CN100374885C - 薄膜和光学防伪元件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种薄膜(2),尤其是一种压印薄膜、层压薄膜或粘性薄膜,以及一种光学防伪元件。该薄膜包括了一个载体层(21)和复制层(23)。该薄膜还包括一个液晶材料层(24),后者敷设在复制层之上。衍射结构(27)压印在复制层的表面内,其朝向液晶材料层并用于对液晶材料进行取向,所述衍射结构具有至少两个部分区域,分别具有压印结构的不同取向方向。
Description
技术领域
本发明涉及一种基片,尤其是一种薄膜,压印薄膜、层压薄膜或粘性薄膜,其包括载体层和复制层。本发明还涉及一种具有复制层的光学防伪元件,其用于钞票、信用卡以及类似物品的防伪。
背景技术
已知在液晶显示技术领域中,液晶聚合物(液晶聚合物=LCP)的取向和取向层相关。其中聚酰亚胺层主要靠机械刷工艺来取向。工艺的第二个步骤中把液晶聚合物敷设到取向层上,然后在该取向层上取向。
此外EP 1 227 347具体说明了光敏聚合物层上LCP的取向。
在这种情况下,借助于喷墨打印机把第一取向层印制到基底上,该取向层包括一种光敏聚合物,其在偏振光照射下能够按照给定的取向方向进行取向。该层目前受偏振光照射。然后借助于喷墨打印机把一个液晶材料层敷设到取向层上,并提供必要的条件,由此液晶材料被取向排列。随后用紫外光(UV)使液晶层硬化。
关于这个方面,也可以在基片上使用两个相互叠加的取向层。此时这两个层分别受不同方式的偏振光照射,因而提供了不同取向方向的取向层,这些层相互叠加。由于采用了重复镀膜工艺以及对各个相互叠加的光敏聚合层相应的模式形状设置,能够获得一个包括了不同取向的区域。
WO 01/60589提出了使用切割工具在LCD显示屏的取向层上形成相互交叉的沟槽。这使得在该区域内一部分分子在一个方向上被取向,而另一部分分子在另一个方向上被取向。
发明内容
现在本发明的目的在于改进光学防伪元件和/或装饰性薄膜的制备。
该目标达到方式如下:一个基片,尤其是薄膜、压印薄膜、层压薄膜或粘性薄膜,其包括一个载体层,复制层以及一个液晶材料层,后者敷设在复制层上,并且其中衍射结构压印在复制层表面上,其面对着液晶材料层并用于液晶材料的取向,所述衍射结构包括至少两部分区域,其分别有压印结构的不同取向方向。该目标还可以如下获得:一种用于钞票、信用卡以及类似物品防伪的光学防伪元件,其包括复制层和一个液晶材料层,后者敷设在复制层之上,并且其中衍射结构压印在复制层表面上,其面对着液晶材料层并用于液晶材料的取向,所述衍射结构包括至少两部分区域,其分别有压印结构的不同取向方向。
本发明使得在特定区域内对液晶取向成为可能,而且在不同取向方向上具有很高的精度,从而其能够产生不同类型的只能在偏振光下可见的光学安全特征,因此具有明显且容易检测的特性。通过这种方法能够获得很高的防伪精度。另外生产工艺得到了简化、生产速度得到了提高并且降低了成本。因此例如使用光敏聚合物时,必须实现相当昂贵的曝光步骤和/或生产昂贵的遮光板。
在此,单体和聚合体形式的液晶材料都可当作液晶材料使用。
如果衍射结构具有涂覆了液晶材料层的一个区域,并且在该区域中能连续改变结构的取向方向,就可以获得光学安全特征,尤其是防伪特征。如果借助于该类型的衍射结构获得的安全特征在旋转偏振方向的偏光镜下可见,那么由于安全元件的偏振方向呈线性变化,就能够制备出各种清晰的识别安全特征,例如运动效应。
另外对于涂覆了液晶材料层的相互毗连的区域也期望能够提供衍射结构的不同的取向方向。
此外,衍射结构可以具有第一个区域用于液晶材料取向,其被液晶材料层覆盖,而衍射结构的第二个区域用于产生光学衍射效应,例如全息图或开诺全息照片。这样,能够在一个相同的层上产生相互并置的基于偏振效应的安全特征和基于衍射效应的安全特征。使用这种方法能够生产具有很高的防伪精度的安全元件,并且生产成本很低。这提供了使用一种相同的处理步骤来产生两种不同光学效应的基础。
