CN102159989A - 透光基底和发光组件及其制造方法，以及用该透光基底和发光组件显示图像的方法 - Google Patents

Abstract

使用有一个或多个透光基底、膜或片响应于视频信号以显示图像，每一个基底、膜或片的都有至少一种光学单元图形。多个光源被配置成照射该一个或多个透光基底、膜或片的一个或多个输出区域。发光组件被配置成产生预定亮度分布。响应于输入视频信号同时作为光阀操作液晶显示器，使至少一个光源变暗或变亮，以便用发光组件照射液晶显示器。至少一些相邻基底、膜或片可以有重叠的部分，且光学单元的至少一个图形可以被配置成使相邻基底、膜或片之间的不连续性被最小化。

Description

透光基底和发光组件及其制造方法,以及用该透光基底和发光组件显示图像的方法

技术领域

本发明涉及制造重叠、相交或互锁的光学单元形状的更大的基本上任意的图形的各种方法，以便在透光基底之上或之中形成光学单元的图形中使用。此外，本发明涉及有光学单元图形的透光基底和发光组件的制作。而且，本发明涉及使用该透光基底和发光组件显示改进的图像质量的视频。

背景技术

众所周知，在包含膜、片或板的透光基底的一个或多个表面之上或之中提供各个光学单元，用于再引导光通过该基底。这些光学单元可以是形状界限分明的三维光学单元，每一光学单元有比基底的长度和宽度基本上更小的长度和宽度，而不是基本上在基底全部宽度或长度上伸展的连续的光学单元。

当需要这些各个光学单元的更大的图形时，一种已知的制作方法，是把其上有各个光学单元形状的所需图形的母版(master)的多个第一代或第二代拷贝瓦铺(tile)在一起，以产生各个光学单元形状的更大图形，它被用于制作基底之上或之中的光学单元的更大图形。这基本上是在要求制作其中有各个光学单元形状的更大图形的母版的机械加工时切割下来。

在非重叠光学单元形状或按规则图形重叠的光学单元形状的场合，在把拷贝瓦铺一起的过程中，使母版的拷贝的边缘对准是相对容易的，显然在更大的图形中光学单元形状图形的断裂最少。然而，当母版中重叠的光学单元形状基本上是任意的时侯，由母版制作的拷贝的边缘通常的对准方式，将在沿边缘的光学单元形状中并因而在整个图形上产生基本的不连续性。因此，在基本上任意的光学单元形状的更大图形中，有必要能在拷贝边缘会合处使任何不连续性最少化。

发明内容

按照本发明的一个方面，重叠、相交或互锁的光学单元形状更大的基本上任意的图形中任何不连续性可以通过以下方式最少化：制作有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形的母版，这些光学单元形状除了沿母版至少一个边缘外基本上是任意的，在该边缘上光学单元形状与沿另一个边缘的光学单元形状相匹配；制作该母版的拷贝；和借助已经沿相邻边缘对准的光学单元形状把拷贝瓦铺在一起，以产生光学单元形状的更大图形，该更大图形中拷贝边缘会合处有最少不连续性。

按照本发明的另一个方面，光学单元形状的更大图形可以被用于在透光基底之上或之中形成光学单元的对应图形。

按照本发明的另一个方面，母版边缘可以通过切割或修剪母版相应侧形成，母版沿相应侧具有的光学单元形状在位置和形式方面基本上彼此相同。

按照本发明的另一个方面，母版边缘至少有某些部分的光学单元形状被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少的不连续性。

按照本发明的另一个方面，拷贝可以由母版通过淀积工艺、模铸工艺、热压工艺、模压工艺、挤出工艺或热成型工艺制成。

按照本发明的另一个方面，拷贝可以按连续的卷对卷(roll-to-roll)工艺制成。

按照本发明的另一个方面，光学单元的更大图形可以通过淀积工艺、模铸工艺、热压工艺、模压工艺、挤出工艺或热成型工艺，在基底之上或之中形成。

按照本发明的另一个方面，光学单元的更大图形可以按连续的卷对卷工艺制成。

按照本发明的另一个方面，光源和透光基底能够被用于制作发光模块。

按照本发明的另一个方面，发光模块能够被瓦铺以制作发光组件。

按照本发明的另一个方面，发光组件或模块的亮度分布能够被配置成使该亮度值是在平均亮度值的规定范围内，且亮度从发光组件或模块一端的第一端点到发光组件或模块相对端的第二端点逐渐变化。

按照本发明的另一个方面，发光组件或模块能够被用于以两维或一维局部亮度的变暗或变亮显示改进的图像质量的视频。

按照本发明的另一个方面，发光组件或模块能够被用于以光源的单脉冲或双脉冲驱动，或以在其间的内插，显示改进的图像质量的视频。

按照本发明的另一个方面，发光组件或模块能够被用于在色序式LCD设备中显示视频，其中该组件或模块包括色分量光源。

本发明的这些和其他目的、优点、特性和方面，随着下面描述的进行将变得明显。

为实现前述和相关目的，本发明因此包括下文更完全地描述和尤其在权利要求书中指出的特性，下面的描述和附图详细阐明本发明的某些示例实施例，然而，这些都只是可以被本发明原理采用的各种方式中不多几个的展示。

附图说明

在附图中：

图1是按照本发明的后照光组件的一种形式的示意侧视图，图上以透射式液晶显示器画出；

图2是图1后照光组件的部分的放大的片段侧视立面图；

图3是能够与本发明后照光组件同时使用的反射式液晶显示器的示意侧视立面图；

图4是本发明的后照光组件另一种形式的示意侧视立面图；

图5-20是示意透视图或平面图，画出在本发明透光基底(包含膜、片和板)之上或之中的各个光学单元的不同图形；

图5a-5n是不同几何形状的示意透视图，这些形状是在本发明透光基底(包含膜、片和板)之上或之中的各个光学单元可以采用的；

图21是透光基底(包含膜、片或板)的示意透视图，该基底有以面向基底角部的弯曲图形横跨基底延伸的光学凹槽；

图22是透光基底(包含膜、片或板)的顶视平面图，该基底有面向基底一个边缘上的中点横跨基底延伸的光学凹槽图形，该凹槽图形的曲率随离该一个边缘距离的增加而减小；

图23是图22从其左端看去的透光基底的端视立面图；

图24是图22的透光基底的侧视立面图；

图25和26是后照光或发光板组件的表面区域的放大示意片段平面图，图上画出在透光基底(包含膜、片或板)表面之上或之中形成的光学变形的各种形式；

图27和28分别是通过图25和26的光学变形之一的放大的纵向断面；

图29和30是通过在透光基底(包含膜、片或板)表面之上或之中形成的其他光学变形形式的放大示意纵向断面；

图31-39是透光基底(包含膜、片或板)表面区域的放大示意的透视图，该基底含有另一种形状界限分明的各个光学变形的各种图形；

图40是通过在透光基底(包含膜、片或板)表面之上或之中形成的另一种光学变形形式的放大示意纵向断面；

图41和42是透光基底(包含膜、片或板)表面区域的放大示意的顶视平面图，该表面区域含有的光学变形在形状上类似于图37和38中所示那些光学变形，这些光学变形被布置在沿该表面区域的长度和宽度的多个直行中；

图43和44是透光基底(包含膜、片或板)表面区域的放大示意的顶视平面图，该表面区域含有同样在形状上类似于图37和38中所示那些形状的光学变形，这些光学变形被布置在沿该表面区域长度上交错排列的行中；

图45和46是透光基底(包含膜、片或板)表面区域的放大示意的顶视平面图，该表面区域含有在该表面区域之上或之中的不同大小光学变形的任意或可变的图形；

图47是透光基底(包含膜、片或板)表面区域的放大示意的透视图，图上画出沿该表面区域长度上光学变形大小随该变形离光输入表面距离的增加或光强度的增加而增加；

图48和49是示意透视图，画出沿透光基底(包含膜、片或板)表面区域的长度和宽度上光学变形的不同角度取向；

图50和51是放大的透视图，示意画出从会聚光源发射的示例性光线，如何被透光基底(包含膜、片或板)表面区域的形状界限分明的不同的各个光学变形反射或折射；

图52是初始母版的示意平面图，该初始母版有重叠的光学单元形状的基本上任意的径向图形，该形状是用标准的图形形成方法生成的；

图53是最后母版的示意平面图，它是通过切割或修剪图52的初始母版形成的；

图54是图53的最后母版的多个拷贝沿它们的径向侧边缘瓦铺在一起的示意平面图，这在沿接缝的光学单元形状中产生基本的不连续性；

图55是从图54的瓦铺拷贝切下的光学单元形状的更大图形的示意平面图，它同样在沿接缝的光学单元形状中有基本的不连续性；

图56是按照本发明的有重叠、相交或互锁的光学单元形状的径向图形的初始母版的示意平面图，这些光学单元形状，除了沿一侧的光学单元形状被强迫与沿另一侧的那些光学单元形状基本上相同外，基本上是任意的；

图57是本发明的最后母版的示意平面图，该最后母版的形成是通过切割或修剪图56的初始母版，从而使沿径向侧边缘的光学单元形状基本上彼此相匹配；

图58是图57的母版的多个拷贝的示意平面图，该多个拷贝借助沿基本上已被相互对准的径向侧边缘的光学单元形状瓦铺在一起，形成拷贝之间基本上无接缝的过渡；

图59是重叠、相交或互锁的光学单元形状的更大的基本上任意的图形的示意平面图，该图形是由图58的瓦铺拷贝形成的；

图60是按照本发明的初始母版的示意平面图，该母版有重叠、相交或互锁的光学单元形状的基本上矩形的图形，这些光学单元形状除了沿一侧和沿顶部侧及底部侧中的一个外，基本上是任意的，该一侧和该顶部侧及底部侧中的一个的光学单元形状被强迫与沿另一侧和沿该顶部侧及底部侧中的另一个的那些光学单元形状，在形状和形式方面基本上相同；

图61是本发明的基本上矩形的最后母版的示意平面图，该最后母版的形成是通过切割或修剪图60的初始母版，从而使沿侧边缘和顶部边缘及底部边缘的光学单元形状基本上彼此相匹配；

图62是图61的母版的多个拷贝的示意平面图，该多个拷贝借助沿已相互对准的侧边缘和顶部及底部边缘的光学单元形状瓦铺在一起，形成拷贝之间基本上无接缝的过渡；

图63是按照本发明的初始母版带的示意片段平面图，该初始母版带有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形，这些光学单元形状除了沿光学单元形状被强迫与沿另一侧的光学单元形状基本上相同的那一侧外，基本上是任意的；

