CN101152644B - 干燥涂布膜的方法和设备以及制造光学膜的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种干燥涂布膜的方法，包括干燥应用到行走的带状柔性基底上的、含有有机溶剂的涂布液体的涂布膜，所述干燥方法包括步骤：在一经涂布后的行走位置处、与带状柔性基底相对的位置处提供加热器，和通过加热器加热带状柔性基底，其中当TW(℃)表示带状柔性基底的表面温度；TH(℃)表示加热器的表面温度；λ(W/m·K)表示空气的热传递系数；d(m)表示加热器与带状柔性基底(薄片)之间的距离；η表示热传递效率；以及σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)时，(QR)/(QR+QC)所表示的辐射热传递比值为0.25以上0.60以下，其中QC和QR分别由下面的公式表示：QC＝λ/d·(TH-TW)，其中QC表示通过空气的热传递，和QR＝ησ{(TH+273)4-(TW+273)4}，其中QR表示通过辐射的热传递。
Description
技术领域
本发明涉及一种干燥涂布膜的方法和设备，尤其涉及一种干燥通过在连续行走的带状柔性基底上应用各种液体组成物而形成的长且宽的涂布膜的表面的方法和设备和制造一种光学膜的方法。
背景技术
作为干燥通过在连续行走的薄片状物上应用各种液体组成物而形成的长且宽的涂布膜的表面的方法和设备，所公知的是，一种干燥方法，其中薄片状物的非涂布表面被辊支撑，并通过空气喷嘴向涂布表面吹空气来干燥该薄片状物；或者一种非接触空气悬浮干燥方法(non-contact airfloating drying method)，其中，在薄片状物浮在空气中的状态下，通过空气喷嘴向涂布表面和薄片状物的非接触表面吹空气来干燥薄片状物(日本专利公开公报No.48-042903)。
在吹空气的干燥方法(以下称为“热空气干燥方法”)中，通常通过吹控制湿度的空气到涂布表面上以便蒸发包含在涂布表面中的溶剂，从而执行干燥。尽管这些热空气干燥方法具有高的干燥效率，但是它们却具有不能提供均匀涂布层的的问题，因为空气被直接吹到涂布表面上或经多孔板或矫直板(straightening plate)吹到涂布表面上，因而涂布表面被干扰使得涂布层的厚度不均匀以至造成不平坦，除此之外，空气对流使得涂布表面的溶剂的增发速率不均匀以至造成所谓的桔皮缺陷(请参考YujiOzaki，“Coating Kogaku(Coating Engineering)”，Asakura Shoten，1971，p.293-294)等。
当涂布溶液包含有机溶剂时这种不均匀的产生就特别显著。这是由于在初始干燥阶段当包含足够有机溶剂的涂布膜发生有机溶剂的蒸发分配时，涂布膜的表面开始具有温度分配和表面张力分配；结果，在涂布膜中出现了所谓的马朗高尼对流(Marangoni convection)等非平面流(inplaneflow)。这种不均匀导致严重的涂布缺陷。当液晶包含在该涂布膜中时，除了上述干燥不均匀的问题外，通过吹空气在涂布膜表面中还会产生液晶配向(alignment)的偏差问题。
作为解决这些问题的方法，日本专利申请公开公报No.2001-170547(3-5页，图1)公开一种系统，其中，在涂布之后立刻提供干燥器。其中公开一种防止产生不均匀的方法，该方法通过将干燥器分成几个部分，并通过沿基底的宽度方向从一边到另一边吹空气同时控制空气速度来对每个分隔的部分执行干燥。基于同样的目的，日本专利申请公开公报No.9-73016(第5页，图5)公开一种放置金属薄片而不是分隔的干燥器的方法。
进一步地，所公知的是，一种通过增加涂布溶液的浓度或通过给涂布溶液增稠来增加涂布溶液的粘度的方法，因而抑制在干燥空气的作用下涂布之后涂布膜表面的立刻流动，和一种使用高沸点溶液的方法，因此通过高沸点溶液的均涂效果(leveling effect)来防止不均匀的产生，即使干燥空气在涂布之后立刻在涂布表面中产生流动。然而，如日本专利申请公开公报No.2001-170547(3-5页，图1)所公开的增加涂布溶液的粘度的方法或使用高沸点溶液的方法具有不适用于高速涂布的问题、导致干燥时间增加，并且生产效率极度下降。
日本专利申请公开公报No.2001-157923(2-3页，图1)公开一种在涂布之后立刻将空气速度控制到小数值以便防止干燥空气对涂布表面的不均匀干燥。进一步地，英国专利No.1401041，美国专利No.5168639，和美国专利No.5694701每个都公开一种不用吹空气来干燥涂布膜的方法。具体地，英国专利No.1401041公开一种通过蒸发涂布溶液中的溶剂而不吹空气和回收被蒸发的溶剂的干燥方法。根据该方法，进和出壳体的基底的通道的入口和出口设置在壳体的上部。通过加热壳体中的基底的非涂布表面来干燥基底上的涂布膜以提高溶剂从涂布表面的蒸发。被蒸发的溶剂在设置于涂布表面侧的冷凝板上进行冷凝并且以冷凝状态回收。进一步地，美国专利No.5168639公开一种通过使用设置在沿水平方向走向的基底的上侧上方的鼓来回收溶剂的方法。进一步地，美国专利No.5694701教导我们如何改善美国专利No.5168639所公开的设计。
然而，在英国专利No.1401041所公开的方法中，由于热水等高温材料被用于加热，并且材料接触或非常靠近待干燥的膜，因此干燥期间膜的表面温度上升到极高温。这对于提高干燥是有利的。然而，实际中，当膜的表面温度上升到过高温度时，溶剂从涂布膜以很高速度蒸发会便于干燥中不均匀性的产生，或者随着温度的增加涂布膜的粘度降低，因此导致涂布膜中的流动不均匀。另一方面，如果不使用加热装置，由于溶剂的蒸发，涂布膜的温度会降低。这导致在干燥器的后半中干燥速度的显著降低，浑浊现象的产生等问题。
作为解决这些问题的方法，已经公开了各种方法，其中有通过红外加热器加热薄片状物的非接触表面的方法(参考日本专利申请公开公报No.2004-290776，2003-93953，5-8372和11-254642)。
例如，日本专利申请公开公报No.2004-290776公开一种干燥方法，其中通过设置干燥器来执行干燥，在直接涂布后的行走位置处干燥器被壳体包围，并且设置有用于加热的红外加热器和干燥器的下游的热空气干燥装置。这种干燥方法能够有效干燥带形柔性基底上的涂布膜，而不会在加热涂布膜中造成干燥不均匀，使得干燥器的入口处的涂布膜温度T1和干燥器的出口处的涂布膜温度T2之间的温差为5℃或更小。
发明内容
然而，传统方法存在这样的问题：当涂布量增加或制造线速度(linespeed)增加时，在干燥区不能完成干燥，因而导致干燥不均匀缺陷。因此，为了克服这个问题，干燥区的尺寸必须被延长，导致设备尺寸大型化。