对于该方面,如果第一区域产生的偏振表征和第二区域产生的全息表征构成了相互补充的表征,则更为有利。例如,全息表征表示一棵树,而其叶子由偏振表征构成。因此偏振表征和全息表征的内容互补,这样一种表征的变化能立即根据另一种表征观察出来。这进一步提高了防伪精度。
目前已经进一步证明了使用衍射结构的优点,其中产生光学效应的第一结构和用于液晶材料取向的第二结构互相叠加。已经证明如果第二个结构的空间频率大于第一个结构和/或其结构断面高度大于第一个结构,叠加第二个结构能够使液晶材料分子充分取向。在此如果第二个结构的空间频率至少是第一个结构空间频率的十倍或者如果第二个结构的空间频率大于2500行/毫米(即周期小于400nm),都能够获得相当好的取向效果。
该基本理论的使用能产生大量新颖的光学可变元件,其一方面产生了由宏观结构、无光结构、全息图或开诺全息照片产生的独立偏振光学效应,另一方面产生了由取向排列液晶产生的偏振效应。
组合使用各向同性的无光结构(没有最佳散射方向)具有的优点是:复制层和液晶材料之间可能存在的折射率差值或者是液晶取向缺陷引起的阴影效应或模糊现象得到了补偿并且也不可见。这种方法还提供了一种附加的拷贝防护。偏振光散射防止通过基于光敏聚合物的曝光处理而产生缺陷足够少的取向层。
对于液晶材料层还希望在模式设置下仅局部地覆盖衍射结构。这提供了更多的设计方案选择。
提供一种覆盖液晶材料层的保护胶漆层已经被证明较为有利。
改变衍射机构的断面高度也是很有利的,而且利用该高度能产生仅在偏光镜下可见的彩色效应。
根据本发明的一个优选实施例,该薄膜具有一个附加层,其带有附加的光学效应衍射结构,或者该附加的效应衍射结构压印在复制层的表面上,其远离液晶材料层。光学效应衍射结构能够获得光学衍射安全特征和仅在偏振光下可识别的安全特征的又一种组合。如果该附加的光学效应衍射结构局部地叠加在作为取向层的衍射结构上,就能够获得这些效应的叠加。另外,精确地对准排列两个衍射结构能够使这些结构表示的光学信息的内容互补。
另一种提高防伪精度的可行的方法是该薄膜附加具有一个薄膜层系统和/或其他安全特征,例如局部脱金属化。具有一个反射层也是可行的,尤其是金属层或HRI层,由此安全元件就是反射或局部反射形式的安全元件。另外(局部或全部)胆甾型液晶层也可以用作反射器。
组合使用包括液晶材料和上述具有光学衍射效应的层、干涉层和/或反射层能够为安全元件提供很高的防伪精度,通过叠印或互补使其安全特征充分的互相盘绕,因此也使得制备过程很困难。另一个优点则在于可以把人眼可识别的安全特征和仅在偏振光下可识别的安全特征进行叠加,从而又叠加出了一个不可见的机器读取的安全特征。
光学安全特征也可以是两部分安全元件的形式,其中一部分元件有复制层和液晶材料层,而第二部分的元件有一个偏光镜,用于检验液晶材料层产生的安全特征。由此通过第二个局部特征来观察第一个局部特征,用户可以检验肉眼不可识别的安全特征。
如果两个部份元件都有一个液晶材料层施加到各自的复制层上,则具备了附加的优点,其中衍射结构压印在复制层上用于液晶材料的取向,其包括至少两个局部区域,分别包括压印结构不同方向的取向。两个局部元件的安全元件互补,这样借助第二个局部元件来观察第一个局部元件,用户能够检查肉眼不可见的第一个局部元件的安全特征。
附图说明
下面参照附图并借助几个实施例来具体描述本发明,其中:
图1是本发明中具有光学防伪元件的安全凭证的示意图,
图2给出了本发明中压印薄膜的断面图,
图3给出了本发明中粘性薄膜的断面图,
图4给出了本发明中应用到价值凭证(value-bearing document)的光学防伪元件的示意剖视图,
图5a给出了本发明的光学防伪元件的平面图,
图5b给出了图5a中光学防伪元件的剖视图,
图6a到图6e给出了用于液晶材料分子取向排列的衍射结构的示意图,
图7给出了本发明第一个实施例中薄膜的剖视图,
图8给出了本发明第二个实施例中薄膜的剖视图,
图9给出了本发明第三个实施例中光学防伪元件的剖视图,
具体实施方式
图1给出了安全凭证1,其包括一个载体元件13和光学防伪元件,后者包括两个局部元件11和12。
安全凭证1是例如钞票、身份证或护照、票据或软件证书。载体元件13包括纸张或弹性塑性材料。
