CN101097730A - 磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置 - Google Patents

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CN101097730A
CN101097730A CNA2007101269528A CN200710126952A CN101097730A CN 101097730 A CN101097730 A CN 101097730A CN A2007101269528 A CNA2007101269528 A CN A2007101269528A CN 200710126952 A CN200710126952 A CN 200710126952A CN 101097730 A CN101097730 A CN 101097730A
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樱井正敏
柏木一仁
喜喜津哲
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Abstract

本发明提供了一种磁记录介质，其包含：数据区域(1)，其中，在跨轨方向上形成多个记录轨道，每个记录轨道包含以间距p在顺轨方向上排列的磁点(5)；伺服区域(2)，其包含前序部分(3)，在前序部分(3)中，以相等的间隔在顺轨方向上形成磁点(5)的多条线，磁点(5)以间距p在跨轨方向上排列。

Description

磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置
技术领域
本发明一实施例涉及一种磁记录介质以及制造这种磁记录介质的方法，并涉及其中装有该磁记录介质的磁记录装置。
背景技术
在信息导向的现代社会中，信息量已经增加得越来越多。为了跟上这种以信息导向的社会，存在对具有急剧提高的记录密度的记录/再现方法以及基于这种记录/再现方法的记录/再现装置和记录介质的需求。为了满足这种需求，要求记录介质具有作为用于写入信息的最小单位的、更小的记录标志(recording mark)。然而，当前，难以减小记录介质中各记录标志的尺寸。
例如，在硬盘驱动器等磁记录介质的情况下，记录层包含具有宽广粒度分布的大量磁性结晶粒子。然而，由于热波动，用微小的磁性结晶粒子进行记录变得不稳定。如果记录标志大，不会产生问题。然而，如果记录标志小，这将导致记录的不稳定或者噪声的增加。其原因在于，如果记录标志小，则包含在记录标志中的磁性结晶粒子的数量减少。
为了避免这个问题，一种被称为图案化介质(patterned medium)的磁记录介质被认为是有效的。在这种磁记录介质中，形成由记录材料构成的微小磁点，使得微小磁点被非记录区域分隔。在图案化介质中，由非记录区域分隔的单个磁点成为单个记录标志。因此，可防止相邻记录标志之间的干扰。
存在这样的思路：使用光刻(lithography)技术以制造包含被分隔的磁点的图案化介质，然而，这种思路存在问题。具体而言，在光刻中，由于进行成批曝光而获得高的生产量，但难以充分加工小的记录单元。此外，尽管在电子束光刻或者聚焦离子束光刻中可进行几十纳米数量级的微细加工，但在这些技术中生产量较差。
在这些情况下，作为以低成本制造图案化介质的方法，已经研究出下面的方法。在这种方法中，利用了下述现象：通过精细聚合物粒子的细密填充或通过嵌段共聚物(block copolymer)的相分离(phase separation)，形成精细的周期结构。将这种精细的周期结构用作掩蔽模板对磁性膜进行加工，由此形成被分隔的磁点的阵列结构。
在嵌段共聚物的自组织化粒子二维分布在整个基底表面上的方法中，可以获得自组织化粒子以晶格形式排列的结构。然而，存在许多缺点和粒界，且晶格是随机定向的。因此，不能实现实用的记录/再现。