鉴于上述情形，本发明提供一种当涂布量增加或生产线速度增加时，也能够干燥涂布膜并且不产生涂布不均匀的方法和设备，以及提供一种制造光学膜的方法。
为了实现上述目的，本发明的第一方面提供一种干燥涂布膜的方法，包括干燥应用到行走的带状柔性基底上的、含有有机溶剂的液体(organicsolvent-containing liquid)的涂布膜，特征在于：在一经涂布后的行走位置处、与带状柔性基底相对的位置处提供加热器，和通过加热器加热带状柔性基底，其中当TW(℃)表示带状柔性基底的表面温度；TH(℃)表示加热器的表面温度；λ(W/m·K)表示空气的热传递系数；d(m)表示加热器与带状柔性基底(薄片(web))之间的距离；η表示热传递效率；以及σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)时，QR/(QR+QC)所表示的辐射热传递比值为0.25以上0.60以下，其中QC和QR分别由下面的公式表示：
QC＝λ/d·(TH-TW)，其中QC表示通过空气的热传递，和
QR＝ησ{(TH+273)4-(TW+273)4}，其中QR表示通过辐射的热传递。
本发明注意焦点在于加热器靠近薄片(web)时的空气(传导)热传递，并且发现通过一起使用该空气热传递和辐射热传递能够增加每单位面积每单位时间的干燥速率。进一步地，本发明发现无适当认识地使用空气热传递会导致涂布不均匀，并且发现通过将空气热传递与辐射热传递的比值调节成适当数值时能够增加干燥速率而不会产生涂布不均匀。
基于这些发现获得了本发明的第一方面。因此，通过将辐射热传递比值调节为0.25以上0.60以下，能够增加干燥速率而不会产生涂布不均匀。
本发明的第二方面的特征在于：在第一方面中，加热器是红外加热器，该红外加热器发射具有1μm以上15μm以下的波长的红外线，并且该红外加热器具有90％以上的红外发射率。
根据本发明的第二方面，热量能够被有效地供应到带状柔性基底上的涂布膜上。
本发明的第三方面的特征在于：在第一方面或第二方面中，加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
根据本发明的第三方面，由于能够确定地利用空气热传递，热量能够有效地供应到涂布膜，因而显著地增加干燥速率。
本发明的第四方面的特征在于：在第一至第三方面中的任一方面中，加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
根据本发明的第四方面，由于能够确定地利用空气热传递，热量能够供应到涂布膜，因而显著地增加干燥速率。
本发明的第五方面提供一种制造光学膜的方法，特征在于：制造一种具有至少一层涂布膜的光学膜，前述至少一层涂布膜由第一至第四方面中的任一方面的干燥方法所干燥。
本发明的第六方面提供一种干燥涂布膜的设备，用于干燥应用到行走的带状柔性基底上的、含有有机溶剂的涂布液体的涂布膜，特征在于：该干燥设备包括：与带状柔性基底相对的位置处的加热器，该加热器设置在一经涂布后的行走位置处，其中当TW(℃)表示带状柔性基底的表面温度；TH(℃)表示加热器的表面温度；λ(W/m·K)表示空气的热传递系数；d(m)表示加热器与带状柔性基底(薄片)之间的距离；η表示热传递效率；以及σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)时，QR/(QR+QC)所表示的辐射热传递比值为0.25以上0.60以下，其中QC和QR分别由下面的公式表示：
QC＝λ/d·(TH-TW)，其中QC表示通过空气的热传递，和
QR＝ησ{(TH+273)4-(TW+273)4}，其中QR表示通过辐射的热传递。
根据本发明的第六方面，能够提供一种能够显著地增加干燥速率而不会产生涂布不均匀的干燥设备，因为通过辐射热传递从加热器供应的热量的比值为0.25以上0.60以下。
本发明的第七方面的特征在于：在第六方面中，加热器是红外加热器，该红外加热器发射具有1μm以上15μm以下的波长的红外线，并且该红外加热器具有90％以上的红外发射率。
根据本发明的第七方面，热量能够被有效地供应到带状柔性基底上的涂布膜上。
本发明的第八方面的特征在于：在第六方面或第七方面中，加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
根据本发明的第八方面，由于在从加热器到带状柔性基底上的涂布膜的热传递中能够确定地利用空气热传递，因此热量能够有效地供应到涂布膜，因而显著地增加干燥速率。
本发明的第九方面的特征在于：在第六至第八方面中的任一方面中，加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
根据本发明的第九方面，由于在从加热器到带状柔性基底上的涂布膜的热传递中能够确定地利用空气热传递，因此热量能够有效地供应到涂布膜，因而显著地增加干燥速率。
这里使用的“有机溶剂”是指具有适当溶解物质的有机化合物。这种有机化合物的例子包括：甲苯、二甲苯和苯乙烯等芳(族)烃；氯苯和邻位二氯(代)苯(ortho-dichlorobenzene)等氯化芳(族)烃；包括一氯(代)甲烷的甲烷衍生物和包括一氯(代)乙烷的乙烷衍生物等氯化脂肪族烃；甲醇、异丙醇和异丁醇等醇；乙酸甲酯和乙酸乙酯等酯；乙醚和1，4二氧杂环乙烷等醚；丙酮和甲乙酮等酮；乙二醇一甲醚等乙二醇醚；环己胺等脂环烃；正己烷等脂肪族烃；和脂肪族烃和芳(族)烃的混合物。
根据本发明，因为不仅能够利用从干燥器中设置的加热器的辐射热传递而且能够利用空气热传递，因此能够有效地将热量供应到带状柔性基底上的涂布膜上，涂布膜的干燥速率能够显著地增加。
附图说明
图1是设置有根据本发明的干燥设备的涂布/干燥线的示意图；
图2是图1所示的干燥设备的主要部分的剖视图。
具体实施方式
以下，将参考附图详细说明根据本发明的干燥涂布膜的方法和设备的优选实施例。图1是显示结合有本发明的干燥涂布膜的方法和设备使用的干燥器的涂布/干燥线10的示例。
涂布/干燥线10包括：供给器12，其供给以滚动形式缠绕的薄片(web)11；涂布涂抹器，其设置有用于将涂布液体施加到薄片11的辅助辊13和挤压模14；干燥器(干燥机械)16，其用于干燥施加到且形成在薄片11上的涂布膜(以下也称为“涂布层”)15；多个辊17、18、和19，其形成薄片(在以下说明中，也表示其上形成涂布层的薄片)运行的传送路径；和缠绕装置21，其用于缠绕通过涂布和干燥制成的产品20。
引导辊22和23设置在干燥器16中，在运行通过这些引导辊所形成的传送路径时被涂布的薄片11被干燥。
请注意，设置在干燥器16中的加热器优选地是如下所述的红外加热器。
