DE102005045895B3 - CMOS Röntgenflachdetektor - Google Patents
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Abstract
Bereitgestellt wird ein großflächiger CMOS Röntgenflachdetektor. Dieser besteht aus einer Mehrzahl von CMOS-Detektorchips (10, 48), die auf einem Substrat (32) gebuttet aufgebracht sind. Dargestellt werden zwei mögliche alternative Ausführungsformen der CMOS-Detektorchips. Bei der ersten Ausführungsform sind Ansteuer- und Ausleseelemente (14, 20, 22) jeweils an zwei von vier Kanten des Chips vorgesehen. Werden hierbei die Anschlussleitungen zur ersten Kante hingeführt, ist eine Ausführungsform ermöglicht, bei der mehr als vier solcher CMOS-Detektorchips nebeneinander aufgebracht sind. DOLLAR A Bei einer alternativen Ausführungsform sind sämtliche Ansteuerungen und Auslegungen von einer ersten Kante (50) aus ermöglicht, so dass hier mindestens sechs solche CMOS-Detektorchips nebeneinander auf dem Substrat aufgeklebt werden können.
Description
- Die Erfindung betrifft einen großflächigen Röntgenflachdetektor auf der Grundlage von CMOS-Technologien.
- Digitale Detektoren halten immer mehr Einzug in der medizinischen Röntgenbildgebung. Sehr verbreitet sind digitale Röntgenflachdetektoren auf der Grundlage von amorphem Silizium. In dem amorphen Silizium sind Fotoelemente ausgebildet, die detektorelementsweise Signale entstehen lassen. Auf dem amorphen Siliziumchip ist eine Schicht aus Cäsiumjodid als Szintillator aufgebracht, welcher auf dem Detektor einfallendes Röntgenlicht in sichtbares Licht für die Fotoelemente auf dem amorphen Silizium-Chip umwandelt.
- Gegenüber Chips aus amorphem Silizium würden CMOS-Technologien eine Reihe von Verbesserungen ermöglichen. Beispielsweise könnten Verstärker auf dem Detektorelement vorgesehen sein, welche das Signal-zu-Rausch-Verhältnis verbessern. Eine automatische Dosismessung (AEC, Automatic Exposure Control) kann auf dem Chip integriert werden. Die Detektoren können zählende Detektoren sein.
- Die CMOS-Technologie hat allerdings auch den Nachteil, dass sie, bezogen auf die Fläche, sehr teuer ist. Die bekannte Kostenreduktion bei Computerchips ist darauf zurückzuführen, dass die Chips immer kleiner werden. Röntgenflachdetektoren sind aber von ihrer Größe her durch die Fläche der durch die Röntgentechnik abzubildenden Organe (Thorax, Schädel, etc.) bestimmt. An sich notwendig wäre ein großflächiger CMOS-Detektor mit einer Fläche von 43 × 43 cm2. Die größten Flächen der heute modernsten Anlagen erreichen jedoch nicht mehr als Wafer-Durchmesser von etwa 30 cm (12 inch), wodurch man eine maximale quadratische Fläche von etwas mehr als 20 × 20 cm2 erhält.
- Aus der
US 5,528,043 A , derDE 698 19 935 T2 , der US 2003/0200655 A1 und derEP 0 700 582 B1 sind jeweils Röntgenflachdetektoren bekannt, bei denen eine Mehrzahl von rechteckigen CMOS-Detektorchips auf einem Substrat gebuttet aufgebracht werden. Die Technik des Buttings ist an sich auch von amorphen Siliziumchips her bekannt. Butting bedeutet, dass die Chips aufgeklebt werden und nahe aneinander gefügt werden. In dem genannten Stand der Technik werden solche rechteckigen CMOS-Detektorchips verwendet, die an einer ersten Kante Ansteuerelemente für die Ansteuerung von Detektorelementspalten auf dem Chip aufweisen und einer zweiten Kante senkrecht zur ersten Kante Ausleseelemente für das zeilenweise Auslesen von Detektorelementen aufweisen. An der dritten und vierten Kante sind Detektorelemente angeordnet. Das Butting erfolgt hierbei so, dass die CMOS-Detektorchips schindelartig aufeinander angeordnet sind. Jeweils ein Abschnitt eines Detektorchips, auf welchem Detektoren angeordnet sind, liegt über einem Abschnitt eines benachbarten anderen Detektorchips, auf dem Ausleseelemente angeordnet sind, so dass man bei Draufsicht auf den Detektor eine geschlossene Folge von Detektorelementen sieht. - Es ist Aufgabe der Erfindung, die CMOS-Technologie für die Herstellung eines verbesserten großflächigen CMOS-Röntgen-Flachdetektors zu nutzen.
