CN102917805A - 润滑性容器涂层、涂覆方法及设备 - Google Patents

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Abstract

在此提供了用于通过PECVD涂覆基底表面的一种方法，该方法包括从包括一种有机硅前体以及任选地O2的一种气态反应物产生一种等离子体。通过设置该气态反应物中O2与该有机硅前体的比率，和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率来设置该涂层的润滑性、疏水性和/或阻挡特性。具体地，提供了通过所述方法制造的一种润滑涂层。还提供了用所述方法涂覆的容器以及这些容器用于保护被容纳或接收在所述涂覆容器中的一种化合物或组合物免受该未涂覆容器材料的表面的机械和/或化学作用的用途。

Description

润滑性容器涂层、涂覆方法及设备
以下美国临时序列号：2009年5月13日提交的61/177,984、2009年7月2日提交的61/222,727、2009年7月24日提交的61/213,904、2009年8月17日提交的61/234,505、2009年11月14日提交的61/261,321、2009年11月20日提交的61/263,289、2009年12月11日提交的61/285,813、2010年1月25日提交的61/298,159、2010年1月29日提交的61/299,888、2010年3月26日提交的61/318,197、2010年5月11日提交的61/333,625、以及2010年11月12日提交的61/413,334、以及2010年5月12日提交的美国序列号12/779,007，都通过引用以其全部内容结合在此。
还通过引用以其全部内容结合在此的是以下欧洲专利申请：2010年5月12日提交的EP10162755.2、2010年5月12日提交的EP10162760.2，2010年5月12日提交的EP10162756.0、2010年5月12日提交的EP10162758.6、2010年5月12日提交的EP10162761.0、以及2010年5月12日提交的EP10162757.8。这些欧洲专利申请描述了装置、容器、前体、涂层以及方法（特别是涂层方法以及用于检验涂层的试验方法），这些方法通常可以用于进行本发明，除非在此另行说明。它们还描述了在此引用的S iOx阻挡涂层。
发明领域
本发明涉及储存生物活性化合物或血液的涂覆容器的制造的技术领域。例如，本发明涉及一种用于容器的涂覆的容器处理系统，用于容器的涂覆和检查的容器处理系统，涉及一种用于涂覆容器的内部表面的等离子体增强化学气相沉积装置，涉及一种用于涂覆容器内部表面的方法，涉及一种用于涂覆和检查容器的方法，涉及一种处理容器的方法，涉及一种容器处理系统的用途，涉及一种计算机可读介质并且涉及一种程序元件。
在此提供了用于通过PECVD涂覆基底表面的一种方法，该方法包括从包括一种有机硅前体以及任选地O2的一种气态反应物产生一种等离子体。还可以存在一种载气。通过设置该气态反应物中O2与该有机硅前体以及与该载气的比率，和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率来设置该涂层的润滑性、疏水性和/或阻挡特性。具体地，提供了通过所述方法制造的一种润滑涂层。还提供了用所述方法涂覆的容器以及这些容器用于保护被容纳或接收在所述涂覆容器中的一种化合物或组合物免受该未涂覆容器材料的表面的机械和/或化学作用的用途。进一步提供了用润滑涂层涂覆的表面以及用于生产所述润滑涂层的方法。
本披露还涉及改进的用于处理容器的方法，这些容器例如是用于静脉穿刺和其它医学采样、药物制剂储存和递送、以及其它目的的多个相同的容器。这样的容器被大量地应用于这些目的，并且对于制造而言必须是相对经济的并且在储存和使用中仍然是高度可靠的。
发明背景
关于注射器的一个重要考虑因素是，当把柱塞压进筒时确保它能以恒定的速度和恒定的力进行移动。为此目的，在筒和柱塞之一或两者上的一个润滑层是令人希望的。类似的考虑因素适用于必须通过塞子来关闭的容器以及该塞子本身，并且更普遍地适用于必须提供某种润滑性的任何表面。
当制造预充式注射器时要考虑其他考虑因素。预充式注射器通常是被准备好而出售的，因此这种注射器不需要在使用前进行填充。在一些实例中，可以用盐溶液、一种用于注射的染料、或一种药物活性制剂预填充注射器。
通常地，预充式注射器在远端是加帽的（正如带有一个帽），并且在近端通过它的拉动柱塞是封闭的。在使用之前可以将预充式注射器包装在一种无菌包装中。为了使用该预充式注射器，移开包装和帽，任选地将一个皮下针头或另一个递送导管附接到注射器筒的远端，将该递送导管或注射器移动到一个使用位置（如通过将皮下针头插入到病人的血管中或进入有待用该注射器的内容物进行冲洗的装置中），并且该柱塞在该筒中前进以注射该筒的内容物。
在制造预充式注射器过程中，一个重要的考虑是该注射器的内容物令人希望地将具有一个实质性的保质期，在此期间使填充该注射器的材料与含有该材料的筒壁隔离是重要的，以便避免来自该筒的浸出材料进入这些预填充的内容物中或者反之亦然。
因为许多的这些容器是价廉的并且已被大量使用，对于某些应用将有用的是，在没有将制造成本增加到一个高不可及的水平的情况下可靠地获得必要的保质期。几十年来，大多数肠胃外治疗剂是在I型医用级硼硅酸盐玻璃容器（如管形瓶或预充式注射器）中被递送到最终用户的。对于大多数药物产品而言，硼硅酸盐玻璃已经充分表现出相对坚固的、不可渗透的以及惰性的表面。然而，除了别的问题以外，最近昂贵、复杂以及敏感的生物制剂连同这样先进的递送系统（作为自动注射器）的出现已经暴露了玻璃的物理和化学缺陷（包括可能的来自金属的污染以及破损）。而且，玻璃含有一些在储存期间可以渗出并且造成对储存的材料的损害的成分。更详细地，硼硅酸盐容器呈现出许多缺陷：
玻璃是由砂制造的，这种砂含有多种元素（硅、氧、硼、铝、钠、钙）与痕量级的其它碱和土金属的不均匀混合物。I型硼硅酸盐玻璃由大约76%SiO2、10.5% B2O3、5%Al2O3、7%Na2O以及1.5%CaO组成并且通常含有痕量的金属，如铁、镁、锌、铜以及其它金属。硼硅酸盐玻璃的不均匀性质创造了分子水平的不均匀表面化学。用于制造玻璃容器的玻璃形成过程将这些容器的一些部分暴露于高达1200°C的温度。在这样高的温度下碱金属离子迁移到局部的表面并且形成氧化物。从硼硅酸盐玻璃设备排出的离子的存在可能涉及一些生物制剂的降解、聚集、以及变性。许多蛋白质和其它的生物制剂必须被冻干（冷冻干燥），因为它们在玻璃管形瓶或注射器的溶液中是不够稳定的。
在玻璃注射器中，硅油典型地被用作一种允许柱塞能够在筒中滑动的润滑剂。在蛋白质溶液（如胰岛素以及一些其它的生物制剂）的沉淀中已经包含硅油。此外，硅油涂层通常是不均匀的，这导致了注射器在市场中的失败。
玻璃容器在制造、填充操作、航运以及使用期间很容易破损或降解，这意味着玻璃微粒可以进入药物中。玻璃微粒的存在已经导致许多FDA警告信以及产品召回。
玻璃形成的过程没有产生一些比较新的自动注射器和递送系统所需要的紧密的尺寸公差。
其结果是，一些公司已经转向了塑料容器，这些容器提供了更大的尺寸公差以及比玻璃更不易破损但是缺乏玻璃容器的不渗透性。
尽管就破损、尺寸公差以及表面均匀性而言塑料要优于玻璃，但是塑料在初级药物包装的用途上依然是有限的，这是由于以下缺点：
表面特性：适合于预充式注射器和管形瓶的塑料通常呈现出疏水性表面，这常常降低了包含在设备中的生物药品的稳定性。
气体（氧气）渗透性：塑料允许一些小分子气体渗透进入（或离开）该设备。塑料对气体的渗透性显著地大于玻璃对气体的渗透性并且，在许多情况下（正如对氧气敏感的药物，如肾上腺素）由于这个原因，塑料是不可接受的。
水蒸气传输：塑料在比玻璃更大的程度上允许水蒸气通过设备。这可能对于一种固体（冻干的）药品的保质期是有害的。可替代地，一种液体产品在干燥的环境中可能失去水。
可浸出物和可提取物：塑料容器含有一些能够浸出或能被提取进入药物产品的有机化合物。这些化合物能够污染该药品和/或负面地影响该药品的稳定性。
明显地，虽然塑料和玻璃容器各自在药物初级包装中提供了某些优点，但是对于所有药品、生物制剂或其它治疗剂来说两者都不是最佳的。因此，对于塑料容器存在一种需求，尤其是与玻璃的特性接近的具有气体和溶质阻挡特性的塑料注射器。而且，对于具有足够的润滑特性并且与注射器内容物相容的润滑涂层的塑料注射器存在着一种需要。
一个非穷尽的可能相关的专利清单包括美国专利6,068,884和4,844,986以及美国公开申请20060046006和20040267194。
发明概述
本发明涉及涂覆有薄的、由有机硅前体制成的PECVD涂层的塑料容器，特别是管形瓶和注射器。这些新型装置提供了玻璃的优越阻挡特性以及塑料的尺寸公差和断裂抗性，还消除了这两种材料的缺陷。通过对PECVD工艺的针对性改良，可以按预期地改变该涂层的表面化学性。具体地，提供的等离子体涂层（SiOxCyHz）改善了润滑性（“润滑涂层”），因此消除了对传统硅油润滑剂的需要，例如在注射器中。本发明的另外的实施方案是用于影响所述涂层以及所得的涂覆的装置的疏水性/亲水性的方法。
本发明的一个具体实施方案是涂覆有SiwOxCyHz涂层的塑料（特别是COC）的注射器，该涂层对该注射器内部提供了润滑性，因此消除了来自传统硅油的可提取物。该润滑涂层可以位于注射器筒上、柱塞上（或其一个部分上，例如活塞的侧壁上）或二者上。所述注射器可以另外具有一个根据本发明通过PECVD制成的SiOx阻挡涂层。一个非常特别的实施方案是一种注射器，具有环烯烃共聚物（COC）筒、在所述筒的侧壁上的SiOx阻挡涂层、以及在所述阻挡层上的润滑层。一个SiOx阻挡涂层典型地为20至30nm厚。
在此描述的这些涂层是玻璃状的、但是不包含其他元素，如硼、钠、钙、铝和在玻璃中出现的杂质。
这些涂层具有不含在I型医学级硼硅酸盐玻璃中出现的有害元素和杂质的表面。该涂层是从等离子体沉积在塑料基底上，其利用了有机硅，从而产生一个均一的层。
本发明进一步涉及一种用于涂覆一个容器的容器处理系统，该系统包括被配置成用于进行以上和/或以下提及的方法步骤的一个处理站安排。在图12-14中描绘了此类处理站5501-5504的实例。
本发明进一步涉及一种计算机可读介质，其中存储了一个用于涂覆容器的计算机程序，当被一个容器处理系统的处理器执行时，该计算机程序被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统，使得它进行以上和/或以下提到的方法步骤。
本发明进一步涉及一种程序元件或用于涂覆容器的计算机程序，当被一个容器处理系统的处理器执行时，该计算机程序被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统，使得它进行以上和/或以下提到的方法步骤。
因此可以配备该处理器以进行本发明的方法的实施例。该计算机程序可以用任何适合的程序语言来编写，例如C++并且可以被存储在计算机可读介质上，如CD-ROM。并且，该计算机程序是可以从网络获得的，例如万维网（WorldWideWeb），可以把该计算机程序从该网络下载到一些图像处理单元或处理器或任何适合的计算机中。
在下文中对根据本发明的涂覆方法以及根据本发明的通过这些方法制造的涂覆的装置进行描述。这些方法可以在下面也将描述的设备（容器处理系统和容器支架）上进行。
PECVD涂覆方法
本发明涉及一种通过等离子体增强的化学气相沉积处理（PECVD）来制备涂层的方法，以及例如一种涂覆容器的内部表面的方法。
提供了一个表面（例如一个内部容器表面），还提供了一种反应混合物，该混合物包括一种有机硅化合物气体、任选地一种氧化性气体、任选地一种烃气体、以及任选地一种载气。为了制备一个润滑涂层，优选的是有机硅前体（例如OMCTS）、氧气和氩气的混合物。
使该表面与该反应混合物相接触。在反应混合物中形成等离子体。该涂层被沉积在该表面的至少一个部分（例如该容器内壁的一个部分）上。
该方法是如下实现的。
提供了一种前体。优选地，所述前体是一种有机硅化合物（在下面也指定为“有机硅前体”），更优选地是选自下组的一种有机硅化合物，该组由以下各项组成：线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、这些前体中任何一种的氮杂类似物（即，线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷）、以及这些前体的任何两种或更多种的组合。在通过PECVD有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。于是该前体被聚合、交联、部分地或完全地氧化、或这些的任何组合。
在本发明的一个方面，该涂层是一个润滑涂层，即它形成具有比未涂覆的基底更低的摩擦阻力的一个表面。
在本发明的另一个方面，该涂层是一种钝化涂层，例如一种疏水涂层，从而导致例如与该涂覆表面相接触的组合物的组分的更少沉淀。这样的疏水涂层的特征在于比未涂覆的对应物更低的湿润张力。
本发明的润滑涂层还可以是一种钝化涂层，并且反之亦然。
在本发明的一个进一步的方面，该涂层是一种阻挡涂层，例如一种SiOx涂层。典型地，该阻挡层是防气体或液体的，优选地是防水蒸气、氧气和/或空气的。还可以使用该阻挡层来建立和/或维持涂覆有该阻挡涂层的容器内部（例如一个采血管内部）的真空。
本发明的方法可以包括施加在相同或不同反应条件下由相同或不同有机硅前体通过PECVD制造的一个或多个涂层。例如，一个注射器可以首先使用HMDSO作为有机硅前体而涂覆一个SiOx阻挡涂层、并且随后使用OMCTS作为有机硅前体而涂覆一个润滑涂层。
润滑涂层
本发明在其主要方面提供了一种润滑涂层。
这种涂层是通过PECVD方法并且使用如上所述的前体而有利地制造的。用于该润滑涂层的一个优选的前体是单环硅氧烷，例如八甲基环四硅氧烷（OMCTS）。
例如，本发明提供了用于设置在基底表面上的一种涂层的润滑特性的一种方法，该方法包括以下步骤：
(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体以及任选地O2和任选地稀有气体（例如氩气）的一种气体；以及
(b)从该气体产生一种等离子体，因此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在该基底表面上形成一个涂层，其中该涂层的润滑特性是通过设置该气态反应物中O2与有机硅前体的比率、和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率、和/或通过设置该稀有气体与该有机硅前体的比率来进行设置的。
与未处理的基底相比，所产生的涂覆表面具有更低的摩擦阻力。例如，当该涂覆表面是注射器筒和/或注射器柱塞的内部时，该润滑涂层有效地提供了小于在该润滑涂层不存在时所需要的相应的力的起动力（breakoutforce）或柱塞滑动力或两者。
涂覆有润滑涂层的物品可以是在壁上（优选地在内壁上）具有润滑涂层的一种容器，例如一种注射器筒、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种注射器柱塞或一种容器帽。
该润滑涂层典型地具有化学式SiwOxCyHz。通常它具有原子比SiwOxCy，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，优选地w是1，x是从大约0.5至1.5，并且y是从0.9至2.0，更优选地，w是1，x是从0.7至1.2并且y是从0.9至2.0。该原子比可以通过XPS（X射线光电子光谱法）确定。考虑到H原子，因此该润滑涂层在一个方面可以具有式SiwOxCyHz，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，并且z是从大约2至大约9。典型地，在本发明的一个具体的润滑涂层中的原子比是Si 100:O 80-110:C 100-150。具体地，该原子比可以是Si 100:O 92-107:C 116-133，并且因此这种润滑涂层将含有36%至41%的碳（碳加氧加硅归一化为100%）。
钝化，例如疏水涂层
根据本发明的钝化涂层是例如一种疏水涂层。
用于钝化（例如疏水涂层）的一种优选的前体是一种线性硅氧烷，例如六甲基二硅氧烷（HMDSO）。
根据本发明的一种钝化涂层防止或减少了未涂覆的表面对包含在该容器中的化合物或组合物的机械和/或化学作用。例如，防止或减少了与该表面相接触的组合物的一种化合物或组分的沉淀和/或凝固或血小板激活，例如防止了血液凝固或血小板激活或胰岛素沉淀、或未涂覆表面被水性流体润湿。
本发明的一个具体方面是具有化学式SiwOxCyHz的疏水性涂层的一个表面。通常它具有原子比SiwOxCy，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，优选地w是1，x是从大约0.5至1.5，并且y是从0.9至2.0，更优选地，w是1，x是从0.7至1.2并且y是从0.9至2.0。该原子比可以通过XPS（X射线光电子光谱法）确定。考虑到H原子，因此该疏水性涂层在一个方面可以具有式S iwOxCyHz，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，并且z是从大约2至大约9。典型地，在本发明的一个具体的疏水性涂层中的原子比是Si 100:O 80-110:C 100-150。具体地，该原子比可以是Si 100:O 92-107:C116-133，并且因此这种涂层将含有36%至41%的碳（碳加氧加硅归一化为100%）。
涂覆有钝化涂层的物品可以是在壁上（优选地在内壁上）具有这种涂层的一种容器，例如一种管、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种容器帽。
容器的涂覆
当使用PECVD通过上述涂覆方法来涂覆容器时，该涂覆方法包括数个步骤。提供了一种容器，该容器具有一个开口端、一个闭合端、以及一个内部表面。将至少一种气态反应物引入该容器中。在有效形成该反应物的反应产物（即该容器的内部表面上的一个涂层）的条件下在该容器之内形成等离子体。
优选地，该方法是通过使该容器的开口端就位于如在此所述的一个容器支架上、在该容器支架与该容器的内部之间建立密封连通来进行的。在这个优选的方面，该气态反应物是通过该容器支架而引入该容器中的。在本发明的一个特别优选的方面，将包括一个容器支架、一个内部电极、一个外部电极、以及一个电源的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）装置用于根据本发明的涂覆方法。
该容器支架具有将一个容器接收在就位的位置中以进行处理的一个端口。该内部电极被定位为被接收在就位于一个容器支架上的容器之内。该外部电极具有一个内部部分，该内部部分被定位为接收就位于该容器支架上的一个容器。该电源将交流电输入到这些内部和/或外部电极上从而在就位于该容器支架上的容器中形成一种等离子体。典型地，该电源将交流电输入到该外部电极上，而该内部电极是接地的。在这个实施方案中，该容器限定了该等离子体反应室。
在本发明的一个具体方面，如前面段落中所述的PECVD装置包括一个并不必需包括真空源的放气管，用于将气体传递至就位在该端口上的容器的内部或者传递来自该容器的内部的气体，以限定一个闭合室。
在本发明的一个进一步的具体的方面，该PECVD装置包括一个容器支架、一个第一夹钳、在该容器支架上的一个座、一个反应物供应装置、一个等离子体发生器、以及一个容器释放装置。
该容器支架被配置为使一个容器的开口端就位。该第一夹钳被配置为选择性地保持以及释放容器的闭合端并且同时夹住该容器的闭合端，将该容器运送到该容器支架的附近。该容器支架具有一个座，该座被配置为在该容器支架与该第一容器的内部空间之间建立密封的连通。
该反应物供应装置被可操作地连接用于通过该容器支架将至少一种气态反应物引入到该第一容器之内。该等离子体发生器被配置为用于在该第一容器的内部表面上有效形成反应物的反应产物的条件下在该第一容器内形成等离子体。
该容器释放装置被提供为用于使该第一容器从该容器支架离位。一个夹钳（该夹钳是第一夹钳或另一个夹钳）被配置为轴向地运送该第一容器离开该容器支架并且然后释放该第一容器。
在本发明的一个具体方面，该方法是用于通过PECVD来涂覆容器的一个受限开口的内表面，该容器例如是一个大致管状的容器。该容器包括一个外表面、限定了一个内腔的一个内表面、具有内径的一个较大的开口、以及一个受限开口，该受限开口由一个内表面限定并且具有的内径小于该较大的开口的内径。提供了一种处理容器，该处理容器具有一个内腔以及一个处理容器开口。该处理容器开口与该容器的受限开口相连，以经由该受限开口建立该有待处理的容器的内腔与该处理容器内腔之间的连通。将有待处理的容器的内腔以及处理容器内腔之内抽成至少部分真空。使一种PECVD反应物流动通过该第一开口，然后通过有待处理的容器的内腔，然后通过该受限开口，然后进入该处理容器的内腔。在有效地将PECVD反应产物沉积到该受限开口的内表面上的条件下在该受限开口附近产生等离子体。
涂覆的容器以及容器部件
本发明进一步提供了从如上所述的方法产生的涂层、涂覆有所述涂层的表面、以及涂覆有所述涂层的容器。
涂覆有这种涂层的表面（例如容器壁或它的一部分）可以是玻璃或一种聚合物，优选地一种热塑性聚合物，更优选地选自下组的一种聚合物，该组由以下各项组成：聚碳酸酯、烯烃聚合物、环烯烃共聚物以及聚酯。例如，它是环烯烃共聚物（COC）、聚对苯二甲酸乙二酯或聚丙烯。对于注射器筒，尤其考虑COC。
在本发明的一个具体方面，该容器壁具有被至少一个外部聚合物层围绕的一个内部聚合物层。这些聚合物可以是相同的或不同的。例如，这些聚合物层之一为环烯烃共聚物（COC）树脂（例如，限定了一个水蒸气阻挡层），另一个聚合物层是聚酯树脂层。这样的容器是由包括通过同心的注射喷嘴将COC以及聚酯树脂层引入一个注塑模具中的方法来制造的。
本发明的涂覆容器可以是空的、抽空的或（预）填充有一种化合物或组合物的。
本发明的一个具体的方面是具有一种钝化涂层（例如如上所定义的一种疏水涂层）的容器。
本发明的一个进一步的具体方面是具有如上所定义的一个润滑涂层的表面。它可以是在壁上（优选地在内壁上）具有润滑涂层的一种容器，例如一种注射器筒、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种注射器柱塞或一种容器帽。
本发明的一个具体的方面是一种注射器，该注射器包括一个柱塞、一个注射器筒、以及在这些注射器部件之一或两者上（优选地在该注射器筒的内壁上）的如上所定义的一个润滑涂层。该注射器筒包括一个筒，该筒具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面。该润滑涂层可以被布置在该注射器筒的内部表面上、或接触该筒的柱塞表面上、或在所述表面两者上。该润滑涂层有效减少了对于在筒内移动柱塞所必需的起动力或柱塞滑动力。
本发明的一个进一步具体的方面是涂覆有如前面段落中所定义的润滑涂层的注射器筒。
在所述涂覆的注射器筒的一个具体的方面，该注射器筒包含一个筒，该筒定义了一个内腔并且具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面。该注射器筒有利地是由热塑性材料制成的。通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）将一个润滑涂层施加到该筒内部表面、该柱塞、或两者上。例如以有效减少该润滑涂层、该热塑性材料、或两者浸出到该内腔中的一个量，将一种溶质阻挡物（solute retainer）通过表面处理施加到该润滑涂层上。该润滑涂层与溶质阻挡物以有效提供起动力、柱塞滑动力、或两者（该力小于在缺乏润滑涂层与溶质阻挡物所需要的相应的力）的相对量构成并且存在。
本发明的又另一个方面是一种注射器，该注射器包括一个柱塞、注射器筒、以及内部以及外部涂层。该筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面以及一个外部表面。一个润滑涂层位于内部表面上，并且可以将SiOx（其中x是从大约1.5至大约2.9）的一个另外的阻挡涂层提供在该筒的内部表面上。例如可以另外将一种树脂的或一种另外的SiOx涂层的阻挡涂层提供在该筒的外部表面上。
本发明的另一个方面是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个固定针的注射器（“固定针注射器”）。该针是空心的，具有的典型尺寸是18-29规格范围内的。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。该固定针可以在该注射器的注塑模制过程中被固定至注射器上或者可以使用粘合剂将其组装到形成的注射器上。将一个盖放在该固定针上以密封该注射器组件。该注射器组件必须密封成使得在注射器内可以维持一个真空以便能够进行PECVD涂覆过程。这样的具有固定针的注射器被描述于2010年6月24日提交的美国临时申请号61/359,434中。
本发明的另一个方面是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个鲁尔接头的注射器。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。鲁尔接头包括一个鲁尔锥，该鲁尔锥具有由一个内表面限定的一个内部通道。该鲁尔接头以与该注射器筒分离的一个分离件的形式而形成并且通过一个连接器连接到该注射器筒上。鲁尔锥的内部通道具有SiOx（其中x是从约1.5至大大约2.9）的阻挡涂层。
本发明的另一个方面是用于注射器的一种柱塞，该柱塞包括一个活塞以及一个推杆。该活塞具有一个前面、一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分，该侧面被配置为可移动地就位于注射器筒之内。该柱塞在它的侧面上具有一个根据本发明的润滑涂层。该推杆接合该柱塞的后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。该柱塞可以另外地包括一个SiOx涂层。
本发明的一个进一步的方面是仅具有一个开口的容器，即用于收集或储存一种化合物或组合物的一种容器。在一个具体的方面，这样的容器是一种管，例如一种采样管，例如一种采血管。所述管可以用一个闭合件（例如一个帽或塞子）来闭合。这样的盖或塞子在它的与管相接触的表面上可以包括一个根据本发明的润滑涂层，和/或在它的面向该管的内腔的表面上它可以包含一个根据本发明的钝化涂层。在一个具体的方面，这样的塞子或它的一部分可以由一种弹性体材料制成。
这样的一种塞子可以如下制造：将塞子置于在一个基本上抽空的室中。提供一种反应混合物，该反应混合物包括一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化性气体、以及任选地一种烃气体。在反应混合物中形成等离子体，将该等离子体与塞子接触。将一个涂层沉积在该塞子的至少一部分上。
本发明的一个进一步的方面是一种具有根据本发明的阻挡涂层的容器。该容器是大致管状的并且可以由热塑性材料制成。该容器具有口和至少部分受壁限制的内腔。该壁具有一个与内腔相接的内表面。在一个优选的方面，由如上所定义的SiOx制成的一个至少基本上连续的阻挡涂层被施加到该壁的内表面上。该阻挡涂层有效地保持该容器内其初始真空水平的至少90%，任选地其初始真空水平的95%，持续至少24个月的保质期。提供了覆盖容器口的闭合件，并且使容器的内腔与环境空气隔离。
使用如本说明书中所述的有机硅前体的PECVD制造的涂层以及PECVD涂覆方法对于涂覆导管或小杯以形成一个阻挡涂层、一个疏水涂层、一个润滑涂层、或这些之中的多于一项也是有用的。小杯是一种具有圆形或方形截面、一端密封的、由聚合物、玻璃、或熔融石英（用于UV光）制造的并且被设计用于容纳光谱实验样品的小型管。最好的小杯是尽可能透明的，没有可能影响光谱读数的杂质。如同一种试管，小杯可以是向大气开放的或具有一个帽从而将它密封关闭。本发明的PECVD施加的涂层可以是非常薄的、透明的、并且光学平坦的、因此不干扰该小杯或它的内容物的光学测试。
（预）填充的涂覆容器
本发明的一个具体方面是如上所述的一种涂覆容器，该容器在它的内腔中被预填充有一种化合物或组合物或用于以一种化合物或组合物进行填充。所述化合物或组合物可以是
(i)一种生物活性化合物或组合物，优选一种药剂，更优选胰岛素或一种包含胰岛素的组合物；或
(ii)一种生物流体，优选一种体液，更优选血液或一种血液成分（例如，血细胞）；或
(iii)用于直接在该容器中与另一种化合物或组合物相组合的一种化合物或组合物，例如在采血管中用于防止血液凝固、或血小板激活的一种化合物，像柠檬酸盐或含有柠檬酸盐的组合物。
通常，本发明的涂覆容器对于收集或储存对未涂覆容器材料的表面的机械和/或化学作用敏感的一种化合物或组合物是特别有用的，优选地针对防止或减少与该容器的内部表面相接触的组合物的一种化合物或一种组分的沉淀和/或凝固或血小板激活。
例如，具有配备有本发明的一种疏水涂层的壁的并且容纳有一种含水柠檬酸钠试剂的细胞制备管是适合用于收集血液并且防止或减少血液凝固的。将含水柠檬酸钠试剂以有效抑制被引入到该管内的血液的凝固的一个量置于该管的内腔中。
本发明的一个具体的方面是用于收集/接收血液的一种容器或一种容纳血液的容器。该容器具有一个壁；该壁具有一个限定内腔的内表面。该壁的内表面具有一个至少部分疏水的本发明涂层。该涂层可以是薄至单分子厚度或厚至约1000nm（在整个涂层上进行平均）。被收集或储存在该容器中的血液优选地是以能活的方式返回到病人的血管系统中而被布置在与涂层相接触的内腔中。与相同类型的未涂覆的壁相比较，该涂层有效减少了暴露于该内表面的血液的凝固或血小板激活。
本发明的另一个方面是一种容纳胰岛素的容器，该容器包括一个壁，该壁具有限定了一个内腔的一个内表面。该内表面具有本发明的一个至少部分疏水涂层。在该内表面上，该涂层可以是从单分子厚度至约1000nm厚（在整个涂层上进行平均）。胰岛素或包含胰岛素的一种组合物被布置在与该涂层相接触的该内腔中。任选地，与不存在该涂层的相同表面相比较，该涂层有效减少了从接触内表面的胰岛素形成沉淀。
本发明的一个特定方面是一种预充式注射器，例如预充有药剂、诊断化合物或组合物、或任何其他预期使用注射器进行分散的生物或化学活性的化合物或组合物的一种注射器。
因此关于涂覆方法、涂覆产品以及所述产品的用途，本发明提供了以下实施方案：
1.一种用于在塑料基底上制备一个润滑涂层的方法，该方法包括以下步骤
(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体以及任选地O2和任选地稀有气体的一种气体；以及
(b)在该气体中产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在基底表面上形成一个涂层。
2.如(1)所述的方法，其中该有机硅前体是一种单环硅氧烷，优选OMCTS。
3.根据(1)至(2)中任一项所述的方法，其中存在O2，优选地其与有机硅前体的体积-体积比率是从0:1至0.5:1，任选地从0.01:1至0.5:1。
4.根据(1)至(3)中的任一项所述的方法，其中Ar作为该稀有气体存在。
5.根据以上任一项所述的方法，其中该气体包括从1至6标准体积的有机硅前体、从1至100标准体积的稀有气体、以及从0.1至2标准体积的O2。
6.根据以上任一项所述的方法，其中Ar和O2均存在。
7.根据以上任一项所述的方法，其中该等离子体是用0.1至25W、优选从2至4W的电功率产生的；和/或
(ii)其中电功率与等离子体体积之比是小于10W/ml、优选地从6W/ml至0.1W/ml。
8.根据以上任一项所述的方法，其中所得的涂层具有的粗糙度在通过AFM测量并以RMS表示时是从大于0至25nm、优选从7至20nm、任选地从10至20nm、任选地从13至17nm、任选地从13至15nm。
9.根据以上任一项所述的方法，额外包括以下步骤：在施用该润滑涂层之前在该基底上制备一个阻挡涂层，该额外步骤包括以下步骤
(a)在该基底表面附近提供包含一种有机硅前体以及O2的一种气体；以及
(b)从该气体产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在基底表面上形成一个S iOx阻挡涂层。
10.根据(9)所述的方法，其中在该制备阻挡涂层的步骤中
(i)其中该等离子体是用电极来产生的，这些电极用足够的功率来供能从而在该基底表面上形成一个SiOx阻挡涂层，优选地使用提供有以下电功率的电极：从8至500W，优选地从20至400W，更优选地从35至350W，甚至更优选地从44至300W，最优选地从44至70W；和/或
(ii)电极功率与等离子体体积的比率是等于或大于5W/ml，优选地是从6W/ml至150W/ml，更优选地是从7W/ml至100W/ml，最优选地是从7W/ml至20W/ml；和/或
(iii)O2是按以下体积:体积比率而存在的：相对于含硅前体从1:1至100:1，优选地以从5:1至30:1的比率,更优选地以从10:1至20:1的比率，甚至更优选地以15:1的比率。
11.如(9)或(10)所述的方法，其中该阻挡涂层的有机硅前体是一种线性硅氧烷，优选HMDSO。
12.如以上任一项所述的方法，其中该基底是选自下组的一种聚合物，该组由以下各项组成：聚碳酸酯、烯烃聚合物、环烯烃共聚物以及聚酯，并且优选是环烯烃共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯或聚丙烯，并且更优选地是COC。
13.根据以上任一项所述的方法，其中该等离子体是用以一个射频、优选为13.56MHz的射频供能的电极来产生的。
14.根据以上任一项所述的方法，其中所得的润滑涂层具有一个原子比SiwOxCy或SiwNxCy，其中w是1，x是从约0.5至约2.4，y是从约0.6至约3。
15.一种涂覆有润滑涂层的涂覆的基底，该润滑涂层是通过根据以上任一项所述的方法可获得的并且具有在以上任一项中限定的特征。
16.根据(15)所述的涂覆的基底，其中该润滑涂层具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力，其中与未涂覆的表面相比较，该摩擦阻力优选地减少至少25%，更优选地减少至少45%，甚至更优选地减少至少60%。
17.根据(15)或(16)所述的涂覆的基底，额外包括至少一个SiOx层，其中x是从1.5至2.9，其中
(i)该润滑涂层是位于该SiOx层与该基底表面之间，或反之亦然，或其中
(ii)该润滑涂层是位于两个SiOx层之间或反之亦然，或其中
(iii)这些SiOx层以及该润滑涂层是SiwOxCyHz至SiOx的梯度复合材料，或反之亦然。
18.根据(17)所述的涂覆的基底，其中该SiOx阻挡涂层具有从20至30nm的厚度并且该润滑涂层具有的平均厚度是1至5000nm、优选30至1000nm、更优选80至150nm。
19.根据(15)至(18)中的任一项所述的涂覆的基底，其中该润滑涂层
(i)具有比未涂覆的表面更低的湿润张力，优选地从20至72达因/厘米的湿润张力、更优选地从30至60达因/厘米的湿润张力、更优选地从30至40达因/厘米的湿润张力、优选34达因/厘米；和/或
(iv)是比未涂覆表面更疏水的。
20.在其内部表面的至少一部分上被涂覆从而形成根据(15)至(19)的任一项所述的涂覆的基底的一个容器，优选地是这样一种容器，该容器是
(i)一种样品收集管，具体地一种采血管；或
(ii)一种管形瓶；或
(iii)一种注射器或一种注射器部件，具体地是一种注射器筒或一种注射器柱塞或注射器活塞；或
(iv)一种管子；或
(v)一种小杯。
21.根据(20)所述的涂覆容器，该容器在它的内腔中容纳一种化合物或组合物，优选地一种生物活性化合物或组合物或一种生物流体，更优选地(i)柠檬酸盐或一种含有柠檬酸盐的组合物，(ii)一种药剂，具体地是胰岛素或一种含有胰岛素的组合物，或(iii)血液或血细胞。
22.根据(20)或(21)所述的涂覆容器，该容器是包括一个具有内表面的筒、具有外表面的活塞或柱塞的一个注射器，其中该外表面与该筒的内表面相接合，其中所述内表面和外表面中至少一个是根据(15)至(19)中任一项所述的涂覆的基底。
23.如(22)所述的注射器，其中该柱塞的启动力Fi是从2.5至5l bs并且该柱塞的维持力Fm是从2.5至8 lbs。
24.根据(22)或(23)所述的注射器，其中该润滑涂层具有一个原子比SiwOxCy或SiwNxCy，其中w是1，x是从约0.5至约2.4，y是从约0.6至约3。
25.如(22)至(24)中任一项所述的注射器，其中该润滑涂层具有10至1000nm的平均厚度。
26.如(22)至(25)中任一项所述的注射器，该注射器全部或在其注射器部件的一个或多个中是根据(1)至(14)中任一项所述的方法制成的，其中该塑料基底是COC，其中步骤(a)中的气体包括八甲基环四硅氧烷、O2和Ar，并且其中产生该等离子体的功率相对于该注射器内腔的体积是从6W/ml至0.1W/ml。
