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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung
zur Regelung der W-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung.
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In
einer Bewitterungsvorrichtung wird eine Bewertung des witterungsbedingten
Alterungsverhaltens einer Probe, insbesondere einer flächigen Werkstoffprobe,
durchgeführt,
wobei die Probe einer künstlichen
Bewitterung ausgesetzt wird. Die Bewitterungsvorrichtung weist zu
diesem Zweck üblicherweise
eine Bewitterungskammer auf, in welcher Halterungsmittel für die Halterung
von zu bewitternden Proben und eine oder mehrere Strahlungsquellen
zur Beaufschlagung der Proben mit Strahlung, insbesondere mit UV-Strahlung,
angeordnet sind.
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In
derartigen Vorrichtungen zur künstlichen Bewitterung
von Werkstoffproben soll zumeist die Lebensdauer von Werkstoffen
abgeschätzt
werden, die in ihrer Anwendung ständig den natürlichen
Wetterverhältnissen
ausgesetzt sind und sich somit unter klimatischen Einflüssen wie
Sonnenlicht, Sonnenwärme,
Feuchtigkeit und dergleichen verschlechtern. Um eine gute Simulation
der natürlichen
Witterungsgegebenheiten zu erhalten, ist es von Vorteil, wenn die
spektrale Energieverteilung des in der Vorrichtung erzeugten Lichtes
möglichst
derjenigen der natürlichen
Sonnenstrahlung entspricht, aus welchem Grund in solchen Geräten als
Strahlungsquelle Xenon-Strahler eingesetzt werden. Zusätzlich wird
eine zeitraffende Alterungsprüfung
der Werkstoffe im Wesentlichen durch eine gegenüber den natürlichen Verhältnissen
stark intensivierte Bestrahlung der Proben erzielt, wodurch die
Alterung der Proben beschleunigt wird. Somit lässt sich nach verhältnismäßig kurzer
Zeit eine Aussage über
das Langzeit-Alterungsverhalten einer Werkstoffprobe machen.
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Ein
Großteil
der in künstlichen
Bewitterungsgeräten
untersuchten Werkstoffproben besteht aus polymeren Werkstoffen.
Bei diesen wird die witterungsbedingte Verschlechterung im Wesentlichen durch
den UV-Anteil der Sonnenstrahlung hervorgerufen. Die dabei ablaufenden
fotochemischen Primärprozesse,
also die Absorption von Photonen und die Erzeugung angeregter Zustände oder
freier Radikale, sind temperaturunabhängig. Dagegen können die
nachfolgenden Reaktionsschritte mit den Polymeren oder Additiven
temperaturabhängig
sein, so dass die beobachtete Alterung der Werkstoffe ebenfalls
temperaturabhängig
ist.
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In
den bisher bekannten Bewitterungsvorrichtungen werden üblicherweise
eine Mehrzahl von UV-Strahlungsquellen wie Xenon-Strahlungsquellen eingesetzt. Mit diesen
kann bekanntermaßen
das Sonnenspektrum recht gut simuliert werden, wobei jedoch die
emittierte Strahlung einen relativ hohen Spektralanteil im infraroten
Spektralbereich aufweist. Innerhalb der Lebensdauer einer handelsüblichen Xenon-Strahlungsquelle
von ca. 1500 Stunden nimmt die emittierte W-Strahlungsleistung relativ
zu der zugeführten
elektrischen Leistung kontinuierlich ab. Um gleichwohl die W-Strahlungsleistung über die gesamte
Lebensdauer hinweg, insbesondere jedoch innerhalb eines Bewitterungsvorgangs,
konstant zu halten, wird in konventionellen Bewitterungsvorrichtungen
eine Regelung eingesetzt. Diese sieht vor, dass die von jeder UV-Strahlungsquelle
abgegebene Strahlungsleistung individuell durch einen W-Sensor gemessen
wird und dessen Ausgangssignal als Regelgröße für die der UV-Strahlungsquelle
zuzuführende
elektrische Leistung verwendet wird. Bei einem Rückgang der Strahlungsleistung
reagiert jeder der Regelkreise mit einer Erhöhung der zugeführten elektrischen
Leistung derart, dass wieder die ursprüngliche Strahlungsleistung
erzielt wird.