- Die Erfindung geht von der Situation aus, dass eine Mehrzahl von CMOS-Detektorchips hergestellt wird, die auf einem Substrat gebuttet aufgebracht werden.
- Zur Erfindung gehört, dass die Elemente auf dem CMOS-Detektorchip in bestimmter Weise angeordnet sind, die ein Butting ermöglichen.
- Eine erfindungsgemäße Ausgestaltung der CMOS-Detektorchips nutzt die CMOS-Technologie dahingehend, dass an der zweiten bis vierten Kante des rechteckigen CMOS-Detektorchips jeweils Detektorelemente vorgesehen sind und nur an einer Kante gleichzeitig Ansteuer- und Ausleseelemente vorgesehen sind.
- Diese Ausführungsform lässt sich dadurch umsetzen, dass zu jedem Detektorelement ein Logikelement vorgesehen wird, das eine getaktete Ansteuerung der Detektorelemente Zeile für Zeile von der ersten Kante aus ermöglicht. Vorzugsweise ist auch hier wieder ein Multiplexer an der ersten Kante vorgesehen, der die spaltenweise Auslesung bei Vornahme der Taktung steuert. Durch Taktung einerseits und Multiplexen andererseits wird das Auslesen von Informationen aus den Detektorelementen von nur einer Seite aus ermöglicht.
- Solche CMOS-Detektorchips können paarweise in beliebiger Anzahl aneinander gefügt werden, so dass ein länglicher CMOS-Röntgenflachdetektor baubar ist. Entsprechend enthält der CMOS-Röntgenflachdetektor mindestens sechs CMOS-Detektorchips.
- Weiterhin gehört zur Erfindung ein CMOS-Röntgenflachdetektor gebildet aus einer Mehrzahl von rechteckigen CMOS-Detektorchips, die auf einem Substrat gebuttet aufgebracht sind, wobei auf jedem CMOS-Detektorchip mit vier Kanten (also einem rechteckigen Detektorchip) entsprechend den aus dem Stand der Technik bekannten CMOS-Detektorchips, an einer ersten Kante Ansteuerelemente für die Ansteuerung von Detektorelementspalten auf dem Chip vorgesehen und an einer zweiten Kante senkrecht zur ersten Kante Ausleseelemente für das zeilenweise Auslesen von Detektorelementen vorgesehen sind. An der dritten und vierten Kante des CMOS-Detektorchips sind Detektorelemente angeordnet.
- Die CMOS-Detektorchips sind schindelartig aufeinander angeordnet, wobei jeweils ein Abschnitt eines Detektorchips, auf welchem Detektoren angeordnet sind, über einem Abschnitt eines benachbarten anderen Detektorchips liegt, auf dem Ausleseelemente angeordnet sind, derart, dass man bei Draufsicht auf den Detektor eine geschlossene Folge von Detektorelemen ten sieht. Auf der schindelförmigen Anordnung ist ein Röntgenkonverter angeordnet, wobei erfindungsgemäß zwischen dem Röntgenkonverter und dem Chip Füllmaterial zur Anpassung an eine horizontal ebene Unterseite des Röntgenkonverters vorgesehen ist.
- Es werden die Ausleseelemente über einen Multiplexer auf dem Chip ausgelesen, dessen Anschlussleitungen von der ersten Kante her zugänglich sind. Damit entfallen Anschlüsse an der zweiten Kante.