27.根据(22)至(26)中任一项所述的注射器，该注射器在其内腔中容纳了一种化合物或组合物，优选地是一种生物活性的化合物或组合物或一种生物流体，更优选地是(i)柠檬酸盐或一种含有柠檬酸盐的组合物，(ii)一种药剂，具体地是胰岛素或一种含有胰岛素的组合物，或(iii)血液或血细胞。
28.用于涂覆一个容器（80）的一种容器处理系统（20），该系统包括一个处理站安排（5501、5502、5503、5504、5505、5506、70、72、74），该处理站安排被配置成用于进行如(1)至(14)之一所述的方法。
29.一种计算机可读介质，其中存储了用于涂覆容器（80）的一个计算机程序，当被一个容器处理系统（20）的处理器执行时，该计算机程序被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统这样使得它进行如(1)至(14)之一所述的方法。
30.一种用于涂覆一个容器（80）的程序元件，当被一个容器处理系统20的处理器执行时，该程序元件被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统这样使得它进行如(1)至(14)之一所述的方法。
一种根据本发明的特殊注射器筒，该筒可以形成根据(1)所述的方法制造的注射器的一部分，其中该塑料基底是COC，其中步骤(a)中的气体包括八甲基环四硅氧烷、O2和Ar，并且其中产生该等离子体的功率相对于该注射器内腔的体积优选地是从6W/ml至0.1W/ml，在一个特定的方面是从0.8至1.3W/ml。
本发明的一个方面是将一个涂层施加到一种基底上的方法。该方法包括提供一个基底；提供一种可汽化的有机硅前体；并且将该前体通过化学气相沉积而施加至该基底上。在有效形成一种涂层的条件下将前体施加到基底上。在本发明的一个优选的方面，采用一种气态反应物或工艺气体，其具有的标准体积比率为：从1至6标准体积的前体、从5至100标准体积的载气、以及从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
本发明的另一个方面是通过以上方法制备的类型的涂层。
本发明的另一个方面是一种容器，该容器包括一个由限定了基底的表面所限定的内腔。该基底的至少一部分上存在涂层。该涂层是由之前定义的方法制备的。
本发明的又另一个方面是用于将涂层施加到基底上的化学气相沉积设备。该化学气相沉积设备包括一个有机硅前体来源、一个载气来源、以及一个氧化剂来源。该化学气相沉积设备还进一步包括用于向基底传送一种气态反应物或工艺气体的一个或多个导管，该气态反应物或工艺气体包含1至6标准体积的前体、5至100标准体积的载气、以及0.1至2标准体积的氧化剂。该化学气相沉积设备进一步包括一个微波或射频能量源、以及由该微波或射频能量源供能的涂布器，用于在该气态反应物或工艺气体中产生等离子体。
本发明的又另一个方面是包括一个柱塞、一个筒、和一个涂层的一种注射器。该筒是一个容器并且具有一个内部表面，该内部表面限定了容器内腔并且接收了用于滑动的柱塞。该容器内部表面是一个基底。该涂层是在该基底、柱塞或二者上通过化学气相沉积而施加的一个润滑层或涂层，作为该气态反应物或工艺气体采用了1至6标准体积的有机硅前体、5至100标准体积的载气、以及0.1至2标准体积的氧化剂。
本发明的又另一个方面是用于注射器的一种柱塞，该柱塞包括一个活塞、一个涂层以及一个推杆。该活塞具有一个前面、一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分，该侧面包括一个基底。该侧面被配置为可移动地就位于注射器筒中。该涂层是位于该基底上并且是与该侧面接触的一个润滑层或涂层。该润滑层或涂层是由化学气相沉积（CVD）方法采用之前定义的气态反应物或工艺气体生产的。该推杆接合该柱塞的后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。
本发明的另一个方面是一种塞子。该塞子包括一个滑动表面，该滑动表面限定了一个基底并且被适配成接收在一个有待塞住的开口中。该基底在其上具有一个润滑涂层，该润滑涂层是如下制备的：提供一种包含有机硅化合物的前体、并且将该前体通过化学气相沉积采用如以上定义的气态反应物或工艺气体而施加在该滑动表面的至少一部分上。
本发明的又另一个方面是一种医疗或诊断套件，该套件包括一个容器，该容器在一个如以上任何实施方案中所限定的基底上具有一个如以上任何实施方案中所限定的涂层。任选地，该套件包括一种药物或诊断剂，药物或诊断剂该被容纳在所述涂覆的容器中、与该涂层相接触；和/或一种皮下注射针、两端针头、或其他递送导管；和/或一个说明单。
本发明的其他方面包括以下一项或多项：
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于涂覆一个表面并由此防止或减小该表面对于与该涂层接触的化合物或组合物的机械和/或化学作用的用途；
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层作为润滑层的用途；
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于保护与该涂层接触的化合物或组合物免于未涂覆的容器材料的表面的机械和/或化学作用影响的用途。
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于防止或减小与该涂层接触的化合物或组合物的一种组分的沉淀和/或凝固或血小板激活的用途。
作为一种选择，该化合物或该组合物的一种组分是胰岛素，并且防止或减少了胰岛素的沉淀作用。作为另一种选择，该化合物或该组合物的一种组分是血或血成分，并且防止或减少了血凝固或血小板激活。作为又一种选择，该涂覆的容器是一种采血管。任选地，该采血管还可以含有用于防止血液凝固或血小板激活的一种试剂，例如乙二胺四乙酸（EDTA）、其钠盐、或肝素。
本发明的用途的其他选择包括以下一项或多项：
根据所描述的任何实施方案的一种涂覆的基底用于接纳和/或储存和/或递送化合物或组合物的用途；
根据所描述的任何实施方案的一种涂覆的基底用于储存胰岛素的用途。
根据所描述的任何实施方案的一种涂覆的基底用于储存血液的用途。任选地，所储存的血液能够返回至病人的脉管系统中。
根据所描述的任何实施方案的一种涂层作为以下物品的用途：(i)具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力的润滑层或涂层；和/或(ii)比未涂覆的表面更加疏水的疏水性层或涂层。
本领域普通技术人员在回顾本披露和权利要求书之后将清楚本发明的其他方面。
附图简要说明
图1是一个在根据本披露的一个实施方案的涂覆站中的容器支架的示意性截面视图。
图2是沿着图1的截面线A-A截取的一个截面。
图3A、3B、3C示出了硅油（或任何其他油）作为润滑剂的缺点。硅油由于不是共价结合至表面上并且发生流动而出现不均一性。A.)在插入柱塞后柱塞将硅油从注射器筒壁上推掉；B)硅油被挤出柱塞与注射器壁之间的区域，从而导致高的松脱力；C.)硅油由于重力而随时间发生流动。
图4一个注射器和适配用作一个预充式注射器的帽的一个分解纵向截面视图。
图5是根据本发明的又另一个实施方案的具有一个闭合件的采血管组件的一个透视图。
图6是图5的采血管以及闭合组件的一个断裂剖面。
图7是图5和6的闭合件的一个弹性体插入件的一个分离的剖面图。
图8是另一个实施方案用于处理注射器筒以及其他容器的类似于图1的一个视图。
图9是图8中处理容器的一个放大的详细视图。
图10用于与本发明的任何实施方案、例如与其他图中的实施方案一起使用的容器支架的一个可替代结构。
图11一个用于处理容器的一个组件的示意图。该组件可以与前面任何图中的装置一起使用。
图12示出了一个示例性的容器处理系统的示意图。
图13出了一个示例性的容器处理系统的示意图。
图14示出了一个示例性的容器处理系统的处理站。
图15示出了一个便携式容器支架。
图16示出了实例P的SEM图像。水平的边缘至边缘的标度为5μm。
图17示出了实例S的SEM图像。水平的边缘至边缘的标度为5μm。
图18A示出了在实例Q的第一部分上进行的AFM成像的结果。对一个10μm x 10μm区域成像。示出了该区域的俯视图，以及沿着在俯视图中所绘的线指示的第一截面的形貌区别。使用截面工具测量了这些特征的竖直深度。在顶部右侧框中示出了所测参数像RMS、Ra和Rmax的结果。
图18B类似于图18A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第二截面示出了在实例Q上进行的AFM成像的结果。
图18C类似于图18A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第三截面示出了在实例Q上进行的AFM成像的结果。
图19A类似于图18A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第一截面示出了在实例T上进行的AFM成像的结果。
图19B类似于图19A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第二截面示出了在实例T上进行的AFM成像的结果。
图19C类似于图19A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第三截面示出了在实例T上进行的AFM成像的结果。
图20A类似于图18A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第一截面示出了在实例V上进行的AFM成像的结果。
图20B类似于图20A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第二截面示出了在实例V上进行的AFM成像的结果。
图20C类似于图20A，但是沿着在俯视图中所绘的线指示的第三截面示出了在实例V上进行的AFM成像的结果。
图21示出了一个根据本发明的润滑涂层的TEM图像，该润滑涂层被涂覆在一个SiO2阻挡涂层上，该阻挡涂层进而涂覆在一个COC基底上。
图22示出了被涂覆在COC基底上的一个SiO2阻挡涂层的TEM图像。
图23示出了水在a.)玻璃管、b.)涂覆在COC管上的亲水性SiO2、c.)涂覆在COC管上的疏水性SiwOxCyHz、以及d.)未涂覆的COC管中造成的弯液面。亲水性的SiO2涂覆的管和硼硅酸盐玻璃管具有类似的弯液面，表明亲水性SiO2涂层的亲水性与玻璃表面差不多。疏水性的涂覆的管以及未涂覆的COC管各自具有对疏水表面预期的弯液面。
图24是具有固定针的注射器的一个纵向区段。
图25是具有固定针的替代性注射器的分配端的一个纵向区段。
图26是具有固定针的替代性注射器的一个纵向区段。
图27是一个图解视图，示出了附接了该针的一个柔性隔膜71144。
在这些绘制的图形中使用了以下参考号：
Figure BDA00002385268500261
Figure BDA00002385268500271
Figure BDA00002385268500281
详细说明
现在将更完全地描述本发明，尤其是参考附图，其中示出了若干实施方案。然而，本发明可以被实施为许多不同的形式，并且不应该被解释为限制于在此提出的这些实施方案。更正确地说，这些实施方案是本发明的实例，本发明具有由权利要求书的语言所指明的全部范围。贯穿全文的同样的数字是指同样的或对应的要素。以下披露内容涉及所有实施方案，除非明确限制于某个实施方案。
定义部分
在本发明的上下文中，使用了以下定义和缩写：
RF是射频；sccm是标准立方厘米/每分钟。
在本发明的上下文中，术语“至少”表示“等于或大于”后续术语的整体。词语“包括”不排除其他要素或步骤，并且除非另外指明，不定冠词“一个”或“一种”不排除多个。每当指明一个参数范围时，它旨在披露给出的作为范围的界限的参数值以及落在所述范围内的所有参数值。
“第一”和“第二”或类似的参考例如处理站或处理设备是指存在的最小数量的处理站或设备，但是并不必需代表处理站和设备的次序或总数。这些术语并不限制处理站或在对应的站进行的具体处理的数量。
为了本发明的目的，一种“有机硅前体”是具有至少一个以下连接的化合物：
Figure BDA00002385268500291
或者
Figure BDA00002385268500292
它是与一个氧或氮原子和一个有机碳原子（有机碳原子是与至少一个氢原子连接的碳原子）连接的一个四价硅原子。一种挥发性的有机硅前体，定义为这样一种前体，它可以作为一个等离子体增强化学气相沉积（PECVD）装置中的蒸气被供给，它是一种任选的有机硅前体。任选地，该有机硅前体是选自下组，该组由以下各项组成：线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷（polysilsesquiazane）、以及这些前体的任何两种或更多种的组合。
在说明书和权利要求书中，等离子体增强化学气相沉积（PECVD）前体的进料量、气态反应物或工艺气体、以及载体气体有时用“标准体积”表示。加料或其他固定量的气体的标准体积是在标准温度和压力（不是就递送的实际温度和压力而言）下固定量的气体会占据的体积。可以使用不同的体积单位测量标准体积，并且仍然在本披露和权利要求书的范围之内。例如，相同的固定量的气体可以表示为标准立方厘米的数量、标准立方米的数量、或标准立方英尺的数量。还可以使用不同的标准温度和压力定义标准体积，并且仍然在本披露和权利要求书的范围之内。例如，标准温度可以是0°C并且标准压力可以是760托（如常规的那样），或者标准温度可以是20°C并且标准压力可以是1托。但是在给定的情况下无论使用哪种标准，当比较两种或更多种不同的没有指定具体参数的气体的相对量时，对于每一种气体，使用相同的体积单位、标准温度、以及标准压力，除非另外指明。
在说明书中，等离子体增强化学气相沉积（PECVD）前体、气态反应物或工艺气体、以及载体气体的对应进料速率用标准体积/每时间单位表示。例如，在操作实例中，流速被表示为标准立方厘米/每分钟，缩写为sccm。至于其他参数，可以使用其他的时间单位，如秒或小时，但是当比较两种或更多种气体的流速时，将使用一致的参数，除非另外指明。
在本发明的上下文中，一种“容器”可以是具有至少一个开口和一个限定内表面的壁的任意类型的容器。该基底可以是具有一个内腔的容器的内壁。虽然本发明并非必然地限定容器的具体体积，但是考虑的容器是，其中内腔具有从0.5至50mL、任选地从1至10mL、任选地从0.5至5mL、任选地从1至3mL的空体积。该基底表面可以是具有至少一个开口和一个内表面的容器的部分或全部内表面。
在本发明的上下文中，术语“至少”表示“等于或大于”后续术语的整体。因此，在本发明上下文中的容器具有一个或多个开口。一个或两个开口，就像取样管（一个开口）或注射器筒（两个开口）的开口是优选的。如果该容器具有两个开口，则它们可以具有相同的或不同的大小。如果存在多于一个的开口，一个开口可以用于根据本发明的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）涂覆方法的进气口，同时另一个开口被加帽或者开放。根据本发明的容器可以是采样管（例如用于收集或储存生物流体（像血液或尿液））、用于储存或递送生物活性化合物或组合物（例如药剂或药物组合物）的注射器（或它的一个部件，例如注射器筒）、用于储存生物材料或生物活性化合物或组合物的管形瓶、管（例如用于运送生物材料或生物活性化合物或组合物的导管）、或用于容纳流体的小杯（例如用于容纳生物材料或生物活性化合物或组合物）。
容器可以具有任何形状，具有邻近至少一个它的开口端的基本上圆柱形壁的容器是优选的。通常，该容器的内壁是圆柱形的，就像例如在取样管或注射器筒中那样。考虑了取样管和注射器或它们的部件（例如注射器筒）。
在本发明的上下文中，“疏水层”表示与对应的未涂覆的表面相比，该涂层降低了涂覆有该涂层的表面的湿润张力。因此，疏水性是未涂覆基底和涂层两者的功能。适当改变后，这同样适合于其中使用术语“疏水的”的其他背景。术语“亲水的”表示相反的意思，即与参考样品相比，湿润张力增加了。目前的疏水层主要是由它们的疏水性和提供疏水性的工艺条件限定的，并且可以任选地具有根据经验组成或总式（sum formula）SiwOxCyHz的组成。通常它具有原子比SiwOxCy，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，优选地w是1，x是从大约0.5至1.5，并且y是从0.9至2.0，更优选地，w是1，x是从0.7至1.2并且y是从0.9至2.0。该原子比可以通过XPS（X射线光电子光谱法）确定。考虑到H原子，因此该涂层在一个方面可以具有式SiwOxCyHz，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，并且z是从大约2至大约9。典型地，在本发明的一个具体涂层中的原子比是Si 100:O 80-110:C 100-150。具体地，该原子比可以是Si 100:O 92-107:C 116-133，并且因此这种涂层将含有36%至41%的碳（碳加氧加硅归一化为100%）。
贯穿本说明书w、x、y和z的这些值适用于经验组合物SiwOxCyHz。贯穿本说明书所使用的w、x、y和z的这些值应当理解为比率或一个经验式（例如，对于一个涂层），而不是对一个分子中的原子的数目或类型的限制。例如，具有分子组成Si4O4C8H24的八甲基环四硅氧烷可以通过以下经验式进行描述，通过将该分子式中的w、x、y、以及z各自除以4（最大公因数）而得到Si1O1C2H6。并且w、x、y以及z的值也不限于整数。例如，(非环状)八甲基三硅氧烷，分子组成为Si3O2C8H24，可约简为Si1O0.67C2.67H8。
“湿润张力”是对于一个表面的疏水性或亲水性的一种特定量度。在本发明的背景下的一种任选的湿润张力测量方法是ASTM D 2578或对在ASTM D 2578中描述的方法的一种修改。该方法使用标准湿润张力溶液（称为达因溶液）来确定最接近于湿润一个塑料薄膜表面准确地持续两秒的溶液。这就是薄膜湿润张力。在此所使用的步骤不同于ASTM D 2578之处在于，其中基底并不是平坦的塑料薄膜，而是根据用于形成PET管的方案制成的并且根据用于使用疏水层或涂层涂覆管内部的方案（参见EP2251671A2的实例9）而涂覆的（除了对照之外）管。
根据本发明的“润滑层”是具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力的一个涂层。换言之，与未涂覆的参考表面相比，它减小了涂覆表面的摩擦阻力。本发明的润滑层主要是由它们比未涂覆表面更低的摩擦阻力以及提供比未涂覆表面更低的摩擦阻力的处理条件而限定的，并且可以任选地具有依照经验组成SiwOxCyHz的组成，如在此定义的。通常它具有原子比SiwOxCy，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，优选地w是1，x是从大约0.5至1.5，并且y是从0.9至2.0，更优选地，w是1，x是从0.7至1.2并且y是从0.9至2.0。该原子比可以通过XPS（X射线光电子光谱法）确定。考虑到H原子，因此该涂层在一个方面可以具有式SiwOxCyHz，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，并且z是从大约2至大约9。典型地，在本发明的一个具体涂层中的原子比是Si100:O 80-110:C 100-150。具体地，该原子比可以是Si100:O 92-107:C116-133，并且因此这种涂层将含有36%至41%的碳（碳加氧加硅归一化为100%）。
“摩擦阻力”可以是静态摩擦阻力（static frictional resistance）和/或运动摩擦阻力（kinetic frictional resistance）。
本发明的一个任选的实施方案是用一个润滑层涂覆的注射器部件，例如一个注射器筒或柱塞。在这个考虑的实施方案中，在本发明的背景下有关的静态摩擦阻力是如在此所定义的起动力，并且在本发明的背景下有关的运动摩擦阻力是如在此所定义的柱塞滑动力。例如，在本发明的背景下如在此定义并确定的柱塞滑动力适合于确定一个润滑层或涂层的存在或不存在以及润滑特性，不论何时该涂层施加到任何注射器或注射器部件上，例如施加到一个注射器筒的内壁上。这种起动力用于评估在一个预充式注射器上的涂层作用是特别适当的，该预充式注射器是在涂覆之后被填充的并且可以在柱塞再次移动（被“起动”）之前存储一段时间，例如几个月或甚至几年。
在本发明的背景下的“柱塞滑动力”（与本说明中也使用的“滑动力”、“维持力”、Fm同义）是维持柱塞在注射器筒内的移动所要求的力，例如在抽吸或分配过程中。有利地可以使用在此说明的并且本领域中已知的ISO7886-1:1993试验来测定。通常在本领域中使用的“柱塞滑动力”的同义词是“柱塞力”或“推力”。
在本发明的背景下的“柱塞起动力”（与本说明中也使用的“起动力”、“松脱力”、“启动力”、Fi同义）是在注射器中、例如在预充式注射器中移动柱塞所要求的力。
在本说明书的后续部分中更详细地说明了“柱塞滑动力”和“柱塞起动力”两者以及用于它们测量的方法这两个力可以用N、lbs或kg表示并且在此使用所有这三个单位。这些单位的关系如下：1N=0.102kg=0.2248lbs（磅）。
滑动力和起动力在此有时候用来描述使塞子或其他关闭件向容器例如医用样品管或管形瓶内前进以便使塞子在容器中就位从而关闭该容器所需要的力。它的用途类似于在注射器和其柱塞中的用途，并且对于容器和其关闭件而言这些力的测量被认为是类似于对于注射器的这些力的测量，除了至少在大多数情况下当使关闭件向就位的位置推进时从容器中不喷出液体。
“可滑动”表示该柱塞、闭合件或其他可移除部件被允许在一个注射器筒或其他容器中滑动。
在本发明的背景下，“实质上刚性的”表示这些组装的部件（端口、管道以及壳体，在以下进一步说明）可以作为一个单元通过操作该壳体而移动，而不会显著地使任何组装后的部件相对于其他部件偏移。确切地说，这些部件均不是由在正常使用中允许零件之间的实质性相对移动的软管或类似物连接的。这些部件的实质上刚性关系的规定允许就位于该容器支架上的容器的位置是如同这些零件固定到壳体上的位置一样是近乎熟知而精确的。
说明部分
本发明的一个实施方案是将涂层（例如90）施加至一个基底上的方法，该基底是例如容器80（图1）、容器268（图6）、塞子282（图6-7）、或注射器252（图4）。该方法可以用于所披露的任何实施方案。该方法包括提供一个基底，例如以上提及的任何一个；提供一种可气化的有机硅前体，例如在本说明书中披露的任何一种；并且将该前体通过化学气相沉积而施加至该基底上。该前体是在段落中引用的这些EP申请的图2、26的、或任何其他实施方案的设备中、在对于形成涂层而言有效的条件下被施加的。
例如当制备一个润滑涂层时，可以采用具有如下标准体积比率的气态反应物或工艺气体：
从1至6标准体积、任选地2至4标准体积、任选地等于或小于6标准体积、任选地等于或小于2.5标准体积、任选地等于或小于1.5标准体积、任选地等于或小于1.25标准体积的该前体；
从1至100标准体积、任选地从5至100标准体积、任选地从10至70标准体积的一种载气；
从0.1至2标准体积、任选地从0.2至1.5标准体积、任选地从0.2至1标准体积、任选地从0.5至1.5标准体积、任选地从0.8至1.2标准体积的一种氧化剂。
另一个实施方案是通过以上方法所制造的类型的涂层，例如图7中的286或另一个实施方案中的一个差不多的涂层。
另一个实施方案是例如容器80（图1）、容器268（图6）、或包含由限定了一个基底的表面所限定的内腔的注射器252（图4）。该基底的至少一部分上存在一个涂层。该涂层是由之前定义的方法制备的。
再另一个实施方案是一种化学气相沉积设备，例如图11中展示的设备28（或展示的任何其他涂覆设备，如图1、2、8、10或12-15中展示的设备），用于将涂层施用至基底上。
图12示出了根据本发明的一个示例性的实施方案的容器处理系统20。容器处理系统20尤其包括一个第一处理站5501并且还可以包括或可以不包括一个第二处理站5502。对于此类处理站的实例是例如描述于图1中的参考号28。
该第一容器处理站5501包含一个容器支架38，它容纳一个就位的容器80。虽然图12描述了采血管80，该容器可以是一个注射器本体、一个药瓶、一个导管或例如一个移液管。例如该容器可以由玻璃或塑料制成。在塑料容器的情况下，该第一处理站还可以包括一个模具用于模制该塑料容器。
在该第一处理站的第一次处理（该处理可以包括该容器的模制、第一次检查容器的缺陷、该容器的内部表面的涂覆以及第二次检查容器特别是内部涂层的缺陷）之后，该容器支架38可以与容器82一起运送到第二容器处理站5502。通过输送机布置70、72、74进行运送。例如，可以提供一个夹钳或若干夹钳用于夹住该容器支架38和/或容器80从而将该容器/支架组合移动到下一个处理站5502。可替代地，可以仅仅移动该容器而不移动该支架。然而，可能有利的是将该支架与该容器一起移动，在这种情况下，该支架被适配从而使得它可以由该输送机布置来运送。
图13显示了根据本发明的另一个示例性实施方案的一个容器处理系统20。再次，提供了两个容器处理站5501、5502。此外，可以提供另外的容器处理站5503、5504，它们被串联布置并且该容器可以在其中被处理，即被检查和/或涂覆。
可以将一个容器从一个贮存点移到左侧的处理站5504中。可替代地，在第一处理站5504可以模制该容器。在任何情况下，一个第一容器处理是在处理站5504中进行的，如模制、检查和/或涂覆，在其之后可以进行一个第二检查。然后，将容器经由输送机布置70、72、74移动至下一个处理站5501。典型地，该容器与该容器支架一起移动。一个第二处理是在第二处理站5501中进行的，其后，该容器和支架被移动到下一个处理站5502中，在这里进行一个第三处理。然后将该容器移动（再次与该支架一起）到第四处理站5503中用于一个第四处理，其后它被输送到一个存储器中。
在每个涂覆步骤或模制步骤或任何其他的操作该容器的步骤之前或之后，可以进行对整个容器、容器的部分并且特别是容器的内部表面的检查。经由数据总线5507，可以将每一次检查的结果传递至中央处理单元5505。将每一处理站连接到数据总线5507。上述的程序元件可以在处理器5505上运行，并且该处理器（它可以被适配为中央控制和调节单元的形式）控制该系统并且还可以被适配以处理检查数据、分析这些数据并且确定最后的处理步骤是否是成功的。
如果确定了最后的处理步骤不是成功的，由于例如该涂层包括孔或由于该涂层的表面被确定是规则的或不够光滑的，则该容器不进入下一个处理站但是也可以从该生产过程（参见输送机部分7001、7002、7003、7004）中被移开或者被输送返回以待再处理。
处理器5505可以被连接到一个用户界面5506上用于输入控制或调整参数。
图14显示了根据本发明的一个示例性实施方案的一个容器处理站5501。该站包括一个PECVD装置5701用于涂覆该容器的一个内表面。此外，可以提供几个检测器5702-5707用于容器检查。此类检测器可以例如是用于进行电测量的电极、光检测器，如CCD照相机、气体检测器或压力检测器。
图15显示了根据本发明的一个示例性实施方案的一个容器支架38，连同几个检测器5702、5703、5704以及具有气体进入端口108、110的一个电极。
当该容器被在支架38上就位时，该电极和该检测器5702可以被适配为移动到容器80的内部空间中。
光学检查可以具体地在一个涂覆步骤过程中进行，例如借助于布置在就位的容器80外面的光检测器5703、5704或甚至借助于一个布置在容器80的内部空间内的光检测器5705。
这些检测器可以包括滤色器从而使得在涂覆工艺中可以检测不同的波长。该处理单元5505分析光学数据并且确定该涂覆是否成功到一个预定水平的确定性。如果确定该涂覆极有可能不成功，则将对应的容器从该处理系统中分离或进行再处理。
现在参见图11，该化学气相沉积设备包括一个有机硅前体来源如储器588、一个载气来源如602、以及一个氧化剂来源如594。该化学气相沉积设备还进一步包括用于向基底传送一种气态反应物或工艺气体的一个或多个导管，如导管108、586、590、604、和596，该气态反应物或工艺气体包含1至6标准体积的前体、5至100标准体积的载气、以及0.1至2标准体积的氧化剂。该化学气相沉积设备进一步包括一个微波或射频能量源162、以及由该微波或射频能量源供能的涂布器或电极如160，用于在该气态反应物或工艺气体中产生等离子体。
本发明的又另一个实施方案是包括一个柱塞258、一个筒250、以及在内部表面264上的一个涂层的一种注射器，如252。该筒250是一个容器并且具有一个内部表面264，该内部表面限定了容器内腔274并且接收了用于滑动的柱塞258。该容器内部表面264是一个基底。该涂层是在该基底264、柱塞258或二者上通过化学气相沉积而施加的一个润滑层，作为该气态反应物或工艺气体采用了1至6标准体积的有机硅前体、5至100标准体积的载气、以及0.1至2标准体积的氧化剂。除了这个润滑涂层之外，该注射器可以包含一个或多个其他涂层，例如在此说明的SiOx阻挡涂层。所述一个或多个其他涂层可以位于该润滑涂层之下或之上，即更靠近该涂覆的基底或更靠近该注射器的内腔。
从玻璃注射器转化为塑料注射器的问题集中在从塑料中可浸出材料的可能性。利用等离子体涂覆技术，从非金属气态前体例如HMDSO获得的涂层本身将不含痕量金属并且作为无机物、金属或有机溶质的阻挡物起作用，从而防止这些物质从涂覆的基底中浸出到注射器流体中。除了对塑料注射器的浸出控制之外，同样的等离子体涂覆技术提供了对柱塞尖端赋予溶质阻挡性的可能性，该柱塞尖端典型地是由包含更高水平的可浸出有机低聚物和催化剂的弹性体塑料组合物制成。
此外，某些预充有合成的和生物的药物制剂的注射器是对氧气和湿气非常敏感的。从玻璃注射器筒转化为塑料注射器筒的一个关键因素是对塑料的氧气和湿气阻挡性的改进。等离子体涂覆技术适合于提供一个用于针对氧气和湿气进行保护的SiOx阻挡涂层。
又另一个方面是用于注射器252的一种柱塞258，该柱塞包括一个活塞或尖端、一个涂层以及一个推杆。该活塞或尖端具有一个前面、在筒250内滑动的一个大致圆柱形的侧面（包括一个基底）、以及一个后部分。该侧面被配置为可移动地就位于注射器筒中。该涂层是位于该基底上并且是与该侧面接触的一个润滑层。该润滑层是由化学气相沉积（CVD）方法采用之前定义的气态反应物或工艺气体生产的。该推杆接合该柱塞的后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。
另一个实施方案是塞子，如282（图6-7）。该塞子282包括一个滑动表面276，该滑动表面限定了一个基底并且被适配成接收在一个有待塞住的开口中。该基底在其上具有一个润滑涂层288，该润滑涂层是如下制备的：提供一种包含有机硅化合物的前体、并且将该前体通过化学气相沉积采用如以上定义的气态反应物或工艺气体而施加在该滑动表面的至少一部分上。
又另一个实施方案是一种医疗或诊断套件，该套件包括一个容器，该容器在一个如以上任何实施方案中所限定的基底上具有一个如以上任何实施方案中所限定的涂层。任选地，该套件包括一种药物或诊断剂，药物或诊断剂该被容纳在所述涂覆的容器中、与该涂层相接触；和/或一种皮下注射针、两端针头、或其他递送导管；和/或一个说明单。
本发明的其他方面包括以下一项或多项：
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于涂覆一个表面并由此防止或减小该表面对于与该涂层接触的化合物或组合物的机械和/或化学作用的用途；
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层作为润滑涂层的用途；
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于保护与该涂层接触的化合物或组合物免于未涂覆的容器材料的表面的机械和/或化学作用的用途；
根据以上描述的任何实施方案所述的涂层用于防止或减小与该涂层接触的化合物或组合物的一种组分的沉淀和/或凝固或血小板激活的用途。
作为一种选择，该化合物或该组合物的一种组分是胰岛素，并且防止或减少了胰岛素的沉淀作用。作为另一种选择，该化合物或该组合物的一种组分是血或血成分，并且防止或减少了血凝固或血小板激活。作为又一种选择，该涂覆的容器是一种采血管。任选地，该采血管还可以含有用于防止血液凝固或血小板激活的一种试剂，例如乙二胺四乙酸（EDTA）、其钠盐、或肝素。
使用本发明的其他选择包括以下一项或多项：
根据所描述的任何实施方案的涂覆的基底用于接收和/或储存和/或递送一种化合物或组合物的用途，该涂覆的基底是例如容器，如样品采集管、如血液收集管和/或封端的样品采集管；管形瓶；导管；小杯；或容器部件，例如塞子；或注射器或注射器部件，例如筒或活塞。
考虑了根据所描述的任何实施方案的一种涂覆的基底用于储存胰岛素的用途。
考虑了根据所描述的任何实施方案的一种涂覆的基底用于储存血液的用途。任选地，所储存的血液是可返回至病人的脉管系统中的。
考虑了根据所描述的任何实施方案的一种涂层作为以下物品的用途：(i)具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力的润滑层；和/或(i i)比未涂覆的表面更加疏水的疏水性层。
本发明的其他方面包括以上在概述部分限定的任何用途。
以下是对本发明的更详细说明。从对本发明的润滑涂层和疏水涂层的一般说明开始，然后描述适用于制备本发明的涂层的设备，并接着描述涂覆实施方案、涂覆的容器、以及其生产方法。
IA.润滑涂层
被设计用于递送注射药物产品的装置具有可移动的弹性体柱塞来推动来自该装置中的产品。柱塞通常配备有润滑表面以便于柱塞的移动。传统采用游离硅油来创造一个润滑表面，但是游离硅油涉及到蛋白质的凝聚和变性。
硅油，即低分子量聚二甲基硅氧烷（PDMS），已经成为使玻璃和塑料表面润滑并且与弹性体柱塞相容的主要传统手段。它一般被喷到或擦到该装置的内侧上。这些方法沉积了一个薄的硅油液体层。通过焙烤方法来将该油永久粘在装置表面上的尝试已经改进了粘附性但是仍发现有硅油可提取物。硅油在装置上的不均一性是成问题的并且可能导致注射器破裂或在用于自动喷射器中时不工作。
硅油的不均一性是由于对该油的不适当或较差的涂抹、随时间而在重力作用下沉降/流动、以及来自柱塞的压力所导致的。将在柱塞在真空下置于该装置中的过程中，柱塞将把硅油从装置顶部向下推至柱塞的最终停放位置，参见图3A。柱塞的肋与装置的玻璃表面之间的硅油将随时间在柱塞的压力下从柱塞与注射器之间的空间流出。另外已经发现硅油在重力下“沉降”或流动而改变硅油的分布。图3A-3C展示了硅油不均一性的实例。
硅油的不均匀性导致了多个问题，包括药品局部暴露于大的油滴中、高的松脱力、以及由于可变的滑动力导致的该装置的不顺畅操作。可变的滑动力和高的松脱力对于自动注射机是特别成问题的，因为自动注射机被设计成用已知的且恒定的力来工作。
本发明的润滑涂层是由等离子体生产的，这产生了均一的、牢固附接的润滑涂层。它相对于现有的润滑途径，就润湿张力、柱塞力和可提取物和可浸取物进行比较，具有优越的性能。
本发明的润滑涂层是使用PECVD方法来沉积的，该方法典型地使用有机硅前体（优选环状有机硅前体，特别是八甲基环四硅氧烷（OMCTS））、氧、射频和带电电极来产生等离子体。不受理论限制，据认为在所使用的压力和功率下，该等离子体过程是由电子碰撞电离来驱动的，即，该过程中的电子是在化学作用背后的驱动力。该过程利用射频来激发电子，从而产生比对向离子体、微波中的电子添加能量的另一种标准方法更低的温度。包含高能电子和气体离子的混合物的等离子体沉积了一个涂层，该涂层包含硅和氧以及附接至硅上的甲基。高能电子活化了基底表面并且该表面与来自OMCTS的硅/氧/甲基物质之间的键改变。在表面上沉积了一个共价键合的均一的连续涂层。
由于该涂层是由在分子水平上均匀填充了它所占据的容器的等离子体沉积的，因此相信会实现一个均一组成的涂层。该润滑涂层基本上包括硅、氧和甲基。AFM、FTIR、TOF/SIMS、XPS和扫描电子显微镜术确认了纯度和均一性。
表I
Figure BDA00002385268500421
湿润张力测量的精确度为+/-3达因/厘米
以上的表I显示，润湿张力衡量了具有SiOxCyHz润滑涂层的COC注射器、涂覆有硅油（道康宁医学级360）的硼硅酸盐玻璃注射器、以及带有Triboglide涂层（另一种已知的液体润滑剂）的COC容器。认为30达因/厘米的湿润张力是非常疏水的，70达因/厘米的湿润张力是非常亲水的。因此三个表面全都展现了可观的疏水性。本发明的润滑涂层展示了类似于硅油、但小于Triboglide的疏水性。
本发明的润滑涂层还可以被施加在SiOx阻挡涂层上。这在图21中示出，该图包含在SiO2层上的一个润滑涂层的TEM照片。