局部元件12包括一个偏光镜,其大小与载体元件13的窗口相配合,或将其置于载体元件13的透明区域上。用户弯曲载体元件13就能够通过局部元件12观察局部元件11,由此使局部元件11产生的偏振效应可见。
安全凭证也可以省略局部元件12,仅使用局部元件11。
在这种情况下,载体元件13也包括一个弹性材料,这样安全凭证1例如是信用卡。在这种情况下,载体元件13包括一个传统的塑性卡,其正面例如浮刻了卡持有者的名字。对于该塑性卡也可以在光学防伪元件区域设置一个透明区域,这样光学防伪元件就是一个透射式的光学防伪元件。
现在参看图2到9来阐述本发明中制备和设计光学防伪元件的各种可行方法,其也用作图1中的局部元件11。
图2给出了一个压印薄膜2,其包括六个层21、22、23、24、25和26。
层21是一个载体层,例如其厚度在12μm和50μm之间,由聚酯膜构成。层22、23、24、25和26构成了压印薄膜2的传输层阵列。
层22是一个分离或保护胶漆层,其优选厚度在0.3到1.2μm之间。该层也可以省略。
层23是一个复制层,并借助压印工具把衍射结构压印在其上。复制层23优选使用透明的热塑材料,例如通过印刷工艺制成。
关于复制漆层的成分,例如如下所示:
成分 比重
高分子PMMA树脂 2000
无油聚硅酮醇酸 300
非离子表面活性剂 50
低粘度硝化纤维 750
甲基乙基酮 12000
甲苯 2000
双丙酮醇 2500
载体层21包括厚度为19μm的PET膜,通过行光栅凹版印刷辊把上述复制漆层敷设在其上,尤其在干燥后的涂层厚度为2.2g/m2。干燥过程在温度为100到120℃之间的干燥通道内实现。
随后借助于一个模具例如使用镍把衍射结构27压印在层23上。该模具最好进行电加热以压印衍射结构27。压印操作完成后,把模具从层23提起之前要对其再次冷却。衍射结构27压印在层23上之后,使用交联或其他方式把复制漆层硬化。
层24是包括液晶材料(LC=液晶)的液体。层24的优选厚度为0.5μm到5μm。原理上可以使用所有类型的具有期望光学特性的液晶材料。该方面的实例包括瑞士巴塞尔Vantico AG系列的OPALVA ò液晶材料。
随后使用一定加热技术在作为取向层的层23上对液晶进行取向。接下来将液晶材料进行UV硬化以固定液晶分子的取向。
印刷一个层也是可行的,其包括了在干燥过程中耐溶剂的液晶材料,而且在溶剂蒸发期间根据衍射结构27对液晶分子进行取向。也可以通过印刷过程制备一个无溶剂的液晶材料,取向后用交联方法进行固定。
层25是一个保护胶漆层,其通过印刷过程敷设到层24上。层25也可以省略。层25的厚度为0.5μm到3μm之间,其最好包括可UV交联的丙烯酸酯及抗磨损的热塑丙烯酸酯。
层26是一个粘性层,例如其使用了热活胶粘剂。
为了将压印薄膜2施加于需防护的安全凭证或物品上,通过由层21至26顺序形成的转换层,印花薄膜2被施加于需要防护的安全凭证或物品上,然后在热激活下将其压在安全凭证或物品上。此时由于转换层阵列被粘性层26连接在需防护的安全凭证或物品的相应表面上。由于产生热的原因,转换层阵列接着便脱离了载体层21。此时使用蜡状分离层22便于从载体层21上脱离转换层阵列。
压印薄膜还可以是另一种类型的薄膜,例如层压薄膜。此时层22将被附加层所代替,其能够增加对载体的粘着性。
图3示出了一个包含四个层31,32,33和34的粘补层3。
层31是一个厚度在12μm至15μm之间,包括了透明的、部分透明的或非透明的聚酯材料的载体层。层32是一个压印了衍射结构35的复制层。层33是一个液晶材料层,而层34是一个保护胶漆层。在此层32,33和34类似于图2中的层23,24和25。层34也可以省略。
图4给出了一个光学防伪元件4和一个施加了光学防伪元件4的基片47。基片47是一个需防护的安全凭证,如图1中所示的载体元件13。光学防伪元件4有五个层41,42,43,44和45。层41是一个保护胶漆层。层42是一个压印了衍射结构46的复制层。层43是一个液晶材料层,层44是一个保护胶漆层,并且层45是一个粘着层,其把层44粘着于层47上。层41,42,43,44和45类似于图2中的层21,22,23,24,25和26。
