DE102006061585B4 - Method and device for spin coating substrates - Google Patents

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Abstract

Verfahren zum Rotationsbeschichten eines scheibenförmigen Substrats mit den Schritten: Aufbringen einer viskosen Flüssigkeit auf dem Substrat und Rotieren des Substrats zum Verteilen der Flüssigkeit, Messen der Schichtdickenverteilung der auf das Substrat aufgebrachten Flüssigkeit und Regeln der Schichtdickenverteilung der auf das Substrat aufzubringenden Flüssigkeit für nachfolgende Beschichtungsprozesse durch Variieren der Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung, wobei die Viskosität der Flüssigkeit örtlich variiert wird.A method of spin-coating a discoid substrate comprising the steps of: applying a viscous liquid to the substrate and rotating the substrate to disperse the liquid; measuring the film thickness distribution of the liquid applied to the substrate; and controlling the film thickness distribution of the liquid to be applied to the substrate for subsequent coating processes by varying the viscosity of the applied liquid as a function of the measured layer thickness distribution, wherein the viscosity of the liquid is locally varied.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Oberflächenbeschichten durch Rotation bzw. Spincoating von scheibenförmigen Substraten, wie beispielsweise optischen Datenträgern, mit einer Flüssigkeit. Insbesondere betrifft die Erfindung die Herstellung einer optischen Deckschicht (Coverlayer). Bei der Rotationsbeschichtung wird die Flüssigkeit, wie z. B. ein Farbstoff (Dye), ein flüssiger Lack oder ein fluider Kleber, durch Abschleudern auf der Oberfläche verteilt.The invention relates to a method and a device for surface coating by rotation or spin coating of disc-shaped substrates, such as optical data carriers, with a liquid. In particular, the invention relates to the production of an optical cover layer (cover layer). In the spin coating, the liquid, such as. As a dye (dye), a liquid paint or a fluid adhesive, distributed by centrifuging on the surface.

Bei der Herstellung optischer Datenträger, wie beispielsweise CDs, DVDs oder Blu-ray-Disks, muss die Substratoberfläche beschichtet, beispielsweise lackiert, bzw. zum Verkleben zweier Substrate eine möglichst gleichförmig dicke Kleberschicht auf eines der Substrate aufgetragen werden. Dies geschieht üblicherweise durch Spincoating; dabei wird das auf einem Substratträger angeordnete Substrat in Rotation versetzt, und die aufzubringende Flüssigkeit wird nahe der Rotationsachse des zu beschichtenden Substrats aufgebracht und durch die Zentrifugalkraft über die Oberfläche des Substrats verteilt.In the production of optical data carriers, such as CDs, DVDs or Blu-ray discs, the substrate surface must be coated, for example painted, or applied for bonding two substrates as uniformly thick adhesive layer on one of the substrates. This is usually done by spin coating; In this case, the substrate arranged on a substrate carrier is set in rotation, and the liquid to be applied is applied close to the axis of rotation of the substrate to be coated and distributed by the centrifugal force over the surface of the substrate.

Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, dass die Dicke der aufgebrachten Schicht nur ungenau gesteuert bzw. vorbestimmt werden kann. Weiterhin kann es nach dem Abschleudern zu einer ungleichmäßig dicken Verteilung der aufgebrachten Beschichtung (Lack oder Kleber) auf dem Substrat kommen. Beispielsweise ist bei CDs eine Erhöhung der Lackdichte zum Außenrand hin feststellbar. Beim Spincoaten insbesondere zähflüssiger Lacke oder Kleber kommt es an der Kante des Substrats durch Adhäsion und Oberflächenspannung zu einer Überhöhung der Flüssigkeit. Bedingt durch die an der Kante auftretende Grenzfläche Flüssigkeit-Gas ist die Flüssigkeit bestrebt, ihre Oberfläche zum Gas hin zu minimieren.A disadvantage of this method is that the thickness of the applied layer can only be inaccurately controlled or predetermined. Furthermore, after the spin-off, an unevenly thick distribution of the applied coating (lacquer or adhesive) on the substrate may occur. For example, an increase in the density of the lacquer can be detected at the outer edge in the case of CDs. In the case of spincoating, in particular viscous paints or adhesives, the adhesion and surface tension on the edge of the substrate cause an elevation of the liquid. Due to the liquid-gas interface occurring at the edge, the liquid tends to minimize its surface to the gas.

Die EP 1 363 280 A1 beschreibt ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Datenträgers durch Rotationsbeschichten mit einer Beschichtungsflüssigkeit, die ein durch aktinische Strahlung aushärtbares Harz enthält, wobei eine Verdickung der Beschichtung an den äußeren Umfangsregionen des Substrats vermindert werden soll. Hierzu wird zunächst die Beschichtungsflüssigkeit auf der Substratoberfläche durch Abschleudern verteilt; danach wird die Harzschicht zum Aushärten mit einer aktinischen Strahlung bestrahlt, während die Rotationsgeschwindigkeit des Substrats vermindert wird.The EP 1 363 280 A1 describes a method of making an optical disc by spin coating with a coating liquid containing an actinic radiation curable resin to reduce thickening of the coating at the outer peripheral regions of the substrate. For this purpose, the coating liquid is first distributed on the substrate surface by centrifuging; Thereafter, the resin layer for curing is irradiated with actinic radiation while reducing the rotational speed of the substrate.

In der WO 2004/050261 A1 wird eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Verteilen einer viskosen Flüssigkeit über eine Oberfläche eines Substrats beschrieben, bei dem das Substrat vor dem Rotationsbeschichten gezielt lokal thermisch konditioniert wird. Die WO 2004/064055 A1 beschreibt ein Rotationsbeschichtungsverfahren bei dem die aufgebrachte Flüssigkeitsschicht in einer definierten Weise erwärmt wird.In the WO 2004/050261 A1 For example, there is described an apparatus and method for dispensing a viscous fluid over a surface of a substrate, wherein the substrate is selectively thermally conditioned prior to spin coating. The WO 2004/064055 A1 describes a spin coating process in which the applied liquid layer is heated in a defined manner.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein verbessertes Verfahren zum Beschichten durch Abschleudern (Spincoating) bereitzustellen, mit dem die Dicke der Beschichtung insbesondere bei einer eng tolerierten Schichtdickenverteilung über den gesamten Radius des Substrats geregelt und vorzugsweise eine konstante Dicke über den gesamten Radius erreicht werden kann. Störende äußere Einflüsse, die sich auf die Schichtdicke bzw. Schichtdickenverteilung auswirken können, sollen ausgeglichen werden. Weiterhin soll die durch Adhäsion und Oberflächenspannung auftretende starke Überhöhung am äußeren Rand des Substrats vermieden werden.The object of the present invention is to provide an improved method for spin coating by means of which the thickness of the coating can be regulated over the entire radius of the substrate, in particular with a narrowly tolerated layer thickness distribution, and preferably a constant thickness over the entire radius can be achieved , Disturbing external influences, which can affect the layer thickness or layer thickness distribution, should be compensated. Furthermore, the strong elevation occurring at the outer edge of the substrate due to adhesion and surface tension should be avoided.