优选地，一种热空气干燥设备27设置在下游以便进一步地干燥之前已被干燥器16所干燥的涂布薄片。在辊17支撑薄片11的同时，通过将涂布薄片11供给到热空气干燥设备27中进一步地进行干燥。随后，在被辊18和19支撑的同时，涂布薄片11被缠绕装置21缠绕成产品20。请注意，辊17、18和19中的每个可以是从动辊(free roll)或驱动辊。
作为热空气干燥设备27，能够使用传统上使用的任何类型的干燥设备，包括：辊传送干燥器型设备，其中薄片的非接触表面被辊支撑并且通过从空气喷嘴吹空气到薄片的涂布表面上来干燥薄片；非接触空气悬浮干燥器型设备，其中，在薄片浮在空气中的状态下(即薄片与辊等不接触)，通过从空气喷嘴向薄片的涂布表面和非涂布表面吹空气来干燥薄片；和螺旋干燥型设备，其是一种非接触干燥型设备，并且能够有效地利用空间和有效地干燥薄片。这些干燥设备共同点在于是通过将干燥空气吹到涂布层的表面上来干燥涂布层。
可用于薄片11的材料的例子包括PE(聚乙烯)、PET(对苯二甲酸二环氧丙脂)、TAC(三乙酸纤维素)等树脂膜，纸，和金属膜。涂布液体的例子包括包含用于制造光学补偿薄片(optical compensation sheet)的盘状液晶(discotic liquid crystal)的涂布液体和包含用于加热显影感光材料的卤化银粒子的涂布液体，但涂布液体不限于此。在本发明中，优选地，涂布液体包括50％质量百分比或更多的有机溶剂。
作为涂布涂抹器，也可使用与图1所示的挤出模14不同的涂抹器。例如，可使用槽模涂布机、拉丝锭涂布机、辊涂布机、照相凹板式涂布机、滑动舱涂布系统、窗帘涂布系统等。请注意，涂布装置可被构成为涂布表面相对于水平方向朝上或朝下，或者相对于水平方向倾斜。
除尘装置(未显示)可设置在涂布涂抹器的上游，或者薄片11的表面可被预处理。在制造需要具有基本无尘的高品质的光学膜中，通过采取除尘装置和预处理可获得高品质的涂布/干燥膜。
为了回收从涂布层15产生的有机溶剂的蒸汽，可以以与薄片11相距预定距离并大致平行于薄片11地设置板形构件。板形构件可用作校正板(straightening plate)，或者冷凝板43、44和45可用作板形构件。用于板形构件的材料包括金属、塑料和木头，但板形构件的材料不限于此。然而，当有机溶剂被包含在涂布液体中时，期望使用能够抵抗有机溶剂的材料或者给板形构件的表面施加涂层。
为了干燥涂布层15而不产生涂布不均匀，涂布层15需要被温度控制以便控制它的干燥速率。例如，可使用热交换器型装置，其中冷却器46、47和48分别连接到冷凝板43、44和45，用于通过冷凝板43、44和45循环冷却剂49。然而，冷却方法不限于热交换器型的方法，可包括使用空气的空气冷却型和使用电的类型，例如使用珀耳帖元件的类型。
优选地，回收冷凝在冷凝板43、44和45上的溶剂的方法包括在冷凝板的冷凝表面43a、44a和45a上开槽。沿冷凝表面43a、44a和45a的薄片传送方向开槽设置凹陷和凸起。槽或凸起形成溶剂通道，因此使得能够容易地回收溶剂。进一步地，用于回收被冷凝的溶剂的容纳槽43b、44b和45b设置在冷凝板右端的下部，通过容纳槽43b、44b和45b来回收溶剂。因此，在通过控制从涂布层15蒸发的有机溶剂的冷凝和回收能力来保持涂布层15附近的溶剂蒸汽的高浓度时，涂布层15可被干燥。结果，由于有机溶剂的快速蒸发，因此能够抑制薄片11和涂布层15的变形。除了采取板形构件的冷凝板的构造外，也可采用具有相似功能的构造，例如，可将美国专利No.5694701所公开的回收装置与冷凝板结合。
为了确定薄片11、涂布层15和冷凝板的温度，要当心以便防止被蒸发的溶剂不在冷凝板的位置上冷凝，例如在辊的表面上冷凝。为了这个目的，例如，通过使除了冷凝板的部分保持高于冷凝板的温度来避免这种冷凝的发生。
干燥器16覆盖有壳体16a，该壳体16a密封干燥器(除了干燥器的入口和出口)以便防止干燥器16中的空气的吸入和排出。在干燥涂布层15中，壳体能够防止在涂布表面附近的空气分布。进一步地，干燥器16优选地设置成尽可能地靠近涂布位置以便防止由于在涂布液体一被涂布之后自然对流的产生所引起的涂布层15的干燥不均匀。具体地，干燥器16更优选地被设置成使得从涂布位置到干燥器16的入口的间距为2m或更小，优选地0.7m或更小。
由于相同原因，薄片11的行走速度优选地被设定成在涂布涂抹器涂布之后3秒内薄片11到达干燥器16。
通常，当涂布液体的量或涂布层的厚度较大时，不均匀更容易发生，因为容易发生涂布层内部流动。然而，根据本发明，涂布层15可在高干燥速率下被干燥，而不会造成干燥不均匀，因为即使当涂布液体的量或涂布层的厚度较大时在干燥器16中能够有效地给涂布层15提供热量。具体地，当涂布层15的薄片涂层厚度在3μm以上50μm以下的范围中时，能够高效地干燥涂布层而不会造成不均匀。请注意，这里说明的“薄片涂层厚度”是指涂布期间赋予薄片的总涂层厚度。
此外，当薄片11的行走速度过高时，涂布层附近的边界层受到伴随的风的干扰，会不利地影响涂布层，同样，涂布层不能在干燥器16中被有效地干燥。因此，薄片11的行走速度优选地设定在10m/min以上和100m/min以下。由于在干燥的初期容易发生涂布层15的干燥不均匀，优选的是涂布液体中的70％质量百分比或更多的有机溶剂被干燥器16蒸发、冷凝和回收，残留的涂布液体中的有机溶剂在热空气干燥设备27中被蒸发。通过全面地判断对涂布层15的干燥不均匀、生产效率等的影响，来确定涂布液体中要被蒸发的有机溶剂的质量百分比。
图2显示干燥器16的主要部分的剖视图，下面将说明干燥涂布薄片11的方法和回收被蒸发的有机溶剂的方法。为了提高从涂布层15蒸发的有机溶剂的浓度，冷凝板43-45优选地被冷却用于有机溶剂的冷凝和回收。涂布层15的表面和冷凝板的表面43a之间的距离(间距)L2需要被调节到在涂布层15的期望干燥速率下的适当的距离。较短的距离可增加干燥速率，但是设定距离的精度能够容易地影响干燥速率。此外，涂布层15与冷凝板的表面43a接触的可能性会增加。另一方面，较大的距离L2不仅显著地减少干燥速率，而且由于热量会引起自然对流因而导致干燥不均匀。因此，在本发明中，涂布层15的表面和冷凝板的表面43a之间的距离(间距)距离L2优选地是5mm以上10mm以下。请注意，优选地其它冷凝板44和45具有相同构造。
如图2所示，加热器40设置在干燥器16中使得加热器40与其上涂布涂布液体的薄片11的表面相对。加热器40给干燥器16中传送的薄片11上的涂布层15提供热量，因而蒸发包含在涂布层15中的溶剂的以便干燥涂布层15。
加热器40优选地是发射具有1μm以上15μm以下的波长的红外线并且具有90％以上的红外发射率的红外加热器。
进一步地，加热器40优选地具有平坦的加热器形状。
由于加热器40的表面温度TH(℃)高于薄片11上的涂布层15的表面温度TW(℃)，因此热量从加热器40传送到涂布层15。
