahtung dieser Innenverdrahtungseinheit 8 erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c gemessen wird.
  • Auf ähnliche Weise verbindet die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 zur Erkennung der fehlerhaften Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8, welche den Kontaktpunkt 6b mit der anderen Elektrode 6a des Chipwiderstands 4 verbindet, den Überprüfungskontaktpunkt 6d mit dem Muster 6 (welches den Durchgang 7 an der anderen Elektrode 4a kontaktiert und zur Unterscheidung von den anderen leitfähigen Mustern 6 mit dem Bezugszeichen 6f versehen ist) der Innenverdrahtungseinheit 8. Somit kann eine fehlerhafte Verdrahtung dieser Innenverdrahtungseinheit 8 erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6b und dem Überprüfungskontaktpunkt 6d gemessen wird.
  • [DRITTE AUSFÜHRUNGSFORM]
  • Bei einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gemäß 7 sind der Überprüfungskontaktpunkt 6d und der Kontaktpunkt 6a auf der gleichen Außenfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet. Weiterhin sind der Überprüfungskontaktpunkt 6c und der Kontaktpunkt 6b auf der gleichen Außenfläche der Mehrschichtverdrahtungskarte 2 angeordnet, die auf der gegenüberliegenden Seite zu derjenigen ist, wo der Überprüfungskontakt 6d und der Kontakt 6a angeordnet sind.
  • In diesem Fall verbindet die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 zur Erkennung der fehlerhaften Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8, welche den Kontaktpunkt 6a mit der einen Elektrode 4a verbindet, den Überprüfungskontaktpunkt 6c mit dem leitfähigen Muster 6e (welches den Durchgang 7a an der einen Elektrode 4a kontaktiert) der Innenverdrahtungseinheit 8. Somit kann ein Verdrahtungsfehler dieser Innenverdrahtungseinheit 8 erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c gemessen wird.
  • Auf ähnliche Weise verbindet die Überprüfungsverdrahtungseinheit 16 zur Erkennung der fehlerhaften Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit 8, welche den Kontaktpunkt 6b mit der anderen Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 verbindet, den Überprüfungskontaktpunkt 6d mit dem leitfähigen Muster 6f (welches den Durchgang 7 in Verbindung mit der anderen Elektrode 4a kontaktiert) der Innenverdrahtungseinheit 8. Somit kann eine fehlerhafte Verdrahtung dieser Innenverdrahtungseinheit 8 erkannt werden, in dem der Widerstandswert zwischen dem Kontaktpunkt 6b und dem Überprüfungskontaktpunkt 6d gemessen wird.
  • [VIERTE AUSFÜHRUNGSFORM]
  • Bei einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gemäß 8 sind die Kontaktpunkte 6a und 6b auf der gleichen Fläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet. Die Überprüfungskontaktpunkte 6c und 6d sind auf der gleichen Oberfläche der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 angeordnet, die gegenüberliegend derjenigen Oberfläche ist, wo die Kontaktpunkte 6a und 6b angeordnet sind.
  • In diesem Fall sind die Kontaktpunkte 6a und 6b entsprechend mit der einen Elektrode 4a und der anderen Elektrode 4a des Chipwiderstands 4 über die Innenverdrahtungseinheiten 8 verbunden, so dass der elektronische Schaltkreis mit dem Chipwiderstand 4 gebildet werden kann. Bei dieser Ausführungsform ist der Überprüfungskontaktpunkt 6d mit der einen Elektrode 4a verbunden und der Überprüfungskontaktpunkt 6c ist mit der anderen Elektrode 4a verbunden, wobei die Verbindungen jeweils über die beiden Überprüfungseinheiten 16 erfolgen. Somit kann eine fehlerhafte Verdrahtung der Innenverdrahtungseinheiten 8 erkannt werden, in dem jeweils die Widerstandswerte zwischen dem Kontaktpunkt 6a und dem Überprüfungskontaktpunkt 6d bzw. dem Kontaktpunkt 6b und dem Überprüfungskontaktpunkt 6c gemessen werden.
  • [ANDERE AUSFÜHRUNGSFORMEN]
  • In den oben beschriebenen Ausführungsformen ist der Chipwiderstand 4 als ein Beispiel eines elektronischen Bauteils angegeben, das in der mehrschichtigen Verdrahtungskarte 2 eingebettet ist. Die vorliegende Erfindung ist jedoch gleichermaßen geeignet für eine Karte oder Platine, bei der andere elektrische und/oder elektronische Bauteile (z.B. Sensoren oder dergleichen) in die mehrschichtige Verdrahtungskarte 2 eingebettet sind.