Diese Aufgaben werden mit den Merkmalen der Ansprüche gelöst.These objects are achieved with the features of the claims.

Die Erfindung geht von dem Grundgedanken aus, die Schichtdicke bzw. die Schichtdickenverteilung der aufzubringenden Flüssigkeit bei der Rotationsbeschichtung bzw. dem Abschleudern gezielt zu regeln. Die beim Rotationsbeschichten nahe der Rotationsachse aufgebrachte Flüssigkeit wird durch die durch die Rotation entstehende Zentrifugalkraft radial nach aussen auf der Oberfläche des Substrats verteilt. Die so entstehende Schichtdicke wird beispielsweise von der Umgebungstemperatur und der Viskosität der aufgebrachten Flüssigkeit beeinflußt. Auch können sich Unregelmäßigkeiten in der Schichtdickenverteilung auf dem Substrat ergeben. Insbesondere kommt es auf Grund der oben beschriebenen Effekte durch Adhäsion und Oberflächenspannung am Rand bzw. an der Kante des Substrats zu einer Überhöhung der Flüssigkeit. Um die Schichtdicke insgesamt und/oder örtlich gezielt zu beeinflussen, wird gemäß der vorliegenden Erfindung die Viskosität der Flüssigkeit örtlich, insbesondere radial und/oder azimutal gezielt variiert. Dies wird in Abhängigkeit einer Messung der Schichtdicke gesteuert.The invention is based on the basic concept of specifically controlling the layer thickness or the layer thickness distribution of the liquid to be applied in the spin coating or the centrifuging. The liquid applied in spin coating near the axis of rotation is distributed radially outwardly on the surface of the substrate by the centrifugal force generated by the rotation. The resulting layer thickness is influenced, for example, by the ambient temperature and the viscosity of the applied liquid. Also, irregularities in the layer thickness distribution on the substrate may result. In particular, due to the effects described above by adhesion and surface tension at the edge or at the edge of the substrate, an elevation of the liquid occurs. In order to influence the total layer thickness and / or local targeted, according to the present invention, the viscosity of the liquid locally, in particular radially and / or azimuthally selectively varied. This is controlled as a function of a measurement of the layer thickness.

Um die Schichtdicke der aufzubringenden Flüssigkeit gezielt beeinflussen zu können, wird unmittelbar nach dem Aufbringen der Flüssigkeitsschicht auf einem Substrat oder nach anschließender Belichtung mit UV-Strahlung die Schichtdickenverteilung gemessen. Dies sollte an mindestens zwei Positionen des Substrats geschehen. Während der Messung kann das Substrat gedreht werden, um so einen Mittelwert der Schichtdicke in einem definierten Abstand vom Mittelpunkt des Substrats zu erhalten. Diese Schichtdickenmessung muss sehr präzise und unabhängig von der Neigung bzw. dem Tilt und der Lage des Substrats sein. Die Messung der Schichtdickenverteilung erfolgt vorzugsweise mit einem Weißlichtspektrometer, das senkrecht zum Substrat angeordnet ist.In order to be able to influence the layer thickness of the liquid to be applied in a targeted manner, the layer thickness distribution is measured immediately after the application of the liquid layer to a substrate or after subsequent exposure to UV radiation. This should be done on at least two positions of the substrate. During the measurement, the substrate can be rotated so as to obtain an average of the layer thickness at a defined distance from the center of the substrate. This layer thickness measurement must be very precise and independent of the inclination or the tilt and the position of the substrate. The measurement of the layer thickness distribution is preferably carried out with a White light spectrometer, which is arranged perpendicular to the substrate.

Abhängig von dieser Messung wird die Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit und/oder die Rotationsgeschwindigkeit gezielt variiert, um die Schichtdicke, die insbesondere bei den nachfolgenden Beschichtungsvorgängen erzielt wird, gezielt regeln zu können. Dies kann durch eine Variation der Viskosität durch Aufheizen bzw. Abkühlen der aufgebrachten Schicht geschehen. Die Viskosität kann gleichmäßig über den Radius des Substrats variiert werden, um so die Schichtdicke insgesamt zu steuern.Depending on this measurement, the viscosity of the liquid to be applied and / or the rotational speed is selectively varied in order to be able to regulate the layer thickness, which is achieved in particular during the subsequent coating processes, in a targeted manner. This can be done by varying the viscosity by heating or cooling the applied layer. The viscosity can be varied uniformly over the radius of the substrate so as to control the overall layer thickness.

Die Viskosität einer Flüssigkeit ist im Allgemeinen temperaturabhängig, so dass durch Erwärmen und Abkühlen die Viskosität beeinflusst werden kann. Durch gezieltes Erwärmen oder Abkühlen der auf der Substratoberfläche zu verteilenden Flüssigkeit während des Spincoatens, kann die Viskosität so beeinflusst werden, dass sich die Dicke bzw. die Dickenverteilung der Flüssigkeit auf dem Substrat steuern lässt. Die für eine Temperaturerhöhung erforderliche Wärmemenge kann der Flüssigkeit durch Wärmestrahlung, durch Wärmeleitung, also gezielte Temperierung des Substrats, oder durch Konvektion, also das gezielte Einleiten eines temperierten Gasflusses auf das Substrat, zugeführt werden. Eine Abkühlung der Flüssigkeit lässt sich durch Wärmeleitung und Konvektion erreichen.The viscosity of a liquid is generally temperature-dependent, so that the viscosity can be influenced by heating and cooling. By deliberately heating or cooling the liquid to be distributed on the substrate surface during spin coating, the viscosity can be influenced so that the thickness or the thickness distribution of the liquid on the substrate can be controlled. The amount of heat required for a temperature increase can be supplied to the liquid by heat radiation, by heat conduction, that is to say targeted temperature control of the substrate, or by convection, that is to say the targeted introduction of a tempered gas flow onto the substrate. Cooling of the liquid can be achieved by heat conduction and convection.