这里，通过辐射热传递传送到涂布层15的热量QR用下面的公式(1)表示，公式(1)使用了加热器40的表面温度TH(℃)和薄片11的表面温度TW(℃)：
QR＝ησ((TH+273)4-(TW+273)4) 公式(1)
其中σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)；η表示热传递效率(热发射率)。
进一步地，通过空气热传递(对流)传送到涂布层15的热量QC用下面的公式(2)表示，公式(2)使用了加热器40的表面温度TH(℃)，薄片11的表面温度TW(℃)，和薄片11与加热器40之间的距离d(m)：
QC＝λ(TH-TW)/d 公式(2)
其中λ是空气的热传递系数(W/K)。
在本发明中，薄片11和加热器40之间的距离d(m)和加热器40的表面温度TH(℃)被调节使得通过辐射热传递从加热器40传送到涂布层15的热量(QR)与从加热器40传送到涂布层15的总热量(QR+QC)的比值((QR)/(QR+QC))为0.25以上0.60以下。这确保足够热量从加热器40传递到薄片11上的涂布层15，并允许涂布层15的干燥速率的显著增加。比值((QR)/(QR+QC))优选地为0.30以上0.50以下，更优选地0.35以上0.45以下。
薄片11和加热器40之间的距离(m)优选地为1mm以上10mm以下。其原因如下：当距离小于1mm时，通过空气热传递供应的热量与从加热器40供应到涂布层15的总热量的比值会变得过大，因此导致干燥后涂布层15上条痕缺陷；当距离超过10mm时，通过空气热传递供应的热量与从加热器40供应到涂布层15的总热量的比值会变得过小以至不能有效地向涂布层15供应热量，因此导致干燥不均匀。
进一步地，在本发明中，加热器40的表面温度TH(℃)优选地80℃以上130℃以下。其原因如下：当温度低于80℃时，通过空气热传递供应的热量与从加热器40供应到涂布层15的总热量的比值会变得过小以至不能有效地向涂布层15供应热量，因此导致干燥不均匀。当温度超过130℃时，通过空气热传递供应的热量与从加热器40供应到涂布层15的总热量的比值会得过大，因此导致干燥后涂布层15上条痕缺陷。
优选地，其它加热器41和42以相同结构构造。
通过在干燥器16中布置多个引导辊22和23，壳体16a的长度可自由地确定而不受传送的限制。当引导辊22和23被加热器40-42加热到过分地增加辊的温度时，引导辊22和23期望地置于壳内以便能够进行温度控制。
本发明的干燥设备的干燥器16的构造不限于说明的构造。此外，传统的构件能够被使用于集成干燥设备的涂布/干燥线中使用的供给器、辊、缠绕装置等，前述干燥设备采用用于干燥本发明的涂布膜的方法和设备。因此，它们的说明被省略。
如上说明，当通过从干燥器16中设置的加热器40提供热量来冷凝和回收应用到薄片11的涂布层15中的溶剂时，通过将空气热传递和辐射热传递之间的比值调节成适当数值，本发明的实施例的干燥方法允许干燥速率增加而不会导致涂层不均匀。具体地，通过将从加热器40通过辐射热传递供应的热量与从加热器40供应的总热量的比值调节成0.25以上0.60以下，就能够有效地向涂布层15中的溶剂供应热量。因此，就能显著地增加干燥速率。
即使当应用到通过在涂布液体中混合聚合体或粒子等固体而获得的溶液或扩散液(dispersion)中时，根据本发明的用于干燥涂布膜的方法和设备也能够提供相同的效果。优选的是将本发明应用到这样的系统，因为包含粒子等的系统中干燥不均匀的产生显著地影响涂布膜中的粒子的扩散和分布。
本发明适用于光学功能膜和光学功能薄片的制造，例如，光学补偿薄片(optical compensation sheet)、感光材料膜用溶剂基底层、热显影感光材料、包括毫微粒等微细结构粒子的功能膜、照相软薄片、照相纸、胶印版材料(offset plate material)、电池等。
实例
实例1
在干燥光学补偿薄片(optical compensation sheet)的制造线中的涂布层的步骤中，在一经涂布之后的行走位置处提供覆盖有壳体的干燥器16以防止在涂布表面附近的空气分布，并且检查研究适用于制造光学补偿薄片的干燥器16的加热条件。
在制造线中，例如，根据下述步骤制造光学补偿薄片：
1)供给透明膜的步骤；
2)形成配向膜形成用树脂层(alignment film-forming resin layer)的步骤，其中包含配向膜形成用树脂的涂布液体被应用到透明膜的表面并被干燥；
3)对树脂层的表面进行研磨处理以便在透明膜上形成配向膜的研磨步骤，其中透明膜具有形成在其表面上的配向膜形成用树脂层；
4)涂布液晶盘状化合物(liquid crystalline discotic compound)的步骤，其中包含液晶盘状化合物的涂布液体被涂布在配向膜上；
5)通过蒸发涂布膜中的溶剂来干燥涂布膜的步骤；
6)将涂布膜加热到盘状向列相形成温度(discotic nematicphase-forming temperature)以便形成盘状向列相的液晶层的液晶层形成步骤；
7)固化液晶层(具体地，在形成液晶层后快速地冷却液晶层因而固化它，或当使用具有可交联的官能团(crosslinkable functional group)的液晶盘状化合物时光照射(或加热)液晶层因而使之交联)的步骤；和
8)缠绕其上形成配向膜和液晶层的透明膜的步骤。
从供给长的透明膜的步骤到缠绕获得的光学补偿薄片的步骤，连续地制造光学补偿膜。三乙酰基纤维素(triacetyl cellulose)的长膜(Fujitac，富士胶薄片公司制造，厚度：100μm，宽度：500nm)的一侧面上被涂布有5％重量比的长链烷基改性波瓦尔(long chainalkyl-modified poval)(MP-203，由Kuraray有限公司制造，备注：poval是注册商标)溶液，在90℃温度下干燥4分钟，然后进行研磨处理以便形成厚度为2.0μm的配向膜形成用树脂层。膜的传递速度是80m/min。
在上述三乙酰基纤维素膜中，当在膜平面的两个垂直方向上的折射率表示成nx和ny时，厚度方向上的折射率表示成nz；膜的厚度表示成d，获得下面的公式：(nx-ny)xd＝16nm，{(nx-ny)/2-nz}×d＝75nm。进一步地，通过设置有本发明的干燥器16的涂布/干燥线来形成上述配向膜形成用树脂层。
随后，在以60m/min的传送速度连续地传送所获得的其上具有树脂层的膜的同时，对树脂层的表面进行研磨处理。在研磨辊的转数为300rpm下执行研磨处理，随后对获得的配向膜进行除尘。