在实例Z中描述了对一个示例性润滑涂层而言对可提取物特征曲线的确定。该润滑涂层优选提供了比硅油涂覆的玻璃注射器（实例Z）更少的可提取物，典型地比后者的可提取物少10%。总体上，该润滑涂层的可提取物的量的范围是从1至500μg/L，优选5至500μg/L。典型地，基于该静态测定方法，它的范围可以是从80至300μg/L。
由于该润滑涂层被附接至该涂覆的表面上，该涂层将随时间保持均一并且将维持恒定的、可重现的松脱力和滑动力。表I I中示出了示例性的松脱力和滑动力。
表II
Figure BDA00002385268500431
该润滑涂层任选地提供了一种一致的柱塞力，该力减少了松脱力（Fi）与滑动力（Fm）之间的差。这两个力是对润滑涂层的有效性的重要的性能衡量。对于Fi以及Fm而言，所希望的是具有低的而不是太低的值。在太低的Fi的情况下，这表示太低水平的阻力（极限值是零），可能发生过早的/非预期的流动，这可能例如导致预充式注射器的内容物的非预期的、过早的或不受控制的排出。
为了实现充分的润滑性（例如为了确保注射器柱塞可以在注射器内移动、但避免该柱塞的不受控移动），有利地应该维持以下范围的Fi和Fm：
Fi：2.5至5lbs，优选2.7至4.9 lbs，特别是2.9至4.7 lbs；
Fm：2.5至8.0lbs，优选3.3至7.6 lbs，特别是3.3至4 lbs。
进一步有利的Fi和Fm值可以在这些实例的表中找到。从这些实例中还可以看到，可以实现比以上指出的范围更低的Fi和Fm值。具有这样的更低值的涂层也被认为是本发明所涵盖的。
表II将在注射器上的根据本发明的润滑涂层与硅油和Triboglide润滑涂层进行比较。结果证明，该润滑涂层优选地提供了Fi与Fm之间的优越一致性。
松脱力和滑动力在装置的整个保质期内是重要的，尤其是在自动装置如自动注射机中。松脱力和/或滑动力的变化可能导致自动注射机的不工作。
本发明的润滑涂层可以任选地具有与硅油涂覆的注射器相比少10倍以上的可提取物。在PECVD过程中，该润滑涂层被粘合到注射器上。这导致了显著更低的可提取物。通过过程优化，来自润滑涂层中的总的硅可提取物可以进一步减少。
根据本发明的润滑涂层典型地是通过PECVD使用有机硅前体和O2制备的。在一个具体实施方案中，将这些前体与一种载气混合，该载气典型地是稀有气体并且最典型地是氩气。
该有机硅前体可以是在本说明中的其他地方列出的任何前体。然而，环状有机硅前体、特别是单环的有机硅前体（像在本说明中的其他地方列出的单环状前体）、特别是OMCTS，特别适合于获得一个润滑涂层。
O2和/或一种载气、特别是氩气的存在可以增大所得涂层的润滑性。存在O2和Ar二者以及有机硅前体是特别有利的。总体上，为了获得一个润滑涂层，O2的存在量值（可以例如按sccm计的流速表示）并不远超过有机硅的量并且优选地低于有机硅的量。相反，为了获得一个阻挡涂层，O2的量典型地比有机硅前体的量高出至少一个数量级。具体地，一个润滑涂层的O2与有机硅前体的体积比率（以sccm计）是从0:1至1:1，甚至任选地从0:1至0.5:1或甚至从0:1至0.1:1。优选的是存在一些O2，相对于该有机硅前体，它的量任选地是从0.01:1至0.5:1、甚至更任选地从0.05:1至0.4:1、特别是从0.1:1至0.2:1。如在实例中给出的比率中，相对于该有机硅前体，O2以约5%至约35%（v/v，以sccm计）、特别是约10%至约20%的体积存在是特别适合于实现一个润滑涂层的。
在本发明的一个方面，在反应混合物中不存在载气，而在本发明的另一个方面，存在载气。在本发明的一个特定的方面，存在载气并且载气是氩气。当Ar为载气并且存在于反应混合物中时，它典型地以超过有机硅前体体积（以及O2体积，若存在的话）的体积（以sccm计）存在。
典型地，PECVD过程中的等离子体是在RF频率下产生的。该等离子体典型地是用以下电功率产生的：0.1至25W、任选地从1至22W、任选地从1至10W、甚至任选地从1至5W、任选地从2至4W例如3W、任选地从3至17W、甚至任选地从5至14W例如6或7.5W、任选地从7至11W例如8W。电极功率与等离子体体积的比率可以是小于10W/ml、任选地是从5W/ml至0.1W/ml、任选地是从6W/ml至0.1W/ml、任选地是从4W/ml至0.1W/ml、任选地是从2W/ml至0.2W/ml。诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。这些功率水平适合于用于给具有1至3mL的空体积（其中产生了PECVD等离子体）的注射器以及取样管以及具有类似几何形状的容器施加润滑涂层。对于较大或较小的对象所考虑的是，应该依照该基底的大小按比例决定该过程，相应地增大或减小所施加的功率。
该润滑涂层的基底典型地是一个由塑料制成的表面（例如塑料注射器的内部表面）。在本说明的其他地方列出了典型的塑料基底。在本发明的背景下特别适合的基底是COC、PET和聚丙烯，其中COC是特别适合的。
在本发明的一个特定的方面，该基底是已经涂覆有一个涂层如SiOx阻挡涂层的塑料。在所述已有涂层上施加该润滑涂层。反之，该润滑涂层也可能涂覆有另一个涂层，例如一个阻挡涂层。
在本发明的一个非常特殊的方面，通过该润滑涂层的粗糙度来影响润滑性。已经出乎意料地发现，该涂层的粗糙表面与增强的润滑性相关。这种润滑涂层的粗糙度随着激励该等离子体的功率（以瓦特计）的减小、以及通过上述量的O2的存在而增加。
根据本发明所述涂覆有一种润滑涂层的容器（例如注射器筒和/或柱塞）具有比未涂覆的容器更高的润滑性（例如通过测量Fi和/或Fm来确定）。如在此所述，它们还具有比涂覆有SiOx涂层的容器更高的润滑性。
用于在具有1/8英寸直径管（在末端是开放的）的3ml样品尺寸的注射器中制备根据本发明的润滑涂层的示例性反应条件如下：
流速范围：
OMCTS：0.5-5.0 sccm
氧气：0.1-5.0 sccm
氩气：1.0-20 sccm
功率：0.1-10瓦特
具体流速：
OMCTS：2.0 sccm
氧气：0.7 sccm
氩气：7.0 sccm
功率：3.5瓦
该涂覆设备有利地可以包括从OMCTS储器的出口到尽可能靠近注射器中的气体入口处的加热后的递送管线。
下面在V.C下更详细地描述该润滑涂层。
IB.疏水性涂层
硅像碳一样是四价的，因此偏向于形成四个键。在玻璃中，硅与氧键合，这个氧键合至另一个硅上（硅氧烷键，Si-O-Si），从而生成SiO2聚合物。形成硅氧烷键的网络，从而得到二氧化硅。在二氧化硅的表面，没有键合至其他硅原子上的氧原子作为羟基（OH）存在，称为硅羟基。因此在玻璃表面处的端基可以是具有一个或多个OH基团的硅羟基、或硅氧烷键。在晶体二氧化硅表面中、例如例如在此描述的SiOx涂层中存在孤立的硅羟基。在非晶二氧化硅如传统玻璃中存在孤立的以及邻位的硅羟基二者。不受理论限制，认为表面化学作用的化学性质很大程度上由其上的硅羟基的密度决定。具有最大的可能硅羟基密度的完全羟基化的玻璃表面是相当亲水的。硅羟基被缩合形成硅氧烷键的一个表面（即，硅羟基密度最小）具有疏水性。使用如在此描述的涂覆技术，有可能控制该涂层表面上的硅羟基密度。可以对等离子体沉积的化学作用进行控制以便创造一个完全羟基化的亲水表面或最少羟基化的疏水表面。
下面的表III示出了四个不同的药物容器表面的润湿张力。认为20达因/厘米的湿润张力是非常疏水的，而80达因/厘米的湿润张力是非常亲水的。表III中的数据显示，SiO2阻挡涂层是与传统玻璃一样亲水的。相比之下，本发明的润滑涂层（在表格中称为SiOxCyHz涂层）具有类似于COC的疏水性。
表III
Figure BDA00002385268500471
湿润张力测量的精确度为+/-3达因/厘米
在本发明的背景下“疏水的”可以表示是比未涂覆的基底（它可能是塑料或另一种涂层）更疏水的。然而如图23中例示的，它也可以表示该表面是与对比的疏水表面（像图23d中的COC表面）一样疏水的。优选地，“疏水的”是指润湿张力小于60达因/厘米，更优选小于50达因/厘米，特别是润湿张力为15达因/厘米至46达因/厘米或从20达因/厘米至35达因/厘米。
在此考虑用于疏水表面涂层的PECVD条件与用于润滑涂层的是类似的，并且事实上可能的是一个涂层可以在有用程度上提供这两个功能。
通过将SiOx涂层方案（US2010/0298738A1，第1000至1011段）与疏水涂层方案（US2010/0298738A1，第1012至1023段）比较而展示了将疏水涂层施加至SiOx涂层上的条件差异。设备和前体（HMDSO）在这两个方案中是相同的，但是条件不同、并且总体上对于疏水涂层是更温和的，如通过以下示例性条件展示的：
参数SiOx方案疏水方案
O2流速90sccm 60sccm
气体递送过程中管内的压力
300mTorr  270mTorr
PECVD RF功率50瓦39瓦
通电时间5秒7秒
疏水涂层的一个有利特征在于，它可以任选地使用与SiOx涂层和/或该润滑涂层相同的设备进行施加，因此所有PECVD涂层都可以在单一过程中相继施加，其条件改变极小。
该疏水涂层可以具有比未涂覆的表面更低的湿润张力，任选地该湿润张力是从20至72达因/厘米、任选地30至60达因/厘米、任选地30至50达因/厘米、30至40达因/厘米、任选地34达因/厘米。所提出的一个湿润张力，即34达因/厘米，与硼硅酸盐玻璃上的一个流体硅涂层的（30达因/厘米）相似。
图23示出了根据本发明的一个疏水涂层以及根据本发明的一个亲水涂层的效果。
II.容器支架
II.A.为生产本发明的涂层，提供了一个容器支架。提供了便携式容器支架38、50和482用于容纳并且输送一个具有开口的容器同时对容器进行处理。该容器支架包括一个容器端口、一个第二端口、一个管道以及一个可输送壳体。
II.A.该容器端口被配置为使一个容器开口就位于一个相互连通的关系中。该第二端口被配置为接收一个外部气体供应或通气口。该管道被配置为用于使一种或多种气体在一个就位在该容器端口上的容器开口与该第二端口之间通过。该容器端口、第二端口以及管道是以实质上刚性的关系附接到该可输送壳体上的。任选地，该便携式容器支架的重量小于五磅。一种轻型容器支架的优点是可以将它更容易地从一个处理站运送到另一个站。
II.A.在某些容器支架的实施方案中，该管道更确切地是真空管道并且该第二端口更确切地是真空端口。该真空管道被配置为用于从就位在容器端口上的容器经由该容器端口抽出气体。该真空端口被配置为用于在真空管道与外真空源之间进行连通。该容器端口、真空管道、以及真空端口可以按实质上刚性的关系附接到该可输送壳体上。
II.A.例如在图1中示出了这些容器支架。具有容器端口82的容器支架50被配置为接收容器80的开口并使其就位。就位的容器80的内表面可以经由容器端口82进行处理。容器支架50可以包括一个管道，例如真空管道94，用于从就位在容器端口92上的容器80抽取气体。容器支架可以包括一个第二端口，例如连通在真空管道94与外真空源（如真空泵98）之间的真空端口96。容器端口92和真空端口96可以具有密封元件，例如O形环对接密封件，分别为100和102，或在容器端口82的内部或外部圆柱壁与容器80的内部或外部圆柱壁之间的侧密封件，用于接收容器80或外真空源98并与之形成一个密封，同时允许通过端口进行连通。可以使用（或还使用了）垫圈或其他密封布置。
II.A.容器支架（如50）可以用任何材料制成，例如热塑性材料和/或非导电材料。或者，容器支架（如50）可以部分或者甚至主要地由导电材料制造并且面向非导电材料，例如在由容器端口92、真空管道94、以及真空端口96限定的通道中。适合的用于容器支架50的材料的实例是：聚缩醛，例如由E.I.du Pont De Nemours和Wilmington Delaware公司销售的
Figure BDA00002385268500501
乙缩醛材料；聚四氟乙烯（PTFE），例如由E.I.du Pont DeNemours和Wilmington Delaware公司销售的
Figure BDA00002385268500502
PTFE；超高分子量聚乙烯（UHMWPE）；高密度聚乙烯（HDPE）；或本领域已知的或新发现的其他材料。
II.A.图1还说明了该容器支架（如50），当它靠近或就位在端口92上时，可以具有用于使容器80居中的一个轴环116。
图10是用于例如可以与任何其他附图的实施方案一起使用的、容器支架482的一个可替代结构。容器支架482包括在接头488处连接的一个上部分484和一个底座486。一个密封元件（例如一个O形环490（其右侧被切除以允许该凹座将它保持，这有待描述））被捕获在接头488处的一个上部分484和一个底座486之间。在该展示的实施方案中，当上部分484被连接到底座486上时，该O形环490被接收在一个环形凹座492中以将该O形环定位。
II.B.在这个实施方案中，当上部分484与底座486连接（在这种情况下是通过螺钉498和500连接的）时，O形环490被捕获并且顶靠径向延伸的对接表面494和部分限定凹座492的径向延伸的壁496。于是O形环490就位于上部分484与底座486之间。在上部分484与底座486之间捕获的O形环490还接收了容器80（在这个图中为了清楚说明其他的特征而被去掉）并且形成了关于容器80的开口的容器端口502的一个第一O形环密封件，类似于关于容器背侧开口的O形环密封件安排。
II.B.在这个实施方案中（虽然不要求），容器端口502具有第一O形环490密封件和第二轴向间隔的O形环504密封件这二者，各自具有一个内径（如被确定尺寸为506）以接收容器（如80）的外径（类似于该侧壁），用于在容器端口502与容器（如80）之间进行密封。在O形环490与504之间的间距为容器（如80）提供了支持（在两个轴向间隔的点处），阻止了该容器（如80）相对于O形环490和504或容器端口502而倾斜。在这个实施方案中（虽然不要求），径向延伸的对接表面494位于O形环490和506密封件的近侧并且围绕真空管道508。
III密封在容器支架上的处理容器
III.A.图1示出了一种用于处理容器80的方法。该方法可以如下进行。
III.A.可以提供具有开口82和限定内表面88的壁86的容器80。正如一个实施方案，可以在模具（如22）中成形容器80并且然后从中将它移出。任选地，在从该模具中移开该容器之后的60秒内、或者在30秒内、或者在25秒内、或者在20秒内、或者在15秒内、或者在10秒内、或者在5秒内、或者在3秒内、或者在1秒内、或者在处理期间一旦容器80可以被移动而不会扭曲它时（假定它是在一个升高的温度下制成的，从此后它被逐渐冷却）就可以使容器开口82就位在容器端口92上。容器80从模具22至容器端口92的迅速移动减少了可能到达表面88的粉尘或其他杂质并且阻止或预防了阻挡涂层或其他类型的涂层90的粘附。而且，在它被制成以后在容器80上抽真空越快，则任何微粒杂质粘附到内表面88上的机会就越小。
III.A.可以提供一个包括容器端口92的容器支架（如50）。可以使容器80的开口82就位在容器端口92上。在容器80的开口82就位到容器端口92之前、期间或者之后，容器支架（如40）可以被运送进入与一个或多个支承表面220-240的接合从而相对于处理设备或处理站（如24）而定位容器支架40。
III.A.然后可以在第一处理站经由容器端口92处理就位的容器80的内表面88，该第一处理站可以是，作为一个实例，在图1中示出的阻挡层施加（barrier application）涂覆站或其他类型的涂覆站28。将容器支架50和就位的容器80从第一处理站28运送至第二处理站（例如处理站32）。可以在第二处理站（如32）经由容器端口92处理就位的容器80的内表面88。
III.A.任何以上方法可以包括进一步的从容器支架（如66）移开容器80的步骤，之后在第二处理站或设备处理就位的容器80的内表面88。
III.A.任何以上方法在移开步骤之后可以包括进一步的提供具有开口82和限定内表面88的壁86的第二容器80的步骤。第二容器（如80）的开口82可以就位在另一容器支架（如38）的容器端口92上。在第一处理站或设备（如24）可以经由容器端口92处理就位的第二容器80的内表面。可以将容器支架（如38）和就位的第二容器80从第一处理站或设备24运送至第二处理站或设备（如26）。可以通过第二处理站或设备26经由容器端口92处理就位的第二容器80。
IV.用于制造容器的PECVD装置
IV.A.包括容器支架、内电极、作为反应室的容器的PECVD装置
IV.A.适合于执行本发明的一种PECVD设备包括容器支架、内电极、外电极、以及电源。就位在容器支架上的容器限定了一个等离子体反应室，它任选地可以是真空室。任选地，可以供给真空源、反应气体源、气体进料或这些之中的两种或更多种的组合。任选地，提供了并不必需包括真空源的放气管，用于将气体传递至就位在该端口上的容器的内部或者传递来自该容器的内部气体，以限定一个闭合室。
IV.A.该PECVD装置可以用于大气压PECVD，在这种情况下等离子体反应室不需要作为真空室而起作用。
IV.A.在图1中，容器支架50包括气体输入端口104，用于将气体输送到就位在容器端口上的一个容器中。气体输入端口104具有一个由至少一个O形环106、或者两个串接的O形环、或者三个串接的O形环提供的滑动密封件，当探头108通过气体输入端口104被插入时，它们可以倚靠圆柱形探头108而就位。探头108可以是一个进气口导管，该进气口导管延伸至在它的远端110处的气体递送端口。展示的实施方案的远端110可以被深深插入到容器80中用于提供一种或多种PECVD反应物以及其他气态反应物或工艺气体。
IV.A.图11示出了例如可以与所展示的所有实施方案一起使用的涂覆站28的额外的任选的细节。在它的通往压力传感器152的真空管线576中，涂覆站28还可以具有一个主真空阀574。在旁路管线580中提供了一个手动旁路阀578。一个排气阀582控制了排气口404处的流速。
IV.A.PECVD气体或前体源144的流出是由调节通过主反应物进料管线586的流速的主反应气体阀584来控制的。气源144的一个组件是有机硅液体储器588。通过有机硅毛细管线590抽取储器588的内容物，以合适的长度提供了管线590以提供所希望的流速。由有机硅截止阀592控制有机硅蒸气的流速。对液体储器588顶部空间614施加压力，例如一个来自压力源616（如通过压力管线618连接到顶部空间614的加压空气）的范围在0-15psi（0至78cm.Hg）的压力，以建立不依赖于大气压（以及其中的波动）的可重复的有机硅液体递送。储器588是密封的并且毛细管连接620是在储器588的底部，以确保只有纯净的有机硅液体（不是来自顶部空间614的加压气体）流过毛细管590。如果有必要或者希望的话，任选地可以加热该有机硅液体至高于环境温度以使该有机硅液体蒸发，形成一种有机硅蒸气。从氧气罐594经由氧气进料管线596提供氧气，该氧气进料管线由质量流速控制器598控制并且配备有一个氧气截止阀600。
IV.A.特别是参考图1，处理站28可以包括一个通过射频电源162供电的电极160，用于在处理期间提供一个电场以在容器80内产生等离子体。在这个实施方案中，探头108也是导电并且接地的，因此在容器80内提供了一个对电极。可替代地，在任何实施方案中，外电极160可以接地并且探头108被直接连接到电源162上。
IV.A.在图1的实施方案中，外电极160可以通常如图1和2中所展示是圆柱形的，或者如图1中所展示通常是一个U形狭长通道（图2是沿图1的截线A-A截取的部分的实施方案）。每一个展示的实施方案具有一个或多个侧壁，如164和166，以及任选的顶端168，极为贴近地围绕容器80配置。
IV.A图1中示出的电极160可以成形为类似“U”形通道，它的长度进入纸面，并且在处理/涂覆工艺期间该橡胶圆盘或容器支架50可以通过激活的（被供能的）电极而移动。注意的是，因为使用了外部和内部电极，这个装置可以采用在50Hz与1GHz之间的、从电源162施加到该U形通道电极160上的频率。探头108可以接地以完善电路，允许电流通过一种或多种低压气体而流到容器80的内部。该电流产生等离子体以允许该器件的内部表面88的选择性处理和/或涂覆。
IV.A在图1中的电极还可以由脉冲电源供能。脉冲允许反应气体的消耗，进而在激活和消耗（再次）反应气体之前除去副产物。典型地脉冲功率系统的特征在于它们的工作周期，该工作周期决定了存在的电场（并且因此是等离子体）的时间量。通电时间是与断电时间相对的。例如10%的工作周期可以相应于10%周期的通电时间，其中90%的时间电源是关闭的。作为一个具体的实例，可以通电0.1秒并且断电1秒。脉冲功率系统减少了对于给定电源162的有效功率输入，因为断电时间导致了增加的处理时间。当该系统是脉冲系统时，生成的涂层可以是非常纯的（没有副产物或污染物）。脉冲系统的另一个结果是可能实现原子层或涂层沉积（ALD）。在这种情况下，可以调整工作周期，这样通电时间导致沉积所希望的材料的单层或涂层。以这种方式，考虑了在每一周期中沉积一个单原子层或涂层。这一方法可以导致高纯度且高度结构化的涂层（虽然在聚合物表面上沉积需要的温度下，但是任选地保持低温（<100°C）并且低温涂层可以是非晶相的）。
IV.A.一个可替代的涂覆站采用微波腔代替外电极。施加的能量可以是一种微波频率，例如2.45GHz。然而，在本发明的上下文中，射频是优选的。
V.1PECVD涂层前体
用于本发明的PECVD涂层的前体宽泛地定义为一种有机金属前体。在本说明书中一种有机金属前体被定义为具有有机残基（例如烃、氨羰基或氧碳（oxycarbon）残基）的从元素周期表中的第III族和/或IV族的金属元素的广泛的化合物。如目前所定义的有机金属化合物包括具有直接键合（或任选地通过氧或氮原子进行键合）到硅或其他第III/IV族金属原子上的有机部分的任何前体。元素周期表第III族的有关元素是硼、铝、镓、铟、铊、钪、钇以及镧，铝和硼是优选的。元素周期表第IV族的有关元素是硅、锗、锡、铅、钛、锆、铪以及钍，其中硅和锡是优选的。还可以考虑的是其他挥发性有机化合物。然而，有机硅化合物对于进行本发明是优选的。
考虑了一种有机硅，其中一种“有机硅前体”贯穿本说明书最宽泛地定义为具有至少一个以下连接的化合物：
Figure BDA00002385268500551
或者
Figure BDA00002385268500552
就在以上的第一结构是连接到一个氧原子以及一个有机碳原子（一个有机碳原子是键合到至少一个氢原子上的碳原子）上的四价硅原子。就在以上的第二结构是连接到一个NH-连接以及一个有机碳原子（一个有机碳原子是键合到至少一个氢原子上的碳原子）上的四价硅原子。任选地，该有机硅前体是选自下组，该组由以下各项组成：线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、以及这些前体之中的任何两种或更多种的组合。还考虑作为前体的是一种烷基三甲氧基硅烷（尽管不在以上两个式内）。
如果使用一种含氧的前体（例如一种硅氧烷），则在形成一种疏水或润滑涂层的条件下从PECVD生成的代表性的预测的经验组合物可以是如在定义部分定义的SiwOxCyHz，而在形成一个阻挡涂层的条件下从PECVD生成的代表性的预测的经验组合物是SiOx，其中在这个式中x是从大约1.5至大约2.9。如果使用一种含氮前体（例如一种硅氮烷），则预测的组合物将是Siw*Nx*Cy*Hz*，即如在定义部分所指明的SiwOxCyHz，O被N代替并且这些下标与O相比适应于更高原子价的N（3而不是2）。对于在它的氮杂对应物（azacounterpart）中相应的下标，后者的适应通常将遵循在硅氧烷中的w、x、y以及z的比率。在本发明的一个特定方面，Siw*Nx*Cy*Hz*，其中w*、x*、y*、以及z*的定义与对于硅氧烷对应物中的w、x、y以及z相同，除了任选的氢原子的偏差之外。
具有以上经验式的一种类型的前体起始材料是一种线性硅氧烷，例如具有下式的一种材料：
Figure BDA00002385268500561
其中，R各自独立地选自烷基，例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、乙烯基、炔或其他，并且n是1、2、3、4、或更大，任选地是2或更大。考虑的线性硅氧烷的几个实例是
六甲基二硅氧烷（HMDSO）、
八甲基三硅氧烷、
十甲基四硅氧烷、
十二甲基五硅氧烷、
或这些之中的两种或更多种的组合。对于制造类似的涂层，类似的硅氮烷也是有用的，其中-NH-取代了在以上结构中的氧原子。考虑的线性硅氮烷的几个实例是八甲基三硅氮烷、十甲基四硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的组合。
V.C.另一种类型的前体起始材料是一种单环硅氧烷，例如具有以下结构式的一种材料：
Figure BDA00002385268500571
其中R是如对于该线性结构所定义的并且“a”是从3至大约10，或者类似的单环硅氮烷。考虑的杂取代的以及未取代的单环硅氧烷以及硅氮烷的几个实例包括：
1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3,3,3-三氟丙基)甲基]环三硅氧烷
2,4,6,8-四甲基-2,4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷
五甲基环戊硅氧烷，
五乙烯基五甲基环戊硅氧烷，
六甲基环三硅氧烷，
六苯基环三硅氧烷，
八甲基环四硅氧烷（OMCTS），
八苯基环四硅氧烷，
十甲基环戊硅氧烷，
十二甲基环己硅氧烷，
甲基(3,3,3-三氟丙基)环硅氧烷，
还考虑了环有机硅氮烷，如
八甲基环四硅氮烷，
1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基环四硅氮烷六甲基环三硅氮烷，
八甲基环四硅氮烷，
十甲基环戊硅氮烷，
十二甲基环己硅氮烷，或
或这些之中的任何两种或更多种的组合。
V.C.另一种类型的前体起始材料是一种多环硅氧烷，例如具有以下结构式之一的材料：
Figure BDA00002385268500581
其中Y可以是氧或氮，E是硅，并且Z是一个氢原子或一个有机取代基，例如烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、乙烯基、炔或其他。当Y各自是氧时，从左到右这些对应的结构是杂氮硅三环（silatrane）、准杂氮硅三环（silquasilatrane）以及前杂氮硅三环（silproatrane）。当Y是氮时，则这些对应的结构是氮杂杂氮硅三环（azasilatrane）、氮杂准杂氮硅三环（azasilquasiatrane）以及氮杂前杂氮硅三环（azasilproatrane）。
V.C.另一种类型的多环硅氧烷前体起始材料是一种聚倍半硅氧烷，具有经验式RSiO1.5以及以下结构式：
Figure BDA00002385268500582
其中R是一个氢原子或一个有机取代基，例如烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、乙烯基、炔或其他。这种类型的两种商业的材料是SST-eM01聚(甲基倍半硅氧烷)，其中R各自是甲基；以及SST-3MH1.1聚(甲基-氢化倍半硅氧烷)，其中90%的R基团是甲基，10%是氢原子。在例如一种10%的四氢呋喃溶液中这种材料是可供使用的。还可以考虑这些之中的两种或更多种的组合。考虑的前体的其他实例是甲基杂氮硅三环（CAS号2288-13-3）（其中Y各自是氧原子并且Z是甲基）、甲基氮杂杂氮硅三环（methylazasilatrane）、聚(甲基倍半硅氧烷)（例如SST-eM01聚(甲基倍半硅氧烷)）（其中R各自任选地可以是甲基）、SST-3MH1.1聚(甲基-氢化倍半硅氧烷)（例如SST-3MH1.1聚(甲基-氢化倍半硅氧烷)）（其中90%的R基团是甲基并且10%是氢原子），或这些之中的任何两种或更多种的组合。
V.C.对于制造类似的涂层，类似的聚倍半硅氮烷也是有用的，其中-NH-取代了在以上结构中的氧原子。所考虑的聚倍半硅氮烷的实例是聚(甲基倍半硅氮烷)（其中R各自是甲基）、以及聚(甲基-氢化倍半硅氮烷)（其中90%的R基团是甲基，10%是氢原子）。还可以考虑这些之中的两种或更多种的组合。
V.C.用于根据本发明的润滑层或涂层的一种特别考虑的前体是一种单环硅氧烷，例如是八甲基环四硅氧烷。
用于根据本发明的疏水层或涂层的一种特别考虑的前体是一种单环硅氧烷，例如是八甲基环四硅氧烷。用于根据本发明的疏水层或涂层的另一种特别考虑的前体是一种线性硅氧烷，例如HMDSO。
用于根据本发明的阻挡涂层的一种特别考虑的前体是一种线性硅氧烷，例如是HMDSO。
V.C.在根据本发明的任一种涂覆方法中，该施加步骤任选地可以通过将该前体蒸发并且将其提供到该基底的附近来进行。例如，OMCTS通常在将其施加到该PECVD装置之前将其加热到大约50°C而蒸发。
V.2通常的PECVD法
在本发明的背景下，通常应用以下PECVD方法，该方法包括以下步骤：
(a)提供一种工艺气体，该气体包括一种如在此定义的前体、任选地一种氧化性气体、任选地一种载气、以及任选地一种烃；以及
(b)从该工艺气体产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在基底表面上形成一个涂层。
在此使用的等离子体涂覆技术是基于等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）。适合于进行所述PECVD涂覆的方法以及装置描述于以下各项中：2010年5月12日提交的EP10162755.2、2010年5月12日提交的EP10162760.2，2010年5月12日提交的EP10162756.0、2010年5月12日提交的EP10162758.6、2010年5月12日提交的EP10162761.0、以及2010年5月12日提交的EP10162757.8。如在其中描述的PECVD方法和装置适合于进行本发明并且因此通过引用结合在此。
不受理论限制，假定在本发明的PECVD过程中，该涂层共价地附接至该涂覆的表面上（它可以是塑料基底表面或一个在基底表面上已经存在的涂层的表面，例如SiOx阻挡涂层）。该过程使用硅源（例如HMDSO或OMCTS）、氧气、射频（RF）和带电电极来产生等离子体。任选地，还存在一种载气，像氩气。在具体应用中还可以存在一种烃类气体。在所使用的压力和功率下，该等离子体过程是由电子碰撞电离来驱动的，即，在该过程中电子是反应的驱动力。该过程利用RF来激发电子，从而产生比对等离子体中的电子供能的传统标准方法（即，微波）更低的温度。
包含高能电子和气体离子的混合物的等离子体在该塑料（例如COC）表面上沉积了一个含硅和氧化物的涂层。来自该等离子体的电子在引发了等离子体反应后在聚合物表面处相互作用，从而通过破坏C-H键而“蚀刻”该表面（当再次涂覆一个涂层时发生类似的“通过破坏键而蚀刻”，例如当将一个润滑涂层施加至SiOx阻挡涂层上时）。在恰当条件下，认为这些位点接着充当了成核点，在此Si-O-Si骨架（由气相中含硅的分子的电离而形成）与该聚合物键合，由此该涂层生长，最终在整个聚合物表面上形成一个均一的连续涂层。有机硅前体中的硅-碳（硅至甲基）键可以与氧起反应，从而破坏甲基与硅之间的键并重构与塑料表面或该表面上已经存在的Si-O基团的键。
由于该涂层是由一种完全填充了它所占据的容器的等离子体（为电离后的气体）生长的，因此在分子水平上获得了一个致密的、均一的并且正形的涂层。参见图21和22。通过使用纯净前体气体确保了该涂层的纯度。这个过程得到了具有均一、可控能量的表面。用原子力显微镜术（AFM）、FTIR、TOF-SIMS、XPS、化学分析用电子能谱法（ESCA）和扫描电子显微镜术对涂层的分析表征可以确认纯度和均一性。
PECVD技术的一个示例性的优选实施方案将在以下部分说明。
该方法利用了在一个容器内在减压（毫托范围，大气压力是760托）下可以与氧结合的含硅蒸气。
然后将例如在13.56MHz[射频范围]的产生的电场施加在一个外部电极与一个内部接地气体入口之间以产生等离子体。在用来涂覆一个容器的压力和功率下，该等离子体过程是由电子碰撞电离驱动的，这表示在该过程中的电子是在化学作用之后的驱动力。确切地说，等离子体通过含硅材料[例如，六甲基二硅氧烷（HMDSO）或其他反应物，像八甲基环四硅氧烷（OMCTS）]的电子碰撞电离驱动了这个化学反应，从而导致一个二氧化硅或SiwOxCyHz涂层沉积在该容器的内表面上。在一个典型的实施方案中，这些涂层的厚度是在20或更多纳米的数量级上。HMDSO由一个Si-O-Si主链与附接到硅原子上的六个（6）甲基基团组成。该过程破坏了Si-C键并且（在该管或注射器的表面上）与氧进行反应从而产生了二氧化硅。由于该涂层是在一个原子基础上生长的，具有20-30纳米厚度的致密的共形涂层可以实现显著的阻挡特性。这种氧化硅充当气体、湿气以及小的有机分子的物理阻挡层，并且具有比商用玻璃更高的纯度。OMCTS产生了具有润滑性或抗粘附特性的涂层。它们的平均厚度通常大于SiOx阻挡涂层的厚度，例如是平均从30至1000nm。某个粗糙度可以增强该润滑涂层的润滑特性，因此其厚度有利地是在整个涂层上并不均一的（见下文）。然而，也考虑了一个均一的润滑涂层。
该技术在以下几个方面是独特的：
(a)该过程利用了刚性容器作为真空室。PECVD常规地使用一个二次真空容器，在该容器内载入并且涂覆了一个或多个部件。使用该容器作为一个真空室显著简化了该工艺装置并且减少了循环/处理时间，并且因此减少了制造成本和资金。这个方法还减少了扩大规模的问题，因为扩大规模如同复制为了满足吞吐量要求所需要的管或注射器的数目一样简单。
(b)等离子体的射频激发允许能量被赋予到该电离气体，而很少加热该部件。不像典型地在PECVD中所使用的微波激发能量（将大量的能量赋予到部件本身中的水分子上），射频将并不优选地加热该聚合物管或注射器。受控的热量吸收对于防止基底温度升高到接近塑料玻璃化转变温度而引起尺寸完整性（在真空中塌陷）的损失是关键的。
(c)单层的气体阻挡层涂覆，这项新技术可以直接地在该部件的内表面上产生一个二氧化硅单层。绝大多数的阻挡技术（薄膜）要求至少两个层。
(d)结合的阻挡-润滑涂层，这项新的技术利用了一个结合的SiOx/SiwOxCyHz涂层来提供多个性能属性（阻挡/润滑性）。该润滑涂层也可以再次被涂覆有一个阻挡涂层。
在一个优选的方面，这种等离子体沉积技术利用了一个简单的制造结构。这个系统是基于一个“橡胶圆盘”，该橡胶圆盘用于将多个管和注射器运送入或运送离开该涂覆站。这种设备-橡胶圆盘界面是关键的，因为一旦以中试规模建立了涂覆/特征条件，则当移动到一个全规模生产时不存在比例缩放问题；只需通过该相同的过程增加橡胶圆盘的数目。该橡胶圆盘从一种高分子材料（例如，DelrinTM）制造以提供一种电绝缘基座。将该容器安装到该橡胶圆盘中，其最大的开口抵靠一个O型环（安装在该橡胶圆盘自身之内）而密封。该O型环提供了部件与该橡胶圆盘之间的真空密封，这样可以除去（降低的压力）环境空气（主要是氮气和氧气与一些水蒸气）并且引入工艺气体。该橡胶圆盘具有除O型环密封之外的几个关键特征。该橡胶圆盘提供了连接到该真空泵（将大气气体以及二氧化硅反应的副产物泵送离开）上的一个手段、在该部件中精确地对准气体入口的一个手段、以及在该橡胶圆盘与气体入口之间提供真空密封的一个手段。
为了SiO2沉积，然后允许HMDSO和氧气气体通过向上延伸进入该部件的接地气体入口而引入到该容器内。在这个点处，该橡胶圆盘以及容器移动到电极区域中。该电极是由一种导电材料（例如铜）构成的并且提供了该部件穿过其中的一个通道。该电极不与该容器或橡胶圆盘进行物理接触并且是被独立支持的。将一个RF阻抗匹配网络和电源直接连接到该电极上。该电源为该阻抗匹配网络提供能量（以13.56MHz）。该RF匹配网络起作用而将该电源的输出阻抗与该电离气体的复（电容的以及电感的）阻抗相匹配。该匹配网络将最大功率递送到该电离气体，确保二氧化硅涂层的沉积。
一旦涂覆了该容器（当该橡胶圆盘移动该容器通过该电极通道时，该电极通道是静止的），将这些气体终止并且允许大气（或纯的氮气）进入该橡胶圆盘/容器内以将其恢复到大气压。此时，该容器可以从该橡胶圆盘移开并且移动到下一个处理站。
以上内容清楚地描述了涂覆一种具有仅一个开口的容器的方式。对于注射器，在装载到该橡胶圆盘上之前以及之后需要一个另外的步骤。因为注射器在两端具有开口（一个用于连接到针头上并且第二个用于安装一个柱塞），所以针头端必须在涂覆之前进行密封。以上过程允许反应气体进入到该塑料部件内部，允许一个电流穿过该部件内的气体并且允许在该部件的内部建立一个等离子体。正是该等离子体（HMDSO或OMCTS与氧气的一种电离组合物）驱动了该化学作用以及等离子体涂层的沉积。
在该方法中，这些涂层特征有利地是通过一个或多个以下条件来设定的：等离子体特性、施加等离子体的压力、产生等离子体所施加的功率、气体反应物中O2的存在以及相对量、在该气态反应物中载气例如氩气的存在和相对量、等离子体体积、以及有机硅前体。任选地，这些涂层特征是通过气体反应物中O2的存在以及相对量和/或载气（例如氩气）的存在和相对量和/或产生等离子体所施加的功率来设定的。
在本发明的所有实施方案中，特别是当形成一个SiOx涂层时，等离子体在一个任选的方面是一种非空心阴极等离子体（non-hollow-cathodeplasma）。在一个替代的任选方面，存在空心阴极等离子体，特别是当形成一个润滑涂层时。
