CN1293772A - 正性辐射敏感性树脂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种正性光敏树脂组合物,该组合物具有高敏感性、高分辨能力并能形成无结渣且具有优异形状的图案。所述组合物包含光敏性酚醛清漆树脂,所述树脂是由碱溶性酚醛清漆树脂的酯与1,2－萘醌二叠氮化物－4－磺酸和其酯及1,2－萘醌二叠氮化物－5－磺酸组成的;其中1,2－萘醌二叠氮化物－4－磺酰基和5－磺酰基的重量比为5∶95～20∶80。

Description

正性辐射敏感性树脂组合物
发明领域
本发明涉及一种新的正性辐射敏感性树脂组合物，特别涉及一种包含辐射敏感性酚醛清漆树脂的正性辐射敏感性树脂组合物，这种组合物适用于生产半导体集成电路，产生在LCD仪表板中液晶显示装置的显示表面，适用于生产用于热位差等的电路衬底等的用途。
发明背景
在生产半导体集成电路如LSI、制备在LCD仪表板中液晶显示装置的显示表面、生产用于热位差等的电路衬底等用途的广泛领域中，照相平印术一直被用来形成微型元件或进行精细加工。在照相平印术中，采用正性或负型辐射敏感性树脂组合物形成抗蚀剂图案。这些辐射敏感性树脂组合物中，含有碱溶性树脂和醌二叠氮化物化合物的光敏剂的那些组合物是最常规采用的正性辐射敏感性树脂组合物。作为此类组合物，在许多文献中描述了具有不同配方的组合物，例如“酚醛清漆树脂／醌二叠氮化物”，所述文献例如为：JP已审专利公开第23570／1979号(US专利3，666，473)和第30850／1981号(US专利4，115，128)，JP未审专利公开第73045／1980号、第205933／1986号和第51459／1987等。
从同时考虑酚醛清漆树脂和光敏剂的观点出发，目前已深入研究了含酚醛清漆树脂及醌二叠氮化物化合物的那些组合物。并且，考虑到酚醛清漆树脂，业已开发出新的树脂。此外，通过改善常规已知树脂的性质也已获得了具有优异性能的辐射敏感性树脂。例如，现有技术已提供了具有优异性能的辐射敏感性树脂组合物，这些组合物包括：采用了具有特定分子量分布的酚醛清漆树脂的组合物，如JP未审专利公开第140235／1985号和第105243／1989号；使用经分馏从中除去树脂的低分子量组分的酚醛清漆树脂的组合物，如JP未审专利公开第97347／1985号和第189739／1985号以及JP专利公开第2590342号。考虑到光敏剂，人们已进行了多种尝试以开发新的醌二叠氮化物化合物和新的醌二叠氮化物磺酸盐。此外，还有人提出通过对特定的酚醛清漆树脂与醌二叠氮化物磺酸盐进行组合(例如JP专利公开第90622／1997号)或者对特定的溶解促进剂与碱溶性树脂如酚醛清漆树脂的醌二叠氮化物磺酸盐进行组合(如JP未审专利公开第69077／1998号)以对特性进行改进。上述的JP未审专利公开第90622／1997号和第69077／1998号均一般性地描述了如何通过使用在4位或5位上具有磺酸基团的醌二叠氮化物化合物来形成醌二叠氮化物磺酸盐，进而，还描述了这种在4位或5位上具有磺酸基团的醌二叠氮化物磺酸盐如何进行组合使用，但是，上述文献并未具体公开有关组合使用时的效果、其混合比例及具体的实施例。
由于各种技术的发展，目前有大量的正性辐射敏感性树脂组合物投入使用，辐射敏感性树脂涂层与被所分解的线宽度之间的厚度比例已改进至约5∶1。
另一方面，半导体集成电路的集成程度逐年增加，在其生产过程中，已要求线宽度低于亚微米级的图案加工技术。在要求这种超精细加工的应用场合，考虑到生产成本，不仅要求优异的图案再现性，而且应具备很高的分辨率，也就要求在生产中通过高敏化作用来改善生产能力(单体时间的产量)。但是，常规公知的辐射敏感性树脂组合物还不能同时满足这些要求，因而还存在一些问题。
在存在上述问题的前提下，本发明目的就是提供一种具有高敏感性和高分辨率并可形成优良图案的正性辐射敏感性树脂组合物。
发明描述
经过深入研究，本发明的发明人发现，在包含由碱溶性酚醛清漆树脂与萘醌二叠氮化物化合物间的酯化产物组成的辐射敏感性酚醛清漆树脂的正性辐射敏感性树脂组合物中，如果所述的由碱溶性酚醛清漆树脂与萘醌二叠氮化物化合物间的两种酯化产物组成的辐射敏感性酚醛清漆树脂在磺酸基团的取代位置不同，并且取代基的混合比例是在特定范围内，则形成的正性辐射敏感性树脂组合物具有高敏感性、高分辨率并能够形成优异的图案，这是从现有技术中不能预期的，在此发现的基础上完成了本发明。