然后，在以60m/min的传送速度连续地传送所获得的其上具有树脂层的膜的同时，通过挤压模涂布机器以60m/min的涂布速度和10cc/m2的涂布量将10％重量比的甲乙酮溶液(methyl ethyl ketone solution)的混合物应用到配向膜上，前述10％重量比的甲乙酮溶液混合物是这样获得的：将1％重量比的光敏引发剂(Irgacure 907，Ciba Geigy Japan有限公司制造)添加到基于盘状化合混合物(discotic compound mixture)以4：1重量比混合的化学式1显示的TE(1)和TE(2)的混合物中而获得。然后在涂布后膜被引导进干燥区中3秒。
红外加热器40、41和42安装在构成干燥区的干燥器16中，其中红外干燥器发射具有1μm-15μm波长的红外线并且具有90％以上的红外发射率。薄片11的表面温度保持在25℃，红外加热器40、41和42的表面温度设定在80℃。薄片11和红外加热器40、41和42之间的间距设定为1.5mm。相对于从红外加热器40、41和42传递到薄片11上的涂布层上的热量，当0.03(W/m·K)被用作空气热传递系数λ时，空气热传递所传送的热量QC被计算为1000W/m2。当0.78被用作热传递效率η时，那么辐射热传递所传送的热量QR被计算为338W/m2。接下来，通过辐射热传递供应到涂布层15的热量QR与从红外加热器40、41和42供应到涂布层15的总热量(QC与QR之和)的比值被计算为0.25。
然后，在薄片11通过干燥区后的3秒内薄片11被传送到调节到130℃的加热区中，并且薄片在大约3分钟内通过加热区。
【化学式1】
随后，在以60m/min的传送速度连续地传送其上涂布有配向膜和液晶层的膜的同时，通过紫外灯用紫外光线对液晶层进行照射。更具体地，已经通过加热区的膜通过紫外辐照设备(紫外灯：输出160W/cm，光发射长度：1.6m)以600mW的照度用紫外光线照射4秒以便交联液晶层。
其它实例
在实例2-10和对比例1-10中，它们以与实例1相同的方式制造光学补偿薄片，除了红外加热器40、41和42的表面温度和薄片11与红外加热器40、41和42之间的间距按照表1所示地设置外。
根据下面的标准来评价获得的光学补偿薄片：
——没有产生干燥不均匀，获得了显著均匀品质的涂层：优异，
——没有产生干燥不均匀，获得了均匀品质的涂层：良好，和
——由于干燥不均匀导致涂布表面中产生干扰，未能获得均匀品质的涂层：差。
表1显示这些光学补偿薄片的制造条件和评价结果。
【表1】
| 网的表面温度(℃) | 红外加热器的表面温度(℃) | 红外加热器与网之间的间距(mm) | QR(W/m2) | QC(W/m2) | QR/(QR+QC)(W/m2) | 评价 | 光学补偿片的表面状态 | |
| 实例1 | 25 | 80 | 1.5 | 338 | 1100 | 0.25 | 良好 | 均匀 |
| 实例2 | 25 | 80 | 2 | 338 | 825 | 0.30 | 优异 | 显著均匀 |
| 实例3 | 25 | 80 | 3 | 338 | 550 | 0.38 | 优异 | 显著均匀 |
| 实例4 | 25 | 100 | 3 | 507 | 750 | 0.40 | 优异 | 显著均匀 |
| 实例5 | 25 | 130 | 3 | 818 | 1050 | 0.44 | 优异 | 显著均匀 |
| 实例6 | 25 | 85 | 5 | 378 | 360 | 0.50 | 优异 | 显著均匀 |
| 实例7 | 25 | 80 | 5 | 338 | 330 | 0.51 | 良好 | 均匀 |
| 实例8 | 25 | 100 | 5 | 507 | 450 | 0.53 | 良好 | 均匀 |
| 实例9 | 25 | 130 | 5 | 818 | 630 | 0.56 | 良好 | 均匀 |
| 实例10 | 25 | 130 | 6 | 818 | 525 | 0.60 | 良好 | 均匀 |
| 对比例1 | 25 | 80 | 1 | 338 | 1650 | 0.17 | 差 | 不均匀 |
| 对比例2 | 25 | 100 | 1 | 507 | 2250 | 0.18 | 差 | 不均匀 |
| 对比例3 | 25 | 130 | 1 | 818 | 3150 | 0.21 | 差 | 不均匀 |
| 对比例4 | 25 | 40 | 10 | 76 | 45 | 0.63 | 差 | 不均匀 |
| 对比例5 | 25 | 80 | 10 | 338 | 165 | 0.67 | 差 | 不均匀 |
| 对比例6 | 25 | 80 | 30 | 338 | 55 | 0.86 | 差 | 不均匀 |
| 对比例7 | 25 | 50 | 30 | 133 | 25 | 0.84 | 差 | 不均匀 |
| 对比例8 | 25 | 130 | 30 | 818 | 105 | 0.89 | 差 | 不均匀 |
| 对比例9 | 25 | 40 | 50 | 76 | 9 | 0.89 | 差 | 不均匀 |
| 对比例10 | 25 | 80 | 50 | 338 | 33 | 0.91 | 差 | 不均匀 |
(结论)
如表1所示，在实例1-10中没有观察到干燥不均匀引起的条痕缺陷的产生。具体地，如实例2-6所示，当通过辐射热传递供应到涂布层15的热量与从红外加热器40、41和42供应到涂布层15的总热量的比值为0.30到0.50时，发现不会观察到干燥不均匀的产生，能够获得具有显著均匀品质的涂层的膜。
进一步地，如表1所示，明显的是，与对比例1-10中，在获得的膜中观察到干燥不均匀引起的条痕缺陷，仅能获得差的表面品质的膜。
Claims (19)
1. 一种干燥涂布膜的方法，包括干燥施加到行走的带状柔性基底上的、含有有机溶剂的涂布液体的涂布膜，所述干燥方法包括如下步骤：
在紧随涂布后的行走位置处、与带状柔性基底相对的位置处设置加热器，和
通过加热器加热带状柔性基底，其中当TW(℃)表示带状柔性基底的表面温度；TH(℃)表示加热器的表面温度；λ(W/m·K)表示空气的热传递系数；d(m)表示加热器与带状柔性基底(薄片)之间的距离；η表示热传递效率；以及σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)时，QR/(QR+QC)所表示的辐射热传递比值为0.25以上0.60以下，其中QC和QR分别由下面的公式表示：
QC＝λ/d·(TH-TW)，其中QC表示通过空气的热传递，和
QR＝ησ{(TH+273)4-(TW+273)4}，其中QR表示通过辐射的热传递。
2. 根据权利要求1的干燥方法，其中
加热器是红外加热器，该红外加热器发射具有1μm以上15μm以下的波长的红外线，并且该红外加热器具有90％以上的红外发射率。
3. 根据权利要求1的干燥方法，其中