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Diese
individuelle Regelung der Strahlungsquellen besitzt den Vorteil,
dass die W-Strahlungsleistung sämtlicher
Strahlungsquellen auf ein und demselben Pegel zeitlich konstant gehalten
werden kann. Der Nachteil besteht jedoch darin, dass die üblicherweise
verwendeten Strahlungsquellen, insbesondere Xenon-Strahlungsquellen,
im Infrarot-Bereich nicht oder nicht so stark wie im UV-Bereich
degradieren. Die Beaufschlagung der Strahlungsquellen mit verschiedener
elektrischer Leistung zum Ausgleich der Unterschiede in der UV-Strahlungsleistung führt somit
dazu, dass die Strahlungsquellen unterschiedliche Strahlungsleistungen
im Infraroten emittieren. Dies bedeutet jedoch, dass die zu bewitternden
Proben unterschiedlich stark erwärmt
werden und sich verschiedene Temperaturen auf ihnen einstellen.
Aufgrund der oben erwähnten
Temperaturabhängigkeiten
der Alterung sind somit die Ergebnisse der Bewitterung nur noch
bedingt verlässlich.
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Ein
weiterer Nachteil der Beaufschlagung der Strahlungsquellen mit unterschiedlichen
elektrischen Leistungen besteht darin, dass die höher belasteten
Strahlungsquellen aufgrund der höheren
Belastung noch schneller altern und somit in einem sich verstärkenden
Prozess aufgrund der schnelleren Alterung noch höher mit elektrischer Leistung
beaufschlagt werden müssen.
Dies kann zu einer erheblichen Verkürzung von deren Lebensdauern
führen.
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Aus
der Druckschrift
US
5,220,840 A ist ein Verfahren zur Regelung der UV-Strahlungsquellen einer
Bewitterungsvorrichtung beschrieben, bei welchem die Strahlungsleistung
jeder der Strahlungsquellen gemessen und für die Regelung der den Strahlungsquellen
zuzuführenden
elektrischen Leistung herangezogen wird. Dabei werden zunächst die Strahlungsleistungen
der einzelnen Strahlungsquellen hinsichtlich eines quantitativen
Gesamtstrahlungsniveaus mit Hilfe eines Meister-Kalibriersensors eingestellt und diese
jeweiligen Einzelstrahlungsleistungen werden dann mit Hilfe der
jeweiligen Sensoren durch Regelung beibehalten.
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Aus
der Druckschrift
US
4,665,627 A sind ein Verfahren und eine Anordnung zur Regelung
der UV-Strahlungsquellen einer Filmaushärte-Vorrichtung bekannt, wobei
die Strahlungsleistung jeder der Strahlungsquellen von jeweils einem
UV-Sensor gemessen wird und eine Kontrolleinrichtung aus den gemessenen
Strahlungsleistungen Steuersignale für die den Strahlungsquellen
zuzuführende
elektrische Leistung erzeugt, sodass die Strahlungsleistung zeitlich
konstant bleibt.
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Es
ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und
eine Anordnung zur Regelung der Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung
anzugeben, die eine zufriedenstellende Regelung der Strahlungsquellen
bereitstellen, ohne dass Temperaturungleichgewichte auf den Proben erzeugt
werden und/oder die Lebensdauer der Strahlungsquellen übermässig verkürzt wird.
Insbesondere soll dem Auseinanderdriften der UV-Strahlungsleistungen
der Strahlungsquellen entgegengewirkt werden, ohne dass dadurch
Unterschiede in der Infrarot-Strahlungsleistung
hervorgerufen werden.
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Diese
Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen
und Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.
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Ein
wesentlicher Aspekt der Erfindung besteht darin, dass die mittlere
Strahlungsleistung der UV-Strahlungsquellen der Bewitterungsvorrichtung ermittelt
und für
die Regelung verwendet wird. Es werden somit die Strahlungsquellen
nicht mehr individuell geregelt, sondern es werden deren Strahlungsleistungen
detektiert, über
diese detektierten Strahlungsleistungen gemittelt und auf der Basis
der gemittelten Strahlungsleistung die Strahlungsquellen geregelt.