图64是本发明的最后母版带的示意片段平面图，该最后母版带的形成是通过切割或修剪图63的初始母版带，从而使沿侧边缘的光学单元形状基本上彼此相匹配；

图65是图64的母版带的多个拷贝的示意片段平面图，该多个拷贝借助沿侧边缘基本上已相互对准的光学单元形状被瓦铺在一起，以形成拷贝之间基本上无接缝的过渡；

图66是示出不同方法的示意图，这些方法从按照本发明制成的母版，生产重叠的任意光学单元形状的更大的基本上无接缝图形；

图67是按照本发明的发光组件的示意顶视平面图；

图67A和67B是沿图67的发光组件的A-A′线的亮度分布的曲线；

图68A和68B分别是按照本发明的发光模块的示意顶视平面图和侧视断面图；

图69是按照本发明的发光组件的部分的示意断面图；

图70是按照本发明的发光组件的部分的示意顶视平面图；

图71是按照本发明的发光组件的部分的示意断面侧视立面图，该发光组件有沿相反方向发射光的LED；

图72是按照本发明的发光组件的部分的示意断面侧视立面图，该发光组件有较少数量的组装步骤；

图73是把自适应变暗构思与常规的后照光技术比较的示意图；

图74是按照本发明的发光组件的示意顶视平面图，另外还示出LED的行；

图75是按照本发明的发光模块的示意顶视平面图，该发光模块有红色、绿色和蓝色LED；

图76是按照本发明的发光模块的示意顶视平面图，该发光模块在透光基底中包含狭缝、腔或孔；

图76A是沿图76的A-A′线的示意断面图；

图77是按照本发明的发光模块的示意底视平面图；

图78是图77的透光基底的部分的示意底视平面图，该基底中有凹陷；

图78A是沿图78的A-A′线的示意断面图；

图78B是按照本发明的透光基底的部分的示意断面图，该透光基底有棱形光输入表面；

图79是按照本发明的透光基底的部分的示意底视平面图，该基底上有凸起；

图79A是沿图79的A-A′线的示意断面图；

图79B是按照本发明的透光基底的部分的示意断面图，该基底上有凸起且该基底中有凹陷；和

图79C是按照本发明的基底上有凸起的透光基底的部分的示意断面图，该基底有相对于两个主平面表面成一定倾角的光输入表面。

具体实施方式

图1和2示意画出按照本发明的后照光系统1的一种形式，该系统1包含透光基底(包含膜、片或板)2，该透光基底2把后照光光波导BL或其他光源发射的光更多地向更垂直于基底表面的方向再分配。透光基底2可以被用于把来自几乎任何照明用的光源的光，例如显示器D的光，诸如用于膝上计算机、字处理器、航空仪表显示器、蜂窝电话、PDA如此等等的液晶显示器的光，再分配到需要的视角内，使显示器更亮。液晶显示器能够是任何类型的液晶显示器，包含如图1及2示意画出的透射式液晶显示器、如图3示意画出的反射式液晶显示器和如图4示意画出的透射反射式(transflective)液晶显示器。

图3所示反射式液晶显示器D包含邻近后侧的背反射器40，用于反射进入显示器的环境光掉头离开显示器以增加显示器的亮度。本发明的透光基底2被放置在反射式液晶显示器顶部附近以再引导环境光(或来自前面灯的光)向着更垂直于基底平面的方向进入显示器，以便通过背反射器的反射掉头离开进入需要的视角内，以增加显示器的亮度。透光基底2可以被附着于、被层叠于或以其他方式靠在液晶显示器的顶部准确就位。

图4所示透射反射式液晶显示器D包含被置于显示器和后照光光波导BL之间的透射反射器T，用于反射进入显示器前面的环境光掉头离开显示器以增加被照明环境中显示器的亮度，还用于透射来自后照光的光通过透射反射器并离开显示器以便在暗环境中照亮显示器。在该实施例中，透光基底2既可以邻近显示器的顶部放置，也可以邻近显示器的底部放置，或者如图4示意所示两者兼顾，以便再引导或再分配环境光和/或来自后照光光波导的光更垂直于基底平面，使光线输出分配更适合于通过显示器传播以增加显示器的亮度。

透光基底2包括薄的透明基底(包含膜、片或板)8，透明基底8在膜的光出射表面6有形状界限分明的离散的各个光学单元5的图形，用于折射入射光分配，使射出膜的光分配沿更垂直于基底平面的方向(见图1)。

各个光学单元5的每一个具有的宽度及长度比基底的宽度及长度小许多倍，并可以由基底的光出射表面之中的凹陷或之上的凸起形成。这些各个光学单元5包含至少一个斜的表面，用于把入射光向垂直于光出射表面的方向折射。图5画出基底2上各个光学单元5的一种图形。这些光学单元可以取许多不同的形状。例如，图5a示出一种非棱形光学单元5有共计两个表面10、12，该两个表面都是斜的。图5a示出该表面的一个表面10是平面的或平的，而另一个表面12是弯曲的。此外，两个表面10、12彼此相交并也与基底表面相交。另外，各个光学单元的两个表面10、12可以都是弯曲的，如图5b示意所示。

另外，光学单元5可以各只有一个表面是弯曲和斜的并与基底相交。图5c画出一种这种形状为圆锥13的光学单元5，而图5d画出另一种这种有半球或穹顶形状14的光学单元。还有，这种光学单元可以有多于一个斜的表面与基底相交。

图5e画出有共计三个表面的光学单元5，全部表面都与基底相交并彼此相交。两个表面15和16是弯曲的，而第三个表面17是平面的。

图5f画出金字塔18形状的有四个三角形侧面19的光学单元5，该四个三角形侧面彼此相交并与基底相交。金字塔18的侧面19可以全都有相同大小和形状，如图5f所示，或者金字塔18的侧面19可以被拉伸，使该侧面有不同的周边形状，如图5g所示。还有，光学单元5可以有任何数量的平面形斜的侧面。图5h画出有四个平面形斜的侧面20的光学单元5，而图5i画出有八个平面形斜的侧面20的光学单元5。

各个光学单元5也可以有多于一个弯曲的和多于一个平面形斜的表面，全都与基底相交。图5j画出有一对相交的相对着的斜的平面形侧面22和相对着被变圆或被弯曲的端部或侧面23的光学单元5。另外，斜的平面形侧面22和弯曲的端部或侧面23可以有不同的倾角，如图5k和图5l所示。此外，光学单元5可以有至少一个弯曲表面不与基底相交。一个这样的光学单元5在图5m中被示出，它包含一对相对着的斜的平面形侧面22和相对着被变圆或被弯曲的端部或侧面23，以及与该相对着斜的平面形侧面和相对着被变圆的端部相交的被变圆或被弯曲的顶部24。此外，光学单元5可以沿它们的长度被弯曲，如图5n所示。

有平面和弯曲表面的组合的各个光学单元5的设置，再引导或再分配的观察区域要比设有凹槽的基底可能得到的更大。此外，各个光学单元的表面曲率或弯曲面积对平面面积之比，可以被改变以修改基底的光输出分配，以便定定制与基底一起使用的显示器装置的观察区域。

基底2的光入口表面7可以有光学涂层25(见图2)，如抗反射涂层、反射式偏振器、延迟涂层或偏振器。另外，取决于所需的目视外观，可以在光入口表面7上提供无光泽或漫射的纹理。无光泽的面层产生更柔和但不那么亮的图像。本发明的各个光学单元5的平面和弯曲表面的组合，可以被配置成沿不同方向再引导射到其上的一些光线以产生更柔和的图像，无需在基底的入口表面上的另外的漫射器或无光泽的面层。

透光基底2的各个光学单元5也最好按交错排列、互锁和/或相交的配置相互重叠，建立有良好表面区域覆盖的光学结构。例如，图6、7、13和15画出彼此相对地交错排列的光学单元5；图8-10画出彼此相交的光学单元5；和图11和12画出彼此互锁的光学单元5。

此外，透光基底2的光学单元5的斜角、密度、位置、取向、高度或深度、形状和/或大小，可以被匹配于或被调整于后照光光波导BL或其他光源的特定光输出分配，以计及后照光发射的光的分配中的变化，以便把更多由后照光发射的光再分配到需要的视角内。例如，光学单元5的斜表面(如表面10、12)与透光基底2的表面所成角度，可以随离光源26的距离的增加而变化，以计及随着离光源的距离的增加后照光光波导在不同角度上发射的光线R的路程，如图2示意所示。还有，后照光光波导BL自身可以被设计成在较低的角度上发射更多的光线以增加由后照光光波导发射的光的量，并依靠透光基底2把更多被发射的光再分配到需要的视角内。据此，透光基底2的各个光学单元5可以被选择成与后照光光波导的光学变形共同工作，以便从系统产生最佳的输出光线角分配。

图2、5和9画出各个光学单元5不同的图形，全部有相同高度或深度，而图7、8、10、13和14画出不同形状、大小和高度或深度的各个光学单元5的不同图形。

各个光学单元5还可以在基底2上按消除与液晶显示器像素间隔的任何干涉的方式被不规则化，如图16和17示意所示。这样消除对图1和2所示光学漫射器层30的需要，该光学漫射器层30是用于消去莫尔条纹或类似效应的。此外，各个光学单元5的至少一些可以被布置在横跨基底的分组32中，每一分组中至少一些光学单元5有不同大小或形状特征，总起来对每一分组产生平均的大小或形状特征，该平均大小或形状特征如图7、13和15示意所示横跨基底变化，以获得在机械加工容限以上的特征值，消去莫尔条纹和与液晶显示器像素间隔的干涉效应。例如，在每一分组32中至少一些光学单元5可以有不同深度或高度，总起来对每一分组产生横跨基底变化的平均深度或高度特征。此外，每一分组中至少一些光学单元可以有不同斜角，总起来对每一分组产生横跨基底变化的平均斜角。另外，每一分组中各个光学单元的至少一个斜表面可以有不同宽度或长度，总起来在每一分组中产生横跨基底变化的平均宽度或长度特征。

在各个光学单元5包含平面和弯曲表面10、12的组合的场合，弯曲表面12的曲率、或各个光学单元的弯曲面积与平面面积的比值，以及弯曲和平面表面的周边形状可以被改变以修改基底的光输出分配。此外，弯曲表面的曲率、或各个光学单元的弯曲面积与平面面积的比值可以被改变，以便再引导在平行于有棱形或透镜状凹槽的膜或基底的凹槽的平面中传播的更多或更少光，部分地或完全地取代对第二层光再引导膜或基底的需要。同样，各个光学单元的至少一些可以如图13和16示意所示，按相互间不同的角度被取向，以便把光源沿两条不同轴发射的光，更多地沿更垂直于基底表面的方向再分配，部分地或完全地取代对第二层光再引导膜或基底的需要。然而，容易看到，两层这种光再引导膜或基底，在其上各有各个光学单元5相同或不同的图形，可以被放置在光源和观察区域之间，使两层彼此相对旋转90度(或其他大于0度和小于90度的角度)，以便相应膜或基底层上的各个光学单元把光源发射的沿不同平面方向传播的光，更多地沿更垂直于相应膜或基底的表面的方向再分配。