因此，本发明涉及一种正性辐射敏感性树脂组合物，其包含碱溶性酚醛清漆树脂与邻萘醌二叠氮化物化合物间的部分酯化产物(辐射敏感性酚醛清漆树脂)，其中，所述的部分酯化产物包含1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯，与所述部分酯化产物相连接的4-磺酰基和5-磺酰基的重量比为5∶95～20∶80。
以下更详细地描述本发明。
用作制备本发明辐射敏感性酚醛清漆树脂原料的碱溶性酚醛清漆树脂为酚醛清漆型酚树脂，其是由酚之一或其混合物与醛如福尔马林进行缩聚生产的。酚与醛的缩聚反应可采用任一种常规已知的方法进行，例如采用草酸作为催化剂。
碱溶性酚醛清漆树脂可以是一种通过适宜的分离处理如再沉积过程从中除去低分子组分的树脂。低分子组分的脱除通常在碱溶性酚醛清漆树脂与萘醌二叠氮化物化合物进行反应之前进行。或者，在碱溶性酚醛清漆树脂与萘醌二叠氮化物化合物反应之后，将反应产物以与如上所述处理酚醛清漆树脂的分离过程相同的方式进行处理，从而，从反应产物中除去低分子组分，所获得的辐射敏感性酚醛清漆树脂与那些早先从其中除去低分子组分的酚醛清漆树脂类似。但是，考虑到安全性以及在分离处理时由于加热导致的辐射敏感性功能基团可能的失活，所述的分离处理优选在反应之前进行。如果采用经分离处理除去低分子组分的酚醛清漆树脂，有可能达不到所需的分辨率，因而，优选掺入预定的溶解抑制剂。
在本发明中，优选使用的碱溶性树脂的溶解速度为10～300／秒，按照“酚醛清漆树脂溶解速度测量方法”测得，测量采用2．38wt％的四甲基氢氧化铵进行。如果碱溶性酚醛清漆树脂的溶解速度低于10／秒，则这种酚醛清漆树脂可能会造成敏感性减少并且残存一些不能溶解的物质。此外，使用这种酚醛清漆树脂也很难达到高分辨率。如果溶解速度大于300／秒，则这种酚醛清漆树脂对于形成抗蚀剂图案来说不是优选的，其原因是使用这种酚醛清漆树脂时，在显影后，抗蚀剂膜厚度会减少很多，并且难以获得具有优异再现性和优异图案轮廓的抗蚀剂图案。
(酚醛清漆树脂溶解速度测量方法)
将20g的酚醛清漆树脂溶解于80g的乳酸乙酯／乙酸正丁酯(85／15)混合溶剂中，然后用0．5μm的聚四氟乙烯过滤器进行过滤。将形成的树脂溶液用旋涂器(LARC ULTIMA-1000，由Lithotec Japan Co．制备)涂敷至用HMDS处理过的4-英寸硅片上，在加热板上于100℃下烘烤90秒，形成1μm厚的抗蚀剂涂层。涂层的厚度通过膜厚度测量装置(Lambda Ace，由DainipponScreen Co．Ltd．制备)进行精确测量。此后，将所获得的硅片浸于碱性显影剂溶液中，AZ300MIF显影剂(2．38wt％的四甲基氢氧化铵水溶液)，所述显影剂由Clariant(Japan)K．K．于23℃下制得，测量在硅片上的树脂涂层完全溶解所需的时间。酚醛清漆树脂的溶解速度由涂层厚度及所测量的溶解时间计算。
作为用来生产上述碱溶性酚醛清漆树脂的酚，可以采用：甲酚，如邻甲酚、对甲酚和间甲酚；二甲酚，如3，5-二甲酚、2，5-二甲酚、2，3-二甲酚和3，4-二甲酚；三甲基苯酚，如2，3，4-三甲基苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、2，4，5-三甲基苯酚和3，4，5-三甲基苯酚；叔丁基苯酚，如2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚和4-叔丁基苯酚；甲氧基苯酚，如2-甲氧基苯酚、3-甲氧基苯酚、4-甲氧基苯酚、2，3-二甲氧基苯酚、2，5-二甲氧基苯酚和3，5-二甲氧基苯酚；乙基苯酚，如2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2，3-二乙基苯酚、3，5-二乙基苯酚，2，3，5-三乙基苯酚和3，4，5-三乙基苯酚；氯苯酚，如邻氯苯酚、间氯苯酚、对氯苯酚和2，3-二氯苯酚；间苯二酚，如间苯二酚、2-甲基间苯二酚、4-甲基间苯二酚和5-甲基间苯二酚；邻苯二酚如5-甲基邻苯二酚；焦没食子酚，如5-甲基焦没食子酚；双酚，如双酚A、B、C、D、E或F；羟甲基甲酚，如2，6-二羟甲基-对甲酚；萘酚，如α-萘酚、β-萘酚等。它们可以单独使用或以两种或多种的混合物使用。
作为醛，可以使用：水杨醛、低聚甲醛、乙醛、苯甲醛、羟基苯甲醛、氯乙醛等以及福尔马林。它们可以单独使用或以两种或多种的混合物使用。