为了将通过自组织化粒子的阵列获得的图案用作图案化介质的磁点，已经提出了一种方法，其中，在盘基底上提供了例如同心或螺旋的突出部分与凹陷槽，且自组织化粒子沿着凹槽排列(参见日本专利申请KOKAI公开第2002-279616号)。自组织化粒子排列在凹槽中，且六角形晶格的晶轴在凹槽的长度方向上对齐。然而，在这种使用凹槽的自组织化粒子阵列加工中，难以写入伺服图案(servo pattern)。
也可通过某些其他光刻技术预先将伺服图案形成为磁性材料图案。然而，在这种方法中，磁图案的凹陷部分与突出部分之比在数据区域和伺服区域之间不同，其中，数据区域包含在自组织化粒子的基础上形成的磁点，伺服区域包含由其他光刻技术形成的磁图案。因此，存在一个问题：在记录/再现时，在介质上方发生头的振动，并且记录/再现变得困难。
发明内容
本发明的目的在于提供一种磁记录介质，这种磁记录介质可通过降低数据区域和伺服区域之间磁图案凹凸比的差来防止记录/再现时的头振动。
根据本发明的一个方面，提供了一种磁记录介质，其特征在于包含：数据区域，其中，在跨轨方向上形成多个记录轨道，每个轨道包含以间距p在顺轨方向上排列的磁点；伺服区域，其包含前序部分(preamble)，在前序部分中，以相等的间隔在顺轨方向上形成多条磁点线，这些磁点以间距p在跨轨方向上排列。
根据本发明的另一方面，提供了一种磁记录装置，该装置包含：上述的磁记录介质；读取头，其被附着到致动器臂并在磁记录介质上方在径向上移动，该装置的特征在于，在磁记录介质的前序部分中的磁点线沿着这样的曲线排列：该曲线对应于读取头在磁记录介质上的轨迹。
根据本发明的另一方面，提供了一种制造上述磁记录介质的方法，该方法的特征在于包含：在基底上形成磁性层和绝缘层；在绝缘层中形成沿着顺轨方向与记录轨道对应的凹槽以及沿着跨轨方向与前序部分对应的凹槽；用嵌段共聚物填充凹槽并产生嵌段共聚物的相分离，以便形成点状的聚合物粒子；将点状聚合物粒子用作掩模来蚀刻磁性层，以形成磁点。
在根据本发明的磁记录介质中，通过使用自组织化粒子，不仅形成数据区域中的磁点，而且形成伺服区域的前序部分中的磁点，并且可以在数据区域和伺服区域中减少磁图案的凹凸比之差，因此，可以防止记录/再现时的头的振动。
附图说明
附图并入说明书并构成说明书的一部分，其示出了本发明的实施例，并与上面给出的对实施例的一般介绍以及下面给出的详细介绍一起用于阐释本发明的原理。
图1为平面图，其示出了根据本发明一实施例的磁记录介质的一部分；
图2为平面图，其示出了本发明的实施例中的前序部分的形状；
图3A和3B用于阐释读取头的读取宽度和信号强度之间的关系；
图4A和4B示意地示出了制造根据本发明的实施例的磁记录介质的方法；
图5A、5B、5C、5D、5E和5F为截面图，其示出了制造根据本发明的实施例的磁记录介质的方法；
图6A和6B为平面图，其示出了伺服区域的形状和读取头的轨迹；
图7为根据本发明的实施例的磁记录装置的框图；
图8为示出一控制机构的框图，该控制机构用于定位根据本发明的实施例的磁记录装置的头；以及
图9为示出地址再现处理单元的框图，该单元是根据本发明的实施例的磁记录装置的通道中的。
具体实施方式
下面参照附图说明根据本发明的多个实施例。一般地，根据本发明一实施例，提供了一种磁记录介质，该介质包含：数据区域，其中，在跨轨方向上形成多个记录轨道，每个轨道包含以间距p在顺轨方向上排列的磁点；伺服区域，其包含前序部分，在前序部分中，以相等的间隔在顺轨方向上形成多条磁点线，其中，磁点以间距p在跨轨方向上排列。根据本发明另一方面，提供了一种制造上述磁记录介质的方法，其包含：在基底上形成磁性层和绝缘层；在绝缘层中形成沿着顺轨方向与记录轨道对应的凹槽以及沿着跨轨方向与前序部分对应的凹槽；以嵌段共聚物填充凹槽并产生嵌段共聚物的相分离，以便形成点状的聚合物粒子；将点状聚合物粒子用作掩模来蚀刻磁性层，以便形成磁点。