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Bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
wird somit die Strahlungsleistung jeder der Strahlungsquellen in
einem vorgegebenen spektralen Bereich der von den Strahlungsquellen
emittierten Strahlung gemessen, wobei der spektrale Bereich derart
gewählt
ist, dass die gemessene Strahlungsleistung für die Strahlungsleistung im
UV repräsentativ
ist. Dann wird aus den gemessenen Strahlungsleistungen eine gemittelte
Strahlungsleistung berechnet und die gemittelte Strahlungsleistung
wird für
die Regelung der den Strahlungsquellen zuzuführenden elektrischen Leistung
herangezogen.
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Bevorzugtermassen
wird die Strahlungsleistung der Strahlungsquellen direkt im UV-Bereich
gemessen. Dies kann in vorteilhafter Weise durch UV-Breitbandsensoren
mit einem Empfindlichkeitsbereich von 300 nm bis 400 nm geschehen.
Es können
aber auch Sensoren für
einen spektral kleineren Empfindlichkeitsbereich, beispielsweise
330-350 nm, gewählt
werden. Da die Strahlungsquelle derart beschaffen sein kann, dass
sie nicht nur im UV, sondern zumindest auch noch in einem Teilbereich
des angrenzenden sichtbaren Spektralbereichs emittiert, kann auch
die Strahlungsleistung ausserhalb des UV gemessen werden, beispielsweise
im sichtbaren blauen Spektralbereich durch einen Sensor mit einem
Empfindlichkeitsbereich von 410 nm bis 430 nm. Es kommt darauf an,
dass der spektrale Messbereich derart gewählt ist, dass die gemessene
Strahlungsleistung für
die Strahlungsleistung im UV, insbesondere für die über den gesamten UV-Bereich
integrierte Strahlungsleistung, repräsentativ ist. Insbesondere
kann ein festes Verhältnis zwischen
beiden Strahlungsleistungen bestehen, so dass die Strahlungsleistung
im UV jederzeit durch Multiplikation der Strahlungsleistung im Sichtbaren
mit einer Konstanten berechnet werden kann.
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Das
erfindungsgemäße Konzept
beinhaltet somit eine Regelung, bei der der Abfall in der W-Strahlungsleistung
einer einzelnen Strahlungsquelle nicht lediglich von dieser allein
kompensiert wird, sondern gleichsam die zu erbringende Kompensationsleistung
auf alle Strahlungsquellen gleichmäßig verteilt wird. Es kommt
nicht mehr darauf an, dass jede einzelne Strahlungsquelle konstante UV-Strahlungsleistung
liefert. Vielmehr ist entscheidend, dass die mittlere W-Strahlungsleistung
sich wie vorgegeben verhält,
insbesondere zeitlich konstant bleibt.
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Es
gibt dementsprechend auch nicht wie im Stand der Technik eine der
Anzahl der Strahlungsquellen entsprechende Anzahl von unabhängigen Regelkreisen,
sondern im Grunde gibt es nur noch einen gemeinsamen Regelkreis,
in dem die mittlere Strahlungsleistung die Messgröße ist und
deren Abweichung von einem Sollwert als Regelgröße für die Regelung aller Strahlungsquellen
verwendet wird. Diese werden somit stets untereinander nominell
mit der gleichen elektrischen Leistung beaufschlagt, die entsprechend
der Regelung zeitlich veränderlich
ist.
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Bevorzugtermaßen wird
somit die den Strahlungsquellen zuzuführende elektrische Leistung
derart geregelt, dass die gemittelte Strahlungsleistung zeitlich
konstant bleibt.
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Die
Regelung sollte derart durchgeführt
werden, dass den Strahlungsquellen untereinander die gleiche elektrische
Leistung innerhalb einer vorgegebenen Toleranzbandbreite zugeführt wird.
Diese Toleranzbandbreite kann beispielsweise ± 2% betragen.
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Die
Strahlungsleistungen der einzelnen Strahlungsquellen können in
regelmäßigen Zeitabständen gemessen
und daraus die mittlere Strahlungsleistung berechnet werden. Ein
inkrementelles Absinken der mittleren Strahlungsleistung veranlasst die
Regelung dazu, die elektrische Leistung der Strahlungsquellen gleichmäßig zu erhöhen, bis
wieder der ursprüngliche
Wert der mittleren Strahlungsleistung erreicht ist.
