CN101598685A - 对样品的至少一部分成像的装置和方法 - Google Patents

Abstract

一种用于执行样品的低相干性测距的设备，该样品具有高横向分辨率和大的焦深，该装置包括光学测距系统，该系统包括光源、用于将光从光源引导到样品的装置，将反射光从样品引导到检测器的装置，至少一个检测器，用于处理由检测器接收的光数据并产生图像的装置；并且光学元件具有小于或等于5μm的横向分辨率Δris，和至少约50μm的焦深Δz。

Description

对样品的至少一部分成像的装置和方法

本申请是申请号为03805597.X，国际申请号为PCT/US03/00699的发明专利申请的分案申请。

原案申请日：2003年1月10日。

原案发明名称：用于具有可提高分辨率和景深的轴线焦点的OCT成像的装置。

发明人：

GUILLERMO J.TEARNEY

BREET E.BOUMA

互相参考的相关申请

本申请要求2002年1月11日申请的共同未决的美国临时申请No.60/347582的优先权，在此结合本申请的全部内容作为参考。

发明领域

本发明涉及使用光学相干X线体层照相术用于成像组织样本，并结合光学元件来改善横向分辨率和焦深的装置。

目前，光学相干X线体层照相术(OCT)的使用只限于显现生物组织内部的体系形态结构。具有OCT的亚细胞特征的图像没有被很好的论证，因为相对差的横向分辨率需要保持焦深。执行高横向分辨率、大的景深截面OCT图像的能力将允许应用于上皮癌的较早诊断，以及其他需要亚细胞级分辨率的生物医学成像诊断。

到今天，还没有已知的光学相干X线体层照相术结构能在大的景深上执行高横向分辨率成像。人们将期待有一种简单的设备来执行高横向分辨率，大景深光学相干X线体层照相术。另外，由于允许通过单个光纤传送光，该设备也能容易的结合到导管或内诊镜中。这些特性将使得该设备能制造用于执行光学相干X线体层照相术的应用，该应用需要在生物系统内的远地的亚细胞分辨率成像。

发明内容

本发明的一个方面，是提供一种对样品的至少一部分成像的装置，包括：提供电磁辐射的第一干涉测量(inferometric)装置；和配置以接收电磁辐射的第二装置，并配置以产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，对于至少预定距离该强度分布近似为常数。

其中第二装置是光学装置，该装置被配置成光学成像的样品，如旋转三棱镜、折射光学元件或环。

第二装置还包括衍射元件和透镜的组合、变迹透镜、全息图和衍射元件的组合。

其中强度分布是贝赛尔射束。

该装置还包括适合与第二装置结合的第三装置，以便转换强度分布和样品中的至少一个。

其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

其中预定距离至少是50μm。

其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

该装置还包括配置的第四装置以接收与强度分布有关的消息，并基于接收的消息显示图像。

本发明的另一方面，是提供一种对至少一部分样品进行成像的装置，包括：提供电磁辐射的第一干涉测量装置；和配置以接收电磁辐射的第二装置，并配置以产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，强度分布的至少两分区的宽度近似相同。

其中特定方向近似为垂直方向。

其中第二装置包括多个透镜。

其中一个分区至少部分的位于另一分区之上。

其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

该装置还包括适合与第二装置结合的第三装置，以便转换强度分布和样品中的至少一个。

其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

本发明的另一方面是，提供一种对样品的至少一部分成像的方法，包括：a)使用干涉测量装置提供电磁辐射；b)接收电磁辐射并产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，对于至少预定距离该强度分布近似为常数。

其中利用光学装置执行步骤(b)，该装置被配置成光学成像样品。

其中使用旋转三棱透镜执行步骤(b)。

其中使用折射光学元件执行步骤(b)。

其中使用环执行步骤(b)。

其中使用衍射元件和透镜的组合来执行步骤(b)。

其中使用变迹透镜、全息图和衍射元件的组合执行步骤(b)。

其中强度分布是贝赛尔射束。

该方法还包括对强度分布和样品中的至少一个进行转换。

其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

其中预定距离至少是50μm。

其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

该方法还包括接收与强度分布有关的消息的步骤，并基于接收的消息显示图像。

本发明的另一方面是，提供一种对样品的至少一部分成像的方法，包括：a)使用干涉测量装置提供电磁辐射；和b)接收电磁辐射，并产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，强度分布的至少两部分的宽度近似相同。