此外，透光基底2可以如图15示意所示，在基底上有随不同地点而变化的光学单元5的图形，以便再分配来自后照光光波导或其他光源不同地点的光线输出分布，以把来自该不同地点的光线输出分配向垂直于基底的方向再分配。

另外，透光基底的光学单元的性质和图形可以被定制，以便对不同类型的发射不同光分配的光源优化透光基底，例如，一种图形用于单灯泡膝上计算机，另一种图形用于双灯泡平板显示器，如此等等。

图17画出的光学单元5，是按从基底2的外侧边缘向中心的径向图形布置的，用于再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL接收来自沿该后照光光波导的所有四侧边缘的冷阴极荧光灯26的光。

图18画出的光学单元5，是按横跨基底2的成角度的分组32的图形布置的，该基底2已被修改，以便再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL接收来自沿该后照光光波导的一个输入边缘的一个冷阴极荧光灯26或多个发光二极管26的光。

图19画出的光学单元5，是按面对基底2的角部的径向型图形布置的，以便再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL由发光二极管26角部照亮(corner lit)。图20画出的光学单元5，是按面对基底2一个输入边缘上的中点的径向型图形布置的，以便再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL在该后照光光波导的一个输入边缘中点上被单个发光二极管26照亮。

图21画出有光学凹槽35的透光基底2，该凹槽35以面对基底角部的弯曲图形横跨基底延伸，以便再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL被发光二极管26角部照亮，而图22-24画出有光学凹槽35图形的透光基底2，该凹槽35面对沿基底一个边缘的中点横跨基底延伸，该凹槽35的曲率随着离一个边缘的距离的增加而减小，以便再分配后照光光波导BL的光线输出分配，该后照光光波导BL由在后照光光波导一个输入边缘的中点上的发光二极管26边缘照亮。

在透光基底或膜2在其上有光学单元5的图形40沿基底或膜的长度变化的情形，基底或膜2的卷41可以如图15示意所示，在其上设有光学单元的重复图形，可供最适合某一特定应用的图形的选定区域作为模子从基底或膜的卷切下。

后照光光波导BL可以基本上是平的或弯曲的，或可以是单层或多层的，且可以按需要有不同的厚度和形状。此外，后照光光波导可以是柔性的或刚性的，并可以由各种化合物制成。还有，后照光光波导可以是中空的，以液体、空气填充，或可以是实心的，并可以有孔或脊。另外，光源26可以是任何适合类型的光源，包含例如弧光灯，白炽灯泡，该白炽灯泡还可以被着色、被滤光或被涂漆，透镜端灯泡，呼叫灯(line light)，卤素灯，发光二极管(LED)，来自LED的芯片，氖气灯泡，冷阴极荧光灯，从远程光源、激光器或激光二极管或任何其他合适光源传输的光纤光导管。另外，光源26可以是多色LED，或多色辐射源的组合，以便提供需要的有色的或白的光输出分配。例如，多个彩色灯，诸如不同颜色(如红色、蓝色和绿色)的LED或有多个色芯片的单个LED可以被采用，以便通过改变每一个别颜色光的强度，产生白光或任何其他颜色的光输出分配。

光学变形或单元的图形可以按需要被设在后照光光波导BL的一侧或两侧，或者被设在后照光光波导的一侧或两侧上一个或多个选择的区域。如本文所使用，术语光学变形或光学单元意指引起部分光的传播方向变化的表面的形状或几何图形，和/或涂层或表面处理的变化。这些光学单元能够按各种方式被产生，例如在后照光光波导的选定区域上提供涂漆的图形、蚀刻的图形、机加工的图形、印刷的图形、热冲压的图形或模铸的图形等等。油墨或印刷图形可以通过转印(pad print)、丝印、喷墨、热转印膜(heat transfer film)工艺等等被施加。光学单元还可以被印刷在片或膜上，用于把变形施加到后照光光波导上。该片或膜例如可以通过粘贴或其他把片或膜贴着后照光光波导一侧或两侧准确放置的方式，成为后照光光波导永久的部分，以便产生需要的作用。

改变入射光特征，诸如波长或色纯度的涂层，可以在本发明中被使用。能够被用于改变波长的色转换薄膜材料是已知的。这类色转换材料包含共轭聚合物、荧光分子、磷光分子和有激子的量子局限的结构，诸如量子点(quantum dot)。也已经知道量子点具有的发射波长取决于量子点的大小。因为量子点一般含有少于10⁵个原子，量子点阵列一般被用于在宏观区域上提供需要的作用。色纯度指发射光谱的宽度。发射光谱能够通过用量子点或微腔变窄。通过用较高折射率和较低折射率的电介质材料的交替层构成DBR(分布式布拉格反射器)堆，能够形成微腔。这些涂层可以基本上覆盖整个基底，或者该涂层可以是覆盖基底选定区的选择性涂层。该涂层可以被形成图形以构成上面讨论的光学单元。

通过改变后照光光波导的一个或多个区域之上或之中的光学单元的密度、不透明度或透明度、形状、深度、颜色、面积、折射率或类型，能够控制后照光光波导的光输出。光学单元可以被用于控制从后照光光波导发光区域的光输出的分数。例如，更少和/或更小尺寸的光学单元可以被放置在需要较少光输出的表面区域上。反之，更大的分数和/或更大的光学单元可以被放置在需要较大光输出的后照光光波导的表面区域上。

改变后照光光波导不同区域中光学单元的百分比和/或大小是必要的，以便提供基本上均匀的光输出分配。例如，传播通过后照光光波导的光的量，通常在更靠近光源的区域中比在其他离光源更远的区域中更大。光学单元的图形能够被用于调整后照光光波导内光的差异，例如，随着离光源距离的增加提供更密密集度的光学单元，由此导致来自后照光光波导的更均匀的光输出分配。

光学单元还可以被用于控制从后照光光波导输出的射线角分配，以适应特定的应用。例如，如果后照光光波导被用于后照液晶显示器，那么如果光学单元的图形(或与后照光光波导组合使用的透光基底2)按预定的射线角引导由后照光光波导发射的光线，使它们以低的损耗通过液晶显示器，则光输出将更为有效。此外，光学单元的图形可以被用于调整因后照光光波导的光抽出引起的光输出变化。光学单元的图形可以利用涂漆、油墨、涂层、环氧树脂等等范围从有光泽到无光泽或两者的宽光谱，被印在后照光光波导的表面区域上，并可以采用半色调分离技术(half-tone separation technique)改变变形覆盖。此外，光学单元的图形可以是多层的或变折射率的。

光学单元的印刷图形可以改变形状，诸如点、正方形、菱形、椭圆形、星形、任意形状等等。此外，采用每英寸60线或更精细的印刷图形是理想的。这样使印刷图形中的变形或形状在特定应用中对人眼是接近不可见的，从而消除缓变的或成束的线的检测，该检测对利用更大单元的光抽出图形是共有的。另外，光学单元的形状和/或大小可以沿后照光光波导的长度和/或宽度变化。还有，光学单元的任意布局的图形可以在后照光光波导的全部长度和/或宽度上被利用。光学单元可以有非专用角度的形状或图形，以降低莫尔条纹或其他干涉效应。建立这些任意图形的方法的例子，是使用随机印刷图形技术、频率调制半色调图形或任意点半色调印刷形状的图形。再有，光学单元可以是彩色的以便在后照光光波导中进行色校正。光学单元的颜色还可以在全后照光光波导上变化，例如，对同一或不同光输出区域提供不同的颜色。

在模具图形中，除了或代替这些光学单元的图形，包含棱形或透镜状凹槽或十字凹槽，或用更复杂形状的各种形状的凹陷或升起的表面的其他光学单元，可以被模铸、蚀刻、冲压、热成型、热冲压等等形成在后照光光波导的一个或多个表面区域之内或之上。该棱形或透镜状表面、凹陷或升起的表面将使所接触(contacted)的部分光线由此从后照光光波导被发射。还有，棱镜、凹陷或其他表面的角度可以被改变以引导沿不同方向的光产生需要的光输出分配或效应。此外，反射或折射表面可以有非特定角度的形状或图形，以降低莫尔条纹或其他干涉效应。

背反射器40可以如图1和2示意所示，被粘贴或贴着后照光光波导BL的一侧放置，为的是把从该侧发射的光反射回去通过后照光光波导用于通过相反侧发射，改进后照光光波导的光输出效率。此外，光学单元50的图形可以如图1和2示意所示，设在后照光光波导BL的一侧或两侧，以便改变光的路径，由此超过内临界角而使部分光从后照光光波导的一侧或两侧被发射。

图25-28画出光学变形50，它可以要么是在相应后照光光波导表面区域52上的各个凸起51，要么是在该表面区域中的各个凹陷53。在二者之一的情形中，这些光学单元50的每一个具有包含反射或折射表面54的界限分明的形状，该反射或折射表面54在一个边缘55上与相应后照光表面区域52相交并在全部它的长度上有均匀倾斜，以便更精确地控制每一光学单元的光的发射。沿每一反射/折射表面54的周围边缘部分56，是每一光学单元50的端壁57，该端壁57以比反射/折射表面54和板表面区域52之间夹角I′更大的夹角I与相应板表面区域52相交(见图27和28)，以便使端壁在板表面区域上凸出的表面区域最小。这种配置允许在板表面区域之上或之中放置的光学单元50，要比不是这种配置可能放置的更多，只要端壁57凸出的表面区域与反射/折射表面54的凸出表面区域基本上相同或更大。

在图25和26中，反射/折射表面54的周围边缘部分56和关联的端壁57是沿横向方向弯曲的。还有，在图27和28中，光学单元50的端壁57被画成基本上垂直于光学单元的反射/折射表面54伸延。另一方面，这样的端壁57可以基本上垂直于板表面区域52伸延，如图29和30示意所示。这实际上消除板表面区域52上端壁57的任何凸出表面区域，由此，板表面区域上光学单元的密度甚至可以再增加。

光学单元还可以是其他界限分明的形状，以便从板表面区域获得需要的光输出分配。图31画出板表面区域52上的各个光抽出光学单元58，每一个包含一般是平面的、矩形的反射/折射表面59及关联的在全部它们的长度和宽度上均匀倾斜的端壁60，以及一般是平面的侧壁61。另一方面，光学单元58′可以有圆的或弯曲的侧壁62，如图32示意所示。

图33画出板表面区域52上的各个光抽出光学单元63，每一个包含平面的、被做成斜三角形形状的反射/折射表面64及关联的平面的、一般呈三角形形状的侧壁或端壁65。图34画出各个光抽出光学单元66，每一个包含平面形斜的、有成角度的周围边缘部分68的反射/折射表面67及关联的成角度的端壁和侧壁69和70。