加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
4. 根据权利要求2的干燥方法，其中
加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
5. 根据权利要求1的干燥方法，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
6. 根据权利要求2的干燥方法，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
7. 根据权利要求3的干燥方法，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
8. 一种制造光学膜的方法，包括制造一种具有至少一层涂布膜的光学膜，前述至少一层涂布膜由权利要求1的干燥方法进行干燥。
9. 一种制造光学膜的方法，包括制造一种具有至少一层涂布膜的光学膜，前述至少一层涂布膜由权利要求2的干燥方法进行干燥。
10. 一种制造光学膜的方法，包括制造一种具有至少一层涂布膜的光学膜，前述至少一层涂布膜由权利要求3的干燥方法进行干燥。
11. 一种制造光学膜的方法，包括制造一种具有至少一层涂布膜的光学膜，前述至少一层涂布膜由权利要求5的干燥方法进行干燥。
12. 一种干燥涂布膜的设备，用于干燥施加到行走的带状柔性基底上的、含有有机溶剂的涂布液体的涂布膜，该干燥设备包括：
与带状柔性基底相对的位置处的加热器，该加热器设置在紧随涂布后的行走位置处，其中
当TW(℃)表示带状柔性基底的表面温度；TH(℃)表示加热器的表面温度；λ(W/m·K)表示空气的热传递系数；d(m)表示加热器与带状柔性基底(薄片)之间的距离；η表示热传递效率；以及σ表示斯蒂芬森麦克斯韦常数(5.670×10-8W/m2K4)时，QR/(QR+QC)所表示的辐射热传递比值为0.25以上0.60以下，其中QC和QR分别由下面的公式表示：
QC＝λ/d·(TH-TW)，其中QC表示通过空气的热传递，和
QR＝ησ{(TH+273)4-(TW+273)4}，其中QR表示通过辐射的热传递。
13. 根据权利要求12的干燥设备，其中
加热器是红外加热器，该红外加热器发射具有1μm以上15μm以下的波长，并且该红外加热器具有90％以上的红外发射率。
14. 根据权利要求12的干燥设备，其中
加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
15. 根据权利要求13的干燥设备，其中
加热器与带状柔性基底之间的距离是1mm以上10mm以下。
16. 根据权利要求12的干燥设备，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
17. 根据权利要求13的干燥设备，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
18. 根据权利要求14的干燥设备，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
19. 根据权利要求15的干燥设备，其中
加热器的表面温度是80℃以上130℃以下。
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|---|---|---|---|---|
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| DE102004044176A1 (de) * | 2004-09-13 | 2006-03-30 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Trocknungsverfahren für ein Haushaltsgerät und Haushaltsgerät zur Durchführung des Trocknungsverfahren |
| DE102005017152B4 (de) * | 2005-04-13 | 2007-02-08 | Lindauer Dornier Gmbh | Verfahren zum Trocknen von vorzugsweise plattenförmigen Produkten und Durchlauftrockner in Mehretagenbauweise |
| US7526879B2 (en) * | 2005-11-04 | 2009-05-05 | Lg Electronics Inc. | Drum washing machine and clothes dryer using peltier thermoelectric module |
| US7877895B2 (en) * | 2006-06-26 | 2011-02-01 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
| JP4901395B2 (ja) * | 2006-09-26 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法 |
| JP5235469B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-07-10 | 富士フイルム株式会社 | 乾燥装置及び光学フィルムの製造方法 |
| DE102008029379A1 (de) * | 2008-06-23 | 2009-08-13 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zum Beschichten bandförmiger Foliensubstrate |
| JP4934111B2 (ja) * | 2008-07-10 | 2012-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法 |
| JP5189424B2 (ja) * | 2008-07-10 | 2013-04-24 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法 |
| US9702623B2 (en) * | 2011-04-26 | 2017-07-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Drying device for hollow fiber membrane |