其中利用光学装置执行步骤(b)，该装置被配置成光学成像该样品。

其中使用旋转三棱透镜执行步骤(b)。

其中使用折射光学元件执行步骤(b)。

其中使用环执行步骤(b)。

该方法，使用衍射元件和透镜的组合来执行步骤(b)。

其中使用变迹透镜、全息图和衍射元件的组合执行步骤(b)。

其中强度分布是贝赛尔射束。

该方法还包括对强度分布和样品中的至少一个进行转换。

其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

其中预定距离至少是50μm。

其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

该方法还包括接收与强度分布有关的消息的步骤，并基于接收的消息显示图像。

本发明的另一个方面，是提供一种用于对具有高横向分辨率和大焦深的样品执行低相干测距的装置，包括：

a.一个光学测距系统，包括：

i)光源，

ii)用于将来自所述光源的光引导到所述样品的装置，

iii)用于将来自所述样品的反射光引导到检测器的装置，

iv)至少一个检测器，

v)用于处理由所述检测器接收的光数据并产生图像的装置；

和

b.一个光学元件，具有

i)定义为Δris小于或等于5μm的横向分辨率，和

ii)至少50μm的焦深Δz。

其中所述光源是宽谱光源、脉冲激光器或连续波激光器。

其中用于引导光到所述样品和引导来自所述样品的光的所述装置是干涉仪、光学波导透镜或光纤透镜。

其中所述检测器是单检测器或检测器阵。

所述处理器能够分析干涉测量的数据、分析临时检测或分析光谱分析。

其中所述光学元件是锥透镜元件、是能透射、发射或折射的。

所述光学元件是变迹透镜或全息图。

所述光学元件是衍射元件和透镜的组合体。

所述光学元件是变迹透镜、全息图和衍射元件的组合体。

本发明的另一个方面是提供一种用于对具有高横向分辨率和大焦深的样品执行低相干测距的装置，包括：

a.一个光学测距系统，包括：

i)光源，

ii)用于将来自所述光源的光引导到所述样品的装置，

iii)用于将来自所述样品的反射光引导到检测器的装置，

iv)检测器；

b.用于处理由所述检测器接收的光数据并产生图像的装置；和

c.产生在深度上分布的多个焦斑的光学元件。

其中所述多个焦斑在直的垂直线中。

其中所述多个焦斑相对于所述垂直平面具有一个角度。

其中所述多个焦斑具有不同的纵向位置。

其中所述光学元件是锥透镜元件。

其中所述光学元件是能透射的。

其中所述光学元件是能发射的。

其中所述光学元件是能折射的。

其中所述光学元件是变迹透镜。

其中所述光学元件是全息图。

其中所述光学元件是衍射元件和透镜的组合体。

其中所述光学元件是变迹透镜、全息图和衍射元件的组合体。

该装置还包括用于产生多个物斑的装置，以便每个斑点从它的起点到光学元件具有唯一距离，以便每个斑点的图像具有唯一纵向位置。

其中所述多个斑点产生装置包括多个光纤。

其中所述多个斑点产生装置包括多孔障板。

其中所述多个斑点产生装置包括衍射光栅。

其中所述多个斑点产生装置包括微透镜阵列。

该装置还包括扫描装置，该扫描装置引导光到样品上和引导来自样品的光。

该装置还包括用于扫描所述光的装置。

其中所述扫描装置是扫描镜。

其中所述扫描装置是用于相对于所述光学元件移动光纤的装置。

其中所述扫描装置是用于移动所述光纤和光学元件的装置。

其中所述扫描装置是用于移动由所述光纤发出的光束的装置。

其中所述扫描装置是用于改变光束相对于光学元件的角度的装置。

该装置还包括用于密封所述装置的外壳。

该装置还包括用于扫描所述轴向焦点的装置。

本发明的另一方面是提供一种获得样品的高分辨率和高焦深的方法，包括：