在另一个优选的方面，该等离子体在减压（与环境或大气压相比）下产生的。任选地，该减压是小于300毫托，任选地小于200毫托，甚至任选地小于100毫托。
PECVD任选地是通过用电极激励该含有该前体的气体反应物来进行的，这些电极以微波频率或射频（并且任选地以射频）来供能的。优选用于进行本发明的实施方案的射频还可以被称为“RF频率”。用于进行本发明的典型的射频范围是从10kHz至小于300MHz，任选地从1至50MHz，甚至任选地从10至15MHz的频率。13.56MHz的频率是最优选的，这是政府批准的用于进行PECVD工作的频率。
相对于使用一种微波源，使用RF电源存在几个优点：因为RF在一个更低的功率下运行，存在更少的基底/容器的加热。因为本发明的焦点是将等离子体涂层置于塑料基底上，所以较低的处理温度是所希望的，以防止该基底的熔化/变形。为了防止在使用微波PECVD时的基底过热，以短脉冲通过功率的脉冲产生来施加微波PECVD。功率的脉冲延长了用于涂覆的循环时间，这在本发明中是不希望的。较高频率的微波还引起了该塑料基底中挥发性物质，像残留水、低聚物以及其他材料的排气（offgassing）。这种排气会干扰PECVD涂覆。使用微波用于PECVD的一个主要的顾虑是涂层从基底的层离。因为在沉积该涂覆层之前，微波改变了基底的表面，所以会发生层离。为了减小层离的可能性，已经研制了多个界面涂覆层用于微波PECVD以实现在该涂层与基底之间的良好结合。使用RF PECVD不需要这样的界面涂覆层或涂层，因为不存在层离的风险。最后，有利地使用较低的功率来施加根据本发明的润滑层或涂层以及疏水层或涂层。相比于微波功率，RF功率在较低的功率下运行并且提供了更多的对于PECVD过程的控制。尽管如此，微波功率虽然是次优选的，但在适当的工艺条件下是可用的。
此外，对于在此所描述的所有PECVD方法，在用来产生等离子体的功率（以瓦特计）与等离子体在其中产生的内腔的体积之间存在一种特异相关性。典型地，该内腔是根据本发明涂覆的一种容器的内腔。如果采用相同的电极系统的话，则RF功率应该与该容器的体积成比例。一旦已经设定气体反应物的组成（例如该前体与O2之间的比率）以及所有其他PECVD涂覆方法的参数（除功率之外），当一个容器的几何形状保持不变并且仅其体积改变时，典型地它们将不会变化。在这种情况下，该功率将与该体积成正比。因此，从本说明书提供的功率与体积的比率开始，可以很容易地找到为了在一个具有相同几何形状但是不同大小的容器中完成相同的或类似的涂层而必须施加的功率。通过对于注射器筒的实例与对于管的实例相比较的结果来说明容器的几何形状对有待施加的功率的影响。
对于本发明的任何涂层，等离子体是用具有足以在该基底表面上形成一个涂层的功率供能的电极来产生的。对于一个润滑涂层或涂层或疏水层或涂层（一个层也可以既是润滑性的又是疏水性的），在根据本发明的一个实施方案的方法中，等离子体任选地是通过以下各项产生的
(i)使用提供有以下电功率的电极：从0.1至25W、任选地从1至22W、任选地从1至10W、甚至任选地从1至5W、任选地从2至4W例如3W、任选地从3至17W、甚至任选地从5至14W例如6或7.5W、任选地从7至11W例如8W；和/或(ii)其中电极功率与等离子体体积的比率是小于10W/ml，任选地是从6W/ml至0.1W/ml，任选地是从5W/ml至0.1W/ml，任选地是从4W/ml至0.1W/ml，任选地是从3W/ml至0.2W/ml，任选地是从2W/ml至0.2W/ml。
诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。
对于一个阻挡涂层或SiOx涂层，该等离子体任选地是通过以下各项产生的
(i)使用提供有以下电功率的电极：从8至500W、任选地从20至400W、任选地从35至350W、甚至更任选地从44至300W、任选地从44至70W；和/或
(ii)电极功率与等离子体体积的比率是等于或大于5W/ml，任选地是从6W/ml至150W/ml，任选地是从7W/ml至100W/ml，任选地从7W/ml至20W/ml。
诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。这些功率水平适合于用于给具有1至3mL的空体积（其中产生了PECVD等离子体）的注射器以及取样管以及具有类似几何形状的容器施加润滑涂层。对于较大或较小的对象所考虑的是，应该依照该基底的大小按比例决定该过程，相应地增大或减小所施加的功率。
该容器的几何形状还可以影响用于PECVD涂覆的气体入口的选择。在一个特定的方面，可以用一个开放的管入口来涂覆一个注射器，并且可以用一个具有多个小孔的气体入口来涂覆一个管，该气体入口延伸到该管内部。
用于PECVD的功率（以瓦特计）还可以影响涂层特性。典型地，功率的增加将增加涂层的阻挡特性，并且功率的减小将增加该涂层的润滑性以及疏水性。这被展示在了若干实例中，特别是实例E至V中。这还在EP 2251455A2的实例中得以证明，特此将其明确地引用。
决定涂层特性的另一个参数是用于产生等离子体的气体反应物中的O2（或另一种氧化剂）与该前体（例如，有机硅前体）的比率。典型地，气体反应物中O2比率的增加将增加涂层的阻挡特性，并且O2比率的减小将增加涂层的润滑性以及疏水性。
如果一个润滑层或涂层是所希望的，则任选地O2是以与气体反应物的体积-体积比率为从0:1至5:1、任选地从0:1至1:1、甚至任选地从0:1至0.5:1、或甚至从0:1至0.1:1而存在。优选的是存在一些O2，相对于该有机硅前体，它的量任选地是从0.01:1至0.5:1、甚至更任选地从0.05:1至0.4:1、特别是从0.1:1至0.2:1。如在实例中给出的比率中，相对于该有机硅前体，O2以约5%至约35%（v/v，以sccm计）、特别是约10%至约20%的体积存在是特别适合于实现一个润滑涂层的。
如果在另一方面，一个阻挡涂层或SiOx涂层是所希望的，则相对于该含硅前体，O2任选地以与气体反应物从1:1至100:1的体积:体积比率而存在，任选地从5:1至30:1的比率，任选地从10:1至20:1的比率，甚至任选地15:1。
V.A.使用等离子体施加SiOx阻挡层的PECVD，该等离子体基本上不含空心阴极等离子体
V.A.一个具体的实施方案包括一种施加一个SiOx阻挡涂层的方法，该涂层在本说明书（除非在具体的情况下另外说明）中被定义为一个含有硅、氧、以及任选的其他元素的涂层，其中x，氧与硅原子的比率是从大约1.5至大约2.9，或1.5至大约2.6，或大约2。x的这些替代的定义适用于在本说明书中任何使用的术语SiOx。将阻挡涂层施加到一个容器（例如一个采样管、一个注射器筒或另一种类型的容器）的内部。该方法包括几个步骤。
V.A.提供一个容器壁，如同是一种反应混合物，该混合物包括形成等离子体的气体，即，一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化性气体，以及任选地一种烃气体。
V.A.等离子体在反应混合物中形成，基本上不含空心阴极等离子体。使该容器壁与该反应混合物接触，并且将SiOx涂层沉积到该容器壁的至少一个部分上。
V.A.在某些实施方案中，考虑在遍及该有待涂覆的容器壁的部分上产生一种均匀的等离子体，因为在某些情况下已经发现产生了提供更好的阻挡氧气的SiOx涂层。均匀的等离子体表示不包含实质的量的空心阴极等离子体（这种等离子体具有比规则的等离子体更高的发射强度并且显示为中断了规则的等离子体的更均匀的强度的更高强度的一个局部区域）的规则的等离子体。
V.A.空心阴极效应由一对导电性表面产生，这一对表面相对于一个共同阳极以相同的负电势彼此相对。如果留有间隔（取决于压力以及气体类型）这样使得空间电荷层（space charge sheath）重叠，则电子开始在相反的壁层的反射性电势（reflecting potential）之间振荡，导致多重碰撞，因为这些电子被跨过层区域的电势梯度加速了。这些电子被限制在空间电荷层重叠中，这导致了非常高的电离作用以及高离子密度的等离子体。这种现象被描述为空心阴极效应。本领域的普通技术人员能够改变处理条件，例如功率水平以及进料速度或气体的压力，从而在各处形成均匀的等离子体或者形成包括不同程度的空心阴极等离子体的等离子体。
V.A.出于以上给出的原因，典型地使用RF能量产生该等离子体。在一个替代地但是较不典型的方法中，可以使用微波能在一个PECVD过程中产生等离子体。然而处理条件可以不同，因为施加到一个热塑性容器上的微波能将激发（振动）水分子。因为在所有的塑料材料上存在少量的水，所以微波将加热该塑料。当塑料被加热时，相对于器件外的大气压，由器件内的真空产生的大的驱动力将会吸引材料游离出来或容易地将其脱附到内表面88上，在那里这些材料将变成挥发性的或者将微弱地结合到该表面上。这些微弱地结合的材料然后将产生一个界面，这个界面将阻止随后的涂层（从等离子体沉积的）粘附到该器件的塑料内表面88上。
V.A.作为消除这种涂覆阻碍作用的一种方法，可以在非常低的功率沉积一个涂层（在以上实例中是以2.45GHz高于5至20瓦），从而产生了一个随后的涂层可以粘附到其上的帽。这导致了一个两步骤的涂覆工艺（以及两个涂覆层）。在以上的实例中，可以将初始气流（对于该加帽层）改变为2sccm（“标准立方厘米/每分钟”）HMDSO以及20sccm的氧气，其中处理功率为5到20瓦持续约2-10秒。然后可以将这些气体调节到以上实例中的流速以及增加到20-50瓦的功率水平，使得可以沉积一个SiOx涂层，其中x在这个式中是从大约1.5至大约2.9，可替代地是从大约1.5至约2.6，可替代地是约2。应注意的是，在某些实施方案中，加帽层或涂层可以提供很少的（甚至没有）官能度，除非在较高功率的SiOx涂层沉积过程中阻止材料迁移到容器内表面88上。还应注意的是，在较低的频率（例如绝大多数的RF范围）下，在器件壁中易于脱附的材料的迁移典型地不是问题，因为较低的频率不会激发（振动）分子种类。
V.A.作为消除以上描述的涂层阻碍作用的另一种方法，可以将容器80干燥以在施加微波能之前除去内含的水。容器80的除水或干燥可以例如通过热致加热容器80，如使用电加热器或强制空气加热而完成。容器80的除水或干燥还可以通过将容器80的内部露于一种干燥剂中或气体接触容器80的内部的而完成。还可以使用其他方便的方法，如真空干燥来干燥该容器。这些方便的方法可以在所展示的一个或多个站或设备中或通过一个单独的站或设备来进行。
V.A.此外，以上描述的涂层阻碍作用可以通过选择或处理容器80自其模制的树脂而使该树脂的含水量最小化来解决。
V.B.PECVD涂覆容器的受限开口（毛细管注射器）
V.B.图8和9示出了大致表示为290的方法以及装置，用于通过PECVD涂覆一个待处理的大致管状的容器250的受限开口294（例如一个注射器筒250的受限的前开口294）的内表面292。通过将该受限开口294连接到一个处理容器296上而修改以上描述的方法并且任选地进行某些其他的修改。
V.B.待处理的大致管状的容器250包括一个外表面298、限定了一个内腔300的内表面或内部表面254、具有一个内径的较大的开口302、以及一个受限开口294，该受限开口由内表面292限定并且具有的内径小于该较大的开口302的内径。
V.B.该处理容器296具有一个内腔304以及一个处理容器开口306，该开口任选地是唯一的开口，尽管在其他实施方案中可以提供任选地在处理过程中被关闭的一个第二开口。该处理容器开口306与该有待处理的容器250的受限开口294相连，以建立该有待处理的容器250的内腔300与该处理容器内腔之间经由该受限开口294的连通。
V.B.将该有待处理的容器250的内腔300与该处理容器296的内腔304内抽成至少部分真空。使一种PECVD反应物从气体源144流动通过该第一开口302，然后通过有待处理的容器250的内腔300，然后通过受限开口294，然后进入该处理容器296的内腔304。
V.B.该PECVD反应物可以通过提供一个大致管状的内电极308通过容器250的较大的开口302而被引入，该内电极具有一个内通道310、一个近端312、一个远端314以及一个远端开口316，在可替代的实施方案中，多个远端开口可以被提供在该远端314附近并且与内部通道310连通。电极308的远端可以置于有待处理的容器250的较大的开口302附近或之内。一种反应物气体可以通过电极308的远端开口316送入到有待处理的容器250的内腔300内。该反应物将流动经过该受限开口294，然后进入内腔304，其程度为使得该PECVD反应物是在比引入该PECVD反应物之前初始抽成的真空更高的压力下而被提供的。
V.B.在有效地将PECVD反应产物沉积到该受限开口294的内表面292上的条件下在该受限开口294附近产生等离子体318。在图8中所示的实施方案中，通过将RF能输入到大致U型的外电极160上并且将内电极308接地而产生等离子体。对于这些电极的进料和接地连接还可以是相反的，虽然如果容器250有待处理，并且因此还有当等离子体正在被生成时内电极308正在移动通过该U形外电极，这种反转可能引入复杂性。
本发明的一个方面是包括一个针和一个筒的注射器（“固定针注射器”），如在2010年6月29日提交的美国序列号61/359,434中描述的。本发明的这个方面的针具有一个外部表面、在一端处的一个递送出口、在另一端处的一个底座、以及从该底座延伸至该递送出口的一个内部通道。该筒具有一个例如总体上圆柱形的内部表面，该内部表面限定了一个内腔。该筒还具有围绕该针的外部表面模制的、并且与之流体密封性接触的一个前通道。
任何“固定针”实施方案的注射器都可以任选地进一步包括一个盖，这个盖被配置成用于将该针的递送出口与环境空气隔离。
任何“固定针”实施方案的盖都可以任选地进一步包括一个内腔，该内腔具有由一个轮缘限定的并且大小被确定成接收该递送出口的一个开口，并且该轮缘可以是可密封在该筒的一个外部部分上的。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒可以任选地进一步包括与其前通道相邻的一个总体上半球形的内部表面部分。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该针的底座任选地可以是与该筒的半球形内部表面部分至少基本上齐平的。
任何“固定针”实施方案的注射器都可以任选地进一步包括至少在该筒的半球形内部表面部分上的一个PECVD涂覆的筒涂层。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒涂层任选地可以在该筒的基本上圆柱形内部表面部分的至少一部分上延伸。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒涂层任选地可以在该针的底座与该筒的基本上圆柱形内部表面部分之间形成一种阻挡。
在图24的“固定针”实施方案中，盖7126可以在注射器7120的鼻部71110上通过常规的鲁尔锁安排而保持在位。该注射器的楔形鼻部71110与盖7126的一个对应的楔形喉部71112匹配，并且该注射器具有一个轴环71114，该轴环具有内螺纹71116，该内螺纹用于接收盖7126的卡爪71118和71120以便将锥71110和71112锁在一起。盖7128可以是实质上刚性的。
现在参见图25，示出了“固定针”实施方案的注射器筒71122和盖71124的一个变体。在这个实施方案中，盖71124包括在其底座处的一个柔性唇缘密封件7172以便与注射器筒71122形成一种不漏湿气的密封。
任选地在图24和25的“固定针”实施方案中，盖7126和71124可以承受PECVD涂覆过程中的真空。盖7126和71124可以用LDPE制成。也可以使用替代的刚性塑料材料，如聚丙烯。还可以提供额外的密封元件。
在图26中展示的“固定针”实施方案的另一个选择中，盖71126是柔性的、并且被设计成围绕注射器7120的顶端进行密封。对于盖71126可以使用一种可变形材料，如橡胶或热塑性弹性体（TPE）。优选的TPE材料包括氟弹性体，特别是医学级的氟弹性体。实例包括
Figure BDA00002385268500721
和
Figure BDA00002385268500722
在某些实施方案中
Figure BDA00002385268500723
是优选的。适当的橡胶的一个实例是EPDM橡胶。
在模制过程中，在某些“固定针”实施方案中（例如在图26中展示的），将少量的盖材料71132拉入针7122的尖端或递送出口7134中以创造密封。材料71132应该具有某个硬度，例如以便允许适当量的材料被拉入针7122中、并且致使被拉入针7122中的材料在盖被去除时继续粘在盖71126上，从而暴露出针7122以供使用。
在其他“固定针”实施方案中，盖材料71132可以在不被拉入递送出口7134中的情况下遮挡针7122的递送出口7134。选择适当的材料来达到所希望的目的是在本领域普通技术人员的能力之内的。
通过将在注射器筒中形成的一个凹切71134与盖71126内部的多个凸起71138进行连接可以实现额外的密封，从而限定了一个连接件以固定盖71126。替代的“固定针”实施方案可以包括以上描述的密封作用之一或二者。
任选地，参见图25，盖71124可以具有一个底座7168和一个连接件7170，该连接件被配置用于将盖7126固定在筒上的一个就位的位置。替代地或者另外地，可以任选地在盖71124的底座7168处设置一个柔性唇缘密封件7172，用于在将盖71124固定在筒71122上时在筒71122上进行密封。
任选地，现在参见图26，当盖7126被固定在筒上时，针7122的递送出口7134可以在盖71126上就位。这个方法对于在希望时密封该递送出口7134以免空气或气体流体侵入或逸出而言是有用的。
任选地，在“固定针”实施方案中，连接件7170可以包括在筒71122和盖71124之一上的一个锁销或凹槽7174以及在筒71122和盖71124中另一个上的一个凸起或肋7176，其中凸起7176被适配成当盖7126在筒上处于其固定位置中时与锁销7174进行匹配。在所考虑的一个实施方案中，锁销7174可以位于筒上并且凸起7176可以位于盖7126上。在所考虑的另一个实施方案中，锁销7174可以位于盖7126上并且凸起7176可以位于筒上。在所考虑的又另一个实施方案中，第一锁销7174可以位于筒上并且与锁销7174匹配的一个第一凸起7176可以位于盖7126上，而第二锁销7175可以位于盖7126上并且匹配的第二凸起7177可以位于筒上。一个锁销7174可以作为凹切通过在模具中结合侧向抽取口如7192和7194而模制在注射器筒中。
这些锁销7174与互补的凸起7176匹配而将盖7126组装（卡）到注射器7120上。在此方面，希望盖7126是足够柔性的而允许充分变形以便锁销7174与凸起7176的卡扣接合。
“固定针”实施方案中的盖，如7126、71124和71126可以是注塑模制的或以其他方式形成的，例如由热塑性材料。合适的热塑性材料的一些实例是聚烯烃，例如环烯烃聚合物（COP）、环聚烯烃共聚物（COC）、聚丙烯、或聚乙烯。盖7126可以包含热塑性弹性体（TPE）或其他弹性体材料或由其制成。盖7126还可以由聚对苯二甲酸乙二酯（PET）、聚碳酸酯树脂或任何其他适当的材料制成。任选地，可以将盖7126的材料选择为能够承受真空并且在注射器7120内维持无菌性。
V.B.在至少一部分的处理过程中在容器250内产生的等离子体318可以包括在受限开口294和/或处理容器内腔304内产生的空心阴极等离子体。空心阴极等离子体318的产生可以促成在该受限开口294处成功地施加一个阻挡涂层的能力，尽管本发明并不根据这个操作理论的准确度或适用性受到限制。因此，在一个考虑的操作模式中，该处理可以部分地在遍及容器250以及该进气口产生均匀的等离子体的条件下进行，以及例如部分地在该受限开口294附近产生一种空心阴极等离子体的条件下进行。
V.B.所希望的是该方法在这样的条件下进行，如在此所说明并且在附图中示出的，等离子体318基本上弥漫遍及该注射器内腔300以及该受限开口294。还希望的是等离子体318弥漫遍及该注射器内腔300、该受限开口294以及该处理容器296的内腔304。这假定了容器250的内部254的均匀涂层是所希望的。在其他实施方案中，不均匀的等离子体可以是所希望的。
V.B.通常所希望的是，等离子体318在处理过程中具有遍及该注射器内腔300以及受限开口294的一个基本均匀的颜色，并且任选地基本上遍及该注射器内腔300、该受限开口294、以及该处理容器296的内腔304的基本均匀的颜色。所希望的是该等离子体遍及该注射器内腔300以及受限开口294、以及还有任选地该处理容器296的内腔304是稳定的。
V.B.在这个方法中步骤的顺序并不认为是关键的。
V.B.在图8和9的实施方案中，受限开口294具有一个第一接头332，并且处理容器开口306具有一个第二接头334，该第二接头被适配为就位于该第一接头332上以建立在该处理容器296的内腔304与有待处理的容器250的内腔300之间的连通。
V.B.在图8和9的实施方案中，该第一以及第二接头分别是外鲁尔以及内鲁尔锁定接头332和334，它们对应地与限定了受限开口294以及处理容器开口306的结构是一体的。在外鲁尔锁定接头332的情况下，这些接头之一包括一个锁定轴环336，该锁定轴环具有一个带螺纹的内表面并且限定了一个轴面向的大致环形的第一对接338，并且另一个接头334包括一个面向该第一对接338的轴面向的大致环形的第二对接340（当接头332和334接合时）。
V.B.在所展示的实施方案中，可以将一个密封件例如一个O型环342定位在该第一与该第二接头332和334之间。例如，一个环形密封件可以接合在该第一与该第二支座338和340之间。该内鲁尔接头334还可以包括一个卡爪344，该卡爪与该锁定轴环336的带螺纹的内表面接合以在该第一与该第二接头332和334之间捕获O型环342。任选地，经由该受限开口294在该有待处理的容器250的内腔300与处理容器296的内腔304之间建立的连通是至少基本上防漏的。
V.B.作为另一种选择，鲁尔锁定接头332和334中的任一个或两者可以由导电性纤维材料（例如不锈钢）制成。这种形成受限开口294或与其邻近的构造材料可以促成在该受限开口294内等离子体的形成。
V.B.所希望的处理容器296的内腔304的体积被考虑是在一个小的体积与一个大的体积之间的折衷，该小的体积不会使大量离开所希望的有待涂覆的产物表面的反应物流转向，该大的体积在充分填充该内腔304之前支持大量的通过该受限开口294的反应物气体流速以将该流速降低到一个更不希望的值（通过降低跨过受限开口294的压差）。在一个实施方案中所考虑的内腔304的体积是小于有待处理的容器250的内腔300的体积的三倍，或小于该有待处理的容器250的内腔300的体积的两倍，或小于该有待处理的容器250的内腔300的体积，或小于该有待处理的容器250的内腔300的体积的50%，或小于该有待处理的容器250的内腔300的体积的25%。还考虑了其他有效的对应的内腔的体积的关系。
V.B.诸位发明人还发现了在某些实施方案中涂层的均匀性可以通过相对于容器250重新定位电极308的远端而改进，这样它不穿透容器250的内腔300的内部远至如在以上的附图中示出的内电极的位置。例如，尽管在某些实施方案中，远端开口316可以邻近该受限开口294而定位，在其他实施方案中该远端开口316可以小于从该有待处理的容器的较大的开口302至受限开口294的距离的7/8（任选地小于该距离3/4，任选地小于该距离的一半）而定位，同时送入反应物气体。或者，该远端开口316可以按小于40%、小于30%、小于20%、小于15%、小于10%、小于8%、小于6%、小于4%、小于2%、或小于1%的从该有待处理的容器的较大的开口至受限开口294的距离而定位同时送入反应物气体。
V.B.或者，该电极308的远端可以在该有待处理的容器250的较大的开口302的稍内或稍外或与之平齐而定位同时与该容器250的内部连通，并且加入反应物气体至该容器250的内部。相对于该有待处理的容器250远端开口316的定位可以由于具体的尺寸以及其他处理条件通过在不同的位置对其进行测试而最佳化。对于处理注射器筒250所考虑的电极308的一个具体位置是远端314穿透进入容器内腔300高于较大的开口302约四分之一英寸（约6mm）。
V.B.诸位发明人目前考虑有利的是至少将电极308的远端314置于容器250内，这样它将作为一个电极适当地起作用，尽管这并非必然是一个必要条件。出乎意料地，可以使得在容器250内产生的等离子体318更均匀，从而弥漫穿过受限开口294进入处理容器内腔304，其中电极308更少地穿透进入先前已经使用的内腔300内。通过其他布置，如处理一个闭合端的容器，电极308的远端314通常被置于比其入口更靠近该容器的闭合端。
V.B.或者，电极308的远端314可以被定位在受限开口294处或超过受限开口294，例如在处理容器内腔304内。可以任选地提供不同的权宜措施，如将该处理容器296成形以改进通过该受限开口294的气流。
V.B.在又另一个考虑的实施方案中，如在图8中的内电极308可以在处理过程中移动，例如首先延伸到该处理容器内腔304内，然后随着过程的进行逐步在近端撤出。如果容器250在所选择的处理条件下较长，并且内电极的移动有利于更均匀地处理内表面254，这种权宜措施是特别考虑的。使用这种权宜措施，处理条件（如气体进料速度、真空抽吸率、施加到外电极160上的电能、撤出内电极308的速率、或其他因素）可以随着过程的进行而变化，从而对于有待处理的容器的不同零件定制不同的过程。
V.B.方便地，正如在本说明书中描述的其他过程中，可以将有待处理的大致管状的容器250的较大的开口置于一个容器支架320上，正如通过使有待处理的容器250的较大的开口302就位在该容器支架320的一个端口322上。然后，在至少从有待处理的容器250的内腔300内抽成至少一部分真空之前，可以将内电极308定位在就位于容器支架320上的容器250内。
V.C.施加润滑涂层的方法以及润滑涂层
V.C.本发明的主要实施方案是从有机硅前体获得的润滑层或涂层的施加方法以及所得的涂层和涂覆的物品。一种“润滑层”或任何其他类似的术语通常被定义为相对于未涂覆的表面降低了涂覆表面的摩擦阻力的涂层。如果该涂覆物品是一种注射器（或注射器部件，例如注射器筒）或任何其他通常包括一个柱塞或与该涂覆表面处于滑动接触中的可移动部件，则这种摩擦阻力具有两个主要方面——起动力以及柱塞滑动力。
柱塞滑动力试验是专门测试在一个注射器内的柱塞的滑动摩擦系数的试验，解释了一个事实：解决了与通常在一个平的表面上测量的滑动摩擦系数相关的法向力，这是通过使柱塞或其他滑动元件与管或它在其中滑动的其他容器之间的配合标准化。与通常测量的滑动摩擦系数相关的平行力与如在本说明书中描述地所测量的柱塞滑动力是可比的。柱塞滑动力可以例如在ISO 7886-1:1993试验中所提供地来进行测量。
柱塞滑动力试验还可以被适配为通过适当地改变装置以及步骤而测量其他类型的摩擦阻力，例如将一个塞子保持在一个管中的摩擦力。在一个实施方案中，该柱塞可以用一个闭合件代替并且移出或插入该闭合件的撤出力可以作为柱塞滑动力的对应物而测量。
而且可以测量该起动力（或代替该柱塞滑动力）。该起动力是起动一个静止的柱塞在一个注射器筒内运动所需要的力，或使一个就位的静止闭合件离位（unseat）并且使其开始运动所需要的力。通过将一个力施加到该柱塞上来测量该起动力，该力从零或一个低值开始并且增加直至该柱塞开始运动时为止。在该预充式注射器柱塞推开介入的润滑剂或粘附到筒上之后（由于该柱塞与该筒之间的润滑剂分解），该起动力倾向于随着注射器的储存而增加。起动力是克服“粘附”（“ticktion”）所需要的力，是用于需要克服的在柱塞与筒之间的粘附以起动该柱塞并且允许其开始移动的一个行业术语。
该松脱力（break loose force，Fi）以及该滑动力（glide force，Fm）是针对润滑涂层的效果的重要的性能度量。对于Fi以及Fm而言，所希望的是具有低的而不是太低的值。在太低的Fi的情况下，这表示太低水平的阻力（极限值是零），可能发生过早的/非预期的流动，这可能例如导致预充式注射器的内容物的非预期的、过早的或不受控制的排出。
为了实现充分的润滑性（例如为了确保注射器柱塞可以在注射器内移动、但避免该柱塞的不受控移动），有利地应该维持以下范围的Fi和Fm：
Fi：2.5至5lbs，优选2.7至4.9l bs，特别是2.9至4.7l bs；
Fm：2.5至8.0lbs，优选3.3至7.6l bs，特别是3.3至4l bs。
进一步有利的F i和Fm值可以在这些实例的表中找到。
该润滑涂层任选地提供了一种一致的柱塞力，该力减少了松脱力（Fi）与滑动力（Fm）之间的差。
V.C.在容器的全部或部分（如选择性地在与其他部件以滑动关系接触的表面处）涂覆有润滑层的一些实际应用使得插入或移出塞子或通过一个滑动元件（如在注射器中的活塞或在一个样品管中的塞子）是容易的。该容器可以是由玻璃或一种聚合物材料如聚酯（例如聚对苯二甲酸乙二酯（PET））、环烯烃共聚物（COC）、烯烃（如聚丙烯）或其他材料制成。COC是对于注射器特别合适的。通过PECVD施加一个润滑层或涂层可以避免或减少通过喷雾、浸渍涂覆容器壁或闭合件或另外地施加有机硅或其他润滑剂（通常是以比通过PECVD过程沉积大得多的量而施用）的需要。
V.C.在任何以上实施方案V.C.中，一种等离子体在该基底的附近形成。
在任何实施方案V.C.中，该前体可以任选地以实质上不存在氮气的情况提供。在任何实施方案V.C.中，该前体任选地可以按小于1托的绝对压力而提供。
V.C.在任何实施方案V.C.中，该前体任选地可以被提供到一个等离子体发射物的附近。
V.C.在任何实施方案V.C.中，任选地可以按1至5000nm、或10至1000nm、或10至500nm、或10至200nm、或20至100nm或30至1000nm、或30至500nm的厚度而施加该涂层。一个典型的厚度是从30至1000nm或从20至100nm，一个非常典型的厚度是从80至150nm。这些范围代表了平均厚度，因为某一粗糙度可以增强润滑涂层的润滑特性。因此，其厚度有利地是贯穿该涂层不均匀的（参见以下内容）。然而，也考虑了一个均匀厚度的润滑涂层。
在单个测量点处润滑涂层的绝对厚度可以高于或低于该平均厚度的范围界限的，其中与平均厚度的最大偏差优选+/-50%、更优选+/-25%并且甚至更优选+/-15%。然而，它典型地在本说明书对于平均厚度给定的厚度范围内变化。
可以例如通过透射电子显微术（TEM）测量这种以及其他涂层的厚度。图21中示出了一个润滑涂层的示例性TEM图像。图22中示出了一个S i O2阻挡涂层（在别处更详细地描述）的示例性TEM图像。
V.C.例如TEM可以如下进行。可以按两种方法来制备用于聚焦离子束（FIB）切片分析的样品。或者可以使用一个K575X Emitech涂覆系统首先用一个碳薄层或涂层（50-100nm厚）来涂覆进而用一个溅射铂层或涂层（50-100nm厚）来涂覆这些样品，抑或可以地用保护性溅射Pt层直接涂覆这些样品。可以将这些涂覆的样品置于一个FEI FIB200FIB系统中。可以通过注射一种有机金属气体同时在感兴趣的区域上光栅扫描30kV的镓离子束进行FIB-沉积一个另外的铂层或涂层。可以将每个样品感兴趣的区域选择为一个沿着该注射器筒向下至一半长度的位置。可以使用一种专用的原位FIB顶出技术（in-situ FIB lift-out technique）从模具表面取出测量为约15μm（“微米”）长、2μm宽以及15μm深的薄切片。可以使用FIB-沉积的铂将这些切片附接到一个200目的铜TEM载网上。可以使用FEI FIB的镓离子束使在每个切片中测量为约8μm宽的一个或两个窗口（window）变薄到电子透明度。
V.C.可以使用透射电子显微镜（TEM）、或扫描透射电子显微镜（STEM）或这两者对这些制备的样品进行截面图像分析。所有的图像数据可以用数字记录。对于STEM图像，可以将具有变薄的箔片的载网转移到一个Hi tachiHD2300专用STEM上。可以获得处于原子序数对比模式（ZC）以及透射电子模式（TE）的在适当放大倍率的扫描透射电子图像。可以使用以下仪器设置。
Figure BDA00002385268500801
V.C.对于TEM分析，可以将样品载网转移到一个Hi tachi HF2000透射电子显微镜上。可以获得在适当放大倍率下的透射电子图像。在图像采集过程中使用的有关仪器设置可以是以下给出的那些。
Figure BDA00002385268500811
V.C.在任何实施方案V.C.中，该基底可以包括玻璃或一种聚合物，例如一种聚碳酸酯聚合物、一种烯烃聚合物、一种环烯烃共聚物、一种聚丙烯聚合物、一种聚酯聚合物、一种聚对苯二甲酸乙二酯聚合物或这些之中的任何两种或更多种的组合。
V.C.在任何实施方案V.C.中，任选地可以通过使用如以上定义的RF频率功率供能的电极激励含有该前体的气体反应物而进行该PECVD，该频率是例如一个从10kHz至小于300MHz的频率、任选地从1至50MHz、甚至任选地从10至15MHz、任选地13.56MHz的频率。
V.C.在任何实施方案V.C.中，可以通过使用提供有足以形成一个润滑层的电功率的电极激励含有该前体的气体反应物而产生该等离子体。任选地，可以通过提供有以下电功率的电极激励含有该前体的气体反应物而产生该等离子体，该功率是0.1至25W、任选地从1至22W、任选地从1至10W、甚至任选地从1至5W、任选地从2至4W例如3W、任选地从3至17W、甚至任选地从5至14W例如6或7.5W、任选地从7至11W例如8W。电极功率与等离子体体积的比率可以是小于10W/ml、任选地是从6W/ml至0.1W/ml、任选地是从5W/ml至0.1W/ml、任选地是从4W/ml至0.1W/ml、任选地是从2W/ml至0.2W/ml。诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。这些功率水平适合于用于给具有1至3mL的空体积（其中产生了PECVD等离子体）的注射器以及取样管以及具有类似几何形状的容器施加润滑涂层。对于较大或较小的对象所考虑的是，应该依照该基底的大小按比例决定该过程，相应地增大或减小所施加的功率。
V.C.在任何实施方案V.C.中，在作为氧化性气体的氧气以及作为载气的氩的存在下，一种优选的工艺气体的组合包括八甲基环四硅氧烷（OMCTS）或另一种环状硅氧烷作为前体。并不受限于这种理论的准确度，诸位发明人相信这种具体的组合出于以下原因是有效的。
V.C.认为OMCTS或其他环状硅氧烷分子提供了几个胜过其他硅氧烷材料的优点。首先，它的环结构导致了一个较不致密的涂层（与从HMDSO制备的涂层相比）。该分子还允许选择性地电离使得该涂层的最终结构和化学组成可以直接通过应用等离子体功率进行控制。其他有机硅分子是容易被电离（破碎）的这样更难以保持该分子的原始结构。
V.C.由于添加氩体改进了润滑性能（参见以下操作实例），认为在氩的存在下另外的分子电离促成了润滑性的提供。分子的Si-O-Si键具有高的键能（其次是Si-C），其中C-H键是最弱的。当C-H键的一部分断裂时显得实现了润滑性。随着它的进展，这允许该结构的连接（交联）。应当理解氧（与氩）的添加是为了增强这个过程。少量的氧还可以提供其他分子可以结合至其上的C-O键。在低压力和功率下断裂C-H键并且添加氧的结合导致了一种坚固的同时提供润滑性的化学结构。
在本发明的一个具体实施方案中，这种润滑性还可以受润滑涂层的粗糙度的影响，这种润滑涂层是使用在此描述的前体和条件从PECVD过程产生的。现在已经出人意料地发现了在本发明的背景下通过进行扫描电子显微镜术（SEM）以及原子力显微镜术（AFM），一个粗糙的非连续的OMCTS等离子体涂层比一个光滑的连续的OMCTS等离子体涂层提供了更低的柱塞力（如Fi，Fm）。这通过实例O至V得到例证。
不受理论的限制，诸位发明人假定这种特定效应可能是部分基于以下机械效应之一或二者：
(a)或者在该柱塞运动的初始和/或贯穿该柱塞运动的更少的柱塞与润滑涂层的表面接触（例如圆形刚性柱塞表面仅接触一个粗糙涂层的峰），导致了总的更少的接触以及由此的摩擦。(b)当柱塞运动时，该柱塞可以引起初始的非均匀的粗糙涂层展开并且滑动进入无涂覆的“谷”中。
这种润滑涂层的粗糙度随着激励该等离子体的功率（以瓦特计）的减小、以及通过上述量的O2的存在而增加。该粗糙度可以表示为通过AFM确定的“RMS粗糙度”或“RMS”。RMS是在一个AFM图像中的最高以及最低点之间的标准差（该差值表示为“Z”）。它根据以下公式进行计算：
Rq={Σ(Z1-Zavg)2/N}-2
其中Z平均是图像内的平均Z值；Z1是Z的当前值；并且N是该图像内点的数目。
在这个具体实施方案中的RMS范围典型地是从7至20nm，优选地从12至20nm。然而较低的RMS仍然导致了满意的润滑特性。
V.C.一种所考虑的产品任选地可以是具有通过实施方案V.C.的任何一个或多个的方法进行处理的筒的注射器。所述注射器可以具有仅一个根据本发明的润滑涂层，抑或它可以具有该润滑涂层以及另外的在该润滑涂层下面或上面的一个或多个其他涂层，例如SiOx阻挡涂层。
V.D.液体施加的涂层