- Es werden nun aus dem Stand der Technik bekannte Beispiele und bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung unter Bezug auf die Zeichnungen beschrieben, in der
-
1A eine Draufsicht auf einen aus vier Detektorchips bestehenden Röntgenflachdetektor entsprechend dem Stand der Technik zeigt und -
1B eine Seitenansicht des CMOS-Röntgenflachdetektors aus1A zeigt, -
2A eine Draufsicht auf einen CMOS-Röntgenflachdetektor gemäß einer Alternative der Erfindung zeigt, wobei die hierbei verwendete Butting-Technik insbesondere in2B veranschaulicht ist, und der Röntgenkonverter und das Füllmaterial nicht gezeigt werden, wobei -
2B eine Seitenansicht des CMOS-Röntgenflachdetektors aus2A darstellt, -
3 eine Draufsicht auf einen CMOS-Röntgenflachdetektor gemäß der Erfindung darstellt und -
4 einen einzelnen CMOS-Detektorchip zur Umsetzung der Ausführungsform gemäß3 mit weiteren Details veranschaulicht. - Wie aus dem Stand der Technik bekannt werden die CMOS-Detektorchips, um ein Butting von CMOS-Detektorchips zu ermöglichen, ausgestaltet, wie es in
1A gezeigt ist: Lediglich an einer ersten und zweiten Kante sind Ansteuer- bzw. Ausleseelemente vorgesehen, an einer dritten und einer vierten Kante sind Detektorelemente vorgesehen. - Auf einem CMOS-Detektorchip
10 ist eine erste Kante12 vorgesehen, an der Ansteuerelemente14 bereitgestellt sind, welche einzelne Spalten von Detektorelementen16 auf dem Chip ansteuern können. Da nur eine Spalte jeweils zeitgleich angesteuert wird, genügt eine Auslesung, welche zeilenweise funktioniert, wobei dann das Element aus der jeweiligen Zeile und der jeweiligen Spalte ausgelesen werden kann. Zur Auslesung sind an einer zweiten Kante18 des Chips10 Ausleseverstärker20 vorgesehen, welche über einen Multiplexer22 ausgelesen werden. Eine Anschlussleitung24 zum Auslesen des Multiplexers22 ist zur ersten Kante12 hingeführt, an der sich gleichzeitig die Zuleitungen26 für die Ansteuerelemente14 befinden. Somit sind sämtliche Leitungen zu und von dem Chip10 von der ersten Kante12 her zugänglich, also lediglich von vier Seiten aus. - Die Detektorelemente
16 erstrecken sich auf dem Chip bis hin zu einer dritten Kante28 einerseits und zu einer vierten Kante30 andererseits. Vier Chips10 ,10' ,10'' und10''' sind somit über ein Butting aneinanderfügbar, wobei sich eine nahezu geschlossene Fläche aus Detektorelementen16 ergibt, die lediglich durch einen kleinen „Klebstoffgraben" getrennt sind. Dargestellt ist in1A ein solches Butting, bei dem keine Detektorzeile oder Detektorspalte fehlt. Die einzelnen Detektorelemente16 der Chips10 ,10' ,10'' ,10''' fügen sich somit zu einer geschlossenen CMOS-Röntgenflach-detektorfläche zusammen. Falls die Schnittkanten nicht so nahe an die Detektoren gesetzt werden können, kann in der CMOS-Röntgenflachdetektorfläche auch eine Leerspalte oder Leerzeile vorgesehen sein. -
1B veranschaulicht eine Seitenansicht des CMOS-Röntgenflachdetektors aus1A . Hierbei ist mit32 ein Substrat gekennzeichnet, auf dem CMOS-Chips10 und10''' aufgeklebt sind. Zwischen den Chips10 bzw.10''' und dem Substrat32 befindet sich der Butting-Klebstoff34 . Dieser befindet sich auf der Oberfläche des Substrats32 . Lediglich im Bereich der eigentlichen Buttingzone34 , d.h. an der Kante30 des ersten Chips10 und der entsprechenden Kante des zweiten Chips10''' kann der Klebstoff zwischen die beiden Chips10 und10''' gelangen. Dies ist mit schwarzer Darstellung angedeutet. - Auf den einzelnen Chips