a.提供光源；

b.通过光引导装置将来自所述光源的光通过光学元件引导到样品上；

c.接收来自样品返回通过所述光学元件的反射光；

d.将所述反射光引导到检测器；和

e.处理来自检测器的数据以产生图像，

其中所述光学元件具有小于5μm的横向分辨率和大于50μm的焦深。

附图概述

本发明如附图中所示，其中相同的参考符号指定所有附图中相同或相似的部分；

图1描述了使用折射旋转三棱镜聚焦。并行光束，从左入射，在具有窄的宽度和大的深度的轴线上聚焦。

图2描述了在样本支架中具有旋转三棱镜光学部件的OCT系统视图。

图3描述了在轴向位置和照明环之间的关系的示意图。

图4A是图像形成的示意图。

图4B是在Y轴方向中整个光学系统的变换示意图。

图4C是整个光学系统的旋转示意图。

图4D是在X-Y平面内轴线焦点的角偏转示意图。

图5是用于在高景深下执行高横向分辨率测距的系统示意图。

图6是偏移光纤阵列的示意图。

图7是光纤阵列、微透镜阵列和衍射光栅的示意图。

图8是变迹光瞳平面滤波器的实施例示意图。

图9是使用在成像透镜前面的变迹器的示意图。

优选实施例的详细描述

定义

“旋转三棱镜”应当指能够产生轴线焦点的任何光学元件(或其组合)。折射、衍射，和反射旋转三棱镜已经被演示，见J.H.McLeod，J.Opt.Soc.Am44，592(1954)；J.H.McLeod，J.Opt.Soc.Am50，166(1960)；和J.Opt.Soc.Am48，576(1958).

“焦深“应当指纵向距离，在该距离上光束直径增加系数ζ(典型的ζ＝sqrt(2)或2)。对于高斯光束，该sqt(2)焦深是

$2z_R=\frac{2\mathrm{\π}{\left(\frac{d}{2}\right)}^2}{\mathrm{\λ}}$

对于d＝5μm的典型高斯光点直径(1/e²直径)，以及830nm的波长，该焦深大约是48μm。用于均匀光束的焦深(3dB半幅值全宽强度响应移动通过纵向平面的平面反射器)可定义为：

$z_M\≈\frac{.9\mathrm{\λ}}{{\mathrm{NA}}^2}$

对于NA＝0.2，其产生5μm的光点直径，在830nm时用于均匀光束的焦深大约是17μm。

“纵向”应当指实质上平行于光轴。

“纵向分辨率”应当指两个点可以分开的纵向上的最大距离Δz，并且仍然能被光学检测装置区分开。

“光点直径”应当指聚焦光点的横向直径。对于高斯光束，该光点直径被定义为光点的横向宽度，该焦点的亮度减去系数1/e²。对于平行高斯光束，该光点直径被定义为

$d=\frac{4\mathrm{\λf}}{\mathrm{\πD}}$

其中D是透镜中的光束直径，f是透镜的焦点长度，以及λ是波长。对于平顶或均匀光束，该光点半径被定义为Airy磁盘的第一零点的横向长度，

$w=\frac{1.22\mathrm{\λ}}{\mathrm{NA}},$

其中

$\mathrm{NA}=n\sin \left({\tan }^{-1}\left(\frac{D}{2f}\right)\right),$

并且n是浸没媒质的折射指数。

“横向”应当指实质上垂直于光轴。

“横向分辨率”应当指两个点可以分开的横向上的最小距离Δr，并且仍然能被光学检测装置区别开。一种普遍使用的横向分辨率大约是Δr＝d(用于高斯光束)或Δr＝W(用于均匀光束)。

基本原理

产生具有窄的横向光束直径和大的长度(或焦深)的轴线焦点。结合OCT使用，该线状焦点的直径确定横向分辨率并且该长度确定景深。在标准OCT中，利用麦尔逊干涉仪来执行来自沿着轴向焦点的点上的光背射的检测。当光源具有有限的光谱宽度时，该结构可用于确定背射点的轴向位置。通过光源的相干长度来确定该轴向分辨率。