另一方面，构成本发明辐射敏感性酚醛清漆树脂的1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯可以现有技术中任一种公知的方法来生产。其制备过程通常是，将1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰卤和／或1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰卤与如上所述的碱溶性酚醛清漆树脂一起溶解于一种溶剂中，随后在混合物中加入一种碱如三乙胺。由于反应基本上定量进行，因此，可调节用于反应体系中的1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰卤或1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰卤以控制酯取代基的量。
在本发明中，1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰卤的优选实施例包括：1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰氯，1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰卤的优选实施例包括1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯。
至于萘醌二叠氮化物化合物与碱溶性酚醛清漆树脂的反应取代比例，优选以所述酚醛清漆树脂的羟基基团的氢原子为基准为3．5～25mol％，更优选4～15mol％。如果反应取代比例低于3．5mol％，则几乎难以达到所需的分辨率，而当该值大于25mol％时，将会导致正性图案具有显影残余物并趋于形成较差的图案轮廓。
在本发明中，如上所述的1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰基和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰基优选以重量比例为5∶95至20∶80的混合物使用。如果1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰基的比例低于5％，则形成的组合物分辨率会较差，并且，在显影过程中，会产生浮渣，密纹特性也会变劣。另一方面，如果1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰基的比例超过20％，则图案的形状会变差。1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯的混合物可通过使相应的萘醌二叠氮化物与酚醛清漆树脂分别进行反应以生产1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯或1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯，随后将它们以预定的比例混合，或者使已按照预定比例混合的萘醌二叠氮化物与酚醛清漆树脂与酚醛清漆树脂反应。但是，优选采用前一种方法，其中，分别生产1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯，然后将它们混合。
用于溶解本发明辐射敏感性酚醛清漆树脂的溶剂包括：乙二醇单烷基醚，如，乙二醇单乙基醚；乙二醇单烷基醚乙酸酯，如乙二醇单甲基醚乙酸酯和乙二醇单乙基醚乙酸酯；丙二醇单烷基醚，如丙二醇单甲基醚和丙二醇单乙基醚；丙二醇单烷基醚乙酸酯，如丙二醇单甲基醚乙酸酯和丙二醇单乙基醚乙酸酯；乳酸酯，如乳酸甲酯和乳酸乙酯；芳族烃，如甲苯和二甲苯；酮如甲乙酮、2-庚酮和环己酮；酰胺如N，N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；内酯如γ-丁内酯。这些溶剂可以单独使用或以两种或多种的混合物使用。