现在进一步参考图5a,其给出了形成衍射结构27,35和46的其他可行方法。
图5a给出了一个可分割为区域61、62和63的光学防伪元件6。
区域61,62和63的整个表面上压印了衍射结构。衍射结构包含多个互相平行并置的允许液晶分子取向的凹槽。例如那些凹槽的空间频率在300到3000行/毫米之间,并且剖面深度在200nm和600nm之间。可以设想更浅的深度,例如50nm。空间频率设置在1000至3000行/毫米的衍射结构能够获得尤其好的取向结构。在此这些凹槽的纵向表示衍射结构的取向方向。
还可以进一步改变凹槽的剖面深度。对于液晶材料的使用,例如借助于涂刷器或刮刀部件能够在薄膜的不同区域形成不同厚度的液晶材料层。这样便形成了只有在偏光镜下才能识别的彩色效应。
这些效应可进一步通过在印刷过程中以区域状方式将不同深度的液晶材料填充到深的凹槽而获得(例如借助于合适的具有不同应用深度的栅辊和/或使用腔型刮刀元件)。
使用适当的载体材料也能产生色彩和图案的相互作用,例如借助于双折射。这种情况下,通过特定设置了液晶材料的取向方向,由于液晶和结构化载体材料的互相作用也能够产生吸引人的色彩的相互作用(例如通过改变结构层中的角度或形成扭索饰图形)。
衍射结构的取向方向在区域61,62和63中是不同的。因此,区域61具有多个平行、水平排列的凹槽,区域62具有多个垂直排列的平行凹槽,并且区域63具有多个与垂直方向成30°倾斜的平行凹槽。区域61中衍射结构是水平取向的,区域62中是垂直的,而区域63中是与垂直方向成30°倾斜的。
此外衍射结构可以通过多个凹槽形成,其中取向方向沿凹槽变化。因此,在区域61中衍射结构的取向方向可以沿水平或垂直轴向连续变化。这样便会产生运动效应或灰度级形态。
另外,光学防伪元件6可以含有多个区域,其分别具有压印结构的不同取向方向,这些区域的大小优选低于人眼能够分辨的范围。这些区域构成了不同的、相互偏振叠加表示的像素,像素被看到的多少取决于入射光的偏振方向。
此外,衍射结构可以仅被压印到区域62内用于对液晶材料的取向,而且对于区域61和63内的衍射结构用来产生光学衍射效应,尤其用来产生全息图、开诺图或类似图案。
如图5b所示,光学防伪元件6具有一个复制层65,一个液晶材料层66和一个粘着层67。衍射结构68被压印到复制层65上。
复制层65,层66和粘着层67分别类似于图2所示的层23、24和26。
如图5b中所示,局部地把层66印刷到区域62内的复制层62上。在区域61和63,衍射结构68没有涂覆液晶材料,以至于在那些区域不会出现取向液晶分子产生的偏振效应。相应的仅在区域62中产生了偏振表征。相反,在区域61和63中便会产生由衍射结构68造成的光学衍射效应。
因此,光学防伪元件6便产生了一个光学表征,其包含区域62中的偏振表征及区域61和63中的两个侧面全息表征。
全息表征和偏振表征优选是内容互补的表征。例如形成了普通文字或图形的表征。依靠分别选择对普通图形和文字的表征,在任意表征中可以互相并置的排列两个或多个区域61至63。例如,可以假定全息树的表征中的树叶由偏振表征形成,由此只能在偏振光下或借助于偏光镜才能看到。
此外,可以使用叠加了产生光学效应的第一结构以及进行液晶材料取向的第二结构的衍射结构。在此,如果第二结构包括更高的空间频率(粗结构--微细结构)和/或比第一结构更深的剖面深度,便可由第二结构对液晶分子取向。
下文将参照图6a至图6e给出的衍射结构51至55的图形表征来进行描述。
衍射结构51是附加叠加了一个微细结构,例如零级衍射结构,以及显微结构、作为光散射结构的粗结构。显微结构、作为光散射结构的粗结构是包含了同向或异向散射无光结构,开诺图或傅立叶全息图的组中的一个结构。
此外,还可以把具有小于300行/毫米的宏观结构作为粗结构,由此液晶产生的偏振效应被宏观结构产生的偏振相关光效应所叠加。对于该实例,锯齿状剖面或微棱镜可被用作宏观结构。