图1为平面图，其示出了根据本发明一实施例的磁记录介质的一部分。如图1所示，在数据区域1中，在跨轨方向上形成多个记录轨道。每个记录轨道包含以间距p在顺轨方向(由图1中的箭头示出)上排列的磁点5的线。在伺服区域2的前序部分3中，以相等的间隔(间隔s)在顺轨方向上形成磁点5的多条线，其中，磁点5以间距p在跨轨方向上排列。除前序部分3之外，伺服区域2还包含地址部分和脉冲(burst)部分(未示出)。
在这种磁记录介质中，磁点5以相同的周期排列在数据区域1和伺服区域2中。由于磁图案的凹凸比在数据区域1和前序部分3之间大体相等，改善了头在磁记录介质上方的悬浮稳定度。
根据本发明的实施例的磁记录装置包含上述磁记录介质和读取头，读取头被附着到致动器臂并在磁记录介质上方径向移动。由于致动器臂被音圈电机驱动并围绕枢轴旋转，组装在头滑动器——其由致动器臂远端部分上的悬架支撑——中的读取头在磁记录介质上方移动，以便画出弓形轨迹。
因此，如图2所示，优选为，磁记录介质的前序部分3中磁点5的线沿着与读取头的轨迹对应的曲线(弧)布置，如图2中的箭头所示。
在根据本发明的实施例的磁记录装置中，优选为，将读取头的读取宽度——其对应于伺服区域上的磁读取宽度——设置在磁点5的间距p的整数倍。
从根据本发明的实施例的磁记录介质中的前序部分产生用于执行定位的伺服区域参考信号。因此，不论读取头位于记录介质上的何处，需要产生同样强度的信号。因此，为了从前序部分——其上，在跨轨方向上形成以间距p排列的磁点线——获得具有恒定强度的信号而不论头的位置如何，优选为将跨轨方向上读取头的读取宽度设置在磁点间距p的整数倍。
下面参照图3A和图3B阐释读取头的读取宽度与信号强度之间的关系。
图3A示出了这样的情况：其中，读取头31的读取宽度是磁点5的间距p的1.5倍，即间距p的非整数倍。在这种情况下，包含在正好位于读取头31下方的区域范围中的磁点5的区域依赖于头的位置而变化，因此，由读取头31读取的磁点5的信号强度发生变化。因此，由于来自前序部分的信号强度的分布根据磁点5的间距p而波动，难以令人满意地执行前序部分的功能。
图3B示出了这样的情况：其中，读取头31的读取宽度是磁点5的间距p的2倍，即间距p的整数倍。在这种情况下，包含在正好位于读取头31下方的区域范围中的磁点5的区域无论头的位置如何总是恒定的，故由读取头31读取的磁点5的信号强度恒定。因此，在本发明的实施例的磁记录介质中，可以令人满意地执行前序部分的功能。
利用嵌段共聚物通过相分离而自组织化时产生的有序阵列结构，通过进行蚀刻，可制造出根据本发明的实施例的磁记录介质。
自组织化材料是这样的材料：材料本身以自组织化的形式形成规定的周期结构。自组织化材料不限于产生相分离的嵌段共聚物，可使用形成细密充填结构的聚合物珠(polymer bead)。然而，由于自组织化材料本身形成与基底上的方向以及位置无关的周期结构，有必要对自组织化阵列的方向和位置进行控制，以便制造出根据本发明的实施例的磁记录介质。
在根据本发明的实施例的方法中，在基底上形成磁性层和绝缘层。在绝缘层中形成沿着顺轨方向与记录轨道对应的凹槽以及沿着跨轨方向与前序部分对应的凹槽。利用凹槽中的嵌段共聚物的相分离，形成适当地排列的磁点。
下面参照图4A和4B的平面图，介绍制造根据本发明的实施例的磁记录介质的方法的概要。
如图4A所示，在基底上形成磁性层和绝缘层，通过光刻在绝缘层中形成用于引导自组织化材料的阵列的凹槽15。此时，在数据区域1中，以相等的间隔形成在顺轨方向上对应于记录轨道的凹槽15。在伺服区域中，以相等的间隔形成在跨轨方向上对应于前序部分3的凹槽15。
如图4B所示，如果在如上所述地形成的凹槽15中填充嵌段共聚物并在嵌段共聚物中引起相分离，点状聚合物粒子16沿着凹槽方向被规则地排列。结果，在数据区域1的记录轨道中，点状聚合物粒子16以间距p在顺轨方向上排列。在伺服区域的前序部分3中，点状聚合物粒子16以间距p在跨轨方向上排列。通过将如此形成的聚合物粒子16用作掩蔽模板对磁性层进行蚀刻，以便形成磁点。因此，可以形成根据本发明的实施例的磁记录介质(图案化介质)。