如果需要的话，可在本发明的正性辐射敏感性树脂组合物中掺入包含如前所述1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯以外的醌二叠氮化物基团的光敏剂。这些光敏剂是通过使萘醌二叠氮化物磺酰卤或苯醌二叠氮化物磺酰卤与具有能够和这些磺酰卤进行缩合反应的官能团的低分子或高分子化合物反应获得的。可与磺酰卤缩合的官能团包括羟基、氨基等。其中，特别优选羟基。含有羟基的化合物包括：对苯二酚；间苯二酚；羟基苯醌，如2，4-二羟基二苯酮、2，3，4-三羟基二苯酮、2，4，6-三羟基二苯酮、2，4，4′-三羟基二苯酮、2，3，4，4′-四羟基二苯酮、2，2′，4，4′-四羟基二苯酮和2，2′，3，4，6′-五羟基二苯酮；羟基苯基烷烃，如双(2，4-二羟基苯基)甲烷、双(2，3，4-三羟基苯基)甲烷和双(2，4-二羟基苯基)丙烷；和羟基三苯基甲烷，如4，4′，3″，4″-四羟基-3，5，3′，5′-四甲基苯基甲烷和4，4′，2″，3″，4″-五羟基-3，5，3′，5′-四甲基三苯基甲烷。这些光敏剂可以单独使用或以两种或多种组合使用。
具有酚性羟基的低分子化合物可作为本发明的正性辐射敏感性树脂组合物中辐射敏感性树脂组合物的溶解抑制剂掺入。它们的说明性实施例为：4，4′，4″-次甲基三苯酚、2，6-双[(2-羟基-5-甲基苯基)甲基]-4-甲基苯酚、4，4′-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚、4，4′，4″-次乙基三苯酚、4-[双(4-羟基苯基)甲基]-2-乙氧基苯酚、4，4′-[(2-羟基苯基)亚甲基]双[2，3-二甲基苯酚]、4，4′-[(3-羟基苯基)亚甲基]双[2，6-二甲基苯酚]、4，4′-[(4-羟基苯基)亚甲基]双[2，6-二甲基苯酚]、2，2′-[(2-羟基苯基)亚甲基]双[3，5-二甲基苯酚]、2，2′-[(4-羟基苯基)亚甲基]双[3，5-二甲基苯酚]、4，4′-[(3，4-二羟基苯基)亚甲基]双[2，3，6-三甲基苯酚]、4-[双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)甲基]-1，2-苯二醇、4，6-双[(3，5-二甲基-4-羟基苯基)甲基]-1，2，3-苯三醇、4，4′-[(2-羟基苯基)亚甲基]双[3-甲基苯酚]、4，4′，4″-(3-甲基-1-亚丙-3-基)三苯酚、4，4′，4″，4″′-(1，4-亚苯基二次甲基)四苯酚、2，4，6-三[(3，5-二甲基-4-羟基苯基)甲基]-1，3-苯二醇、2，4，6-三[(3，5-二甲基-2-羟基苯基)甲基]-1，3-苯二醇、4，4′-[1-[4-[1-[4-羟基-3，5-双[(羟基-3-甲基苯基)甲基]苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双[2，6-双(羟基-3-甲基苯基)甲基]苯酚等。如果使用这些具有酚性羟基基团的低分子化合物，则它们的用量通常为2-20重量份，以100重量份辐射敏感性酚醛清漆树脂为基准。
如果需要的话，在本发明的正性辐射敏感性树脂组合物中还可掺入常规用作正性辐射敏感性树脂组合物添加剂的染料、粘合助剂、表面活性剂等。染料的实施例包括：甲基紫、结晶紫、孔雀石绿等；粘合助剂的实施例包括：烷基咪唑啉、丁酸、烷基酸(alkyl acid)、多羟基苯乙烯、聚乙烯基甲基醚、叔丁基酚醛清漆、环氧硅烷、环氧聚合物、硅烷等；表面活性剂的实施例包括：非离子表面活性剂，如聚乙二醇和其衍生物，如聚丙二醇、聚氧乙烯月桂基醚等，含氟表面活性剂，如Fluorad(商品名；由Sumitomo 3M Ltd．生产)、Megafac(商品名；由Dainnippon lnk＆Chemicals，lnc．生产)、Sulflon(商品名；由Asahi Glass Co．，Ltd．生产)或有机硅氧烷表面活性剂如KP341(商品名；Shin-EtsuChemical Co．，Ltd．)。
进而，本发明的正性辐射敏感性树脂组合物可与诸如TiN、SiN、SiON的无机抗反射涂料或诸如AZBARLi、AZBARLill[由Clariant(Japan)K．K．生产]的有机抗反射涂料组合使用。
本发明的正性辐射敏感性树脂组合物可通过旋涂法等涂敷至衬底如具有抗反射涂层的硅片上，将涂敷了辐射敏感性树脂组合物的衬底进行烘烤以形成辐射敏感性树脂涂层。在其上涂敷了辐射敏感性树脂涂层的衬底再进行辐射照射，如采用紫外线、远紫外线、X-射线或电子束，并用碱性显影溶剂进行显影，形成具有高分辨率和优异图案轮廓的抗蚀剂图案。
实施例
通过下述实施例进一步说明本发明，但是，所述实施例并非对本发明保护范围的限制。合成实施例1：合成酚醛清漆树脂A