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Die
Detektion der Strahlungsleistung kann – wie bereits angedeutet – durch
Breitbandmessung im Bereich 300 bis 400 nm entsprechend dem IS-Standard
und entsprechend dafür
ausgebildeten UV-Sensoren erfolgen. Alternativ dazu kann sie auch
durch Schmalbandmessung im Bereich 330 nm bis 350 nm entsprechend
dem NB-Standard durchgeführt
werden. Ein weiterer im NB-Standard vorgesehener und für das erfindungsgemäße Verfahren
verwendbarer Messbereich ist der von 410 nm bis 430 nm, der außerhalb
des UV im sichtbaren Spektralbereich liegt.
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Eine
erfindungsgemäße Anordnung
zur Regelung der Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung
weist Sensoren zum Messen der Strahlungsleistungen der Strahlungsquellen
und eine Kontrolleinrichtung zum Berechnen einer gemittelten Strahlungsleistung
aus den gemessenen Strahlungsleistungen und zum Erzeugen von Steuersignalen
für die
den Strahlungsquellen zuzuführende
elektrische Leistung auf.
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Die
Kontrolleinrichtung weist Eingänge
auf, die mit den Ausgängen
der Sensoren verbunden sind und sie weist ferner Ausgänge auf,
die mit Steuereingängen
von Leistungsversorgungs-Einrichtungen
der Strahlungsquellen verbunden sind.
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Die
Erfindung bezieht sich ebenso auf eine Bewitterungsvorrichtung mit
einer Bewitterungskammer, UV-Strahlungsquellen und einer wie oben
beschriebenen Anordnung zur Regelung der Strahlungsquellen.
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In
der einzigen Zeichnungsfigur der Anmeldung ist ein Ausführungsbeispiel
für eine
erfindungsgemäße Anordnung
schematisch dargestellt.
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Eine
Bewitterungsvorrichtung weist eine Bewitterungskammer 1 auf,
in der zu untersuchende Werkstoffproben künstlichen Bewitterungsbedingungen
ausgesetzt werden können.
Zu diesem Zweck sind in der dargestellten Art von Bewitterungsvorrichtungen
in Öffnungen
einer Innenwand eine Mehrzahl von UV-Strahlungsquellen angebracht. Bevorzugtermaßen sind
die Strahlungsquellen wie im dargestellten Fall an einer der beiden
gegenüberliegenden,
flächenmäßig größten Innenwände der
Bewitterungskammer 1 angebracht. In der gegenüberliegenden Innenwand
können
die zu bewitternden Werkstoffproben (nicht dargestellt) angebracht
werden, wobei diese vorzugsweise branchenübliche Standardabmessungen
aufweisen und in entsprechend dimensionierten Aussparungen in dieser
Innenwand platziert werden. Die Werkstoffproben sind demnach den UV-Strahlungsquellen 2 gegenüberliegend
angeordnet. Von jeder der UV-Strahlungsquellen 2 wird ein
divergentes Strahlungsbündel
emittiert. Die Strahlungsbündel überlagern
sich gegenseitig in der Probenebene. Die Innenwände der Bewitterungskammer 1 sind
bevorzugtermaßen
mit einer stark UV-reflektierenden
Beschichtung wie einer Aluminium-Beschichtung versehen, um eine
optimale Ausnutzung der emittierten UV-Strahlung zu erhalten. In Probenebene
ergibt sich eine annähernd
homogene konstante UV-Strahlungsleistung.
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Die
W-Strahlungsquellen 2 werden insbesondere, jedoch nicht
ausschließlich,
durch Xenon-Strahlungsquellen gebildet. Deren relativ hoher Spektralanteil
im infraroten Spektralbereich ist – wie eingangs erwähnt – ein Teil
des Ausgangsproblems der vorliegenden Erfindung. Gewünschtenfalls
kann zusätzlich
ein Infrarot-Filter zwischen den Xenon-Strahlungsquellen und den
Proben angeordnet werden.