  • Weiterhin ist in den obigen Ausführungsformen die Isolierschicht 5 (Film 10 des Basismaterialteils 9) aus einem thermoplastischen Kunststoff des kristallinen Übergangstyps gebildet, beispielsweise der Mischung aus Polyetheretherketon (PEEK) und Polyetherimid (PEI). Die Isolierschicht 5 kann jedoch auch aus Polyetheretherketon (PEEK) oder Polyetherimid (PEI) alleine oder aus einer Mischung aus Polyetheretherketon (PEEK) und einem Füllstoff sein oder aus einer Mischung aus Polyetherimid (PEI) und einem Füllstoff oder aus einem Flüssigkristallpolymer oder einem ähnlichen Kunststoff, Kunstharz oder Harz.

Claims (10)

  1. Eine Platine mit wenigstens einem eingebetteten Bauteil, aufweisend: eine Verdrahtungskarte (2), in der das elektronische Bauteil (4) eingebettet ist; ein Verbindungsteil (6a, 6b), das leitfähig ist und an einer Oberfläche der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist; und eine Innenverdrahtungseinheit (8), die in der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist und leitfähig eine Elektrode (4a) des elektronischen Bauteils (4) mit dem Verbindungsteil (6a, 6b) verbindet, gekennzeichnet durch ein Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) für eine Überprüfung auf eine fehlerhafte Verdrahtung der Innenverdrahtungseinheit (8), wobei das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) leitfähig ist und an einer Oberfläche der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist; und eine Überprüfungsverdrahtungseinheit (16), welche in der Verdrahtungskarte (2) angeordnet ist und leitfähig das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) mit der Elektrode (4a) oder einem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit (8) verbindet.
  2. Platine nach Anspruch 1, bei der die Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) sich im Wesentlichen geradlinig zwischen dem Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) und der Elektrode (4a) oder dem bestimmten Abschnitt der Innenverdrahtungseinheit (8) erstreckt.
  3. Platine nach Anspruch 2, bei der die Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) eine Mehrzahl von Durchgängen (7) enthält, die in der Verdrahtungskarte (2) angeordnet und im Wesentlichen geradlinig aneinandergereiht sind.
  4. Platine nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der das elektronische Bauteil ein passives Chipbauteil (4) ist; die Oberfläche der Verdrahtungskarte (2), wo das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d) angeordnet ist, auf einer gegenüberliegenden Seite zu derjenigen liegt, wo das Verbindungsteil (6a, 6b) angeordnet ist; und die Innenverdrahtungseinheit (8) und die Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) entsprechend mit zwei gegenüberliegenden Oberflächen der Elektrode (4a) des passiven Chipbauteils (4) verbunden sind.
  5. Platine nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der die Verdrahtungskarte (2) eine Mehrzahl von isolierenden Schichten (5) enthält, von denen jede aus einem Thermoplasten ist, wobei die isolierenden Schichten (5) aufeinander gestapelt sind und gemeinsam bei einer erhöhten Temperatur und einem erhöhten Druck zusammengepresst sind, um die Verdrahtungskarte (2) zu bilden.
  6. Platine nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) und die Innenverdrahtungseinheit (8) mit der gleichen Elektrode (4a) des elektronischen Bauteils (4) in Verbindung sind.
  7. Platine nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der die Innenverdrahtungseinheit (8) und die Überprüfungsverdrahtungseinheit (16) aus einer Mehrzahl von leitfähigen Mustern (6) und einer Mehrzahl von Durchgängen (7) gebildet sind, die abwechselnd aufeinander gestapelt sind.
  8. Platine nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei der das Verbindungsteil (6a, 6b) und das Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6b) aus einem leitfähigen Muster (6) gebildet ist.
  9. Ein Verfahren zur Erkennung einer fehlerhaften Verdrahtung, insbesondere in einer Platine mit wenigstens einem eingebetteten Bauteil nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Verfahren aufweist: Erkennen eines Widerstandswerts zwischen dem Verbindungsteil (6a, 6b) und dem Überprüfungsverbindungsteil (6c, 6d); und Bestimmen, ob eine fehlerhafte Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit (8) vorhanden ist oder nicht, basierend auf dem Widerstandswert, der erkannt wird, wobei bestimmt wird, dass eine fehlerhafte Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit (8) vorliegt, wenn der Widerstandswert sich von einem normalen Wert unterscheidet.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, bei dem bestimmt wird, dass eine fehlerhafte Verdrahtung in der Innenverdrahtungseinheit (8) vorliegt, wenn der Widerstandswert größer als ein bestimmter Wert ist.
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