10 ,10''' befindet sich, eine geschlossene Schicht bildend, der Röntgenkonverter (Szintillator)36 . - Unter dem Substrat befindet sich ein Elektronik-Board
38 , auf das die Anschlüsse geführt sind. Die gesamte Anordnung umgibt ein Detektorgehäuse40 , aus dem Zuleitungen herausgeführt sind, welche eine Schnittstelle42 zum Elektronik-Board38 hin, also letztlich zu den Zuleitungen24 und26 hin, bilden. - Die Ausbildung der Chips derart, dass die Zuleitungen alle von einer Kante
12 her zugänglich sind, ist insbesondere vorteilhaft dafür verwendbar, eine besondere Art des Buttings vorzusehen, welches in2 veranschaulicht ist und aus dem Stand der Technik bekannt ist. - Wie in
2B in der Seitenansicht besonders gut zu sehen ist, werden dieselben Detektorchips10 , wie sie aus1 bekannt sind, nunmehr schindelförmig aufeinander angeordnet. Hierbei liegt jeweils ein Abschnitt mit einer Kante, an der Detektorelemente16 angeordnet sind, über einem Abschnitt, an dem die Ausleseverstärker20 und der Multiplexer22 angeordnet sind. Somit werden die Ausleseverstärker20 und der Multiplexer22 verdeckt. Dadurch bildet sich eine geschlossene Fläche von Detektorelementen, wie sie in2A gezeigt ist. Insbesondere können auf diese Weise auch mehr als vier CMOS- Detektorchips10 auf einem Substrat32 angeordnet werden. Während immer zwei solche Chips10 und10' nebeneinander (in2A übereinander) anzuordnen sind, ist die Zahl der benachbart anzuordnenden Chips in der anderen Richtung, in2A , also seitlich gesehen, beliebig. Dargestellt ist in2A eine Gesamtanzahl von sechs Chips, wobei theoretisch auf der rechten Seite weitere Chips eingefügt werden könnten. - Genutzt wird hierbei insbesondere die Tatsache, dass die Leitung
24 von dem Multiplexer22 jeweils seitlich zur ersten Kante12 hinweggeführt ist, so dass ein mittiger Chip10'' (siehe2A ) mit drei Seiten an andere Chips angrenzen kann, zumindest in der Draufsicht. - Um die Chips
10 in der in2B gezeigten schindelförmigen Anordnung zu halten, muss der Klebstoff34 die Anordnung stabilisieren. Gezeigt ist hier, dass der Klebstoff jeweils rampenförmig unter den einzelnen Chips10 angeordnet ist. Erfindungsgemäß wird auf den Übergang zum Röntgenkonverter36 Füllmaterial44 eingebracht, welches den Übergang zu einer horizontal ebenen Unterseite46 des Röntgenkonverters schafft. Im gezeigten Fall besteht das Füllmaterial aus einem anderen Material als der Röntgenkonverter, beispielsweise kann es sich um optisch durchlässigen Klebstoff handeln, wenn ein Indirekt-Röntgenkonverter, beispielsweise aus Cäsiumjodid, verwendet wird. - Das Füllmaterial muss die Anforderung erfüllen, dass es stabil genug ist, den Röntgenkonverter zu halten und andererseits die Signalauswertung oder Signalausbreitung nicht behindert. Wird ein Direkt-Röntgenkonverter verwendet, so kann das Füllmaterial jedoch auch aus demselben Material wie der Direkt-Röntgenkonverter oder aus einem leitenden Material bestehen. Besteht das Füllmaterial aus demselben Material wie der Direkt-Röntgenkonverter hat naturgemäß dieser keinen wirklich getrennten horizontal ebenen Abschluss mehr.