衍射结构52至55中每一个都分别有衍射可见入射光的结构,该结构剖面高度的浮雕功能在于将一个高频浮雕结构R(x,y)叠加于一个低频光栅结构G(x,y)。低频光栅结构G(x,y)具有公知的剖面,例如正弦,矩形,对称或不对称锯齿状剖面等等。高频浮雕结构R(x,y)包括的空间频率fR最好为至少2500行/毫米。另一方面,低频光栅结构G(x,y)的低频光栅空间频率fG低于1000行/毫米。光栅空间频率fG的值优选位于100行/毫米到500行/毫米之间。
浮雕结构R(x,y)的浮雕剖面高度hR数值范围在150nm到220nm之间;但浮雕剖面高度hR优选从170nm到200nm的较窄范围内选择。光栅结构G(x,y)的光栅剖面高度hG选定为大于浮雕剖面高度hR的数值。光栅剖面高度hG的数值范围优选位于250nm到500nm之间。
低频光栅结构G(x,y)把不依赖于光栅空间频率fG的入射光衍射成多个衍射级别,并相应产生了光学衍射效应。高频浮雕结构用于液晶材料的取向。
图6b中给出的衍射结构B(x)是将正弦光栅结构G(x)和正弦浮雕结构R(x)加性叠加的结果,也就是说B(x)=Gx)+R(x)。光栅结构G(x)的光栅向量和浮雕结构R(x)的浮雕向量是基本平行取向。
图6c中给出了一个衍射结构B(x),其中光栅向量和浮雕向量在x和y的坐标平面内的方向相互垂直。对于该实施例,正弦光栅结构G(x)仅仅是坐标x的函数,而正弦浮雕结构R(y)仅仅取决于坐标y。光栅结构G(x)和浮雕结构R(y)的加性叠加得到了同时取决于坐标x,y的衍射结构B(x,y),其中B(x,y)=G(x)+R(y)。为了便于图示清楚,在图6c中浮雕结构R(y)的前后排列的凹陷界面用密度变化的浮点图案采表示。
图6d中的衍射结构B(x)是一个乘法叠加B(x)=G(x)·{R(x)+c}。光栅结构G(x)是一个具有函数值[0,hG]、周期为4000nm,并且剖面高度hG=320nm的矩形函数。浮雕结构R(x)=0.5·hR·sin(x)是一个周期为250nm并且浮雕高度hR=200nm的正弦函数。C表示一个常数,这里C=hG-hR。衍射结构54被调制到浮雕结构R(x)的矩形结构抬升表面上,同时矩形结构的沟槽底部上的衍射结构54是平滑的。
图6e中矩形光栅结构G(x)和浮雕结构R(y)的乘性叠加便产生了衍射结构B(x,y)。除了衍射结构53的y坐标方向上点的浮雕向量,光栅结构G(x)和浮雕结构R(y)具有相同的参数。
此外,薄膜2和3及光学防伪元件4和6可以具有压印了光学效应衍射结构的附加层。附加层可由金属构成,可借助干涉来形成产生了色偏和/或具有反射特性的薄膜层系统。对于这些层的局部配置结构可能获得更好的效果。
现在将参照图7到9来介绍薄膜2和3及安全元件4和6中的附加层。
图7给出了一种压印薄膜7,其包含载体层71和具有层72,73,74和75的转换层阵列。层72是一个保护胶漆层。层73是一个压印了衍射结构761,762,及763的复制层。层74是一个反射层,而层75是一个粘着层。
压印薄膜7的区域771至774中分别具有不同的配置特征。
层71,72,73和75分别类似于层21,22,23和26。层74是一个很薄的汽相沉积金属层或一个HRI层(HRI=高折射率)。金属层的材料主要是铬,铝,铜,铁,镍,银或金或这些材料的合金。
反射层74可以部分及以整体形成,从而产生一个在区域关系方式下具有反射或透射特性的光学防伪元件。
衍射结构761和762被分别压印到压印薄膜7的区域771和774内。衍射结构763被压印到压印薄膜7的区域772,773和774中的复制层73上。衍射结构761和762以及另一方面的衍射结构763被压印在复制层73的相反的两面上,衍射结构762和763在区域774中以相互叠加关系设置。层74仅以区域状方式设置在复制层73上,这样只在区域774和772中的衍射结构763涂覆了液晶材料层。
区域771至774中相应产生的不同的光学效应如下:
衍射结构761会在区域761中产生衍射效应,这会产生反射全息表征。衍射结构763会在区域762和773中产生相互并置的反射偏振表征和反射全息表征,正如图6的实施例所示。衍射区域762在区域774中产生的光衍射效应被叠加了层74产生的偏振效应,使得全息表征随入射光偏振方向的变化而改变。