下面参照图5A、5B、5C、5D、5E和5F，更加详细地介绍制造根据本发明的实施例的磁记录介质的方法。
如图5A所示，在直径2.5英寸的玻璃盘基底11上形成磁性层12。磁性层12包含厚度大约为30纳米的Pd底层和厚度大约为50纳米的CoCrPt垂直磁记录层。在磁性层12上沉积厚度大约为50纳米的SiO2膜13。在SiO2膜13上旋涂抗蚀剂14。
如图5B所示，使用具有期望凹凸图案的预先制造的压模，通过纳米压印光刻对抗蚀剂14进行加工。在数据区域中，沿着顺轨方向同心地形成突出部分各自宽度为80纳米的抗蚀剂图案，且各自宽度为160纳米的凹槽介于其中。在伺服区域的前序部分中，沿着跨轨方向以弓形形状形成突出部分各自宽度为80纳米的抗蚀剂图案，且各自宽度为160纳米的凹槽介于其中。
如图6A所示，在盘基底上以弓形形状形成包含前序部分的伺服区域2。如图6B所示，沿着与致动器臂74、头滑动器76以及被装配在头滑动器76中的读取头在盘上的轨迹L对应的弧形形成伺服区域2。
将带有图案的抗蚀剂14用作掩模，通过RIE将SiO2膜13蚀刻为达到磁性层12的程度，并将凹槽15转写到SiO2膜13。如此形成的凹槽15用于记录轨道和前序部分。
如图5C所示，如下所述地用自组织化的嵌段共聚物填充在突出的SiO2膜13a之间的凹槽15。开始时，通过使用六甲基二硅氮烷的处理对凹槽15中的磁性层12的表面进行疏水处理。随后，对带有图案的抗蚀剂的残余物进行灰化(ashing)。制备一种溶液，其中，将聚苯乙烯(PS)-聚丁二烯(PB)的嵌段共聚物(PS的摩尔量Mw＝4000，PB的摩尔量Mw＝20000)以1％w/w的浓度溶解在甲苯中。将这种溶液旋涂在基底上，以便用嵌段共聚物填充突出的SiO2膜13之间的凹槽15。在真空中将基底在150摄氏度下热处理30小时。结果，形成有序阵列结构，其中，被海状的聚丁二烯17围绕的岛状聚苯乙烯粒子16以60纳米的间隔周期地排列。
如图5D所示，如下所述地将聚苯乙烯粒子的有序阵列用作掩模对磁性层12进行蚀刻，以便形成磁点。在对嵌段共聚物进行臭氧处理以去除聚丁二烯(PB)后，用水对结果产生的结构进行漂洗。将剩余的聚苯乙烯粒子16用作掩模，通过Ar离子铣削对磁性层12进行蚀刻，以便形成磁点。
如图5E所示，在对聚苯乙烯粒子16的残渣进行灰化后，将厚度大约为50纳米的SiO2膜18沉积在整个表面以填充磁点之间的凹陷部分，作为基质(matrix)。
如图5F所示，通过化学机械抛光(CMP)对SiO2膜18的表面进行抛光和平整。然后，沉积类似金刚石的碳以形成保护膜19。
在根据本实施例的磁记录介质中，将轨道间距设置在160纳米，并在记录轨道和前序部分中以60纳米的间距排列磁点。通过使用这种磁记录介质和具有读取宽度为120纳米的读取头的读/写头，制造磁记录装置。使用这种磁记录装置，由于介质的前序部分包含磁点的有序阵列，改善了头的悬浮稳定性。另一方面，使用其中安装了通过光刻形成的前序部分的磁记录装置，头在读/写时被振动并与介质接触，因此引起头的划碰(crash)。
图7示出了根据本发明一实施例的磁记录装置(硬盘驱动器)的框图。该附图示出了仅仅位于磁盘顶面上方的头滑动器。然而，垂直磁记录层在如上所述的磁盘的每侧上形成。分别在磁盘的底面和顶面提供了下头和上头。应当注意，除了所用磁盘是根据本发明的实施例的磁盘之外，驱动器构造类似于现有技术中的驱动器构造。
盘驱动器包含被称为头盘组件(HDA)100的主体单元和印刷电路板(PCB)200。
如图7所示，头盘组件(HDA)100具有磁盘71、转动磁盘的主轴电机72、包含读取头与写入头的头滑动器76、悬架75与致动器臂74、音圈电机(VCM)77和未示出的前置放大器(HIC)。头滑动器76具有包含GMR元件的读取头以及包含单极的写入头。