V.D.一种适当的阻挡涂层或其他类型的涂层的一个例子可以是一种液体阻挡涂层、润滑剂涂层、表面能定制涂层、或施加到一个容器的内表面上的其他类型的涂层90，它可以直接使用、或者可以与PECVD施加的涂层或其他在此披露的PECVD处理抑或与在本说明书中描述的一个或多个介入的PECVD施加的涂层（例如SiOx，根据本发明的一个润滑层或涂层）或这两者结合使用。
V.D.可以任选地例如通过将一种液体单体或其他的可聚合或可固化材料施加到容器80的内表面上并且固化、聚合或交联该液体单体以形成一种固体聚合物而施加适合的液体阻挡涂层或其他类型的涂层90。还可以通过将一种溶剂分散的聚合物施加到表面88上并且除去溶剂而提供适合的液体阻挡涂层或其他类型的涂层90。
V.D.以上方法中的任一种可以包括在一个容器80的内部88上经由在一个处理站或设备28处的容器端口92形成涂层90的一个步骤。一个例子是例如将一种可固化单体、预聚物或聚合物分散体的液体涂层施加到容器80的内表面88上并且将其固化以形成一个薄膜，该薄膜将容器80的内容物从其内表面88以物理方式隔离。现有技术描述了适合于涂覆塑料采血管的聚合物涂覆技术。例如，可以任选地使用在美国专利6,165,566中描述的丙烯酸的以及聚偏二氯乙烯（PVdC）涂覆材料以及涂覆方法，特此将该专利通过引用进行结合。
V.D.以上方法中的任一项还可以包括在一个容器80的外部外壁上形成涂层的一个步骤。该涂层任选地可以是一个阻挡涂层，任选地一个氧阻挡涂层，或任选地一个水阻挡涂层。一个适合的涂层的实例是聚偏二氯乙烯，其作为一个水阻挡层和一个氧阻挡层两者而起作用。任选地，该阻挡涂层可以作为一个基于水的涂层来施加。该涂层任选地可以通过将该容器浸渍在其中，将其喷射到该容器上，或者其他的权宜措施而施加。还考虑了具有以上描述的外部阻挡涂层的一种容器。
VII.PECVD处理的容器
VII.所考虑的容器具有一个阻挡涂层90（例如在图1中示出），它可以是一个施加的SiOx涂层，施加的厚度为至少2nm、或至少4nm、或至少7nm、或至少10nm、或至少20nm、或至少30nm、或至少40nm、或至少50nm、或至少100nm、或至少150nm、或至少200nm、或至少300nm、或至少400nm、或至少500nm、或至少600nm、或至少700nm、或至少800nm、或至少900nm。该涂层可以是高达1000nm、或至多900nm、或至多800nm、或至多700nm、或至多600nm、或至多500nm、或至多400nm、或至多300nm、或至多200nm、或至多100nm、或至多90nm、或至多80nm、或至多70nm、或至多60nm、或至多50nm、或至多40nm、或至多30nm、或至多20nm、或至多10nm、或至多5nm厚。清楚地考虑特定的厚度范围由上述任何一个最小厚度，加上任何相等的或更大的一个上述最大厚度的厚度组成。可以测量该SiOx或其他涂层的厚度，例如通过透射电子显微术（TEM），并且可以通过X射线光电子光谱法（XPS）来测量它的构成。
VII.所考虑的是，被禁止渗透该涂层的材料的选择以及所施加的SiOx涂层的性质可能影响它的阻挡效力。例如，通常旨在被禁止的两种材料的实例是氧和水/水蒸汽。材料通常是对于一种比对于另一种更好的阻挡层。这被认为是至少部分地这样的，因为氧气传输通过涂层的机制与水传输通过涂层的机制不同。
VII.氧气传输是受该涂层的物理特征影响的，例如它的厚度、裂缝的存在、以及该涂层的其他物理细节。另一方面，通常相信水传输受到化学因素（即制成涂层的材料）的影响比受到物理因素的影响大。诸位发明人还认为，至少一种这些化学因素是涂层中的OH部分的实质浓度，它导致了水通过该阻挡层的更高的传输率。一种SiOx涂层通常含有OH部分，并且因此含有高比例OH部分的一个物理上坚固的（physically sound）涂层是对于氧气是更好的阻挡层（相比于对于水）。一种物理上坚固的基于碳的涂层，如无定形碳或类金刚石碳（DLC）通常被认为是对于水更好的阻挡层（相比于SiOx涂层），因为这种基于碳的阻挡涂层更通常具有更低浓度的OH部分。
VII.然而其他因素导致了对于一种SiOx涂层的优选，如它的氧阻挡效力以及它的接近于玻璃和石英的的化学相似性。玻璃和石英（当用作一个容器的基础材料时）是已知很久的呈现出对于氧气和水传输非常高的阻挡特性的、并且具有对容器中通常携带的许多材料的实质性惰性的两种材料。因此，通常希望的是优化水阻挡特性如一种SiOx涂层的水蒸气传输率（WVTR），而不是选择一种不同的或另外类型的涂层来充当一个水传输阻挡层。
VII.考虑了以下若干方式用于改进SiOx涂层的WVTR。
VII.可以增加沉积的涂层中的有机部分（碳与氢的化合物）与OH部分的浓度比。这可以例如通过增加进料气体中的氧的比例来完成（如通过增加氧进料速率或降低一种或多种其他组分的进料速率）。降低的OH部分的影响方式被认为是由于氧进料与在硅酮来源中的氢的反应程度的增加从而在PECVD排气中产生更易挥发的水以及更低浓度的截留或结合在涂层中的OH部分。
VII.可以在PECVD过程中使用较高的能量，或者通过升高等离子体发生功率水平或者通过施加功率持续一个较长的时间段（或两者）。当用来涂覆一个塑料管或其他器件时，在所施加的能量方面的增加必须小心地采用，这是因为它还具有使正在被处理的容器变形的倾向（达到该管承受该等离子体发生功率的程度）。这就是为什么在本申请的背景下RF功率被予以考虑的缘故。医疗器件的变形可以是通过以下各项来减少或消除：通过采用由冷却时间分隔的两个或多个系列的脉冲的能量、通过在施加能量的同时冷却这些容器、通过在更短的时间内施加涂层（因此通常使得它更薄）、通过选择施加涂层的频率（该涂层是最低限度地所选择的被涂覆的基础材料吸收的）、和/或通过施加一个以上的涂层（在对应的能量施加步骤之间的时间）。如，可以按运行1毫秒、停止99毫秒的工作周期来使用高功率脉冲，同时继续供应该气态反应物或工艺气体。那么这种气态反应物或工艺气体是冷却剂，同样它在脉冲之间保持流动。另一个替代方案是重新配置功率施加器，如通过加入磁体以限制等离子体从而增加有效功率施加（实际上导致增加的涂层的功率，与导致加热或不想要的涂层的耗散功率相反）。这种权宜措施导致施加更多的涂层形成能量（所施加的能量的每总瓦时）。参见例如美国专利5,904,952。
VII.可以应用涂层的氧气后处理，以便从以前沉积的涂层中除去OH部分。还考虑了这种处理以除去残留的挥发性有机硅化合物或硅酮或氧化该涂层以形成另外的SiOx。
VII.可以将这种塑料基材预热。
VII.一种不同的挥发性硅源，如六甲基二硅氮烷（HMDZ）可以被用作一部分或所有的硅酮进料。所考虑的是，将进料气体改变成HMDZ将解决该问题，因为在所供应的这种化合物中不具有氧部分。所考虑的是，在HMDSO来源的涂层中的OH部分的一个来源是在未反应的HMDSO中存在的至少一些氧原子的氢化。
VII.可以使用一种复合涂层，如与SiOx结合的一种基于碳的涂层。这可以例如通过改变反应条件或通过向进料气体连同一种基于有机硅的化合物中加入一种取代的或未取代的烃（如一种烷、烯、或炔）来完成。参见例如美国专利5,904,952，它在相关部分“例如，一种低级烃如丙烯的夹杂提供了碳部分并且改进了所沉积的薄膜的大部分特性（除了光传输之外），并且结合分析表明了该薄膜在本质上是二氧化硅。然而，甲烷、甲醇、或乙炔的使用产生了在本质上是硅酮的薄膜。向气流中少量气态氮的夹杂提供了在沉积的薄膜中的氮部分并且增加了沉积率、改进了在玻璃上的传输以及反射光学特性、并且响应于改变的N2量改变了折射率。向气流中加入氧化亚氮增加了沉积速率并且改进了光学特性，但是趋于降低薄膜硬度”中陈述。适合的烃类包括甲烷、乙烷、乙烯、丙烷、乙炔、或这些之中的两种或更多种的组合。
VII.一种类金刚石碳（DLC）涂层可以作为主要的或唯一的沉积涂层而形成。这可以例如通过改变反应条件或通过送入甲醇、氢、以及氦到一个PECVD过程来完成。这些反应进料没有氧气，从而没有OH部分可以被形成。举一个例子，可以将一个SiOx涂层施加到一个管或一个注射器筒的内部上，并且可以将一个外部DLC涂层施加到一个管或注射器筒的外表面上。或者，该SiOx和DLC涂层两者可以作为一个内部管或注射器筒涂层的一个单层或涂层或多层被施加。
VII.参照图1，该阻挡涂层或其他类型的涂层90降低了大气气体通过容器内表面88进入容器80的传输。或者，该阻挡涂层或其他类型的涂层90减少了容器80的内容物与内表面88的接触。该阻挡涂层或其他类型的涂层可以包括例如SiOx、无定形（例如类金刚石）碳、或这些的组合。
VII.在此所述的任何涂层可以用于涂覆一个表面，例如一个塑料表面。它可以被进一步用作一个阻挡层，例如用作一个对抗一种气体或液体、任选地对抗水蒸气、氧和/或空气的阻挡层。如果表面是未涂覆的，它还可以用于阻止或减少涂覆的表面可能具有的对于一种化合物或组合物的机械和/或化学作用。例如，它可以阻止或减少一种化合物或组合物的沉淀，例如胰岛素沉淀或血液凝固或血小板激活。
VII.A.涂覆的容器
在此所述的涂层可以被施加到由塑料或玻璃制成的多种容器上，最主要地施加到塑料管和注射器上。考虑了一种用于将一个润滑层或涂层施加到一种基底（例如一个注射器筒的内部）上的方法，包括以1nm至5000nm、或10nm至1000nm、或10nm至500nm、或10nm至200nm、或20nm至100nm、或30nm至1000nm、或30nm至500nm厚、或30nm至1000nm、或20nm至100nm、或80nm至150nm的厚度施加一种所述的前体到一种基底上或一种基底附近，并且任选地在一个PECVD过程中将该涂层交联或聚合（或两者）以提供一个润滑的表面。通过这个过程施加的涂层同样被认为是新的。
如在定义部分中所定义的SiwOxCyHz涂层可以具有作为一种疏水层的应用。这种类型的涂层被考虑为是疏水的，不依赖于它们是否作为润滑层起作用。与相应的未涂覆表面或未处理表面相比，如果一种涂层或处理降低了一个表面的湿润张力，则它被定义为“疏水的”。因此疏水性是未处理基底和处理两者的一种功能。
通过改变一个涂层的构成、特性或沉积方法，可以改变它的疏水性程度。例如，具有很少或没有烃成分的SiOx涂层比如定义部分所定义的SiwOxCyHz涂层是更亲水的。总而言之，相对于它的硅含量，涂层的C-Hx（例如CH、CH2或CH3)部分含量（或者按重量、体积、或摩尔浓度计）越高，则该涂层越是亲水的。
一个疏水层或涂层可以是非常薄的，具有的厚度为至少4nm、或至少7nm、或至少10nm、或至少20nm、或至少30nm、或至少40nm、或至少50nm、或至少100nm、或至少150nm、或至少200nm、或至少300nm、或至少400nm、或至少500nm、或至少600nm、或至少700nm、或至少800nm、或至少900nm。该涂层可以是高达1000nm、或至多900nm、或至多800nm、或至多700nm、或至多600nm、或至多500nm、或至多400nm、或至多300nm、或至多200nm、或至多100nm、或至多90nm、或至多80nm、或至多70nm、或至多60nm、或至多50nm、或至多40nm、或至多30nm、或至多20nm、或至多10nm、或至多5nm厚。清楚地考虑特定的厚度范围由上述任何一个最小厚度，加上任何等于或大于上述最大厚度之一的厚度组成。
对于这样一个疏水层或涂层的一种应用是使得一种热塑性管壁（例如由聚对苯二甲酸乙二酯（PET）制成）与该管中所收集的血液隔离。该疏水层或涂层可以被施加在该管的内表面上的一个亲水的SiOx涂层之上。该SiOx涂层增加了该热塑性管的阻挡特性并且该疏水层或涂层改变了血液接触表面与该管壁的表面能。该疏水层或涂层可以通过提供一种前体来制成，该前体是选自本说明书中所鉴定的那些。例如，该疏水层或涂层前体可以包括六甲基二硅氧烷（HMDSO）或八甲基环四硅氧烷（OMCTS）。
一种疏水层或涂层的另一个用途是制备一个玻璃细胞制备管（glasscell preparation tube）。该管具有一个限定了一个内腔的壁、一个在该玻璃壁的内表面中的疏水层或涂层，并且包含一种柠檬酸盐试剂。该疏水层或涂层可以通过提供一种前体来制成，该前体是选自在本说明书中别处所鉴定的那些。另一个例子，该疏水层或涂层前体可以包括六甲基二硅氧烷（HMDSO）或八甲基环四硅氧烷（OMCTS）。用于疏水层的另一种源材料是具有下式的一种烷基三甲氧基硅烷：
R-Si(OCH3)3
其中R是一个氢原子或一个有机取代基，例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、乙烯基、炔、环氧化物、或其他。还可以考虑这些之中的两种或更多种的组合。
酸或碱催化与加热的组合（使用如上所述的一种烷基三甲氧基硅烷前体）可以将该前体缩合（去除ROH副产物）以形成交联的聚合物，它可以通过一种可替代的方法被任选地进一步交联。一个具体的实例是如Shimojima et.al.J.Mater.Chem.,2007,17,658-663。
在施加一个SiOx阻挡涂层到容器80的内表面88上之后，可以施加一个润滑层作为一个后续的涂层以提供一个润滑层，特别是如果在涂覆工艺结束时该润滑层或涂层是一种液体有机硅氧烷化合物时。
任选地，在施加该润滑层或涂层之后，它可以在PECVD过程之后被后固化。可以使用辐射固化方法，包括UV引发的（自由基或阳离子）、电子束（E束）、以及热电偶，如在用于可热和UV固化应用的新型环脂肪族硅氧烷的开发（Development Of Novel Cycloaliphatic Siloxanes ForThermal and UV-Curable Applications(Ruby Chakraborty Dissertation,2008)）中所述的。
用于提供一个润滑层或涂层的另一种方法是当注塑模制有待润滑的热塑性容器时使用一种硅酮脱模剂。例如，所考虑的是可以使用任何的引起在模制过程中形成原位热电偶润滑层或涂层的脱模剂和潜在单体（latentmonomer）。或者，可以将上述单体掺杂到传统的脱模剂中以实现相同的效果。
特别考虑了用于如以下进一步描述的一个注射器筒的内表面的一种润滑层。一个注射器筒的一个润滑的内表面可以降低柱塞滑动力（对于在一个注射器的操作过程中在该筒内推进一个柱塞是需要的）、或在该预充式注射器柱塞已经推开介入的润滑剂或粘附到筒上之后（例如由于该柱塞与该筒之间的润滑剂分解）起动一个柱塞移动的起动力。如在本说明书中别处所说明的，还可以将一个润滑层或涂层施加到容器80的内表面88上以改进一个后续的SiOx涂层的粘附。
因此，该涂层90可以包括一个SiOx层或涂层以及一个润滑层或涂层和/或疏水层，如在定义部分所定义进行表征。该润滑层或涂层和/或SiwOxCyHz的疏水层或涂层可以沉积在SiOx层或涂层与该容器的内表面之间。或者，该SiOx层或涂层可以沉积在该润滑层或涂层和/或疏水层或涂层与该容器的内表面之间。或者，同样可以在这两种涂层组合物中交替或渐进地使用三个或更多的层：(1)一个SiOx层或涂层以及(2)润滑层或涂层和/或疏水层。可以将该SiOx层或涂层沉积在该润滑层或涂层和/或疏水层或涂层附近或远离它们，其中具有另一种材料的至少一个介入层或涂层。该SiOx层或涂层可以沉积在该容器的内表面附近。或者，该润滑层或涂层和/或该疏水层或涂层可以沉积在该容器的内表面附近。
对于SiOx的邻近层和一个润滑层或涂层和/或疏水层，在此所考虑的另一种权宜措施是如在定义部分所定义的SiwOxCyHz的一种梯度复合材料。一种梯度复合材料可以是一个润滑层或涂层和/或疏水层或涂层和SiOx的多个分离的层（其中在它们之间具有中间组合物的过渡或界面）、或一个润滑层或涂层和/或疏水层或涂层和SiOx的多个分离的层（其中在它们之间具有中间组合物的中间不同层或涂层）、或一个单层或涂层，该单层或涂层按如下连续或逐步变化：从一个润滑层或涂层和/或疏水层或涂层的一种组成到更类似SiOx的一种组成（以常规方向经过该涂层）。
在梯度复合材料中的梯度可以按任一方向变化。例如，一个润滑层或涂层和/或疏水层或涂层可以被直接施加到该基底上并且随着距SiOx表面的距离渐变成一种组合物。或者，SiOx的组合物可以被直接施加到该基底上并且随着距一个润滑层或涂层和/或疏水层的表面的距离渐变成一种组合物。如果一种组合物的一个涂层对于粘附到该基底上比粘附到其他层上更好时，特别考虑的是一种梯度涂层，在这种情况下这种更好粘附的组合物可以例如被直接施加到该基底上。所考虑的是，梯度涂层的更远离的部分可以比梯度涂层的邻近部分是更不相容的，因为在任何点处该涂层在特性上逐渐变化，从而在该涂层的几乎相同深度处的邻近部分具有几乎相同的构成，并且在实质上不同深度处的更大程度上物理分离的部分可以具有更多样的特性。还考虑的是，形成一个更好的阻挡层（该阻挡层对抗材料传递到该基底或从该基底传递）的涂层部分可以直接靠着该基底，以防止更远端的涂层部分（形成一个较差的阻挡层）受到旨在被该阻挡层禁止或阻止的材料的污染。
该涂层可以任选地不是梯度的，而是在一个层或涂层与另一个层之间具有陡变过渡，而没有实质性的构成梯度。这样的涂层可以例如通过以下步骤来制成：通过提供气体以产生如一种处于非等离子体状态的稳定状态流的层或涂层，然后将该系统用一个短暂的等离子体放电来激励以在该基底上形成一个涂层。如果有待施加一个后续的涂层，则清除用于前面的涂层的气体并且在激励该等离子体之前以稳态方式施加用于下一个涂层的气体，并且再一次在该基底的表面或它的最前面的涂层上形成一个不同的层或涂层，在界面处具有很少（如果有的话）的梯度过渡。
VII.A.1.a.示例性的容器
VII.A.1.a.参照图1，显示了容器如80的更多细节。所展示的容器80可以是大致管状的，在容器的一个末端具有一个开口82，与一个闭合末端84相对。该容器80还具有一个壁86，该壁限定了一个内表面88。容器80的一个实例是一个医学取样管，如一个真空采血管，如通常由一个抽血者所使用的用在医学实验室中的用于接收一个患者的血液的静脉穿刺样品的采血管。
VII.A.1.a.该容器80可以是例如由热塑性材料制成的。合适的热塑性材料的一些实例是聚对苯二甲酸乙二酯或一种聚烯烃（如聚丙烯）或一种环聚烯烃共聚物。
VII.A.1.a.容器80可以由任何适合的方法制成，如通过注塑模制、通过吹塑模制、通过切削加工、通过从管坯料装配、或通过其他适合的方法。PECVD可以用来形成一个在SiOx内表面上的涂层。
VII.A.1.a.如果旨在用作一个真空采血管，当暴露于760托的外部压力或大气压力以及其他涂覆处理条件时，令人希望地该容器80可以是足够坚固的以经受一种实质上完全的内部真空而实质上没有变形。可以在一个热塑性容器80中提供这种特性，通过提供一个由适合的材料制成的具有适合的尺寸以及一个比涂覆工艺的处理温度更高的玻璃化转变温度的容器80，例如一个圆柱形壁86，它具有对于它的直径和材料而言足够的壁厚。
VII.A.1.a.医学容器或器皿（像采样管和注射器）是较小的并且被注塑模制有较厚的壁，这使得它们能够被抽空而没有被环境大气压压碎。因此它们比充二氧化碳的无酒精饮料瓶或其他更大的或壁更薄的塑料器皿更坚固。由于被设计用作真空容器的采样管被典型地构造以经受在保存期间的完全真空，它们可以被用作真空室。
VII.A.1.a.这样的适配（将这些容器适配为它们自身的真空室）可能排除将这些容器放到一个真空室中用于PECVD处理（这典型地是在非常低的压力下进行的）的必要。容器作为其自身真空室的应用可以导致更快的处理时间（因为在一个隔离的真空室装载和从其卸载这些部件的时间是不必要的）并且可以导致简化的装备配置。此外，考虑了将一种容器支架用于某些实施方案，该支架将容纳该器件（用于对准到充气管和其他装置上）、密封该器件（从而通过将该容器支架连接到一个真空泵上可以产生真空）并且在模制与后续处理步骤之间移动该器件。
VII.A.1.a.被用作一个真空采血管的一个容器80应该是能够经受外部大气压的，同时在内部抽空到对于预期的应用有用的一个减压下，而没有实质体积的空气或其他大气气体泄漏到该管中（如通过绕过该闭合件）或在它的保质期内渗透通过壁86。如果所模制的容器80不能符合这种要求，它可以通过用一个阻挡涂层或其他类型的涂层90涂覆该内表面88进行处理。所希望的是处理和/或涂覆这些器件（如采样管和注射器筒）的内表面以给予不同的特性，这些特性将提供胜过现有聚合物器件和/或模仿的现有玻璃制品的优点。还令人希望的是在处理或涂覆之前和/或之后测量这些器件的不同特性。
另外的示例性容器是在此所述的注射器。
VII.A.1.b.具有用疏水性涂层涂覆的壁的容器
VII.A.1.b.另一个实施方案是一种容器，该容器具有在其内部表面上配备有一个疏水层或涂层的壁并且含有一种柠檬酸钠水溶液试剂。该疏水层或涂层还可以被施加到该容器的内表面上的一种亲水性的SiOx涂层之上。该SiOx涂层增加了该塑料容器的阻挡特性并且该疏水层或涂层改变了该容器内部的组合物或化合物与该容器壁的接触表面的表面能。
VII.A.1.b.该壁是由热塑性材料制成的，具有限定了一个内腔的内表面。
VII.A.1.b.根据实施方案VII.A.1.b的容器可以在该管的内表面上具有一个第一SiOx层或涂层，如在本说明书中所说明地进行应用，从而作为一个氧阻挡层起作用，并且延长了由热塑性材料制成的真空采血管的保质期。然后可以将疏水层的一个第二层或涂层（其特征如定义部分中所定义）施加到该容器的内表面上的阻挡层或涂层上从而提供了一个疏水表面。在采血管或注射器中，与同一类型的未涂覆的壁相比较，任选地该涂层有效地减少了用柠檬酸钠添加剂处理过的并且暴露于该内表面的血浆的血小板激活。
VII.A.1.b.使用PECVD以在内表面上形成一个疏水层或涂层。与常规的柠檬酸盐采血管不同，具有一个如在此定义的疏水层的采血管不需要如常规施加的、使得管的表面具有疏水性而烘制在容器壁上的硅酮上的一个涂层。
VII.A.1.b.可以使用同一前体（例如HMDSO或OMCTS）以及不同的PECVD反应条件施加这两个层。
VII.A.1.b.当制备一个采血管或注射器时，然后可以将柠檬酸钠抗凝试剂放在该管内并且将它抽真空并且用一个封闭件进行密封从而产生一个真空采血管。该试剂的组分和配方是对于本领域普通技术人员而言已知的。将含水柠檬酸钠试剂以有效抑制被引入到该管内的血液的凝固的一个量置于该管的内腔中。
VII.A.1.c.SiOx阻挡层涂覆的双壁塑料容器——COC、PET、SiOx层
VII.A.1.c.另一个实施方案是具有至少部分围绕内腔的壁的一种容器。该壁具有被一个外部聚合物层围绕的一个内部聚合物层或涂层。这些聚合物层之一是限定了一个水蒸气阻挡层的至少0.1mm厚的环烯烃共聚物（COC）树脂的一个层或涂层。这些聚合物层中另一种是至少0.1mm厚的聚酯树脂的一个层或涂层。
VII.A.1.c.该壁包括具有从大约10埃至大约500埃的厚度的SiOx的一个氧阻挡层或涂层。
VII.A.1.c.在一个实施方案中，容器80可以是具有一个内壁408和一个外壁410的（对应地由相同的或不同的材料制成）一个双壁容器。可以用由环烯烃共聚物（COC）模制的一个壁以及由一种聚酯（例如聚对苯二甲酸乙二酯（PET））模制的另一个壁来制造这个类型的一个具体实施方案，其中SiOx涂层如前所述在内部表面412上。需要时，可以将一个连接涂层或层或涂层插入到内壁和外壁之间以促进它们之间的粘附。这种壁构造的一个优点是可以将具有不同特性的壁结合从而形成具有各壁的对应的特性的一种复合材料。
VII.A.1.c.作为一个实例，内壁408可以由在内表面412上涂覆有一个SiOx阻挡层的PET制成，并且外壁410可以由COC制成。如在本说明书中别处所显示的，涂覆有SiOx的PET是一种出色的氧阻挡层，而COC对于水蒸气而言是一种出色的阻挡层，它提供了低的水蒸气传输率（WVTR）。对于氧气和水蒸气两者而言，这种复合材料容器可以具有优异的阻挡特性。例如，考虑了将这种构造用于真空医用采样管，该真空医用采样管包含在制造时即有的一种含水试剂，并且具有实质性的保质期，因此它应当具有在它的保质期期间防止通过它的复合材料壁的水蒸气向外传递、或氧气或其他气体向内传递的一种阻挡层。
VII.A.1.c.作为另一个实例，内壁408可以由内部表面412上涂覆有一个SiOx阻挡层的COC制成，并且外壁410可以由PET制成。例如，考虑将这种构造用于预充式注射器，该注射器含有制造时即有的一种无菌水性流体。该SiOx阻挡层将防止氧气通过它的壁而进入该注射器中。该COC内壁将防止其他物质（例如水）的进入或流出，因此防止无菌水性流体中的水将来自壁材料的物质浸出到注射器中。还考虑这种COC内壁防止源于该无菌水性流体的水流出注射器（因此不希望地浓缩了该无菌水性流体），并且将防止注射器外部的有菌水或其他流体通过该注射器壁进入并且引起这些内容物变成有菌的。还考虑这种COC内壁对于减少柱塞在注射器的内壁上的起动力或摩擦力是有用的。
VII.A.1.d.制造双壁塑料容器——COC、PET、SiOx层的方法。
VII.A.1.d.另一个实施方案是制造具有一个壁的容器的方法，该壁具有被一个外部聚合物层围绕的一个内部聚合物层或涂层，一个层或涂层由COC制成并且另一个由聚酯制成。该容器是由包括通过同心的注射喷嘴将COC以及聚酯树脂层引入一个注塑模具中的一种方法来制造的。
VII.A.1.d.一个任选的另外的步骤是通过PECVD将一种无定形碳涂层施加于该容器，作为一个内部涂层、一个外部涂层、或作为位于这些层之间的一个夹层或涂覆涂层。
VII.A.1.d.一个任选的另外的步骤是将一个SiOx阻挡层或涂层施加于该容器壁的内部，其中SiOx是如前定义的。另一个任选的另外的步骤是用一种气态反应物或工艺气体（主要包括氧气并且基本上不含挥发性硅化合物）对该S iOx层或涂层进行后处理。
VII.A.1.d.任选地，可以至少部分地由硅氮烷进料气体来形成该SiOx涂层。
VII.A.1.d.容器80可以从内到外来制造，例如，通过将内壁注塑模制于一个第一模具空腔中，然后将芯和模制的内壁从该第一模具空腔移至一个第二、更大的模具空腔中，然后在该第二模具空腔中在内壁上注塑模制外壁。任选地，在将外壁包覆模制到连接层上之前，可以将一个连接层或涂层提供到该模制的内壁的外表面上。
VII.A.1.d.或者，容器80可以从外到内来制造，例如，通过将一个第一芯插入模具空腔中，在该模具空腔中注塑模制外壁，然后将该第一芯从该模制的第一壁移开并且插入一个第二、更小的芯，然后在仍然存在于该模具空腔中的外壁上注塑模制内壁。任选地，在将该内壁包覆模制到连接层上之前，可以将一个连接层或涂层提供到该模制的外壁的内表面上。
VII.A.1.d.或者，容器80可以在一个双色模具中制造。例如，这可以通过从内部喷嘴注塑模制用于内壁的材料以及从同心的外部喷嘴注塑模制用于外壁的材料来完成。任选地，可以从被布置在该内部喷嘴与外部喷嘴之间的一个第三、同心喷嘴来提供一个连接层或涂层。这些喷嘴可以同时送入对应的壁材料。一个有用的权宜措施是在通过内部喷嘴送入内壁材料略微之前通过外部喷嘴开始送入外壁材料。如果存在一个中间的同心喷嘴，流动的顺序可以从外部喷嘴开始，并且按顺序地从该中间喷嘴进而从该内部喷嘴继续。或者，开始进料的顺序可以从内部喷嘴开始，并且与前面描述的相比以相反的顺序向外地运行。
VII.A.1.e.由玻璃制造的容器或涂层
VII.A.1.e另一个实施方案是包括一个容器壁、一个阻挡涂层、以及一个闭合件的容器。该容器一般是管状的并且由热塑性材料制成。该容器具有一个开口和至少部分被一个壁限定的一个内腔，该壁具有与该内腔分界的一个内表面。在该壁的内表面上存在由玻璃制成的一个至少基本上连续的阻挡涂层。一个闭合件覆盖该开口并且将该容器的内腔从环境空气隔离。
VII.A.1.e.容器80还可以例如由用于医学或实验室应用的任何类型的玻璃（例如钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、或其他玻璃配制品）制成。还考虑了将由任何材料制成的具有任何性状或尺寸的其他容器用于系统20中。涂覆玻璃容器的一个作用可以是减少玻璃中的离子或者有意地或者作为杂质（例如，钠、钙、或其他物质）从该玻璃进入到该容器的内容物（例如真空采血管中的试剂或血液）中。全部或部分（例如选择性地在相对于其他部分以滑动关系接触的表面处）涂覆玻璃容器的另一个作用是对涂层提供润滑性（例如，用于易于插入或取出塞子或使一个滑动元件例如柱塞在注射器中通过）。涂覆玻璃容器的又另一个原因是防止容器的试剂或预期的样品（例如血液）粘附到容器的壁上或与该容器的壁相接触的血液的凝固速率的增加。
VII.A.1.e.i.一个相关的实施方案是如前面段落中所述的一种容器，其中该阻挡涂层是由钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、或另一种类型的玻璃制成的。
VII.A.2塞子
VII.A.2图5-7说明了容器268，它可以是一种抽空的采血管，具有闭合件270以使内腔274与周围环境隔离。闭合件270包括容器268的暴露于内腔274的面向内的表面272，以及与容器壁280的内表面278接触的壁接触表面276。在图示的实施方案中，闭合件270是具有塞子282与掩护式支架284的组件。
VII.A.2.a.施加润滑层或涂层至真空室中的塞子上的方法
VII.A.2.a.另一个实施方案是在弹性体塞子（例如282）上施加涂层的方法。将与容器268分离的塞子282置于基本抽空的室中。提供的反应混合物包括形成等离子体的气体，即有机硅化合物气体、任选地氧化性气体、以及任选地烃气体。在反应混合物中形成等离子体，将该等离子体与塞子接触。将一个具有在定义部分所限定的特征的润滑和/或疏水层沉积在该塞子的至少一部分上。
VII.A.2.a.在图示的实施方案中，用润滑层或涂层286涂覆封闭件270的壁接触表面276。
VII.A.2.a.在一些实施方案中，具有在定义部分所限定的特征的润滑和/或疏水层有效地减少该塞子的一种或多种组分（例如该塞子的金属离子组分）、或该容器壁的组分透入容器内腔。对于制造塞子282有用的某些类型的弹性体组合物含有微量的一种或多种金属离子。这些离子有时应该不能迁移至内腔274中或者以实质的量与容器内容物接触，特别是如果样品容器268被用于收集用于痕量金属分析的样品。考虑到例如这些涂层含有较少的有机成分，即其中在定义部分中限定的SiwOxCyHz的y和z很低或为零，那么在本申请中作为金属离子屏障是特别有用的。把二氧化硅当做金属离子屏障，参见例如Anupama Mallikarjunan,Jasbir Juneja,Guangrong Yang,Shyam P.Murarka,and Ton-Ming Lu,界面化学对金属离子向聚合物膜中渗透的影响（The Effect of Interfacial Chemistryon Metal Ion Penetration into Polymeric Films）,Mat.Res.Soc.Symp.Proc,Vol.734,B9.60.1页至B9.60.6页(Material s Research Society,2003)；美国专利5578103和6200658、以及欧洲申请EP0697378A2，通过引用将其全文结合在此。然而，考虑到对于提供更具弹性的涂层以及对于粘附该涂层至塞子282的弹性体表面，一些有机成分可以是有用的。
VII.A.2.a.在一些实施方案中，具有在定义部分所限定的特征的该润滑和/或疏水层可以是具有第一层和第二层的材料的复合材料，其中第一或内层或涂层288与弹性体塞子282相接，并且有效减少塞子282的一种或多种组分透入容器内腔。第二层或涂层286可以与容器的内壁280相接并且对于当塞子282就位于容器268之上或之中时，作为一个润滑层或涂层有效减少塞子282和容器的内壁280之间的摩擦。在本说明书的别处，与注射器涂层相关地描述了这种复合材料。
VII.A.2.a.或者，用具有梯度特性的涂层限定第一层和第二层288和286，其中在第一层或涂层中y和z的值大于在第二层中的值。
VII.A.2.a.可以施加该润滑和/或疏水层或涂层，例如通过基本如上所述的PECVD。该润滑和/或疏水层或涂层可以例如在0.5和5000nm（5至50，000埃）厚之间，或者在1和5000nm厚之间，或者在5和5000nm厚之间，或者在10和5000nm厚之间，或者在20和5000nm厚之间，或者在50和5000nm厚之间，或者在100和5000nm厚之间，或者在200和5000nm厚之间，或者在500和5000nm厚之间，或者在1000和5000nm厚之间，或者在2000和5000nm厚之间，或者在3000和5000nm厚之间，或者在4000和10,000nm厚之间。
VII.A.2.a.考虑到与远远更厚的（厚一微米或更多）的常规喷涂施加的有机硅润滑剂相比，等离子体涂覆的润滑性层有某些优点。与喷淋的或微米涂覆的硅树脂相比，等离子体涂层具有远远更低的移动到血液中的迁移潜力，这都是因为等离子体涂覆材料的量远远更少并且因为它可以被更紧密地施加至涂覆表面并且更好地结合在位。
VII.A.2.a.考虑到与微米涂层相比，对于相邻表面或相邻流体的流的滑动，如通过PECVD施加的纳米涂层提供了更低的阻力，因为等离子体涂层倾向于提供更平滑的表面。
VII.A.2.a.仍另一个实施方案是在弹性体塞子上施加一个润滑涂层和/或疏水层或涂层的方法。例如该塞子可以用于封闭上述容器。该方法包括若干部分。将塞子置于基本抽空的室中。提供包括形成等离子体的气体的反应混合物，即一种有机硅化合物气体、任选地一种氧化性气体、以及任选地一种烃气体。在反应混合物中形成等离子体。塞子与反应混合物接触，在塞子的至少一部分上沉积一个润滑涂层和/或疏水层或涂层。
VII.A.2.a.在实践这一方法中，为了获得在定义部分所限定的更高的y和z值，考虑到反应混合物可以包括烃气体，如以上和以下进一步描述的那样。任选地，如果考虑降低y和z的值或提高x的值，那么反应混合物可以含有氧。或者，特别是为了减少氧化并且增加y和z的值，反应混合物可以基本不含有氧化性气体。
VII.A.2.a.在实践这一方法以涂覆塞子的某些实施方案（例如塞子282）中，考虑到不必需喷射反应混合物至塞子的凹陷中。例如，塞子282的壁接触和面向内的表面276和272基本是凸起，并且因此容易通过分批法处理，其中可以在单个的基本抽空的反应室中定位并处理大量塞子（例如282）。进一步考虑到在一些实施方案中，涂层286和288不需要表现为对于氧和水而言与在容器268的内表面280上的阻挡涂层一样困难的屏障，因为塞子282的材料可以在很大程度上发挥这一功能。
VII.A.2.a.考虑塞子和塞子涂覆方法的很多变化。塞子282可以与等离子体接触。或者可以在塞子282的上游形成等离子体，生产等离子体产品，并且等离子体产品可以与塞子282接触。可以通过用电磁能和/或微波能激发反应混合物来形成等离子体。
VII.A.2.a.考虑反应混合物的变化。形成等离子体的气体可以包括一种惰性气体，在此也称为载气。例如，该惰性气体可以是例如氩气、氦气、氙气、氖气、氪气或这些之中的两种或更多种的任何混合物。具体地，该惰性气体可以是氖气、氩气或氦气。有机硅化合物气体可以是或包括HMDSO、OMCTS、在这一披露中提到的任何其他有机硅化合物，或者这些中的两种或更多种的组合。氧化性气体可以是氧或这一披露中提到的其他气体、或这些中的两种或更多种的组合。例如烃气体可以是甲烷、甲醇、乙烷、乙烯、乙醇、丙烷、丙烯、丙醇、乙炔、或这些中的两种或更多种的组合。
VII.A.2.b.通过PECVD在塞子上施加第III或第IV族元素和碳涂层
VII.A.2.b.另一个实施方案是在弹性体塞子上施加一种组合物涂层的方法，该组合物包括碳和一种或多种第III或第IV族元素。为了进行该方法，将一个塞子定位在一个沉积室中。
VII.A.2.b.在沉积室中提供一种反应混合物，包括具有第III族元素、第IV族元素、或这些中的两种或更多种的组合的气态源的形成等离子体的气体。反应混合物任选地含有一种氧化性气体并且任选地含有具有一个或多个C-H键的气态化合物。在反应混合物中形成等离子体，并且塞子与反应混合物接触。将一个第III族元素或化合物的、第IV族元素或化合物的、或这些中的两种或更多种的组合的涂层沉积在至少一部分塞子上。
VII.A.3.具有有效提供95%真空保持24个月的阻挡涂层的有塞塑料容器
VII.A.3.另一个实施方案是一个容器，包括容器、阻挡涂层、和闭合件。该容器一般是管状的并且由热塑性材料制成。该容器具有口和至少部分受壁限制的内腔。该壁具有一个与内腔相接的内表面。在该壁的内表面上施加一个至少基本连续的阻挡涂层。该阻挡涂层是有效的以提供一个基本的保质期。提供了覆盖容器口的闭合件，并且使容器的内腔与环境空气隔离。
VII.A.3.参考图5-7，示出了容器268（例如一种抽空的采血管或其他容器）。
VII.A.3.在这一实施方案中，该容器一般是一个管状容器，具有一个至少基本连续的阻挡涂层和闭合件。该容器由热塑性材料制成，具有口和至少部分受壁限制的内腔，该壁具有与内腔相接的内表面。该阻挡涂层沉积在该壁的内表面上，并且有效保持至少95%、或至少90%的容器的初始真空水平持续至少24个月、任选地至少30个月、任选地至少36个月的保质期。该闭合件覆盖容器的口并且使容器的内腔与环境空气隔离。
VII.A.3.提供了该闭合件，例如在这些图中示出的闭合件270或另一类型的闭合件以保持部分真空，和/或含有一种样品并限制或阻止它暴露于氧或污染物。图5-7基于在美国专利号6,602,206中建立的图，但是本发现不局限于它或任何其他具体类型的闭合件。