图8给出了一个粘补膜8,其包括六个层81,82,83,84,85和86。层81是一个载体层。层82和85是复制层,其上分别压印了衍射结构87和88。层83是液晶材料层。层84和86是粘着层。
层81,82和85,83以及84和86分别类似于图3所示的层31,32,33和34。
粘补膜的制备类似于图3中的粘补膜3。随后的流程借助于层压薄膜把带有衍射结构88的复制层85和粘着层86层压到使用该方法产生的薄膜主体上。
除了图8所示的定位衍射结构87和88,衍射结构87和88的定位也可以类似于图8所示的衍射结构763,761和762,并组合使用了一个部分成型层83。由此可以借助于图8中的层结构获得与图7的层结构相同的效果。
层83还可以位于层85之下,这样衍射结构87仅具有光学衍射效应。
图9给出了一个光学防伪元件9,其包括五个层91,92,93,94和95。层91是一个复制层,其上压印了衍射结构96。层92是液晶材料层。层94是一个反射层。层93和92形成了一个薄膜系统,其通过干涉产生了依赖于视角的色偏。层95是一个粘着层。
层91,92和95类似于图2所示的层23,24和26。层94类似于图7所示的层75。
薄膜层系统包括了一个吸收层(优选透射率在30到65%之间),一个作为色差产生层的透明间隔层(λ/4或λ/2层)以及一个光分离层(作为透射元件)或一个反射层(作为反射元件)。此时间隔层的厚度应如下选择,使用反射元件时要满足λ/4的条件,而使用透射元件时要满足λ/2的条件,其中λ优选位于观察者可见的光波范围内。
吸收层可以包括下列一种材料或下列材料的合金:铬,镍,钯,钛,铜,铁,钨,氧化铁或碳。
光分离层可以使用特定材料,例如氧化物,硫化物或硫族化物。选择材料的关键因素是考虑其相对于间隔层材料的折射率的差值。该差值优选应不小于0.2。因此使用HRI材料还是LRI材料(HRI=高折射率;LRI=低折射率),其取决于间隔层使用的材料。
另外根据一连串的高折射和低折射层,也能够组成一个薄膜层序列,其由于干涉而产生了依赖于视角的色偏。如果使用了该类型的层结构,也可以省略吸收层。该类型的薄膜层序列中的高折射和低折射层分别构成了一个必须遵循上述条件的光学效应间隔层。使用的层数越多,就能够相应的使波长的色差效应越清晰。对此较为有利的是该类薄膜层序列由2到10层(偶数变量)或3到9层(奇数变量)之间的层数组成。
WO 01/03945中第5页的第30行到第8页的第5行之间的内容公开了该类型的薄膜层序列的常用实例以及该类型的薄膜层序列在理论上可以使用的材料实例。
衍射结构96的区域内,薄膜层系统93产生的光学干涉效应因此与层92产生的偏振效应相叠加。因此薄膜层系统93产生的依赖于视角的色差效应仅在光学防伪元件9的部分区域内依赖于入射光的偏振方向。另外对于类似于图6所示的衍射结构68和层66的衍射结构96和层92,也能够获得衍射效应、光学衍射效应和偏振效应的组合效应。
Claims (26)
1.一种薄膜(2,3),其包括一个载体层(21,31)、一个复制层(23,32)和位于载体层和复制层之间的分离层(22),
其特征在于,该薄膜还包括一个液晶材料层(24,33),其敷设在复制层(23,32)之上,且衍射结构(27,35)压印在复制层(23,32)表面上,其朝向液晶材料层(24,33)以对液晶材料取向,所述衍射结构具有至少两个部分区域,分别具有压印结构的不同取向方向,并且液晶材料层的液晶分子根据衍射结构进行取向。
2.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,衍射结构具有一个结构取向方向持续变化的并涂覆了液晶材料层的区域。
3.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,衍射结构具有互相毗连且取向方向不同的区域,且其涂覆了液晶材料层。
4.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,衍射结构(68)具有被液晶材料层(66)覆盖的第一区域(62)用于对液晶材料取向,还在于衍射结构(68)具有第二区域(61,63)用于产生光学衍射效应。