Die Schichtdickenverteilung lässt sich auch durch Variieren der Drehzahl beim Rotationsbeschichten steuern. Beispielsweise kann bei einer niedrigeren Außentemperatur die Drehzahl erhöht werden, um die sich durch die geringe Außentemperatur ergebende hohe Viskosität auszugleichen.The layer thickness distribution can also be controlled by varying the rotational speed during spin coating. For example, at a lower outside temperature, the speed can be increased to compensate for the high viscosity resulting from the low outside temperature.

Bei einer ungleichmäßigen Schichtdickenverteilung wird die Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit weiterhin örtlich variiert. Um beispielsweise eine Erhöhung der Schichtdicke nach außen hin zu vermeiden, muss der Flüssigkeit beim Abschleudern die Möglichkeit gegeben werden, leichter abzufließen. Dies kann durch örtliche Änderung der Viskosität der Flüssigkeit beispielsweise durch eine örtlich geeignet einstellbare Temperiereinrichtung erreicht werden. Wenn also beispielsweise die Viskosität der Flüssigkeit zum Rand hin abnimmt, kann die Bildung einer Überhöhung am äußeren Rand vermieden werden, da die Flüssigkeit durch die geringere Viskosität dort leichter abfliesen kann.In the case of an uneven layer thickness distribution, the viscosity of the liquid to be applied is further varied locally. To avoid, for example, an increase in the layer thickness to the outside, the liquid must be given the possibility during spin-off, easier to drain. This can be achieved by locally changing the viscosity of the liquid, for example by a locally suitably adjustable tempering. If, for example, the viscosity of the liquid decreases toward the edge, the formation of an excess elevation at the outer edge can be avoided, since the liquid can more easily drain away there due to the lower viscosity.

Zusätzlich zu der geregelten Steuerung der Viskosität kann, um den besonderen Bedingungen am Substratrand, d. h. am radial äußersten Teil der zu beschichtenden Oberfläche, Rechnung zu tragen, dort gezielt und örtlich begrenzt die Viskosität stark vermindert werden. Dies kann beispielsweise durch eine Infrarotlampe geschehen, durch die der Rand des Substrats mit einem fokussierten Infrarotstrahl bestrahlt wird.In addition to the controlled control of viscosity, d. H. on the radially outermost part of the surface to be coated, to take into account, there targeted and localized viscosity are greatly reduced. This can be done for example by an infrared lamp, through which the edge of the substrate is irradiated with a focused infrared beam.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann zur Beschichtung mit einer Vielzahl von Flüssigkeiten, die im Fertigungsprozess optischer Datenträger benötigt werden, eingesetzt werden. So ist der Einsatz des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Lackieren von Substraten, zum Beschichten mit Farbstoffen, insbesondere mit in organischen Lösungsmitteln gelösten Farbstoffen, wie sie beispielsweise bei der Fertigung einfach beschreibbarer optischer Datenträger eingesetzt werden, oder zum Aufbringen von Klebern, insbesondere UV-aushärtbarer Kleber geeignet. In all diesen Fällen kann die Viskosität durch Temperaturänderung verändert werden. Ferner ist das Eindicken einer lösungsmittelhaltigen Flüssigkeit und damit Erhöhung der Viskosität durch teilweise Verdunstung des Lösungsmittels durch Erwärmung der Flüssigkeit möglich. Bei UV-aushärtenden Klebern kann durch dosierte Bestrahlung die Polymerisations-Reaktion zu einer Erhöhung der Viskosität eingeleitet und/oder zur geeigneten Variation oder Viskosität beschleunigt oder verlangsamt werden. Der Einsatz des Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung ist besonders bevorzugt bei der Herstellung eines optischen Coverlayers.The method according to the invention can be used for coating with a multiplicity of liquids which are required in the production process of optical data carriers. Thus, the use of the method according to the invention for coating substrates, for coating with dyes, in particular dissolved in organic solvents dyes, such as those used in the production of easily writable optical disk, or for applying adhesives, in particular UV-curable adhesive is suitable , In all these cases, the viscosity can be changed by changing the temperature. Further, the thickening of a solvent-containing liquid and thus increasing the viscosity by partial evaporation of the solvent by heating the liquid is possible. In the case of UV-curing adhesives, the polymerization reaction can be initiated by metered irradiation to increase the viscosity and / or be accelerated or slowed down to the appropriate variation or viscosity. The use of the method according to the present invention is particularly preferred in the manufacture of an optical co-translator.

Die Einrichtung zum Einstellen der Viskosität kann in Abhängigkeit von dem eingesetzten Fluid (Kleber, Lack, lösungsmittelhaltiges Fluid) die Viskosität reversibel oder reversibel beeinflussen:
Bei Verwendung eines lösungsmittelhaltigen Fluids wird durch Temperaturerhöhung das Lösungsmittel in Abhängigkeit von der Temperatur mehr oder weniger stark verdampft, so dass die Viskosität mehr oder weniger stark zunimmt; ähnlich wird bei Verwendung eines UV-härtenden Fluids durch mehr oder weniger starke UV-Bestrahlung die Polymerisation mehr oder weniger stark vorangetrieben und somit die Viskosität mehr oder weniger stark erhöht. Diese beiden Prozesse sind irreversibel, d. h. die Viskosität nimmt stetig zu oder bleibt allenfalls konstant.The device for adjusting the viscosity can reversibly or reversibly influence the viscosity, depending on the fluid used (adhesive, lacquer, solvent-containing fluid):
When using a solvent-containing fluid is increased by increasing the temperature of the solvent, depending on the temperature more or less strongly evaporated, so that the viscosity increases more or less strong; Similarly, when using a UV-curing fluid by more or less strong UV irradiation, the polymerization is driven more or less vigorously, thus increasing the viscosity more or less. These two processes are irreversible, ie the viscosity increases steadily or remains constant at best.

Bei Fluiden, bei denen die vorstehenden irreversiblen Prozesse keine oder nur eine geringe Rolle spielen, ist auch eine reversible, temperaturabhängige Änderung der Viskosität möglich, d. h. nicht nur eine Erhöhung der Viskosität durch Temperaturerniedrigung, sondern auch eine Erniedrigung der Viskosität durch Temperaturerhöhung und umgekehrt, wie z. B. bei strukturviskosen Flüssigkeiten.For fluids in which the above irreversible processes play no or only a minor role, a reversible, temperature-dependent change in viscosity is possible, d. H. not only an increase in viscosity by lowering the temperature, but also a lowering of the viscosity by increasing the temperature and vice versa, such. As with pseudoplastic liquids.