-
3 veranschaulicht nun eine erfindungsgemäße Alternative der Bereitstellung für das Butting geeigneter CMOS-Detektorchips. Einzeln ist ein solcher Chip in4 dargestellt. Der einzelne CMOS-Detektorchip48 zeichnet sich dadurch aus, dass lediglich an einer einzigen Kante des rechteckigen CMOS-Detektorchips Ansteuer- und Ausleselemente (gleichzeitig) vorgesehen sind, wobei an der zweiten bis vierten Kante jeweils Detektorelemente vorgesehen sind. Hierbei ist die erste Kante mit50 bezeichnet, und die zweite Kante, an der Detektorelemente vorgesehen sind, ist mit52 bezeichnet, die dritte Kante, an der Detektorelemente vorgesehen sind, ist mit54 bezeichnet, und die vierte Kante, an der Detektorelemente vorgesehen sind, ist mit56 bezeichnet. Unter „an der Kante vorgesehen sind" wird hier verstanden, dass die Detektorelemente zu Detektorelementen auf einem benachbart gebutteten Chip im üblichen Detektorabstand angebracht sein können. - Insbesondere sind in
4 Logikelemente und Schalttransistoren mit58 bezeichnet, welche ausreichend wenig Platz verbrauchen, um ein Detektorelement60 noch als eigentlich an der Kante56 befindlich anzusehen. In der Darstellung gemäß3 ist der seitliche Abstand von zwei Detektorelementen60 voneinander nämlich nicht größer als der Abstand von einem Detektorelement60 auf dem Chip48 zu einem Detektorelement60' auf dem Chip48' . Es kann auch hier jedoch vorkommen, dass bei Schnittkanten, welche nicht so nahe an die Detektoren an dem Rand gesetzt werden können, in der CMOS-Röntgenflachdetektorfläche eine Leerzeile oder Leerspalte vorgesehen werden müssen. - Die Ansteuerlogikelemente und Schalttransistoren
58 ermöglichen insbesondere eine getaktete Ansteuerung der einzelnen Detektorzeilen. Über eine erste Leitung62 werden diese Ansteuersignale von einem Ansteuerelement64 aus zu den Logikelementen58 gesendet. Eine Abfrage erfolgt dann spaltenweise über zweite Leitungen65 , die Ausleseverstärker66 , und einen Auslesesignal-Multiplexer68 . Die Zuleitung zu dem Elektro nik-Board kann an einer einzigen Stelle erfolgen und ist im Bild gemäß4 mit70 bezeichnet. Die Ausführungsform gemäß3 bzw.4 nutzt die CMOS-Technologie in besonderer Weise dazu, einen CMOS-Detektorchip bereitzustellen, der insbesondere gut gebuttet werden kann. Aus der Technik mit amorphem Silizium ist die Verwendung von Ansteuerlogikelementen und Schalttransistoren wie den Elementen58 passend zu den Detektorelementen (Fotoelementen)60 so nicht bekannt. Auch hier ist es möglich, in einer Dimension (in3 von oben nach unten) zwei benachbarte CMOS-Detektorchips anzuordnen, in der anderen Dimension (in3 von links nach rechts) jedoch eine beliebige Anzahl von CMOS-Detektorchips. Die Realisierung eines großflächigen CMOS-Röntgenflachdetektors ist dadurch erleichtert.
Claims (9)
- CMOS-Röntgenflachdetektor mit einer Mehrzahl von rechteckigen CMOS-Detektorchips (
10 ,10' ,10'' ,10''' ;48 ,48' ), die auf einem Substrat (32 ) gebuttet aufgebracht sind, dadurch gekennzeichnet, dass nur an einer Kante (50 ) der rechteckigen CMOS-Detektorchips (48 ) Ansteuer- (64 ) und Ausleseelemente (68 ) vorgesehen sind und an der zweiten bis vierten Kante jeweils Detektorelemente (60 ) vorgesehen sind. - CMOS-Röntgenflachdetektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zu jedem Detektorelement (
60 ) ein Logikelement (58 ) vorgesehen ist, das eine getaktete Ansteuerung der Detektorelemente (60 ) Zeile für Zeile von der ersten Kante (50 ) aus ermöglicht, und dass vorzugsweise ein Multiplexer an der ersten Kante (50 ) die spaltenweise Auslesung bei Vornahme der Taktung steuert. - CMOS-Röntgenflachdetektor nach Anspruch 1 oder 2, mit mindestens sechs CMOS-Detektorchips.