5.如权利要求4中所述的薄膜,其特征在于,第一区域(62)产生的偏振表征和第二区域(61,63)产生的全息表征构成了一个互补的表征。
6.如前述任一权利要求中所述的薄膜,其特征在于,衍射结构具有一个区域,其中衍射结构(51到55)由产生光学效应的粗结构和具有更高空间频率并用于对液晶材料取向的微细结构叠加形成。
7.如权利要求6中所述的薄膜,其特征在于,该微细结构具有小于400nm的周期。
8.如权利要求6中所述的薄膜,其特征在于,该微细结构的空间频率比粗结构的空间频率至少高十倍。
9.如权利要求6中所述的薄膜,其特征在于,该粗结构是一个光散射结构。
10.如权利要求6中所述的薄膜,其特征在于,该粗结构是空间频率小于300行/毫米的宏观结构。
11.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,衍射结构具有一个区域,其中衍射结构由产生光学效应的第一结构和具有更大剖面深度并用于对液晶材料取向的第二结构叠加形成。
12.如权利要求11中所述的薄膜,其特征在于,第二结构的剖面深度比第一结构至少大100nm,其中第二结构的剖面深度是250nm到400nm之间的特定值。
13.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,液晶材料层局部地以图形方式覆盖衍射结构。
14.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,其中液晶材料层具有局部的不同厚度。
15.如权利要求1中所述的薄膜(2,3),其特征在于,该薄膜具有一个保护胶漆层(25,34)覆盖在液晶材料层(24,33)之上。
16.如权利要求1中所述的薄膜(8),其特征在于,该薄膜(8)还具有一个附加层,其具有附加的光学效应衍射结构(88)。
17.如权利要求1中所述的薄膜(7),其特征在于,附加的光学效应衍射结构(762,761)压印在复制层(73)的表面上,后者远离液晶材料层。
18.如权利要求16或17中所述的薄膜,其特征在于,附加的光学效应衍射结构至少局部地覆盖了衍射结构。
19.如权利要求16中所述的薄膜,其特征在于,附加的光学效应衍射结构仅部分覆盖了附加层或复制层。
20.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,该薄膜具有一个薄膜层系统(93),其通过干涉产生了色偏。
21.如权利要求20中所述的薄膜,其特征在于,薄膜层系统(93)至少局部地覆盖了衍射结构(96)。
22.如权利要求1中所述的薄膜,其特征在于,薄膜包括一个反射层。
23.如权利要求22中所述的薄膜,其特征在于,该反射层是一个局部层。
24.一种用于钞票、信用卡、身份证、护照、票据或软件证书的防护的光学防伪元件(11,12;4),其中该光学防伪元件(11,12;4)包括一个复制层和一个分离层,其特征在于,该光学防伪元件(11,12;4)还包括一个液晶材料层(43),其敷设在复制层(42)背对分离层的一侧上,衍射结构(46)压印在复制层(42)上,其朝向液晶材料层并用于对液晶材料取向,所述衍射结构具有至少两个部分区域,分别具有压印结构的不同取向方向,并且液晶材料层的液晶分子根据衍射结构进行取向。
25.如权利要求24中所述的光学防伪元件,其特征在于,该光学防伪元件是一个两部分安全元件,其中第一部分元件(11)包括了复制层和液晶材料层,而第二部分元件(12)包括一个偏光镜,其用于检测液晶材料层产生的安全特征。
26.如权利要求24中所述的光学防伪元件,其特征在于,该光学防伪元件是一个两部分或包括了两个或多个部分元件的多部分安全元件,其中第一部分元件和第二部分元件都具有施加到复制层上的液晶材料层,且用于对液晶聚合物材料取向的衍射结构压印在复制层上,衍射结构具有至少两个部分区域,分别具有压印结构的不同取向方向,而且第二部分元件可以检测第一部分元件产生的安全特征
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080312 |