Unter Berücksichtigung dieser Eigenschaften wird die Einrichtung zum Einstellen der Viskosität ausgewählt, z. B. die Art der Bestrahlung, wie Wärmestrahlung, IR-Strahlung oder UV-Strahlung und deren örtliche Verteilung auf der Oberfläche des Substrats, um eine optimale Verteilung des Fluids mit möglichst gleichförmiger Dicke auf der Oberfläche des Substrats zu erreichen.Taking into account these properties, the means for adjusting the viscosity is selected, for. B. the type of irradiation, such as heat radiation, IR radiation or UV radiation and their local distribution on the surface of the substrate to an optimal distribution of the fluid with as uniform as possible thickness on the surface of the substrate to achieve.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist eine gezielte Regelung der Schichtdickenverteilung beim Rotationsbeschichten möglich. Weiterhin kann die Schichtdicke durch örtliches Variieren der Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit in Abhängigkeit vom Abstand zum Mittelpunkt bzw. zur Rotationsachse des Substrats, beispielsweise auch nach radial außen abfallend, geregelt werden. So kann vermieden werden, dass beim Rotationsbeschichten die Schichtdicke nach außen hin ansteigt und generell abhängig von der Temperatur des Prozessraumes und der Viskosität des Grundmaterials ist. Solche äußeren Einflüsse, die die Herstellung einer eng tolerierten Schichtdicke stören, können mit dem Verfahren der vorliegenden Erfindung ausgeglichen werden. Eine starke Überhöhung am äußeren Rand des Substrats kann vermieden werden. Durch die Erfindung kann die Rotationsbeschichtung also wirtschaftlicher durchgeführt werden, da Ausschuss reduziert wird.With the method according to the invention, a targeted control of the layer thickness distribution during spin coating is possible. Furthermore, the layer thickness can be controlled by locally varying the viscosity of the liquid to be applied as a function of the distance to the center or to the axis of rotation of the substrate, for example falling radially outwards. Thus, it can be avoided that during spin coating, the layer thickness increases to the outside and is generally dependent on the temperature of the process space and the viscosity of the base material. Such external influences that interfere with the production of a tightly tolerated layer thickness can be compensated for by the method of the present invention. A strong elevation at the outer edge of the substrate can be avoided. By the invention, the spin coating can therefore be carried out more economically, since waste is reduced.

Weiterhin wird durch die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung zum Rotationsbeschichten eines scheibenförmigen Substrats bereitgestellt.Furthermore, the present invention provides an apparatus for spin-coating a disc-shaped substrate.

Die Erfindung wird im Folgenden unter Bezugnahme auf die Figuren näher erläutert, wobeiThe invention is explained in more detail below with reference to the figures, wherein

1 schematisch eine Querschnittsdarstellung einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung und 1 schematically a cross-sectional view of an embodiment of the device according to the invention and

2 ein Ablaufdiagramm des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Rotationsbeschichten zeigt. 2 a flow diagram of the method according to the invention for spin coating shows.

Bei der Rotationsbeschichtung wird zunächst die aufzubringende viskose Flüssigkeit auf das zu beschichtende Substrat, das auf einem drehbaren Substratträger bzw. Spin-Chuck angeordnet ist, nahe der Mitte d. h. der Rotationsachse des Substrats aufgebracht. Aufgrund der Drehung des Substrats wird die aufzubringende Flüssigkeit über die Substratoberfläche verteilt.In the spin coating, the viscous liquid to be applied is first applied to the substrate to be coated, which is arranged on a rotatable substrate carrier or spin chuck, near the center d. H. applied to the axis of rotation of the substrate. Due to the rotation of the substrate, the liquid to be applied is distributed over the substrate surface.

Diese in 1 dargestellte erfindungsgemäße Vorrichtung weist getrennt einen Bereich A, in dem die Schichtdickenmessung durchgeführt wird, und einen Bereich B auf, in dem Rotationsbeschichtung durchgeführt wird. Im Bereich B ist eine Einrichtung zur Variation der Viskosität durch Temperieren der aufzubringenden Schicht vorgesehen. Die denkbare Möglichkeit, beide Bereiche in einer einzigen Vorrichtung zu realisieren, ist dahingehend nachteilig, dass für die erforderliche Abkühlung des Substrats vor der Schichtdickenmessung gesorgt sein muß, da der Wärmeeintrag bei der Temperierung sehr hoch sein kann.This in 1 The device according to the invention has separately a region A, in which the layer thickness measurement is carried out, and a region B, in which spin coating is carried out. In region B, a device for varying the viscosity by tempering the layer to be applied is provided. The conceivable possibility of realizing both areas in a single device is disadvantageous in that it must be ensured that the required cooling of the substrate before the layer thickness measurement, since the heat input in the temperature control can be very high.

Das Substrat 2 wird im Bereich A von einer Halterung 1 getragen. Im Bereich A kann zusätzlich eine (in der 1 nicht gezeigte) Vorrichtung zum Drehen des Substrates 2 vorgesehen sein, so dass eine gemittelte Messung der Schichtdicke in einem bestimmten Abstand von der Drehachse erhalten werden kann. Die Schicht aus der viskosen Flüssigkeit ist auf der Substratoberfläche 3 aufgebracht. Die Dicke dieser Schicht wird durch die Einrichtungen 4 an verschiedenen Orten mit unterschiedlichem Radialabstand zur Mittelachse der Substratoberfläche 3 gemessen. Dies kann beispielsweise mittels eines Spektrometers geschehen. Im Bereich B ist ein drehbarer Substratträger bzw. Spin-Chuck 1' vorgesehen, auf dem das zu beschichtende Substrat 2 angeordnet ist. Durch die Antriebsvorrichtung bzw. den Motor 7 kann der Substratträger 1' in Rotation gemäß dem Pfeil R versetzt werden. Über der Substratoberfläche 3 befindet sich eine Einrichtung 6 zum Beeinflussen der Viskosität der auf der Substratoberfläche 3 befindlichen Flüssigkeitsschicht.The substrate 2 is in area A of a bracket 1 carried. In area A, an additional (in the 1 not shown) for rotating the substrate 2 be provided so that an average measurement of the layer thickness can be obtained at a certain distance from the axis of rotation. The layer of viscous liquid is on the substrate surface 3 applied. The thickness of this layer is determined by the facilities 4 at different locations with different radial distance to the central axis of the substrate surface 3 measured. This can be done for example by means of a spectrometer. In area B is a rotatable substrate carrier or spin chuck 1' provided on which the substrate to be coated 2 is arranged. By the drive device or the engine 7 may be the substrate carrier 1' be offset in rotation according to the arrow R. Above the substrate surface 3 there is a facility 6 for influencing the viscosity of the on the substrate surface 3 located liquid layer.