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Es
kommen jedoch auch andere Strahlungsquellen infrage, insbesondere
auch solche, bei denen die eingangs erwähnte Problematik der ungleichen
Infrarot-Strahlungsbelastung und somit ungleichen Wärmebeaufschlagung
der Proben keine oder keine so große Rolle spielt. Die Erfindung
wirkt sich auch bei solchen Strahlungsquellen insofern vorteilhaft
aus, als sie das ebenfalls eingangs erwähnte Problem der ungleichen
Beaufschlagung der Strahlungsquellen mit elektrischer Leistung löst. Beispielsweise
kann als Strahlungsquelle auch eine Halogenlampe, insbesondere eine
Metall-Halogenlampe, eingesetzt werden, wenngleich derartige Strahlungsquellen
etwas schwerer regelbar sind als Xenon-Lampen. Als Strahlungsquellen
sind auch Fluoreszenz-Lampen denkbar, wenngleich diese im Allgemeinen
kürzere
Lebensdauern als die zuvor erwähnten
Strahlungsquellen aufweisen. Des Weiteren können als Strahlungsquellen
auch UV-Lichtemissionsdioden, insbesondere solche auf GaN-Basis
eingesetzt werden, wobei die Infrarot-Problematik in diesem Fall
zur Gänze
bedeutungslos werden würde. Mit
GaN-LEDs kann mittlerweile der gesamte UV-Bereich des Sonnenspektrums
zufriedenstellender Weise abgedeckt werden. Die erreichbaren Strahlungsdichten
sind bereits so hoch, dass durch mehrfache Anordnung von UV-LEDs
die Strahlungsleistung einer konventionellen Xenon-Lampe problemlos
erreicht werden kann. Die in der Zeichnungsfigur dargestellten Strahlungsquellen 2 können somit
beispielsweise durch jeweils eine einzelne UV-LED oder ein Array
aus mehreren UV-LEDs gebildet sein.
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In
dem in der Zeichnungsfigur dargestellten Ausführungsbeispiel sind drei Strahlungsquellen 2 dargestellt.
Diese Anzahl ist jedoch für
die Erfindung ohne Bedeutung. Es können auch zwei Strahlungsquellen
oder mehr als drei Strahlungsquellen vorgesehen sein. Auch müssen diese
nicht notwendigerweise an ein und derselben Innenwand der Bewitterungskammer
angeordnet sein. Sie können
auch auf verschiedene Innenwände
verteilt sein. Insbesondere ist die Erfindung auch für andere
Arten von Bewitterungsvorrichtungen mit anderer Geometrie einsetzbar.
Die zu bewitternden Proben werden entweder auf die Bo denplatte der
Bewitterungskammer in geeignete Vertiefungen darin eingesetzt oder
in gleicher Weise in eine Aufnahmeplatte eingesetzt, die oberhalb
der Bodenplatte parallel zu dieser angeordnet und in geeigneter
Weise in der Bewitterungskammer befestigt ist.
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Erfindungsgemäß wird die
Strahlungsleistung jeder der Strahlungsquellen in einem vorgegebenen
spektralen Bereich gemessen. Diesem Zweck dienen im dargestellten
Ausführungsbeispiel UV-Sensoren 4,
wobei prinzipiell jeder Strahlungsquelle 2 ein W-Sensor 4 zugeordnet
ist. Diese UV-Sensoren 4 sind bevorzugtermaßen wie
dargestellt in Öffnungen
einer Seitenwand der Bewitterungskammer 1 derart eingesetzt,
dass sie schräg nach
oben auf die jeweils zugehörige
Strahlungsquelle 2 ausgerichtet sind. Sie sind vorzugsweise
für eine
Breitbandmessung in dem UV-Bereich 300 bis 400 nm gemäß dem IS-Standard
ausgelegt. Alternativ dazu können
sie jedoch auch gemäß dem NB-Standard für Schmalbandmessungen
in dem Bereich 340 nm (± 10
nm) oder in dem schon sichtbaren Bereich 420 nm (± 10 nm)
ausgelegt sein. In letzterem Fall würden sie jedoch nicht mehr
als UV-Sensoren bezeichnet werden.
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Die
UV-Sensoren 4 sind ausgangsseitig mit einer entsprechenden
Anzahl Eingängen
einer Kontrolleinrichtung 5 verbunden, an die sie die gemessenen
Werte der UV-Strahlungsleistung liefern. Die Kontrolleinrichtung 5 berechnet
den Mittelwert der von den UV-Sensoren 4 gemessenen und
gelieferten Strahlungsleistungen der Strahlungsquellen 2,
insbesondere also den arithmetischen Mittelwert.