头滑动器76由设置在悬架75上的常平架有弹性地支撑。悬架75附着到致动器臂74，致动器臂74可旋转地附着到枢轴73。音圈电机(VCM)77产生围绕枢轴73的扭矩以便使致动器臂74在磁盘71的径向上移动头。前置放大器(HIC)被固定到致动器臂74，以便对到头的输入信号以及来自头的输出信号进行放大。前置放大器(HIC)经由软性印刷电缆(FPC)120被连接到印刷电路板(PCB)200。在致动器臂74上提供前置放大器(HIC)使得能够有效地降低头信号中的噪声。然而，前置放大器(HIC)可以被固定到HAD主体。
如上所述，在磁盘71的每侧上形成垂直磁记录层，并形成各自形状类似弧形的伺服区域以便对应于移动的头的轨迹。磁盘的规格满足被适配到特定驱动器的外径与内径以及读/写特性。由伺服区域形成的弧的半径被给出为从枢轴到磁头元件的距离。
在印刷电路板(PCB)200上安装了四个主要系统LSI。系统LSI为盘控制器(HDC)210、读/写通道IC 220、MPU 230和电机驱动器IC 240。
MPU 230是驱动系统的控制单元，并且包含ROM、RAM、CPU和逻辑处理单元，它们实现了根据本实施例的头定位控制系统。逻辑处理单元为算术处理单元，其由硬件电路构成以执行高速计算。逻辑处理单元的固件(FW)被存储在ROM中。MPU根据FW对驱动器进行控制。
盘控制器(HDC)210为硬盘驱动器中的接口单元，其通过和盘驱动器和主机系统(例如个人计算机)之间的接口以及和MPU、读/写通道IC、电机驱动器IC交换信息来管理整个驱动器。
读/写通道IC 220是与读/写操作相关联的头信号处理单元。读/写通道IC 220由这样的电路构成：该电路切换前置放大器(HIC)的通道，并且处理读/写操作中的读/写信号。
电机驱动器IC 240为音圈电机(VCM)77和主轴电机72的驱动单元。电机驱动器IC 240对主轴电机72进行控制、使得电机72能以恒定速度旋转，并且向VCM 77提供电流以驱动头移动机构，其中，该电流是根据来自MPU 230的VCM操纵变量确定的。
下面参照图8介绍用于头定位的控制机构。该附图为示出了头定位的框图。符号C、F、P和S表示系统传递函数。控制目标P具体对应于包含VCM的头移动装置。信号处理单元S具体由读/写通道IC和MPU(执行脱轨(off-track)检测处理的一部分)实现。
控制处理单元由反馈控制单元C(第一控制器)和同步补偿单元F(第二控制器)构成。控制处理单元具体由MPU实现。
下面将详细介绍信号处理单元S的操作。根据来自盘上在头位置(HP)的直下方的伺服区域的读取信号，信号处理单元S产生关于盘上的当前轨道位置(TP)的信息。
根据盘上的目标轨道位置(RP)与头在盘上的当前位置(TP)之间的位置误差(E)，第一控制器输出减小位置误差的FB操作值U1。
第二控制器为FF补偿单元，其对盘上的轨道的形状以及在与盘的旋转同步时发生的振动进行补偿。第二控制器在存储器表中存储预先校准的旋转同步补偿值。第二控制器通常根据由信号处理单元S提供的伺服扇区信息(未示出)来参照该表，以便在不使用位置误差(E)的情况下输出FF操作值U2。
控制处理单元将第一和第二控制器的输出U1和U2相加，以便经由盘控制器(HDC)210向VCM 77提供控制操作值U，从而对头进行驱动。
在初始化操作期间对同步补偿值表进行校准。当位置误差(E)变得等于或者大于设定值时，开始进行重新校准处理，以便更新同步补偿值。
下面简单介绍用于从伺服区域的读取信号中检测位置误差的方法。磁盘由主轴电机以恒定的旋转速度转动。头滑动器被设计为由设置在悬架上的常平架有弹性地进行支撑，并且保持与由磁盘旋转产生的气压平衡的很小的悬浮高度。因此，包含在读取头中的GMR元件从通过预定磁空间的磁盘的记录层检测漏磁通。磁盘的旋转使得磁盘中每个伺服区域以恒定的周期在头的直下方通过。通过根据来自伺服区域的读取信号检测轨道位置信息，可执行伺服处理。