图35画出一般呈圆锥形状的各个光抽出光学单元71，而图36画出各个光抽出光学单元72，每一个包含圆的反射/折射表面73和圆的端壁74及圆的或弯曲的侧壁75，全部被交叠在一起。这些附加的表面将沿不同方向反射或折射落在其上的其他光线，使光横跨后照光光波导或其他发光板构件BL扩展，以提供从该板构件发射的光的更均匀分配。

不管各个光学单元的反射/折射表面和端壁及侧壁的具体形状如何，这种光学单元也可以包含按与板表面区域52平行隔开关系与反射/折射表面及端壁和/或侧壁相交的平面表面。图37-39画出板表面区域上各个凸起形式的光学单元76、77和78，这些光学单元除了每一个光学单元被平面表面79按与板表面区域52平行隔开关系相交外，分别有类似于图31、32和35所示那些光学单元的代表性形状。按类似方式，图40以各个凹陷81的形式画出板表面区域52中许多光学单元80之一，每一个光学单元被平面表面79按与板表面区域52的一般平面表面的平行隔开关系相交。对于从板表面区域52发射的光以小于临界角的内角射在这种平面表面79上的任何光线，将被平面表面79内反射，而以大于临界角的内角射在这种平面表面79上的任何光线，将以极小的光学不连续性被该平面表面发射，如图40示意所示。

在如图27和29示意所示光学单元是板表面区域52上的凸起的场合，反射/折射表面以偏离该板一定角度沿一般与来自光源26的光线传播通过该板的方向相反的方向伸延。在如图28和30示意所示光学单元是板表面区域中的凹陷的场合，反射/折射表面以一定角度沿一般与来自光源26的光线传播通过板构件的方向相同的方向伸延进该板。

不管光学单元是在板表面区域52之上或之中的凸起或凹陷，光学单元的光反射/折射表面的倾斜可以被改变，使落在其上的光线要么折射出发光板，要么被反射回去通过板并从板的相反侧射出，该板可以被蚀刻以漫射从其发射的光，或者被透光基底2覆盖以产生需要的效应。还有，板表面区域上的光学单元图形可以按需要是相同的或可变的，以从板表面区域获得需要的光输出分配。图41和42画出形状类似于图37和38所示那些形状的光学单元76和77，这些光学单元沿板表面区域52的长度和宽度被布置成多个一般直的均匀间隔的行，而图43和44画出被布置在交错排列的行中的这种光学单元76和77，这些光学单元沿板表面区域的长度和宽度相互重叠。

此外，光学单元的包含宽度、长度和深度或高度的大小，以及角度取向和位置，可以沿任何给定板表面区域的长度和/或宽度改变，以便从板表面区域获得需要的光输出分配。图45和46画出不同大小的光学单元58和58′的任意的或可变图形，光学单元58和58′的形状分别类似于图31和32所示那些形状，这些光学单元被布置在板表面区域52上交错排列的行中，而图47画出的光学单元77的形状类似于图38所示的那些光学单元形状，这些光学单元的大小随光学单元离光源的距离增加，或者光的强度沿板表面区域的长度和/或宽度的下降而增加。图45和46画出的光学单元58和58′被布置在横跨板表面的群82中，每一群中至少一些光学单元有不同大小或形状特征，总起来对每一群产生平均的大小或形状特征，该平均大小或形状特征横跨板表面变化。例如，每一群中至少一些光学单元可以有不同深度或高度或不同倾斜或取向，总起来产生横跨板表面变化的平均深度或高度特征或平均倾斜或斜表面的取向。同样，每一群中至少一些光学单元可以有不同宽度或长度，总起来产生横跨板表面变化的平均宽度或长度特征。这样允许人们获得需要的在机械加工容限以上的大小或形状特征，还消去莫尔条纹和干涉效应。

图48和49示意画出任何需要形状的光学单元85沿板表面区域52长度和宽度的不同角度取向。在图48中，光学单元被布置在沿板表面区域长度的直的行86中，但每一行中的光学单元被面对光源26取向，结果是所有光学单元基本上与光源发射的光线成一直线。在图49中，光学单元85也被面对光源26取向，与图48类似。此外，图49中光学单元的行87基本上沿径向与光源26对准。

图50和51示意画出的是，按照本发明从在后照光光波导BL光过渡区域91内被插入模铸或浇注的会聚光源26发射的示例性光线90，在它们传播通过发光板构件92，直到它们射到板表面区域52之上或之中的各个形状界限分明的光抽出光学单元50、77时为止，如何被反射而引起被反射或折射出板构件一侧93的光线比另一侧94更多。在图50中，示出的示例性光线90被光学单元50的反射/折射表面54沿一般相同的方向反射出通过板构件的相同侧93，而在图51中，示出的光线90在该光线被反射/折射出板构件的相同侧93之前，在板构件92内沿不同方向被光学单元77的圆形侧壁62散射。按照本发明的形状界限分明的各个光抽出光学单元的这种图形，能够使通过板构件输入边缘95接收的60％到70％或更多的光从板构件的同一侧被发射。

由以上所述可见，本发明的透光基底把被后照光光波导或其他光源发射的更多的光再引导到更垂直于基底平面的方向。此外，本发明的透光基底和后照光光波导可以被相互修改或调整，以提供一种其中透光基底的各个光学单元与后照光光波导的光学单元共同工作的系统，以从该系统产生最佳的输出光线角分配。

如前面所讨论的，光再引导膜、后照光光波导或其他透光基底(包含膜、片或板)的一个或多个表面之上或之中的光学单元，可以是形状界限分明的各有长度和宽度的各个三维光学单元，该长度和宽度基本上小于包含该光学单元的基底的一个或多个表面的整个长度和宽度。当需要在基底的一个或多个表面之上或之中的这些各个光学单元的更大图形时，一种制作这种光学单元形状的更大图形的已知方法，是把有需要的光学单元形状图形形成其中的母版的多个拷贝瓦铺在一起，以产生基底之上或之中光学单元形状的更大图形。这基本上是在要求制作其中有光学单元形状的更大图形的母版的机械加工时切割下来。

在非重叠光学单元形状或按规则图形重叠的光学单元形状的情形中，把母版的多个拷贝的边缘对准是相对容易的，所以显然，在把拷贝瓦铺在一起时，更大图形中的光学单元形状图形基本上没有断裂。然而，当母版中提供的重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形在位置、大小、旋转、形状等等方面基本上是任意时，母版的多个拷贝的边缘通常的对准方式将在沿边缘的光学单元形状中并因而在整个图形上产生基本的不连续性。

图52画出例如由容易机加工的金属，如铝、镍(包含镍合金)、铜、黄铜等制成的母版100，有重叠、相交或互锁的光学单元形状101的基本上任意的径向图形，这些形状101例如使用标准刻图方法，通过切割、铣削、研磨、划片或用其他的在母版的表面102中形成光学单元形状的方法被形成。如果母版100的两侧或更多侧边缘103、104被切割或修剪，以提供相应的边缘105、106，边缘105、106上沿边缘至少有如图53所示的一些部分光学单元形状107，且母版100的拷贝108沿它们的边缘109和110如图54所示被瓦铺在一起，被从母版的瓦铺拷贝108移出的有例如角部A、B、C、D的更大图形111，将在沿接缝113的光学单元形状101中因而在如图55所示的整个图形111上有基本的不连续性112。

按照本发明，沿接缝113的光学单元形状101中的这些不连续性112，可以被最少化，这是通过制作有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形的母版实现的，这些光学单元形状除了沿母版至少一个边缘外基本上是任意的，在该至少一个边缘上光学单元形状与沿另一个边缘的光学单元形状基本上相匹配。

例如，在由三角形母版的多个拷贝构成的更大图形中，该母版有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形，该光学单元形状除了沿母版一个径向侧边缘之外可以基本上是任意的，在该一个径向侧边缘上，光学单元形状被制作成基本上与沿另一径向侧边缘的那些光学单元形状相匹配，于是沿该径向侧边缘的光学单元形状能够被对准，以形成沿被对准的径向侧边缘的光学单元形状中的有最少不连续性的更大图形。

图56画出母版123的表面122上的重叠、相交或互锁的光学单元形状121的一种这样的径向图形120，这些光学单元形状121除了沿一个侧边缘124的光学单元形状125被强迫与沿另一径向侧边缘126那些光学单元形状在位置和形式方面基本上相同外，基本上是任意的。因此，母版123的径向侧边缘128和129可以通过切割或修剪相应侧边缘124和126形成，结果是，沿径向侧边缘128和129的光学单元形状125基本上彼此相匹配，如图57所示。这样允许母版123的多个第一代或第二代拷贝130，借助沿它们的基本上已相互对准的径向侧边缘131和132的基本上相匹配的光学单元形状125，被瓦铺在一起，以沿被对准的径向侧边缘的光学单元形状中最少不连续性，形成拷贝之间基本上无接缝的过渡，如图58所示。有例如角部A、C、D、E的重叠、相交或互锁光学单元形状121的更大的基本上无接缝的图形133，于是可以从图58的瓦铺拷贝中移出，如图59所示，供在透光基底之上或之中制作重叠、相交或互锁的光学单元的基本上任意图形中使用，这些光学单元如在下文所描述，相对于基底的宽度和长度是十分小的。

按类似方式，有重叠、相交或互锁光学单元形状的母版的多个基本上矩形的拷贝，这些光学单元形状除了沿一个或多个边缘外基本上是任意的，在该一个或多个边缘上的光学单元形状可以被制作成与沿一个或多个其他边缘的那些光学单元形状基本上相匹配，那么沿该边缘的光学单元形状可以被对准，以形成沿被对准边缘的光学单元形状中基本上没有任何不连续性的更大图形。

图60画出一个这种矩形形状的母版140，它有重叠、相交或互锁的光学单元形状141的图形，这些光学单元形状141除了沿侧边缘142及143之一和沿顶部及底部边缘144及145之一的光学单元形状146被强迫与沿另一侧边缘142或143和顶部及底部边缘144及145中的另一个的光学单元形状146在位置和形式方面基本上相同外，基本上是任意的。这样允许通过切割或修剪相应的侧边缘142及143和顶部及底部边缘144及145，形成侧边缘147及148和顶部及底部边缘149及150，结果是，沿侧边缘147及148和底部边缘149及150的光学单元形状146彼此相匹配，如图61所示。因此，当有例如角部A、B、C、D的图61矩形母版140的多个第一代或第二代拷贝152，借助沿已相互对准的侧边缘153及154和顶部及底部边缘155及156的光学单元形状146被瓦铺在一起时，将以在拷贝之间的光学单元形状中的最少不连续性产生更大的矩形图形158，如图62所示。

类似地，更大的基本上任意的重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形，可以通过瓦铺一侧接一侧地布置的母版带的拷贝而被形成。在此情形中，母版带上的光学单元形状只需被强迫在侧边缘上或顶部及底部边缘上彼此相匹配。