Die Messeinrichtungen 4 geben die Messdaten an eine Steuereinrichtung 5 über die Eingänge 51, 52 ein. Die Steuereinrichtung 5 ist im allgemeinen ein Mikrocomputer, der die eingegebenen Daten in einem Regelalgorithmus verarbeitet. In Abhängigkeit der durch die Einrichtungen 4 gemessenen Schichtdicken, regelt die Steuereinrichtung 5 die Einrichtung 6 zum Beeinflussen der Viskosität und/oder die Drehzahl des Motors 7 über die Ausgänge 53 und 54. Somit kann die Schichtdicke der auf das Substrat 2 aufgebrachten Beschichtung geregelt werden.The measuring equipment 4 give the measurement data to a controller 5 over the entrances 51 . 52 one. The control device 5 is generally a microcomputer that processes the input data in a control algorithm. Depending on the facilities 4 measured layer thicknesses, controls the controller 5 the device 6 for influencing the viscosity and / or the speed of the motor 7 over the exits 53 and 54 , Thus, the layer thickness of the on the substrate 2 applied coating can be regulated.

Die Einrichtung 6 zum örtlichen Beeinflussen der Viskosität kann auch als eine radial einstellbare Temperiereinrichtung, die beispielsweise mehrere Infrarotstrahler aufweist, ausgeführt werden. Beim Einsatz mehrerer Infrarotstrahler kann die ortsabhängige Variation der Erwärmung dadurch erzielt werden, dass die Leistung der Strahler variabel ist. Zusätzlich kann eine radiale und azimutale Intensitätsverteilung mit Hilfe von verstellbaren Blenden eingestellt werden. Weiterhin kann eine Vorrichtung verwendet werden, mit der gleichzeitig die gesamte Oberfläche des zu beschichtenden Substrats erwärmen kann. Mit einer solchen Vorrichtung können gezielt bestimmte Bereiche des Substrats 2 sowohl örtlich, also radial und azimutal, als auch zeitlich variabel, insbesondere abhängig von der Rotationsgeschwindigkeit des Substrats 2, erwärmt werden. Bei der Verwendung von Infrarotstrahlern sollte die Wellenlänge der Strahlungsquelle etwa in dem Bereich liegen, in dem die Flüssigkeit maximal absorbiert.The device 6 for local influencing of the viscosity can also be performed as a radially adjustable tempering device having, for example, a plurality of infrared radiators. When using multiple infrared radiators, the location-dependent variation of the heating can be achieved that the power of the radiator is variable. In addition, a radial and azimuthal intensity distribution can be adjusted by means of adjustable diaphragms. Furthermore, a device can be used with which at the same time can heat the entire surface of the substrate to be coated. With such a device can target specific areas of the substrate 2 both locally, ie radially and azimuthally, as well as temporally variable, in particular depending on the rotational speed of the substrate 2 to be heated. When using infrared radiators, the wavelength of the radiation source should be approximately in the range in which the liquid absorbs maximum.

Um eine unerwünschte starke Überhöhung der Beschichtung am äußeren Rand des Substrats 2 zu vermeiden, kann zusätzlich ein (nicht gezeigter) Infrarotstrahler eingesetzt werden, der beim Abschleudern die Flüssigkeit am Rand des Substrats 2 mit Hilfe eines fokussierten Infrarotstrahls erwärmt und somit die Viskosität der am äußersten Rand befindlichen Flüssigkeit stark verringert. Somit kann die dort angesammelte überschüssige Flüssigkeit leicht abgeschleudert werden.To an undesirable excessive elevation of the coating on the outer edge of the substrate 2 To avoid this, an infrared radiator (not shown) may additionally be used, which, when being centrifuged off, the liquid at the edge of the substrate 2 heated by means of a focused infrared beam and thus greatly reduces the viscosity of the outermost edge liquid. Thus, the accumulated excess liquid can be easily thrown off.

Die 2 zeigt ein Ablaufdiagramm des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Rotationsbeschichtung. Insbesondere wird die Inline-Regelung zur Herstellung eines Coverlayers beschrieben. Das in 2 gezeigte Ablaufdiagramm beschreibt das Verfahren, das in einer Vorrichtung angewendet wird, die in zwei Hauptbereiche I und II aufgeteilt ist, die jeweils einen Unterbereich B für die Beschichtung und einem Unterbereich A für die Messung aufweisen, ähnlich wie in 1 gezeigt. Vorzugsweise wird nur im Unterbereich A des zweiten Hauptbereichs tatsächlich eine Messung durchgeführt, der Unterbereich A des ersten Bereichs dient dann lediglich zur Kühlung und Trocknung der aufgebrachten Schicht. Somit wird in jedem der zwei Hauptbereiche eine Teilschicht aufgebracht, wobei jedoch nur die Gesamtdicke dieser Schicht gemessen und geregelt wird.The 2 shows a flow diagram of the method according to the invention for spin coating. In particular, the in-line control for the production of a co-translator is described. This in 2 The flow chart shown describes the method used in a device which is divided into two main areas I and II, each having a sub-area B for the coating and a sub-area A for the measurement, similar to FIG 1 shown. Preferably, a measurement is actually carried out only in the sub-area A of the second main area, the sub-area A of the first area then serves only for cooling and drying the applied layer. Thus, a sub-layer is applied in each of the two main areas, but only the total thickness of this layer is measured and controlled.

Weiterhin ist in dem Unterbereich B des ersten und des zweiten Hauptbereichs jeweils ein erster drehbarer Substratträger und ein zweiter drehbarer Substratträger vorgesehen. Der erste drehbare Substratträger weist einen Infrarotstrahler zum Temperieren während der Rotationsbeschichtung auf. Am zweiten drehbaren Substratträger ist keine Temperiereinrichtung vorgesehen. Die Bezeichnungen IR-Strahler 1 und IR-Strahler 2 in der 2 bezeichnen die Temperiereinrichtung am ersten drehbaren Substratträger im Unterbereich B des ersten bzw. zweiten Hauptbereichs. Die Bezeichnung Topf 2 in 2 bezieht sich jeweils auf die zweiten drehbaren Substratträger in den Hauptbereichen I und II, die nur zur Rotation aber nicht zur Temperierung genutzt werden.Furthermore, a first rotatable substrate carrier and a second rotatable substrate carrier are respectively provided in the lower region B of the first and second main regions. The first rotatable substrate carrier has an infrared radiator for tempering during spin coating. At the second rotatable substrate carrier no tempering is provided. The terms IR emitter 1 and IR emitters 2 in the 2 denote the tempering device on the first rotatable substrate carrier in the lower region B of the first and second main area. The term pot 2 in 2 refers in each case to the second rotatable substrate carrier in the main areas I and II, which are used only for rotation but not for temperature control.