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wobei
M die Anzahl der Strahlungsquellen 2, IN die
Strahlungsleistung der N-ten Strahlungsquelle 2 und N der
laufende Index der Strahlungsquellen 2 ist.
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Die
Kontrolleinrichtung 5 regelt die den Strahlungsquellen 2 zuzuführende elektrische
Leistung auf der Basis des von ihr berechneten Mittelwerts der Strahlungsleistungen.
Zu diesem Zweck ist sie mit den Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 der
Strahlungsquellen 2 verbunden. Jeder Strahlungsquelle 2 ist
eine eigene Leistungsversorgungs-Einrichtung 3, also eine
Spannungs- oder Stromquelle, zugeordnet. Jede Leistungsversorgungs-Einrichtung 3 weist
zudem einen Steuereingang auf und jeder der Steuereingänge der
Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 ist
mit einem entsprechenden Ausgang der Kontrolleinrichtung 5 verbunden.
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Die
von der Kontrolleinrichtung 5 durchzuführende Regelung kann beispielsweise
so erfolgen, dass ein von ihr anfänglich während des Betriebs der Bewitterungsvorrichtung
berechneter Mittelwert der Strahlungsleistung gespeichert und fortan
als Sollwert für
die mittlere Strahlungsleistung angesehen wird. Die Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 werden
dann derart angesteuert, dass sich stets dieser Sollwert der mittleren
Strahlungsleistung ergibt, somit für die Dauer des Betriebs der
Bewitterungsvorrichtung konstant gehalten wird. Falls somit eine
oder mehrere Strahlungsquellen 2 hinsichtlich ihrer W-Strahlungsleistung
degradieren, so wird von der Kontrolleinrichtung 5 eine
Abnahme der mittleren Strahlungsleistung festgestellt. Die Kontrolleinrichtung 5 übermittelt
darauf hin Steuersignale an die Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 derart,
dass diese die ihren jeweiligen Strahlungsquellen 2 zuzuführende elektrische
Leistung gleichmäßig erhöhen. Die
Kontrolleinrichtung 5 kann beispielsweise dafür ausgelegt
sein, dass sie aus der von ihr ermittelten Abnahme der mittleren
Strahlungsleistung berechnet, um welchen Betrag die von jeder der
Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 gelieferte elektrische Leistung
zur Wiederherstellung des Sollwerts der mittleren Strahlungsleistung
gesteigert werden muss. Zu diesem Zweck können in der Kontrolleinrichtung 5 die
Kennlinien der Strahlungsquellen 2 gespeichert sein.
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Es
kann ferner vorgesehen sein, dass die Kontrolleinrichtung 5 in
regelmäßigen Zeitabständen die
von den UV-Sensoren 4 gemessenen Strahlungsleistungen abfragt
und daraus einen Ist-Wert
der mittleren Strahlungsleistung berechnet. Falls dieser Ist-Wert
von dem Sollwert der mittleren Strahlungsleistung abweicht, insbesondere
um mehr als einen rauschbedingten Schwellwert abweicht, wird die
Regelung aktiviert und die Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 dazu
veranlasst, ihre abgegebene elektrische Leistung zu erhöhen oder
gegebenenfalls auch zu erniedrigen.
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Hinsichtlich
der Art der Regelung durch die Kontrolleinrichtung 5 kann
eine einfache Proportional-Regelung vorgesehen sein, bei der die
Erhöhung der
elektrischen Leistung proportional zu dem Betrag des Rückgangs
der mittleren Strahlungsleistung eingestellt wird. Insbesondere
um Schwingungen zu vermeiden, wie sie häufig bei derartigen Regelvorgängen auftreten,
kann jedoch auch in an sich bekannter Weise eine aufwändigere
Regelung, etwa eine Proportional-Integral-(PI-) Regelung oder eine Proportional-Integral-Differential-(PID-)
Regelung vorgesehen sein, bei der für die Ermittlung des den Leistungsversorgungs-Einrichtungen 3 zuzuführenden
Steuersignals nicht bloß eine
aktuell ermittelte Abweichung zwischen Sollwert und Ist-Wert der
mittleren Strahlungsleistung sondern auch zusätzlich zurückliegend ermittelte Werte
berücksichtigt
werden.