VII.A.3.闭合件270包括容器268的暴露于内腔274的面向内的表面272，以及与容器壁280的内表面278接触的壁接触表面276。在图示的实施方案中，闭合件270是具有塞子282与掩护式支架284的组件。
VII.A.3.在图示的实施方案中，塞子282限定了壁接触表面276和内表面278，同时该掩护式支架大部分或完全在塞子的容器268外，保留并提供了用于塞子282的手柄，并且在移动闭合件270中，防止人员暴露于从容器268中放出（例如由于容器268的内外压力差，当打开容器268并且空气冲入或冲出以平衡压力差时）的任何内容物。
VII.A.3.进一步考虑到，可以调整在容器壁280上的这些涂层和塞子的壁接触表面276。可以用润滑性硅树脂层涂覆该塞子，并且可以用更硬的SiOx层、或用在下面的SiOx层或涂层和润滑性外套涂覆例如由PET或玻璃制成的容器壁280。
VII.B.注射器
VII.B.前面的描述已经很大程度地解决了将一种阻挡涂层施加到具有一个永久闭合末端的管上，例如一个采血管或，更通常地，一个样品接收管80。该装置不限于这样一种器件。
VII.B.适合的容器的另一个实例（如图20中所示）是用于医用注射器252的一个注射器筒250。这类注射器252有时配备有预填充盐水溶液、一种药物制剂、或类似物以用于医学技术中。还考虑了预充式注射器252从内表面254上的一个SiOx阻挡涂层或其他类型的涂层中获益，以保持该预充式注射器252的内容物不与该注射器的塑料（例如在储存期间的注射器筒250）相接触。可以使用该阻挡涂层或其他类型的涂层来避免将该塑料的组分通过内表面254浸出到该筒的内容物中。
VII.B.如通常模制的注射器筒250在用于接收柱塞258的后端256和用于接收皮下针头的前端260两者、一个喷嘴、或用于分配注射器252的内容物或用于将材料接收进入注射器252中的管材处可以是开放的。但是前端260可以任选地加帽并且在使用预充式注射器252之前柱塞258任选地可以装配在适当的位置，在两个末端处将筒250封闭。或者出于处理注射器筒250或组装的注射器目的抑或为了在预充式注射器252的储存期间保持在适当位置可以安装一个帽262，一直到将帽262移开并且（任选地）将一个皮下针头或其他递送导管安装在前端260上以准备使用注射器252时为止。
图24-26中所示的适当容器的另一个实例是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个固定针的注射器（“固定针注射器”）。该针是空心的，具有的典型尺寸是18-29规格范围内的。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。该固定针可以在该注射器的注塑模制过程中被固定至注射器上或者可以使用粘合剂将其组装到成型的注射器上。将一个盖放在该固定针上以密封该注射器组件。该注射器组件必须密封成使得在注射器内可以维持一个真空而能够进行PECVD涂覆过程。
该固定针注射器的针具有一个外部表面、在一端处的一个递送出口、在另一端处的一个底座、以及从该底座延伸至该递送出口的一个内部通道。该筒具有一个例如总体上圆柱形的内部表面，该内部表面限定了一个内腔。该筒还具有围绕该针的外部表面模制的、并且与之流体密封性接触的一个前通道。
任何“固定针”实施方案的注射器都可以任选地进一步包括一个盖，这个盖被配置成用于将该针的递送出口与周围空气隔离。
任何“固定针”实施方案的盖都可以任选地进一步包括一个内腔，该内腔具有由一个轮缘限定的并且大小被确定成接收该递送出口的一个开口，并且该轮缘可以是可密封在该筒的一个外部部分上的。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒可以任选地进一步包括与其前通道相邻的一个总体上半球形的内部表面部分。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该针的底座任选地可以是与该筒的半球形内部表面部分至少基本上齐平的。
任何“固定针”实施方案的注射器都可以任选地进一步包括至少在该筒的半球形内部表面部分上的一个PECVD涂覆的筒涂层。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒涂层任选地可以在该筒的基本上圆柱形内部表面部分的至少一部分上延伸。
在任何“固定针”实施方案的注射器中，该筒涂层任选地可以在该针的底座与该筒的基本上圆柱形内部表面部分之间形成一种阻挡。
在图24的“固定针”实施方案中，盖7126可以在注射器7120的鼻部71110上通过常规的鲁尔锁安排而保持在位。该注射器的楔形鼻部71110与盖7126的一个对应的楔形喉部71112匹配，并且该注射器具有一个轴环71114，该轴环具有内螺纹71116，该内螺纹用于接收盖7126的卡爪71118和71120以便将锥71110和71112锁在一起。盖7126可以是实质上刚性的。
现在参见图25，示出了“固定针”实施方案的注射器筒71122和盖71124的一个变体。在这个实施方案中，盖71124包括在其底座处的一个柔性唇缘密封件7172以便与注射器筒71122形成一种不漏湿气的密封。
任选地在图24和25的“固定针”实施方案中，盖7126和71124可以承受PECVD涂覆过程中的真空。盖7126和71124可以用LDPE制成。也可以使用替代的刚性塑料材料，如聚丙烯。还可以提供额外的密封元件。
在图26中展示的“固定针”实施方案的另一个选择中，盖71126是柔性的、并且被设计成围绕注射器7120的顶端进行密封。对于盖71126可以使用一种可变形材料，像橡胶或热塑性弹性体（TPE）。优选的TPE材料包括氟弹性体，特别是医学级的氟弹性体。实例包括
Figure BDA00002385268501051
和
Figure BDA00002385268501052
在某些实施方案中
Figure BDA00002385268501053
是优选的。一个适当的橡胶实例是EPDM橡胶。
在模制过程中，在某些“固定针”实施方案中（例如在图26中展示的），将少量的盖材料71132拉入针7122的尖端或递送出口7134中以创造密封。材料71132应该具有某个硬度，例如以便允许适当量的材料被拉入针7122中、并且致使被拉入针7122中的材料在盖被去除时继续粘在盖71126上，从而暴露出针7122以供使用。
在其他“固定针”实施方案中，盖材料71132可以在不被拉入递送出口7134中的情况下遮挡针7122的递送出口7134。选择适当的材料来达到所希望的目的是在本领域普通技术人员的能力之内的。
通过将在注射器筒中形成的一个凹切71134与盖71126内部的多个凸起71138进行连接可以实现额外的密封，从而限定了一个连接件以固定盖71226。替代的“固定针”实施方案可以包括以上描述的密封作用之一或二者。
任选地，参见图25，盖71124可以具有一个底座7168和一个连接件7170，该连接件被配置用于将盖7126固定在筒上的一个就位位置。替代地或者另外地，可以任选地在盖71124的底座7168处设置一个柔性唇缘密封件7172，用于在将盖71124密封在筒71122上时在筒71122上进行密封。
任选地，现在参见图26，当盖7126被固定在筒上时，针7122的递送出口7134可以被密封在盖71126上。这个方法对于在希望时密封该递送出口7134以免空气或气体流体侵入或逸出而言是有用的。
任选地，在“固定针”实施方案中，连接件7170可以包括在筒71122和盖71124之一上的一个锁销或凹槽7174以及在筒71122和盖71124中另一个上的一个凸起或肋7176，其中凸起7176被适配成当盖7126在筒上处于其就位位置中时与锁销76进行匹配。在所考虑的一个实施方案中，锁销7174可以位于筒上并且凸起7176可以位于盖7126上。在所考虑的另一个实施方案中，锁销7174可以位于盖7126上并且凸起7176可以位于筒上。在所考虑的又另一个实施方案中，第一锁销7174可以位于筒上并且与锁销7174匹配的一个第一凸起7176可以位于盖7126上，而第二锁销7175可以位于盖7126上并且匹配的第二凸起7177可以位于筒上。一个锁销7174可以作为凹切通过在模具中结合侧向抽取口如7192和7194而模制在注射器筒中。这些锁销7174与互补的凸起7176匹配而将盖7126组装（卡）到注射器7120上。在此方面，希望盖7126是足够柔性的而允许充分变形以便锁销7174与凸起7176的卡扣接合。
“固定针”实施方案中的盖，如7126、71124和71126可以是注塑模制的或以其他方式形成的，例如由热塑性材料。合适的热塑性材料的一些实例是聚烯烃，例如环烯烃聚合物（COP）、环聚烯烃共聚物（COC）、聚丙烯、或聚乙烯。盖7126可以包含热塑性弹性体（TPE）或其他弹性体材料或由其制成。盖7126还可以由聚对苯二甲酸乙二酯（PET）、聚碳酸酯树脂或任何其他适当的材料制成。任选地，可以将盖7126的材料选择为能够承受真空并且在注射器7120内维持无菌性。
典型地，当将注射器筒涂覆时，进行在此所述的PECVD涂覆方法这样使得该涂覆的基底表面是该筒的内表面的一部分或全部，将用于该PECVD反应的气体填充该筒的内部内腔，并且在该筒的内部内腔的一部分或全部中产生等离子体。
VII.B.1.a.具有用润滑层涂覆的筒的注射器
VII.B.1.a.可以通过以下过程来制造具有这种类型的润滑层的注射器。
VII.B.1.a.提供了一种如上所定义的前体。
VII.B.1.a.在有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。将该涂层聚合或交联（或两者），从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.1.a.关于实例VII中任何一项以及子部分，任选地通过将该前体蒸发并且将它提供到该基底的附近来进行该施加步骤。
VII.B.1.a.在该基底的附近形成了一种等离子体。任选地，在基本不存在氮的条件下提供该前体。任选地，在小于1托的绝对压力下提供该前体。任选地，提供该前体至等离子体发射的附近。任选地，该前体它的反应产物以1nm至5000nm、或10nm至1000nm、或10nm至500nm或10nm至200nm、或20nm至100nm、或30nm至1000nm、或30nm至500nm、或30nm至1000nm、或20nm至100nm、或80至150nm的平均厚度施加到基底上。任选地，基底包括玻璃。任选地，基底包括一种聚合物，任选地一种聚碳酸酯聚合物、任选地一种烯烃聚合物、任选地一种环烯烃共聚物、任选地一种聚丙烯聚合物、任选地一种聚酯聚合物、任选地一种聚对苯二甲酸乙二酯聚合物。特别考虑将COC用于注射器以及注射器筒。
VII.B.1.a.任选地，该等离子体是通过用电极对含有前体的气态反应物进行激励来产生的，这些电极是例如以如上定义的RF频率、例如从10kHz至小于300MHz的频率、任选地从1至50MHz、甚至任选地从10至15MHz、任选地13.56MHz的频率来供能的。
VII.B.1.a.任选地，通过用提供有从0.1至25W、任选地从1至22W、任选地从3至17W、甚至任选地从5至14W、任选地从7至11W、任选地是8W的功率的电极激励含有前体的气态反应物产生等离子体。该电极功率与等离子体体积的比率可以小于10W/ml，任选的是从6W/ml至0.1W/ml，优选是从5W/ml至0.1W/ml，优选是从4W/ml至0.1W/ml，优选是从2W/ml至0.2W/ml。诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。这些功率水平适合于用于给具有1至3mL的空体积（其中产生了PECVD等离子体）的注射器以及取样管以及具有类似几何形状的容器施加润滑层。对于较大或较小的对象所考虑的是，应该依照该基底的大小按比例决定该过程，相应地增大或减小所施加的功率。
VII.B.1.a.另一个实施方案是本发明的注射器筒的内壁上的一种润滑涂层。该涂层产生自使用以下材料和条件的PECVD方法。任选地将如在本说明书中的别处所定义的一种环状前体用于润滑层，该环状前体选自一种单环硅氧烷、一种多环硅氧烷、或这些之中两种或多种的一种组合。一个合适的环状前体的实例包括八甲基环四硅氧烷（OMCTS），任选地按任何比例与其他前体材料混合。任选地，该环状前体主要包括八甲基环四硅氧烷（OMCTS），这表示其他前体能够以不改变生成的润滑层的基本的和新颖的特性的量而存在，即它降低了涂覆表面的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.1.a.提供了一个足够的等离子体产生功率输入（例如成功地用于本说明书的一个或多个操作实例中或本说明书中所描述的任何功率水平）来诱导涂层形成。
VII.B.1.a.相对于未涂覆的注射器筒，所采用的材料和条件将移动通过该注射器筒的注射器柱塞滑动力或起动力有效降低至少25%、可替代地至少45%、可替代地至少60%、可替代地大于60%。考虑减小柱塞滑动力或起动力的范围是从20%至95%、可替代地从30%至80%、可替代地从40%至75%、可替代地从60%至于70%。
VII.B.1.a.另一个实施方案是在内壁上具有一个疏水层的容器，该疏水层的特征如定义部分中所定义。如对于具有类似组合物的润滑涂层所解释的那样来制造该涂层，但是在有效形成比未处理的基底具有更高接触角的疏水表面的条件下。
VII.B.1.a.对于任何实施方案VII.A.1.a.ii，该基底任选地包括玻璃或一种聚合物。该玻璃任选地是硼硅酸盐玻璃。该聚合物任选地是一种聚碳酸酯聚合物、任选地一种烯烃聚合物、任选地一种环烯烃共聚物、任选地一种聚丙烯聚合物、任选地一种聚酯聚合物、任选地一种聚对苯二甲酸乙二酯聚合物。
VII.B.1.a.另一个实施方案是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个润滑层的注射器。该注射器筒包括接收用于滑动的柱塞一个内表面。该润滑层或涂层被置于在该注射器筒的内表面的部分或全部上。该润滑层或涂层任选地可以是小于1000nm厚并且有效减少了对于在筒内移动柱塞所必需的起动力或柱塞滑动力。降低柱塞滑动力被可替代地表示为降低在筒内的柱塞的滑动摩擦系数或降低柱塞力，在本说明书中这些术语被视为具有相同的含义。
VII.B.1.a.该注射器544包括一个柱塞546以及一个注射器筒548。该注射器筒548具有接收用于滑动的柱塞546一个内表面552。该注射器筒548的内表面552进一步包括一个润滑层或涂层554。该润滑层或涂层任选地是小于1000nm厚、任选地小于500nm厚、任选地小于200nm厚、任选地小于100nm厚、任选地小于50nm厚，并且对于减小用于克服在储存之后柱塞的粘附所必需的起动力或在柱塞脱离之后在筒内移动它所必需的柱塞滑动力是有效的。该润滑层或涂层的特征在于与未涂覆的表面相比具有更小的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.1.a.可以单独地或以它们之中的两种或更多种的组合来使用以上任何类型的前体中的任何一种以提供一个润滑层。
VII.B.1.a.除了利用真空工艺之外，还可以使用低温常压（非真空）等离子体工艺任选地在非氧化性气氛中（例如氦或氩）通过前体单体蒸气递送来诱导分子电离和沉积。分开地，可以考虑热CVD（通过快速热解沉积）。
VII.B.1.a.上述方法类似于真空PECVD，在于表面涂覆和交联机制可以同时发生。
VII.B.1.a.对于在此所述的任何一种或多种涂层所考虑的又另一个权宜措施是被不均匀地施加到容器的整个内部88上的涂层。例如，与位于闭合端84的该容器内部的半球形部分相比较，可以将一个不同的或另外的涂层选择性地施加到该容器内部的圆柱体部分上，或反之亦然。对于如以下所述的注射器筒或采样管特别地考虑了这种权宜措施，其中可以将润滑层或涂层提供到该筒的圆柱体部分的部分或全部上，在此处（但不是在别处）该柱塞或活塞或闭合件可以滑动。
VII.B.1.a.任选地，可以在存在、基本上不存在或不存在氮气的情况下来提供该前体。在一个考虑的实施方案中，该前体单独地被递送到该基底上并且经受PECVD来施加并且固化该涂层。
VII.B.1.a.任选地，可以在小于1Torr的绝对压力下提供该前体。
VII.B.1.a.任选地，该前体可以被提供于该等离子体发射的附近。
VII.B.1.a.在任何上述实施方案中，该基底可以包括玻璃或一种聚合物，聚合物例如聚碳酸酯聚合物、聚烯烃聚合物（例如一种环烯烃共聚物或一种聚丙烯聚合物）、或聚酯聚合物（例如，一种聚对苯二甲酸乙二酯聚合物）的一种或多种。
VII.B.1.a.在任何上述实施方案中，通过用电极激励含有该前体的气态反应物来产生等离子体，该电极以如本说明书中所定义的RF频率来供能。
VII.B.1.a.在任何上述实施方案中，通过用电极激励含有该前体的气态反应物来产生等离子体，该电极被提供有足够的用于产生润滑层的电功率。任选地，通过用提供有从0.1至25W、任选地从1至22W、任选地从3至17W、甚至任选地从5至14W、任选地从7至11W、任选地是8W的功率的电极激励含有前体的气态反应物产生等离子体。该电极功率与等离子体体积的比率可以小于10W/ml，optionally is from 6W/ml to 0.1W/ml任选是从5W/ml至0.1W/ml，任选是从4W/ml至0.1W/ml，任选是从2W/ml至0.2W/ml。诸位发明人认为低功率水平（例如从2至3.5W的功率水平以及在实例中给出的功率水平）对于制备一种润滑涂层是最有利的。这些功率水平适合于用于给具有1至3mL的空体积（其中产生了PECVD等离子体）的注射器以及取样管以及具有类似几何形状的容器施加润滑层。对于较大或较小的对象所考虑的是，应该依照该基底的大小按比例决定该过程，相应地增大或减小所施加的功率。
VII.B.1.a.该涂层可以被固化，如通过聚合或交联（或两者）该涂层，从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。固化可以发生在这个施加过程（如PECVD）期间，或可以通过分开处理来进行或至少部分完成。
VII.B.1.a.虽然已经在此使用了等离子体沉积来证明涂层特征，可以使用替代的沉积方法，只要起始材料的化学组成被尽可能多地保留而同时仍然将一种固体膜粘附到该基础基底上。
VII.B.1.a.例如，可以通过喷雾形成该涂层或将基底浸渍到该涂层材料中而将该涂层材料（从液态状态）施加到该注射器筒上，其中该涂层或者是纯前体抑或是一种用溶剂稀释的前体（允许较薄涂层的机械沉积）。任选地可以使用热能、UV能、电子束能、等离子体能、或这些的任何组合来交联该涂层。
VII.B.1.a.还考虑了将如上所述的硅酮前体施加到一个表面上，然后进行一个单独的固化步骤。施加和固化的条件可以类似于针对预涂覆多氟烷基醚的常压等离子体固化所使用的那些（在商标
Figure BDA00002385268501111
下实行的一种工艺）。这个工艺的更多细节可以在http://www.triboglide.com/process.htm找到。
VII.B.1.a.在这样一种工艺中，有待涂覆的部分的区域可以任选地用常压等离子体进行预处理。这种预处理清洁并且激活了该表面，这样使得它对于在下个步骤中喷涂的润滑剂是易于接受的。
VII.B.1.a.然后将该润滑流体（在这种情况下是以上多种前体之一或一种聚合的前体）喷涂到有待处理的表面上。例如，可以使用IVEK精确分配技术来准确地雾化该流体并且产生均匀的涂层。
VII.B.1.a.然后再次使用常压等离子体场将该涂层结合或交联到该部件上。这两者固定了涂层并且改进了润滑性能。
VII.B.1.a.任选地，可以在该容器中从环境空气产生该常压等离子体，在这种情况下，气体进料以及抽真空装备是不需要的。然而，任选地，当产生等离子体时该容器至少基本上是封闭的以将功率需求最小化并且防止等离子体与该容器外部的表面或材料相接触。
VII.B.1.a.i.润滑层：SiOx阻挡层、润滑层、表面处理
表面处理
VII.B.1.a.i.另一个实施方案是包含一个筒的注射器，该筒定义了一个内腔并且具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面，即接收用于与该内部表面滑动接触的一个柱塞。
VII.B.1.a.i.该注射器筒是由热塑性基础材料制成的。
VII.B.1.a.i任选地，该筒的内部表面涂覆有如在本说明书中别处所述的一个SiOx阻挡层或涂层。
VII.B.1.a.i.将一个润滑层或涂层施加到该筒内部表面、该柱塞（或两者）的部分或全部上，或施加到前面施加的SiOx阻挡层上。如在实施方案VII.B.1.a中或在本说明书中在别处所提出的可以提供、施加、以及固化该润滑层或涂层。
VII.B.1.a.i.例如，在任何一个实施方案中可以通过PECVD来施加该润滑层或涂层。该润滑层或涂层是从一种有机硅前体沉积的，并且是小于1000nm厚。
VII.B.1.a.i.以有效减少该润滑层、该热塑性基础材料（或两者）的浸出或可提取物的一个量在该润滑层或涂层上进行表面处理。因此该处理的表面可以充当一种溶质阻挡物。这种表面处理可以导致一个表皮涂层，例如小于1nm厚以及小于100nm厚、或小于50nm厚、或小于40nm厚、或小于30nm厚、或小于20nm厚、或小于10nm厚、或小于5nm厚、或小于3nm厚、或小于2nm厚、或小于1nm厚、或小于0.5nm厚的一个表皮涂层。
VII.B.1.a.i.如在此使用的，“浸出”是指材料从基底（例如容器壁）中被转移出而进入容器（例如注射器）的内容物中。通常地，可浸出物是通过以下步骤来测量的：将填充有预期内容物的容器进行储存，然后对这些内容物进行分析从而确定有什么材料被从该容器壁浸出到这些预期的内容物中。“提取”是指通过引入与该容器的预期内容物不同的一种溶剂或分散介质将材料从基底中移出，以确定在测试条件下有什么物质可以被从该基底中移出而进入到提取介质中。
VII.B.1.a.i.表面处理导致一种溶质阻挡物，任选地可以是如本说明书中前面定义的一个S iOx层或涂层或特征是如定义部分中所定义的一个疏水层。在一个实施方案中，可以通过SiOx层或一个疏水层的PECVD沉积来施加表面处理。任选地，可以使用比用于产生该润滑层更高的功率或更强的氧化条件（或两者）来施加该表面处理，因此提供了一种更硬的、更薄的、连续的溶质阻挡物539。在润滑层中表面处理可以是小于100nm深、任选地小于50nm深、任选地小于40nm深、任选地小于30nm深、任选地小于20nm深、任选地小于10nm深、任选地小于5nm深、任选地小于3nm深、任选地小于1nm深、任选地小于0.5nm深、任选地在0.1至50nm深之间。
VII.B.1.a.i.该溶质阻挡物被考虑为根据需要对在下面的润滑层以及其他层（包括该基底）提供低的溶质浸出性能。这种阻挡物将仅仅需要的是一种针对大的溶质分子以及低聚物（例如，硅氧烷单体例如HMDSO、OMCTS、它们的片段以及从润滑剂衍生的可动低聚物，例如一种“可浸出物阻挡物”）的一种溶质阻挡物而不是一种气体（O2/N2/CO2/水蒸气）阻挡层。然而一种溶质阻挡物还可以是一种气体阻挡层（例如，根据本发明的SiOx涂层）。人们可以通过真空抑或基于常压的PECVD过程产生一种良好的没有气体阻挡性能的可浸出物阻挡物。令人希望的是该“可浸出物阻挡物”将是足够薄的，即当注射器柱塞移动时，该柱塞将容易地穿透该“溶质阻挡物”，将滑动的柱塞头暴露于就在下面的润滑层或涂层从而形成一个润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有更低的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.1.a.i.在另一个实施方案中，可以通过氧化前面施加的润滑层的表面（如通过将该表面暴露于等离子体环境中的氧）来进行该表面处理。可以使用本说明书中所述的等离子体环境来形成SiOx涂层。或者，可以将常压等离子体条件应用于富氧环境中。
VII.B.1.a.i.然而，可以任选地同时固化所形成的润滑层或涂层以及溶质阻挡物。在另一个实施方案中，该润滑层或涂层可以被至少部分固化、任选地完全固化，在此之后，可以提供、施加表面处理并且可以固化该溶质阻挡物。
VII.B.1.a.i.润滑层或涂层与溶质阻挡物被构成并且以有效提供起动力、柱塞滑动力、或两者（该力小于在缺乏润滑层或涂层以及表面处理下所需要的相应的力）的相对量而存在。换言之，该溶质阻挡物的厚度和构成是这样的从而减少了材料从润滑层或涂层浸出到注射器的内容物中，同时允许在下面的润滑层或涂层来润滑该柱塞。所考虑的是该溶质阻挡物将易于脱离并且是足够薄的以至于当将它移动时该润滑层或涂层将仍然起作用以润滑该柱塞。
VII.B.1.a.i.在一个考虑的实施方案中，可以将润滑处理和表面处理施加到筒内表面上。在另一个考虑的实施方案中，可以将润滑处理和表面处理施加到柱塞上。在又另一个考虑的实施方案中，可以将润滑处理和表面处理施加到筒内表面和柱塞两者上。在任何这些实施方案中，该注射器筒的内部上的任选的SiOx阻挡层或涂层可以是存在或不存在的。
VII.B.1.a.i.所考虑的一个实施方案是被应用到注射器筒的内表面上的一个多层（例如3层）配置。层或涂层1可以是在氧化气氛下由HMDSO、OMCTS（或两者）的PECVD制成的一个SiOx气体阻挡层。如本说明书中所描述的，例如可以通过将HMDSO以及氧气送入到一个PECVD涂覆装置中来提供这样一种气氛。层或涂层2可以是使用施加于非氧化性气氛中的OMCTS的一种润滑层或涂层。如本说明书中所描述的，例如可以通过将OMCTS送入到一个PECVD涂覆装置中来提供这样一种非氧化性气氛（任选地基本上或完全不存在氧气）。可以使用OMCTS和/或HMDSO使用较高的功率和氧气通过一个处理（该处理形成一个薄的S iOx的表皮层或涂层或一个疏水层或涂层，作为溶质阻挡物）来形成随后的溶质阻挡物。
VII.B.1.a.i.这些多层或涂覆涂层中的某些被考虑为至少一定程度地具有一个或多个以下任选的优点。它们可以解决所报告的处理有机硅的困难，因为该溶质阻挡物可以限制内部硅酮并且防止它迁移到注射器的内容物中或别处，这导致了在注射器的可递送的内容物中较少的硅酮颗粒以及更少的在润滑层或涂层与注射器的内容物之间的相互作用的机会。它们还可以解决润滑层或涂层从润滑点迁移离开的问题，改进了在注射器筒与柱塞之间的界面的润滑性。例如，可以减小脱离力（break-free force），可以减小在移动柱塞上的拖曳力（drag），或任选地两者。
VII.B.1.a.i.所考虑的是当溶质阻挡物被破坏时，该溶质阻挡物将继续粘附到该润滑层或涂层以及注射器筒上，这可以禁止将任何颗粒夹带到该注射器的可递送的内容物中。
VII.B.1.a.i.这些涂层中的某一些还将提供制造优点，特别地如果该阻挡涂层、润滑层或涂层以及表面处理被应用到同一个装置（例如所述的PECVD装置）中时。任选地，该SiOx阻挡涂层、润滑层、以及表面处理都可以被应用到一个PECVD装置中，因此极大地降低了必需的处理量。
通过使用相同的前体并且改变该工艺形成该阻挡涂层、润滑层、以及溶质阻挡物可以得到进一步的优点。例如，可以通过以下步骤来施加一个SiOx气体阻挡层或涂层：在高功率/高O2条件下使用一种OMCTS前体，然后通过使用一种OMCTS前体在低功率和/或在基本上或完全缺乏氧气下施加一个润滑层或涂层，最后使用一种OMCTS前体在中间功率和氧气下进行表面处理。
VII.B.2柱塞
VII.B.2.a.具有阻挡层涂覆的活塞前面
VII.B.2.a.另一个实施方案是用于注射器的一种柱塞，包括一个活塞以及一个推杆。该活塞具有一个前面、一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分，该侧面被配置为可移动地就位于注射器筒之内。该前面具有一个阻挡涂层。该推杆接合该后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。
VII.B.2.b.具有与侧面接界的润滑层或涂层
VII.B.2.b又另一个实施方案是用于注射器的一种柱塞，包括一个活塞、一个润滑层、以及一个推杆。该柱塞具有一个前面，一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分。该侧面被配置为可移动地就位于注射器筒中。该润滑层或涂层与侧面相接。该推杆接合该柱塞的后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。
VII.B.3.a.两件式注射器和鲁尔接头
VII.B.3.a.另一个实施方案是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个鲁尔接头的注射器。该注射器包括具有一个内部表面的筒，该内部表面接收用于滑动的柱塞。鲁尔接头包括一个鲁尔锥，该鲁尔锥具有由一个内表面限定的一个内部通道。该鲁尔接头以与该注射器筒分离的一个分离件的形式而形成并且通过一个连接器连接到该注射器筒上。该鲁尔锥的内部通道任选地具有一个SiOx的阻挡涂层。
VII.B.3.b.固定针注射器
VII.B.3.b.另一个实施方案是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个固定针的注射器（“固定针注射器”）。该针是空心的，具有的典型尺寸是18-29规格范围内的。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。该固定针可以在该注射器的注塑模制过程中被固定至注射器上或者可以使用粘合剂将其组装到成型的注射器上。将一个盖放在该固定针上以密封该注射器组件。该注射器组件必须密封成使得在注射器内可以维持一个真空而能够进行PECVD涂覆过程。
VII.B.4.润滑层或涂层综述
VII.B.4.a.处理的产物与润滑性
VII.B.4.a.又另一个实施方案是一种润滑层。该涂层可以是通过如在此所述的用于制备润滑涂层的工艺而制造的这种类型。
VII.B.4.a.在本说明书中在别处提及的用于润滑涂层的任何这些前体可以单独地或组合使用。在有效形成一种涂层的条件下将前体施加到基底上。将该涂层聚合或交联（或两者），从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.4.a.另一个实施方案是施加润滑层的一种方法。在有效形成一种涂层的条件下将一种有机硅前体施加到一个基底上。将该涂层聚合或交联（或两者），从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。
VII.B.4.b.处理的产物与分析特性
VII.B.4.b.本发明的甚至另一个方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑层或涂层，该进料气体包括一种有机金属前体、任选地一种有机硅前体，任选地一种线性硅氧烷、一种线性硅氮烷、一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、一种多环硅氧烷、一种多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。如通过X射线反射率（XRR）所确定的该涂层可以具有1.25与1.65g/cm3之间、任选地在1.35与1.55g/cm3之间、任选地在1.4与1.5g/cm3之间、任选地在1.44与1.48g/cm3之间的密度。
VII.B.4.b.本发明的甚至另一个方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑层或涂层，该进料气体包括一种有机金属前体、任选地一种有机硅前体，任选地一种线性硅氧烷、一种线性硅氮烷、一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、一种多环硅氧烷、一种多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。如通过气相色谱法/质谱法所确定的，该涂层具有作为一种放气组分的含重复的-(Me)2SiO-部分的一种或多种低聚物。任选地，该涂层符合任何实施方案VII.B.4.a.的限制。任选地，如通过气相色谱法/质谱法所确定的该涂层放气组分基本上是不含有三甲基硅醇的。
VII.B.4.b.如通过气相色谱法/质谱法所确定的，该涂层放气组分可以是至少10ng/每测试的含有重复的-(Me)2S iO-部分的低聚物，该气相色谱法/质谱法使用以下测试条件：
GC柱:30m X 0.25mm DB-5MS(J&W Scientific),
0.25μm膜厚度
流速：1.0ml/分钟，恒流模式
检测器：质量选择性检测器（MSD）
注射模式：分流注射（10:1分流比）
放气条件：11/2英寸（37mm）室，在85°C下吹扫三小时，
流速60ml/分钟
炉温：40°C（5分钟）以10°C/分钟上升至300°C；在300°C下保持5分钟。
VII.B.4.b.任选地，该放气组分可以包括至少20ng/每测试的含有重复的-(Me)2SiO-部分的低聚物。
VII.B.4.b任选地，该进料气体包括一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、一种多环硅氧烷、一种多环硅氮烷、或这些之中的两种或多种的任何组合，例如一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合，例如八甲基环四硅氧烷。
VII.B.4.b.任何一个实施方案的润滑层或涂层可以具有通过透射电子显微术（TEM）所测量的从1nm至5000nm、或10nm至1000nm、或10nm至200nm、或20nm至100nm、或30nm至1000nm、或30nm至500nm厚的平均厚度。优选的范围是从30nm至1000nm以及从20nm至100nm，并且特别优选的范围是从80nm至150nm。在单个测量点处该涂层的绝对厚度可以高于或低于该平均厚度的范围限度。然而，它典型地在对于该平均厚度所给定的厚度范围内变化。
VII.B.4.b.本发明的另一个方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑层或涂层，该进料气体包括一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、一种多环硅氧烷、一种多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。如通过X射线光电子光谱法（XPS）所确定的，该涂层可以具有被归一化为100%的碳、氧、以及硅的碳的一个原子浓度，该浓度大于进料气体的原子式中碳的原子浓度。任选地，该涂层符合实施方案VI I.B.4.a或VII.B.4.b.A的限制。
VII.B.4.b.任选地，与当制造一种润滑涂层时有机硅前体中碳的原子浓缩相比较，碳的原子浓度从1原子%增加到80原子%（如所计算的并且基于EP 2251455的实例15中的XPS条件），可替代地从10原子%至70原子%，可替代地从20原子%至60原子%、可替代地从30原子%至50原子%，可替代地从35原子%至45原子%，可替代地从37原子%至41原子%。
VII.B.4.b.本发明的一个另外的方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑层或涂层，该进料气体包括一种单环硅氧烷、一种单环硅氮烷、一种多环硅氧烷、一种多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。该涂层具有如通过X射线光电子光谱法（XPS）所确定的，被归一化为100%的碳、氧、以及硅的一个硅的原子浓度，该浓度小于进料气体的原子式中硅的原子浓度。参见EP 2251455的实例15。
VII.B.4.b.任选地，硅的原子浓度从1原子%增加到80原子%（如所计算的并且基于EP 2251455的实例15中的XPS条件），可替代地从10原子%至70原子%，可替代地从20原子%至60原子%、可替代地从30原子%至55原子%，可替代地从40原子%至50原子%，可替代地从42原子%至46原子%。
VII.B.4.b.还特别地考虑了具有在部分VII.B.4中所引证的任何两种或更多种特性的组合的润滑层。
VII.C.容器综述
VII.C.如在此所述的和/或根据在此所述的方法制备的涂覆的容器或器皿可以被用于接收和/或储存和/或递送一种化合物或组合物。该化合物或组合物可以是敏感的，例如对空气敏感的、对氧气敏感的、对湿度敏感的和/或对机械影响敏感的。它可以是一种生物活性的化合物或组合物，例如一种药剂，像胰岛素或包含胰岛素的组合物。在另一个方面，它可以是一种生物流体，任选地一种体液，例如血液或一种血液成分。在本发明的某些方面中，该化合物或组合物是有待施用到对其有需要的受试者体内的一种产品，例如一种有待注射的产品，例如血液（如在从供体向受体输血的过程中，或将血液从患者再引入返回到该患者体内）或胰岛素。