图63画出有光学单元形状161的图形的部分母版带160，这些光学单元形状除了沿侧边缘区162之一(或沿顶部和底部边缘区之一)，光学单元形状163被强迫与沿另一个侧边缘区164(或沿顶部和底部边缘区的另一个)的光学单元形状165在位置和形式方面基本上相同外，基本上可以是任意的。这样允许通过切割或修剪相应侧边缘区162和164(或顶部和底部边缘区)，形成侧边缘162A和164A(或沿顶部和底部边缘)，由此，沿侧边缘162A和164A(或沿顶部和底部边缘)的光学单元形状163和165基本上彼此相匹配，如图64所示。因此，当图64的母版带160的多个第一代或第二代拷贝170和171，借助沿相互对准的侧边缘172和174(或沿顶部和底部边缘)匹配光学单元形状163和165被瓦铺在一起时，将以沿侧边缘的光学单元形状中最少不连续性在拷贝之间形成无接缝的过渡，如图65所示。

光学单元形状可以覆盖含有该图形的至少部分的母版的基本上整个表面区域，如图56及57、图60及61和图63及64所示。此外，母版可以按平的基底、弯曲的基底或卷制成。另外，母版的制作，无需切割或修剪母版的侧边缘(或顶部和底部边缘)，而可以通过沿母版的侧边缘(或顶部和底部边缘)形成至少一些部分的光学单元形状，当该侧边缘被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少不连续性。然而，普遍更容易的是，强迫沿母版的侧边缘和/或顶部和底部边缘的光学单元形状在位置和形式方面彼此相同，然后切割或修剪该侧边缘和/或顶部和底部边缘，由此沿相应边缘的光学单元形状彼此相匹配。

图66示意画出本发明的母版123、140或160任一个的第一代拷贝175，该拷贝的制作，可以例如通过在母版上淀积合适的金属，诸如镍或镍合金，例如通过电铸或化学汽相淀积工艺，和从母版移出拷贝。另一方面，该拷贝可以通过模铸工艺、热压工艺或模压工艺从母版制成。例如，该拷贝可以通过贴着母版中的光学单元形状加热和加压拷贝材料制成，或通过在母版中的光学单元形状上涂敷流动性材料，并在流动性材料固化或硬化后从母版移出固化的或硬化的材料制成。如果使用流动性材料，按照需要，它可以是自固化材料、热固化材料或紫外光或辐射固化材料。此外，包含片、膜和板的基底能够通过挤出工艺被制作。在挤出工艺之后，可以对该基底加热直到它可塑，然后可以被热成型，由此它在模具上形成新的形状。除了各个基底的分开处理外，连续的卷对卷工艺是可能的。

第一代拷贝175或从第一代拷贝制成的第二代拷贝176，然后可以如图66进一步示意所示，使用已知的瓦铺(tiling)技术被瓦铺在一起。在瓦铺拷贝177中或在由瓦铺拷贝制成的第一或第二代图形178或179中的光学单元形状(未画出)，然后可以例如通过本领域熟知的淀积工艺、模铸工艺、热压工艺、模压工艺、挤出工艺或热成型工艺，被转印到光再引导膜或其他透光基底的一个或多个表面。

图67是按照本发明的发光组件180的示意顶视平面图，该发光组件用于37英寸级液晶显示器(LCD)的高清晰TV。为便于参考，图上还画出x-y坐标系统182。发光组件180具有可视面积约为81.9cm(x-方向)乘46.1cm(y-方向)，并有48个发光模块181。每一发光模块181具有可视面积约为10.24cm(x-方向)乘7.68cm(y-方向)，即有4∶3的纵横比。发光组件180包括LED、包含光学单元的图形的透光基底，和必要时的诸如反射器、漫射器和透镜状棱形膜等其他光学膜或基底。这些尺寸只为举例说明目的，组件和模块的其他大小和纵横比同样是可能的。

图68A是发光模块181更详细的示意顶视平面图。图68B是同一发光模块181沿图68A的线B-B′截取的示意断面图。发光模块181包含被附着在透光基底182的光输入表面188的LED 183、184和185。光抽出光学单元的图形被定位在透光基底之上或之中。在本例中，光学单元的图形被定位在光发射表面186上。除了光学单元的图形，发光模块可以包含其他光学膜、片或基底，诸如漫射膜、片或基底，和透镜状棱镜膜、片或基底。光学基底能够有整体地合并光学单元的图形和其他光学膜、片或基底的多层结构。光学基底能够有中空结构或有空气隙。另一方面，其他光学膜、片或基底能够被置于发光模块的组件之上。此外，反射器能够被放在透光基底189的后侧表面189。

LED可以被粘合于或用别的方式永久地附着于光输入表面188，使LED光发射表面和光输入表面188之间的空气隙被基本上消除。还有，在光输入表面188上提供抗反射涂层以增强优选波长范围的光输入是可能的。再还有，在光输入表面上提供微透镜阵列以沿优先方向再引导光是可能的。在经由光输入表面188进入透光基底后，光传播通过过渡区187，然后到达光发射表面186。各个光学单元的图形可以在光发射表面186或后侧表面189之上或之中被形成。在过渡区187提供折射率变化，以沿特定方向再引导光是可能的。在该例子中，透光基底188有锥形的轮廓，厚度按距LED的距离增加而减小。有基本上恒定厚度的透光基底也是可能的。基底可以有凹陷、狭缝、孔或其中可以放置LED的腔。虽然，因为其的商业利用率LED最好被用作光源、较快的响应时间和长的寿命，LED最好被用作光源但有机发光二极管(OLED)也可以用，尤其是随着OLED技术的成熟。此外，荧光灯，诸如热阴极荧光灯(HCFL)、冷阴极荧光灯(CCFL)和外电极荧光灯(EEFL)也可以被用作光源。

发光组件180的亮度是沿虚线A-A′测量的，该虚线A-A′位于发光组件上方，如图67所示。图67A画出情形1中沿线A-A′的亮度曲线L(x)，情形1中观察到沿A-A′的亮度基本上是均匀的。该亮度是当发光组件所有LED处于稳态ON状态时被测量的。这些LED是以规定电输入(如电压、电流)被点亮的，且这些输入可以在LED间变化。LED间电输入的变化补偿光输出的差别。该规定电输入值可以被存储在查阅表(LUT)中且其中各个值可以随时被更新以补偿差异老化。图67B画出情形2中沿线A-A′的亮度曲线L(x)，情形2的亮度在平均亮度值规定范围内，而该亮度值从发光组件一端的第一端点A到发光组件相对端的第二端点A′逐渐变化。当需要生产LCDTV时，情形2是有用的，这些LCD TV在显示器中央附近稍稍更亮以使表观对某些观看者更愉快。亮度特征化将沿x-和y-方向横过发光组件的多条虚线被实现。

在现有技术中，发光组件的亮度不能被做成如需要的均匀，对不均匀性的补偿是可能的。这种补偿能够通过特征化发光组件的亮度分布并把相关数据存储在查阅表(LUT)中而实施。其后，输入的视频信号被乘以与亮度分布数据有关的校正因子k。

图69是包括发光模块191A、191B和191C的发光组件190的示意断面图。每一发光模块被至少一个LED照射。左光学基底192A的右边缘区194A在相邻的光学基底192B的LED 193B和过渡区196B上面伸延。同样，光学基底192B的右边缘区在右光学基底192C的LED和过渡区上面伸延。光学基底之上或之中的光学单元的图形被配置成使不连续性在右边缘区194A和左边缘区195B之间最少。此外，该布置方法把LED放在相邻透光基底的较薄区之下并有助于使发光组件的整个厚度最小。

把发光模块191A、191B和191C布置成阵列以形成发光组件190，使某些动态后照光技术成为可能，这些技术要求响应于输入视频信号数据，对后照光亮度进行局部的、实时的控制。作为例子，考虑如图73所示的自适应后照光变暗构思。在该常规的技术230中，后照光亮度被维持在规定值，同时输入到液晶的信号被调制。对自适应变暗技术231，当视频信号是低亮度时，输入到液晶的信号被增加且后照光亮度被降低以给出显示画面的亮度基本上与常规技术的亮度相同。自适应变暗对降低后照光的电功率消耗、改进黑电平和增加低亮度图像的灰度级的数量，能够是有效的，从而改善LCD超出标称比特深度的比特深度。

自适应变暗能够在零维、一维和两维(0D、1D和2D)配置中被实施。0D变暗意指整个后照光被均匀地变暗。1D变暗(线变暗)适合用于CCFL、HCFL和EEFL。一维变暗还能够通过使一行LED变暗而用LED实现。这一构思能够借助图74而被理解，图74是发光组件240的示意平面图。发光组件240包含三个发光模块的三行。例如，顶部一行发光模块有发光模块241A、241B和241C。与每一发光模块关联的有三个LED。有12行LED(行251～261)。当每一行LED能够与其他行LED无关地被寻址时，一维变暗是可能的。此外，当每一行中三个LED的每一个能够与那个行中其他LED无关地被寻址时，两维变暗是可能的。两维变暗对LED和OLED是适用的。

自适应后照光变亮是另一种能够按0-D、1-D和2-D实施的技术。在自适应后照光变亮中，后照光亮度被增加使被显示的图像亮度也被增加。自适应后照光变亮必须与自适应后照光变暗组合实施，因为它要求由变暗建立的边限(如电功率和系统温度)。感觉到的对比度和亮度能够被增加。关于自适应变暗和变亮的更多信息，参考：P.de Greef等“Adaptive scanning，1-D dimming，and boosting backlight for LCD-TV system，”Journal of the SlD，volume 14，number 12，pp.1103-1110(2006)和T.Shiga等“Power saving and enhancement of gray-scale capability of LCD-TVs with an adaptive dimming technique，”Journal of the SlD，volume 16，number 2，pp.311-316(2008)。

因为向列型液晶对所加驱动电压的慢响应，移动的物体看来似乎有模糊的边缘。能够用扫描后照光实现的脉冲驱动，能够改进图像质量。后照光扫描被与液晶板的寻址扫描同步。当液晶分子已经达到规定透射电平时，像素被后照光照射。然而，脉冲驱动有亮图像的图像闪烁变得可见的缺点。为了降低图像闪烁，每一地址的第二光脉冲能够被添加，导致每秒100(PAL制式)或120(NTSC制式)个光脉冲。在该情形中，图像闪烁不被感觉到，因为人眼起时域低通滤波器的作用。然而，对于双脉冲驱动模式中的移动图像，双重边缘能够变得可见。