- Rechteckiger CMOS-Detektorchip, bei dem nur an einer Kante (
50 ) Ansteuer- und Ausleseelemente (64 ,68 ) vorgesehen sind und an der zweiten bis vierten Kante jeweils Detektorelemente (60 ) oder zu den Detektorelementen jeweils einzeln zugehörige Einheiten (58 ) vorgesehen sind. - Rechteckiger CMOS-Detektorchip (
48 ) nach Anspruch 4, bei dem zu jedem Detektorelement (60 ) ein Logikelement (58 ) vorgesehen ist, das eine getaktete Ansteuerung der Detektorelemente Zeile für Zeile von der ersten Kante (50 ) aus ermöglicht, und dass vorzugsweise ein Multiplexer (68 ) an der ersten Kante die spaltenweise Auslesung bei Vornahme der Taktung steuert. - CMOS-Röntgenflachdetektor mit einer Mehrzahl von rechteckigen CMOS-Detektorchips (
10 ,10' ,10'' ,10''' ;48 ,48' ), die auf einem Substrat (32 ) gebuttet aufgebracht sind, wobei auf jedem rechteckigen CMOS-Detektorchip (10 ) an einer ersten Kante (12 ) Ansteuerelemente (14 ) für die Ansteuerung von Detektorelementspalten auf dem Chip vorgesehen sind und an einer zweiten Kante (18 ) senkrecht zur ersten Kante Ausleseelemente (20 ) für das zeilenweise Auslesen von Detektorelementen (16 ) vorgesehen sind, und dass an der dritten und vierten Kante Detektorelemente (16 ) angeordnet sind, und wobei die CMOS-Detektorchips (10 ) schindelartig aufeinander angeordnet sind, wobei jeweils ein Abschnitt eines Detektorchips (10 ), auf welchem Detektoren (16 ) angeordnet sind, über einem Abschnitt eines benachbarten anderen Detektorchips liegt, auf dem Ausleseelemente (20 ) angeordnet sind, derart, dass man bei Draufsicht auf den Detektor eine geschlossene Folge von Detektorelementen (16 ) sieht, wobei auf der schindelförmigen Anordnung ein Röntgenkonverter (36 ) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Röntgenkonverter (36 ) und dem Chip (10 ) Füllmaterial (44 ) zur Anpassung an eine horizontal ebene Unterseite (46 ) des Röntgenkonverters vorgesehen ist. - CMOS-Röntgenflachdetektor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleselemente (
20 ) über einen Multiplexer (22 ) auf dem Chip (10 ) ausgelesen werden, dessen Anschlussleitungen (24 ) von der ersten Kante (12 ) her zugänglich sind. - CMOS-Röntgenflachdetektor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Indirekt-Röntgenkonverter (
36 ) verwendet wird, und dass das Füllmaterial (44 ) aus optisch durchlässigem Klebstoff besteht. - CMOS-Röntgenflachdetektor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Direkt-Röntgenkonverter verwendet wird, und dass das Füllmaterial aus demselben Material wie der Direkt-Röntgenkonverter oder aus einem leitenden Material besteht.
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US8822936B2 (en) * | 2007-10-04 | 2014-09-02 | Danmarks Tekniske Universitet | Detector for detecting particle radiation of an energy in the range of 150 eV to 300 keV, and a materials mapping apparatus with such a detector |
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JP2014139564A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-31 | Sony Corp | 撮像装置および電子機器 |
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CZ304899B6 (cs) * | 2013-08-30 | 2015-01-07 | České vysoké učení technické v Praze Ústav technické a experimentální fyziky | Detektor ionizujícího záření umožňující vytvoření souvislého digitálního obrazu |
CN103531601B (zh) * | 2013-10-24 | 2015-12-09 | 重庆大学 | 一种用于直接探测x射线的大面积cmos图像传感器 |
US9526468B2 (en) | 2014-09-09 | 2016-12-27 | General Electric Company | Multiple frame acquisition for exposure control in X-ray medical imagers |
WO2017214761A1 (en) * | 2016-06-12 | 2017-12-21 | Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. | Methods fordetermining misalignment of x-ray detectors |
JP7167060B2 (ja) * | 2017-05-01 | 2022-11-08 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 多層検出器 |
JP6877289B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2021-05-26 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置、放射線検出システム、及び放射線出装置の製造方法 |
CN112068178B (zh) * | 2019-06-10 | 2023-08-29 | 睿生光电股份有限公司 | 放射线感测装置 |
IT201900010638A1 (it) * | 2019-07-02 | 2021-01-02 | St Microelectronics Srl | Rilevatore di radiazione a scintillatore e dosimetro corrispondente |
CN110664422A (zh) * | 2019-09-09 | 2020-01-10 | 东软医疗系统股份有限公司 | 探测器模块、探测器及医疗成像设备 |