| DE102011102608A1 (de) * | 2011-05-27 | 2012-11-29 | ThermProTEC Asia UG (haftungsbeschränkt) | Verfahren und Vorrichtung zur Lösemittelrückgewinnung bei der Metallbandbeschichtung |
| US20130320605A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co, Ltd. | Device for Manufacturing Alignment Film |
| KR20150034973A (ko) * | 2013-09-27 | 2015-04-06 | 제일모직주식회사 | 건조장치 및 건조방법 |
| DE102014102833B3 (de) * | 2014-03-04 | 2015-05-21 | Solramic Ag | Trocknungsvorrichtung |
| CN112844966A (zh) * | 2019-11-27 | 2021-05-28 | 杭州纤纳光电科技有限公司 | 通风装置和涂布装置及使用该涂布装置制备的钙钛矿电池 |
| CN113723018A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-11-30 | 广东省科学院智能制造研究所 | 一种用于气浮风刀设计的流固耦合计算方法及装置 |
| CN113926630B (zh) * | 2021-09-26 | 2022-06-17 | 深圳市静宇鑫照明科技有限公司 | 一种led硅胶共挤防水灯带制作方法及led硅胶共挤防水灯带 |
| KR102561165B1 (ko) * | 2021-10-21 | 2023-07-28 | (주) 시온텍 | 박막 건조 모듈 및 이를 이용한 이온 교환막 제조 시스템 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5168639A (en) * | 1990-03-27 | 1992-12-08 | Pagendarm Gmbh | Method of and apparatus for condensing vaporous substances |
| JP2001170547A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2394889A (en) * | 1943-04-22 | 1946-02-12 | Blanchard Walter Joseph | Lubricating system |
| US3157476A (en) * | 1961-11-13 | 1964-11-17 | Hupp Corp | Radiant energy heat treating improvements |
| US3231985A (en) * | 1962-01-15 | 1966-02-01 | Hupp Corp | Heating, drying and curing apparatus and methods |
| US3271874A (en) * | 1965-01-28 | 1966-09-13 | Oppenheimer Suzanne Bohnen | Infra-red sublimation method and apparatus for freeze drying techniques |
| US3591767A (en) * | 1969-06-23 | 1971-07-06 | David Jeffrey Mudie | Radiant shrink tunnel |
| JPS5017126B1 (zh) * | 1970-08-20 | 1975-06-18 | ||
| AT321257B (de) | 1971-05-26 | 1975-03-25 | Koreska Gmbh W | Anlage zur Rückgewinnung flüchtiger Lösungsmittel |
| DE2149147C3 (de) | 1971-10-01 | 1978-10-12 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Nachbehandlung von Sinterkörpern aus Eisen, Kupfer und Zinn |
| US4279244A (en) * | 1977-12-15 | 1981-07-21 | Mcalister Roy E | Radiant energy heat exchanger system |
| US4924599A (en) * | 1985-11-04 | 1990-05-15 | American Screen Printing Equipment Company | UV curing apparatus |
| US5038361A (en) * | 1988-11-09 | 1991-08-06 | Wu Ching S | Paint drying furnace |
| JPH03132660A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料乾燥装置 |
| DE4105298C2 (de) * | 1990-02-21 | 1996-04-11 | Bando Chemical Ind | Tauchanlage zur Anbringung von Klebe- oder Haftmitteln an Seilen |
| JPH058373A (ja) * | 1991-07-03 | 1993-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ウエブの乾燥装置 |
| JPH058372A (ja) | 1991-07-03 | 1993-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ウエブの乾燥装置 |
| US5549756A (en) * | 1994-02-02 | 1996-08-27 | Applied Materials, Inc. | Optical pyrometer for a thin film deposition system |