自适应双脉冲驱动已经被开发，以平衡降低亮图像中图像闪烁和降低移动图像中双重边缘的需求。自适应双脉冲能够在0-D、1-D和2-D中被实施。就像在自适应变暗和变亮一样，2-D自适应双脉冲能够用各自可控的LED阵列或各自可控的LED组实施。对有微小运动的亮图像，闪烁降低是至关重要的，后照光按双脉冲驱动被驱动。对景物不亮的移动图像，双重边缘的降低是至关重要的，而后照光按单脉冲模式被驱动。单脉冲和双脉冲模式之间的过渡能够通过逐渐改变相位、脉冲宽度或第二脉冲相对于第一脉冲的亮度实施。此外，在包含一些运动和有些亮的景物中，使用单脉冲和双脉冲模式的插值法。两维自适应双脉冲是有用的，因为单脉冲和双脉冲模式之间的插值法能够对每一独立可控光发射区被优化。关于自适应脉冲驱动的更多信息，参考：P.de Greef等“Adaptive scanning，1-D dimming，and boosting backlight for LCD-TV system，”Journal of the SlD，volume14，number 12，pp.1103-1110(2006)。

图70是包括发光模块201、202和203的发光组件200的顶视示意图。发光模块201和203各被三个LED(204和206)照射，但发光模块202被四个LED(205)照射。每一发光模块被相同数量LED照射是没有必要的。图69和70画出的实施例中，LED沿每一发光模块的左侧布置，这样光被向右发射。把所有LED配置成沿一般相同方向发射是没有必要的。例如，如图71所示，配置一些LED沿相反方向发射光是可能的。图71画出包括发光模块211A、211B、211C和211D的发光组件210。与发光模块211A和211B关联的LED(213A和213B)向右发射光，而与发光模块211C和211D关联的LED(213C和213D)向左发射光。在该布置中，边界区214B(模块211B的)和214C(模块211C的)必须被配置成使光学单元的图形中的不连续性最少。把LED沿该模块的顶部或底部边缘放置也是可能的。而且，使一些LED以与其他一些LED不同的角度取向，以沿不同方向引导光，是可能的。使用不同于矩形的光学基底形状，例如三角形，也是可能的。

图68A示出LED 183、184和185是白光LED的实施例。在常规的彩色LCD中，白光照射LCD板基底上的彩色滤波器阵列。对开发色序式LCD的兴趣正在增加，其中没有彩色滤波器阵列的液晶板被每一色分量(如红色、绿色和蓝色)按顺序照射。色序式LCD的优点包含：更高的光学效率、更高的孔径比和更高的分辨率。然而，该技术要求液晶的开关比一般使用过驱动的向列型液晶所能达到的更快，而CCFL的响应时间太长。LED后照光和更快开关光学补偿弯管(OCB，Optically Compensated Bend)模式的开发，是色序式LCD商业开发的关键。关于色序式LCD和OCB模式的更多信息，参考：T.Ishinabe等“High-performance OCB-modefield-sequential-color LCD，”Journal of the SlD，volume 16，number 2，pp.251-256(2008)。

图75是按照本发明另一个实施例的发光模块270的示意平面图，其中该光学基底被如下多个LED照射：红色LED(271R和272R)、绿色LED(271G和272G)和蓝色LED(271B和272B)。该发光模块能够被组装成图67示意所示种类的发光组件。按上面参照图67A和67B所作解释，亮度分布能够按类似于白光方式被特征化。换句话说，当所有LED以规定电输入被点亮时，亮度分布应如图67A所示是基本上均匀的，或亮度应在平均亮度值规定范围内且该亮度将从发光组件一端的第一端点A到发光组件相对端的第二端点A′逐渐变化，如图67B所示。当仅仅蓝色LED、绿色LED或红色LED被点亮时，可以获得类似的亮度分布。此外，当所有LED被点亮时，可见光看来似乎在发光组件上方处处都是白色。为了制作色序式LCD，每一个颜色的LED必须独立地可寻址。

自适应变暗和变亮能够对后照光组件中每一个别色分量(如红色、绿色和蓝色)被实施，该后照光组件有该色分量的个别地可寻址的光源。如上面所描述，在色序式LCD中使用有个别地可寻址的色分量的后照光组件。自适应变暗和变亮也能够在有色成分光源和白光光源(如红色、绿色、蓝色和白色)组合的后照光组件中被实施。用于各个色成分的自适应变暗和变亮能够在0-D、1-D或2-D中被实施。

图72是按照本发明另一个实施例的光学组件230的示意断面图。这里指出，光学基底231有重复的锥形的断面轮廓或锯齿刀片形断面轮廓。光学基底231可以用如图66示意所示的包括如下步骤的工艺制作。首先，制备有光学单元图形的母版，然后制备有反图形的该母版的第一代电铸拷贝(175)。当使用第一代电铸拷贝(175)作为模具的一部分制备光学基底时，得到的光学基底能够是图69所示的种类。然而，在该例子中，有原始图形的第二代电铸拷贝(176)被形成并被瓦铺，形成瓦组件(177)。然后，形成有该组件反图形的瓦组件的第一代电铸拷贝(178)，其后，用该瓦组件的第一代电铸拷贝(178)作为模具的一部分，形成图72的光学基底231。此外，通过把LED 235、236和237附着于相应的光输入表面232、233和234，制成光学组件230。这种方案的优点在于，组装光学基底的大量机械组装工作被消除。

图76是发光模块280的示意顶视平面图，它包含透光基底281和发光二极管(LED)284。图76A是沿图76的A-A′线的示意断面视图。透光基底281基本上是平的，有两个主平面表面281T和281B，该两个表面除了在基底中的狭缝、腔或孔上之外基本上相互平行。透光基底281有完全地在两个主平面表面281T和281B之间伸延的两个狭缝、腔或孔282和285。LED 284被置于狭缝、腔或孔282之中，并有基本上平行于并靠着透光基底光输入表面283的光发射表面288。LED 284可以用粘接剂粘接于光输入表面283。电连接可以通过电路板(未画出)连接到LED 284，该电路板可以例如被定位在主平面表面281B底下。在该实施例中，另一个狭缝、腔或孔285不含有任何光源。在另一个实施例中，另一个LED可以被放置在狭缝、腔或孔285之中。狭缝、腔或孔285包含非漫射的折射表面287和289，这些折射表面的作用是把来自LED 284的光沿需要的方向再引导。这一特性在需要在选定区域照明的应用中是有用的。例如，膜片开关被广泛用于制作电子设备的键盘和数字键盘。在键盘和数字键盘中，有被发光组件照明的字母数字或其他字符的盖层。电子设备还可以有被照明的不是膜片开关的区域。例如，笔记本PC可以有涉及功率状态和与无线网络连接状态的被照明的标志。在某些情况下，可以为膜片开关区域(键盘或数字键盘)和非膜片开关的被照明区域提供一个发光组件。因此，本发明的发光组件能够被用于照明键盘、数字键盘、膜片开关和其他被照明的标志。

此外，还有需要选定区域的照明的机动车的应用。例如，发光组件可以被用于指示不同变速档的选择器位置(如P、R、N、D、L)或照明仪表面板。在这些情形中，有被发光组件照明的图表和字母数字的盖层。

图77是包含透光基底291的发光模块290的示意底视平面图。透光基底291中被着重标明的是长度和宽度与透光基底291的长度和宽度相比相对地小的选定部分301。基底部分301在图78中更详细画出。

图78是透光基底部分301的示意底视平面图。基底部分301包含基底中的凹陷302和被置于该凹陷中的发光二极管304。图78A是沿图78的A-A′线的示意断面图。基底有两个主平面表面301T和301B，该两个表面除了凹陷之外基本上相互平行。凹陷302从主平面表面301B部分地向主平面表面301T伸延。LED 304有基本上平行于基底的光输入表面303的光发射表面308。因此，LED的光发射表面308和基底的光输入表面303基本上垂直于该两个主平面表面301T和301B。

其他LED布置也是可能的。图78B是按照本发明另一个实施例的透光基底部分311的示意断面图。基底部分311在有棱形的光输入表面313的基底中，有两个主平面表面311T和311B和凹陷312。LED314被这样放置，使它的光发射表面318平行于基底的主平面表面311T和311B并与棱形表面313对准。此外，LED 314被这样放置，使它的光输出的一部分进入棱形表面313的右侧，而光输出的剩余部分进入棱形表面313的左侧。

图79是按照本发明另一个实施例的透光基底部分321的示意底视平面图。图79A是沿图79的A-A′线的示意断面图。基底部分321包含主平面表面321B上起微透镜作用的凸起326。基底有两个除了在凸起处外基本上相互平行的主平面表面321T和321B。凸起326包含垂直于该两个主平面表面的光输入表面323。LED 324被这样放置，使它的光发射表面328平行于并对准基底的光输入表面323。

图79B是按照本发明另一个实施例的基底部分331的示意断面图。基底部分331包含主平面表面311B上起微透镜作用的凸起336和LED 334，LED 334被放置成以它的光发射表面338平行于并对准凸起的光输入表面333。这些特性与图79A的那些特性基本上相同。此外，主平面表面331T中有凹陷332。凹陷332通过内全反射起增加在基底中传播的光的量的作用。

图79C是按照本发明另一个实施例的基底部分341的示意断面图。基底部分341包含主平面表面341B上起微透镜作用的凸起346和LED 344。凸起346被形成这样的形状，使它的光输入表面343相对于主平面表面341T和341B成倾角。此外，LED 344被这样放置，使它的光发射表面348基本上平行于并对准光输入表面343。

除供液晶显示器的后照明外，本发明的发光组件还能够被用于键盘、数字键盘和其他膜片开关的应用。此外，该发光组件能够被用于图表或字符盖层被该发光组件照明的应用中。该应用的例子包含：计算机和其他电子产品的状态标志，汽车中变速档选择指示，以及汽车中仪表面板照明。本发明的发光组件还能够被用于汽车的外部照明，诸如大灯、尾灯、刹车灯、雾灯和转向信号。此外，该发光组件能够被用于其它一般照明应用，诸如屋内和建筑物内天花板灯及桌灯。

本发明被认为是新颖和创造性的方面，在下面以字母标记的条款说明：

A1.一种制造重叠、相交或互锁的光学单元形状的基本上任意图形的方法，供在透光基底之上或之中形成光学单元的图形中使用，这些光学单元形状相对于基底的长度和宽度是非常小的，该方法包括的步骤有：制作有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形的母版，这些光学单元形状除了沿母版的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元形状与沿另一个边缘的光学单元形状基本上相匹配；制作该母版的拷贝；和借助沿该边缘已被对准的光学单元形状，把这些拷贝瓦铺在一起，以产生光学单元形状的更大的图形，在该更大图形中拷贝边缘会合处有最少不连续性。

A2.按照条款A1中陈述的方法，其中该母版的边缘，是通过切割或修剪边缘而形成的，沿该相应边缘的光学单元形状在位置和形式方面基本上彼此相同。

A3.按照前面条款任一条中陈述的方法，其中母版的边缘至少有一些部分光学单元形状在被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少的不连续性。