US11253212B2 (en) * | 2020-01-07 | 2022-02-22 | General Electric Company | Tileable X-ray detector cassettes |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5528043A (en) * | 1995-04-21 | 1996-06-18 | Thermotrex Corporation | X-ray image sensor |
EP0700582B1 (de) * | 1993-05-28 | 1998-07-22 | Sarnoff Corporation | Pixelanordnung, welche die bilderzeugenden pixelelemente integral mit den peripheren schaltkreiselementen hat |
US20030200655A1 (en) * | 2002-04-23 | 2003-10-30 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Method for assembling tiled detectors for ionizing radiation based image detection |
DE69819935T2 (de) * | 1998-03-06 | 2004-11-11 | Simage Oy | Halbleiter-bildaufnahmevorrichtung |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4467342A (en) * | 1982-07-15 | 1984-08-21 | Rca Corporation | Multi-chip imager |
US4755681A (en) * | 1986-09-30 | 1988-07-05 | Shimadzu Corporation | Radiation image detecting apparatus with IC modules stacked stepwise |
FR2652655A1 (fr) * | 1989-10-04 | 1991-04-05 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif matriciel de grandes dimensions pour la prise ou la restitution d'images. |
US5886353A (en) * | 1995-04-21 | 1999-03-23 | Thermotrex Corporation | Imaging device |
US7136452B2 (en) * | 1995-05-31 | 2006-11-14 | Goldpower Limited | Radiation imaging system, device and method for scan imaging |
GB2315157B (en) * | 1996-07-11 | 1998-09-30 | Simage Oy | Imaging apparatus |
US5834782A (en) * | 1996-11-20 | 1998-11-10 | Schick Technologies, Inc. | Large area image detector |
EP1060414B1 (de) * | 1997-02-18 | 2003-11-19 | Simage Oy | Halbleiter-bildaufnahmevorrichtung |
US6362482B1 (en) * | 1997-09-16 | 2002-03-26 | Advanced Scientific Concepts, Inc. | High data rate smart sensor technology |
US7009646B1 (en) * | 1997-12-16 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Three-sided buttable CMOS image sensor |
DE19841419C2 (de) | 1998-09-10 | 2000-07-06 | Siemens Ag | Verfahren zum Korrigieren von zeilen- oder spaltenkorreliertem bzw. teilzeilen- oder teilspaltenkorreliertem Rauschen |
DE19914701B4 (de) * | 1999-03-31 | 2005-07-07 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor |
DE19934768A1 (de) * | 1999-07-23 | 2001-01-25 | Philips Corp Intellectual Pty | Detektor zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung |
FR2812089B1 (fr) * | 2000-07-21 | 2007-11-30 | Trixell Sas | Detecteur de rayonnement a duree de vie accrue |
DE10058388C1 (de) | 2000-11-24 | 2002-08-08 | Siemens Ag | Verfahren zum Betrieb eines Bildsystems einer bildgebenden medizinischen Untersuchungseinrichtung und medizinische Untersuchungseinrichtung |
DE10122876C2 (de) * | 2000-11-24 | 2003-08-21 | Siemens Ag | Verfahren zum Betrieb eines Bildsystems einer bildgebenden medizinischen Untersuchungseinrichtung und medizinische Untersuchungseinrichtung |
DE10135427A1 (de) * | 2001-07-20 | 2003-02-13 | Siemens Ag | Flächenhafter Bilddetektor für elektromagnetische Strahlen, insbesondere Röntgenstrahlen |
DE10239506A1 (de) * | 2002-08-28 | 2004-03-18 | Infineon Technologies Ag | Sensoranordnung zum Erfassen einer Strahlung, Computertomograph mit dieser Sensoranordnung und zugehöriges Herstellungsverfahren |
US7247858B2 (en) * | 2003-04-10 | 2007-07-24 | Agfa Healthcare, N.V. | Method for creating a contiguous image using multiple X-ray imagers |
-
2005
- 2005-09-26 DE DE102005045895A patent/DE102005045895B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-09-25 US US11/525,966 patent/US7622719B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0700582B1 (de) * | 1993-05-28 | 1998-07-22 | Sarnoff Corporation | Pixelanordnung, welche die bilderzeugenden pixelelemente integral mit den peripheren schaltkreiselementen hat |
US5528043A (en) * | 1995-04-21 | 1996-06-18 | Thermotrex Corporation | X-ray image sensor |
DE69819935T2 (de) * | 1998-03-06 | 2004-11-11 | Simage Oy | Halbleiter-bildaufnahmevorrichtung |
US20030200655A1 (en) * | 2002-04-23 | 2003-10-30 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Method for assembling tiled detectors for ionizing radiation based image detection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070069111A1 (en) | 2007-03-29 |
US7622719B2 (en) | 2009-11-24 |
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