Während der Messwertaufbereitung wird vorzugsweise jeweils ein Messwert auf dem Innenradius (m1), in der Mitte (m2) und auf dem Außenradius (m3) aufgenommen. Aus den Messwerten von mehreren Disks werden entsprechende Mittelwerte M1, M2 und M3 gebildet.During measured value preparation, one measured value is preferably recorded on the inner radius (m1), in the middle (m2) and on the outer radius (m3). From the measured values of several disks corresponding mean values M1, M2 and M3 are formed.

Die Anzahl N1, N2 und N3 der Disks, die zur Bildung der jeweiligen Mittelwerte verwendet werden, hängen von den Abweichungen vorher bestimmter Mittelwerte M1alt, M2alt und M3alt zu den jeweiligen Sollwerten W1, W2 bzw. W3 ab. Die Messwerte werden auf ihre Plausibilität überprüft, das heißt sie müssen innerhalb berechneter Grenzwerte liegen. Diese Grenzwerte ergeben sich aus den Abweichungen der alten Mittelwerte M1 alt, M2alt und M3alt zu den jeweiligen Sollwerten W1, W2 bzw. W3 sowie einer festgelegten Messtoleranz t. Liegt auch nur einer der drei Messwerte außerhalb der Bandbreite, wird die Disk nicht mehr für die Regelung herangezogen. Liegen die Messwerte dagegen innerhalb der Grenzwerte, werden Mittelwerte M1, M2 und M3 über N1, N2 bzw. N3 Disks gebildet.The numbers N1, N2 and N3 of the disks used to form the respective averages depend on the deviations of previously determined average values M1alt, M2alt and M3alt from the respective target values W1, W2 and W3, respectively. The measured values are checked for plausibility, ie they must lie within calculated limits. These limit values result from the deviations of the old average values M1 old, M2alt and M3old relative to the respective setpoint values W1, W2 and W3, respectively, and a specified measurement tolerance t. If only one of the three measured values lies outside the bandwidth, the disk is no longer used for the control. On the other hand, if the measured values lie within the limit values, mean values M1, M2 and M3 are formed via N1, N2 or N3 disks.

Die im vorhergehenden Regelzyklus ermittelte Stellgröße für die Abschleudergeschwindigkeit am Topf 2 (Y1.1alt) entscheidet nun darüber, ob die Regelung am Innenradius die Abschleudergeschwindigkeit oder die Abschleuderzeit einstellt. Liegt diese alte Stellgröße Y1.1alt innerhalb festgelegter Grenzen (G1.1), so wird die Abschleudergeschwindigkeit in die Regelung miteinbezogen. Die Abschleuderzeit entspricht hingegen der festgelegten Referenzabschleuderzeit (R1.2). Liegt die alte Stellgröße hingegen außerhalb der Grenzen, wird die Abschleudergeschwindigkeit auf den Grenzwert (G1.1) eingestellt und die Abschleuderzeit in die Regelung miteinbezogen.The control variable for the speed of weaning on the pot determined in the previous control cycle 2 (Y1.1alt) now decides whether the regulation at the inner radius adjusts the spin-off speed or the spin-off time. If this old manipulated variable Y1.1alt is within specified limits (G1.1), the speed of the deceleration is included in the control. The spin-off time corresponds to the specified reference spin-off time (R1.2). On the other hand, if the old control value is outside the limits, the spin-off speed is set to the limit value (G1.1) and the spin-off time is included in the control.

In der eigentlichen Regelung werden die Verstärkungsfaktoren der Regler für die verfügbare Stellgröße aus vorgegebenen Faktoren (kp1, kp2, kp3), sowie den Abweichungen der Mittelwerte (M1, M2, M3) zu den jeweiligen Sollwerten (W1, W2, W3), berechnet. Mit Hilfe der berechneten Verstärkungsfaktoren (Kp1, Kp2, Kp3) werden nun die verfügbaren Stellgrößen Abschleudergeschwindigkeit bzw. Abschleuderzeit Topf 2, also auf dem drehbaren Substratträger ohne Temperiereinrichtung im Hauptbereich II, die Leistung IR-Strahler 1 im Hauptbereich I sowie die Leistung IR-Strahler 2 im Hauptbereich II gemäß folgenden Formeln beeinflusst:In the actual control, the gain factors of the controllers for the available manipulated variable are calculated from predetermined factors (kp1, kp2, kp3) and the deviations of the mean values (M1, M2, M3) to the respective desired values (W1, W2, W3). With the aid of the calculated gain factors (Kp1, Kp2, Kp3), the available manipulated variables of the deceleration speed and the deceleration time of the pot are now displayed 2 , So on the rotatable substrate carrier without tempering in the main area II, the power IR emitters 1 in the main area I as well as the power IR emitters 2 in the main area II influenced according to the following formulas:

Regler 1.1 Abschleudergeschwindigkeit Topf 2:Regulator 1.1 Discharge speed pot 2 :

  • Y1.1 = Y1.1alt – Y1.1alt·(1 – X1/W)·Kp1Y1.1 = Y1.1alt - Y1.1alt · (1 - X1 / W) · Kp1

Regler 1.2 Abschleuderzeit Topf 2:Controller 1.2 Discharge time pot 2 :

  • Y1.2 = Y1.2alt – Y1.2alt·(1 – X1)/W)·Kp1Y1.2 = Y1.2alt - Y1.2alt · (1 - X1) / W) · Kp1

Regler 2 Leistung IR-Strahler 1:Controller 2 power IR emitter 1 :

  • Y2 = Y2alt – Y2alt·(1 – (X2 – ΔX2)/X1)·Kp2Y2 = Y2alt - Y2alt · (1 - (X2 - ΔX2) / X1) · Kp2

Regler 3 Leistung IR-Strahler 2:Regulator 3 power IR emitter 2 :

  • Y3 = Y3alt – Y3alt·(1 – (X3 – ΔX3)/X1)·Kp3Y3 = Y3alt - Y3alt · (1 - (X3 - ΔX3) / X1) · Kp3

Als letzter Schritt wird eine Grenzwertüberprüfung durchgeführt. Liegen die ermittelten Stellgrößen Y1.1, Y1.2, Y2 und Y3 innerhalb festgelegter Grenzwerte G1.1, G1.2, G2 bzw. G3, so werden die ermittelten Stellgrößen wirksam. Liegen sie außerhalb dieser festgelegten Grenzwerte, so werden anstelle der ermittelten Stellgrößen fest vorgegebene Werte zur Steuerung des Prozesses verwendet.As a last step, a limit check is performed. If the determined manipulated variables Y1.1, Y1.2, Y2 and Y3 are within specified limit values G1.1, G1.2, G2 or G3, the determined manipulated variables become effective. If they are outside these specified limit values, fixed values are used to control the process instead of the determined manipulated variables.