| JPH07323257A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Kishimoto Akira | 有機被覆の短時間熱処理法 |
| US5603168A (en) * | 1994-11-30 | 1997-02-18 | The Coe Manufacturing Company | Method and apparatus for controlling a dryer |
| JP3616171B2 (ja) | 1995-09-04 | 2005-02-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 長尺状光学補償シートの製造方法 |
| US5853801A (en) | 1995-09-04 | 1998-12-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for the preparation of continuous optical compensatory sheet |
| US5694701A (en) | 1996-09-04 | 1997-12-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated substrate drying system |
| TW333658B (en) * | 1996-05-30 | 1998-06-11 | Tokyo Electron Co Ltd | The substrate processing method and substrate processing system |
| US5813133A (en) | 1996-09-04 | 1998-09-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated substrate drying system with magnetic particle orientation |
| JP3265238B2 (ja) * | 1997-08-01 | 2002-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 液膜形成装置及びその方法 |
| US6294219B1 (en) * | 1998-03-03 | 2001-09-25 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method of annealing large area glass substrates |
| JPH11254642A (ja) | 1998-03-16 | 1999-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 乾燥装置 |
| JPH11325727A (ja) * | 1998-05-13 | 1999-11-26 | Sky Alum Co Ltd | 遠赤外線乾燥機 |
| JP2000021727A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Asahi Optical Co Ltd | 半導体回路形成装置 |
| US6957690B1 (en) * | 1998-09-10 | 2005-10-25 | Asm America, Inc. | Apparatus for thermal treatment of substrates |
| JP2000157923A (ja) | 1998-11-26 | 2000-06-13 | Konica Corp | 塗布乾燥方法 |
| JP4699660B2 (ja) | 2001-09-27 | 2011-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法および装置 |
| JP3968505B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2007-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
| DE10147952A1 (de) * | 2001-09-28 | 2003-04-17 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Verfahren zur Trocknung von Beschichtungen auf Substraten für Lampen |
| JP4003163B2 (ja) * | 2002-01-15 | 2007-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 多層塗布膜の製造装置 |
| EP2610567A1 (en) * | 2003-03-26 | 2013-07-03 | Fujifilm Corporation | Drying method for a coating layer |
| JP4601909B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2010-12-22 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
| US6883250B1 (en) * | 2003-11-04 | 2005-04-26 | Asm America, Inc. | Non-contact cool-down station for wafers |
| JP2008265292A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | フィルム乾燥方法及び装置並びに溶液製膜方法 |
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5168639A (en) * | 1990-03-27 | 1992-12-08 | Pagendarm Gmbh | Method of and apparatus for condensing vaporous substances |
| JP2001170547A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
Also Published As
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