VII.C.如在此所述的和/或根据在此所述的方法制备的涂覆的容器或器皿可以被进一步用于保护包含在它的内部空间中的一种化合物或组合物免受该未涂覆的容器材料的表面的机械和/或化学作用。例如，它可以用于防止或减少该组合物的化合物或一种组分的沉淀和/或凝固或血小板激活，例如胰岛素沉淀或血液凝固或血小板激活。
VII.C.它可以进一步用于保护包含在它的内部中的一种化合物或组合物免受该容器的外部环境影响，例如通过防止或减少一种或多种化合物从该容器周围的环境进入到该容器的内部空间中。这类环境化合物可以是一种气体或溶液，例如一种含有氧气、空气、和/或水蒸气的大气气体或液体。
VII.C.如在此所述的涂覆的容器还可以被抽真空并且以真空状态进行储存。例如，与相应的未涂覆的容器相比较该涂层允许更好的真空维持。在这个实施方案的一个方面，该涂覆的容器是一种采血管。该管还可以含有用于防止血液凝固或血小板激活的一种试剂，例如EDTA或肝素。
VII.C.例如作为容器通过提供从约1cm至大约200cm、任选地从大约1cm至大约150cm、任选地从大约1cm至大约120cm、任选地从大约1cm至大约100cm、任选地从大约1cm至大约80cm、任选地从大约1cm至大约60cm、任选地从大约1cm至大约40cm、任选地从大约1cm至大约30cm长的管材长度，并且如下所述用一个探头电极来对它进行处理，可以制成任何上述实施方案。特别是对于上述范围中的较长的长度，应当考虑的是在形成涂层期间探头与容器之间的相对移动可能是有用的。例如，这可以通过相对于探头来移动容器或相对于容器来移动探头来完成。
VII.C.在这些实施方案中，所考虑的是与可以优选的阻挡涂层相比较该涂层可以是较薄的或更不完整的，因为在一些实施方案中该容器将不需要真空采血管所具有的高阻挡层完整性。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器具有一个中心轴线。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器壁对于在20°C下至少一次的弯曲是足够柔韧的（跨过从至少基本上直的至在中心轴线处弯曲半径不大于等于该容器的外径的100倍的范围而没有破坏壁）。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，在中心轴线处的弯曲半径是不大于等于该容器的外径的90倍（或不大于等于80倍、或不大于等于70倍、或不大于等于60倍、或不大于等于50倍、或不大于等于40倍、或不大于等于30倍、或不大于等于20倍、或不大于等于10倍、或不大于等于9倍、或不大于等于8倍、或不大于等于7倍、或不大于等于6倍、或不大于等于5倍、或不大于等于4倍、或不大于等于3倍、或不大于等于2倍），或不大于该容器的外径。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器壁可以是由柔韧材料制成的一种接触流体的表面。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器内腔可以是一种泵的流体流动通道。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器可以是一种被适配以保持血液处于用于医疗用途的良好条件的血袋。
VII.C.，VII.D.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该高分子材料可以是一种硅酮弹性体或一种热塑性聚氨酯（作为两个实例）或适合于与血液或与胰岛素相接触的任何材料。
VII.C.，VII.D.在一个任选的实施方案中，该容器具有至少2mm或至少4mm的内径。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该容器是一种管。
VII.C.作为任何上述实施方案的一个任选的特征，该内腔具有至少两个开放末端。
VII.C.1.容纳有能活的血液的、具有由有机硅前体沉积的一个涂层的容器
VII.C.1.甚至另一个实施方案是一种含有血液的容器。这样一种容器的若干非限制性实例是输血袋、其中已经收集样品的血液样品收集容器、心肺机器的管道、易弯曲壁的血液收集袋、或者在外科手术期间用于收集患者血液以及将血液重新引入患者脉管系统的管道。如果该容器包括一个用于泵送血液的泵，那么一个特别合适的泵是离心泵或蠕动泵。该容器具有一个壁；该壁具有一个限定内腔的内表面。该壁的内表面具有一个至少部分涂层，其特征如定义部分所限定的疏水层。该涂层可以是薄至单分子厚度或厚至约1000nm.该容器含有对于返回患者的血管系统有活性、布置在与疏水层接触的内腔内的血液。
VII.C.1.一个实施方案是包括一个壁并且具有限定内腔的内表面的盛血容器。该内表面具有一个疏水层的至少部分涂层。该涂层还可以包括或基本由SiOx组成，其中x如本说明书中定义。在内表面上，该涂层的厚度在从单分子厚度至约1000nm厚的范围内。该容器含有对于返回患者的血管系统有活性、布置在与疏水层或涂层接触的内腔内的血液。
VII.C.2.沉积自一种有机硅前体的涂层减少在该容器中的血液的凝固或血小板活化
VII.C.2.另一个实施方案是具有一个壁的容器。该壁具有一个限定内腔的内表面并且具有一个疏水层的至少部分涂层，其中任选地w、x、y、和z如定义部分中所定义的。在内表面上，该涂层的厚度从单分子厚度至约1000nm厚。与相同类型的未用疏水层涂覆的壁相比，该涂层有效减少暴露于内表面的血液的凝固或血小板活化。
VII.C.2.如与它的与未改性的聚合物的或S i Ox的表面接触的特性相比，考虑到结合疏水层或涂层将减少血液的附着或凝固形成趋势。考虑本特性以减少或可能消除对于用肝素处理血液的需要，如在心脏外科手术期间，在使用心肺机器时那样，通过减少在经受一类需要将从患者移出血液并且然后返回患者的外科手术的患者中肝素的必需血液浓度。考虑到这将减少涉及通过这样一个容器的血液通道的外科手术的并发症，通过减少由使用肝素引起的出血并发症。
VII.C.2.另一个实施方案是包括一个壁并且具有一个限定内腔的内表面的容器。该内表面具有一个疏水层的至少部分涂层，在该内表面上，该涂层的厚度是从单分子厚度至约1000nm厚，该涂层有效减少暴露于该内表面的血液凝固或血小板活化。
VII.C.3.含有活性血液、具有一个第III或第IV族元素的涂层的容器
VII.C.3.另一个实施方案是具有一个壁的盛血容器，该壁具有一个限定内腔的内表面。该内表面具有至少部分的组合物的涂层，该组合物包括一种或多种第III族元素、一种或多种第IV族元素、或这些中的两种或多种的一个组合。在该内表面上，该涂层的厚度在单分子厚度和约1000nm厚（包括在内）之间。该容器含有对于返回患者的血管系统有活性、布置在与疏水层接触的内腔内的血液。
VII.C.4.第III族或第IV族元素的涂层减少了该容器中血液的凝固或血小板激活
VII.C.4.任选地，在以上段落中所述的容器中，该第III族或第IV族元素的涂层有效减少暴露于该容器壁的内表面的血液的凝固或血小板激活。
VII.D.药物递送容器
VII.D.如在此所述，一个涂覆的容器或盛器可以用于阻止或减少包含在该容器中的化合物或组合物逃逸进入围绕该容器的环境。
还考虑如在此所述的该涂层和容器的其他用途，它们从这些说明和权利要求的任何部分是清楚的。
VII.D.1.容纳胰岛素的、具有由有机硅前体沉积的涂层的容器
VII.D.1.另一个实施方案是包括一个壁的盛胰岛素容器，该壁具有一个限定内腔的内表面。该内表面具有一个至少部分涂层，其特征如定义部分所限定的疏水层。在该内表面上，该涂层可以是从单分子厚度至约1000nm厚。胰岛素被布置在内腔内与SiwOxCyHz涂层接触。
VII.D.1.又另一个实施方案是盛胰岛素容器，该容器包括一个壁并且具有一个限定内腔的内表面。该内表面具有一个至少部分涂层，其特征如定义部分所限定的疏水层，在该内表面上涂层的厚度是从单分子厚度至约1000nm厚。胰岛素，例如FDA批准用于人的药物胰岛素，被布置在内腔内与该疏水层接触。
VII.D.1.考虑到结合一个其特征如定义部分所限定的疏水层将降低在胰岛素泵的递送管中胰岛素的附着或沉淀形成趋势（与它的与未改性的聚合物表面接触的特性比较时）。考虑这一特性来降低或可能消除对于将穿过递送管的胰岛素过滤从而除去固体沉淀的需要。
VII.D.2.由有机硅前体沉积的涂层减少了容器中胰岛素的沉淀
VII.D.2.任选地，在以上段落的容器中，与缺乏疏水层的相同表面相比较，该疏水层或涂层的涂覆有效减少由接触该内表面的胰岛素形成的沉淀。
VII.D.2.甚至另一个实施方案是再次包括一个壁并且具有限定内腔的内表面的容器。该内表面包括一个疏水层的至少部分涂层。在该内表面上，涂层的厚度是在从单分子厚度至约1000nm厚的范围内。该涂层有效减少从接触内表面的胰岛素形成的沉淀。
VII.D.3.容纳胰岛素的具有第III族或第IV族元素的涂层的容器
VII.D.3.另一个实施方案是包括一个壁的盛胰岛素容器，该壁具有一个限定内腔的内表面。该内表面具有至少部分的组合物涂层，该组合物包括碳、一种或多种第III族元素、一种或多种第IV族元素、或者这些中的两种或更多种的组合。在该内表面上，该涂层可以是从单分子厚度至约1000nm厚。胰岛素被布置在内腔内与涂层接触。
VII.D.4.第III族或第IV族元素的涂层减少了容器中胰岛素的沉淀
VII.D.4.任选地，在以上段落中所述的容器中，与缺乏涂层的相同表面相比较，包括包括碳、第III族的一种或多种金属、第IV族的一种或多种金属、或这些之中的两种或更多种的一种组合的构成的涂层有效减少由于胰岛素接触内表面形成的沉淀。
用于所有实施方案的通常的条件
在在此所考虑的任何实施方案中，能够使用许多通常条件（例如以任何组合的任何以下各项）。可替代地，可以使用在本说明书或权利要求书中别处所描述的任何不同的条件。
I.任何一种实施方案的基底
I.A.任何一种实施方案的容器
这种容器可以是采样管，例如采血管、或注射器、或注射器部件例如筒或柱塞或活塞、管形瓶、导管、或小杯。该基底可以是一种闭合末端的管，例如一种医用采样管。该基底可以是具有一个内腔的容器的内壁，该内腔具有从0.5mL至50mL的空体积，任选地从1mL至10mL，任选地从0.5mL至5mL，任选地从1mL至3mL。该基底表面可以是具有至少一个开口以及一个内表面的容器的内表面的部分或全部，并且其中该气态反应物填充该容器的内部内腔并且可以在这个容器的内部内腔的部分或全部中产生等离子体。
I.B.注射器以及部件
该基底可以是一个注射器筒。该注射器筒可以具有一个柱塞滑动表面并且该涂层可以被置于该柱塞滑动表面的至少一部分上。该涂层可以是一种润滑层。该润滑层或涂层可以在该筒内表面上。该润滑层或涂层可以在该柱塞上。在一个特定的方面，该基底是一种固定针注射器或一种固定针注射器的一部分。
I.C.用于接收塞子的容器
该基底可以是容器的开口中的一种塞子接收表面。该基底可以是适配用于接收塞子的容器的开口的一种大致圆锥形的或圆柱形的内表面。
I.D.塞子
该基底可以是一个塞子的滑动表面。这些基底可以通过提供位于在一个单个的基本上抽空的容器中的多个塞子来进行涂覆。该化学气相沉积可以是等离子体增强的化学气相沉积并且该塞子可以与该等离子体相接触。该化学气相沉积可以是等离子体增强的化学气相沉积。该等离子体可以在该塞子的上游形成，产生了等离子体产物，并且该等离子体产物可以与该塞子相接触。
一个封闭件可以定义一个用涂层涂覆的基底，任选地一个用润滑层涂覆的塞子。该基底可以是就位于一个容器中的一种封闭件，该容器定义了一个内腔，并且该封闭件朝向内腔的一个表面可以涂覆有该涂层。
该涂层对于减少将该塞子的金属离子组分传输到该容器的内腔中可能是有效的。
I.E.任何一种实施方案的基底
该基底可以是一个容器壁。与一个封闭件的接触壁的表面相接触的该容器壁的一部分可以涂覆有该涂层。该涂层可以是具有第一和第二层的材料的复合材料。该第一层或涂层可以与该弹性体塞子接界。该涂层的第一层对于减少将该塞子的一个或多个组分传输到该容器内腔中可能是有效的。该第二层或涂层可以与该容器的内壁接界。当可以将该塞子就位在该容器上时，该第二层对于减少该塞子与该容器的内壁之间的摩擦可能是有效的。
可替代地，可以将任何一个实施方案的第一和第二层定义为包含碳和氢的具有梯度特性的一种涂层，其中第一层或涂层中碳和氢的比例大于第二层。
可以将等离子体增强的化学蒸气沉积应用于任何一个实施方案的涂层。
任何一个实施方案的基底可以包括玻璃、可替代地一种聚合物、可替代地一种聚碳酸酯聚合物、可替代地一种烯烃聚合物、可替代地一种环烯烃共聚物、可替代地一种聚丙烯聚合物、可替代地一种聚酯聚合物、可替代地一种聚对苯二甲酸乙二酯聚合物、可替代地一种聚乙烯萘二甲酸酯聚合物、可替代地上述材料中的任何两种或更多种的一种组合、复合物或共混物。
II.任何实施方案的气态反应物或工艺气体限制
II.A任何实施方案的沉积条件
如果使用的话，可以在减压下产生用于PECVD的等离子体，并且该减压可以是小于300mTorr、任选地小于200mTorr、甚至任选地小于100mTorr。该涂层的物理和化学特性可以通过设定在该气态反应物中O2对有机硅前体的比率、和/或通过设定用于产生该等离子体的电功率来设定。
II.B.任何实施方式的气体的相对比例
该工艺气体可以包含以下比率的气体来制备一个润滑涂层：
从1至6标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积
的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.2至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.2至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.2至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.2至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.2至1标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从1至100标准体积的一种载气，
从0.2至1标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.2至1标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
2至4标准体积的该前体；
从3至70标准体积的一种载气，
从0.2至1标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积
的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.1至2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.5至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.5至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.5至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.5至1.5标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.8至1.2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从2至4标准体积的该前体；
从5至100标准体积的一种载气，
从0.8至1.2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
从1至6标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.8至1.2标准体积的一种氧化剂。
或替代地处于这个比率：
2至4标准体积的该前体；
从10至70标准体积的一种载气，
从0.8至1.2标准体积的一种氧化剂。
II.C.任何实施方案的前体
在本说明书中在别处已经描述了该有机硅前体。
在某些方面，特别是当形成一个润滑涂层时，该有机硅化合物包含八甲基环四硅氧烷（OMCTS）。用于所述某些方面的任何实施方案的有机硅化合物可以主要包括八甲基环四硅氧烷（OMCTS）。在某些方面，特别是当形成一个阻挡涂层时，该有机硅化合物是或包含六甲基二硅氧烷。
该反应气体还可以包括一种烃。该烃可以包括甲烷、乙烷、乙烯、丙烷、乙炔、或这些之中的两种或更多种的一种组合。
该有机硅前体可以按等于或小于6sccm的速率来递送，任选地等于或小于2.5sccm、任选地等于或小于1.5sccm、任选地等于或小于1.25sccm。较大的容器或在条件或规模方面的其他改变可能需要较多或较少的前体。可以在小于1Torr的绝对压力下提供该前体。
II.D.任何实施方案的载气
该载气可以包含或包括一种惰性气体，例如氩、氦、氙、氖、在沉积条件下对于工艺气体中的其他组分是惰性的另一种气体、或这些之中的两种或更多种的任何组合。
II.E.任何实施方案的氧化性气体
该氧化性气体可以包含或包括氧气（O2和/或O3（通常称为臭氧））、氧化亚氮、或在所采用的条件下在PECVD期间氧化该前体的任何其他气体。该氧化性气体包括大约1标准体积的氧气。该气态反应物或工艺气体可以是至少基本上不含有氮气的。
III.任何实施方案的等离子体
任何一个PECVD实施方案的等离子体可以在该基底的附近形成。在某些情况下，特别是当制备一种SiOx涂层时，该等离子体可以是一种非空心阴极等离子体。在其他某些情况下，特别是当制备一种润滑涂层时，非空心阴极等离子体是不希望的。该等离子体可以在减压下从气态反应物形成。可以提供足够的等离子体发生功率输出以诱导在该基底上形成涂层。
IV.任何实施方案的RF功率
可以将该前体与一种等离子体相接触，该等离子体是通过用电极在该前体附近进行激励来制造的，这些电极以10kHz至2.45GHz、可替代地从大约13至大约14MHz的频率来供能。
可以将该前体与一种等离子体相接触，该等离子体是通过用电极在该前体附近进行激励来制造的，这些电极是在射频、任选地从10kHz至小于300MHz、任选地从1至50MHz、甚至任选地从10至15MHz、任选地在13.56MHz的频率被供能的。
可以将该前体与一种等离子体相接触，该等离子体是通过用电极在该前体的附近进行激励来制造的，该电极被提供有以下电功率：从0.1W至25W，任选地从1W至22W、任选地从1W至10W、甚至任选地从1W至5W、任选地从2W至4W例如3W、任选地从3W至17W、甚至任选地从5W至14W例如6W或7.5W、任选地从7W至11W例如8W。
可以将该前体与一种等离子体相接触，该等离子体是通过用电极在该前体的附近进行激励来制造的，该电极被提供有以下电功率密度：小于10W/ml的等离子体体积、可替代地从6W/ml至0.1W/ml的等离子体体积、可替代地从5W/ml至0.1W/ml的等离子体体积、可替代地从4W/ml至0.1W/ml的等离子体体积、可替代地从2W/ml至0.2W/ml的等离子体体积。
可以通过用电磁能、可替代地微波能来激发该反应混合物从而形成等离子体。
V.任何实施方案的其他工艺选项
可以通过将前体蒸发并且将它提供到基底的附近来进行将涂层施加到该基底上的施加步骤。
采用的化学气相沉积可以是PECVD并且沉积时间可以是1至30秒，替代地2至10秒，替代地3至9秒。任选地限制沉积时间的目的可以是为了避免基底过热、增大生产速率、并且减少对工艺气体和其组分的使用。任选地延长沉积时间的目的可以是为了对于特定沉积条件提供更厚的涂层。
VI.任何实施方案的涂层特性
VI.A.任何实施方案的润滑特性
根据本发明所述涂覆有一种润滑涂层的容器（例如注射器筒和/或柱塞）具有比未涂覆的容器更高的润滑性（例如通过测量Fi和/或Fm来确定）。如在此所述，它们还具有比涂覆有SiOx涂层的容器更高的润滑性。可以在有效形成该基底的一个润滑的表面的条件下进行一个实施方案，该基底具有比未处理的基底更低的滑动力或起动力（或任选地两者）。任选地，相对于未涂覆的注射器筒，这些材料以及条件可以以至少25%、可替代地至少45%、可替代地至少60%、可替代地大于60%有效减少滑动力或起动力。另外说明的是，该涂层可以具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力，其中与未涂覆的表面相比较任选地该摩擦阻力可以被降低至少25%、任选地至少45%，甚至任选地至少60%。
该松脱力（break loose force，Fi）以及该滑动力（glide force，Fm）是针对润滑涂层的效果的重要的性能度量。对于Fi以及Fm而言，所希望的是具有低的而不是太低的值。在太低的Fi的情况下，这表示太低的阻力水平（极限值是零），可能发生过早的/非预期的流动，这可能例如导致预充式注射器的内容物的非预期的过早的或不受控制的排出。
为了实现充分的润滑性（例如为了确保注射器柱塞可以在注射器内移动、但避免该柱塞的不受控移动），有利地应该维持以下范围的Fi和Fm：
Fi：2.5至5lbs，优选2.7至4.9l bs，特别是2.9至4.7l bs；
Fm：2.5至8.0lbs，优选3.3至7.6l bs，特别是3.3至4l bs。
进一步有利的Fi和Fm值可以在这些实例的表中找到。
该润滑涂层任选地提供了一种一致的柱塞力，该力减少了松脱力（Fi）与滑动力（Fm）之间的差。
VI.B.任何实施方案的疏水特性
一个实施方案可以在有效在基底上形成疏水层或涂层的条件下进行。任选地，可以通过设置该气态反应物中O2与该有机硅前体的比率，和/或通过设置用于产生等离子体所使用的电功率来设置该涂层的疏水特性。任选地，该涂层可以具有比未涂覆的表面更低的湿润张力，任选地该湿润张力是从20至72达因/厘米、任选地30至60达因/厘米、任选地30至40达因/厘米、任选地34达因/厘米。任选地，该涂层是比未涂覆表面更疏水的。
VI.C.任何实施方案的厚度
任选地，该涂层可以具有在本披露中说明的任何量的通过透射电子显微术（TEM）来确定的厚度。
对于在此所述的润滑性涂层而言，指示的厚度范围表示为平均厚度，因为一定的粗糙度可以增强该润滑涂层的润滑特性。因此，该润滑涂层的厚度遍及整个涂层有利地是不均匀的（见上）。然而，也考虑了一个均匀厚度的润滑涂层。在单个测量点处润滑涂层的绝对厚度可以高于或低于该平均厚度的范围界限的，其中与平均厚度的最大偏差优选+/-50%、更优选+/-25%并且甚至更优选+/-15%。然而，它典型地在在本说明书对于平均厚度给定的厚度范围内变化。
VI.D.任何实施方案的组成
任选地，该润滑涂层可以由SiwOxCyHz或SiwNxCyHz组成。通常它具有原子比SiwOxCy，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，优选地w是1，x是从大约0.5至1.5，并且y是从0.9至2.0，更优选地，w是1，x是从0.7至1.2并且y是从0.9至2.0。该原子比可以通过XPS（X射线光电子光谱法）确定。考虑到H原子，因此该涂层在一个方面可以具有式SiwOxCyHz，其中w是1，x是从大约0.5至大约2.4，y是从大约0.6至大约3，并且z是从大约2至大约9。典型地，在本发明的一个具体涂层中的原子比是Si 100:O 80-110:C 100-150。具体地，该原子比可以是Si 100:O 92-107:C116-133，并且因此这种涂层将含有36%至41%的碳（碳加氧加硅归一化为100%）。
替代地，w可以是1，x可以是从约0.5到1.5，y可以是从约2至约3，并且z可以是从6至约9。替代地，如通过X射线光电子光谱法（XPS）所确定的，该涂层可以具有被归一化为100%的碳、氧、以及硅的原子浓度：小于50%的碳以及大于25%的硅。替代地，其原子浓度是从25%至45%的碳、25%至65%的硅、以及10%至35%的氧。替代地，其原子浓度是从30%至40%的碳、32%至52%的硅、以及20%至27%的氧。替代地，其原子浓度是从33%至37%的碳、37%至47%的硅、以及22%至26%的氧。
任选地，如通过X射线光电子光谱法（XPS）所确定的被归一化为100%的碳、氧、以及硅的碳的原子浓度可以大于有机硅前体的原子式中的碳的原子浓度。例如，考虑了多个实施方案，其中碳的原子浓度从1原子%增加到80原子%、可替代地从10原子%至70原子%、可替代地从20原子%至60原子%、可替代地从30原子%至50原子%、可替代地从35原子%至45原子%、可替代地从37原子%至41原子%。
任选地，与有机硅前体相比较，该涂层中碳对氧的原子比可以增加，和/或与有机硅前体相比较氧对硅的原子比可以减少。
任选地，该涂层可以具有如通过X射线光电子光谱法（XPS）所确定的，被归一化为100%的碳、氧、以及硅的一个硅的原子浓度，该浓度小于进料气体的原子式中硅的原子浓度。例如，考虑了多个实施方案，其中硅的原子浓度从1原子%增加到80原子%，可替代地从10原子%至70原子%，可替代地从20原子%至60原子%、可替代地从30原子%至55原子%，可替代地从40原子%至50原子%，可替代地从42原子%至46原子%。
作为另一种选项，考虑了一种涂层，该涂层可以被表征为一个总式，其中与有机硅前体的总式相比较，原子比C:O可以是增加的和/或原子比Si:O可以是降低的。
VI.E.任何实施方案的放气种类
如通过气相色谱法/质谱法所确定的，该润滑涂层具有作为一种放气组分的、含重复的-(Me)2SiO-部分的一种或多种低聚物。该涂层放气组分可以通过气相层析法/质谱法来确定。例如，该涂层放气组分可以具有至少10ng/每测试的含有重复的-(Me)2SiO-部分的低聚物，可替代地至少20ng/每测试的含有重复的-(Me)2S iO-部分的低聚物，如使用以下测试条件所确定的：
GC柱：30m X 0.25mm DB-5MS（J&W Scientific），0.25μm薄膜厚度
流速：1.0ml/分钟，恒流模式
检测器：质量选择性检测器（MSD）
注射模式：分流注射（10:1分流比）
放气条件：11/2英寸（37mm）室，在85°C下吹扫三小时，流速60ml/min
炉温：40°C（5分钟）以10°C/分钟升温至300°C；在300°C维持5分钟。
任选地，该润滑涂层可以具有至少基本上不含有三甲基硅醇的放气组分。
VI.E.任何实施方案的其他涂层特性
如通过X射线反射率（XRR）所确定的该涂层可以具有1.25与1.65g/cm3之间的密度，可替代地在1.35与1.55g/cm3之间、可替代地在1.4与1.5g/cm3之间、可替代地在1.4与1.5g/cm3之间、可替代地在1.44与1.48g/cm3之间。任选地，该有机硅化合物可以是八甲基环四硅氧烷并且当该有机硅化合物在相同的PECVD反应条件下时，该涂层可以具有一个密度，该密度可以高于由HMDSO制造的涂层的密度。
与未涂覆的表面和/或与使用HMDSO作为前体的阻挡层涂覆的表面相比较，该涂层任选地可以防止或减少与该涂层相接触的一种组合物中的化合物或组分的沉淀，具体地说可以防止或减少胰岛素沉淀或血液凝固。
基底可以是一种容器，用于保护包含在或接受在该涂覆的容器中的化合物或组合物免受该未涂覆的基底的表面的机械和/或化学作用。
该基底可以是一种容器，用于防止或减少该与该容器的内表面相接触的组合物中的化合物或组分的沉淀和/或凝固。该化合物或组合物可以是一种生物活性化合物或组合物，例如一种药剂，例如该化合物或组合物可以包括胰岛素，其中胰岛素沉淀可以被减少或防止。可替代地，该化合物或组合物可以是一种生物流体，例如一种体液，例如血液或其中血液凝固可以被减少或防止的一种血液成分。
VII.对任何实施方案任选地加上SIOX涂层
位于基底（例如容器壁上）并且包括一个润滑涂层的涂层另外可以包括至少一个SiOx层或涂层，其中x可以是从1.5至2.9，该层或涂层与基底上的涂层相邻、替代地在该涂层与基底之间、替代地位于该涂层的与基底相反的一侧上。任选地，这些SiOx层以及涂层可以形成清晰的界面或SiwOxCyHz至SiOx的梯度复合材料，或反之亦然。该涂覆有润滑涂层的基底可以进一步包括该涂层的表面处理，其量值为有效减少该涂层、基底或这二者的浸出。例如，该涂层和表面处理可以以有效提供起动力、滑动力、或两者（该力小于在缺乏该涂层和表面处理时所需要的相应的力）的相对量而构成并且存在。任选地，在润滑层中表面处理可以是小于100nm深、替代地小于50nm深、替代地小于40nm深、替代地小于30nm深、替代地小于20nm深、替代地小于10nm深、替代地小于5nm深、替代地小于3nm深、替代地小于1nm深、替代地小于0.5nm深。作为所考虑的另一个选择，该表面处理可以在该润滑层中的深度为0.1与50nm之间。
该任选的表面处理可以包括SiOx，其中x可以是从约1.5至约2.9。任选地，可以在该涂层与基底表面之间施加至少一个第二SiOx层或涂层，其中x可以是从1.5至2.9。
考虑了以下实施方案，其中该基底是具有一个限定了内腔的内表面以及一个外表面的一种容器。该润滑涂层可以位于该容器的内表面上，并且该容器可以在其SiOx外表面上包含至少一个另外的层或涂层，其中x可以是从1.5至2.9。替代地，该外表面上的另外的层或涂层可以包括聚偏二氯乙烯（PVDF）。该外表面上的另外的层或涂层可以是一个阻挡涂层。
VIII.对任何实施方案任选地由容器加上内容物构成的产品
在任何实施方案中，该基底可以是具有一个限定了内腔的内表面以及一个外表面的一种容器，该涂层可以位于该容器的内表面上，并且该容器可以在其内腔中包含一种化合物或组合物，例如柠檬酸酯或含有柠檬酸酯的组合物，或者例如胰岛素或含有胰岛素的组合物。尤其考虑了包含可注射的或其他液体药物像胰岛素的一种预充式注射器。
实例
以下实例已经部分地披露于EP 2 251 455中。为避免不必要的重复，在此不重复EP 2 251 455 A2中的所有实例，但在此明确对其进行引用。
用于形成并涂覆注射器筒的基本实验方案
根据下面示例性实验方案（除了在单独的实例中另外指明的之外）来形成和涂覆在随后操作实例中测试的容器。在以下基本实验方案中给出的具体的参数值（例如电功率以及气态反应物或工艺气体流速）是典型值。与这些典型值相比较，每当参数值发生改变时，这将在随后的操作实例中指明。同样的原则应用于气态反应物或工艺气体的类型以及构成。
使用SiOx涂覆管内部的实验方案
使用具有图10的密封机制的如图1中示出的装置，这是一个特殊的考虑的实施方案。容器支架50是由
Figure BDA00002385268501381
缩醛树脂制成（可以从美国特拉华州威明顿市E.I.du Pont de Nemours and Co公司得到），具有1.75英寸（44mm）的外径以及1.75英寸（44mm）的高度。容器支架50被收容于结构中，允许器件移入和移出电极160。
电极160是由具有
Figure BDA00002385268501392
屏蔽的铜制成的。
Figure BDA00002385268501393
屏蔽是环绕铜电极160的外部来共形的。电极160被测量约3英寸（76mm）高（里面）并且是约0.75英寸（19mm）宽。
将用作容器80的管插入到容器支架50底座中，该底座用围绕该管的外部的
Figure BDA00002385268501394
O型圈490，504
Figure BDA00002385268501395
是美国特拉华州威明顿市DuPontPerformance Elastomers LLC公司的一个商标）进行密封（图10）。将管80仔细地移动到密封位置，该位置在延伸的（静止）1/8-英寸（3-mm）直径黄铜探头或对电极108之上，并且推向一个铜等离子体网。
铜等离子体网610是一种打孔的铜箔片材料（美国伊利诺州芝加哥市K&S Engineering公司，Part#LXMUW5铜网），它被切割以配合该管的外径，并且通过一个径向延伸的对接表面494而保持在适当位置，该对接表面充当用于管插入的终止（见图10）。将两件铜网紧密配合在该黄铜探头或对电极108的周围，以确保良好的电接触。
该黄铜探头或对电极108延伸进入该管的内部约70mm并且具有#80线（直径=0.0135英寸或0.343mm）的一个阵列。黄铜探头或对电极108延伸通过一个位于容器支架50底部的
Figure BDA00002385268501396
接头（从美国SwagelokCo.,Solon Ohio可得），延伸通过容器支架50的底部结构。该黄铜探头或对电极108被接地到该RF匹配网络的外壳上。
气体递送端口110是沿着该管的长度在该探头或对电极108上的12个孔（在彼此90度定向的四个侧面的每一个上有三个）以及在插入气体递送端口110的末端的铝帽中的两个孔。气体递送端口110被连接到一个不锈钢组件上，该组件包含
Figure BDA00002385268501397
接头，这些接头结合了用于排气的一个手动球阀、一个热电偶压力计以及连接到该抽真空管线上的一个旁通阀。此外，该气体系统连接至气体递送端口110，允许气态反应物或工艺气体、氧和六甲基二硅氧烷（HMDSO）流动通过气体递送端口110（在处理压力下）进入该管内部。
该气体系统包括用于可控地使氧气以90sccm（或以针对具体实例所报告的特定的流速）流动进入该过程的一个
Figure BDA00002385268501401
GFC17质量流速计（美国伊利诺伊州巴灵顿市Cole-Parmer Instrument公司Part#EW-32661-34）以及长度49.5英寸（1.26m）的一个聚醚醚酮（“PEEK”）毛细管（外径，“OD”1/16-英寸（1.5-mm.），内径，“ID”0.004英寸（0.1mm））。将该PEEK毛细管末端插入到液体六甲基二硅氧烷（“HMDSO,”AlfaPartNumber L16970，NMR级，可以从伦敦Johnson Matthey PLC公司获得）中。由于在处理期间管中的压力较低，该液体HMDSO被吸引通过该毛细管。然后在该毛细管的出口处当HMDSO进入低压区域时HMDSO被蒸发成为蒸气。
为了确保该液体HMDSO经过该点不发生冷凝，当它不经由一个
Figure BDA00002385268501403
三通阀流动进入用于处理的管的内部时，将气体流（包括氧气）转移到该泵送管线中。一旦该管被安装，将真空泵阀向容器支架50以及该管的内部打开。
一台Alcatel回转叶片式真空泵和鼓风机组成该真空泵系统。当该气态反应物或工艺气体以指定的速率流动时，该泵系统允许该管的内部降低至小于200mTorr的压力。
一旦达到了这个基础真空水平，将该容器支架50组件移动到该电极160组件中。该气体流（氧气以及HMDSO蒸气）流入该黄铜的气体递送端口110（通过调节3通阀从泵送管线至气体递送端口110）中。如通过安装在该泵送管线上的在控制真空的阀附近的一个电容压力计（MKS）所测量的，该管内部的压力是约300mTorr。除了管压力之外，使用连接到该气体系统上的热电偶真空计还测量了该气体递送端口110以及气体系统的内部压力。这个压力典型地是小于8Torr。
一旦气体流动到该管的内部中，将该RF电源开启到它的固定功率水平。以约50瓦的固定功率水平使用一台ENI ACG-6600瓦RF电源（以13.56MHz）。在该涂覆装置的操作期间，使用连接到电源的RF输出上的Bi rd公司型号43RF瓦计在这个以及全部以下实验方案以及多个实例中校准了输出功率。在电源上的标度盘设置和输出功率间发现以下关系：RF功率输出=55x标度盘设置。在本申请的在先申请中，使用因子100，这是不正确的。该RF电源被连接到一个COMDEL CPMX1000自动匹配器上，该匹配器将等离子体（有待在该管中产生）的复阻抗与ENI ACG-6RF电源的50欧姆输出阻抗相匹配。正向功率是50瓦（或针对一个具体实例所报告的特定的量）并且反射功率是0瓦，这样使得所施加的功率被递送到管的内部。该RF电源是通过一个实验室计时器来控制的并且将通电时间设定为5秒（或针对具体实例所报告的特定的时间段）。当启动RF电源时，在该管的内部之中建立了均匀的等离子体。该等离子体维持整个5秒钟直至该RF电源被计时器终止。等离子体在该管内部表面上产生了约20nm厚的一个氧化硅涂层（或在具体实例中所报告的特定的厚度）。
在涂覆之后，将气体流转移回真空管线中并且将真空阀关闭。然后将放气阀打开，使管的内部返回到大气压（约760Torr）。然后将该管小心地从容器支架50组件中移开（在将容器支架50组件移出电极160组件之后）。
用于形成COC注射器筒的实验方案
可以使用用于伸展式筒注射器的注射器筒（“COC注射器筒”）、CV夹持部件11447（每一个具有2.8ml的总体积（不包括鲁尔接头）和1ml的递送体积或柱塞排气量），从
Figure BDA00002385268501411
8007-04环烯烃共聚物（COC）树脂注塑模制了鲁尔接头类型，该树脂从德国Hoechst AG,Frankfurt am Main可得，具有这些尺寸：在圆柱形部分的约51mm的总长度，8.6mm的内部注射器筒直径以及1.27mm的壁厚度，具有模制在一端的整体9.5毫米长的针状毛细管鲁尔接头，以及模制在另一端附近的两个指形凸缘。