Der in 2 dargestellte Regelalgorithmus hat also die Aufgabe, ausgehend von vorzugsweise drei Istwerten, die Coverlayer-Schichtdicke konstant zu halten. Dazu werden die vier Stellgrößen Abschleudergeschwindigkeit Topf 2, Abschleuderzeit Topf 2, Leistung IR-Strahler 1 sowie Leistung IR-Strahler 2, abhängig von den einzelnen Ist-Werten beeinflusst.The in 2 Thus, the control algorithm illustrated has the task, based on preferably three actual values, of keeping the coverlayer layer thickness constant. To do this, the four manipulated variables are the purging speed pot 2 , Discharge time pot 2 , Power IR emitters 1 as well as power IR emitters 2 , depending on the individual actual values.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann bei allen Spincoating-Prozessen eingesetzt werden, beispielsweise auch zum Beschichten einer DVD oder einer Blue-Ray-Disk. Im speziellen Fall der Herstellung z. B. einer 100 μm Deckschicht (cover layer) einer Blue-Ray-Disk kann beim Spincoating die Viskosität des UV-aushärtenden Lacks mit Hilfe von einer oben beschriebenen, radial variabel einstellbaren Temperiereinrichtung so beeinflusst werden, dass sich präzise einstellbare und gleichmäßige Schichtdicke innerhalb der geforderten Toleranzen ergibt. Nach dem Beschichten bzw. Abschleudern sollte der Lack sofort durch UV-Bestrahlung ausgehärtet werden, um die Bildung eines Wulstes am Rand bei der Abkühlung des Lacks zu vermeiden. Zusätzlich kann diese Überhöhung am Rand durch das oben beschriebene intensive Bestrahlen des Randbereichs während des Abschleuderns oder auch während der UV-Härtung verhindert werden. Der Beginn und die Dauer der Bestrahlung hängen von der eingesetzten Beschichtungssubstanz und von anderen Parametern, wie beispielsweise der Rotationsgeschwindigkeit des Substrats ab. Die Dauer der Bestrahlung ist jedoch von den Abschleuderzeiten entkoppelt.The method according to the invention can be used in all spin coating processes, for example also for coating a DVD or a blue-ray disk. In the specific case of manufacturing z. B. a 100 micron cover layer (cover layer) of a blue-ray disk, the viscosity of the UV-curing lacquer can be influenced with the help of a radially variable temperature control device described above so that precisely adjustable and uniform layer thickness within the required tolerances results. After coating or spin-coating, the paint should be immediately cured by UV irradiation to avoid the formation of a bead on the edge as the paint cools. In addition, this canting at the edge can be prevented by the above-described intensive irradiation of the edge area during the spin-off or also during the UV-curing. The beginning and duration of the irradiation depend on the coating substance used and on other parameters, such as the rotational speed of the substrate. The duration of the irradiation is, however, decoupled from the Abschleuderzeiten.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch bei der Herstellung von DVDs oder Blue-Ray-Disks durch Verkleben zweier (oder mehrerer) Teilsubstrate angewendet werden, bei der ein leichter Anstieg der Dicke der Kleberschichten zum Außenrand hin zu beobachten ist. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, die Viskosität des Klebers in Abhängigkeit vom Abstand zur Rotationsachse so zu beeinflussen, dass eine konstant dicke Kleberschicht über den gesamten Radius erzielt wird. Danach wird eine zweite Substrathälfte (oder Teilsubstrat) auf die konstant dicke Kleberschicht aufgelegt und so unter Bildung einer konstant dicken Zwischenschicht mit der ersten Substrathälfte bzw. dem ersten Teilsubstrat verklebt. Diese Konstanz der durch den Kleber gebildeten Zwischenschicht ist besonders bei dem Format HD DVD gefordert.The method according to the invention can also be used in the production of DVDs or Blue-Ray disks by bonding two (or more) sub-substrates, in which a slight increase in the thickness of the adhesive layers towards the outer edge is observed. With the method according to the invention, it is possible to influence the viscosity of the adhesive as a function of the distance to the axis of rotation in such a way that a constantly thick adhesive layer is achieved over the entire radius. Thereafter, a second substrate half (or partial substrate) is placed on the constantly thick adhesive layer and bonded so as to form a constantly thick intermediate layer with the first substrate half and the first sub-substrate. This constancy of the intermediate layer formed by the adhesive is particularly required in the HD DVD format.

Claims (28)