A4.按照前面条款任一条中陈述的方法，其中该母版是在平的基底、弯曲的基底中或在卷上制成的。

A5.按照前面条款任一条中陈述的方法，其中这些光学单元形状基本上覆盖至少一部分含有该图形的母版的整个表面。

A6.按照前面条款任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是母版的第一代拷贝。

A7.按照条款A1-A5任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是母版的第二代拷贝。

A8.按照条款A1-A5任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是通过淀积工艺从母版制成的。

A9.按照条款A1-A5任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是通过模铸工艺、热压工艺或模压工艺从母版制成的。

A10.按照条款A1-A5任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是通过贴着母版中的光学单元形状加热和加压拷贝材料而制成的。

A11.按照条款A1-A5任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是通过在母版中的光学单元形状上涂敷流动性材料，使该流动性材料固化或硬化和从母版移出已固化或硬化的材料而制成的。

A12.按照条款A11中陈述的方法，其中该流动性材料是自固化材料、热固化材料或紫外或辐射固化材料。

A13.按照前面条款任一条的方法，其中母版中的光学单元形状的图形是径向图形。

A14.按照条款A1-A12任一条中陈述的方法，其中该母版被做成矩形，而母版的拷贝被瓦铺在两个边缘上以产生更大的图形。

A15.按照条款A1-A12任一条中陈述的方法，其中该母版被做成矩形，而母版的至少一些拷贝被瓦铺在四个边缘上以产生更大的图形。

A16.按照条款A1-A12任一条中陈述的方法，其中该母版被做成三角形，而母版的拷贝仅被瓦铺在两个边缘上以产生更大的图形。

A17.按照条款A1-A12任一条中陈述的方法，其中该母版是带，而母版的拷贝仅被瓦铺在两个边缘上以产生更大图形。

A18.一种在透光基底之上或之中制造重叠、相交或互锁的光学单元形状的方法，这些光学单元形状相对于基底的长度和宽度是非常小的，该方法包括的步骤有：制作有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形的母版，这些光学单元形状除了沿母版的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元形状与沿另一个边缘的光学单元形状相匹配；制作该母版的拷贝；借助沿该边缘已被对准的光学单元形状，把这些拷贝瓦铺在一起，以产生光学单元形状的更大图形，在该更大图形中拷贝边缘会合处有最少不连续性。

A19.按照条款A18中陈述的方法，还包括把这些光学单元形状的更大图形用在拷贝上以在透光基底之上或之中形成光学单元的对应图形。

A20.按照条款A18-A19任一条中陈述的方法，其中这些光学单元形状的图形，通过淀积工艺、模铸工艺、热压工艺或模压工艺被形成在基底之上或之中。

A21.按照条款A18-A20任一条中陈述的方法，其中该母版的边缘，是通过切割或修剪边缘而形成的，沿该边缘的光学单元形状在位置和形式方面基本上彼此相同。

A22.按照条款A18-A21任一条中陈述的方法，其中该母版的边缘至少有一些部分光学单元形状在被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少的不连续性。

A23.按照条款A18-A22任一条中陈述的方法，其中该母版是在平的基底、弯曲的基底中或在卷上制成的。

A24.按照条款A18-A23任一条中陈述的方法，其中该光学单元形状基本上覆盖至少一部分含有该图形的母版的整个表面。

A25.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是母版的第一代拷贝。

A26.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是母版的第二代拷贝。

A27.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过淀积工艺从母版制成的。

A28.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过模铸工艺、热压工艺或模压工艺从母版制成的。

A29.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过贴着母版中的光学单元形状加热和加压拷贝材料而制成的。

A30.按照条款A18-A24任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过在母版中的光学单元形状上涂敷流动性材料，使该流动性材料固化或硬化和从母版移出已固化或硬化的材料而制成的。

A31.按照条款A30中陈述的方法，其中该流动性材料是自固化材料、热固化材料或紫外或辐射固化材料。

B32.一种制造重叠、相交或互锁的光学单元形状的重复图形的方法，供在透光基底之上或之中形成光学单元的图形中使用，这些光学单元形状相对于基底的长度和宽度是非常小的，该方法包括的步骤有：制作有重叠、相交或互锁的光学单元形状的图形的母版，该图形除了沿母版的至少一个边缘外是重复的，在该至少一个边缘上的光学单元形状与沿另一个边缘上的光学单元形状基本上相匹配；制作该母版的拷贝；和借助沿该边缘已被对准的光学单元形状，把该拷贝瓦铺在一起，以产生光学单元形状的更大图形，在该更大图形中拷贝边缘会合处有最少不连续性。

B33.按照条款B32中陈述的方法，其中该母版的边缘，是通过切割或修剪边缘而形成的，沿该相应边缘的光学单元形状在位置和形式方面基本上彼此相同。

B34.按照条款B32-B33任一条中陈述的方法，其中母版的边缘至少有一些部分光学单元形状在被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少的不连续性。

B35.按照条款B32-B34任一条中陈述的方法，其中该母版是在平的基底、弯曲的基底中或在卷上制成的。

B36.按照条款B32-B34任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过模铸工艺、热压工艺或模压工艺从母版制成的。

B37.按照条款B32-B34任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过贴着母版中的光学单元形状加热和加压拷贝材料而制成的。

B38.按照条款B32-B34任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过在母版中的光学单元形状上涂敷流动性材料，使该流动性材料固化或硬化和从母版移出已固化或硬化的材料而制成的。

B39.按照条款B38中陈述的方法，其中该流动性材料是自固化材料、热固化材料或紫外或辐射固化材料。

A40.一种制造光学单元形状的基本上任意图形的方法，供在透光基底之上或之中形成光学单元的图形中使用，这些光学单元相对于基底的长度和宽度是非常小的，该方法包括的步骤有：制作有光学单元形状的图形的母版，这些光学单元形状除了沿母版的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元形状与沿另一个边缘上的光学单元形状基本上相匹配；制作该母版的拷贝；和借助沿该边缘已被对准的光学单元形状，把该拷贝瓦铺在一起，以产生光学单元形状的更大图形，在该更大图形中拷贝边缘会合处有最少不连续性。

A41.按照条款A40中陈述的方法，其中该母版的边缘，是通过切割或修剪边缘而形成的，沿该相应边缘的光学单元形状在位置和形式方面基本上彼此相同。

A42.按照条款A40-A41任一条中陈述的方法，其中母版的边缘至少有一些部分光学单元形状在被对准时，在沿该边缘的光学单元形状中提供最少的不连续性。

A43.按照条款A40-A42任一条中陈述的方法，其中该母版是在平的基底、弯曲的基底中或在卷上制成的。

A44.按照条款A40-A42任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过模铸工艺、热压工艺或模压工艺从母版制成的。

A45.按照条款A40-A42任一条中陈述的方法，其中该拷贝是通过贴着母版中的光学单元形状加热和加压拷贝材料而制成的。

A46.按照条款A40-A42任一条中陈述的方法，其中这些拷贝是通过在母版中的光学单元形状上涂敷流动性材料，使该流动性材料固化或硬化和从母版移出已固化或硬化的材料而制成的。

A47.按照条款A46中陈述的方法，其中该流动性材料是自固化材料、热固化材料或紫外或辐射固化材料。

C48.一种透光基底、膜或片，在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，其中该图形除了沿该基底、膜或片的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元具有的形状与沿该基底、膜或片的另一个边缘上的光学单元形状基本上相匹配。

C49.按照条款C48中陈述的透光基底、膜或片，其中至少一些光学单元是重叠、相交或互锁的。

C50.按照条款C48-C49任一条中陈述的透光基底、膜或片，它基本上是矩形。

C51.按照条款C48-C50任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中该光学单元基本上覆盖该基底、膜或片的整个表面。

C52.按照条款C48-C51任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中光学单元的图形被径向图形调制。

C53.按照条款C48-C52任一条中陈述的透光基底、膜或片，它有空气隙或中空结构。

C54.按照条款C48-C53任一条中陈述的透光基底、膜或片，它有多个层。

C55.按照条款C48-C54任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括漫射器基底、膜或片。

C56.按照条款C48-C55任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括微透镜棱形基底、膜或片。

C57.按照条款C48-C56任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括反射器或透射反射器。

C58.按照条款C54中陈述的透光基底、膜或片，其中该多个层的至少一层有不同于该多个层的其它层的折射率。

C59.按照条款C48-C58任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面，来自光源的光输出通过该光输入表面进入该基底、膜或片。

C60.按照条款C48-C59任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面上的抗反射涂层。

C61.按照条款C48-C60任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面上的微透镜阵列。

C62.按照条款C48-C61任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括在该基底、膜或片中的凹陷、狭缝、孔或腔。

C63.按照条款C62中陈述的透光基底、膜或片，其中在凹陷、狭缝、孔或腔上有光输入表面。

C64.按照条款C48-C63任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中该基底、膜或片有单个或重复的锥形的断面轮廓。

C65.按照条款C64中陈述的透光基底、膜或片，其中的光输入表面被定位在该基底、膜或片的较厚端上。

C66.一种透光基底、膜或片，在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，其中该图形除了至少在被定位在两个任意形成图形的区之间的边界区中之外，基本上是任意的。

C67.按照条款C66中陈述的透光基底、膜或片，它包含至少第一边界区和第二边界区，每一边界区被定位在两个任意形成图形的区之间，其中每一边界区在光学单元中有不连续性的图形，且第一边界区中的不连续性图形与第二边界区中的不连续性图形基本上相匹配。

C68.按照条款C66-C67任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中该光学单元是重叠、相交或互锁的。

C69.按照条款C66-C68任一条中陈述的透光基底、膜或片，它基本上是矩形。

C70.按照条款C66-C69任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中该光学单元基本上覆盖该基底、膜或片的整个表面。

C71.按照条款C66-C70任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中光学单元的图形被径向图形调制。

C72.按照条款C66-C70任一条中陈述的透光基底、膜或片，它有空气隙或中空结构。

C73.按照条款C66-C72任一条中陈述的透光基底、膜或片，它有多个层。

C74.按照条款C66-C73任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括漫射器基底、膜或片。

C75.按照条款C66-C74任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括微透镜棱形基底、膜或片。

C76.按照条款C66-C75任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括反射器或透射反射器。

C77.按照条款C73中陈述的透光基底、膜或片，其中该多个层的至少一层有不同于该多个层的其它层的折射率。

C78.按照条款C66-C77任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面，来自光源的光输出通过该光输入表面进入该基底、膜或片。

C79.按照条款C66-C78任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面上的抗反射涂层。

C80.按照条款C66-C79任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括光输入表面上的微透镜阵列。

C81.按照条款C66-C80任一条中陈述的透光基底、膜或片，另外包括在该基底、膜或片中的凹陷、狭缝、孔或腔。

C82.按照条款C81中陈述的透光基底、膜或片，其中在凹陷、狭缝、孔或腔上有光输入表面。

C83.按照条款C66-C82任一条中陈述的透光基底、膜或片，其中该基底、膜或片有单个或重复的锥形的断面轮廓。

C84.按照条款C83中陈述的透光基底、膜或片，其中的光输入表面被定位在该基底、膜或片的较厚端上。

D85.一种发光组件，包括：

至少一个透光基底、膜或片，在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，该图形除了至少在被定位在该基底、膜或片的两个任意形成图形的区之间的边界区中之外，基本上是任意的；