本领域技术人员将明白存在各种公知设备用于产生线焦点。对于本领域技术人员来说，对于此，旋转三棱镜(折射、透射，或衍射光学元件(“DOE”))是一种可接受模型，并该方法将用于本发明来论证使用具有轴线较点的OCT来实现在大景深上的高分辨率成像。应当理解，该方法是示意性的并且不打算作为排除的模型。其他公知模型包括，但不限于，多焦点透镜，诸如Rayleigh-Wood透镜(OpticalProcesing and Computing，H.H Arsenault，T.Szoplik，andB.Macukow eds.，Academic Press Inc.，San Diego，CA，1989)，使用色差以产生沿着纵向轴的依靠聚焦的波长阵列，等等。

分辨率

下面的部分讨论了如图1所示的使用折射的典型旋转三棱镜的物理原理。通过折射旋转三棱镜传输的光的强度分布(见R.Arioto，C.Saloma，T.Tanaka，and S.Kawata，APPL.Opt.31，6653(1992))由公式(1)给出：

$I(r,z)=\frac{4{\mathrm{\π}}^2{E}^2}{\mathrm{\λ}}\frac{\mathrm{RSin}\left(\mathrm{\β}\right)}{{\mathrm{Cos}}^2\left(\mathrm{\β}\right)}{J}_0^2\left(\frac{2\mathrm{\πrSin}\left(\mathrm{\β}\right)}{\mathrm{\λ}}\right),---\left(1\right)$

其中E²(R)是入射在旋转三棱镜上的光的强度，并作为半径R，λ的函数，该半径是光的波长，并且β是通过旋转三棱镜的光的半角。与β有关的锥角α和焦深z_D由公式(2a)和(2b)表示：

nSin(α)＝Sin(α+β)，(2a)

z_D＝R(Cot(β)-Tan(α))，(2b)

其中n是旋转三棱镜的折射系数。上述等式可用以确定轴线焦点的直径。对于平面波照明，该焦点直径由公式(3)给出：

$d_0=0.766\frac{\mathrm{\λ}}{\mathrm{\β}}---\left(3\right)$

在折射或衍射旋转三棱镜的情况下，等式(1)被修改，但在所有情况中，轴向焦点的直径确定成像系统的横向分辨率。本发明的主题是通过变化标准聚焦几何学来改善当前OCT系统典型的较差横向分辨率，在该几何学中焦点量(功率分布)被限制在横向和轴向尺寸中，该焦量中的一个只限制在横向上。

通过组合具有OCT的旋转三棱镜的高的横向局部(和弱的轴向局部)，可以实现在大的视野之上提供高的三维局部的成像系统。通过光源的相干长度可独自确定关于该图像技术的轴向分辨率(OE.S.Swanson，D.Huang，M.R.Hee，J.G.Fujimoto，C.P.Lin，和C.A.Puliafito，Opt.Lett.17，151(1992))并通过公式(4)给出：

$\mathrm{\Δz}=\frac{2\mathrm{Ln}\left(2\right)}{\mathrm{\π}}\frac{{\mathrm{\λ}}^2}{\mathrm{\Δ\λ}},---\left(4\right)$

其中Δλ是光源的光谱宽度(半幅值全宽(“FWHM”))。

在优选实施例中，光学元件具有在大约0.5μm到10μm，尤其是小于或等于5μm范围内被定义为Δr＝d₀的横向分辨率。该光学元件最好在至少大约50μm具有Δz＝zD。

成像

图4A描述了本发明一个实施例的完整OCT/旋转三棱镜系统。除了旋转三棱镜探针，所有部件对于OCT是标准部件。使用OCT来确定背射，提供了空间光栅扫描，该背射作为沿着轴线焦点的距离的函数。这典型的通过扫描干涉仪基准臂的长度来实现。旋转三棱镜具有这样的属性，即每个焦点的轴向位置对应三棱镜入射孔上唯一的环(见图3)。这种关系将允许通过扫描三棱镜孔上的照明环来代替扫描基准臂长度。