使用SiOx涂覆COC注射器筒内部的实验方案
可以用SiOx涂覆注塑模制的COC注射器筒的内部。将图1所示的设备进行改良以便夹持一个COC注射器筒，其中在该COC注射器筒的底部具有接合密封。此外，由不锈钢鲁尔接头和密封该COC注射器筒的端部的聚丙烯盖制出一个盖（在图8中示出），从而允许抽空该COC注射器筒的内部。
容器支架50可以由
Figure BDA00002385268501421
制成，具有1.75英寸（44mm）的外径和1.75英寸（44mm）的高度。容器支架50可以被收纳于
Figure BDA00002385268501422
结构内，该结构允许器件移入和移出电极160。
电极160可以是由具有
Figure BDA00002385268501423
屏蔽的铜制成的。
Figure BDA00002385268501424
屏蔽可以是环绕铜电极160的外部来共形的。电极160可以是约3英寸（76mm）高（里面）并且是约0.75英寸（19mm）宽。可以将COC注射器筒插入容器支架50，底部用
Figure BDA00002385268501425
O形圈密封。
可以将COC注射器筒仔细地移动到密封位置，该位置在延伸的（静止）1/8-英寸（3-mm）直径黄铜探头或对电极108之上，并且推向一个铜等离子体网。铜等离子体网可以是有孔的、裁切以适合该COC注射器筒的外径的铜箔材料（K&S Engineering Part#LXMUW5铜网），并且可以通过充当用于该COC注射器筒插入的塞子的支座表面494夹持在位。将两件铜网紧密配合在该黄铜探头或对电极108的周围，以确保良好的电接触。
该探头或对电极108延伸约20mm进入该COC注射器筒的内部并且可以在它的端部开放。黄铜探头或对电极108延伸通过一个位于容器支架50底部的
Figure BDA00002385268501426
接头，延伸通过容器支架50的底部结构。该黄铜探头或对电极108可以被接地到该RF匹配网络的外壳上。
气体递送端口110可以被连接到一个不锈钢组件上，该组件包含
Figure BDA00002385268501427
接头，这些接头结合了用于排气的一个手动球阀、一个热电偶压力计以及连接到该抽真空管线上的一个旁通阀。此外，该气体系统可以连接至气体递送端口110，允许气态反应物或工艺气体、氧和六甲基二硅氧烷（HMDSO）流动通过气体递送端口110（在处理压力下）进入该COC注射器筒内部。
该气体系统可以包括一个
Figure BDA00002385268501428
GFC17质量流量计（Cole ParmerPart#EW-32661-34）（它用于可控地使氧以90sccm（或以报告用于具体实例的特定流速）流动进入该过程）、以及一种长度为49.5英寸（1.26m）或如特定实例中所指出的其他长度的PEEK毛细管（OD1/16英寸（3mm），ID 0.004英寸（0.1mm））。可以将该PEEK毛细管端部插入液体六甲基二硅氧烷（Alfa
Figure BDA00002385268501431
部件号L16970，NMR级）。由于在处理期间该COC注射器筒中的压力较低，该液体HMDSO可以被吸引通过该毛细管。然后在该毛细管的出口处当HMDSO进入低压区域时HMDSO可以被蒸发成为蒸气。
为了确保该液体HMDSO经过该点不发生冷凝，当它不经由一个
Figure BDA00002385268501432
三通阀流动进入用于处理的COC注射器筒的内部时，可以将气体流（包括氧气）转移到该泵送管线中。
一旦该COC注射器筒被安装，可以将真空泵阀向容器支架50以及该COC注射器筒的内部打开。一台Alcatel回转叶片式真空泵和鼓风机组成该真空泵系统。当该气态反应物或工艺气体以指定的速率流动时，该泵系统允许该COC注射器筒的内部降低至小于150mTorr的压力。与该管相反，用COC注射器筒可以达到一个较低的泵送压力，因为该COC注射器筒具有远远更小的内体积。
达到了这个基础真空水平之后，将该容器支架50组件移动到该电极160组件中。该气体流（氧气以及HMDSO蒸气）流入该黄铜的气体递送端口110（通过调节3通阀从泵送管线至气体递送端口110）中。通过安装在该泵送管上的在控制真空的阀附近的一个电容压力计（MKS）所测量的，该COC注射器筒内部的压力是约200mTorr。除了COC注射器筒压力之外，使用连接到该气体系统上的热电偶真空计还测量了该气体递送端口110以及气体系统的内部压力。这个压力典型地是小于8Torr。
当该气体流至该COC注射器筒内部，RF电源被打开至它的固定功率水平。以约30瓦的固定功率水平使用一台ENI ACG-6600瓦RF电源（以13.56MHz）。该RF电源被连接到一个COMDEL CPMX1000自动匹配器上，该匹配器将等离子体（有待在该COC注射器筒中产生）的复阻抗与ENI ACG-6RF电源的50欧姆输出阻抗相匹配。正向功率是30瓦（或针对一个操作实例所报告的任何值）并且反射功率是0瓦，这样使得该功率被递送到该COC注射器筒的内部。该RF电源是通过一个实验室计时器来控制的并且将通电时间设定为5秒（或针对具体实例所报告的特定的时间段）。
启动RF电源时，在该COC注射器筒的内部之中建立了均匀的等离子体。该等离子体维持整个5秒钟（或者在特定实例中指明的其他涂覆时间）直至该RF电源被计时器终止。等离子体在该COC注射器筒内部表面上产生了约20nm厚的一个氧化硅涂层（或在特定实例中所报告的厚度）。
在涂覆之后，将气体流转移回真空管线中并且将真空阀关闭。然后将放气阀打开，使该COC注射器筒的内部返回到大气压（约760Torr）。然后将该COC注射器筒小心地从容器支架50组件中移开（在将容器支架50组件移出电极160组件之后）。
用OMCTS润滑层或涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案
用润滑层涂覆内部的、如以前鉴别的COC注射器筒。将图1所示的设备进行改良以便夹持一个COC注射器筒，其中在该COC注射器筒的底部具有接合密封。此外，由不锈钢鲁尔接头和密封该COC注射器筒的端部的聚丙烯盖制出一个盖（在图8中示出）。安装至该鲁尔接头上的Buna-N O形圈允许一个真空密封的密封，允许该COC注射器筒的内部被抽空。
容器支架50由
Figure BDA00002385268501441
制成，具有1.75英寸（44mm）的外径和1.75英寸（44mm）的高度。容器支架50被收纳于
Figure BDA00002385268501442
结构内，该结构允许器件移入和移出电极160。
电极160是由具有
Figure BDA00002385268501443
屏蔽的铜制成的。屏蔽是环绕铜电极160的外部来共形的。电极160被测量约3英寸（76mm）高（里面）并且是约0.75英寸（19mm）宽。将该COC注射器筒插入容器支架50，底部用围绕这些指形凸缘和该COC注射器筒的唇缘的底部的
Figure BDA00002385268501445
O形圈密封。
将COC注射器桶仔细地移动到密封位置，该位置在延伸的（静止）1/8-英寸（3-mm）直径黄铜探头或对电极108之上，并且推向一个铜等离子体网。铜等离子体网是有孔的、裁切以适合该COC注射器筒的外径的铜箔材料（K&S Engineering Par t#LXMUW5铜网），并且通过充当用于该COC注射器筒插入的塞子的支座表面494夹持在位。将两件铜网紧密配合在该黄铜探头或对电极108的周围，以确保良好的电接触。
该探头或对电极108延伸约20mm（除非另外指明）进入该COC注射器筒的内部并且在它的端部开放。黄铜探头或对电极108延伸通过一个位于容器支架50底部的
Figure BDA00002385268501451
接头，延伸通过容器支架50的底部结构。该黄铜探头或对电极108被接地到该RF匹配网络的外壳上。
气体递送端口110被连接到一个不锈钢组件上，该组件包含
Figure BDA00002385268501452
接头，这些接头结合了用于排气的一个手动球阀、一个热电偶压力计以及连接到该抽真空管线上的一个旁通阀。此外，该气体系统连接至气体递送端口110，允许气态反应物或工艺气体、八甲基环四硅氧烷（OMCTS）（或报告用于具体实例的特定气态反应物或工艺气体）流动通过气体递送端口110（在处理压力下）进入该COC注射器筒内部。
该气体系统包括商业可得的Horiba VC1310/SEF8240 OMCTS 10SC 4CR加热的质量流蒸发系统，该系统加热OMCTS至约100°C。该Horiba系统通过具有1/16英寸（1.5mm）的内径的、1/8英寸（3mm）外径的PFA管连接至液体八甲基环四硅氧烷（Alfa
Figure BDA00002385268501453
部件号A12540，98%）。将OMCTS流速设定至1.25sccm（或报告用于具体实例的特定有机硅前体流速）。为了确保没有蒸发的OMCTS经过这一点后冷凝，在它未流入该COC注射器筒的内部用于经
Figure BDA00002385268501454
3通阀处理时，该气体流被转向至泵送管。
一旦该COC注射器筒被安装，将真空泵阀向容器支架50以及该COC注射器筒的内部打开。一台Alcatel回转叶片式真空泵和鼓风机组成该真空泵系统。当该气态反应物或工艺气体以指定的速率流动时，该泵系统允许该COC注射器筒的内部降低至小于100mTorr的压力。与该管和以上COC注射器筒实例相比，在这一情况下可以获得较低的压力，因为在这种情况下总气态反应物或工艺气体流速是更低的。
一旦达到了这个基础真空水平，将该容器支架50组件移动到该电极160组件中。该气体流（OMCTS蒸气）流入黄铜气体递送端口110（通过调整3通阀从泵送管至气体递送端口110）。如通过安装在该泵送管上的在控制真空的阀附近的一个电容压力计（MKS）所测量的，该COC注射器筒内部的压力是约140mTorr。除了COC注射器筒压力之外，使用连接到该气体系统上的热电偶真空计还测量了该气体递送端口110以及气体系统的内部压力。这个压力典型地是小于6Torr。
一旦该气体流至该COC注射器筒内部，RF电源被打开至它的固定功率水平。以约6瓦（或者其他在特定实例中指明的功率水平）的固定功率水平使用一台ENI ACG-6600瓦RF电源（以13.56MHz）。该RF电源被连接到一个COMDEL CPMX1000自动匹配器上，该匹配器将等离子体（有待在该COC注射器筒中产生）的复阻抗与ENI ACG-6RF电源的50欧姆输出阻抗相匹配。正向功率是6瓦并且反射功率是0瓦，这样6瓦的功率（或者在给出的实例中递送的不同的功率水平）被递送到该COC注射器筒的内部。该RF电源是通过一个实验室计时器来控制的并且将通电时间设定为10秒（或者在给出的实例中陈述的不同的时间）。
启动RF电源时，在该COC注射器筒的内部之中建立了均匀的等离子体。该等离子体维持整个涂覆时间，直至该RF电源被计时器终止。等离子体在该COC注射器筒内部表面上产生一个润滑层或涂层。
在涂覆之后，将气体流转移回真空管线中并且将真空阀关闭。然后将放气阀打开，使该COC注射器筒的内部返回到大气压（约760Torr）。然后将该COC注射器筒小心地从容器支架50组件中移开（在将容器支架50组件移出电极160组件之后）。
用HMDSO涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案
除了用HMDSO取代OMCTS，用于以OMCTS润滑层或涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案还被用于施加一个HMDSO涂层。
用于润滑性测试的实验方案
VII.B.1.a.在这一测试中使用以下材料：
具有
Figure BDA00002385268501471
尖端（约1mL）的商品化的（BD
Figure BDA00002385268501472
玻璃预灌封注射器
根据用于形成COC注射器筒的实验方案制成的COC注射器筒；
具有取自Becton Dickinson产品号306507的弹性体尖端的商品化塑料注射器柱塞（作为预充满盐水的注射器获得）；
正常的盐溶液（取自Becton-Dickinson产品号306507预充满的注射器）；
具有先进的测力计的Dillon试验台架（模型AFG-50N）
注射器支架和排水导板（制造用来安装Dillon试验台架）
VII.B.1.a.在这一测试中使用以下流程。
VII.B.1.a.将导板安装到Dillon试验台架上。调整平台探头移动至6英寸/分钟（2.5mm/秒）并且设定上部和下部停止位置。使用空注射器和筒验证这些停止位置。标记商品化的充满盐水的注射器，除去柱塞，并且为了再次使用，经由这些注射器筒的开放端排出盐溶液。以相同的方式获得额外的柱塞，用于与COC和玻璃筒一起使用。
VII.B.1.a.将注射器柱塞插入COC注射器筒，这样每一柱塞的第二水平模制点与注射器筒尖端对齐（距离尖端的端部约10mm）。使用另一注射器和针组件，经由毛细管向测试注射器充入2-3毫升的盐溶液，保持毛细管端部最高。叩击注射器的侧面以除去在柱塞/流体界面以及沿这些壁的任何大小的气泡，并且仔细地将任何气泡推出注射器，同时保持柱塞在它的垂直定向。
VII.B.1.a.将每一充满的注射器筒/柱塞组件安装到注射器夹具中。通过按压在试验台架上的向下开关以推进运动的金属锤朝向柱塞移动，从而开始测试。当运动的金属锤移动到距离接触柱塞的顶部5mm以内时，重复地叩击在Dillon模块上的数据按钮来记录在每一次数据按钮被按下的时间的力，从在与该注射器柱塞初始接触以前直到通过与注射器筒的前壁接触从而停止该柱塞。
VII.B.1.a.所有基准点和涂覆的注射器筒进行五次重复（每一次重复使用新柱塞和筒）。
VII.B.1.a.用OMCTS润滑涂层涂覆根据用于形成COC注射器筒的实验方案制成的COC注射器筒，根据用于以OMCTS润滑层或涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案涂覆COC注射器筒的OMCTS层（除了以7.5瓦特的功率），安装并且充满盐水，并且如以上在这一用于润滑涂层的实例中描述的那样进行测试。按照用于用OMCTS润滑层或涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案使用的聚丙烯室，允许OMCTS蒸气（以及氧，如果添加的话）通过注射器筒以及通过注射器毛细管流入聚丙烯室（虽然在这一实例中，在该注射器的毛细管段中可能不需要润滑层或涂层）。测试了不同的涂覆条件。在来自相同生产批次的COC注射器筒上完成所有沉积。
VII.B.1.a.根据用于用OMCTS润滑层或涂层涂覆COC注射器筒内部的实验方案，通过涂覆COC注射器筒来涂覆这些样品。一个在此的技术的可替代的实施方案，将在另一薄膜涂层（例如SiOx）上施加润滑层或涂层，例如根据用于用SiOx涂覆COC注射器筒内部的实验方案施加。
代替Dillon试验台架和排水导板，还可以按照制造商对于测量Fi和Fm的说明来使用Genesis包装的柱塞力测试仪（SFT-01型号注射器力测试仪，由宾夕法尼亚州埃克斯顿的杰勒赛斯机械公司（Genesis Machinery,Lionville,PA）制造）。在Genesis测试仪上使用的参数为：
开始：10mm
速度：100mm/min
范围：20
单位：牛顿
工作实例
除了EP 2 251 455 A2中提出的工作实例（也理解为本发明的工作实例）之外。
实例A-D
注射器样品是如下生产的。根据用于形成COC注射器筒的实验方案生产COC 8007伸展式筒注射器。根据用SiOx涂覆COC注射器筒内部的实验方案来对这些注射器中的一些施加一个SiOx涂层。根据用OMCTS润滑层涂覆COC注射器筒内部的实验方案来对涂覆了SiOx的注射器施加一个润滑涂层，做了如下修改。由于OMCTS的低挥发性，从一个汽化器来供应它。使用氩气载气。工艺条件设置如下：
OMCTS-3s ccm
氩气-65s ccm
功率-6瓦
时间-10秒
之后确定该涂布器在生产表格中指定的L2样品的同时具有小的泄漏，导致了1.0s ccm的估算氧气流速。L3样品是在不引入氧气的情况下生产的。
然后根据用于润滑性测试的实验方案、使用Genesis包装的柱塞力测试仪（SFT-01型号注射器力测试仪，由宾夕法尼亚州埃克斯顿的杰勒赛斯机械公司（Genesis Machinery,Lionville,PA）制造）来测试若干注射器。相对于未涂覆的样品来记录启动力和维持力（以牛顿计）二者并报告在表1中。
包括涂覆有硅油的注射器作为参照物，因为这是目前工业上的标准物。
实例E-H
注射器样品是如下生产的。根据用于形成COC注射器筒的实验方案生产COC 8007伸展式筒注射器。根据用SiOx涂覆COC注射器筒内部的实验方案来对这些注射器筒施加一个SiOx涂层。根据用OMCTS润滑层涂覆COC注射器筒内部的实验方案来对涂覆了SiOx的注射器施加一个润滑涂层，做了如下修改。由于OMCTS的低挥发性，从一个汽化器来供应它。如表2中记录的使用氩气载气和氧气。工艺条件设置如下或如表2中指明的：
OMCTS:-3sccm（当使用时）
氩气-7.8sccm（当使用时）
氧气0.38sccm（当使用时）
功率-3瓦
功率持续时间-10秒
然后根据用于润滑性测试的实验方案、使用Genesis包装的柱塞力测试仪来测试在这些条件下制备的注射器E和F、除了没有润滑涂层之外在这些条件下制备的注射器G、以及注射器H（涂覆有硅油的商业注射器）。相对于未涂覆的样品来记录启动力和维持力（以牛顿计）二者并报告在表2中。包括涂覆有硅油的注射器作为参照物，因为这是目前工业上的标准物。
润滑性结果在表2中示出（启动力和维持力），也在这些条件下展示了在注射器E和F上的润滑涂层与缺乏任何润滑涂层的注射器G相比显著改进了其润滑性。在注射器E和F上的润滑涂层与包含工业上的标准润滑涂层的注射器H相比也显著改进了其润滑性。
还使用诱导耦合等离子体质谱（ICP-MS）分析测试了注射器E、F和G以确定总的可提取的硅的水平（代表了基于有机硅的PECVD涂层的提取）。
使用盐水消化来提取硅。每个注射器柱塞的顶端用PTFE胶带覆盖以防止从弹性体顶端材料中提取出材料，然后将其插入注射器筒底座中。通过一个插入该注射器的鲁尔尖端中的皮下针对该注射器筒充入两毫升0.9%盐水溶液。这是一个适合于可提取物的试验，因为许多预充式注射器都被用来容纳和递送盐水溶液。对该鲁尔尖端插入了一片具有适当直径的PTFE串珠。将该注射器设定在PTFE试验台上，使鲁尔尖端朝上并且将其放在50°C的烘箱中持续72小时。
然后，使用静态或动态模式来从注射器筒中移除该盐水溶液。根据表2中指出的静态模式，从试验台上移除该注射器柱塞，然后将注射器中的流体倒入一个容器中。根据表2中指出的动态模式，取下该鲁尔尖端密封件并压低该柱塞以推动流体穿过注射器筒并且将内容物排到一个容器中。在任一情况下，使用18.2MΩ*cm去离子水将从每个注射器筒中获得的流体增至50ml的体积并进一步稀释2倍以便将分析过程中的钠背景值最小化。这些CVH筒包含量两毫升并且商业上的筒包含2.32毫升。
接着，使用诱导耦合等离子体-质谱（(ICP-MS）分析法来测试从每个注射器中回收的流体的可提取硅。仪器：使用的是装备有Cetac ASX-520自动进样器的Perkin Elmer Elan DRC II。采用以下ICP-MS条件：
喷雾器：Quartz Meinhardt
喷雾室：旋风式
RF（射频）功率：1550瓦
氩气（Ar）流速：15.0L/min
辅助Ar流速：1.2L/min
喷雾器气体流速：0.88L/min
积分时间：80秒
扫描模式：跳峰
作为CeO的铈（m/z 156）的RPq（RPq是排斥参数）：<2%
注射从注射器E、F和G获得的水性稀释液的等分部分并分析Si，以毫克每升为浓度单位。这一测试的结果列于表2中。虽然结果不是定量的，但它们的确表明来自润滑涂层的可提取物并不明显高于只有SiOx阻挡层的可提取物。而且，静态模式产生了远少于动态模式的可提取物，这是所预期的。
实例I-K
按照与实例E-H相同的方式（除了以下或表3中所指出的之外）采用三个不同的润滑涂层生产了注射器样品I、J和K：
OMCTS-2.5sccm
氩气-7.6sccm（当使用时）
氧气0.38sccm（当使用时）
功率-3瓦
功率持续时间-10秒
注射器I具有一个三组分的涂层，采用了OMCTS、氧气和载气。注射器J具有一个二组分的涂层，采用了OMCTS和氧气但没有载气。注射器K具有一组分的涂层（仅OMCTS）。然后如对实例E-H所描述地测试注射器I、J和K的润滑性。
润滑性结果在表3中示出（启动力和维持力）。具有一个三组分的涂层并采用了OMCTS、氧气和载气的注射器I对于启动力和维持力二者而言提供了最好的润滑性结果。省略了载气的注射器J给出了中等结果。注射器K具有一组分的涂层（仅OMCTS）并且提供了最低的润滑性。这个实例显示，向工艺气体中添加载气和氧气二者改进了测试条件下的润滑性。
实例L-N
在实例L-N中重复了使用OMCTS前体气体的实例I-K，除了在实例L-N中使用HMDSO作为前体。在表3中示出这些结果。结果显示，对于所测试的三组分、二组分和一组分的润滑涂层，OMCTS涂层与HMDSO涂层相比提供了更低的阻力因此更好的润滑性，证明OMCTS作为润滑涂层的前体气体的价值。
实例O-V、W、X、Y
在这些实例中，将这些润滑涂层的表面粗糙度与润滑性能相关连。
用之前描述的设备以所指出的特定工艺条件（表5）将OMCTS涂层施加到一毫米的COC 6013模制的注射器筒上。用之前描述的设备在相同的实验方案下进行柱塞力测量（Fi，Fm）（表5）。使用下面指出的前体进行扫描电子能谱（SEM）显微照片（表5，图16至20）和原子力显微镜术（AFM）均方根（RMS）和其他粗糙度测定（表5和6）。从对表面的三个不同的RMS读数来获得平均RMS值。由于单个试验的性质妨碍了在一个样品上进行所有测试，因此在不同样品上进行表5中报告的柱塞力测试、AFM和SEM测试。
Fi/Fm与SEM显微照片与AFM平均RMS值的比较清楚地表明，用不连续的、更粗糙的OMCTS等离子体涂覆的表面（样品O至Q相对于R至V，图18至20）获得了更低的柱塞力。
对于姐妹样品实例W、X和Y进行进一步的测试，这些样品分别在类似于实例Q、T和V的条件下制备，以显示对应于AFM粗糙度数据的Fi和Fm的值。具有更高表面粗糙度（相比于图18、表5中的实例Q）的实例W具有远低于实例X（相比于图19中的实例T）或Y的Fi和Fm摩擦值。表6中所示的Fm测试在达到实例X和Y的Fm测量值之前被中断，因为这个Fm值太高了。
SEM流程
SEM样品制备：将每个注射器样品沿其长度的切成两半（以暴露出其内表面）。切除该注射器的顶部（鲁尔端）以使得样品更小。
将样品用传导性石墨粘合剂安装到样品支架上、然后放入Denton DeskIV SEM样品制备系统中，并且将一个薄（约
Figure BDA00002385268501531
的厚金涂层溅射到该注射器的内表面上。需要该金涂层来消除测量过程中表面的充电。
将样品从溅射系统中移除并安装到Jeo l JSM 6390 SEM（扫描电子显微镜）的样品台上。将样品在样品隔室中抽低到至少1x 10-6托。一旦样品达到所需的真空水平，就打开狭缝阀并将样品移到分析站中。
首先以粗分辨率对样品成像，然后累积更高放大倍数的图像。附图中提供的这些SEM图像从边缘到边缘为5μm（水平和竖直）。
AFM（原子力显微镜术）流程
使用NanoScope III Dimension 3000机器（美国加利福尼亚州圣巴巴拉的数字仪器公司（DigitalInstruments,Santa Barbara,California,USA））采集AFM图像。针对NIST可追踪标准物来校准该仪器。使用蚀刻的硅扫描探针显微术（SPM）尖端。采用图像处理流程，涉及自动展平、平面拟合或卷积。对一个10μm x 10μm的区域成像。进行粗糙度分析并表示为：(1)均方根粗糙度，RMS；(2)平均粗糙度，Ra；(3)最大高度（从峰至谷），Rmax，全都是以nm测量的（见表5和图18-20）。对于粗糙度分析，对每个样品在10μm x 10μm的区域上成像，之后通过分析而选择三个截面以便切开这些10μm x 10μm图像中的特征。使用截面工具测量了这些特征的竖直深度。对于每个截面，报告一个以纳米计的均方根粗糙度（RMS）。这些RMS值以及每个样品的这三个截面的平均值在表5中列出。
对图18至20（实例Q、T和V）所代表的这些10μm x 10μm图像进行了另外的分析。对于这个分析，从每个图像中提取三个截面。这些截面的位置是通过分析而选择的以便切开这些图像中的特征。使用截面工具测量了这些特征的竖直深度。
数字仪器公司的Nanoscope III AFM/STM获取并以数字格式存储了多个表面的3维表示。可以按多种方式来对这些表面进行分析。
Nanoscope III软件可以进行任何AFM或STM图像的粗糙度分析。这种分析的产物是以俯视图再现了选定图像的单色页面。在图像的右上部是“图像统计”框，其列出了整个图像减去被阻带（有X穿过其中的一个框）排除的区域的所计算出的特征。对于该图像的选定部分可以计算出类似的额外统计结果，并将这些在这个页面的右下部的“框统计”中列出。以下是对这些统计的说明和解释。
图像统计：
Z范围（Rр）：图像中最高点与最低点之差。这个值对于图像平面内的倾斜不进行校正；因此平面拟合或展平该数据将改变这个值。
平均值：成像区域内所有Z值的平均。这个值对于图像平面内的倾斜不进行校正；因此平面拟合或展平该数据将改变这个值。
RMS(Rq)：这是图像中Z值（或RMS粗糙度）的标准偏差。它根据以下公式进行计算：
Rq={Σ(Z1-Zavg)2/N}
其中Z平均是图像内的平均Z值；Z1是Z的当前值；并且N是该图像内点的数目。这个值对于图像平面内的倾斜不进行校正；因此平面拟合或展平该数据将改变这个值。
平均粗糙度（Ra）：这是这个表面相对于中心平面的平均值并且使用以下公式计算：
Ra=[1/(LxLy)]∫o Ly∫o Lx{f(x,y)}dxdy
其中是f(x,y)是相对于中心平面的表面，并且Lx和Ly是该表面的尺寸。
最大高度（Rmax）：这是这个表面相对于平均平面的最高点与最低点之间的高度差。
表面积：（任选的计算）：这是成像区域的3维表面的面积。它是通过获取通过整个图像中3个相邻数据点所形成的这些三角形的面积之和来计算的。
表面积差：（任选的计算）：这是表面积超过成像面积的量。它表示为百分比并且根据以下公式进行计算：
表面积差=100[(表面积/S12)-1]
其中S1是扫描面积减去阻带所排除的任何面积之后的长度（和宽度）。
中心平面：平行于平均平面的一个平坦平面。在中心平面上方和下方的图像表面所包围的体积是相等的。
平均平面：图像数据关于这个平坦平面具有最小方差。它由Z数据的一阶最小二乘法拟合得到。
润滑性测量的概述
表8示出了以上OMCTS涂层及其Fi和Fm值的概览。必须理解的是，最初的润滑涂层工作（C-K，粗糙度未知）是为了确定可达到的最小可能柱 塞力。从随后的市场输入中确定，最低的可得柱塞力不一定是最希望的，其原因在一般说明中解释过（例如，过早释放）。因此，改变这些PECVD反应参数来获得具有实际市场用途的柱塞力。
实例Z：润滑涂层可提取物
使用ICP-MS分析法测量总的硅可提取物。在静态和动态两种情况下评估这些注射器。以下描述了测试流程：
对注射器填充2ml的0.9%盐水溶液
将注射器放在架中，在50°C储存72小时。
72小时后测试盐水溶液的总硅。
在将盐水溶液推动穿过注射器之前和之后测量总硅。
表7中示出了来自硅油涂覆的玻璃注射器以及润滑层涂覆的和SiO2涂覆的COC注射器的可提取硅水平。ICP-MS总硅测量的精确度为+/-3%。
Figure BDA00002385268501571
Figure BDA00002385268501581
Figure BDA00002385268501591
Figure BDA00002385268501601
Figure BDA00002385268501611
虽然在附图以及上述说明书中已经详细地说明并且描述了本发明，这样的说明以及描述应当被认为是说明性的或示例性的而不是限制性的，本发明不限于这些披露的实施方案。通过研究这些附图、披露、以及所附的权利要求书，本领域的普通技术人员以及正在实践本发明提出的权利要求的人员可以理解并且实行对于所披露的实施方案的其他变更。在这些权利要求中，词语“包含”不排除其他元素或步骤，并且不定冠词“一种”或“一个”不排除复数。仅有的事实是，在彼此不同的从属权利要求中引证的某些措施并不表明这些措施的组合不能用来产生优点。在权利要求中任何参考符号不应被解释为是限制其范围。

Claims (30)

1.一种用于在塑料基底上制备一个润滑涂层的方法，该方法包括以下步骤
(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体以及任选地O2和任选地稀有气体的一种气体；以及
(b)在该气体中产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在基底表面上形成一个涂层。
2.如权利要求1所述的方法，其中该有机硅前体是一种单环硅氧烷，优选OMCTS。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的方法，其中存在O2，优选地其与有机硅前体的体积-体积比率是从0:1至0.5:1，任选地从0.01:1至0.5:1。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其中Ar作为该稀有气体存在。
5.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该气体包括从1至6标准体积的有机硅前体、从1至100标准体积的稀有气体、以及从0.1至2标准体积的O2。
6.根据以上权利要求中的任一项所述的方法，其中Ar和O2均存在。
7.根据以上权利要求中的任一项所述的方法：
(i)其中该等离子体是用0.1至25W、优选从2至4W的电功率产生的；和/或
(ii)其中电功率与等离子体体积之比是小于10W/ml、优选地从6W/ml至0.1W/ml、更优选地从2.2W/ml至1W/ml。
8.根据以上权利要求中的的任一项所述的方法，其中所得的涂层具有的粗糙度在通过AFM测量并以RMS表示时是从大于0至25nm、优选从7至20nm、任选地从10至20nm、任选地从13至17nm、任选地从13至15nm。
9.根据以上权利要求中的任一项所述的方法，额外包括以下步骤：在施用该润滑涂层之前在该基底上制备一个阻挡涂层，该额外步骤包括以下步骤：
(a)在该基底表面附近提供包含一种有机硅前体以及O2的一种气体；以及
(b)从该气体产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）在基底表面上形成一个SiOx阻挡涂层。
10.根据权利要求9所述的方法，其中在该制备阻挡涂层的步骤中
(i)其中该等离子体是用电极来产生的，这些电极用足够的功率来供能从而在该基底表面上形成一个SiOx阻挡涂层，优选地使用提供有以下电功率的电极：从8至500W，优选地从20至400W，更优选地从35至350W，甚至更优选地从44至300W，最优选地从44至70W；和/或
(ii)电极功率与等离子体体积的比率是等于或大于5W/ml，优选地是从6W/ml至150W/ml，更优选地是从7W/ml至100W/ml，最优选地是从7W/ml至20W/ml；和/或
(iii)O2是按以下体积:体积比率而存在的：相对于含硅前体从1:1至100:1，优选地以从5:1至30:1的比率，更优选地以从10:1至20:1的比率，甚至更优选地以15:1的比率。
11.如权利要求9或10所述的方法，其中该阻挡涂层的有机硅前体是一种线性硅氧烷，优选HMDSO。
12.如以上权利要求中的任一项所述的方法，其中该基底是选自下组的一种聚合物，该组由以下各项组成：聚碳酸酯、烯烃聚合物、环烯烃共聚物以及聚酯，并且优选是环烯烃共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯或聚丙烯，并且更优选地是COC。
13.如以上权利要求中的任一项所述的方法，其中该等离子体是用在以下射频下供能的电极来产生的：优选地在从10kHz至小于300MHz的频率下，更优选地从1至50MHz，甚至更优选地从10至15MHz，最优选地在13.56MHz。
14.根据以上权利要求中的任一项所述的方法，其中所得的润滑涂层具有一个原子比SiwOxCy或SiwNxCy，其中w是1，x是从约0.5至约2.4，y是从约0.6至约3。
15.一种涂覆有润滑涂层的涂覆的基底，该润滑涂层是通过根据以上权利要求中的任一项所述的方法可获得的并且具有在以上权利要求中的任一项中限定的特征。
16.根据权利要求15所述的涂覆的基底，其中该润滑涂层具有比未涂覆的表面更低的摩擦阻力，其中与未涂覆的表面相比较，该摩擦阻力优选地减少至少25%，更优选地减少至少45%，甚至更优选地减少至少60%。
17.根据权利要求15或16所述的涂覆的基底，额外包括至少一个SiOx层，其中x是从1.5至2.9，其中
(i)该润滑涂层是位于该SiOx层与该基底表面之间，或反之亦然，或其中
(ii)该润滑涂层是位于两个SiOx层之间或反之亦然，或其中
(iii)这些SiOx层以及该润滑涂层是SiwOxCyHz至SiOx的梯度复合材料，或反之亦然。
18.根据权利要求17所述的涂覆的基底，其中该SiOx阻挡涂层具有从20至30nm的厚度并且该润滑涂层具有的平均厚度是1至5000nm、优选30至1000nm、更优选80至150nm。
19.根据权利要求15至18中的任一项所述的涂覆的基底，其中该润滑涂层
(i)具有比未涂覆的表面更低的湿润张力，优选地从20至72达因/cm的湿润张力、更优选地从30至60达因/cm的湿润张力、更优选地从30至40达因/cm的湿润张力、优选34达因/cm；和/或
(iv)是比未涂覆表面更疏水的。
20.一种容器，该容器在其内部表面的至少一部分上被涂覆从而形成根据权利要求15至19的任一项所述的涂覆的基底，优选地是这样一种容器，该容器是
(i)一种样品收集管，具体地一种采血管；或
(ii)一种管形瓶；或
(iii)一种注射器或一种注射器部件，具体地是一种注射器筒或一种注射器柱塞或注射器活塞；或
(iv)一种管子；或
(v)一种小杯。
21.根据权利要求20所述的涂覆的容器，该容器在它的内腔中容纳一种化合物或组合物，优选地一种生物活性化合物或组合物或一种生物流体，更优选地(i)柠檬酸盐或一种含有柠檬酸盐的组合物，(ii)一种药剂，具体地是胰岛素或一种含有胰岛素的组合物，或(iii)血液或血细胞。
22.根据权利要求20或21所述的涂覆的容器，该容器是包括一个具有内表面的筒、一个具有外表面的活塞或柱塞的一个注射器，该外表面与该筒的内表面相接合，其中所述内表面和外表面中至少一个是根据权利要求15至19中任一项所述的涂覆的基底。
23.如权利要求22所述的注射器，其中该柱塞的启动力Fi是2.5至5 lbs并且该柱塞的维持力Fm是2.5至8 lbs。
24.如权利要求22或23所述的注射器，其中该润滑涂层具有一个原子比SiwOxCy或SiwNxCy，其中w是1，x是从约0.5至约2.4，y是从约0.6至约3。
25.如权利要求22至24中任一项所述的注射器，其中该润滑涂层具有10至1000nm的平均厚度。
26.如权利要求22至25中任一项所述的注射器，该注射器全部或在其注射器部件的一个或多个中是根据权利要求1至14中任一项所述的方法制成的，其中该塑料基底是COC，其中步骤(a)中的气体包括八甲基环四硅氧烷、O2和Ar，并且其中产生该等离子体的功率相对于该注射器内腔的体积是从6W/ml至0.1W/ml。
27.根据权利要求22至26中任一项所述的注射器，该注射器在其内腔中容纳了一种化合物或组合物，优选地是一种生物活性的化合物或组合物或一种生物流体，更优选地是(i)柠檬酸盐或一种含有柠檬酸盐的组合物，(ii)一种药剂，具体地是胰岛素或一种含有胰岛素的组合物，或(iii)血液或血细胞。
28.用于涂覆容器（80）的一种容器处理系统（20），该系统包括一个处理站安排（5501，5502，5503，5504，5505，5506，70，72，74），该处理站安排被配置成用于进行如权利要求1至14之一所述的方法。
29.一种计算机可读介质，其中存储了用于涂覆容器（80）的一个计算机程序，当被一个容器处理系统（20）的处理器执行时，该计算机程序被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统使得它进行如权利要求1至14之一所述的方法。
30.一种用于涂覆容器（80）的程序元件，当被一个容器处理系统（20）的处理器执行时，该程序元件被适配为命令该处理器来控制该容器处理系统使得它进行如权利要求1至14之一所述的方法。
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