至少一个光源，被配置成把光发射进该基底、膜或片中；

其中该发光组件被配置成通过这些光学单元的图形发射光并产生平均亮度值规定范围内的亮度轮廓，且该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化。

D86.按照条款D85中陈述的发光组件，其中该光源从由下列构成的组中被选出：发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)、热阴极荧光灯(HCFL)、冷阴极荧光灯(CCFL)和外电极荧光灯(EEFL)。

D87.按照条款D85-D86任一条中陈述的发光组件，其中该光源是侧发射LED。

D88.按照条款D87中陈述的发光组件，其中该透光基底、膜或片有光输入表面，而该侧发射LED被这样放置，使它的光发射表面靠着该光输入表面。

D89.按照条款D85-D88任一条中陈述的发光组件，其中该LED被粘合到该光输入表面。

D90.一种发光组件，包括：

多个透光基底、膜或片，其中每一基底、膜或片有光学单元的图形在该基底、膜或片之上或之中，该图形除了沿该基底、膜或片的每一个的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元具有的形状与沿相邻基底、膜或片的另一个边缘的光学单元形状相配；

至少一个光源被配置成把光发射进至少一个基底、膜或片中；和

其中该发光组件被配置成发射光通过该光学单元的图形并产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化。

D91.按照条款D90中陈述的发光组件，其中该光源从由下列构成的组中被选出：半导体发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)、热阴极荧光灯(HCFL)、冷阴极荧光灯(CCFL)和外电极荧光灯(EEFL)。

D92.按照条款D90-D91任一条中陈述的发光组件，其中该光源是侧发射LED。

D93.按照条款D92中陈述的发光组件，其中该透光基底、膜或片有光输入表面，而该侧发射LED被这样放置，使它的光发射表面靠着该光输入表面。

D94.按照条款D90-D93任一条中陈述的发光组件，其中该LED被粘合到该光输入表面。

D95.按照条款D90-D91任一条中陈述的发光组件，其中至少两个相邻基底、膜或片各有锥形的断面轮廓，使至少一个光源被放置在该至少两个相邻基底、膜或片每一个的较厚端附近，而该至少两个相邻基底、膜或片的第一个的较薄端在该光源和该至少两个相邻基底、膜或片的第二个的较厚端上伸延。

D96.按照条款D95中陈述的发光组件，其中该光源是侧发射LED。

E97.一种响应于视频信号显示图像的方法，包括步骤：

提供包含多个透光基底、膜或片的发光组件，其中每一基底、膜或片在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，该图形除了沿每一个基底、膜或片的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元具有的形状与沿相邻基底、膜或片的相邻边缘的光学单元形状相匹配；

和多个光源，每一光源被配置成把光发射进至少一个基底、膜或片中；

配置该发光组件，使发射光通过光学单元的图形并产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且当该多个光源的所有光源是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化；

配置被该发光组件照明的液晶板；

接收输入视频信号；和

响应于该输入视频信号，使该多个光源的至少一个变暗或变亮，同时作为光阀操作该液晶板。

E98.按照条款E97中陈述的方法，其中该光源是发光二极管。

E99.按照条款E97-E98任一条中陈述的方法，其中该液晶板包括彩色滤波器阵列，而该光源是白光LED。

E100.按照条款E97-E99任一条中陈述的方法，其中属于一行LED的多个LED被一起变暗或变亮。

E101.按照条款E100中陈述的方法，其中属于该行LED的所有LED被一起变暗或变亮。

E102.一种响应于视频信号显示图像的方法，包括步骤：

提供包含多个透光基底、膜或片的发光组件，其中每一基底、膜或片在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，该图形除了沿每一个基底、膜或片的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元具有的形状与沿相邻基底、膜或片的相邻边缘的光学单元形状相配；

和多个光源，被配置成把光发射进至少一个基底、膜或片中；

配置该发光组件，使发射光通过光学单元的图形并产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且当该多个光源的所有光源是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化；

配置被该发光组件照明的液晶板；

接收输入视频信号；和

响应于该输入视频信号，使该多个光源的至少一个变暗或变亮，同时作为光阀操作该液晶板。

E103.一种响应于视频信号显示图像的方法，包括步骤：

提供包含多个透光基底、膜或片的发光组件，其中每一基底、膜或片在该基底、膜或片之上或之中有光学单元的图形，该图形除了沿该基底、膜或片的每一个的至少一个边缘外，基本上是任意的，在该至少一个边缘上的光学单元具有的形状与沿相邻基底、膜或片的相邻边缘的光学单元形状相匹配；

和多个光源，包括第一颜色的光源、第二颜色的光源和第三颜色的光源，每一光源被配置成把光发射进至少一个基底、膜或片中；

配置该发光组件，使发射光通过光学单元的图形；

配置该发光组件，使当该多个光源的所有光源是接通时，产生白光；

配置该发光组件，以产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且当该多个光源的所有光源是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化；

配置被该发光组件照明的液晶板；

接收输入视频信号；和

响应于该视频信号，按顺序从发光组件以第一颜色光源、第二颜色光源和第三颜色光源照射液晶板，同时作为光阀操作液晶板。

E104.按照条款E103中陈述的方法，其中该三种颜色是红色、绿色和蓝色。

E105.按照条款E103-E104任一条中陈述的方法，其中该液晶板没有彩色滤波器阵列。

E106.按照条款E103-E105任一条中陈述的方法，其中该光源是LED。

E107.按照条款E103-E106任一条中陈述的方法，另外包括步骤：配置该发光组件，以产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且使当该多个光源的所有第一颜色光源是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化。

E108.按照条款E103-E106任一条中陈述的方法，另外包括步骤：配置该发光组件，以产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且当该多个光源的所有第二颜色光源是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐地变化。

虽然本发明已经就某些实施例说明和描述，但是显然，在阅读和理解说明书后，本领域其他熟练技术人员将想到等价的变更和修改。尤其是关于上文描述的部件所执行的各种功能，用于描述这种部件的术语(包含任何涉及的“装置)”)，除非另行指出，都是指对应的执行所描述部件指定功能的任何部件(如，这是功能上等价的)，那怕不是结构上等价于被公开的执行本发明示例性实施例中示出功能的部件。此外，所有公开的功能可以按需要被计算机化和自动化。另外，虽然本发明的某一特定特性可以只用一个实施例，但是，由于可能需要和有利于任何给定的或特殊的应用，该特性可以与其他实施例的一种或多种其他特性组合。

Claims (21)

1.一种响应于视频信号显示图像的方法，包括步骤：

提供包含多个透光基底、膜或片的发光组件，其中每一个基底、膜或片有：在该基底、膜或片之上或之中的光学单元的至少一种图形；和多个光源，每一个光源被配置成把光发射进该基底、膜或片的至少一个区域；

把该发光组件配置成发射光通过该光学单元的图形并产生发光组件的预定亮度分布；

把液晶板配置成被发光组件照射；

接收输入视频信号；和

响应于输入视频信号，把多个光源中的至少之一变暗或变亮，同时操作该液晶显示器作为光阀。

2.权利要求1的方法，其中该光源是发光二极管。

3.前面任一项权利要求的方法，其中该液晶板包括彩色滤波器阵列而该光源是白光发光二极管。

4.前面任一项权利要求的方法，其中属于一行发光二极管的多个发光二极管是一起变暗或变亮的。

5.权利要求4的方法，其中属于该行发光二极管的所有发光二极管是一起变暗或变亮的。

6.前面任一项权利要求的方法，其中每一个基底、膜或片有多个光被发射进的区域。

7.前面任一项权利要求的方法，其中基底、膜或片中的至少之一的端部与相邻的基底、膜或片的另一端部重叠。

8.前面任一项权利要求的方法，其中响应于低亮度输入视频信号，向液晶板的输入信号被增加，而来自发光组件的亮度被降低。

9.前面任一项权利要求的方法，其中该变暗或变亮步骤对降低发光组件的电功率消耗和改进黑电平是有效的。

10.前面任一项权利要求的方法，其中该发光组件被配置成：发射光通过每一个基底、膜或片之上或之中的光学单元的至少一种图形，并产生在平均亮度值规定范围内的亮度分布，且当该多个光源的所有光源都是接通时，该亮度从发光组件一端的第一端点到发光组件相对端的第二端点逐渐变化。

11.一种响应于视频信号显示图像的方法，包括步骤：

提供包含透光基底、膜或片的发光组件，该基底、膜或片有：在该基底、膜或片之上或之中的光学单元的至少一种图形，该基底，膜和多个光输出区域，和多个光源，至少一些光源被配置成有选择地照射该基底、膜或片的输出区域中的不同输出区域；

把该发光组件配置成发射光通过这些光学单元的图形并产生发光组件的预定亮度分布；

把液晶板配置成被发光组件照射；

接收输入视频信号；和

响应于输入视频信号，把多个光源中的至少之一变暗或变亮，同时操作该液晶板作为光阀。

12.权利要求11的方法，其中该光源是发光二极管。

13.权利要求11和12的方法，其中该液晶板包括彩色滤波器阵列而该光源是白光发光二极管。

14.权利要求11到13任一项的方法，其中属于一行发光二极管的多个发光二极管是一起变暗或变亮的。

15.权利要求14的方法，其中属于该行发光二极管的所有发光二极管是一起变暗或变亮的。

16.一种发光组件，包括：

多个透光基底、膜或片；

至少一些基底、膜或片有与相邻基底、膜或片的部分重叠的部分；

多个光源，每一光源被配置成把光发射进该基底、膜或片的至少一个区域；和

在基底、膜或片的至少一侧之上或之中的光学单元的至少一种图形，被配置成使相邻基底、膜或片之间的不连续性被最小化。

17.权利要求16的发光组件，其中至少两个相邻基底、膜或片每个有锥形断面轮廓，且至少一个光源被放置在该至少两个相邻基底、膜或片每一个的较厚端附近，而该至少两个相邻基底、膜或片之一的较薄端在光源上和该至少两个相邻基底、膜或片的另一个的较厚端上延伸。

18.权利要求16和17的发光组件，其中该光源是侧发射式发光二极管。

19.一种控制包含多个透光基底、膜或片的发光组件的光输出分布的方法，其中每一个基底、膜或片有在该基底、膜或片之上或之中的光学单元的至少一种图形，和多个光源，每一光源被配置成把光发射进该基底、膜或片的至少一个区域，该方法包括步骤：

改变至少一些光源的电输入以从发光组件产生预定的光输出。

20.权利要求19的方法，其中该光源是发光二极管。

21.权利要求19和20的方法，其中来自发光组件的光输出分布基本上是均匀的。

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