不管如何扫描轴向尺寸，为获得图像，必须执行对其他轴的扫描。通常以缓慢速率执行第二扫描尺寸。实现副轴慢扫描的方法包括在y方向上移动光学样品支架，包括光纤、准直透镜和旋转三棱镜(见图4B)，绕着光纤轴旋转整个探针(见图4C)，或在x-y平面上有角度的偏转线焦点(见图4D)。见，(G，J.Tearney，S.A.Boppart，B.E.Bouma，M.E.Brezinski，Opt.Lett.22，1618(1997))。通过使用压电转换器或机械或气动传动器，沿着y或z轴的线性移动以及旋转很容易在小型探针中实现。

图5是用于执行具有高景深的高横向分辨率测距的替代装置的示意图。该系统包括光源、光束重定向元件、检测器、和光学元件。该光学元件提供线焦点和样品上的焦斑阵列。

图6显示了偏移光纤阵列，该光纤阵列通过物镜被镜子定向，并用于取代样品上的纵向和横向尺寸中的焦(成像)斑。扫描该斑点(通过水平线和箭头指示该扫描方向)以产生多维图像。

图7示意了用于取代样品上的纵向和横向尺寸中的焦(成像)斑的光纤阵列、微透镜阵列和衍射光栅(镜子阵列)的示意图。来自光源(未示出)的光通过阵列中的光纤，并通过微透镜阵列到衍射光栅。通过光栅将光引导通过物镜并聚焦在样品上。扫描该斑点(由水平线和箭头指示该扫描方向)以产生多维图像。

一种用于在大的焦深上提供高横向分辨率的替换装置是在成像透镜的背面使用滤波器。该技术，通常称为变迹法，允许在旋转三棱镜中产生线焦点或产生沿着纵向尺寸定位的许多焦斑。使用环形变迹法形成射束焦点，先前已经描述在文献中(M，.MARTINEZ-Corral，P.Andres，J.Ojeda-Castaneda，G.Saavedra，Opt.Comm.119，491(1955))。然而，使用变迹法以产生在大的焦距上的高横向分辨率，其中以前没有描述由OCT进一步分析纵向数据。

图8显示了变迹光瞳平面滤波器的实施例。

图9显示了在成像透镜前面使用变迹器，其输出被聚焦在轴线上的示意图。

成像方法

本发明也提供一种获得样品的高分辨率和高焦深的方法，包括：

a.提供光源；

b.通过光引导装置将来自所述光源的光通过光学元件引导到样品上，该光学元件具有小于约5μm的横向分辨率和大于50μm的焦深；

c.接收来自样品返回通过所述光学元件的反射光；

d.引导所述反射光到检测器；和

e.处理来自检测器的数据产生图像

本发明的优点是OCT成像装置能沿着样品的横向和纵向尺寸进行亚细胞分辨率成像，该样品在小型，基于光纤的组件中。其他优点包括潜在的小规模和低成本的轴线焦点光学元件，诸如组合旋转三棱镜的变迹透镜。

尽管上面只详细描述了本发明很少的典型实施例，但本领域技术人员明白在本质上不脱离本发明的新技术和优点的情况下，对典型实施例的任何修改是可能的。因此，包含在本发明范围内的所有修改都被下面的权利要求所定义。而且应当注意，在此涉及的任何专利、申请和出版物，其全部内容被结合参考。

Claims (50)