在找到被称为伺服标志的伺服区域用识别标记时，盘控制器(HDC)可根据伺服区域的周期性预测伺服区域在头的直下方通过的时刻。因此，盘控制器(HDC)使通道在当前序部分将在头的直下方通过时开始伺服处理。
下面参照图9的框图介绍该通道中的地址再现处理。来自前置放大器IC(HIC)的读出信号被装载到通道IC中，并受到均衡器的模拟滤波处理(纵向信号均衡处理)，然后，被模-数转换器(ADC)采样为数字值。
来自根据本实施例的磁盘的漏磁通是对应于磁图案的垂直场。然而，通过前置放大器(HIC)的高通特性和通道IC的较早级中由均衡器进行的纵向均衡处理，从漏磁通中去除了所有的DC偏移分量。结果，在模拟滤波处理后来自前序部分的输出信号变为几乎为疑似正弦波。
通道IC根据读取信号相位来切换处理。具体而言，通道IC执行例如使读取信号时钟与介质图案周期同步的同步引入处理、读取扇区和柱面数据的地址读取处理以及用于检测脱轨量的脉冲处理(burst process)。
下面简单介绍同步引入的处理。在这种处理中，执行将ADC采样的时刻与正弦读取信号同步的处理以及将数值采样值信号幅度在特定等级进行匹配的AGC处理。在四个点采样介质图案的比特1和0的周期。
在地址读取处理中，采样值在FIR中受到噪声降低，然后，由维特比解码处理根据最大似然估计或者由格雷码逆变换处理转换为扇区和轨道数据。这使得可以获取头的伺服轨道信息。
然后，通道转移到在脉冲扇区中检测脱轨量的处理。这种处理没被示出，但其如下进行。信号幅度以脉冲信号模式A、B、C和D的顺序受到采样保持积分。对应于平均幅度的电压值被输出到MPU。然后，伺服处理中断被发送到MPU。在接收到中断后，MPU使用内部ADC以时间序列的方式装载脉冲信号。DSP于是将该信号转换为脱轨量。根据脱轨量和伺服轨道信息，精确地检测头的伺服轨道位置。
尽管介绍了本发明的特定实施例，但这些实施例仅通过示例给出，并不对本发明的范围进行限定。事实上，这里所介绍的新方法和系统可以用多种其他形式实施；另外，在不脱离本发明的精神的情况下，可进行对这里所介绍的方法和系统的形式上的多种省略、替换和改变。所附权利要求及其等同内容涵盖属于本发明精神和范围中的这些形式或修改。
本领域技术人员将会容易地想到其他的优点和修改，因此，本发明在其更广的实施形态中不限于这里示出和介绍的具体细节和代表性实施例。因此，在不脱离由所附权利要求及其等同内容限定的总体发明构思的精神和范围的情况下，可以进行多种修改。

Claims (4)

1.一种磁记录介质，其特征在于包含：
数据区域(1)，其中，在跨轨方向上形成多个记录轨道，每个所述记录轨道包含以间距p在顺轨方向上排列的磁点(5)；以及
伺服区域(2)，其包含前序部分(3)，在所述前序部分(3)中，以相等的间隔在顺轨方向上形成以间距p在跨轨方向上排列的磁点(5)的多条线。
2.一种磁记录装置，该装置包含：
根据权利要求1的磁记录介质；以及
读取头，其被附着到致动器臂，并在所述磁记录介质上方径向移动，
该装置的特征在于，在所述磁记录介质的所述前序部分(3)中，所述磁点(5)的线沿着这样的曲线排列：该曲线对应于所述读取头在所述磁记录介质上方的轨迹。
3.根据权利要求2的磁记录装置，其特征在于，所述读取头的读取宽度是所述磁点(5)的所述间距p的整数倍。
4.一种制造根据权利要求1的磁记录介质的方法，其特征在于包含：
在基底(11)上形成磁性层(12)和绝缘层(13)；
在所述绝缘层(13)中形成沿着所述顺轨方向对应于所述记录轨道的凹槽以及沿着所述跨轨方向对应于所述前序部分的凹槽；
用嵌段共聚物填充所述凹槽并产生所述嵌段共聚物的相分离，以便形成点状的聚合物粒子(16)；以及
将所述点状聚合物粒子(16)用作掩模对所述磁性层(12)进行蚀刻，以便形成磁点。
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