Verfahren zum Rotationsbeschichten eines scheibenförmigen Substrats mit den Schritten: Aufbringen einer viskosen Flüssigkeit auf dem Substrat und Rotieren des Substrats zum Verteilen der Flüssigkeit, Messen der Schichtdickenverteilung der auf das Substrat aufgebrachten Flüssigkeit und Regeln der Schichtdickenverteilung der auf das Substrat aufzubringenden Flüssigkeit für nachfolgende Beschichtungsprozesse durch Variieren der Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung, wobei die Viskosität der Flüssigkeit örtlich variiert wird.Method for spin-coating a disc-shaped substrate with the steps: Applying a viscous liquid to the substrate and rotating the substrate to disperse the liquid, Measuring the layer thickness distribution of the liquid applied to the substrate and Controlling the layer thickness distribution of the liquid to be applied to the substrate for subsequent coating processes by varying the viscosity of the liquid to be applied as a function of the measured layer thickness distribution, wherein the viscosity of the liquid is locally varied. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Viskosität der Flüssigkeit radial und/oder azimutal variiert wird.The method of claim 1, wherein the viscosity of the liquid is varied radially and / or azimuthally. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Viskosität durch Erwärmen oder Abkühlen der aufzubringenden Flüssigkeit variiert wird.A method according to claim 1 or 2, wherein the viscosity is varied by heating or cooling the liquid to be applied. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei als aufzubringende Flüssigkeit ein Lack eingesetzt wird.A method according to claim 1, 2 or 3, wherein a paint is used as the liquid to be applied. Verfahren nach Anspruch 4, wobei als Lack ein UV-aushärtender Lack eingesetzt wird.A method according to claim 4, wherein the lacquer used is a UV-curing lacquer. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei als aufzubringende Flüssigkeit eine lösungsmittelhaltige Flüssigkeit eingesetzt wird.The method of claim 1, 2 or 3, wherein as the liquid to be applied, a solvent-containing liquid is used. Verfahren nach Anspruch 6, wobei als lösungsmittelhaltige Flüssigkeit ein in einem organischen Lösungsmittel gelöster Farbstoff eingesetzt wird.A method according to claim 6, wherein the solvent-containing liquid used is a dye dissolved in an organic solvent. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Viskosität durch Infrarotstrahlung variiert wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the viscosity is varied by infrared radiation. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, wobei als aufzubringende Flüssigkeit ein Kleber eingesetzt wird.Method according to one of claims 1, 2 or 3, wherein an adhesive is used as the liquid to be applied. Verfahren nach Anspruch 9, wobei als Kleber ein UV-ausgehärteter Kleber eingesetzt wird.A method according to claim 9, wherein the adhesive used is a UV-cured adhesive. Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Viskosität durch Bestrahlen mit UV-Licht variiert wird.The method of claim 10, wherein the viscosity is varied by irradiation with UV light. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Schichtdickenverteilung durch Spektroskopie gemessen wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the layer thickness distribution is measured by spectroscopy. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Schichtdickenverteilung an mindestens zwei Positionen mit unterschiedlichem Radialabstand von der Rotationsachse gemessen wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the layer thickness distribution is measured at at least two positions with different radial distance from the axis of rotation. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Substrat während der Messung der Schichtdickenverteilung gedreht wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the substrate is rotated during the measurement of the layer thickness distribution. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit an der radial äußeren Kante des Substrats verringert wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the viscosity of the liquid to be applied is reduced at the radially outer edge of the substrate. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Schichtdickenverteilung ferner durch Variieren der Drehzahl der Rotation in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung geregelt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the layer thickness distribution further is controlled by varying the speed of rotation as a function of the measured layer thickness distribution. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei als scheibenförmiges Substrat ein optischer Datenträger eingesetzt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein an optical data carrier is used as a disk-shaped substrate. Verfahren nach Anspruch 17, wobei als scheibenförmiges Substrat eine CD oder ein DVD- oder ein Blu-ray-Disk-Substrat eingesetzt wird.A method according to claim 17, wherein a disc or a DVD or a Blu-ray disc substrate is used as the disc-shaped substrate. Vorrichtung zum Rotationsbeschichten eines scheibenförmigen Substrats (2) nach dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, mit einem rotierbaren Substratträger (1'), durch den das Substrat (2) gehalten und in Rotation versetzt wird, einer Einrichtung (6) zum ortsabhängigen Variieren der Viskosität der aufgebrachten Flüssigkeit in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung, einer Einrichtung (4) zum Messen der Schichtdickenverteilung einer durch Rotationsbeschichten auf das Substrat (2) aufgebrachten viskosen Flüssigkeit und einer Steuerungseinrichtung (5) zum Steuern der Einrichtung (6) zum Regeln der Schichtdickenverteilung der auf das Substrat aufzubringenden Flüssigkeit für nachfolgende Beschichtungsprozesse durch Variieren der Viskosität der aufzubringenden Flüssigkeit in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung.Apparatus for spin-coating a disk-shaped substrate ( 2 ) according to the method of any one of claims 1 to 18, with a rotatable substrate carrier ( 1' ) through which the substrate ( 2 ) and set in rotation, a facility ( 6 ) for spatially varying the viscosity of the applied liquid as a function of the measured layer thickness distribution, a device ( 4 ) for measuring the layer thickness distribution of a spin-coated on the substrate ( 2 ) applied viscous liquid and a control device ( 5 ) for controlling the device ( 6 ) for controlling the layer thickness distribution of the liquid to be applied to the substrate for subsequent coating processes by varying the viscosity of the liquid to be applied as a function of the measured layer thickness distribution. Vorrichtung nach Anspruch 19, wobei die Einrichtung zum ortsabhängigen Variieren eingerichtet ist, die Viskosität der aufgebrachten Flüssigkeit radial und/oder azimutal zu variieren.Apparatus according to claim 19, wherein the means for location-dependent variation is arranged to vary the viscosity of the applied liquid radially and / or azimuthally. Vorrichtung nach Anspruch 19 oder 20, wobei die Einrichtung zum Variieren der Viskosität eine Einrichtung zum Erwärmen der Substratoberfläche (13) aufweist.Apparatus according to claim 19 or 20, wherein the means for varying the viscosity comprises means for heating the substrate surface ( 13 ) having. Vorrichtung nach Anspruch 21, wobei die Einrichtung zum Erwärmen einen Infrarotstrahler aufweist.The apparatus of claim 21, wherein the means for heating comprises an infrared radiator. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 22, wobei die Einrichtung (6) zum Variieren der Viskosität einen UV-Strahler aufweist.Device according to one of claims 19 to 22, wherein the device ( 6 ) has a UV emitter for varying the viscosity. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 23, wobei die Einrichtung (4) zum Messen der Schichtdickendickenverteilung ein Spektrometer aufweist.Device according to one of claims 19 to 23, wherein the device ( 4 ) has a spectrometer for measuring the layer thickness distribution. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 24, wobei die Einrichtung zum Variieren der Viskosität eine Einrichtung zum Variieren der Viskosität am Rand des Substrats (2) aufweist.Apparatus according to any one of claims 19 to 24, wherein the means for varying the viscosity comprises means for varying the viscosity at the edge of the substrate ( 2 ) having. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 25, wobei die Steuereinrichtung (5) ferner die Rotationsgeschwindigkeit des Substratträgers (1') in Abhängigkeit der gemessenen Schichtdickenverteilung steuert.Device according to one of claims 19 to 25, wherein the control device ( 5 ) Furthermore, the rotational speed of the substrate carrier ( 1' ) depending on the measured layer thickness distribution controls. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 26, mit einer Einrichtung zum Verringern der Viskosität der Flüssigkeit am Rand des Substrats (2).Device according to one of claims 19 to 26, with a device for reducing the viscosity of the liquid at the edge of the substrate ( 2 ). Vorrichtung nach Anspruch 27, wobei die Einrichtung zum Verringern der Viskosität der Flüssigkeit am Rand des Substrats (2) einen Infrarotstrahler zum Bestrahlen des Randes des Substrats (2) mit einem fokussierten Infrarotstrahl aufweist.Apparatus according to claim 27, wherein the means for reducing the viscosity of the liquid at the edge of the substrate ( 2 ) an infrared radiator for irradiating the edge of the substrate ( 2 ) with a focused infrared beam.
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