1.一种对样品的至少一部分成像的装置，包括：

提供电磁辐射的第一干涉测量(inferometric)装置；和

配置以接收电磁辐射的第二装置，并配置以产生合成电磁强度分布，

其中，沿着特定方向，对于至少预定距离该强度分布近似为常数。

2.根据权利要求1的装置，其中第二装置是光学装置，该装置被配置成光学成像的样品。

3.根据权利要求1的装置，其中第二装置是旋转三棱镜。

4.根据权利要求1的装置，其中第二装置是折射光学元件。

5.根据权利要求1的装置，其中第二装置是环。

6.根据权利要求1的装置，其中第二装置包括衍射元件和透镜的组合。

7.根据权利要求1的装置，其中第二装置包括变迹透镜、全息图和衍射元件的组合。

8.根据权利要求1的装置，其中强度分布是贝赛尔射束。

9.根据权利要求1的装置，还包括适合与第二装置结合的第三装置，以便转换强度分布和样品中的至少一个。

10.根据权利要求9的装置，其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

11.根据权利要求1的装置，其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

12.根据权利要求1的装置，其中预定距离至少是50μm。

13.根据权利要求1的装置，其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

14.根据权利要求1的装置，还包括配置的第四装置以接收与强度分布有关的消息，并基于接收的消息显示图像。

15.一种对至少一部分样品进行成像的装置，包括：

提供电磁辐射的第一干涉测量装置；和

配置以接收电磁辐射的第二装置，并配置以产生合成电磁强度分布，

其中，沿着特定方向，强度分布的至少两分区的宽度近似相同。

16.根据权利要求15的装置，其中特定方向近似为垂直方向。

17.根据权利要求15的装置，其中第二装置包括多个透镜。

18.根据权利要求15的装置，其中一个分区至少部分的位于另一分区之上。

19.根据权利要求51的装置，其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

20.根据权利要求15的装置，其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

21.根据权利要求15的装置，还包括适合与第二装置结合的第三装置，以便转换强度分布和样品中的至少一个。

22.根据权利要求21的装置，其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

23.一种对样品的至少一部分成像的方法，包括：

a)使用干涉测量装置提供电磁辐射；

b)接收电磁辐射并产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，对于至少预定距离该强度分布近似为常数。

24.根据权利要求23的方法，其中利用光学装置执行步骤(b)，该装置被配置成光学成像样品。

25.根据权利要求23的方法，其中使用旋转三棱透镜执行步骤(b)。

26.根据权利要求23的方法，其中使用折射光学元件执行步骤(b)。

27.根据权利要求23的方法，其中使用环执行步骤(b)。

28.根据权利要求23的方法，其中使用衍射元件和透镜的组合来执行步骤(b)。

29.根据权利要求23的方法，其中使用变迹透镜、全息图和衍射元件的组合执行步骤(b)。

30.根据权利要求23的方法，其中强度分布是贝赛尔射束。

31.根据权利要求23的方法，还包括对强度分布和样品中的至少一个进行转换。

32.根据权利要求31的方法，其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

33.根据权利要求23的方法，其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

34.根据权利要求23的方法，其中预定距离至少是50μm。

35.根据权利要求23的方法，其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

36.根据权利要求23的方法，还包括接收与强度分布有关的消息的步骤，并基于接收的消息显示图像。

37.一种对样品的至少一部分成像的方法，包括：

a)使用干涉测量装置提供电磁辐射；和

b)接收电磁辐射，并产生合成电磁强度分布，其中，沿着特定方向，强度分布的至少两部分的宽度近似相同。

38.根据权利要求37的方法，其中利用光学装置执行步骤(b)，该装置被配置成光学成像该样品。

39.根据权利要求37的方法，其中使用旋转三棱透镜执行步骤(b)。

40.根据权利要求37的方法，其中使用折射光学元件执行步骤(b)。

41.根据权利要求37的方法，其中使用环执行步骤(b)。

42.根据权利要求37的方法，其中使用衍射元件和透镜的组合来执行步骤(b)。

43.根据权利要求37的方法，其中使用变迹透镜、全息图和衍射元件的组合执行步骤(b)。

44.据权利要求37的方法，其中强度分布是贝赛尔射束。

45.据权利要求37的方法，还包括对强度分布和样品中的至少一个进行转换。

46.根据权利要求45的方法，其中对强度分布和样品中的至少一个进行转换以产生具有2维或更多维的图像。

47.权利要求37的方法，其中强度分布半幅值全宽小于10μm。

48.根据权利要求37的方法，其中预定距离至少是50μm。

49.根据权利要求23的方法，其中强度分布的至少一部分包括非高斯分布。

50.根据权利要求37的方法，还包括接收与强度分布有关的消息的步骤，并基于接收的消息显示图像。

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