将80g的间甲酚、120g的对甲酚、112g的37％的福尔马林水溶液及0．32g的草酸加至1L的可分开的烧瓶中，所述烧瓶备有搅拌器、冷凝器和温度计，在搅拌下加热至100℃，随后反应16小时。此后，将温度升温至200℃，将压力逐渐减至1mmHg以除去水、未反应的甲酚单体、甲醛、草酸等。然后，从烧瓶中取出熔化的酚醛清漆树脂，将其冷却至室温以固化，经回收反应产物。按照凝胶渗透色谱法(GPC)，在如下所述的条件下测量所获得的酚醛清漆树脂A的分子量。采用聚苯乙烯标准测得的酚醛清漆树脂A的重均分子量为6，800。通过上述“酚醛清漆树脂溶解速度测量方法”测得酚醛清漆树脂A对2．38wt％四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度为199／秒。
根据GPC测量酚醛清漆树脂
柱：GPC柱由Showa Denko K．K．制备(KF-804单柱、KF-
802双柱和KF-801单柱)
流动速度：  1．0ml／分
流动相：    四氢呋喃(THF)用作液相色谱级
柱温：      40℃
合成实施例2：合成辐射敏感性酚醛清漆树脂A
将60g的酚醛清漆树脂A、6．71g的1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰氯和250g的丙酮加入1L的三颈可分离烧瓶中，所述烧瓶备有搅拌器、滴液漏斗和温度计，搅拌直至完全溶解。然后，将烧瓶浸入冰浴中直至烧瓶内容物的温度降至15℃，撤去冰浴。然后，将3．83ml的三乙胺溶解于25ml的丙酮中并加入滴液漏斗中，再在1小时内滴加至烧瓶内的混合物中。在搅拌10分钟后，将烧瓶的内容物进行过滤以除去三乙胺盐酸盐。此后，在搅拌下再将滤液逐渐滴加至4，000ml的0．1N盐酸水溶液中，获得一种沉淀。将该沉淀用水洗涤，过滤，在40℃下减压干燥48小时，获得辐射敏感性酚醛清漆树脂A。
合成实施例3：合成辐射敏感性酚醛清漆树脂B
以与合成实施例2相同的方式进行合成，只是将1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰氯改为1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯，从而获得辐射敏感性酚醛清漆树脂B。
实施例1-5，比较例1-5
将50g的混合辐射敏感性酚醛清漆树脂(其中，在合成实施例2或3中制得的辐射敏感性酚醛清漆树脂A和B分别以下表1所示比例加入)和0．05g的表面活性剂Megafac R-08(由Dainippon Ink & Chemicals，Inc．生产)溶解于80g乳酸乙酯／乙酸正丁酯(85／15)的混合溶剂中。将这些溶液通过0．5μm的聚四氟乙烯过滤器过滤，获得实施例1-5和比较例1-5的正性辐射敏感性树脂组合物。
按照在以下的“辐射敏感性树脂组合物评价”中的方法，将所获得的实施例1-5和比较例1-5的正性辐射敏感性树脂组合物分别进行涂敷，曝光和显影，形成正性抗蚀剂图案，然后按照下述评价标准对其敏感性、分辨率、图案形式、结渣及密纹特性进行评价。结果示于表1。
(辐射敏感性树脂评价)
采用旋涂器将正性辐射敏感性树脂组合物涂敷至HMDS-处理过的4-英寸硅片上，所述旋涂器为由Lithotec Japan Co．制备的LARC ULTIMA-1000，对涂层于加热板上在110℃下预烘烤120秒，形成约6μm厚的抗蚀剂涂层。辐射敏感性树脂涂层的厚度采用膜厚测量装置进行测量，所述装置为由DainipponScreen Co．，Ltd制造的Lambda Ace。将硅片采用曝光波长为436nm(DSW6400，由GCA Co．，Ltd．制造，NA=0．42)的g-线曝光装置或曝光波长为365nm(LD-5015iCW，由Hjtachi Ltd．，制造，NA=0．50)的i-线曝光装置以逐步改变曝光量进行曝光。曝光后，将硅片浸入碱性显影剂(AZ300MIF显影剂，2．38wt％四甲基氢氧化铵水溶液)[由Clariant(Japan)K．K．制造]中于23℃下显影5分钟获得正性抗蚀剂图案。
(1)敏感性
“敏感性”是以曝光能量进行评价，即当使用g-线曝光装置时能够如通过标线图案所设计的形成分隔开的1．2μm的间隔所需的曝光能量，和为当使用i-线曝光装置时能够如通过标线图案所设计的形成分隔开的1．0μm的间隔所需的曝光能量。
(2)分辨率
通过如上(1)所述的曝光量可分辨的最小图案尺寸。
(3)图案形式
在扫描电镜(SEM)下观察硅片上抗蚀剂图案的分隔开的空间的截面形式，按照下述标准对图案形式进行评价：
○：未观察到涂层厚度减小，在由衬底起抗蚀剂涂层厚度2／3高度处的图案尺寸增加低于+10％，基于分隔开的空间的底部尺寸；
△：未观察到涂层厚度减小，图案尺寸增加为+10％至低于+15％：
×：图案尺寸增加+15％或更多，或者观察到涂层厚度有些减小。
(4)结渣(显影残余物)
在扫描电镜(SEM)下观察在临界分辨处分隔开的空间图案的图案形式，结渣按照下述标准进行评价；
○：在衬底上和在抗蚀剂图案界面处未观察到显影残余物。
△：轻微观察到显影残余物。
×：观察到大量的显影残余物。
(5)密纹
在扫描电镜(SEM)下观察在临界分辨处分隔开的空间图案的图案形式，按照下述标准评价密纹的存在。
○：在抗蚀剂图案与衬底界面处未观察到图案的下部切口(under-cut)。
△：观察到轻微的下部切口。
×：观察到大量的下部切口。
表1
辐射敏感性酚醛清漆树脂     敏感性(mJ／cm2)     分辨率(μm)     图案轮廓 结渣 密纹
A加入量 B加入量 g-线 i-线 g-线 i-线 g-线 i-线 g／i-线 g／i-线
实施例1     5．0     95．0     570     780     0．90     0．70     ○     ○     ○     ○
实施例2     7．5     92．5     570     780     0．90     0．70     ○     ○     ○     ○
实施例3     10．0     90．0     580     755     0．90     0．70     ○     ○     ○     ○
实施例4     15．0     85．0     610     750     0．90     0．75     ○     ○     ○     ○
实施例5     20．0     80．0     640     745     0．90     0．75     ○     ○     ○     ○
比较例1      -     100．0     560     770     1．00     0．80     ○     ○     ×     ×
比较例2     2．5     97．5     565     770     0．90     0．75     ○     ○     △     ○
比较例3     25．0     75．0     670     740     0．95     0．80     ○     △     ○     ○
比较例4     30．0     70．0     700     730     0．95     0．90     △     △     ○     ○
比较例5     50．0     50．0     820     710     0．95     1．00     △     △     ○     △
发明效果
如以上详细描述，通过采用特定比例的两种特定的萘醌二叠氮化物-磺酸酯，本发明的正性辐射敏感性树脂组合物可实现现有技术中不能预期的高敏感性、高分辨率、无显影残余物及能够形成优异的图案。并且，本发明的正性辐射敏感性树脂组合物可广泛地在生产半导体集成电路，制备在LCD仪表板中液晶显示装置的显示表面，生产用于热位差等的电路衬底等中用作抗蚀剂材料，在这些领域中，可以预期，微型化将会日益扩大。工业实用性
本发明的正性辐射敏感性树脂组合物可在生产半导体集成电路，制备在LCD仪表板中液晶显示装置的显示表面，生产用于热位差等的电路衬底等中用作抗蚀剂材料。

Claims (2)

1．一种正性辐射敏感性树脂组合物，其包含碱溶性酚醛清漆树脂与邻萘醌二叠氮化物化合物间的部分酯化产物，其中，所述的部分酯化产物包含1，2-萘醌二叠氮化物-4-磺酸酯和1，2-萘醌二叠氮化物-5-磺酸酯，与所述部分酯化产物相连接的4-磺酰基和5-磺酰基的重量比为5∶95～20∶80。
2．根据权利要求1的正性辐射敏感性树脂组合物，其中，碱溶性酚醛清漆树脂在2．38wt％的四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度为10～300／秒。
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